JP2023519264A - 電磁放射透過グレージング - Google Patents

Abstract

第１の主表面と反対側の第２の主表面とを備える少なくとも１つの透明基板を備え、当該第１の主表面は、導電層でコーティングされ、導電層は、第１の主表面の１つ以上の領域に存在せず、（ｉ）第１の主表面の当該１つ以上の領域および／または（ｉｉ）反対側の第２の主表面の対応する領域の少なくとも一部は、低放射率材料を含有し、当該１つ以上の領域は、グレージングを通る電磁放射の通過を可能にする、グレージングを提供する。【選択図】図１

Description

本発明は、電磁放射に対して透過性があり、透過性の領域で低放射率特性を示す導電層を有するグレージングに関する。本発明はまた、当該グレージングの製造方法および当該グレージングの使用にも関する。

当技術分野において、窓を通るＩＲの透過を低減するために、グレージングに導電層を設けることが知られている。これらの導電性コーティングは、電波およびマイクロ波の伝送を大幅に減衰させることも知られている。電波およびマイクロ波通信信号の減衰は、通常、これらの導電層の望ましくない副作用である。これらの導電層の一部を選択して除去することによって、電波およびマイクロ波通信を復元し得る。例えば、米国特許第５８６７１２９号明細書は、長波長の電磁放射を遮蔽し赤外線放射を反射しながらマイクロ波を通過させる導電層を備えた窓について言及している。これは、長さがマイクロ波放射の波長の関数である少なくとも１つのスリットを含有する導電層によって達成される。この例では、スリットは、車両の運転者の気を散らすため、肉眼では見えないことが好ましい。これらの導電性コーティングは可視光と相互作用し、除去が人間の目で認識され得ない方法でそれらを除去することは事実上不可能である。除去は、光の透過率が変化したりまたはグレージングの色が変化したりするため、目立ち得る。

多くのガラスコーティングは、異なる組成の複数の層から作られることが知られている。各層は、正確に計算された厚さと屈折率とを有し、実用的である限り、導電性コーティング全体が視覚的に透明で無彩色であることが一般的である。導電性コーティングの一部の削除または省略は、コーティングのエッチングまたは選択的堆積の境界でこれらの正確な層厚が局所的に乱されるため、コーティングされた領域とコーティングされていない領域との間の境界が特に目立つようになり得るという効果を有する。

米国特許第５６２０７９９号明細書は、データの伝送を可能にする電磁スペクトルの一部について特定の領域で良好な透過率を有するグレージングについて記載する。表面の残りの部分にわたって、同じ放射は、反射および／または吸収されることによって通過が妨げられる。グレージングは、金属コーティングを有し得、当該領域に送信器および／または受信器を有し得る。肉眼でグレージングの残りの部分と区別される領域の影響を軽減し、グレージングに均一な外観を与えるために、グレージングは、より暗い光学的色合いに選択的に着色され得る。自動車のガラス設計では、フロントガラスの上縁にわたってグレージングを着色し、車の乗員への太陽光のまぶしさを軽減するのが一般的である。米国特許第５６２０７９９号明細書は、データ伝送用に作成された領域は、着色されたグレージング領域内にあるとき視覚的に目立ちにくいと指摘している。また、着色の色合いは、可変であり得、データ伝送領域の範囲で特に強くなり得ることも強調している。

欧州特許第０７１７４５９号明細書は、マイクロ波およびより長い波長の電磁放射が通過可能であるように配された層内において間隔格子の形態のパターンを有する金属層を有するグレージングを記載している。マイクロ波受信用の平面アンテナは、格子の後ろに配され得る。レーザーによって導電性コーティングに切り込まれた格子線の幅は、０．１ｍｍ～０．０５ｍｍと記載されているため、光学的に視覚的に検出することは比較的困難である。

現代社会では、特に、ユーザーが外界を視覚的に表示する窓の近くに立っているとき、携帯電話およびその他のデバイスの使用しやすさが期待される。このウィンドウが太陽光ＩＲ制御ウィンドウである場合、そのような場所は概して、電波およびマイクロ波の伝送および受信には不十分である。しかしながら、少なくともいくつかの領域でこれらのグレージングから導電性コーティングを省略または除去すると、許容されない場合があり得る赤外線熱損失または利得が生じる。

したがって、低放射率特性を著しく損なうことなく電磁放射の通過を可能にする導電層をグレージングに提供することは有益である。

本発明の第１の態様によれば、
第１の主表面と反対側の第２の主表面とを備える少なくとも１つの透明基板を備え、
当該第１の主表面は、導電層でコーティングされ、
導電層は、第１の主表面の１つ以上の領域に存在せず、
（ｉ）第１の主表面の当該１つ以上の領域、および／または
（ｉｉ）反対側の第２の主表面の対応する領域、
の少なくとも一部は、低放射率材料を含有し、
当該１つ以上の領域は、グレージングを通る電磁放射の通過を可能にする、
グレージングが提供される。

したがって、本発明のグレージングは、優れた低放射率特性を保持しながら、移動電話またはセルラーフォンの信号などの電磁放射がグレージングを通過可能にするという利点を提供する。

