JP2024021338A - イメージセンサ及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】マイクロレンズの寸法のばらつきが小さいイメージセンサの製造を容易にし得る技術を提供する。
【解決手段】イメージセンサ１Ａは、複数のフォトダイオード２１が設けられた基板２と、前記複数のフォトダイオード２１の上にそれぞれ設けられた複数のフィルタ部４１，４２を含み、前記複数のフィルタ部の１以上と前記複数のフィルタ部の他の１以上とは透過スペクトルが異なる色分解フィルタ４と、前記色分解フィルタ４を間に挟んで前記複数のフォトダイオード２１とそれぞれ向き合った複数のマイクロレンズ５１とを備え、前記複数のフィルタ部４１，４２の各々はｉ線透過率が７５％以下である。
【選択図】図２

Description

本発明は、イメージセンサに関する。

イメージセンサ（又は固体撮像素子）には、フォトダイオードが形成された基板上に、下地膜、カラーフィルタ、及びマイクロレンズアレイをこの順に設けた構造を有しているものがある。カラーフィルタは、感光性着色組成物を使用して形成する。マイクロレンズアレイは、例えば、感光性組成物から形成する（特許文献１を参照）。或いは、マイクロレンズアレイは、透明材料層上にエッチングマスクを形成し、透明材料層をエッチングすることにより形成する。

特開２００６－７７０９８号公報

本発明は、マイクロレンズの寸法のばらつきが小さいイメージセンサの製造を容易にし得る技術を提供することを目的とする。

本発明の一側面によると、複数のフォトダイオードが設けられた基板と、前記複数のフォトダイオードの上にそれぞれ設けられた複数のフィルタ部を含み、前記複数のフィルタ部の１以上と前記複数のフィルタ部の他の１以上とは透過スペクトルが異なる色分解フィルタと、前記色分解フィルタを間に挟んで前記複数のフォトダイオードとそれぞれ向き合った複数のマイクロレンズとを備え、前記複数のフィルタ部の各々はｉ線透過率が７５％以下であるイメージセンサが提供される。

本発明の他の側面によると、前記複数のフィルタ部の前記１以上はｉ線透過率が２％以上である上記側面に係るイメージセンサが提供される。

本発明の更に他の側面によると、前記複数のフィルタ部の前記１以上のｉ線透過率が１０％以下であり、前記複数のフィルタ部の前記他の１以上のｉ線透過率が１５％以上である上記側面の何れかに係るイメージセンサが提供される。

本発明の更に他の側面によると、前記複数のフィルタ部の前記１以上は、４００乃至６５０ｎｍの波長域における透過率の最大値が５０％以上である上記側面の何れかに係るイメージセンサが提供される。

本発明の更に他の側面によると、前記複数のフィルタ部の前記１以上は無色透明である上記側面の何れかに係るイメージセンサが提供される。

本発明の更に他の側面によると、複数のフィルタ部を含み、前記複数のフィルタ部の１以上と前記複数のフィルタ部の他の１以上とは透過スペクトルが異なり、前記複数のフィルタ部の各々はｉ線透過率が７５％以下である色分解フィルタを、基板に設けられた複数のフォトダイオードの上に前記複数のフィルタ部がそれぞれ設けられるように形成することと、前記色分解フィルタの上に感光性材料からなる塗膜を形成することと、前記塗膜に対してｉ線によるパターン露光と現像とを含むパターニングを行って、前記感光性材料の硬化物からなる複数のマイクロレンズを、前記色分解フィルタを間に挟んで前記複数のフォトダイオードとそれぞれ向き合うように形成することとを含んだイメージセンサの製造方法が提供される。

