JP2024001027A - ビーム照射システム及びその制御方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】制御モジュールが点検状態にあるか又はソフトウェアやハードウェアが故障する場合にビーム照射できないことを回避するシステムを提供する。【解決手段】ビーム照射システムは、ビーム生成装置が第１の照射室にビームを射出するように制御することができる第１のサブ制御モジュール、及び第２の照射室に対応し、ビーム生成装置が第２の照射室にビームを射出するように制御することができる第２のサブ制御ジュールを含むシステム制御モジュールと、第１のサブ制御モジュールと第２のサブ制御モジュールのうちの一方は、ビーム制御モジュールが第１のサブ制御モジュールと第２のサブ制御モジュールのうちの他方で占用されない場合にビーム制御モジュールによりビーム生成装置を制御することができるビーム制御モジュールとを含み、同一のビーム照射システムがそれぞれ複数の照射室を制御する。【選択図】図１

Description

本発明は、ビーム照射の技術分野に関し、具体的には、ビーム照射システム及びその制
御方法に関する。
従来のビーム照射システムの多くは、同一の制御モジュールを利用して単一又は複数の
照射室を制御するものであり、このようなビーム照射システムは、簡単で操作しやすいた
め、ビーム照射の技術分野に広く応用される。
しかしながら、このようなビーム照射システムの制御モジュールのハードウェア及びソ
フトウェアが単一であり、制御モジュールが点検状態にあるか又はソフトウェアやハード
ウェアが故障する場合に照射室に照射することができいため、ビーム照射システムを十分
に利用することができない。
上記技術的問題を解決するために、本発明の実施例は、ビーム照射システム及びその制
御方法を提供することにより、同一のビーム照射システムにおける複数のサブ制御モジュ
ールがそれぞれ複数の照射室を制御することを実現し、単一の制御モジュールが点検状態
にあるか又はソフトウェアやハードウェアが故障する場合に照射することができないこと
を回避する。
本発明の実施例の第１の態様において、本発明の実施例に係るビーム照射システムは、
第１の照射室及び第２の照射室と、ビームを生成し、第１の照射室又は第２の照射室にビ
ームを射出するビーム生成装置と、第１の照射室に対応し、ビーム生成装置が第１の照射
室にビームを射出するように制御することができる第１のサブ制御モジュール、及び第２
の照射室に対応し、ビーム生成装置が第２の照射室にビームを射出するように制御するこ
とができる第２のサブ制御モジュールを含むシステム制御モジュールと、ビーム生成装置
とシステム制御モジュールとの間に接続されたビーム制御モジュールであって、第１のサ
ブ制御モジュールと第２のサブ制御モジュールのうちの一方は、ビーム制御モジュールが
第１のサブ制御モジュールと第２のサブ制御モジュールのうちの他方で占用されない場合
にビーム制御モジュールによりビーム生成装置を制御することができるビーム制御モジュ
ールとを含む。
本発明の一実施例において、ビーム制御モジュールは、ビーム生成装置のデータを取得
し、システム制御モジュールとデータ交換を行うことができ、ビーム生成装置は、システ
ム制御モジュールに接続され、データ交換を行う。
本発明の一実施例において、第１の照射室及び第２の照射室内に被照射体支持アセンブ
リ及び照射放射監視アセンブリが設置され、システム制御モジュールは、被照射体支持ア
センブリ及び照射放射監視アセンブリのデータを受信し、被照射体支持アセンブリの運動
を制御することができる。
本発明の一実施例において、システム制御モジュールは、データ連携共有モジュールを
更に含み、第１のサブ制御モジュール及び第２のサブ制御モジュールは、それぞれデータ
連携共有モジュールに接続され、データ交換を行い、更に、第１の照射室及び第２の照射
室の照射データをそれぞれ記憶し、データ連携共有モジュールは、第１のサブ制御モジュ
ールと第２のサブ制御モジュールとの間に第１の照射室及び第２の照射室の照射データを
共有する。
本発明の一実施例において、ビーム制御モジュールは、データ連携共有モジュールによ
りシステム制御モジュールに接続され、データ連携共有モジュールとデータ交換を行い、
第１の照射室及び第２の照射室は、データ連携共有モジュールに接続され、データ交換を
行い、第１のサブ制御モジュール及び第２のサブ制御モジュールは、データ連携共有モジ
ュールによりビーム制御モジュール、第１の照射室及び第２の照射室を制御する。
本発明の一実施例において、ビーム生成装置は、荷電粒子生成部、ビーム輸送部、第１
の中性子ビーム生成部中性子ビーム生成部及び第２の中性子ビーム生成部を含み、ビーム
制御モジュールは、荷電粒子生成部が荷電粒子を生成するように制御するとともに、ビー
ム輸送部が荷電粒子生成部で生成された荷電粒子を第１の中性子ビーム生成部又は第２の
中性子ビーム生成部に選択的に輸送するように制御することができ、第１の中性子ビーム
生成部で生成された中性子ビームは、第１の照射室に照射され、第２の中性子ビーム生成
部で生成された中性子ビームは、第２の照射室に照射される。
本発明の一実施例において、荷電粒子生成部は、加速器、加速器放射監視アセンブリ及
び加速器補助機器を含み、ビーム制御モジュールは、加速器、加速器放射監視アセンブリ
及び加速器補助機器のデータ情報を受信し、加速器が荷電粒子を生成するように制御する
ことができる。
本発明の実施例の第２の態様において、本発明の実施例に係るビーム照射システムの制
御方法は、第１のサブ制御モジュールがユーザの入力した第１の照射室照射命令を受信す
るステップと、ビーム制御モジュールの制御権が解放状態にある場合、第１のサブ制御モ
ジュールが第１の照射室照射命令に基づいてビーム制御モジュールの制御権を取得して、
ビーム制御モジュールによりビーム生成装置が第１の照射室にビームを射出するように制
御するステップと、ビーム制御モジュールの制御権が第２のサブ制御モジュールによって
占用されている状態にある場合、第１のサブ制御モジュールがビーム制御モジュールの制
御権の解放を待つステップと、第１のサブ制御モジュールがユーザの入力した第１の照射
室照射停止命令を受信するステップと、第１のサブ制御モジュールが第１の照射室照射停
止命令に基づいてビーム制御モジュールの制御権を解放するステップとを含む。
本発明の一実施例において、第１のサブ制御モジュールがユーザの入力した第１の照射
室照射命令を受信する前、又はビーム制御モジュールの制御権が第２のサブ制御モジュー
ルによって占用されている状態にある場合、上記制御方法は、第１のサブ制御モジュール
がユーザの入力した第１の照射室準備命令を受信するステップと、第１のサブ制御モジュ
ールが第１の照射室準備命令に基づいて第１の照射室が照射前の準備作業を完了するよう
に制御するステップとを更に含む。
本発明の一実施例において、システム制御モジュールは、第１のサブ制御モジュール及
