JP2023501923A - Ledディスプレイ装置 - Google Patents
Ledディスプレイ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023501923A JP2023501923A JP2022524027A JP2022524027A JP2023501923A JP 2023501923 A JP2023501923 A JP 2023501923A JP 2022524027 A JP2022524027 A JP 2022524027A JP 2022524027 A JP2022524027 A JP 2022524027A JP 2023501923 A JP2023501923 A JP 2023501923A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light emitting
- light
- layer
- led
- display device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 104
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 50
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 73
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 6
- 108010001267 Protein Subunits Proteins 0.000 abstract description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 213
- 238000000034 method Methods 0.000 description 61
- 230000008569 process Effects 0.000 description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 40
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 13
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 9
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 4
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006336 epoxy molding compound Polymers 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 4
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N benzocyclobutene Chemical compound C1=CC=C2CCC2=C1 UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- -1 InGaN Chemical compound 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 2
- 230000005226 mechanical processes and functions Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017401 Au—Ge Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- RNQKDQAVIXDKAG-UHFFFAOYSA-N aluminum gallium Chemical compound [Al].[Ga] RNQKDQAVIXDKAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000407 epitaxy Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229920000592 inorganic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013518 transcription Methods 0.000 description 1
- 230000035897 transcription Effects 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/15—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission
- H01L27/153—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars
- H01L27/156—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars two-dimensional arrays
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/15—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L21/6836—Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/075—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00
- H01L25/0753—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00 the devices being arranged next to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/075—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00
- H01L25/0756—Stacked arrangements of devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/005—Processes
- H01L33/0095—Post-treatment of devices, e.g. annealing, recrystallisation or short-circuit elimination
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/08—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a plurality of light emitting regions, e.g. laterally discontinuous light emitting layer or photoluminescent region integrated within the semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/36—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
- H01L33/38—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape
- H01L33/385—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape the electrode extending at least partially onto a side surface of the semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/36—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
- H01L33/38—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape
- H01L33/387—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape with a plurality of electrode regions in direct contact with the semiconductor body and being electrically interconnected by another electrode layer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/44—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the coatings, e.g. passivation layer or anti-reflective coating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/483—Containers
- H01L33/486—Containers adapted for surface mounting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/52—Encapsulations
- H01L33/56—Materials, e.g. epoxy or silicone resin
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/58—Optical field-shaping elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2933/00—Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2933/0008—Processes
- H01L2933/0016—Processes relating to electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2933/00—Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2933/0008—Processes
- H01L2933/0025—Processes relating to coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2933/00—Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2933/0008—Processes
- H01L2933/0033—Processes relating to semiconductor body packages
- H01L2933/0058—Processes relating to semiconductor body packages relating to optical field-shaping elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2933/00—Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2933/0008—Processes
- H01L2933/0033—Processes relating to semiconductor body packages
- H01L2933/0066—Processes relating to semiconductor body packages relating to arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/62—Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
一実施形態に係るディスプレイ装置は、ディスプレイ基板と、前記ディスプレイ基板上に配置された複数の発光素子と、前記各発光素子の間に配置された光遮断層と、前記各発光素子及び光遮断層を覆う透明層と、を含み、前記発光素子は、第1LEDサブユニットと、前記第1LEDサブユニット上に配置された第2LEDサブユニットと、前記第2LEDサブユニット上に配置された第3LEDサブユニットと、を含み、前記第3LEDサブユニットは、前記第1LEDサブユニットよりも前記発光素子の上面の近くに配置される。【選択図】図17
Description
本開示は、ディスプレイ装置に関し、特に、LEDディスプレイ装置に関する。
