JP2023541188A - 改善された機械的特性および高い耐候性を有する熱反射箔 - Google Patents

Abstract

本発明は、少なくとも１種のフルオロポリマーを含むポリマーマトリックス中に小板状フィラー粒子が均一に分布している少なくとも１つの層および少なくとも１つの更なる層を含む、押出された箔に関する。この箔は、特に高いＴＳＲ、高い耐候性および優れた機械的特性を有する。したがって、本発明の箔は、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）などの材料の表面保護および高圧ラミネート（ＨＰＬ）での使用に非常に好適である。

Description

本発明は、少なくとも１種のフルオロポリマーを含むポリマーマトリックス中に小板状フィラー粒子が均一に分布している少なくとも１つの層を含む多層の箔に関する。この箔は、高い全日射反射率（ＴＳＲ）値、高い耐候性および優れた機械的特性を有する。したがって、本発明の箔は、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）などの材料の表面保護および高圧ラミネート（ＨＰＬ）での使用に非常に好適である。

従来技術
ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）は、優れた光学的特性および高い耐候性を有し、したがって、様々な屋外用途に特に好適である。ＰＭＭＡ箔は、一般に、例えば着色されたポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）窓枠などのＵＶ敏感性基板を長期間保護するために用いられる。過去数十年間にわたって、白色のＰＶＣ窓枠が建築材料の市場で主流であったが、様々な装飾を有する審美的により魅力的な窓枠、特に暗色のものに向かう傾向が継続的にある。

窓枠などの暗色の基板は、相当な量の太陽赤外線（ＩＲ）放射を吸収する傾向がある。特に、暗い窓枠は、夏に６０～６５℃もの高温に達する可能性があり、それによって、望ましくない材料軟化および窓枠変形が生じ得る。

この問題に対処する１つの可能なアプローチは、二酸化チタン、クロム酸鉛、酸化クロムまたはアントラキノン顔料などの等方性ＩＲ反射顔料を含む軟質装飾ＰＶＣフィルムの使用に基づく。例えば西独国特許出願公開第２７１９１７０号明細書に記載されている代替的なアプローチは、ＵＶ吸収剤および光安定剤と組み合わせてＩＲ反射顔料を含むアクリルベースの表面コーティングを利用する。そのような表面コーティングは、可視光に対して実質的に透明であるように設計され得る。あるいは、例えば国際公開第２００６／０５８５８４号に記載されているように、そのような表面コーティングは、ＩＲ光を反射することができ、可視光を吸収することができ、したがって、暗い外観を有することができる。

米国特許第５３７２６６９号明細書には、ラベルなどの表示製品のためのウェブストックが記載されており、そのコア層には、天然に存在する小板形態の雲母フィラーが充填され得る。雲母は、その耐熱性およびその平坦性を理由にフィラーとして好まれており、それによって、フィルムの剛性に対するその寄与が高まっている。

欧州特許出願公開第０５４８８２２号明細書には、透光性プラスチック材料と、ＩＲ反射体の表面に平行に配向されたＩＲ反射粒子を含むコーティングとからなる透光性ＩＲ反射体が記載されている。透光性ＩＲ反射体は、可視範囲で４５～７５％の透過率（Ｔ）、３０～６０％の全体エネルギー浸透率（ｇ）および１．１５超のＴ／ｇ比を有する。ＩＲ反射体は、シートまたはプレートの形態であり得る。ＩＲ反射粒子は、表面に平行に配向しており、ベース材料に接着した厚さ５～４０μｍのコーティング層内に配設されている。欧州特許出願公開第０５４８８２２号明細書は、コーティング層におけるフルオロポリマーの使用について言及していない。

国際公開第２０１８／１０４２９３号には、表面フルオロポリマー層に組み込まれたガラスビーズを含む共押出された多層の箔が記載されている。箔は、均一なマットな外観、改善された機械的特性および高い耐候性を有する。これらの箔は、ＩＲ反射性ではない。

太陽ＩＲ放射の高い反射性および高いＴＳＲを実現するために、従来技術のアクリル箔は、多くの場合、２０～４０重量％もの量のＩＲ反射顔料を含む。ＩＲ反射顔料がそのような量でアクリルマトリックス中に存在することは、箔を脆くして扱いにくくするため、不利である。これらの欠点を少なくともある程度補うために、アクリル箔は、多くの場合、多量の耐衝撃性改良剤を含む。しかしながら、得られるアクリル箔は、多くの場合、望ましくないほど高いヘイズを有する。結果として、窓枠などの最終消費者製品は、審美的に不利な濁った外観を有し、これは、印刷された高品質の装飾と組み合わせると特に不快なものとなる。

最終的に、屋外用途の表面層として用いられるアクリル箔は、典型的には、最終消費者製品の製造業者によって、押出によって製造され、ロールで保管および輸送され、窓枠などの基板にラミネート加工される。したがって、アクリル箔は、迅速であり、信頼性が高く、かつコスト効率の高い手法で製造、保管および使用することができるように、適切な機械的特性を有する必要がある。アクリルマトリックス中に多量のＩＲ反射顔料を有する箔は、上記のプロセスのいずれかの最中に破断または破裂し、それによって、製造プロセスの中断を引き起こすことがある。

発明の目的
上記の観点から、本発明によって対処される目的は、良好なＩＲ反射特性と、優れた機械的安定性と、優れた光学的特性、特に高い透明度とを有する透明な耐候性の箔を提供することであった。そのような箔は、押出による工業的製造ならびに太陽ＩＲおよびＵＶ放射から装飾基板を保護するための表面層としての使用に好適であることが求められる。

発明の概要
本発明は、小板状フィラー粒子が多層アクリル箔の比較的薄いフルオロポリマー層に組み込まれる場合に、得られる箔が、同量の小板状フィラー粒子を含む単層アクリル箔と比較して、より高いＩＲ反射率と、より高い機械的強度、特により高い柔軟性とを有するという驚くべき発見に基づく。

本発明の多層の箔が共押出される場合、小板状フィラー粒子は、フルオロポリマー層が共押出ノズルを通過している最中に十分な程度に配向される。粒子は、箔の表面に対して実質的に平行な配向を得る。得られる多層の箔は、優れた光学的特性（高いＴＳＲ、高い透過率）のみならず、高い機械的安定性および高い柔軟性も有する。機械的特性への影響は、アクリルマトリックス中に分散されている同一のフィラーの場合よりも少ない。一般的な認識によると、高疎水性のフルオロポリマーマトリックスと微粒子フィラーとの間の低い接着力は、機械的特性が不十分な系をもたらすと予想されていたため、この観察結果は非常に驚くべきものである。

したがって、本発明者等は、別個の比較的薄いフルオロポリマー層を使用し、アクリル層中ではなく、このフルオロポリマー層中に小板状フィラー粒子の形態でＩＲ反射顔料を配置することによって、従来技術のアクリル箔の幾つかの欠点を克服することができた。

本発明の箔は、僅かに構造化された審美的に魅力的な表面を有する。この効果は、箔の表面上の小板状フィラー粒子によってもたらされ、好ましい実施形態では、前記粒子は、箔の表面から僅かに突出（隆起）している。粒子は、僅かな拡散光分散をもたらし、光の反射を低減させ、それによって、光沢を低減させる。

本発明者等は、ラミネート加工プロセスの最中に、１２０℃もの温度またはそれ以上の温度でさえも、本発明の箔が、均一にマットなままであり、ラミネート加工ロールの機械的圧力によって粒子が箔材料中に「沈む」ことはないことを見出した。代わりに、粒子は、得られたラミネート加工された物品の表面上で見えるままであり、その均一なマットな外観を確保する。また、表面粗さも実質的に変わらない。本明細書で使用される場合、「均一」という用語は、箔内の小板状フィラー粒子の濃度が実質的に一定であることを意味する。

要約すると、本発明の箔は、以下の利点を提供する：
・ 本発明の箔は、高いＴＳＲ値および良好な機械的特性を有する。
・ 本発明の箔は、例えば市販の洗浄組成物に対して、優れた耐候性および非常に良好な耐薬品性を有する。
・ 本発明の箔は、防汚性を有し、洗浄が容易である。
・ 本発明の箔は、長期間にわたって均一にマットなままである。
・ 本発明の箔は、コスト効果の良い手法で押出プラントにおいて製造することができる。
・ 本発明の箔は、様々な温度で、様々なラミネート加工設備を使用して、様々な基板のラミネート加工に用いることができる。得られるラミネート加工された製品の外観は、高度に均一であり、ラミネート加工温度またはラミネート加工ロールの材料などの加工条件に実質的に依存しない。

本発明の第１の態様は、少なくとも１つの層Ａおよび層Ｂを含む共押出された多層の箔であって、
層Ａが、層Ａの重量に基づいて、
４０．０～９９．９９重量％のフルオロポリマー、
０．０～３０．０重量％のポリアルキル（メタ）アクリレート、および
少なくとも１～１０、好ましくは１～２０、より好ましくは１～３０のアスペクト比を有する０．０１～３０．０重量％の小板状フィラー粒子
を含む、共押出された多層の箔に関する。

層Ｂは、層Ｂの重量に基づいて、
０．０～９５．０重量％のポリ（メチル）メタクリレート、
５．０～９５．０重量％の１種または数種の耐衝撃性改良剤、
０．０～４０．０重量％のフルオロポリマー、
０．０～５．０重量％の１種または数種のＵＶ吸収剤、
０．０～５．０重量％の１種または数種のＵＶ安定剤、および
接着促進コポリマー、微粒子シリカまたはそれらの組み合わせから選択される０．０～２０．０重量％の接着促進剤
を含む。

層Ｂ中のポリ（メチル）メタクリレートおよび１種または数種の耐衝撃性改良剤の累積含有量は、層Ｂの重量に基づいて、少なくとも５０重量％、好ましくは少なくとも６０重量％、より好ましくは少なくとも７０重量％、それよりもさらにより好ましくは少なくとも８０重量％、さらにより好ましくは少なくとも９０重量％、特に好ましくは少なくとも９５重量％である。

当業者によって容易に理解されるように、本明細書で使用される場合、「箔」という用語は、５ｍｍ未満、より好ましくは１ｍｍ未満の厚さを有するシートを指す。本発明の箔は保護コーティングとして有利に使用することができるが、本出願で使用される場合、「箔」という用語は、概して、「フィルム」または「コーティング」などの用語とは区別されるべきである。コーティングは、典型的には、多層基板の最上層であり、前記基板から分けて取り扱うことはできない。コーティングとは対照的に、本発明の箔は、必ずしも多層物品の層である必要はなく、すなわち、必ずしも任意の基板に結合している必要はなく、したがって、分けて取り扱い、様々な異なる目的に使用することができる。

本発明の箔は、市場で入手可能なＩＲ反射箔よりも耐候性および機械的耐久性の点で優れており、改善された安定性を長期間にわたって有する（１０年超＝長期安定性）。本明細書で使用される場合、「安定性」という用語は、風化効果および機械的損傷に対する箔の固有の安定性のみならず、ＩＲ反射特性およびＵＶ吸収の点でのその保護作用の持続性も指す。「赤外線（ＩＲ）放射」という用語は、７８０ｎｍ～２５００ｎｍの波長を有する光を指す。

本発明の更なる態様は、箔を製造するための方法であって、箔成形プロセス、好ましくはチルロールプロセスで箔を成形するステップを含む、方法に関する。

別の更なる態様では、本発明は、箔によって少なくとも部分的に被覆された基板を含む多層物品、好ましくは高圧ラミネートまたは押出されたＰＶＣ物品であって、
層Ａが、多層物品の外側表面を形成しており、
層Ｂが、層Ａと基板との間に配置されており、
層Ｃが、存在する場合、層Ｂと基板との間に配置されている、
多層物品を対象とする。

フルオロポリマーベースの層Ａおよびアクリルベースの層Ｂからなる本発明の箔の概略図である： １．フルオロポリマーベースの層Ａ、 ２．フルオロポリマーマトリックス、 ３．小板状粒子、 ４．アクリルベースの層Ｂ フルオロポリマーベースの層Ａ、アクリルベースの層Ｂおよび接着促進層Ｃを含む箔の実施形態を概略的に示す： １．フルオロポリマーベースの層Ａ、 ２．フルオロポリマーマトリックス、 ３．小板状粒子、 ４．アクリルベースの層Ｂ、 ５．接着促進層Ｃ

好ましい実施形態の詳細な説明
層Ａ
本発明の箔は、非集合小板状フィラー粒子がポリマーマトリックス中に実質的に均一に分散されているフルオロポリマーベースの層Ａを含む。

好ましい一実施形態では、層Ａは、ポリアルキル（メタ）アクリレートを実質的に含まず、層Ａの重量に基づいて、以下の組成：
８０．０～９９．９重量％、好ましくは９０．０～９９．９重量％のフルオロポリマー、および
０．１～２０．０重量％、好ましくは０．１～１０．０重量％の小板状フィラー粒子
を有する。

あるいは、層Ａのポリマーマトリックスは、フルオロポリマー、例えばＰＶＤＦと、少なくとも１種の更なるポリマー、例えばポリアルキル（メタ）アクリレート、例えばＰＭＭＡとの組み合わせを含み得る。この実施形態では、層Ａの重量に基づいて、フルオロポリマーの含有量は、典型的には４０．０～９７．０重量％であり、ポリアルキル（メタ）アクリレートの含有量は、０．０～４５．０重量％である。これは、約１：１～約１：０のフルオロポリマー：ポリアルキル（メタ）アクリレートの重量比に対応する。当業者によって容易に理解されるように、層Ａ中のポリマーマトリックスの正確な組成は、箔の意図される使用に応じて調整することができる。特に耐候性の箔は、ＰＶＤＦ：ＰＭＭＡの重量比が、１．０：０．０１～１：１（ｗ／ｗ）、より好ましくは１．０：０．１５～１．０：０．４０（ｗ／ｗ）である場合のＰＭＭＡ／ＰＶＤＦの組み合わせを使用することによって得ることができ、１．０：０．１５～１．０：０．３０（ｗ／ｗ）の比が特に好ましい。

