JP2023523776A - Ｓｃｒ触媒用組成物 - Google Patents
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Abstract
本発明は、アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料；銅及び鉄の１つ以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料であって、ゼオライト系材料の骨格構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ及び酸素を含み、ここで、Ｙ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、２：１～４０：１の範囲である８員環細孔ゼオライト系材料；を含む組成物であって、上記ゼオライト系材料の外表面の少なくとも一部が、上記非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されており；ここでＹはＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＧｅの１つ以上を含み、ＸはＡｌ、Ｂ、Ｉｎ及びＧａの１つ以上を含む、組成物に関する。
Description
本発明は、銅及び鉄の１種以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料を含む組成物、及び銅及び鉄の１種以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料を含む組成物の調製方法、上記組成物及び該組成物を含むスラリーの使用方法に関する。更に本発明は、前記組成物を含む、燃焼機関の排気ガスを処理するための選択的触媒還元触媒、上記触媒の調製方法及び上記触媒を用いた排気ガスの処理方法に関する。
ゼオライト系材料のコアシェル構造は、特許文献１（ＵＳ ２０１３/０１０１５０３ Ａ１）及び特許文献２（ＵＳ ２０１７/７０５０１８２ Ａ１）で議論されている。しかし、これらの文献のいずれも、選択的触媒還元技術や低温・高温ＮＯｘ転化率の改善方法を開示していない。特許文献３（ＣＮ １０８９９３５７９ Ａ）は、低温度での選択的触媒還元（ＳＣＲ）活性を改善するために、セリウムで含浸したメソ孔シリカによって覆られたＦｅ－ＺＳＭ－５ゼオライト系材料の使用を開示しており、及び特許文献４（国際公開第２０１９/２２５９０９号Ａ）は、高温でのＳＣＲ活性を改善するために使用されるアルミナで被覆されたゼオライト系材料を開示している。
しかし、これらの文献のいずれもが、低い背圧を維持しながら低温及び高温の両方で高いＮＯｘ性能を得ることを可能にするフィルターに関するＳＣＲ技術について論じていない。したがって、フィルターの背圧を最小限に抑えながら、低温と高温の両方でＮＯｘ転化率を改善することを可能にする組成物及び/又は選択的触媒還元触媒を提供する必要性が依然として存在する。
従って本発明は、
（ｉ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料
（ｉｉ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料であって、上記ゼオライト系材料の骨格構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ及び酸素を含み、ここでＹ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、２：１～４０：１の範囲である、８員環細孔ゼオライト系材料
を含む組成物であって、
（ｉｉ）に従うゼオライト系材料の外表面の少なくとも一部が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されており、及びＹはＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＧｅの１つ以上を含み、ＸはＡｌ、Ｂ、Ｉｎ及びＧａの１つ以上を含む組成物に関する。
（ｉ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料
（ｉｉ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料であって、上記ゼオライト系材料の骨格構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ及び酸素を含み、ここでＹ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、２：１～４０：１の範囲である、８員環細孔ゼオライト系材料
を含む組成物であって、
（ｉｉ）に従うゼオライト系材料の外表面の少なくとも一部が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されており、及びＹはＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＧｅの１つ以上を含み、ＸはＡｌ、Ｂ、Ｉｎ及びＧａの１つ以上を含む組成物に関する。
（ｉ）に記載の非ゼオライト系酸化材料の、好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、更に好ましくは９９．５～１００質量％、更に好ましくは９９．９～１００質量％が、アルミナから構成される。
（ｉ）に記載の非ゼオライト系酸化材料に含まれるアルミナは、γ－アルミナ、α－アルミナ、δ－アルミナ、θ－アルミナ及びη－アルミナからなる群より選択されることが好ましく、より好ましくはγ－アルミナ、α－アルミナ及びδ－アルミナからなる群より選択される。アルミナはγ－アルミナであることがより好ましい。前記（ｉ）に記載の非ゼオライト系酸化材料を含む層は、平均膜厚が２ｎｍ～１００ｎｍの範囲にあることが好ましく、より好ましくは５ｎｍ～７０ｎｍの範囲にあり、更に好ましくは２０～５０ｎｍの範囲にあり、更に好ましくは２５ｎｍ～４７ｎｍの範囲にあり、より好ましくは２５～３５ｎｍの範囲にあり、又は更に好ましくは４０～４７ｎｍの範囲にあり、ここで平均厚さは参照例４のように決定される。
（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料の好ましくは４０～１００質量％、より好ましくは５０～１００質量％、更に好ましくは７０～１００質量％が層中に含まれる。
前記層の好ましくは９９～１００質量％で、より好ましくは９９．５～１００質量％、更に好ましくは９９．９～１００質量％が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料から構成される。
（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化物質は、（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系物質の質量に基づいて、好ましくは５～５０質量％の範囲の量で組成物中に存在し、より好ましくは７～４０質量％の範囲、更に好ましくは８～３２質量％の範囲の量で組成物中に存在する。
また、（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料に関し、これはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、ＡＦＸ、ＬＴＡ、これらの２種以上の混合物及びこれらの２種以上の混合型からなる群より選択される骨格型を有することが好ましく、ＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、これらの２種以上の混合物及び２種以上の混合型からなる群より選択されることがより好ましく、ＣＨＡ及びＡＥＩからなる群より選択されることがより好ましい。前記（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料が骨格型ＣＨＡを有することがより好ましい。
前記（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料が銅を含むことが好ましく、上記ゼオライト系材料中の銅の量は、８員環細孔ゼオライト質材料の質量に基づいて、ＣｕＯとして計算して、より好ましくは０．１～１０質量％の範囲であり、更に好ましくは１．５～５．５質量％の範囲であり、更に好ましくは２．５～５．０質量％の範囲であり、より好ましくは３．０～４．７５質量％の範囲であり、更に好ましくは３．２５～４．５質量％の範囲である。
８員環細孔ゼオライト系材料に含まれる鉄の量は、Ｆｅ２Ｏ３として計算して、８員環細孔ゼオライト質材料の質量に基づいて、０～０．０１質量％の範囲であることがより好ましく、０～０．００１質量％の範囲であることが更に好ましく、０～０．０００１質量％の範囲であることが更に好ましい。換言すれば、８員環細孔ゼオライト系材料が実質的に鉄を含まないことがより好ましく、鉄を含まないことが更に好ましい。
従って本発明は好ましくは、
（ｉ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料
（ｉｉ）ＣＨＡの骨格構造を有し、銅及び鉄の１つ以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料であって、上記ゼオライト系材料の骨格構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ及び酸素を含み、ここで、Ｙ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、２：１～４０：１の範囲である、８員環細孔ゼオライト系材料
を含む組成物であって、
（ｉｉ）に従うゼオライト系材料の外表面の少なくとも一部が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されており、及びＹはＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＧｅの１つ以上を含み、ＸはＡｌ、Ｂ、Ｉｎ及びＧａの１つ以上を含み、
上記８員環細孔ゼオライト系材料は、より好ましくは銅を含む、組成物に関する。
（ｉ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料
（ｉｉ）ＣＨＡの骨格構造を有し、銅及び鉄の１つ以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料であって、上記ゼオライト系材料の骨格構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ及び酸素を含み、ここで、Ｙ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、２：１～４０：１の範囲である、８員環細孔ゼオライト系材料
を含む組成物であって、
（ｉｉ）に従うゼオライト系材料の外表面の少なくとも一部が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されており、及びＹはＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＧｅの１つ以上を含み、ＸはＡｌ、Ｂ、Ｉｎ及びＧａの１つ以上を含み、
上記８員環細孔ゼオライト系材料は、より好ましくは銅を含む、組成物に関する。
本発明について、（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料の骨格構造の、好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、更に好ましくは９９．５～１００質量％、更に好ましくは９９．９～１００質量％が、Ｘ、Ｙ及びＯから構成される。
ＹはＳｉであることが好ましい。
ＸがＡｌ及びＢの１種以上であることが好ましく、Ａｌであることがより好ましい。ＹがＳｉであり、及びＹがＡｌであることがより好ましい。
Ｙ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、５：１～３０：１の範囲であることが好ましく、１０：１～２４：１の範囲であることがより好ましく、１２：１～２２：１の範囲であることが更に好ましく、１５：１～２０：１の範囲であることが更に好ましく、１５：１～１８：１の範囲であることが更に好ましい。本発明において、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、Ｙ：Ｘのモル比を上述した好ましい範囲内に有する８員環細孔ゼオライト系材料を含む本発明に従う組成物は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、３０：１超、好ましくは２４：１超、より好ましくは２２：１超、より好ましくは２０：１超、より好ましくは１８：１超のＹ：Ｘのモル比を有する８員環細孔ゼオライト系材料を含む組成物と比較して、改良された触媒活性を有すると信じられている。
（ｉｉ）に従うゼオライト系材料の外表面の、好ましくは２０～１００％、より好ましくは３０～１００％、更に好ましくは５０～９５％、更に好ましくは５０～６０％、又はより好ましくは８０～９０％が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されている。従って本発明は好ましくは、
（ｉ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料
（ｉｉ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料であって、上記ゼオライト系材料の骨格構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ及び酸素を含み、ここで、Ｙ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、２：１～４０：１の範囲である、８員環細孔ゼオライト系材料
を含む組成物であって、
（ｉｉ）に従うゼオライト系材料の外表面の、２０～１００％、より好ましくは３０～１００％、更に好ましくは５０～９５％、更に好ましくは５０～６０％、又はより好ましくは８０～９０％が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されており、及びＹはＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＧｅの１つ以上を含み、及びＸはＡｌ、Ｂ、Ｉｎ及びＧａの１つ以上を含む、組成物に関する。より好ましくは本発明は、
（ｉ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料
（ｉｉ）銅及び鉄の１つ以上を含み、及び骨格型ＣＨＡを有する８員環細孔ゼオライト系材料であって、上記ゼオライト系材料の骨格構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ及び酸素を含み、ここで、Ｙ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、２：１～４０：１の範囲である、８員環細孔ゼオライト系材料
を含む組成物であって、
（ｉｉ）に従うゼオライト系材料の外表面の、２０～１００％、より好ましくは３０～１００％、更に好ましくは５０～９５％、更に好ましくは５０～６０％、より好ましくは８０～９０％が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されており、及びＹはＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＧｅの１つ以上を含み、及びＸはＡｌ、Ｂ、Ｉｎ及びＧａの１つ以上を含み、及び上記８員環細孔ゼオライト系材料はより好ましくは、銅を含む、組成物に関する。
（ｉ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料
（ｉｉ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料であって、上記ゼオライト系材料の骨格構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ及び酸素を含み、ここで、Ｙ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、２：１～４０：１の範囲である、８員環細孔ゼオライト系材料