本発明の文脈において、反対側の第２の主表面の「対応する領域」は、第１の主表面に対して垂直に見たとき、第１の主表面の１つ以上の領域と完全に重なる反対側の第２の主表面の領域を意味する。

本発明の文脈において、「グレージングを通る」電磁放射の通過は、電磁放射が第１の主表面に対する外側の位置から反対側の第２の主表面に対する外側の位置への通過、またはその逆を意味する。

本発明の文脈では、層が特定の１つ以上の材料に「基づく」と言われる場合、これは、層が主に対応する当該１つ以上の材料からなることを意味し、これは、通常、層が少なくとも約５０原子％の当該１つ以上の材料を備えることを意味する。

本発明の下記の議論において、特段の記載がない限り、当該値の１つが他の値よりも非常に好ましいという指示と相まったパラメータの許容範囲の上限または下限に対する代替値の開示は、より好ましい代替値とより好ましくない代替値との間にある当該パラメータの各中間値自体が、当該より好ましくない値および当該より好ましくない値と当該中間値との間にある各値に対して好ましいという暗示的な記述として解釈されるべきである。

本明細書を通して、「備えている」または「備える」という用語は、指定された構成要素を含むことを意味するが、他の構成要素の存在を排除しない。「実質的に～からなっている」または「実質的に～からなる」という用語は、指定された構成要素を含むが、不純物として存在する物質、構成要素を提供するために使用されるプロセスの結果として存在する不可避の物質を除く他の構成要素および発明の技術的効果を達成するため以外の目的で添加される構成要素を除外することを意味する。通常、組成物に言及するとき、実質的に構成要素の組からなる組成物は、５重量％未満、典型的には３重量％未満、より典型的には１重量％未満の非特定の構成要素を含む。

「～からなっている」または「～からなる」という用語は、指定された構成要素を含むが、他の構成要素を除外することを意味する。

適切な場合はいつでも、文脈に応じて、用語「備える」または「備えている」の使用は、「実質的に～からなる」または「実質的に～からなっている」という意味を含むとも解釈され得、また、「～からなる」または「～からなっている」という意味を含むとも解釈され得る。

本明細書における「ｘからｙの範囲内」などの言及は、「ｘからｙまで」の解釈を含むことを意味し、したがって値ｘおよびｙを含む。

本発明の文脈において、透明材料は、可視光を透過可能である材料であり、その結果、当該材料を超えてまたは後ろ側に位置する物体または画像が、当該材料を通してはっきりと見られ得る。

本発明の文脈では、層の「厚さ」は、層の表面の任意の所与の位置について、層の最小寸法の方向において層の表面の当該位置から当該層の反対側の表面の位置まで層を通る距離によって表される。

好ましくは、導電層が存在しない第１の主表面の当該１つ以上の領域の各々の少なくとも一部は、低放射率材料を含有する。導電層が存在しない第１の主表面の１つ以上の領域の各々の、好ましくは実質的に全て、より好ましくは全ては、低放射率材料を含有する。

好ましくは、低放射率材料は、０．３未満、より好ましくは０．２未満、さらにより好ましくは０．１未満、最も好ましくは０．０５未満の放射率を示す。好ましくは、グレージングは、０．４未満、より好ましくは０．３未満、さらにより好ましくは０．２未満、最も好ましくは０．１未満の放射率を示す。放射率は、ＥＮ １２８９８：２０１９に準拠した市販の分光計を使用して簡単に測定され得る。好ましくは、グレージングは、０．４未満、より好ましくは０．３未満、さらにより好ましくは０．２未満、最も好ましくは０．１未満の放射率を示す。
好ましくは、当該放射率は、
（１）導電層が存在する透明基板の第１の主表面の領域、
（２）低放射率材料を含有する透明基板の表面の領域、および
（３）導電層と低放射率材料との両方が存在しない透明基板の第１の主表面の領域であって、透明基板の反対側の第２の主表面の対応する領域もまた低放射率材料を欠く、領域の、
放射率を測定することによっておよび相対表面積を考慮することによって、計算された平均放射率である。好ましくは、低放射率材料を含有する表面の領域は、０．５未満、より好ましくは０．４未満、さらにより好ましくは０．３未満、最も好ましくは０．２未満の放射率を示す。

低放射率材料は、コーティングされたガラス、コーティングされたマイクロビーズ、誘電体多層コーティング、金属および／または金属酸化物のうちの１つ以上を備え得る。

コーティングされたガラスおよび／またはコーティングされたマイクロビーズは、好ましくは、低放射率コーティングでコーティングされる。低放射率コーティングは、ＩＲ反射金属またはＩＲ反射金属酸化物に基づく少なくとも１つの層を備え得る。ＩＲ反射金属は、銀、金またはアルミニウムなどの任意の適切な金属であり得る。ＩＲ反射金属酸化物は、チタニアまたはアルミナまたは透明導電性酸化物（ＴＣＯ）などの任意の適切な酸化物であり得る。ＴＣＯは、フッ素ドープ酸化スズ、アンチモンドープ酸化スズまたはインジウムドープ酸化スズなどの任意の適切なＴＣＯであり得、好ましくはフッ素ドープ酸化スズである。コーティングされたマイクロビーズは、コーティングされたポリマーまたはコーティングされたセラミックマイクロビーズであり得る。

