JP2023552682A - Ｅｕｖレチクル・ストッカ及びその操作方法 - Google Patents

Abstract

ＥＵＶレチクル・ストッカのための一片締付けデバイス（２００、５００）、貯蔵システム（３００、６００）及び操作方法（４００、４１０）が提供される。ＥＵＶレチクルを貯蔵するために必要な空間が著しく低減され、その一方で、貯蔵されるＥＵＶレチクルのための高品質貯蔵環境を保証する。本発明の更なる態様は、ＥＵＶレチクルを貯蔵するためのストッカ（７００）を提供する。

Description

本発明は、ＥＵＶレチクルのためのストッカ及び前記レチクル・ストッカの操作方法に関する。

フォトリソグラフィ・プロセスは、集積回路（ＩＣ）並びに他の半導体関連デバイス及び／又は構造の製造における重要なステップのうちの一つとして広く使用されている。しかしながらこのようなプロセスによって製造される特徴の寸法が小さくなると、小形ＩＣ又は他のデバイス及び／若しくは構造を製造するためのフォトリソグラフィの重要性が増す。

フォトリソグラフィでは、光、感光性層及び後続するエッチング・ステップを使用して、形状パターンがフォトマスク（一般にはレチクルと呼ばれる）から基板、例えば半導体ウェーハの上に転写される。基板上の所望の特徴サイズに応じてレチクルの特徴サイズを適合させなければならず、また、パターン転写のために使用される光の波長をレイリー規準を考慮して適合させなければならない。

達成可能な最小特徴サイズを小さくするために、極紫外線（ＥＵＶ）放射の使用が提案されている。ＥＵＶ放射は、５～２０ｎｍの範囲内、例えば５～１０ｎｍの範囲内の波長を有する電磁放射である。

レチクルのあらゆる汚染はフォトリソグラフィ・プロセスの画像化性能を低下させることがあり、また、より深刻な事例では、レチクルの交換が必要となる場合がある。レチクルは一般には高価であり、したがってレチクルを交換しなければならない頻度の低減は有利である。更に、レチクルの交換は時間の掛かるプロセスであり、レチクルを交換している間、フォトリソグラフィ・プロセスをサポートしなければならず、したがってフォトリソグラフィ・プロセスの効率が低下することがあり、これは望ましくない。

ＥＵＶ用途の場合、１０ｎｍ未満の粒径の粒子汚染、並びに例えば揮発性有機化合物の吸着による化学汚染が関連し得る。

したがってこのようなＥＵＶ用途のために使用されるレチクルは、一般には貯蔵ストッカの中で貯蔵され、リソグラフィ露光機器と関連して、必要なときに回収される。通常、レチクルは、いわゆるＥＵＶ外部ポッド（ＥＯＰ）及びＥＵＶ内部ポッド（ＥＩＰ）を備えた二重シェル容器（二重ポッド）の中に含まれている。

このような二重ポッドは、例えばＵＳ２０１９／０２１４２８７Ａ１により詳細に記載されている。

粒子汚染の許容可能なレベルは極端に低いため、容器に対するレチクルの摩擦（これは摩耗をもたらし、したがって粒子を生成する）、並びに容器構成要素同士の摩擦を回避しなければならない。したがって一般的なＥＩＰは、中で移動する可能性がほとんどないように一つのレチクルを収納するように設計されている。また、ＥＩＰは、レチクルをＥＩＰの内側に固定するための追加のレチクル固定手段を備えている。汚染を防止するために、ＥＩＰは、レチクルに保護ガス又は真空を加えることができるように設計されている。そのために、一般には、保護ガスをＥＯＰからそれぞれのＥＩＰに含まれているレチクルの周囲に入れるために、フィルタ材料を備えたオリフィスが提供されている。

ＥＯＰは、ＥＩＰのレチクル固定手段を保持位置へバイアスさせるように適合された駆動手段を備えており、それによりＥＯＰがＥＩＰに取り付けられると、レチクルをＥＩＰの内側に固定する。ＥＯＰは、摩擦誘導摩耗を防止するために、一般には二片のＥＩＰを互いに対して固定するように同じく機能している。

ＥＩＰ構成要素は、それらが外側から固定されていない限り、互いに対して移動可能であることを理解されたい。このような移動によって生じる摩擦誘導摩耗を回避するために、ＥＯＰは、従来、このような固定機能性をＥＩＰに提供すると同時に、例えば貯蔵位置と、操作のためにレチクルを必要とするプロセス・ツールとの間の輸送中に必要な周囲の大気に対する保護も提供している。

ＥＯＰはどちらかと言えば嵩張り、ＥＵＶレチクルを貯蔵するストッカのための高い空間要件即ち「フットプリント」をもたらしている。更に、ＥＯＰは、同じく摩耗しやすく、また、揮発性有機化合物のガスを放出しやすい高分子材料でできている。

本発明は、独立請求項による特徴を有する方法、デバイス及びシステムを提供することによってこれらの問題を解決する。有利な実施形態及び追加特徴は従属請求項で提供されており、また、以下の説明の中で考察される。

本発明により、レチクルを貯蔵するために必要な空間を小さくすることができ、その一方で、従来のシステムによって提供される汚染保護及び損傷保護のレベルと少なくとも同じレベルの汚染保護及び損傷保護を保証することができる。ガスを放出するＥＯＰによる貯蔵中の化学汚染が防止され、また、二重ポッドの中でのレチクルの貯蔵に対する機械的損傷保護が改善される。例えばＥＯＰは地震の際に容易に損傷し得るが、本発明によるデバイスは、以下の説明から理解されるように、このような困難な条件の下であっても、そう簡単には壊れない。

このような改良型貯蔵概念を開発する際に考慮すべき側面としては、レチクルがフォトリソグラフィ・プロセス機器に提供される方法を変えることは非常に望ましくなく、これは、一般には半導体製造設備の最も複雑で、最も費用が掛かる部分であることが挙げられる。

したがってフォトリソグラフィ・プロセス機器は、一般には二重ポッドを受け取るように適合されているため、従来の二重ポッドをフォトリソグラフィ・プロセス機器に提供するための手段は、改良型レチクル・ストッカを備えることが有利である。

本明細書において以下で考察されるすべての方法ステップは、例えばロボット構成要素によって自動方式で実施されることが有利であり得ることに留意されたい。

本発明の一態様では、ＥＵＶ内部ポッド（ＥＩＰ）のための締付けデバイスが提供され、ＥＩＰは二つ以上の構成要素を備え、また、ＥＵＶレチクルを含むか、或いはＥＵＶレチクルを含むように適合され、且つ、構成され、締付けデバイスは、ＥＩＰの二つ以上の構成要素を互いに対して固定し、且つ、レチクルを中に固定する機能を提供するように構成され、また、ＥＩＰを部分的にのみ覆うように構成された一片締付け要素を備える。例えばＥＩＰの外部表面の９０％、８０％、７５％、５０％、２５％、２０％又は１０％未満までの一部のみが本発明による締付けデバイスによって覆われる。したがって締付けデバイスは、例えば締付けデバイスの周囲の大気をＥＩＰと接触させることができ、したがって例えば保護ガスのための高度に複雑な供給手段の必要性を除去する。

本発明による締付けデバイスは、前記固定機能性を提供するために、少なくとも二つのＥＩＰ構成要素のすべてに作用するように構成された一片締付け要素を備える。言い換えると、一片締付け要素は、これらの構成要素のうちの少なくとも一つの全体にわたっており、また、少なくとももう一つのＥＩＰ構成要素に同じく到達するよう、その少なくとも一つの側の周りを取り巻いている。

締付けデバイスは、たとえレチクルを保持しない場合であっても、ＥＩＰの構成要素をまとめて締め付けるために同じく使用することができることに留意されたい。この場合、ＥＩＰの構成要素のみが互いに対して固定される。

有利には、締付けデバイスはＥＩＰの一つ又は複数のリテーナに作用するように更に構成され、リテーナは、ＥＩＰ内のレチクルを固定するためにＥＩＰの外側から作用されると、レチクルを中に固定するように構成される。したがってＥＩＰ内のレチクルの固定は、ＥＩＰに設けられたリテーナに作用する締付けデバイスを介して実施される。これは、レトロフィットの必要なく、既存のシステムをそのまま使用することができ、したがって費用の掛かる投資を回避することができるという利点を提供する。

有利には、締付け要素は主として金属材料でできており、金属材料は、総デバイス体積及び／又は質量に関して少なくとも７５％、８０％、９０％、９５％又は９９％を含むことが好ましい。これは、上で言及した、高分子材料のガス放出による化学汚染の問題を軽減する。したがってパージング・ガスの必要な量及び必要なレチクル交換の頻度を低減することができる。同様の利点を有する他の可能な材料は、例えばポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）又はシクロオレフィン（共）重合体（ＣＯＣ／ＣＯＰ）である。これらの材料の結束特徴は、とりわけガス放出特性が低いことである。