層Ｂ
本発明の箔は、典型的には層Ａに直接的に隣接している層Ｂをさらに含む（図２を参照）。層Ｂ中の耐衝撃性改良ポリアルキル（メタ）アクリレートの累積含有量は、層Ｂの重量に基づいて、少なくとも５０重量％、好ましくは少なくとも６０重量％、より好ましくは少なくとも７０重量％、それよりもさらにより好ましくは少なくとも８０重量％、さらにより好ましくは少なくとも９０重量％、特に好ましくは少なくとも９５重量％である。更なる成分として、層Ｂは、ＰＶＤＦなどの少なくとも１種のフルオロポリマーを任意選択的に含み得る。

層Ｂの組成は、層Ｂの総重量に基づいて、以下の通りである：
０．０～９５．０重量％、好ましくは１０．０～９０．０重量％のポリアルキル（メタ）アクリレート、
５．０～１００．０重量％、好ましくは１０．０～９０．０重量％の１種または数種の耐衝撃性改良剤、
０．０～４０．０重量％、好ましくは０．０～３０．０重量％、より好ましくは０．０～２０．０重量％のフルオロポリマー、
０．０～５．０重量％、好ましくは０．２～４．０重量％、より好ましくは０．３～３．０重量％の１種または数種のＵＶ吸収剤、
０．０～５．０重量％、好ましくは０．２～４．０重量％、より好ましくは０．３～３．０重量％の１種または数種のＵＶ安定剤、および
接着促進コポリマー、微粒子シリカまたはそれらの組み合わせから選択される０．０～２０．０重量％、好ましくは０．０～１０．０重量％の接着促進剤。

好ましくは、層Ｂ中のポリアルキル（メタ）アクリレートは、以下に記載されているように、ＰＭＭＡであり、フルオロポリマーは、存在する場合、ＰＶＤＦである。さらに、箔が適用される基板に応じて、層Ｂは、接着促進剤が実質的に含まなくてもよい。

層Ｃ
上記の層ＡおよびＢに加えて、本発明の箔は、接着促進層Ｃを任意選択的に含むことができ、これにより、層Ｂが層Ａと層Ｃとの間に配置される。この実施形態では、層Ｃが接着促進層として作用しており、したがって、微粒子シリカ、接着促進コポリマーまたはそれらの組み合わせから選択される接着促進剤を必然的に含む。概して、多層の箔が層Ｃを含む場合、層Ｂは、層Ｂの重量に基づいて、３．０重量％未満、好ましくは１．０重量％未満の接着促進剤を含む。

ＨＰＬなどの基板上での箔の優れた接着性を実現するために、層Ｃの重量に基づいて、層Ｃ中の微粒子シリカおよび接着促進コポリマーの累積含有量は、少なくとも２．０重量％、好ましくは少なくとも４．０重量％、より好ましくは少なくとも６．０重量％、それよりもさらにより好ましくは少なくとも８．０重量％となるように選択され、層Ｃ中の耐衝撃性改良ポリアルキル（メタ）アクリレートの含有量は、少なくとも６０重量％、好ましくは少なくとも６０重量％、より好ましくは少なくとも７０重量％、それよりもさらにより好ましくは少なくとも８０重量％である。

概して、層Ｃは、
０．０～７８．０重量％のポリアルキル（メタ）アクリレート、
２０．０～９８．０重量％の１種または数種の耐衝撃性改良剤、
０．０～４０．０重量％のフルオロポリマー、
０．０～４０．０重量％の微粒子シリカ、
０．０～４０．０重量％の接着促進コポリマー、
０．０～５．０重量％の１種または数種のＵＶ吸収剤、
０．０～５．０重量％の１種または数種のＵＶ安定剤
を含む、成形組成物からなる。

一実施形態では、層Ｃは、微粒子シリカを含み、接着促進コポリマーを含まない。したがって、層Ｃは、
０．０～７８．０重量％、好ましくは０．０～６５．０重量％、より好ましくは０．０～５３．０重量％、さらにより好ましくは０．０～４３．０重量％、特に好ましくは０．０～３３．０重量％のポリアルキル（メタ）アクリレート、
２０．０～９８．０重量％、好ましくは３０．０～９５．０重量％、より好ましくは４０．０～９３．０重量％、さらにより好ましくは５０．０～９３．０重量％、特に好ましくは６０．０～９３．０重量％の１種または数種の耐衝撃性改良剤、
２．０～４０．０重量％、好ましくは５．０～３０．０重量％、より好ましくは７．０～２０．０重量％の微粒子シリカ、
０．０～５．０重量％の１種または数種のＵＶ吸収剤、
０．０～５．０重量％の１種または数種のＵＶ安定剤
を含む、成形組成物からなる。

別の更なる実施形態では、層Ｃは、接着促進コポリマーを含み、微粒子シリカを含まない。したがって、この実施形態では、層Ｃは、
０．０～７８．０重量％、好ましくは０．０～６５．０重量％、より好ましくは０．０～５３．０重量％、さらにより好ましくは０．０～４３．０重量％、特に好ましくは０．０～３３．０重量％のポリアルキル（メタ）アクリレート、
２０．０～９８．０重量％、好ましくは３０．０～９５．０重量％、より好ましくは４０．０～９３．０重量％、さらにより好ましくは５０．０～９３．０重量％、特に好ましくは６０．０～９３．０重量％の１種または数種の耐衝撃性改良剤、
２．０～４０．０重量％、好ましくは５．０～３５．０重量％、より好ましくは７．０～３０．０重量％の接着促進コポリマー、
０．０～５．０重量％の１種または数種のＵＶ吸収剤、
０．０～５．０重量％の１種または数種のＵＶ安定剤
を含む、成形組成物からなる。

この実施形態では、層Ｃは、層Ｃの重量に基づいて、２．０～４０．０重量％、好ましくは５．０～３５．０重量％、より好ましくは７．０～３０．０重量％の接着促進コポリマーを含む。したがって、層Ｃの成形組成物中の接着促進モノマーの量は、層Ｃの重量に基づいて、典型的には０．１～１０．０重量％、好ましくは０．５～８．０重量％、より好ましくは１．０～５．０重量％である。

別の更なる実施形態では、層Ｃは、微粒子シリカと組み合わせた接着促進コポリマーを含む。したがって、この実施形態では、層Ｃは、
０．０～７８．０重量％、好ましくは０．０～６５．０重量％、より好ましくは０．０～５３．０重量％、さらにより好ましくは０．０～４３．０重量％、特に好ましくは０．０～３３．０重量％のポリアルキル（メタ）アクリレート、
２０．０～９８．０重量％、好ましくは３０．０～９５．０重量％、より好ましくは４０．０～９３．０重量％、さらにより好ましくは５０．０～９３．０重量％、特に好ましくは６０．０～９３．０重量％の１種または数種の耐衝撃性改良剤、
１．０～２０．０重量％、好ましくは２．０～１７．０重量％、より好ましくは４．０～１５．０重量％の微粒子シリカ、
１．０～２０．０重量％、好ましくは３．０～２０．０重量％、より好ましくは７．０～１５．０重量％の接着促進コポリマー、
０．０～５．０重量％の１種または数種のＵＶ吸収剤、
０．０～５．０重量％の１種または数種のＵＶ安定剤
を含む、成形組成物からなる。

この実施形態では、層Ｃは、層Ｃの重量に基づいて、１．０～２０．０重量％、好ましくは３．０～２０．０重量％、より好ましくは７．０～１５．０重量％の接着促進コポリマーを含む。したがって、層Ｃの成形組成物中の接着促進モノマーの量は、層Ｃの重量に基づいて、典型的には０．０５～５．０重量％、好ましくは０．２５～４．０重量％、より好ましくは０．５～２．５重量％である。

１種または数種の耐衝撃性改良剤が層Ｃの成形組成物中に存在することは、箔の良好な引裂抵抗および優れた接着特性を確保するために不可欠である。したがって、層Ｃは、層Ｃの重量に基づいて、２０．０～９８．０重量％、好ましくは３０．０～９５．０重量％、より好ましくは４０．０～９３．０重量％、さらにより好ましくは５０．０～９３．０重量％、特に好ましくは６０．０～９３．０重量％の１種または数種の耐衝撃性改良剤を含む。好ましくは、層Ｃの成形組成物中の１種または数種の耐衝撃性改良剤のゴム状内容物の量は、層Ｃの重量に基づいて、１種または数種の耐衝撃性改良剤６．０～３５．０重量％、好ましくは１０．０～３０．０重量％、より好ましくは１２．０～２５．０重量％、さらにより好ましくは１５．０～２０．０重量％、特に好ましくは６０．０～９３．０重量％である。

層Ａ～Ｃの個々の成分の説明
小板状フィラー粒子
層Ａ中に分散されている好適な小板状フィラー粒子は、箔の所望の光学的外観に基づいて当業者によって容易に選択することができ、それらの選択は、粒子自体がＩＲ放射を反射することができ、かつ所望のアスペクト比を有する限り、特に限定されることはない。好適な粒子の例としては、任意選択的にコーティングされた雲母、任意選択的にコーティングされた金属フレーク、例えばアルミニウムフレーク、任意選択的にコーティングされたタルク、任意選択的にコーティングされたカオリン、任意選択的にコーティングされたガラスフレークまたはこれらの任意の組み合わせが挙げられるが、これらに限定されることはない。特に好ましい小板状フィラーは、雲母、タルク、カオリンまたはガラスである。さらに、金属小板、例えばアルミニウム小板など、または小板状金属酸化物、例えば小板状酸化鉄もしくはオキシ塩化ビスマスなども好適である。

小板状フィラー粒子としてのいわゆる「パール光沢顔料」の使用が特に有利であることが示された。典型的には、これらの顔料は、２００～２０００ｎｍ、好ましくは３００～６００ｎｍの厚さ、および５～１００μｍ、好ましくは２０～６０μｍの直径、および２０～７０μｍ、好ましくは２０～２５μｍの平均直径を有する、鉱物材料、通常は雲母のコーティングされた小板からなる。対応するフィラー粒子は、とりわけ米国特許第５，２２１，３４１号明細書に記載されている。

例えば、小板状フィラー粒子は、
・ 二酸化チタンを含む少なくとも１つの層であって、二酸化チタンが好ましくはルチルである、少なくとも１つの層、
・ 任意選択的に、二酸化スズを含む少なくとも１つの層、および
・ 任意選択的に、二酸化ジルコン（zircon dioxide）を含む少なくとも１つの層
でコーティングされた雲母粒子であり得る。

特に、好適なコーティングされた雲母粒子は、
３０～６０重量％、好ましくは４０～５０重量％の二酸化チタン、
０．０～４．０重量％、好ましくは０．０～２．０重量％の二酸化スズ、および
０．０～５．０重量％、好ましくは１．０～３．０重量％の二酸化ジルコン
を含むことができ、
残りは、雲母および任意選択的にＳｉＯ_２である。

雲母は、カリウム、マグネシウム、アルミニウムおよび鉄などの金属元素を含有する天然鉱物材料である。多くの種類の雲母は、それらの色によって容易に区別することができ、最も一般的な種類は、白雲母および金雲母である。本発明は、任意の種類の天然雲母の使用を考慮している。本発明の利益は、現在入手可能な様々な雲母のいずれを用いても得ることができる。これらを本発明での使用のために調製するためには、雲母のサンプルを粉砕および分級して、明確に定義された粒子寸法およびアスペクト比を有する画分を得ることが好ましい。薄い高品質のフレークを製造するためには、雲母の湿式粉砕が好ましい。

雲母粒子上に二酸化チタンを堆積させるために、粒子を硫酸チタニル水溶液中に分散させることができ、次いで、西独国特許出願公開第１，４６７，４６８号明細書に記載されているように懸濁液を加熱する。西独国特許出願公告第２，００９，５６６号明細書に記載されている方法では、チタン塩の水溶液および塩基が、二酸化チタンを堆積させるのに好適なｐＨで、コーティングすべき雲母粒子の水性懸濁液に同時に計量導入され、その一方で、ｐＨが、塩基を添加することによって実質的に一定に維持される。二酸化チタンのルチル修飾は、アナターゼ修飾よりも高い屈折率を有し、ルチル二酸化チタンなどでコーティングされた雲母基板は、アナターゼ二酸化チタン雲母顔料よりも有意に高い光沢を有するため、多くの場合、ルチル修飾が好ましい。雲母上にルチル形態の二酸化チタンを堆積させるための方法は、例えば西独国特許出願公開第２，２１４，５４５号明細書に記載されている。雲母粒子を二酸化チタンでコーティングするためのここで言及されている方法は、単に例示的に示したものであり、単に本発明を説明することを意図したものである。しかしながら、ここで明示的に言及されていない他の方法を使用することも可能である。二酸化チタンでコーティングされた後に、コーティングされた雲母粒子は、通常、分離され、洗浄され、必要に応じて、乾燥または強熱される。定義された層厚で雲母粒子または類似した小板状鉱物材料上に沈殿した二酸化チタンが特に有利である。得られた材料は、本発明の箔での使用に特に良好に適した光散乱コーティングを提供する。驚くべきことに、二酸化チタン層でコーティングされた粒子は、層Ａ中のフルオロポリマーマトリックスとの優れた長期適合性を示した。フルオロポリマーマトリックスの光化学的劣化は観察されず、箔全体が、太陽放射に長期間曝露されても、その魅力的な外観を保持する。