本発明の更に他の側面によると、複数のフィルタ部を含み、前記複数のフィルタ部の１以上と前記複数のフィルタ部の他の１以上とは透過スペクトルが異なり、前記複数のフィルタ部の各々はｉ線透過率が７５％以下である色分解フィルタを、基板に設けられた複数のフォトダイオードの上に前記複数のフィルタ部がそれぞれ設けられるように形成することと、前記色分解フィルタの上に有機膜を形成することと、前記有機膜の上に感光性材料からなる塗膜を形成することと、前記塗膜に対してｉ線によるパターン露光と現像とを含むパターニングを行って、前記有機膜を間に挟んで前記複数のフィルタ部とそれぞれ向き合った複数の島状部を含んだエッチングマスクを形成することと、その後、前記エッチングマスク及びこれによって覆われた前記有機膜に対してドライエッチングを行って、前記色分解フィルタを間に挟んで前記複数のフォトダイオードとそれぞれ向き合った複数のマイクロレンズを形成することとを含んだイメージセンサの製造方法が提供される。

本発明によれば、マイクロレンズの寸法のばらつきが小さいイメージセンサの製造を容易にし得る技術が提供される。

図１は、本発明の一実施形態に係るイメージセンサの一部を示す斜視図である。 図２は、図１に示すイメージセンサのＩＩ－ＩＩ線に沿った断面図である。 図３は、図１及び図２に示すイメージセンサの製造方法の一例を示す断面図である。 図４は、比較例に係るイメージセンサの製造方法を示す断面図である。 図５は、図４の方法によって製造されるイメージセンサの断面図である。 図６は、フィルタ部の透過スペクトルの例を示すグラフである。 図７は、実施例において使用した平坦化膜の透過スペクトルを示すグラフである。

以下に、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。以下に説明する実施形態は、上記側面の何れかをより具体化したものである。以下に記載する事項は、単独で又は複数を組み合わせて、上記側面の各々に組み入れることができる。

また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、本発明の技術的思想は、下記の構成部材の材質、形状、及び構造等によって限定されるものではない。本発明の技術的思想には、請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。

なお、同様又は類似した機能を有する要素については、以下で参照する図面において同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面は模式的なものであり、或る方向の寸法と別の方向の寸法との関係、及び、或る部材の寸法と他の部材の寸法との関係等は、現実のものとは異なり得る。

図１は、本発明の一実施形態に係るイメージセンサの一部を示す斜視図である。図２は、図１に示すイメージセンサのＩＩ－ＩＩ線に沿った断面図である。

図１及び図２に示すイメージセンサ１Ａは、例えば、ＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）イメージセンサ又はＣＣＤ（Charge-Coupled Device）イメージセンサである。イメージセンサ１Ａは、基板２と、下地膜３と、色分解フィルタ４と、有機膜５とを含んでいる。

なお、各図において、Ｘ方向は、基板２の有機膜５と向き合った主面に平行な方向である。Ｙ方向は、先の主面に平行であり且つＸ方向と交差する方向である。Ｚ方向は、Ｘ方向及びＹ方向に対して垂直な方向、即ち、基板２の厚さ方向である。ここでは、一例として、Ｘ方向及びＹ方向は、互いに対して垂直であるとする。

基板２は、シリコン基板等の半導体基板である。基板２の表面領域には、図２に示すように、光電変換素子である複数のフォトダイオード２１が設けられている。フォトダイオード２１は、Ｘ方向とＹ方向とに配列している。

下地膜３は、基板２のフォトダイオード２１側の主面上に設けられている。下地膜３は、色分解フィルタ４へ平坦な下地を提供している。下地膜３は、無色透明であり、フォトダイオード２１に入射させるべき光に対して高い透過率を示す。下地膜３は、例えば、アクリル樹脂などのポリマーからなる。下地膜３は、省略することができる。

色分解フィルタ４は、下地膜３上に設けられている。色分解フィルタ４は、透過スペクトルが異なる複数種のフィルタ部を含んでいる。ここでは、色分解フィルタ４は、第１フィルタ部４１、第２フィルタ部４２、第３フィルタ部４３及び第４フィルタ部４４を含んでいる。色分解フィルタ４が含むフィルタ部の種類は、２以上であれば、４種でなくてもよい。