有利には、一片締付け要素は、ＥＩＰのリテーナに作用して、その中にレチクルを固定するように構成される。したがって一片締付け要素は、従来、ＥＯＰが果たしている固定機能を、化学汚染及び空間フットプリントに関する欠点を有することなく置換することができ、又は模倣することができる。

好ましい実施形態では、締付けデバイスは、上部部分、及び該上部部分の縁に一体で形成され、且つ、閉位置に向かってバイアスされ、また、開位置へ弾性的に曲がるように構成された少なくとも一つのＵ字形プロファイルを備える。この実施形態における締付けデバイスは、Ｕ字形プロファイルが開位置に位置するとＥＩＰに取り付けることができるように構成され、また、Ｕ字形プロファイルが閉位置に位置すると、ＥＩＰ構成要素及びレチクルを互いに対して固定するように構成される。これは、実質的に摩擦がなく、その一方で依然として、比較的製造が容易な安定した締付けデバイスを提供する。

有利には、締付けデバイスは、このような事例では、上部部分の互いに反対側の縁の上に配置された二つのＵ字形プロファイルを備え、それにより安定性を更に改善し、また、設計及び取扱いを更に容易にする。

有利には、締付けデバイスは、締付けデバイスがＥＩＰに取り付けられるとリテーナに作用するように構成されたアクチュエータを備える。

有利には、締付けデバイスは、締付けデバイスを取り付けることができるＥＩＰの包囲体積の１３０％、１２０％、１１０％、１０５％未満、更には１００％未満の包囲体積を有する。これは、ＥＩＰ及びＥＯＰを備える二重ポッド内の貯蔵と比較すると、レチクルを貯蔵する空間フットプリントを実質的に小さくする。これにより、上で言及したパージング・ガスの必要な量が同じく少なくなり得る。包囲体積は、例えばそれぞれの対象を完全に包含する最小可能立方形の体積を表すものとして理解され得る。したがって、例えば締付けデバイスがＥＩＰよりも平らで、及び／又はＥＩＰよりも短く設計されている事例では、締付けデバイスは、ＥＩＰの包囲体積よりも小さい包囲体積を有することができる。

いくつかの実施形態による締付けデバイスは、ＲＦＩＤデバイス或いはバー・コード、ＱＲコード又は他の形態の１Ｄ若しくは２Ｄコードなどの視覚検出可能コードなどの情報伝達要素を備えることができる。これは、レチクルに関する情報を対応する締付けデバイスと関連付けることができるという利点を提供する。したがって例えばレチクルと関連付けられた締付けデバイスを識別するだけで、貯蔵されているレチクルを識別することが可能になり得る。

更に、このような情報を追跡目的で使用して、例えば所与の締付けデバイスを使用して実施された貯蔵操作の数を数えることができる。浄化若しくは交換手順又は機能性試験のための適切な時期を決定するためにはこれは有用である。

いくつかの実施形態では、貯蔵中及び取扱い中における、貯蔵大気中の湿度、温度、圧力、加速度又は特定の化学種の濃度などの特定の状態を監視するためのセンサが締付けデバイスに含まれる。これは、レチクルが経験した影響要因についての知識をそれらの貯蔵履歴全体を通して得ることができるという利点を提供し、したがって本発明が使用される製造設備の総合生産性を改善することができる。

このような情報は、締付けデバイスに設けられたメモリ及び／若しくはプロセッサの中、又は本発明による貯蔵システムを取り扱う機械若しくはツールの構成要素の中に記憶し、処理することができる。

別の態様では、本発明は、上で説明した締付けデバイスと、ＥＩＰとを備えた貯蔵システムを提供する。ＥＩＰは二つ以上の構成要素を備え、ＥＵＶレチクルを収納するように構成され、また、一つ又は複数のリテーナを備え、リテーナは、該リテーナがＥＩＰの外側から作用されると、ＥＩＰ内に含まれているレチクルを固定するように構成される。締付けデバイスは、ＥＩＰの二つ以上の構成要素を互いに対して固定するためにＥＩＰに取り付けられ、また、リテーナに作用し、したがってＥＩＰ内のレチクルを固定する。したがって摩耗を実質的に回避することができ、また、関連するサイズ範囲の粒子によるレチクルの汚染を最小化することができる。

一般には、リテーナは、複数のＥＩＰ構成要素のうちの一つに侵入する一つ又は複数のピストンの形態で提供される。これらのピストンの各々は、後退した位置に弾性的にバイアスされ、また、ＥＩＰの外側から作用されると、レチクルに垂直方向の力を加えるように適合される。それと同時に、リテーナは、ＥＩＰ内に貯蔵されているレチクルをＥＩＰの外側からの汚染物質による汚染から保護するために侵入すると、ＥＩＰ構成要素と封止係合する。

好ましい実施形態では、貯蔵システムはＥＯＰの包囲体積未満の包囲体積を有し、例えばＥＩＰの包囲体積と比較して、１３０％、１２０％、１１０％又は１０５％未満の包囲体積の貯蔵システムを有する。したがってＥＩＰ及びＥＯＰを備えた二重ポッドの形態の従来の貯蔵システムと比較すると、レチクルを貯蔵するために必要な空間が著しく低減される。

本発明の別の態様は、ＥＵＶレチクル・ストッカを操作する方法を提供し、方法は、レチクルをレチクル・ストッカの中に貯蔵するステップと、レチクルをレチクル・ストッカから回収するステップとを含み、レチクルは二つ以上の構成要素を備えるＥＩＰ内に含まれ、貯蔵するステップは、レチクルを含んだＥＩＰをＥＵＶレチクル・ストッカ内の貯蔵位置へ移動させるステップを含み、また、回収するステップは、レチクルを含んだＥＩＰをその貯蔵位置から除去するステップを含み、ＥＩＰ構成要素及びレチクルは、貯蔵位置へ、又は貯蔵位置から移動され、また、貯蔵位置に位置すると、とりわけ、ＥＩＰを完全に覆っていない締付けデバイス、例えば上で説明した締付けデバイスによって互いに対して固定される。本発明による方法は、ＥＩＰを含んだ個々の貯蔵位置にパージ・ガスを供給するステップを更に含む。これは、従来の貯蔵方法と比較すると、レチクルを貯蔵するために必要な空間を小さくする。

詳細には、貯蔵するステップは、貯蔵位置へ移動させるステップの前に、ＥＵＶ外部ポッド（ＥＯＰ）及びＥＵＶレチクルを含んだＥＩＰを備えた二重ポッドをストッカの外側から受け取るステップであって、ＥＩＰがＥＯＰ内に完全に含まれる、ステップと、ＥＯＰを開けるステップと、貯蔵システムを提供するために、ＥＩＰ構成要素を互いに対して固定し、且つ、レチクルをＥＩＰに対して固定するためにＥＩＰに設けられたリテーナに作用するために、締付けデバイスをＥＩＰに取り付けるステップとを更に含む。詳細には、締付けデバイスをＥＩＰに取り付けるステップは、締付けデバイス、詳細にはそのＵ字形プロファイルを開位置にもたらすステップ、開いた締付けデバイスをＥＩＰの上方に置くステップ、及び締付けデバイスを閉位置に解放するステップを含む。このような実施形態では、貯蔵システムは改良型ストッカ自体によって提供され、ストッカの外部で実施される何らかのプロセス・ステップを実質的に変更することなく、既存の製造プロセスと関連してストッカを直接利用することができる。詳細には、このような実施形態におけるストッカは、貯蔵システムを提供するために、開ける操作、取り付ける操作及び解放する操作を実施するように構成されるアセンブラ即ちアプリケータを備える。

好ましい実施形態では、二重ポッドを受け取るステップは、エアーロックを備えた入口ターミナルの外側に面している側で二重ポッドを受け入れるステップと、エアーロックの第１のシャッタを開けるステップと、二重ポッドをエアーロックの中へ移動させるステップと、第１のシャッタを閉じるステップと、エアーロックの内部体積の汚染を除去するステップと、エアーロックの第２のシャッタを開けるステップと、二重ポッドを第２のシャッタを通って入口ターミナルの内側に面している側へ移動させるステップと、第２のシャッタを閉じるステップとを含む。言い換えると、二重ポッドは、エアーロックを通って、入口ターミナルの外側に面している側から内側に面している側へ通過し、二重ポッドがエアーロックの内側に存在している間、エアーロックの内部体積の汚染を除去することを含む。これは、ストッカの汚染を回避するという利点を提供する。

ＥＯＰを開けるステップは、ＥＯＰをアンロックするステップと、ＥＯＰをＥＩＰの周りから除去するステップと、ＥＯＰをＥＯＰバッファ・ストックの中に貯蔵するステップとを含むことができる。ＥＯＰバッファ・ストックはレチクル・ストッカの一体構成要素であってもよく、また、ＥＯＰバッファ・ストックは、ＥＯＰの外側からＥＩＰへの相互汚染を防止するために、上で説明した貯蔵システムのための貯蔵位置から分離されることが好ましい。いくつかの実施形態では、ＥＯＰバッファ・ストックは、レチクル・ストッカから間隔を隔てて、及び／又はレチクル・ストッカから分離して配置することも可能でありしたがってそれだけではレチクル・ストッカの構成要素を形成していない。したがって厳格な清浄度要件を満足することができ、その一方でレチクルを貯蔵するために必要な空間が小さくなる。同じ理由で、締付けデバイスは、常に、又は少なくともストッカの操作の延長時間の間、ストッカ内に維持することが有利であり得る。詳細には、締付けデバイスには、一般に、ＥＩＰに取り付けられると、ストッカから離すことは意図されていない。