び第２のサブ制御モジュールに接続されたデータ連携共有モジュールを更に含み、第１の
サブ制御モジュール及び第２のサブ制御モジュールは、それぞれデータ連携共有モジュー
ルによりビーム制御モジュールに接続され、上記制御方法は、第１のサブ制御モジュール
が、データ連携共有モジュールがビーム制御モジュールの制御権が解放状態にあるか占用
されている状態にあるかを判断した判断結果を受信するステップと、第１のサブ制御モジ
ュールが判断結果に基づいてビーム制御モジュールの制御権を取得するか否かを決定する
ステップとを更に含む。
本発明の実施例の第３の態様において、本発明の実施例に係るビーム照射システムは、
第１の照射室及び第２の照射室と、ビームを生成し、第１の照射室又は第２の照射室にビ
ームを射出するビーム生成装置と、第１の照射室に対応し、ビーム生成装置が第１の照射
室にビームを射出するように制御することができ、第１の照射室の照射データを記憶する
第１のサブ制御モジュール、第２の照射室に対応し、ビーム生成装置が第２の照射室にビ
ームを放射するように制御することができ、第２の照射室の照射データを記憶する第２の
サブ制御モジュール、及び第１のサブ制御モジュールと第２のサブ制御モジュールとの間
に第１の照射室及び第２の照射室の照射データを共有するデータ連携共有モジュールを含
むシステム制御モジュールとを含む。
本発明の一実施例において、ビーム照射システムは、ビーム生成装置とシステム制御モ
ジュールとの間に接続されたビーム制御モジュールを更に含み、第１のサブ制御モジュー
ルと第２のサブ制御モジュールのうちの一方は、ビーム制御モジュールが第１のサブ制御
モジュールと第２のサブ制御モジュールのうちの他方で占用されない場合にビーム制御モ
ジュールによりビーム生成装置を制御することができる。
本発明の一実施例において、ビーム生成装置は、システム制御モジュールに接続され、
データ交換を行い、ビーム制御モジュールは、ビーム生成装置のデータを取得し、データ
連携共有モジュールによりシステム制御モジュールに接続され、データ連携共有モジュー
ルとデータ交換を行い、第１の照射室、第２の照射室、第１のサブ制御モジュール及び第
２のサブ制御モジュールは、それぞれデータ連携共有モジュールに接続され、データ交換
を行い、第１のサブ制御モジュール及び第２のサブ制御モジュールは、データ連携共有モ
ジュールによりビーム制御モジュール、第１の照射室及び第２の照射室を制御する。
本発明の一実施例において、第１の照射室及び第２の照射室内に被照射体支持アセンブ
リ及び照射放射監視アセンブリが設置され、システム制御モジュールは、被照射体支持ア
センブリ及び照射放射監視アセンブリのデータを受信し、被照射体支持アセンブリの運動
を制御することができる。
本発明の一実施例において、ビーム生成装置は、荷電粒子生成部、ビーム輸送部、第１
の中性子ビーム生成部及び第２の中性子ビーム生成部を含み、ビーム制御モジュールは、
荷電粒子生成部が荷電粒子を生成するように制御するとともに、ビーム輸送部が荷電粒子
生成部で生成された荷電粒子を第１の中性子ビーム生成部又は第２の中性子ビーム生成部
に選択的に輸送するように制御することができ、第１の中性子ビーム生成部で生成された
中性子ビームは、第１の照射室に照射され、第２の中性子ビーム生成部で生成された中性
子ビームは、第２の照射室に照射され、荷電粒子生成部は、加速器、加速器放射監視アセ
ンブリ及び加速器補助機器を含み、ビーム制御モジュールは、加速器、加速器放射監視ア
センブリ及び加速器補助機器のデータ情報を受信し、加速器が荷電粒子を生成するように
制御することができる。
本発明の実施例に係る技術的解決手段によれば、システム制御モジュールに第１のサブ
制御モジュール及び第２のサブ制御モジュールを設置し、第１のサブ制御モジュール及び
第２のサブ制御モジュールがそれぞれ第１の照射室及び第２の照射室を対応して制御し、
そして複数のサブ制御モジュールのうちのいずれか１つのサブ制御モジュールが、ビーム
生成装置が対応する照射室にビームを射出するように制御することにより、同一のビーム
照射システムにおける複数のサブ制御モジュールがそれぞれ複数の照射室を制御すること
を実現し、単一の制御モジュールが点検状態にあるか又はソフトウェアやハードウェアが
故障する場合に照射することができないことを回避する。
本発明の一実施例に係るビーム照射システムのモジュール概略図である。 本発明の他の実施例に係るビーム照射システムのモジュール概略図である。 本発明の一実施例に係るビーム照射システムの機器配置概略図である。 本発明の一実施例に係るビーム照射システムの制御方法のフローチャートである。 本発明の他の実施例に係るビーム照射システムの制御方法のフローチャートである。 本発明の一実施例に係るビーム照射システムの制御システムのブロック図である。
以下、本発明の実施例において使用する必要のある図面を参照しながら、本発明の実施
例における技術的解決手段を明確かつ完全的に説明し、明らかに、以下に説明される図面
は、本発明の一部の実施例に過ぎず、全ての実施例ではない。
なお、本発明の実施例に基づいて、当業者が創造的な労力を行わない前提で得られる全
ての関連実施例は、いずれも本発明の保護範囲に属する。
本発明の実施例は、ビーム照射システム及びその制御方法を提供し、以下にそれぞれ詳
細に説明する。
図１は、本発明の一実施例に係るビーム照射システムのモジュール概略図である。図１
に示すように、ビーム照射システム１００は、第１の照射室１１０、第２の照射室１２０
、ビーム生成装置１３０、システム制御モジュール１４０及びビーム制御モジュール１５
０を含む。
ビーム生成装置１３０は、ビームを生成し、第１の照射室１１０又は第２の照射室１２
０にビームを射出する。システム制御モジュール１４０は、第１の照射室１１０に対応し
、ビーム生成装置１３０が第１の照射室１１０にビームを射出するように制御することが
できる第１のサブ制御モジュール１４１、及び第２の照射室１２０に対応し、ビーム生成
装置１３０が第２の照射室１２０にビームを射出するように制御することができる第２の
サブ制御モジュール１４２を含む。ビーム制御モジュール１５０は、ビーム生成装置１３
０とシステム制御モジュール１４０との間に接続され、第１のサブ制御モジュール１４１
と第２のサブ制御モジュール１４２のうちの一方は、ビーム制御モジュール１５０が第１
のサブ制御モジュール１４１と第２のサブ制御モジュール１４２のうちの他方で占用され
ない場合にビーム制御モジュール１５０によりビーム生成装置１３０を制御することがで
きる。
本発明の実施例に係る技術的解決手段によれば、システム制御モジュールに第１のサブ
制御モジュール及び第２のサブ制御モジュールを設置し、第１のサブ制御モジュール及び
第２のサブ制御モジュールがそれぞれ第１の照射室及び第２の照射室を対応して制御し、
そして複数のサブ制御モジュールのうちのいずれか１つのサブ制御モジュールが、ビーム