第１フィルタ部４１及び第２フィルタ部４２は、Ｘ方向へ各々が伸び、Ｙ方向へ配列した複数の第１列を形成している。第１列の各々において、第１フィルタ部４１及び第２フィルタ部４２は、Ｘ方向へ交互に配列している。第３フィルタ部４３及び第４フィルタ部４４は、Ｘ方向へ各々が伸び、Ｙ方向へ配列した複数の第２列を形成している。第２列の各々において、第３フィルタ部４３及び第４フィルタ部４４は、Ｘ方向へ交互に配列している。そして、第１列及び第２列は、Ｙ方向へ交互に配列している。

第１フィルタ部４１、第２フィルタ部４２、第３フィルタ部４３及び第４フィルタ部４４は、透過スペクトルが異なっている。第１フィルタ部４１、第２フィルタ部４２、第３フィルタ部４３及び第４フィルタ部４４の各々は、例えば、赤色層、青色層、緑色層、イエロー色層、マゼンタ色層、シアン色層、無色透明層、近赤外透過層、又は近赤外吸収層である。一例によれば、第１フィルタ部４１、第２フィルタ部４２及び第３フィルタ部４３は、赤色層、青色層及び緑色層であり、第４フィルタ部は、無色透明層、近赤外透過層、又は近赤外吸収層である。他の例によれば、第１フィルタ部４１、第２フィルタ部４２及び第３フィルタ部４３は、イエロー色層、マゼンタ色層及びシアン色層であり、第４フィルタ部は、無色透明層、近赤外透過層、又は近赤外吸収層である。

これらフィルタ部の各々は、ｉ線透過率が７５％以下である。ここで、「ｉ線」は、波長が３６５ｎｍの紫外線である。これらフィルタ部のｉ線に対する光学特性については、後で詳述する。

有機膜５は、色分解フィルタ４上に設けられている。有機膜５は、無色透明な有機物、例えば、ポリマーからなる。

有機膜５は、複数のマイクロレンズ５１を含んでいる。これらマイクロレンズ５１は、下地膜３及び色分解フィルタ４を間に挟んでフォトダイオード２１とそれぞれ向き合っている。

マイクロレンズ５１の各々は、上面が凸面である凸レンズである。ここでは、各マイクロレンズ５１は、Ｚ方向に対して垂直な平面への正射影が円形である。この正射影は、角が丸まった四角形などの他の形状を有していてもよい。

色分解フィルタ４と有機膜５との間には、平坦化膜を設けてもよい。平坦化膜は、無色透明であり、フォトダイオード２１に入射させるべき光に対して高い透過率を示す。平坦化膜は、有機膜５へ平坦な下地を提供する。平坦化膜は、例えば、アクリル樹脂などのポリマーからなる。

このイメージセンサ１Ａは、Ｘ方向とＹ方向とに配列した複数の画素を含んでいる。ここでは、各画素は、第１乃至第４サブ画素を含んでいる。第１サブ画素は、第１フィルタ部４１と、これと向き合ったフォトダイオード２１及びマイクロレンズ５１を含んでいる。第２サブ画素は、第２フィルタ部４２と、これと向き合ったフォトダイオード２１及びマイクロレンズ５１を含んでいる。第３サブ画素は、第３フィルタ部４３と、これと向き合ったフォトダイオード２１及びマイクロレンズ５１を含んでいる。第４サブ画素は、第４フィルタ部４４と、これと向き合ったフォトダイオード２１及びマイクロレンズ５１を含んでいる。

