JP2023529860A - グラフェン酸化物ナノ粒子複合膜、その調製および使用 - Google Patents

グラフェン酸化物ナノ粒子複合膜、その調製および使用 Download PDF

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Abstract

本発明は、-グラフェン酸化物シートと、-静電相互作用および/またはファンデルワールス相互作用のみによってグラフェン酸化物シートの表面に結合したナノ粒子と、を含む、多孔質複合膜に関する。また、本発明は、多孔質複合膜の製造方法、多孔質複合膜を備えるガス分離システム、および、ガス流からH2を分離するプロセスにおける多孔質複合膜の使用、および、グラフェン酸化物シートにおけるH2O膨潤を低減するためのプロセスに関する。【選択図】 図1A

Description

優先権
本国際出願は、2020年6月4日に出願された米国特許出願第16/892,666号に対する優先権を主張し、その全内容が参照によって本明細書に組み込まれる。
発明の分野
本発明は、湿気に対する安定性と水膨潤に対する抵抗性とが改善された、グラフェン酸化物をベースとする多孔質複合膜、その製造方法、および、その使用、特にガス分離システム、および、ガス流からHを分離するプロセスにおける多孔質複合膜の使用に関する。
本明細書において、括弧内の数字([ ])は、明細書の末尾に記載されている参考文献リストを示す。
発明の背景
グラフェン酸化物(GO)は、グラファイトの制御された酸化および剥離によって安価に供給され、近年、重要な用途向けの高性能膜を作るための有望な2Dナノ材料として出現した。GOは、二酸化炭素を含む多くのガス種に対して、水素(H)に対する高い選択性(α)を有する超水素透過性膜を形成する性能があるため、長年にわたって知られている。2010年代初頭に、超薄グラフェン酸化物(GO)が、膜分離プロセスによる水素と二酸化炭素との分離のため段階的材料として提案された。上限1000の選択性および3桁台(~000GPU)の透過率が報告された。これらの性能は、高効率のH分離に理想的であり、燃料電池における即時使用で必要とされる純度レベルを達成できる。
しかしながら、GOの吸湿性は高く、湿気存在下で膨潤する傾向がある。すなわち、吸収された水分がGOチャネルに入り、層間隔(d-spacing)が拡大する。このように、GO膜は湿気存在下で吸湿性が高く膨潤し、ふるい分け性能(分離性能)を著しく失う。GO膜が湿潤環境に暴露されると、水和したGOシートは負に電荷し、GO膜の層間はく離が促されて静電反発力のために失活することとなる。このように、水膨潤によって積層GO膜の分離性能が著しく損なわれる。このような著しい膨張は、GO膜のアキレス腱であり、興味深い本技術を実践的に実施することに対して未解決の問題点となっている。
上述した内容で示されるように、湿気に対する安定性および水膨潤に対する抵抗性が改善されたGOをベースとする膜、ならびに、水に対する安定性および水膨潤に対する抵抗性をGOベース膜に与える方法に対して、満たされていないニーズが存在する。
発明の概要
従って、本発明の目的は、湿気に対する安定性と水膨潤に対する抵抗性とが改善された、グラフェン酸化物をベースとする多孔質複合膜を提供することである。
公知のGOベース膜の改良によって、本発明により、
- グラフェン酸化物シートと、
- 静電相互作用および/またはファンデルワールス相互作用のみによってグラフェン酸化物シートの表面に結合したナノ粒子と、
を含む多孔質複合膜が提示される。
本発明はさらに、本発明の多孔質複合膜の製造方法を提供し、以下の工程を備える。
(i)水性溶媒中のグラフェン酸化物シートの分散液を提供する工程;
(ii)水性溶媒中のナノ粒子の分散液を提供する工程;
(iii) グラフェン酸化物の分散液とナノ粒子の分散液とを混合し、グラフェン酸化物粒子複合体の分散液を作る工程;および、
(iv) 工程(iii)で得られた分散液を多孔質支持基板によって濾過し、基板担持グラフェン酸化物-ナノ粒子複合膜を作製する工程。
別の態様において、本発明はさらに、Hを含む分離可能な少なくとも2種のガス混合物を含むガス流と流体連通する多孔質複合膜を備えたガス分離システムを提供し、上記の多孔質複合膜が、
- グラフェン酸化物シートと、
- 静電相互作用および/またはファンデルワールス相互作用のみによってグラフェン酸化物シートの表面に結合したナノ粒子と、を含む。
さらに別の態様において、本発明は、分離可能な少なくとも2種のガス混合物が、請求項1に記載の多孔質複合膜を透過する工程を備え、上記のガス混合物が少なくともHを含有する、ガス流からHを分離する方法を提供する。
さらに別の態様において、本発明は、グラフェン酸化物ベース膜におけるHO膨潤を低減するためのプロセスも提供し、該プロセスは、静電的相互作用および/またはファンデルワールス結合相互作用におけるナノ粒子を、グラフェン酸化物ベース水素膜を構成するグラフェン酸化物シートに結合させる工程を備える。
図面の簡単な説明
本発明の例示的実施形態を示すために、図面を通して、負に電荷したナノ粒子(例えば、ND、POSS)を有する、元のGO膜およびGOベース複合膜について図示したデータが比較データとして提供され、一方で、正に電荷したナノ粒子(例えばND、POSS)を有するGOベース複合膜に関するデータが提供される。
図1A~1Kは、本発明によるGOベース複合膜の観察されたミクロ構造に関する情報を提供する。図1A.COからHを効率的に分離するためのGOαND複合構造の概略図。i.秩序ある積層膜としてのGOナノシートの積層、ii.GO構造へのNDの導入によってもたらされる、より秩序のない積層GOシート、iii.GOシートが水の吸着により膨潤し、膜の微細構造が崩れる、iv.NDは湿潤条件下でGOαNDのミクロ構造を保持する、v.GOシートとND粒子間の静電分子間相互作用の分子描写。炭素原子は塗りつぶされた灰色のマーカーで示され、酸素原子および水素原子はそれぞれ塗りつぶしマーカーおよび中空マーカーで示されている。 図B-1.GOシートのAFM画像。挿入図は、GOシートの高さ分析結果を示している。図B-2.GO30NDのAFM像。挿入図は、NDsを有するGOシートの高さ分析結果を示している。 30%ND負荷でGO上に堆積したND粒子のTEM像を示している。スケールバーは50nmである。 30%ND負荷でGO表面を装飾するNDの粒子間距離。 GO30ND膜におけるGOとNDとの界面の断面TEM像。スケールバーは10nmである。 真空濾過されたGO膜の表面および断面FESEM画像。挿入図は、AAO支持体の表面SEMを示す。スケールバーは、図1FおよびGの両方で200nmである。 真空濾過されたGO膜の表面および断面FESEM画像。挿入図は、AAO支持体の表面SEMを示す。スケールバーは、図1FおよびGの両方で200nmである。 真空濾過されたGO30ND膜の表面および断面SEM。スケールバーは200nmである。 真空濾過されたGO30ND膜の表面および断面SEM。スケールバーは200nmである。 図1J.正規化されたH浸透性。 図1K.等モル水和(RH:85%)等モルH/CO混合物下における、時間に対するGO膜およびGOαND膜の正規化H/CO選択性。
図2A~2Fは、観察されたGOシートの面方向におけるサイズを示す。SEM画像(図2A~2C)、および、SGO(図2Aおよび2D)、GO(図2Bおよび2E)、およびLGO(図2Cおよび2F)の面積の平方根をとって、ImageJソフトウェアによって推定された対応するサイズ分布(図2D~2F)である。面方向における平均サイズが0.2μm、3μm、および10μmの3種類のGOシートを合成した。走査電子顕微鏡(SEM)画像によりGOシートの面方向における平均サイズを求め、120枚以上のシートからImageJソフトウェアによって、対応するサイズ分布を推定した。AFM試料を調製するために、1μg/mLのSGO、GO、およびLGO分散液をシリコンウエハの表面に滴下し、24時間空気乾燥した。 同上 同上 同上 同上 同上
図3A~3Bは、ND粒子の観察サイズ分布に関する情報を提供する。水中のND分散体5mg/mLの動的光散乱によって、約3nmの直径が示され(図3A)、TEM画像(図3B)から得られたデータと一致する。TEM画像において、スケールバーは5nmである。 同上
図4A~4Cは、比較例2(図4A)で使用された負に電荷したND(ND)、および、比較例3および実施例4でそれぞれ使用された負および正に電荷したPOSS粒子(図4Bおよび4C)の観察サイズ分布に関する情報を提供する。全ての試料は、水中の5mg/mL分散液の動的光散乱によって測定された。負に電荷した分散POSS(POSS)粒子は、水中で~約4nmの平均サイズを示し(図4B)、NDと同様である(図4A)。正に電荷したPOSS(POSS)は~7nmの平均サイズを示した(図4C)。 同上 同上
図5A~Dは、GO膜(図5A)、および、GOαND複合膜:GO10ND膜(図5B)、GO20ND膜(図5C)、および、GO30ND膜(図5D)のデジタル画像を示す。すべてのGOαND複合膜が比較的高い透明性を示し、GO骨格内におけるNDの良好な分散を示した。
図6A~6Hは、GOベース膜表面における2Dおよび3Dの高さAFM画像を示す。GO膜(図6A~B)、GO10ND膜(図6C~D)、GO20ND膜(図6E~F)、およびGO30ND膜(図6G~H)である。スキャン領域は10μm×10μmである。関連する表面粗さパラメータを表1に示す。 同上 同上 同上 同上 同上 同上 同上
図7A~7Dは、GOベース膜の表面SEM画像を示す。GO(図7A)、GO10ND(図7B)、GO20ND(図7C)、GO30ND(図7D)である。挿入図は、AAO支持体自体のSEM画像である。ND粒子を添加すると、表面ミクロ組織は次第に粗い形態に変わる。ND粒子の顕著な凝集を伴わない粗いミクロ組織の存在によって、30重量%の比較的高い負荷でも、ND粒子の均一な分散が確認された。 同上 同上 同上
図8A~8Dは、本発明によるGOベース膜と、比較例2のGO-POSS複合膜との間における、室温・湿潤条件(RH:85%)下でのGOベース膜を介した等モルH/CO混合物の比較的長期間にわたる分離を示す。図8は、湿潤条件下(RH:85%)における等モルH/CO混合物の連続供給下での、GOαND(図8A)およびGOαPOSS(図8B)複合膜のH透過性、ならびに、GOαND(図8C)およびGOαPOSS(図8D)複合膜のH/CO選択性を示す。 同上 同上 同上
図9A~9Hは、GOベース膜の物理化学的特性に関する情報を提供する。図9Aは、pH7での様々な負荷における、GO、GOαND、GOαND、GOαPOSSおよびGOαPOSS複合材料のゼータ電位値であり;挿入図は、pH7でのND+/-およびPOSS+/-分散液のゼータ電位値を示す。図9Bは、様々なND粒子の負荷を有するGOαND膜のXRDパターンである。図9Cは、様々な厚さのGOおよびGO30NDのH透過性およびH/CO理想選択性である。図9Dは、本発明によるGO-ND複合膜のH/CO分離性能(円、数字は膜中のND含有量を示す)であり、当該技術分野で公知の最先端のGOベースのH分離膜(正方形)との比較である。1:[1]、2:[2]、3:[3]、4:[4]、5:[5]、6:[6]、7:[7]、8:[8]、9:[9]、10:[10]、11:[11]、12:[12]、13:[13]。挿入図は、種々のタイプのナノ充填剤(すなわち、様々な負荷でのNDおよびPOSS)を添加することによる膜のH分離性能における変化を示す。図9Eは、本発明によるGO-ND複合膜のH/CO分離性能(円、数字は膜中のND含有量を示す)と、GOベース材料以外の最先端のH分離膜との比較である。COF(五角形):[14]、無機物(ダイヤモンド):1:[15]、2:[16]、3:[17]、4:[18]、5:[19]、6:[20]、MXene(六角形):[21]、MOF(三角形):1:[22]、2:[23]、3:[24]、4:[25]、5:[26]、6:[24]、7:[27]、8:[28]、9:[29]、10:[30]、11:[31]。図9F-Gは、等モルH/CO混合供給下で、様々な負荷における種々のタイプのナノ充填剤(すなわち、ND+/-およびPOSS+/-)を含む複合膜のH透過性およびH/CO選択性である。図9Hは、GO30ND膜のH(黒丸)およびCO(黒三角)の透過率(左y軸)、並びに、H含有量の異なるCOの混合ガス供給から得られたH/CO選択性(中空四角)である。 同上 同上 同上 同上 同上 同上 同上