制御モジュールによりビーム生成装置が対応する照射室にビームを射出するように制御す
ることにより、システム制御モジュールにおける第１のサブ制御モジュールが第１の照射
室を制御するとともに、第２のサブ制御モジュールが第２の照射室を制御することとを実
現し、第１のサブ制御モジュールが点検状態にあるか又はソフトウェアやハードウェアが
故障するため、照射することができない場合、第２のサブ制御モジュールを用いて第２の
照射室を制御することができ、更に単一の制御モジュールが点検状態にあるか又はソフト
ウェアやハードウェアが故障する場合に照射することができなくなり、正常な作業進捗に
影響を与えることを回避する。また、サブ制御モジュールが照射室と一対一に対応して設
置されて誤操作を回避し、いずれかのサブ制御モジュールが、対応する照射室に対する制
御のみを実行することができ、いずれの場合も他の照射室に対する制御を実行することが
できないため、照射を必要としない照射室にビームを意図せずに射出することを回避し、
システムの動作の安全信頼性を向上させ、理解できるように、各サブ制御モジュールは、
同時に他の照射室に対する制御を実行することもできる。また、複数のサブ制御モジュー
ル、例えば、第１のサブ制御モジュール及び第２のサブ制御モジュールが１つのビーム制
御モジュール及びビーム生成装置を共用することにより、ビーム照射システムのコストを
低減する。
理解すべきものとして、「第１の」、「第２の」などは互いに区別するためだけであり
、固定の順序を有することを限定するものではなく、固定の数を有することを限定するも
のではなく、本発明の実施例は、照射室及びサブ制御モジュールの数を具体的に限定しな
い。第１のサブ制御モジュールは、第１の照射室を直接的又は間接的に制御して準備作業
及び正常作業時の調整作業等などを行うことができ、本発明の実施例は、第１のサブ制御
モジュールが第１の照射室を制御する方式及び具体的な制御内容を具体的に限定しない。
第２のサブ制御モジュールは、第１のサブ制御モジュールの作用と類似し、ここでは説明
を省略する。システム制御モジュールにおける第１のサブ制御モジュール及び第２のサブ
制御モジュールは、制御ソフトウェアと制御プログラムを実行する媒体とを含んでもよく
、ユーザ入力インタフェース及びフィードバック表示画面を含んでもよく、更にプロセッ
サモジュール、データ収集モジュール、ビーム生成装置又は照射室などの機器接続ポート
などを含んでもよく、本発明の実施例は、第１のサブ制御モジュール及び第２のサブ制御
モジュールの実現形態を具体的に限定しない。
本発明の一実施例において、ビーム制御モジュール１５０は、ビーム生成装置１３０の
データを取得し、システム制御モジュール１４０に接続され、データ交換を行うことがで
きる。いくつかの実施例において、ビーム生成装置１３０は、ビームエネルギー、ビーム
電流、水温、気圧、フラックス、ビーム輸送状態、ビーム生成開始の時刻、及びビーム終
了の時刻などのデータをビーム制御モジュール１５０に送信することができ、ビーム制御
モジュール１５０は、これらのデータをシステム制御モジュール１４０に伝送し、システ
ム制御モジュール１４０における第１のサブ制御モジュール１４１は、ビーム生成装置１
３０が第１の照射室１１０にビームを射出する時の様々なデータを記憶し、第２のサブ制
御モジュール１４２は、ビーム生成装置１３０が第２の照射室１２０にビームを射出する
時の様々なデータを記憶し、また、第１のサブ制御モジュール１４１は、ユーザの入力し
たデータ又はビーム生成装置の履歴データなどをビーム制御モジュール１５０に伝送して
、ビーム生成装置１３０が第１の照射室１１０にビームを射出するように制御し、第２の
サブ制御モジュール１４２は、ユーザの入力したデータ又はビーム生成装置の履歴データ
などをビーム制御モジュール１５０に伝送して、ビーム生成装置１３０が第２の照射室１
２０にビームを射出するように制御することにより、ビーム制御モジュール１５０とシス
テム制御モジュール１４０との間のデータ交換を実現する。ビーム生成装置１３０は、シ
ステム制御モジュール１４０に接続され、データ交換を行い、ビーム生成装置１３０の上
記データをシステム制御モジュール１４０に直接的に伝送するか又はシステム制御モジュ
ール１４０によりビーム生成装置を直接的に制御してもよい。理解すべきものとして、ビ
ーム制御モジュール１５０とシステム制御モジュール１４０とは、互いに同様のデータを
伝送してもよいし、異なるデータを伝送してもよく、本発明の実施例は、両者の間に伝送
されたデータが同じであるか否かを具体的に限定しない。ビーム制御モジュール１５０と
システム制御モジュール１４０とのデータ交換の具体的な内容は、ビーム生成装置１３０
の状態データであってもよく、ユーザが第１のサブ制御モジュール１４１又は第２のサブ
制御モジュール１４２に送信した制御命令のデータであってもよく、本発明の実施例は、
ビーム制御モジュール１５０とシステム制御モジュール１４０とのデータ交換の内容を具
体的に限定しない。
本発明の実施例において、ビーム制御モジュールを設置することによりビーム生成装置
からデータを取得することができ、そしてビーム制御モジュールがシステム制御モジュー
ルに接続されるため、ビーム制御モジュールとシステム制御モジュールとの間のデータ交
換が実現される。
図２は、本発明の他の実施例に係るビーム照射システムのモジュール概略図である。図
２に示される実施例は、図１に示される実施例の一変形例である。具体的には、図１に示
される実施例との相違点は、以下のとおりである。図２に示される実施例におけるビーム
照射システム２００は、データ連携共有モジュール２１０を更に含み、第１のサブ制御モ
ジュール１４１及び第２のサブ制御モジュール１４２は、それぞれデータ連携共有モジュ
ール２１０に接続され、データ交換を行い、更に、第１の照射室１１０及び第２の照射室
１２０の照射データをそれぞれ記憶し、データ連携共有モジュール２１０は、第１のサブ
制御モジュール１４１と第２のサブ制御モジュール１４２との間に第１の照射室１１０及
び第２の照射室１２０の照射データを共有する。
いくつかの実施例において、ビーム照射システム２００は、データ連携共有モジュール
２１０により第１の照射室１１０におけるビームエネルギー、ビーム電流、照射時間、環
境放射値、遮蔽扉の開閉状態、ガンマ強度、中性子強度、温度、湿度、患者のデータ、及
び治療ベッドの位置などの照射データを第１のサブ制御モジュール１４１から第２のサブ
制御モジュール１４２に伝送することにより、第２のサブ制御モジュール１４２がより速
く、より安全で、より正確に第２の照射室１２０の被照射体を治療し、照射効果を向上さ
せることができる。
理解すべきものとして、データ連携共有モジュール２１０の具体的な形態は、単純なハ
ードウェアであってもよく、ソフトウェアとハードウェアの組み合わせのような他の形態
であってもよい。例えば、プロセッサモジュール、データ収集モジュール、ビーム生成装
