JP2024045013A - ウェーハ収納容器洗浄装置 - Google Patents

Abstract

【課題】洗浄されたウェーハ収納容器の収納空間内の清浄の度合いを示すパーティクルに関する情報を出力する。【解決手段】ウェーハ収納容器を洗浄するウェーハ収納容器洗浄装置であって、本体開口部及び本体開口部に連通する洗浄空間を有する洗浄槽本体５ａ、本体開口部に対して開閉可能に設けられる蓋部５ｂ、洗浄空間内に設けられ、シェル開口部と対向する状態でシェル２０ａを載置するとともに、シェル開口部と対向する部分に収納空間と連通する貫通孔５ｃ＿１が形成されている載置部５ｃ、シェルの収納空間に洗浄液を吐出する第１の吐出部５ｄ、シェルの外側部分に洗浄液を吐出する第２の吐出部５ｅ、貫通孔と連通するとともに、シェルの収納空間に吐出された洗浄液を排出する第１の排出部５ｇ、シェルの外側部分を経由した洗浄液を排出する第２の排出部５ｈ及び第１の排出部により排出された洗浄液のパーティクルを計測するパーティクル計測部を備える。【選択図】図２

Description

本発明の実施形態は、ウェーハ収納容器洗浄装置に関する。

従来、半導体ウェーハを収納（収容）するＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）やＦＯＳＢ（Front Opening Shipping Box）等のウェーハ収納容器を洗浄、乾燥するウェーハ収納容器洗浄装置がある。

特開２００５－１０９５２３号公報

ウェーハ収納容器では、ドア（蓋部）の開閉が行われたり、半導体ウェーハの出し入れが行われたりすることにより、半導体ウェーハが収納される収納空間内に不純物（パーティクル）が付着することがある。そのため、ウェーハ収納容器洗浄装置により、少なくとも、収納空間内の洗浄が行われる。ここで、ユーザは、ウェーハ収納容器洗浄装置により洗浄された後のウェーハ収納容器の収納空間内の清浄の度合いをパーティクルに関する情報により把握したい、という要望がある。

本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、その目的は、洗浄されたウェーハ収納容器の収納空間内の清浄の度合いを示すパーティクルに関する情報を検出することができるウェーハ収納容器洗浄装置を提供することにある。

上述した課題を解決し、目的を達成するため、本発明の一態様に係るウェーハ収納容器洗浄装置は、シェル開口部及び半導体ウェーハを収納する収納空間であって前記シェル開口部に連通している収納空間を有するシェルと、前記シェル開口部に対して開閉可能に装着されるドアと、を有するウェーハ収納容器を洗浄するウェーハ収納容器洗浄装置であって、本体開口部及び前記本体開口部に連通している洗浄空間を有する洗浄槽本体と、前記本体開口部に対して開閉可能に設けられる蓋部と、前記洗浄空間内に設けられ、前記シェル開口部と対向する状態で前記シェルを載置するとともに、前記シェル開口部と対向する部分に前記収納空間と連通する貫通孔が形成されている載置部と、前記シェルの前記収納空間に洗浄液を吐出する第１の吐出部と、前記シェルの外側部分に洗浄液を吐出する第２の吐出部と、前記貫通孔と連通するとともに、前記シェルの前記収納空間に吐出された洗浄液を排出する第１の排出部と、前記シェルの外側部分を経由した洗浄液を排出する第２の排出部と、前記第１の排出部により排出された洗浄液のパーティクルを計測するパーティクル計測部とを備える。

本発明の実施形態によれば、洗浄されたウェーハ収納容器の収納空間内の清浄の度合いを示すパーティクルに関する情報を検出することができる。

図１は、実施形態に係るウェーハ収納容器洗浄装置の概略構成の一例を示す平面図である。 図２は、実施形態に係る洗浄槽の構成の一例を模式的に示す図である。 図３は、実施形態に係る洗浄槽の構成の一例を模式的に示す図である。 図４は、実施形態に係る制御部の構成の一例を示す図である。 図５は、実施形態に係る第１の排出部よりも後段の洗浄液が流れる流路に設けられた各部の構成の一例について説明するための図である。 図６は、実施形態に係るウェーハ収納容器洗浄装置が実行する処理の一例の流れを示すフローチャートである。 図７は、実施形態の第４の変形例に係る廃液測定タンクの構成の一例を示す図である。 図８は、その他の変形例について説明するための図である。

以下、添付図面を参照して、本願の開示するウェーハ収納容器洗浄装置の実施形態を詳細に説明する。なお、本願の開示するウェーハ収納容器洗浄装置は、以下の実施形態により限定されるものではない。また、各実施形態及び各変形例は、矛盾が生じない範囲で適宜組み合わせることができる。なお、以下の実施形態では、洗浄対象のウェーハ収納容器が、ＦＯＵＰである場合を挙げて説明するが、洗浄対象のウェーハ収納容器はこれに限られない。例えば、洗浄対象のウェーハ収納容器は、ＦＯＳＢであってもよい。

（実施形態）
図１は、実施形態に係るウェーハ収納容器洗浄装置１の概略構成の一例を示す平面図である。ウェーハ収納容器洗浄装置１は、例えば、半導体ウェーハを製造する工場内に設けられ、ウェーハ収納容器を洗浄する。図１に示すように、ウェーハ収納容器洗浄装置１は、ロードポート２、ロボット３、分解／連結ステージ４、洗浄槽５、アンロードポート６及び制御部７を備える。

ロボット３、分解／連結ステージ４、洗浄槽５及び制御部７は、ウェーハ収納容器洗浄装置１のケーシング１ａの内部に設けられている。一方、ロードポート２及びアンロードポート６は、ウェーハ収納容器洗浄装置１のケーシング１ａの内部及び外部に跨って設けられている。

ロードポート２は、ロードポート２のケーシング１ａの外部の部分に載置された、洗浄対象となるＦＯＵＰ２０をケーシング１ａの内部に搬入する。ＦＯＵＰ２０は、シェル（ＦＯＵＰ本体）２０ａとドア（蓋）２０ｂとを備える。シェル２０ａは、開口部（シェル開口部）と、半導体ウェーハを収納する収納空間とを有する。収納空間は、シェル開口部よりも内側に存在し、シェル開口部に連通する。ドア２０ｂは、シェル開口部に対して開閉可能な状態で設けられている。また、シェル２０ａの上部にはフランジ２０ｃが設けられている。フランジ２０ｃは、ＦＯＵＰ２０がＯＨＴ（Overhead Hoist Transport ）やロボット３等により搬送される際に把持（保持）される部分である。なお、ＯＨＴは、フランジ２０ｃだけでなく、ＦＯＵＰ２０の底面も保持することがある。