発光ダイオードは、無機光源であって、ディスプレイ装置、車両用ランプ、一般照明などの多くの分野に多様に用いられている。発光ダイオードは、寿命が長く、消費電力が低く、応答速度が速いという長所を有するので、既存の光源に迅速に取って代わっている。
一方、従来の発光ダイオードは、ディスプレイ装置でバックライト光源として主に使用されてきた。しかし、近年、発光ダイオードを用いて直接画像を実現するLEDディスプレイが開発されている。
ディスプレイ装置は、一般に、青色、緑色及び赤色の混合色を用いて多様な色相を実現する。ディスプレイ装置は、多様な画像を実現するために複数のピクセルを含み、各ピクセルは、青色、緑色及び赤色のサブピクセルを備えており、これらのサブピクセルの色相を通じて特定のピクセルの色相が定められ、これらのピクセルの組み合わせによって画像が実現される。
LEDは、その材料によって多様な色相の光を放出できるので、青色、緑色及び赤色を放出する個別LEDチップを2次元平面上に配列することによってディスプレイ装置を提供することができる。しかし、各サブピクセルに一つのLEDチップを配列する場合、LEDチップの個数が多くなり、実装工程に時間が多くかかる。
各サブピクセルを2次元平面上に配列するので、青色、緑色及び赤色のサブピクセルを含む一つのピクセルが占有する面積が相対的に広くなる。よって、制限された面積内に各サブピクセルを配列するためには、各LEDチップの面積を減少させなければならない。しかし、LEDチップの大きさの減少は、LEDチップの実装を難しくするおそれがあり、さらに、発光面積の減少をもたらす。
一方、多様な色相を実現するディスプレイ装置は、高品質の白色光を安定して提供する必要がある。従来のTVは、D65の標準白色光を実現するために3:6:1のRGB混合比を使用していた。すなわち、青色の光度に比べると、赤色の光度が相対的にさらに高く、緑色の光度が相対的に最も高い。ところが、現在使用されるLEDチップは、一般に、青色LEDの光度が他のLEDに比べて相対的に非常に高いので、各LEDチップを用いたディスプレイ装置でRGB混合比を合わせにくいという問題を有する。
一方、一つのピクセル内から放出される青色、緑色及び赤色光の視野角が広いと、隣接したピクセルとの干渉を起こすおそれがあり、さらに、鮮明な画質を実現しにくい。しかし、一つのピクセルから放出される光の視野角が狭いと、ピクセル間の光度の差によって光偏差が発生しやすい。したがって、ピクセルから放出される光の視野角を適切な水準に調節する必要がある。
本開示が解決しようとする課題は、制限されたピクセル面積内で各サブピクセルの面積を増加できるディスプレイ装置を提供することにある。
本開示が解決しようとする他の課題は、発光素子の実装工程時間を短縮できるディスプレイ装置を提供することにある。
本開示が解決しようとする更に他の課題は、RGB混合比を容易に制御できるディスプレイ装置を提供することにある。
本開示が解決しようとする更に他の課題は、一つのピクセル内から放出される多様な色相の光の視野角を適切な水準に調節したディスプレイ装置を提供することにある。
本開示の一実施形態に係るディスプレイ装置は、ディスプレイ基板と、前記ディスプレイ基板上に配置された複数の発光素子と、前記各発光素子の間に配置された光遮断層と、前記各発光素子及び光遮断層を覆う透明層と、を含み、前記発光素子は、第1LEDサブユニットと、前記第1LEDサブユニット上に配置された第2LEDサブユニットと、前記第2LEDサブユニット上に配置された第3LEDサブユニットと、を含み、前記第3LEDサブユニットは、前記第1LEDサブユニットより前記発光素子の上面のさらに近くに配置される。
本開示の他の実施形態に係るディスプレイ装置は、ディスプレイ基板と、前記ディスプレイ基板上に配置された複数の発光素子と、前記各発光素子の間に配置され、前記各発光素子から放出された光を遮断する黒色モールディング層と、前記各発光素子を少なくとも部分的に覆い、前記各発光素子から放出された光を透過させる透明層と、を含み、前記発光素子は、第1LEDサブユニットと、前記第1LEDサブユニット上に配置された第2LEDサブユニットと、前記第2LEDサブユニット上に配置された第3LEDサブユニットと、を含み、前記第3LEDサブユニットは、前記第1LEDサブユニットよりも前記発光素子の上面の近くに配置される。
以下、添付の各図面を参照して本開示の各実施形態を詳細に説明する。以下で説明する各実施形態は、本開示の属する技術分野の通常の技術者に本開示の思想を十分に伝達するために例として提供されるものである。よって、本開示は、以下で説明する各実施形態に限定されるものではなく、他の形態に具体化することも可能である。そして、各図面において、構成要素の幅、長さ、厚さなどは、便宜のために誇張して表現する場合がある。また、一つの構成要素が他の構成要素の「上部」又は「上」にあると記載された場合、各部分が他の部分の「直上部」又は「直上」にある場合のみならず、各構成要素と他の構成要素との間に更に他の構成要素が介在した場合も含む。明細書全体にわたって同一の参照番号は、同一の構成要素を示す。
本開示の一実施形態に係るディスプレイ装置は、ディスプレイ基板と、前記ディスプレイ基板上に配置された複数の発光素子と、前記各発光素子の間に配置された光遮断層と、前記各発光素子及び光遮断層を覆う透明層と、を含み、前記発光素子は、第1LEDサブユニットと、前記第1LEDサブユニット上に配置された第2LEDサブユニットと、前記第2LEDサブユニット上に配置された第3LEDサブユニットと、を含み、前記第3LEDサブユニットは、前記第1LEDサブユニットよりも前記発光素子の上面の近くに配置される。
第1乃至第3LEDサブユニットが互いに重畳するので、ピクセル面積を増加させず、制限されたピクセル面積内で各サブピクセルの面積を増加させることができる。さらに、発光素子が第1乃至第3LEDサブユニットを含むので、従来の発光素子に比べて発光素子の個数を減少させることができ、その結果、発光素子の実装工程時間を短縮することができる。
また、光遮断層が各発光素子の間に配置されるので、各発光素子の間の光干渉を防止できると共に、透明層が各発光素子を覆い、各発光素子から放出された光の視野角を増加させることができる。
前記光遮断層は、前記発光素子から放出された光を吸収することによって光を遮断することができ、前記透明層は、前記発光素子から放出された光を透過させる。
一実施形態において、前記光遮断層は黒色モールディング層であってもよい。
一実施形態において、 前記第1、第2及び第3LEDサブユニットは、それぞれ赤色光、青色光及び緑色光を発することができる。第2LEDサブユニットが青色光を放出し、第3LEDサブユニットが緑色光を放出することによって緑色光の光度を増加させることができ、その結果、ディスプレイ装置に適したRGB混合比率を容易に提供することができる。しかし、本開示はこれに限定されるのではなく、前記第1、第2及び第3LEDサブユニットは、それぞれ赤色光、緑色光及び青色光を発することもできる。
前記第1LEDサブユニットは第1発光スタックを含んでもよく、前記第2LEDサブユニットは第2発光スタックを含んでもよく、前記第3LEDサブユニットは第3発光スタックを含んでもよく、各発光スタックは、第1導電型半導体層、活性層及び第2導電型半導体層を含んでもよい。
一実施形態において、前記透明層は、前記各発光素子の全てをそれぞれ覆うことができる。他の実施形態において、前記透明層は、前記各発光素子を部分的に覆うことができる。
特に、前記透明層は、前記各発光素子を一方向に横切るように配置されてもよい。よって、前記各発光素子から放出された光の視野角を、方向によって異なる形に調節することができる。
一実施形態において、前記透明層は、横方向透明層及び縦方向透明層を含むメッシュ形状を有してもよく、前記横方向透明層は前記各発光素子を横切り、前記縦方向透明層は、前記各発光素子の間の領域で光遮断層上に配置されてもよい。これによって、発光素子から放出された光に対して縦方向の視野角に比べて横方向の視野角をさらに増加させることができる。
一方、前記光遮断層の上面は、前記第3発光素子の上面と同一の高さに位置し、又はそれより低い高さに位置してもよい。
一実施形態において、前記発光素子は、前記第3LEDサブユニット上に配置された基板をさらに含んでもよく、前記透明層と空気との屈折率の差は、前記基板と前記第3発光スタックの第1導電型半導体層との屈折率の差より小さくてもよい。
一実施形態において、前記発光素子は、前記第3LEDサブユニット上に配置された基板をさらに含んでもよく、前記光遮断層の上面は、前記基板側面の少なくとも一部を露出させるように前記基板の上面より低い高さに位置してもよい。これによって、前記基板の側面を介して光が放出され得るので、発光素子の視野角を増加させることができる。
一実施形態において、前記光遮断層は、前記第3発光スタックの側面の少なくとも一部を露出させるように前記第3発光スタックの上面の高さより低い高さに位置してもよい。第3発光スタックの側面を介して光が放出され得るので、第1又は第2発光スタックに比べて第3発光スタックで生成される光の光度を相対的にさらに増加させることができる。
前記発光素子は、前記第1LEDサブユニットと前記第2LEDサブユニットとの間に介在した第1ボンディング層と、前記第2LEDサブユニットと前記第3LEDサブユニットとの間に介在した第2ボンディング層と、をさらに含んでもよい。
また、前記発光素子は、前記第1LEDサブユニットに電気的に接続された第1接続電極と、前記第2LEDサブユニットに電気的に接続された第2接続電極と、前記第3LEDサブユニットに電気的に接続された第3接続電極と、前記第1、第2、及び第3LEDサブユニットに共通して電気的に接続された第4接続電極と、をさらに含んでもよい。
前記ディスプレイ装置は、前記ディスプレイ基板と前記発光素子との間に介在した回路基板をさらに含んでもよく、前記第1乃至第4接続電極は前記回路基板にボンディングされてもよく、前記光遮断層は前記回路基板上に配置されてもよい。
前記第1接続電極、第2接続電極、及び第3接続電極は、それぞれ前記第1発光スタック、第2発光スタック、及び第3発光スタックの第2導電型半導体層に電極的に接続されてもよく、前記第4接続電極は、前記第1乃至第3発光スタックの第1導電型半導体層に共通して電気的に接続されてもよい。
前記発光素子は、それぞれ前記第1乃至第3発光スタックの第2導電型半導体層に接触する第1乃至第3下部コンタクト電極と、前記第1乃至第3下部コンタクト電極を部分的に露出させる第1乃至第3コンタクトホールを有する第1絶縁層と、を含んでもよく、前記第1絶縁層は、前記第1乃至第3発光スタックの第1導電型半導体層上に配置された各サブコンタクトホールを有してもよく、前記各サブコンタクトホールは互いに離隔してもよい。
さらに、前記第1乃至第3コンタクトホールと重畳する第1乃至第3パッド、及び前記各サブコンタクトホールと重畳する第4パッドを含んでもよく、前記第1乃至第4接続電極は、それぞれ前記第1乃至第4パッドに電気的に接続されてもよい。
本開示の他の実施形態に係るディスプレイ装置は、ディスプレイ基板と、前記ディスプレイ基板上に配置された複数の発光素子と、前記各発光素子の間に配置され、前記各発光素子から放出された光を遮断する黒色モールディング層と、前記各発光素子を少なくとも部分的に覆い、前記各発光素子から放出された光を透過させる透明層と、を含み、前記発光素子は、第1LEDサブユニットと、前記第1LEDサブユニット上に配置された第2LEDサブユニットと、前記第2LEDサブユニット上に配置された第3LEDサブユニットと、を含み、前記第3LEDサブユニットは、前記第1LEDサブユニットよりも前記発光素子の上面の近くに配置される。
前記黒色モールディング層の上面は、前記各発光素子の上面と同一の高さ又はそれより下側に位置してもよい。
以下、図面を参照して本開示の各実施形態に対して具体的に説明する。以下で、発光スタック構造体、発光素子、又は発光パッケージは、マイクロ-LEDを含んでもよく、これは、当技術分野に知られているように、発光面積が10000μm2以下である。他の実施形態において、マイクロ-LEDは、4000μm2以下、さらに2500μm2以下の発光面積を有してもよい。
図1aは、本開示の一実施形態に係る発光素子を説明するための概略的な斜視図で、図1bは、図1aの発光素子の概略的な平面図で、図1c及び図1dは、それぞれ図1bのA-A’線及びB-B’線に沿って切り取った概略的な断面図である。
図1a及び図1bを参照すると、発光素子100は、発光スタック構造体と、前記発光スタック構造体上に形成された第1接続電極20ce、第2接続電極30ce、第3接続電極40ce、及び第4接続電極50ceと、前記各接続電極20ce、30ce、40ce、50ceを取り囲む保護層90とを含む。基板11上に各発光素子100のアレイが形成されてもよく、図1aに例示的に示した発光素子100は、前記アレイから単一化されたものを示し、よって、発光素子と称することができる。各発光素子100の形成及び単一化に対しては後で詳細に説明する。いくつかの実施形態において、発光スタック構造体を含む発光素子100は、発光パッケージに形成されるように追加的に処理されてもよく、これに対しても後で詳細に説明する。