を含む組成物であって、
（ｉｉ）に従うゼオライト系材料の外表面の、２０～１００％、より好ましくは３０～１００％、更に好ましくは５０～９５％、更に好ましくは５０～６０％、又はより好ましくは８０～９０％が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されており、及びＹはＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＧｅの１つ以上を含み、及びＸはＡｌ、Ｂ、Ｉｎ及びＧａの１つ以上を含む、組成物に関する。より好ましくは本発明は、
（ｉ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料
（ｉｉ）銅及び鉄の１つ以上を含み、及び骨格型ＣＨＡを有する８員環細孔ゼオライト系材料であって、上記ゼオライト系材料の骨格構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ及び酸素を含み、ここで、Ｙ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、２：１～４０：１の範囲である、８員環細孔ゼオライト系材料
を含む組成物であって、
（ｉｉ）に従うゼオライト系材料の外表面の、２０～１００％、より好ましくは３０～１００％、更に好ましくは５０～９５％、更に好ましくは５０～６０％、より好ましくは８０～９０％が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されており、及びＹはＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＧｅの１つ以上を含み、及びＸはＡｌ、Ｂ、Ｉｎ及びＧａの１つ以上を含み、及び上記８員環細孔ゼオライト系材料はより好ましくは、銅を含む、組成物に関する。
本発明では、組成物の０～０．００００１質量％、より好ましくは０～０．０００００１質量％が、任意の白金族金属から構成されることが好ましい。換言すれば、組成物は何れの白金族金属も実質的に含まないことが好ましく、より好ましくは何れの白金族金属も含まない。
組成物の９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、更に好ましくは９９．５～１００質量％、更に好ましくは９９．９～１００質量％が（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料及び（ｉｉ）に従う銅及び鉄の１種以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料か構成されることが好ましい。
組成物中に含まれる銅及び鉄の１種以上の０．１質量％以下、より好ましくは０．０１質量％以下、より好ましくは０．００１質量％以下、更に好ましくは０．０００１質量％以下が（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料に担持されていることが好ましい。換言すれば、銅及び鉄の１種以上のいずれもが実質的に、より好ましくは銅及び鉄の１種以上のいずれもが、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料に担持されていないことが好ましい。
本発明の組成物はか焼された組成物であることが好ましく、より好ましくは４００～８００℃の範囲の温度、更に好ましくは４５０～６００℃の範囲、更に好ましくは４５０～５５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気下でか焼された組成物であることが好ましい。ガス雰囲気は空気であることが好ましい。
本発明は更に、窒素酸化物の選択的触媒還元のための触媒成分として、本発明に従う組成物を使用する方法に関する。
本発明は更に、本発明に従う組成物及び分散剤を含むスラリーであって、上記分散剤は水、エタノール、酢酸、硝酸、乳酸、及びこれらの２種以上の混合物の１つ以上であるスラリーに関する。分散剤は水及び酢酸の１種以上であることがより好ましく、より好ましくは水及び酢酸である。
本発明は更に、組成物、好ましくは本発明に従う組成物を調製する方法であって、
（ａ）銅及び鉄の１種以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料を提供する工程であって、ゼオライト系材料は好ましくは、０．０５～５マイクロメートルの範囲に平均結晶サイズを有する結晶を含み、この平均結晶サイズは参照例５のように測定される、工程、
（ｂ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料の供給源を提供する工程であって、上記非ゼオライト系酸化材料の供給源が、非ゼオライト系酸化材料の粒子を含むコロイド分散液であり、上記非ゼオライト系酸化材料の粒子が３０～２００ｎｍの範囲のＤｖ５０を有し、及びＤｖ５０は、参照例３のように測定される、工程、
（ｃ）（ａ）で得られたゼオライト系材料及び（ｂ）で得られたアルミナを含む非ゼオライト系酸化材料の供給源を混合し、混合物を形成する工程、
（ｄ）（ｃ）で得られた混合物を、４００～８００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程であって、上記ガス雰囲気が空気であることが好ましい工程、
を含む方法に関する。
（ａ）銅及び鉄の１種以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料を提供する工程であって、ゼオライト系材料は好ましくは、０．０５～５マイクロメートルの範囲に平均結晶サイズを有する結晶を含み、この平均結晶サイズは参照例５のように測定される、工程、
（ｂ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料の供給源を提供する工程であって、上記非ゼオライト系酸化材料の供給源が、非ゼオライト系酸化材料の粒子を含むコロイド分散液であり、上記非ゼオライト系酸化材料の粒子が３０～２００ｎｍの範囲のＤｖ５０を有し、及びＤｖ５０は、参照例３のように測定される、工程、
（ｃ）（ａ）で得られたゼオライト系材料及び（ｂ）で得られたアルミナを含む非ゼオライト系酸化材料の供給源を混合し、混合物を形成する工程、
（ｄ）（ｃ）で得られた混合物を、４００～８００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程であって、上記ガス雰囲気が空気であることが好ましい工程、
を含む方法に関する。
本発明では、上述の組成物を調製するための工程の順序は、非常に重要であると信じられている。特に、前記８員環細孔ゼオライト系材料が、ｂ）に従うコロイド分散液と混合される前に、銅及び鉄の１種以上を既に含んでいることが重要である。実際、ゼオライト系材料がむしろコロイド分散液と銅及び鉄の１つ以上と混合された場合には、異なる生成物が得られると考えられている。特に、組成物中の銅及び/又は鉄の分布は異なるであろう。本発明の方法を使用する場合、銅及び鉄の１つ以上が大部分、ゼオライト系材料内に分布しているが、ゼオライト系材料、コロイド分散液及び銅及び鉄の１つ以上を一緒に混合する方法では、得られた組成物は、非ゼオライト系酸化材料(アルミナなど)に担持されたより多くの銅及び/又は鉄を示すると考えられる。
（ａ）としては、これは
（ａ.１）銅塩及び鉄塩の１種以上の水溶液、より好ましくは銅塩、より好ましくは酢酸銅の水溶液を調製すること、
（ａ.２）（ａ.１）で得られた水溶液を８員環細孔ゼオライト系材料と混合すること；
（ａ.３）（ａ.２）で得られた混和物をか焼すること、
を含むことが好ましく、より好ましくはこれらから構成される。
（ａ.１）銅塩及び鉄塩の１種以上の水溶液、より好ましくは銅塩、より好ましくは酢酸銅の水溶液を調製すること、
（ａ.２）（ａ.１）で得られた水溶液を８員環細孔ゼオライト系材料と混合すること；
（ａ.３）（ａ.２）で得られた混和物をか焼すること、
を含むことが好ましく、より好ましくはこれらから構成される。
（ａ.２）で混合する構成が、（ａ.１）で得られた水溶液を８員環細孔ゼオライト系材料に含浸させることを含むことが好ましく、より好ましくはこの構成から成る。
（ａ．３）におけるか焼（焼成）は、４００～８００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気下で行われることが好ましく、この温度は４５０～６００℃の範囲であることがより好ましく、及びガス雰囲気が空気であることが更に好ましい。
（ａ.３）でのか焼は、ガス雰囲気中で０．５～４時間の範囲の期間行われることが好ましく、この期間は１．５～３時間の範囲であることがより好ましく、ガス雰囲気が空気であることが更に好ましい。
前記８員環細孔ゼオライト系材料の結晶は、０．０６～２マイクロメートルの範囲の平均結晶サイズを有することが好ましく、この平均結晶サイズは、より好ましくは０．０７～１マイクロメートルの範囲、更に好ましくは０．１～０．８マイクロメートルの範囲、更に好ましくは０．２～０．６マイクロメートルの範囲であり、ここで平均結晶サイズは参照例５のように決定される。
前記８員環細孔ゼオライト系材料は、０．５～４マイクロメートルの範囲、より好ましくは１～３マイクロメートルの範囲、更に好ましくは１．５～２．５マイクロメートルの範囲のＤｖ５０を有する粒子を含むことが好ましく、ここでＤｖ５０は参照例３のように決定される。
前記８員環細孔ゼオライト系材料は、２～１５マイクロメートルの範囲、より好ましくは３～１０マイクロメートルの範囲、更に好ましくは４～８マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有する粒子を含むことが好ましく、ここでＤｖ５０は参照例３のように決定される。
（ｂ）に提供される非ゼオライト系酸化材料の粒子を含むコロイド分散液はアルミナゾルであることが好ましい。前記非ゼオライト系酸化材料の粒子、より好ましくはアルミナの粒子が、５０～１５０ｎｍの範囲にＤｖ５０を有することが好ましく、より好ましくは７０～１２０ｎｍの範囲、更に好ましくは８０～１１０ｎｍの範囲、更に好ましくは８０～９０ｎｍの範囲のＤｖ５０を有し、ここでＤｖ５０は参照例３のように決定される。本発明に関して、Ｄｖ５０が前述の上限値よりも高い場合には、銅及び鉄の１つ以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料の周囲にコアシェル構造が得られないと考えられている。
本発明に関し、８員環細孔ゼオライト系材料は、本発明の組成物を記載する場合に、前述のように定義されることが好ましいことが留意される。
本発明に関し、非ゼオライト酸化材料は、本発明の組成物を記載する場合に、前述のように定義された非ゼオライト酸化材料であることが好ましいことが留意される。
本発明に関し、（ｃ）は、
（ｃ．１）水と、（ｂ）で得られる、アルミナ、より好ましくはアルミナゾルを含む非ゼオライト系酸化材料の供給源との混合物を調製すること、
（ｃ．２）（ａ）で得られたゼオライト系材料及び（ｃ．１）で得られた混合物を混合すること、
を含み、好ましくはこれらから成る。
（ｃ．１）水と、（ｂ）で得られる、アルミナ、より好ましくはアルミナゾルを含む非ゼオライト系酸化材料の供給源との混合物を調製すること、
（ｃ．２）（ａ）で得られたゼオライト系材料及び（ｃ．１）で得られた混合物を混合すること、
を含み、好ましくはこれらから成る。
（ｄ）に記載のか焼は、４５０～６００℃の範囲び温度を有するガス雰囲気内で行われることが好ましく、この温度は４５０～５５０℃の範囲であることがより好ましく、ガス雰囲気が空気であることが更に好ましい。
（ｄ）に従うか焼は、ガス雰囲気中で０．５～４時間の範囲の期間行われることが好ましく、この期間はより好ましくは１～３時間の範囲であり、更に好ましくは１．５～２．５時間の範囲であり、ガス雰囲気は空気であることが更に好ましい。
本発明の方法は、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）からなることが好ましい。
本発明は更に、組成物に関し、好ましくは本発明に従う方法によって得られるか、又は得ることができる組成物に関する。
本発明は更に、燃焼機関の排気ガスを処理するための選択的触媒還元触媒であって、
（１）入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及び上記基材を通って延びる上記基材の内壁によって画定される複数の通路を含む基材と、
（２）上記基材（ｉ）上に配置されたコーティングと、
を含み、上記コーティングは、本発明に従う組成物を含む、選択的触媒還元触媒に関する。
（１）入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及び上記基材を通って延びる上記基材の内壁によって画定される複数の通路を含む基材と、
（２）上記基材（ｉ）上に配置されたコーティングと、
を含み、上記コーティングは、本発明に従う組成物を含む、選択的触媒還元触媒に関する。
上記コーティング（２）は、酸化物バインダー（oxidic binder）を更に含むことが好ましく、上記酸化物バインダーは、ジルコニア、アルミナ、チタニア、シリカ、及びＺｒ、Ａｌ、Ｔｉ、及びＳｉの２種以上を含む混合酸化物の１種以上を含むことがより好ましく、シリカ、アルミナ及びジルコニアの１種以上を含むことが更に好ましい。酸化物バインダーがアルミナ及びジルコニアの１種以上を含むことがより好ましく、これらから構成されることがより好ましく、ジルコニアであることが更に好ましい。
酸化物バインダー、より好ましくはジルコニアが、８員環細孔ゼオライト系材料の質量に基づいて、酸化物として計算して、より好ましくはＺｒＯ２と計算して、０．１～１０質量％の範囲、より好ましくは１～７質量％の範囲、更に好ましくは２～６．５質量％の範囲、より好ましくは３～６質量％の範囲、４～５．５質量％の範囲の量でコーティング（２）内に含まれることが好ましい。
コーティング（２）は、コーティング（２）の質量に基づいて、組成物を８０～１００質量％の範囲の量で含むことが好ましく、この量はより好ましくは、９０～９９質量％の範囲、更に好ましくは９２～９８質量％の範囲、更に好ましくは９４～９７質量％の範囲である。
コーティング（２）の充填量は、１～３．５ｇ/ｉｎ３の範囲であることが好ましく、より好ましくは１．５～３ｇ/ｉｎ３の範囲、更に好ましくは１．７５～２．５ｇ/ｉｎ３の範囲である。
前記コーティング（２）は、上記基材軸方向の長さのｘ％に亘り延びていることが好ましく、より好ましくは上記基材の入口端部から出口端部まで延びており、上記ｘは、８０～１００の範囲、より好ましくは９０～１００の範囲、更に好ましくは９５～１００の範囲であり、より好ましくは９８～１００の範囲である。
コーティング（２）の好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、本発明に従う組成物、及びより好ましくは上記に定義した酸化物バインダーから構成される。
コーティング（２）の０～０．００００１質量％、より好ましくは０～０．０００００１質量％が白金族金属から構成されることが好ましい。換言すれば、コーティング（２）は、如何なる白金族金属も実質的に含まないことが好ましく、より好ましくは含まない。
上記基材(substrate)は、ウォールフローフィルタ基材又はフロースルー基材であることが好ましく、より好ましくはウォールフローフィルタ基材であり、ここで上記複数の通路は、更に好ましくは、開口した入口端部及び閉じた出口端部を有する入口通路、及び閉じた入口端部及び開口した出口端部を有する出口通路を含む。
上記ウォールフローフィルタ基材は多孔質ウォールフローフィルタ基材であることが好ましく、ここで上記ウォールフローフィルタ基材は、より好ましくはコージェライトウォールフローフィルタ基材、炭化珪素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上であり、更に好ましくは、炭化珪素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材の１つ以上であり、より好ましくは炭化珪素ウォールフローフィルタ基材である。
コーティングは、ウォールフローフィルタ基材の内壁内、及び/又はウォールフローフィルタ基材の内壁の表面上にあることが好ましい。