図10は、ND粒子、GO、およびGOαND複合膜のFTIRスペクトルを示す。GOは、C-O(アルコキシ/アルコキシド、1046cm-1)、C-O(カルボキシ、1410cm-1)、C=C(芳香族、1627cm-1)、C=O(カルボキシ/カルボニル、1726cm-1)、および-OH(3300cm-1)に対応する典型的ピークを示した。NDスペクトルは、それぞれC=O及びC-O又はC-O-C振動の伸長に対応する1720cm-1および1000~1350cm-1において関連する吸収ピークを示し、これは文献と一致する。1726cm-1のカルボニルバンドは、ND粒子の取り込みによって1636cm-1において低波数側の広いピークにシフトし、これによりGOとNDとの間の水素結合が証明される。
図11A~11Cは、GO膜(図11A)およびGO30ND膜(図11B~C)のXPS分析比較を示す。GO30ND膜のXPSは、GO試料と比較してO/C比の減少を示した。また、GO膜と比較して、C=Oの強度の有意な低下が観察された(表4参照)。これは、GOシート表面における酸素含有基とND粒子との間の水素結合によるものと考えられる。窒素ピークがGO膜では認められなかった一方で、GO30ND膜が1.5%の窒素を示し、399.1eV(C-NH-C)および401.1eV(C-N)で検出された。 同上 同上
図12は、ND、GO、およびGOαND複合膜のラマンスペクトルを示す。1345cm-1および1590cm-1付近のDピークおよびGピークは、純GO膜中の欠陥黒鉛炭素及びsp2混成芳香族炭素の特性である。GO膜およびGOαND膜のID/IGは非常によく似ている。しかしながら、GOαND膜では、DおよびG結合は元のGOよりもわずかに広く、NDおよびGOシートの挿入による無秩序構造が確認された。NDの添加によって、DおよびGピークがわずかにシフトし、GO30NDでは、低いと~1342cm-1および高いと~1591cm-1に達し、これはGOとNDとの間の静電相互作用によると推測される。
図13は、本発明によるGOベース複合膜と、純GOベース膜およびGOαPOSS複合膜との機械的特性の比較を示す。GOαND膜の硬さ(縦棒)およびYoung率(四角)は、純GO膜と比較して100MPaおよび25%向上され、GOとNDとの間の良好な相互作用が示された。しかしながら、GOαPOSS複合材料のナノインデンテーション機械的性質は、主に凝集体の形成およびGO骨格との不十分な相互作用のために、純GO膜と比較して減少した。エラーバーは、20個のインデントの標準誤差を表す。
図14A~14Cは、ガス吸着等温線の比較を示す。GO膜およびGO30ND膜についての77KにおけるN吸着等温線(図14A)、GO膜(図14B)およびGO30ND膜(図14C)についての298KにおけるCO、H、およびN吸着等温線である。GO膜およびGO30ND膜は、両方とも、HおよびNよりも優位なCO吸着を示した。注目すべきことに、GO30NDのCO吸着は、純GO膜の吸着よりはるかに高く、ND粒子がGOシートの再度の積層を効果的に抑制することが確認された。 同上 同上
図15A~15Kは、NDが取り込まれたGO膜の安定性データの比較を示す。図15Aは、水に浸漬したGO膜及びGO30ND膜の写真である:i.ポリエーテルスルホン(PES)支持体;ii.調製したままのGO膜;iii.1日後に水に浸漬されたGO膜;iv.調製したままのGO30ND膜;、およびv.1日後に水に浸漬されたGO30ND膜。スケールバーは2cmである。図15Bは、連続6回の湿潤(85%RH)/乾燥(0%RH)サイクルおよび等モルH/CO混合ガス供給の下における、GO膜(正方形)、GO5ND膜(ダイヤモンド)、GO10ND膜(円形)、GO20ND膜(上向き三角形)およびGO30ND膜(下向き三角形)の、正規化されたH/CO選択性(中空シンボル)、および、正規化されたH透過性(塗りつぶしシンボル)である。図15C-Dは、乾燥状態、湿度(RH:33%;RH:85%)に曝露した後、および、水に浸漬した後における、GO膜およびGO30ND膜のXRDパターンである。図15E~Fは、湿潤/乾燥サイクル測定後のGO膜の表面および断面FESEM画像である。図15Gは、様々な相対湿度供給(RH:12、33、75および85%)下における様々なND負荷を有するGO膜およびGOαND膜の、乾式供給値に対するH透過性損失である。挿入図は、H/CO選択性値を示す。図15Hは、様々な相対湿度供給(RH:12、33、75および85%)下における、GO膜およびGOαND膜(異なる負荷を伴う)の、乾燥供給時の値に対するH/CO選択性損失である。挿入図は、GPUにおけるH透過値を示す。図15Iは、連続6回の湿潤(85%RH)/乾燥(0%RH)サイクル、および、等モルH/CO混合ガス供給の下における、GO30NDのH透過性(上のグラフ、中実三角形を逆にしたもの)、O透過性(上から2番目のグラフ、中実三角形を上にしたもの)、並びに、GO膜(中空四角形)とGO30ND(中空三角形)とのH選択性/O選択性、である。図15Jは、湿潤供給(RH:85%)下における、GO膜、GO30ND膜、GO30ND膜、GO30POSS膜、およびGO30POSS膜の、乾燥供給値に対するH透過性損失およびH/CO選択性損失である。図15Kは、2~8時間の浸水前後における、ポリエーテルスルホン支持体、GO膜、およびGOαND膜のPM0.3除去率である。 同上 同上 同上 同上 同上 同上 同上 同上 同上 同上
図16A~16Bは、POSS粒子、GO膜、およびGOαPOSS膜のFTIR比較(図16A)、並びに、XRDパターン比較(図16B)を示す。POSS粒子は、Si-O振動バンドの伸縮に起因する1107cm-1の吸収ピークを示した。GO混合POSS膜のピークは、純粋成分に帰属されるピークと比較してもほとんど変化しない(図16A)。XRDピークは、POSS粒子の添加により左にシフトし、GOシートの層間スペースの増加が示された(図16B)。負に電荷したPOSS粒子のGOシート間への挿入は、層間の静電反発力を増強し、その結果、チャネルサイズを広げた。広角X線回折分析(WAXD,Rigakurint XRD)によって、GOαPOSS膜の結晶構造を決定した。CuKα陽極を用い、電圧40kV、電流200mAで、5~40°の2θ範囲にわたって10°/分の速度で試料を走査した。 同上
図17は、GO20POSS膜の例示的な表面SEM画像を示す(比較例2)。GOシステム内の粒子の凝集をSEM画像から観察でき、POSSおよびGOシートの間における相互作用が乏しいことが示された。
図18は、GOαPOSS膜の安定性データを示す。等モルH/CO混合物を用いた湿潤(RH:85%)/乾燥(RH:0%)連続サイクル下における、GO膜、GO10POSS膜およびGO30POSS膜の、H/CO選択性(中空マーカー)と、H透過性(塗りつぶしマーカー)である。
図19は、ガス分離測定のためのWicke-Kallenbach透過システムの概略装置の例示である。MFC:マスフローコントローラ、GC:熱伝導率検出器(TCD)付きガスクロマトグラフ(島津GC-2014)。
図20A~20Dは、GO表面を装飾するND粒子のTEM観察および粒子間距離を示す。図20Aおよび20C:GOシート上の10重量%のND、図20Bおよび20D:GOシート上の20重量%のND、図20Aおよび20Bの両方についてスケールバーは50nmである。ND粒子およびGO-NDの複合体は、積層膜を調製するために同じプロセス条件(例えば、濃縮、振とう/超音波処理)に付された試料を用いて、TEM下で再検査された。NDおよびGOシートを混合し、振とうすると、NDはGO表面を均一に装飾した(図20A~20B)。ソフトウェア支援画像分析に基づいて、我々は、50%を超える粒子が、互いに10~40nm離れており、120nmまで達することを見出した(図20C~D)。 同上 同上 同上
図20を参照:GO上のNDの分布を、約250個のND粒子の直径を測定することによって分析した。NDの選択は、TEM画像の所定グレーレベルの閾値によって決定された。得られた値をヒストグラムにプロットし、ガウス関数に当てはめた。
分散Dは、TEM画像に基づいて報告されたプロトコルに従って計算された。まず、10×10の等距離の水平および垂直グリッド線をTEM画像上に重ねた。次に、隣接するND間の自由経路間隔を正確に測定した。測定数Nは各試料について約200であった。続いて、これらの値をヒストグラムにプロットし、対数正規分布関数に適合させた。
Figure 2023529860000002
以下の式を用いて分散Dを計算した。
Figure 2023529860000003
ただし、xはフリーパス間隔のサイズである:
Figure 2023529860000004
ただし、μおよびσは、それぞれ平均と標準偏差である。
μ±0.1μの範囲では、分散D0.1は以下のようになる。
Figure 2023529860000005
μ±0.2μの範囲では、分散D0.2は以下のようになる。
Figure 2023529860000006
0.1およびD0.2の値が高いほど、それぞれμ±0.1μおよびμ±0.2μの範囲に入る間隔データがより多くなることを示し、これはND粒子のより均一な分布を意味する。
Figure 2023529860000007
図21は、等モルH/CO供給ガスにおける、温度に対するGO30ND膜のガス透過を示す。この図は、GO30ND膜のH/CO選択性に及ぼす温度の影響を示し、乾燥条件で測定したものである。CO透過性の温度依存性は、H透過性の温度依存性よりも高い。温度が上昇すると、CO分子の吸着は著しく妨げられる。CO分子の吸着がGO膜チャネルを通る移動の制約となるため、CO流束は、高温においてより高くなり、COについて約4.7倍(~17.7から~82.7 GPU)になる。しかしながら、H分子はGO表面に対してほとんど親和性を示さず、Hについて~1.3倍(~3532.5から~4497.0 GPU)となる。透過率(GPU)が塗りつぶし記号(円および三角形)で示され、H/CO選択性が中空四角形で示されている。
図22A~22Bは、熱処理された、GOのみ膜(図22A)およびGO30ND膜(図22B)のXRDパターンを示す。GO膜は、わずかな層間隔の減少を示した一方で、GO30ND膜の層間隔値は80℃で変化しないままであったが、両方とも120℃で減少に転じた。これらの結果は、温度の上昇に伴って、膜における透過性が増加すること、および、選択性が低下することと一致する。 同上
図23A~23Dは、GO膜のみ(図23A~23B)およびGO30ND膜(図23C~23D)の形態に対する、サイクル湿潤試験の影響を示す。湿潤下における望ましくないGO膜の再構成特性を可視化するために、サイクル湿潤試験後のGO膜およびGO30ND膜の形態を比較した。GO膜は膨潤し始め、支持体から剥離し始めた(図23A)。具体的には、サイクル湿潤試験(図23B)の後、GO膜上に小さな(~200nm)円形の突起が観察され、ある時点を過ぎると、破局的な結果に至る。GO30ND膜の場合、層間剥離も突起も観察されない(図23C~D)。図23Aおよび23Bは、それぞれ図15Fおよび15Eと同じであることに留意されたい。図面は、サイクル測定後におけるGO30ND膜のSEM画像との差を示すためにも、図23Aおよび23Bとして提供される。 同上 同上 同上
図24A~24Bは、様々な相対湿度供給(RH:12、33、75、および85%)下における、GO膜およびGOαND膜(異なる負荷を有する)のH透過性(図24A)およびH/CO選択性(図24B)を示す。 同上
定義
別段の定義がない限り、本明細書で使用される全ての技術用語および科学用語は、本発明が属する技術分野の当業者によって一般的に理解されるものと同じ意味を有する。概して、本明細書で使用される名称および以下に記載される実験方法は、当該技術分野で周知であり、一般的に使用されるものである。
本発明の理解を容易にするために、いくつかの用語および表現が下記に定義される。
特許請求の範囲以外の本明細書で使用される場合、用語「a」、「an」、「the」、および/または「said」は、1つ以上を意味する。特許請求の範囲において本文書中で使用されるように、「comprise」、「comprises」、および/または「comprising」という用語と共に使用される場合、用語「a」、「an」、「the」、および/または「said」は、1つまたは複数を意味し得る。本明細書および特許請求の範囲において使用される場合、「having」、「has」、「is」、「have」、「including」、「includes」、および/または「include」という用語は、「comprise」、「comprises」、および/または「comprising」と同じ意味を有する。