誘電体多層コーティングは、非導電性金属酸化物および／または非導電性金属窒化物に基づく層を備え得る。多層コーティングは、透明基板の第１の主表面上に堆積された１．８から２．１の範囲の屈折率を有する金属化合物の透明な誘電体膜である第１の層と、第１の層上に堆積された２．２から２．５の範囲の屈折率を有する金属化合物の透明な誘電体膜である第２の層と、第２の層上に堆積された１．８から２．１の範囲の屈折率を有する金属化合物の透明な誘電体膜である第３の層とを備え得る。ＳｎＯｘ（０＜ｘ≦２）、ＴａＯｘ（０＜ｘ≦２．５）、ＺｒＯｘ（０＜ｘ≦２）またはＡｌＮｘ（０＜ｘ≦１）は、１．８から２．１の範囲の屈折率を有する誘電体金属化合物として有用であり、ＴｉＯｘ（０＜ｘ≦２）は、屈折率が２．２から２．５の範囲の屈折率を有する誘電体金属化合物として適切である。本明細書に記載される屈折率値は、電磁スペクトルの４００～７８０ｎｍにわたる平均値として報告されることに留意されたい。誘電体多層コーティングは、金属粒子または金属酸化物粒子をさらに備え得る。このような粒子は、電磁放射の通過を可能にしながら、低放射特性を改善し得る。

金属は、銀、金またはアルミニウムなどの任意の適切な金属であり得、好ましくは銀である。金属酸化物は、チタニアまたはアルミナなどの任意の適切な金属酸化物、またはフッ素ドープ酸化スズ、アンチモンドープ酸化スズまたはインジウムドープ酸化スズなどのＴＣＯであり得、好ましくはフッ素ドープ酸化スズであり得る。

低放射率材料は、コーティングされたガラス、コーティングされたマイクロビーズ、金属および／または金属酸化物のフレークおよび／または粒子の形態であり得る。コーティングされたガラスのフレークの例は、ＮＧＦ Ｅｕｒｏｐｅ Ｌｉｍｉｔｅｄ、セントへレンズ、英国から入手可能な、Ｍｉｃｒｏｇｌａｓ（登録商標）Ｍｅｔａｓｈｉｎｅである。金属フレークは、アルミニウムフレークであり得る。

コーティングされたガラス、金属および／または金属酸化物のフレークは、好ましくは０．１～１０μｍ、より好ましくは１～８μｍ、さらにより好ましくは４～６μｍの平均厚さを有する。好ましくは、コーティングされたガラス、金属および／または金属酸化物のフレークは、５～４０００μｍ、より好ましくは１０～１７００μｍ、さらにより好ましくは２０～５００μｍ、最も好ましくは２５～１５０μｍの平均直径を有する。好ましくは、コーティングされたガラス、金属および／または金属酸化物のフレークは、平均直径を平均厚さで割ったアスペクト比が１０以上、より好ましくは１５以上、最も好ましくは２０以上である。

コーティングされたガラス、コーティングされたマイクロビーズ、金属および／または金属酸化物の粒子は、好ましくは１～１０００μｍ、より好ましくは１０～５００μｍ、さらにより好ましくは２０～３００μｍの平均直径を有する。コーティングされたガラスの粒子は、ガラス微小球を備え得、ガラス微小球は、中実または中空であり得る。好ましくは、ガラス微小球は、中実である。

低放射率材料は、好ましくは、基板の第１の主表面に取り付けられるコーティングおよび／またはフィルムの少なくとも一部を形成し得る。好ましくは、低放射率材料は、コーティングおよび／またはフィルム内に分散される。代替的または追加的に、低放射率材料は、グレージングに接触して位置するか、コーティングおよび／またはフィルム内に位置するか、或いは、コーティングおよび／またはフィルムの露出面上に位置する、いずれかの層の少なくとも一部を形成し得る。好ましくは、当該層は、不連続である。

コーティングは、エポキシベースの樹脂または瀝青媒質などの結合剤をさらに備え得る。好ましくは、コーティングは、塗料の形で塗布されている。あるいは、コーティングは、化学蒸着またはゾルゲル法などの別の適切な技術を使用して塗布され得る。

フィルムは、ポリマーベースのフィルムであることが好ましく、例えば、ポリエステルベースのフィルムである。好ましくは、フィルムは、接着剤を介してグレージングに取り付けられる。

コーティングおよび／またはフィルムは、透明、不透明または光学的拡散性であり得る。コーティングおよび／またはフィルムは、顔料をさらに備え得る。いくつかの用途では、コーティングおよび／またはフィルムが不透明である、および／または非無彩色を示すことが審美的に望ましい場合があり得る。

好ましくは、低放射率材料の密度は、５ｇ／ｃｍ^３未満、より好ましくは３ｇ／ｃｍ^３未満、さらにより好ましくは２ｇ／ｃｍ^３未満であり、好ましくは０．１ｇ／ｃｍ^３超、より好ましくは０．５ｇ／ｃｍ^３超、さらにより好ましくは１ｇ／ｃｍ^３超である。好ましくは、当該密度は、基板の第１の主表面に取り付けられたコーティングおよび／またはフィルムの少なくとも一部を形成する低放射率材料の密度である。