例えば、ロードポート２のケーシング１ａの外部の部分には、ＯＨＴによりフランジ２０ｃが把持された状態で搬送されたＦＯＵＰ２０が載置される。例えば、図１に示すように、ＦＯＵＰ２０のドア２０ｂが、ケーシング１ａに対向するように、ＦＯＵＰ２０が載置される。このようにしてロードポート２にＦＯＵＰ２０が載置されると、ケーシング１ａの開口部１ｂに設けられたシャッター２ａが上昇する。これにより、開口部１ｂからＦＯＵＰ２０がケーシング１ａの内部に搬入可能な状態となる。すなわち、ＦＯＵＰ２０がウェーハ収納容器洗浄装置１の内部に搬入可能な状態となる。そして、ロードポート２のスライド装置によりＦＯＵＰ２０が、矢印２ｂが示す方向にスライドされることにより、ＦＯＵＰ２０がケーシング１ａの内部に搬入される。スライド装置によるスライドについて説明する。例えば、スライド装置に備えられたピンが、ＦＯＵＰ２０の底部（載置面）に設けられた孔部に挿入されることによりＦＯＵＰ２０の載置面がスライド装置に固定される。この状態で、スライド装置が矢印２ｂ方向へスライドされることによりＦＯＵＰ２０も伴ってスライドされる。これにより、ＦＯＵＰ２０は、ロードポート２のケーシング１ａの内部の所定の部分上に載置された状態となる。このようにしてＦＯＵＰ２０がケーシング１ａの内部に搬入されると、シャッター２ａが下降して、ケーシング１ａの開口部１ｂが閉じられる。スライド装置はピンとともに、下降したシャッター２ａの下端（ＦＯＵＰ２０の載置面）よりも低い位置まで降下し、ケーシング１ａの外部の元の位置へ戻る。

ロボット３は、ＦＯＵＰ２０のフランジ２０ｃを把持した状態でＦＯＵＰ２０を各部へ搬送する。ロボット３は、ロボットアーム３ａ及びロボットハンド３ｂを備えている。ロボット３は、ロボットハンド３ｂにフランジ２０ｃを把持させた状態で、ロボットアーム３ａを伸縮させたり回転移動させたりすることで、ＦＯＵＰ２０を各部へ搬送する。

分解／連結ステージ４は、ＦＯＵＰ２０をシェル２０ａとドア２０ｂとに分解したり、シェル２０ａとドア２０ｂとを連結（装着）したりする。分解／連結ステージ４上にはラッチキー４ａが設けられている。このラッチキー４ａがＦＯＵＰ２０のドア２０ｂに設けられたラッチ穴に挿入された状態で回転することで、ＦＯＵＰ２０がシェル２０ａとドア２０ｂとに分解（分離）されたり、シェル２０ａとドア２０ｂとが連結されたりする。

洗浄槽５は、ＦＯＵＰ２０を洗浄する槽である。洗浄槽５は、洗浄部の一例である。図２及び図３は、実施形態に係る洗浄槽５の構成の一例を模式的に示す図である。なお、図３は、洗浄槽５の模式的な平面図であり、洗浄空間にＦＯＵＰ２０が載置されていない状態を表す図である。図２に示すように、例えば、洗浄槽５は、洗浄槽本体５ａと、蓋部５ｂと、載置部５ｃと、第１の供給部（第１の吐出部）５ｄと、第２の供給部（第２の吐出部）５ｅと、乾燥部５ｆと、第１の排出部５ｇと、第２の排出部５ｈとを備える。

洗浄槽本体５ａは、上方に開口部（本体開口部）を有するとともに、本体開口部に連通する洗浄空間を有する。洗浄空間は、本体開口部よりも内部に存在する空間である。ロボット３により、シェル２０ａが、本体開口部を経由して洗浄空間に搬入される。このようにして、シェル２０ａは、洗浄槽本体５ａの内部に搬入される。そして、洗浄槽本体５ａの洗浄空間に設けられた載置部５ｃには、搬入されたシェル２０ａが載置される。載置部５ｃは、図２に示すように、シェル２０ａのシェル開口部が下方に向けられた状態でシェル２０ａを載置する台（載置台）である。載置部５ｃには、図３に示すように、位置決めピン５ｒが設けられている。位置決めピン５ｒにより、シェル２０ａの載置位置が決定される。図２及び図３に示すように、載置部５ｃには、複数の貫通孔５ｃ＿１が形成されている。貫通孔５ｃ＿１は、第１の排出部５ｇに連通（接続）している。

蓋部５ｂは、洗浄槽本体５ａの上方に設けられており、エアシリンダが動作することにより洗浄槽本体５ａの本体開口部に対して開閉する。蓋部５ｂの内側にはドア２０ｂを吸着して保持することが可能な保持部（保持機構）５ｉが設けられている。

本実施形態では、洗浄槽５においてＦＯＵＰ２０の洗浄が行われる場合、ロボット３は、分解／連結ステージ４上のシェル２０ａとドア２０ｂとを別々に洗浄槽５に搬送する。例えば、ロボット３は、シェル２０ａの開口部が下方に向けられた状態で、シェル２０ａを洗浄槽本体５ａの開口部から洗浄槽本体５ａの内部に搬送する。そして、図２に示すように、シェル２０ａは、シェル２０ａの開口部が下方に向けられた状態で、載置部５ｃに載置される。また、ロボット３は、ドア２０ｂの外側の面が蓋部５ｂの保持部５ｉにより保持されるように、ドア２０ｂを保持部５ｉに搬送する。これにより、図２に示すように、蓋部５ｂが閉じられた場合、ドア２０ｂの内側の面（内面）が下方を向くようになる。

なお、洗浄槽５においてＦＯＵＰ２０の洗浄が完了した場合、ロボット３は、洗浄槽５内のシェル２０ａとドア２０ｂとを別々に分解／連結ステージ４上に搬送する。そして、分解／連結ステージ４は、シェル２０ａとドア２０ｂとを連結する。

また、洗浄槽本体５ａの洗浄空間には、第１の供給部５ｄ及び第２の供給部５ｅが設けられている。第１の供給部５ｄ及び第２の供給部５ｅには、シェル２０ａ及びドア２０ｂを洗浄処理する際に用いられる洗浄液（例えばＤＩ水（脱イオン水）等の純水）が供給される。そして、第１の供給部５ｄは、シェル２０ａの収納空間に洗浄液を供給（吐出）することにより、収納空間内の洗浄を行う。また、第２の供給部５ｅは、シェル２０ａの外側部分及び蓋部５ｂの保持部５ｉにより保持されたドア２０ｂの内面に洗浄液を供給（吐出）することにより、シェル２０ａの外側部分及びドア２０ｂの内面を洗浄する。

第１の供給部５ｄは、載置部５ｃに載置されたシェル２０ａの収納空間に洗浄液を供給することが可能な位置に設けられている。例えば、第１の供給部５ｄは、載置部５ｃのシェル２０ａが載置される面から上方向に延びる少なくとも１本の棒状のパイプ（本実施形態においては、図３に示すように２本設けられる）と、水平方向に延びる少なくとも１本の棒状のパイプ（図３では不図示）と、各パイプに複数設けられたノズル５ｍとを備える。ノズル５ｍは、例えば、二流体ノズルである。ノズル５ｍが二流体ノズルである場合、ノズル５ｍは、空気（気体の一例）と洗浄液とを混合し、空気の流れにより洗浄液を微粒化して、微粒化された洗浄液をシェル２０ａの収納空間に供給する。なお、このようなノズル５ｍは、空気と洗浄液とを混合せずに、洗浄液を収納空間に供給することができる。すなわち、ノズル５ｍは、洗浄液を微粒化せずに、微粒化されていない洗浄液を収納空間に供給することができる。