「それらの組み合わせ」、「それらの混合物」という語句、および列記の後、列記の一部としての「および/または」の使用、表中の列記、列記の一部としての「など」の使用、「等」の語句、および/または、「例えば」または“すなわち”を含む括弧内の列記、一連の列記成分の任意の組み合わせ(例えば、任意のサブセット)、ならびに、直接的には記載されていないが、本明細書中に記載された関連する種および/または実施形態の組み合わせおよび/または混合物も意図されている。本明細書に記載されているこのような関連属、亜属、種、および/または実施形態は、請求項に記載される個々の成分の形態、ならびに、請求項に記載される混合物および/または組み合わせの両方を、「少なくとも1つから選択される」、「それらの混合物」および/または「それらの組み合わせ」として意図している。
本明細書で使用される用語「グラフェン酸化物」は、当該技術分野における用語の従来の意味から逸脱せず、グラファイト酸化物の剥離生成物を指す。これは、炭素、酸素、および水素を適当な比率で含む化合物を指し、グラフェン酸化物は、グラフェン酸化物の総重量の約50重量%超、約60重量%超、約70重量%超、約80重量%超、約90重量%超、約95重量%超、または約99重量%超を構成する主成分として炭素を含み得る。グラフェン酸化物は、エポキシ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基といった酸素を含有する官能基を含んでもよい。
本発明に関連して使用されるグラフェン酸化物は、当技術分野で公知の任意の手段によって製造できる。例えば、グラフェン酸化物は、グラフェン(好適には、単一の平面的で二次元状の、且つハニカム状格子の形態の炭素材料)を酸化することによって得ることができる。例えば、グラファイト酸化物は、濃硫酸中において過マンガン酸カリウム及び硝酸ナトリウムで処理することによってグラファイト薄片(例えば天然グラファイト薄片)から製造することができる。この方法はHummers法と称される。別の方法はBrodie法であり、発煙硝酸中の黒鉛のスラリーに塩素酸カリウム(KClO)を添加する工程を有する。次に、個々のグラフェン酸化物(GO)シートは、超音波力を利用して水または他の極性溶媒中においてグラファイト酸化物を分解することによって剥離でき、さらに、遠心分離および必要に応じた透析工程によって、追加された塩をバルク残留物から除去することができる。
本明細書で使用される「ナノダイヤモンド」という用語は、ナノメートルスケールのサイズを有するダイヤモンドまたはその粒子を指し、例えば、約999nm未満、約900nm未満、約800nm未満、約700nm未満、約600nm未満、約500nm未満、約400nm未満、約300nm未満、約200nm未満、約100nm未満、または約50nm未満のサイズ(例えば、断面寸法)を有する。ナノダイヤモンドは、その形状、色、グレード、組成、表面の化学修飾などにおいて特に限定されない。さらに、ナノダイヤモンドは、例えば、総重量の約50重量%を超える、約60重量%を超える、約70重量%を超える、約80重量%を超える、約90重量%を超える、約95重量%を超える、または約99重量%を超える構成要素として、炭素を含んでもよい。本発明の例示的な実施形態は、グラフェン酸化物および少なくとも1種のナノダイヤモンドを含む複合材料を提供する。特に、ナノダイヤモンドは、グラフェン酸化物の表面上に非共有結合的に結合されてもよい。例えば、ナノダイヤモンドは、静電相互作用および/またはファンデルワールス相互作用を介してグラフェン酸化物の表面に結合されてもよい。
本明細書中で使用されるように、GO薄片または粒子の表面電荷を参照する場合における「ゼータ電位」は、電気化学における従来の用語の意味から逸脱せず、GO薄片または粒子の表面と、GO薄片または粒子の表面に付着した流体の固定層との間の電位差を指す。ゼータ電位は、典型的には、材料表面の性質、および、材料表面と接触する流体の特性(例えば、pH、イオン濃度、イオン力など)に影響される。ゼータ電位は、界面動電分析器を用いて測定することができる。ゼータ電位は、Smoluchowskiモデルを用いて測定することができる。
特に断らない限り、 明細書において「平均直径」とは、群中の各粒子の最長径の平均を指す。
本明細書で使用される場合、用語「流体連通」は、流体が、第1の構成要素を通過し、第2の構成要素または他の構成要素へ到達し且つさらに通過することができることを意味し、構成要素が物理的に接続されているか順に配列されているかは問われない。
本明細書中で使用される用語「マイクロスケール」および関連接頭語「マイクロ」は、1マイクロメートル以上1ミリメートル未満の少なくとも1つの大きさを有するアイテムを意味することを意図している。
本明細書中で使用される用語「ナノスケール」および関連接頭語「ナノ」(例えば、「ナノ粒子」)は、1マイクロメートル未満の長さを意味することを意図している。
用語「ナノ粒子」は、例えば、「ナノスフェア」、「ナノロッド」、「ナノカップ」、「ナノワイヤ」、「ナノクラスタ」、「ナノファイバ」、「ナノレイヤー(層)」、「ナノチューブ」、「ナノ結晶」、「ナノビーズ」、「ナノベルト」、および「ナノディスク」を含む。本発明の文脈において使用できるナノ粒子は、ナノスケールサイズの固体粒子であってもよい。
用語「重量パーセント」、「wt%」、「wt-%」、「重量のパーセント」、「重量%」、およびそれらの変形は、本明細書中で使用される場合、該当物質の重量を組成物の総重量で割って100を乗じた物質の濃度を指す。
本明細書で使用される場合、「約」とは、任意の固有の測定誤差または数値の丸め(例えば、測定値、比などの計算値)を指し、したがって、用語「約」は、任意の値および/または範囲で使用され得る。本明細書中で使用される場合、用語「約」は、特定された値の±5%の変動を指すことができる。例えば、「約50」パーセントは、いくつかの実施形態において、45パーセントから55パーセントまでの変動を有することができる。整数範囲の場合、「約」という用語は、記載された整数より大きいおよび/または小さい1つまたは2つの整数を含むことができる。本明細書中で別段の指示がない限り、用語「約」は、関連する個々の成分、組成物、または実施形態の機能性に関して等価な、記載範囲に近い値(例えば、重量%、温度)を含むことを意図する。
本明細書で使用される場合、「および/または」という用語は、項目のいずれか1つ、項目のいずれかの組み合わせ、またはこの項目が関連するすべての項目を意味する。
当業者によって理解されるように、成分の量、分子量等の特性、反応条件などを表すものを含む全ての数は近似であり、全ての場合において「約」という用語によって必要に応じて修正されると理解される。これらの値は、本明細書の記載の教示を利用する当業者によって得られようとする所望特性に影響されて変化し得る。そのような値は、本質的に、それぞれの試験測定で見出される標準偏差から必然的に生じるばらつきを含んでいることも理解される。
当業者によって理解されるように、全ての目的、特に書面による説明を提供する観点から、本明細書に記載される全ての範囲は、全ての可能なその部分的範囲および部分的範囲の組み合わせ、並びに、範囲を構成する個々の値(特に整数値)をも包含する。列記された範囲(例えば、重量パーセント、温度など)は、範囲内の各特定の値、整数、少数、または単位元を含む。列記された範囲は、いずれも十分に記述され、また、その範囲を少なくとも等しい半分、3分の1、4分の1、5分の1、または10分の1に分解できると容易に認識することができる。非限定的な例として、本明細書で議論した各範囲は、下方3分の1、中間3分の1、および上方3分の1などに容易に分割することができると認識される。
また、当業者によって理解されるように、「まで」、「少なくとも」、「より大きい」、「より小さい」、「を越える」、および「より多い」などのすべての用語は、列記された数字を含み、そのような用語は、続いて上述のごとく部分的範囲に細分化され得る範囲を指す。同様にして、本明細書に記載される全ての比率は、より広い比率の範囲内にある全ての部分的比率も含む。従って、ラジカル、置換基、および範囲について列記された特定の値は、単なる例示であり、それらは、ラジカルおよび置換基について定義された範囲内における、他の定義された値または他の値を除外しない。
集合要素がマーカッシュ群のような一般的方法でグループ化されている場合、本発明は、全体として列記された群全体だけでなく、独立して群の各要素、および、主群の全ての可能な部分的な群を包含することも、当業者であれば容易に理解できるであろう。さらに、全ての目的において、本発明は、主群自体も、1つ以上の群要素がない主群も含む。従って、本発明は、列記された群の何れかの1以上の要素の明示的な除外を想定している。従って、ただし書き規定は、開示されたカテゴリーまたは実施形態のいずれにも適用されてもよく、それによって、記載された要素、種、または実施形態のいずれか1つ以上が、例えば、明示的消極的限定において使用されるように、そのようなカテゴリーまたは実施形態から除外され得る。
本発明の方法、システム、装置、および組成物は、本発明の構成要素および成分だけでなく本明細書に記載される他の成分を含み、または本質的にそれらから構成され、またはそれらから構成されてもよい。本明細書において「本質的に構成される」とは、方法、システム、装置、および組成物が、さらなる工程、構成要素、または成分を含んでもよいが、さらなる工程、構成要素、または成分が、クレーム(特許請求)された方法、システム、装置、および組成物の基本的および新規な特徴を実質的に変更しない場合に限られることを意味する。
本明細書の説明および特許請求の範囲の全体を通して、用語「含む(comprise)」および「含有する(contain)」およびこれらの変形は、「含むが、これに限定されない」を意味し、他の部材、添加剤、成分、整数または工程を除外することを意図しない(除外しない)。本明細書の記載および特許請求の範囲の全体を通して、単数形は、文脈が他に要求していない限り、複数形を含む。特に、不定冠詞が使用される場合、本明細書は、文脈が他に要求していない限り、単数だけでなく複数も意図していると理解されたい。
本発明の特定の態様、実施形態もしくは実施例と結び付けて記載される特徴、整数、特性、化合物、化学的一部もしくは化学基は、矛盾していない限り、本明細書に記載した任意の他の態様、実施形態もしくは実施例に適用できると理解されたい。本明細書に開示された特徴(添付の請求項、要約、および図面を含む)の全て、および/または、開示された方法の工程もしくはステップの全ては、そのような特徴および/または工程の少なくとも一部が相互に排他的な組み合わせである場合を除き、任意の組み合わせで組み合わされてもよい。本発明は、前述の実施形態または実施例の詳細に限定されない。本発明は、本明細書に開示された特徴(添付の請求項、要約、および図面を含む)の新規な1つ又は任意の新規な組み合わせ、または、開示された任意の方法の工程の新規な1つ又は任意の新規な組み合わせに及ぶ。
本発明の好ましい態様の詳細な説明
本開示は、特定の実施形態に関して説明される。しかしながら、本開示の思想から逸脱することなく、種々の改良、再構築、および置換を行うことができることは、当業者には容易に把握できるであろう。本開示の範囲は、添付の特許請求の範囲によって定義される。
本開示の原理の理解を促進する目的で、図面に図示されている例示的な実施形態をここで参照し、特定の用語を用いて図面を説明する。しかしながら、本開示の範囲は、図面によって制限されないという意図が理解されることとなる。当業者には理解され本開示を所有することになるであろう、本明細書に例示された発明の特徴のいかなる変更およびさらなる改良、ならびに、本明細書に例示された本開示の原理のいかなる追加適用も、本開示の範囲内であるとみなされる。
本明細書において「例示的(exemplary)」という用語は、「例えば、など、または例示としての役割を果たす」ことを意味するために使用される。本明細書において「例示的」として記載されるいずれの実施形態も、必ずしも、他の実施形態よりも好ましくまたは有利であると解釈されない。「例えば(example)」という用語は、「例示的(exemplary)」という用語と同義的に使用され得る。
例示的な実施形態が以下に記載される。明確化の目的のために、実際の実施形態のすべての特徴が本明細書に記載されているわけではない。もちろん、このような実際の実施形態の開発においては、実施形態ごとに異なる開発者の特定の目標を達成するために、システム関連およびビジネス関連の制約へ準拠するような実施形態特有の決定が行われなければならないことは、理解されるであろう。さらに、そのような開発努力は、複雑で時間がかかるが、それにもかかわらず、本開示の利益を有する当業者のための日常的な取り組みであることが理解されるであろう。
