JP2024019220A - 架橋剤組成物、ゴム補強用繊維処理剤、ゴム補強用繊維処理剤キット及びゴム補強用繊維の製造方法 - Google Patents
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- Treatments For Attaching Organic Compounds To Fibrous Goods (AREA)
Abstract
Description
また、上記分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有するブロックイソシアネート化合物の含有量が、上記ゴムラテックスの含有量100質量部に対し0.5~25質量部であることが好ましい。
また、ゴム補強用繊維処理剤(固形分濃度Z1質量%)に含まれるエポキシ基の量とブロックイソシアネート基の量が、下記式(1):
-30≦(X1-Y1)×20/Z1≦10 (1)
[式中、
X1:処理剤(1kg)に含まれるエポキシ基の量(mmol)
Y1:処理剤(1kg)に含まれるブロックイソシアネート基の量(mmol)]
を満足することが好ましい。
20≦[X2×2/Z2-(Y2×2/Z2+Y3×20/Z3)]≦70 (2)
[式中、
X2:上記処理剤1(1kg)に含まれるエポキシ基の量(mmol)
Y2:上記処理剤1(1kg)に含まれるブロックイソシアネート基の量(mmol)
Y3:上記処理剤2(1kg)に含まれるブロックイソシアネート基の量(mmol)]
を満足することが好ましい。
また、上記ゴムラテックスと架橋剤組成物を含有する組成物が、更に、エポキシ化合物及び/又は分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有さないブロックイソシアネート化合物を含有することが好ましく、上記繊維は、ポリエステル、ナイロン及びアラミドのいずれかを含むことが好ましい。
また、上記ゴム補強用繊維を含有するゴム製品によっても基本的に解決される。
分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有するブロックイソシアネート化合物は、分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造とブロックイソシアネート基を有する化合物であり(本発明で使用するエポキシ化合物を除く)、例えば、分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有するポリイソシアネート化合物のイソシアネート基に公知のブロック化剤を付加反応させることで得られる。具体的には、例えば以下の原料成分(a)~(c)、及び、必要に応じて(d)を反応させることにより合成することができる。
(a)ポリイソシアネート化合物
(b)分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有するポリオール化合物
(c)ブロック化剤
(d)活性水素基含有化合物(ただし、上記の成分(a)~(c)は除く)
(a)ポリイソシアネート化合物(以下、「ポリイソシアネート化合物(a)」と言う。)
ポリイソシアネート化合物(a)としては、特に限定はなく、例えば、芳香族ポリイソシアネート、芳香脂肪族ポリイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、脂環族ポリイソシアネート、これらのポリイソシアネートの誘導体を含むポリイソシアネート誘導体などが挙げられる。
ポリオール化合物(b)としては、分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有し、更に、1分子当たり1~10個のヒドロキシ基を有する化合物が挙げられる。本明細書では、1分子当たりのヒドロキシ基が1個の場合でもポリオールと称するものとする。このような化合物としては、ヒドロキシ基を有する不飽和脂肪族炭化水素が挙げられ、不飽和骨格を有するポリオールポリオレフィン類が好ましい。不飽和骨格としては、ポリブタジエン、ポリイソプレン、イソプレンブタジエン共重合体や、長鎖アルキル基を側鎖に有するポリファルネセンが挙げられる。また、これらは例えば1,2-繰り返し単位や1,4-繰り返し単位といった構造異性体、シス体、トランス体といった立体異性体のいずれを含んでいても良い。これらの中では、ヒドロキシ基を有するポリブタジエン及びヒドロキシ基を有するポリイソプレンが好ましい。
なお、芳香族化合物の構造は、本発明における炭素-炭素二重結合を含む構造には該当しない。