最初に、小板状フィラー粒子は、二酸化チタン層が適用される前に、例えば、酸化クロム、酸化鉄、酸化ジルコニウム、アルミナ、酸化スズおよび／または更なる金属酸化物からなる１種以上の他の金属酸化物層でコーティングすることができる。他の金属酸化物を堆積させるための方法は、例えば、西独国特許出願公開第１，９５９，９９８号明細書、西独国特許出願公開第２，２１５，１９１号明細書、西独国特許出願公開第２，２４４，２９８号明細書、西独国特許出願公開第２，３１３，３３１号明細書、西独国特許出願公開第２，５２２，５７２号明細書、西独国特許出願公開第３，１３７，８０８号明細書、西独国特許出願公開第３，１５１，３４３号明細書、西独国特許出願公開第３，１５１，３５４号明細書、西独国特許出願公開第３，１５１，３５５号明細書、西独国特許出願公開第３，２１１，６０２号明細書または西独国特許出願公開第３，２３５，０１７号明細書に記載されている。典型的には、好ましく用いられるフィラーは、二酸化チタン層の下に、２つより多くの更なる金属酸化物層を含有せず、特に１つだけの更なる金属酸化物層を含有するか、または更なる金属酸化物層を含有しない。

好適な小板状フィラー粒子はまた、Merck KGaA、DarmstadtからIriotec（登録商標）という商標で市販されており、好ましいフィラーとしては、Iriotec（登録商標）9770、Iriotec（登録商標）9230、Iriotec（登録商標）9880、Iriotec（登録商標）9870およびIriotec（登録商標）9875が挙げられる。あるいは、Merck KGaAからIriodin（登録商標）という商標で入手可能な小板状フィラーも使用することができ、対応するフィラーとしては、Iriodin（登録商標）9502 Red-Brown SW、Iriodin（登録商標）9504 Red SW、Iriodin（登録商標）9524 Red Satin SW、Iriodin（登録商標）363 Shimmer Gold、Iriodin（登録商標）223 Rutile Fine Lilac、Iriodin（登録商標）9219 Rutile Lilac Pearl SW、Iriodin（登録商標）9507 Scarab Red SW、Iriodin（登録商標）211 Rutile Fine Red、Iriodin（登録商標）201 Rutile Fine Gold、Iriodin（登録商標）249 Flash Gold、Iriodin（登録商標）259 Flash Red、Iriodin（登録商標）289 Flash Blue、Iriodin（登録商標）299 Flash Green、Iriodin（登録商標）231 Rutile Fine Green、Iriodin（登録商標）355 Glitter Gold、Iriodin（登録商標）302 Gold Satin、Iriodin（登録商標）500 Bronze、Iriodin（登録商標）504 Red、Iriodin（登録商標）530 Glitter BronzeaおよびIriodin（登録商標）502 Red-Brownが挙げられるが、これらに限定されることはない。

所望のＩＲ反射度に応じて、層Ａのポリマーマトリックス中に分散されている小板状フィラー粒子の含有量は、層Ａの重量に基づいて、通常０．０１～２０．０重量％、より好ましくは０．１～１０．０重量％である。

幾つかの実施形態では、フルオロポリマーベースの層Ａのポリマーマトリックスは、ＰＶＤＦなどの１種または数種のフルオロポリマーから実質的になる。これらの実施形態では、フルオロポリマーの含有量は、フルオロポリマーベースの層Ａの重量に基づいて、典型的には８０．０～９９．９９重量％、より好ましくは９０．０～９９．９重量％である。したがって、フルオロポリマーベースの層Ａは、フルオロポリマーベースの層Ａの重量に基づいて、典型的には０．０１～２０．０重量％、好ましくは０．１～１０．０重量％の小板状フィラー粒子を含む。

小板状フィラー粒子は、少なくとも約１：１０、より好ましくは少なくとも約１：２０、さらにより好ましくは少なくとも約１：３０のアスペクト比を有し得る。本明細書で使用される場合、「アスペクト比」という用語は、小板状フィラー粒子の平均厚さとそれらの平均直径との比を指す。小板状フィラー粒子の平均直径および平均厚さは、１０個のランダムな粒子の２つの二次元顕微鏡写真を使用して決定することができる。写真のうちの一方は、縦方向（押出方向）で撮影され、もう一方は、縦方向を横切って撮影される。各写真の１０個のランダムな粒子は、二次元で測定される。次いで、平均直径が、得られた２０個の長さから計算される。例えばJEOL JSM-IT300（JEOL GmbH、Freising、Germanyから市販されている）などの走査型電子顕微鏡をこの目的のために有利に使用することができる。箔を液体窒素中で凍結させ、これを機械的に破断させることによって、測定のための好適なサイズを有する箔のサンプル片を得ることができる。新たに得られた破面は、走査型電子顕微鏡を使用して撮影される。

箔の所望の光学的特性および所望の表面粗さに応じて、小板状フィラー粒子のサイズ（平均直径、重量平均）は、典型的には０．１μｍ～１５０．０μｍ、好ましくは１．０μｍ～１００．０μｍ、さらにより好ましくは５．０μｍ～８０．０μｍとなるように選択される。小板状フィラー粒子の厚さは、典型的には、０．１μｍ～１０．０μｍ、好ましくは２．５０μｍ～５．０μｍとなるように選択される。

箔の平均厚さおよび個々の層の平均厚さは、有利には、JEOL JSM-IT300（JEOL GmbH、Freising、Germanyから市販されている）などの走査型電子顕微鏡を使用して得られる顕微鏡写真を使用して決定される。箔を液体窒素中で凍結させ、これを機械的に破断させることによって、測定のための好適なサイズを有するサンプル片を得ることができる。新たに得られた破面は、走査型電子顕微鏡を使用して撮影される。

フルオロポリマー
本発明の箔の意図される使用に応じて、フルオロポリマーは、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリエチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）、フッ素化エチレン－プロピレン（ＦＥＰ）またはそれらの混合物から選択され得る。

箔に使用されるＰＶＤＦポリマーは、概して、透明な半結晶性の熱可塑性フッ素樹脂である。有利には、ＰＶＤＦは、高い結晶融点を有する。箔の耐熱性は、ＰＶＤＦの結晶融点が、少なくとも１５０℃、より好ましくは少なくとも１６０℃である場合、特に高い。結晶融点の上限は、好ましくは、ＰＶＤＦの結晶融点と同じ約１７５℃である。ＰＶＤＦの重量平均分子量Ｍｗが、ＧＰＣによって決定して、５００００～３０００００ｇ／ｍｏｌ、より好ましくは８００００～２５００００ｇ／ｍｏｌ、さらにより好ましくは１５００００～２５００００ｇ／ｍｏｌの範囲であることがさらに好ましい。ジメチルスルホキシドを溶離液として、かつ狭い多分散性のＰＭＭＡを標準として使用することができる。例えば、PL-GPC 220、2×Agilent PLgel 10μm MIXED-B、300×7.5mm（p/n PL1110-6100）などの機器、流量１．０ｍＬ／分、１００μＬの注入量、９５℃で測定を実施することができる。

ＰＶＤＦの基本単位はフッ化ビニリデンであり、フッ化ビニリデンは、制御された圧力および温度の条件下で高純度水においてＰＶＤＦを生成するための特定の触媒によって重合される。フッ化ビニリデンは、クロロジフルオロエタンを前駆体として使用して、例えば出発材料としてのフッ化水素およびメチルクロロホルムから得ることができる。基本的に、Arkema製のKynar（登録商標）グレード、Dyneon製のDyneon（登録商標）グレードまたはSolvay製のSolef（登録商標）グレードなどの任意の商用グレードのＰＶＤＦが本発明での使用に好適である。例えば、以下の商用製品が用いられ得る：Arkema製のKynar（登録商標）720（フッ化ビニリデン含有量：１００重量％、結晶融点：１６９℃）およびKynar（登録商標）710（フッ化ビニリデン含有量：１００重量％、結晶融点：１６９℃）；Kureha Corporation製のT850（フッ化ビニリデン含有量：１００重量％、結晶融点：１７３℃）；Solvay Solexis製のSolef（登録商標）1006（フッ化ビニリデン含有量：１００重量％、結晶融点：１７４℃）およびSolef（登録商標）1008（商標名）（フッ化ビニリデン含有量：１００重量％、結晶融点：１７４℃）。

ＰＶＤＦには、モノマーの結合モードとして３種の結合モード：頭部から頭部への結合、尾部から尾部への結合および頭部から尾部への結合があり、頭部から頭部への結合および尾部から尾部への結合を「ヘテロ結合」と呼ぶ。層Ａの耐薬品性は、ＰＶＤＦ中の「ヘテロ結合率」が１０ｍｏｌ％以下の場合に特に高い。ヘテロ結合率を低下させる観点から、ＰＶＤＦは、好ましくは、懸濁重合によって製造された樹脂である。ヘテロ結合率は、欧州特許出願公開第２７５６９５０号明細書に規定されているように、ＰＶＤＦの^１９Ｆ－ＮＭＲスペクトルのピークから決定することができる。典型的には、フルオロポリマーは架橋されておらず、したがって、熱可塑性加工に好適である。ＰＶＤＦは、層Ａの透明性が損なわれない程度に艶消し剤を含み得る。艶消し剤としては、有機艶消し剤および無機艶消し剤を使用することができる。

一実施形態では、フルオロポリマーは、５未満のヘイズ値を有する主に非晶質のＰＶＤＦまたは微結晶性ＰＶＤＦである。ヘイズ値は、ASTM D1003に従って、２３℃で、厚さ３０μｍの純粋なフルオロポリマー（ＰＶＤＦ）箔においてこの目的のために測定される。適度に低いヘイズ値を有する特に良好な適合性を有するタイプのＰＶＤＦの例は、SolvayのSolef（登録商標）9009、KurehaのT850およびArkemaのKynar（登録商標）9000HDである。

ポリアルキル（メタ）アクリレート
ポリアルキル（メタ）アクリレートは、通常、アルキル（メタ）アクリレート、典型的にはメチルメタクリレート（ａ）および少なくとも１種の更なる（メタ）アクリレート（ｂ）を典型的に含む混合物のフリーラジカル重合によって得られる。これらの混合物は、概して、モノマーの重量に基づいて、少なくとも５０重量％、好ましくは少なくとも６０重量％、特に好ましくは少なくとも８０重量％、さらにより好ましくは少なくとも９０重量％のメチルメタクリレート（ａ）を含む。概して使用されるメチルメタクリレート（ａ）の量は、モノマーの重量に基づいて、５０．０重量％～９９．９重量％、好ましくは８０．０重量％～９９．０重量％、特に好ましくは９０．０重量％～９９．０重量％である。

ポリアルキル（メタ）アクリレートを製造するためのこれらの混合物は、メチルメタクリレート（ａ）と共重合可能な他の（メタ）アクリレート（ｂ）も含み得る。本明細書で使用される場合、「（メタ）アクリレート」という用語は、メタクリレート、アクリレートおよびそれらの混合物を包含することを意味する。（メタ）アクリレートは、飽和アルコール、例えば、メチルアクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレートおよび２－エチルヘキシル（メタ）アクリレートから誘導することができるか；または不飽和アルコール、例えば、オレイル（メタ）アクリレート、２－プロピニル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ビニル（メタ）アクリレート；またアリール（メタ）アクリレート、例えば、ベンジル（メタ）アクリレートもしくはフェニル（メタ）アクリレート、シクロアルキル（メタ）アクリレート、例えば、３－ビニルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート；ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、例えば、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３，４－ジヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；グリコールジ（メタ）アクリレート、例えば、１，４－ブタンジオール（メタ）アクリレート、エーテルアルコールの（メタ）アクリレート、例えば、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ビニルオキシエトキシエチル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリル酸のアミドおよびニトリルなどから誘導することができる。

概して使用される（メタ）アクリルコモノマー（ｂ）の量は、モノマーの重量に基づいて、０．１重量％～５０．０重量％、好ましくは１．０重量％～２０．０重量％、特に好ましくは１．０重量％～１０．０重量％であり、ここでの化合物は、個々にまたは混合物の形態で使用することができる。

重合すべき組成物は、上記のメチルメタクリレート（ａ）および（メタ）アクリレート（ｂ）のみならず、メチルメタクリレートおよびすでに言及されている（メタ）アクリレートと共重合可能な他の不飽和モノマーも含み得る。これらのなかには、とりわけ、１－アルケン、例えば、１－ヘキセン、１－ヘプテン；分岐アルケン、例えば、ビニルシクロヘキサン、３，３－ジメチル－１－プロペン、３－メチル－１－ジイソブチレン、４－メチル－１－ペンテン；アクリロニトリル；ビニルエステル、例えば、酢酸ビニル；スチレン、側鎖にアルキル置換基を有する置換スチレン、例えば、α－メチルスチレンおよびα－エチルスチレン、マレイン酸誘導体、例えば、マレイン酸無水物、メチルマレイン酸無水物、マレイミド、メチルマレイミド；ならびにジエン、例えば、ジビニルベンゼンがある。

概して使用されるこれらのコモノマー（ｃ）の量は、モノマーの重量に基づいて、０．０重量％～１０．０重量％、好ましくは０．０重量％～５．０重量％、特に好ましくは０．０重量％～２．０重量％であり、ここでの化合物は、個々にまたは混合物の形態で使用することができる。

重合可能な構成要素として、
（ａ） ５０．０重量％～９９．９重量％のメチルメタクリレート、
（ｂ） ０．１重量％～５０．０重量％のＣ１～Ｃ４アルコールのアクリル酸エステル、
（ｃ） モノマー（ａ）および（ｂ）と共重合可能な０．０重量％～１０．０重量％のモノマー
を有する組成物を重合することによって得ることができるポリアルキル（メタ）アクリレートがさらに好ましい。