本出願によるGOベース複合膜、システム、およびプロセスは、従来のGOベース膜の技術およびプロセスに一般的に関連する上述した問題の1つ以上を克服する。具体的には、本出願のGOベース複合膜は、水安定性の向上および水膨潤に対する抵抗性を示す。この種のおよび他のGOベース複合膜特有の特徴が以下に説明され、添付の図面に示される。
GOベース複合膜、システム、およびプロセスは、構造および操作の両方に関して、添付の説明と併せて添付の図面から理解される。GOベース複合膜、システム、およびプロセスのいくつかの実施形態が、図1~図24に示されている。異なる実施形態の様々な構成要素、部品、および特徴は、互いに結合され、および/または互いに交換されてもよく、それらの全ては、たとえ全ての変形例および特定の実施形態が図面に示されていなくても、本出願の範囲内であると理解されるべきである。また、別段の記載がない限り、1つの実施形態の特徴、要素、および/または機能を適切に別の実施形態に組み込んでもよいことを本開示から当業者が理解できるように、様々な実施形態間の特徴、要素、および/または機能の混合および組み合わせが本明細書では明確に意図されている点も理解されるべきである。
上述のように、湿度(湿気)に対する安定性および水膨潤に対する抵抗性が改善されたGOベース膜に対し、および水安定性および水膨潤に対する抵抗性をGOベース膜に付与する方法に対し、未解決の課題(ニーズ)がある。
本発明は、以下を含む多孔質複合膜を提供することによってこの課題を解決する。
-グラフェン酸化物シート
-非共有結合相互作用のみによってグラフェン酸化物シートの表面に結合したナノ粒子
非共有結合相互作用は、静電相互作用および/またはファンデルワールス相互作用を含む。本明細書中で使用される場合、用語「ファンデルワールス相互作用」は、通常、材料間の任意の非共有結合相互作用を指す。ファンデルワールス力には、双極子-双極子力、双極子-誘起双極子力、およびロンドン分散力が含まれる。水素結合は、双極子-双極子力であり、ファンデルワールス力に包含される。
複合膜は、複数の積層グラフェン酸化物シートを含んでもよく、ナノ粒子は、グラフェン酸化物シートの積層間に挿入されていてもよい。GOシートの特性評価に関して、一連の特性評価実験を行って、GOシートの特徴的な形状、機能性、および他の物理化学的特性を理解することができる。これらの実験は、電荷のためのゼータポテンシャル分析器に関連する計算、G/D比のためのラマン分光法に関連する計算、フーリエ変換赤外分光法(FTIR)に関連する計算、および、官能基のためのX線光電子分光法(XPS)に関連する計算、結晶構造のためのX線回折(XRD)に関連する計算、ならびに、サイズおよび形状のための原子間力顕微鏡法(AFM)、SEMおよび透過型電子顕微鏡法(TEM)に関連する計算を含むことができる。特に、SEMおよびAFM技術を用いて、GO薄片のサイズおよび膜の厚さを測定することができる。
本発明による複合膜中のグラフェン酸化物シートは、層間距離またはd間隔が約0.6~1.2nmであってもよい。例えば、GOシート間の距離は、0.7~1.0nm、例えば、0.8~0.9nmの範囲であってもよい。d間隔は、粉末X線回折(XRD)により、Braggの法則:d=λ/2sin(θ) (1)を用いて決定できる。ここで、θは回折角の半分であり、λはX線源の波長である。読者によって理解されるように、d間隔または格子間隔は、GOの平行平面間の距離を指す。原則として、XRDは、層間または原子列間の平均間隔を測定する。従って、本明細書で報告されるGOの層間距離またはd間隔は、平均値を指す。典型的には、積み重ねられたGOシート間の層間空間は、親水性ドメインおよび疎水性ドメインを含む。GOシート間の親水性ドメインは、一般的に、GOシートの端部において、および/または、基面において、酸素官能基が存在する場所に位置する。親水性ドメインとの親和性により、水分子は、積み重ねられたGOシートの親水性ドメインに介在することがある。いかなる特定理論にも拘束されることを望まないが、GO積層体間のナノ粒子の層間挿入によって、内部細孔の壁の疎水性が水分子の透過を制限している、GOシート積層体内の領域が生成または安定化し、これにより、GOベース複合膜に、水親和性がより少なく、水膨潤に対するより大きな抵抗性が付与されると考えられる。グラフェン酸化物シートは、面方向平均サイズが約200nm~15μm、例えば1~10μm、例えば約1~6μmであってもよい。グラフェン酸化物シートの面方向平均サイズは、SEMを用いて測定され得る。例えば、ナノ粒子は、特にグラフェン酸化物シート表面と静電相互作用/ファンデルワールス相互作用するナノ粒子の外側表面上に、全体的に正電荷を有している。この正電荷は、グラフェン酸化物表面とナノ粒子との間の静電相互作用および/またはファンデルワールス相互作用を促進すると考えられている。特定の理論に拘束されることを望まないが、正電荷したナノ粒子がGOシートの表面に存在することは、積み重ねられたGOシートの負電荷を中和することに寄与すると考えられ(GOシートは乾燥状態では電荷しないが、水に曝された後、GOシートの表面は主にヒドロキシル基の脱プロトン化により負に電荷する)、得られた膜を湿気に対して安定化する。例えば、ナノ粒子は、pH7で30mV以上のゼータ電位の正電荷を有し得る。ナノ粒子のゼータ電位は、界面動電分析器を用いて測定することができる。正電荷した好適なナノ粒子としては、例えば、正に電荷したナノダイヤモンド、カチオン性POSS粒子、カチオン性染料、金属カチオン、および複水酸化物が挙げられる。本発明の文脈で使用可能なナノ粒子は、粘土ナノ粒子またはMOFナノ粒子とは異なる場合がある。
本発明の文脈で使用可能なさらなるナノ粒子は、Agナノ結晶などの金属ナノ結晶、メソ-(p-ヒドロキシフェニル)ポルフィリンナノ結晶などのポルフィリン、および/または、メラミンナノ粒子を含み得る。非共有結合を介した、金属ナノ粒子、ポルフィリンおよびメラミンのGOシート表面への吸着は、例えば参考文献[32-34]にそれぞれ記載されている(GO表面上におけるナノ粒子の非共有結合を介した、金属ナノ粒子、ポルフィリンおよびメラミンを有するGOシートの二次元集合)。しかしながら、報告では、三次元GOベースの複合構造物に非共有結合吸着現象を適用する可能性が考慮されておらず、ましてや、ふるい分け能力を有する膜として使用できることは考慮されていない。本発明のGOベース膜は、Agナノ結晶などの金属ナノ結晶、メソ-(p-ヒドロキシフェニル)ポルフィリンナノ結晶などのポルフィリン、および/または、メラミンをナノ粒子として使用して、本開示の教示に従って調製することができる。例えば、実施例に記載の方法は、Agナノ結晶、ポルフィリンナノ粒子、および/またはメラミンナノ粒子でNDを置換することによって使用されてもよい。
ナノ粒子は、約3~10nm、例えば3~5nm、例えば約3nmまたは約4nmの平均直径を有してもよい。ナノ粒子が不規則な形状を有する場合、平均直径を求めるために所定の平均化を行うことができる。ナノ粒子の直径、平均直径、およびナノ粒子のサイズ分布を測定するための既知の方法を使用することができる。例えば、ナノ粒子の平均直径は、光散乱および透過型電子顕微鏡法(Carvalho, Patricia M., et al., "Application of light scattering technology to nanopacterization and development. Chemistry 6 (2018): 237.)を用いて測定することができ、これには、すべてが同じサイズおよび/または幾何学的形状を有していないナノ粒子について、キュムラント法([35]参照)などのモデルを用いた所定の統計分析が含まれる。
例えば、約5~40重量%の量のナノ粒子を、静電相互作用および/またはファンデルワールス相互作用によってグラフェン酸化物シート表面に集合(assemble)させてもよく、その重量%は、グラフェン酸化物シート+ナノ粒子の総重量に基づいて表される。例えば、約5~35重量%、約5~30重量%、約10~30重量%、または約20~30重量%のナノ粒子を使用し、静電相互作用および/またはファンデルワールス相互作用によってグラフェン酸化物シート表面に集合させて、本発明によるGOベースの多孔質複合膜を形成することができる。
ナノ粒子は、炭素質ナノ粒子(すなわち、炭素原子からなる)であってもよい。これは、炭素質材料とグラフェン酸化物との親和性のため、特に有利である。例えば、ナノ粒子は、ナノダイヤモンドを含んでもよい。ナノダイヤモンドは、正電荷を帯びることができる炭素構造であり、従って、本発明を実施するための還元に特に適している。本開示において、ナノダイヤモンドは、正電荷の存在を示すために「ND」と省略することができる。ナノダイヤモンドが全体的に負電荷を帯びるように調製される場合、これらは「ND」と表記される。NDおよびNDはいずれも、例えばコロイド状水性分散液の形態で市販されている。例えば、NanoAmando(登録商標)の商品名で市販されているNDおよびNDコロイド状水性分散液をそれぞれ使用することができる。特定の理論に拘束されることを望まないが、sp3/sp2のコア/シェル構造および正の表面電荷を特徴とするナノダイヤモンド(ND)は、水和GOシート間の静電反発力を減少させることでGO膜の水安定性を高め、それによって湿気存在下でのGOシートのランダムな再積層と凝集とを抑制し、全体的な膜構造を強化する。
一般的に、本明細書で使用するナノダイヤモンドは、グラファイトの爆発反応によって形成することができ、サイズが約3~10nm、例えば約3~5nm、例えば約3nmまたは約4nmの微細ナノ粒子に形成することができる。
本発明の多孔質GOベース複合膜は、例えば、20~200nm、または25~150nm、または30~120nmの範囲の厚さを有してもよい。
本発明による多孔質GOベース複合膜は、水安定性、水膨潤に対する耐性、機械的強度、および分離性能に関して特に有利な特性を示す。
本発明による多孔質GOベース複合膜は、膜厚が30~120nmの乾燥条件下において、25±3℃で測定した場合に、典型的には、例えば>1300GPU、または≧1800GPU、または≧2400GPU、または≧3500GPUのH透過性を示す。本明細書中で使用される場合、「乾燥条件」によって、20%RH未満の範囲の相対湿度および大気圧が把握される。
本発明の多孔質GOベース複合膜は、例えば、膜厚が30~120nm範囲の乾燥条件下において25±3℃で、等モルH/CO混合物の連続供給で測定した場合に、理想ガス選択性 αH2/CO2>200 を示し得る。
本発明の多孔質GOベース複合膜は、膜厚が30~120nm範囲の相対湿度85%の湿度条件下において25±3℃で、等モルH/CO混合物の連続供給で測定した場合に、例えば、>750GPU、または>1300GPU、または≧1800GPU、または≧2000GPU、または≧2400GPU、または≧3300GPU のH透過性を示し得る。
本発明の多孔質GOベース複合膜は、膜厚が30~120nmの範囲の相対湿度85%の湿度条件下において25±3℃で、等モルH/CO混合物の連続供給で測定した場合に、等厚の純グラフェン酸化物膜(0%重量ナノ粒子)と比較して、例えば、≧2倍、または≧3倍、または≧4倍、または≧5倍、または≧6倍、または≧7倍 のH透過性を示し得る。
本発明の多孔質GOベース複合膜は、膜厚が30~120nmの範囲の相対湿度85%の湿度条件下において25±3℃で、等モルH/CO混合物の連続供給で測定した場合に、同じ温度、同じ膜厚、同じ等モルH/CO混合物の条件下で測定した膜のH透過度と比較して、例えば、≧60%、または≧65%、または≧70%、または≧75%、または≧80%、または≧85%、または≧90%、または≧95%のH透過度を示し得る。
本発明の多孔質GOベース複合膜は、膜厚が30~120nmの範囲の相対湿度85%の湿度条件下において25±3℃で、等モルH/CO混合物の連続供給で測定した場合に、同じ温度、同じ膜厚、同じ等モルH/CO混合物の条件下で測定した膜のH/CO選択性と比較して、例えば≧50%、または≧60%、または≧70%、または≧80%、または≧90%のH/CO選択性(αH2/CO2)を示し得る。