ブロック化剤とは、付加反応によりイソシアネート基に付加することによりイソシアネート基を不活性化(保護)してブロックイソシアネート基を形成し、一方、加熱などによってブロックイソシアネート基から脱離(脱保護)することにより、イソシアネート基を再形成し、反応活性を再生させる機能を有する化合物のことである。ブロック化剤(c)としては、例えば、アルコール系化合物、アルキルフェノール系化合物、フェノール系化合物、活性メチレン系化合物、メルカプタン系化合物、酸アミド系化合物、酸イミド系化合物、イミダゾール系化合物、イミダゾリン系化合物、ピリミジン系化合物、グアニジン系化合物、トリアゾール系化合物、カルバミン酸系化合物、尿素系化合物、オキシム系化合物、アミン系化合物、イミド系化合物、イミン系化合物、ピラゾール系化合物、重亜硫酸塩等が挙げられる。中でも、酸アミド系化合物、活性メチレン系化合物、オキシム系化合物、ピラゾール系化合物が好ましく、ε-カプロラクタム、アセチルアセトン、マロン酸ジエチル、メチルエチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、3-メチルピラゾール、3,5-ジメチルピラゾール等がより好ましい。ブロック化剤(c)は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
活性水素基含有化合物(d)としては、特に限定はなく、活性水素基を含有する各種アルコール類、ポリオール類、アミン類が挙げられる。
本発明の処理剤は、更に、エポキシ化合物及び/又は分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有さないブロックイソシアネート化合物を含有することが好ましい。また、液状媒体を含有することが好ましく、液体状であることが好ましい。
本発明の処理剤を用いた繊維表面の付着処理によりゴム補強用繊維を得ることができる。
本発明のゴム補強用繊維処理剤キットの第1の態様(以下、「本発明の処理剤キット1」とも言う。)は、エポキシ化合物と、分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有さないブロックイソシアネート化合物とを含有する処理剤1、及び、ゴムラテックスと、本発明の架橋剤組成物とを含有する処理剤2を含み、レゾルシン及びホルムアルデヒドを含まない。処理剤1及び2は、それぞれさらに液状媒体を含有することが好ましい。
以下、「本発明の処理剤キット1」と「本発明の処理剤キット2」を合わせて「本発明の処理剤キット」とも言う。
レゾルシン、ホルムアルデヒド及びレゾルシンとホルムアルデヒドを縮合させたレゾルシン・ホルムアルデヒド初期縮合物を実質的に含まない架橋剤組成物、処理剤及び処理剤キットは、レゾルシン、ホルムアルデヒド及びレゾルシン・ホルムアルデヒド初期縮合物を実質的に含まない、又は、製造工程において生じない原材料を使用することにより、製造することができる。
ゴムラテックスは、ゴム成分が水性媒体中で乳化分散した性状を有するものであり、例えば、天然ゴムラテックス、スチレン-ブタジエン共重合体ゴムラテックス、カルボキシル基変性スチレン-ブタジエン共重合体ゴムラテックス、ビニルピリジン-スチレン-ブタジエン共重合体ゴムラテックス、ニトリルゴムラテックス、クロロプレンゴムラテックス等が挙げられる。これらの中では、スチレン-ブタジエン共重合体ゴムラテックス、カルボキシル基変性スチレン-ブタジエン共重合体ゴムラテックス、ビニルピリジン-スチレン-ブタジエン共重合体ゴムラテックスが好ましく、ビニルピリジン-スチレン-ブタジエン共重合体ゴムラテックスがより好ましい。また、これらは1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
エポキシ化合物としては、エチレングリコールグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、ノボラックグリシジルエーテル、ブロム化ビスフェノールAジグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル;ヘキサヒドロフタル酸グリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル;トリグリシジルイソシアヌレート、グリシジルヒダントイン、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、トリグリシジルメタアミノフェノール、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルトルイジン、テトラグリシジルメタキシレンジアミン、ジグリシジルトリブロムアニリン、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン等のグリシジルアミン;3,4-エポキシシクロヘキシルメチルカルボキシレート、エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化大豆油等の脂環族あるいは脂肪族エポキサイド等、が挙げられる。