貯蔵システムをその貯蔵位置から除去するステップの後のレチクルを回収するステップは、詳細には締付けデバイスのＵ字プロファイルを開位置にもたらし、且つ、それにより開いた締付けデバイスをＥＩＰから切り離すことによって締付けデバイスをＥＩＰから切り離すステップと、ＥＩＰ構成要素及びＥＩＰ内に含まれているレチクルを互いに対して固定するためにＥＩＰの周りにＥＯＰを組み立てるステップと、二重ポッドを形成するステップと、ストッカ大気の汚染を防止するために、好ましくはエアーロックを通過させることによって二重ポッドをストッカの外側に引き渡すステップとを更に含むことが好ましい。これは、設備の製造プロセスを使用して標準の二重ポッドを使用することができ、したがって本発明に関連して提供される改善された貯蔵状態を従来のプロセス機器が利用することができるという利点を提供する。

この組立てのために使用されるＥＯＰは、上で言及したＥＯＰバッファ・ストックから回収され得ることが好ましい。これは、レチクルを貯蔵する毎にＥＯＰを必要とせず、その一方で、製造プロセスのために必要なすべてのレチクルの時宜を得た供給を保証するという利点を提供する。言い換えると、貯蔵されるレチクルの数は、提供されるＥＯＰの数を著しく超過し得る。言い換えると、任意の所与の時間の間、ＥＯＰを必要とするのは、その時間にストッカの外部で必要なレチクルのみである。

摩耗及び対応する粒子生成を防止するためには、レチクルがＥＩＰに対して固定されていないときに何らかのステップが一度に実施されている間、レチクル及び／又はＥＩＰ構成要素が互いに対して移動しないことが保証されることが好ましい。

締付けデバイスが上で説明した情報伝達要素を備えている場合、方法は、有利には、締付けデバイスによって伝達される情報が読み取られ、書き込まれ、削除され、又は変更される一つ若しくは複数のステップを含むことができる。このようなステップでは、製造設備の改善された総合性能を提供するために、取り扱われた締付けデバイスと関連付けられたレチクルの識別に関する情報、レチクルが経験した貯蔵状態又は他の情報を使用して、レチクル・ストッカ若しくは他のツール、機械又はデバイスを制御することができる。

方法は、レチクルが経験した貯蔵状態の履歴を監視するために、任意選択で締付けデバイスに設けられた一つ又は複数のセンサによって提供される情報を読み取り、受け取り、さもなければ収集するステップを更に含むことができる。これは、品質に関する不良がある可能性がより高いレチクルを例えば半導体製品の製造に使用する前に検査し、それによりそれらの完全性を保証することができるという利点を提供する。したがって欠陥のある製品の産出が最小化される。

本発明の更なる態様では、少なくとも一つのＥＵＶレチクルを貯蔵するためのストッカが提供され、少なくとも一つのレチクルの各々は、一つのそれぞれのＥＵＶ内部ポッド（ＥＩＰ）の中に貯蔵されるか、或いはそのように適合され、また、そのように構成され、ＥＩＰは、上で説明したように締付けデバイスによって互いに対して固定される二つ以上のＥＩＰ構成要素を備え、ＥＩＰは一つ又は複数のリテーナを備え、リテーナは、ＥＩＰの外側から作用されると、ＥＩＰの内側に貯蔵されているレチクルをＥＩＰに対して固定するように構成され、締付けデバイスはリテーナに作用して、ＥＩＰ内に貯蔵されているレチクルを固定し、ストッカは、エアーロック及びアセンブラを備えた装荷ポート（本開示の言語では入口ターミナルとも呼ばれる）と、それぞれ一つの締付けデバイスによって固定され、また、それぞれ一つのレチクルを含んだＥＩＰを貯蔵するように構成された貯蔵ユニットと、締め付けられた、レチクルを含んだＥＩＰをストッカ内の貯蔵位置へ、また、貯蔵位置から移動させるように構成されたハンドラとを備え、エアーロックは、ＥＵＶ外部ポッド（ＥＯＰ）及びレチクルを含んだＥＩＰを備えた二重ポッドをストッカの外側から受け取るように構成され、ＥＯＰはリテーナに作用し、また、アセンブラは、ＥＩＰ構成要素及びレチクルを互いに対して移動させることなくＥＯＰを開けるように構成され、アセンブラは、ＥＩＰ構成要素及びレチクルを互いに対して移動させることなく前記締付けデバイスを前記ＥＩＰに取り付け、また、締付けデバイスを前記ＥＩＰから除去するように構成され、また、アセンブラは、締め付けられていないＥＩＰの周りにＥＯＰを組み立てるように構成される。

本発明によるストッカは、締め付けられたＥＩＰが貯蔵される貯蔵位置即ちコンパートメントにパージ・ガスの流れを提供するように適合される。本発明のすべての態様では、ＥＩＰを取り囲んでいる、或いはＥＩＰを密閉している対応するＥＯＰなしにＥＩＰが貯蔵されることはとりわけ有利である。従来技術では、ＥＯＰの中に貯蔵されたＥＩＰも、一つ又は二つの小さいオリフィスを介してＥＯＰの内側に提供されるパージ・ガスで同じくパージされる。本発明では、ＥＯＰはＥＩＰと共に貯蔵されないため、このようなオリフィスに対する精巧な供給機構は不要である。したがって本発明によるパージ・ガス流の供給は、はるかに少量の流量、詳細にはほぼ０．２から１．０Ｌ／分／貯蔵位置の流量で実施されてもよく、一般的に使用される約２．５Ｌ／分／ＥＯＰの流れと同じ、又はそれより良好な、貯蔵大気に対する効果が得られる。そのため、はるかに一様なパージ流が得られ、したがってよりきれいな貯蔵環境が得られ、その一方で運転コストが激烈に低減される。他の有利な実施形態では、総合的に改善された清浄性レベル即ち清潔性レベルを提供するために、１Ｌ／分／貯蔵位置と２０Ｌ／分／貯蔵位置の間、とりわけ２Ｌ／分／貯蔵位置と１０Ｌ／分／貯蔵位置の間のパージ流量が提供され得る。したがってパージ流量の選択は具体的な目的で決まり、また、あらゆる方向において特に制限されることなく、ユーザの好みに従って設定され得る。パージ・ガスは、例えば、パージ・ガスが個々の貯蔵位置即ちコンパートメントにアクセスすることができる多数の開口を有するディフューザ・プレートを介して貯蔵位置に供給することができ、それにより個別の貯蔵位置即ちコンパートメントを通る一様なガス流を形成する。詳細には、貯蔵位置は、パージ・ガスが一つの貯蔵位置から別の貯蔵位置へ通過することができないよう、また、一つのＥＩＰから別のＥＩＰへの相互汚染が回避されるよう、互いに対して隔離される。本発明によって提供される一つの利点は、専用パージ・オリフィスを通るパージ流体のアクセスを許容する二重ポッドなどの従来の貯蔵システムと比較して、より小さい総合流動抵抗である。パージ・オリフィスが比較的小さいため、すべてのパージ操作の間、流体摩擦によって大きい流動抵抗がもたらされることになる。広い断面（実質的に開いた貯蔵システム）でパージ流体にアクセスを提供する本発明の場合、このような流動抵抗がはるかに小さく、したがってそれぞれのＥＩＰに所望の量即ち流量のパージ流体を提供するために必要なエネルギー入力がより小さい。

有利には、ストッカは、ロボットＥＯＰハンドラを使用して、多数のＥＯＰを制御された大気中で貯蔵するように構成されたＥＯＰバッファ・ストックを更に備え、ロボットＥＯＰハンドラは、ＥＯＰをＥＯＰバッファ・ストックの中に置き、また、ＥＯＰをＥＯＰバッファ・ストックから回収するように構成される。

いくつかの実施形態では、ＥＯＰバッファ・ストックは、説明したレチクル・ストッカ及び専用ＥＯＰバッファ・ストックを備えたストッカ・システムを提供することができるよう、個別に提供することも可能であり、及び／又はレチクル・ストッカから間隔を隔てて提供することも可能である。これは、レチクル・ストッカの内側の汚染を極めて低いレベルに制御するのを促進する。