本発明の多孔質GOベース複合膜は、0.05mNの負荷で、Berkovich(バーコビッチ)の三面ピラミッド型ダイヤモンドチップ(半径100nm)を用いて25±3℃でナノインデンテーション法を用いて測定した場合に、例えば≧610MPa、または≧630MPa、または≧650MPa、または≧670MPa、または≧690MPa、または≧700MPa、または≧710MPaの硬度を示すことができ、測定誤差は、20インデントの標準誤差に基づいて報告される。
本発明の多孔質GOベース複合膜は、0.05mNの負荷で、Berkovichの三面ピラミッド型ダイヤモンドチップ(半径100nm)を用いて25±3℃でナノインデンテーション法を用いて測定した場合に、例えば≧15GPa、または≧16GPa、または≧17GPa、または≧18GPa、または≧19GPa、または≧20GPa;または≧21GPaのヤング率(Young率)を示すことができ、測定誤差は、20インデントの標準誤差に基づいて報告される。
上述したように、本発明の多孔質複合膜は、多孔質GOベース膜が使用を見出す任意の用途における使用用途を見出すことができる。特に興味深い用途は、ガス分離、特にガス混合物からのH分離である。従って、本明細書に記載される任意の変形において、本発明による多孔質GOベース複合材料膜は、GOベース複合材料水素膜、特に耐水性のGOベース複合材料水素膜であってもよい。
複合膜の調製
別の態様では、本発明は、本発明による多孔質複合膜の製造方法を提供し、斯かる製造方法は、以下を含む。
(i)グラフェン酸化物シート、例えば、単層グラフェン酸化物シートの水性溶媒中の分散液を提供する工程;
(ii)ナノ粒子の水性溶媒中の分散液を提供する工程;
(iii)グラフェン酸化物分散液とナノ粒子分散液とを混合し、グラフェン酸化物-ナノ粒子複合体の分散液を調製する工程;
(iv)工程(iii)で得られた分散液を多孔質支持基板で濾過し、基板担持グラフェン酸化物-ナノ粒子複合膜を作製する工程。
多孔質膜上に担持されたグラフェン酸化物-ナノ粒子複合膜の作製は、スプレーコーティング、キャスティング、ディップコーティング技術、ロードコーティング、インジェクトプリンティング、または任意の他の薄膜コーティング技術を使用して達成することもできる。
工程(i)および(ii)における水性溶媒は、同じであってもよく、または、異なる水性溶媒であってもよい。工程(i)および(ii)における水性溶媒は、それぞれ独立して、水、または、アルコール/水混合物を含んでもよく、例えば水であってもよい。アルコールは、メタノール、エタノール、イソプロパノール、1-ブタノール、tert-ブタノール、エチレングリコールなど、または、これらの2つ以上の混合物を含むことができる。工程(i)および(ii)における水性溶媒は、1つの同じ水性溶媒であってよく、水、または、アルコール/水混合物から選択されてもよく、例えば、水であってもよい。例えば、工程(i)および(ii)における水性溶媒は、pH=6~7の水である。
工程(i)は、グラフェン酸化物を分散させるための当該技術分野で公知の任意の方法を含んでもよい。例えば、工程(i)は、水性溶媒中のグラフェン酸化物の分散体を超音波処理することを含んでもよく、水性溶媒は、本明細書中の任意の変形で定義される通りである。
同様に、工程(ii)は、ナノダイヤモンドなどの炭素質ナノ粒子を含むナノ粒子を分散するための当技術分野で公知の任意の方法を含み得る。この種の方法には、例えば、超音波分散処理浴、超音波プローブ分散処理、超音波撹拌、高速ホモジナイザ、または高圧ホモジナイザが含まれ得る。
本発明による多孔質複合膜の製造方法は、工程(iv)で得られた基板担持グラフェン酸化物-ナノ粒子複合膜を乾燥させる工程をさらに含んでもよい。例えば、この方法は、過剰の水性溶媒を除去するために、約50~70℃の温度で真空下において実施することができる。
工程(iii)の分散液は、例えば、約5~40重量%、または約5~35重量%、または約5~30重量%、または約10~30重量%、または約20~30重量%の量のナノ粒子を含んでもよく、重量%は、グラフェン酸化物シート+ナノ粒子の総重量に基づいて表される。
ガス分離システムとプロセス
上述したように、本発明による多孔性複合膜は、GOベース膜が使用される任意の用途に使用され得る。特に興味深い分野は、ガス分離、特にガス混合物からのH分離である。従って、本明細書に記載される任意の変形において、本発明によるGOベースの複合材料膜は、GOベースの複合材料水素膜、特に耐水性GOベースの複合材料水素膜であってもよい。
このように別の態様において本発明は、Hを含み少なくとも2種の分離可能なガス混合物を含むガス流と流体連通する本発明の多孔質複合膜を備えた、ガス分離システムを提供し、多孔質複合膜は、
-グラフェン酸化物シート、および、
-静電相互作用および/またはファンデルワールス相互作用のみによってグラフェン酸化物シートの表面に結合したナノ粒子、を含む。
本発明によるガス分離システムにおいて、多孔質複合膜は、多孔質支持基板上に配置されてもよい。多孔質支持基板は、任意の適切な支持基板であってもよい。多孔質支持基板は、織布材料であってもよく、または多孔質膜であってもよい。
例えば、あるのであれば、多孔質支持基板材料は無機材料であってもよい。従って、多孔質材料(例えば、多孔質支持基板)は、セラミックを含んでもよい。例えば、多孔質支持基板材料は、アルミナ、ゼオライト、またはシリカであってもよい。
あるのであれば、多孔質支持基板材料はポリマー材料であってもよい。従って、多孔質支持基板材料は、多孔質ポリマー支持体、例えば、可撓性多孔質ポリマー支持体であってもよい。多孔質材料(例えば、多孔質支持基板)は、ポリマーを含んでもよい。ポリマーは合成ポリマーを含むことができる。
例えば、多孔質支持基板は、アルミナベースまたはシリカベースの多孔質セラミック等の多孔質セラミック材料、および、ポリスルホン(PS)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)等のフルオロポリマー、またはポリアクリロニトリルなどの親水性ポリマー材料を含めたセラミック多孔質支持体またはポリマー多孔質支持体を含んでもよい。
あるのであれば、多孔質支持基板は、数十μm以下の厚さを有してもよく、約1mm未満の厚さ、または約100μm未満であってもよい。例えば、多孔質支持基板は、50μm以下、または10μm以下の厚さを有してもよい。例示的な実施形態では、厚さが約1μmを超えることがあるものの、場合によっては、厚さが約1μm未満であってもよい。
多孔質支持基板は、溶質の移動/透過を妨げないように十分に多孔質であるべきであるが、グラフェン酸化物シートが孔に入ることができないように十分に小さな孔を有するべきである。例えば、孔サイズは、1μm未満、例えば、500nm未満または200nm未満であってもよい。典型的には、孔サイズは、1nmより大きく、例えば、10nmより大きい。
本発明によるガス分離システムは、本明細書で通常定義され変形例にもある多孔質複合膜を備えることができる。例えば、多孔質複合膜は、複数の積層グラフェン酸化物シートを含んでもよく、また、ナノ粒子は、グラフェン酸化物シートの積層間に挿入されてもよい。積み重ねられたGOシートを特徴とする本発明によるガス分離システムは、Hガスなどの分子がGO層間のナノチャネルを通って流れることができる一方で、望ましくない溶質がサイズ排除および/または電荷作用によって排除されるように構成され得る。
本発明によるガス分離システムは、0.05mNの負荷で、バーコビッチの三面ピラミッド型ダイヤモンドチップ(半径100nm)を用いて25±3℃でナノインデンテーション法を用いて測定したときに、例えば≧610MPa、または≧630MPa、または≧650MPa、または≧670MPa、または≧690MPa、または≧700MPa、または≧710MPaの硬度を有する多孔質複合膜を含んでもよい。
本発明によるガス分離システムは、0.05mNの負荷で、バーコビッチの三面ピラミッド型ダイヤモンドチップ(半径100nm)を用いて25±3℃でナノインデンテーション法を用いて測定したときに、例えば≧15GPa、または≧16GPa、または≧17GPa、または≧18GPa、または≧19GPa、または≧20GPa、または≧21GPaのヤング率(Young率)を有する多孔質複合膜を含んでもよい。
本発明によるガス分離システムは、本発明による複数のGOベース複合膜を備えることができる。複数のGOベース複合膜は、並列(プロセス/装置の流束能を増加させるため)または直列に配置されてもよい。
ガス分離システムは、例えば図19に示すシステムであってもよい。本発明によるガス分離システムは、以下を含んでもよい。
- 入口と、循環成分出口(不透過成分出口)と、透過成分出口とを有する分離ユニット;
- 少なくともHを含有する少なくとも2種の分離可能なガス混合物を含み、分離ユニットの入口と流体連通するガス流;
- 透過成分のみが、最初に多孔質複合膜を通過した後に入口から透過成分出口へと流れることができ、且つ、循環成分が多孔質複合膜を通過することなく入口から循環成分出口へ流れるように、分離ユニット内に構成された、本明細書において一般的および変形例において規定された本発明による少なくとも1つの多孔質複合膜;
- 分離ユニットの循環成分出口と流体連通する循環成分コレクタ;および、
- 分離ユニットの透過成分出口と流体連通する透過成分コレクタ。
上述したように、本発明によるGOベース複合膜は、H分離膜としての使用を見出すことができる。従って、本発明によるガス分離システムは、少なくともHを含有する少なくとも2種の分離可能なガスのガス混合物と共に使用することができる。
別の態様において、本発明は、少なくとも2種の分離可能なガス混合物を本発明の多孔質複合膜に通す工程を含む、ガス流からHを分離する方法を提供し、上記のガス混合物が少なくともHを含有する。
本発明の多孔質複合膜は、水素ガスを含む任意のガス混合物からHを分離するために適している。例えば、本発明による複合膜は、H/CO、H/アンモニア、H/O、H/N、H/CH、またはH/CHCH混合物からのHガスの分離に用いることができる。例えば、ガス流は天然ガスであってもよい。OおよびHが水の電気分解によって生成されるため、H/Oガス混合物からのHの分離における本発明による多孔質複合膜の使用は、特に興味深い。
水膨潤低減
さらに別の態様において、本発明は、グラフェン酸化物ベースの水素膜における水膨潤を減少させるためのプロセスに関し、該プロセスは、静電的におよび/またはファンデルワールス結合相互作用によって、グラフェン酸化物ベースの水素膜を構成するグラフェン酸化物シートとナノ粒子とを結合させることを含む。
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上述の全ての変形例、特に本発明のGOベース複合膜を構成する種々の要素については、「複合膜の製造」、「ガス分離プロセスおよびシステム」、「水膨潤を低減するプロセス」に関する上記のセクションの各々に準用されることが理解され、また、本開示において定義される組成物/方法/プロセス/システム/用途に適用されることが理解されることとなる。これは、本明細書の「発明の特定の好ましい実施形態の詳細な説明」の項目に記載されている全ての変形を含み、a)グラフェン酸化物、b)ナノ粒子、c)ナノダイヤモンド、d)膜の分離特性(例えば、透過性、ガス選択性)の説明、およびe)膜の機械的特性(例えば、硬度、ヤング率)の説明を含み、これらは全て、本開示で定義された組成物/方法/プロセス/システム/用途に準用され、「複合膜の製造」、「ガス分離プロセスおよびシステム」、「水膨潤を低減するプロセス」に関する上記セクションの各々を含む。
同等物
以下の代表的な実施例は、本発明の説明を助けることを意図したものであり、本発明の範囲を限定することを意図したものではなく、そのように解釈すべきではない。実際、本明細書に示され、記載されているものに加えて、本発明の種々の改良および多くのさらなる実施形態は、以下の実施例および本明細書で引用されている学術文献および特許文献への参照を含め、本文書の全内容から当業者に明らかになることとなる。さらに、これらの引例の内容は、技術水準の例示を補助するために、参照により本明細書に組み込まれることが理解されるべきである。
以下の実施例は、様々な実施形態およびその均等物において本発明の実施に適用させることができる重要な追加情報、例示、およびガイダンスを含む。
実施例
本発明の複合膜および複合膜の製造方法は、これらの複合材料が製造または使用されるいくつかの方法を例示する実施例によってさらに理解することができる。しかしながら、これらの実施例は本発明を限定しないことが理解されよう。本発明の変形は、現在公知であるか、またはさらに開発されたものであっても、本明細書に記載され且つ以下に請求されるように、本発明の範囲内にあると考えられる。
