JP2023543415A - 液状水素化ニトリルゴム及びその製造方法と用途 - Google Patents

液状水素化ニトリルゴム及びその製造方法と用途 Download PDF

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Abstract

【課題】本発明は液状水素化ニトリルゴム及びその製造方法と用途を公開する。【解決手段】当該液状水素化ニトリルゴムは、アクリロニトリルの含有量が１５％～５０％、水素化度が７５％～９９．５％、重量平均分子量（Ｍｗ）が３０００～６００００、分子量分布指数（ＰＤＩ）が２．０～８．０、ガラス転移温度（Ｔｇ）が－２８℃未満である。当該液状水素化ニトリルゴムは、低分子量で、分子量分布が比較的広いとともに、加工時の流動性に優れ、硬化後の機械的特性にも優れており、特殊ゴムの分野で独自の応用価値があり；かつその製造方法のプロセスは簡単で実行可能である。【選択図】なし

Description

本発明は液状水素化ニトリルゴム及びその製造方法と用途に関する。
水素化ニトリルゴム（ＨＮＢＲ）は、その優れた性能により、航空宇宙、石油、自動車、及びエネルギーなどで大きな役割を果たしている。
液状水素化ニトリルゴムは、ＨＮＢＲの特殊グレード製品の１つであり、補強充填剤、加硫促進剤などのゴム添加剤と組み合わせることができ、加硫後、弾力性が良く、流動性がより良く、加工がより容易な加硫コムが得られる。さらに、これは、特殊な接着剤、シーラント、及び、特殊な形状を持つ複雑な弾性製品で非常に重要な用途があり、特に、電磁シールドコーティング、耐油コーティング、バッテリー耐食コーティング、シーリングアクセサリ、減衰及びノイズ低減コーティングなどの特殊な複合材料のマトリックス材料として使用できるため、注目されている。
文献報告によると、液状水素化ニトリルゴム（ＬＨＮＢＲ）の製造には２つの技術的ルートがある。その一は液状ニトリルゴム（ＬＮＢＲ）の溶液触媒水素化によって製造し；その二は固体ニトリルゴム（ＬＮＢＲ）に対し、溶解、メタセシス分解、溶液触媒水素化などのプロセスを行うことによって製造する。中国特許ＣＮ１０４２３１１１８Ａ（特許文献１）は、水素化水酸基液状ニトリルゴム及びその製造方法を開示しており、ヒドラジン水和物－ホウ酸－過酸化水素で触媒水素化システムを構成し、液体不均一相反応によって水酸基液状ニトリルゴムの水素化を行い、ゲルがなく、かつ水素化度が９０％超える水素化水酸基液状ニトリルゴムを得た。ＣＮ１０２４８１５６２Ａ（特許文献２）は、液状水素化ニトリルゴムの製造方法を開示しており、製造中、まずニトリルゴムをクロロベンゼン溶媒に溶解し、一定量の１－ヘキセンを添加し、２２℃で２時間攪拌し、次にメタセシス触媒として「１，３－ビス－（２，４，６－トリメチルフェニル）－２－イミダゾリウムメチレン）（トリシクロヘキシルホスフィン）－（フェニルメチレン）ルテニウムジクロリド」（第２世代グラブス触媒）を加え、２２℃で２時間撹拌してニトリルゴムのメタセシス分解反応を完了させ；その後、水素化反応触媒として「トリ（トリフェニルホスフィン）ロジウムクロリド」（ウィルキンソン触媒）を加え、１３８℃で攪拌しながら４時間水素化反応をさせ、分子量（Ｍｗ）が１００００～５００００、分子量分布指数（ＰＤＩ）が２．０未満の液状水素化ニトリルゴムを得た。使用されたウィルキンソン触媒などの一部の水素化還元触媒は、ニトリルゴムの水素化反応中にＮＢＲの炭素－炭素二重結合のみを水素化するため、その水素化反応の結果として、対応する液状水素化ニトリルゴムの分子量分布指数（ＰＤＩ）を変化させることは不可能である。
明らかに、従来の液状水素化ニトリルゴム製造技術にはまだいくつかの欠陥があり、製品の性能と用途に必要な多様性をさらに改善する余地がまだある。ＣＮ１０２４８１５６２Ａ（特許文献２）に開示されている方法のように、製造プロセス全体がメタセシス分解と水素化の２つのプロセス段階を経ており、２つの段階はそれぞれ異なる金属と異なる用途を持つ２種類の触媒を採用しており、最終に得られた産品の分子量分布が比較的狭い（ＰＤＩ＜２．０）と、加工時の流動性と硬化後の機械的特性（例えば弾力性及び強度など）のバランスが取りにくい場合がある。分子量が比較的大きいと、硬化後の機械的特性が良いが、流動性が比較的悪く、製造プロセス中の精製と乾燥が難しいだけでなく、接着剤、シーラント、及び鋳込み成形による特殊な形状を持つ複雑な弾性製品の製造に使用する場合には理想的ではない。
中国特許出願公開第１０４２３１１１８号明細書 中国特許出願公開第１０２４８１５６２号明細書
本発明は、液状水素化ニトリルゴムの加工中の流動性及び硬化後の機械的特性の両方を考慮することが困難であるという従来技術の欠点を解決するために、液状水素化ニトリルゴム及びその製造方法と用途を提供する。本発明の液状水素化ニトリルゴムは、低分子量で分子量分布が広いとともに、加工時の流動性に優れ、硬化後の機械的特性にも優れており、また本発明の製造方法はプロセスが簡便であり実現可能である。
上記の目的を達成するために、本発明は以下の技術方案を採用する：
技術方案のその一：
液状水素化ニトリルゴムであって、
アクリロニトリルの含有量が１５％～５０％であり；
水素化度が７５％～９９．５％であり；
重量平均分子量（Ｍｗ）が３０００～６００００であり；
分子量分布指数（ＰＤＩ）が２．０～８．０であり；
ガラス転移温度（Ｔｇ）が－２８℃未満である。
本発明において、前記液状水素化ニトリルゴムのアクリロニトリルの含有量は、好ましくは１７％～４５％であり、例えば２５％、３３％又は４３％である。
本発明において、前記液状水素化ニトリルゴムの水素化度は、好ましくは８０％～９９％であり、より好ましくは９０％～９９％であり、例えば９１％、９２％、９５％又は９６％である。
本発明において、前記液状水素化ニトリルゴムの重量平均分子量は、好ましくは５０００～５００００であり、より好ましくは８０００～２００００又は２４０００～４６０００である。
本発明において、前記液状水素化ニトリルゴムの分子量分布指数（ＰＤＩ）は、好ましくは２．０～６．０である。
本発明において、前記液状水素化ニトリルゴムのガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは－３５℃未満であり、より好ましくは－４０℃未満である。
本発明において、前記液状水素化ニトリルゴムの補外ガラス転移開始温度（Ｔｉｇ）は－３０℃未満であってもよく、好ましくは－３５℃未満であり、より好ましくは－４５℃未満である。
本発明において、前記液状水素化ニトリルゴムの補外ガラス転移終点温度（Ｔｅｇ）は－２５℃未満であってもよく、好ましくは３０℃未満であり、より好ましくは－３５℃未満である。
本発明において、前記液状水素化ニトリルゴムは、好ましくは式ＩＩＩａ又はＩＩＩｂで表される液状水素化ニトリルゴムであり、
ここで、ｐ＝１～１５０；ｐ’＝１～１５０；ｑ＝３０～５９０；ｑ’＝３０～５９０；ｎ＝２０～５００；ｎ’＝２０～５００である。
本発明において、好ましくは、前記液状水素化ニトリルゴムは、
アクリロニトリルの含有量が１７％～４５％であり；
水素化度が８０％～９９％であり；
重量平均分子量（Ｍｗ）が５０００～５００００であり；
分子量分布指数（ＰＤＩ）が２．０～６．０であり；
ガラス転移温度（Ｔｇ）が－２８℃未満である。
本発明において、好ましくは、前記液状水素化ニトリルゴムは、
アクリロニトリルの含有量が３３％であり；
水素化度が９９％であり；
重量平均分子量（Ｍｗ）が８０００～２００００であり；
分子量分布指数（ＰＤＩ）が２．５～３．５であり；
ガラス転移温度（Ｔｇ）が－３５℃未満である。
本発明において、好ましくは、前記液状水素化ニトリルゴムは、
アクリロニトリルの含有量が２５％～４３％であり；
水素化度が９１％～９９％であり；
重量平均分子量（Ｍｗ）が２４０００～４６０００であり；
分子量分布指数（ＰＤＩ）が２．１～５．６であり；
ガラス転移温度（Ｔｇ）が－２９℃未満である。
本発明の好ましい一実施形態において、前記液状水素化ニトリルゴムは、
アクリロニトリルの含有量が３３％であり；
水素化度が９２％であり；
重量平均分子量（Ｍｗ）が３７０００～３８０００であり；
分子量分布指数（ＰＤＩ）が２．１であり；
ガラス転移温度（Ｔｇ）が－３１．２℃である。
本発明の好ましい一実施形態において、前記液状水素化ニトリルゴムは、
アクリロニトリルの含有量が３３％であり；
水素化度が９６％であり；
重量平均分子量（Ｍｗ）が４４０００～４５０００であり；
分子量分布指数（ＰＤＩ）が２．２であり；
ガラス転移温度（Ｔｇ）が－２．５℃である。
本発明の好ましい一実施形態において、前記液状水素化ニトリルゴムは、
アクリロニトリルの含有量が３３％であり；
水素化度が９９％であり；
重量平均分子量（Ｍｗ）が４５０００～４６０００であり；
分子量分布指数（ＰＤＩ）が２．２であり；
ガラス転移温度（Ｔｇ）が－２９．８℃である。
本発明の好ましい一実施形態において、前記液状水素化ニトリルゴムは、
アクリロニトリルの含有量が３３％であり；
水素化度が９９％であり；
重量平均分子量（Ｍｗ）が２４０００～２５０００であり；
分子量分布指数（ＰＤＩ）が２．４であり；
ガラス転移温度（Ｔｇ）が－３０．９℃である。
本発明の好ましい一実施形態において、前記液状水素化ニトリルゴムは、
アクリロニトリルの含有量が３３％であり；
水素化度が９９％であり；
重量平均分子量（Ｍｗ）が８０００～１００００であり；
分子量分布指数（ＰＤＩ）が２．７であり；
