JP2023165217A - 高分子複合材料及びその製造方法並びに高分子組成物 - Google Patents
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Abstract
【課題】機械的強度に優れる高分子複合材料及びその製造方法並びに前記高分子複合材料を製造するために好適に使用できる高分子組成物を提供する。【解決手段】本発明の高分子複合材料は、ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーと、該第1のポリマー以外の第2のポリマーとを含み、前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された基である。本発明の高分子複合材料は、機械的強度に優れる。【選択図】なし
Description
本発明は、高分子複合材料及びその製造方法並びに高分子組成物に関する。
高分子材料の用途は多様化していることから、高分子材料に対する性能向上等の要求も益々高まっている。例えば、最近では、硬さ及び伸びなど、互いにトレードオフの関係にある物性の両方を向上させた高分子材料の開発も求められている。高分子材料の物性を向上させる手法は種々知られており、例えば、異種ポリマーを混合させる、いわゆるポリマーアロイ化はその手法の一つである(例えば、特許文献1等を参照)。このポリマーアロイ化の手法は、異種ポリマー主鎖それぞれの長所を両立させた材料を設計できる点にメリットがある。その他、相溶化剤を添加する方法、二次的にグラフト重合反応をする方法等によってもポリマーアロイ化が実現可能である。
一方で、近年の環境問題への取り組みは、持続可能な社会を実現する上で必要不可欠である。この観点から、ゴミの排出量を抑えるため、壊れにくい材料の開発をすることは、高分子材料の機能向上及び環境問題の観点からも極めて有効な手段である。この観点から、前述のポリマーアロイのように、異種成分と複合化した材料の利用価値は極めて高い。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、機械的強度に優れる高分子複合材料及びその製造方法並びに前記高分子複合材料を製造するために好適に使用できる高分子組成物を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の架橋構造体を必須成分とすることにより上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、例えば、以下の項に記載の主題を包含する。
項1
ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーと、該第1のポリマー以外の第2のポリマーとを含み、
前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された基である、高分子複合材料。
項2
前記架橋重合体はゲスト基をさらに有し、前記ホスト基及び前記ゲスト基が包接錯体を形成している、項1に記載の高分子複合材料。
項3
前記架橋重合体は、前記ホスト基に直鎖状高分子が貫通した構造を有する、請求項1に記載の高分子複合材料。
項4
前記架橋重合体が分散して存在している、項1~3のいずれか1項に記載の高分子複合材料。
項5
前記第2のポリマーは、前記架橋重合体の網目を貫通している、項1~4のいずれか1項に記載の高分子複合材料。
項6
高分子複合材料の製造方法であって、
下記の工程1
工程1;ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーと、重合性単量体とを含む混合物の重合反応により、ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーと、該第1のポリマー以外の第2のポリマーとを含む高分子複合材料を得る工程、
を備え、
前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された基である、高分子複合材料の製造方法。
項7
前記工程で使用する前記第1のポリマーは、粉末状、ゲル状、スラリー状又は成形体である、請求項6に記載の製造方法。
項8
前記重合性単量体は、ラジカル重合性単量体である、項6又は7に記載の製造方法。
項9
ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーが溶媒に溶解又は膨潤したスラリーを含有する、高分子組成物。
項10
項1~5のいずれか1項に記載の高分子複合材料の製造用である、項9に記載の高分子組成物。
項1
ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーと、該第1のポリマー以外の第2のポリマーとを含み、
前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された基である、高分子複合材料。
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前記架橋重合体はゲスト基をさらに有し、前記ホスト基及び前記ゲスト基が包接錯体を形成している、項1に記載の高分子複合材料。
項3
前記架橋重合体は、前記ホスト基に直鎖状高分子が貫通した構造を有する、請求項1に記載の高分子複合材料。
項4
前記架橋重合体が分散して存在している、項1~3のいずれか1項に記載の高分子複合材料。
項5
前記第2のポリマーは、前記架橋重合体の網目を貫通している、項1~4のいずれか1項に記載の高分子複合材料。
項6
高分子複合材料の製造方法であって、
下記の工程1
工程1;ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーと、重合性単量体とを含む混合物の重合反応により、ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーと、該第1のポリマー以外の第2のポリマーとを含む高分子複合材料を得る工程、
を備え、
前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された基である、高分子複合材料の製造方法。
項7
前記工程で使用する前記第1のポリマーは、粉末状、ゲル状、スラリー状又は成形体である、請求項6に記載の製造方法。
項8
前記重合性単量体は、ラジカル重合性単量体である、項6又は7に記載の製造方法。
項9
ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーが溶媒に溶解又は膨潤したスラリーを含有する、高分子組成物。
項10
項1~5のいずれか1項に記載の高分子複合材料の製造用である、項9に記載の高分子組成物。
本発明の高分子複合材料は、簡便な方法で製造することができ、機械的強度に優れる。また、本発明の高分子複合材料の製造方法は、前記高分子複合材料を製造する方法として適している。さらに、本発明の高分子組成物は、前記高分子複合材料を製造するための原料として好適である。
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、本明細書中において、「含有」及び「含む」なる表現については、「含有」、「含む」、「実質的にからなる」及び「のみからなる」という概念を含む。
1.高分子複合材料
本発明の高分子複合材料は、ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーと、該第1のポリマー以外の第2のポリマーとを含む。前記架橋重合体において、前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された基である。本発明の高分子複合材料は、特定の架橋重合体を含むことで、機械的強度に優れるものであり、強靭な材料である。
本発明の高分子複合材料は、ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーと、該第1のポリマー以外の第2のポリマーとを含む。前記架橋重合体において、前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された基である。本発明の高分子複合材料は、特定の架橋重合体を含むことで、機械的強度に優れるものであり、強靭な材料である。
(第1のポリマー)
第1のポリマーは、ホスト基を有する架橋重合体を含む。斯かる架橋重合体は、ホスト基を有する高分子化合物によって形成され、三次元架橋構造を有する。ホスト基を有する高分子化合物において、ホスト基は、当該高分子化合物中に共有結合しているものであって、例えば、側鎖に存在する。以下、第1のポリマーに含まれるホスト基を有する架橋重合体を「架橋重合体A」と表記する。
第1のポリマーは、ホスト基を有する架橋重合体を含む。斯かる架橋重合体は、ホスト基を有する高分子化合物によって形成され、三次元架橋構造を有する。ホスト基を有する高分子化合物において、ホスト基は、当該高分子化合物中に共有結合しているものであって、例えば、側鎖に存在する。以下、第1のポリマーに含まれるホスト基を有する架橋重合体を「架橋重合体A」と表記する。
架橋重合体Aは、例えば、ホスト基含有単量体単位を、構成単位として含む。ホスト基含有単量体単位とは、ホスト基を有する重合性単量体(ホスト基含有重合性単量体)が重合された場合に形成される構成単位を意味する。ホスト基含有単量体単位は、少なくとも1個の前記ホスト基を有する単量体単位である。
架橋構造体Aに含まれるホスト基含有単量体単位は1種又は2種以上とすることができる。
ホスト基は、前述のように、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された基である。ホスト基は1価の基に限定されるものではなく、例えば、ホスト基は2価の基であってもよい。また、ホスト基含有単量体単位において、ホスト基は1個のみ含むことができ、あるいは、2個以上を含むことができる。
ここで、前記シクロデキストリン誘導体とは、シクロデキストリンが有する水酸基のうちの少なくとも1個の水酸基において、その水素原子が疎水基で置換された構造を有する、ものをいう。つまり、シクロデキストリン誘導体とは、シクロデキストリン分子が疎水性を有する他の有機基で置換された構造を有する分子をいう。ただし、シクロデキストリン誘導体は、少なくとも一つの水素原子又は少なくとも一つの水酸基を有し、好ましくは少なくとも一つの水酸基を有する。
前記疎水基は、炭化水素基、アシル基及び-CONHR(Rはメチル基又はエチル基)からなる群より選ばれる少なくとも1種の基で置換された構造を有することが好ましい。以下、本明細書において、前述の「炭化水素基、アシル基及び-CONHR(Rはメチル基又はエチル基)からなる群より選ばれる少なくとも1種の基」を便宜上、「炭化水素基等」と表記することがある。
ここで、念のための注記に過ぎないが、本明細書でのシクロデキストリンなる表記は、α-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン及びγ-シクロデキストリンからなる群より選ばれる少なくとも1種を意味する。従って、シクロデキストリン誘導体は、α-シクロデキストリン誘導体、β-シクロデキストリン誘導体及びγ-シクロデキストリン誘導体からなる群より選ばれる少なくとも1種である。
ホスト基は、シクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された1価以上の基であるが、シクロデキストリン誘導体において除される水素原子又は水酸基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体のどの部位であってもよい。
ここで、シクロデキストリン1分子が有する水酸基の全個数をNとした場合、α-シクロデキストリンはN=18、β-シクロデキストリンはN=21、γ-シクロデキストリンはN=24である。
仮に、ホスト基がシクロデキストリン誘導体から1個の「水酸基」が除された1価の基である場合は、シクロデキストリン誘導体は、シクロデキストリン1分子あたり最大N-1個の水酸基の水素原子が炭化水素基等で置換されて形成される。他方、ホスト基がシクロデキストリン誘導体から1個の「水素原子」が除された1価の基である場合は、シクロデキストリン誘導体は、シクロデキストリン1分子あたり最大N個の水酸基の水素原子が炭化水素基等で置換され得る。
前記ホスト基がシクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された基である場合、シクロデキストリン1分子中に存在する全水酸基数のうちの70%以上の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換された構造を有することが好ましく、80%以上がより好ましく、全水酸基数のうちの90%以上が特に好ましい。
前記ホスト基がシクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された基である場合、α-シクロデキストリン1分子中に存在する全水酸基のうちの13個以上の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換された構造を有することが好ましく、15個以上がより好ましく、17個以上が特に好ましい。