略語
GO:グラフェン酸化物
ND:ナノダイヤモンド
ND:正に電荷したナノダイヤモンド
ND:負に電荷したナノダイヤモンド
POSS:オクタ(テトラメチルアンモニウム)官能化多面体オリゴマーシルセスキオキサン、負に電荷している。
POSS:オクタ(テトラメチルアンモニウム)官能化多面体オリゴマーシルセスキオキサン、正に電荷している。
GOαND膜:本発明によるGO-ナノダイヤモンド複合膜、αは複合膜中のND粒子の重量濃度を表す。
GOαND膜:GO-ND複合膜、αは複合膜中のND粒子の重量濃度を表す。
GOαPOSS膜:GO-POSS複合膜、αは複合膜中の負電荷した多面体オリゴマー性シルセスキオキサン粒子の重量濃度を表す。
GOαPOSS膜:本発明のGO-POSS複合膜、αは複合膜中の正電荷した多面体オリゴマー性シルセスキオキサン粒子の重量濃度を表す。
材料
グラファイトパウダー(黒鉛粉体)を青島南州グラファイト(Qingdao Nanshu Graphite)社から入手した。
水中における平均サイズが3.8±0.7nm(2.5重量%)の正電荷および負電荷したナノダイヤモンド(ND)粒子の水性コロイド溶液「NanoAmando(登録商標)」をNano Carbon Research Institute 社(日本)からそれぞれ入手した。
329620Si(負に電荷)およびC2472Cl12Si(正に電荷)の化学式を有する、オクタ(テトラメチルアンモニウム)官能化-、および、オクタ(アンモニウム)官能化-水溶性多面体オリゴマーシルセスキオキサン(POSS)粒子を、Hybrid Plastics 社(Hattiesburg, US)からそれぞれ入手した。
GO分散液、ND分散液、およびPOSS分散液の10mLを凍結乾燥し、超微量天秤を用いて精密に元の分散液の濃度を測定した。
特性
4000~600cm-1の範囲のFTIR分光法(島津社製 IRTracer-100分光計、日本)によって、 調製されたままの膜の特性を調べた。日本シンクロトロン放射線研究所(JASRI)のSPring-8(λ=0.999190Å)のBL02B2によって、X線回折(XRD)パターンを得た。広角XRD分析(Rigaku社製、Smartlab)にて、膜の結晶構造を決定した。CuKαアノードを用い、電圧40kV、電流200mAで、4~40°の2θ範囲にわたって10°/分の速度で試料を走査した。X線光電子分光計(ESCA-3400、島津社製)を用いてX線光電子分光(XPS)測定を行った。各元素の化学シフトを補正するために、不純物炭素(1s)ピーク(C1sピーク)の結合エネルギーを284.6eVに調整した。20~25mV(Horiba社製、XploRa、日本)の532nm励起レーザを用いて、ラマン顕微分光法を実施した。
膜の形態をField Emission Scanning Electron Microscopy (FESEM装置、Hitachi社製 S-4800)で観察した。透過型電子顕微鏡(TEM)画像をJEOL JEM 1400 plus(120kV)およびJEM-2200FS setup(JEOL社製)(200kV)で収集した。試料を液体窒素中で凍結破壊し、電子帯電を防止するためにオスミウムで短時間スパッタコーティングした。GOベース膜の形態を、タッピングモードで原子間力顕微鏡(AFM、NanoWizard III、JPK Instruments社製、日本)によって測定した。
また、GOナノシートの水平方向(面方向)のサイズと厚さを測定するために、SEMおよびAFMの測定も行った。
膜前駆体の粒子サイズ分布およびゼータ電位値を、Malvern Zetasizer Nano装置(Malvern Panalytical 社製)を用いて測定した。
膜のH/CO吸着等温線およびN吸着等温線を、BELSORP-Max(日本ベル社製)を用いて298Kまたは77Kで1barまで記録した。試料は、分析前に、動的真空(10-5bar)下において80℃で24時間、オフラインで脱気した。
バーコビッチ(Berkovich)三面ピラミッド型ダイヤモンドチップ(半径100nm)を装着したナノインデンター試験機(ENT2100、Elionix社製)を用いて、0.05mNの荷重で室温においてヤング率(E)および押込硬度(H)を測定した。PM0.3の除去率に関して、ハンドヘルド粒子カウンターKC-51(リオン社)を用いて、調製したままの膜、または、親水膜(および風乾膜)を調査した。様々な膜試料について別々の3つの測定値の平均値に基づいて除去率を求めた。
ガス浸透試験
ガス透過率測定は、自作の膜透過/分離構成体(図19)によって行った。膜のガス透過率測定は、Wicke-Kallenbachセル(図19)を用いて大気圧で行った。選択層の損傷を避けるために、測定を開始する前に、ゴムパッドで予めコーティングしたアルミニウムテープで膜ディスクの端部を覆った。単一ガスおよび混合ガス測定のために、デジタルマスフローコントローラ(Horiba社製、日本)によって、供給ガスの体積流量をそれぞれ50mL/minおよび100mL/minに維持した。スイープガスとして50mL/minの一定体積流量のアルゴンを用いて、透過成分側の濃度分極を除去した。GOベース膜の物理的損傷を避けるため、ガス透過試験(孔径~6mm)の前に、膜表面を気密テープで覆った。膜の供給側と透過側との間における圧力勾配は無視できた。
水和ガス透過試験のために、透過セルの前に配置され、LiCl(12%RH)、MgCl(33%RH)、NaCl(75%RH)、および水(85%RH)の飽和溶液で充填されたガスバブラー、および湿度センサーに、等モルH/CO混合物を通した。模擬的な水分解試験では、90mL・min-1のH:O(2:1)をあらかじめ水バブラー(85%RH)に通して透過セルを通過させた。様々な温度における膜のガス透過挙動を温度制御チャンバで調べた。各温度で3時間以上膜を維持した。校正されたガスクロマトグラフ(島津社製 GC-2014)を用いて、透過ガスの組成を分析した。
ガス透過率(Pi、GPU)を、以下の式を用いて算出した。
Figure 2023529860000008
ただし、Niは成分iの透過速度、mol s-1であり、Dpiは成分iの膜内外圧力差Paであり、A(m2)は膜面積である。
理想選択性(αi/j)は、ガス「j」の透過率に対するガス「i」の透過率として定義され、次式で表される。
Figure 2023529860000009
混合ガスの場合、選択性αi/jを、透過側および供給側の2成分のモル比と定義した。
Figure 2023529860000010
ただし、xおよびyは、それぞれ、供給側および透過側における対応する成分の体積分率である。
実施例1- GO-ND 複合膜の製造
GOの合成
単層グラフェン酸化物(GO)を改良型ハンマー法によって調製した。概要を説明すると、1gの黒鉛粉末(メッシュサイズ50、Qingdao Nanshu Graphite社)を、氷浴中の濃HSO/HPO(120:14mL)の9:1(v/v)混合物に添加し、20分間撹拌した。次に、反応媒体に6gのKMnOを徐々に添加し、混合物を50℃で、大型GO(LGO)、(中型)GO、および小型GO(SGO)について、それぞれ4時間、8時間、24時間撹拌した。反応物を室温に冷却し、150mLの冷水(0~2℃)にゆっくりと注ぎ、続いて、溶液の色が微黄色になるまで2mLの30%Hを滴加した。10%HCl水溶液(750mL)を用いて生成物を濾過し、pH値が6~7になるまで蒸留水で徹底的に洗浄した。
GO分散液10mLを凍結乾燥し、超微量天秤を用いて精密に元の分散液の濃度を測定した。
膜の作製
調製したままのハンマー生成品を40Wで1時間超音波処理し(Branson社 1510E-MT)、GOシートを剥離させた。超音波処理のうえで、得られた分散液を5,000rpmで2回(各回30分)遠心分離し、剥離されない大きなフレーク(薄片)を除去した。上清をさらに10,000rpmで40分間遠心分離し、小サイズのGO薄片を除去し、GO分散液を得た。非剥離粒子は、3分間の超音波浴処理によってLGO分散から除去され、続いて3,000rpmで20分間遠心分離された。その後、5000rpmで30分間遠心分離を繰り返し、沈殿物を採取する。SGOについては、4時間の超音波処理および1時間の10,000rpmを実施し、上清を回収した。均一な膜を得るために、所定量のGO分散液を0.001mg/mLに予め希釈した後、10Paの真空圧で真空ろ過(GCD-051X、ULVAC真空ポンプ)によって、陽極酸化アルミニウム(AAO)フィルター(孔径:20nm、直径:25mm、Whatman社製)またはポリエーテルスルホン(PES、孔径:30nm、直径:25mm、Sterlitech社製)に通した。正に電荷した調製されたままのND分散体を10,000rpmで1時間遠心分離し、凝集体を除去した。所定量のND懸濁液(5~35重量%)を、希釈したGO分散体に添加し、10分間のバー撹拌を行った。さらに、真空濾過によって複合体GOαND膜を堆積させる直前に、得られたGO-ND分散体を23Wで10分間、穏やかな超音波浴処理にかけた。GOおよびGOαNDの総質量は、すべての試料(0.03mg)で同じになるようにした。得られた膜を60℃、24時間で減圧乾燥し、残留水を除去した後、さらに特性調査を行った。PM0.3除去率のために、GOベース膜(総質量:~0.01mg)をポリエーテルスルホン基板(100kDa、直径:25mm、Synder社製)上で真空濾過した。
比較例2
比較のために、まず、特定量の負に電荷したPOSS粒子を水中に分散させ、5時間超音波処理した。実施例1のGOベース複合膜と同じ方法を用いて、GOαPOSS膜を作製した。
比較例3
比較のために、負に電荷したND(ND)分散液を用いて実施例1を再実施した。
実施例4
比較のために、正に電荷したPOSS粒子を用いて比較例2を再実施した。
結果
セラミックおよびポリマー支持体の両方の上で、単層GOシート(図1B-1、図2)の分散液に一般的な真空濾過法を適用することによって、GO膜を調製した(注:GOシートの面方向サイズは、ガス分子の選択的移動のための2Dチャネルの制御に重要な役割を果たす)。GOシートの面方向における平均サイズは、走査型電子顕微鏡(SEM)画像によって得られた。SEM試料を調製するために、1μg/mLのGO分散液をAAOの表面に滴下し、24時間空気乾燥した。図2に示すように、120枚以上のシートの平均サイズからGOシートの面方向サイズを算出した。
真空濾過前に、GO分散液に3nmサイズのNDを添加することにより、膜にNDを制御可能に導入した(図3)。同様のサイズのアニオンナノダイヤモンド(ND)、および、正電荷(POSS)および負電荷(POSS)を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン(POSS)ナノ粒子も、比較充填剤として使用した(図4)。高充填比(すなわち、30重量%のND充填)であっても、NDは、単離されたGO表面上で微細に分散され(図1C、図20および図20に関する注釈)、粒子-粒子間平均距離が約10nmであった(図1D)。作製した膜をGOαNDと称するが、ただしα(α=5,10,20,30、および35)は、膜の総質量を基準にしたND粒子の重量濃度を表す。GOのみの膜の走査型電子顕微鏡(SEM)および原子間力顕微鏡(AFM)画像(図1F、1Gおよび図5~7)は、目視可能な欠陥がなく滑らかな表面をに見えた。しかしながら、複合膜の表面粗さは、ND粒子の添加によって増加した(図1H、図6、および、図7、および、表1)。
Figure 2023529860000011
透過率
セラミック支持体上で作製したそのままのGO膜は、文献で報告されているものと同等またはわずかに良好な性能を有し、初期H透過性が約1150GPUであり、COに対する理想ガス選択性が~282であることが分かった(表2および表3)。しかしながら、水飽和等モル混合ガス供給物に曝露した場合、GO膜性能は、室温での100時間試験で劇的に劣化した。透過性および選択性は、それぞれ55%および70%低下した(図1J~K、および図8)。対照的に、GO30NDは、そのままのGO膜の3倍レベルのH透過性を示し(3741GPUまで)、乾燥ガスで試験した場合、理想ガス選択性の比較的小さな減少(αH2/CO2~212まで)を示した。しかしながら、最も顕著な点は、湿潤混合ガス供給で広範囲に試験した場合、GO30ND膜の透過率および選択性の低下が、それぞれ、わずか~5%および~10%であったことである。
Figure 2023529860000012