好ましくは、コーティングおよび／またはフィルムは、少なくとも０．５重量％、より好ましくは少なくとも１重量％、さらにより好ましくは少なくとも２重量％、しかし好ましくは最大１５重量％、より好ましくは最大１０重量％、さらにより好ましくは最大５重量％の低放射率材料を備える。

好ましくは、コーティングは、少なくとも１０ｎｍ、より好ましくは少なくとも５０ｎｍ、さらにより好ましくは少なくとも１００ｎｍであり、好ましくは最大１０００ｎｍ、より好ましくは最大５００ｎｍ、さらにより好ましくは最大４００ｎｍの物理的厚さを有する。

好ましくは、フィルムは、少なくとも１マイクロメートル、より好ましくは少なくとも１０マイクロメートル、さらにより好ましくは少なくとも５０マイクロメートルであり、好ましくは最大１０００マイクロメートル、より好ましくは最大５００マイクロメートル、さらにより好ましくは最大２００マイクロメートルの物理的厚さを有する。

好ましくは、導電層が存在しない第１の主表面の１つ以上の領域は、超短波（３０～３００ＭＨｚ、１０ｍ～１ｍ）、極超短波（３００～３０００ＭＨｚ、１ｍ～１００ｍｍ）および／またはセンチメートル波（３～３０ＧＨｚ、１００ｍｍ～１０ｍｍ）に対応する電磁放射の通過を可能にするように配置される。より好ましくは、導電層が存在しない第１の主表面の１つ以上の領域は、超短波（３０～３００ＭＨｚ、１０ｍ～１ｍ）、極超短波（３００～３０００ＭＨｚ、１ｍ～１００ｍｍ）および／またはセンチメートル波（３～３０ＧＨｚ、１００ｍｍ～１０ｍｍ）のみに対応する電磁放射の通過を可能にするように配置される。好ましくは、導電層が存在しない当該領域は、超短波および／またはセンチメートル波のみに対応する電磁放射、より好ましくは、携帯電話もしくはセルラーフォンおよび／またはインターネットにワイヤレスで接続し得るデバイス、機能のみの周波数に対応する電磁放射の通過を可能にするように配置される。

導電層が存在しないおよび／または低放射率材料を含有する第１の主表面の１つ以上の領域は、第１の主表面の周縁の１００ｍｍ以内し得、好ましくは周縁の７５ｍｍ以内、より好ましくは周縁の５０ｍｍ以内、さらにより好ましくは周縁の３０ｍｍ以内であり、好ましくは周縁から少なくとも５ｍｍ、より好ましくは周縁から少なくとも１５ｍｍ、さらにより好ましくは周縁から少なくとも２０ｍｍに位置し得る。

導電層が存在しないおよび／または低放射率材料を含有する第１の主表面の１つ以上の領域は、任意の適切な形状であり得る。いくつかの実施形態では、好ましくは、当該１つ以上の領域は、ストリップとして成形される。好ましくは、各ストリップは、少なくとも１０ｍｍ、より好ましくは少なくとも３０ｍｍ、さらにより好ましくは少なくとも４０ｍｍであり、好ましくは最大２００ｍｍ、より好ましくは最大１００ｍｍ、さらにより好ましくは最大７０ｍｍの幅を有する。好ましくは、各ストリップは、少なくとも１００ｍｍ、より好ましくは少なくとも３００ｍｍ、さらにより好ましくは少なくとも４００ｍｍの長さを有する。

好ましくは、各ストリップは、第１の主表面の最も近い周縁に対して実質的に平行に位置し、好ましくは平行に位置する。好ましくは、各ストリップは、第１の主表面の最も近い周縁の長さの少なくとも７０％、より好ましくは少なくとも９０％、さらにより好ましくは少なくとも９５％、最も好ましくは実質的に同じ長さを有する。

好ましくは、導電層は、透明である。この構成によって、観察者は、グレージング全体を通して明瞭な視界を有することが可能になる。いくつかの実施形態では、低放射率材料を含有する第１の主表面の当該１つ以上の領域の一部においてグレージングを通る透過光は、低放射率材料を含有しない第１の主表面の領域でグレージングを通る透過光とは異なり得る。いくつかの実施形態では、低放射率材料を含有する第１の主表面の当該１つ以上の領域の一部においてグレージングを通る反射光は、低放射率材料を含有しない第１の主表面の領域でグレージングを通る反射光とは異なり得る。このような構成は、観察者にグレージング全体を通して明瞭な視界を提供し、低放射率材料を含有する領域と含有しない領域との間の視覚的に認識可能な差異を提供する。この目に見える差異は、日光および／または人工光源などの通常の光条件の下で明らかな場合があり得る。低放射率材料を含有する領域と含有しない領域との間の差異は、目立たずかつ容易に識別できる透かし効果の外観を有し得る。いくつかの実施形態では、低放射率材料を含有する当該１つ以上の領域の部分は、少なくとも１つの標識を形成し得る。