前記ホスト基は、β-シクロデキストリン1分子中に存在する全水酸基のうちの15個以上の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換された構造を有することが好ましく、17個以上がより好ましく、19個以上が特に好ましい。
前記ホスト基は、γ-シクロデキストリン1分子中に存在する全水酸基のうちの17個以上の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換された構造を有することが好ましく、19個以上がより好ましく、21個以上が特に好ましい。
シクロデキストリン誘導体において、前記炭化水素基の種類は特に限定されない。前記炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基を挙げることができる。
前記炭化水素基の炭素数の数は特に限定されず、例えば、炭化水素基の炭素数は1~4個であることが好ましい。
炭素数が1~4個である炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、ブチル基を挙げることができる。炭化水素基がプロピル基及びブチル基である場合は、直鎖状及び分岐鎖状のいずれであってもよい。
シクロデキストリン誘導体において、アシル基は、アセチル基、プロピオニル、ホルミル基等を例示することができる。ホスト-ゲスト相互作用を形成しやすく、又は、ホスト基環内を他の高分子鎖が貫通しやすいという点で、また、靭性及び強度に優れる靭性及び強度に優れる高分子材料を得やすいという点で、アシル基は、アセチル基であることが好ましい。
シクロデキストリン誘導体において、-CONHR(Rはメチル基又はエチル基)は、メチルカルバメート基又はエチルカルバメート基である。ホスト-ゲスト相互作用を形成しやすく、又は、ホスト基環内を他の高分子鎖が貫通しやすいという点で、また、靭性及び強度に優れる靭性及び強度に優れる高分子材料を得やすいという点で、-CONHRは、エチルカルバメート基であることが好ましい。
シクロデキストリン誘導体において、炭化水素基等は、炭素数1~4のアルキル基又はアシル基が好ましく、メチル基及びアシル基が好ましく、メチル基、アセチル基、プロピオニル基がさらに好ましく、メチル基及びアセチル基が特に好ましい。
ホスト基含有単量体単位は、前記ホスト基を有し、かつ、重合性を有する化合物である限りは特に限定されず、例えば、公知のホスト基含有重合性単量体を広く例示することができる。ホスト基含有重合性単量体は、ラジカル重合性を有する官能基を有することが好ましい。ラジカル重合性を有する官能基は、炭素-炭素二重結合を含む基を挙げることができ、具体的には、アクリロイル基(CH2=CH(CO)-)、メタクリロイル基(CH2=CCH3(CO)-)、その他、スチリル基、ビニル基、アリル基等が挙げられる。これらの炭素-炭素二重結合を含む基は、ラジカル重合性が阻害されない程度であればさらに置換基を有していてもよい。
ホスト基含有重合性単量体の具体例としては、前記ホスト基を有するビニル系重合性単量体を挙げることができる。例えば、ホスト基含有重合性単量体は、下記の一般式(h1)で表される化合物を挙げることができる。
式(h1)中、Raは水素原子またはメチル基を表し、RHは前記ホスト基を表し、R1はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表す。
あるいは、ホスト基含有重合性単量体は、下記の一般式(h2)で表される化合物を挙げることができる。
式(h2)中、Ra、RH及びR1はそれぞれ式(h1)のRa、RH及びR1と同義である。
さらには、ホスト基含有重合性単量体は、下記の一般式(h3)で表される化合物を挙げることができる。
式(h3)中、Ra、RH及びR1はそれぞれ式(h1)のRa、RH及びR1と同義である。nは1~20、好ましくは1~10、より好ましくは1~5の整数である。Rbは、水素又は炭素数1~20のアルキル基(好ましくは炭素数1~10のアルキル基、より好ましくは炭素数1~6のアルキル基)を示す。
なお、式(h1)、(h2)及び(h3)で表されるホスト基含有重合性単量体におけるホスト基RHは、シクロデキストリン又はその誘導体から1個の水酸基が除された1価の基である場合の例である。
式(h1)~(h3)において、置換基は特に限定されず、例えば、置換基としては、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、炭素数2~20のアルキニル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、カルボニル基、スルホニル基、スルホン基、シアノ基等を挙げることができる。
式(h1)~(h3)において、R1が1個の置換基を有していてもよいアミノ基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基であれば、アミノ基の窒素原子がC=C二重結合の炭素原子と結合し得る。
式(h1)~(h3)において、R1が1個の置換基を有していてもよいアミド基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基であれば、アミド基の炭素原子がC=C二重結合の炭素原子と結合し得る。
式(h1)~(h3)において、R1がアルデヒド基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基であれば、アルデヒド基の炭素原子がC=C二重結合の炭素原子と結合し得る。
式(h1)~(h3)において、R1がカルボキシル基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基である場合、カルボキシル基の炭素原子がC=C二重結合の炭素原子と結合し得る。
式(h1)~(h3)で表されるホスト基含有重合性単量体は、例えば、(メタ)アクリル酸エステル誘導体(すなわち、R1が-COO-)、(メタ)アクリルアミド誘導体(すなわち、R1が-CONH-又は-CONR-であり、Rは前記置換基と同義である)であることが好ましい。前記-CONR-のRとしては、例えば、炭素数1~20のアルキル基が好ましく、炭素数1~10のアルキル基がより好ましく、炭素数1~6のアルキル基が特に好ましい。
なお、本明細書において、「(メタ)アクリル」とは「アクリル」または「メタクリル」を、「(メタ)アクリレート」とは「アクリレート」または「メタクリレート」を、「(メタ)アリル」とは「アリル」または「メタリル」を意味する。
前記ホスト基含有重合性単量体の製造方法は特に限定されず、例えば、公知の製造方法を広く採用することができる。
架橋重合体Aは、前記ホスト基含有単量体単位の他、ゲスト基含有単量体単位及び第3の単量体単位からなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことができる。架橋構造体Aに含まれるゲスト基含有単量体単位は1種又は2種以上とすることができ、また、架橋構造体Aに含まれる第3の単量体単位は1種又は2種以上とすることができる。
ゲスト基含有単量体単位とは、ゲスト基含有重合性単量体が重合された場合に形成される繰り返しの構成単位を意味する。ゲスト基含有単量体単位は、少なくとも1個のゲスト基を有する単量体単位である。
ゲスト基としては、前記ホスト基とホスト-ゲスト相互作用をすることができる基である限り、特には前記ホスト基に包接される基である限りは、その種類は限定されない。ゲスト基は1価の基に限定されるものではなく、例えば、ゲスト基は2価の基であってもよい。また、ゲスト基含有単量体単位において、ゲスト基は1個のみ含むことができ、あるいは、2個以上を含むことができる。
ゲスト基としては、炭素数3~30の直鎖又は分岐状の炭化水素基、シクロアルキル基、ヘテロアリール基及び有機金属錯体等が挙げられ、これらは一以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述の置換基と同様であり、例えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素等)、水酸基、カルボキシル基、エステル基、アミド基、保護されていてもよい水酸基等を挙げることができる。
より具体的なゲスト基としては、炭素数4~18の鎖状又は環状のアルキル基、多環芳香族炭化水素に由来する基が挙げられる。炭素数4~18の鎖状のアルキル基は直鎖及び分岐のいずれでもよい。環状のアルキル基は、かご型の構造であってもよい。多環芳香族炭化水素としては、例えば、少なくとも2個以上の芳香族環で形成されるπ共役系化合物が挙げられ、具体的には、ナフタレン、アントラセン、テトラセン、ペンタセン、ベンゾピレン、クリセン、ピレン、トリフェニレン等を挙げることができる。
ゲスト基は、その他、例えば、アルコール誘導体;アリール化合物;カルボン酸誘導体;アミノ誘導体;環状アルキル基又はフェニル基を有するアゾベンゼン誘導体;桂皮酸誘導体;芳香族化合物及びそのアルコール誘導体;アミン誘導体;フェロセン誘導体;アゾベンゼン;ナフタレン誘導体;アントラセン誘導体;ピレン誘導体:ペリレン誘導体;フラーレン等の炭素原子で構成されるクラスター類;ダンシル化合物の群から選ばれる少なくとも1種が例示されるゲスト分子から一個の原子(例えば、水素原子)が除されて形成される1価の基を挙げることもできる。
ゲスト基のさらなる具体例としては、t-ブチル基、n-オクチル基、n-ドデシル基、イソボルニル基、アダマンチル基、ピレン由来の基及びこれらに前記置換基が結合した基を挙げることができる。
ゲスト基含有単量体単位は、前記ゲスト基を有し、かつ、重合性を有する化合物である限りは特に限定されず、例えば、公知のゲスト基含有重合性単量体を広く例示することができる。ゲスト基含有重合性単量体は、ラジカル重合性を有する官能基を有することが好ましい。ラジカル重合性を有する官能基は、炭素-炭素二重結合を含む基を挙げることができ、具体的には、アクリロイル基(CH2=CH(CO)-)、メタクリロイル基(CH2=CCH3(CO)-)、その他、スチリル基、ビニル基、アリル基等が挙げられる。これらの炭素-炭素二重結合を含む基は、ラジカル重合性が阻害されない程度であればさらに置換基を有していてもよい。
ゲスト基含有重合性単量体の具体例としては、前記ゲスト基を有するビニル系の重合性単量体を挙げることができる。例えば、ゲスト基含有重合性単量体は、下記の一般式(g1)で表される化合物を挙げることができる。
式(g1)中、Raは水素原子またはメチル基を示し、RGは前記ゲスト基を示し、R2は式(h1)のR1と同義である。式(g1)で表される重合性単量体の中でも、(メタ)アクリル酸エステル又はその誘導体(すなわち、R2が-COO-)、(メタ)アクリルアミド又はその誘導体(すなわち、R2が-CONH-又は-CONR-であり、Rは前記置換基と同義である)であることが好ましい。この場合、重合反応が進みやすいので、架橋重合体Aの製造が容易になる。
ゲスト基含有重合性単量体の具体例としては、(メタ)アクリル酸n-ヘキシル、(メタ)アクリル酸n-オクチル、(メタ)アクリル酸n-ドデシル、(メタ)アクリル酸アダマンチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアダマンチル、1-(メタ)アクリルアミドアダマンタン、2-エチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート、N-ドデシル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸t-ブチル、1-アクリルアミドアダマンタン、N-(1-アダマンチル)(メタ)アクリルアミド、N-ベンジル(メタ)アクリルアミド、N-1-ナフチルメチル(メタ)アクリルアミド、エトキシ化o-フェニルフェノールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、イソステアリルアクリレート、ノニルフェノールEO付加物アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ピレン部位を有する(メタ)アクリレート、ピレン部位を有する(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。
ゲスト基含有重合性単量体は、公知の方法で製造することができる。また、ゲスト基含有重合性単量体は、市販品を使用することもできる。
前記第3の単量体単位は、第3の重合性単量体が重合された場合に形成される繰り返しの構成単位を意味する。第3の単量体単位は、前記ホスト基含有重合性単量体及び前記ゲスト基含有重合性単量体と共重合可能な重合性単量体(以下、「第3の重合性単量体」という)が重合された場合に形成される繰り返しの構成単位を意味する。第3の重合性単量体は、前記ホスト基含有重合性単量体及び前記ゲスト基含有重合性単量体と同一ではなく、特に、前記ホスト基を有さない。
第3の重合性単量体としては、公知である各種のビニル系重合性単量体を挙げることができる。第3の重合性単量体の具体例としては、下記一般式(a1)で表される化合物を挙げることができる。
式(a1)中、Raは水素原子またはメチル基、R3はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基又はその塩、1個の置換基を有していてもよいカルボキシル基又はその塩、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基又はその塩、1個以上の置換基を有していてもよいフェニル基を示す。