これらの中では、水性媒体への溶解性が良好な化合物である、エチレングリコールグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテルが好ましく、市販品としては、ナガセケムテックス株式会社製のデナコール(登録商標)シリーズなどを好ましく用いることができる。また、これらは1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有さないブロックイソシアネート化合物は、分子中にブロックイソシアネート基を有し、炭素-炭素二重結合を含む構造を有さない化合物であり(本発明で使用するエポキシ化合物を除く)、例えば、分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有さないポリイソシアネート化合物のイソシアネート基に公知のブロック化剤を付加反応させることで得られる。該ブロックイソシアネート化合物は、分子中に複数のブロックイソシアネート基を有することが好ましい。
(a)ポリイソシアネート化合物
(c)ブロック化剤
(d)活性水素基含有化合物(ただし、上記の成分(a)及び(c)は除く)
-30≦(X1-Y1)×20/Z1≦10 (1)
[式中、
X1:処理剤(1kg)に含まれるエポキシ基の量(mmol)
Y1:処理剤(1kg)に含まれるブロックイソシアネート基の量(mmol)]
を満足することが好ましい。処理剤1kgに含まれるエポキシ基の量X1(mmol)は、処理剤1kgに含まれるエポキシ化合物の量とそのエポキシ当量から、ブロックイソシアネート基の量Y1(mmol)は、処理剤1kgに含まれる各ブロックイソシアネート化合物の量とそれらのブロックイソシアネート基含有率から、それぞれ算出される値である。
20≦[X2×2/Z2-(Y2×2/Z2+Y3×20/Z3)]≦70 (2)
[式中、
X2:処理剤1(1kg)に含まれるエポキシ基の量(mmol)
Y2:処理剤1(1kg)に含まれるブロックイソシアネート基の量(mmol)
Y3:処理剤2(1kg)に含まれるブロックイソシアネート基の量(mmol)]
を満足することが好ましい。ここで、処理剤1や処理剤2の固形分濃度や量は各官能基の量を算出するために設定しているだけであって、実際に処理剤1と処理剤2を混合する必要はない。エポキシ基の量やブロックイソシアネート基の量は、前記の本発明の処理剤の場合と同様にして算出される値である。
〔1〕レゾルシン及びホルムアルデヒドを含まないゴム補強用繊維処理剤に用いる架橋剤組成物であって、分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有するブロックイソシアネート化合物を含む架橋剤組成物。
〔2〕上記炭素-炭素二重結合を含む構造が、ポリブタジエン構造及びポリイソプレン構造から選ばれる構造である上記〔1〕に記載の架橋剤組成物。
〔3〕レゾルシン及びホルムアルデヒドを含まないゴム補強用繊維処理剤であって、ゴムラテックスと、上記〔1〕又は〔2〕に記載の架橋剤組成物を含有するゴム補強用繊維処理剤。
〔4〕更に、エポキシ化合物及び/又は分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有さないブロックイソシアネート化合物を含有する上記〔3〕に記載のゴム補強用繊維処理剤。
〔5〕上記分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有するブロックイソシアネート化合物の含有量が、上記ゴムラテックスの含有量100質量部に対し0.5~25質量部である上記〔3〕又は〔4〕に記載のゴム補強用繊維処理剤。
〔6〕ゴム補強用繊維処理剤(固形分濃度Z1質量%)に含まれるエポキシ基の量とブロックイソシアネート基の量が、下記式(1):
-30≦(X1-Y1)×20/Z1≦10 (1)
[式中、
X1:処理剤(1kg)に含まれるエポキシ基の量(mmol)
Y1:処理剤(1kg)に含まれるブロックイソシアネート基の量(mmol)]
を満足する上記〔4〕又は〔5〕に記載のゴム補強用繊維処理剤。
〔7〕レゾルシン及びホルムアルデヒドを含まないゴム補強用繊維処理剤のキットであって、エポキシ化合物と、分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有さないブロックイソシアネート化合物とを含有する処理剤1、及び、ゴムラテックスと、上記〔1〕又は〔2〕に記載の架橋剤組成物とを含有する処理剤2を含むゴム補強用繊維処理剤キット。
〔8〕上記処理剤2において、上記分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有するブロックイソシアネート化合物の含有量が、上記ゴムラテックスの含有量100質量部に対し0.5~20質量部である上記〔7〕に記載のゴム補強用繊維処理剤キット。