ガラス転移温度（Ｔｇ）が－４２．８℃である。
本発明の好ましい一実施形態において、前記液状水素化ニトリルゴムは、
アクリロニトリルの含有量が３３％であり；
水素化度が９９％であり；
重量平均分子量（Ｍｗ）が１６０００～１７０００であり；
分子量分布指数（ＰＤＩ）が３．３であり；
ガラス転移温度（Ｔｇ）が－３８．８℃である。
本発明の好ましい一実施形態において、前記液状水素化ニトリルゴムは、
アクリロニトリルの含有量が４３％であり；
水素化度が９１％であり；
重量平均分子量（Ｍｗ）が３３０００～３４０００であり；
分子量分布指数（ＰＤＩ）が４．３であり；
ガラス転移温度（Ｔｇ）が－３０．２℃である。
本発明の好ましい一実施形態において、前記液状水素化ニトリルゴムは、
アクリロニトリルの含有量が２５％であり；
水素化度が９５％であり；
重量平均分子量（Ｍｗ）が３３０００～３４０００であり；
分子量分布指数（ＰＤＩ）が５．６であり；
ガラス転移温度（Ｔｇ）が－３２．９℃である。
技術方案のその二：
液状水素化ニトリルゴムの製造方法であって、不活性ガス保護下、有機溶媒中、触媒の作用下で、ニトリルゴムの分解反応と水素化還元反応を順次行うか、又はニトリルゴムの水素化還元反応を行い、液状水素化ニトリルゴムを得る工程を含み；ここで、前記触媒は、一般式Ｉで示されるジャン触媒（Ｚｈａｎ Ｃａｔａｌｙｓｔｓ）のうちの１つ又は複数を含む：
本発明において、前記一般式ＩはＣＮ２００９１０１７５７９０．６、ＵＳ１２６８４４１０及びＷＯ２０１１０７９４３９Ａ１のすべてに記載されており、一般式Ｉにおける各置換基の定義はＣＮ２００９１０１７５７９０．６、ＵＳ１２６８４４１０及びＷＯ２０１１０７９４３９Ａ１を参照する。
一般式Ｉにおいて、Ｌは電子供与錯体配位子であり；例えばＬは－ＰＣｙ３又は
であってもよく；
Ｌ１及びＬ２は独立してハロゲンであり；
ｎ＝０又は１であり；
ｎ＝１の場合、Ｙ１は独立して窒素、酸素、硫黄、ＣＨ２、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールオキシ、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環式アリール、カルボニル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルコキシに結合したカルボニル、イミノ、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルイミノ又は式ＲｃＲｄＮ－で示されるアミノであり；ここで、Ｒｃ及びＲｄは独立して水素、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルホルミル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールホルミル又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ホルミルであり；或いはＲｃ、Ｒｄ及びＮ原子が結合して環を形成し；
Ｘは窒素、酸素、硫黄、ＣＨ、ＣＨ２又はカルボニルであり；
Ｙは窒素、酸素、ＣＨ、メチレン、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルコキシ、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールオキシ、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環式アリール、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルコキシに結合したカルボニル、イミノ、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルイミノ又は式ＲｃＲｄＮ－で示される基であり；ここで、Ｒｃ及びＲｄは独立して水素、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルホルミル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールホルミル又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ホルミルであり；或いはＲｃ、Ｒｄ及びＮ原子が結合して環を形成し；Ｘで表される基が結合している親体はＹであり、Ｙで表される基が結合している親体はＸであり、
の間は単結合又は二重結合であり；
Ｒ１は水素、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルコキシ、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールオキシ又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基であり；
Ｒ２は水素、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルコキシ、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルチオ、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルシロキシ、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシ、アルデヒド基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基に結合したカルボニル又は式ＲｃＲｄＮ－で示される基であり；ここで、Ｒｃ及びＲｄは独立して水素、ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルホルミル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールホルミル又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ホルミルであり；或いはＲｃ、Ｒｄ及びＮ原子が結合して環を形成し；
Ｅは水素、ハロゲン、ニトロ、ニトリル、スルホキシド、スルホン基、アルデヒド基、Ｃ１－Ｃ２０アルキル、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシ、Ｃ１－Ｃ２０アルキルチオ、Ｃ１－Ｃ２０アルキル珪素基、Ｃ１－Ｃ２０アルキルシロキシ、Ｃ２－Ｃ２０複素環基、Ｃ６－Ｃ２０アリール、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシ、Ｃ１－Ｃ２０アルキルに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールに結合したカルボニル、Ｃ２－Ｃ２０複素環基に結合したカルボニル、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０複素環基オキシに結合したカルボニル、アミノアシル、Ｃ１－Ｃ２０アルキルアミノに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールアミノに結合したカルボニル、Ｃ２－Ｃ２０複素環基アミノに結合したカルボニル、ウレイド、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルウレイド、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールウレイド、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ウレイド、Ｃ１－Ｃ２０アルキルアミノに結合したスルホニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールアミノに結合したスルホニル、Ｃ２－Ｃ２０複素環基アミノに結合したスルホニル又は式ＲｃＲｄＮ－で示される基であり；ここで、Ｒｃ及びＲｄは独立して水素、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルホルミル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールホルミル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールスルホニル又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基スルホニルであり；或いはＲｃ、Ｒｄ及びＮ原子が結合して環を形成し；