式(a1)中、R3が1個の置換基を有するカルボキシル基である場合、カルボキシル基の水素原子が炭素数1~20の炭化水素基、ヒドロキシアルキル基(例えば、ヒドロキシメチル基、1-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基)、メトキシポリエチレングリコール(エチレングリコールのユニット数は1~20、好ましくは1~10、特に好ましくは、2~5)、エトキシポリエチレングリコール(エチレングリコールのユニット数は1~20、好ましくは1~10、特に好ましくは、2~5)等で置換されたカルボキシル基(すなわち、エステル)が挙げられる。炭素数1~20の炭化水素基は、炭素数1~15であることが好ましく、1~10であることが好ましく、1~3であることが特に好ましい。炭化水素基は、直鎖及び分岐のいずれであってもよい。
式(a1)中、R3が1個以上の置換基を有するアミド基、すなわち、第2級アミド又は第3級アミドである場合、第1級アミドの1個の水素原子又は2個の水素原子が互いに独立に炭素数1~20の炭化水素基又はヒドロキシアルキル基(例えば、ヒドロキシメチル基、1-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基)で置換されたアミド基が挙げられる。炭素数1~20の炭化水素基は、炭素数1~15であることが好ましく、2~10であることが好ましい。炭化水素基は、直鎖及び分岐のいずれであってもよい。
式(a1)で表される単量体の具体例としては、(メタ)アクリル酸、アリルアミン、無水マレイン酸、スチレン等の他、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸n-オクチル、2-メトキシ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2-フェニルエチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-メトキシ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2-フェニルエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシ-ジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシ-トリエチレングルコール(メタ)アクリレート、メトキシ-ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリルエステル;(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジエチルアクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド化合物を挙げることができる。これらは1種単独で使用でき、又は2種以上を併用できる。
中でも、前記ホスト基がシクロデキストリンから1個の「水酸基」又は「水素」が除された1価の基である場合は、前記第3の重合性単量体は、水溶性が高いことが好ましく、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリルアミド及び(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチルからなる群より選ばれる1種又は2種以上であることが好ましい。
あるいは、前記ホスト基が前記シクロデキストリン誘導体から1個の「水酸基」又は「水素」が除された1価の基である場合は、前記第3の重合性単量体は、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、2-メトキシ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2-フェニルエチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-メトキシ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレートからなる群より選ばれることが好ましい。この場合において、前記第3の重合性単量体は、水溶性モノマーを1~30質量%含むこともでき、水溶性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド等を挙げることができる。
第3の単量体単位は、式(a1)で表される化合物の中でも、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリルアミド又はその誘導体であることが好ましい。この場合、重合反応が進みやすいので、架橋重合体Aの製造が容易になる。
架橋構造体Aは、その全構成単位中の前記ホスト基の含有割合が0.1モル%以上であることが好ましく、0.3モル%以上であることがより好ましく、0.5モル%以上であることがさらに好ましく、1モル%以上であることが特に好ましい。また、架橋構造体Aは、その全構成単位中の前記ホスト基の含有割合がそれぞれ40モル%以下であることが好ましく、20モル%以下であることがより好ましく、10モル%以下であることがさらに好ましく、5モル%以下であることが特に好ましい。
架橋重合体Aの構造は特に限定されない。例えば、架橋重合体Aは、前記ゲスト基をさらに有し、前記ホスト基及び前記ゲスト基が包接錯体を形成している構造を有することができ、あるいは、架橋重合体Aは、前記ホスト基に直鎖状高分子が貫通した構造を有することができる。
架橋重合体Aは、前記ゲスト基をさらに有し、前記ホスト基及び前記ゲスト基が包接錯体を形成している構造を有する場合、架橋構造体Aは、いわゆるホスト-ゲスト相互作用に基づく架橋構造を有する。
以下、ホスト-ゲスト相互作用に基づく架橋構造を有する構造を有する架橋構造体Aを、「ホスト-ゲスト型架橋構造体A」と略記し、前記ホスト基に直鎖状高分子が貫通した構造を有する架橋重合体Aを、「可動性架橋型架橋構造体A」と略記する。
ホスト-ゲスト型架橋構造体Aは、例えば、前記ホスト基含有単量体単位、前記ゲスト基含有単量体単位及び前記第3の単量体単位を備える。以下、前記ホスト基含有単量体単位を「ホスト単位」、前記ゲスト基含有単量体単位を単に「ゲスト単位」、前記第3の単量体単位を「第3の単位」と略記する。
ホスト-ゲスト型架橋構造体Aは、その全構成単位中の前記ホスト単位及び前記ゲスト単位の含有割合がそれぞれ0.1モル%以上であることが好ましく、0.3モル%以上であることがより好ましく、0.5モル%以上であることがさらに好ましく、1モル%以上であることが特に好ましい。また、ホスト-ゲスト型架橋構造体Aは、その全構成単位中の前記ホスト単位及び前記ゲスト単位の含有割合がそれぞれ40モル%以下であることが好ましく、20モル%以下であることがより好ましく、10モル%以下であることがさらに好ましく、5モル%以下であることが特に好ましい。なお、本発明において、ホスト-ゲスト型架橋構造体Aにおける各構成単位の割合(モル比)は、当該高分子化合物の製造時に使用する各単量体のモル比と一致するとみなすことができる。
ホスト-ゲスト型架橋構造体Aは、前記ホスト単位、前記ゲスト単位及び前記第3の単位のみで形成することができ、あるいは、さらに他の単量体単位を含むこともできる。
ホスト-ゲスト型架橋構造体Aに含まれるホスト基及びゲストの組み合わせは特に限定されず、包接錯体を形成することができる限り、その組み合わせは特に限定されない。ホスト基がα-シクロデキストリン又はその誘導体由来である場合、ゲスト基はオクチル基及びドデシル基の群から選ばれる少なくとも1種が好ましい。同様の理由で、ホスト基がβ-シクロデキストリン又はその誘導体由来である場合、ゲスト基はアダマンチル基、メチル置換アダマンチル基、エチル置換アダマンチル基及びイソボルニル基の群から選ばれる少なくとも1種が好ましく、ホスト基がγ-シクロデキストリン又はその誘導体由来である場合、ゲスト基はオクチル基、ドデシル基、シクロドデシル基、アダマンチル基、メチル置換アダマンチル基、エチル置換アダマンチル基及びイソボルニル基からなる群より選ばれる少なくとも1種が好ましい。
他方、可動性架橋型架橋構造体Aは、例えば、前記ホスト単位及び前記第3の単量体単位を備える。可動性架橋型架橋構造体Aは、前記ゲスト単位を有していないことが好ましい。
可動性架橋型架橋構造体Aでは、ホスト基の環内を直鎖状高分子が貫通することで、架橋構造が形成される。貫通した直鎖状高分子は、ホスト基の環内をスライドしながら動くことができるので、架橋型架橋構造体Aは可動性の架橋構造を有することができる。ホスト基の環内を貫通する直鎖状高分子は、前記第3の単量体単位で形成される高分子化合物である。ホスト基の環内を貫通する直鎖状高分子は、前記第3の単量体単位の前記ホスト単位を有することもでき、この場合は、前記ホスト単位がいわゆるストッパーとなって、直鎖状高分子がホスト基から脱落するのを防止することができる。
可動性架橋型架橋構造体Aは、その全構成単位中の前記ホスト単位の含有割合が0.1モル%以上であることが好ましく、0.3モル%以上であることがより好ましく、0.5モル%以上であることがさらに好ましく、1モル%以上であることが特に好ましい。また、可動性架橋型架橋構造体Aは、その全構成単位中の前記ホスト単位の含有割合が40モル%以下であることが好ましく、20モル%以下であることがより好ましく、10モル%以下であることがさらに好ましく、5モル%以下であることが特に好ましい。
可動性架橋型架橋構造体Aは、前記ホスト単位及び前記第3の単位のみで形成することができ、あるいは、さらに他の単量体単位を含むこともできる。
可動性架橋型架橋構造体Aにおいて、ホスト基を貫通する直鎖状高分子の種類は、ホスト基を貫通できるサイズである限り特に限定されない。ホスト基を貫通することが容易である点で、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミドからなる群より選ばれる1種又は2種以上の重合体であることが好ましい。
架橋構造体Aの製造方法は特に限定されず、例えば、公知の製造方法を広く採用することができ、例えば、ホスト基含有重合性単量体を有する原料のラジカル重合反応、あるいは、ホスト基単位を有する高分子化合物を利用することで架橋型架橋構造体Aを得ることができる。
架橋構造体Aがホスト-ゲスト型架橋構造体Aである場合は、ホスト単位、ゲスト単位及び第3の単位を有する高分子化合物を得るためのモノマー混合物(前記ホスト基含有単量体、ゲスト基含有単量体及び第3の単量体)の重合反応により得ることができる。具体的に、ホスト単位、ゲスト単位及び第3の単位を有する高分子化合物が生長する過程でホスト基及びゲスト基との包接錯体が形成されるので、結果的にホスト-ゲスト型架橋構造体Aを得ることができる。モノマー混合物は前記ホスト基含有単量体とゲスト基含有単量体とが包接化合物を形成されていてもよい。得られたホスト-ゲスト型架橋構造体Aは、包接錯体を架橋点とする架橋体であり、当該架橋点はホスト-ゲスト相互作用に基づくものである。
架橋構造体Aが可動性架橋型架橋構造体Aである場合は、例えば、ホスト単位及び第3の単位を有する高分子化合物を得るための重合反応により得ることができる。具体的に、ホスト単位及び第3の単位を有する高分子化合物が生長すると共にこの生長中のポリマー鎖が他のポリマー鎖(特に第3の単位の生長鎖)がホスト基を貫通することで、可動性架橋型架橋構造体Aが形成され得る。
第1のポリマーは、架橋構造体Aのみで形成されていてもよいし、例えば、他の成分、例えば、溶媒を含むこともできる。架橋構造体Aが溶媒を含む場合は、例えば、第1のポリマーは、高分子ゲルとなり得る。溶媒の種類は特に限定されず、高分子ゲルに使用される溶媒を広く採用することができ、高分子ゲルを形成することができる限り、親水性溶媒であっても、疎水性溶媒であってもよい。親水性溶媒としては、例えば、水、炭素数1~3のアルコール化合物(好ましくはエタノール及び/又はイソプロパノール)、グリセリン、その他の非プロトン性溶媒、脂質油、テルペノイド類、シリコーンオイル類等の各種有機溶媒を挙げることができる。非プロトン性溶媒としては、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドンなどのアミド類;酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、γ-ブチロラクトン(γBL)などのケトン類、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ジメチルスルホキシド等の硫黄含有化合物、炭酸プロピレン等のカーボネート化合物を挙げることができる。中でも、溶媒としては、水及びグリセリンからなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。
(第2のポリマー)
第2のポリマーは、前記第1のポリマー以外である成分であって、その種類は特に制限されず、例えば、公知の各種の高分子化合物を挙げることができる。第2のポリマーとしては、各種ビニルポリマー、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド等を挙げることができる。高分子複合材料の調製が容易であると共に、第1のポリマーとの相溶性を高めやすいという点で、第2のポリマーは、ビニルポリマーであることが好ましく、中でも、(メタ)アクリル酸系ポリマー、(メタ)アクリルエステル系ポリマー、(メタ)アクリルアミド系ポリマーであることが好ましい。