別の更なる実施形態では、８５．０重量％～９９．５重量％のメチルメタクリレートおよび０．５重量％～１５．０重量％のメチルアクリレートから構成されているポリアルキル（メタ）アクリレートが好ましく、ここでの量は、１００重量％の重合可能な構成要素に基づく。特に有利なコポリマーは、９０．０重量％～９９．５重量％のメチルメタクリレートおよび０．５重量％～１０．０重量％のメチルアクリレートの共重合によって得ることができるものであり、ここで、量は、１００重量％の重合可能な構成要素に基づく。例えば、ポリアルキル（メタ）アクリレートは、９１．０重量％のメチルメタクリレートおよび９．０重量％のメチルアクリレートを含み得るか、９６．０重量％のメチルメタクリレートおよび４．０重量％のメチルアクリレートを含み得るか、または９９．０重量％のメチルメタクリレートおよび１．０重量％のメチルアクリレートを含み得る。前記ポリアルキル（メタ）アクリレートのビカー軟化点ＶＳＰ（ISO 306:2013の方法B50）は、典型的には、少なくとも９０℃、好ましくは９５℃～１１２℃である。

ポリアルキル（メタ）アクリレートの重量平均モル質量Ｍｗは、概して、５００００ｇ／ｍｏｌ～３０００００ｇ／ｍｏｌの範囲である。特に有利な機械的特性は、５００００ｇ／ｍｏｌ～１８００００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは８００００ｇ／ｍｏｌ～１６００００ｇ／ｍｏｌの範囲の平均モル質量Ｍｗを有するポリアルキル（メタ）アクリレートを有する箔から得られ、いずれの場合も、ＰＭＭＡ較正標準および溶離液としてのＴＨＦに対してＧＰＣによって決定される。

特に好ましい実施形態では、ポリアルキル（メタ）アクリレートは、重合可能な構成要素が、重合可能な組成物の重量に基づいて、
（ａ） ８０．０重量％～９９．５重量％のメチルメタクリレート、および
（ｂ） ０．５重量％～２０．０重量％のＣ１～Ｃ４アルコールのアクリル酸エステル
を含む組成物を重合することによって得ることができる。

耐衝撃性改良剤
本発明での使用のための耐衝撃性改良剤自体は周知であり、異なる化学組成および異なるポリマー構造を有し得る。耐衝撃性改良剤は、架橋されたものであり得るか、または熱可塑性であり得る。さらに、耐衝撃性改良剤は、コア－シェル粒子またはコア－シェル－シェル粒子としての微粒子状の形態であり得る。典型的には、微粒子状の耐衝撃性改良剤は、５０ｎｍ～１０００ｎｍ、好ましくは１００ｎｍ～５００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ～４００ｎｍ、最も好ましくは１５０ｎｍ～３５０ｎｍの平均粒子直径を有する。この文脈における「微粒子状の耐衝撃性改良剤」は、概して、コア構造、コア－シェル構造、コア－シェル－シェル構造またはコア－シェル－シェル－シェル構造を有する架橋された耐衝撃性改良剤を意味する。微粒子状の耐衝撃性改良剤の平均粒子直径は、当業者に公知の方法、例えば、規格DIN ISO 13321:1996に準拠した光子相関分光法によって決定することができる。

最も単純な場合、微粒子状の耐衝撃性改良剤は、乳化重合によって得られる架橋された粒子であり、その平均粒子直径は、１０ｎｍ～１５０ｎｍ、好ましくは２０ｎｍ～１００ｎｍ、特に３０ｎｍ～９０ｎｍの範囲である。これらは、概して、少なくとも２０．０重量％、好ましくは２０．０重量％～９９．０重量％、特に好ましくは３０．０重量％～９８．０重量％の範囲のブチルアクリレートと、０．１重量％～２．０重量％、好ましくは０．５重量％～１．０重量％の架橋性モノマー、例えば、多官能性（メタ）アクリレート、例えば、アリルメタクリレートと、必要に応じて、他のモノマー、例えば、０．０重量％～１０．０重量％、好ましくは０．５重量％～５．０重量％のＣ１～Ｃ４－アルキルメタクリレート、例えば、エチルアクリレートもしくはブチルメタクリレート、好ましくはメチルアクリレート、または他のビニル重合性モノマー、例えば、スチレンとから構成されている。

更なる好ましい耐衝撃性改良剤は、コア－シェル構造またはコア－シェル－シェル構造を有し得るポリマー粒子であり、乳化重合によって得られる（例えば、欧州特許出願公開第０１１３９２４号明細書、欧州特許出願公開第０５２２３５１号明細書、欧州特許出願公開第０４６５０４９号明細書、欧州特許出願公開第０６８３０２８号明細書および米国特許第１０，０４０，９１５号明細書を参照）。本発明は、典型的には、２０ｎｍ～５００ｎｍ、好ましくは５０ｎｍ～４５０ｎｍ、より好ましくは１５０ｎｍ～４００ｎｍ、最も好ましくは２００ｎｍ～３５０ｎｍの範囲のこれらのエマルションポリマーの好適な平均粒子直径を必要とする。

コアおよび２つのシェルを有する三層構造または三相構造は、以下の通りに調製することができる。最も内側の（硬質）シェルは、例えば、メチルメタクリレート、少ない割合のコモノマー、例えばエチルアクリレート、およびある割合の架橋剤、例えばアリルメタクリレートから構成することができる。中間の（軟質）シェルは、例えば、ブチルアクリレートおよび必要に応じてスチレンを含むコポリマーから構成することができ、その一方で、最も外側の（硬質）シェルは、マトリックスポリマーと同じであり、したがって、マトリックスへの適合性および良好な結合をもたらす。

二層または三層のコア－シェル構造の耐衝撃性改良剤のコアまたはシェルにおけるポリブチルアクリレートの割合は、耐衝撃性改良作用にとって決定的であり、耐衝撃性改良剤の重量に基づいて、好ましくは２０．０重量％～９９．０重量％の範囲、特に好ましくは３０．０重量％～９８．０重量％の範囲、さらにより好ましくは４０．０重量％～９７．０重量％の範囲である。軟質相としてポリブチルアクリレートまたはポリブタジエンのコポリマーを含む微粒子状の耐衝撃性改良剤に加えて、シロキサンを含む耐衝撃性改良剤の使用も可能である。

熱可塑性の耐衝撃性改良剤は、微粒子状の耐衝撃性改良剤とは異なる作用機序を有する。これらは、一般にマトリックス材料と混合される。例えばブロックコポリマーの使用の場合に生じるように、ドメインが形成される場合、これらのドメインの好ましいサイズは、例えば電子顕微鏡法によって決定することができるサイズであり、コア－シェル粒子の好ましいサイズに対応する。

熱可塑性の耐衝撃性改良剤の様々なクラスがある。その一例は、脂肪族熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）、例えば、Covestro AGから市販されているDesmopan（登録商標）製品である。例えば、TPU Desmopan（登録商標）WDP 85784A、WDP 85092A、WDP 89085AおよびWDP 89051Dは、すべて１．４９０～１．５００の屈折率を有し、耐衝撃性改良剤として特に好適である。

耐衝撃性改良剤として本発明の箔に使用される熱可塑性ポリマーの更なるクラスは、メタクリレート－アクリレートブロックコポリマー、特にアクリルＴＰＥであり、これは、ＰＭＭＡ－ポリ－ｎ－ブチルアクリレート－ＰＭＭＡトリブロックコポリマーを含み、Kurarity（登録商標）という製品名でKurarayによって市販されている。ポリ－ｎ－ブチルアクリレートブロックは、ポリマーマトリックス中に１０ｎｍ～２０ｎｍのサイズを有するナノドメインを形成する。

上記の熱可塑性の耐衝撃性改良剤に加えて、ＰＶＤＦを含む熱可塑性の耐衝撃性改良剤の使用も可能である。しかしながら、層ＢおよびＣにおけるそのような改良剤の使用は、これらが層の接着促進特性を減じる傾向があるため、それほど有利ではない。

ＵＶ吸収剤およびＵＶ安定剤
光安定剤は周知であり、例えばHans Zweifel, Plastics Additives Handbook, Hanser Verlag, 5th Edition, 2001, p. 141以降に詳細に記載されている。光安定剤は、ＵＶ吸収剤、ＵＶ安定剤およびフリーラジカル捕捉剤を含むと理解される。

ＵＶ吸収剤は、例えば、置換ベンゾフェノン、サリチル酸エステル、桂皮酸エステル、オキサニリド、ベンゾオキサジノン、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、トリアジンまたはベンジリデンマロネートの群から誘導することができる。ＵＶ安定剤／フリーラジカル捕捉剤の最も知られている代表は、立体障害アミン（ヒンダードアミン光安定剤、ＨＡＬＳ）の群によって提供される。

好適な２－ヒドロキシベンゾフェノンは、とりわけ、４－ヒドロキシ、４－メトキシ、４－オクチルオキシ、４－デシルオキシ、４－ドデシルオキシ、４－ベンジルオキシ、４，２’，４’－トリヒドロキシおよび２’－ヒドロキシ－４，４’－ジメトキシ誘導体を含み得る。置換および非置換安息香酸の好適なエステルは、例えば、４－ｔｅｒｔ－ブチル－フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４－ｔｅｒｔ－ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート、２－メチル－４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエートである。

好ましくは、ＵＶ吸収剤とＵＶ安定剤との組み合わせは、以下の成分から構成されている：
・ ベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤、
・ トリアジンタイプのＵＶ吸収剤、
・ ＵＶ安定剤（ＨＡＬＳ化合物）。

これらの成分は、個々の物質の形態で、または混合物で使用することができる。

ベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤は従来技術で公知であり、典型的には２－（２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールである。対応する化合物としては、特に、２－（２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）－ベンゾトリアゾール、２－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（５’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシフェニル）－５－クロロ－ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）－５－クロロ－ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｓｅｃ－ブチル－５’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－４’－オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－アミル－２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’，５’－ビス－（α，α－ジメチルベンジル）－２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－（２－オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）－５－クロロ－ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－５’－［２－（２－エチルヘキシルオキシ）－カルボニルエチル］－２’－ヒドロキシフェニル）－５－クロロ－ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－（２－メトキシカルボニルエチル）フェニル）－５－クロロ－ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－（２－メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－（２－オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－５’－［２－（２－エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］－２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’－ドデシル－２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－（２－イソオクチルオキシ－カルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’－メチレン－ビス［４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－ベンゾトリアゾール－２－イルフェノール］；２－［３’－ｔｅｒｔ－ブチル－５’－（２－メトキシカルボニルエチル）－２’－ヒドロキシフェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；［Ｒ－ＣＨ_２ＣＨ_２－ＣＯＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、式中、Ｒ＝３’－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－ヒドロキシ－５’－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イルフェニル、２－［２’－ヒドロキシ－３’－（α，α－ジメチルベンジル）－５’－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－フェニル］－ベンゾトリアゾール；２－［２’－ヒドロキシ－３’－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－５’－（α，α－ジメチルベンジル）－フェニル］ベンゾトリアゾールが挙げられる。使用することができるベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤の更なる例は、２－（２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－［２－ヒドロキシ－３，５－ジ（α，α－ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ブチル－５－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－３－ｓｅｃ－ブチル－５－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、フェノール、２，２’－メチレンビス［６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）］である。これらの化合物は、BASF SE（Ludwigshafen、Germany）から、例えば、Tinuvin（登録商標）360およびTinuvin（登録商標）234として市販されている。

ベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤は、他のＵＶ吸収剤、例えば、ビスマロネートタイプのＵＶ吸収剤と組み合わせて使用されてもよい。そのような組み合わせの例は、Eutec Chemical Co. Ltd.から入手可能なEusorb（登録商標）BLA 4200M（Tinuvin（登録商標）329およびHostavin（登録商標）B-CAPを含む商用製品）である。

層Ｂ中のベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤の量は、アクリルベースの層Ｂの重量に基づいて、０．１～５．０重量％、好ましくは０．２～４．０重量％、非常に特に好ましくは０．５～３．０重量％である。異なるベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤の混合物を使用することも可能である。

トリアジンタイプのＵＶ吸収剤は、典型的には２－（２－ヒドロキシフェニル）－１，３，５－トリアジン誘導体である。好ましく使用される２－（２－ヒドロキシフェニル）－１，３，５－トリアジンとしては、とりわけ、２，４，６－トリス（２－ヒドロキシ－４－オクチルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－オクチルオキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（２－ヒドロキシ－４－プロピル－オキシフェニル）－６－（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－オクチルオキシフェニル）－４，６－ビス（４－メチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－ドデシルオキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－トリデシルオキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－［２－ヒドロキシ－４－（２－ヒドロキシ－３－ブチルオキシプロポキシ）フェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチル）－１，３，５－トリアジン、２－［２－ヒドロキシ－４－（２－ヒドロキシ－３－オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチル）－１，３，５－トリアジン、２－［４－（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）－２－ヒドロキシフェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－［２－ヒドロキシ－４－（２－ヒドロキシ－３－ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－ヘキシルオキシ）フェニル－４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－メトキシフェニル）－４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン、２，４，６－トリス［２－ヒドロキシ－４－（３－ブトキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシフェニル）－４－（４－メトキシフェニル）－６－フェニル－１，３，５－トリアジン、２－｛２－ヒドロキシ－４－［３－（２－エチルヘキシル－１－オキシ）－２－ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝－４，６－ビス（２，４－ジ－メチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（４－［２－エチルヘキシルオキシ］－２－ヒドロキシフェニル）－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジンが挙げられる。２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－ヘキシルオキシフェノールなどのトリアジンタイプのＵＶ吸収剤も使用することができる。これらの化合物は、例えば、BASF SE（Ludwigshafen、Germany）からTinuvin（登録商標）1600、Tinuvin（登録商標）1577またはTinuvin（登録商標）1545という商標で市販されている。

トリアジンタイプのＵＶ吸収剤の量は、層の重量に基づいて、０．１～５．０重量％、好ましくは０．２～３．０重量％、非常に特に好ましくは０．５～２．０重量％である。異なるトリアジンタイプのＵＶ吸収剤の混合物を使用することも可能である。