Ｅ１は水素、ハロゲン、ニトロ、ニトリル、Ｃ１－Ｃ２０アルキル、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシ、Ｃ１－Ｃ２０アルキルチオ、Ｃ１－Ｃ２０アルキル珪素基、Ｃ１－Ｃ２０アルキルシロキシ、Ｃ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のアミノ、アミノアシル、Ｃ１－Ｃ２０アルキルアミノに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリール、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシ、スルホキシド、スルホン基、アルデヒド基、Ｃ１－Ｃ２０アルキルに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基に結合したカルボニル、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシに結合したカルボニル、Ｃ２－Ｃ２０複素環基オキシに結合したカルボニル、ウレイド、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルウレイド、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールウレイド又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ウレイドであり；
Ｅ２は水素、ハロゲン、Ｃ１－Ｃ２０アルキル、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシ、Ｃ１－Ｃ２０アルキルチオ、Ｃ１－Ｃ２０アルキル珪素基、Ｃ１－Ｃ２０アルキルシロキシ、アミノアシル、Ｃ１－Ｃ２０アルキルアミノに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールアミノに結合したカルボニル、Ｃ２－Ｃ２０複素環基アミノに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリール、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシ、Ｃ２－Ｃ２０複素環式アリール、アルデヒド基、Ｃ１－Ｃ２０アルキルに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールに結合したカルボニル、Ｃ２－Ｃ２０複素環基に結合したカルボニル、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシに結合したカルボニル、Ｃ２－Ｃ２０複素環基オキシに結合したカルボニル又は式ＲｃＲｄＮ－で示される基であり；ここで、Ｒｃ及びＲｄは独立して水素、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルホルミル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールホルミル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールスルホニル又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基スルホニルであり；或いはＲｃ、Ｒｄ及びＮ原子が結合して環を形成し；
Ｅ３は水素、ハロゲン、Ｃ１－Ｃ２０アルキル、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシ、Ｃ１－Ｃ２０アルキルチオ、Ｃ１－Ｃ２０アルキルシロキシ、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシ、Ｃ６－Ｃ２０アリール、Ｃ２－Ｃ２０複素環式アリール、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールオキシに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０複素環基オキシに結合したカルボニル又は式ＲｃＲｄＮ－で示される基であり；ここで、Ｒｃ及びＲｄは独立して水素、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルホルミル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールホルミル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールスルホニル又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基スルホニルであり；或いはＲｃ、Ｒｄ及びＮ原子が結合して環を形成し；
Ｅ４、Ｅ５、Ｅ６及びＥ７は独立して水素、ハロゲン、ニトロ、ニトリル、スルホキシド、スルホン基、アルデヒド基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルコキシ、Ｃ１－Ｃ２０アルキルチオ、Ｃ１－Ｃ２０アルキル珪素基、Ｃ１－Ｃ２０アルキルシロキシ、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のアミノ、アミノアシル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルアミノに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールアミノに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基アミノに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基に結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルコキシに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールオキシに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０複素環基オキシに結合したカルボニル、ウレイド、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルウレイド、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールウレイド、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ウレイド、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールオキシ又は式ＲｃＲｄＮ－で示される基であり；ここで、Ｒｃ及びＲｄは独立して水素、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルホルミル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールホルミル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールスルホニル又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基スルホニルであり；或いはＲｃ、Ｒｄ及びＮ原子が結合して環を形成する。
本発明において、前記的一般式Ｉは、好ましくは下記の化合物のうちの１つ又は複数を含む：
前記的一般式Ｉは、好ましくは式４ａａ、４ａｂ、４ｆ又は４ｖであり、より好ましくは式４ａａ又は４ｖである。
本発明において、前記ニトリルゴムとは、ブタジエンとアクリロニトリルを共重合させて得られたゴムを指す。
本発明において、前記ニトリルゴムのアクリロニトリルの含有量は、１５％～５０％であってもよく、好ましくは１７％～４５％であり、例えば２５％、３３％又は４３％である。
本発明において、好ましくは、前記ニトリルゴムの重量平均分子量は３０００～６００００である。この場合、前記ニトリルゴムは、ニトリルゴムの直接水素化還元反応を行う場合に適した液状ニトリルゴムであってもよい。
本発明において、好ましくは、前記ニトリルゴムのムーニー粘度は３０～６０である。この場合、前記ニトリルゴムは、ニトリルゴムの分解反応と水素化還元反応を順次行う場合に適した固体ニトリルゴムであってもよい。
本発明において、前記ニトリルゴムの分子量分布指数（ＰＤＩ）は２．０～８．０であってもよい。
本発明において、好ましくは、前記ニトリルゴムの構造は、以下の式ＩＩ、ＩＩａ又はＩＩｂで示される：
ここで、
式ＩＩのニトリルゴムは固体ニトリルゴムを表し、そのうち、ｊ＝１００～６０００であり、例えば２００～６０００、又は３００～６０００、又は４００～６０００、又は５００～６０００、又は６００～６０００、又は８００～６０００、又は１，２００～６０００、又は２０００～６０００であってもよく；ｋ＝５０～５０００であり、例えば３００～５０００、又は５００～５０００、又は８００～５０００、又は１０００～５０００、又は２０００～５０００であってもよく；
式ＩＩａのニトリルゴムは工業化プロセスによって合成され、かつ市場で購入できる液状ニトリルゴムを表し、これをさらに水素化して液状水素化ニトリルゴムを得ることができ、式ＩＩａにおいてｍ＝３０～６００であり、例えば３０～５００、又は３０～４００、又は３０～３００、又は３０～２００、又は３０～１００、又は５０～８０であってもよく；ｎ＝２０～５００であり、例えば２０～４５０、又は２０～４００、又は３０～３００、又は４０～２００、又は５０～１００、又は６０～８０であってもよく；
式ＩＩｂのニトリルゴムは、式ＩＩの固体ニトリルゴムを分解することによって得られる液状ニトリルゴムを表し、これをさらに水素化して液状水素化ニトリルゴムを得ることができ、式ＩＩｂにおいてｍ’＝３０～６００であり、例えば３０～５００、又は３０～４００、又は３０～３００、又は３０～２００、又は３０～１００、又は５０～８０であってもよく；ｎ’＝２０～５００であり、例えば２０～４５０、又は２０～４００、又は３０～３００、又は４０～２００、又は５０～１００、又は６０～８０であってもよい。