言い換えると、ストッカは、上で説明した方法を実現し、したがって上で説明した方法の利点と同じ利点を利用するように適合される。

次に、本発明の利点及び更なる態様について、添付の図面を参照してより詳細に考察する。

ＥＩＰの二つの異なる実施形態であって、これらの実施形態に関連して本発明を実現することができる実施形態を示す図である。 本発明による締付けデバイスの有利な実施形態の斜視図を概略的に示す図である。 本発明による締付けデバイスの有利な実施形態を概略的に示す図である。 本発明による締付けデバイスの有利な実施形態を概略的に示す図である。 本発明のとりわけ好ましい実施形態による、締付けデバイスとアプリケータの間の相互作用を概略的に示す上面図及び斜視図である。 本発明の有利な実施形態による、アプリケータと相互作用している締付けデバイスの別の斜視図である。 本発明による一片締付けデバイスを備える貯蔵システムの好ましい実施形態を概略的に示す斜視図である。 本発明によるＥＵＶレチクル・ストッカのための操作方法の好ましい実施形態を表すフロー・チャートである。 本発明によるＥＵＶレチクル・ストッカのための操作方法の好ましい実施形態を表すフロー・チャートである。 本発明によるレチクル・ストッカの有利な実施形態を概略的に示す図である。

包括して１００で示される、従来のＥＩＰの二つの実施形態Ａ、Ｂが図１に示されている。個々のＥＩＰ１００は、上部構成要素１１０及び下部構成要素１２０を備えている。上部構成要素１１０は、一つ又は複数のオリフィス１１２、リテーナ１１４及び圧力点１１６を備えている。

リテーナ１１４は、弾性要素によって後退位置にバイアスされ、また、微粒汚染物質がＥＩＰの内側に入るのを防止するために弾性封止によって封止方式で上部構成要素１１０に接続された四つのピストンの形態で提供されている。

オリフィス１１２は、微粒汚染物質がＥＩＰの内側に入るのを同じく防止し、その一方で窒素などのパージング及び／又は保護ガスのためのアクセスを提供するフィルタ材料を備えている。

圧力点１１６は、二つの構成要素１１０、１２０を互いに対して固定するために提供されており、また、リテーナは、ＥＩＰの外側から作用されると、レチクルをＥＩＰの内側に固定するために提供されている。

下部構成要素１２０も上部構成要素１１０の圧力点１１６と同様の圧力点を備えることができる。

ＥＩＰ１００の実施形態Ａでは、圧力点１１６はリテーナ１１４から空間的に分離されており、一方、実施形態Ｂでは、リテーナ１１４は圧力点１１６と同じ領域に提供され、圧力点１１６を通って展開している。

図２、図２Ａ及び図２Ｂには、ＥＩＰ１００の実施形態Ａ、Ｂと関連して使用することができる締付けデバイス２００が概略的に示されている。

締付けデバイス２００は、上部部分２１０、及び該上部部分２１０の互いに反対側の縁に一体で形成された二つのＵ字形プロファイル２１５を有する金属（例えばシート金属）でできた一片締付け要素を備えている。下部部分２２０は、Ｕ字形プロファイル２１５のそれぞれの下部セクションによって形成されている。上部部分２１０は、場所の点でＥＩＰの一つ又は複数のオリフィス１１２に実質的に対応するオリフィス２１２を特徴としており、ＥＩＰ１００の上に篏合するように形成されている。ＥＩＰ１００の表面の、場所の点でオリフィス２１２に対応する部分は、本開示の言語では「覆われていない」と呼ばれ、一方、とりわけＥＩＰ１００の表面の、締付けデバイス２００の材料表面と接触している部分、即ち締付けデバイスの材料表面の真向かい又は真下の部分は「覆われている」と見なされる。したがって本発明によれば、締付けデバイス２００はＥＩＰ１００を部分的にのみ覆うように構成される。オリフィス２１２は、とりわけ、上部部分２１０の表面積の１０％、２０％、２５％、５０％、７５％、８０％又は９０％を超える面積を占めることができる。更に、下部部分２２０にも同様のオリフィスを提供することができる（図には示されていない）。しかしながら図２に示されている例では、下部部分２２０は二つの個別の縁で形成され、それぞれ二つのＵ字形プロファイル２１５のうちの一方の部分を形成している。したがって下部部分２２０は、縁に近い下部ＥＩＰ構成要素１２０の部分のみを覆っている。更に、上部部分２１０又は下部部分２２０にも、Ｕ字形プロファイル２１５にも対応しないＥＩＰ１００の横向きに面している表面も同じく「覆われていない」と見なされる。

一片締付け要素２００の下部部分２２０は本質的に平らであってもよく、また、それぞれＵ字形プロファイル２１５の一方の下部セクションである二つの空間的に分離された部分を備えることができる。

したがって一片締付けデバイス２００の上部部分２１０及び下部部分２２０は一体で形成されており、また、それらの間にＥＩＰ１００を収納し、且つ、固定するように構成されている。そのために、上部締付け要素及び下部締付け要素はいずれも圧力アプリケータ２１６を備えており、圧力アプリケータ２１６は、ＥＩＰ１００の上部構成要素及び下部構成要素１１０、１２０のそれぞれの圧力点１１６を押し付けて、ＥＩＰ構成要素１１０、１２０を互いに対して固定するように構成されている。

締付けデバイス２００は、下部部分２２０を上部部分２１０から遠ざかる方向に弾性的に曲げ、それによりＵ字形プロファイル２１５を広くすることにより、上部部分２１０と下部部分２２０の間に収納されたＥＩＰの固定を必要に応じて実施することができ、或いは取り消すことができるよう、下部部分２２０が上部部分２１０に対して弾性的に後退可能又は撓み可能であるように構成されている。示されている例では、下部部分２２０は二つの個別のラッチ（それぞれの二つのＵ字形プロファイル２１５の二つの下部セクション）の形態で提供されている。しかしながら下部部分２２０が上部部分に対して実質的に対称的に提供される締付けデバイス２００の実施形態も同じく想定されており、いくつかの利点、詳細には安定性の点における利点を提供することができる。

図２及び図３に示されているように、Ｕ字形プロファイル２１５は、該Ｕ字形プロファイル２１５が提供される締付けデバイス２００の上部部分２１０の縁の長さ全体にわたって断続させることができることに留意されたい。言い換えると、とりわけ接触力を所望の値に調整するために、及び／又はＥＩＰ１００の側への流体アクセスを容易にするために、Ｕ字形プロファイル２１５内に孔又はスリットを提供することができ、さもなければＵ字形プロファイル２１５によって覆われる。

更に、ＥＩＰ１００の実施形態Ａの場合、アクチュエータ２１４は上部部分２１０に設けられており、アクチュエータ２１４は、締付けデバイス２００がＥＩＰ１００に取り付けられると、ＥＩＰ１００の実施形態Ａの上部構成要素１１０のリテーナ１１４に作用するように構成されている。

ＥＩＰ１００の実施形態Ｂと共に使用するために適合された締付けデバイス２００では、圧力アプリケータ２１６はアクチュエータ２１４の機能を同時に果たす。したがって個々の圧力アプリケータ２１６はアクチュエータ２１４を同じく構成する。

示されているいずれの実施形態の場合も、ＥＩＰ１００のリテーナ１１４に作用することにより、締付けデバイス２００は、ＥＩＰ１００内に含まれているレチクルをＥＩＰ１００に対して固定する。

圧力アプリケータ２１６及びアクチュエータ２１４は、例えば舌の形の切欠きの形態、又は板即ち正平面バネの形態で提供することができ、また、それぞれ圧力点１１６及びリテーナ１１４に所定の力を加えるように構成することができる。有利には、圧力アプリケータ２１６は、圧力点１１６の各々に所定の力を加えるように構成されている。ＥＩＰ１００の実施形態Ａと共に使用するための締付けデバイスでは、圧力点に加えられるこの力は、アクチュエータ２１４がリテーナ１１４に加える所定の力とは異なっていてもよい。したがってリテーナ１１４及び圧力点１１６に加えられる力は、それぞれの部品を互いに対して固定するために必要な要求力に適合させることができる。一般には、ＥＩＰ内のレチクルを固定するために必要な力は、上部構成要素１１０を下部構成要素１２０に対して固定するために必要な力より小さい。したがってアクチュエータ２１４を形成している切欠きは、圧力アプリケータ２１６を形成している切欠きより長くすることができ、及び／又は細くすることができる。

ＥＩＰ１００の実施形態Ｂと共に使用することができるように適合された締付けデバイスでは、例えば追加切欠き又は板即ち正平面バネ（図には示されていない）を圧力アプリケータ２１６内に提供することにより、それぞれ圧力点１１６及びリテーナ１１４に異なる力を加えることが同じく可能であり、したがって圧力点１１６に加えられる力と比較して、より小さい力をリテーナ１１４に加えることができる。言い換えると、ＥＩＰ１００の実施形態Ｂにおける圧力点１１６及びリテーナ１１４は近接してはいるが、互いに間隔を隔てた圧力アプリケータ２１６及びアクチュエータ２１４を提供することが依然として可能である。

図２Ｂに示されているように、締付けデバイス２００の上部部分２１０及び下部部分２２０は、締付けデバイス２００の、先ほど説明した弾性的な曲り又は開きを可能にするために、操作点２１１、２２１を備えることができる。