a.ガス透過率は、様々な膜試料の別々の3つの測定値の平均値に基づいて求めた。GPUは、ガス透過単位であり、1GPU=3.35×10-10mol m-2-1Pa-1
Figure 2023529860000013
a.理想ガス選択性データは、様々な膜試料の別々の3つの測定値の平均値に基づいて求めた。
結果は、NDがGOベース膜の性能を安定化できることを示した。
複合膜モルフォロジー(形態)-GO/ND 相互作用
NDとGOシートとの相互作用の詳細な検討を行った。
ND粒子は、正に電荷し(+45mV)、一方、GOシートは、pH=7で正味の負電荷(-48mV)を帯び(図9A)、これにより、強力な静電相互作用を介してGO構造へのNDの適切な集合(assembling)が可能になる。NDは、GO積層体の積層特性を変化させたが、複合膜は、静電相互作用、および、GOシートとND粒子との間の水素結合によって無傷のままであった。GOαND膜における水素結合は、FTIRスペクトルにおける顕著な結合ピークのシフトによって検証される(図10)。C1sおよびN1sのX線光電子分光法(XPS)スペクトルによって、GO混合物中のNDの存在が確認された(図11および表4参照)。
Figure 2023529860000014
GO試料およびGOαND試料のX線回折は、特に明らかであった。2θ=6.15°におけるGO膜の鋭いピークは、0.93nmのd間隔を有するGO積層体の高度に規則正しい積層を示唆している(図9B)。ピークの強度は、NDの導入により減少して広がり、GO積層秩序の破壊が確認された。さらに、NDの添加によってわずかにピークがシフトし、相当するd間隔は、GO30ND膜で0.89nmに達した。ND粒子またはPOSSナノ粒子とGOとの組み合わせによって、電荷補償効果が引き起こされ(図9A)、これは、層間静電反発力の弱化(図9B)による、得られたGO積層体におけるd間隔の減少に寄与する。さらに、ND粒子の取り込みによる柔軟GOシートの曲げによって、より狭い層間隔が引き起こされる(図9E)。XRDピーク強度に加えて、ピーク幅は、GO積層体のサイズと相関させることもできる。正に電荷したND粒子(ND)がGO積層体間に入り込むと、負電荷効果が減少し(図9A)、層間静電反発力が弱まり、チャネルサイズが狭くなった。XRDピーク強度に加えて、ピーク幅をGO積層体のサイズと相関させることもできる。各積層体中の平均結晶子幅およびGO層数は、Debye-Scherer方程式(注:表5)による回折ピークの幅に反比例する。GO結晶子サイズの顕著な減少が、ND含有量の増加によって観察されたが(表5)、これは、積層GO積層体の破壊と、複合膜内のより多くの粒界の形成とを反映している。ラマン分光法によって、ND粒子の添加によるGO積層体の破壊が示された(図12)。GOの表面上の官能基は、良好でコンパクトな構造に応答するものであるが、溶液中に球状のND粒子が存在すると、個々のGOシートが再び積層することが妨げられる(図12)。
Figure 2023529860000015
注)表5:GO/ND複合材料のX線回折は、良好に積層された各ドメインあたりの平均層間隔およびGO層数(層の数および平均幅)、並びに、複合材料中の結晶子サイズについての有用情報に関する定量的見識を提供する。d間隔(1)、結晶子幅(2)、および積層(3)は、以下の方程式を用いて計算した。

GOベース膜のX線回折ピークは、GOシート積層体の層間隔に対応して、ブラッグ(Bragg)の式を用いて計算できる。
ブラッグの法則:d=λ/2sin(θ) (1)
ただし、θは回折角の半分、λはX線源の波長である。
GOベース膜のピーク幅は、各試料中のGOドメイン(結晶子)の平均サイズを反映し、粒界および大きな格子欠陥があると分離する。デバイシェラー(Debye-Scherer)の式を用いて、GOドメインの平均結晶幅(D)を決定できる。
D=0.89λ/βcos(θ) (2)
ただし、Dは結晶子幅、βはラジアンで表した半値幅(FWHM)での回折ピークのピーク全幅である。
ドメインあたりのGO層の平均数(N)は、ND粒子の取り込み後のGOナノシートの再積層性能の程度に関する見識を提供する。ブラッグ(Bragg)およびデバイシェラー(Debye-Scherer)の式(1)および(2)の組み合わせを用いて、GO積層体(積層体)の平均層数を計算する。
N=D/d+1 (3)
ただし、D及びdは、それぞれ、結晶子の幅および層間間隔である。
複合膜の機械的性質
GOαND膜のヤング率および硬度の両方が、元のGO膜と比較して~25%まで改善されることも分かった(図13)。GOαND膜のヤング率および硬度は、それぞれ≧15GPaおよび≧610MPaとなった。改善された機械的性質は、膜の実用的用途および長期運用にとって望ましい、GOとNDとの間の好ましい相互作用によって説明できる。
ガス分離
主に、本節においては、HおよびCOの分離について詳しく論じる。しかしながら、他の産業的に重要な水素ガスとの組み合わせ(H/O、H/N、H/CH、およびH/C)が実験され、表2および表3(前出参照)に要約されているように、同等に良好に機能した。
GO膜中のガス拡散は、隣接するシートの端部と層間通路との間で起こる。従って、膜厚だけでなく、GOシートの面方向寸法(図2)も、高流束の膜を生成するために重要である。膜の厚さが増すほど、分子ふるい効果が高まり、選択性が高まる。NDに対するGOの全体的な比率が変化しない場合、すべてのガスの実効透過率は、より厚い膜において減少する(図9C)。最も薄い血小板サイズ(約200nm、図2)を有する膜のH透過性は、平均シートサイズが3μmおよび10μmの膜の値よりも、それぞれ60%および240%高い。比較的大きいシートの屈曲率がより高くなると、ガス拡散率が減少するが、これにより、最も大きいGOシートの膜の選択性が2倍以上に増加し、ふるい分け能力が向上した。また、NDを組み合わせた膜(GOαND)についても同様の傾向が観察された(表2および表3)。
図1GにおけるGO膜の断面図は、約38±6nmの均一な厚さを有する高度充填モルフォロジー(形態)を示す。GOマトリックスへのND粒子の添加(30重量%)によって、75±8nmまで膜厚が増加した(図1I)。本明細書で報告するGOの厚さ、GOαNDの厚さは、真空ろ過溶液中のGOおよびNDの初期濃度に影響される。いかなる特定の理論にも拘束されることを望まないが、厚さの増加に伴い、充填されたGO積層体の間により多くの自由空間が存在すると考えられる。斯かる点を念頭に置き、選択性を確実に決定できるGOαNDシステム厚さについて膜の透過性を報告する。GO構造へND粒子を増加して添加すると、制御されつつ有意にガス透過性が改善された一方で、選択性は、特に低充填剤濃度、すなわち30重量%までにおいて、GO膜とほぼ同じレベルであった(図9D-挿入図)。GO30ND膜では、~3741GPUのH透過性が観察され(αH2/CO2=212)、純GO膜と比較して、~300%の例外的な透過性の増大が認められた(図9D並びに表2および表3)。特定の理論に拘束されることを望まないが、GO層の数の減少およびGO積層体の結晶子幅の収縮が、透過性の増大の原因であると考えられる(表5)。N吸着試験が示すことは、30重量%のND粒子の添加により、細孔容積が純GO膜の0.036cm/gから0.17cm/gへ500%増大することであり、これにより、複合膜中のガス拡散率が促進される(図14A)。GO30NDについて、GO膜の厚さが、無充填時の38±6nmから75±8nmへ増加することは(図1Gおよび図1I)、充填剤の添加によって構造が開くという証拠である。一般的に、シリカ、およびMOFs[23]、COFs[14]、およびMXenes[21]を包含する広範囲の無機材料にわたって比較すると、GO30ND膜は、例外的なH透過性(>3700GPU)およびH/CO選択性(>200)の両方を示す(図9Eおよび表6)。以前の研究では、GO積層体中における様々な粒子の挿入によって、選択性がかなり低下することを犠牲にして、より高い透過性が引き起こされた。しかしながら、非常に高い透過性を保ちつつ、無視できる程度の選択性損失を我々は達成できた。
Figure 2023529860000016
混合ガス供給下において膜のガス分離特性の評価を実施した。等モルH/CO供給混合物を使用すると、GO30ND膜のH透過性およびH/CO選択性は、それぞれ6%および13%低下した(表7、図9H)。
Figure 2023529860000017
混合ガス条件下における膜の透過性および選択性の低下は、一般的に、高度に吸着されたCO分子によってH分子の移動が部分的に阻害されたことに起因する(図14B-C)。高濃度COの供給によってさらに悪化することが予想される。従って、20:80のH/CO供給混合物(図9H)では、H透過性および選択性の25%および45%の低下が観察される。しかしながら、膜材料の絶対的な透過性および選択性が最高の範囲にあることを考慮すると、より現実的な条件下における性能の損失は、許容される。ガス分離膜が様々な応用シナリオに対応できる温度ウィンドウ(温度手段)について検討しておくことが重要である。従って、我々は高温においてGO30ND膜を試験した。一般的な傾向として、温度が上昇するにつれてCOおよびH分子の両方に対して高いガス透過性が観測された。しかしながら、高温におけるCO吸着の顕著な減少により、この系ではCO流束が有利になるため、H/CO選択性が低下傾向を示した(図21)。それにもかかわらず、この温度までの膜の中間層における間隔の変化が最小であることは明らかであるため、これらの膜は、80℃まで機能性を示した(図22)。
水、湿度、エアロゾルに対する安定性
湿気に対するNDの安定化特性についての説得力のある証拠は、GO30ND膜を水中へ浸漬する(図15A)という水条件下での浸漬から確かめることができる。ここで、ポリエーテルスルホン支持体上での真空ろ過によって、比較的広い面積で調製された比較的厚いGO膜(~200nm)は、液体の水に浸漬することで崩壊するように思えるが、GO30ND膜は、同一期間の間では安定である。ND安定化効果のより厳しい安定性試験も実施され、H/CO混合物(相対湿度85%)の湿潤供給物および乾燥供給物に膜を繰り返し曝露することによって実証される(図15B)。そのままのGO膜は、1回のフルサイクル曝露で性能を維持できず、両方のガスに対して完全に透過性になった。興味深いことに、膜は、2回目の乾式ガス供給に曝露されると性能がさらに悪化し、これは、湿潤および乾燥のどちらの環境に吸湿性材料があっても、顕著で不可逆的な構造の再構築が起こることを示唆している。d間隔値の変化(図15C)、AAOからのGO選択層の層間剥離(図15E)、および、湿気条件下におけるGO膜表面でのブリスター(突出物)の出現を根拠にして(図15F)、構造破壊が確認された。他方、GOαND膜は、湿潤ガスおよび乾燥ガスに曝露した場合、膜特性において比較的大きな可逆性を示した。複合膜の安定性は、湿潤下(図15Dおよび図23)における、層間間隔の保存、および、全体的な膜構造の保存によっても明らかであった。図1J~Kに示されたデータは、85%の相対湿度における膜透過性を示し、ND含有量によって安定性が増強される一方で、膜の透過性および選択性の変動は、湿度レベルに直接関連する(図15G~Hおよび図24)。繰り返し湿度条件または一定の湿度条件下における、膜性能のこの準可逆的変動は、NDが膜内のGO積層体を非共有結合的に安定化していることを示唆している。
挿入された正電荷ND の影響
本発明の文脈において、例示的実施形態において、中性または中性に近い溶液条件(pH 6~7)でGOベース複合膜を製造した。湿潤条件下における不安定化は、おそらく、負に電荷したGOシート間の静電反発によって生じるGO積層体の移動が制限されることによって、最小化された。正に電荷したNDがGO積層体間に挿入される効果は、GOシートの負電荷が部分的に中和され、それによってGO層の強力な反発を緩和することである。
電荷補償効果の一般化可能性を調べるために、別のタイプの正電荷粒子POSSを利用した。陰性対照として、NDおよびPOSSを様々な負荷量で取り込んだGO膜も調製した(図2Fおよび図2G)。負に電荷した同様のサイズのPOSS(-30mV)の添加を、比較例2において試験した。GOαPOSS材料について、同一の配列で特性評価を実施した(図9A)。その結果、FTIRおよびWXRDデータ(図16)によって確認されたように、GOシートとPOSSナノ充填剤との間の相互作用は弱いことが示された。その結果、GOαPOSS複合膜の機械的性質が劣ることが見出され(図13)、これは、GO骨格内における粒子の重度の凝集に関連していた(図17のSEM画像)。GOαND複合膜とは異なり、GOαPOSS膜のガス選択性は、重大な凝集および非選択的界面欠陥の形成が原因で、純GO膜よりはるかに低かった(表2および表3)。さらに、GOαPOSS構造は、湿潤ガス供給下において、または、H/CO混合物の等モル下における脱水-水和連続サイクル操作において、不安定な性能となることが明らかになった(図8Bおよび図18)。