このイメージセンサ１Ａは、例えば、以下の方法により製造することができる。
図３は、図１及び図２に示すイメージセンサの製造方法の一例を示す断面図である。

この方法では、先ず、基板２上へ、下地膜３及び色分解フィルタ４を順次形成する。色分解フィルタ４が含んでいる第１フィルタ部４１の形成においては、感光性材料からなる塗膜を形成し、この塗膜に対してｉ線によるパターン露光と現像とを含むパターニングを行う。第２フィルタ部４２、第３フィルタ部４３及び第４フィルタ部４４も、第１フィルタ部４１と同様の方法により形成する。第１フィルタ部４１、第２フィルタ部４２、第３フィルタ部４３及び第４フィルタ部４４の形成順序は任意である。なお、上記の通り、第１フィルタ部４１、第２フィルタ部４２、第３フィルタ部４３及び第４フィルタ部４４は、ｉ線透過率が７５％以下である。

次に、色分解フィルタ４上へ、平坦な表面を有している有機膜５を形成する。有機膜５は、例えば、樹脂を含んだ塗膜を形成し、この塗膜を硬化させることにより得ることができる。

次いで、有機膜５の上に、感光性材料からなる塗膜を形成する。この感光性材料は、ネガ型であってもよく、ポジ型であってもよい。感度の観点では、この感光性材料はポジ型であることが好ましい。

続いて、この塗膜に対してｉ線によるパターン露光と現像とを含むパターニングを行う。これにより、有機膜５を間に挟んでフィルタ部とそれぞれ向き合った複数の島状部を含んだエッチングマスク６を得る。ここでは、島状部は、各々の上面が凸面であり、隣り合ったものは接している。島状部は、互いから離間していてもよい。

その後、エッチングマスク６及びこれによって覆われた有機膜５に対してドライエッチングを行う。このようにして、下地膜３及び色分解フィルタ４を間に挟んでフォトダイオード２１とそれぞれ向き合った複数のマイクロレンズ５１を形成する。
以上のようにして、図１及び図２に示すイメージセンサ１Ａを得る。

この方法により得られるイメージセンサ１Ａは、マイクロレンズ５１の寸法のばらつきが小さい。これについて、以下に説明する。

図３を参照しながら説明した方法では、上記の通り、エッチングマスク６を形成するべく、有機膜５上に形成した塗膜に対して、ｉ線によるパターン露光を行う。塗膜に入射したｉ線の一部は塗膜によって吸収され、塗膜に入射したｉ線の他の一部は色分解フィルタ４へ入射する。色分解フィルタ４へ入射したｉ線の一部は色分解フィルタ４等によって吸収され、色分解フィルタ４へ入射したｉ線の他の一部は、基板２等によって反射された後に色分解フィルタ４等を更に透過して上記の塗膜へ入射する。

上記の通り、第１フィルタ部４１、第２フィルタ部４２、第３フィルタ部４３及び第４フィルタ部４４は、透過スペクトルが異なっている。それ故、第１フィルタ部４１、第２フィルタ部４２、第３フィルタ部４３及び第４フィルタ部４４は、ｉ線透過率が異なっていることが通常である。従って、上記塗膜のうち、第１フィルタ部４１上に位置した部分と、第２フィルタ部４２上に位置した部分と、第３フィルタ部４３上に位置した部分と、第４フィルタ部４４上に位置した部分とは、ｉ線による露光量に相違を生じ得る。

図４は、比較例に係るイメージセンサの製造方法を示す断面図である。図５は、図４の方法によって製造されるイメージセンサの断面図である。

図４に示す方法では、第１フィルタ部４１、第２フィルタ部４２、第３フィルタ部４３及び第４フィルタ部４４の１以上のｉ線透過率が７５％超である。図４に示す方法は、これ以外は、図３を参照しながら説明した方法と同様である。

第１フィルタ部４１、第２フィルタ部４２、第３フィルタ部４３及び第４フィルタ部４４の１以上のｉ線透過率が高い場合、上述した露光量の相違がエッチングマスク６の島状部の寸法均一性へ及ぼす影響が大きい。例えば、図４に示すように、第１フィルタ部４１上に位置した島状部と、第２フィルタ部４２上に位置した島状部とで、高さなどの寸法に大きな相違を生じ得る。これは、エッチングマスク６を形成するための感光性材料がポジ型である場合、特に顕著である。