図1a乃至図1dを参照すると、例示した実施形態に係る発光素子100は、発光スタック構造体を含み、基板上に配置された第1LEDサブユニット、第2LEDサブユニット及び第3LEDサブユニットを含んでもよい。第1LEDサブユニットは第1発光スタック20を含んでもよく、第2LEDサブユニットは第2発光スタック30を含んでもよく、第3LEDサブユニットは第3発光スタック40を含んでもよい。前記発光スタック構造体は、3個の発光スタック20、30、40を示すが、本開示が特定の個数の発光スタックに制限されるのではない。例えば、いくつかの実施形態において、発光スタック構造体は、2個又はさらに多い数の発光スタックを含んでもよい。ここでは、発光素子100が一実施形態によって3個の発光スタック20、30、40を含む発光スタック構造体に対して説明する。
基板11は、光を透過させるために光透過絶縁性物質を含んでもよい。しかし、いくつかの実施形態において、基板11は、特定波長の光のみを透過させたり、特定波長の光の一部のみを透過させるように半透明に形成されてもよく、又は部分的に透明に形成されてもよい。基板11は、第3発光スタック40をエピタキシャル成長できる成長基板、例えば、サファイア基板であってもよい。但し、基板11は、サファイア基板に限定されるものではなく、他の多様な透明絶縁物質を含んでもよい。例えば、基板11は、ガラス、石英、シリコン、有機ポリマー、又は有機-無機複合材料を含んでもよく、例えば、炭化シリコン(SiC)、窒化ガリウム(GaN)、窒化インジウムガリウム(InGaN)、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)、窒化アルミニウム(AlN)、酸化ガリウム(Ga2O3)、又はシリコン基板であってもよい。また、基板11は、上面に凹凸を含んでもよく、例えば、パターニングされたサファイア基板であってもよい。上面に凹凸を含むことによって、基板11に接した第3発光スタック40で生成された光の取り出し効率を増加させることができる。基板11の凹凸は、第1発光スタック20及び第2発光スタック30に比べて第3発光スタック40の光度を選択的に増加させるために採用され得る。一方、他に実施形態において、基板11は除去されてもよい。
第1、第2及び第3発光スタック20、30、40は、基板11に向かって光を放出するように構成される。よって、第1発光スタック20から放出された光は、第2及び第3発光スタック30、40を通過することができる。一実施形態によると、第1、第2及び第3発光スタック20、30、40は、互いに異なるピーク波長の光を放出することができる。一実施形態において、基板11から遠く離れた発光スタックが、基板11に近い発光スタックに比べてさらに長波長の光を放出することによって光損失を減少させることができる。例えば、第1発光スタック20は赤色光を放出し、第2発光スタック30は緑色光を放出し、第3発光スタック40は青色光を放出することができる。
他の実施形態において、第1、第2及び第3発光スタック20、30、40の色混合比率を調節するために、第2発光スタック30が第3発光スタック40より短波長の光を放出することができる。これによって、第2発光スタック30の光度を減少させ、第3発光スタック40の光度を増加させることができ、その結果、第1、第2及び第3発光スタックから放出される光の光度比率を劇的に変更することができる。例えば、第1発光スタック20は赤色光を放出し、第2発光スタック30は青色光を放出し、第3発光スタック40は緑色光を放出するように構成されてもよい。これによって、青色光の光度を相対的に減少させ、緑色光の光度を相対的に増加させることができ、その結果、赤色、緑色及び青色の光度比率を3:6:1に近づくように容易に調節することができる。さらに、第1、第2及び第3発光スタック20、30、40の発光面積は、約10000μm2以下であってもよく、さらに4000μm2、さらには2500μm2以下であってもよい。また、基板11に近いほど発光面積がさらに大きくなり、緑色光を放出する第3発光スタック40を基板11の最も近くに配置することによって緑色光の光度をさらに増加させることができる。
以下では、第2発光スタック30が第3発光スタック40より短波長の光、例えば、青色光を放出することを例として説明するが、第2発光スタック30が第3発光スタック40より長波長の光、例えば、緑色光を放出できることに留意しなければならない。
第1発光スタック20は、第1導電型半導体層21、活性層23及び第2導電型半導体層25を含む。一実施形態によると、第1発光スタック20は、例えば、AlGaAs、GaAsP、AlGaInP、及びGaPなどの赤色光を放出する半導体物質を含んでもよいが、これに限定されるのではない。
第1上部コンタクト電極21nは、第1導電型半導体層21上に配置され、第1導電型半導体層21とのオーミック接触を形成することができる。第1下部コンタクト電極25pは、第2導電型半導体層25の下側に配置されてもよい。一実施形態によると、第1導電型半導体層21の一部はパターニングされてリセスされてもよく、第1上部コンタクト電極21nは、オーミック接触レベルを増加させるために第1導電型半導体層21のリセスされた領域に配置されてもよい。第1上部コンタクト電極21nは、単一層構造又は多重層構造を有してもよく、Al、Ti、Cr、Ni、Au、Ag、Sn、W、Cu、又はこれらの合金、例えば、Au-Te合金又はAu-Ge合金を含んでもよいが、これに限定されるのではない。一実施形態において、第1上部コンタクト電極21nは、約100nmの厚さを有してもよく、基板11に向かって下側方向への光放出効率を増加させるために高反射率を有する金属を含んでもよい。
第2発光スタック30は、第1導電型半導体層31、活性層33、及び第2導電型半導体層35を含む。一実施形態によると、第2発光スタック30は、GaN、InGaN、ZnSeなどの青色光を放出する半導体物質を含んでもよいが、これに制限されない。第2下部コンタクト電極35pは、第2発光スタック30の第2導電型半導体層35の下側に配置される。
第3発光スタック40は、第1導電型半導体層41、活性層43及び第2導電型半導体層45を含む。一実施形態によると、第3発光スタック40は、GaN、InGaN、GaP、AlGaInP、AlGaPなどの緑色光を放出する半導体物質を含んでもよい。第3下部コンタクト電極45pは、第3発光スタック40の第2導電型半導体層45上に配置される。
一実施形態によると、第1、第2及び第3発光スタック20、30、40の第1導電型半導体層21、31、41及び第2導電型半導体層25、35、45のそれぞれは、単一層構造又は多重層構造を有してもよく、いくつかの実施形態において、超格子層を含んでもよい。さらに、第1、第2及び第3発光スタック20、30、40の各活性層23、33、43は、単一量子井戸構造又は多重量子井戸構造を有してもよい。
第1、第2及び第3下部コンタクト電極25p、35p、45pのそれぞれは、光を透過させる透明導電物質を含んでもよい。例えば、各下部コンタクト電極25p、35p、45pは、透明導電性酸化物(TCO)、例えば、SnO、InO2、ZnO、ITO、ITZOなどを含んでもよく、これに限定されるのではない。
第1接着層61は、第1発光スタック20と第2発光スタック30との間に配置され、第2接着層63は、第2発光スタック30と第3発光スタック40との間に配置される。第1及び第2接着層61、63は、光を透過させる非導電性物質を含んでもよい。例えば、第1及び第2接着層61、63は、光学的に透明な接着剤(OCA)を含んでもよく、これは、エポキシ、ポリイミド、SU8、スピン-オン-ガラス(SOG)、及びベンゾシクロブテン(BCB)を含んでもよいが、これに制限されない。
例示した実施形態によると、第1絶縁層81及び第2絶縁層83は、第1、第2及び第3発光スタック20、30、40の各側面の少なくとも一部の上に配置される。第1及び第2絶縁層81、83のうち少なくとも一つは、多様な有機又は無機絶縁物質、例えば、ポリイミド、SiO2、SiNx、Al2O3などを含んでもよい。例えば、第1及び第2絶縁層81、83の少なくとも一つは、分布ブラッグ反射器(DBR)を含んでもよい。他の例として、第1及び第2絶縁層81、83のうち少なくとも一つは、黒色有機ポリマーを含んでもよい。いくつかの実施形態において、電気的にフローティングされた金属反射層が第1及び第2絶縁層81、83上に配置され、各発光スタック20、30、40から放出された光を基板11側に反射させることができる。いくつかの実施形態において、第1及び第2絶縁層81、83のうち少なくとも一つは、単一層構造を有してもよく、又は、互いに異なる屈折率を有する二つ以上の絶縁層で形成された多重層構造を有してもよい。
一実施形態によると、第1、第2及び第3発光スタック20、30及び40のそれぞれは独立的に駆動し得る。より具体的には、それぞれの発光スタックの第1及び第2導電型半導体層のうち一つに共通電圧が印加されてもよく、それぞれの発光スタックの第1及び第2導電型半導体層のうち他の一つに個別発光信号が印加されてもよい。例えば、本開示の一実施形態によると、各発光スタックの第1導電型半導体層21、31、41はn型であってもよく、第2導電型半導体層25、35、45はp型であってもよい。この場合、第3発光スタック40は、第1発光スタック20及び第2発光スタック30の反対に積層されたシーケンスを有してもよく、その結果、p型半導体層45が活性層43の上部に配置され、製造工程が単純化され得る。以下、図示した実施形態により、第1導電型及び第2導電型半導体層をそれぞれn型及びp型に変えて表現することができる。さらに、n型とp型は互いに取り替えられてもよい。
各発光スタックのp型半導体層25、35、45にそれぞれ接続された第1、第2及び第3下部コンタクト電極25p、35p、45pは、それぞれ第1乃至第3接続電極20ce、30ce、40ceに電気的に接続され、それぞれ対応する発光信号を受信することができる。一方、各発光スタックのn型半導体層21、31、41は、第4接続電極50ceに共通して電気的に接続されてもよい。これによって、発光素子100は、第1、第2及び第3発光スタック20、30、40の各n型半導体層21、31、41が共通して接続された共通n型発光スタック構造体を有してもよく、互いに独立的に駆動してもよい。共通n型発光スタック構造体を有するので、第1、第2及び第3発光スタック20、30、40に印加される電圧のソースを互いに異ならせることができる。
図示した実施形態に係る発光素子100は共通n型構造を有するが、本開示がこれに限定されるのではない。例えば、一部の例示的な実施形態において、それぞれの発光スタックの第1導電型半導体層21、31、41はp型であってもよく、それぞれの発光スタックの第2導電型半導体層25、35、45はn型であってもよく、その結果、共通p型発光スタック構造を形成することができる。また、一部の実施形態において、各発光スタックの積層シーケンスは、図面に示したものに制限されなく、多様に変形可能である。以下、本開示の一実施形態に係る発光素子100に対して共通n型発光スタック構造を参照して説明する。
図示した実施形態によると、発光素子100は、第1パッド20pd、第2パッド30pd、第3パッド40pd及び第4パッド50pdを含む。第1パッド20pdは、第1絶縁層81を通じて定義された第1コンタクトホール20CHを介して第1下部コンタクト電極25pに電気的に接続される。第1接続電極20ceは、第2絶縁層83を通じて定義された第1貫通孔20ctを介して第1パッド20pdに電気的に接続される。第2パッド30pdは、第1絶縁層81を通じて定義された第2コンタクトホール30CHを介して第2下部コンタクト電極35pに電気的に接続される。第2接続電極30ceは、第2絶縁層83を通じて定義された第2貫通孔30ctを介して第2パッド30pdに電気的に接続される。
第3パッド40pdは、第1絶縁層81を貫通して画定された第3コンタクトホール40CHを介して第3下部コンタクト電極45pに電気的に接続される。第3接続電極40ceは、第2絶縁層83を貫通して画定された第3貫通孔40ctを介して第3パッド40pdに電気的に接続される。第4パッド50pdは、第1、第2及び第3発光スタック20、30、40の第1導電型半導体層21、31、41上に定義された第1サブコンタクトホール50CHa、第2サブコンタクトホール50CHb、及び第3サブコンタクトホール50CHcを介して第1、第2及び第3発光スタック20、30、40の第1導電型半導体層21、31、41に接続される。特に、第1サブコンタクトホール50CHaは、第1上部コンタクト電極21nを露出させることができ、第4パッド50pdは、第1サブコンタクトホール50CHaを介して第1上部コンタクト電極21nに接続されてもよい。このような方式で、第4パッド50pdは、各サブコンタクトホール50CHa、50CHb、50CHcを介して第1導電型半導体層21、31、41に電気的に接続され得るので、発光素子100の製造工程が単純化され得る。第4接続電極50ceは、第2絶縁層83を通じて定義された第4貫通孔50ctを介して第4パッド50pdに電気的に接続される。
本実施形態において、各接続電極20ce、30ce、40ce、50ceがそれぞれ各パッド20pd、30pd、40pd、50pdに直接接触することを図示及び説明するが、各接続電極20ce、30ce、40ce、50ceが各パッド20pd、30pd、40pd、50pdに直接接続されなく、他のコネクターがこれらの間に介在してもよい。