グレージングは、透明領域と、例えば不透明領域などの非透明領域と、の両方を有し得る。好ましくは、グレージングは、実質的に完全に透明である。好ましくは、少なくとも８０％、より好ましくは少なくとも９０％、さらにより好ましくは少なくとも９５％のグレージングは、グレージングの主表面を通して見たときに透明であり、当該主表面の全表面積は、これらの値の目的に対してグレージングの１００％を表すと見なされる。最も好ましくは、グレージングは、完全に透明である。

導電層が存在しないおよび／または低放射率材料を含有する１つ以上の領域は、繰り返しパターンで配置され得る。そのような配置は、グレージングの美的魅力を高め得る。

照明効果を使用して、導電層が存在しない１つ以上の領域の視認性および／または美的魅力を高め得る。グレージングは、電動ライトなどの１つ以上のライトをさらに備え得る。当該１つ以上のライトは、グレージングの周囲に位置し得ることが好ましい。ライトは、グレージングの外面に直接または間接的に取り付けられ得、ライトは、グレージングの内側に位置し得、例えば、ライトは、グレージングの内側に積層され得る。ライトは、プラスチックフィルムまたはガラス表面などの基板上に堆積され得るか、または基板間に積層され得る、ＬＥＤ構成要素またはＬＥＤデバイスを備え得る。あるいは、光は、基板上に形成された１つ以上のエレクトロルミネセンス材料を備え得る。ライトが電動ライトである場合、１つ以上の導体は、導電層から形成され得、当該層は、標識の領域のグレージングを通る電磁放射の通過を完全には遮断しない。

好ましくは、少なくとも１つの導電層は、金属、導電性有機ポリマー、導電形態の炭素および／またはドーピングによって実質的に導電性として作成された金属酸化物を含有する。太陽光制御導電層材料の特に重要な例には、銀、銅、金、アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウムおよび酸化亜鉛が含まれる。導電層は、グレージングの放射率を下げ得（「Ｌｏｗ－ｅコーティング」）、例えば建物内部から放射される赤外線を反射することで断熱性を実現し、および／または太陽光エネルギー透過率を下げ（「太陽光制御コーティング」）、過剰な太陽光エネルギー（熱）の侵入を室内から遮蔽する。導電層は、ガラス／下部反射防止層／銀ベース層／外側反射防止層の構造に従う、少なくとも１つの透明銀ベース層を有する層システムであり得る。このタイプの層システムでは、銀層は、主にＩＲ反射層として機能し、一方、反射防止（「ＡＲ」）層は、材料と厚さを適切に選択することによって、用途に応じて可視領域のスペクトルの透過率と反射率、放射率、太陽光エネルギー透過率に影響を与えるために使用され得る。

好ましくは、少なくとも１つの透明基板は、少なくとも１つの透明ガラス基板である。透明ガラス基板は、無色または着色され得る。好ましくは、透明ガラス基板は、無色透明ガラス基板である。透明ガラス基板は、金属酸化物ベースのガラス板であり得る。ガラス板は、無色または着色フロートガラス板であり得る。好ましくは、ガラス板は、無色ガラス板である。通常のソーダ石灰ケイ酸塩ガラスの組成は、６９～７４％のＳｉＯ_２、０～３％のＡｌ_２Ｏ_３、１０～１６％のＮａ_２Ｏ、０～５％のＫ_２Ｏ、０～６％のＭｇＯ、５～１４％のＣａＯ、０～２％のＳＯ_３および０．００５～２％のＦｅ_２Ｏ_３（重量）である。ガラス組成物はまた、他の添加剤、例えば、通常２％までの量で存在する清澄助剤をも含有し得る。無色フロートガラスとは、ＢＳ ＥＮ ５７２－１およびＢＳ ＥＮ ５７２－２（２００４）で画定される組成を有するガラスを意味する。無色フロートガラスの場合、Ｆｅ_２Ｏ_３の重量レベルは、通常０．１１％である。約０．０５重量％未満のＦｅ_２Ｏ_３含有量を有するフロートガラスは、通常、低鉄フロートガラスと呼ばれる。このようなガラスは通常、他の成分の酸化物と同じ基本組成を有し、つまり、低鉄フロートガラスは、無色フロートガラスと同様に、ソーダ石灰ケイ酸ガラスでもある。通常、着色フロートガラスは、少なくとも０．５重量％のＦｅ_２Ｏ_３、例えば、１．０重量％のＦｅ_２Ｏ_３を有する。あるいは、ガラス板は、ホウケイ酸塩ベースのガラス板、アルカリアルミノケイ酸塩ベースのガラス板または酸化アルミニウムベースのクリスタルガラス板である。

好ましくは、グレージングは、少なくとも２つの透明基板を備え、これらの基板は、間隙によって分離されおよび／または中間層材料の少なくとも１つのプライは、基板間に積層される。好ましくは、導電層は、当該少なくとも２つの透明基板の間に位置する。中間層材料は、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、エチレン－酢酸ビニル（ＥＶＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）および他のポリマー中間層からなる群から選択され得る。