更なる好ましい実施形態では、ＵＶ吸収剤は、無機微粒子材料であり得る。そのような材料は、有利には、酸化亜鉛、二酸化チタン、二酸化セリウム、二酸化スズ、酸化鉄、シリカ、またはガラスビーズもしくはガラス粉末の形態であり得るガラスから選択され得る。好適な無機微粒子材料の例は、例えば、Croda International Plc（Snaith、United Kingdom）から入手可能なSolasorb（商標）UV100（二酸化チタン分散体、４５重量％の無機および有機コーティング二酸化チタンを含有、平均粒径４０ｎｍ）、Solasorb（商標）UV200（酸化亜鉛分散体、６０重量％の酸化亜鉛を含有、平均粒径６０ｎｍ）である。ＵＶ吸収剤としてガラスを使用する実施形態では、１０μｍ未満の粒径を有するガラス粉末またはガラスビーズの使用が、効率的なＵＶ吸収および可視光の高い透過度の点で特に有利である。この目的のためのガラスの選択は特に限定されることはないが、Schott AG（Mainz、Germany）から入手可能なGG395、GG400、GG420、GG435、GG475、OG515、OG530などのガラスの種類が特に有用であることが示された。

立体障害アミンであるＨＡＬＳ（ヒンダードアミン光安定剤）ＵＶ安定剤自体は公知である。これらは、塗料およびプラスチック、特にポリオレフィンプラスチックのエージング現象を抑制するために使用することができる（Kunststoffe, 74 (1984) 10, pp. 620-623; Farbe + Lack, Volume 96, 9/1990, pp. 689-693）。ＨＡＬＳ化合物中に存在するテトラメチルピペリジン基は、安定化効果に関与している。このクラスの化合物は、ピペリジン窒素に置換がない場合があるか、またはピペリジン窒素にアルキル基もしくはアシル基による置換がある場合がある。立体障害アミンは、ＵＶ領域では吸収しない。これらは、形成されたフリーラジカルを捕捉するが、ＵＶ吸収剤は、これを行うことができない。安定化効果を有し、かつ混合物の形態でも使用することができるＨＡＬＳ化合物の例は、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケート、８－アセチル－３－ドデシル－７，７，９，９－テトラメチル－１，３，８－トリアザスピロ（４，５）－デカン－２，５－ジオン、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）スクシネート、ポリ（Ｎ－β－ヒドロキシエチル－２，２，６，６－テトラメチル－４－ヒドロキシピペリジンスクシネート）またはビス（Ｎ－メチル－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケートである。

層Ｂ中のＨＡＬＳ化合物の使用量は、典型的には、層Ｂの重量に基づいて、０．０～５．０重量％、好ましくは０．１～３．０重量％、非常に特に好ましくは０．２～２．０重量％である。異なるＨＡＬＳ化合物の混合物を使用することも可能である。

使用することができる他の共安定剤は、上記のＨＡＬＳ化合物、二亜硫酸塩、例えば二亜硫酸ナトリウム、ならびに立体障害フェノールおよびホスファイトである。そのような共安定剤は、層の重量に基づいて、０．１～５．０重量％の濃度で存在し得る。

立体障害フェノールは、本発明の箔での使用に特に好適である。好ましい立体障害フェノールとしては、とりわけ、６－ｔｅｒｔ－ブチル－３－メチルフェニル誘導体、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、２，６－ｔｅｒｔ－ブチル－４－エチルフェノール、２，２’－メチレンビス－（４－エチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、４，４’－ブチリデンビス（６－ｔｅｒｔ－ブチル－ｍ－クレゾール）、４，４’－チオビス（６－ｔｅｒｔ－ブチル－ｍ－クレゾール）、４，４’－ジヒドロキシジフェニルシクロヘキサン、アルキル化ビスフェノール、スチレン化フェノール、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール、ｎ－オクタデシル－３－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）、４，４’－ブチリデンビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、ステアリル－β（３，５－ジ－４－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，１，３－トリス（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ブタン、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３－５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス－［メチレン－３（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンが挙げられる。市販の立体障害フェノールとしては、SUMILIZER BHT BP-76、WXR、GA-80およびBP-101（SUMITOMO）、IRGANOX（登録商標）1076、IRGANOX（登録商標）565、IRGANOX（登録商標）1035、IRGANOX（登録商標）1425WL、IRGANOX（登録商標）3114、IRGANOX（登録商標）1330およびIRGANOX（登録商標）1010（BASF SE）、MARK AO-50、-80、-30、-20、-330および-60（ADEKA ARGUS）、ならびにTOMINOX SS、TT（YOSHITOMI）、IONOX WSP（ICI）、SANTONOX（登録商標）（MONSANTO）、ANTAGE CRYSTAL（KAWAGUCHI）、NOCLIZER NS-6（OUCHI SHINKO）、TOPANOL（登録商標）CA（ICI）、CYANOX（登録商標）1790（ACC）が挙げられる。

典型的には、層Ａ、Ｂおよび存在する場合Ｃは、層Ｂの重量に基づいて、
第１のＵＶ吸収剤としての０．５～４．０重量％のベンゾトリアゾールタイプの化合物、
第２のＵＶ吸収剤としての０．５～３．０重量％のトリアジンタイプの化合物、および
ＵＶ安定剤としての０．２～２．０重量％のＨＡＬＳタイプの化合物
を含み得る。

接着促進コポリマー
典型的には、接着促進コポリマーは、接着促進コポリマーの重量に基づいて、
（ｉ） ５０．０～９９．５重量％、好ましくは７０．０～９９．５重量％のメチルメタクリレート、
（ｉｉ） ０．５～２５．０重量％、好ましくは０．５～１５．０重量％の接着促進モノマー、および
（ｉｉｉ） ビニル官能基以外の官能基を有しない０．０～２５．０重量％の他のビニル共重合可能なモノマー
を含む。

ビニル共重合可能なモノマー（ｉｉｉ）は、α－ハロゲンスチレン、ｐ－メチルスチレン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルスチレン、ビニルナフタレン、ならびに好ましくはα－メチルスチレンおよびスチレンなどのビニル芳香族モノマーの群から選択することができ、ここで、スチレンが特に好ましい。

本明細書で使用される場合、「接着促進モノマー」（ｉｉ）という用語は、重合可能な二重結合と、アミノ基またはメチロール基と反応することができる反応性官能基とを有するモノマーを指す。したがって、接着促進コポリマーは、メチロールメラミンおよびその誘導体、具体的にはメラミン樹脂またはその前駆体を含有する材料と接触させた状態で加熱反応を実施することによって、ＨＰＬのメラミン樹脂と化学的に相互作用することができる。反応性官能基の反応温度は、触媒の存在、ｐＨ値などに応じて異なるが、好ましくは５０～２００℃、より好ましくは１１０～１７０℃である。ＨＰＬは一般に１１０～１７０℃の温度で製造されるため、反応温度が１１０～１７０℃である場合、接着促進コポリマーは、ＨＰＬのメラミン樹脂と化学的に反応する。

アミノ基またはメチロール基に対する反応性官能基の例としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、酸無水物基、イミド基およびエポキシ基が挙げられるが、これらに限定されることはなく、ここで、酸無水物基およびカルボキシル基が特に有用である。したがって、本発明での使用に特に好適な接着促進モノマーとしては、不飽和カルボン酸無水物、不飽和ジカルボン酸無水物および不飽和ジカルボン酸イミドが挙げられるが、これらに限定されることはない。マレイン酸無水物、メタクリル酸無水物、メタクリル酸、マレイン酸無水物またはイタコン酸無水物、Ｎ－フェニルマレイミドおよびＮ－シクロヘキシルマレイミドの使用は、特に有利な接着促進特性をもたらすことを示した。ＧＭＡ（グリシジルメタクリレート）、マレイン酸誘導体、例えば、マレイン酸、マレイン酸無水物（ＭＡ）、メチルマレイン酸無水物、マレイミド、メチルマレイミド、マレアミド（ＭＡｓ）、フェニルマレイミドおよびシクロヘキシルマレイミド、フマル酸誘導体、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水物からなる群から選択されるものを使用することが特に有利である。最も有望な結果は、マレイン酸無水物およびメタクリル酸無水物で観察された。

好ましい実施形態では、接着促進コポリマーは、コポリマーの重量に基づいて、
（ｉ） ５０．０～９５．０重量％、好ましくは６０．０～９０．０重量％、より好ましくは７０．０～８５．０重量％、さらにより好ましくは７０～８０重量％のメチルメタクリレート、
（ｉｉ） ０．２～２５．０重量％、好ましくは０．５～２０．０重量％、より好ましくは１．０～１５．０重量％、さらにより好ましくは５．０～１２．０重量％のマレイン酸無水物、および
（ｉｉｉ） ビニル官能基以外の官能基を有しない０．０～２５．０重量％、好ましくは２．０～１５．０重量％の他のビニル共重合可能なモノマー
を含む。

最も好ましい実施形態では、接着促進コポリマーは、ＭＭＡ、スチレンおよびマレイン酸無水物のコポリマーである。

保護すべき基板に応じて、接着促進剤、特に接着促進コポリマーは、アクリルベースの層Ｂ中ではなく、別個の接着促進層Ｃ中に配置され得る（図２を参照）。この実施形態では、接着促進コポリマーを有する層Ｃは、コポリマーの重量に基づいて、
（ｉ） ５０．０～９５．０重量％、好ましくは６０．０～９０．０重量％、より好ましくは７０．０～８５．０重量％、さらにより好ましくは７０～８０重量％のメチルメタクリレート、
（ｉｉ） ０．２～２５．０重量％、好ましくは０．５～２０．０重量％、より好ましくは１．０～１５．０重量％、さらにより好ましくは５．０～１２．０重量％のマレイン酸無水物、および
（ｉｉｉ） ビニル官能基以外の官能基を有しない０．０～２５．０重量％、好ましくは２．０～１５．０重量％の他のビニル共重合可能なモノマー
を含む。

典型的には、層Ｃが存在する場合、本発明の箔における層の順序は、以下の通りである：Ａ－Ｂ－Ｃ。最も好ましい実施形態では、本発明の箔は、互いにこの順序で配置された層Ａ、ＢおよびＣからなる。

シリカ粒子
幾つかの実施形態では、層ＢまたはＣは微粒子シリカを含み、したがって、メラミン樹脂ベースのＨＰＬなどの材料に対して驚くほど高い接着性を有する。したがって、本発明の多層の箔は、層ＢまたはＣが基板に面するように箔を適用することによって、ＨＰＬなどの様々な基板のラミネート加工に直接的に使用することができる。重要なのは、上記のような接着促進コポリマーの存在がこの実施形態ではもはや必須ではないことである。

多層の箔の良好な取り扱い特性と層ＢまたはＣの良好な接着特性との間の最適なバランスを実現するために、１種または数種の耐衝撃性改良剤の含有量ｎ_ｉｍ（重量％）が以下の関係に従うことを確保することが有利であると示された：
０．０１＊ｎ_ｉｍ≦ｎ_ｓｉ≦０．４＊ｎ_ｉｍ
ｎ_ｓｉは、層中の微粒子シリカの含有量（重量％）である。

層中の微粒子シリカの含有量ｎ_ｓｉが０．０１＊ｎ_ｉｍ未満である場合、多層の箔は、基本的に、依然として所望の目的に好適であろう。しかしながら、層への様々な液体コーティングの接着性および幾つかの基板への層の接着性がある程度低下する可能性がある。他方で、層中の微粒子シリカの含有量ｎ_ｓｉが０．４＊ｎ_ｉｍよりも高い場合、層の脆性が増加するであろう。結果的に、本発明の多層の箔は、取り扱いがより困難になるであろう。

さらに、層の接着特性とその脆性との間のさらにより良好なバランスを実現するために、層中の１種または数種の耐衝撃性改良剤の含有量ｎ_ｉｍ（重量％）が以下の関係に従うことが特に有利である：
０．０３＊ｎ_ｉｍ≦ｎ_ｓｉ≦０．３＊ｎ_ｉｍ
式中、層中の１種または数種の耐衝撃性改良剤の含有量ｎ_ｉｍ（重量％）が以下の関係に従うことが特に有利である：
０．０５＊ｎ_ｉｍ≦ｎ_ｓｉ≦０．２＊ｎ_ｉｍ
ｎ_ｓｉは、層中の微粒子シリカの含有量（重量％）である。

本発明での使用のための微粒子シリカの選択は特に限定されることはなく、パイロジェニックシリカおよび沈降シリカを使用することができる。それにもかかわらず、接着促進特性の点で、ＢＥＴ法、規格ISO 9277によって測定して、２００ｍ^２／ｇ超、好ましくは３００ｍ^２／ｇ超、より好ましくは４００ｍ^２／ｇ超、さらにより好ましくは５００ｍ^２／ｇ超の比表面積を有する微粒子シリカを選択することが有利であると示された。さらに、微粒子シリカの比表面積は、好ましくは、８５０ｍ^２／ｇ以下である。

好ましい実施形態では、シリカ粒子は、１．０μｍ～２０．０μｍ、より好ましくは２．０μｍ～１５．０μｍの範囲の重量平均粒子直径ｄ_５０を有する。重量平均粒子直径ｄ_５０は、Beckman Coulter Inc.のLS 13 320 Laser Diffraction Particle Size Analyzerなどの市販の機器を使用して、当業者に公知の方法によって、例えば、規格DIN ISO 13320に準拠したレーザー回折法によって決定することができる。

好ましくは、シリカ粒子は、０．１重量％以下の４５μｍふるい分け残留物を示し、すなわち、４５μｍより大きな粒径を有する集合体は実質的に存在しない。これによって、大きなフィラー集合体が存在することなく、ポリ（メタ）アクリレート箔のマトリックス中にシリカ粒子を特に均質に分布させることができ、そのため、得られる箔は、実質的に均一な外観を示し、優れた機械的特性を有する。層中にシリカ粒子のより大きな集合体がかなりの量で存在することは、そのような集合体が箔亀裂を開始する傾向があり、それによって、箔のランダムな位置で初期引裂強度が低減されるため、不利である。