第1、第2、第3及び第4パッド20pd、30pd、40pd、50pdは、互いに離隔して絶縁されている。一実施形態によると、第1、第2、第3及び第4パッド20pd、30pd、40pd、50pdのそれぞれは、第1、第2及び第3発光スタック20、30、40の側面の少なくとも一部を覆うことができる。これを通じて、第1、第2及び第3発光スタック20、30及び40から発生した熱を容易に発散させることができる。
図示した実施形態によると、各接続電極20ce、30ce、40ce及び50ceは、基板11から上向きに突出した実質的に長い形状を有してもよい。接続電極20ce、30ce、40ce及び50ceは、Cu、Ni、Ti、Sb、Zn、Mo、Co、Sn、Ag又はこれらの合金などの金属を含んでもよいが、これに制限されない。例えば、各接続電極20ce、30ce、40ce、50ceのそれぞれは、各接続電極20ce、30ce、40ce、及び50ceの長い形状からの応力を減少させるために、二つ以上の金属又は複数の異なる金属層を含んでもよい。他の実施形態において、接続電極20ce、30ce、40ce及び50ceがCuを含む場合、Cuの酸化を抑制するために追加的な金属が蒸着又はめっきされてもよい。一部の実施形態において、接続電極20ce、30ce、40ce及び50ceがCu/Ni/Snを含む場合、Cuは、Snが発光スタック構造に浸透することを防止することができる。一部の実施形態において、接続電極20ce、30ce、40ce、50ceは、めっき過程で金属層を形成するためのシード層を含んでもよく、これに対しては後で説明する。
図面に示したように、それぞれの接続電極20ce、30ce、40ce及び50ceは実質的に平坦な上部表面を有し得るので、後述する外部ライン又は電極と発光スタック構造体との間の電気的接続を容易に行うことができる。本開示の一実施形態によると、発光素子100の表面積が、当業界で知られているように、約10,000μm2未満、又は他の実施形態において約4,000μm2又は2,500μm2未満であるマイクロLEDを含む場合、接続電極20ce、30ce、40ce、50ceは、図面に示したように、第1、第2及び第3発光スタック20、30、40のうち少なくとも一つの一部と重畳してもよい。より具体的には、各接続電極20ce、30ce、40ce及び50ceは、発光スタック構造体の側面に形成された少なくとも一つのステップと重畳してもよい。このように、接続電極の下面の面積が上面の面積より大きいので、接続電極20ce、30ce、40ce、50ceと発光スタック構造との間にさらに大きい接触面積が形成され得る。これによって、発光スタック構造体上に接続電極20ce、30ce、40ce、50ceがより安定的に形成され得る。例えば、接続電極20ce、30ce、40ce、50ceの外部に向かう一側面の長さL1、L2、L3及びL4は、発光素子100の中心に向かう一側面の長さL1’、L2’、L3’、L4’と異なってもよい。より具体的には、外部に向かう接続電極の一側面の長さは、発光素子100の中心に向かう他の側面の長さより長くてもよい。例えば、二つの対向表面の長さLと長さL’との差は、発光スタック20、30及び40のうち一つの厚さ(又は高さ)より大きくてもよい。このような方式で、発光素子100の構造は、接続電極20ce、30ce、40ce及び50ceと発光スタック構造体との間にさらに大きい接触面積で強化され得る。また、接続電極20ce、30ce、40ce、50ceは、発光スタック構造体の側面に形成された少なくとも一つのステップと重畳し得るので、発光スタック構造体で発生した熱が外部にさらに効率的に発散され得る。
例示的な実施形態によると、外部に向かう接続電極の一側面の長さL1、L2、L3又はL4と発光素子100の中心に向かう他の側面の長さL1’、L2’、L3’及びL4’との差は約3μmであってもよい。この場合、発光スタック構造体は薄く形成されてもよい。特に、第1発光スタック20は約1μmの厚さを有してもよく、第2発光スタック30は約0.7μmの厚さを有してもよく、第3発光スタック40は約0.7μmの厚さを有してもよく、第1及び第2接着層はそれぞれ約0.2μm乃至約0.3μmの厚さを有してもよいが、これに制限されない。他の実施形態によると、接続電極の外部に向かう一側面の長さL1、L2、L3又はL4と発光素子100の中心に向かう他の側面の長さL1’、L2’、L3’、L4’との差は約10μm乃至16μmであってもよい。この場合、発光スタック構造は、相対的に厚く、より安定的な構造を有するように形成され得る。特に、第1発光スタック20は約4μm乃至約5μmの厚さを有してもよく、第2発光スタック30は約3μmの厚さを有してもよく、第3発光スタック40は約3μmの厚さを有してもよく、第1及び第2接着層の厚さはそれぞれ約3μmであってもよいが、これに限定されるのではない。更に他の例示的な実施形態によると、接続電極の外部に向かう一側面の長さL1、L2、L3又はL4と発光素子100の中心に向かう他の側面の長さL1’、L2’、L3’及びL4’との差は、最長側面の長さの約25%であってもよい。しかし、本開示の概念は、接続電極の対向表面の間の長さの特定差に制限されなく、接続電極の対向表面の間の長さの差は変更されてもよい。
一部の例示的な実施形態において、各接続電極20ce、30ce、40ce及び50ceのうち少なくとも一つは、各発光スタック20、30及び40のそれぞれの側面と重畳してもよく、その結果、発光スタック20、30、40は、内部で発生した熱を外部に効率的に発散させる。また、接続電極20ce、30ce、40ce、50ceが金属などの反射性物質を含む場合、接続電極20ce、30ce、40ce、50ceは、少なくとも一つの発光スタック20、30、40から放出された光を反射させることができ、その結果、光効率を改善することができる。
一般に、製造する間、複数の発光素子のアレイが基板上に形成される。基板は、スクライブラインに沿って切断され、それぞれの発光素子を個別化(分離)し、発光素子は、パッケージングなどの発光素子の追加処理のために多様な移送技術を用いて他の基板又はテープに移送され得る。この場合、発光素子が発光構造から外側に突出した金属バンプ又は柱などの接続電極を含む場合、前記各接続電極を外部に露出させる発光素子の構造に起因して、後続の工程の間、例えば、転写段階で多様な問題が発生し得る。また、発光素子が適用分野によって約10,000μm2未満、約4,000μm2未満又は約2,500μm2未満の表面積を有するマイクロ-LEDを含む場合、発光素子の取り扱いは、小さいフォームファクターによってさらに難しくなり得る。
例えば、接続電極が棒のような実質的に長い形状を有する場合、従来の真空方法を用いて発光素子を転写することは、発光素子が接続電極の突出構造によって十分な吸入面積を有し得ないこともあるので難しくなる。また、露出した接続電極は、接続電極が製造装置と接触するときのような後続の工程の間、多様な応力によって直接影響を受ける場合があり、これは、発光素子の構造を損傷させ得る。他の例として、発光素子の上部表面(例えば、基板と対向する表面)上に接着テープを付着させることによって発光素子が転写されるとき、発光素子と接着テープとの間の接触面積が接続電極の上部表面に制限され得る。この場合、接着テープが発光素子(例えば、基板)の下部表面に付着するときとは反対に、発光素子の接着テープに対する接着力が弱くなるおそれがあり、転写する間、発光素子が接着テープから好ましくない形で分離され得る。他の例として、従来のピックアンドプレース(pick-and-place)方法を用いて発光素子を転写するとき、接続ピンの間に配置された発光素子の一部に吐出ピンが直接接触し、発光構造物の上部構造が損傷し得る。特に、吐出ピンは、発光素子の中心にぶつかるおそれがあり、発光素子の上部発光スタックに物理的損傷を引き起こし得る。
本開示の一実施形態によると、前記保護層90は、前記発光スタック構造体上に形成されてもよい。より具体的に、図1aに示したように、保護層90は、接続電極20ce、30ce、40ce、50ceの間に形成され、発光スタック構造体の少なくとも側面を覆うことができる。図示した実施形態によると、保護層90は、基板11、第1及び第2絶縁層81、83及び第3発光スタック40の側面を露出させることができる。保護層90は、接続電極20ce、30ce、40ce及び50ceの上面と実質的に並んで形成されてもよく、エポキシモールディングコンパウンド(EMC)を含んでもよい。これは、黒色、白色又は透明のように多様な色相で形成され得るが、本開示がこれに限定されるのではない。例えば、一部の実施形態において、保護層90は、ポリイミド(PID)を含んでもよく、この場合、PIDは、発光スタック構造体に適用されるとき、平坦度を増加させるために液体型でないドライフィルムとして提供されてもよい。一部の実施形態において、保護層90は、感光性を有する物質を含んでもよい。このような方式で、保護層90は、後続の工程の間に印加され得る外部衝撃から発光構造体を保護するだけでなく、後続の転写段階の間の取り扱いを容易に行えるように発光素子100に十分な接触面積を提供することができる。また、保護層90は、発光素子100の側面への光漏れを防止し、隣接した発光素子100から放出される光の干渉を防止したり、少なくとも抑制することができる。
図2は、本開示の一実施形態に係る発光スタック構造体の概略的な断面図である。図示した実施形態に係る発光スタック構造体は、上述した発光素子100に含まれたものと実質的に同一であるので、重複を避けるために、実質的に同一の発光スタック構造体を形成する構成に対する説明は省略する。
図2を参照すると、本開示の一実施形態に係る第1、第2及び第3下部コンタクト電極25p、35p、45pは、それぞれ個別ラインSR、SG、SBに接続されてもよい。第1、第2及び第3発光スタック20、30、40の第1導電型半導体層21、31、41は、共通ラインScに接続されてもよい。共通ラインScは、第1上部コンタクト電極21nを介して第1発光スタック20の第1導電型半導体層21に接続されてもよい。
本開示の一実施形態は、n共通構造を採択することによって、第1乃至第3発光スタック20、30、40に互いに異なる電圧を印加することができる。例えば、赤色光を放出する第1発光スタック20は、青色光及び緑色光を放出する第2及び第3発光スタック30、40に比べて相対的に低い電圧を印加することができる。したがって、各発光スタックに適した電圧源を個別的に使用することができ、電力損失を減少させることができる。図示した例示的な実施形態において、個別ラインSR、SG、SB及び共通ラインScを用いることによって、第1、第2及び第3発光スタック20、30、40は、選択的に光を放出するように個別的に制御され得る。
図2は、n共通構造を有する発光スタック構造体を示すが、本開示がこれに限定されるのではない。例えば、一部の例示的な実施形態において、共通ラインScは、第1、第2及び第3発光スタック20、30、40の各下部コンタクト電極25p、35p、45pに電気的に接続され、個別ラインSR、SG、SBは、それぞれ第1乃至第3発光スタック20、30、40の第1導電型半導体層21、31、41に接続されてもよい。
本開示の一実施形態に係る発光スタック構造体は、各発光スタック20、30、40の動作状態によって多様な色相の光を表示できる一方、従来の発光素子は、単一色相の光を放出する多数の発光セルの組み合わせで多様な色相を表示することができる。より具体的に、従来の発光素子は、一般に、フルカラーディスプレイを実現するために2次元平面に沿って互いに離隔した異なる色の光、例えば、赤色、緑色及び青色をそれぞれ放出する発光セルを含む。このように、従来の発光セルによって比較的大きな面積が占有され得る。しかし、本開示の一実施形態に係る発光スタック構造体は、複数の発光スタック20、30、40を積層することによって互いに異なる色相の光を放出することができ、従来の発光装置より小さい面積を通じて高い水準の集積を提供し、フルカラーを実現することができる。
また、各発光素子100が表示装置を製造するために他の基板に実装される場合、例えば、実装される各素子の個数が従来の発光素子に比べて大きく減少し得る。このように、特に、一つのディスプレイ装置に数十万個又は数百万個のピクセルが形成されるとき、発光素子100を使用するディスプレイ装置の製造が実質的に単純化され得る。
例示的な実施形態によると、発光スタック構造体は、それから放出される光の純度及び効率を改善させるために多様な追加の構成要素をさらに含んでもよい。例えば、一部の例示的な実施形態において、各発光スタックの間に波長通過フィルターが配置されてもよい。一部の実施形態において、各発光スタックの間の光の明るさの均衡を合わせるために、少なくとも一つの発光スタックの発光表面上に凹凸部が形成されてもよい。例えば、RGBの光度混合比を3:6:1に近づけるために緑色光の光度を増加させる必要があり、このために、基板11の表面に凹凸を形成することができる。
以下、本開示の一実施形態に係る発光素子100の形成方法を図面を参照して説明する。