本発明の一実施形態によれば、ｊ＞ｍ’；ｋ＞ｎ’である。
本発明において、ニトリルゴムＩＩａ及びニトリルゴムＩＩｂは液状ニトリルゴムであってもよく、ニトリルゴムＩＩは固体ニトリルゴムであってもよい。
本発明において、前記ジャン触媒の用量は、当分野における従来の方法に従って選択することができ、好ましくは０．００５％～０．１％であり、より好ましくは０．０１％～０．０５％であり、前記百分率は、前記ジャン触媒が前記ニトリルゴムに占める質量百分率である。
本発明において、前記分解反応の温度は、好ましくは６０～１００℃であり、より好ましくは８０℃である。前記分解反応の時間は、当分野における従来の方法に従って選択することができ、好ましくは０．５～１０ｈであり、より好ましくは１～６ｈであり、より好ましくは２～３ｈである。
本発明において、前記水素化還元反応における水素の用量は、当分野のこの種の反応での通常の用量であり、好ましくは反応系の圧力が２～１５ＭＰａに達し、より好ましくは６～１０Ｍｐａ、例えば８ＭＰａに達するようにする量である。
本発明において、前記水素化還元反応の温度は、この種の反応での通常の温度であることができ、好ましくは８０～２００℃であり、より好ましくは１００～１８０℃であり、さらに好ましくは１３０～１６０℃であり、例えば１５０℃である。前記水素化還元反応の時間は当分野における従来の方法に従って選択することができ、２～６ｈであってもよい。
本発明において、前記有機溶媒は当分野のこの種の反応での通常の溶媒であることができ、例えばクロロホルム、二塩化エチレン、アセトン及びクロロベンゼンのうちの１種又は複数種であり；好ましくはクロロベンゼン、二塩化エチレン及びクロロホルムのうちの１種又は複数種であり；より好ましくはクロロベンゼン又は二塩化エチレンであり；最も好ましくはクロロベンゼンである。前記有機溶媒の用量は当分野における従来の方法に従って選択することができ、好ましくは１００～３００ｇニトリルゴム／１Ｌ有機溶媒であり、例えば１２０ｇ、１６０ｇ、２００ｇ又は２４０ｇニトリルゴム／１Ｌ有機溶媒である。
本発明において、前記不活性ガスは当分野のこの種の反応での通常の不活性ガスであってもよく、例えばアルゴン（Ａｒ）或いは窒素である。
本発明において、前記水素化還元反応終了後に、後処理を行うことが好ましい。前記後処理は当分野における従来の方法で行うことができ、一般に負圧下で有機溶媒を除去すればよい。前記後処理の温度は１００～１５０℃であってもよく、好ましくは１３０～１４０℃である。
本発明の好ましい一実施形態において、前記液状水素化ニトリルゴムの製造方法の反応の流れはルート－１で示されるように、不活性ガス保護下、有機溶媒中、水素を供給し、水素を供給すると同時に又は水素を供給した後に前記ジャン触媒を加え、ニトリルゴムＩＩａの水素化還元反応を行って液状水素化ニトリルゴムＩＩＩａを得る。ここで、ｍ、ｎ、ｐ及びｑの定義は上記の通りである。
本発明の別の好ましい一実施形態において、前記液状水素化ニトリルゴムの製造方法の反応の流れはルート－２に示されるように、不活性ガス保護下、有機溶媒中、前記ジャン触媒を加え、ニトリルゴムＩＩの分解反応を行ってニトリルゴムＩＩｂを得；さらに水素を供給し、ニトリルゴムＩＩｂの水素化還元反応を行って液状水素化ニトリルゴムＩＩＩｂを得る。ここで、ｊ、ｋ、ｍ’、ｎ’、ｐ’及びｑ’の定義は上記の通りである。
技術方案のその三：
前記液状水素化ニトリルゴムの製造方法によって製造された液状水素化ニトリルゴム。
技術方案のその四：
不活性ガス保護下、有機溶媒中、一般式Ｉで示されるジャン触媒の作用下で、ニトリルゴムの分解反応を行う工程を含むニトリルゴムの分解方法：
ここで、前記ジャン触媒の種類及び用量はすべて上記の通りである。
ここで、前記ニトリルゴムは上記の通りである。
ここで、前記分解反応の温度及び時間はすべて上記の通りである。
ここで、前記有機溶媒の種類及び用量はすべて上記の通りである。
ここで、前記不活性ガスはすべて上記の通りである。
本発明の好ましい一実施形態において、前記ニトリルゴムの分解方法の反応の流れはルート－３で示されるように、不活性ガス保護下、有機溶媒中、前記ジャン触媒を加え、ニトリルゴムＩＩの分解反応を行ってニトリルゴムＩＩｂを得る；ここで、ｊ、ｋ、ｍ’及びｎ’の定義は上記の通りである。
技術方案のその五：
前記液状水素化ニトリルゴム、充填剤及び加硫剤を含むゴムコンパウンド。
本発明において、前記充填剤は当分野における従来のものであってもよく、好ましくはカーボンブラック及び／又はホワイトカーボンブラックである。前記カーボンブラックは、好ましくはカーボンブラックＮ２２０、カーボンブラックＮ－３３０、カーボンブラックＮ５５０又はカーボンブラックＮ７７４である。前記ホワイトカーボンブラックは、好ましくは沈降ホワイトカーボンブラック、ヒュームドホワイトカーボンブラック又は塩基性ホワイトカーボンブラックである。前記沈降ホワイトカーボンブラックとは、沈降水＆シリカを指す。前記ヒュームドホワイトカーボンブラックとはヒュームドシリカを指す。前記塩基性ホワイトカーボンブラックは、好ましくは塩基性ホワイトカーボンブラックＡＳ－７０である。前記塩基性ホワイトカーボンブラックＡＳ－７０は、シリカの質量分数が０．８％であるケイ酸アルミニウムナトリウムとシリカの混合物である。
本発明において、前記加硫剤は当分野における従来のものであってもよく、好ましくは、１，４－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシイソプロピル）ベンゼン（商品名Ｆ－４０）である。
本発明において、前記ゴムコンパウンドはさらに、加硫助剤、ステアリン酸、酸化マグネシウム、促進剤及び老化防止剤のうちの１種又は複数種の、前記加硫剤以外の当分野における他の従来のゴム配合成分を含むことができる。
ここで、前記加硫助剤は、好ましくはＮ，Ｎ’－ｍ－フェニレンビスマレイミド（商品名ＰＤＭ）である。
前記促進剤は、好ましくは２－メルカプトベンゾイミダゾール亜鉛塩（ＭＢＺ）である。
前記老化防止剤は、好ましくは４，４’－ビス（ジメチルベンジル）ジフェニルアミン（老化防止剤４４５）である。
本発明の好ましい一実施形態において、前記ゴムコンパウンドは、質量部で、液状水素化ニトリルゴム１００部、カーボンブラックＮ－３３０ ５０部、ホワイトカーボンブラックＡＳ－７０ １０部、１，４－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシイソプロピル）ベンゼン（Ｆ－４０）１４部、Ｎ，Ｎ’－ｍ－フェニレンビスマレイミド（ＰＤＭ）０．５部、ステアリン酸０．５部、酸化マグネシウム６部、２－メルカプトベンゾイミダゾール亜鉛塩（ＭＢＺ）０．５重量部及び４，４’－ビス（ジメチルベンジル）ジフェニルアミン（老化防止剤４４５）１．０重量部を含む。
本発明において、前記ゴムコンパウンドは、一般に各成分を混練することを含む、当分野における従来の方法によって製造することができる。前記混練は、当分野における従来の方法を使用して密閉式ミキサーで行うことができる。前記混練は、好ましくは段階的混練である。
技術方案のその六：
前記ゴムコンパウンドを加硫することによって製造された加硫ゴム。
本発明において、前記加硫は、当分野における従来の方法により行うことができる。前記加硫は、好ましくは、電熱板加硫機を用いて、前記ゴムコンパウンドを１８０℃×８分の条件で第１回の加硫を行い；さらに、第１回の加硫で得られた生成物を１５０℃×４時間の条件で第２回の加硫を行った後、常温に冷却して加硫ゴムを得る。
本発明において、前記加硫ゴムのショア硬度は６０以上であってもよく、好ましくは８０以上である。前記加硫ゴムの破断強度は４～８ＭＰａであってもよい。前記加硫ゴムの破断点伸びは、１６０以上であってもよく、好ましくは１９０以上である。前記加硫ゴムの１００％モジュラスは３～４ＭＰａであってもよい。
技術方案のその七：
工業製品における前記液状水素化ニトリルゴム、前記ゴムコンパウンド又は前記加硫ゴムの用途。
ここで、前記工業製品は、好ましくはシーラント、接着剤、コーティング、ポッティング材、又は弾性製品を含む。前記コーティングは、好ましくは電磁シールドコーティング、耐油コーティング、バッテリー耐食コーティング、又は減衰及びノイズ低減コーティングである。前記接着剤は、好ましくは固体噴射剤結合剤又はアブレーション材料結合剤である。前記弾性製品は、特に特殊な形状を持つ複雑な弾性製品である。
用語の定義
アクリロニトリルの含有量（ＡＣＮ％）：ニトリルゴム又は水素化ニトリルゴム中のポリアクリロニトリルセグメントの質量百分率の含有量を指す。
水素化度（Ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｉｏｎ Ｄｅｇｒｅｅ）：ポリマー中のオレフィン二重結合の水素化度を指し、ヨウ素価法で表される。
分子量分布指数（ＰＤＩ）：ポリマーの重量平均分子量と数平均分子量の比率が多分散性指数、即ち、分子量分布指数（ＰＤＩ）と呼ばれる。
ムーニー粘度：本発明に記載されるムーニー粘度とは、ムーニー粘度［ＭＬ（１＋４）１００℃］であり、ゴムの平均分子量及び可塑性を測る指標である。
ガラス転移温度（Ｔｇ）：高弾性状態からガラス状態に変化する温度、またはガラス状態から高弾性状態に変化する温度を指す。ガラス転移は、非晶質高分子材料の固有の特性であり、高分子の運動形態の変化を巨視的に表したものであり、材料の使用性能とプロセス性能に直接影響する。ガラス転移温度（Ｔｇ）は、補外ガラス転移開始温度（Ｔｉｇ）と補外ガラス転移終点温度（Ｔｅｇ）との間にある。