置又は照射室などの機器接続ポートなどは、データ連携共有モジュール２１０に集積され
、収集又は受信されたデータを第１のサブ制御モジュール、第２のサブ制御モジュールに
伝送し、データ交換を行い、各ハードウェアインタフェースがデータ連携共有モジュール
に集積されるため、第１のサブ制御モジュール、第２のサブ制御モジュールにおいて繰り
返して設置する必要がなく、そして第１のサブ制御モジュール及び第２のサブ制御モジュ
ールを任意の制御ソフトウェアの形態又は制御を実行する媒体の形態に設定することによ
り、ビーム照射システムのコストを効果的に低減することができる。理解できるように、
第１のサブ制御モジュール及び第２のサブ制御モジュールにそれぞれハードウェアインタ
フェースを設置し、データ連携共有モジュールにハードウェアインタフェースを設置せず
にデータ交換のみを行ってもよく、本発明の実施例は、データ連携共有モジュールの具体
的な形態を具体的に限定しない。照射データは、ビームエネルギー、ビーム電流、ガンマ
強度、中性子強度、温度、湿度、患者のデータ、及び治療ベッドの位置などのデータであ
ってもよく、照射時間、環境放射値、及び遮蔽扉の開閉状態などのデータであってもよく
、本発明の実施例は、照射データのタイプを具体的に限定しない。ビーム制御モジュール
１５０は、第１のサブ制御モジュール１４１及び第２のサブ制御モジュール１４２に直接
的に接続されてもよく、データ連携共有モジュール２１０により第１のサブ制御モジュー
ル１４１及び第２のサブ制御モジュール１４２に間接的に接続されてもよく、本発明の実
施例は、ビーム制御モジュール１５０と第１のサブ制御モジュール１４１及び第２のサブ
制御モジュール１４２との間の接続形態を具体的に限定しない。
本発明の実施例に係る技術的解決手段によれば、データ連携共有モジュールを設置する
ことにより、第１のサブ制御モジュールと第２のサブ制御モジュールとの間にデータの共
有及び状態のインターワークが実現され、データの十分な利用に役立ち、そして、あるサ
ブ制御モジュール内のデータが復元されにくい場合、データ連携共有モジュールにより他
のサブ制御モジュールから照会して呼び出し、データの紛失による深刻な結果をもたらさ
ない。
本発明の一実施例において、ビーム制御モジュール１５０は、データ連携共有モジュー
ル２１０によりシステム制御モジュール１４０に接続され、データ連携共有モジュール２
１０とデータ交換を行い、第１の照射室１１０及び第２の照射室１２０は、データ連携共
有モジュール２１０に接続され、データ交換を行い、第１のサブ制御モジュール１４１及
び第２のサブ制御モジュール１４２は、データ連携共有モジュール２１０によりビーム制
御モジュール１５０、第１の照射室１１０及び第２の照射室１２０を制御する。
本発明の実施例において、ビーム制御モジュールがデータ連携共有モジュールによりシ
ステム制御モジュールに接続するように構成されるため、ビーム制御モジュールは、デー
タ連携共有モジュールとデータ交換を行うことができることにより、ビーム制御モジュー
ルに記憶されたビーム生成装置のデータをデータ連携共有モジュールに伝送することがで
き、データ連携共有モジュールもシステム制御モジュールにおける第１のサブ制御モジュ
ール及び第２のサブ制御モジュールにそれぞれ記憶された第１の照射室及び第２の照射室
の照射データをビーム制御モジュールに伝送できることにより、単一の制御モジュールが
故障するため、他の照射室を用いる必要がある場合に、様々なデータを改めて設定する必
要があることを回避し、ビーム照射システムの使用者の作業効率を向上させやすく、そし
てシステム制御モジュールにおける第１のサブ制御モジュール及び第２のサブ制御モジュ
ールは、データ連携共有モジュールによりビーム制御モジュール、第１の照射室及び第２
の照射室を制御することができ、また、第１の照射室及び第２の照射室がデータ連携共有
モジュールに接続され、データ交換を行うように構成されるため、第１の照射室と第２の
照射室のデータ共有が実現され、第１の照射室と第２の照射室のデータを十分に利用しや
すい。
図３に示すように、本発明の一実施例において、ビーム生成装置１３０は、荷電粒子生
成部１３１、ビーム輸送部１３２、第１の中性子ビーム生成部１３３及び第２の中性子ビ
ーム生成部１３４を含み、ビーム制御モジュール１５０は、荷電粒子生成部１３１が荷電
粒子を生成するように制御するとともに、ビーム輸送部１３２が荷電粒子生成部１３１で
生成された荷電粒子を第１の中性子ビーム生成部１３３又は第２の中性子ビーム生成部１
３４に選択的に輸送するように制御することができ、第１の中性子ビーム生成部１３３で
生成された中性子ビームは、第１の照射室１１０に照射され、第２の中性子ビーム生成部
１３４で生成された中性子ビームは、第２の照射室１２０に照射される。荷電粒子生成部
１３１がビーム輸送部１３２に接続され、ビーム輸送部１３２がそれぞれ第１の中性子ビ
ーム生成部１３３と第２の中性子ビーム生成部１３４に接続されることより、第１の中性
子ビーム生成部１３３で生成された中性子ビームを第１の照射室１１０に照射するか又は
第２の中性子ビーム生成部１３４で生成された中性子ビームを第２の照射室１２０に照射
する。
理解すべきものとして、ビーム生成装置１３０は、荷電粒子生成部１３１、ビーム輸送
部１３２、第１の中性子ビーム生成部１３３及び第２の中性子ビーム生成部１３４を含む
が、これらに限定されず、第１の中性子ビーム生成部１３３が第１の照射室１１０に対応
し、第２の中性子ビーム生成部１３４が第２の照射室１２０に対応し、第３の照射室が存
在する場合、更に第３の中性子ビーム生成部を増加させて第３の照射室に対応させてもよ
く、中性子ビーム生成部の数が照射室の数に対応し、本発明の実施例は、中性子ビーム生
成部の数を具体的に限定しない。１つの荷電粒子生成部を設置して荷電粒子を各中性子ビ
ーム生成部に輸送し、システムコストを効果的に低減することができ、理解できるように
、ビーム生成装置が複数の荷電粒子生成部を含んでもよく、荷電粒子を各中性子ビーム生
成部に輸送して、複数の照射室で同時に複数の中性子ビームを生成して照射することがで
きる。
本発明の実施例において、ビーム生成装置内に荷電粒子生成部、ビーム輸送部、第１の
中性子ビーム生成部及び第２の中性子ビーム生成部を設置することにより、中性子ビーム
を生成して第１の照射室又は第２の照射室に正確に照射する。荷電粒子生成部と第１の中
性子ビーム生成部又は第２の中性子ビーム生成部との間にビーム輸送部を設置することに
より、ビーム輸送部は、ビーム制御モジュールの制御命令に基づいて該荷電粒子を第１の
中性子ビーム生成部又は第２の中性子ビーム生成部に選択的に輸送できることにより、第
１の中性子ビーム生成部又は第２の中性子ビーム生成部が荷電粒子で照射された後に中性
子ビームを生成する。
本発明の一実施例において、荷電粒子生成部１３１は、加速器１３１１、加速器放射監
視アセンブリ１３１２及び加速器補助機器１３１３を含み、ビーム制御モジュール１５０