〔9〕上記処理剤1(固形分濃度Z2質量%)と上記処理剤2(固形分濃度Z3質量%)に含まれるエポキシ基の量とブロックイソシアネート基の量が、下記式(2):
20≦[X2×2/Z2-(Y2×2/Z2+Y3×20/Z3)]≦70 (2)
[式中、
X2:上記処理剤1(1kg)に含まれるエポキシ基の量(mmol)
Y2:上記処理剤1(1kg)に含まれるブロックイソシアネート基の量(mmol)
Y3:上記処理剤2(1kg)に含まれるブロックイソシアネート基の量(mmol)]
を満足する上記〔7〕又は〔8〕に記載のゴム補強用繊維処理剤キット。
〔10〕上記〔7〕~〔9〕のいずれかに記載のゴム補強用繊維処理剤キットを使用し、繊維に、上記処理剤1を含む加工液を付着させる処理を行い、その後、上記処理剤2を含む加工液を付着させる処理を行う工程を有する、ゴム補強用繊維の製造方法。
〔11〕レゾルシン及びホルムアルデヒドを含まないゴム補強用繊維処理剤のキットであって、エポキシ化合物と、上記〔1〕又は〔2〕に記載の架橋剤組成物とを含有する処理剤3、及び、ゴムラテックスと、分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有さないブロックイソシアネート化合物とを含有する処理剤4を含むゴム補強用繊維処理剤キット。
〔12〕上記〔11〕に記載のゴム補強用繊維処理剤キットを使用し、繊維に、上記処理剤3を含む加工液を付着させる処理を行い、その後、上記処理剤4を含む加工液を付着させる処理を行う工程を有する、ゴム補強用繊維の製造方法。
〔13〕繊維表面に、ゴムラテックスと、上記〔1〕又は〔2〕に記載の架橋剤組成物を含有する組成物を加熱処理して得た接着性組成物が付着したゴム補強用繊維。
〔14〕上記ゴムラテックスと架橋剤組成物を含有する組成物が、更に、エポキシ化合物及び/又は分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有さないブロックイソシアネート化合物を含有する上記〔13〕に記載のゴム補強用繊維。
〔15〕上記繊維が、ポリエステル、ナイロン及びアラミドのいずれかを含む上記〔13〕又は〔14〕に記載のゴム補強用繊維。
〔16〕上記〔13〕~〔15〕のいずれかに記載のゴム補強用繊維を含有するゴム製品。
・デュラネート(登録商標)24A-100:ヘキサメチレンジイソシアネートのビュレット体、イソシアネート基の濃度(含有率)23.5%、旭化成株式会社製
・NISSO-PB G-1000:ポリブタジエンジオール、数平均分子量1400、日本曹達株式会社製
・Poly ip:末端にヒドロキシ基を有する液状ポリイソプレン、数平均分子量2500、出光興産株式会社製
・ネオスタン(登録商標)U-600:ビスマス系触媒、日東化成株式会社製
・3,5-ジメチルピラゾール:大塚化学株式会社製
・JEFFAMINE(登録商標)M-1000:メトキシポリ(オキシエチレン/オキシプロピレン)-2-プロピルアミン、数平均分子量1000、HUNTSMAN社製
・エパン(登録商標)680:プルロニック(登録商標)型非イオン界面活性剤、数平均分子量8750、エチレンオキサイド重量分率80%、第一工業製薬株式会社製
・ミリオネート(登録商標)MR-200:ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート、イソシアネート基の濃度(含有率)31.5%、東ソー株式会社製
・ニューポール(登録商標)BPE-40:ビスフェノールAのエチレンオキサイド4モル付加物、三洋化成工業株式会社製
・ブチルグリコールエーテル:エチレングリコールモノブチルエーテル、東京化成工業株式会社製
・Disponil(登録商標)SUS87:スルホスクシン酸ナトリウム、BASF社製
・デナコールEX-313:グリセロールポリグリシジルエーテル、エポキシ当量141g/eq、ナガセケムテックス株式会社製
・デナコールEX-614:ソルビトールポリグリシジルエーテル、エポキシ当量167g/eq、ナガセケムテックス株式会社製
・PYRATEX(登録商標)-LB:ビニルピリジン-スチレン-ブタジエン共重合体ゴムラテックス、固形分濃度38.8%、日本エイアンドエル株式会社製
・ニポール(登録商標)LX-112:スチレン-ブタジエン共重合体ゴムラテックス、固形分濃度41%、日本ゼオン株式会社製
・ネオコール(登録商標)P:ジオクチルスルホコハク酸エステル塩、第一工業製薬株式会社製
・スミカノール(登録商標)700S:レゾルシン・ホルムアルデヒド初期縮合物、固形分濃度65%、住友化学株式会社製
・DM-6400:MDI型ブロックイソシアネート(分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造は有さない)、固形分濃度42%、再生イソシアネート基(水分散型ブロックイソシアネートからブロック化剤を脱離させた場合のイソシアネート基)濃度7.90%、明成化学工業株式会社製