第2のポリマーは、前記第1のポリマー以外である成分であって、その種類は特に制限されず、例えば、公知の各種の高分子化合物を挙げることができる。第2のポリマーとしては、各種ビニルポリマー、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド等を挙げることができる。高分子複合材料の調製が容易であると共に、第1のポリマーとの相溶性を高めやすいという点で、第2のポリマーは、ビニルポリマーであることが好ましく、中でも、(メタ)アクリル酸系ポリマー、(メタ)アクリルエステル系ポリマー、(メタ)アクリルアミド系ポリマーであることが好ましい。
第2のポリマーの具体例としては、前述の式(a1)で表される化合物を1種又は2種以上含むモノマーの重合体を挙げることができる。
第2のポリマーが(メタ)アクリル酸系ポリマー又は(メタ)アクリルエステル系ポリマーである場合、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、2-エチルヘキシルアクリレート、n-オクチルアクリレート、2-メトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2-フェニルエチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート及びフェノキシエチル(メタ)アクリレート、からなる群より選ばれる1種又は2種以上の重合体を挙げることができ、中でも第2のポリマーは、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチルからなる群より選ばれる1種又は2種以上の重合体であることが好ましい。
第2のポリマーが(メタ)アクリルアミド系ポリマーである場合、例えば、(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート及び2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドからなる群より選ばれる1種又は2種以上の重合体を挙げることができ、中でも(メタ)アクリルアミド及びN,N-ジメチルアクリルアミドからなる群より選ばれる1種又は2種以上の重合体を挙げることが好ましい。
第2のポリマーは、直鎖状構造を有することができ、あるいは、分岐鎖を有することもできる。第2のポリマーが直鎖状構造を有する場合、あるいは、分岐鎖を有する場合は、第2のポリマーに含まれる単量体単位はすべて第1のポリマーに含まれる単量体単位と同一であってもよいし、一部共通していてもよいし、すべて異なっていてもよい。
また、第2のポリマーは、架橋構造体であってもよい。第2のポリマーが架橋構造体である場合、斯かる架橋構造体としては、前述の第1のポリマーに含まれる架橋構造体Aを挙げることができる。第2のポリマーが架橋構造Aである場合は、第1のポリマーが含む架橋構造Aと同一でない限りはその種類は特に限定されず、例えば、第1のポリマーが含む架橋構造Aと組成(構成単位)が同じで組成割合が異なる架橋構造Aを第2のポリマーとすることができ、あるいは、第1のポリマーが含む架橋構造Aと(構成単位)が異なる架橋構造Aを第2のポリマーとすることができる。
すなわち、第2のポリマーが架橋構造体である場合、高分子複合材料は、少なくとも2種の架橋構造Aを含有する。第2のポリマーが架橋構造体Aである場合、斯かる架橋構造体Aとしては、前述のホスト-ゲスト型架橋構造体A及び可動性架橋型架橋構造体Aのいずれであってもよく、好ましくは、第1のポリマー及び第2のポリマーのいずれも可動性架橋型架橋構造体Aであることである。
(高分子複合材料)
本発明の高分子複合材料は、本発明の効果が阻害されない限り、前記第1のポリマー及び前記第2のポリマー以外の成分を含むことができる。本発明の高分子複合材料は前記第1のポリマー及び前記第2のポリマーのみで形成することもできる。本発明の高分子複合材料が前記第1のポリマー及び前記第2のポリマー以外の成分を含む場合、その含有割合は特に限定されず、例えば、前記第1のポリマー及び前記第2の総質量に対して、30質量%以下とすることができ、20質量%以下が好ましく、10質量%以下がより好ましく、5質量%以下がさらに好ましい。
本発明の高分子複合材料は、本発明の効果が阻害されない限り、前記第1のポリマー及び前記第2のポリマー以外の成分を含むことができる。本発明の高分子複合材料は前記第1のポリマー及び前記第2のポリマーのみで形成することもできる。本発明の高分子複合材料が前記第1のポリマー及び前記第2のポリマー以外の成分を含む場合、その含有割合は特に限定されず、例えば、前記第1のポリマー及び前記第2の総質量に対して、30質量%以下とすることができ、20質量%以下が好ましく、10質量%以下がより好ましく、5質量%以下がさらに好ましい。
本発明の高分子複合材料において、前記第1のポリマー及び前記第2のポリマーの含有割合は特に限定されない。例えば、高分子複合材料の機械的強度に優れやすく、強靭な材料となりやすい点で、前記第1のポリマー中の架橋構造体A及び前記第2のポリマーの総質量に対して、架橋構造体Aの含有割合が10質量%以上であることが好ましく、20質量%以上であることがより好ましく、30質量%以上であることがさらに好ましく、40質量%以上であることが特に好ましく、また、架橋構造体Aの含有割合が90質量%以下であることが好ましく、80質量%以下であることがより好ましく、70質量%以下であることがさらに好ましく、60質量%以下であることが特に好ましい。
本発明の高分子複合材料は、前記第1のポリマー及び前記第2のポリマーを含む限り、それらの存在状態は特に限定されない。例えば、本発明の高分子複合材料において、前記第1のポリマーに含まれる架橋構造体(架橋構造体A)が分散して存在することができる。これにより、高分子複合材料は、より機械的強度に優れるものであり、強靭な材料となりやすい。架橋構造体Aは、球状等のドメイン構造が高分子複合材料中に分散して存在することができる。
また、本発明の高分子複合材料において、前記第2のポリマーは、前記架橋重合体の網目を貫通していてもよい。これにより、前記第1のポリマー及び前記第2のポリマーとの相溶性が高まり、高分子複合材料は特に機械的強度に優れるものであり、より強靭な材料となりやすい。前記第2のポリマーは、前記架橋重合体の網目を貫通する場合、前記第2のポリマーは直鎖状であることが好ましい。
図1は、本発明の高分子複合材料の一実施形態であって、前記第2のポリマーは、前記架橋重合体Aの網目を貫通している様子を模式的に示したものである。
本発明の高分子複合材料の形状は特に限定されず、例えば、フィルム、シート、板、ブロック等の成形体であってもよいし、あるいは、粒子状、繊維状、顆粒状、ペレット状等であってもよい。また、高分子複合材料はゲルであってもよいし、ゲルが乾燥してなる気セロゲルであってもよく、用途等に応じて適宜選択することができる。ゲルとしての用途は、例えば、ゲルインキ、緩衝材、誘電体、導電体、生体電極が挙げられる。
本発明の高分子複合材料は、前記第1のポリマー及び前記第2のポリマーを含むことで、機械的強度に優れるものであり、強靭な材料となりやすい。具体的には、本発明の高分子複合材料は破壊エネルギー及びヤング率の両方が高い値となりやすく、両者のバランス良いことから強靭な材料となる。
また、本発明の高分子複合材料は、自己修復性を有することができ、特に、前述のホスト-ゲスト型架橋構造を有する架橋構造体Aが含まれる場合は、本発明の高分子複合材料は、良好な自己修復性を有することができる。
2.高分子複合材料の製造方法
本発明の高分子複合材料を製造する方法は特に限定されない。例えば、本発明の高分子複合材料は、下記の工程1を備える方法によって製造することができる。
工程1;ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーを含む原料と、重合性単量体とを含む混合物の重合反応により、ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーと、該第1のポリマー以外の第2のポリマーとを含む高分子複合材料を得る工程。
本発明の高分子複合材料を製造する方法は特に限定されない。例えば、本発明の高分子複合材料は、下記の工程1を備える方法によって製造することができる。
工程1;ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーを含む原料と、重合性単量体とを含む混合物の重合反応により、ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーと、該第1のポリマー以外の第2のポリマーとを含む高分子複合材料を得る工程。
ここで、前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された基であり、すなわち、本発明の高分子複合材料におけるホスト基と同義である。
工程1では、ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーを含む原料を使用する。工程1で使用する第1のポリマーを含む原料に含まれる第1のポリマーは、本発明の高分子複合材料における第1のポリマーと同義である。すなわち、工程1で使用する第1のポリマーは、高分子複合材料における第1のポリマーを形成するための原料である。
工程1で使用する第1のポリマーを含む原料は、例えば、粉末状、ゲル状、スラリー状又は成形体である。
第1のポリマーを含む原料がゲル状である場合、例えば、第1のポリマーを含む原料は、架橋構造体Aが溶媒で膨潤したハイドロゲルとすることができる。溶媒としては、例えば、親水性溶媒を挙げることができ、具体的には、水、炭素数1~3のアルコール化合物(好ましくはエタノール及び/又はイソプロパノール)、グリセリン、その他の非プロトン性溶媒、脂質油、テルペノイド類、シリコーンオイル類等の各種有機溶媒を挙げることができる。非プロトン性溶媒としては、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドンなどのアミド類;酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、γ-ブチロラクトン(γBL)などのケトン類、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ジメチルスルホキシド等の硫黄含有化合物、炭酸プロピレン等のカーボネート化合物、トルエン等の芳香族炭化水素を挙げることができる。中でも、溶媒は、水及びグリセリンからなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。
工程1で使用する第1のポリマーを含む原料がスラリー状である場合、第1のポリマーにおける架橋構造体Aは、例えば、溶媒中に溶解、膨潤又は分散した状態である。溶媒は、例えば、前述のハイドロゲルを形成するための溶媒と同じ種類を挙げることができ、中でも、水、グリセリン、トルエン、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、アセトン等が好ましい。
工程1で使用する第1のポリマーを含む原料がスラリー状である場合、斯かるスラリーにおける固形分濃度は特に限定されない。例えば、架橋構造体A及び溶媒の全質量に対し、架橋構造体Aの含有割合を1~40質量%とすることが好ましく、5~30質量%とすることが好ましい。工程1で使用する第1のポリマーを含む原料がスラリー状である場合は、あらかじめスラリーを粉砕処理することができる。この粉砕処理は、例えば、ビーズミル等の粉砕手段を採用できる。
工程1で使用する第1のポリマーを含む原料がスラリー状である場合、斯かるスラリーの調製方法は特に限定されない。例えば、あらかじめ製造した架橋構造体Aと溶媒とを混合することで、スラリーを調製することができる。あるいは、前述のハイドロゲルと溶媒とを混合することで、スラリーを調製することができる。
工程1で使用する第1のポリマーを含む原料が粉末である場合、斯かる粉体を調製する方法は特に限定されず、例えば、公知の方法を広く採用することができる。例えば、架橋構造体Aを粉砕する方法、前述のスラリーから溶媒を適宜の方法で除去して粉体化する方法等を挙げることができる。
工程1で使用する第1のポリマーを含む原料が成形体である場合、斯かる成形体の形状は特に限定されず、例えば、シート、ブロック、フィルム等を挙げることができる。
工程1では、粉末状、ゲル状、スラリー状又は成形体の第1のポリマーを含む原料と、少なくとも1種の重合性単量体とを含む混合物を調製し、斯かる混合物の重合反応を行う。混合物における重合性単量体は、高分子複合材料における第2のポリマーを生成するための原料である。重合性単量体は、混合物における重合性単量体は1種単独であってもよいし、2種以上であってもよい。