は、加速器１３１１、加速器放射監視アセンブリ１３１２及び加速器補助機器１３１３の
データ情報を受信し、加速器１３１１が荷電粒子を生成するように制御することができる
。
理解すべきものとして、加速器補助機器１３１３は、加速器の運転の前提条件を提供す
る任意の補助機器を含んでもよく、本発明の実施例は、加速器補助機器１３１３のタイプ
を具体的に限定しない。加速器放射監視アセンブリ１３１２は、加速器１３１１又は加速
器補助機器１３１３の動作を監視する任意のアセンブリを含んでもよく、本発明の実施例
は、加速器放射監視アセンブリ１３１２のタイプを具体的に限定しない。
本発明の実施例において、荷電粒子生成部内に加速器補助機器を設置することにより、
加速器の正常な運転に前提条件を提供しやすく、加速器運転の効率及び正確性を向上させ
る。また、加速器放射監視アセンブリを設置することにより、加速器及び加速器補助機器
に対する監視を実現し、人員の使用を減少させ、加速器補助機器の異常状況をタイムリー
に発見しやすく、加速器の異常停止による損失を減少させ、加速器のメンテナンス時間及
びメンテナンスコストを低減する。
本発明の一実施例において、第１の照射室１１０及び第２の照射室１２０内に被照射体
支持アセンブリ１１１、１２１及び照射放射監視アセンブリ１１２、１２２が設置され、
システム制御モジュール１４０は、被照射体支持アセンブリ及び照射放射監視アセンブリ
のデータを受信し、被照射体支持アセンブリの運動を制御することができる。
本発明の実施例において、第１の照射室及び第２の照射室内に被照射体支持アセンブリ
を設置することにより、第１の照射室又は第２の照射室内の被照射体を適切な位置に調整
しやすく、被照射体を快適なリラックスした状態にすることができ、より良好な照射効果
を達成しやすく、第１の照射室及び第２の照射室内に照射放射監視アセンブリを設置する
ことにより、第１の照射室及び第２の照射室内の作業状態に対する監視を実現し、ユーザ
が第１の照射室及び第２の照射室内に出現する状況に基づいてタイムリーに調整すること
ができ、作業効率を向上させる。
図４は、本発明の一実施例に係るビーム照射システムの制御方法のフローチャートであ
る。図４に示すように、該ビーム照射システムの制御方法は、以下のステップＳ４１０～
Ｓ４５０を含む。
Ｓ４１０では、第１のサブ制御モジュールがユーザの入力した第１の照射室照射命令を
受信する。
いくつかの実施例において、ユーザは、ビーム照射システムの操作画面において第１の
照射室に照射することを選択することができ、すなわち第１の照射室照射命令を生成する
。他のいくつかの実施例において、ユーザがビーム照射システムの操作画面において直接
的に入力した「第１の照射室に照射する」命令は、すなわち第１の照射室照射命令である
。本発明の実施例は、第１の照射室照射命令の生成プロセスを具体的に限定しない。
Ｓ４２０では、ビーム制御モジュールの制御権が解放状態にある場合、第１のサブ制御
モジュールが第１の照射室照射命令に基づいてビーム制御モジュールの制御権を取得して
、ビーム制御モジュールによりビーム生成装置が第１の照射室にビームを射出するように
制御する。
具体的には、第１のサブ制御モジュールは、第１の照射室照射命令を受信すると、ビー
ム制御モジュールの制御権の状態を照会し、ビーム制御モジュールの制御権が解放状態に
あると照会する場合、ビーム制御モジュールの制御権を取得する命令をビーム制御モジュ
ールに送信し、ビーム制御モジュールは、ビーム制御モジュールの制御権を取得する命令
を受信すると、ビーム制御モジュールの制御権を第１のサブ制御モジュールに渡すことに
より、第１のサブ制御モジュールは、ビーム制御モジュールによりビーム生成装置が第１
の照射室にビームを射出するように制御する。
Ｓ４３０では、ビーム制御モジュールの制御権が第２のサブ制御モジュールによって占
用されている状態にある場合、第１のサブ制御モジュールがビーム制御モジュールの制御
権の解放を待つ。
具体的には、第１のサブ制御モジュールは、第１の照射室照射命令を受信すると、ビー
ム制御モジュールの制御権の状態を照会し、ビーム制御モジュールの制御権が第２のサブ
制御モジュールによって占用されている状態にあると照会する場合、ビーム制御モジュー
ルの制御権を一時的に取得することができず、一定の時間間隔でビーム制御モジュールの
制御権の状態を照会してもよく、照会結果が、ビーム制御モジュールの制御権が解放状態
にあることになる場合にビーム制御モジュールの制御権を取得することができる。
Ｓ４４０では、第１のサブ制御モジュールがユーザの入力した第１の照射室照射停止命
令を受信する。
いくつかの実施例において、ユーザは、ビーム照射システムの操作画面において第１の
照射室に対する照射を停止するオプションをクリックすることにより、第１の照射室照射
停止命令を生成することができ、他のいくつかの実施例において、ユーザは、第１の照射
室に対する照射を停止する命令、すなわち第１の照射室照射停止命令を直接的に入力して
もよく、他のいくつかの実施例において、第１のサブ制御モジュールは、被照射体が目標
位置からずれるか又は照射室の作業が完了したことを検出した場合に第１の照射室照射停
止命令を自動的に生成してもよく、本発明の実施例は、第１の照射室照射停止命令の生成
プロセスを具体的に限定しない。
Ｓ４５０では、第１のサブ制御モジュールが第１の照射室照射停止命令に基づいてビー
ム制御モジュールの制御権を解放する。
具体的には、第１のサブ制御モジュールは、第１の照射室照射停止命令に基づいてビー
ム制御モジュールに対する制御を停止し、ビーム制御モジュールが作業を停止すれば、ビ
ーム制御モジュールに対する制御権を完全に解放する。
本発明の実施例に係る技術的解決手段によれば、複数のサブ制御モジュールのうちのい
ずれか１つのサブ制御モジュール、例えば、第１のサブ制御モジュール又は第２のサブ制
御モジュールが、ビーム制御モジュールによりビーム生成装置が対応する照射室にビーム
を射出するように制御することにより、システム制御モジュールにおける第１のサブ制御
モジュールが第１の照射室を制御するとともに、第２のサブ制御モジュールが第２の照射
室を制御することを実現し、第１のサブ制御モジュールが点検状態にあるか又はソフトウ
ェアやハードウェアが故障するため、照射することができない場合、第２のサブ制御モジ
ュールを用いて第２の照射室を制御することができ、更に単一の制御モジュールが点検状
態にあるか又はソフトウェアやハードウェアが故障する場合に照射することができなくな
り、正常な作業進捗に影響を与えることを回避する。また、複数のサブ制御モジュール、
例えば、第１のサブ制御モジュール及び第２のサブ制御モジュールが１つのビーム制御モ
ジュールを共同に制御することにより、ビーム照射システムのコストを低減する。
本発明の一実施例において、第１のサブ制御モジュールがユーザの入力した第１の照射
室照射命令を受信する前、又はビーム制御モジュールの制御権が第２のサブ制御モジュー