上記の好ましい各条件は、当該分野の常識に基づき、任意に組み合わせて本発明の好ましい各実施例を得ることができる。
本発明で使用する試薬及び原料はすべて市販品として入手される。
本発明の積極的な進歩効果は以下の通りである：
１．本発明では、ジャン触媒を使用し、独特の触媒分解反応及び／又は水素化還元反応の技術によって製造した液状水素化ニトリルゴムは、低分子量（Ｍｗ３０００～６００００）で、分子量分布が比較的広い（ＰＤＩ＝２．０～８．０）とともに、加工時の流動性に優れ、加硫後の機械的特性にも優れており、特殊ゴムの分野で独自の応用価値がある。
２．本発明の製造技術によって提供される方法は、従来技術の製造プロセスを簡素化し、同じ金属触媒システムを使用して、分解と水素化還元を同じプロセスで一度に完了することができ、さまざまな用途向けの液状水素化ニトリルゴムを効率的かつ簡単に製造することができ、液状水素化ニトリルゴムの応用分野を広げ、明らかな技術的利点を持っている。
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明は前記実施例の範囲に限定されるものではない。以下の実施例に具体的な条件が示されない実験方法は、従来の方法及び条件に従って、又は商品の説明書に従って実施された。
以下の実施例で使用されるジャン触媒は、一般式Ｉ中の化合物４ａａ又は４ｖであり、同社の認可された特許ＣＮ２００９１０１７５７９０．６に記載されており、具体的な構造式は次の通りである。
以下の実施例に係わる原料ニトリルゴム、産品である液状水素化ニトリルゴムの生ゴム、及びゴムコンパウンドの関連する特性パラメータはすべて、次の方法試験に従って測定、表現される。
（１）アクリロニトリルの含有量：標準ＳＨ／Ｔ１１５７．２－２０１５≪生ゴムのアクリロニトリル－ブタジエンゴム（ＮＢＲ）中の結合アクリロニトリル含有量の測定 第２部：ケルダール法≫に規定された方法に従って測定され、ＮＭＲ試験評価方法が補助検証方法として行われた。
（２）水素化度：標準ＳＨ／Ｔ１７６３≪ニトリルゴムの水素化ニトリルゴム（ＨＮＢＲ）における残留不飽和度の測定 ヨウ素価法≫に規定された方法に従って測定された。
（３）ガラス転移温度（Ｔｇ）：ＤＳＣ８５００型示差走査熱量計を使用して、標準ＧＢ／Ｔ２９６１１－２０１３≪生ゴムのガラス転移温度の測定 示差走査熱量測定（ＤＳＣ）≫に規定された方法に従って測定された。
（４）分子量及分子量分布指数（ＰＤＩ）：ＥＣＳ０００１１３常温ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（Ｚ－１６０１）を使用して、標準ＧＢ／Ｔ２１８６３－２００８≪ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ） テトラヒドロフランを溶出溶媒とする≫に規定された方法に従って測定された。
実施例１
窒素置換の条件下、１Ｌステンレス製反応器に１００ｇのニトリルゴム［アクリロニトリルの質量含有率が３３％、ムーニー粘度ＭＬ（１＋４）１００℃が３５である］、及び５００ｍＬの無水クロロベンゼンを加え、６０℃で窒素密封条件下で完全に溶解した後、ニトリルゴムの０．０３％の量で「ジャン触媒」（４ｖ）を加え、８０℃でニトリルゴムの分解反応を行い、１．５時間反応させて、液状ニトリルゴムの分解物が得られ；その後、圧力が８ＭＰａに達するまで水素を供給した後、１５０℃まで昇温し、４時間反応させて液状水素化ニトリルゴム溶液が得られた。水素化反応生成物の溶液からクロロベンゼン溶媒を１３０℃、負圧下で除去した後、液状水素化ニトリルゴムの生ゴムが得られ、産品の収率は＞９８％であった。
得られた液状水素化ニトリルゴムの生ゴムの特性パラメータは、分子量（Ｍｗ）が３７９５０、分子量分布指数が２．１、アクリロニトリルの含有量が３３％、水素化度が９２％（ヨウ素価：２４）、ガラス転移温度（Ｔｇ）が－３１．２℃（Ｔｉｇ：－３１．７℃；Ｔｅｇ：－２６．９℃）であった。
実施例２
窒素置換の条件下、１Ｌステンレス製反応器に１００ｇのニトリルゴム［アクリロニトリルの質量含有率が３３％、ムーニー粘度ＭＬ（１＋４）１００℃が３５である］、及び５００ｍＬの無水クロロベンゼンを加え、６０℃で窒素密封条件下で完全に溶解した後、ニトリルゴムの０．０４％の量で「ジャン触媒」（４ｖ）を加え、８０℃でニトリルゴムの分解反応を行い、１時間反応させて、液状ニトリルゴムが得られ；その後、圧力が８ＭＰａに達するまで水素を供給した後、１５０℃まで昇温し、５時間反応させて液状水素化ニトリルゴム溶液が得られた。水素化反応生成物の溶液からクロロベンゼン溶媒を１３０℃、負圧下で除去した後、液状水素化ニトリルゴムの生ゴムが得られ、産品の収率は＞９８％であった。
得られた液状水素化ニトリルゴムの生ゴムの特性パラメータは、分子量（Ｍｗ）が４４９６０、分子量分布指数が２．２、アクリロニトリルの含有量が３３％、水素化度が９６％（ヨウ素価：１４）、ガラス転移温度（Ｔｇ）が－３２．５℃（Ｔｉｇ：－３６．１℃；Ｔｅｇ：－２８．８℃）であった。
実施例３
窒素置換の条件下、１Ｌステンレス製反応器に１００ｇのニトリルゴム［アクリロニトリルの質量含有率が３３％、ムーニー粘度ＭＬ（１＋４）１００℃が３５である］、及び５００ｍＬの無水クロロベンゼンを加え、６０℃で窒素密封条件下で完全に溶解した後、ニトリルゴムの０．０５％の量で「ジャン触媒」（４ｖ）を加え、８０℃でニトリルゴムの分解反応を行い、１時間反応させて、液状ニトリルゴムが得られ；その後、圧力が８ＭＰａに達するまで水素を供給した後、１５０℃まで昇温し、６時間反応させて水素化度の高い液状水素化ニトリルゴム溶液が得られた。水素化反応生成物の溶液からクロロベンゼン溶媒を１３０℃、負圧下で除去した後、液状水素化ニトリルゴムの生ゴムが得られ、産品の収率は＞９８％であった。
得られた液状水素化ニトリルゴムの生ゴムの特性パラメータは、分子量（Ｍｗ）が４５１４０、分子量分布指数が２．２、アクリロニトリルの含有量が３３％、水素化度が９９％（ヨウ素価：８）、ガラス転移温度（Ｔｇ）が－２９．８℃（Ｔｉｇ：－３３．５℃；Ｔｅｇ：－２６．２℃）であった。
実施例４
窒素置換の条件下、１Ｌステンレス製反応器に１００ｇのニトリルゴム［アクリロニトリルの質量含有率が３３％、ムーニー粘度ＭＬ（１＋４）１００℃が３５である］、及び５００ｍＬの無水クロロベンゼンを加え、６０℃で窒素密封条件下で完全に溶解した後、ニトリルゴムの０．０６％の量で「ジャン触媒」（４ｖ）を加え、８０℃でニトリルゴムの分解反応を行い、２時間反応させて、液状ニトリルゴムが得られ；その後、圧力が８ＭＰａに達するまで水素を供給した後、１５０℃まで昇温し、６時間反応させて水素化度の高い液状水素化ニトリルゴム溶液が得られた。水素化反応生成物の溶液からクロロベンゼン溶媒を１３０℃、負圧下で除去した後、液状水素化ニトリルゴムの生ゴムが得られ、産品の収率は＞９８％であった。
得られた液状水素化ニトリルゴムの生ゴムの特性パラメータは、分子量（Ｍｗ）が２４３５０、分子量分布指数が２．４、アクリロニトリルの含有量が３３％、水素化度が９９％（ヨウ素価：８）、ガラス転移温度（Ｔｇ）が－３０．９℃（Ｔｉｇ：－３１．５℃；Ｔｅｇ：－２７．２℃）であった。
実施例５
窒素置換の条件下、１Ｌステンレス製反応器に１００ｇのニトリルゴム［アクリロニトリルの質量含有率が３３％、ムーニー粘度ＭＬ（１＋４）１００℃が３５である］、及び５００ｍＬの無水クロロベンゼンを加え、６０℃で窒素密封条件下で完全に溶解した後、ニトリルゴムの０．０６％の量でジャン触媒（４ｖ）を加え、８０℃でニトリルゴムの分解反応を行い、２．５時間反応させて、液状ニトリルゴムが得られ；その後、圧力が８ＭＰａに達するまで水素を供給した後、１５０℃まで昇温し、６時間反応させて水素化度の高い液状水素化ニトリルゴム溶液が得られた。水素化反応生成物の溶液からクロロベンゼン溶媒を１３０℃、負圧下で除去した後、液状水素化ニトリルゴムの生ゴムが得られ、産品の収率は＞９８％であった。
得られた液状水素化ニトリルゴムの生ゴムの特性パラメータは、分子量（Ｍｗ）が８２１０、分子量分布指数が２．７、アクリロニトリルの含有量が３３％、水素化度が９９％（ヨウ素価：８）、ガラス転移温度（Ｔｇ）が－４２．８℃（Ｔｉｇ：－４９．８℃；Ｔｅｇ：－３６．２℃）であった。
実施例６
窒素置換の条件下、１Ｌステンレス製反応器に１００ｇの液状ニトリルゴム［アクリロニトリルの質量含有率が３３％、分子量（Ｍｗ）が１５７８０、分子量分布指数が３．２である］、及び５００ｍＬの無水クロロベンゼンを加え、６０℃、窒素密封条件下でニトリルゴムの０．０３％の量でジャン触媒（４ａａ）を加え、その後、圧力が８ＭＰａに達するまで水素を供給した後、１５０℃まで昇温し、４時間反応させて水素化度の高い液状水素化ニトリルゴム溶液が得られた。水素化反応生成物の溶液からクロロベンゼン溶媒を１３０℃、負圧下で除去した後、液状水素化ニトリルゴムの生ゴムが得られ、産品の収率は＞９８％であった。
得られた液状水素化ニトリルゴムの生ゴムの特性パラメータは、分子量（Ｍｗ）が１６２５０、分子量分布指数が３．３、アクリロニトリルの含有量が３３％、水素化度が９９％（ヨウ素価：７）、ガラス転移温度（Ｔｇ）が－３８．８℃（Ｔｉｇ：－４４．５℃；Ｔｅｇ：－３３．９℃）であった。
実施例７