・スメクトン(登録商標)-ST:合成スメクタイト、クニミネ工業株式会社製
・FUJI SP BLACK 203:カーボンブラック分散液、固形分濃度23.5%、冨士色素株式会社製
製造例1
攪拌機、冷却管及び温度計を備えたセパラブルフラスコに、デュラネート24A-100を200g(イソシアネート基の量1.119mol)、NISSO-PB G-1000を261.1g(ヒドロキシ基の量0.373mol)、ポリオキシエチレンモノメチルエーテル(数平均分子量2000)を37.3g(ヒドロキシ基の量0.019mol)、ポリオキシプロピレントリメチロールプロパンエーテル(水酸基価398mgKOH/g)を7.0g(ヒドロキシ基の量0.050mol)及びアセトンを380g仕込み、室温で攪拌し混合した。次に、液温を60℃まで昇温させ、ネオスタンU-600を0.253g加え、JIS K 1603-1:2007のA法に準拠して測定した反応液のイソシアネート基の濃度(含有率)が3.2%(28.5g)になるまで反応させた。液温を40℃まで冷却後、3,5-ジメチルピラゾールを65.1g(NH基の量0.677mol)を加え、イソシアネート基の濃度が0%になるまで反応させた。液温を30℃まで冷却し、強攪拌下にてイオン交換水1400gを滴下し分散させた。その後、減圧下にてアセトンを留去し、固形分(570.8g)の濃度が30%になるようにイオン交換水を加え、本発明の架橋剤組成物の一態様である製造例1の水分散型ブロックイソシアネートを得た。製造例1の水分散型ブロックイソシアネートにおける再生イソシアネート基(水分散型ブロックイソシアネートからブロック化剤を脱離させた場合のイソシアネート基)の濃度は1.50%であった。
攪拌機、冷却管及び温度計を備えたセパラブルフラスコに、デュラネート24A-100を35g(イソシアネート基の量0.196mol)、Poly ipを81.6g(ヒドロキシ基の量0.065mol)、ポリオキシエチレンモノメチルエーテル(数平均分子量2000)を6.5g(ヒドロキシ基の量0.003mol)、ポリオキシプロピレントリメチロールプロパンエーテル(水酸基価398mgKOH/g)を1.2g(ヒドロキシ基の量0.009mol)及びアセトンを90g仕込み、室温で攪拌し混合した。次に、液温を60℃まで昇温させ、ネオスタンU-600を0.062g加え、反応液のイソシアネート基の濃度が2.3%になるまで反応させた。液温を40℃まで冷却後、3,5-ジメチルピラゾールを11.4g(NH基の量0.119mol)を加え、イソシアネート基の濃度が0%になるまで反応させた。液温を30℃まで冷却し、強攪拌下にてイオン交換水300gを滴下し分散させた。その後、減圧下にてアセトンを留去し、固形分濃度が30%になるようにイオン交換水を加え、本発明の架橋剤組成物の一態様である製造例2の水分散型ブロックイソシアネートを得た。製造例2の水分散型ブロックイソシアネートにおける再生イソシアネート基の濃度は1.10%であった。
製造例3
攪拌機、冷却管及び温度計を備えたセパラブルフラスコに、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートを100部(イソシアネート基の量0.800mol)、ε-カプロラクタムを100部(NH基の量0.884mol)、ジオキサンを200部仕込み、攪拌を続けながら液温を徐々に昇温して85℃に保持し、120分間反応させた後ジオキサンを留去し、ブロックイソシアネート化合物を得た。次に、イオン交換水94.3部に得られたブロックイソシアネート化合物を100部、エパン680を10.7部加え、湿式分散機で分散し、固形分濃度54%の、製造例3の水分散型ブロックイソシアネートを得た。製造例3の水分散型ブロックイソシアネートにおける再生イソシアネート基の濃度は8.60%であった。
攪拌機、冷却管及び温度計を備えたセパラブルフラスコに、ミリオネートMR-200を152部(イソシアネート基の量1.140mol)、ニューポールBPE-40を83.4部(ヒドロキシ基の量0.412mol)仕込み、攪拌を続けながら液温を徐々に昇温して85℃に保持し、30分間反応させ、イソシアネート基の濃度が13.0%のウレタンプレポリマーを得た。次に、ジオキサンを100部、ε-カプロラクタムを50部(NH基の量0.442mol)、トリエチルアミンを0.2部添加した後、液温を75℃にして120分間反応させ、イソシアネート基の濃度が3.1%の部分ブロックドプレポリマーを得た。次に、液温を40℃にして濃度30%のタウリンソーダ水溶液を140部(NH2基の量0.285mol)加え、40~45℃で30分間反応させた。その後、固形分濃度が30%になるようにイオン交換水による希釈とジオキサンの留去を行い、製造例4の水分散型ブロックイソシアネートを得た。製造例4の水分散型ブロックイソシアネートにおける再生イソシアネート基の濃度は1.70%であった。