ルによって占用されている状態にある場合、上記制御方法は、ステップＳ４６０及びＳ４
７０を更に含む。
Ｓ４６０では、第１のサブ制御モジュールがユーザの入力した第１の照射室準備命令を
受信する。
いくつかの実施例において、ユーザは、ビーム照射システムの操作画面において第１の
照射室が準備作業を行うように選択してもよく、すなわち第１の照射室準備命令を生成す
る。他のいくつかの実施例において、ユーザがビーム照射システムの操作画面において直
接的に入力した「第１の照射室が準備作業を行う」命令は、すなわち第１の照射室準備命
令である。本発明の実施例は、第１の照射室準備命令の生成プロセスを具体的に限定しな
い。第１の照射室準備命令は、ベッド位置のセットアップ又は被照射体の位置決めなどの
具体的な内容の命令を含んでもよく、本発明の実施例は、第１の照射室準備命令のタイプ
を具体的に限定しない。
Ｓ４７０では、第１のサブ制御モジュールが第１の照射室準備命令に基づいて第１の照
射室が照射前の準備作業を完了するように制御する。
第１のサブ制御モジュールは、第１の照射室に直接的に接続されて第１の照射室準備命
令に基づいて第１の照射室が照射前の準備作業を完了するように制御してもよく、第１の
照射室に間接的に接続されて第１の照射室準備命令に基づいて第１の照射室が照射前の準
備作業を完了するように制御してもよく、本発明の実施例は、第１のサブ制御モジュール
と第１の照射室との直接的又は間接的な接続方式を具体的に限定しない。準備作業は、ベ
ッド位置のセットアップ又は被照射体の位置決めなどを含んでもよく、本発明の実施例は
、準備作業の内容を具体的に限定しない。
本発明の実施例において、第１のサブ制御モジュールがユーザの入力した第１の照射室
照射命令を受信する前、又はビーム制御モジュールの制御権が第２のサブ制御モジュール
によって占用されている状態にある場合、第１のサブ制御モジュールは、受信されたユー
ザの入力した第１の照射室準備命令に基づいて第１の照射室が照射前の準備作業を完了す
るように制御することにより、第１の照射室に照射する前に準備作業が完了するため、ビ
ーム照射システムの使用率及びビーム照射システムを操作するユーザの作業効率を向上さ
せる。
図５は、本発明の他の実施例に係るビーム照射システムの制御方法のフローチャートで
ある。システム制御モジュールは、第１のサブ制御モジュール及び第２のサブ制御モジュ
ールに接続されたデータ連携共有モジュールを更に含み、第１のサブ制御モジュール及び
第２のサブ制御モジュールは、それぞれビーム制御モジュールに接続され、上記制御方法
は、ステップＳ５１０及びＳ５２０を更に含む。
Ｓ５１０では、第１のサブ制御モジュールが、データ連携共有モジュールがビーム制御
モジュールの制御権が解放状態にあるか占用されている状態にあるかを判断する判断結果
を受信する。
具体的には、データ連携共有モジュールは、ビーム制御モジュールの制御権が解放状態
にあるか占用されている状態にあるかを判断し、ビーム制御モジュールの制御権が解放状
態にあるか占用されている状態にあるかを判断した判断結果を第１のサブ制御モジュール
に送信し、第１のサブ制御モジュールは、該判断結果を受信する。
Ｓ５２０では、第１のサブ制御モジュールが判断結果に基づいてビーム制御モジュール
の制御権を取得するか否かを決定する。
具体的には、判断結果がビーム制御モジュールの制御権が解放状態にあることである場
合、第１のサブ制御モジュールは、該判断結果に基づいてビーム制御モジュールの制御権
を取得することができると決定し、判断結果がビーム制御モジュールの制御権が占用され
ている状態にあることである場合、第１のサブ制御モジュールは、該判断結果に基づいて
ビーム制御モジュールの制御権を取得することができないと決定する。
本発明の実施例に係る技術的解決手段によれば、第１のサブ制御モジュールは、データ
連携共有モジュールがビーム制御モジュールの制御権が解放状態にあるか占用されている
状態にあるかを判断した判断結果を受信し、判断結果に基づいてビーム制御モジュールの
制御権を取得するか否かを決定することより、データ連携共有モジュールによるビーム制
御モジュールの制御権の正確な判断を実現し、第１のサブ制御モジュールがビーム制御モ
ジュールの制御権を取得することに役立つ。
図６は、本発明の一実施例に係るビーム照射システムの制御システム６００のブロック
図である。
図６に示すように、制御システム６００は、処理アセンブリ６１０を含み、１つ以上の
プロセッサと、処理アセンブリ６１０で実行可能な命令、例えばアプリケーションプログ
ラムを記憶する、メモリ６２０に代表されるメモリリソースとを更に含む。メモリ６２０
に記憶されたアプリケーションプログラムは、それぞれ１組の命令に対応する１つ以上の
モジュールを含んでもよい。また、処理アセンブリ６１０は、命令を実行して、上記ビー
ム照射システムの制御方法を実行するように構成される。
制御システム６００は、制御システム６００の電源管理を実行するように構成された１
つの電源アセンブリと、制御システム６００をネットワークに接続するように構成された
１つの有線又は無線ネットワークインタフェースと、１つの入出力（Ｉ／Ｏ）インタフェ
ースとを更に含んでもよい。制御システム６００は、メモリ６２０に記憶されたオペレー
ティングシステム、例えばＷｉｎｄｏｗｓ Ｓｅｒｖｅｒ(登録商標)、Ｍａｃ ＯＳ Ｘ
(登録商標)、Ｕｎｉｘ(登録商標)、Ｌｉｎｕｘ(登録商標)、ＦｒｅｅＢＳＤ(登録商標)な
どに基づいて動作することができる。
非一時的なコンピュータ可読記憶媒体が提供され、記憶媒体における命令が上記制御シ
ステム６００のプロセッサによって実行されると、第１のサブ制御モジュールがユーザの
入力した第１の照射室照射命令を受信するステップと、第１のサブ制御モジュールが第１
の照射室照射命令に基づいてビーム制御モジュールの制御権を取得し、ビーム制御モジュ
ールの制御権が解放状態にある場合、第１のサブ制御モジュールが、ビーム制御モジュー
ルによりビーム生成装置が第１の照射室にビームを射出するように制御し、ビーム制御モ
ジュールの制御権が第２のサブ制御モジュールによって占用されている状態にある場合、
第１のサブ制御モジュールがビーム制御モジュールの制御権の放出を待つステップと、第
１のサブ制御モジュールがユーザの入力した第１の照射室照射停止命令を受信するステッ
プと、第１のサブ制御モジュールが第１の照射室照射停止命令に基づいてビーム制御モジ
ュールの制御権を解放するステップとを含むビーム照射システムの制御方法を上記制御シ
ステム６００に実行させることができる。
当業者であれば理解できるように、本明細書で開示される実施例と組み合わせて説明さ
れた各例のモジュール及び方法ステップは、電子ハードウェア、又はコンピュータソフト
ウェアと電子ハードウェアとの組み合わせにより実現することができる。これらの機能が
ハードウェアの形態で実行されるか又はソフトウェアの形態で実行されるかは、技術的解