前記重合性単量体は、ラジカル重合性単量体であることが好ましい。ラジカル重合性単量体の例として、前述の式(a1)で表される化合物を挙げることができる。従って、例えば、前記重合性単量体は、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリルエステルを挙げることができ、具体的に、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、2-エチルヘキシルアクリレート、n-オクチルアクリレート、2-メトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2-フェニルエチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート及び2-フェニルエチルアクリレートからなる群より選ばれる1種又は2種以上を挙げることができる。中でも(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチルからなる群より選ばれる1種又は2種以上であることが好ましい。
また、例えば、前記重合性単量体は、(メタ)アクリルアミド化合物を挙げることができ、例えば、(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート及び2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドからなる群より選ばれる1種又は2種以上を挙げることができる。中でも(メタ)アクリルアミド及びN,N-ジメチルアクリルアミドからなる群より選ばれる1種又は2種以上が好ましい。
工程1で使用する第1のポリマーがハイドロゲルを含む場合は、前記重合性単量体は、(メタ)アクリルアミド化合物であることが好ましい。この場合、生成する第2のポリマーが第1のポリマーに相溶しやすい。工程1で使用する第1のポリマーがハイドロゲル以外の場合は、前記重合性単量体は、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリルエステルであることが好ましく、また、(メタ)アクリルエステルと(メタ)アクリルアミド化合物との混合物であってもよい。(メタ)アクリルエステルと(メタ)アクリルアミド化合物との混合物において、(メタ)アクリルアミド化合物の含有割合は、例えば、50質量%以下、好ましくは40質量%以下、より好ましくは30質量%以下である。
前記重合性単量体は、前述のホスト基含有重合性単量体と、前述の式(a1)で表される化合物との混合物とすることもできる。この場合、生成する第2のポリマーは第1のポリマーの架橋構造体Aと同様の架橋構造体を形成することができる。ただし、第2のポリマーである架橋構造体は、第1のポリマーの架橋構造体Aに対して、構成単位の含有割合又は構成単位の種類が異なるものである。
工程1で使用する混合物を調製する方法は特に限定されず、例えば、粉末状、ゲル状、スラリー状又は成形体の第1のポリマーと、少なくとも1種の重合性単量体とを適宜の方法で混合することで混合物を調製することができる。
工程1で使用する混合物において、第1のポリマーと、重合性単量体との含有割合は特に限定されない。例えば、高分子複合材料の機械的強度に優れやすく、強靭な材料となりやすい点で、第1のポリマーに含まれる架橋構造体Aと重合性単量体との総質量に対し、架橋構造体Aの含有割合が10質量%以上であることが好ましく、20質量%以上であることがより好ましく、30質量%以上であることがさらに好ましく、40質量%以上であることが特に好ましく、また、架橋構造体Aの含有割合が90質量%以下であることが好ましく、80質量%以下であることがより好ましく、70質量%以下であることがさらに好ましく、60質量%以下であることが特に好ましい。
工程1で使用する混合物は、第1のポリマー及び重合性単量体以外に、重合開始剤、重合促進剤、架橋剤等を含むことができる。重合開始剤の種類は特に限定されず、たとえば、公知の重合開始剤を広く使用できる。重合開始剤としては、例えば、過硫酸アンモニウム等の過硫酸化合物;アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物;ジ-tert-ブチルペルオキシド、tert-ブチルヒドロペルオキシド、過酸化ベンゾイル等の過酸化物;IGM Resins B.V.社のOmniradシリーズ等の光重合開始剤等が挙げられる。重合開始剤の濃度は、例えば、前記重合性単量体の総量に対し、0.01~10質量%とすることができ、0.05~5質量%とすることが好ましく、0.1~3質量%とすることがさらに好ましい。重合促進剤としては、例えば、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン等が挙げられる。
工程1で実施する重合反応の方法は特に限定されず、公知の重合反応を広く採用することができる。例えば、使用する重合開始剤の種類に応じて、熱重合、光重合等の方法を広く採用することができる。光重合を採用する場合、光源としては紫外線(例えば、波長200~405nmのUV光)を使用することができる。重合反応の温度も制限はなく、例えば、0~100℃とすることができ、好ましくは20~25℃で行うことができる。重合反応の時間も特に限定されず、1分~24時間とすることができ、好ましくは、1分~5時間とすることができる。
工程1で調製した混合物の重合反応を行うことで、第2のポリマーが生成し、前述の本発明の高分子複合材料を得ることができる。この高分子複合材料は、架橋構造体Aを含む第1のポリマーと、第2のポリマーとを含有する。混合物の重合反応は、例えば、混合物を適宜の容器等に収容した状態で行うことができ、あるいは、混合物の塗膜を形成させた状態で行うことができる。
特に、工程1で使用する第1のポリマーが粉末状、ゲル状又はスラリー状である場合、工程1で調製した混合物は、例えば、溶液又は分散液等の液状である。従って、このような混合物は、シート状の型枠内に収容した状態で重合反応に供することができ、あるいは、基材上にキャストするなどの方法でフィルムを形成した状態で重合反応に供することができる。前者の場合、得られる高分子複合材料はシート等の成形体であり、後者の場合、得られる高分子複合材料はフィルム状である。
工程1で使用する第1のポリマーが成形体である場合、工程1で調製される混合物は、例えば、成形体に前記重合性単量体が含浸された状態となり得る。従って、この場合の重合反応は、第1のポリマーである成形体中で重合性単量体の重合反応が進行して第2のポリマーが生成する。この結果、得られる高分子複合材料も、第1のポリマーと同じ成形体である。
以上のように、工程1によって、シート状、フィルム状等の各種の形状の高分子複合材料を得ることができる。
3.高分子組成物
本発明は高分子組成物も包含する。本発明の高分子組成物は、ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーが溶媒に溶解、分散又は膨潤したスラリーを含有する。斯かるスラリーは、前述の製造方法が具備する工程1で使用され得るスラリーに相当する。
本発明は高分子組成物も包含する。本発明の高分子組成物は、ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーが溶媒に溶解、分散又は膨潤したスラリーを含有する。斯かるスラリーは、前述の製造方法が具備する工程1で使用され得るスラリーに相当する。
従って、本発明の高分子組成物におけるホスト基を有する架橋重合体は、前述の架橋構造体Aと同義であり、また、本発明の高分子組成物における溶媒は、工程1で使用され得るスラリー中の溶媒と同義である。従って、工程1で使用するスラリーと同様、本発明の高分子組成物における溶媒としては、水、グリセリン、トルエン、N,N-ジメチルホルムアミド、アセトン等が好ましい。
本発明の高分子組成物において、スラリーにおける固形分濃度は特に限定されない。例えば、架橋構造体A及び溶媒の全質量に対し、架橋構造体Aの含有割合を1~40質量%とすることが好ましく、5~30質量%とすることが好ましい。
本発明の高分子組成物において、スラリーの調製方法は特に限定されない。例えば、あらかじめ製造した架橋構造体Aと溶媒とを混合することで、スラリーを調製することができる。あるいは、前述のハイドロゲルと溶媒とを混合することで、スラリーを調製することができる。
本発明の高分子組成物はスラリーのみで形成することができ、あるいは、必要に応じてスラリー以外の成分を含むことができる。また、本発明の高分子組成物において、スラリーは、架橋構造体A及び溶媒のみで構成されてもよいし、その他の成分を含有することもできる。
本発明の高分子組成物は架橋構造体Aを含有するスラリーを含むことから、本発明の高分子組成物は、前述の本発明の高分子複合材料の製造用に適しており、本発明の高分子複合材料の製造用原料としての使用に特に適している。具体的に本発明の高分子組成物は、工程1で使用する第1のポリマーとしての使用に適している。
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例の態様に限定されるものではない。
[第1のポリマーの製造]
(製造例1:架橋構造体A1)
ホスト基含有重合性単量体として6-アクリルアミド-β-シクロデキストリン(βCD-AAm)、ゲスト基含有重合性単量体としてN-(1-アダマンチル)アクリルアミド(Ad-AAm)及び第3の重合性単量体としてアクリルアミド(AAm)(和光純薬工業株式会社製)をモル比で、3:3:94になるように混合した。この混合液を、超音波を照射しながら5分間撹拌した。これを一度ろ過した後、重合開始剤として過硫酸アンモニウム(全単量体に対して0.25mol%)、及び、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン(全単量体に対して5mol%)、水を加えて混合物を調製した。水は、混合物全体に対して69.64質量%となるようにした。この混合物を室温で1時間放置することにより、重合反応を行った。得られた重合体を洗浄することで、約4cm3の略直方体状のハイドロゲルを得た。当該ハイドロゲルは、βCD-AAm由来の繰り返し構成単位及びAd-AAm由来の繰り返し構成単位を、いずれも重合体中に3モル%の割合で含む。
(製造例1:架橋構造体A1)
ホスト基含有重合性単量体として6-アクリルアミド-β-シクロデキストリン(βCD-AAm)、ゲスト基含有重合性単量体としてN-(1-アダマンチル)アクリルアミド(Ad-AAm)及び第3の重合性単量体としてアクリルアミド(AAm)(和光純薬工業株式会社製)をモル比で、3:3:94になるように混合した。この混合液を、超音波を照射しながら5分間撹拌した。これを一度ろ過した後、重合開始剤として過硫酸アンモニウム(全単量体に対して0.25mol%)、及び、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン(全単量体に対して5mol%)、水を加えて混合物を調製した。水は、混合物全体に対して69.64質量%となるようにした。この混合物を室温で1時間放置することにより、重合反応を行った。得られた重合体を洗浄することで、約4cm3の略直方体状のハイドロゲルを得た。当該ハイドロゲルは、βCD-AAm由来の繰り返し構成単位及びAd-AAm由来の繰り返し構成単位を、いずれも重合体中に3モル%の割合で含む。
次いで、100mLビーカにグリセリンを80ml入れ、そこで上記ハイドロゲルを完全に浸漬させた。この状態で、室温(25℃)で12時間、静置することで、ハイドロゲルに含まれる水をグリセリン(G)に置換した。これにより、ホスト-ゲスト型であるゲル状架橋構造体(架橋構造体A1と表記)を得た。ゲル状の架橋構造体A1中、水は22.16質量%、グリセリンは37質量%であった。
(製造例2:架橋構造体A2)
公知の方法で製造した下記式(1-1)で表される化合物(βCDAAm)0.95mmolをシュレンク管に秤量し、窒素置換した。このβCDAAm20gをピリジン300mLに溶解し、無水酢酸170.133gを加え、55℃で12時間以上撹拌した。その後、メタノール50mLを加えクエンチし、内容量が200mLになるまでエバポレーターで濃縮した。得られた濃縮液を、水2000mLに滴下し、生成した沈殿物を回収した。沈殿をアセトン200mLに溶解し、水2000mLに滴下し、生成した沈殿物を回収し、これを減圧乾燥することにより目的物であるAc-CDAAを単離した。マススペクトル及びNMRスペクトルの結果から、目的のAc-CDAAが生成していることを確認した。Ac-CDAAにおけるシクロデキストリン誘導体1分子中に存在していた全水酸基数のうちの100%がアセチル基に置換されていることを確認した。従って、Ac-CDAAは、式(1-1)において、水酸基の水素原子がアセチル基に置換された化合物であることがわかった。
公知の方法で製造した下記式(1-1)で表される化合物(βCDAAm)0.95mmolをシュレンク管に秤量し、窒素置換した。このβCDAAm20gをピリジン300mLに溶解し、無水酢酸170.133gを加え、55℃で12時間以上撹拌した。その後、メタノール50mLを加えクエンチし、内容量が200mLになるまでエバポレーターで濃縮した。得られた濃縮液を、水2000mLに滴下し、生成した沈殿物を回収した。沈殿をアセトン200mLに溶解し、水2000mLに滴下し、生成した沈殿物を回収し、これを減圧乾燥することにより目的物であるAc-CDAAを単離した。マススペクトル及びNMRスペクトルの結果から、目的のAc-CDAAが生成していることを確認した。Ac-CDAAにおけるシクロデキストリン誘導体1分子中に存在していた全水酸基数のうちの100%がアセチル基に置換されていることを確認した。従って、Ac-CDAAは、式(1-1)において、水酸基の水素原子がアセチル基に置換された化合物であることがわかった。