攪拌機、冷却管及び温度計を備えたセパラブルフラスコに、デュラネート24A-100を30部(イソシアネート基の量0.168mol)仕込み、攪拌を続けながらJEFFAMINE M-1000を1部(NH2基の量0.001mol)ゆっくりと添加し、液温を60~70℃に昇温した。イソシアネート基の濃度が22.6%に到達した時点で、3,5-ジメチルピラゾールを16.1部(NH基の量0.167mol)ゆっくりと添加しながら、液温を60~70℃に保持した。イソシアネート基の濃度がゼロに到達した時点で、ブチルグリコールエーテルを7部、Disponil SUS87を0.72部添加し、5分間混合した。続いて、イオン交換水104.59部を添加し、高速ミキサーを用いて分散物を形成し、固形分濃度30%の、製造例5の水分散型ブロックイソシアネートを得た。製造例5の水分散型ブロックイソシアネートにおける再生イソシアネート基の濃度は4.40%であった。
攪拌機、冷却管及び温度計を備えたセパラブルフラスコに、2,4-トリレンジイソシアネートを76.00部(イソシアネート基の量0.873mol)、トリメチロールプロパンを25.6部(ヒドロキシ基の量0.572mol)、酢酸エチルを250部仕込み、攪拌を続けながら液温を徐々に昇温して40℃で2時間保持し、イソシアネート基の濃度が3.6%のイソシアネート化合物を得た。次に、メチルエチルケトンオキシムを26.1部(ヒドロキシ基の量0.300mol)加え、更に1時間攪拌を続け、ブロックイソシアネート化合物を得た。これにエパン680を22.14部加え、イオン交換水を190.7部徐々に加えた。その後、減圧下にて酢酸エチルを留去し、固形分濃度が44%になるようにイオン交換水を加え、製造例6の水分散型ブロックイソシアネートを得た。製造例6の水分散型ブロックイソシアネートにおける再生イソシアネート基の濃度は3.70%であった。
実施例1-1
水588.0部にデナコールEX-313を11.6部添加し、均一に溶解した。次に、製造例3の水分散型ブロックイソシアネートを36.3部(固形分19.6部)添加し均一に混合した。次に、PYRATEX-LBを360.8部(固形分140.0部)添加し均一に混合した。最後に、製造例1の水分散型ブロックイソシアネート3.33部(固形分1.0部)をゆっくりかきまぜながら加え、均一に混合して、固形分濃度17.2%(上記式(1)におけるZ1)の実施例1-1のゴム補強用繊維処理剤を得た。
ゴム補強用繊維処理剤に使用する原材料、繊維(ポリエステルコードは「PET」、ナイロンコード(1400dtex、二本撚り)は「Ny」と表記)を表1~4に記載するもの及び量に代えた以外は実施例1-1と同様にして、実施例1-2~1-17、比較例1-1~1-7の各々のゴム補強用繊維処理剤及びゴム補強用繊維を得た。ゴム補強用繊維処理剤において、ゴムラテックスの含有量(固形分)100部に対する、分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有するブロックイソシアネート化合物(固形分)の含有量(表中、「BI/GL量」)と、上記式(1)における(X1-Y1)×20/Z1の値(表中、「EP-BI量」)と、繊維への接着性組成物の固形分付着量(付着率)も、表1~4に示す。
水384.7部にPYRATEX-LBを300.7部(固形分116.7部)と、ニポールLX-112を125.0部(固形分51.3部)添加し均一に混合してラテックス希釈液とした。一方、水126.5部に濃度10%水酸化ナトリウム水溶液を7.0部加えて混合し、スミカノール700Sを45.0部(固形分29.3部)添加して、均一に溶解してレゾルシン・ホルムアルデヒド初期縮合物溶液とした。次に、ラテックス希釈液にレゾルシン・ホルムアルデヒド初期縮合物溶液をゆっくりかきまぜながら加え、更にホルマリン(濃度37%水溶液)を11.1部添加し、均一に混合して、固形分濃度20.0%のゴム補強用繊維処理剤を得た。このゴム補強用繊維処理剤をそのまま加工液として用い、繊維(ナイロンコード、1400dtex、二本撚り)を浸漬処理し、130℃で2分間乾燥処理し、続いて240℃で2分間加熱処理を行って、繊維表面に接着性組成物が付着したゴム補強用繊維を得た。繊維への接着性組成物の固形分付着量は、付着率で7.2%であった。
天然ゴム70部、スチレン-ブタジエン共重合体ゴム30部、カーボンブラック粉末60部、酸化亜鉛粉末4部、ステアリン酸1.5部、アロマオイル8部、硫黄2.5部、加硫促進剤(N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド)1.1部をよく混錬した後、シート状に形成し未加硫ゴムシートとした。未加硫ゴムシートの表面近くに実施例1-1のゴム補強用繊維を7本埋設し、4.7MPaのプレス圧力で、150℃で30分間加硫することにより、ゴム補強用繊維表面にゴム組成物が付着してシート状となった実施例1-1のゴム製品を得た。実施例1-2~1-17、比較例1-1~1-7、参考例1の各ゴム補強用繊維についても、同様にしてゴム製品を得た。