窒素置換の条件下、１Ｌステンレス製反応器に１００ｇの液状ニトリルゴム［アクリロニトリルの質量含有率が４３％、分子量（Ｍｗ）が３２６６０、分子量分布指数が４．３である］、及び５００ｍＬの無水クロロベンゼンを加え、６０℃、窒素密封条件下でニトリルゴムの０．０２％の量でジャン触媒（４ａａ）を加え、その後、圧力が８ＭＰａに達するまで水素を供給した後、１５０℃まで昇温し、３時間反応させて水素化度の高い液状水素化ニトリルゴム溶液が得られた。水素化反応生成物の溶液からクロロベンゼン溶媒を１３０℃、負圧下で除去した後、液状水素化ニトリルゴムの生ゴムが得られ、産品の収率は＞９８％であった。
得られた液状水素化ニトリルゴムの生ゴムの特性パラメータは、分子量（Ｍｗ）が３３４２０、分子量分布指数が４．３、アクリロニトリルの含有量が４３％、水素化度が９１％（ヨウ素価：２５）、ガラス転移温度（Ｔｇ）が－３０．２℃（Ｔｉｇ：－３４．７℃；Ｔｅｇ：－２６．９℃）であった。
実施例８
窒素置換の条件下、１Ｌステンレス製反応器に１００ｇの液状ニトリルゴム［アクリロニトリルの質量含有率が２５％、分子量（Ｍｗ）が３２７７０、分子量分布指数が５．５である］、及び５００ｍＬの無水クロロベンゼンを加え、６０℃、窒素密封条件下でニトリルゴムの０．０３％の量でジャン触媒（４ａａ）を加え、その後、圧力が８ＭＰａに達するまで水素を供給した後、１５０℃まで昇温し、４時間反応させて水素化度の高い液状水素化ニトリルゴム溶液が得られた。水素化反応生成物の溶液からクロロベンゼン溶媒を１３０℃、負圧下で除去した後、液状水素化ニトリルゴムの生ゴムが得られ、産品の収率は＞９８％であった。
得られた液状水素化ニトリルゴムの生ゴムの特性パラメータは、分子量（Ｍｗ）が３３９５０、分子量分布指数が５．６、アクリロニトリルの含有量が２５％、水素化度が９５％（ヨウ素価：１３）、ガラス転移温度（Ｔｇ）が－３２．９℃（Ｔｉｇ：－３６．６℃；Ｔｅｇ：－２９．４℃）であった。
実施例９
１．加硫ゴムの調製
前記ゴムコンパウンドは、質量部で、液状水素化ニトリルゴム（実施例３で得られた生ゴム）１００部、Ｆ－４０ １４部、ＰＤＭ ０．５部、ステアリン酸０．５部、酸化マグネシウム６部、カーボンブラックＮ－３３０ ５０部、ホワイトカーボンブラックＡＳ－７０ １０部、ＭＢＺ ０．５重量部及び老化防止剤４４５ １．０重量部を含む。
以下のプロセス手順に従ってゴムコンパウンド及び加硫ゴムを調製した。
（１）混練：まず、前記ゴムコンパウンドの各成分を混練機に投入し、３０～６０℃で８～１０分間混練した後、ゴムを強制的に除去し；次に、第１回の混練で得られたゴムコンパウンドを、オープンミル又は３本ロールミルで３～５回薄く通過又は研磨し、排出後、１２時間置かれて、所要のゴムコンパウンドが得られた。
（２）加硫：電熱板加硫機を用いて、前記ゴムコンパウンドを１８０℃×８分の条件で第１回の加硫を行い；さらに、第１回の加硫で得られた生成物を１５０℃×４時間の条件で第２回の加硫を行った後、常温に冷却して加硫ゴムを得た。
２．加硫ゴムの性能試験
ＧＢ／Ｔ５３１．１－２００８に従って、ＧＳＤ－７１９Ｋ型のゴム硬度計でショアＡ硬度（ショア硬度）を試験し；ＧＢ／Ｔ５２８－２００９、ＧＢ／Ｔ５２９－２００８及びＧＢ／Ｔ５３２－２００８の試験標準に従って、それぞれ、ＡＩ－７０００－ＬＵ型の電子引張試験機で引張性能と破壊性能を試験した。性能試験の結果は表１に示される。
実施例１０
実施例４で得られた液状水素化ニトリルゴムの生ゴムを使用した以外、他の調製手順及び条件はすべて実施例９と同様にして、加硫ゴムを調製した。その性能試験結果は表２に示される。

Claims (10)

  1. アクリロニトリルの含有量が１５％～５０％であり；
    水素化度が７５％～９９．５％であり；
    重量平均分子量が３０００～６００００であり；
    分子量分布指数が２．０～８．０であり；
    ガラス転移温度が－２８℃未満である、液状水素化ニトリルゴム。
  2. 前記液状水素化ニトリルゴムのアクリロニトリルの含有量が１７％～４５％であり、例えば２５％、３３％又は４３％であり；
    及び／又は、前記液状水素化ニトリルゴムの水素化度が８０％～９９％であり、好ましくは９０％～９９％であり、例えば９１％、９２％、９５％又は９６％であり；
    及び／又は、前記液状水素化ニトリルゴムの重量平均分子量が５０００～５００００であり、好ましくは８０００～２００００又は２４０００～４６０００であり；
    及び／又は、前記液状水素化ニトリルゴムの分子量分布指数が２．０～６．０であり；
    及び／又は、前記液状水素化ニトリルゴムのガラス転移温度が－３５℃未満であり、好ましくは－４０℃未満であり；
    及び／又は、前記液状水素化ニトリルゴムの補外ガラス転移開始温度が－３０℃未満であり、好ましくは－３５℃未満であり、より好ましくは－４５℃未満であり；
    及び／又は、前記液状水素化ニトリルゴムの補外ガラス転移終点温度が－２５℃未満であり、好ましくは３０℃未満であり、より好ましくは－３５℃未満であり；
    好ましくは、前記液状水素化ニトリルゴムが式ＩＩＩａ又はＩＩＩｂで表される液状水素化ニトリルゴムであり、
    ここで、ｐ＝１～１５０；ｐ’＝１～１５０；ｑ＝３０～５９０；ｑ’＝３０～５９０；ｎ＝２０～５００；ｎ’＝２０～５００であり；
    好ましくは、前記液状水素化ニトリルゴムは、アクリロニトリルの含有量が１７％～４５％であり；水素化度が８０％～９９％であり；重量平均分子量が５０００～５００００であり；分子量分布指数が２．０～６．０であり；ガラス転移温度が－２８℃未満であり；
    好ましくは、前記液状水素化ニトリルゴムは、アクリロニトリルの含有量が３３％であり；水素化度が９９％であり；重量平均分子量が８０００～２００００であり；分子量分布指数が２．５～３．５であり；ガラス転移温度が－３５℃未満であり；
    好ましくは、前記液状水素化ニトリルゴムは、アクリロニトリルの含有量が２５％～４３％であり；水素化度が９１％～９９％であり；重量平均分子量が２４０００～４６０００であり；分子量分布指数が２．１～５．６であり；ガラス転移温度が－２９℃未満である、ことを特徴とする請求項１に記載の液状水素化ニトリルゴム。
  3. 不活性ガス保護下、有機溶媒中、触媒の作用下で、ニトリルゴムの分解反応と水素化還元反応を順次行うか、又はニトリルゴムの水素化還元反応を行い、液状水素化ニトリルゴムを得る工程を含み；ここで、前記触媒は、一般式Ｉで示されるジャン触媒のうちの１つ又は複数を含む、液状水素化ニトリルゴムの製造方法：
    （一般式Ｉにおいて、Ｌは電子供与錯体配位子であり；
    Ｌ１及びＬ２は独立してハロゲンであり；
    ｎ＝０又は１であり；
    ｎ＝１の場合、Ｙ１は独立して窒素、酸素、硫黄、ＣＨ２、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールオキシ、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環式アリール、カルボニル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルコキシに結合したカルボニル、イミノ、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルイミノ又は式ＲｃＲｄＮ－で示されるアミノであり；ここで、Ｒｃ及びＲｄは独立して水素、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルホルミル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールホルミル又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ホルミルであり；或いはＲｃ、Ｒｄ及びＮ原子が結合して環を形成し；
    Ｘは窒素、酸素、硫黄、ＣＨ、ＣＨ２又はカルボニルであり；
    Ｙは窒素、酸素、ＣＨ、メチレン、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルコキシ、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールオキシ、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環式アリール、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルコキシに結合したカルボニル、イミノ、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルイミノ又は式ＲｃＲｄＮ－で示される基であり；ここで、Ｒｃ及びＲｄは独立して水素、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルホルミル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールホルミル又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ホルミルであり；或いはＲｃ、Ｒｄ及びＮ原子が結合して環を形成し；Ｘで表される基が結合している親体はＹであり、Ｙで表される基が結合している親体はＸであり、
    の間は単結合又は二重結合であり；
    Ｒ１は水素、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルコキシ、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールオキシ又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基であり；