上記コーティングの少なくとも９５質量％、より好ましくは９５～１００質量％、更に好ましくは９７～９９．９質量％、更に好ましくは９８～９９．５質量％が、ウォールフローフィルタ基材の内壁内にあることが好ましい。基材の内壁内のコーティングの量は、電子顕微鏡、好ましくは走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で定量化される。
上記コーティングの、最大で５質量％、より好ましくは０～５質量％、更に好ましくは０．１～３質量％、更に好ましくは０．５～２質量％が、ウォールフローフィルタ基材の内壁内にあることが好ましい。基材の内壁の表面上のコーティングの量は、電子顕微鏡、好ましくは走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で定量される。
上記コーティングは、上記ウォールフロー（壁流）フィルタ基材の内壁内及び上記ウォールフローフィルタ基材の内壁の表面上にあることが好ましい。
本発明の選択接触還元触媒は、基材（１）とコーティング（２）とから成ることが好ましい。
本発明は更に、本発明に従う燃焼機関の排気ガスを処理するための選択触媒還元触媒を調製するための方法であって、
（Ａ）水、及び本発明に従う組成物、好ましくは本発明に従う製造方法に従って調製された組成物を含む混合物を調製する工程、
（Ｂ）（Ａ）に従って得られた混合物を基材上に配置し、混合物処理した基材を得る工程であって、上記基材は、入口端部と、出口端部と、上記入口端部から上記出口端部まで延びる基材軸方向長さと、上記基材を通って延びる上記基材の内壁で定義される複数の流路と含む工程、
（Ｃ）（Ｂ）に従って得られた混合物処理した基材をか焼（焼成）し、その上に配置されたコーティングを有する基材を得る工程、
を含む方法に関する。
（Ａ）水、及び本発明に従う組成物、好ましくは本発明に従う製造方法に従って調製された組成物を含む混合物を調製する工程、
（Ｂ）（Ａ）に従って得られた混合物を基材上に配置し、混合物処理した基材を得る工程であって、上記基材は、入口端部と、出口端部と、上記入口端部から上記出口端部まで延びる基材軸方向長さと、上記基材を通って延びる上記基材の内壁で定義される複数の流路と含む工程、
（Ｃ）（Ｂ）に従って得られた混合物処理した基材をか焼（焼成）し、その上に配置されたコーティングを有する基材を得る工程、
を含む方法に関する。
（Ａ）に関し、これは好ましくは、
（Ａ．１）水、及び本発明に従う組成物、より好ましくは本件発明に従う方法によって調製された組成物を含む第１の混合物を調製すること；
（Ａ．２）酸化物バインダーの供給源、より好ましくはジルコニウム塩、更に好ましくは酢酸ジルコニウムを、（Ａ.１）で得られた第１の混合物に添加し、第２の混合物を得ること；
（Ａ．３）より好ましくは（Ａ．２）で得られた第２の混合物に有機酸を添加し、第３の混合物を得ること
（Ａ．４）より好ましくは（Ａ．２）で得られた第２の混合物を粉砕し、更に好ましくは（Ａ．３）で得られた第３の混合物を粉砕し、
更に好ましくは上記混合物の粒子がＤｖ９０を１～１０マイクロメートルの範囲、より好ましく２～７マイクロメートルの範囲、更に好ましくは３～５マイクロメートルの範囲に有するまで粉砕する工程であって、Ｄｖ９０は参照例３に記載されるように測定されること、
を含み、ここで上記（Ａ）は、より好ましくは、（Ａ．１）、（Ａ．２）及び（Ａ．４）を含み、更に好ましくは、上記（Ａ）は（Ａ．１）、（Ａ．２）、（Ａ．３）及び（Ａ．４）を含み、より好ましくはこれらから成る。
（Ａ．１）水、及び本発明に従う組成物、より好ましくは本件発明に従う方法によって調製された組成物を含む第１の混合物を調製すること；
（Ａ．２）酸化物バインダーの供給源、より好ましくはジルコニウム塩、更に好ましくは酢酸ジルコニウムを、（Ａ.１）で得られた第１の混合物に添加し、第２の混合物を得ること；
（Ａ．３）より好ましくは（Ａ．２）で得られた第２の混合物に有機酸を添加し、第３の混合物を得ること
（Ａ．４）より好ましくは（Ａ．２）で得られた第２の混合物を粉砕し、更に好ましくは（Ａ．３）で得られた第３の混合物を粉砕し、
更に好ましくは上記混合物の粒子がＤｖ９０を１～１０マイクロメートルの範囲、より好ましく２～７マイクロメートルの範囲、更に好ましくは３～５マイクロメートルの範囲に有するまで粉砕する工程であって、Ｄｖ９０は参照例３に記載されるように測定されること、
を含み、ここで上記（Ａ）は、より好ましくは、（Ａ．１）、（Ａ．２）及び（Ａ．４）を含み、更に好ましくは、上記（Ａ）は（Ａ．１）、（Ａ．２）、（Ａ．３）及び（Ａ．４）を含み、より好ましくはこれらから成る。
（Ａ．３）に従って添加される有機酸は、酢酸、酒石酸、クエン酸、硝酸、乳酸、塩酸及び硫酸の１種以上であることが好ましく、上記有機酸は、酢酸であることがより好ましい。
（Ａ）に従って得られた混合物を（Ｂ）に記載の基材上に配置することは、（Ａ）に従って得られた混合物に基材を浸漬することにより行うことが好ましい。従って（Ａ）に従って調製された混合物は、好ましくは基材の内壁に侵入／浸透し、及び好ましくは基材の内壁の表面上にある。
（Ｂ）に従い好ましくは、（Ａ）に従って調製された混合物が基材軸方向の長さのｘ％にわたって基材上に配置され、ここでｘは８０～１００の範囲、より好ましくは９０～１００の範囲、更に好ましくは９５～１００の範囲であり、より好ましくは９８～１００の範囲である。従って（Ａ）に従って調製された混合物は、好ましくは基材の内壁に浸入/浸透し及び、好ましくは、基材の内壁の表面上にある。
（Ａ）に従って調製された混合物は、基材の入口端部から出口端部まで基材上に配置されることが好ましい。
（Ｂ）に関し、これは好ましくは、
（Ｂ．１）（Ａ）で得られた混合物の第１の部分を、入口端部と、出口端部と、該入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向の長さと、基材を通って延びる基材の内壁で規定される複数の通路とを含む基材上に配置する工程であって、上記配置はより好ましくは、上記基材の入口端部から上記出口端部に向かって行われる工程；及びその上に配置された混合物の第１の部分を含む基材を乾燥させる工程；
（Ｂ．２）（Ａ）で得られた混合物の第２の部分を、（Ｂ．１）で得られた混合物の第１の部分を含む基材上に配置する工程であって、より好ましくは該配置は、上記入口端部から上記基材の出口端部に向かって配置すること工程；及びより好ましくは、その上に配置された混合物の第１及び第２の部分を含む基材を乾燥させる工程、
を含む。
（Ｂ．１）（Ａ）で得られた混合物の第１の部分を、入口端部と、出口端部と、該入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向の長さと、基材を通って延びる基材の内壁で規定される複数の通路とを含む基材上に配置する工程であって、上記配置はより好ましくは、上記基材の入口端部から上記出口端部に向かって行われる工程；及びその上に配置された混合物の第１の部分を含む基材を乾燥させる工程；
（Ｂ．２）（Ａ）で得られた混合物の第２の部分を、（Ｂ．１）で得られた混合物の第１の部分を含む基材上に配置する工程であって、より好ましくは該配置は、上記入口端部から上記基材の出口端部に向かって配置すること工程；及びより好ましくは、その上に配置された混合物の第１及び第２の部分を含む基材を乾燥させる工程、
を含む。
従って、（Ａ）に従って調製された混合物は好ましくは、基材の内壁に浸入／浸透し、及び好ましくは基材の内壁の表面上にある。
より好ましくは、（Ｂ）は、
（Ｂ．１）入口端部と、出口端部と、上記入口端部から上記出口端部まで延びる基材軸方向の長さと、基材を通って延びる上記基材の内壁によって画定される複数の流路とを有する基材上に、（Ａ）で得られた混合物の第１の部分を配置する工程であって、この配置は、上記基材の上記入口端部から前記基材の出口端部に向かって行われ、より好ましくは上記基材軸方向の長さのｘ％に亘って行われ、ここでｘは上記に定義した通りであり、及び基材に配置された混合物の第１の部分を含む基材を乾燥させる工程；
（Ｂ．２）（Ａ）で得られた混合物の第２の部分を、（Ｂ．１）で得られた混合物の第１の部分を含む基材上に配置する工程であって、この配置は、基材の上記入口端部から出口端部に向かって行われ、より好ましくは上記基材軸方向の長さのｘ％に亘って行われ、ここでｘは上記で定義したとおりであり；より好ましくは、基材上に配置された混合物の第１及び第２の部分を含む基材を乾燥させる工程、
を含む。
（Ｂ．１）入口端部と、出口端部と、上記入口端部から上記出口端部まで延びる基材軸方向の長さと、基材を通って延びる上記基材の内壁によって画定される複数の流路とを有する基材上に、（Ａ）で得られた混合物の第１の部分を配置する工程であって、この配置は、上記基材の上記入口端部から前記基材の出口端部に向かって行われ、より好ましくは上記基材軸方向の長さのｘ％に亘って行われ、ここでｘは上記に定義した通りであり、及び基材に配置された混合物の第１の部分を含む基材を乾燥させる工程；
（Ｂ．２）（Ａ）で得られた混合物の第２の部分を、（Ｂ．１）で得られた混合物の第１の部分を含む基材上に配置する工程であって、この配置は、基材の上記入口端部から出口端部に向かって行われ、より好ましくは上記基材軸方向の長さのｘ％に亘って行われ、ここでｘは上記で定義したとおりであり；より好ましくは、基材上に配置された混合物の第１及び第２の部分を含む基材を乾燥させる工程、
を含む。
代替の方法として、より好ましくは（Ｂ）は、
（Ｂ’．１）（Ａ）で得られた混合物の第１の部分を、入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向の長さ及び基材を通って延びる基材の内壁によって画定される複数の通路を含む基材上に配置する工程であって、この配置は、上記基材の入口端部から上記出口端部に向かって行われ、より好ましくは上記基材軸方向の長さのＸａ％にわたって行われ、上記Ｘａは、４０～８０の範囲、更に好ましくは５０～７０の範囲であり;基材の上に配置された混合物の第１の部分を含む上記基材を乾燥させる工程；
（Ｂ’．２）（Ａ）で得られた混合物の第２の部分を、（Ｂ’．１）で得られた混合物の第１の部分を含む基材上に配置する工程であって、この配置は、上記基材の出口端部から上記入口端部に向かって行われ、より好ましくは上記基材軸方向の長さのＸｂ％にわたって行われ、上記Ｘｂは、４０～８０の範囲、更に好ましくは５０～７０の範囲であり;及びより好ましくは基材の上に配置された混合物の第１及び第２の部分を含む上記基材を乾燥させる工程、
を含む。
（Ｂ’．１）（Ａ）で得られた混合物の第１の部分を、入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向の長さ及び基材を通って延びる基材の内壁によって画定される複数の通路を含む基材上に配置する工程であって、この配置は、上記基材の入口端部から上記出口端部に向かって行われ、より好ましくは上記基材軸方向の長さのＸａ％にわたって行われ、上記Ｘａは、４０～８０の範囲、更に好ましくは５０～７０の範囲であり;基材の上に配置された混合物の第１の部分を含む上記基材を乾燥させる工程；
（Ｂ’．２）（Ａ）で得られた混合物の第２の部分を、（Ｂ’．１）で得られた混合物の第１の部分を含む基材上に配置する工程であって、この配置は、上記基材の出口端部から上記入口端部に向かって行われ、より好ましくは上記基材軸方向の長さのＸｂ％にわたって行われ、上記Ｘｂは、４０～８０の範囲、更に好ましくは５０～７０の範囲であり;及びより好ましくは基材の上に配置された混合物の第１及び第２の部分を含む上記基材を乾燥させる工程、
を含む。
本発明について、（Ｃ）に従うか焼は、３００～８００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われることが好ましく、この温度は３５０～７００℃の範囲であることがより好ましく、ガス雰囲気が空気であることが更に好ましい。
（Ｃ）に従うか焼は、ガス雰囲気中で０．２～４時間の範囲の期間行われることが好ましく、この期間は０．５～３時間の範囲であることが好ましく、ガス雰囲気が空気であることがより好ましい。
（Ｃ）に従うか焼の前に、乾燥が９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われることが好ましく、この温度は１００～１４０℃の範囲であることがより好ましく、ガス雰囲気が空気であることが更に好ましい。従って、（Ｃ）に従うか焼は、乾燥した混合物処理基材上で行うことが好ましい。
（Ｃ）に従うか焼の前に、乾燥が５～１５０分の範囲の期間にわたってガス雰囲気中で行われることが好ましく、この期間は１０～１２０分の範囲であることがより好ましく、ガス雰囲気は空気であることが更に好ましい。
本発明に従う燃焼機関の排気ガスを処理するための選択的触媒還元触媒を調製するための本発明の方法は、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）から構成される（成る）ことが好ましい。
本発明は更に、燃焼機関の排気ガスを処理するための選択的触媒還元触媒に関し、好ましくは本発明に従う方法によって得ることが可能な、又は得られる、本発明に従う燃焼エンジンの排気ガスを処理するための選択的触媒還元触媒に関する。
本発明は更に、窒素酸化物を選択的触媒還元するための方法であって、
（Ｉ）排ガス流、好ましくは内燃機関、好ましくはディーゼルエンジンからの排ガス流を提供する工程；
（ＩＩ）（Ｉ）に提供された排ガス流を本発明に従う選択的触媒還元触媒に通す工程、
を含む方法に関する。
（Ｉ）排ガス流、好ましくは内燃機関、好ましくはディーゼルエンジンからの排ガス流を提供する工程；
（ＩＩ）（Ｉ）に提供された排ガス流を本発明に従う選択的触媒還元触媒に通す工程、
を含む方法に関する。
本発明は、以下の実施形態のセット及び存関係及び（示された）後方参照から生じる実施形態の組み合わせによって更に説明される。特に、例えば「実施形態１～４のいずれか１つに記載の組成物」等、実施形態の範囲が言及される各例において、この範囲のすべての実施形態は、当業者に対して明示的に開示されることを意味し、すなわち、この用語の文言は、「実施形態１、２、３及び４の任意の１つに記載の組成物」と同義であることが、当業者によって理解されるべきであることに留意されたい。更に、以下の実施形態のセットは、保護の範囲を決定する特許請求の範囲のセットではなく、本発明の一般的及び好ましい態様に向けられた説明の適切に構造化された部分を表すことに明示的に留意されたい。
『実施形態１』
（ｉ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料
（ｉｉ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料であって、上記ゼオライト系材料の骨格構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ及び酸素を含み、ここで、Ｙ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、２：１～４０：１の範囲である、８員環細孔ゼオライト系材料
を含む組成物であって、
（ｉｉ）に従うゼオライト系材料の外表面の少なくとも一部が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されており、及びＹはＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＧｅの１つ以上を含み、ＸはＡｌ、Ｂ、Ｉｎ及びＧａの１つ以上を含む、組成物。
（ｉ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料
（ｉｉ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料であって、上記ゼオライト系材料の骨格構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ及び酸素を含み、ここで、Ｙ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、２：１～４０：１の範囲である、８員環細孔ゼオライト系材料
を含む組成物であって、
（ｉｉ）に従うゼオライト系材料の外表面の少なくとも一部が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されており、及びＹはＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＧｅの１つ以上を含み、ＸはＡｌ、Ｂ、Ｉｎ及びＧａの１つ以上を含む、組成物。
『実施形態２』