得られた各々のゴム製品について、精密万能試験機(オートグラフAG-X、株式会社島津製作所製)を用い、平面つかみ具を使用して、両端のコードを残し5本のコードを保持し、ゴムシート面に対し90度の方向へ300mm/分の速度で剥離し、その際に要する力を測定した。測定値を5で割った値(コード1本あたりの力)を接着力とした。結果を表1~4に示す。
上記の接着力の評価において、ゴムシートから剥離されたゴム補強用繊維の表面を目視で観察し、下記の基準で評価した。結果を表1~4に示す。
◎:付着した黒色のゴム組成物の量が多く、コードの見えている部分がない。
○:付着した黒色のゴム組成物の量は多いが、一部にコードが見えている部分がある。
△:全体的に付着した黒色のゴム組成物の量が少なく、コードが見えている部分が多い。
×:黒色のゴム組成物が付いていない、又はほとんど付いていない。
実施例2-1
水973.6部にデナコールEX-614を13.3部と、ネオコールPを0.7部添加し、均一に溶解した。次に、製造例3の水分散型ブロックイソシアネートを12.4部(固形分6.7部)添加し、均一に混合して、固形分濃度2.07%(上記式(2)におけるZ2)の処理剤Aを得た。これとは別に、水570.1部にPYRATEX-LBを301.3部(固形分116.9部)と、ニポールLX-112を125.3部(固形分51.4部)添加し均一に混合した。次に、製造例1の水分散型ブロックイソシアネート3.33部(固形分1.0部)をゆっくりかきまぜながら加え、均一に混合して、固形分濃度16.9%(上記式(2)におけるZ3)の処理剤Bを得た。得られた処理剤Aと処理剤Bで、実施例2-1のゴム補強用繊維処理剤キットとした。
ゴム補強用繊維処理剤に使用する原材料を表5、表6に記載するもの及び量に代えた以外は実施例2-1と同様にして、実施例2-2~2-15、比較例2-1、2-2の各々のゴム補強用繊維処理剤キット及びゴム補強用繊維を得た。繊維は全てポリエステルコードを用いた。ゴム補強用繊維処理剤キットの処理剤Bにおいて、ゴムラテックス(固形分)の含有量100部に対する、分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有するブロックイソシアネート化合物(固形分)の含有量(表中、「BI/GL量」)と、上記式(2)における[X2×2/Z2-(Y2×2/Z2+Y3×20/Z3)]の値(表中、「EP-BI量」)と、繊維への接着性組成物の固形分付着量(付着率)も、表5及び表6に示す。
水973.6部にデナコールEX-614を13.3部と、ネオコールPを0.7部添加し、均一に溶解した。次に、製造例3の水分散型ブロックイソシアネートを12.4部(固形分6.7部)添加し、均一に混合して、固形分濃度2.07%の前処理剤を得た。これとは別に、水384.7部にPYRATEX-LBを300.7部(固形分116.7部)と、ニポールLX-112を125.0部(固形分51.3部)添加し均一に混合してラテックス希釈液とした。一方、水126.5部に濃度10%水酸化ナトリウム水溶液を7.0部加えて混合し、スミカノール700Sを45.0部(固形分29.3部)添加して、均一に溶解してレゾルシン・ホルムアルデヒド初期縮合物溶液とした。次に、ラテックス希釈液にレゾルシン・ホルムアルデヒド初期縮合物溶液をゆっくりかきまぜながら加え、更にホルマリン(濃度37%水溶液)を11.1部添加し、均一に混合して、固形分濃度20.0%の後処理剤を得た。得られた前処理剤と後処理剤で、参考例2のゴム補強用繊維処理剤キットとした。ポリエステルコードへの加工条件は、実施例2-1と同様にして(処理剤Aに代えて前処理剤、処理剤Bに代えて後処理剤を使用)実施し、ゴム補強用繊維を得た。
ゴム補強用繊維処理剤に使用する原材料を表7に記載するもの及び量に代えた以外は実施例2-1あるいは参考例2と同様にして、実施例2-16、2-17、参考例3、4の各々のゴム補強用繊維処理剤キット及びゴム補強用繊維を得た。繊維はアラミドコード(1110dtex、二本撚り、表中「Ara」と表記)を用いた。ゴム補強用繊維処理剤キットの処理剤Bにおいて、ゴムラテックス(固形分)の含有量100部に対する、分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有するブロックイソシアネート化合物(固形分)の含有量(表中、「BI/GL量」)と、上記式(2)における[X2×2/Z2-(Y2×2/Z2+Y3×20/Z3)]の値(表中、「EP-BI量」)と、繊維への接着性組成物の固形分付着量(付着率)も、表7に示す。