次いで、ホスト基含有重合性単量体として上記Ac-CDAAを、ゲスト基含有重合性単量体としてN-(1-アダマンチル)アクリルアミド(以下、「ADAA」と表記、ユシロ化学工業社製)を、第3の重合性単量体として4-ヒドロキシブチルアクリレート(以下、「4HBA」と表記、東京化成工業社製)及びN,N-ジメチルアクリルアミドの混合物を、モル比0.5:0.5:79:20(質量比は7.0:0.7:78.6:13.7)で混合して単量体混合物を調製した。この単量体混合物に、光重合開始剤として、Omnirad184(登録商標)を表1に示す配合量(重量%)で添加し、紫外線を照射して、単量体混合物の重合反応を行った。この重合反応は、シリコンシートで作製した70×10×3mmの大きさの鋳型に単量体混合物を収容し、紫外線照射装置(アズワン社製「SLUV-8」)を使用して紫外線波長366nm、照射強度1.6~1.7mW/cm2(実測値)で5分間照射することで重合反応を行った。当該重合反応により、ホスト-ゲスト型架橋構造体(架橋構造体A2)を得た。
(製造例3:架橋構造体A3)
ホスト基含有重合性単量体として上記Ac-CDAAを、ゲスト基含有重合性単量体としてADAAを、第3の重合性単量体としてフェノキシエチルアクリレートをモル比1:1:98で混合して単量体混合物を調製したこと以外は製造例2と同様の方法で架橋構造体(架橋構造体A3)を得た。
ホスト基含有重合性単量体として上記Ac-CDAAを、ゲスト基含有重合性単量体としてADAAを、第3の重合性単量体としてフェノキシエチルアクリレートをモル比1:1:98で混合して単量体混合物を調製したこと以外は製造例2と同様の方法で架橋構造体(架橋構造体A3)を得た。
(製造例4:架橋構造体A4)
ホスト基含有重合性単量体として上記Ac-CDAAを、ゲスト基含有重合性単量体としてADAAを、第3の重合性単量体としてエチルアクリレートをモル比1:1:98で混合して単量体混合物を調製したこと以外は製造例2と同様の方法で架橋構造体(架橋構造体A4)を得た。
ホスト基含有重合性単量体として上記Ac-CDAAを、ゲスト基含有重合性単量体としてADAAを、第3の重合性単量体としてエチルアクリレートをモル比1:1:98で混合して単量体混合物を調製したこと以外は製造例2と同様の方法で架橋構造体(架橋構造体A4)を得た。
(製造例5:架橋構造体A5)
ホスト基含有重合性単量体として上記Ac-CDAAを、ゲスト基含有重合性単量体としてADAAを、第3の重合性単量体としてメチルアクリレートをモル比1:1:98で混合して単量体混合物を調製したこと以外は製造例2と同様の方法で架橋構造体(架橋構造体A5)を得た。
ホスト基含有重合性単量体として上記Ac-CDAAを、ゲスト基含有重合性単量体としてADAAを、第3の重合性単量体としてメチルアクリレートをモル比1:1:98で混合して単量体混合物を調製したこと以外は製造例2と同様の方法で架橋構造体(架橋構造体A5)を得た。
(製造例6:架橋構造体A6)
ホスト基含有重合性単量体として上記Ac-CDAAを、ゲスト基含有重合性単量体としてADAAを、第3の重合性単量体としてブチルアクリレートをモル比1:1:98で混合して単量体混合物を調製したこと以外は製造例2と同様の方法で架橋構造体(架橋構造体A6)を得た。
ホスト基含有重合性単量体として上記Ac-CDAAを、ゲスト基含有重合性単量体としてADAAを、第3の重合性単量体としてブチルアクリレートをモル比1:1:98で混合して単量体混合物を調製したこと以外は製造例2と同様の方法で架橋構造体(架橋構造体A6)を得た。
[高分子複合材料の製造]
(実施例1-1)
スラリーからの粉末調製
架橋構造体として、製造例1で得られた架橋構造体A1と、溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミドないしN-メチルピロリドンとを混合し、ボールミルで粉砕しつつ、固形分濃度が10質量%であるスラリーを調製した。このスラリーを150℃に加熱・風乾することで、溶媒を除去させ、架橋構造体A1の粉末1を得た。
高分子複合材料の合成
第1のポリマーとして前記粉末1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比で0.5:99.5となるように混合して混合物を調製し、この混合物に重合開始剤としてOmnirad184(登録商標)を重合性単量体に対し0.2質量%加えた。次いで、混合物をシリコンシートで作製した70×10×3mmの大きさの鋳型に収容し、紫外線照射装置(アズワン社製「SLUV-8」)を使用して紫外線波長366nm、照射強度1.6~1.7mW/cm2(実測値)で5分間照射することで重合反応を行った。当該重合反応により、高分子複合体を得た。
(実施例1-1)
スラリーからの粉末調製
架橋構造体として、製造例1で得られた架橋構造体A1と、溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミドないしN-メチルピロリドンとを混合し、ボールミルで粉砕しつつ、固形分濃度が10質量%であるスラリーを調製した。このスラリーを150℃に加熱・風乾することで、溶媒を除去させ、架橋構造体A1の粉末1を得た。
高分子複合材料の合成
第1のポリマーとして前記粉末1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比で0.5:99.5となるように混合して混合物を調製し、この混合物に重合開始剤としてOmnirad184(登録商標)を重合性単量体に対し0.2質量%加えた。次いで、混合物をシリコンシートで作製した70×10×3mmの大きさの鋳型に収容し、紫外線照射装置(アズワン社製「SLUV-8」)を使用して紫外線波長366nm、照射強度1.6~1.7mW/cm2(実測値)で5分間照射することで重合反応を行った。当該重合反応により、高分子複合体を得た。
(実施例1-2)
第1のポリマーとして前記粉末1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比で60:40となるように混合したこと以外は実施例1-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記粉末1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比で60:40となるように混合したこと以外は実施例1-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例1-3)
第1のポリマーとして前記粉末1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比で50:50となるように混合したこと以外は実施例1-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記粉末1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比で50:50となるように混合したこと以外は実施例1-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例1-4)
第1のポリマーとして前記粉末1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比で40:60となるように混合したこと以外は実施例1-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記粉末1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比で40:60となるように混合したこと以外は実施例1-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例1-5)
第1のポリマーとして前記粉末1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比で10:90となるように混合したこと以外は実施例1-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記粉末1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比で10:90となるように混合したこと以外は実施例1-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例1-6)
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例1-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例1-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例1-7)
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例1-2と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例1-2と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例1-8)
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例1-3と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例1-3と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例1-9)
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例1-4と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例1-4と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例1-10)
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例1-5と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例1-5と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例1-11)
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例1-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例1-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例1-12)
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例1-2と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例1-2と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例1-13)
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例1-3と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例1-3と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例1-14)
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例1-4と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例1-4と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例1-15)
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例1-5と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例1-5と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例2-1)
スラリーの調製
架橋構造体として、製造例3で得られた架橋構造体A3と、溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミドないしテトラヒドロフランとを混合し、ボールミルで粉砕しつつ、固形分濃度が10質量%であるスラリー1を調製した。
高分子複合材料の合成
第1のポリマーとして前記スラリー1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比(ただし、スラリー1は固形分換算)で60:40となるように混合して混合物を調製し、この混合物に重合開始剤としてOmnirad184(登録商標)を重合性単量体に対し0.2質量%加えた。次いで、混合物をシリコンシートで作製した70×10×3mmの大きさの鋳型に収容し、紫外線照射装置(アズワン社製「SLUV-8」)を使用して紫外線波長366nm、照射強度1.6~1.7mW/cm2(実測値)で5分間照射することで重合反応を行った。当該重合反応により、高分子複合体を得た。
スラリーの調製