図２Ｃ及び図２Ｄには、締付けデバイス２００とアプリケータ即ちアセンブラ７２０の間の例示的相互作用がそれぞれ上面図及び斜視図で概略的に示されている。

アプリケータは、図２Ｃ及び図２Ｄに示されている実施形態では、締付けデバイス２００の上部部分２１０のそれぞれの操作点２１１と相互作用するように構成された操作フィンガ７２１を有する上部アーム７２５、及び締付けデバイス２００の下部部分２２０の対応する操作点２２１と相互作用するために構成された操作フィンガ７２１を有する下部アーム７２７を備えている。例えばハンドラ７３０は、空の締付けデバイス２００をアプリケータ７２０の上部アーム７２５の操作フィンガ７１１の上に置くことができる。次に、締付けデバイス２００からハンドラ７３０を後退させることができ、また、締付けデバイス２００の下部部分２２０の操作点２２１の上に下部アーム７２７を押し下げることができ、それによりＵ字形プロファイル２１５が広がる。押し下げている間、下部アーム７２７は、更に広がって、例えばＵ字形プロファイル２１５の曲りによってもたらされる操作点２２１の横方向の後退を追従することができ、それにより操作点２２１に対する摩耗を回避する。次に、このようにして開いた締付けデバイス２００をアプリケータの上部アーム７２５及び下部アーム７２７の両方がＥＩＰ１００の上方を横方向に同時に移動させることができ、この移動動作の間、締付けデバイス２００及びアプリケータ７２０はいずれもＥＩＰ１００と接触しない。次に、正平面バネが上部ＥＩＰ構成要素１１０の圧力点１１６及びリテーナ１１４に作用するよう、アプリケータ７２０が締付けデバイス２００をＥＩＰ１００の上に押し下げる。次に、アプリケータ７２０の下部アーム７２７が上に向かって移動して締付けデバイス２００の下部部分２２０を解放し、それにより締付けデバイス２００をＥＩＰ１００の周りで閉じる。このようにして、図３を参照して以下で同じく説明される貯蔵システム３００が形成される。次に、アプリケータを使用して、組み立てられた貯蔵システムをハンドラ７３０の上に置くことができ、そのハンドラ７３０は貯蔵システムを所望の場所、例えば貯蔵位置７４２へ輸送することができる。

図２Ｄには、更に、開いたＥＯＰ０１０、０２０が示されており、それぞれこの開いたＥＯＰ０１０、０２０からＥＩＰ１００を取り出し、又はこの開いたＥＯＰ０１０、０２０の中にＥＩＰ１００を置くことができる。ＥＯＰはＥＯＰ蓋０１０及びＥＯＰベース０２０を備えており、これらは、示されている開いた状態では、例えばＥＯＰの内側へのアクセスを許容するために、互いに垂直方向に間隔を隔てている。

図２Ｄのアプリケータ７２０はレール７２３の上に摺動可能に取り付けられており、アプリケータが締付けデバイス２００をＥＯＰベース０２０の上に立っているＥＩＰの上に取り付けることができ、また、次に、そのようにして形成された貯蔵システム３００をＥＯＰベース０２０から除去することができるよう、ＥＯＰに対するアプリケータの横方向の移動を可能にしている。この摺動可能構造は、明確に示されず、また、明確に考察されていないが、本明細書において考察されている他の実施形態にも存在させることができる。

貯蔵システム３００の開きは、本質的に、同じハードウェアを使用して、先ほど説明したステップの順序を逆にすることによって実施することができる。

図３には、ＥＩＰ１００及び一片締付けデバイス２００を備えた貯蔵システム３００が組み立てられた状態で示されており、一片締付けデバイス２００は上部部分２１０及び下部部分２２０を有している。下部部分２２０はＥＩＰ１００によって覆われているため、図３では下部部分２２０を完全に見ることはできない。

上で考察したように、リテーナ１１４を介してレチクルに加えられる固定力は、圧力点１１６を介してＥＩＰ構成要素１１０、１２０に加えられる固定力より小さいことが好ましい。例えばリテーナ１１４に集合的に加えられる、或いは個々の個別のリテーナ１１４に加えられる固定力は、１Ｎから１００Ｎの範囲、好ましくは５Ｎから５０Ｎの範囲から選択することができ、また、例えば約２０Ｎ±５Ｎ、例えば１７Ｎに及び得る。この力は、圧力アプリケータ２１６を参照して説明した方法と同様の方法で、提供されるアクチュエータ２１４のすべてにわたって均等に分散されることが好ましい。

ＥＩＰ１００の上部表面と比較すると、一片締付けデバイス２００は、ＥＩＰ１００の下部構成要素１２０の実質的に全体を覆わない状態で残すため、ＥＩＰ１００の下部表面を覆う部分が少ないことを理解されたい。例えばＥＩＰ１００に取り付けられると、締付けデバイス２００は、ＥＩＰ１００の少なくとも５０％、６０％、７０％、８０％又は９０％を覆わない状態で残す。いくつかの実施形態では、締付けデバイス２００は、ＥＩＰ１００の少なくともオリフィス１１２を覆わない状態で残し、したがって締付けデバイス２００を取り囲んでいる大気からオリフィス１１２に向かう流体アクセスが実質的に妨げられない。

図３から推論され得るように、締付けデバイス２００は、使用中、該締付けデバイス２００がＥＩＰの表面に実質的に隣接して展開するように設計される。したがって貯蔵システム３００は、本質的に単独でＥＩＰ１００と同じ体積を占有する。例えば貯蔵システム３００の包囲体積は、ＥＩＰ１００単独の包囲体積の１３０％、１２０％、１１０％又は１０５％未満に及び得る。

図４Ａには、レチクルを貯蔵するためのレチクル・ストッカ７００の好ましい操作方法が流れ図で示されており、一括して参照番号４００で参照されている。対応するレチクル・ストッカは図５に概略的に示されている。

以下、この方法について、図２及び図２Ａに関連して考察した締付けデバイス２００に関して説明する。

ステップ４０１で、ＥＵＶ外部ポッド（ＥＯＰ）１５０及びＥＯＰ１５０内に含まれたＥＩＰ１００を備えた二重ポッドがストッカ７００の外側から受け取られる。二重ポッドは、エアーロック７１０を備えた入口ターミナルの外側に面している側で受け入れられ、エアーロック７１０を通って、入口ターミナルの内側に面している側へ通される。エアーロック７１０を通過している間、エアーロック７１０の内部体積の汚染が除去され、それにより二重ポッドを受け取ることによってレチクル・ストッカ７００の内側の大気が悪影響を受けていないことを保証する。

エアーロック７１０の汚染除去は、エアーロック７１０を排気し、エアーロック７１０をガス、とりわけ不活性ガスなどの流体を使用してフラッシュし、及び／又はエアーロック７１０を流体、とりわけ不活性ガスを使用してパージすることを含むことができる。

ステップ４０２で二重ポッドが開けられる。二重ポッドを開けることは、この例ではＥＯＰ１５０をアンロックし、ＥＩＰ１００を取り囲んでいるその位置からＥＯＰ１５０を除去し、また、再び必要になるまでＥＯＰ１５０を貯蔵することができるＥＯＰバッファ・ストック７５０へＥＯＰ１５０を移動させることを含む。ＥＯＰ１５０がＥＩＰ１００から除去されると、圧力点１１６及びリテーナ１１４はもはや作用されない。したがってその時点でＥＩＰ構成要素１１０、１２０、及びその中に含まれているレチクルは、もはや互いに対して固定されない。

ステップ４０３で、例えば図２Ｃに関連して考察した方法と同じ方法で締付けデバイス２００がＥＩＰ１００に取り付けられる。それにより図３に示されているような貯蔵システム３００が提供される。締付けデバイス２００を取り付けることは、とりわけ、締付けデバイス２００の下部部分２２０を締付けデバイス２００の上部部分２１０から遠ざかる方向に曲げ、Ｕ字形プロファイル２１５を広くすることによって実施され得る。次に、締付けデバイス２００がＥＩＰ１００の上に動かされる。次に、下部部分がＥＩＰ１００の下部構成要素１２０を、また、上部部分２１０がＥＩＰ１００の上部構成要素１１０を、いずれもそれぞれの部分２１０、２２０の主延長平面に対して直角の方向（「垂直方向」）に押し付けるよう、下部部分２２０が閉位置へ解放される。ステップ４０３は、本質的に垂直方向の力のみがＥＩＰ１００に加えられ、ねじり力及び横方向の力が回避される方法で実施されることが好ましい。締付けデバイス２００がＥＩＰ１００に取り付けられると、二重ポッドを開ける前にＥＯＰ１５０によって実施された固定機能が締付けデバイス２００によって事実上回復され、或いは模倣される。ＥＩＰ及び／又はその中のレチクルに加えられる力は、すべて、締付けデバイス材料の弾性変形によるものであり、とりわけＵ字形プロファイル２１５内に蓄えられた弾性エネルギーによるものである。板バネ２１４／２１６を使用して、必要に応じて力が分散される。