これら島状部の寸法のばらつきが大きい場合、マイクロレンズ５１の寸法のばらつきも大きくなる。例えば、図５に示すように、第１フィルタ部４１上に位置したマイクロレンズ５１と、第２フィルタ部４２上に位置したマイクロレンズ５１とで、高さなどの寸法に大きな相違を生じ得る。マイクロレンズ５１の寸法のばらつきが大きいことは、マイクロレンズ５１の形状のばらつきも大きいことを意味する。この場合、一部のマイクロレンズ５１について、設計通りの光学性能を得ることができない。

本発明者は、色分解フィルタ４が含んでいる全てのフィルタ部のｉ線透過率が７５％以下であれば、マイクロレンズ５１の寸法のばらつきを十分に小さくできることを見出した。即ち、色分解フィルタ４が含んでいる全てのフィルタ部のｉ線透過率を７５％以下とすれば、それらフィルタ部のｉ線透過率が相違していたとしても、この相違がエッチングマスク６の島状部の寸法の均一性へ及ぼす影響を十分に小さくすることができる。それ故、色分解フィルタ４が含んでいる全てのフィルタ部のｉ線透過率を７５％以下とすることにより、寸法のばらつきが小さいマイクロレンズ５１を得ることができる。

寸法の均一性に優れたマイクロレンズ５１は、例えば、上記塗膜と基板２との間に、上記塗膜を透過したｉ線を吸収させるための層を更に設けて、反射光としてのｉ線が上記塗膜へ入射するのを防止することによっても得ることができる。しかしながら、この場合、追加の層を設ける必要がある。

本実施形態では、上記の通り、フィルタ部のｉ線透過率を適宜設定することにより、寸法の均一性に優れたマイクロレンズ５１を得ることを可能とする。それ故、この追加の層を設ける必要がない。従って、この追加の層を設けることに起因したコストの上昇や光の減衰は生じない。また、追加の層がないので、例えば、マイクロレンズ５１とフォトダイオード２１との間の距離が定められている場合に他の層をより厚く形成することができ、設計の自由度が高まる。

また、ここで説明した技術は、以下に説明するように、矩形状の断面形状を有するフィルタ部を形成することを妨げない。

フィルタ部の形成に使用する感光性組成物の組成が異なると、矩形状の断面形状を有するフィルタ部を形成するために最適なｉ線透過率が異なる。例えば、感光性組成物が含んでいる顔料の種類が異なると、矩形状の断面形状を有するフィルタ部を形成するために最適なｉ線透過率が異なる。

上記の通り、ｉ線透過率が７５％以下であれば、マイクロレンズ５１の寸法のばらつきを十分に小さくできる。それ故、フィルタ部を形成するための感光性組成物のｉ線透過率を、矩形状の断面形状が得られるように、この範囲内で設定することにより、マイクロレンズ５１の寸法のばらつきを十分に小さくするとともに、フィルタ部の断面形状を矩形状とすることができる。

このように、マイクロレンズ５１の寸法のばらつきとフィルタ部断面の矩形性との双方の観点で各フィルタ部のｉ線透過率を定めることができる。従って、１以上のフィルタ部のｉ線透過率を、一例によれば６％以上に定めることがあり、他の例によれば１％以上に定めることがあり、更に他の例によれば２％以上に定めることもある。また、更に他の例によれば、１以上のフィルタ部のｉ線透過率を１０％以下に又は５％以下に定め、且つ、他の１以上のフィルタ部のｉ線透過率を１５％以上に又は４０％以上に定めることもある。

色分解フィルタ４が含んでいるフィルタ部のｉ線透過率に下限値はない。一例によれば、色分解フィルタ４が含んでいる全てのフィルタ部のｉ線透過率は、１％以上又は２％以上である。

なお、色分解フィルタ４が含んでいる全てのフィルタ部のｉ線透過率を７５％以下とするには、既存の材料の中から、７５％以下のｉ線透過率を達成し得るものを適宜選択すればよい。