好ましくは、グレージングは、グレージングの周囲に取り付けられたフレームをさらに備える。フレームは、窓枠および／またはドアなど、グレージングを支持する任意の適切な囲いを備え得る。

本発明の第２の態様によれば、複層グレージングユニットであって、
第１の主表面と反対側の第２の主表面とを各々備える少なくとも２つの透明基板を備え、
透明基板の少なくとも１つは、導電層で第１の主表面上にコーティングされ、
導電層は、第１の主表面の１つ以上の領域に存在せず、
（ｉ）第１の主表面の当該１つ以上の領域、および／または
（ｉｉ）少なくとも２つの透明基板の異なる主表面の対応する領域、
の少なくとも一部は、低放射率材料を含有し、
当該１つ以上の領域は、グレージングを通る電磁放射の通過を可能にする、複層グレージングユニットが提供される。

本発明の文脈では、別の主表面の「対応する領域」は、第１の主表面に対して垂直に見たときに、第１の主表面の１つ以上の領域と完全に重なる反対側の第２の主表面の領域を意味する。

本発明の文脈では、「グレージングを通過する」電磁放射の通過は、第１の外側に面する透明基板の外側の位置から第２の外側に面する透明基板の外側の位置への、またはその逆の、電磁放射の通過を意味する。

好ましくは、少なくとも２つの透明基板の隣接する透明基板は、間隙によって分離され、および／または中間層材料の少なくとも１つのプライは、基板間に積層される。好ましくは、導電層および／または低放射率材料は、２つの透明基板の間に位置する。好ましくは、導電層および低放射率材料は両方とも、同じ２つの透明基板の間に位置する。

本発明のさらなる態様によれば、
少なくとも１つの透明基板を導電層でコーティングすることであって、
導電層が、マスクを通して堆積され、および／または、導電層の堆積後に部分的に除去されるいずれかである、コーティングすることと、
（ｉ）第１の主表面の当該１つ以上の領域、および／または
（ｉｉ）反対側の第２の主表面の対応する領域、
の少なくとも一部に低放射率材料を適用することと、
を含む、本発明によるグレージングの作製方法が提供される。

導電層の部分的除去は、化学、レーザーおよび／またはサンドブラスト手段を使用して行われ得る。化学的手段は、フッ化水素酸の濃縮溶液による除去を含み得る。

本発明の第１の態様に関連して上述した任意の特徴は、本発明の他の任意の態様にも関連して利用され得る。

本明細書に記載の発明は、必要な変更を加えて、本明細書に記載の他の発明の特徴と組み合せられ得る。

本発明の一態様に適用可能な必要に応じた特徴は、任意の組み合わせで、任意の数で使用され得ることが理解されるであろう。さらに、それらはまた、本発明の他の任意の態様とも、任意の組み合わせおよび任意の数で使用され得る。これには、本出願の特許請求の範囲における他の請求項の従属請求項として使用される任意の請求項からの従属請求項が含まれるが、これらに限定されない。

読者の関心は、本出願に関連して本明細書と同時にまたは本明細書より前に提出され本明細書とともに公衆の閲覧に開放される全ての論文および文書に向けられ、そのような全ての論文および文書の内容は参照によって本明細書に援用される。

本明細書（添付の特許請求の範囲、要約および図面を含む）に開示された全ての特徴、および／またはそのように開示された任意の方法またはプロセスの全てのステップは、そのような少なくともいくつかの特徴および／またはステップが相互に排他的に存在する組み合わせを除いて、任意の組み合わせで組み合わせられ得る。

本明細書（添付の特許請求の範囲、要約、および図面を含む）に開示される各特徴は、別段の明示的な記載がない限り、同じ、同等または類似の目的を果たす別の機能に置き換えられ得る。したがって、別段の明示的な記載がない限り、開示される各特徴は、一連の同等または類似の一般的な機能の一例にすぎない。

本発明は、添付の図面を参照して、限定ではなく例示として与えられる下記の特定の実施形態によってさらに記載される。

図５の線Ａに沿った、コーティング内に分散されたコーティングされたガラスフレークを利用する、本発明によるグレージングの概略断面図である。 ポリマーベースのフィルム内に分散されたコーティングされたガラスフレークを利用する、本発明によるグレージングの概略断面図である。 反対側の主表面上に位置するポリマーベースのフィルム内に分散された金属粒子を利用する、本発明によるグレージングの概略断面図である。 コーティング内に分散されたコーティングされたガラスフレークを利用する、本発明による二重グレージングユニットの概略断面図である。 図１に示すグレージングの概略平面図である。

図１は、本発明によるグレージング１の、図５の破線Ａに沿った概略断面図を示す。グレージング１は、少なくとも１つの銀ベースの層を備える透明な多層スタックである導電層３で主表面がコーティングされたガラスプライ２を備える。導電層３は、層３の２つの対向する縁に隣接する主表面の２つの領域には存在しない。これらの領域は、透明塗料内に分散されたＭｉｃｒｏｇｌａｓ（登録商標）Ｍｅｔａｓｈｉｎｅコーティングガラスフレーク（ＮＧＦ Ｅｕｒｏｐｅ Ｌｉｍｉｔｅｄ、セントヘレンズ、英国から入手可能）からなるコーティング４でコーティングされる。銀ベースの層でコーティングされたガラスフレークの存在によって、これらの領域は、ある程度のヘイズを示すが、驚くべきことに、グレージングは、低放射率特性を保持するとともにグレージング１を通過する電磁放射の通過を可能にする。