第２の供給部５ｅは、シェル２０ａの外側部分及びドア２０ｂの内面に洗浄液を供給することが可能な位置に設けられている。例えば、第２の供給部５ｅは、上下方向に延びる少なくとも１本の棒状のパイプ（本実施形態においては、図３に示すように２本設けられる）と、水平方向に延び、かつ回動可能な複数本の棒状のパイプと、各パイプに複数設けられたノズル５ｏ又はノズル５ｎとを備える。ノズル５ｎは、例えば、ドア２０ｂに向かって吐出するように設けられた、ノズル５ｍと同様の二流体ノズルである。ノズル５ｎが二流体ノズルである場合、ノズル５ｎは、シェル２０ａの外側部分及びドア２０ｂの内面に微粒化された洗浄液を供給する。また、ノズル５ｏは、例えば、一流体ノズルである。ノズル５ｏが一流体ノズルである場合、ノズル５ｏは、シェル２０ａの外側部分に洗浄液を供給する。

例えば、図２中、シェル２０ａとドア２０ｂとの間に配置されている第２の供給部５ｅのノズルは、シェル２０ａの搬出時、搬入時及び乾燥時には、図３に示すように、シェル２０ａに干渉しない位置（退避位置）に退避している。そして、シェル２０ａが洗浄空間に搬入され、保持部５ｉによりドア２０ｂが保持された状態で蓋部５ｂが閉じられた後に、第２の供給部５ｅのノズルは、回動して、載置部５ｃに載置されたシェル２０ａの上方であり、かつ、保持部５ｉにより保持されたドア２０ｂの下方の位置（洗浄位置）に移動する。洗浄が終了すると、回動して、退避位置に移動する。

乾燥部５ｆは、シェル２０ａの収納空間、シェル２０ａの外側部分及びドア２０ｂの内面に熱風（ホットブロー）を供給することが可能な位置に設けられている。例えば、乾燥部５ｆは、上下方向に延びる少なくとも１本の棒状のパイプと、水平方向に延びる少なくとも１本の棒状のパイプと、各パイプに複数設けられたホットブローノズルとを備える。本実施形態においては、シェル２０ａが載置された際に、シェル２０ａの収納空間に熱風を供給する、上下方向に延びるパイプが２本と、水平方向に延びるパイプが１本設けられている。また、シェル２０ａの外側部分に熱風を供給する、上下方向に延びるパイプが２本と、水平方向に延びていて回動可能なパイプが１本設けられている。これらのパイプに設けられたホットブローノズルは、シェル２０ａの収納空間、シェル２０ａの外側部分及びドア２０ｂの内面に熱風を供給する。

例えば、図２中、シェル２０ａとドア２０ｂとの間に配置されている乾燥部５ｆは、シェル２０ａの搬出時、搬入時及び洗浄時には、図３に示すように、シェル２０ａに干渉しない位置（退避位置）に退避している。そして、洗浄が終了すると、回動して、載置部５ｃに載置されたシェル２０ａの上方であり、かつ、保持部５ｉにより保持されたドア２０ｂの下方の位置（乾燥位置）に移動する。乾燥が終了すると、回動して、退避位置に移動する。

また、洗浄槽本体５ａは、モータ５ｋを含む第１の回転部を備える。第１の回転部は、シェル２０ａの洗浄中及びホットブロー中に、上下方向に延びる軸５ｌを回転軸として、載置部５ｃを回転させる。載置部５ｃの回転に伴い、載置部５ｃに載置されたシェル２０ａも回転する。また、蓋部５ｂは、モータ５ｊを含む第２の回転部を備える。第２の回転部は、ドア２０ｂの洗浄中及び乾燥中に、軸５ｌを回転軸として、保持部５ｉを回転させる。保持部５ｉの回転に伴い、保持部５ｉに保持されたドア２０ｂも回転する。よって、ＦＯＵＰ２０の洗浄中には、ＦＯＵＰ２０にまんべんなく洗浄液が供給されることになる。また、ＦＯＵＰ２０の乾燥中には、ＦＯＵＰ２０にまんべんなくホットブローが供給されることになる。また、ホットブローノズルからホットブローを供給することなく、第１の回転部及び第２の回転部による回転によってシェル２０ａ及びドア２０ｂに付着した液体の乾燥を行うようにしても良い。

第１の排出部５ｇは、シェル２０ａの収納空間に供給（吐出）された洗浄液を排出する。上述したように、第１の排出部５ｇは、貫通孔５ｃ＿１に連通（接続）している。このため、シェル２０ａの収納空間に供給された洗浄液が、貫通孔５ｃ＿１を経由して、第１の排出部５ｇに流入する。第１の排出部５ｇよりも後段の洗浄液が流れる流路には、後述するパーティクルカウンタ３８が設けられている。

第２の排出部５ｈは、シェル２０ａの外側を経由した洗浄液を排出する。シェル２０ａの外側を経由した洗浄液とは、シェル２０ａの外側部分及びドア２０ｂの内面に供給（吐出）された洗浄液である。例えば、第２の排出部５ｈは、洗浄槽本体５ａの底部に設けられた排出口である。

図１の説明に戻り、アンロードポート６は、アンロードポート６のケーシング１ａの内部の部分にロボット３により載置された洗浄済みであるＦＯＵＰ２０をケーシング１ａの外部に搬出する。

例えば、アンロードポート６のケーシング１ａの内部の部分には、洗浄後に、分解／連結ステージ４おいてシェル２０ａとドア２０ｂとが連結されたＦＯＵＰ２０がロボット３により搬送されて載置される。このようにしてアンロードポート６にＦＯＵＰ２０が載置されると、ケーシング１ａの開口部１ｃに設けられたシャッター６ａが上昇する。これにより、開口部１ｃからＦＯＵＰ２０がケーシング１ａの外部に搬出可能な状態となる。すなわち、ＦＯＵＰ２０がウェーハ収納容器洗浄装置１の外部に搬出可能な状態となる。そして、アンロードポート６のスライド装置（ロードポート２のスライド装置と同様の機構を有する）によりＦＯＵＰ２０が、矢印６ｂが示す方向にスライドされることにより、ＦＯＵＰ２０がケーシング１ａの外部に搬出される。このようにしてＦＯＵＰ２０がケーシング１ａの外部に搬出されると、シャッター６ａが下降して、ケーシング１ａの開口部１ｃが閉じられる。

制御部７は、ウェーハ収納容器洗浄装置１全体の動作を制御する。例えば、制御部７は、ロードポート２、ロボット３、分解／連結ステージ４、洗浄槽５及びアンロードポート６を制御することにより、上述したように、ロードポート２、ロボット３、分解／連結ステージ４、洗浄槽５及びアンロードポート６を動作させる。