（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料の９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、更に好ましくは９９．９～１００質量％がアルミナから構成される、実施形態１に記載の組成物。
（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料の９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、更に好ましくは９９．９～１００質量％がアルミナから構成される、実施形態１に記載の組成物。
『実施形態３』
前記（ｉ）に従うの非ゼオライト系酸化材料に含まれるアルミナが、γ－アルミナ、α－アルミナ、δ－アルミナ、θ－アルミナ及びη－アルミナからなる群より選択され、好ましくはγ－アルミナ、α－アルミナ及びδ－アルミナからなる群より選択され、より好ましくは上記アルミナがγ－アルミナである、実施形態１又は２に記載の組成物。
前記（ｉ）に従うの非ゼオライト系酸化材料に含まれるアルミナが、γ－アルミナ、α－アルミナ、δ－アルミナ、θ－アルミナ及びη－アルミナからなる群より選択され、好ましくはγ－アルミナ、α－アルミナ及びδ－アルミナからなる群より選択され、より好ましくは上記アルミナがγ－アルミナである、実施形態１又は２に記載の組成物。
『実施形態４』
上記（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層が、２ｎｍ～１００ｎｍの範囲の平均厚さ、好ましくは５ｎｍ～７０ｎｍの範囲、より好ましくは２０～５０ｎｍの範囲、より好ましくは２５ｎｍ～４７ｎｍの範囲、更に好ましくは２５～３５ｎｍの範囲、又は更に好ましくは４０～４７ｎｍの範囲の平均厚さを有し、平均厚さは参照例４に記載されたように決定される、実施形態１～３の何れか１つに記載の組成物。
上記（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層が、２ｎｍ～１００ｎｍの範囲の平均厚さ、好ましくは５ｎｍ～７０ｎｍの範囲、より好ましくは２０～５０ｎｍの範囲、より好ましくは２５ｎｍ～４７ｎｍの範囲、更に好ましくは２５～３５ｎｍの範囲、又は更に好ましくは４０～４７ｎｍの範囲の平均厚さを有し、平均厚さは参照例４に記載されたように決定される、実施形態１～３の何れか１つに記載の組成物。
『実施形態５』
上記（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料の４０～１００質量％、好ましくは５０～１００質量％、より好ましくは７０～１００質量％が上記層に含まれている、実施形態１～４の何れか１つに記載の組成物。
上記（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料の４０～１００質量％、好ましくは５０～１００質量％、より好ましくは７０～１００質量％が上記層に含まれている、実施形態１～４の何れか１つに記載の組成物。
『実施形態６』
上記層の９９～１００質量％、好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料で構成される、実施形態１～５の何れか１つに記載の組成物。
上記層の９９～１００質量％、好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料で構成される、実施形態１～５の何れか１つに記載の組成物。
『実施形態７』
上記（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料が、（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料の質量に基づいて、５～５０質量％の範囲の量、好ましくは７～４０質量％の範囲、より好ましくは８～３２質量％の範囲の量で組成物中に存在する、実施形態１～６の何れか１つに記載の組成物。
上記（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料が、（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料の質量に基づいて、５～５０質量％の範囲の量、好ましくは７～４０質量％の範囲、より好ましくは８～３２質量％の範囲の量で組成物中に存在する、実施形態１～６の何れか１つに記載の組成物。
『実施形態８』
（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料が、ＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、ＡＦＸ、ＬＴＡ、これらの２種以上の混合物及びこれらの２種以上の混合型からなる群より選択される骨格型を有し、好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、これらの２種以上の混合物及びこれらの２種以上の混合型からなる群、より好ましくはＣＨＡ及びＡＥＩからなる群より選択される骨格型を有し、更に好ましくは（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料が骨格型ＣＨＡを有する、実施形態１～７のいずれか１つに記載の組成物。
（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料が、ＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、ＡＦＸ、ＬＴＡ、これらの２種以上の混合物及びこれらの２種以上の混合型からなる群より選択される骨格型を有し、好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、これらの２種以上の混合物及びこれらの２種以上の混合型からなる群、より好ましくはＣＨＡ及びＡＥＩからなる群より選択される骨格型を有し、更に好ましくは（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料が骨格型ＣＨＡを有する、実施形態１～７のいずれか１つに記載の組成物。
『実施形態９』
上記（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料は銅を含み、上記ゼオライト系材料中の銅の量は、８員環細孔ゼオライト系材料の質量に基づいて、ＣｕＯとして計算して、好ましくは０．１～１０質量％の範囲であり、より好ましくは１．５～５．５質量％の範囲であり、より好ましくは２．５～５．０質量％の範囲であり、更に好ましくは３．０～４．７５質量％の範囲であり、更に好ましくは３．２５～４．５質量%の範囲である、実施形態１～８のいずれか１つに記載の組成物。
上記（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料は銅を含み、上記ゼオライト系材料中の銅の量は、８員環細孔ゼオライト系材料の質量に基づいて、ＣｕＯとして計算して、好ましくは０．１～１０質量％の範囲であり、より好ましくは１．５～５．５質量％の範囲であり、より好ましくは２．５～５．０質量％の範囲であり、更に好ましくは３．０～４．７５質量％の範囲であり、更に好ましくは３．２５～４．５質量%の範囲である、実施形態１～８のいずれか１つに記載の組成物。
『実施形態１０』
上記８員環細孔ゼオライト系材料に含まれる鉄の量が、８員環細孔ゼオライト系材料の質量に基づいて、Ｆｅ２Ｏ３として計算して、０～０．０１質量％の範囲であり、好ましくは０～０．００１質量％の範囲であり、より好ましくは０～０．０００１質量%の範囲である、実施形態９に記載の組成物。
上記８員環細孔ゼオライト系材料に含まれる鉄の量が、８員環細孔ゼオライト系材料の質量に基づいて、Ｆｅ２Ｏ３として計算して、０～０．０１質量％の範囲であり、好ましくは０～０．００１質量％の範囲であり、より好ましくは０～０．０００１質量%の範囲である、実施形態９に記載の組成物。
『実施形態１１』
上記（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料の骨格構造の９８～１００質量%、好ましくは９９～１００質量%、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、Ｘ、Ｙ及びＯから成る、実施形態１～１０のいずれか１つに記載の組成物。
上記（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料の骨格構造の９８～１００質量%、好ましくは９９～１００質量%、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、Ｘ、Ｙ及びＯから成る、実施形態１～１０のいずれか１つに記載の組成物。
『実施形態１２』
ＹがＳｉである、実施形態１～１１のいずれか１つに記載の組成物。
ＹがＳｉである、実施形態１～１１のいずれか１つに記載の組成物。
『実施形態１３』
ＸがＡｌ及びＢの１種以上、好ましくはＡｌである、実施形態１～１２のいずれか１つに記載の組成物。
ＸがＡｌ及びＢの１種以上、好ましくはＡｌである、実施形態１～１２のいずれか１つに記載の組成物。
『実施形態１４』
Ｙ：Ｘのモル比が、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、５：１～３０：１の範囲、好ましくは１０：１～２４：１の範囲、より好ましくは１２：１～２２：１の範囲、更に好ましくは１５：１～２０：１の範囲、より好ましくは１５：１～１８：１の範囲である、実施形態１～１３のいずれか１つに記載の組成物。
Ｙ：Ｘのモル比が、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、５：１～３０：１の範囲、好ましくは１０：１～２４：１の範囲、より好ましくは１２：１～２２：１の範囲、更に好ましくは１５：１～２０：１の範囲、より好ましくは１５：１～１８：１の範囲である、実施形態１～１３のいずれか１つに記載の組成物。
『実施形態１５』
（ｉｉ）に従うゼオライト系材料の外表面の２０～１００％、好ましくは３０～１００％、より好ましくは５０～９５％、更に好ましくは５０～６０％、より好ましくは８０～９０％が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されている、実施形態１～１４のいずれか１つに記載の組成物。
（ｉｉ）に従うゼオライト系材料の外表面の２０～１００％、好ましくは３０～１００％、より好ましくは５０～９５％、更に好ましくは５０～６０％、より好ましくは８０～９０％が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されている、実施形態１～１４のいずれか１つに記載の組成物。
『実施形態１６』
組成物の０～０．００００１質量％、好ましくは０～０．０００００１質量％が、任意の白金族金属からなる、実施形態１～１５のいずれか１つに記載の組成物。
組成物の０～０．００００１質量％、好ましくは０～０．０００００１質量％が、任意の白金族金属からなる、実施形態１～１５のいずれか１つに記載の組成物。
『実施形態１７』
組成物の９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、更に好ましくは９９．９～１００質量％が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料及び（ｉｉ）に従う銅及び鉄の１種以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料からなる、実施形態１～１６のいずれか１つに記載の組成物。
組成物の９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、更に好ましくは９９．９～１００質量％が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料及び（ｉｉ）に従う銅及び鉄の１種以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料からなる、実施形態１～１６のいずれか１つに記載の組成物。
『実施形態１８』
か焼された組成物であり、より好ましくは４００～８００℃の範囲、更に好ましくは４５０～６００℃の範囲、更に好ましくは４５０～５５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気下でか焼された組成物であり、ガス雰囲気は空気であることが好ましい、実施形態１～１７のいずれか１つに記載の組成物。
か焼された組成物であり、より好ましくは４００～８００℃の範囲、更に好ましくは４５０～６００℃の範囲、更に好ましくは４５０～５５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気下でか焼された組成物であり、ガス雰囲気は空気であることが好ましい、実施形態１～１７のいずれか１つに記載の組成物。
『実施形態１９』
窒素酸化物の選択的触媒還元のための触媒成分として、実施形態１～１８の何れか１つに従う組成物を使用する方法。
窒素酸化物の選択的触媒還元のための触媒成分として、実施形態１～１８の何れか１つに従う組成物を使用する方法。
『実施形態２０』
実施形態１～１８のいずれか１つに従う組成物及び分散剤を含むスラリーであって、上記分散剤が、水、エタノール、酢酸、硝酸、乳酸、及びこれらの２種以上の混合物の１種以上であり、好ましくは上記分散剤が水及び酢酸の１種以上であり、より好ましくは水及び酢酸であるスラリー。
実施形態１～１８のいずれか１つに従う組成物及び分散剤を含むスラリーであって、上記分散剤が、水、エタノール、酢酸、硝酸、乳酸、及びこれらの２種以上の混合物の１種以上であり、好ましくは上記分散剤が水及び酢酸の１種以上であり、より好ましくは水及び酢酸であるスラリー。
『実施形態２１』
組成物、好ましくは実施形態１～１８のいずれか１つに記載の組成物を調製する方法であって、
（ａ）銅及び鉄の１種以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料を提供する工程であって、前記ゼオライト系材料の骨格構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ及び酸素を含み、前記Ｙ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、２：１～４０：１の範囲であり、前記ゼオライト系材料は、好ましくは０．０５～５マイクロメートルの範囲の平均結晶サイズを有する結晶を含み、平均結晶サイズは参照例５に記載されたように決定される工程；
（ｂ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料の供給源を提供する工程であって、上記非ゼオライト系酸化材料の供給源が、非ゼオライト系酸化材料の粒子を含むコロイド分散液であり、上記非ゼオライト系酸化材料の粒子が３０～２００ｎｍの範囲のＤｖ５０を有し、Ｄｖ５０は参照例３に記載されたように決定される工程；
（ｃ）（ａ）で得られたゼオライト系材料と、（ｂ）で得られたアルミナを含む非ゼオライト系酸化材料の供給源とを混合し、混合物を形成する工程及び、
（ｄ）（ｃ）で得られた混合物を４００～８００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程であって、ガス雰囲気が空気であることが好ましい工程、
を含む方法。
組成物、好ましくは実施形態１～１８のいずれか１つに記載の組成物を調製する方法であって、
（ａ）銅及び鉄の１種以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料を提供する工程であって、前記ゼオライト系材料の骨格構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ及び酸素を含み、前記Ｙ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、２：１～４０：１の範囲であり、前記ゼオライト系材料は、好ましくは０．０５～５マイクロメートルの範囲の平均結晶サイズを有する結晶を含み、平均結晶サイズは参照例５に記載されたように決定される工程；
（ｂ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料の供給源を提供する工程であって、上記非ゼオライト系酸化材料の供給源が、非ゼオライト系酸化材料の粒子を含むコロイド分散液であり、上記非ゼオライト系酸化材料の粒子が３０～２００ｎｍの範囲のＤｖ５０を有し、Ｄｖ５０は参照例３に記載されたように決定される工程；