架橋構造体として、製造例3で得られた架橋構造体A3と、溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミドないしテトラヒドロフランとを混合し、ボールミルで粉砕しつつ、固形分濃度が10質量%であるスラリー1を調製した。
高分子複合材料の合成
第1のポリマーとして前記スラリー1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比(ただし、スラリー1は固形分換算)で60:40となるように混合して混合物を調製し、この混合物に重合開始剤としてOmnirad184(登録商標)を重合性単量体に対し0.2質量%加えた。次いで、混合物をシリコンシートで作製した70×10×3mmの大きさの鋳型に収容し、紫外線照射装置(アズワン社製「SLUV-8」)を使用して紫外線波長366nm、照射強度1.6~1.7mW/cm2(実測値)で5分間照射することで重合反応を行った。当該重合反応により、高分子複合体を得た。
(実施例2-2)
第1のポリマーとして前記スラリー1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比(ただし、スラリー1は固形分換算)で50:50となるように混合したこと以外は実施例2-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記スラリー1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比(ただし、スラリー1は固形分換算)で50:50となるように混合したこと以外は実施例2-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例2-3)
第1のポリマーとして前記スラリー1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比(ただし、スラリー1は固形分換算)で40:60となるように混合したこと以外は実施例2-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記スラリー1と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比(ただし、スラリー1は固形分換算)で40:60となるように混合したこと以外は実施例2-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例2-4)
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例2-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例2-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例2-5)
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例2-2と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例2-2と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例2-6)
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例2-3と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例2-3と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例2-7)
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例2-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例2-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例2-8)
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例2-2と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例2-2と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例2-9)
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例2-3と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例2-3と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例3-1)
スラリーの調製
架橋構造体として、製造例3で得られた架橋構造体A3と、溶媒としてN,N―ジメチルホルムアミドないしN-メチルピロリドンとを混合し、ボールミルで粉砕しつつ、固形分濃度が10質量%であるスラリー2を調製した。
高分子複合材料の合成
第1のポリマーとして前記スラリー2と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比(ただし、スラリー2は固形分換算)で60:40となるように混合して混合物を調製し、この混合物に重合開始剤としてOmnirad184(登録商標)を重合性単量体に対し0.2質量%加えた。次いで、混合物をアルミニウムホイル基材上にキャストしてキャスト膜を形成させ、このキャスト膜に紫外線照射装置(アズワン社製「SLUV-8」)を使用して紫外線波長366nm、照射強度1.6~1.7mW/cm2(実測値)で5分間照射することで重合反応を行った。当該重合反応により、高分子複合体を得た。
スラリーの調製
架橋構造体として、製造例3で得られた架橋構造体A3と、溶媒としてN,N―ジメチルホルムアミドないしN-メチルピロリドンとを混合し、ボールミルで粉砕しつつ、固形分濃度が10質量%であるスラリー2を調製した。
高分子複合材料の合成
第1のポリマーとして前記スラリー2と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比(ただし、スラリー2は固形分換算)で60:40となるように混合して混合物を調製し、この混合物に重合開始剤としてOmnirad184(登録商標)を重合性単量体に対し0.2質量%加えた。次いで、混合物をアルミニウムホイル基材上にキャストしてキャスト膜を形成させ、このキャスト膜に紫外線照射装置(アズワン社製「SLUV-8」)を使用して紫外線波長366nm、照射強度1.6~1.7mW/cm2(実測値)で5分間照射することで重合反応を行った。当該重合反応により、高分子複合体を得た。
(実施例3-2)
第1のポリマーとして前記スラリー2と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比(ただし、スラリー2は固形分換算)で50:50となるように混合したこと以外は実施例3-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記スラリー2と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比(ただし、スラリー2は固形分換算)で50:50となるように混合したこと以外は実施例3-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例3-3)
第1のポリマーとして前記スラリー2と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比(ただし、スラリー2は固形分換算)で40:60となるように混合したこと以外は実施例3-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記スラリー2と、重合性単量体としてメチルメタクリレートとを質量比(ただし、スラリー2は固形分換算)で40:60となるように混合したこと以外は実施例3-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例3-4)
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例3-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例3-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例3-5)
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例3-2と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例3-2と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例3-6)
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例3-3と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をアクリル酸に変更したこと以外は実施例3-3と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例3-7)
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例3-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例3-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例3-8)
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例3-2と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例3-2と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例3-9)
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例3-3と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をメタクリル酸に変更したこと以外は実施例3-3と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例4-1)
スラリーからの粉末調製
架橋構造体として、製造例1で得られた架橋構造体A1と、溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミドないしN-メチルピロリドンとを混合し、ボールミルで粉砕しつつ、固形分濃度が10質量%であるスラリーを調製した。このスラリーを150℃に加熱することで、溶媒を除去させ、架橋構造体A1の粉末2を得た。
高分子複合材料の合成
第1のポリマーとして前記粉末2と、重合性単量体としてアクリルアミドとを質量比で0.5:99.5となるように混合して混合物を調製し、この混合物に過硫酸アンモニウム及びN、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミンを重合性単量体に対し0.2質量%加えた。次いで、混合物をシリコンシートで作製した70×10×3mmの大きさの鋳型に収容し、紫外線照射装置(アズワン社製「SLUV-8」)を使用して紫外線波長366nm、照射強度1.6~1.7mW/cm2(実測値)で5分間照射することで重合反応を行った。当該重合反応により、高分子複合体を得た。
スラリーからの粉末調製
架橋構造体として、製造例1で得られた架橋構造体A1と、溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミドないしN-メチルピロリドンとを混合し、ボールミルで粉砕しつつ、固形分濃度が10質量%であるスラリーを調製した。このスラリーを150℃に加熱することで、溶媒を除去させ、架橋構造体A1の粉末2を得た。
高分子複合材料の合成
第1のポリマーとして前記粉末2と、重合性単量体としてアクリルアミドとを質量比で0.5:99.5となるように混合して混合物を調製し、この混合物に過硫酸アンモニウム及びN、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミンを重合性単量体に対し0.2質量%加えた。次いで、混合物をシリコンシートで作製した70×10×3mmの大きさの鋳型に収容し、紫外線照射装置(アズワン社製「SLUV-8」)を使用して紫外線波長366nm、照射強度1.6~1.7mW/cm2(実測値)で5分間照射することで重合反応を行った。当該重合反応により、高分子複合体を得た。
(実施例4-2)
第1のポリマーとして前記粉末2と、重合性単量体としてアクリルアミドとを質量比で1:99となるように混合したこと以外は実施例4-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記粉末2と、重合性単量体としてアクリルアミドとを質量比で1:99となるように混合したこと以外は実施例4-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例4-3)