図3a、図4a、図5a、図6a、図7a及び図8aは、例示的な実施形態に係る図1aの発光素子を製造する過程を示す平面図である。図3b、図4b、図5b、図6b、図7b及び図8bは、例示的な実施形態に係る図3a、図4a、図5a、図6a、図7a及び図8aに示した対応平面図のA-A’線に沿った断面図である。図3c、図4c、図5c、図6c、図7c及び図8cは、例示的な実施形態に係る図3a、図4a、図5a、図6a、図7a及び図8aに示した対応平面図のB-B’線に沿った断面図である。図9、図10、図11、図12及び図13は、例示的な実施形態に係る図1aの発光素子の製造工程を概略的に示した断面図である。
再び図2を参照すると、第3発光スタック40の第1導電型半導体層41、第3活性層43及び第2導電型半導体層45は、例えば、金属有機化学気相蒸着(MOCVD)方法又は分子線エピタキシー(MBE)方法によって基板11上に順次成長され得る。第3下部コンタクト電極45pは、例えば、物理気相蒸着法又は化学気相蒸着法によって第3p型半導体層45上に形成されてもよく、SnO、InO2、ZnO、ITO、ITZOなどの透明伝導性酸化物(TCO)を含んでもよい。本開示の一実施形態に係る第3発光スタック40が緑色を発光する場合、基板11は、Al2O3(例:サファイア基板)を含み、第3下部コンタクト電極45pは、酸化スズなどの透明伝導性酸化物(TCO)を含んでもよい。第1及び第2発光スタック20、30は、臨時基板上にそれぞれ第1導電型半導体層、活性層及び第2導電型半導体層を順次成長させることによって類似する形に形成され得る。透明導電性酸化物(TCO)を含む下部コンタクト電極は、例えば、物理気相蒸着法又は化学気相蒸着法などによって第2導電型半導体層上にそれぞれ形成されてもよい。そして、第1及び第2発光スタック20、30は、第1接着層61を挟んで互いに結合され、第1及び第2発光スタック20、30の各臨時基板のうち少なくとも一つをレーザーリフトオフ工程、化学工程、機械的工程などによって除去することができる。そして、第1及び第2発光スタック20、30は、第2接着層63を挟んで第3発光スタック40と結合することができ、第1及び第2発光スタック20、30の残りの臨時基板がレーザーリフトオフ工程、化学工程、機械的工程などによって除去されてもよい。
図3a、図3b及び図3cを参照すると、第1、第2及び第3発光スタック20、30、40のそれぞれの多様な部分は、エッチング工程などを通じてパターニングされ、第1導電型半導体層21、第1下部コンタクト電極25p、第1導電型半導体層31、第2下部コンタクト電極35p、第3下部コンタクト電極45p、及び第1導電型半導体層41の各部分を露出させることができる。図示した実施形態によると、第1発光スタック20は、各発光スタック20、30、40のうち最も小さい面積を有する。一方、第3発光スタック40は、各発光スタック20、30、40のうち最も大きい面積を有することができ、その結果、第3発光スタック40の光度を相対的に増加させることができる。しかし、本開示の概念が発光スタック20、30及び40の相対的な大きさに特に制限されるのではない。
図4a、図4b及び図4cを参照すると、第1発光スタック20の第1導電型半導体層21の上面の一部は、第1上部コンタクト電極21nを形成するために湿式エッチングを通じてパターニングされてもよい。上述したように、第1上部コンタクト電極21nは、第1導電型半導体層21のリセスされた領域に約100nmの厚さで形成され、例えば、それらの間のオーミック接触を向上させることができる。
図5a、図5b及び図5cを参照すると、第1絶縁層81は、発光スタック20、30、40を覆うように形成されてもよく、第1絶縁層81の一部は、第1、第2、第3及び第4コンタクトホール20CH、30CH、40CH及び50CHを形成するために除去されてもよい。第1コンタクトホール20CHは、第1下部コンタクト電極25p上に定義され、第1下部コンタクト電極25pの一部を露出させる。第2コンタクトホール30CHは、第2下部コンタクト電極35p上に画定され、第2下部コンタクト電極35pの一部を露出させることができる。第3コンタクトホール40CHは、第3下部コンタクト電極45p上に画定され、第3下部コンタクト電極45pの一部を露出させることができる。
第4コンタクトホール50CHは、第1乃至第3発光スタック20、30、40の第1導電型半導体層21、31、41への電気的接続を許容するための通路を提供する。第4コンタクトホール50CHは、第1サブコンタクトホール50CHa、第2サブコンタクトホール50CHb及び第3サブコンタクトホール50CHcを含んでもよい。第1サブコンタクトホール50CHaは、第1導電型半導体層21上に画定され、第1上部コンタクト電極21nの一部を露出させることができ、第2サブコンタクトホール50CHbは、第1導電型半導体層31上に画定され、第1導電型半導体層31の一部を露出させることができ、第3サブコンタクトホール50CHcは、第1導電型半導体層41上に画定され、第1導電型半導体層41の一部を露出させることができる。
図6a、図6b及び図6cを参照すると、第1、第2、第3及び第4パッド20pd、30pd、40pd及び50pdは、第1、第2、第3及び第4コンタクトホール20CH、30CH、40CH、50CHを有するように形成された第1絶縁層81上に形成される。第1、第2、第3及び第4パッド20pd、30pd、40pd及び50pdは、例えば、実質的に基板11の全面上に導電層を形成し、フォトリソグラフィ工程を用いて導電層をパターニングすることによって形成され得る。
第1パッド20pdは、第1コンタクトホール20CHが形成された領域と重畳するように形成され、第1コンタクトホール20CHを介して第1下部コンタクト電極25pに接続されてもよい。第2パッド30pdは、第2コンタクトホール30CHが形成された領域と重畳するように形成され、第2コンタクトホール30CHを介して第2下部コンタクト電極35pに接続されてもよい。第3パッド40pdは、第3コンタクトホール40CHが形成された領域と重畳するように形成され、第3コンタクトホール40CHを介して第3下部コンタクト電極45pに接続されてもよい。第4パッド50pdは、第4コンタクトホール50CHが形成された領域、特に、第1、第2及び第3サブコンタクトホール50CHa、50CHb、50CHcが形成された領域と重畳するように形成され、第1乃至第3発光スタック20、30、40の第1導電型半導体層21、31、41に電気的に接続されてもよい。
図7a、図7b及び図7cを参照すると、第2絶縁層83は、第1絶縁層81上に形成されてもよい。第2絶縁層83は、シリコン酸化物及び/又はシリコン窒化物を含んでもよい。しかし、本開示がこれに限定されるのではなく、一部の実施形態において、第1及び第2絶縁層81、83は無機物質を含んでもよい。続いて、第2絶縁層83はパターニングされ、第1乃至第4パッド20pd、30pd、40pd、50pdを露出させる第1、第2、第3及び第4貫通孔20ct、30ct、40ct及び50ctが形成されてもよい。
第1パッド20pd上に形成された第1貫通孔20ctは、第1パッド20pdの一部を露出させる。第2パッド30pd上に形成された第2貫通孔30ctは、第2パッド30pdの一部を露出させる。第3パッド40pd上に形成された第3貫通孔40ctは、第3パッド40pdの一部を露出させる。第4パッド50pd上に形成された第4貫通孔50ctは、第4パッド50pdの一部を露出させる。図示した例示的な実施形態において、第1、第2、第3及び第4貫通孔20ct、30ct、40ct及び50ctは、第1、第2、第3及び第4パッド20pd、30pd、40pd及び50pdが形成された領域内でそれぞれ定義され得る。
図8a、図8b及び図8cを参照すると、第1、第2、第3及び第4貫通孔20ct、30ct、40ct、50ctが形成された第2絶縁層83上に第1、第2、第3及び第4接続電極20ce、30ce、40ce、50ceが形成される。第1接続電極20ceは、第1貫通孔20ctが形成された領域と重畳するように形成され、第1貫通孔20ctを介して第1パッド20pdに接続されてもよい。第2接続電極30ceは、第2貫通孔30ctが形成された領域と重畳するように形成され、第2貫通孔30ctを介して第2パッド30pdに接続されてもよい。第3接続電極40ceは、第3貫通孔40ctが形成された領域と重畳するように形成され、第3貫通孔40ctを介して第3パッド40pdに接続されてもよい。第4接続電極50ceは、第4貫通孔50ctが形成された領域と重畳するように形成され、第4貫通孔50ctを介して第4パッド50pdに接続されてもよい。
第1、第2、第3及び第4接続電極20ce、30ce、40ce、50ceは、互いに離隔して発光スタック構造体上に形成されてもよい。第1、第2、第3及び第4接続電極20ce、30ce、40ce、50ceは、第1、第2、第3及び第4パッド20pd、30pd、40pd、50pdにそれぞれ電気的に接続され、外部信号を各発光スタック20、30、40に伝送することができる。
第1、第2、第3及び第4接続電極20ce、30ce、40ce及び50ceを形成する方法は特に制限されない。例えば、本開示の一実施形態によると、発光スタック構造体上にシード層が伝導性表面として蒸着され、接続電極が形成される位置にシード層が露出するようにフォトレジストパターンが形成されてもよい。一実施形態によると、前記シード層は、約1000Å程度の厚さで蒸着されてもよいが、これに限定されるのではない。続いて、シード層は、Cu、Ni、Ti、Sb、Zn、Mo、Co、Sn、Agなどの金属又はこれらの合金でめっきされてもよく、各接続電極の間に残留するフォトレジストパターン及びシード層は除去されてもよい。一部の例示的な実施形態において、めっき金属の酸化を防止したり、少なくとも抑制するために、追加金属がめっき金属(例えば、各接続電極)上に無電解ニッケル浸漬ゴールド(electroless nickel immersion gold;ENIG)などによって蒸着又はめっきされてもよい。一部の実施形態において、シード層は、それぞれの接続電極に残っていてもよい。
図示した例示的な実施形態によると、それぞれの接続電極20ce、30ce、40ce及び50ceは、基板11から遠ざかるように実質的に長い形状を有してもよい。他の例示的な実施形態において、接続電極20ce、30ce、40ceは、接続電極20ce、30ce、40ce、50ceの長い形状から応力を減少させるために2個以上の金属又は複数の異なる金属層を含んでもよい。しかし、本開示は、接続電極20ce、30ce、40ce、50ceの特定形状に限定されなく、一部の実施形態において、接続電極は多様な形状を有することができる。
図面に示したように、それぞれの接続電極20ce、30ce、40ce及び50ceは、発光スタック構造体と外部ライン又は電極との間の電気的接続を容易に行うために実質的に平坦な上部表面を有してもよい。各接続電極20ce、30ce、40ce、50ceは、発光スタック構造体の側面に形成された少なくとも一つのステップと重畳してもよい。このような方式で、接続電極の下部表面は、上部表面より大きい幅を有してもよく、接続電極20ce、30ce、40ce及び50ceと発光スタック構造体との間にさらに大きい接触面積を提供し、発光素子100が保護層90と共に多様な後続の工程に耐えられるより安定した構造を有する。この場合、外部に向かう接続電極20ce、30ce、40ce及び50ceの一側面の長さL1乃至L4と発光素子100の中心に向かう他の表面の長さL1’乃至はL4’とは互いに異なってもよい。例えば、接続電極の二つの対向面の間の長さの差は、3μm乃至16μmであってもよいが、これに限定されるのではない。
そして、接続電極20ce、30ce、40ce、50ceの間に保護層90が配置される。保護層90は、研磨工程などによって接続電極20ce、30ce、40ce、50ceの上面と実質的に並んで形成されてもよい。一実施形態によると、保護層90は、黒色エポキシモールディングコンパウンド(EMC)を含んでもよいが、これに限定されるのではない。例えば、一部の実施形態において、保護層90は、感光性を有するポリイミドドライフィルム(PID)を含んでもよい。このような方式で、保護層90は、後続の工程の間に適用され得る外部衝撃から発光構造体を保護するだけでなく、後続の転写段階の間の取り扱いを容易に行えるように発光素子100に十分な接触面積を提供することができる。また、保護層90は、発光素子100の側面への光漏れを防止し、隣接した発光素子100から放出される光の干渉を防止したり、少なくとも抑制することができる。
図9は、基板11上に配置された複数の発光素子100を例示的に示したものであって、各発光素子100を分離するために単一化工程を経る。図10を参照すると、本開示の一実施形態によると、前記発光スタック構造体の間に各レーザービームが照射され、各発光スタック構造体を部分的に分離する分離経路を形成することができる。図11を参照すると、ステルスレーザーを用いて基板11内に分離経路が追加されてもよい。ステルスレーザーは、図10のレーザー照射面と反対の方向から照射されてもよい。