ステップ４０４で、貯蔵システム３００がレチクル・ストッカ内の貯蔵位置へ移動される。有利には、貯蔵システム３００をそれぞれの貯蔵位置へ移動させるためのハンドラ７３０は二叉フォークを備えており、二つの叉７３５は、ＥＩＰ１００がそれらの間に緩く篏合するよう、互いに対して間隔を隔てている。このような実施形態では、フォークは、個々の叉が、ＥＩＰ１００と、上部部分２１０及び下部部分２２０を接続している締付けデバイス２００の部分（即ちＵ字形プロファイル２１５の垂直方向の部分）との間に、ＥＩＰ１００と接触することなく静止するように貯蔵システム３００の中に押し込むことができる。したがって貯蔵システム３００の移動は、ハンドラとＥＩＰ１００が直接接触することなく実施することができ、同じく粒子生成の確率を小さくする。

ステップのすべて、とりわけステップ４０２及び４０３は、上で説明したように摩擦誘導粒子生成を防止するために、ＥＩＰ１００と共に含まれているレチクルがＥＩＰ１００に対して移動しない方法で実施される。

図４Ｂには、レチクルを回収するためのレチクル・ストッカの好ましい操作方法が流れ図で示されており、一括して参照番号４１０で参照されている。

ステップ４１１で、貯蔵システム３００がその貯蔵位置から除去される。このステップ４１１は、図４Ａに関連して上で説明したステップ４０４と同様の方法で実施することができる。

ステップ４１２で、貯蔵システム３００を分解するために締付けデバイス２００がＥＩＰ１００から除去される。そのために、締付けデバイス２００の上部部分及び下部部分２１０、２２０が互いに遠ざかるように曲げられ、且つ、その全体がＥＩＰ１００から持ち上げられ、即ちＥＩＰ１００から後退し、それにより圧力点１１６及びリテーナ１１４を解放する。その時点でもはやＥＩＰ１００内のレチクルの固定は有効ではない。

ステップ４０３及び４１２は、ＥＩＰ１００を全く移動させることなく実施することができる。これは、それぞれ、締付けデバイス２００をＥＩＰ１００に取り付ける際にＥＩＰ１００をＥＯＰ１５０の下部構成要素の上に残すか、又は締付けデバイス２００を切り離す前にＥＩＰ１００をＥＯＰ１５０の下部構成要素の上に置くことによって達成することができる。これは、事実上、それぞれＥＩＰ構成要素１１０、１２０及びレチクルの相対移動を防止するため、とりわけ有利である。

ステップ４１３で、ＥＯＰ１５０がＥＯＰバッファ・ストック７５０から回収され、また、二重ポッドを提供するためにＥＩＰ１００の周りに組み立てられる。二重ポッドが完全に組み立てられると、貯蔵時間の間、締付けデバイス２００によって実施された固定機能がＥＯＰによって提供される。

ステップ４１４で、ステップ４１３で形成された二重ポッドがストッカ７００の外側に引き渡される。これは、二重ポッドを上で言及したエアーロック７１０を通って、入口ターミナルの外側に面している側へ通過させることを含むことができる。エアーロック７１０は、汚染物質が入口ターミナルに入るのを防止するために、二重ポッドが通過している間、パージ又はフラッシュすることができる。

図５に示されているように、レチクル・ストッカ７００は、既に言及したエアーロック７１０、上で説明した方法４００、４１０のステップ４０２、４０３、４１２及び４１３を実施するように構成されるアセンブラ７２０、多数のＥＯＰ１５０を貯蔵することができるＥＯＰバッファ・ストック７５０、及び貯蔵システム３００を多数の貯蔵位置７４２で貯蔵することができる貯蔵ユニット７４０を備えている。貯蔵システム３００をそれらのそれぞれの貯蔵位置７４２へ、また、それらのそれぞれの貯蔵位置７４２から移動させるためのハンドラ７３０が、ストッカ７００に設けられている。詳細には、このハンドラ７３０は、上で説明したようにＥＩＰ１００と機械的に接触することなく、貯蔵システム３００の中に押し込まれるように構成された二叉フォーク７３５を備えている。アセンブラ７２０は、詳細には、図２Ｃに示されているように、上部アプリケータ・アーム７２１及び下部アプリケータ・アーム７２２を備えることができる。

貯蔵位置７４２の数は、ＥＯＰバッファ・ストック７５０の中に貯蔵することができるＥＯＰ１５０の数を実質的に超過し得ることに留意されたい。上で説明したように、ＥＯＰ１５０を必要とするのは、ストッカ７００の外部で必要なレチクルのみである。したがって（少数の）ＥＯＰ１５０がＥＯＰバッファ・ストック７５０の中に貯蔵され、したがってレチクルを必要とするときに二重ポッドを組み立てることができる。しかしながら一般にはすべてのレチクルが同時に要求されることは全くないため、貯蔵ユニット７４０内に貯蔵されているレチクル毎にＥＯＰ１５０を貯蔵する必要はない。

ストッカ７００は、パージ・ガスの流れを貯蔵位置即ちコンパートメント７４２の各々に提供するように構成されたパージ・システム７６０を更に備えている。例えばパージ・システム７６０は、タンク又は一つ又は複数のガス・シリンダなどのパージ・ガス供給ユニット７６２、圧力調整器７６４、パージ・ガスを貯蔵ユニットの異なる領域に分配するように構成されたマニホルド、及びパージ・ガスをマニホルドから個々の個別の貯蔵位置即ちコンポーネント７４２に提供するように構成されたインタフェース７６６を備えることができる。このインタフェースは、一つ又は複数のディフューザ・プレートの形態で提供することができ、例えば孔が穿たれた金属シート、又は多孔性材料、例えばガラス・フリット又は多孔性焼結金属を備えたプレートの形態で提供することができる。パージ・ガス流量は、所望の清潔性レベルに応じて、０．２Ｌ／分／貯蔵位置と１Ｌ／分／貯蔵位置の間の範囲、及び／又は１Ｌ／分／貯蔵位置と２０Ｌ／分／貯蔵位置の間、とりわけ２Ｌ／分／貯蔵位置と１０Ｌ／分／貯蔵位置の間の範囲から選択することができる。いくつかの実施形態では、流量は、例えば貯蔵された異なるレチクルに対して必要な異なる清潔性レベル、又は動作モードに応じて必要な異なる清潔性レベルを反映するために、特定の貯蔵位置に対して、他の貯蔵位置と比較して個別に異なる流量を選択することができる。したがって例えば充填されて間もない貯蔵位置は、所定の時間の間、変化が生じていない貯蔵位置と比較して、より高いパージ率でパージすることができる。別の例は、貯蔵システムを除去する際に粒子が貯蔵位置の中に侵入する危険が小さくなるよう、ほぼ空にされた貯蔵位置に対するより高いパージ率であり得る。

一般には、貯蔵位置即ちコンポーネント７４２は、互いに積重ね方式で配置されている。ＥＩＰ１００をそれぞれ貯蔵位置即ちコンポーネント７４２の中に貯蔵し、また、貯蔵位置即ちコンポーネント７４２から回収するための個々の貯蔵位置即ちコンポーネント７４２へのアクセスは、一般には個々の貯蔵位置即ちコンポーネント７４２の前側を介して許容される。したがってパージ・ガスを個々の貯蔵位置即ちコンパートメント７４２に個別に提供するためのインタフェース７６６は、個々の貯蔵位置即ちコンパートメント７４２の後ろ側、又は個々の貯蔵位置即ちコンパートメント７４２の側面のうちの一つに配置することができる。いくつかの実施形態では、個々の個別の貯蔵位置即ちコンパートメント７４２に対して、とりわけそれぞれのインタフェース７６６の反対側に排気を提供することができ、この排気は、パージ・ガスが第１の貯蔵位置即ちコンパートメント７４２を通過した後に異なる貯蔵位置即ちコンパートメント７４２、例えば隣の貯蔵位置即ちコンパートメント７４２に流入するのを防止するために、それぞれの貯蔵位置即ちコンパートメント７４２を通過した後のパージ・ガスを集め、且つ、回収するように構成される。これは、個別のＥＩＰ１００同士の間の相互汚染を実質的に最小化する。代替実施形態では、排気は、パージ・ガスが貯蔵位置即ちコンパートメント７４２の前側を介して回収されるように同じく配置することができる。これは、このような排気を個別の貯蔵位置即ちコンパートメント７４２毎に提供する必要を取り除き、したがってコストがより安価になる。このような実施形態では、パージ・ガスを提供するためのインタフェース７６６は貯蔵位置即ちコンパートメント７４２の後ろ側に存在すること、また、貯蔵位置即ちコンパートメント７４２の中へのパージ・ガスの逆流を効果的に防止するために、前側の前方の圧力は貯蔵位置即ちコンパートメント７４２内の圧力より低いことが有利である。