（ｃ）（ａ）で得られたゼオライト系材料と、（ｂ）で得られたアルミナを含む非ゼオライト系酸化材料の供給源とを混合し、混合物を形成する工程及び、
（ｄ）（ｃ）で得られた混合物を４００～８００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程であって、ガス雰囲気が空気であることが好ましい工程、
を含む方法。
『実施形態２２』
工程（ａ）が、
（ａ．１）銅塩及び鉄塩の１種以上の水溶液、より好ましくは銅塩、より好ましくは酢酸銅の水溶液を調製する工程、
（ａ．２）（ａ．１）で得られた水溶液を８員環細孔ゼオライト系材料と混合する工程；
（ａ．３）（ａ．２）で得られた混和物をか焼する工程、
を含み、好ましくはこれらから成る、実施形態２１に記載の方法。
工程（ａ）が、
（ａ．１）銅塩及び鉄塩の１種以上の水溶液、より好ましくは銅塩、より好ましくは酢酸銅の水溶液を調製する工程、
（ａ．２）（ａ．１）で得られた水溶液を８員環細孔ゼオライト系材料と混合する工程；
（ａ．３）（ａ．２）で得られた混和物をか焼する工程、
を含み、好ましくはこれらから成る、実施形態２１に記載の方法。
『実施形態２３』
工程（ａ．２）での混合が、工程（ａ．１）で得られた水溶液を８員環細孔ゼオライト系材料に含浸させる工程を含む、好ましくは該工程から成る、実施形態２２に記載の方法。
工程（ａ．２）での混合が、工程（ａ．１）で得られた水溶液を８員環細孔ゼオライト系材料に含浸させる工程を含む、好ましくは該工程から成る、実施形態２２に記載の方法。
『実施形態２４』
工程（ａ．３）でのか焼が、４００～８００℃の範囲、好ましくは４５０～６００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気内で行われる、実施形態２２又は２３に記載の方法。
工程（ａ．３）でのか焼が、４００～８００℃の範囲、好ましくは４５０～６００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気内で行われる、実施形態２２又は２３に記載の方法。
『実施形態２５』
工程（ａ．３）でのか焼が、０．５～４時間の範囲、好ましくは１．５～３時間の範囲の期間行われる、実施形態２２～２４の何れか１つに記載の方法。
工程（ａ．３）でのか焼が、０．５～４時間の範囲、好ましくは１．５～３時間の範囲の期間行われる、実施形態２２～２４の何れか１つに記載の方法。
『実施形態２６』
前記８員環細孔ゼオライト系材料の結晶は、０．０６～２マイクロメートルの範囲、好ましくは０．０７～１マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．１～０．８マイクロメートルの範囲、更に好ましくは０．２～０．６マイクロメートルの範囲の平均結晶サイズを有し、平均結晶サイズは参照例５に記載したように決定される、実施形態２１～２５の何れか１つに記載の方法。
前記８員環細孔ゼオライト系材料の結晶は、０．０６～２マイクロメートルの範囲、好ましくは０．０７～１マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．１～０．８マイクロメートルの範囲、更に好ましくは０．２～０．６マイクロメートルの範囲の平均結晶サイズを有し、平均結晶サイズは参照例５に記載したように決定される、実施形態２１～２５の何れか１つに記載の方法。
『実施形態２７』
上記８員環細孔ゼオライト系材料は、０．５～４マイクロメートルの範囲、好ましくは１～３マイクロメートルの範囲、より好ましくは１．５～２．５マイクロメートルの範囲にあるＤｖ５０を有する粒子を含み、Ｄｖ５０は参照例３に記載したように決定される、実施形態２１～２６の何れか１つに記載の方法。
上記８員環細孔ゼオライト系材料は、０．５～４マイクロメートルの範囲、好ましくは１～３マイクロメートルの範囲、より好ましくは１．５～２．５マイクロメートルの範囲にあるＤｖ５０を有する粒子を含み、Ｄｖ５０は参照例３に記載したように決定される、実施形態２１～２６の何れか１つに記載の方法。
『実施形態２８』
上記８員環細孔ゼオライト系材料は、２～１５マイクロメートルの範囲、より好ましくは３～１０マイクロメートルの範囲、更に好ましくは４～８マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有する粒子を含み、ここでＤｖ５０は参照例３に記載したように決定される、実施形態２１～２７の何れか１つに記載の方法。
上記８員環細孔ゼオライト系材料は、２～１５マイクロメートルの範囲、より好ましくは３～１０マイクロメートルの範囲、更に好ましくは４～８マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有する粒子を含み、ここでＤｖ５０は参照例３に記載したように決定される、実施形態２１～２７の何れか１つに記載の方法。
『実施形態２９』
（ｂ）に提供される非ゼオライト系酸化材料の粒子を含むコロイド分散液がアルミナゾルである、実施形態２１～２８の何れか１つに記載の方法。
（ｂ）に提供される非ゼオライト系酸化材料の粒子を含むコロイド分散液がアルミナゾルである、実施形態２１～２８の何れか１つに記載の方法。
『実施形態３０』
上記非ゼオライト系酸化材料の粒子、好ましくは上記アルミナの粒子が、５０～１５０ｎｍの範囲、好ましくは７０～１２０ｎｍの範囲、より好ましくは８０～１１０ｎｍの範囲、より好ましくは８０～９０ｎｍの範囲のＤｖ５０を有し、ここでＤｖ５０は参照例３に記載したように決定される、実施形態２１～２９の何れか１つに記載の方法。
上記非ゼオライト系酸化材料の粒子、好ましくは上記アルミナの粒子が、５０～１５０ｎｍの範囲、好ましくは７０～１２０ｎｍの範囲、より好ましくは８０～１１０ｎｍの範囲、より好ましくは８０～９０ｎｍの範囲のＤｖ５０を有し、ここでＤｖ５０は参照例３に記載したように決定される、実施形態２１～２９の何れか１つに記載の方法。
『実施形態３１』
工程（ｃ）が、
（ｃ．１）水と、（ｂ）で得られる、アルミナ、好ましくはアルミナゾルを含む非ゼオライト系酸化材料の供給源との混合物を調製する工程、
（ｃ．２）（ａ）で得られたゼオライト系材料及び（ｃ．１）で得られた混合物を混合する工程、
を含み、好ましくはこれらから成る、実施形態２１～３０の何れか１つに記載の方法。
工程（ｃ）が、
（ｃ．１）水と、（ｂ）で得られる、アルミナ、好ましくはアルミナゾルを含む非ゼオライト系酸化材料の供給源との混合物を調製する工程、
（ｃ．２）（ａ）で得られたゼオライト系材料及び（ｃ．１）で得られた混合物を混合する工程、
を含み、好ましくはこれらから成る、実施形態２１～３０の何れか１つに記載の方法。
『実施形態３２』
（ｄ）に従うか焼は、は４５０～６００℃の範囲の温度、好ましくは４５０～５５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気は好ましくは空気である、実施形態２１～３１の何れか１つに記載の方法。
（ｄ）に従うか焼は、は４５０～６００℃の範囲の温度、好ましくは４５０～５５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気は好ましくは空気である、実施形態２１～３１の何れか１つに記載の方法。
『実施形態３３』
（ｄ）に従うか焼は、ガス雰囲気中で０．５～４時間の範囲の期間行われ、この期間は１～３時間の範囲であることが好ましく、１．５～２．５時間の範囲であることが好ましく、ガス雰囲気は空気であることが更に好ましい、実施形態２１～３２の何れか１つに記載の方法。
（ｄ）に従うか焼は、ガス雰囲気中で０．５～４時間の範囲の期間行われ、この期間は１～３時間の範囲であることが好ましく、１．５～２．５時間の範囲であることが好ましく、ガス雰囲気は空気であることが更に好ましい、実施形態２１～３２の何れか１つに記載の方法。
『実施形態３４』
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）から成る、実施形態２１～３３の何れか１つに記載の方法。
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）から成る、実施形態２１～３３の何れか１つに記載の方法。
『実施形態３５』
実施形態２１～３４の何れか１つに記載の方法によって得られる、又は得ることが可能な組成物、好ましくは実施形態１～１８の何れか１つに記載の組成物。
実施形態２１～３４の何れか１つに記載の方法によって得られる、又は得ることが可能な組成物、好ましくは実施形態１～１８の何れか１つに記載の組成物。
『実施形態３６』
燃焼機関の排気ガスを処理するための選択的触媒還元触媒であって、
（１）入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及び上記基材を通って延びる上記基材の内壁によって画定される複数の通路を含む基材と、
（２）基材（ｉ）上に配置されたコーティングと、
を含み、上記コーティングは、実施形態１～１８及び３５のいずれか１つに記載の組成物を含む、選択的触媒還元触媒。
燃焼機関の排気ガスを処理するための選択的触媒還元触媒であって、
（１）入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及び上記基材を通って延びる上記基材の内壁によって画定される複数の通路を含む基材と、
（２）基材（ｉ）上に配置されたコーティングと、
を含み、上記コーティングは、実施形態１～１８及び３５のいずれか１つに記載の組成物を含む、選択的触媒還元触媒。
『実施形態３７』
上記コーティング（２）は、酸化物バインダーを更に含み、該酸化物バインダーは、好ましくはジルコニア、アルミナ、チタニア、シリカ、及びＺｒ、Ａｌ、Ｔｉ、及びＳｉの２種以上を含む混合酸化物の１種以上を含み、より好ましくはシリカ、アルミナ及びジルコニアの１種以上を含み、更に好ましくはアルミナ及びジルコニアの１種以上を含み、より好ましくはジルコニアを含む、実施形態３６に記載の触媒。
上記コーティング（２）は、酸化物バインダーを更に含み、該酸化物バインダーは、好ましくはジルコニア、アルミナ、チタニア、シリカ、及びＺｒ、Ａｌ、Ｔｉ、及びＳｉの２種以上を含む混合酸化物の１種以上を含み、より好ましくはシリカ、アルミナ及びジルコニアの１種以上を含み、更に好ましくはアルミナ及びジルコニアの１種以上を含み、より好ましくはジルコニアを含む、実施形態３６に記載の触媒。
『実施形態３８』
酸化物バインダー、好ましくはジルコニアが、８員環細孔ゼオライト系材料の質量に基づいて、酸化物として計算して、好ましくはＺｒＯ２と計算して、０．１～１０質量％の範囲、より好ましくは１～７質量％の範囲、更に好ましくは２～６．５質量％の範囲、より好ましくは３～６質量％の範囲、より好ましくは４～５．５質量％の範囲の量でコーティング（２）内に含まれる、実施形態３７に記載の触媒。
酸化物バインダー、好ましくはジルコニアが、８員環細孔ゼオライト系材料の質量に基づいて、酸化物として計算して、好ましくはＺｒＯ２と計算して、０．１～１０質量％の範囲、より好ましくは１～７質量％の範囲、更に好ましくは２～６．５質量％の範囲、より好ましくは３～６質量％の範囲、より好ましくは４～５．５質量％の範囲の量でコーティング（２）内に含まれる、実施形態３７に記載の触媒。
『実施形態３９』
コーティング（２）は、コーティング（２）の質量に基づいて、組成物を８０～１００質量％の範囲の量で含み、この量は好ましくは、９０～９９質量％の範囲、更に好ましくは９２～９８質量％の範囲、更に好ましくは９４～９７質量％の範囲の量で含む、実施形態３６～３８の何れか１つに記載の触媒。
コーティング（２）は、コーティング（２）の質量に基づいて、組成物を８０～１００質量％の範囲の量で含み、この量は好ましくは、９０～９９質量％の範囲、更に好ましくは９２～９８質量％の範囲、更に好ましくは９４～９７質量％の範囲の量で含む、実施形態３６～３８の何れか１つに記載の触媒。
『実施形態４０』
コーティング（２）の充填量は、１～３．５ｇ/ｉｎ３の範囲、好ましくは１．５～３ｇ/ｉｎ３の範囲、更に好ましくは１．７５～２．５ｇ/ｉｎ３の範囲である、実施形態３６～３９の何れか１つに記載の触媒。
コーティング（２）の充填量は、１～３．５ｇ/ｉｎ３の範囲、好ましくは１．５～３ｇ/ｉｎ３の範囲、更に好ましくは１．７５～２．５ｇ/ｉｎ３の範囲である、実施形態３６～３９の何れか１つに記載の触媒。
『実施形態４１』
上記コーティング（２）は、上記基材軸方向の長さのｘ％にわたり延びており、好ましくは上記基材の入口端部から出口端部まで延びており、上記ｘは、８０～１００の範囲、好ましくは９０～１００の範囲、更に好ましくは９５～１００の範囲であり、より好ましくは９８～１００の範囲である、実施形態３６～４０の何れか１つに記載の触媒。
上記コーティング（２）は、上記基材軸方向の長さのｘ％にわたり延びており、好ましくは上記基材の入口端部から出口端部まで延びており、上記ｘは、８０～１００の範囲、好ましくは９０～１００の範囲、更に好ましくは９５～１００の範囲であり、より好ましくは９８～１００の範囲である、実施形態３６～４０の何れか１つに記載の触媒。
『実施形態４２』
コーティング（２）の９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、更に好ましくは９９．９～１００質量％が、実施形態１～１８及び３５の何れか１つに記載の組成物及び好ましくは実施形態３７又は３８に記載の酸化物バインダーから構成される、実施形態３６～４１の何れか１つに記載の触媒。
コーティング（２）の９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、更に好ましくは９９．９～１００質量％が、実施形態１～１８及び３５の何れか１つに記載の組成物及び好ましくは実施形態３７又は３８に記載の酸化物バインダーから構成される、実施形態３６～４１の何れか１つに記載の触媒。
『実施形態４３』
上記基材は、ウォールフローフィルタ基材又はフロースルー基材であり、好ましくはウォールフローフィルタ基材であり、ここで上記複数の通路は好ましくは、開口した入口端部及び閉じた出口端部を有する入口通路、及び閉じた入口端部及び開口した出口端部を有する出口通路を含む、実施形態３６～４２の何れか１つに記載の触媒。
上記基材は、ウォールフローフィルタ基材又はフロースルー基材であり、好ましくはウォールフローフィルタ基材であり、ここで上記複数の通路は好ましくは、開口した入口端部及び閉じた出口端部を有する入口通路、及び閉じた入口端部及び開口した出口端部を有する出口通路を含む、実施形態３６～４２の何れか１つに記載の触媒。
『実施形態４４』
上記ウォールフローフィルタ基材は多孔質ウォールフローフィルタ基材であり、ここで上記ウォールフローフィルタ基材は、好ましくはコージェライトウォールフローフィルタ基材、炭化珪素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの1つ以上であり、更に好ましくは、炭化珪素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材の１つ以上であり、より好ましくは炭化珪素ウォールフローフィルタ基材である、実施形態４３に記載の触媒。
上記ウォールフローフィルタ基材は多孔質ウォールフローフィルタ基材であり、ここで上記ウォールフローフィルタ基材は、好ましくはコージェライトウォールフローフィルタ基材、炭化珪素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの1つ以上であり、更に好ましくは、炭化珪素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材の１つ以上であり、より好ましくは炭化珪素ウォールフローフィルタ基材である、実施形態４３に記載の触媒。
『実施形態４５』
コーティングは、ウォールフローフィルタ基材の内壁の表面上、及び/又はウォールフローフィルタ基材の内壁内に存在し、及び好ましくはコーティングは、ウォールフローフィルタ基材の内壁の表面上、及びウォールフローフィルタ基材の内壁内に存在する、実施形態４３又は４４に記載の触媒。
コーティングは、ウォールフローフィルタ基材の内壁の表面上、及び/又はウォールフローフィルタ基材の内壁内に存在し、及び好ましくはコーティングは、ウォールフローフィルタ基材の内壁の表面上、及びウォールフローフィルタ基材の内壁内に存在する、実施形態４３又は４４に記載の触媒。
『実施形態４６』
基材（１）及びコーティング（２）から成る、実施形態３６～４５の何れか１つに記載の触媒。
基材（１）及びコーティング（２）から成る、実施形態３６～４５の何れか１つに記載の触媒。