図12を参照すると、基板11が第1ボンディング層95に付着した状態でそれぞれの発光素子100を単一化するために、当技術分野で公知となっている多様な方法を用いて切断又はブレークされ得る。例えば、基板11は、その上に形成されたスクライブラインを通じて基板11をダイシングして切断したり、又は、例えば、レーザー照射プロセスの間に形成された分離経路に沿って機械的な力を加えることによって基板11をブレークさせることができる。第1ボンディング層95はテープであってもよいが、後続の工程で第1ボンディング層95が発光素子100を安定的に付着させながら発光素子100を分離できる限り、本開示はこれに限定されない。第1ボンディング層95がレーザー照射段階後に基板11上に付着することを既に説明したが、一部の例示的な実施形態において、第1ボンディング層95はレーザー放射線段階前に基板11上に付着してもよい。
図13を参照すると、基板11が個別発光素子100に分離された後、第1ボンディング層95は拡張されてもよく、その結果、各発光素子100が互いに空間的に離隔し得る。
図14、図15、及び図16は、本開示の一実施形態に係る発光パッケージ製造工程を概略的に示した断面図である。本開示の一実施形態に係る発光素子100は、当技術分野で知られている多様な方法で転写及びパッケージングされ得る。以下では、キャリア基板11cを用いて基板11上に第2接着層13を付着させ、発光素子100を転写することを例示的に説明するが、本開示が特定の転写方法に限定されるのではない。
図14を参照すると、本開示の一実施形態によると、前記単一化された発光素子100は、第2接着層13を挟んでキャリア基板11c上に転写されて配置されてもよい。この場合、発光素子が発光スタック構造体から外側に突出する接続電極を含む場合、上述したように、不均一な構造により、後続の工程、特に、転写工程で多様な問題が発生し得る。また、発光素子が適用分野によって約10,000μm2未満、約4,000μm2未満又は約2,500μm2未満の表面積を有するマイクロ-LEDを含む場合、小さいフォームファクターによって発光素子の取り扱いがさらに難しくなり得る。しかし、各接続電極20ce、30ce、40ce、50ceの間に保護層90が配置された例示的な実施形態に係る発光素子100の提供は、転写及びパッケージングなどの後続の工程の間の発光素子100の取り扱いを容易にするだけでなく、外部衝撃から発光構造体を保護し、隣接した各発光素子100の間の光の干渉を防止することができる。
キャリア基板11cが発光素子100を第2接着層13に安定的に実装する限り、キャリア基板11cは特に制限されない。第2接着層13はテープであってもよいが、本開示は、第2接着層13が発光素子100をキャリア基板11cに安定的に付着させ、後続の工程の間に発光素子100を分離できる限り、これに制限されるのではない。一部の実施形態において、図13の発光素子100は、別途のキャリア基板11cに転写されなく、回路基板11pに直接転写されてもよい。
発光素子100は回路基板11p上に実装されてもよい。一実施形態によると、回路基板11pは、互いに電気的に接続された上部回路電極11pa、下部回路電極11pc及び中間回路電極11pbを含んでもよい。各上部回路電極11paは、それぞれ第1、第2、第3及び第4接続電極20ce、30ce、40ce及び50ceのそれぞれに対応してもよい。例示的な実施形態において、各上部回路電極11paはENIGによって表面処理され、高温で部分的に溶融されることによって、発光素子100の各接続電極に対する電気的接続を容易に行うことができる。
例示した実施形態によると、発光素子100は、好ましくは、ディスプレイ装置などの最終ターゲット装置に実装される回路基板11pの上部回路電極のピッチP(図16bを参照)を考慮した上で、所望のピッチでキャリア基板11c上で互いに離隔し得る。
本開示の一実施形態によると、発光素子100の第1、第2、第3及び第4接続電極20ce、30ce、40ce、50ceは、回路基板11pの上部回路電極11paに、例えば、異方性導電フィルム(ACF)接合によってそれぞれ接合されてもよい。他の接合方法より低い温度で行われ得るACF接合を通じて発光素子100が回路基板に接合されるとき、発光素子100が接合の間に高温に曝されることを防止することができる。しかし、本開示は、特定の接合方法に制限されない。例えば、一部の例示的な実施形態において、各発光素子100は、異方性伝導性ペースト(ACP)、半田、ボールグリッドアレイ(BGA)、又はCu及びSnのうち少なくとも一つを含むマイクロバンプを用いて回路基板11pに接合されてもよい。この場合、接続電極20ce、30ce、40ce、50ceの上部表面と保護層90は、研磨工程などによって互いに実質的に並んでいるので、発光素子100の異方性導電フィルムに対する接着性が増加し、回路基板11pに接合されるときにさらに安定的な構造を形成することができる。
図15aを参照すると、光遮断層91が各発光素子100の間に形成される。一実施形態によると、光遮断層91は、発光素子100から放出された光を反射又は吸収することによって光を遮断することができる。一実施形態において、光遮断層91は、光を吸収して遮断する黒色モールディング層であってもよい。光遮断層91は、特に、発光素子100の上面、すなわち、光放出面と並んでもよい。光遮断層91は、基板11の側面を覆い、基板11の上面と並んでもよい。したがって、光遮断層91は、光が基板11の側面を介して放出されることを防止することができる。光遮断層91によって光放出面が基板11の上面に制限されるので、第1乃至第3発光スタック20、30、40の光の視野角がほぼ同一になる。また、光遮断層91は、発光素子100上に形成された保護層90と共に、その構造を強化することによって発光パッケージに追加的な保護を提供する。
例示的な実施形態において、光遮断層91は、有機又は無機ポリマーを含んでもよい。一部の実施形態において、光遮断層91は、シリカ又はアルミナなどの充填剤をさらに含んでもよい。例示的な実施形態において、光遮断層91は、保護層90と同一の物質を含んでもよい。光遮断層91は、ラミネーション、めっき及び/又は印刷方法などの当技術分野で知られている多様な方法を通じて形成され得る。例えば、光遮断層91は、有機高分子シートが発光素子100上に配置され、真空で高温及び高圧が加えられる真空ラミネート工程によって形成され、発光パッケージの実質的に平らな上面を提供することによって光均一性を向上させることができる。光遮断層91は、グラインディング工程又は全面エッチング工程を通じて発光素子100の上面が露出するように部分的に除去されてもよい。
一部の実施形態において、光遮断層91が形成される前に発光素子100から基板11が除去されてもよい。この場合、光遮断層91は、第1導電型半導体層41の側面を覆い、第1導電型半導体層41の上面を露出させることができる。
図15bを参照すると、光遮断層91及び各発光素子100を覆う透明層93が形成される。透明層93は、第1乃至第3発光スタック20、30、40から放出された光を透過させる。透明層93を採択することによって、前記透明層93を通じた光ガイディング効果により、発光素子100から放出される光の視野角を増加させることができる。例えば、発光素子100から放出される光の視野角は、110度乃至120度の範囲内であってもよい。透明層93の厚さは、上記の視野角を達成するように調節され得る。
一実施形態において、透明層93は、基板11と空気との間の屈折率を有する絶縁層で形成されてもよい。これによって、基板11と空気との界面で内部全反射によって発生する光損失を減少させることができる。特に、透明層93の屈折率と空気の屈折率との差は、第1導電型半導体層41と基板11との間の屈折率の差より小さい値を有してもよい。透明層93は、例えば、SiO2、シリコン樹脂、エポキシ、ポリイミド、SU8、スピン-オン-ガラス(SOG)、ベンゾシクロブテン(BCB)などで形成されてもよい。透明層93は、単一層として形成されてもよいが、これに限定されなく、複数層として形成されてもよい。
図16a及び図16bを参照すると、回路基板11p上に配置された発光素子100は、所望の構成に切断されることによって発光パッケージ110として形成され得る。図16bは、回路基板11p上に配置された4個の発光素子100(2x2)を含む。しかし、本開示は、発光パッケージ110に形成された特定の個数の発光素子に制限されない。例えば、一部の実施形態において、発光パッケージ110は、回路基板11p上に形成された一つ以上の発光素子100を含んでもよい。また、本開示は、発光パッケージ110内の一つ以上の発光素子100の特定の配列に限定されなく、例えば、発光パッケージ110内の一つ以上の発光素子100はnxmの配列であってもよい。ここで、nとmは自然数である。一実施形態によると、回路基板11pは、発光パッケージ110に含まれたそれぞれの発光素子100を独立的に駆動するためのスキャンライン及びデータラインを含んでもよい。
図17は、本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置を説明するための概略的な断面図である。
図17を参照すると、ディスプレイ装置は、ディスプレイ基板11b及び発光パッケージ110を含んでもよい。発光パッケージ110は、ディスプレイ装置などの最終装置のディスプレイ基板11b上に実装されてもよい。ディスプレイ基板11bは、発光パッケージ110の下部回路電極11pcにそれぞれ対応するターゲット電極11sを含んでもよい。本開示の一実施形態に係るディスプレイ装置は複数のピクセルを含んでもよく、各発光素子100は各ピクセルに対応して配置されてもよい。より具体的に、本開示の一実施形態に係る発光素子100の各発光スタックは、一つのピクセルの各サブピクセルに対応してもよい。発光素子100は、垂直に積層された発光スタック20、30及び40を含むので、各サブピクセルに対して転写される素子の数は、従来の発光素子の数より実質的に減少し得る。また、接続電極の各対向面の長さが互いに異なるので、発光スタック構造体に接続電極を安定的に形成し、内部構造を強化することができる。また、一部の実施形態に係る発光素子100は、各接続電極の間に保護層90を含むので、外部衝撃から発光素子100を保護することができる。
本実施形態において、発光パッケージ110がディスプレイ基板11bに実装されることを説明するが、発光パッケージ110を製造する工程を省略し、ディスプレイ基板11b上に発光素子100を直接実装することによって光遮断層91及び透明層93を形成することもできる。
図18は、本開示の他の実施形態に係る発光パッケージ120を説明するための概略的な断面図である。
図18を参照すると、本実施形態に係る発光パッケージ120は、既に図15a、図15b、図16a及び図16bを参照して説明した発光パッケージ110とほぼ類似するが、発光素子200が基板11を含まない点で相違する。発光素子100から基板11が除去され、その結果、第1導電型半導体層41が露出する。発光素子200は、第1導電型半導体層41の上面を介して光を放出する。光遮断層91は、第1導電型半導体層41の側面を覆い、その上面を露出させ、透明層93は、光遮断層91及び第1導電型半導体層41を覆う。
図19は、本開示の他の実施形態に係る発光パッケージ130を説明するための概略的な断面図である。
図19を参照すると、本実施形態に係る発光パッケージ130は、図15a、図15b、図16a及び図16bを参照して説明した発光パッケージ110とほぼ類似するが、光遮断層91の上面の高さHMが基板11の光放出面の高さHSの下側に位置する点で相違する。これによって、基板11の側面のうち少なくとも一部は、光遮断層91によって覆われずに露出し、透明層93が基板11の上面及び露出した側面を覆う。
基板11の側面のうち露出した部分を介して光が外部に放出され得るので、発光素子100から放出される光の視野角をさらに増加させることができる。
光遮断層91の上面は、第3発光スタック40の少なくとも一部を露出させるように配置されてもよく、この場合、第3発光スタック40から放出された光が光遮断層91によって損失することを減少させることができ、第3発光スタック40から放出された光の光度を増加させることができる。例えば、第3発光スタック40が緑色光を放出する場合、緑色光の光度を増加させることができ、RGB混合比率を所望の値に容易に調節することができる。
図20は、本開示の他の実施形態に係る発光パッケージ140を説明するための概略的な断面図である。
図20を参照すると、本実施形態に係る発光パッケージ140は、図18を参照して説明した発光パッケージ120とほぼ類似するが、光遮断層91の上面の高さHMが第3発光スタック40の光放出面の高さHGの下側に位置する点で相違する。これによって、第3発光スタック40の側面のうち少なくとも一部は、光遮断層91によって覆われずに露出し、透明層93が第3発光スタック40の上面及び露出した側面を覆う。
第3発光スタック40の側面のうち露出した部分を介して光が外部に放出され得るので、発光素子100から放出される光の視野角をさらに増加させることができる。
さらに、第3発光スタック40から放出された光が光遮断層91によって損失することを減少させることができ、第3発光スタック40から放出された光の光度を増加させることができる。例えば、第3発光スタック40が緑色光を放出する場合、緑色光の光度を増加させることができ、RGB混合比率を所望の値に容易に調節することができる。一方、青色光の光度が増加することを防止するために、光遮断層91の高さHMは第2発光スタック30の高さHBより高い。