GOαPOSS膜で得られた結果は、GOシートに異物粒子が挿入されたGOベース膜(例えば、MOF添加物のGOシステムへの挿入)の以前の報告と一致している。報告では常に、挿入によって透過性が増加しているが、選択性は低下している(図9Dおよび表6)。負に電荷したPOSS充填剤の添加について、比較例2において、同様のことが観察される。
これは、実施例1に記載されたGOαNDシステムで観察された事実とは著しく対照的であり、本発明によるGOαNDシステムの高性能は、正に電荷したND添加剤の相互作用の程度、および、その周辺環境との化学的類似性の程度と相関し得る、という概念がより強くなる。
負に電荷した粒子とGO薄片との間の弱い相互作用は、フーリエ変換赤外分光法(FTIR)、広角X線回折(WXRD)、および、重度の凝集(図16および図17)によって確認された。また、GOαPOSS(図13)の劣った機械的特性は、POSS層とGO層との間に強い相互作用がないことも示唆している。GOαND膜とは異なり、GOαPOSSおよびGOαNDのH/CO選択性は、等モルH/CO混合供給下において、それぞれ30および74に有意に低下する(図2G)。湿潤条件下における不安定化は、負に電荷したGOシート間での静電反発によるGO積層体の移動が制限されることによって、最小化される。NDおよびPOSS粒子のGO積層体への挿入は、GOシートの負電荷を部分的に中和し、層の強力な反発を緩和した(図2A)。静電的安定化の欠如は、GOαPOSSおよびGOαNDシステムでは欠如しているため、これらの膜は、湿潤ガス供給下(図15J)において、または、等モルH/CO混合物の連続的な乾燥-水和サイクル操作下(図18)において、一貫性のない性能を示した。電荷粘土および他のイオンは、水への溶解に対してより厚い(18~20μm)GOシートで安定化できることが報告されている。本開示において、中性に近い溶液条件(pH 6~7)で膜が製造される場合、正に電荷したNDのGO積層体間への挿入は、GOシートの負電荷を部分的に中和し、層の強い反発を緩和した。
さらに、水分解生成物(H/O混合物~66%H)の改良によって、GOαND膜の適用範囲を拡大した。図15Iおよび表8に示されるように、GO30ND膜のH/O選択性は~42に達し、一連の湿潤/乾燥サイクル測定にわたって変化しなかった。より高いH/O選択性~84であるにもかかわらず、GO膜は1回のフルサイクル下において選択性がなくなった。従って、NDの添加は、水分解によって生じたH精製GO膜の不安定性を克服するための有効な戦略である。水は、分子またはエアロゾルの形態で存在し得るため、マクロスケール再構造化に対する膜の抵抗性を、液体曝露によって顕著にエージングされた膜を通るエアロゾル移動の試験によって確認した(図15K)。GOαNDベースの材料では、99%の効率でPM0.3エアロゾル粒子の通過を妨げるだけでなく、水の存在下でも安定であることを実証できた一方で、加速劣化試験として水中で前処理したGO膜については、PM0.3除去率が40%に低下した。
Figure 2023529860000018
結論
要約すると、実施例は、正に電荷したナノダイヤモンド(ND)またはPOSSナノ粒子の使用を例示し、これらは、積み重ねられたGOシートの負電荷を中和し、得られた膜を湿気に対して安定化する。純GO膜は、強制的な湿度サイクル試験の下においてふるい分け能力を全て失った一方で、GOαND複合膜は、同じ条件下において安定性を約90%まで保持することが分かった。具体的には、実施例は、H/CO分離に向けた膜の全体的な高性能を維持しつつ、有害な湿潤条件に対してGOベース膜が安定していることを示す。これは、sp3/sp2のコア/シェル構造および正の表面電荷、またはPOSSナノ粒子を特徴とする正に電荷したナノダイヤモンド(ND)の挿入によって、達成された。正に電荷したNDまたはPOSSナノ粒子は、水和したGOシート間の静電反発力を減少させ、そこでは、安定且つGO適合性の構造がGO積層体間に挿入され、膜構造を強化する。その結果、湿気存在下におけるGOシートの再度のランダムな積層及び凝集が抑制される(図1A)。
ND添加は、膜の全体的な水素選択性(例えば、αH/CO~210)に劇的な影響を与えることなく、透過性を純膜に対して3倍(~3700GPU)向上させることが示された。POSSナノ粒子の添加の場合にも確かな結果が示された。
対照的に、同様のサイズだが負に電荷したナノダイヤモンド(ND)または多面体オリゴマー性シルセスキオキサン(POSS)添加剤は、GOベース膜の膨潤抵抗を高めないことが分かった。
従って、本実施例では、例えば炭素質ナノ粒子などの正に電荷したナノ粒子の添加の利点が実証され、特に、湿気に対しておよび膜の分離性能の不安定化の増大に対して、負に電荷したGO膜を安定化させつつ、その特有の分離性能を著しく向上させるNDまたはPOSSナノ粒子によって、実証された。
この出願全体を通しての全ての参照、例えば、発行若しくは付与された特許又はこの同等物を含む特許文献、特許公開公報、及び非特許文献、又は他の出典書は、本出願の開示と各参照が少なくとも部分的に矛盾しない範囲において(例えば、参照の部分的に矛盾する部分を除いて、部分的に矛盾する参照が組み込まれる)、個々に参照によって組み込まれているかのように、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
明細書において言及されている全ての特許及び刊行物は、本発明が関係する技術分野の当業者の技能レベルを示している。本明細書に引用された参照文献は、技術水準を示すために参照によって本明細書に組み込まれており、この情報は、必要に応じて、先行技術に含まれている特定の実施形態を除外(例えば、放棄)するために本明細書中で用いることができることが意図されている。例えば、組成物が請求項に記載されている場合、本明細書に開示されている文献に開示されている特定の組成物を含む、先行技術において既知の組成物は、請求項に含まれることを意図していないことが理解されるべきである。
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Claims (18)

  1. - グラフェン酸化物シートと、
    - 静電相互作用および/またはファンデルワールス相互作用のみによって前記グラフェン酸化物シートの表面に結合したナノ粒子と、を含む、
    多孔質複合膜。
  2. 前記複合膜が複数の積層グラフェン酸化物シートを含み、前記ナノ粒子が前記グラフェン酸化物シートの積層間に挿入されている、請求項1に記載の多孔質複合膜。
  3. 前記グラフェン酸化物シートが約200nmから15μmの面方向平均サイズを有する、請求項1または2に記載の多孔質複合膜。
  4. 前記ナノ粒子が約3nmから10nmの平均直径を有する、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の多孔質複合膜。
  5. グラフェン酸化物シート+ナノ粒子の総重量に基づいて表される約5~40重量%の量のナノ粒子が、静電相互作用および/または水素結合相互作用によって、前記グラフェン酸化物シートの表面で集合している、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の多孔質複合膜。
  6. 前記ナノ粒子が、pH7において30mV以上のゼータ電位の正電荷を有する、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の多孔質複合膜。
  7. 前記ナノ粒子がナノダイヤモンドを含む、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の多孔質複合膜。
  8. 前記グラフェン酸化物シートの積層間における層間距離の少なくとも一部が0.6nm以下である、請求項2乃至7のいずれか1項に記載の多孔質複合膜。
  9. 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の多孔質複合膜の製造方法であって、
    (i) 水性溶媒中のグラフェン酸化物シートの分散液を提供する工程、
    (ii) 水性溶媒中のナノ粒子の分散液を提供する工程、
    (iii) 前記グラフェン酸化物の分散液および前記ナノ粒子の分散液を混合し、グラフェン酸化物ナノ粒子複合体の分散液を調製する工程、および、
    (iv) 工程(iii)で得られた前記分散液を多孔質支持基板で濾過し、基板担持グラフェン酸化物-ナノ粒子複合膜を作製する工程、
    を備える、多孔質複合膜の製造方法。
  10. 工程(i)および(ii)における前記水性溶媒が、水、または、アルコール/水混合物から選択される1種且つ同一の水性溶媒である、請求項9に記載の方法。
  11. 工程(i)および(ii)における前記水性溶媒がpH=6~7の水である、請求項9または10に記載の方法。
  12. を含有する少なくとも2種の分離可能なガス混合物を含むガス流と流体連通する多孔質複合膜を備えたガス分離システムであって、
    前記多孔質複合膜が、
    - グラフェン酸化物シートと、
    - 静電相互作用および/またはファンデルワールス相互作用のみによって前記グラフェン酸化物シートの表面に結合したナノ粒子と、を含む、
    ガス分離システム。
  13. 前記多孔質複合膜が多孔質支持基板上に配置されている、請求項12に記載のガス分離システム。
  14. 前記多孔質支持基板が、アルミナベース若しくはシリカベースの多孔質セラミック等の多孔質セラミック材料、および、ポリスルホン(PS)、ポリエーテルスルホン(PES)、フッ化ビニリデン(PVDF)などのフルオロポリマー、またはポリアクリロニトリル等の親水性ポリマー材料を含有する、セラミック多孔質支持基板またはポリマー多孔質支持基板を含む、請求項12または13に記載のガス分離システム。
  15. 請求項12乃至14のいずれか1項に記載のガス分離システムであって、
    前記多孔質複合膜は、
    (i) 0.05mNの荷重でバーコビッチ三面ピラミッド型ダイヤモンドチップ(半径100nm)を用いて25±3℃でナノインデンテーション法によって測定した610MPa以上の硬度を有し、測定誤差が20インデントの標準誤差に基づいて求められ、且つ、
    (ii) 0.05mNの荷重でバーコビッチ三面ピラミッド型ダイヤモンドチップ(半径100nm)を用いて25±3℃でナノインデンテーション法によって測定した15GPa以上のヤング率を有し、測定誤差が20インデントの標準誤差に基づいて求められる、
    ガス分離システム。
  16. 請求項12乃至15のいずれか1項に記載のガス分離システムであって、
    - 入口、循環成分出口、および透過成分出口を有する分離ユニット、
    - 少なくともHを含有する少なくとも2種の分離可能なガス混合物を含み、前記分離ユニットの前記入口と流体連通するガス流、
    - 透過成分のみが、前記多孔質複合膜を最初に通過した後に前記入口から前記透過成分出口に流れることができ、且つ、循環成分が、前記多孔質複合膜を通過することなく前記入口から前記循環成分出口に流れるように構成され、前記分離ユニット内に構成される、請求項1に記載の少なくとも1つの多孔質複合膜、
    - 前記分離ユニットの前記循環成分出口と流体連通する循環成分コレクタ、および、
    - 前記分離ユニットの前記透過成分出口と流体連通する透過成分コレクタ、を備える、ガス分離システム。
  17. 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の多孔質複合膜に、少なくとも2種の分離可能なガス混合物を通す工程を備え、前記ガス混合物が少なくともHを含有する、ガス流からHを分離するための方法。
  18. グラフェン酸化物ベース水素膜におけるHO膨潤を低減するためのプロセスであって、
    前記グラフェン酸化物ベース水素膜を構成するグラフェン酸化物シートに、静電相互作用および/またはファンデルワールス相互作用によって、ナノ粒子を結合させる工程を含むプロセス。
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