図４は、実施形態に係る制御部７の構成の一例を示す図である。図４に示すように、制御部７は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）７ａと、ＲＯＭ（Read Only Memory）７ｂと、ＲＡＭ（Random Access Memory）７ｃと、ＨＤＤ（Hard Disk Drive）７ｄと、通信インタフェース７ｅと、を備える。これらは、内部バスを介して接続されている。

ＣＰＵ７ａは、ＲＡＭ７ｃの記憶領域を各種の処理に用いられるデータの一時的な保存領域として用いながら、各種の処理を実行する。ＣＰＵ７ａにより実行される処理については後述する。ＲＯＭ７ｂ及びＨＤＤ７ｄには各種の処理を実行するためのプログラムや、各種の処理を実行する際に用いられる各種のデータベースや各種のテーブル等が記憶されている。

通信インタフェース７ｅは、ウェーハ収納容器洗浄装置１の上述した各部と通信を行うとともに、ウェーハ収納容器洗浄装置１とネットワークを介して接続された外部の装置と通信を行うためのインタフェースである。例えば、通信インタフェース７ｅは、ネットワークインタフェースカードである。

次に、ウェーハ収納容器洗浄装置１の第１の排出部５ｇよりも後段の洗浄液が流れる流路に設けられた各部の構成の一例について説明する。図５は、実施形態に係る第１の排出部５ｇよりも後段の洗浄液が流れる流路に設けられた各部の構成の一例について説明するための図である。

図５に示すように、第１の排出部５ｇよりも後段の洗浄液が流れる流路には、三方弁３１、廃液測定タンク３２、ＡＯバルブ（空気操作弁）３３～３６、ポンプ３７、パーティクルカウンタ３８及び液面センサー３９，４０が設けられている。以下の説明では、ＡＯバルブ３３を第１のＡＯバルブ３３、ＡＯバルブ３４を第２のＡＯバルブ３４、ＡＯバルブ３５を第３のＡＯバルブ３５、ＡＯバルブ３６を第４のＡＯバルブ３６と称する場合がある。

三方弁３１の３つの接続口は、第１の排出部５ｇ、廃液側（図５中左側）及び廃液測定タンク３２に接続されている。例えば、三方弁３１には、第１の排出部５ｇにより排出された洗浄液が廃液として流入する。そして、三方弁３１が制御部７による制御を受けて、三方弁３１に流入された廃液が、廃液側及び廃液測定タンク３２のいずれか一方に流出する。

廃液測定タンク３２には、パーティクルカウンタ３８により測定されるパーティクルを含む廃液が貯められる。

第１のＡＯバルブ３３は、純水が廃液測定タンク３２に向かって流れる流路に設けられている。第１のＡＯバルブ３３が開けられることで、廃液測定タンク３２へ純水が供給される。第１のＡＯバルブ３３が閉められることで、廃液測定タンク３２への純水の供給が停止する。

第２のＡＯバルブ３４は、廃液測定タンク３２から廃液が流出する流路に設けられている。第２のＡＯバルブ３４が開けられることで、廃液測定タンク３２から廃液が流出する。第２のＡＯバルブ３４が閉められることで、廃液測定タンク３２からの廃液の流出が停止する。

第３のＡＯバルブ３５は、廃液測定タンク３２からパーティクルカウンタ３８に向かって廃液が流れる流路に設けられている。第３のＡＯバルブ３５が開けられることで、廃液測定タンク３２からの廃液がパーティクルカウンタ３８に供給される。第３のＡＯバルブ３５が閉められることで、パーティクルカウンタ３８への廃液の供給が停止する。

第４のＡＯバルブ３６は、純水がパーティクルカウンタ３８に向かって流れる流路に設けられている。第４のＡＯバルブ３６が開けられることで、パーティクルカウンタ３８及びその流路（測定ライン）へ純水が供給される。第４のＡＯバルブ３６が閉められることで、パーティクルカウンタ３８及びその流路（測定ライン）への純水の供給が停止する。

ポンプ３７は、動作することで、廃液や純水を引き込む。

パーティクルカウンタ３８は、供給された廃液に含まれるパーティクルを計測し、パーティクルに関する情報を出力する。例えば、パーティクルカウンタ３８は、所定の単位容量（例えば１０ｍｌ）の廃液に含まれるパーティクルの数を計測する。そして、パーティクルカウンタ３８は、パーティクルに関する情報として、所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数を制御部７に出力する。パーティクルカウンタ３８は、パーティクル計測部の一例である。

液面センサー３９は、液面センサー４０よりも高い位置に設けられ、廃液測定タンク３２に貯められた廃液の液面の高さが液面センサー３９の高さと同じ高さ３９ａに到達したか否かを検出する。液面センサー３９は、このような検出を所定の時間毎に行う。そして、液面センサー３９は、所定の時間毎に、検出結果を制御部７に出力する。

液面センサー４０は、廃液測定タンク３２に貯められた廃液の液面の高さが液面センサー４０の高さと同じ高さ４０ａに到達したか否かを検出する。液面センサー４０は、このような検出を所定の時間毎に行う。そして、液面センサー４０は、所定の時間毎に、検出結果を制御部７に出力する。

次に、ウェーハ収納容器洗浄装置１が実行する処理の一例について説明する。図６は、実施形態に係るウェーハ収納容器洗浄装置１が実行する処理（ウェーハ収納容器洗浄装置１の動作）の一例の流れを示すフローチャートである。図６に示す処理は、洗浄槽５においてＦＯＵＰ２０の洗浄が行われる場合に実行される。なお、図６に示す処理は、例えば、制御部７以外の各部については、制御部７による制御を受けて各部が実行する処理である。

洗浄槽５は、ＦＯＵＰ２０の洗浄を開始する。このとき、第１の供給部５ｄのノズル５ｍは、例えば、微粒化された洗浄液（二流体）をシェル２０ａの収納空間に供給する（ステップＳ１０１）。また、このとき、三方弁３１は、第１の排出部５ｇからの廃液を廃液側に流出する。

次に、制御部７のＣＰＵ７ａは、ＦＯＵＰ２０の洗浄を開始（二流体の洗浄液（二流体洗浄液）の供給を開始）してから、第１の所定時間が経過したか否かを判定する（ステップＳ１０２）。この第１の所定時間は、例えば、洗浄槽５によるＦＯＵＰ２０の１回の洗浄に要する時間（洗浄時間）である。

ＦＯＵＰ２０の洗浄を開始してから第１の所定時間が経過していない場合（ステップＳ１０２：Ｎｏ）、洗浄液の供給は継続され、ＣＰＵ７ａは、再び、ステップＳ１０２の判定を行う。一方、ＦＯＵＰ２０の洗浄を開始してから第１の所定時間が経過した場合（ステップＳ１０２：Ｙｅｓ）、第１の供給部５ｄのノズル５ｍは、空気と洗浄液とを混合せずに、微粒化されていない洗浄液（純水）を収納空間に供給することを開始する（ステップＳ１０３）。すなわち、ステップＳ１０３では、ノズル５ｍは、ノズル５ｍから吐出される流体を、空気及び洗浄液の二流体から、純水（一流体）に切り替える。

次に、ＣＰＵ７ａは、ステップＳ１０３で純水に切り替えてから、第２の所定時間が経過したか否かを判定する（ステップＳ１０４）。この第２の所定時間は、例えば、全ての二流体が収納空間から排出される程度の時間である。