決手段の特定の応用及び設計上の制約条件によるものである。当業者であれば、各特定の
応用に対して、説明された機能を異なる方法で実現することができるが、このような実現
は本発明の範囲を超えると考えられるべきではない。
当業者であれば明確に把握できるように、記述の便宜及び簡潔化を図るために、上記説
明された方法の具体的な作業過程については、前述の実施例におけるビーム照射システム
を参照することができ、ここでは説明を省略する。
本願に係るいくつかの実施例において、開示されたビーム照射システム及びその制御方
法は、他の方式で実現されてもよいことを理解されたい。例えば、以上説明されたビーム
照射システムの実施例は、例示的なものに過ぎず、例えば、上記モジュールの区分は、論
理上の機能の区分に過ぎず、実際に実現する場合に他の区分方式も可能であり、例えば、
複数のモジュール又はアセンブリは組み合わせられてもよく、他のシステムに集積されて
もよく、又はいくつかの特徴を無視してもよく、実行しなくてもよい。また、表示又は検
討される相互結合、直接結合又は通信接続は、いくつかのインタフェースにより実現され
てもよく、モジュール又はアセンブリ間の間接結合又は通信接続は、電気的、機械的、又
は他の形態であってもよい。
分離部材として説明された上記モジュールは、物理的に分離されたものであってもよい
し、ではなくてもよく、モジュールとして表示された部材は、物理ユニットであってもよ
いし、ではなくてもよく、すなわち同じ場所に位置してもよいし、複数のネットワークユ
ニットに分布してもよい。実際の需要に応じて、その一部又は全部のユニットを選択して
本実施例の技術案の目的を達成することができる。
上記機能は、ソフトウェア機能ユニットの形態で実現され、独立した製品として販売又
は使用される場合に、１つのコンピュータ可読記憶媒体に記憶されてもよい。このような
理解に基づいて、本発明の技術的解決手段の本質、又は従来技術に寄与する部分又は該技
術手段の一部は、ソフトウェア製品の形態で実現されてもよく、該コンピュータソフトウ
ェア製品は、コンピュータ装置（パーソナルコンピュータ、サーバ又はネットワーク装置
などであってもよい）に本発明の各実施例に記載の方法の全て又は一部のステップを実行
させるいくつかの命令を含む記憶媒体に記憶されている。前述の記憶媒体は、ＵＳＢフラ
ッシュメモリ、リムーバブルハードディスク、読み出し専用メモリ（Ｒｅａｄ－Ｏｎｌｙ
Ｍｅｍｏｒｙ、ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍ
ｅｍｏｒｙ、ＲＡＭ）、磁気ディスク又は光ディスクなどのプログラムチェックコードを
記憶可能な様々な媒体を含む。
なお、本発明における各技術的特徴の組み合わせ方式は、本発明の特許請求の範囲に記
載の組み合わせ方式又は具体的な実施例に記載の組み合わせ方式に限定されず、本発明に
記載の全ての技術的特徴は、相互に矛盾しない限り、いかなる方式で自由に組み合わせる
か又は結合することができる。
以上の記載は、本発明の好ましい実施例に過ぎず、本発明を限定するものではなく、本
発明の構想及び原則内に行われた全ての修正、等価置換などは、いずれも本発明の保護範
囲内に含まれるべきである。

Claims (15)

  1. 第１の照射室及び第２の照射室と、
    ビームを生成し、前記第１の照射室又は前記第２の照射室にビームを射出するビーム生
    成装置と、
    前記第１の照射室に対応し、前記ビーム生成装置が前記第１の照射室にビームを射出す
    るように制御することができる第１のサブ制御モジュール、及び前記第２の照射室に対応
    し、前記ビーム生成装置が前記第２の照射室にビームを射出するように制御することがで
    きる第２のサブ制御モジュールを含むシステム制御モジュールと、
    前記ビーム生成装置と前記システム制御モジュールとの間に接続されたビーム制御モジ
    ュールであって、前記第１のサブ制御モジュールと前記第２のサブ制御モジュールのうち
    の一方は、前記ビーム制御モジュールが前記第１のサブ制御モジュールと前記第２のサブ
    制御モジュールのうちの他方で占用されない場合に前記ビーム制御モジュールにより前記
    ビーム生成装置を制御することができるビーム制御モジュールとを含む、ことを特徴とす
    るビーム照射システム。
  2. 前記ビーム制御モジュールは、前記ビーム生成装置のデータを取得し、前記システム制
    御モジュールとデータ交換を行うことができ、前記ビーム生成装置は、前記システム制御
    モジュールに接続され、データ交換を行う、ことを特徴とする請求項１に記載のビーム照
    射システム。
  3. 前記第１の照射室及び前記第２の照射室内に被照射体支持アセンブリ及び照射放射監視
    アセンブリが設置され、前記システム制御モジュールは、前記被照射体支持アセンブリ及
    び前記照射放射監視アセンブリのデータを受信し、前記被照射体支持アセンブリの運動を
    制御することができる、ことを特徴とする請求項１に記載のビーム照射システム。
  4. 前記システム制御モジュールは、データ連携共有モジュールを更に含み、前記第１のサ
    ブ制御モジュール及び前記第２のサブ制御モジュールは、それぞれ前記データ連携共有モ
    ジュールに接続され、データ交換を行い、更に、前記第１の照射室及び前記第２の照射室
    の照射データをそれぞれ記憶し、前記データ連携共有モジュールは、前記第１のサブ制御
    モジュールと前記第２のサブ制御モジュールとの間に前記第１の照射室及び前記第２の照
    射室の照射データを共有する、ことを特徴とする請求項１に記載のビーム照射システム。
  5. 前記ビーム制御モジュールは、前記データ連携共有モジュールにより前記システム制御
    モジュールに接続され、前記データ連携共有モジュールとデータ交換を行い、前記第１の
    照射室及び前記第２の照射室は、前記データ連携共有モジュールに接続され、データ交換
    を行い、前記第１のサブ制御モジュール及び前記第２のサブ制御モジュールは、前記デー
    タ連携共有モジュールにより前記ビーム制御モジュール、前記第１の照射室及び前記第２
    の照射室を制御する、ことを特徴とする請求項４に記載のビーム照射システム。
  6. 前記ビーム生成装置は、荷電粒子生成部、ビーム輸送部、第１の中性子ビーム生成部及
    び第２の中性子ビーム生成部を含み、前記ビーム制御モジュールは、前記荷電粒子生成部
    が荷電粒子を生成するように制御するとともに、前記ビーム輸送部が前記荷電粒子生成部
    で生成された荷電粒子を前記第１の中性子ビーム生成部又は前記第２の中性子ビーム生成
    部に選択的に輸送するように制御することができ、前記第１の中性子ビーム生成部で生成
    された中性子ビームは、前記第１の照射室に照射され、前記第２の中性子ビーム生成部で
    生成された中性子ビームは、前記第２の照射室に照射される、ことを特徴とする請求項１