図５は、図１に示したものと同じグレージング１の概略平面図を示す。コーティング４は、層３の２つの対向する縁に隣接して位置し、当該縁の大部分に沿って延在する。

図２は、ポリエステルベースのフィルム７内に分散されたＭｉｃｒｏｇｌａｓ（登録商標）Ｍｅｔａｓｈｉｎｅコーティングガラスフレークを利用する、本発明によるグレージング５の概略断面図を示す。グレージング５は、コーティング４が存在せず、代わりに導電層３が存在しない２つの領域６をフィルム７が覆っていることを除いて、グレージング１と同じ構造を有する。フィルム７は、接着剤（図示せず）を介してコーティング３およびプライ２に取り付けられる。

図３は、ガラスプライ２の反対側の主表面上に位置するポリマーベースのフィルム９内に分散された金属粒子を利用する、本発明によるグレージング８の概略断面図を示す。グレージング８は、フィルム９が反対側の第２の主表面の対応する領域に取り付けられ、およびコーティングされたガラスフレークよりもむしろ金属粒子を含有することを除いて、グレージング５と同じ構造を有する。

図４は、コーティング内に分散されたコーティングされたガラスフレークを利用する、本発明による二重グレージングユニット１０の概略断面図を示す。ユニット１０は、２つのスペーサーバー１２によって導電層３から分離されたさらなるガラスプライ１１の追加を除いて、グレージング１と同じ構造を有する。

本発明は、前述の実施形態の詳細に限定されない。本発明は、本明細書（添付の特許請求の範囲、要約および図面を含む）に開示された特徴の任意の新規の１つもしくは任意の新規の組み合わせ、または開示された任意の方法もしくはプロセスのステップの任意の新規の１つもしくは任意の新規の組み合わせの範囲に及ぶ。

Claims (25)