『実施形態４７』
実施形態３６～４６のいずれか１つに記載の燃焼機関の排気ガスを処理するための選択触媒還元触媒を調製するための方法であって、
（Ａ）水と、実施形態１～１８及び３５のいずれか１つに記載の組成物、好ましくは実施形態２１～３４のいずれか１つに記載の製造方法に従って調製された組成物とを含む混合物を調製する工程、
（Ｂ）（Ａ）に従って得られた混合物を、基材上に配置し、混合物処理した基材を得る工程であって、上記基材は、入口端部と、出口端部と、上記入口端部から上記出口端部まで延びる基材軸方向長さと、上記基材を通って延びる上記基材の内壁で定義される複数の流路と含む工程、
（Ｃ）（Ｂ）に従って得られた混合物処理した基材をか焼し、その上に配置されたコーティングを有する基材を得る工程、
を含む方法。
実施形態３６～４６のいずれか１つに記載の燃焼機関の排気ガスを処理するための選択触媒還元触媒を調製するための方法であって、
（Ａ）水と、実施形態１～１８及び３５のいずれか１つに記載の組成物、好ましくは実施形態２１～３４のいずれか１つに記載の製造方法に従って調製された組成物とを含む混合物を調製する工程、
（Ｂ）（Ａ）に従って得られた混合物を、基材上に配置し、混合物処理した基材を得る工程であって、上記基材は、入口端部と、出口端部と、上記入口端部から上記出口端部まで延びる基材軸方向長さと、上記基材を通って延びる上記基材の内壁で定義される複数の流路と含む工程、
（Ｃ）（Ｂ）に従って得られた混合物処理した基材をか焼し、その上に配置されたコーティングを有する基材を得る工程、
を含む方法。
『実施形態４８』
（Ａ）が、
（Ａ．１）水及び実施形態２１～３４の何れか１つに従う方法によって調製されることが好ましい、実施形態１～１８及び３５の何れか１つに従う組成物を含む第１の混合物を調製する工程；
（Ａ．２）酸化物バインダーの供給源、好ましくはジルコニウム塩、更に好ましくは酢酸ジルコニウムを、（Ａ．１）で得られた第１の混合物に添加し、第２の混合物を得る工程；
（Ａ．３）好ましくは（Ａ．２）で得られた第２の混合物に有機酸を添加し、第３の混合物を得る工程；
（Ａ．４）好ましくは（Ａ．２）で得られた第２の混合物を粉砕し、更に好ましくは（Ａ．３）で得られた第３の混合物を粉砕し、更に好ましくは上記混合物の粒子がＤｖ９０を１～１０マイクロメートルの範囲、より好ましく２～７マイクロメートルの範囲、更に好ましくは３～５マイクロメートルの範囲に有するまで粉砕する工程であって、Ｄｖ９０は参照例３に記載されるように決定される工程、
を含み、ここで上記（Ａ）は、好ましくは、（Ａ．１）、（Ａ．２）及び（Ａ．４）を含み、更に好ましくは、上記（Ａ）は（Ａ．１）、（Ａ．２）、（Ａ．３）及び（Ａ．４）を含み、より好ましくはこれらから成る、実施形態４７に記載の方法。
（Ａ）が、
（Ａ．１）水及び実施形態２１～３４の何れか１つに従う方法によって調製されることが好ましい、実施形態１～１８及び３５の何れか１つに従う組成物を含む第１の混合物を調製する工程；
（Ａ．２）酸化物バインダーの供給源、好ましくはジルコニウム塩、更に好ましくは酢酸ジルコニウムを、（Ａ．１）で得られた第１の混合物に添加し、第２の混合物を得る工程；
（Ａ．３）好ましくは（Ａ．２）で得られた第２の混合物に有機酸を添加し、第３の混合物を得る工程；
（Ａ．４）好ましくは（Ａ．２）で得られた第２の混合物を粉砕し、更に好ましくは（Ａ．３）で得られた第３の混合物を粉砕し、更に好ましくは上記混合物の粒子がＤｖ９０を１～１０マイクロメートルの範囲、より好ましく２～７マイクロメートルの範囲、更に好ましくは３～５マイクロメートルの範囲に有するまで粉砕する工程であって、Ｄｖ９０は参照例３に記載されるように決定される工程、
を含み、ここで上記（Ａ）は、好ましくは、（Ａ．１）、（Ａ．２）及び（Ａ．４）を含み、更に好ましくは、上記（Ａ）は（Ａ．１）、（Ａ．２）、（Ａ．３）及び（Ａ．４）を含み、より好ましくはこれらから成る、実施形態４７に記載の方法。
『実施形態４９』
（Ａ．３）に従って添加される有機酸は、酢酸、酒石酸、クエン酸、硝酸、乳酸、塩酸及び硫酸の１種以上であり、上記有機酸は、酢酸であることがより好ましい、実施形態４８に記載の方法。
（Ａ．３）に従って添加される有機酸は、酢酸、酒石酸、クエン酸、硝酸、乳酸、塩酸及び硫酸の１種以上であり、上記有機酸は、酢酸であることがより好ましい、実施形態４８に記載の方法。
『実施形態５０』
（Ａ）に従って得られた混合物を（Ｂ）に記載の基材上に配置することは、（Ａ）に従って得られた混合物に基材を浸漬することにより行われる、実施形態４７～４９の何れか１つに記載の方法。
（Ａ）に従って得られた混合物を（Ｂ）に記載の基材上に配置することは、（Ａ）に従って得られた混合物に基材を浸漬することにより行われる、実施形態４７～４９の何れか１つに記載の方法。
『実施形態５１』
（Ｂ）によれば、（Ａ）に従って調製された混合物が基材軸方向の長さのｘ％にわたって基材の内壁上に配置され、ここでｘは８０～１００の範囲、好ましくは９０～１００の範囲、更に好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲である、実施形態４７～５０の何れか１つに記載の方法。
（Ｂ）によれば、（Ａ）に従って調製された混合物が基材軸方向の長さのｘ％にわたって基材の内壁上に配置され、ここでｘは８０～１００の範囲、好ましくは９０～１００の範囲、更に好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲である、実施形態４７～５０の何れか１つに記載の方法。
『実施形態５２』
（Ａ）に従って調製された混合物が、基材の入口端部から出口端部まで、基材の内壁の表面上に配置される、実施形態４７～５１の何れか１つに記載の方法。
（Ａ）に従って調製された混合物が、基材の入口端部から出口端部まで、基材の内壁の表面上に配置される、実施形態４７～５１の何れか１つに記載の方法。
『実施形態５３』
（Ｂ）が、
（Ｂ．１）（Ａ）で得られた混合物の第１の部分を、入口端部と、出口端部と、該入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向の長さと、基材を通って延びる基材の内壁で規定される複数の通路とを含む基材上に配置して、その上に配置された混合物の第１の部分を含む基材を乾燥させる工程であって、上記配置は好ましくは、上記基材の入口端部から上記出口端部に向かって行われる工程；
（Ｂ．２）（Ａ）で得られた混合物の第２の部分を、（Ｂ．１）で得られた混合物の第１の部分を含む基材上に配置して、好ましくはその上に配置された混合物の第１及び第２の部分を含む基材を乾燥させる工程であって、該配置は、上記入口端部から上記基材の出口端部に向かって行われる工程、
を含む、実施形態４７～５２の何れか１つに記載の方法。
（Ｂ）が、
（Ｂ．１）（Ａ）で得られた混合物の第１の部分を、入口端部と、出口端部と、該入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向の長さと、基材を通って延びる基材の内壁で規定される複数の通路とを含む基材上に配置して、その上に配置された混合物の第１の部分を含む基材を乾燥させる工程であって、上記配置は好ましくは、上記基材の入口端部から上記出口端部に向かって行われる工程；
（Ｂ．２）（Ａ）で得られた混合物の第２の部分を、（Ｂ．１）で得られた混合物の第１の部分を含む基材上に配置して、好ましくはその上に配置された混合物の第１及び第２の部分を含む基材を乾燥させる工程であって、該配置は、上記入口端部から上記基材の出口端部に向かって行われる工程、
を含む、実施形態４７～５２の何れか１つに記載の方法。
『実施形態５４』
（Ｃ）に従うか焼は、３００～８００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、この温度は３５０～７００℃の範囲であることが好ましく、ガス雰囲気が空気であることが好ましい、実施形態４７～５３の何れか１つに記載の方法。
（Ｃ）に従うか焼は、３００～８００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、この温度は３５０～７００℃の範囲であることが好ましく、ガス雰囲気が空気であることが好ましい、実施形態４７～５３の何れか１つに記載の方法。
『実施形態５５』
（Ｃ）に従うか焼は、ガス雰囲気中で０．２～４時間の範囲の期間行われ、この期間は０．５～３時間の範囲であることが好ましく、及びガス雰囲気が空気であることが好ましい、実施形態４７～５４の何れか１つに記載の方法。
（Ｃ）に従うか焼は、ガス雰囲気中で０．２～４時間の範囲の期間行われ、この期間は０．５～３時間の範囲であることが好ましく、及びガス雰囲気が空気であることが好ましい、実施形態４７～５４の何れか１つに記載の方法。
『実施形態５６』
燃焼機関の排気ガスを処理するための選択的触媒還元触媒、好ましくは実施例４７～５５の何れか１つに記載の方法に従って得ることが可能な、又は得られた、実施形態３６～４６の何れか１つに記載の、燃焼機関の排気ガスを処理するための選択的触媒還元触媒。
燃焼機関の排気ガスを処理するための選択的触媒還元触媒、好ましくは実施例４７～５５の何れか１つに記載の方法に従って得ることが可能な、又は得られた、実施形態３６～４６の何れか１つに記載の、燃焼機関の排気ガスを処理するための選択的触媒還元触媒。
『実施形態５７』
窒素酸化物を選択的触媒還元するための方法であって、
（Ｉ）排ガス流、好ましくは内燃機関、好ましくはディーゼルエンジンからの排ガス流を提供する工程；
（ＩＩ）（Ｉ）に提供された排ガス流を実施形態３６～４６及び５６の何れか１つに従う選択的触媒還元触媒に通す工程、
を含む、方法。
窒素酸化物を選択的触媒還元するための方法であって、
（Ｉ）排ガス流、好ましくは内燃機関、好ましくはディーゼルエンジンからの排ガス流を提供する工程；
（ＩＩ）（Ｉ）に提供された排ガス流を実施形態３６～４６及び５６の何れか１つに従う選択的触媒還元触媒に通す工程、
を含む、方法。
本発明において、「ゼオライト系材料の質量に基づく」という用語は、ゼオライト系材料単独の質量を指し、これは銅及び/又は鉄を含まないことを意味する。
更に、本発明において、「内壁の表面」という用語は、壁の「裸の」又は「むき出しの」又は「空白の」表面として理解されるべきであり、すなわち表面が汚染され得る任意の不可避的不純物とは別に、壁の材料から成る未処理状態の壁の表面として理解されるべきである。
本発明において、「基材（ｉ）上に配置されたコーティング」という表現は、該コーティングが基材（ｉ）の内壁内及び/又は基材（ｉ）の内壁の表面上に配置され得ることを包含する。
また本発明において、「燃焼機関」という用語は、好ましくはディーゼルエンジンに関する。
また本発明において、「アルミナゾル」という用語は、「コロイドアルミナ」と交換可能に用いることができる。
本発明において、与えられるゼオライト系材料の粒子は、上記ゼオライト系材料の結晶の塊又は凝集体によって形成される。換言すれば、与えられるゼオライト系材料の結晶の塊又は凝集体が、上記ゼオライト系材料の粒子を形成する。
本発明において、与えられるゼオライト系材料の「外表面」という用語は、上記ゼオライト系材料の結晶(又は粒子)の外表面を指す。
更に、本発明の文脈において、「Ｘは、Ａ、Ｂ及びＣの１つ以上」であって、Ｘが与えられた特徴であり、及びＡ、Ｂ及びＣの各々が上記特徴の特定の具体化を表す構成は、ＸがＡ又はＢ又はＣ、Ａ及びＢ、又はＡ及びＣ、又はＢ及びＣ、又はＡ及びＢ及びＣのいずれかであることを開示するものと理解されるべきである。この点に関し当業者は、上記の抽象的な用語を具体例に移すことができることに留意されたく、例えば、Ｘが化学元素であり、Ａ、Ｂ及びＣがＬｉ、Ｎａ、及びＫなどの具体的な元素であり、又はＸが温度であり、Ａ、Ｂ及びＣが１０℃、２０℃及び３０℃などの具体的な温度である。これに関して、当業者は、上記用語を、上記特徴の特定的な具体化が少ない態様、例えば「ＸはＡ及びＢの１つ以上である」は、ＸがＡ、又はＢ、又はＡ及びＢであることを開示している態様に拡張可能であり、又は上記特徴の特定的な具体化がより多い態様、例えば「Ｘは、Ａ、Ｂ、Ｃの及びＤの１つ以上」は、ＸがＡ、又はＢ、又はＣ、又はＤ、又はＡ及びＢ、又はＡ及びＣ、又はＡ及びＤ、又はＢ及びＣ、又はＢ及びＤ、又はＣ及びＤ、又はＡ及びＢ及びＣ、又はＡ及びＢ及びＤ、又はＢ及びＣの及びＤ、又はＡ及びＢ及びＣ及びＤであることを開示している態様に拡張可能であることが留意される。
更に本発明において、１つ以上の成分の質量％に関し、「から成る（構成される）」という用語は、当該実態の１００質量％に基づいた、上記成分の質量％の量を示す。例えば、「上記組成物の０～０．００００１質量％がＸから成る」という記載は、上記組成物を構成する成分を１００質量％として、組成物を構成する０～０．００００１質量％がＸであることを示す。
本発明を、以下の参照例、比較例、及び実施例によって更に具体的に説明する。
参照例１ ＢＥＴ比表面積の測定
ＢＥＴ比表面積は、液体窒素を用いてＤＩＮ ６６１３１又はＤＩＮ－ＩＳＯ ９２７７に従って決定した。
ＢＥＴ比表面積は、液体窒素を用いてＤＩＮ ６６１３１又はＤＩＮ－ＩＳＯ ９２７７に従って決定した。
参照例２ 多孔質ウォールフロー基材の平均空隙率(porosity)及び平均孔径の測定
多孔質ウォールフロー基材の平均空隙率は、ＤＩＮ ６６１３３及びＩＳＯ １５９０１－１に記載の水銀圧入法を用いた水銀圧入によって決定した。
多孔質ウォールフロー基材の平均空隙率は、ＤＩＮ ６６１３３及びＩＳＯ １５９０１－１に記載の水銀圧入法を用いた水銀圧入によって決定した。
参照例３ 体積基準粒度分布の決定
粒度分布は、Ｓｙｍｐａｔｅｃ ＨＥＬＯＳ（３２００）＆ＱＵＩＸＥＬ装置を用いた静的光散乱法により決定したが、ここで試料の光学濃度は６～１０％の範囲であった。
粒度分布は、Ｓｙｍｐａｔｅｃ ＨＥＬＯＳ（３２００）＆ＱＵＩＸＥＬ装置を用いた静的光散乱法により決定したが、ここで試料の光学濃度は６～１０％の範囲であった。
参照例４ 組成物中に非ゼオライト系酸化材料を含む層の平均厚さの決定
組成物おけるゼオライト系材料の外表面上に与えられた層の厚さを決定するために、上記組成物を、まず、実施例１又は２で用いたもののような基材上にコーティングし、１３０℃で３０分間乾燥させ、そして４５０℃で２時間か焼した。また、コーティングした基材のＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）像を少なくとも１０枚作成した。上記与えられた層の厚さは、画像のいくつかの部分にスケールを適用し、すべての結晶/粒子で、すべての測定点にわたって平均化することによって、少なくとも１０個のＴＥＭ画像上で測定された(例を図８に示す)。図８．１又は８．２は、１つのＴＥＭ像で層厚がどのように決定されたかを示している。
組成物おけるゼオライト系材料の外表面上に与えられた層の厚さを決定するために、上記組成物を、まず、実施例１又は２で用いたもののような基材上にコーティングし、１３０℃で３０分間乾燥させ、そして４５０℃で２時間か焼した。また、コーティングした基材のＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）像を少なくとも１０枚作成した。上記与えられた層の厚さは、画像のいくつかの部分にスケールを適用し、すべての結晶/粒子で、すべての測定点にわたって平均化することによって、少なくとも１０個のＴＥＭ画像上で測定された(例を図８に示す)。図８．１又は８．２は、１つのＴＥＭ像で層厚がどのように決定されたかを示している。
参照例５ ゼオライト系材料の平均結晶径の決定
ゼオライト系材料の平均結晶径は、ゼオライト系材料粉末をＴＥＭ像で解析することにより求めた。個々の結晶のサイズは、５０００～１２０００の範囲の倍率で行われた少なくとも２つのＴＥＭ画像からの２０～３０個の個々の結晶の結晶サイズを平均することによって決定した。
ゼオライト系材料の平均結晶径は、ゼオライト系材料粉末をＴＥＭ像で解析することにより求めた。個々の結晶のサイズは、５０００～１２０００の範囲の倍率で行われた少なくとも２つのＴＥＭ画像からの２０～３０個の個々の結晶の結晶サイズを平均することによって決定した。
比較例１：本発明によらない、銅を含むゼオライト系材料を含む選択的接触還元触媒の製造方法
スラリー１：