純水に切り替えてから、第２の所定時間が経過していない場合（ステップＳ１０４：Ｎｏ）、一流体の洗浄液（一流体洗浄液）の供給が継続され、ＣＰＵ７ａは、再び、ステップＳ１０４の判定を行う。一方、純水に切り替えてから、第２の所定時間が経過した場合（ステップＳ１０４：Ｙｅｓ）、ＣＰＵ７ａは、三方弁３１に流入された廃液（一流体洗浄液である純水）が、廃液測定タンク３２に流出するように、三方弁３１を切り替える（ステップＳ１０５）。すなわち、ＣＰＵ７ａは、廃液が廃液測定タンク３２に流出するように、三方弁３１を制御する。このとき、第１のＡＯバルブ３３、第２のＡＯバルブ３４及び第３のＡＯバルブ３５は閉じられ、第４のＡＯバルブ３６は開けられた状態である。また、ポンプ３７はステップＳ１０１で二流体の洗浄液が収納空間に供給されるタイミングで作動を開始し、純水がパーティクルカウンタ３８に供給されている状態である。これは、パーティクルカウンタ３８による測定開始前にパーティクル測定エリアを清浄にしておくための工程である。

そして、ＣＰＵ７ａは、液面センサー３９から所定の時間毎に出力される検出結果に基づいて、液面センサー３９の高さと同じ高さ３９ａまで廃液が廃液測定タンク３２内に溜まったか否かを判定する（ステップＳ１０６）。

液面センサー３９の高さと同じ高さ３９ａまで廃液が溜まっていない場合（ステップＳ１０６：Ｎｏ）、廃液測定タンク３２への廃液を継続し、ＣＰＵ７ａは、再び、ステップＳ１０６の判定を行う。一方、液面センサー３９の高さと同じ高さ３９ａまで廃液が溜まった場合（ステップＳ１０６：Ｙｅｓ）、ＣＰＵ７ａは、三方弁３１に流入された廃液が、廃液側に流出するように、三方弁３１を切り替える（ステップＳ１０７）。すなわち、ＣＰＵ７ａは、廃液が廃液側に流出するように、三方弁３１を制御する。

次に、ＣＰＵ７ａは、ポンプ３７を止め、第４のＡＯバルブ３６を閉じ、第３のＡＯバルブ３５を開ける（ステップＳ１０８）。

次に、ＣＰＵ７ａは、ポンプ３７を作動させることにより、廃液測定タンク３２内の廃液をパーティクルカウンタ３８に送液する（ステップＳ１０９）。

次に、パーティクルカウンタ３８は、所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数を計測し、パーティクルに関する情報として、所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数を制御部７に出力する（ステップＳ１１０）。なお、パーティクルカウンタ３８は、このような計測を複数回行い、複数の計測結果（所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数）の平均値を最終的な計測結果として制御部７に出力してもよい。例えば、パーティクルカウンタ３８は、送液された廃液を所定時間毎に複数回計測して、この計測結果の平均値を制御部７に出力するようにしてもよい。あるいは、廃液測定タンク３２への貯留とパーティクルカウンタ３８による計測とを複数回繰り返し、パーティクルカウンタ３８が複数回計測した結果の平均値を制御部７に出力するようにしてもよい。この場合には、後述するステップＳ１１５の廃液測定タンク３２内の廃液を排出する工程と、ステップＳ１１６の廃液測定タンク内の純水貯留、ステップＳ１１７の廃液測定タンク内の純水の排出の工程を挟むことで、正確に計測することができる。

次に、ＣＰＵ７ａは、計測結果と、ＦＯＵＰ２０のＩＤ（個体識別番号）とを対応付けた情報を生成し、生成した情報をＨＤＤ７ｄに記憶させるとともに、工場内の全てのＦＯＵＰを一元管理する外部の装置に出力するように通信インタフェース７ｅを制御する（ステップＳ１１１）。例えば、制御部７はＩＤ読取部を備え、ＩＤ読取部は、ＦＯＵＰ２０に設けられたＦＯＵＰ２０の識別情報であるＩＤ（Identification）を読み取る。ＩＤ読取部は、読取部の一例である。例えば、ＦＯＵＰ２０のＩＤは、ＩＤ読取部であるバーコードスキャナ（バーコードリーダ）により得ることができる。例えば、バーコードスキャナは、ＦＯＵＰ２０のＩＤとしてＦＯＵＰ２０の個体識別番号を示すバーコードを読み取り、読み取られたバーコードが示す個体識別番号をＣＰＵ７ａに送信する。また、例えば、ＩＤ読取部は、ＦＯＵＰ２０に設けられたＲＦタグからＦＯＵＰ２０のＩＤとして出力されるＦＯＵＰ２０の個体識別番号を読み取るリーダであってもよい。この場合、リーダは、読み取られた個体識別番号をＣＰＵ７ａに送信する。また、パーティクルの計測結果を、工場内のすべてのＦＯＵＰを一元管理する外部の装置に出力するのに代えて、ＦＯＵＰ２０に設けられたＲＦタグに計測結果の情報を書き込むようにしてもよい。

ステップＳ１１１における処理により、通信インタフェース７ｅは、パーティクルカウンタ３８により計測されたパーティクルに関する情報を出力する。通信インタフェース７ｅは、出力部の一例である。また、ステップＳ１１１における処理により、ＨＤＤ７ｄには、ＦＯＵＰ２０（より具体的にはＦＯＵＰ２０のＩＤ）に対応付けられたパーティクルに関する情報の履歴が記憶されることとなる。

次に、ＣＰＵ７ａは、ポンプ３７を止め、第３のＡＯバルブ３５を閉じ、第４のＡＯバルブ３６を開ける（ステップＳ１１２）。

次に、ＣＰＵ７ａは、ポンプ３７を作動させることにより、純水をパーティクルカウンタ３８及びその流路に送液し、流路のパージを行う（ステップＳ１１３）。

次に、ＣＰＵ７ａは、第２のＡＯバルブ３４を開けることにより、廃液測定タンク３２内に残留している廃液を排出させる（ステップＳ１１４）。

次に、ＣＰＵ７ａは、廃液測定タンク３２内に残留している廃液が廃液測定タンク３２から全て排出されたか否かを判定する（ステップＳ１１５）。例えば、ＣＰＵ７ａは、液面センサー４０から所定の時間毎に出力される検出結果に基づいて、廃液の液面が、液面センサー４０の高さと同じ高さ４０ａになってから所定時間経過した場合に、廃液測定タンク３２内に残留している廃液が廃液測定タンク３２から全て排出されたと判定する。一方、そうでない場合、ＣＰＵ７ａは、廃液測定タンク３２内に残留している廃液が廃液測定タンク３２から全て排出されていないと判定する。