得られた各々のゴム補強用繊維を用いて、実施例1-1と同様にしてゴム製品を作製し、実施例1-1と同様にして接着力とゴム付着量を評価した。結果を表5~7に示す。
Claims (16)
- レゾルシン及びホルムアルデヒドを含まないゴム補強用繊維処理剤に用いる架橋剤組成物であって、分子中に、炭素-炭素二重結合を含む構造と、オキシエチレン基を有する活性水素基含有化合物に由来する構造を有するブロックイソシアネート化合物を含む架橋剤組成物。
- 前記オキシエチレン基を有する活性水素基含有化合物が、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール及びオクタノールから選ばれるアルコールにエチレンオキサイドを付加したポリエーテルモノオールである請求項1に記載の架橋剤組成物。
- 前記炭素-炭素二重結合を含む構造が、ポリブタジエン構造及びポリイソプレン構造から選ばれる構造である請求項1又は2に記載の架橋剤組成物。
- レゾルシン及びホルムアルデヒドを含まないゴム補強用繊維処理剤であって、ゴムラテックスと、請求項1に記載の架橋剤組成物と、エポキシ化合物を含有するゴム補強用繊維処理剤。
- 更に、分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有さないブロックイソシアネート化合物を含有する請求項4に記載のゴム補強用繊維処理剤。
- 前記分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有するブロックイソシアネート化合物の含有量が、前記ゴムラテックスの含有量100質量部に対し0.5~25質量部である請求項4又は5に記載のゴム補強用繊維処理剤。
- ゴム補強用繊維処理剤(固形分濃度Z1質量%)に含まれるエポキシ基の量とブロックイソシアネート基の量が、下記式(1):
-30≦(X1-Y1)×20/Z1≦10 (1)
[式中、
X1:処理剤(1kg)に含まれるエポキシ基の量(mmol)
Y1:処理剤(1kg)に含まれるブロックイソシアネート基の量(mmol)]
を満足する請求項4又は5に記載のゴム補強用繊維処理剤。 - ポリエステル、ナイロン及びアラミドのいずれかを含む繊維に、請求項4又は5に記載のゴム補強用繊維処理剤を付着させる処理を行う工程を有する、ゴム補強用繊維の製造方法。
- レゾルシン及びホルムアルデヒドを含まないゴム補強用繊維処理剤のキットであって、エポキシ化合物と、分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有さないブロックイソシアネート化合物とを含有する処理剤1、及び、ゴムラテックスと、請求項1に記載の架橋剤組成物とを含有する処理剤2を含むゴム補強用繊維処理剤キット。
- 前記処理剤2において、前記分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有するブロックイソシアネート化合物の含有量が、前記ゴムラテックスの含有量100質量部に対し0.5~20質量部である請求項9に記載のゴム補強用繊維処理剤キット。
- 前記処理剤1(固形分濃度Z2質量%)と前記処理剤2(固形分濃度Z3質量%)に含まれるエポキシ基の量とブロックイソシアネート基の量が、下記式(2):
20≦[X2×2/Z2-(Y2×2/Z2+Y3×20/Z3)]≦70 (2)
[式中、
X2:前記処理剤1(1kg)に含まれるエポキシ基の量(mmol)
Y2:前記処理剤1(1kg)に含まれるブロックイソシアネート基の量(mmol)
Y3:前記処理剤2(1kg)に含まれるブロックイソシアネート基の量(mmol)]
を満足する請求項9又は10に記載のゴム補強用繊維処理剤キット。 - 請求項9に記載のゴム補強用繊維処理剤キットを使用し、繊維に、前記処理剤1を含む加工液を付着させる処理を行い、その後、前記処理剤2を含む加工液を付着させる処理を行う工程を有する、ゴム補強用繊維の製造方法。
- 前記繊維が、ポリエステル、ナイロン及びアラミドのいずれかを含む請求項12に記載のゴム補強用繊維の製造方法。
- レゾルシン及びホルムアルデヒドを含まないゴム補強用繊維処理剤のキットであって、エポキシ化合物と、請求項1に記載の架橋剤組成物とを含有する処理剤3、及び、ゴムラテックスと、分子中に炭素-炭素二重結合を含む構造を有さないブロックイソシアネート化合物とを含有する処理剤4を含むゴム補強用繊維処理剤キット。
- 請求項14に記載のゴム補強用繊維処理剤キットを使用し、繊維に、前記処理剤3を含む加工液を付着させる処理を行い、その後、前記処理剤4を含む加工液を付着させる処理を行う工程を有する、ゴム補強用繊維の製造方法。
- 前記繊維が、ポリエステル、ナイロン及びアラミドのいずれかを含む請求項15に記載のゴム補強用繊維の製造方法。
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