本発明での使用のための微粒子シリカは、典型的には、ISO 3262-19に基づいて、９５重量％以上、より好ましくは９６重量％以上、さらにより好ましくは９７重量％以上のＳｉＯ_２含有量を有する。

例えばUllmann’s Encyclopaedia of Industrial Chemistry, 5th edition, vol. A23, p. 642-647に記載されているような沈降シリカの使用が特に好ましい。沈降シリカは、ＢＥＴ法によって測定して、８５０ｍ^２／ｇまでの比表面積を有することができ、少なくとも１種のケイ酸塩、好ましくはアルカリ金属ケイ酸塩および／またはアルカリ土類金属ケイ酸塩と、少なくとも１種の酸性化剤、好ましくは少なくとも１種の鉱酸との反応によって得られる。シリカゲル（Ullmann’s Encyclopaedia of Industrial Chemistry, 5th edition, vol. A23, p. 629-635を参照）とは対照的に、沈降シリカは、均質な三次元ＳｉＯ_２ネットワークではなく、個々の凝集体および集合体からなる。沈降シリカの特有の特徴は、いわゆる内部表面積の割合が高いことであり、これは、マイクロ細孔およびメソ細孔を有する非常に多孔質な構造に反映されている。

沈降シリカは、AEROSIL（登録商標）としても公知であるヒュームドシリカとは異なる（Ullmann’s Encyclopaedia of Industrial Chemistry, 5th edition, vol. A23, p. 635-642を参照）。ヒュームドシリカは、四塩化ケイ素から火炎加水分解によって得られる。完全に異なる調製プロセスに基づいて、ヒュームドシリカは、他の特性のなかでも、沈降シリカとは異なる表面特性を有する。これは、例えば、表面のシラノール基の数がより少ないことで表されている。さらに、ヒュームドシリカの製造によっては、多価アニオンは生じない。

本発明での使用のための沈降シリカとしては、とりわけ、SIPERNAT（登録商標）160、SIPERNAT（登録商標）310、SIPERNAT（登録商標）320、SIPERNAT（登録商標）320DS、SIPERNAT（登録商標）325C、SIPERNAT（登録商標）350、SIPERNAT（登録商標）360、SIPERNAT（登録商標）383DS、SIPERNAT（登録商標）500LS、SIPERNAT（登録商標）570、SIPERNAT（登録商標）700、SIPERNAT（登録商標）22、SIPERNAT（登録商標）22S、SIPERNAT（登録商標）50LOS、SIPERNAT（登録商標）22、Tixosil（登録商標）38、Tixosil（登録商標）38A、Tixosil（登録商標）38D、Tixosil（登録商標）38D、Tixosil（登録商標）38X、Tixosil（登録商標）38AB、Tixosil（登録商標）39、Tixosil（登録商標）43、Tixosil（登録商標）331、Tixosil（登録商標）365、Zeoosil（登録商標）175BB、Zeosil（登録商標）39、Zeosil（登録商標）39AB、Zeosil（登録商標）45、Flo-Gard（商標）FF320、Flo-Gard（商標）FF330、Flo-Gard（商標）FF350、Flo-Gard（商標）FF370、Flo-Gard（商標）FF390、Flo-Gard（商標）SP、Flo-Gard（商標）SP-D、Hi-Sil（商標）213、Hi-Sil（商標）ABS、Hi-Sil（商標）HOA、Hi-Sil（商標）HOA-D、Hi-Sil（商標）SC50-D、Hi-Sil（商標）60-M、Hi-Sil（商標）72、Hi-Sil（商標）T-600、Hi-Sil（商標）T650、Hi-Sil（商標）700、Hubersil（登録商標）5170、Hubersorb（登録商標）250、Hubersorb（登録商標）250NF、Hubersorb（登録商標）5121、Hubersorb（登録商標）600、Hubersorb（登録商標）E、ZEOFREE（登録商標）110SD、ZEOFREE（登録商標）153、ZEOFREE（登録商標）153B、ZEOFREE（登録商標）182、ZEOFREE（登録商標）51、ZEOFREE（登録商標）5111、ZEOFREE（登録商標）5112、ZEOFREE（登録商標）5161、ZEOFREE（登録商標）5161A、ZEOFREE（登録商標）5161S、ZEOFREE（登録商標）5175B、ZEOFREE（登録商標）5181、ZEOFREE（登録商標）5183、ZEOFREE（登録商標）80、ZEOFREE（登録商標）684が挙げられる。

しかしながら、ヒュームドシリカまたはパイロジェニックシリカも使用することができる。Evonik Industries AGの好適なAEROSIL（登録商標）タイプは、例えば、AEROSIL（登録商標）90、AEROSIL（登録商標）130、AEROSIL（登録商標）150、AEROSIL（登録商標）200、AEROSIL（登録商標）300、AEROSIL（登録商標）380、AEROSIL（登録商標）Ox 50であるが、Cab-O-Sil（登録商標）M5、Cab-O-Sil（登録商標）EH5、Cab-O-Sil（登録商標）S17、HDK T40、HDK N20、HDK N20Eも使用することができる。

箔の特性
想定される目的に応じて、本発明の箔は、１．０μｍ～３００．０μｍ、より好ましくは１．０μｍ～２００．０μｍ、それよりもさらにより好ましくは５．０μｍ～１００．０μｍの総厚を有し得る。

すでに上記にて概説したように、本発明の箔は、優れた機械的特性を有する。特に、規格ISO 527-3（2003）に記載されている方法などの一般的な方法によって測定される箔の破断伸びは、少なくとも５０％、好ましくは少なくとも６０％、さらにより好ましくは少なくとも７０％である。

本発明の箔の総厚は、規格ISO 4593-1993に準拠した機械的走査によって決定することができる。さらに、本発明の箔およびその個々の層の厚さは、走査型電子顕微鏡を使用して決定することができる。この目的のために、箔サンプルを液体窒素中で凍結させ、機械的に破断させることができ、新たに得られた表面を分析する。

層Ａは、典型的には、１．０μｍ～３０．０μｍ、好ましくは５．０μｍ～２０．０μｍの厚さを有する。

層Ｂは、通常、１０．０μｍ～２００．０μｍ、好ましくは１５．０μｍ～１５０．０μｍの厚さを有する。

接着促進層Ｃは、存在する場合、通常、１．０μｍ～３０．０μｍ、好ましくは２．０μｍ～２０．０μｍの厚さを有する。

層Ａ中に隆起フィラー粒子が存在することから、多層の箔の層Ａの外側表面は、典型的には、少なくとも０．７μｍ、好ましくは１．０～５０．０μｍ、より好ましくは２．０～４０．０μｍ、さらにより好ましくは５．０～３０．０μｍのDIN 4768に準拠した粗さ値Ｒｚを有する。粗さの測定は、Rank Taylor Hobson GmbH製のForm Talysurf 50などの市販の機器を使用して実施することができる。

DIN 67530（01/1982）による層Ａの外側表面の光沢（Ｒ６０°）は、通常、最大４０、好ましくは最大３０、特に１５～３０である。したがって、サンプルを下地と層Ｂとの間において水で測定し、これらの２つの表面間の光学的接続を確保した。光沢の測定は、Fa. Dr. Hach-Langeの反射計などのＲＬ実験室用反射計を使用して実施することができる。

典型的には、本発明の箔は、規格DIN EN ISO 13468-2（2006）に準拠して測定して、４００ｎｍ～８００ｎｍの各波長について、６０％超、好ましくは７０％超、より好ましくは８０％超の視感透過率（Ｄ_６５）を有する。さらに、本発明の箔は、好ましくは少なくとも８％、より好ましくは少なくとも１０％、さらにより好ましくは少なくとも１２％のＴＳＲを有する。規格DIN EN ISO 13468-2（2006）に準拠して２５０ｎｍ～２５００ｎｍで透過率および反射率の値を測定しながら、積分球を使用した材料の太陽光吸収、反射および透過（ASTM G 173-03（2012）に準拠した太陽光スペクトル）のための標準的な手順を使用して、フィルムのＴＳＲを規格ASTM E 903-96に記載されているように計算することができる。

箔を製造するための方法
意図される用途に応じて、本発明の箔は、任意の所望の厚さで製造することができる。ここでの驚くべき要因は、基板に提供される、特に高いＩＲ反射率および機械的安定性、ならびに非常に高い風化保護および機械的保護である。しかしながら、本発明の目的のためには、１０．０～２００．０μｍの範囲、好ましくは４０．０～１２０．０μｍの範囲、特に好ましくは５０．０～９０．０μｍの範囲の厚さを特徴とする比較的薄い箔が好ましい。

層Ａ、Ｂおよび存在する場合Ｃの個々の成分の混合物は、粉末状、粒状または好ましくはペレット状の形態である成分をドライブレンドすることによって調製することができる。そのような混合物は、溶融状態の個々の成分を溶融および混合して、または個々の成分のドライプレミックスを溶融して、すぐに使用可能な成形組成物を生成することによって加工することもできる。例えば、これは、一軸押出機または二軸押出機で行われ得る。次いで、得られた押出物はペレット化され得る。従来的な添加剤、助剤および／またはフィラーを、直接的に混合しても、または必要に応じて最終使用者が後に添加してもよい。さらに、小板状フィラー粒子の破損を最小限に抑え、箔におけるそれらの平行配向を最適化するために、層Ａを形成する成形組成物は、小板状フィラー粒子を層Ａの溶融材料に添加することによって調製されることが好ましい。

次いで、本発明の多層の箔を、共押出もしくはラミネート加工などであるそれ自体公知の方法によって、または押出ラミネート加工によって製造することができる。

１つの特定の製造変形形態は、箔成形プロセス、好ましくはチルロールプロセスで本発明の箔を成形するステップを含む、方法に関する。

基板への箔の適用
本発明の箔は、幅広い用途を有する。箔の１つの好ましい使用は、プラスチック成形品のコーティングである。ここで、ＰＶＣを含むかまたはＰＶＣからなるプラスチック成形品をコーティングすることが特に有利である。保護された基板は、有利には、例えば、アルミニウム、木材、プラスチックまたは複合材料から構成されている窓枠であり、好ましくはＰＶＣから構成されている装飾箔を有し得る。次いで、この物品は、本発明の箔を使用することによって風化から保護される。本発明の箔の別の好ましい使用は、基板材料のための高性能な耐久性のある表面仕上げの設計である。

概して、本発明のＩＲ反射箔の使用は、基板が、暗色、すなわち、６０未満、好ましくは５０未満、より好ましくは４０未満、さらにより好ましくは３０未満のＬ＊値（規格DIN 6174に準拠して決定したCIELAB 1976（Ｄ_６５、１０°））を有する場合、特に有利である。これによって、箔なしの物品と比較して有意により高いＴＳＲ値を有する多層物品を得ることができる。

当業者によって容易に理解されるように、本発明の箔は、コーティングされた基板の外側表面を層Ａが形成するように基板に適用される。言い換えるなら、本発明の箔が層ＡおよびＢから実質的になる場合、層Ｂは、層Ａと基板との間に配置されている。本発明の箔が層Ｃをさらに含む実施形態では、層Ｃは、層Ｂとコーティングされた基板の表面との間に配置されている。

したがって、本発明の更なる態様は、コーティングされた物品を製造するための方法であって、前記基板の表面に箔を適用するステップを含む、方法である。

基板上への本発明の箔の適用は、すべての場合において、比較的単純である。箔は、好ましくは、共押出によって、保護すべき基板に適用される。保護すべき材料への箔のラミネート加工による箔の適用も可能である。保護すべき材料に押出ラミネート加工によって箔を適用することを特徴とする使用も好ましい。好ましくは、押出ラミネート加工は、１２０℃以上の温度で、１ＭＰａ以上、好ましくは２ＭＰａ以上、より好ましくは４ＭＰａ以上、より好ましくは６ＭＰａ以上、より好ましくは７ＭＰａ以上の機械的圧力を加えて実施される。

本発明の一実施形態では、物品自体は、ロールの形態で都合良く保管することおよび／または取り扱うことができる箔またはシートであり得る。

更なる好ましい実施形態では、本発明のコーティングされた物品は、高圧ラミネート（ＨＰＬ）、中圧ラミネート（ＭＰＬ）または連続圧力ラミネート（ＣＰＬ）であり得る。したがって、本発明の一態様は、上記のような箔を使用する高圧ラミネートを製造するための方法に関する。特に好ましい実施形態では、本発明の箔を使用して得ることができる多層材料は、規格EN 438-2およびEN 438-6に準拠した装飾高圧ラミネート（ＨＰＬ）であり、これらは、繊維材料（例えば、紙）のウェブの層から構成されており、硬化性樹脂で含浸されており、これらは、下記の高圧プロセスによって互いに結合されている。材料の表面層は、その片面または両面に装飾的な色またはパターンがあり、アミノプラスチックをベースとした樹脂、例えばメラミン樹脂で含浸される。次いで、高圧プロセスの最中に装飾層中に存在するアミノ基またはメチロールアミノ基は、表面仕上げのためのポリメタクリレート層（この場合は、箔）への共有結合のための反応パートナーとして機能する。対応する高圧ラミネートは、とりわけ、米国特許出願公開第２０１７／０１９７３９１号明細書に記載されている。

ＨＰＬの調製は、典型的には、１ＭＰａ～２０ＭＰａ、好ましくは４ＭＰａ～１５ＭＰａ、より好ましくは６ＭＰａ～１０ＭＰａの圧力および１２０℃～２２０℃の温度にてバッチ式で実施される。

高圧プロセスは、装飾層と本発明によって適用されたポリメタクリレート層との間に長期持続的な結合を生成する。プロセスの最中に設定された温度およびそれに伴う箔へのメラミン樹脂飽和装飾紙の相互浸透によって、共有結合の十分な形成が確実になり、したがって、材料への長期持続的な結合が確実になる。