上記の各実施形態において、透明層93は、各発光素子100又は200の全面を覆うことができる。しかし、本開示がこれに限定されるのではなく、透明層93は、各発光素子100又は200を部分的に覆うこともできる。これに対して、図21を参照して説明する。
図21は、本開示の他の実施形態に係る発光パッケージ150を説明するための概略的な平面図である。
図21を参照すると、本実施形態に係る発光パッケージ150は、透明層93がパターニングされた形状を有する。光遮断層91は各発光素子100の間に配置され、透明層93は各発光素子100及び光遮断層91上に配置される。透明層93は、各発光素子100を部分的に覆うようにパターニングされる。特に、図示したように、透明層93は、横方向透明層93a及び縦方向透明層93bを含むメッシュ形状であってもよい。横方向透明層93aは各発光素子100を横切り、縦方向透明層93bは光遮断層91上に配置される。
横方向透明層93aにより、発光素子100から放出される光の横方向の視野角を縦方向の視野角よりさらに大きく増加させることができる。一般に、人間の目は、ディスプレイイメージの縦方向の光偏差に比べて横方向の光偏差にさらに敏感であるので、横方向の視野角を増加させることによって、人間の目に感知される横方向の光偏差を選択的に減少させることができる。
一方、透明層93は、光遮断層91上に形成した後でパターニングされてもよいが、メッシュ形態のシートを製作することによって各発光素子100及び光遮断層91上に付着させることもできる。
本実施形態において、透明層93がメッシュ形態であることを説明するが、必ずしもこれに限定されるのではない。但し、透明層93は、発光素子100の上面を横方向に横切るように配置されてもよく、その結果、横方向の光偏差を減少させることができる。
本実施形態において、発光パッケージ150が各発光素子100を含むことを説明するが、各発光素子100の代わりに各発光素子200を含んでもよい。
一方、上記の各実施形態において、発光パッケージ110、120、130、140、150の多様な実施形態に対して説明したが、各発光素子100又は200は、発光パッケージを形成する過程を省略し、ディスプレイ基板に直接実装されてもよく、光遮断層91及び透明層93はディスプレイ基板上で形成されてもよい。
特定の例示的な実施形態及び実施を本明細書で説明したが、他の実施形態及び修正がこの説明から明らかである。よって、本開示は、このような実施形態に制限されなく、添付の特許請求の範囲のさらに広い範囲及び当業者にとって明らか且つ多様な修正及び等価の構成を含む。
Claims (20)
- ディスプレイ基板と、
前記ディスプレイ基板上に配置された複数の発光素子と、
前記各発光素子の間に配置された光遮断層と、
前記各発光素子及び光遮断層を覆う透明層と、を含み、
前記発光素子は、
第1LEDサブユニットと、
前記第1LEDサブユニット上に配置された第2LEDサブユニットと、
前記第2LEDサブユニット上に配置された第3LEDサブユニットと、を含み、
前記第3LEDサブユニットが前記第1LEDサブユニットよりも前記発光素子の上面の近くに配置されたディスプレイ装置。 - 前記光遮断層は、前記発光素子から放出された光を吸収することによって光を遮断し、前記透明層は、前記発光素子から放出された光を透過させる、請求項1に記載のディスプレイ装置。
- 前記光遮断層は黒色モールディング層である、請求項2に記載のディスプレイ装置。
- 前記第1、第2及び第3LEDサブユニットは、それぞれ赤色光、青色光及び緑色光を発する、請求項1に記載のディスプレイ装置。
- 前記第1LEDサブユニットは第1発光スタックを含み、
前記第2LEDサブユニットは第2発光スタックを含み、
前記第3LEDサブユニットは第3発光スタックを含み、
前記第1発光スタック、前記第2発光スタック、及び前記第3発光スタックのそれぞれは、第1導電型半導体層、活性層及び第2導電型半導体層を含む、請求項1に記載のディスプレイ装置。 - 前記透明層は、前記各発光素子を部分的に覆う、請求項5に記載のディスプレイ装置。
- 前記透明層は、前記各発光素子を一方向に横切るように配置された、請求項6に記載のディスプレイ装置。
- 前記透明層は、横方向透明層及び縦方向透明層を含むメッシュ形状を有し、
前記横方向透明層は前記各発光素子を横切り、
前記縦方向透明層は、前記各発光素子の間の領域で光遮断層上に配置された、請求項7に記載のディスプレイ装置。 - 前記光遮断層の上面は、前記第3発光素子の上面と同一の高さに位置し、又はそれより低い高さに位置する、請求項5に記載のディスプレイ装置。
- 前記発光素子は、前記第3LEDサブユニット上に配置された基板をさらに含み、
前記透明層と空気との屈折率の差は、前記基板と前記第3発光スタックの第1導電型半導体層との屈折率の差より小さい、請求項9に記載のディスプレイ装置。 - 前記発光素子は、前記第3LEDサブユニット上に配置された基板をさらに含み、
前記光遮断層の上面は、前記基板側面の少なくとも一部を露出させるように前記基板の上面より低い高さに位置する、請求項8に記載のディスプレイ装置。 - 前記光遮断層は、前記第3発光スタックの側面の少なくとも一部を露出させるように前記第3発光スタックの上面の高さより低い高さに位置する、請求項9に記載のディスプレイ装置。
- 前記発光素子は、
前記第1LEDサブユニットと前記第2LEDサブユニットとの間に介在した第1ボンディング層と、
前記第2LEDサブユニットと前記第3LEDサブユニットとの間に介在した第2ボンディング層と、さらに含む、請求項5に記載のディスプレイ装置。 - 前記発光素子は、
前記第1LEDサブユニットに電気的に接続された第1接続電極と、
前記第2LEDサブユニットに電気的に接続された第2接続電極と、
前記第3LEDサブユニットに電気的に接続された第3接続電極と、
前記第1、第2、及び第3LEDサブユニットに共通して電気的に接続された第4接続電極と、をさらに含む、請求項13に記載のディスプレイ装置。 - 前記ディスプレイ基板と前記発光素子との間に介在した回路基板をさらに含み、
前記第1乃至第4接続電極は前記回路基板に接合され、
前記光遮断層は前記回路基板上に配置された、請求項14に記載のディスプレイ装置。 - 前記第1接続電極、第2接続電極、及び第3接続電極は、それぞれ前記第1発光スタック、第2発光スタック、及び第3発光スタックの第2導電型半導体層に電気的に接続され、
前記第4接続電極は、前記第1乃至第3発光スタックの第1導電型半導体層に共通して電気的に接続された、請求項14に記載のディスプレイ装置。 - 前記発光素子は、
それぞれ前記第1乃至第3発光スタックの第2導電型半導体層に接触する第1乃至第3下部コンタクト電極と、
前記第1乃至第3下部コンタクト電極を部分的に露出させる第1乃至第3コンタクトホールを有する第1絶縁層と、を含み、
前記第1絶縁層は、前記第1乃至第3発光スタックの第1導電型半導体層上に配置された各サブコンタクトホールを有し、
前記各サブコンタクトホールは互いに離隔した、請求項15に記載のディスプレイ装置。 - 前記第1乃至第3コンタクトホールと重畳する第1乃至第3パッド、及び前記各サブコンタクトホールと重畳する第4パッドを含み、前記第1乃至第4接続電極は、それぞれ前記第1乃至第4パッドに電気的に接続された、請求項17に記載のディスプレイ装置。
- ディスプレイ基板と、
前記ディスプレイ基板上に配置された複数の発光素子と、
前記各発光素子の間に配置され、前記各発光素子から放出された光を遮断する黒色モールディング層と、
前記各発光素子を少なくとも部分的に覆い、前記各発光素子から放出された光を透過させる透明層と、を含み、
前記発光素子は、
第1LEDサブユニットと、
前記第1LEDサブユニット上に配置された第2LEDサブユニットと、
前記第2LEDサブユニット上に配置された第3LEDサブユニットと、を含み、
前記第3LEDサブユニットは、前記第1LEDサブユニットよりも前記発光素子の上面の近くに配置されたディスプレイ装置。 - 前記黒色モールディング層の上面は、前記各発光素子の上面と同一の高さ又はそれより下側に位置する、請求項19に記載のディスプレイ装置。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201962927196P | 2019-10-29 | 2019-10-29 | |
US62/927,196 | 2019-10-29 | ||
US17/082,018 US11489002B2 (en) | 2019-10-29 | 2020-10-28 | LED display apparatus |
US17/082,018 | 2020-10-28 | ||
PCT/KR2020/014851 WO2021086026A1 (ko) | 2019-10-29 | 2020-10-29 | Led 디스플레이 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023501923A true JP2023501923A (ja) | 2023-01-20 |
JPWO2021086026A5 JPWO2021086026A5 (ja) | 2023-11-01 |
Family
ID=75586119
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022524027A Pending JP2023501923A (ja) | 2019-10-29 | 2020-10-29 | Ledディスプレイ装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US11489002B2 (ja) |
EP (1) | EP4024453A4 (ja) |
JP (1) | JP2023501923A (ja) |
KR (1) | KR20220091457A (ja) |
CN (2) | CN213782016U (ja) |
BR (1) | BR112022008047A2 (ja) |
MX (1) | MX2022004907A (ja) |
WO (1) | WO2021086026A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11437353B2 (en) * | 2019-11-15 | 2022-09-06 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light emitting device for display and display apparatus having the same |
KR20220100870A (ko) * | 2019-11-15 | 2022-07-18 | 서울바이오시스 주식회사 | 디스플레이용 발광 소자 및 그것을 가지는 디스플레이 장치 |
US11476299B2 (en) * | 2020-08-31 | 2022-10-18 | Hong Kong Beida Jade Bird Display Limited | Double color micro LED display panel |
US11417703B2 (en) * | 2020-08-31 | 2022-08-16 | Hong Kong Beida Jade Bird Display Limited | Double color micro LED display panel |
US11646300B2 (en) * | 2020-09-01 | 2023-05-09 | Jade Bird Display (shanghai) Limited | Double color micro LED display panel |
CN114664983B (zh) * | 2022-03-22 | 2023-03-21 | 西湖大学 | 一种基于Micro LED的显示装置的制作方法以及显示装置 |
CN115394762A (zh) * | 2022-05-17 | 2022-11-25 | 诺视科技(苏州)有限公司 | 一种具有透明衬底的像素级分立器件及其制作方法 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101100579B1 (ko) | 2005-01-06 | 2012-01-13 | 엘지이노텍 주식회사 | 반도체 발광 다이오드 및 그의 제조 방법과 반도체 발광다이오드를 이용한 디스플레이의 제조 방법 |
TWI594661B (zh) * | 2013-04-19 | 2017-08-01 | 隆達電子股份有限公司 | 發光二極體顯示器及其製造方法 |
KR102566499B1 (ko) | 2016-05-26 | 2023-08-11 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 |
KR102503578B1 (ko) | 2017-06-30 | 2023-02-24 | 엘지전자 주식회사 | 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치 |
JP7260526B2 (ja) * | 2017-09-04 | 2023-04-18 | ソウル セミコンダクター カンパニー リミテッド | 表示装置及びその製造方法 |