廃液測定タンク３２内に残留している廃液が廃液測定タンク３２から全て排出されていない場合（ステップＳ１１５：Ｎｏ）、廃液の排出を継続し、ＣＰＵ７ａは、再び、ステップＳ１１５の判定を行う。一方、廃液測定タンク３２内に残留している廃液が廃液測定タンク３２から全て排出された場合（ステップＳ１１５：Ｙｅｓ）、ＣＰＵ７ａは、第１のＡＯバルブ３３を開け、第２のＡＯバルブ３４を閉める（ステップＳ１１６）。これにより、廃液測定タンク３２には純水が供給され、廃液測定タンク３２内に純水が貯められる。ステップＳ１１６では、廃液測定タンク３２は、オーバーフローするまで、純水を貯める。なお、オーバーフローするまでにかかる時間を予め求めておき、この時間、廃液測定タンク３２に純水を供給し続ければよい。

次に、ＣＰＵ７ａは、第１のＡＯバルブ３３を閉め、第２のＡＯバルブ３４を開ける（ステップＳ１１７）。これにより、廃液測定タンク３２内の純水が廃液測定タンク３２から排出される。

次に、ＣＰＵ７ａは、ステップＳ１１６，Ｓ１１７における処理を所定回数繰り返したか否かを判定する（ステップＳ１１８）。ステップＳ１１６，Ｓ１１７における処理が所定回数繰り返されることで、廃液測定タンク３２内がパージされる。

ステップＳ１１６，Ｓ１１７における処理を所定回数繰り返していない場合（ステップＳ１１８：Ｎｏ）、ＣＰＵ７ａは、ステップＳ１１６に戻り、再び、ステップＳ１１６以降の各処理を行う。一方、ステップＳ１１６，Ｓ１１７における処理を所定回数繰り返した場合（ステップＳ１１８：Ｙｅｓ）、ＣＰＵ７ａは、図６に示す処理を終了する。

以上、実施形態に係るウェーハ収納容器洗浄装置１について説明した。上述したように、ウェーハ収納容器洗浄装置１は、シェル開口部及び半導体ウェーハを収納する収納空間であってシェル開口部に連通している収納空間を有するシェル２０ａと、シェル開口部に対して開閉可能に装着されるドア２０ｂと、を有するＦＯＵＰ２０を洗浄する。このようなウェーハ収納容器洗浄装置１は、本体開口部及び本体開口部に連通している洗浄空間を有する洗浄槽本体５ａと、本体開口部に対して開閉可能に設けられる蓋部５ｂと、洗浄空間内に設けられ、シェル開口部と対向する状態でシェル２０ａを載置するとともに、シェル開口部と対向する部分に収納空間と連通する貫通孔５ｃ＿１が形成されている載置部５ｃと、シェル２０ａの収納空間に洗浄液を供給する第１の供給部５ｄと、シェル２０ａの外側部分に洗浄液を供給する第２の供給部５ｅと、貫通孔５ｃ＿１と連通するとともに、シェル２０ａの収納空間に供給された洗浄液を排出する第１の排出部５ｇと、シェル２０ａの外側部分を経由した洗浄液を排出する第２の排出部５ｈと、第１の排出部５ｇにより排出された洗浄液のパーティクルを計測するパーティクルカウンタ３８とを備える。

このように、シェル２０ａの収納空間に供給された洗浄液と、シェル２０ａの外側部分を経由した洗浄液とを分けて廃液として排出する。このため、シェル２０ａの収納空間に供給された洗浄液のみをパーティクルカウンタ３８に供給することができる。したがって、実施形態に係るウェーハ収納容器洗浄装置１によれば、洗浄されたＦＯＵＰ２０の収納空間内の清浄の度合いを示すパーティクルに関する情報を検出することができる。

（実施形態の第１の変形例）
次に、実施形態の第１の変形例に係るウェーハ収納容器洗浄装置１について説明する。第１の変形例に係るウェーハ収納容器洗浄装置１は、パーティクルカウンタ３８により計測された所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数が所定値以上である場合に、追加でＦＯＵＰ２０を洗浄する点が、実施形態に係るウェーハ収納容器洗浄装置１と異なる。

第１の変形例では、ＦＯＵＰ２０の洗浄を開始してから上述した第１の所定時間が経過した時点で、制御部７のＣＰＵ７ａは、所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数が所定値以上であるか否かを判定する。なお、第１の所定時間は、上述したように、例えば、洗浄槽５によるＦＯＵＰ２０の１回の洗浄に要する洗浄時間である。

所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数が所定値未満である場合に、ＣＰＵ７ａは、洗浄を完了するように洗浄槽５を制御する。一方、所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数が所定値以上である場合に、ＣＰＵ７ａは、追加でＦＯＵＰ２０を追加洗浄時間だけ洗浄するように洗浄槽５を制御する。そして、追加でＦＯＵＰ２０の洗浄が開始されてから追加洗浄時間が経過した時点で、パーティクルカウンタ３８は、再度、所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数を計測する。そして、ＣＰＵ７ａは、再度、所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数が所定値以上であるか否かを判定する。そして、ＣＰＵ７ａは、上述した処理と同様の処理を、所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数が所定値未満となるまで繰り返し行う。なお、ＣＰＵ７ａは、所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数が所定値以上であると判定される回数が所定回数に達した場合、洗浄を終了し、当該ＦＯＵＰ２０を不合格品として排出するようにアンロードポート６を制御してもよい。また、単位時間あたりに処理するＦＯＵＰ２０の個数に対する追加洗浄時間洗浄する必要になったＦＯＵＰ２０の個数の割合が、一定割合（例えば１０％）を超えたら、ＣＰＵ７ａは、第１の所定時間に追加洗浄時間を加えた時間を新たな第１の所定時間とするよう変更してもよい。また、追加洗浄時間は、一定でもよいが、ＣＰＵ７ａは、割合に応じて追加洗浄時間を変化させてもよい。例えば、ＣＰＵ７ａは、超過する割合が多いほど追加洗浄時間が長くなるように設定してもよい。

なお、第１の変形例において、ＣＰＵ７ａは、追加洗浄時間を、所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数に基づいて決定してもよい。例えば、ＣＰＵ７ａは、所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数が大きくなるほど、長くなるように追加洗浄時間を決定してもよい。

以上、第１の変形例に係るウェーハ収納容器洗浄装置１について説明した。第１の変形例では、制御部７は、ＦＯＵＰ２０が第１の所定時間（所定の洗浄時間）だけ洗浄された後に、パーティクルカウンタ３８により計測されたパーティクルの数が、所定値以上であった場合、追加で、ＦＯＵＰ２０を洗浄するように制御する。

第１の変形例に係るウェーハ収納容器洗浄装置１によれば、ＦＯＵＰ２０の洗浄が不十分である場合に、追加で洗浄を行うので、ＦＯＵＰ２０の清浄の度合いが基準を満たすＦＯＵＰ２０を提供することができる。