    Ｒ２は水素、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルコキシ、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルチオ、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルシロキシ、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシ、アルデヒド基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基に結合したカルボニル又は式ＲｃＲｄＮ－で示される基であり；ここで、Ｒｃ及びＲｄは独立して水素、ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルホルミル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールホルミル又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ホルミルであり；或いはＲｃ、Ｒｄ及びＮ原子が結合して環を形成し；
    Ｅは水素、ハロゲン、ニトロ、ニトリル、スルホキシド、スルホン基、アルデヒド基、Ｃ１－Ｃ２０アルキル、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシ、Ｃ１－Ｃ２０アルキルチオ、Ｃ１－Ｃ２０アルキル珪素基、Ｃ１－Ｃ２０アルキルシロキシ、Ｃ２－Ｃ２０複素環基、Ｃ６－Ｃ２０アリール、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシ、Ｃ１－Ｃ２０アルキルに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールに結合したカルボニル、Ｃ２－Ｃ２０複素環基に結合したカルボニル、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０複素環基オキシに結合したカルボニル、アミノアシル、Ｃ１－Ｃ２０アルキルアミノに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールアミノに結合したカルボニル、Ｃ２－Ｃ２０複素環基アミノに結合したカルボニル、ウレイド、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルウレイド、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールウレイド、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ウレイド、Ｃ１－Ｃ２０アルキルアミノに結合したスルホニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールアミノに結合したスルホニル、Ｃ２－Ｃ２０複素環基アミノに結合したスルホニル又は式ＲｃＲｄＮ－で示される基であり；ここで、Ｒｃ及びＲｄは独立して水素、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルホルミル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールホルミル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールスルホニル又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基スルホニルであり；或いはＲｃ、Ｒｄ及びＮ原子が結合して環を形成し；
    Ｅ１は水素、ハロゲン、ニトロ、ニトリル、Ｃ１－Ｃ２０アルキル、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシ、Ｃ１－Ｃ２０アルキルチオ、Ｃ１－Ｃ２０アルキル珪素基、Ｃ１－Ｃ２０アルキルシロキシ、Ｃ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のアミノ、アミノアシル、Ｃ１－Ｃ２０アルキルアミノに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリール、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシ、スルホキシド、スルホン基、アルデヒド基、Ｃ１－Ｃ２０アルキルに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基に結合したカルボニル、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシに結合したカルボニル、Ｃ２－Ｃ２０複素環基オキシに結合したカルボニル、ウレイド、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルウレイド、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールウレイド又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ウレイドであり；
    Ｅ２は水素、ハロゲン、Ｃ１－Ｃ２０アルキル、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシ、Ｃ１－Ｃ２０アルキルチオ、Ｃ１－Ｃ２０アルキル珪素基、Ｃ１－Ｃ２０アルキルシロキシ、アミノアシル、Ｃ１－Ｃ２０アルキルアミノに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールアミノに結合したカルボニル、Ｃ２－Ｃ２０複素環基アミノに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリール、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシ、Ｃ２－Ｃ２０複素環式アリール、アルデヒド基、Ｃ１－Ｃ２０アルキルに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールに結合したカルボニル、Ｃ２－Ｃ２０複素環基に結合したカルボニル、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシに結合したカルボニル、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシに結合したカルボニル、Ｃ２－Ｃ２０複素環基オキシに結合したカルボニル又は式ＲｃＲｄＮ－で示される基であり；ここで、Ｒｃ及びＲｄは独立して水素、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルホルミル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールホルミル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールスルホニル又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基スルホニルであり；或いはＲｃ、Ｒｄ及びＮ原子が結合して環を形成し；
    Ｅ３は水素、ハロゲン、Ｃ１－Ｃ２０アルキル、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシ、Ｃ１－Ｃ２０アルキルチオ、Ｃ１－Ｃ２０アルキルシロキシ、Ｃ６－Ｃ２０アリールオキシ、Ｃ６－Ｃ２０アリール、Ｃ２－Ｃ２０複素環式アリール、Ｃ１－Ｃ２０アルコキシに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールオキシに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０複素環基オキシに結合したカルボニル又は式ＲｃＲｄＮ－で示される基であり；ここで、Ｒｃ及びＲｄは独立して水素、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルホルミル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールホルミル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールスルホニル又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基スルホニルであり；或いはＲｃ、Ｒｄ及びＮ原子が結合して環を形成し；