1. グレージングであって、
   第１の主表面と反対側の第２の主表面とを備える少なくとも１つの透明基板を備え、
   前記第１の主表面は、導電層でコーティングされ、
   前記導電層は、前記第１の主表面の１つ以上の領域に存在せず、
   （ｉ）前記第１の主表面の前記１つ以上の領域、および／または
   （ｉｉ）前記反対側の第２の主表面の対応する領域、
   の少なくとも一部は、低放射率材料を含有し、
   前記１つ以上の領域は、前記グレージングを通る電磁放射の通過を可能にする、
   グレージング。
2. 前記導電層が存在しない前記第１の主表面の前記１つ以上の領域の各々の少なくとも一部は、低放射率材料を含有する、請求項１に記載のグレージング。
3. 前記グレージングは、０．４未満の放射率を示し、好ましくは０．３未満、より好ましくは０．２未満、最も好ましくは０．１未満の放射率を示す、請求項１または２に記載のグレージング。
4. 前記低放射率材料は、コーティングされたガラス、コーティングされたマイクロビーズ、誘電体多層コーティング、金属および／または金属酸化物のうちの１つ以上を備える、請求項１から３のいずれか一項に記載のグレージング。
5. 前記コーティングされたガラスおよび／またはコーティングされたマイクロビーズは、銀、金もしくはアルミニウムなどのＩＲ反射金属またはチタニアもしくはアルミナもしくは透明導電性酸化物（ＴＣＯ）などのＩＲ反射金属酸化物に基づく少なくとも１つの層を備える低放射率コーティングでコーティングされる、請求項４に記載のグレージング。
6. 前記金属は、銀、金またはアルミニウムであり、前記金属酸化物は、チタニアまたはアルミナまたはＴＣＯである、請求項４または５に記載のグレージング。
7. 前記低放射率材料は、前記コーティングされたガラス、前記コーティングされたマイクロビーズ、前記金属および／または前記金属酸化物の、フレークおよび／または粒子の形態である、請求項４から６のいずれか一項に記載のグレージング。
8. コーティングされたガラス、金属および／または金属酸化物の前記フレークは、０．１～１０μｍの平均厚さを有し、好ましくは１～８μｍ、より好ましくは４～６μｍの平均厚さを有する、請求項７に記載のグレージング。
9. コーティングされたガラス、金属および／または金属酸化物の前記フレークは、５～４０００μｍの平均直径を有し、好ましくは１０～１７００μｍ、より好ましくは２０～５００μｍ、最も好ましくは２５～１５０μｍの平均直径を有する、請求項７または８に記載のグレージング。
10. コーティングされたガラス、金属および／または金属酸化物の前記フレークは、１０以上の、平均直径を平均厚さで割ったアスペクト比を有し、好ましくは１５以上、最も好ましくは２０以上の、平均直径を平均厚さで割ったアスペクト比を有する、請求項７から９のいずれか一項に記載のグレージング。
11. コーティングされたガラス、コーティングされたマイクロビーズ、金属および／または金属酸化物の前記粒子は、１～１０００μｍの平均直径を有し、好ましくは１０～５００μｍ、より好ましくは２０～３００μｍの平均直径を有する、請求項７から１０のいずれか一項に記載のグレージング。
12. コーティングされたガラスの前記粒子は、ガラス微小球を備え、前記ガラス微小球は、中実または中空であり得る、請求項７から１１のいずれか一項に記載のグレージング。
13. 前記低放射率材料は、前記基板の前記第１の主表面および／または前記反対側の第２の主表面に取り付けられるコーティングおよび／またはフィルムの少なくとも一部を形成する、請求項１から１２のいずれか一項に記載のグレージング。
14. 前記低放射率材料は、前記コーティングおよび／または前記フィルム内に分散される、請求項１３に記載のグレージング。
15. 前記低放射率材料は、前記グレージングと接触して位置するか、前記コーティングおよび／または前記フィルム内に位置するか、或いは、前記コーティングおよび／または前記フィルムの露出面上に位置する、いずれかの層の少なくとも一部を形成する、請求項１３または１４に記載のグレージング。
16. 前記低放射率材料の密度は、５ｇ／ｃｍ^３未満、好ましくは３ｇ／ｃｍ^３未満、より好ましくは２ｇ／ｃｍ^３未満であり、好ましくは０．１ｇ／ｃｍ^３超、より好ましくは０．５ｇ／ｃｍ^３超、さらに好ましくは１ｇ／ｃｍ^３超である、請求項１から１５のいずれか一項に記載のグレージング。
17. 前記コーティングおよび／またはフィルムは、少なくとも０．５重量％の低放射率材料を備え、好ましくは少なくとも１重量％、より好ましくは少なくとも２重量％であり、好ましくは最大１５重量％、より好ましくは最大１０重量％、さらにより好ましくは最大５重量％の、低放射率材料を備える、請求項１３から１６のいずれか一項に記載のグレージング。
18. 前記導電層が存在しない前記第１の主表面の１つ以上の領域は、超短波（３０～３００ＭＨｚ、１０ｍ～１ｍ）、極超短波（３００～３０００ＭＨｚ、１ｍ～１００ｍｍ）および／またはセンチメートル波（３～３０ＧＨｚ、１００ｍｍ～１０ｍｍ）に対応する電磁放射の通過を可能にするように配置される、請求項１から１７のいずれか一項に記載のグレージング。
19. 前記導電層が存在しないおよび／または前記低放射率材料を含有する前記第１の主表面の１つ以上の領域は、前記第１の主表面の周縁の１００ｍｍ以内に位置し、好ましくは周縁の７５ｍｍ以内、より好ましくは周縁の５０ｍｍ以内、さらにより好ましくは周縁の３０ｍｍ以内であり、好ましくは周縁から少なくとも５ｍｍ、より好ましくは周縁から少なくとも１５ｍｍ、さらにより好ましくは周縁から少なくとも２０ｍｍに位置する、請求項１から１８のいずれか一項に記載のグレージング。
20. 前記導電層が存在しないおよび／または前記低放射率材料を含有する前記第１の主表面の１つ以上の領域は、ストリップとして成形される、請求項１から１９のいずれか一項に記載のグレージング。
21. 各ストリップは、前記第１の主表面の最も近い周縁に対して実質的に平行に位置し、好ましくは平行に位置する、請求項２０に記載のグレージング。
22. 複層グレージングユニットであって、
    第１の主表面と反対側の第２の主表面とを各々備える少なくとも２つの透明基板、を備え、
    前記透明基板の少なくとも１つは、導電層で前記第１の主表面上にコーティングされ、
    前記導電層は、前記第１の主表面の１つ以上の領域に存在せず、
    （ｉ）前記第１の主表面の前記１つ以上の領域、および／または
    （ｉｉ）前記少なくとも２つの透明基板の異なる主表面の対応する領域、
    の少なくとも一部は、低放射率材料を含有し、
    前記１つ以上の領域は、グレージングを通る電磁放射の通過を可能にする、複層グレージングユニット。
23. 前記少なくとも２つの透明基板の隣接する透明基板は、間隙によって分離され、および／または中間層材料の少なくとも１つのプライは、前記基板間に積層される、請求項２２に記載の複層グレージングユニット。
24. 前記導電層および／または前記低放射率材料は、２つの透明基板の間に位置し、好ましくは前記導電層および前記低放射率材料は、両方とも同じ前記２つの透明基板の間に位置する、請求項２２または２３に記載の複層グレージングユニット。
25. 本発明によるグレージングの作製方法であって、
    少なくとも１つの透明基板を導電層でコーティングすることであって、
    前記導電層が、マスクを通して堆積され、および／または、前記導電層の堆積後に部分的に除去されるいずれかである、コーティングすることと、
    （ｉ）前記第１の主表面の前記１つ以上の領域、および／または
    （ｉｉ）前記反対側の第２の主表面の対応する領域、
    の少なくとも一部に低放射率材料を適用することと、
    を含む、グレージングの作製方法。

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