３３マイクロメートルのＤｖ５０を有するＣｕＯ粉末を水に加えた。ＣｕＯの量は、銅の総量をＣｕＯとして計算し、か焼後のコーティングにおいて、チャバザイトの質量に対して４．１５質量％となるように計算した。得られた混合物を、粒子のＤｖ５０値が約２マイクロメーターであり、粒子のＤｖ９０値が約５マイクロメートルとなるように連続粉砕装置を用いて粉砕した。得られたスラリーは、該スラリーの質量に対して８質量％の固体含有量であった。酢酸と酢酸ジルコニウム水溶液をＣｕＯ含有混合物に添加し、スラリーを形成した。酢酸の量はチャバザイトの１．７質量％であるように計算され、及び酢酸ジルコニウムの量は、ＺｒＯ２として計算して、コーティング中のジルコニアの量が、チャバザイト(Chabazite)の質量に基づいて５質量％となるように計算された。これとは別に、チャバザイト（２．２マイクロメートルのＤｖ５０、５．２マイクロメートルのＤｖ９０、１８のＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３、平均結晶サイズ０．４マイクロメートル)を水に添加し、該混合物の質量に基づいて固体含有量が３６質量％の混合物を形成した。このＣｕ－チャバザイト混合物を銅含有スラリーに混合した。Ｃｕ－チャバザイトの量は、か焼後のチャバザイトの充填量が、か焼後の触媒中のコーティングの充填量の８４％となるように計算した。得られたスラリーを、粒子のＤｖ９０値が約５マイクロメートルとなるように連続粉砕装置を用いて粉砕した。
スラリー１：
３３マイクロメートルのＤｖ５０を有するＣｕＯ粉末を水に加えた。ＣｕＯの量は、銅の総量をＣｕＯとして計算し、か焼後のコーティングにおいて、チャバザイトの質量に対して４．１５質量％となるように計算した。得られた混合物を、粒子のＤｖ５０値が約２マイクロメーターであり、粒子のＤｖ９０値が約５マイクロメートルとなるように連続粉砕装置を用いて粉砕した。得られたスラリーは、該スラリーの質量に対して８質量％の固体含有量であった。酢酸と酢酸ジルコニウム水溶液をＣｕＯ含有混合物に添加し、スラリーを形成した。酢酸の量はチャバザイトの１．７質量％であるように計算され、及び酢酸ジルコニウムの量は、ＺｒＯ２として計算して、コーティング中のジルコニアの量が、チャバザイト(Chabazite)の質量に基づいて５質量％となるように計算された。これとは別に、チャバザイト（２．２マイクロメートルのＤｖ５０、５．２マイクロメートルのＤｖ９０、１８のＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３、平均結晶サイズ０．４マイクロメートル)を水に添加し、該混合物の質量に基づいて固体含有量が３６質量％の混合物を形成した。このＣｕ－チャバザイト混合物を銅含有スラリーに混合した。Ｃｕ－チャバザイトの量は、か焼後のチャバザイトの充填量が、か焼後の触媒中のコーティングの充填量の８４％となるように計算した。得られたスラリーを、粒子のＤｖ９０値が約５マイクロメートルとなるように連続粉砕装置を用いて粉砕した。
スラリー２：
別途、上記スラリーの質量に対して固体含有量が１２質量％であり、及び水とアルミナ（Ａｌ２Ｏ３９５質量％と、ＳｉＯ２５質量％、約１８０ｍ２／ｇのＢＥＴ比表面積、約５マイクロメートルのＤｖ９０を有する)とを含む水性スラリーを調製した。アルミナ＋シリカの量は、か焼後のアルミナ＋シリカの量が、か焼後のチャバザイトの質量に対して１０質量％となるように計算した。
別途、上記スラリーの質量に対して固体含有量が１２質量％であり、及び水とアルミナ（Ａｌ２Ｏ３９５質量％と、ＳｉＯ２５質量％、約１８０ｍ２／ｇのＢＥＴ比表面積、約５マイクロメートルのＤｖ９０を有する)とを含む水性スラリーを調製した。アルミナ＋シリカの量は、か焼後のアルミナ＋シリカの量が、か焼後のチャバザイトの質量に対して１０質量％となるように計算した。
続いて、スラリー１及び２を合わせ、得られた最終スラリーの固体含有量は、上記最終スラリーの全質量に対して約３１質量％であった。多孔質でコーティングされていないウォールフローフィルター基材、炭化ケイ素（平均空隙率６０．５％、平均孔径２０マイクロメーター及び３５０ＣＰＳＩ及び０．２８ｍｍ（１１ミル）壁厚、直径:１.５インチ（３８．ｍｍ）×長さ：６インチ（１５２．ｍｍ））を、入口端部から出口端部まで、基材軸方向の長さ１００％に亘り２回、最終スラリーでコーティングした。これを行うために、基材を、スラリーが基材の頂部に到達するまで、入口端部から最終スラリーに浸漬した。更に入口端部に圧力パルスを加え、スラリーを基材内に均等に分配した。更に、コーティングした基材を１３０℃で３０分間乾燥し、及び４５０℃で２時間か焼した。これを１回繰り返した。か焼後の最終的なコーティング充填量は、ＣＨＡゼオライト系材料の質量に基づいて約２ｇ/ｉｎ３であったが、これは約１．６８ｇ/ｉｎ３のＣＨＡゼオライト系材料、０．１７ｇ/ｉｎ３のアルミナ＋シリカ、約０．０８４ｇ/ｉｎ３のジルコニア、及び４．１５質量％のＣｕ（ＣｕＯとして計算）を含んでいた。
特徴化（特性評価）
得られたコーティング基材のＴＥＭ顕微鏡写真（図１）の分析は、ゼオライト系材料結晶の周囲にアルミナが見当たらないことを実証している。この代わりにＳｉドープアルミナは、チャバザイト結晶又は粒子(＝チャバザイト結晶の塊/凝集体)の間／中に断続的に分散し、又はサンプルの別々のセクション（図１には示されていない）に独立して分散している。いかなる理論にも拘束されることを望まないが、これはシャバザイト結晶の粒径よりも有意に高いＳｉドープアルミナの粒径に起因すると考えられている。
得られたコーティング基材のＴＥＭ顕微鏡写真（図１）の分析は、ゼオライト系材料結晶の周囲にアルミナが見当たらないことを実証している。この代わりにＳｉドープアルミナは、チャバザイト結晶又は粒子(＝チャバザイト結晶の塊/凝集体)の間／中に断続的に分散し、又はサンプルの別々のセクション（図１には示されていない）に独立して分散している。いかなる理論にも拘束されることを望まないが、これはシャバザイト結晶の粒径よりも有意に高いＳｉドープアルミナの粒径に起因すると考えられている。
実施例１：銅を含むゼオライト系材料を含む選択的触媒還元触媒の製造方法
第１の工程において、骨格型ＣＨＡを有するゼオライト系材料（２．２マイクロメートルのＤｖ５０、５．２マイクロメートルのＤｖ９０、１８のＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３、平均結晶サイズ約０．４マイクロメートル）を酢酸銅の水溶液（３．５１質量％のＣｕ、ＣｕＯとして計算）に添加した。酢酸銅水溶液は、初期湿潤含浸によってＣＨＡゼオライト系材料の細孔を埋めるのに十分な量で提供され、得られたＣｕ含有量は、ＣｕＯとして計算して、約４．１５質量％であった。含浸後、Ｃｕ含有ゼオライト材を空気中、５００℃で２時間か焼した。
第１の工程において、骨格型ＣＨＡを有するゼオライト系材料（２．２マイクロメートルのＤｖ５０、５．２マイクロメートルのＤｖ９０、１８のＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３、平均結晶サイズ約０．４マイクロメートル）を酢酸銅の水溶液（３．５１質量％のＣｕ、ＣｕＯとして計算）に添加した。酢酸銅水溶液は、初期湿潤含浸によってＣＨＡゼオライト系材料の細孔を埋めるのに十分な量で提供され、得られたＣｕ含有量は、ＣｕＯとして計算して、約４．１５質量％であった。含浸後、Ｃｕ含有ゼオライト材を空気中、５００℃で２時間か焼した。
第２の工程では、アルミナゾル（ベーマイト－コロイド分散液：固体含有量２２～２５質量％及び約９０ｎｍの分散液中のアルミナの粒子のＤｖ５０）を水に分散させ、か焼後のゼオライト系材料の質量に対してアルミナの質量％が１０質量％となるように、か焼Ｃｕ－ゼオライト系材料に含浸させた。含浸後、Ｃｕゼオライト系材料＋アルミナを空気中、５００℃で２時間か焼（焼成）した。次に、か焼したＣｕゼオライト＋アルミナを水及び酢酸ジルコニウム水溶液に分散させ、スラリーを形成した。酢酸ジルコニウムの量は、ＺｒＯ２として計算して、コーティング中のジルコニアの量を、ゼオライト系材料の質量に基づいて５質量％となるように計算された。最後に、酢酸（ゼオライト系材料の質量に基づいて１．７質量％）を上記スラリーに添加した。得られたスラリーを、粒子のＤｖ９０値が約４マイクロメートルとなるように連続粉砕装置を用いて粉砕し、得られたスラリーの固体含有量を、該スラリーの質量に対して３１質量%に調整した。
得られたスラリーを多孔質の、コーティングしていないウォールフローフィルター基材、炭化ケイ素（平均空隙率６０．５％、平均孔径２０マイクロメートル及び３５０ＣＰＳＩ及び０．３ｍｍ（１３ミル）壁厚、直径:１．５インチ（３８．ｍｍ）×長さ：６インチ（１５２．ｍｍ））上に２回コーティングしたが、このコーティング法は、前述の比較例１に記載の方法に従った。か焼後の最終的なコーティング充填量は約２．１ｇ/ｉｎ３で、これはＣＨＡゼオライト系材料の約１．７６４ｇ/ｉｎ３、アルミナの０．１７６ｇ/ｉｎ３、ジルコニアの約０．０８８ｇ/ｉｎ３及びＣｕの４．１５質量％（ＣｕＯとして計算、ＣＨＡゼオライト系材料の質量に基づく）を含んでいた。
特徴化：
得られたコーティングされた基材のＴＥＭ分析(図２．１)は、結晶の約５０～６０％がある程度のアルミナコーティングを示すことを示している。いくつかのゼオライト系材料結晶は目に見えるアルミナ層がないが、他のゼオライト系材料結晶は部分的にアルミナに包まれ、ゼオライト系材料、コアの周りにアルミナのシェルを形成している。アルミナによって完全に包まれいるチャバザイト結晶はごくわずかである。アルミナ層の平均厚さは、参照例４と同様に決定したところ約３１ｎｍであった。
得られたコーティングされた基材のＴＥＭ分析(図２．１)は、結晶の約５０～６０％がある程度のアルミナコーティングを示すことを示している。いくつかのゼオライト系材料結晶は目に見えるアルミナ層がないが、他のゼオライト系材料結晶は部分的にアルミナに包まれ、ゼオライト系材料、コアの周りにアルミナのシェルを形成している。アルミナによって完全に包まれいるチャバザイト結晶はごくわずかである。アルミナ層の平均厚さは、参照例４と同様に決定したところ約３１ｎｍであった。
実施例２：銅を含むゼオライト系材料を含む選択的接触還元触媒の製造方法
実施例２の触媒は、アルミナゾルの量を、か焼後のゼオライト系材料の質量に基づいて、アルミナの質量%が３０質量％になるように増加させた以外は、実施例１の触媒のように調製した。か焼後の最終的なコーティング充填量は約２．１ｇ/ｉｎ３で、これはＣＨＡゼオライト系材料約１．５１ｇ/ｉｎ３、アルミナ０．４５ｇ/ｉｎ３、ジルコニアの約０．０７６ｇ/ｉｎ３及びＣｕ４．１５質量％（ＣＨＡゼオライト系材料の質量に基づき、ＣｕＯとして計算)を含んでいた。
実施例２の触媒は、アルミナゾルの量を、か焼後のゼオライト系材料の質量に基づいて、アルミナの質量%が３０質量％になるように増加させた以外は、実施例１の触媒のように調製した。か焼後の最終的なコーティング充填量は約２．１ｇ/ｉｎ３で、これはＣＨＡゼオライト系材料約１．５１ｇ/ｉｎ３、アルミナ０．４５ｇ/ｉｎ３、ジルコニアの約０．０７６ｇ/ｉｎ３及びＣｕ４．１５質量％（ＣＨＡゼオライト系材料の質量に基づき、ＣｕＯとして計算)を含んでいた。
特徴化：
得られたコーティングされた基材のＴＥＭ分析（図２．２）は、チャバザイト結晶の相当な部分がアルミナのコーティングによって覆われていることを明確に示している。いくつかのゼオライト系マテリアル結晶はアルミナのコーティングを殆ど、又は全く有していないが(該結晶の１０～２０％)。多くのゼオライト系物質結晶は、アルミナで完全に包まれており、この根拠として、一次チャバザイト結晶の表面と側面にアルミナの形態が見られる。アルミナ層の平均膜厚は、参照例４と同様に決定したところ約４３ｎｍであった。従って、実施例２の触媒ではアルミナがＣＨＡゼオライト系材料、コアの周囲にシェルを形成していることは明らかである。まとめた表を以下に示す。
得られたコーティングされた基材のＴＥＭ分析（図２．２）は、チャバザイト結晶の相当な部分がアルミナのコーティングによって覆われていることを明確に示している。いくつかのゼオライト系マテリアル結晶はアルミナのコーティングを殆ど、又は全く有していないが(該結晶の１０～２０％)。多くのゼオライト系物質結晶は、アルミナで完全に包まれており、この根拠として、一次チャバザイト結晶の表面と側面にアルミナの形態が見られる。アルミナ層の平均膜厚は、参照例４と同様に決定したところ約４３ｎｍであった。従って、実施例２の触媒ではアルミナがＣＨＡゼオライト系材料、コアの周囲にシェルを形成していることは明らかである。まとめた表を以下に示す。
ａ：ＩＳＩＥ、事前に交換されていないゼオライト材料の現場(In-situ)イオン交換
*：ゼオライト系材料の質量に基づく
ＳＡＲ：シリカのアルミナに対するモル比
実施例３：比較例１、実施例１、２の触媒の試験－ＮＯｘ転化率及び背圧
３．１ ＮＯｘ転化率
触媒を、試験前にオーブン中で８００℃で１６時間、水熱的に熟成（エイジング）させた（２０％Ｏ２、１０％Ｈ２Ｏ、％Ｎ２中）。２０ｐｐｍのアンモニアスリップで、触媒のＮＯｘ転化率を、実験室反応器上で測定した。反応器には、反応物及び生成物濃度を測定するための３フーリエ変換赤外スペックトロスコピー装置（ＦＴＩＲ）を装備し、試料ホルダーの周囲に配置された予熱器及び加熱器を用いて温度を調整した。ガスの流れは、異なる反応ガスの混合を可能にする幾つかの質量流コントローラで調節した。測定は、２００℃（５００ｐｐｍのＮＯ、ＮＨ３/ＮＯｘ＝１．５、１０％のＯ２、５％のＣＯ２、５％のＨ２Ｏ、８０ｐｐｍのＣ３Ｈ６（Ｃ１基準））で、空間速度４０ｋ/ｈで、及び６００℃（５００ｐｐｍのＮＯ、ＮＨ３/ＮＯｘ＝２．０、１０％のＯ２、５％のＣＯ２、５％のＨ２Ｏ、８０ｐｐｍのＣ３Ｈ６（Ｃ１基準））で、空間速度４０ｋ/ｈ及び８０ｋ/ｈで行った。結果を図３及び図４に示す。
３．１ ＮＯｘ転化率
触媒を、試験前にオーブン中で８００℃で１６時間、水熱的に熟成（エイジング）させた（２０％Ｏ２、１０％Ｈ２Ｏ、％Ｎ２中）。２０ｐｐｍのアンモニアスリップで、触媒のＮＯｘ転化率を、実験室反応器上で測定した。反応器には、反応物及び生成物濃度を測定するための３フーリエ変換赤外スペックトロスコピー装置（ＦＴＩＲ）を装備し、試料ホルダーの周囲に配置された予熱器及び加熱器を用いて温度を調整した。ガスの流れは、異なる反応ガスの混合を可能にする幾つかの質量流コントローラで調節した。測定は、２００℃（５００ｐｐｍのＮＯ、ＮＨ３/ＮＯｘ＝１．５、１０％のＯ２、５％のＣＯ２、５％のＨ２Ｏ、８０ｐｐｍのＣ３Ｈ６（Ｃ１基準））で、空間速度４０ｋ/ｈで、及び６００℃（５００ｐｐｍのＮＯ、ＮＨ３/ＮＯｘ＝２．０、１０％のＯ２、５％のＣＯ２、５％のＨ２Ｏ、８０ｐｐｍのＣ３Ｈ６（Ｃ１基準））で、空間速度４０ｋ/ｈ及び８０ｋ/ｈで行った。結果を図３及び図４に示す。
３．２ 背圧
２７ｍ３/ｈの体積流及び２９３Ｋで記録された低温流背圧データを図５(新鮮な触媒)に示した。
２７ｍ３/ｈの体積流及び２９３Ｋで記録された低温流背圧データを図５(新鮮な触媒)に示した。
図１～図３は、低温（２００℃）性能は、比較例１と比較して、実施例１では約２％（実験誤差に近い）低下し、実施例２では６％低下するが、高温（６００℃）性能は比較例１と比較して、実施例１で８％、実施例２で２０％増加することを示している。従って、実施例３は、低温ＮＯｘ活性の有意な損失がなく、高温性能の有意な改善が有ることを示している。本発明の触媒はまた、約２．５％（実施例１）及びほぼ１５％（実施例２）の背圧の低下も提供する。実際、実施例２の触媒は、背圧及び高温性能において強い長所を示し、低温ＮＯｘ活性を著しく失うことがない。
従って、特定の理論に束縛されることを望まないが、ゼオライト系材料を含む選択的触媒還元触媒においてシリカ－アルミナの代わりにナノ分散アルミナを使用することは、ゼオライト系材料に基づく触媒の触媒性能及び安定性を改善することを可能にし、及びナノ分散アルミナの量を増加させることは、背圧を低減し、熟成（aging）後の高温でのＮＯｘ性能を増加させることを可能にすると考えられる。更に、特定の理論に拘束されることを望まないが、ＣＨＡゼオライト系材料を封入するアルミナのコーティングの形成は、背圧を低減し、及び（これは耐熱性を高めるので）水熱熟成後における、高温でのＮＯｘ性能を高めることを可能にすると考えられる。ゼオライト系材料の周りのアルミナは、エンジン内又はオーブン熟成中に形成されるＣｕＯ及びＡｌＯｘと反応する可能性が有ると考えられている。
比較例２:本発明に従うものではない、銅を含むゼオライト系材料を含む選択的接触還元触媒の製造方法