    に記載のビーム照射システム。
  7. 前記荷電粒子生成部は、加速器、加速器放射監視アセンブリ及び加速器補助機器を含み
    、前記ビーム制御モジュールは、前記加速器、前記加速器放射監視アセンブリ及び前記加
    速器補助機器のデータ情報を受信し、前記加速器が荷電粒子を生成するように制御するこ
    とができる、ことを特徴とする請求項６に記載のビーム照射システム。
  8. 請求項１～７のいずれか一項に記載のビーム照射システムの制御方法であって、
    第１のサブ制御モジュールがユーザの入力した第１の照射室照射命令を受信するステッ
    プと、
    ビーム制御モジュールの制御権が解放状態にある場合、前記第１のサブ制御モジュール
    が前記第１の照射室照射命令に基づいて前記ビーム制御モジュールの制御権を取得して、
    前記ビーム制御モジュールによりビーム生成装置が前記第１の照射室にビームを射出する
    ように制御するステップと、
    前記ビーム制御モジュールの制御権が第２のサブ制御モジュールによって占用されてい
    る状態にある場合、前記第１のサブ制御モジュールが前記ビーム制御モジュールの制御権
    の解放を待つステップと、
    前記第１のサブ制御モジュールが前記ユーザの入力した前記第１の照射室照射停止命令
    を受信するステップと、
    前記第１のサブ制御モジュールが前記第１の照射室照射停止命令に基づいて前記ビーム
    制御モジュールの制御権を解放するステップとを含む、ことを特徴とする制御方法。
  9. 第１のサブ制御モジュールがユーザの入力した前記第１の照射室照射命令を受信する前
    、又は前記ビーム制御モジュールの制御権が前記第２のサブ制御モジュールによって占用
    されている状態にある場合、
    前記第１のサブ制御モジュールが前記ユーザの入力した第１の照射室準備命令を受信す
    るステップと、
    前記第１のサブ制御モジュールが前記第１の照射室準備命令に基づいて前記第１の照射
    室が照射前の準備作業を完了するように制御するステップとを更に含む、ことを特徴とす
    る請求項８に記載の制御方法。
  10. 前記システム制御モジュールは、前記第１のサブ制御モジュール及び前記第２のサブ制
    御モジュールに接続されたデータ連携共有モジュールを更に含み、前記第１のサブ制御モ
    ジュール及び前記第２のサブ制御モジュールは、それぞれ前記データ連携共有モジュール
    により前記ビーム制御モジュールに接続され、前記制御方法は、
    前記第１のサブ制御モジュールが、前記データ連携共有モジュールが前記ビーム制御モ
    ジュールの制御権が解放状態にあるか占用されている状態にあるかを判断した判断結果を
    受信するステップと、
    前記第１のサブ制御モジュールが前記判断結果に基づいて前記ビーム制御モジュールの
    制御権を取得するか否かを決定するステップとを更に含む、ことを特徴とする請求項８に
    記載の制御方法。
  11. 第１の照射室及び第２の照射室と、
    ビームを生成し、前記第１の照射室又は前記第２の照射室にビームを射出するビーム生
    成装置と、
    前記第１の照射室に対応し、前記ビーム生成装置が前記第１の照射室にビームを射出す
    るように制御することができ、前記第１の照射室の照射データを記憶する第１のサブ制御
    モジュール、前記第２の照射室に対応し、前記ビーム生成装置が前記第２の照射室にビー
    ムを放射するように制御することができ、前記第２の照射室の照射データを記憶する第２
    のサブ制御モジュール、及び前記第１のサブ制御モジュールと前記第２のサブ制御モジュ
    ールとの間に前記第１の照射室及び前記第２の照射室の照射データを共有するデータ連携
    共有モジュールを含むシステム制御モジュールとを含む、ことを特徴とするビーム照射シ
    ステム。
  12. 前記ビーム生成装置と前記システム制御モジュールとの間に接続されたビーム制御モジ
    ュールを更に含み、前記第１のサブ制御モジュールと前記第２のサブ制御モジュールのう
    ちの一方は、前記ビーム制御モジュールが前記第１のサブ制御モジュールと前記第２のサ
    ブ制御モジュールのうちの他方で占用されない場合に前記ビーム制御モジュールにより前
    記ビーム生成装置を制御することができる、ことを特徴とする請求項１１に記載のビーム
    照射システム。
  13. 前記ビーム生成装置は、前記システム制御モジュールに接続され、データ交換を行い、
    前記ビーム制御モジュールは、前記ビーム生成装置のデータを取得し、前記データ連携共
    有モジュールにより前記システム制御モジュールに接続され、前記データ連携共有モジュ
    ールとデータ交換を行い、前記第１の照射室、前記第２の照射室、前記第１のサブ制御モ
    ジュール及び前記第２のサブ制御モジュールは、それぞれ前記データ連携共有モジュール
    に接続され、データ交換を行い、前記第１のサブ制御モジュール及び前記第２のサブ制御
    モジュールは、前記データ連携共有モジュールにより前記ビーム制御モジュール、前記第
    １の照射室及び前記第２の照射室を制御する、ことを特徴とする請求項１１に記載のビー
    ム照射システム。
  14. 前記第１の照射室及び前記第２の照射室内に被照射体支持アセンブリ及び照射放射監視
    アセンブリが設置され、前記システム制御モジュールは、前記被照射体支持アセンブリ及
    び前記照射放射監視アセンブリのデータを受信し、前記被照射体支持アセンブリの運動を
    制御することができる、ことを特徴とする請求項１１に記載のビーム照射システム。
  15. 前記ビーム生成装置は、荷電粒子生成部、ビーム輸送部、第１の中性子ビーム生成部及
    び第２の中性子ビーム生成部を含み、前記ビーム制御モジュールは、前記荷電粒子生成部
    が荷電粒子を生成するように制御するとともに、前記ビーム輸送部が前記荷電粒子生成部
    で生成された荷電粒子を前記第１の中性子ビーム生成部又は前記第２の中性子ビーム生成
    部に選択的に輸送するように制御することができ、前記第１の中性子ビーム生成部で生成
    された中性子ビームは、前記第１の照射室に照射され、前記第２の中性子ビーム生成部で
    生成された中性子ビームは、前記第２の照射室に照射され、前記荷電粒子生成部は、加速
    器、加速器放射監視アセンブリ及び加速器補助機器を含み、前記ビーム制御モジュールは
    、前記加速器、前記加速器放射監視アセンブリ及び前記加速器補助機器のデータ情報を受
    信し、前記加速器が荷電粒子を生成するように制御することができる、ことを特徴とする
    請求項１１に記載のビーム照射システム。
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