高圧プロセスは、熱（１２０℃以上の温度）および高圧（３ＭＰａ以上）の同時使用として定義され、その結果、硬化性樹脂が流動し、次いで、硬化して、必要な表面構造を有する比較的高密度（少なくとも１．３５ｇ／ｃｍ^３）の均質な非多孔質材料をもたらす。高圧プロセスは、バッチ式で、またはロール・ツー・ロールプロセスとして、すなわち、連続的に実施することができる。後者の製品は、通常、連続加圧ラミネート（ＣＰＬ）と呼ばれる。

ＣＰＬを製造するための方法は、硬化性樹脂ベースの支持体、例えば、フェノール樹脂ベースの支持体構造またはメラミン樹脂ベースの支持体構造を提供することを含む。支持体構造は、典型的には紙の層である幾つかの個々の層を含み得る。紙の層は、厚紙の層として入手可能であり得る。これらの層のうちの１つまたはすべてが、好ましくは、フェノール樹脂またはメラミン樹脂を含む。支持体構造は、通常、０．１ｍｍ～２ｍｍ、さらに好ましくは０．２ｍｍ～１．５ｍｍ、さらに好ましくは０．３ｍｍ～１．２ｍｍ、さらに好ましくは０．４ｍｍ～１．０ｍｍ、さらに好ましくは０．５ｍｍ～０．８ｍｍの厚さを有する。ＣＰＬプロセスは、本発明の多層の箔を支持体構造と一緒にプレス加工することを伴う。材料が圧力および温度に曝露される時間は、通常、ＨＰＬバッチプロセスよりも有意により短い。ＣＰＬプロセスでは、例えば両面加熱ダブルベルトプレス（double-sided heated double-belt press）を使用して層を連続プロセスでプレスして、ある種のエンドレスプレートにすることができる。ダブルベルトプレスは、構造ベルト（すなわち、構造化／エンボス加工された表面を有するベルト）を含み得る。プレス加工の圧力は、ＨＰＬの製造よりも低くすることができる。好ましくは、プレス加工は、１．０ＭＰａ～１０ＭＰａ、さらに好ましくは１．５ＭＰａ～８．０ＭＰａ、さらに好ましくは２．０ＭＰａ～６．０ＭＰａ、さらに好ましくは２．５ＭＰａ～４．５ＭＰａ、最も好ましくは３．０ＭＰａ～３．５ＭＰａの圧力にてＣＰＬプロセスで実施される。このステップの最中の温度は、通常、１２０℃～２００℃、さらに好ましくは１４０℃～１８０℃、さらに好ましくは１５０℃～１７０℃に保たれる。

以下の実施例は、限定することなく、本発明をより詳細に説明するものである。

実施例
ＳＥＭ画像
ＳＥＭ画像は、JEOL Ltd.から市販で得ることができる走査型電子顕微鏡JEOL JSM-IT300を使用して得た。

測定パラメータは、以下の通りであった：
タングステンフィラメント（カソード）からの電子の変動流
真空システム：ロータリーポンプ／油拡散ポンプ
Ｘ－Ｙ－Ｚ回転傾斜：完全電動
作動距離（ＷＤ）：５～７０ｍｍ（一般：１０ｍｍ）
サンプル回転：３６０°
サンプル傾斜：－５～最大９０°（ＷＤに応じる）
倍率：１０倍～３０００００倍
最大分解能：約３ｎｍ
検出器：二次電子（ＳＥ）
後方散乱電子（ＢＳＥ、５セグメント）
エネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＳ）

サンプルの調製
箔の厚さを測定するために、液体窒素を使用してサンプルを凍結させ、機械的に破断させた。この目的のために、脆性破壊を実施した。得られた破面を分析した。

導電層
すべての標準調製物を金でスパッタリングして、導電性表面を得た。

画像の測定
箔の平均厚さおよび個々の層の平均厚さをＳＥＭ画像で測定した。既存の画像のその後の測定を可能にするために、すべての画像および関連する測定パラメータをＳＥＭ画像データベースに保存した。

調製の手順
直径３５ｍｍの単軸押出機および直径２５ｍｍの単軸共押出機を使用して、押出速度７．３ｍ／分、２４０～２５０℃（押出ダイにおける溶融温度）でチルロールプロセスを使用して、アダプター押出および共押出によって、箔を製造した。あるいは、マルチマニホールド共押出プロセスによって、またはアダプターとマルチマニホールド共押出との組み合わせによって製造を実現することができる。

小板状フィラー粒子としては、Merck KGaA、Darmstadtから入手可能な１０～６０μｍの粒径（レーザー回折測定）を有する、ＴｉＯ_２（ルチル）、ＺｒＯ_２およびＳｎＯ_２でコーティングされた雲母ベースの赤外線反射顔料を使用した。

以下の例で使用したＰＭＭＡは、Roehm GmbH、Darmstadtから入手可能な、１５５０００ｇ／ｍｏｌの質量平均分子量Ｍｗ（ＰＭＭＡ標準に対してＧＰＣによって決定）を有する９６重量％のメチルメタクリレートと４重量％のメチルアクリレートとのコポリマーであった。

例で使用したＰＶＤＦは、Kureha GmbH、Duesseldorfから入手可能なKF Polymer T 850であった。

以下の例で言及されている耐衝撃性改良剤は、ブチルアクリレートベースのアクリルコア－シェル耐衝撃性改良剤であった。

Tinuvin（登録商標）360（（フェノール－２，２’－メチレン－ビス（６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）））、ベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤）およびTinuvin（登録商標）1600（（６－［４，６－ビス（４－フェニルフェニル）－１，２－ジヒドロ－１，３，５－トリアジン－２－イリデン］－３－［（２－エチルヘキシル）オキシ］シクロヘキサ－２，４－ジエン－１－オン）、トリアジンタイプのＵＶ吸収剤）は、BASF SE、Ludwigshafenから市販されている。

Sabo（登録商標）stab UV 119（１，３，５－トリアジン－２，４，６－トリアミン、Ｎ２，Ｎ２’’－１，２－エタンジイルビス［Ｎ２－［３－［［４，６－ビス［ブチル（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジニル）アミノ］－１，３，５－トリアジン－２－イル］アミノ］プロピル］－Ｎ’，Ｎ’’－ジブチル－Ｎ’，Ｎ’’－ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジニル）、ヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ））は、Sabo S.p.A、Levate、Italyから入手可能である。

製造例１（比較）
直径３５ｍｍの単軸押出機を使用して、押出速度７．３ｍ／分、２４０～２５０℃（溶融温度）で押出することによって、５３μｍの総厚を有するＰＭＭＡの単層の箔を調製した。

単層の箔は、以下の組成を有していた：
ａ） ８５．５重量％のコア－シェル耐衝撃性改良剤、
ｂ） １２．５重量％のＰＭＭＡ、
ｃ） １．０重量％のTinuvin（登録商標）360、
ｄ） ０．７重量％のTinuvin（登録商標）1600、
ｅ） ０．３重量％のSabo（登録商標）stab UV 119。

単層の箔は、小板状微粒子フィラーを含有していなかった。

製造例２（比較）
直径３５ｍｍの単軸押出機を使用して、押出速度７．３ｍ／分、２４０～２５０℃（溶融温度）で押出することによって、５３μｍの総厚を有するＰＭＭＡの単層の箔を調製した。

単層の箔は、以下の組成を有していた：
ａ） ８１．１重量％のコア－シェル耐衝撃性改良剤、
ｂ） １１．９重量％のＰＭＭＡ、
ｃ） １．０重量％のTinuvin（登録商標）360、
ｄ） ０．７重量％のTinuvin（登録商標）1600、
ｅ） ０．３重量％のSabo（登録商標）stab UV 119、
ｆ） ５．０重量％の小板状微粒子フィラー。

単層の箔は、箔の総重量に基づいて、５．００重量％の小板状微粒子フィラーを含有していた。

製造例３（比較）
直径３５ｍｍの単軸押出機を使用して、押出速度７．３ｍ／分、２４０～２５０℃（溶融温度）で押出することによって、５３μｍの総厚を有するＰＭＭＡの単層の箔を調製した。

単層の箔は、以下の組成を有していた：
ａ） ８３．８重量％のコア－シェル耐衝撃性改良剤、
ｂ） １２．２重量％のＰＭＭＡ、
ｃ） １．０重量％のTinuvin（登録商標）360、
ｄ） ０．７重量％のTinuvin（登録商標）1600、
ｅ） ０．３重量％のSabo（登録商標）stab UV 119、
ｆ） ２．０重量％の小板状微粒子フィラー。

単層の箔は、箔の総重量に基づいて、２．００重量％の小板状微粒子フィラーを含有していた。

製造例４（比較）
直径３５ｍｍの単軸押出機を使用して、押出速度７．３ｍ／分、２４０～２５０℃（溶融温度）で押出することによって、５３μｍの総厚を有するＰＭＭＡの単層の箔を調製した。

単層の箔は、以下の組成を有していた：
ａ） ８４．６重量％のコア－シェル耐衝撃性改良剤、
ｂ） １２．４重量％のＰＭＭＡ、
ｃ） １．０重量％のTinuvin（登録商標）360、
ｄ） ０．７重量％のTinuvin（登録商標）1600、
ｅ） ０．３重量％のSabo（登録商標）stab UV 119、
ｆ） １．０重量％の小板状微粒子フィラー。

単層の箔は、箔の総重量に基づいて、１．００重量％の小板状微粒子フィラーを含有していた。

製造例５（比較）
直径３５ｍｍの単軸押出機および直径２５ｍｍの単軸共押出機を使用して、押出速度７．３ｍ／分、２４０～２５０℃（溶融温度）で押出することによって、５３μｍの総厚を有するＰＭＭＡ層およびＰＶＤＦ層からなる二層箔を調製した。

層Ａは、５μｍの厚さおよび以下の組成を有していた：
ａ） １００．０重量％のＰＶＤＦ。

層Ｂは、４８μｍの厚さおよび以下の組成を有していた：
ａ） ８１．１重量％のコア－シェル耐衝撃性改良剤、
ｂ） １１．９重量％のＰＭＭＡ、
ｃ） １．０重量％のTinuvin（登録商標）360、
ｄ） ０．７重量％のTinuvin（登録商標）1600、
ｅ） ０．３重量％のSabo（登録商標）stab UV 119、
ｆ） ５．０重量％の小板状微粒子フィラー。

二層箔は、箔の総重量に基づいて、４．５０重量％の小板状微粒子フィラーを含有していた。

製造例６（比較）
５３μｍの厚さを有するＰＭＭＡ層およびＰＶＤＦ層からなる二層箔を例３と同じ条件下で共押出によって調製した。

層Ａは、５μｍの厚さおよび以下の組成を有していた：
ａ） １００．０重量％のＰＶＤＦ。

層Ｂは、４８μｍの厚さおよび以下の組成を有していた：
ａ） ８３．８重量％のコア－シェル耐衝撃性改良剤、
ｂ） １２．２重量％のＰＭＭＡ、
ｃ） １．０重量％のTinuvin（登録商標）360、
ｄ） ０．７重量％のTinuvin（登録商標）1600、
ｅ） ０．３重量％のSabo（登録商標）stab UV 119、
ｆ） ２．０重量％の小板状微粒子フィラー。

二層箔は、箔の総重量に基づいて、１．８０重量％の小板状微粒子フィラーを含有していた。

製造例７（比較）
５３μｍの厚さを有するＰＭＭＡ層およびＰＶＤＦ層からなる二層箔を例３と同じ条件下で共押出によって調製した。

層Ａは、５μｍの厚さおよび以下の組成を有していた：
ａ） １００．０重量％のＰＶＤＦ。

層Ｂは、４８μｍの厚さおよび以下の組成を有していた：
ａ） ８４．６重量％のコア－シェル耐衝撃性改良剤、
ｂ） １２．４重量％のＰＭＭＡ、
ｃ） １．０重量％のTinuvin（登録商標）360、
ｄ） ０．７重量％のTinuvin（登録商標）1600、
ｅ） ０．３重量％のSabo（登録商標）stab UV 119、
ｆ） １．０重量％の小板状微粒子フィラー。

二層箔は、箔の総重量に基づいて、０．９０重量％の小板状微粒子フィラーを含有していた。

製造例８（本発明）
５３μｍの厚さを有するＰＭＭＡ層およびＰＶＤＦ層からなる二層箔を例３と同じ条件下で共押出によって調製した。

層Ａは、５μｍの厚さおよび以下の組成を有していた：
ａ） ９０．０重量％のＰＶＤＦ、
ｂ） １０．０重量％の小板状微粒子フィラー。

層Ｂは、４８μｍの厚さおよび以下の組成を有していた：
ａ） ８５．５重量％のコア－シェル耐衝撃性改良剤、
ｂ） １２．５重量％のＰＭＭＡ、
ｃ） １．０重量％のTinuvin（登録商標）360、
ｄ） ０．７重量％のTinuvin（登録商標）1600、
ｅ） ０．３重量％のSabo（登録商標）stab UV 119。

二層箔は、箔の総重量に基づいて、１．００重量％の小板状微粒子フィラーを含有していた。

製造例９（本発明）
５３μｍの厚さを有するＰＭＭＡ層およびＰＶＤＦ層からなる二層箔を例３と同じ条件下で共押出によって調製した。

層Ａは、５μｍの厚さおよび以下の組成を有していた：
ａ） ９５．０重量％のＰＶＤＦ、
ｂ） ５．０重量％の小板状微粒子フィラー。

層Ｂは、４８μｍの厚さおよび以下の組成を有していた：
ａ） ８５．５重量％のコア－シェル耐衝撃性改良剤、
ｂ） １２．５重量％のＰＭＭＡ、
ｃ） １．０重量％のTinuvin（登録商標）360、
ｄ） ０．７重量％のTinuvin（登録商標）1600、
ｅ） ０．３重量％のSabo（登録商標）stab UV 119。