KR102459573B1 (ko) | 2017-09-14 | 2022-10-27 | 엘지전자 주식회사 | 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치 |
BR112020009088B1 (pt) * | 2017-11-08 | 2023-12-12 | Seoul Viosys Co., Ltd | Unidade de led para exibição e aparelho de exibição utilizando a mesma |
US11282981B2 (en) * | 2017-11-27 | 2022-03-22 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Passivation covered light emitting unit stack |
US11527519B2 (en) * | 2017-11-27 | 2022-12-13 | Seoul Viosys Co., Ltd. | LED unit for display and display apparatus having the same |
US10748881B2 (en) * | 2017-12-05 | 2020-08-18 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light emitting device with LED stack for display and display apparatus having the same |
US10797027B2 (en) * | 2017-12-05 | 2020-10-06 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Displaying apparatus having light emitting device, method of manufacturing the same and method of transferring light emitting device |
US10964674B2 (en) * | 2018-02-06 | 2021-03-30 | Lumens Co., Ltd. | Micro-LED display panel |
KR20190098709A (ko) * | 2018-02-14 | 2019-08-22 | 에피스타 코포레이션 | 발광 장치, 그 제조 방법 및 디스플레이 모듈 |
US11482650B2 (en) * | 2018-11-07 | 2022-10-25 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light emitting device including light shielding layer |
US11476236B2 (en) * | 2018-11-07 | 2022-10-18 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Display apparatus |
TWI671489B (zh) * | 2018-11-12 | 2019-09-11 | 台灣愛司帝科技股份有限公司 | 發光二極體顯示器 |
US10943532B2 (en) * | 2018-12-11 | 2021-03-09 | The Hong Kong University Of Science And Technology | Monolithic full-color light-emitting diode display panel |
US11508876B2 (en) * | 2018-12-31 | 2022-11-22 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light emitting device package and display device having the same |
US11211528B2 (en) * | 2019-03-13 | 2021-12-28 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light emitting device for display and display apparatus having the same |
US11587914B2 (en) * | 2019-05-14 | 2023-02-21 | Seoul Viosys Co., Ltd. | LED chip and manufacturing method of the same |
US11855121B2 (en) * | 2019-05-14 | 2023-12-26 | Seoul Viosys Co., Ltd. | LED chip and manufacturing method of the same |
US11756980B2 (en) * | 2019-05-14 | 2023-09-12 | Seoul Viosys Co., Ltd. | LED chip package and manufacturing method of the same |
US11901397B2 (en) * | 2019-05-14 | 2024-02-13 | Seoul Viosys Co., Ltd. | LED chip having fan-out structure and manufacturing method of the same |
US11482566B2 (en) * | 2019-08-20 | 2022-10-25 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light emitting device for display and display apparatus having the same |
US11398462B2 (en) * | 2019-09-18 | 2022-07-26 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light emitting device for display and light emitting package having the same |
US11798974B2 (en) * | 2019-09-27 | 2023-10-24 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light emitting device for display and display apparatus having the same |
US10847083B1 (en) * | 2019-10-14 | 2020-11-24 | Shaoher Pan | Integrated active-matrix light emitting pixel arrays based devices by laser-assisted bonding |
US11810944B2 (en) * | 2019-10-23 | 2023-11-07 | Seoul Viosys Co., Ltd. | LED display apparatus |
US11658275B2 (en) * | 2019-10-28 | 2023-05-23 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light emitting device for display and LED display apparatus having the same |
US11817435B2 (en) * | 2019-10-28 | 2023-11-14 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light emitting device for display and LED display apparatus having the same |
-
2020
- 2020-10-28 US US17/082,018 patent/US11489002B2/en active Active
- 2020-10-29 MX MX2022004907A patent/MX2022004907A/es unknown
- 2020-10-29 BR BR112022008047A patent/BR112022008047A2/pt unknown
- 2020-10-29 JP JP2022524027A patent/JP2023501923A/ja active Pending
- 2020-10-29 CN CN202022457435.2U patent/CN213782016U/zh active Active
- 2020-10-29 CN CN202080075517.0A patent/CN114616674A/zh active Pending
- 2020-10-29 EP EP20882978.8A patent/EP4024453A4/en active Pending
- 2020-10-29 KR KR1020227004596A patent/KR20220091457A/ko active Search and Examination
- 2020-10-29 WO PCT/KR2020/014851 patent/WO2021086026A1/ko unknown
-
2022
- 2022-10-30 US US17/976,864 patent/US11837625B2/en active Active
-
2023
- 2023-12-04 US US18/527,987 patent/US20240120365A1/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11489002B2 (en) | 2022-11-01 |
WO2021086026A1 (ko) | 2021-05-06 |
US20240120365A1 (en) | 2024-04-11 |
CN213782016U (zh) | 2021-07-23 |
US20210126043A1 (en) | 2021-04-29 |
CN114616674A (zh) | 2022-06-10 |
EP4024453A4 (en) | 2023-10-25 |
MX2022004907A (es) | 2022-06-29 |
US11837625B2 (en) | 2023-12-05 |
KR20220091457A (ko) | 2022-06-30 |
BR112022008047A2 (pt) | 2022-07-12 |
US20230053740A1 (en) | 2023-02-23 |
EP4024453A1 (en) | 2022-07-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2023501923A (ja) | Ledディスプレイ装置 | |
US11817435B2 (en) | Light emitting device for display and LED display apparatus having the same | |
US11769761B2 (en) | Light emitting device for display and light emitting package having the same | |
JP2022553986A (ja) | Ledディスプレイ装置 | |
US11810944B2 (en) | LED display apparatus | |
JP2022532327A (ja) | 発光チップ | |
US11658275B2 (en) | Light emitting device for display and LED display apparatus having the same | |
JP7481363B2 (ja) | 表示装置 | |
US20230378412A1 (en) | Light emitting device for display and led display apparatus having the same | |
JP2022532154A (ja) | Ledチップ及びその製造方法 | |
EP4024481A1 (en) | Light-emitting element for display, and display apparatus having same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220623 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231024 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20231024 |