（実施形態の第２の変形例）
次に、実施形態の第２の変形例に係るウェーハ収納容器洗浄装置１について説明する。第２の変形例に係るウェーハ収納容器洗浄装置１は、第１の排出部５ｇから排出された廃液を廃液測定タンク３２に貯めずにパーティクルカウンタ３８に送液して、所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数を計測する。そして、ウェーハ収納容器洗浄装置１は、所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数が所定値未満となるまで、ＦＯＵＰ２０を継続して洗浄する。ウェーハ収納容器洗浄装置１は、パーティクルの数が所定値未満になったら洗浄を終了する。よって、第２の変形例に係るウェーハ収納容器洗浄装置１によれば、第１の変形例と同様に、ＦＯＵＰ２０の清浄の度合いが基準を満たすＦＯＵＰ２０を提供することができる。なお、第２の変形例においては、洗浄に用いる二流体の洗浄液をそのままパーティクルカウンタ３８に送液してもよいし、所定のタイミングで洗浄液を二流体から一流体に切り替え、一流体への切り替えから所定時間が経過したタイミングでパーティクルカウンタ３８による計測を行うようにしてもよい。

また、ＦＯＵＰ２０の清浄度（汚染度）によっては、洗浄時間が、上述した第１の所定時間よりも短い時間で、十分な場合がある。第２の変形例では、廃液測定タンク３２に廃液を貯めずにパーティクルカウンタ３８に送液し、制御部７が、パーティクルカウンタ３８により計測されたパーティクルに関する情報に応じて、ＦＯＵＰ２０の洗浄を完了するように制御する。したがって、ＦＯＵＰ２０を効率良く洗浄することができる。

なお、第２の変形例においては、第１の排出部５ｇから排出された廃液を廃液測定タンク３２に貯めつつ、パーティクルカウンタ３８に送液するようにしてもよい。

また、予め洗浄時間の上限を設定しておき、計測される所定の単位容量の廃液に含まれるパーティクルの数が所定値以上のまま、洗浄時間が上限に達したら、ＦＯＵＰ２０の洗浄を終了し、当該ＦＯＵＰ２０を不合格品として排出するようにしてもよい。

（実施形態の第３の変形例）
次に、実施形態の第３の変形例に係るウェーハ収納容器洗浄装置１について説明する。第３の変形例に係るウェーハ収納容器洗浄装置１は、ＦＯＵＰ２０に収納されていたウェーハの情報に基づいて、上述した第１の所定時間を決定する。ＩＤ読取部は、ＦＯＵＰ２０に設けられたＲＦタグから、ウェーハ収納容器洗浄装置１に搬入されたＦＯＵＰ２０が、ウェーハ収納容器洗浄装置１に搬入されるより前に使用されていた工程の情報を取得する。これにより、ＦＯＵＰ２０に収納されていたウェーハの種類（ウェーハ上に形成されていた膜の種類を含む。）を特定することができる。特定されたウェーハの種類に応じて、ＦＯＵＰ２０を洗浄する時間（第１の所定時間）を決定する。したがって、ＦＯＵＰ２０を効率良く洗浄することができる。

（実施形態の第４の変形例）
次に、実施形態の第４の変形例に係るウェーハ収納容器洗浄装置１について説明する。第４の変形例に係るウェーハ収納容器洗浄装置１は、廃液測定タンク３２に代えて廃液測定タンク３２０を有する。廃液測定タンク３２０について、図７を用いて説明する。

図７は、実施形態の第４の変形例に係る廃液測定タンク３２０の構成の一例を示す図である。図７に示すように、廃液測定タンク３２０には、三方弁３１に代えてＡＯバルブ３１０、第１のＡＯバルブ３３に代えてＡＯバルブ３３０が設けられている。廃液測定タンク３２０内にはオーバーフロー壁３４１、障壁３２１が設けられている。オーバーフロー壁３４１は円筒状の管であり、その上端は廃液測定タンク３２０内に開放されている。オーバーフロー壁３４１の下端は廃液測定タンク３２０の底面に接続され、当該下端が接続される廃液測定タンク３２０の底面には第２のＡＯバルブ３４が設けられる配管が接続されており、オーバーフロー壁３４１の下端と第２のＡＯバルブ３４が設けられる配管とは連通している。障壁３２１は、廃液測定タンク３２０内の空間を、オーバーフロー壁３４１が設けられる側と、パーティクルカウンタ３８に通ずる配管および廃液測定タンク３２０を純水パージする配管が設けられる側との二つに仕切るように設けられた板状の部材である。障壁３２１の上端は廃液測定タンク３２０の天井に設けられ、下端は廃液測定タンク３２０の底面からわずかな隙間を形成する位置に設けられる。

なお、第１の排出部５ｇからの廃液が供給される配管の、廃液測定タンク３２０と接続される高さ位置は、オーバーフロー壁３４１の上端よりも低い位置に設けられる。廃液測定タンク３２０の底面から大きく離れた高さ位置に設けられると、廃液測定タンク３２０に貯留された廃液の液面に新たに供給される廃液が落下して廃液中に気泡が多く発生する。廃液中に気泡が含まれた状態でパーティクルカウンタ３８に送液されると、気泡がパーティクルとして誤検知されてしまい正確な測定を行うことができない。したがって、第１の排出部５ｇからの廃液が供給される配管の、廃液測定タンク３２０と接続される高さ位置は、廃液測定タンク３２０の底面に近い高さ位置とすることが好ましい。

また、ＡＯバルブ３３０が設けられる純水供給用配管の、廃液測定タンク３２０に接続される位置は、上述のように、廃液測定タンク３２０の、障壁３２１により離隔された第３のＡＯバルブ３５側に設けられる。これにより、パーティクルカウンタ３８に送液される配管近傍を十分にパージすることができる。その他の構造は上述の実施形態と同様である。

上述の実施形態におけるステップＳ１０１において、二流体の洗浄液が収納空間に供給されると、第１の排出部５ｇから排出された廃液は、開状態のＡＯバルブ３１０を介して廃液測定タンク３２０内に供給される。つまり、先に述べた実施形態では、第１の所定時間が経過し、第２の所定時間が経過後に廃液測定タンク３２への廃液の供給を開始することを例示したが、本変形例では、第１の所定時間および第２の所定時間の経過を待たずに、供給された洗浄液のすべてが廃液測定タンク３２０に供給される。廃液測定タンク３２０内に供給された廃液は、廃液測定タンク３２０内に貯留されていき、オーバーフロー壁３４１を乗り越えるとＡＯバルブ３４側から排出される。廃液測定タンク３２０内に貯留される廃液の一部は、障壁３２１の下方から、第３のＡＯバルブ３５側へと貯留される。第１の所定時間が経過すると（Ｓ１０２のＹｅｓ）、洗浄液を一流体に切り替える。第２の所定時間が経過すると（ステップＳ１０４のＹｅｓ）、第３のＡＯバルブ３５を開き、ポンプ３７を作動させてパーティクルカウンタ３８による測定を行う。なお、ここでの第２の所定時間は、廃液測定タンク３２０内の、第１の所定時間経過後に供給を開始した一流体の洗浄液が、第１の所定時間経過前に供給されていた二流体の洗浄液から置換される程度の時間とすることができる。廃液測定タンク３２０によれば、気泡を多く含む廃液測定タンク３２０の上方に貯留される廃液は、オーバーフロー壁３４１を乗り越えて排出される。また、気泡を含みにくい廃液測定タンク３２０の下方に貯留される廃液が障壁３２１の下方の隙間から通り抜けてパーティクルカウンタ３８へ送液されることになる。したがって、パーティクルカウンタ３８で気泡を含んだ廃液を測定し、気泡をパーティクルとして誤検知してしまうことを防止できる。また、廃液測定タンク３２０内にオーバーフロー壁３４１を設け、第１の排出部５ｇからの廃液のすべてが廃液測定タンク３２０内に供給されるようにしたことにより、常に廃液測定タンク３２０内に廃液が貯留されることから、液面センサー３９、４０を設けて廃液の貯留されている量を測定する必要がない。