    Ｅ４、Ｅ５、Ｅ６及びＥ７は独立して水素、ハロゲン、ニトロ、ニトリル、スルホキシド、スルホン基、アルデヒド基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルコキシ、Ｃ１－Ｃ２０アルキルチオ、Ｃ１－Ｃ２０アルキル珪素基、Ｃ１－Ｃ２０アルキルシロキシ、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のアミノ、アミノアシル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルアミノに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールアミノに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基アミノに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基に結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルコキシに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールオキシに結合したカルボニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０複素環基オキシに結合したカルボニル、ウレイド、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルウレイド、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールウレイド、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ウレイド、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールオキシ又は式ＲｃＲｄＮ－で示される基であり；ここで、Ｒｃ及びＲｄは独立して水素、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリール、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキル、ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルホルミル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールホルミル、置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基ホルミル、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２０アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ２０アリールスルホニル又は置換もしくは非置換のＣ２－Ｃ２０複素環基スルホニルであり；或いはＲｃ、Ｒｄ及びＮ原子が結合して環を形成する）。
  4. 前記的一般式Ｉは下記の化合物のうちの１つ又は複数を含む：
    前記的一般式Ｉは、好ましくは式４ａａ、４ａｂ、４ｆ又は４ｖであり、より好ましくは式４ａａ又は４ｖであり；
    及び／又は、前記ニトリルゴムのアクリロニトリルの含有量は１５％～５０％であり、好ましくは１７％～４５％であり、例えば２５％、３３％又は４３％であり；
    及び／又は、前記ニトリルゴムの重量平均分子量は３０００～６００００であり；
    及び／又は、好ましくは、前記ニトリルゴムのムーニー粘度は３０～６０であり；
    及び／又は、前記ニトリルゴムの分子量分布指数は２．０～８．０であり；
    好ましくは、前記ニトリルゴムの構造は以下の式ＩＩ、ＩＩａ又はＩＩｂで示される：
    ここで、
    ｊ＝１００～６０００；ｋ＝５０～５０００；
    ｍ＝３０～６００；ｎ＝２０～５００；
    ｍ’＝３０～６００；ｎ’＝２０～５００；
    及び／又は、前記ジャン触媒の用量は０．００５％～０．１％であり、好ましくは０．０１％～０．０５％であり、百分率は、前記ジャン触媒が前記ニトリルゴムに占める質量百分率であり；
    及び／又は、前記分解反応の温度は６０～１００℃であり、好ましくは８０℃であり；前記分解反応の時間は０．５～１０ｈであり、好ましくは１～６ｈであり、より好ましくは２～３ｈであり；
    及び／又は、前記水素化還元反応における水素の用量は、反応系の圧力が２～１５ＭＰａに達し、より好ましくは６～１０Ｍｐａ、例えば８ＭＰａに達するようにする量であり；
    及び／又は、前記水素化還元反応の温度は８０～２００℃であり、好ましくは１００～１８０℃であり、より好ましくは１３０～１６０℃であり、例えば１５０℃であり；前記水素化還元反応の時間は２～６ｈであり；
    及び／又は、前記有機溶媒はクロロホルム、二塩化エチレン、アセトン及びクロロベンゼンのうちの１種又は複数種であり；好ましくはクロロベンゼン、二塩化エチレン及びクロロホルムのうちの１種又は複数種であり；より好ましくはクロロベンゼン又は二塩化エチレンであり；最も好ましくはクロロベンゼンであり；前記有機溶媒の用量は好ましくは１００～３００ｇニトリルゴム／１Ｌ有機溶媒であり、例えば１２０ｇ、１６０ｇ、２００ｇ又は２４０ｇニトリルゴム／１Ｌ有機溶媒であり；
    及び／又は、前記不活性ガスはアルゴン又は窒素であり；
    及び／又は、前記水素化還元反応終了後に、後処理を行い；前記後処理は負圧下で有機溶媒を除去することを含み；前記後処理の温度は好ましくは１００～１５０℃であり、より好ましくは１３０～１４０℃である、ことを特徴とする請求項３に記載の液状水素化ニトリルゴムの製造方法。
  5. 前記液状水素化ニトリルゴムの製造方法の反応の流れはルート－１で示されるように、不活性ガス保護下、有機溶媒中、水素を供給し、水素を供給すると同時に又は水素を供給した後に前記ジャン触媒を加え、ニトリルゴムＩＩａの水素化還元反応を行って液状水素化ニトリルゴムＩＩＩａを得ること；
    （ここで、ｍ、ｎ、ｐ及びｑの定義は請求項２又は４に記載の通りである）
    及び／又は、前記液状水素化ニトリルゴムの製造方法の反応の流れはルート－２に示されるように、不活性ガス保護下、有機溶媒中、前記ジャン触媒を加え、ニトリルゴムＩＩの分解反応を行ってニトリルゴムＩＩｂを得；さらに水素を供給し、ニトリルゴムＩＩｂの水素化還元反応を行って液状水素化ニトリルゴムＩＩＩｂを得ること、を特徴とする請求項３又は４に記載の液状水素化ニトリルゴムの製造方法。
    （ここで、ｊ、ｋ、ｍ’、ｎ’、ｐ’及びｑ’の定義は請求項２又は４に記載の通りである）。
  6. 請求項３～５のいずれか一項に記載の液状水素化ニトリルゴムの製造方法によって製造された液状水素化ニトリルゴム。
  7. 不活性ガス保護下、有機溶媒中、一般式Ｉで示されるジャン触媒の作用下で、ニトリルゴムの分解反応を行い、ニトリルゴムの分解物を得る工程を含むニトリルゴムの分解方法：
    好ましくは、前記ジャン触媒及びその用量は請求項４に記載の通りであり；
    好ましくは、前記ニトリルゴムは請求項４に記載の通りであり；
    好ましくは、前記分解反応の温度及び時間は請求項４に記載の通りであり；
    好ましくは、前記有機溶媒及びその用量は請求項４に記載の通りであり；
    好ましくは、前記不活性ガスは請求項４に記載の通りであり；
    好ましくは、前記ニトリルゴムの分解方法の反応の流れはルート－３で示される。
  8. 請求項１、２及び５のいずれか一項に記載の液状水素化ニトリルゴム、充填剤及び加硫剤を含むゴムコンパウンドであり；
    前記充填剤は好ましくはカーボンブラック及び／又はホワイトカーボンブラックであり；前記カーボンブラックは好ましくはカーボンブラックＮ２２０、カーボンブラックＮ－３３０、カーボンブラックＮ５５０又はカーボンブラックＮ７７４であり；前記ホワイトカーボンブラックは好ましくは沈降ホワイトカーボンブラック、ヒュームドホワイトカーボンブラック又は塩基性ホワイトカーボンブラックであり；前記塩基性ホワイトカーボンブラックは好ましくは塩基性ホワイトカーボンブラックＡＳ－７０であり；
    前記加硫剤は好ましくは１，４－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシイソプロピル）ベンゼンであり；
    前記ゴムコンパウンドは、例えば加硫助剤、ステアリン酸、酸化マグネシウム、促進剤及び老化防止剤のうちの１種又は複数種の、前記加硫剤以外の他のゴム配合成分を含み；ここで、前記加硫助剤は、好ましくはＮ，Ｎ’－ｍ－フェニレンビスマレイミドであり；前記促進剤は、好ましくは２－メルカプトベンゾイミダゾール亜鉛塩であり；前記老化防止剤は、好ましくは４，４’－ビス（ジメチルベンジル）ジフェニルアミンであり；
    好ましくは、前記ゴムコンパウンドは、質量部で、液状水素化ニトリルゴム１００部、カーボンブラックＮ－３３０ ５０部、ホワイトカーボンブラックＡＳ－７０ １０部、１，４－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシイソプロピル）ベンゼン１４部、Ｎ，Ｎ’－ｍ－フェニレンビスマレイミド０．５部、ステアリン酸０．５部、酸化マグネシウム６部、２－メルカプトベンゾイミダゾール亜鉛塩０．５重量部及び４，４’－ビス（ジメチルベンジル）ジフェニルアミン１．０重量部を含む、ゴムコンパウンド。
  9. 請求項８に記載のゴムコンパウンドを加硫することによって製造された加硫ゴム。
  10. 工業製品における請求項１、２及び５のいずれか一項に記載の液状水素化ニトリルゴム、請求項８に記載のゴムコンパウンド又は請求項９に記載の加硫ゴムの用途。
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