比較例２の触媒は、比較例１の触媒のように製造したが、但し、異なるウォールフローフィルタ、すなわち細孔の非被覆のウォールフローフィルター基材、炭化ケイ素、（平均空隙率６０．５％、平均孔径２０マイクロメートル及び３５０ＣＰＳＩ及び０．３ｍｍ（１３ミル）壁厚、直径:２．２８インチ（５８ｍｍ）×長さ：５．９インチ（１５０．５ｍｍ））を使用し、及び最終的なウォッシュコート充填量が、約１．８ｇ/ｉｎ３であり、これはＣＨＡゼオライト系材料１．５１２ｇ/ｉｎ３、アルミナ＋シリカ０．１５ｇ/ｉｎ３、ジルコニア０．０７５６ｇ/ｉｎ３及び（ＣｕＯとして計算し、ＣＨＡゼオライト系材料の質量に基づいて）Ｃｕの４．１５質量％を含んでいた。
比較例２の触媒は、比較例１の触媒のように製造したが、但し、異なるウォールフローフィルタ、すなわち細孔の非被覆のウォールフローフィルター基材、炭化ケイ素、（平均空隙率６０．５％、平均孔径２０マイクロメートル及び３５０ＣＰＳＩ及び０．３ｍｍ（１３ミル）壁厚、直径:２．２８インチ（５８ｍｍ）×長さ：５．９インチ（１５０．５ｍｍ））を使用し、及び最終的なウォッシュコート充填量が、約１．８ｇ/ｉｎ３であり、これはＣＨＡゼオライト系材料１．５１２ｇ/ｉｎ３、アルミナ＋シリカ０．１５ｇ/ｉｎ３、ジルコニア０．０７５６ｇ/ｉｎ３及び（ＣｕＯとして計算し、ＣＨＡゼオライト系材料の質量に基づいて）Ｃｕの４．１５質量％を含んでいた。
比較例３：本発明に従うものでない、銅を含むゼオライト系材料を含む選択的接触還元触媒の製造方法
比較例３の触媒は、か焼後のチャバザイトの質量に基づいて、シリカアルミナの量を２０質量％に増やしたこと以外は、比較例２の触媒のように調製した。最終的なウォッシュコートの充填量は、約１．８ｇ/ｉｎ３であり、これは１．３９４ｇ/ｉｎ３のＣＨＡゼオライト系材料、０．２７９ｇ／ｉｎ３のアルミナ＋シリカ、０．０７ｇ/ｉｎ３のジルコニア、及びＣＨＡゼオライト系材料の質量に基づいて、ＣｕＯとして計算して、Ｃｕ４．１５質量％を含んでいた。
比較例３の触媒は、か焼後のチャバザイトの質量に基づいて、シリカアルミナの量を２０質量％に増やしたこと以外は、比較例２の触媒のように調製した。最終的なウォッシュコートの充填量は、約１．８ｇ/ｉｎ３であり、これは１．３９４ｇ/ｉｎ３のＣＨＡゼオライト系材料、０．２７９ｇ／ｉｎ３のアルミナ＋シリカ、０．０７ｇ/ｉｎ３のジルコニア、及びＣＨＡゼオライト系材料の質量に基づいて、ＣｕＯとして計算して、Ｃｕ４．１５質量％を含んでいた。
実施例４：銅を含むゼオライト系材料を含む選択的接触還元触媒の製造方法
実施例４の触媒を、か焼後のゼオライト系材料の質量に対してアルミナの質量％が２０質量％となるようにアルミナゾルの量を増加させ、ＣＨＡゼオライト系材料の量を最終コーティング充填量に対して７７．４質量％に減少させ、異なるウォールフローフィルタを使用したことを除いて、実施例１の触媒のように調製したが、上記使用した異なるウォールフローフィルタはすなわち、多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルター基材、炭化ケイ素（平均空隙率６０．５％、平均孔径２０マイクロメートル及び３５０ＣＰＳＩ及び０．３ｍｍ（１３ミル）壁厚、直径:２．２８インチ（５８ｍｍ）×長さ：５．９インチ（１５０．５ｍｍ））であった。か焼後の最終的なコーティング充填量は約１．８ｇ/ｉｎ３で、これはＣＨＡゼオリット材料の約１．３９４ｇ/ｉｎ３、アルミナの０．２７９ｇ/ｉｎ３、ジルコニアの約０．０７ｇ/ｉｎ３及びＣＨＡゼオライト系材料の質量に基づいて、ＣｕＯとして計算して、Ｃｕの４．１５質量％を含んでいた。
実施例４の触媒を、か焼後のゼオライト系材料の質量に対してアルミナの質量％が２０質量％となるようにアルミナゾルの量を増加させ、ＣＨＡゼオライト系材料の量を最終コーティング充填量に対して７７．４質量％に減少させ、異なるウォールフローフィルタを使用したことを除いて、実施例１の触媒のように調製したが、上記使用した異なるウォールフローフィルタはすなわち、多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルター基材、炭化ケイ素（平均空隙率６０．５％、平均孔径２０マイクロメートル及び３５０ＣＰＳＩ及び０．３ｍｍ（１３ミル）壁厚、直径:２．２８インチ（５８ｍｍ）×長さ：５．９インチ（１５０．５ｍｍ））であった。か焼後の最終的なコーティング充填量は約１．８ｇ/ｉｎ３で、これはＣＨＡゼオリット材料の約１．３９４ｇ/ｉｎ３、アルミナの０．２７９ｇ/ｉｎ３、ジルコニアの約０．０７ｇ/ｉｎ３及びＣＨＡゼオライト系材料の質量に基づいて、ＣｕＯとして計算して、Ｃｕの４．１５質量％を含んでいた。
実施例５：比較例２、３及び実施例４の触媒の試験－ＮＯｘ転化率と背圧
５．１ ＮＯｘ転化率
触媒を、試験前に８００℃のオーブン中で水熱的に（％Ｎ２中、２０％のＯ２、１０％のＨ２Ｏ）１６時間熟成させた。触媒のＮＯｘ転化率を、２Ｌ、１４０ｋＷ、Ｅｕｒｏ ６エンジンで２つの異なる温度、すなわち２２０℃と６６０℃で測定した。２２０℃で：２０ｐｐｍスリップでの転化率、体積流量３３ｍ３/ｈ、１１０ｐｐｍのＮＯｘ、及び１．５のＮＳＲ（ＮＨ３/ＮＯｘ）。６６０℃で：最大アンモニアスリップ時の変換、体積流量６３ｍ３/ｈ、３３５ｐｐｍのＮＯｘ、及び２のＮＳＲ（ＮＨ３/ＮＯＸ）。結果を図６に示す。
５．１ ＮＯｘ転化率
触媒を、試験前に８００℃のオーブン中で水熱的に（％Ｎ２中、２０％のＯ２、１０％のＨ２Ｏ）１６時間熟成させた。触媒のＮＯｘ転化率を、２Ｌ、１４０ｋＷ、Ｅｕｒｏ ６エンジンで２つの異なる温度、すなわち２２０℃と６６０℃で測定した。２２０℃で：２０ｐｐｍスリップでの転化率、体積流量３３ｍ３/ｈ、１１０ｐｐｍのＮＯｘ、及び１．５のＮＳＲ（ＮＨ３/ＮＯｘ）。６６０℃で：最大アンモニアスリップ時の変換、体積流量６３ｍ３/ｈ、３３５ｐｐｍのＮＯｘ、及び２のＮＳＲ（ＮＨ３/ＮＯＸ）。結果を図６に示す。
５．２ 背圧
体積流量６５ ｍ３/ｈ及び２９３ Ｋで記録された低温流背圧データを図７(新鮮な触媒)に示した。
体積流量６５ ｍ３/ｈ及び２９３ Ｋで記録された低温流背圧データを図７(新鮮な触媒)に示した。
図６及び図７から理解され得るように、背圧及びＮＯｘ転化率は、比較例２及び３の触媒のものに類似しており、シリカ －アルミナ含有量の１０％から２０％への増加は、性能の強い変化をもたらさない。しかしながら、実施例４の触媒は、強い背圧低下及び高温ＮＯｘ性能が高められたことを示している。これらの結果は、本触媒調製方法及び実施例４で使用したアルミナの種類が、背圧及び触媒性能の両方において長所をもたらすことを実証している。いかなる理論にも束縛されることを望まないが、実施例４の１つとして選択的触媒還元触媒を調製するための(すなわちアルミナの層によって覆われたゼオライト系材料を用いた)本発明に従う組成物の使用は、背圧を低下させることを可能にすると考えられる。第二に、アルミナ層(シェル)中へのゼオライト系材料結晶のカプセル化は、熱暴露に対する耐久性を改良するようであり、その結果、ゼオライト粒子がアルミナ層にカプセル化されていない設計(比較例２及び３)と比較して、熟成（aging）後の高温ＮＯｘ転化率が向上する。
引用文献
－ ＵＳ ２０１３/０１０１５０３ Ａ１
－ ＵＳ ２０１７/７０５０１８２ Ａ１
－ ＣＮ １０８９９３５７９ Ａ
－ ＷＯ ２０１９/２２５９０９ Ａ
－ ＵＳ ２０１３/０１０１５０３ Ａ１
－ ＵＳ ２０１７/７０５０１８２ Ａ１
－ ＣＮ １０８９９３５７９ Ａ
－ ＷＯ ２０１９/２２５９０９ Ａ
Claims (17)
- （ｉ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料
（ｉｉ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料であって、前記ゼオライト系材料の骨格構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ及び酸素を含み、ここで、Ｙ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、２：１～４０：１の範囲である８員環細孔ゼオライト系材料、
を含む組成物であって、
（ｉｉ）に従うゼオライト系材料の外表面の少なくとも一部が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されており、及びＹはＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＧｅの１つ以上を含み、及びＸはＡｌ、Ｂ、Ｉｎ及びＧａの１つ以上を含むことを特徴とする組成物。 - （ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料の９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、更に好ましくは９９．９～１００質量％がアルミナから構成されることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
- 前記（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層が、２ｎｍ～１００ｎｍの範囲の平均厚さ、好ましくは５ｎｍ～７０ｎｍの範囲、より好ましくは２０～５０ｎｍの範囲、より好ましくは２５ｎｍ～４７ｎｍの範囲、更に好ましくは２５～３５ｎｍの範囲、又は更に好ましくは４０～４７ｎｍの範囲の平均厚さを有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の組成物。
- 前記層の９９～１００質量％、好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料で構成されることを特徴とする、請求項１～３の何れか１項に記載の組成物。
- （ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料が、ＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、ＡＦＸ、ＬＴＡ、これらの２種以上の混合物及びこれらの２種以上の混合型からなる群より選択される骨格型を有し、好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、これらの２種以上の混合物及びこれらの２種以上の混合型からなる群、より好ましくはＣＨＡ及びＡＥＩからなる群より選択される骨格型を有し、更に好ましくは（ｉｉ）に従う８員環細孔ゼオライト系材料が骨格型ＣＨＡを有することを特徴とする、請求項１～４のいずれか１項に記載の組成物。
- （ｉｉ）に従うゼオライト系材料の外表面の２０～１００％、好ましくは３０～１００％、より好ましくは５０～９５％、更に好ましくは５０～６０％、又はより好ましくは８０～９０％が、（ｉ）に従う非ゼオライト系酸化材料を含む層によって被覆されていることを特徴とする、請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物。
- 請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物及び分散剤を含むスラリーであって、前記分散剤が、水、エタノール、酢酸、硝酸、乳酸、及びこれらの２種以上の混合物であり、好ましくは前記分散剤が水及び酢酸の１種以上であり、より好ましくは水及び酢酸であることを特徴とする、スラリー。
- 組成物、好ましくは請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物を調製する方法であって、
（ａ）銅及び鉄の１種以上を含む８員環細孔ゼオライト系材料を提供する工程であって、前記ゼオライト系材料の骨格構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ及び酸素を含み、前記Ｙ：Ｘのモル比は、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、２：１～４０：１の範囲であり、前記ゼオライト系材料は、好ましくは０．０５～５マイクロメートルの範囲の平均結晶サイズを有する結晶を含む、工程
（ｂ）アルミナを含む非ゼオライト系酸化材料の供給源を提供する工程であって、前記非ゼオライト系酸化材料の供給源が、非ゼオライト系酸化材料の粒子を含むコロイド分散液であり、前記非ゼオライト系酸化材料の粒子が３０～２００ｎｍの範囲のＤｖ５０を有する工程、及び
（ｃ）（ａ）で得られたゼオライト系材料と、（ｂ）で得られたアルミナを含む非ゼオライト系酸化材料の供給源とを混合し、混合物を形成する工程及び、
（ｄ）（ｃ）で得られた混合物を４００～８００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程であって、ガス雰囲気が空気であることが好ましい工程、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記８員環細孔ゼオライト系材料の結晶は、０．０６～２マイクロメートルの範囲、好ましくは０．０７～１マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．１～０．８マイクロメートルの範囲、更に好ましくは０．２～０．６マイクロメートルの範囲の平均結晶サイズを有することを特徴とする、請求項８に記載の方法。
- 前記８員環細孔ゼオライト系材料は、０．５～４マイクロメートルの範囲、好ましくは１～３マイクロメートルの範囲、より好ましくは１．５～２．５マイクロメートルの範囲にあるＤｖ５０を有する粒子を含むことを特徴とする、請求項８又は９に記載の方法。
- （ｂ）に提供される非ゼオライト系酸化材料の粒子を含むコロイド分散液がアルミナゾルであることを特徴とする請求項８～１０のいずれか１項記載の製造方法。
- 前記非ゼオライト系酸化材料の粒子、好ましくはアルミナの粒子が、５０～１５０ｎｍの範囲、好ましくは７０～１２０ｎｍの範囲、より好ましくは８０～１１０ｎｍの範囲、より好ましくは８０～９０ｎｍの範囲のＤｖ５０を有することを特徴とする、請求項８～１１のいずれか１項に記載の方法。
- 燃焼機関の排気ガスを処理するための選択的触媒還元触媒であって、
（１）入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及び前記基材を通って延びる前記基材の内壁によって画定される複数の通路を含む基材と、
（２）前記基材（ｉ）上に配置されたコーティングと、
を含み、前記コーティングは、請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物を含むことを特徴とする、選択的触媒還元触媒。 - 前記コーティング（２）は、酸化物バインダーを更に含み、該酸化物バインダーは、好ましくはジルコニア、アルミナ、チタニア、シリカ、及びＺｒ、Ａｌ、Ｔｉ、及びＳｉの２種以上を含む混合酸化物の１種以上を含み、より好ましくはシリカ、アルミナ及びジルコニアの１種以上を含み、更に好ましくはアルミナ及びジルコニアの１種以上を含み、より好ましくはジルコニアを含むことを特徴とする、請求項１３に記載の触媒。
- 前記コーティング（２）は前記組成物を、前記コーティング（２）の質量に基づいて、８０～１００質量％の範囲、好ましくは９０～９９質量％の範囲、より好ましくは９２～９８質量％の範囲、更に好ましくは９４～９７質量%の範囲の量で含むことを特徴とする、請求項１３又は１４に記載の触媒。
- 前記基材は、ウォールフローフィルター基材であり、前記複数の通路は、開口した入口端部と閉じた出口端部とを有する入口通路と、閉じた入口端部と開口した出口端部とを有する出口通路とを含むことを特徴とする、請求項１３～１５のいずれか１項に記載の触媒。
- 請求項１３～１６のいずれか１項に記載の燃焼機関の排気ガスを処理するための選択触媒還元触媒を調製するための方法であって、
（Ａ）水と、請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物、好ましくは請求項８～１２のいずれか１項に記載の製造方法に従って調製された組成物とを含む混合物を調製する工程、
（Ｂ）（Ａ）に従って得られた混合物を、基材上に配置し、混合物処理した基材を得る工程であって、前記基材は、入口端部と、出口端部と、前記入口端部から前記出口端部まで延びる基材軸方向長さと、前記基材を通って延びる前記基材の内壁で定義される複数の通路とを含む工程、
（Ｃ）（Ｂ）に従って得られた混合物処理した基材をか焼し、その上に配置されたコーティングを有する基材を得る工程、
を含む方法。
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| A621 | Written request for application examination |
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