なお、第１の排出部５ｇから排出される廃液は一流体に切り替えずに洗浄に用いる二流体でもよい。オーバーフロー壁３４１、障壁３２１を通過する過程で気泡が除去された廃液がパーティクルカウンタ３８に供給されやすくなるため、二流体の洗浄液であってもパーティクルカウンタ３８による誤検出を防止することができる。この場合には、第１の所定時間および第２の所定時間の経過を待つことなく、常時パーティクルカウンタ３８による測定を実施することができる。

（その他の変形例）
次に、その他の変形例について説明する。図８は、その他の変形例について説明するための図である。例えば、廃液に含まれる気泡が、パーティクルカウンタ３８による計測に影響する場合がある。このため、図８に示すように、パーティクルカウンタ３８の前段に脱気ユニット５０及び脱気ポンプ５１を設け、脱気ユニット５０及び脱気ポンプ５１がパーティクルカウンタ３８に供給される廃液を脱気してもよい。この場合、ノズル５ｍから吐出される流体を二流体から一流体に切り替えてから、廃液測定タンク３２に流出するように制御する必要はない。

また、ホットブローノズルに代えてヒータを設けて、ヒータによりＦＯＵＰ２０を乾燥してもよい。また、ホットブローノズル及びヒータの両方を設けてもよい。

また、第１の排出部５ｇから三方弁３１を介して廃液測定タンク３２に供給される廃液を導く配管は、第１のAOバルブ３３を介して供給される純水を導く配管のように、廃液測定タンク３２の底面近くまで延びるように設けられてもよい。廃液測定タンク３２の底面近くに廃液が供給されることにより、既に廃液測定タンク３２内に貯留された廃液の液面に新たに廃液が供給されて泡立つことを防止できる。液面の泡立ちを防止することにより、液面センサー３９による測定が正確に行えるほか、パーティクルカウンタ３８へと送られる廃液中に気泡を含むことを防止することができる。

また、廃液測定タンク３２を設けず、第１の排出部５ｇから排出された廃液が直接パーティクルカウンタ３８に流れるようにしてもよい。

また、シェル２０ａの収納空間に供給された洗浄液の一部が、第２の排出部５ｈに流入してもよい。シェル２０ａの収納空間に供給された液のみが、パーティクルの計測対象となればよい。

また、一つの洗浄槽５において、シェル２０ａとドア２０ｂとを同時に洗浄する場合について説明したが、シェル２０ａを洗浄する洗浄槽、及び、ドア２０ｂを洗浄する洗浄槽の２つの洗浄槽を設けてもよい。

また、上述の実施形態においては、パーティクルカウンタ３８は、廃液測定タンク３２の側面に接続される流路に設けられ、当該流路中の廃液を測定することを例示したが、これに限らない。例えば、廃液測定タンク３２の後段にタンクを備えるようにし、当該タンクから送液される廃液をパーティクルカウンタ３８によって測定するようにしてもよい。この場合、廃液測定タンク３２または後段のタンクを密閉構造にし、タンクに脱気ポンプを接続することによって、タンク中の廃液を脱気してからパーティクルカウンタ３８に送液できる構造としてもよい。

また、上述の実施形態においては、ノズル５ｍから供給される一流体である純水を廃液測定タンク３２に回収して、パーティクルカウンタ３８により測定することを例示したが、これに限らない。例えば、パーティクルカウンタ３８に送液する用の流体（純水）を供給する専用ノズルを設けてもよい。あるいは、洗浄液を吐出するノズル（ノズル５ｍ）以外のノズルであって、ＦＯＵＰ２０の処理に用いる流体を供給するためのノズルを備え、このノズルからパーティクルカウンタ３８に送液する流体を供給するようにしてもよい。なお、ノズルからの流体は、シェル２０ａの、不図示のウェーハ保持棚が形成される領域を覆うように供給されるのが好ましい。

以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、組み合わせを行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１ ウェーハ収納容器洗浄装置
５ 洗浄槽
５ａ 洗浄槽本体
５ｂ 蓋部
５ｃ 載置部
５ｄ 第１の供給部
５ｅ 第２の供給部
５ｇ 第１の排出部
５ｈ 第２の排出部
７ｅ 通信インタフェース
３８ パーティクルカウンタ

Claims (6)

1. シェル開口部及び半導体ウェーハを収納する収納空間であって前記シェル開口部に連通している収納空間を有するシェルと、前記シェル開口部に対して開閉可能に装着されるドアと、を有するウェーハ収納容器を洗浄するウェーハ収納容器洗浄装置であって、
   本体開口部及び前記本体開口部に連通している洗浄空間を有する洗浄槽本体と、
   前記本体開口部に対して開閉可能に設けられる蓋部と、
   前記洗浄空間内に設けられ、前記シェル開口部と対向する状態で前記シェルを載置するとともに、前記シェル開口部と対向する部分に前記収納空間と連通する貫通孔が形成されている載置部と、
   前記シェルの前記収納空間に洗浄液を吐出する第１の吐出部と、
   前記シェルの外側部分に洗浄液を吐出する第２の吐出部と、
   前記貫通孔と連通するとともに、前記シェルの前記収納空間に吐出された洗浄液を排出する第１の排出部と、
   前記シェルの外側部分を経由した洗浄液を排出する第２の排出部と、
   前記第１の排出部により排出された洗浄液のパーティクルを計測するパーティクル計測部と、
   を備える、ウェーハ収納容器洗浄装置。
2. 前記蓋部は、前記ドアを保持する保持部を有し、
   前記第２の吐出部は、更に、前記ドアの内面に洗浄液を吐出する、
   請求項１に記載のウェーハ収納容器洗浄装置。
3. 前記ウェーハ収納容器が所定の洗浄時間だけ洗浄された後に、前記パーティクル計測部により計測されたパーティクルの数が、所定値以上であった場合、追加で、前記ウェーハ収納容器を洗浄するように制御する制御部を備える、
   請求項１に記載のウェーハ収納容器洗浄装置。
4. 前記制御部は、前記パーティクルの数に基づいて、追加する洗浄時間を決定する、
   請求項３に記載のウェーハ収納容器洗浄装置。
5. 前記パーティクル計測部により計測されたパーティクルの数が所定値未満になったら、前記ウェーハ収納容器の洗浄を完了するように制御する制御部を備える、
   請求項１に記載のウェーハ収納容器洗浄装置。
6. 前記ウェーハ収納容器に収納されていたウェーハの情報に基づいて、前記ウェーハ収納容器の洗浄時間を決定する制御部を備える、
   請求項１に記載のウェーハ収納容器洗浄装置。

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