二層箔は、箔の総重量に基づいて、０．５０重量％の小板状微粒子フィラーを含有していた。

製造例１０（本発明）
５３μｍの厚さを有するＰＭＭＡ層およびＰＶＤＦ層からなる二層箔を例３と同じ条件下で共押出によって調製した。

層Ａは、５μｍの厚さおよび以下の組成を有していた：
ａ） ９８．０重量％のＰＶＤＦ、
ｂ） ２．０重量％の小板状微粒子フィラー。

層Ｂは、４８μｍの厚さおよび以下の組成を有していた：
ａ） ８５．５重量％のコア－シェル耐衝撃性改良剤、
ｂ） １２．５重量％のＰＭＭＡ、
ｃ） １．０重量％のTinuvin（登録商標）360、
ｄ） ０．７重量％のTinuvin（登録商標）1600、
ｅ） ０．３重量％のSabo（登録商標）stab UV 119。

二層箔は、箔の総重量に基づいて、０．２０重量％の小板状微粒子フィラーを含有していた。

光学的特性
すべてのサンプルの透過率および反射率の値を規格DIN EN ISO 13468-2（2006）に準拠して２５０ｎｍ～２５００ｎｍの波長で測定した。次いで、積分球を使用した材料の太陽光吸収、反射および透過（ASTM G 173-03（2012）に準拠した太陽光スペクトル）のための標準的な手順を使用して、製造例１～製造例１０のアクリル箔、ＰＶＣ箔およびラミネートのＴＳＲ値を規格ASTM E 903-96に記載されているように計算する。

製造例１～製造例１０のアクリル箔のＴＳＲ値を表１に要約する。

予想通り、すべての箔のＴＳＲ値が、概して、小板状粒子の総含有量に伴って増加する。しかしながら、本発明の箔は、小板状粒子の所与の総含有量において、製造例１～製造例７のものと比較して、有意により高いＴＳＲ値を有する。

例えば、製造例９（本発明）の箔は、製造例９の箔がより少ない含有量の小板状粒子を有するにもかかわらず、製造例７（本発明のものではない）の箔よりも高いＴＳＲ値を有する。さらに、製造例４（本発明のものではない）の箔は、製造例８（本発明）の箔と同じ含有量、すなわち、１．００重量％の小板状粒子を有する。それにもかかわらず、製造例８（本発明）の箔は、有意により高いＴＳＲ値、すなわち、１２．１％を有する。

要約すると、小板状粒子を別個のＰＶＤＦベースの層に組み込むことによって、小板状粒子の所与の含有量でのＴＳＲ値を有意に増加させることができる。

光沢
すべてのサンプルのDIN 67530（01/1982）による層Ａの外側表面の光沢を下地と層Ｂとの間において水で測定し、これらの２つの表面間の光学的接続を確保した。Fa. Dr. Hach-LangeのＲＬ実験室用反射計を使用した。

サンプルの光沢値を表２に示す。

表２のデータは、製造例８～製造例１０（本発明）の箔の光沢値が小板状粒子の総含有量の増加に伴って減少することを示す。言い換えるなら、表面層Ａ中の小板状粒子は、だんだんと光沢のなくなる粗い外観を前記表面に付与する。

完全を期すために、この効果が製造例１～製造例４の箔（単層の箔、比較）および製造例５～製造例７の箔（表面層としてＰＶＤＦを含む二層箔、比較）でも観察されることは注目に値する。

機械的特性
引張強度および破断伸びの測定は、Zwick GmbH & Co.KG（Ulm、Germany）から入手可能な試験システムZwick Roell Z005を使用して、４つの同一のサンプルを用いて実施し、ここで、規格DIN ISO 527-3（2019）に準拠して、１００ｍｍ／分で、フィルムの押出方向（縦方向）に、および押出方向に対して垂直（横方向）に、各サンプルについて５回の試験を実施した。

得られたデータを以下の表３に要約する。

表３から容易に分かるように、引張強度および破断伸びは、概して、すべての箔における小板状粒子の含有量の増加に伴って減少する傾向がある。しかしながら、ＰＶＤＦマトリックス中に小板状粒子を含む本発明の箔（製造例８～製造例１０）は、概して、比較箔よりも高い破断伸びを有するが、それでも比較的高い降伏時引張応力（製造例１～製造例７）を有する。例えば、製造例８（本発明）の箔は、縦方向に７９．１０％および横方向に６０．５０％の破断伸びを有する。これらの値は、製造例４（比較、単層）の箔の値よりも高い。さらに、製造例８（本発明）の箔と製造例７（比較、二層）の箔との比較は、製造例８の箔がより多い含有量の小板状粒子を有するにもかかわらず、これがより高い破断伸びを有することを示す。

例Ａ～例Ｆ ラミネートの調製
製造例８～製造例１０（本発明）の箔を、ＰＭＭＡ側がＰＶＣに隣接している異なる色のＰＶＣ装飾箔上にラミネート加工した。ＰＶＣ箔の色は、青色（例Ａ）、灰色（例Ｂ）、灰色２（例Ｃ）、灰色３（例Ｄ）、灰色４（例Ｅ）、茶色（例Ｆ）であった。

したがって、ラミネートの層は、以下の通りである：層Ａ、層Ｂ、ＰＶＣ。

すべてのサンプルのＴＳＲ値を規格DIN EN ISO 13468-2（2006）に準拠して２５０ｎｍ～２５００ｎｍの波長で測定した。次いで、積分球を使用した材料の太陽光吸収、反射および透過（ASTM G 173-03（2012）に準拠した太陽光スペクトル）のための標準的な手順を使用して、ラミネートのＴＳＲ値を規格ASTM E 903-96に記載されているように計算する。

得られたデータを以下の表４に要約する。すべてのケースで、ラミネートのＴＳＲ値は、対応するＰＶＣ箔のＴＳＲ値よりも有意に高かった。また、本発明の箔は、総ＴＳＲ値を改善した。比較例１、比較例４、比較例６および比較例７、ならびに本発明の例８、本発明の例９および本発明の例１０は、単一のＰＶＣ箔に比べて、ラミネートのＴＳＲ値の同様の改善を示した。しかしながら、上記にて示したように、本発明の例８、本発明の例９および本発明の例１０の箔は、比較例の箔よりも機械的に安定しており、特に、より高い破断伸びを有していた。

風化試験
風化試験は、DIN EN ISO 4892-2（2013）の方法Ａに準拠して、サイクルＮｏ１で、以下の条件下で、３００～４００ｎｍの波長範囲で実施した。
曝露期間（乾燥／散水）［分］ １０２／１８
黒の標準温度［℃］ ６５＋／－３
放射照度（３００～４００ｎｍ）［Ｗ／ｍ^２］ ６０＋／－２
相対湿度［％］ ６５＋／－１０
チャンバ空気温度［℃］ ３８＋／－３

例４および例１０のサンプルを促進風化試験に供し、０時間、２０００時間、３０００時間、４０００時間、６０００時間、８０００時間後に光学評価を行った。８０００時間にわたって視覚的な変化は観察できなかった。箔の透過率および色の値は、促進風化の開始時と同じレベルのままであった。反射率の僅かな低下が観察されたが、これは、風化チャンバ内の温度および湿度の条件による表面のいくらかの緩和で説明することができる。したがって、どちらの箔も優れた長期風化安定性を示した。

Claims (17)

1. 少なくとも１つの層Ａおよび層Ｂを含む共押出された多層の箔であって、
   前記層Ａが、前記層Ａの重量に基づいて、
   ４０．０～９９．９９重量％のフルオロポリマー、
   ０．０～３０．０重量％のポリアルキル（メタ）アクリレート、および
   少なくとも１～１０、好ましくは１～２０、より好ましくは１～３０のアスペクト比を有する０．０１～３０．０重量％の小板状フィラー粒子
   を含み、
   前記層Ｂが、前記層Ｂの重量に基づいて、
   ０．０～９５．０重量％のポリ（メチル）メタクリレート、
   ５．０～１００．０重量％の１種または数種の耐衝撃性改良剤、
   ０．０～４０．０重量％のフルオロポリマー、
   ０．０～５．０重量％の１種または数種のＵＶ吸収剤、
   ０．０～５．０重量％の１種または数種のＵＶ安定剤、および
   接着促進コポリマー、微粒子シリカまたはそれらの組み合わせから選択される０．０～２０．０重量％の接着促進剤
   を含み、
   前記層Ｂ中のポリ（メチル）メタクリレートおよび１種または数種の耐衝撃性改良剤の累積含有量が、前記層Ｂの重量に基づいて、少なくとも５０重量％、好ましくは少なくとも６０重量％、より好ましくは少なくとも７０重量％、それよりもさらにより好ましくは少なくとも８０重量％、さらにより好ましくは少なくとも９０重量％、特に好ましくは少なくとも９５重量％である、
   箔。
2. 前記層Ａが、前記層Ａの重量に基づいて、
   ８０．０～９９．９重量％、好ましくは９０．０～９９．９重量％のフルオロポリマー、
   ０．０重量％のポリアルキル（メタ）アクリレート、および
   ０．１～２０．０重量％、好ましくは０．１～１０．０重量％の小板状フィラー粒子
   を含む、請求項１記載の箔。
3. 前記フルオロポリマーが、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリエチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）、フッ素化エチレン－プロピレン（ＦＥＰ）またはそれらの混合物から選択される、請求項１または２記載の箔。
4. 前記フルオロポリマーが、ＧＰＣによって決定して、好ましくは５００００～３０００００ｇ／ｍｏｌの分子量Ｍｗを有する、主に非晶質のポリフッ化ビニリデンまたは微結晶性ポリフッ化ビニリデンである、請求項１から３までのいずれか１項記載の箔。
5. 前記小板状フィラー粒子が、任意選択的にコーティングされた雲母、任意選択的にコーティングされた金属フレーク、任意選択的にコーティングされたタルク、任意選択的にコーティングされたカオリン、任意選択的にコーティングされたガラスフレークまたはこれらの任意の組み合わせから選択される、請求項１から４までのいずれか１項記載の箔。
6. 前記小板状フィラー粒子が、
   ・ 二酸化チタンを含む少なくとも１つの層であって、前記二酸化チタンが好ましくはルチルである、少なくとも１つの層、
   ・ 任意選択的に、二酸化スズを含む少なくとも１つの層、および
   ・ 任意選択的に、二酸化ジルコンを含む少なくとも１つの層
   でコーティングされた雲母である、請求項１から５までのいずれか１項記載の箔。
7. 前記小板状フィラー粒子が、０．１μｍ～１００μｍ、好ましくは１．０μｍ～８０μｍの平均粒径および０．１μｍ～１０．０μｍ、好ましくは２．５０μｍ～５．０μｍの厚さを有する、請求項１から６までのいずれか１項記載の箔。
8. 前記耐衝撃性改良剤が、５０ｎｍ～１０００ｎｍ、好ましくは１００ｎｍ～５００ｎｍの平均粒径を有する、微粒子状の耐衝撃性改良剤、好ましくはコア、コア－シェル、コア－シェル－シェルまたはコア－シェル－シェル－シェルタイプの耐衝撃性改良剤である、請求項１から７までのいずれか１項記載の箔。
9. 前記層Ａが、１．０μｍ～３０．０μｍの厚さを有し、
   前記層Ｂが、１５．０μｍ～２００．０μｍの厚さを有する、
   請求項１から８までのいずれか１項記載の箔。
10. 前記箔が、接着促進層Ｃをさらに含み、
    前記層Ｂが、前記層Ａと前記層Ｃとの間に配置されており、
    前記層Ｃが、接着促進コポリマー、微粒子シリカまたはそれらの組み合わせから選択される接着促進剤を含む、
    請求項１から９までのいずれか１項記載の箔。
11. 前記接着促進コポリマーが、前記接着促進コポリマーの重量に基づいて、
    （ｉ） ５０．０～９９．５重量％のメチルメタクリレート、
    （ｉｉ） ０．５～２５．０重量％の接着促進モノマー、および
    （ｉｉｉ） ビニル官能基以外の官能基を有しない０．０～２５．０重量％の他のビニル共重合可能なモノマー
    を含む、請求項１から１０までのいずれか１項記載の箔。
12. 前記微粒子シリカが、ＢＥＴ法によって測定して、２００ｍ^２／ｇ超、好ましくは３００ｍ^２／ｇ超、より好ましくは４００ｍ^２／ｇ超、さらにより好ましくは５００ｍ^２／ｇ超の比表面積を有し、かつ／または前記微粒子シリカが、ISO 13320に準拠したレーザー回折によって決定して、１．０μｍ～２０．０μｍ、好ましくは２．０μｍ～１５．０μｍの重量平均粒径ｄ_５０を有することが好ましい沈降シリカである、請求項１から１１までのいずれか１項記載の箔。
13. 請求項１から１２までのいずれか１項記載の箔を製造するための方法であって、箔成形プロセス、好ましくはチルロールプロセスで前記箔を成形するステップを含む、方法。
14. 請求項１から１２までのいずれか１項記載の箔によって少なくとも部分的に被覆された基板を含む多層物品、好ましくは高圧ラミネートまたは押出されたＰＶＣ物品であって、
    前記層Ａが、前記多層物品の外側表面を形成しており、
    前記層Ｂが、前記層Ａと前記基板との間に配置されており、
    前記層Ｃが、存在する場合、前記層Ｂと前記基板との間に配置されている、
    多層物品。
15. 前記層Ｂが前記層Ａに隣接しており、
    前記層Ｃが、存在する場合、前記層Ｂに隣接している、
    請求項１４記載の多層物品。
16. 請求項１４または１５記載の多層物品を製造するための方法であって、共押出、ラミネート加工または押出ラミネート加工によって、請求項１から１２までのいずれか１項記載の箔で基板をコーティングするステップを含む、方法。
17. 前記多層物品が高圧ラミネートであり、請求項１から１２までのいずれか１項記載の箔で基板をコーティングするステップを、１ＭＰａ～２０ＭＰａ、好ましくは４ＭＰａ～１５ＭＰａの圧力および１２０℃～２２０℃の温度で実施する、請求項１６記載の方法。

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