したがって方法は、詳細には、ガス供給ユニット７６２からガスを回収するステップ、ガス圧を所望の圧力レベル、例えば１～５バールの絶対圧力に調整するステップ、及びガスを個々の個別の貯蔵位置即ちコンパートメント７４２に導くステップを含む、パージ・ガスを貯蔵ユニット７４０に提供するステップを含むことができる。また、使用されたパージ・ガスを貯蔵位置即ちコンパートメント７４２から回収するステップを実施することも同じく可能である。このステップは、詳細には、相互汚染が防止されるよう、パージ・ガスを引張り、即ち吸い込んで、貯蔵位置即ちコンパートメント７４２から排出させる圧力勾配を提供するために、ポンプ、圧縮機、送風機、等々を動作させるステップを含むことができる。

図２Ａでは、締付けデバイス２００は、追加で、ＲＦＩＤデバイスなどの識別デバイス及び一つ又は複数のセンサを備えたロギング要素２１８（概略的に示されている）を備えている。ＲＦＩＤデバイス２１８は、識別番号を備えた情報伝達要素であり、したがってＲＦＩＤデバイス２１８を読み取ることによって個々の締付けデバイス２００を他の締付けデバイス２００から区別することができる。ロギング要素２１８は、図２Ａに示されている実施形態にしか示されていないが、このようなロギング要素２１８を締付けデバイス２００の任意の他の実施形態に提供することも同じく有利であることを理解されたい。

ロギング要素２１８の中に含まれている一つ又は複数のセンサは、例えば締付けデバイス２００に作用する温度、締付けデバイス２００を取り囲んでいる大気の組成（例えば、湿度）、圧力及び／又は加速度を検出又は測定するように構成されている。この例におけるロギング要素２１８は、一つ若しくは複数のセンサの読値を記憶し、及び／又はこれらの読値を更なる処理のために利用可能にするように更に構成されている。

締付けデバイス２００が例えばＲＦＩＤデバイス２１８を備えている場合、方法４００は、特定の締付けデバイス２００と組み合わせて貯蔵されているレチクルと、使用されている締付けデバイス２００のＲＦＩＤデバイス２１８に設けられた識別番号との関連性を提供するステップを含むことができる。この関連性は、例えばレチクル・ストッカの中央メモリに記憶することができ、及び／又は製造設備の中央計算デバイス内に記憶することができる。これは、その貯蔵のために使用されている締付けデバイス２００によってレチクルを識別することができ、したがって依然としてそれぞれのＥＩＰ１００内に安全に含まれている間に識別することができるという利点を提供する。

方法は、一つ又は複数のセンサからデータを収集するステップ、及び例えば更なるアクション、例えば回収したレチクルの検査が必要であるかどうかを評価するためにこのデータを使用するステップを更に含むことができる。

有利には、方法４１０は、次に、締付けデバイス２００と関連付けられたレチクルを回収するために、締付けデバイス２００のこのＲＦＩＤデバイス２１８を使用する。それにより検証機構を実現することができる。例えばストッカ７００内の所与のレチクルの貯蔵位置７４２を使用して、ストッカ７００から回収すべきレチクルを識別することが可能である。その貯蔵位置７４２からレチクルを回収する場合、締付けデバイス２００のＲＦＩＤデバイス２１８を読み取ることができ、また、正しいレチクルが回収されたことを検証するために、締付けデバイス２００の識別番号と、貯蔵されているレチクルとの関連性をチェックすることができる。特定の貯蔵場所に貯蔵されているレチクルと、締付けデバイス２００と関連付けられたレチクルの識別が異なる場合、識別手順がトリガされ、警報信号を生成することができ、したがってその識別が検証される前に製造がレチクルを使用することはない。これは、レチクル識別の総合信頼性がより高くなるという利点を提供する。

レチクルと、それぞれの締付けデバイス２００とのこの関連性の別の利点は、レチクルがそれらのそれぞれの貯蔵位置から無作為に除去されても、それらを依然として識別することができることである。これは、例えば地震又は同様の制御不可能な状況の間に生じ得る。このような状況では、従来の方法及びシステムであれば、レチクルは識別のためにそれらのそれぞれのＥＩＰから除去されたかもしれず、或いは従来の貯蔵システムは、更には破壊されたかもしれない。したがってここで開示された発明は、ＥＵＶレチクルのための、追跡可能性が改善されたより安全な貯蔵環境を提供する。

Claims (21)