図６は、フィルタ部の透過スペクトルの例を示すグラフである。図６において、曲線Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３及びＣ４は、それぞれ、イエロー色のフィルタ部、青色のフィルタ部、緑色のフィルタ部、及び赤色のフィルタ部の透過スペクトルの例を示している。また、表１は、フィルタ部に使用可能な材料の例と、それを用いて形成したフィルタ部の透過率とを示している。なお、表１に示す透過率は、膜厚を０．５乃至１．０μｍの範囲内とした場合の値である。

図６及び表１に示すように、フィルタ部のｉ線透過率は、それに使用する材料に応じて様々である。例えば、同じ色のフィルタ部であっても、使用する材料が異なっていると、ｉ線透過率は大きく相違し得る。そして、ｉ線透過率の測定は容易である。従って、多数の材料の中から７５％以下のｉ線透過率を達成し得るものを選択することは容易であり、それ故、色分解フィルタ４が含んでいる全てのフィルタ部のｉ線透過率を７５％以下とすることも容易である。

図３を参照しながら上述した方法では、エッチングマスク６を形成して、有機膜５をエッチングすることにより、マイクロレンズ５１を形成する。マイクロレンズ５１は、エッチングマスク６なしで形成することも可能である。即ち、先ず、上記と同様の方法により、基板２上へ、下地膜３及び色分解フィルタ４を形成する。次に、色分解フィルタ４の上に、感光性材料からなる塗膜を形成する。次いで、この塗膜に対してｉ線によるパターン露光と現像とを含むパターニングを行って、感光性材料の硬化物からなる複数のマイクロレンズ５１を、色分解フィルタ４を間に挟んでフォトダイオード２１とそれぞれ向き合うように形成する。なお、このパターニングは、現像後の加熱によるメルトフローを更に含むことが好ましい。この方法でも、寸法のばらつきが小さなマイクロレンズ５１を形成することができる。

以下に、本発明に関連して行った試験を記載する。

図１及び図２を参照しながら説明したイメージセンサ１Ａを製造した。ここでは、第１フィルタ部４１、第２フィルタ部４２、第３フィルタ部４３、及び第４フィルタ部４４は、それぞれ、赤色層、緑色層、青色層、及び無色透明層とした。また、色分解フィルタ４と有機膜５との間に、無色透明の平坦化膜を設けた。そして、このイメージセンサ１Ａとして、平坦化膜の透過スペクトルが異なる第１及び第２サンプルを製造した。

第１サンプルの平坦化膜としては、東京応化工業社製のＴＭＲ－Ｃ００７からなる厚さが２μｍの膜を形成した。第２サンプルの平坦化膜としては、富士薬品工業社製のＦＯＣ－３７５－２４からなる厚さが０．３μｍの膜を形成した。第１及び第２サンプルでは、第１フィルタ部４１、第２フィルタ部４２、及び第３フィルタ部４３のｉ線透過率は、７５％未満の範囲内で大きくばらついていた。具体的には、第１フィルタ部４１、第２フィルタ部４２、及び第３フィルタ部４３のｉ線透過率は、それぞれ、２２％、６％及び２％であった。第１及び第２サンプルでは、第４フィルタ部４４に、東京応化工業社製のＴＭＲ－Ｃ００７を使用した。即ち、第１及び第２サンプルでは、ｉ線透過率は１００％であった。そして、マイクロレンズ５１は、図３を参照しながら説明した方法によって形成した。

図７は、実施例において使用した平坦化膜の透過スペクトルを示すグラフである。図７において、曲線Ｃ５及びＣ６は、それぞれ、第１及び第２サンプルの平坦化膜の透過スペクトルを示している。曲線Ｃ５及びＣ６に示すように、第１サンプルの平坦化膜はｉ線透過率が１００％であったのに対し、第２サンプルの平坦化膜はｉ線透過率が７６．２％であった。