1. ＥＵＶ内部ポッド（ＥＩＰ）のための締付けデバイスであって、前記ＥＩＰ（１００）がＥＵＶレチクルを含むための二つ以上の構成要素を備え、前記締付けデバイス（２００）が、
   前記ＥＩＰ（１００）の前記二つ以上の構成要素（１１０、１２０）を互いに対して固定し、且つ、前記レチクルを中に固定する機能を提供し、また、
   前記ＥＩＰ（１００）を部分的にのみ覆う
   ように構成された単一の一片締付け要素を備える、締付けデバイス。
2. 前記ＥＩＰ（１００）の一つ又は複数のリテーナ（１１４）に作用するように更に構成され、前記リテーナ（１１４）が、前記ＥＩＰ（１００）内の前記レチクルを固定するために前記ＥＩＰ（１００）の外側から作用されると、前記レチクルを中に固定するように構成される、請求項１に記載の締付けデバイス（２００）。
3. その質量及び／又は体積に関して少なくとも７５％、８０％、９０％、９５％又は９９％の金属材料を含む、請求項１又は２に記載の締付けデバイス（２００）。
4. 上部部分（２１０）と、前記上部部分（２１０）の縁に一体で形成された、閉位置に向かってバイアスされ、且つ、開位置へ弾性的に曲がるように構成された少なくとも一つのＵ字形プロファイル（２１５）とを備え、前記締付けデバイス（２００）が、前記Ｕ字形プロファイル（２１５）が前記開位置に位置すると、ＥＩＰ（１００）に取り付けることができるように構成され、また、前記Ｕ字形プロファイル（２１５）が前記閉位置に位置すると、前記ＥＩＰ構成要素（１１０、１２０）及び前記レチクルを互いに対して固定するように構成される、請求項１、２又は３に記載の締付けデバイス（２００）。
5. 前記上部部分（２１０）の互いに反対側の縁の上に配置された二つのＵ字形プロファイル（２１５）を備える、請求項４に記載の締付けデバイス。
6. 前記締付けデバイス（２００）が前記ＥＩＰ（１００）に取り付けられると前記リテーナ（１１４）に作用するように構成されたアクチュエータ（２１４）を備える、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の締付けデバイス（２００）。
7. 前記締付けデバイス（２００）を取り付けることができるＥＩＰ（１００）の包囲体積の１３０％、１２０％、１１０％、１０５％未満、又は１００％未満の包囲体積を有する、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の締付けデバイス（２００）。
8. 前記締付けデバイス（２００）を識別するように構成された情報伝達要素、及び／又は
   温度センサ、及び／又は
   湿度センサ、及び／又は
   圧力センサ、及び／又は
   前記締付けデバイス（２００）を取り囲んでいる大気中の一つ又は複数の化学物質の濃度を検出又は測定するように構成された濃度センサ、及び／又は
   加速度センサ
   を含む一つ又は複数の構成要素を備えるロギング要素（２１８）を更に備え、
   前記ロギング要素が、前記ロギング要素（２１８）の前記一つ又は複数の構成要素を使用して生成された情報を記憶及び／又は利用可能にするように構成される、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の締付けデバイス（２００）。
9. 請求項１乃至８のいずれか一項に記載の締付けデバイス（２００）及びＥＵＶ内部ポッド（ＥＩＰ）（１００）を備えた貯蔵システム（３００）であって、前記ＥＩＰ（１００）が、
   ＥＵＶレチクルを収納するように構成され、また、
   二つ以上の構成要素（１１０、１２０）と、一つ又は複数のリテーナ（１１４）であって、前記リテーナ（１１４）が前記ＥＩＰ（１００）の外側から作用されると、前記レチクルを固定するように構成されたリテーナ（１１４）とを備え、
   前記締付けデバイス（２００）は、前記二つ以上の構成要素（１１０、１２０）を互いに対して固定し、前記リテーナ（１１４）に作用するために前記ＥＩＰ（１００）に取り付けることができる、貯蔵システム（３００）。
10. 前記ＥＩＰ（１００）の包囲体積の１３０％、１２０％、１１０％又は１０５％未満の包囲体積を有する、請求項９に記載の貯蔵システム（３００）。
11. ＥＵＶレチクル・ストッカ（７００）を操作する方法であって、ＥＵＶレチクルを前記レチクル・ストッカの中に貯蔵するステップ（４００）と、レチクルを前記レチクル・ストッカ（７００）から回収するステップ（４１０）とを含み、
    前記レチクルが二つ以上の構成要素（１１０、１２０）を備えるＥＩＰ（１００）内に含まれ、
    前記貯蔵するステップ（４００）が、レチクルを含んだ前記ＥＩＰ（１００）を前記ＥＵＶレチクル・ストッカ（７００）内の貯蔵位置（７４２）へ移動させるステップ（４０４）を含み、
    前記回収するステップ（４１０）が、レチクルを含んだＥＩＰ（１００）をその貯蔵位置（７４２）から除去するステップ（４１１）を含み、
    前記ＥＩＰ構成要素（１１０、１２０）及び前記レチクルが、前記貯蔵位置へ、又は前記貯蔵位置から移動され、また、前記貯蔵位置に位置すると、前記ＥＩＰを完全に覆っていない締付けデバイス（２００）によって互いに対して固定され、前記方法が、前記ＥＩＰ（１００）を含んだ個々の貯蔵位置（７４２）にパージ・ガスを供給するステップを更に含む、
    方法。
12. 前記貯蔵するステップ（４００）が、貯蔵位置（７４２）へ移動させる前記ステップ（４０４）の前に、
    ＥＵＶ外部ポッド（ＥＯＰ）（１５０）及びＥＵＶレチクルを含んだＥＩＰ（１００）を備えた二重ポッドを前記ストッカ（７００）の外側から受け取るステップ（４０１）であって、前記ＥＩＰ（１００）が前記ＥＯＰ（１５０）内に完全に含まれる、ステップ（４０１）と、
    前記ＥＯＰを開けるステップ（４０２）と、
    前記貯蔵システム（３００）を提供するために、ＥＩＰ構成要素（１１０、１２０）を互いに対して固定し、且つ、前記レチクルを前記ＥＩＰ（１００）に対して固定するために前記ＥＩＰ（１００）の中に含まれている一つ又は複数のリテーナ（１１４）に作用するために、締付けデバイス（２００）を前記ＥＩＰ（１００）に取り付けるステップ（４０３）と
    を更に含む、請求項１１に記載の方法。
13. 二重ポッドを受け取るステップ（４０１）が、
    エアーロック（７１０）を備えた入口ターミナルの外側に面している側で前記二重ポッドを受け入れるステップと、
    前記エアーロック（７１０）の第１のシャッタを開けるステップと、
    前記二重ポッドを前記エアーロック（７１０）の中へ移動させるステップと、
    前記第１のシャッタを閉じるステップと、
    前記エアーロック（７１０）の内部体積の汚染を除去するステップと、
    前記エアーロック（７１０）の第２のシャッタを開けるステップと、
    前記二重ポッドを前記第２のシャッタを通って前記入口ターミナルの内側に面している側へ移動させるステップと、
    前記第２のシャッタを閉じるステップと
    を含む、請求項１１又は１２に記載の方法。
14. 前記ＥＯＰ（１５０）を開けるステップ（４０２）が、
    前記ＥＯＰ（１５０）をアンロックするステップと、
    前記ＥＯＰ（１５０）を前記ＥＩＰ（１００）の周りから除去するステップと、
    前記ＥＯＰ（１５０）をＥＯＰバッファ・ストック（７５０）の中に貯蔵するステップと
    を含む、請求項１１乃至１３のいずれか一項に記載の方法。
15. 前記ＥＯＰバッファ・ストック（７５０）が前記ストッカ（７００）の一体構成要素として配置され、又は前記ＥＯＰバッファ・ストック（７５０）が前記ストッカ（７００）から分離して、及び／又は前記ストッカ（７００）から間隔を隔てて配置される、請求項１４に記載の方法。
16. 前記貯蔵位置（７４２）から除去する前記ステップ（４１１）の後の前記回収するステップ（４１０）が、
    前記締付けデバイス（２００）を前記ＥＩＰ（１００）から切り離すステップ（４１２）と、
    前記ＥＩＰ構成要素（１１０、１２０）及び前記ＥＩＰ（１００）内に含まれている前記レチクルを互いに対して固定するために前記ＥＩＰ（１００）の周りにＥＯＰ（１５０）を組み立てるステップ（４１３）と、二重ポッドを形成するステップと、
    前記二重ポッドを前記ストッカ（７００）の外側に引き渡すステップ（４１４）と
    を更に含む、請求項１１乃至１５のいずれか一項に記載の方法。
17. 少なくとも一つのＥＵＶレチクルを貯蔵するためのストッカ（７００）であって、前記少なくとも一つのレチクルの各々が一つのそれぞれのＥＵＶ内部ポッド（ＥＩＰ）（１００）の中に貯蔵され、前記ＥＩＰ（１００）が、前記ＥＩＰを完全に覆っていない締付けデバイス（２００）によって互いに対して固定される二つ以上のＥＩＰ構成要素（１１０、１２０）を備え、前記ＥＩＰ（１００）が一つ又は複数のリテーナ（１１４）を備え、前記リテーナ（１１４）が、前記ＥＩＰ（１００）の外側から作用されると、前記ＥＩＰ（１００）の内側に貯蔵されている前記レチクルを前記ＥＩＰ（１００）に対して固定するように構成され、前記締付けデバイス（２００）が前記リテーナ（１１４）に作用して、前記ＥＩＰ（１００）内に貯蔵されている前記レチクルを固定し、前記ストッカ（７００）が、
    エアーロック（７１０）及びアセンブラ（７２０）を備えた装荷ポートと、
    それぞれ一つの締付けデバイス（２００）によって固定され、また、それぞれ一つのレチクルを含んだＥＩＰ（１００）をそれぞれの貯蔵位置（７４２）に貯蔵するように構成された貯蔵ユニット（７４０）と、
    締め付けられた、前記レチクルを含んだ前記ＥＩＰ（１００）を前記ストッカ（７００）の前記貯蔵ユニット（７４０）内のそれぞれの貯蔵位置（７４２）へ、また、それぞれの貯蔵位置（７４２）から移動させるように構成されたハンドラ（７３０）と、
    パージ・ガスを前記貯蔵ユニット（７４０）に供給するように構成されたパージ・ガス供給ユニット（７６０）と
    を備え、
    前記エアーロック（７１０）が、ＥＵＶ外部ポッド（ＥＯＰ）（１５０）及びレチクルを含んだＥＩＰ（１００）を備えた二重ポッドを前記ストッカ（７００）の外側から受け取るように構成され、前記ＥＯＰ（１５０）が前記リテーナ（１１４）に作用し、また、
    前記アセンブラ（７２０）が、ＥＩＰ構成要素（１１０、１２０）及び前記レチクルを互いに対して移動させることなく前記ＥＯＰ（１５０）を開けるように構成され、前記アセンブラ（７２０）が、前記ＥＩＰ構成要素（１１０、１２０）及び前記レチクルを互いに対して移動させることなく前記締付けデバイス（２００）を前記ＥＩＰ（１００）に取り付け、また、前記締付けデバイス（２００）を前記ＥＩＰ（１００）から除去するように構成され、また、前記アセンブラ（７２０）が、締め付けられていない前記ＥＩＰ（１００）の周りにＥＯＰ（１５０）を組み立てるように構成される、
    ストッカ（７００）。
18. 前記ハンドラ７３０が、前記ＥＩＰ（１００）と機械的に接触することなく、請求項９又は１０に記載の貯蔵システム（３００）の中に押し込まれるように構成された二叉フォークを備える、請求項１７に記載のストッカ（７００）。
19. 前記パージ・ガス供給ユニット（７６０）が、詳細には０．２Ｌ／分／レチクルから１Ｌ／分／レチクルの範囲の流量に対応する量、及び／又は１Ｌ／分／レチクルから２０Ｌ／分／レチクルの範囲、とりわけ２Ｌ／分／レチクルから１０Ｌ／分／レチクルの範囲の量に対応する量のパージ・ガスを供給するように構成される、請求項１７又は１８に記載のストッカ。
20. ＥＯＰバッファ・ストック（７５０）を更に備え、前記ＥＯＰバッファ・ストック（７５０）が、ＥＯＰ（１５０）を前記ＥＯＰバッファ・ストック（７５０）の中に置き、また、ＥＯＰ（１５０）を前記ＥＯＰバッファ・ストック（７５０）から回収するように構成されたＥＯＰハンドラを使用して、詳細には前記パージ・ガス供給ユニット（７６０）によって提供される制御された大気中で多数のＥＯＰ（１５０）を貯蔵するように構成される、請求項１７乃至１９のいずれか一項に記載のストッカ（７００）。
21. 請求項１７乃至１９のいずれか一項に記載のストッカ（７００）と、ＥＯＰバッファ・ストック（７５０）であって、ＥＯＰ（１５０）を前記ＥＯＰバッファ・ストック（７５０）の中に置き、また、ＥＯＰ（１５０）を前記ＥＯＰバッファ・ストック（７５０）から回収するように構成されたＥＯＰハンドラを使用して、詳細には前記パージ・ガス供給ユニット（７６０）によって提供される制御された大気中で多数のＥＯＰ（１５０）を貯蔵するように構成され、前記ＥＯＰバッファ・ストック（７５０）が前記ストッカ（７００）から分離して、及び／又は前記ストッカ（７００）から間隔を隔てて配置される、ＥＯＰバッファ・ストック（７５０）とを備えるストッカ・システム。

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