第１及び第２サンプルの各々について、第４フィルタ部４４上に位置したマイクロレンズの高さと、他のフィルタ部上に位置したマイクロレンズの高さとを測定した。その結果を、以下の表２に示す。

表２に示すように、第１サンプルでは、マイクロレンズ５１の高さのばらつきが大きかった。これに対し、第２サンプルでは、マイクロレンズ５１の高さのばらつきが十分に小さかった。以上から、色分解フィルタ４が含んでいる全てのフィルタ部についてｉ線透過率を７５％以下とすることにより、マイクロレンズ５１の高さのばらつきを十分且つ確実に小さくできることを確認できた。

１Ａ…イメージセンサ、１Ｂ…イメージセンサ、２…基板、３…下地膜、４…色分解フィルタ、５…有機膜、６…エッチングマスク、２１…フォトダイオード、４１…第１フィルタ部、４２…第２フィルタ部、４３…第３フィルタ部、４４…第４フィルタ部、５１…マイクロレンズ。

Claims (7)

1. 複数のフォトダイオードが設けられた基板と、
   前記複数のフォトダイオードの上にそれぞれ設けられた複数のフィルタ部を含み、前記複数のフィルタ部の１以上と前記複数のフィルタ部の他の１以上とは透過スペクトルが異なる色分解フィルタと、
   前記色分解フィルタを間に挟んで前記複数のフォトダイオードとそれぞれ向き合った複数のマイクロレンズと
   を備え、
   前記複数のフィルタ部の各々はｉ線透過率が７５％以下であるイメージセンサ。
2. 前記複数のフィルタ部の前記１以上はｉ線透過率が２％以上である請求項１に記載のイメージセンサ。
3. 前記複数のフィルタ部の前記１以上のｉ線透過率が１０％以下であり、前記複数のフィルタ部の前記他の１以上のｉ線透過率が１５％以上である請求項１に記載のイメージセンサ。
4. 前記複数のフィルタ部の前記１以上は、４００乃至６５０ｎｍの波長域における透過率の最大値が５０％以上である請求項１に記載のイメージセンサ。
5. 前記複数のフィルタ部の前記１以上は無色透明である請求項１に記載のイメージセンサ。
6. 複数のフィルタ部を含み、前記複数のフィルタ部の１以上と前記複数のフィルタ部の他の１以上とは透過スペクトルが異なり、前記複数のフィルタ部の各々はｉ線透過率が７５％以下である色分解フィルタを、基板に設けられた複数のフォトダイオードの上に前記複数のフィルタ部がそれぞれ設けられるように形成することと、
   前記色分解フィルタの上に感光性材料からなる塗膜を形成することと、
   前記塗膜に対してｉ線によるパターン露光と現像とを含むパターニングを行って、前記感光性材料の硬化物からなる複数のマイクロレンズを、前記色分解フィルタを間に挟んで前記複数のフォトダイオードとそれぞれ向き合うように形成することと
   を含んだイメージセンサの製造方法。
7. 複数のフィルタ部を含み、前記複数のフィルタ部の１以上と前記複数のフィルタ部の他の１以上とは透過スペクトルが異なり、前記複数のフィルタ部の各々はｉ線透過率が７５％以下である色分解フィルタを、基板に設けられた複数のフォトダイオードの上に前記複数のフィルタ部がそれぞれ設けられるように形成することと、
   前記色分解フィルタの上に有機膜を形成することと、
   前記有機膜の上に感光性材料からなる塗膜を形成することと、
   前記塗膜に対してｉ線によるパターン露光と現像とを含むパターニングを行って、前記有機膜を間に挟んで前記複数のフィルタ部とそれぞれ向き合った複数の島状部を含んだエッチングマスクを形成することと、
   その後、前記エッチングマスク及びこれに覆われた前記有機膜に対してドライエッチングを行って、前記色分解フィルタを間に挟んで前記複数のフォトダイオードとそれぞれ向き合った複数のマイクロレンズを形成することと
   を含んだイメージセンサの製造方法。