第1のポリマーとして前記粉末2と、重合性単量体としてアクリルアミドとを質量比で2:98となるように混合したこと以外は実施例4-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記粉末2と、重合性単量体としてアクリルアミドとを質量比で2:98となるように混合したこと以外は実施例4-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例4-4)
第1のポリマーとして前記粉末2と、重合性単量体としてアクリルアミドとを質量比で4:96となるように混合したこと以外は実施例4-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記粉末2と、重合性単量体としてアクリルアミドとを質量比で4:96となるように混合したこと以外は実施例4-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例4-5)
第1のポリマーとして前記粉末2と、重合性単量体としてアクリルアミドとを質量比で10:90となるように混合したこと以外は実施例4-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記粉末2と、重合性単量体としてアクリルアミドとを質量比で10:90となるように混合したこと以外は実施例4-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例4-6)
重合性単量体をN,N-ジメチルアクリルアミドに変更したこと以外は実施例4-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をN,N-ジメチルアクリルアミドに変更したこと以外は実施例4-1と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例4-7)
重合性単量体をN,N-ジメチルアクリルアミドに変更したこと以外は実施例4-2と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をN,N-ジメチルアクリルアミドに変更したこと以外は実施例4-2と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例4-8)
重合性単量体をN,N-ジメチルアクリルアミドに変更したこと以外は実施例4-3と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をN,N-ジメチルアクリルアミドに変更したこと以外は実施例4-3と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例4-9)
重合性単量体をN,N-ジメチルアクリルアミドに変更したこと以外は実施例4-4と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をN,N-ジメチルアクリルアミドに変更したこと以外は実施例4-4と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例4-10)
重合性単量体をN,N-ジメチルアクリルアミドに変更したこと以外は実施例4-5と同様の方法で高分子複合体を得た。
重合性単量体をN,N-ジメチルアクリルアミドに変更したこと以外は実施例4-5と同様の方法で高分子複合体を得た。
(実施例5-1)
シート作成
製造例2で得たAc-CDAAを1mol%と、エチルアクリレートを99mol%とを含む重合性単量体混合物の重合反応をAIBNの存在下、酢酸エチル中で行うことで、厚さ1mmのシート状である可動性架橋型架橋構造体Aを得た。
高分子複合材料の合成
第1のポリマーとして前記シート状架橋構造体Aと、重合性単量体としてN,N-ジメチルアクリルアミド(0.2質量%のOmnirad184(登録商標)を含む)とを質量比で40:60となるように混合してシート状の混合物を調製し、このシート状混合物に、紫外線照射装置(アズワン社製「SLUV-8」)を使用して紫外線波長366nm、照射強度1.6~1.7mW/cm2(実測値)で5分間照射することで重合反応を行った。当該重合反応により、シート状の高分子複合体を得た。
シート作成
製造例2で得たAc-CDAAを1mol%と、エチルアクリレートを99mol%とを含む重合性単量体混合物の重合反応をAIBNの存在下、酢酸エチル中で行うことで、厚さ1mmのシート状である可動性架橋型架橋構造体Aを得た。
高分子複合材料の合成
第1のポリマーとして前記シート状架橋構造体Aと、重合性単量体としてN,N-ジメチルアクリルアミド(0.2質量%のOmnirad184(登録商標)を含む)とを質量比で40:60となるように混合してシート状の混合物を調製し、このシート状混合物に、紫外線照射装置(アズワン社製「SLUV-8」)を使用して紫外線波長366nm、照射強度1.6~1.7mW/cm2(実測値)で5分間照射することで重合反応を行った。当該重合反応により、シート状の高分子複合体を得た。
(実施例5-2)
第1のポリマーとして前記シート状架橋構造体Aと、重合性単量体としてN,N-ジメチルアクリルアミド(0.2質量%のOmnirad184(登録商標)を含む)とを質量比50:50に変更したこと以外は実施例5-1と同様の方法でシート状の高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記シート状架橋構造体Aと、重合性単量体としてN,N-ジメチルアクリルアミド(0.2質量%のOmnirad184(登録商標)を含む)とを質量比50:50に変更したこと以外は実施例5-1と同様の方法でシート状の高分子複合体を得た。
(実施例5-3)
第1のポリマーとして前記シート状架橋構造体Aと、重合性単量体としてN,N-ジメチルアクリルアミド(0.2質量%のOmnirad184(登録商標)を含む)とを質量比60:40に変更したこと以外は実施例5-1と同様の方法でシート状の高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記シート状架橋構造体Aと、重合性単量体としてN,N-ジメチルアクリルアミド(0.2質量%のOmnirad184(登録商標)を含む)とを質量比60:40に変更したこと以外は実施例5-1と同様の方法でシート状の高分子複合体を得た。
(実施例6-1)
シート作成
製造例2で得たAc-CDAAを1mol%と、エチルアクリレートを99mol%とを含む重合性単量体混合物の重合反応をAIBNの存在下、酢酸エチル中で行うことで、厚さ1mmのシート状である可動性架橋型架橋構造体Aを得た。
高分子複合材料の合成
第1のポリマーとして前記シート状可動性架橋型架橋構造体Aと、重合性単量体としてモル比99:1であるN,N-ジメチルアクリルアミド及びPAcγCDAAmMeの混合モノマーを、質量比で40:60となるように混合してシート状の混合物を調製し、このシート状混合物に、紫外線照射装置(アズワン社製「SLUV-8」)を使用して紫外線波長366nm、照射強度1.6~1.7mW/cm2(実測値)で5分間照射することで重合反応を行った。当該重合反応により、シート状の高分子複合体を得た。
シート作成
製造例2で得たAc-CDAAを1mol%と、エチルアクリレートを99mol%とを含む重合性単量体混合物の重合反応をAIBNの存在下、酢酸エチル中で行うことで、厚さ1mmのシート状である可動性架橋型架橋構造体Aを得た。
高分子複合材料の合成
第1のポリマーとして前記シート状可動性架橋型架橋構造体Aと、重合性単量体としてモル比99:1であるN,N-ジメチルアクリルアミド及びPAcγCDAAmMeの混合モノマーを、質量比で40:60となるように混合してシート状の混合物を調製し、このシート状混合物に、紫外線照射装置(アズワン社製「SLUV-8」)を使用して紫外線波長366nm、照射強度1.6~1.7mW/cm2(実測値)で5分間照射することで重合反応を行った。当該重合反応により、シート状の高分子複合体を得た。
なお、PAcγCDAAmMは以下のように調製した。γシクロデキストリン5g(3.9mmol)、N-ヒドロキシメチルアクリルアミド700mg(6.9mmol)及びp-トルエンスルホン酸一水和物95mg(0.6mmol)を秤量し、これらを25mLのN,N-ジメチルホルムアミドに加えて反応液を調製した。溶液をオイルバスで90℃に加熱し、1時間にわたって加熱撹拌することで反応液を得た。次いで、該反応液を放冷し、激しく撹拌しているアセトン45mLに注ぎこんだ。生じた沈殿をろ別した後、10mLのアセトンで三回洗浄し常温で一時間減圧乾燥することで反応物を得た。反応物を蒸留水100mLに溶解し、多孔質ポリスチレン樹脂(三菱化学ダイヤイオンHP-20)を充填したカラム(見かけ密度600g/L)に通じ、30分間吸着させた。その後、溶液成分を除去し、カラムに新たに10%メタノール(もしくはアセトニトリル)水溶液50mLを3回通じ、ポリスチレン樹脂を洗浄することで未反応γシクロデキストリンを除去した。続いてカラムに25%メタノール水溶液500mLを二回通ずることで、目的物であるアクリルアミドメチルγシクロデキストリン(γCDAAmMeと表記)を溶出させた。溶媒を減圧除去することで、γCDAAmMeを白色粉末として得た。このγCDAAmMe20gをピリジン300mLに溶解し、無水酢酸170.133gを加え、55℃で12時間以上撹拌した。その後、メタノール50mLを加えクエンチし、内容量が200mLになるまでエバポレーターで濃縮した。得られた濃縮液を、水2000mLに滴下し、沈殿を回収した。沈殿をアセトン200mLに溶解し、水2000mLに滴下し、生成した沈殿物を回収し、これを減圧乾燥することにより目的物であるPAcγCDAAmMを得た。
(実施例6-2)
第1のポリマーとして前記シート状可動性架橋型架橋構造体Aと、重合性単量体としてモル比99:1であるN,N-ジメチルアクリルアミド及びPAcγCDAAmMeの混合モノマーを、質量比50:50に変更したこと以外は実施例5-1と同様の方法でシート状の高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記シート状可動性架橋型架橋構造体Aと、重合性単量体としてモル比99:1であるN,N-ジメチルアクリルアミド及びPAcγCDAAmMeの混合モノマーを、質量比50:50に変更したこと以外は実施例5-1と同様の方法でシート状の高分子複合体を得た。
(実施例6-3)
第1のポリマーとして前記シート状可動性架橋型架橋構造体Aと、重合性単量体としてモル比99:1であるN,N-ジメチルアクリルアミド及びPAcγCDAAmMeの混合モノマーを、質量比60:40に変更したこと以外は実施例5-1と同様の方法でシート状の高分子複合体を得た。
第1のポリマーとして前記シート状可動性架橋型架橋構造体Aと、重合性単量体としてモル比99:1であるN,N-ジメチルアクリルアミド及びPAcγCDAAmMeの混合モノマーを、質量比60:40に変更したこと以外は実施例5-1と同様の方法でシート状の高分子複合体を得た。
(比較例1~6)
製造例1~6で得た架橋構造体A1、架橋構造体A2、架橋構造体A3、架橋構造体A4、架橋構造体A5及び架橋構造体A6を準備し、これらを順に比較例1~6とした。
製造例1~6で得た架橋構造体A1、架橋構造体A2、架橋構造体A3、架橋構造体A4、架橋構造体A5及び架橋構造体A6を準備し、これらを順に比較例1~6とした。
<高分子複合材料のヤング率及び破壊エネルギー>
高分子複合材料の力学特性は、引張試験(ストローク-試験力曲線)(島津製作所社製「AUTOGRAPH」(型番:AGX-plus)により、高分子材料の破断点を観測することで評価した。この破断点を終点として、終点までの最大応力を高分子材料の破断応力とした。この引張り試験は、シート状の高分子複合材料の下端を固定し、上端を引張り速度1mm/秒で稼動させるアップ方式で実施した。この測定から、高分子材料のヤング率及び破壊エネルギーを算出した。
高分子複合材料の力学特性は、引張試験(ストローク-試験力曲線)(島津製作所社製「AUTOGRAPH」(型番:AGX-plus)により、高分子材料の破断点を観測することで評価した。この破断点を終点として、終点までの最大応力を高分子材料の破断応力とした。この引張り試験は、シート状の高分子複合材料の下端を固定し、上端を引張り速度1mm/秒で稼動させるアップ方式で実施した。この測定から、高分子材料のヤング率及び破壊エネルギーを算出した。
<高分子材料の自己修復性>
高分子複合材料(厚さ3mm)の中央部を切断して2つに分けた後、両者を80℃で24時間接触させ、再接合を行って試験片を得た。この試験片を用いて、前述の<高分子材料の破断力及び伸び評価>と同様の評価を行い、破断力及び伸びを測定し、切断前後の破断力及び伸びの変化率をそれぞれ算出して、これを回復率(自己修復性の指標)とした。
高分子複合材料(厚さ3mm)の中央部を切断して2つに分けた後、両者を80℃で24時間接触させ、再接合を行って試験片を得た。この試験片を用いて、前述の<高分子材料の破断力及び伸び評価>と同様の評価を行い、破断力及び伸びを測定し、切断前後の破断力及び伸びの変化率をそれぞれ算出して、これを回復率(自己修復性の指標)とした。
表1には、各実施例で得られた高分子複合材料のヤング率及び破壊エネルギーの測定結果並びに自己修復性の結果を示している。実施例で得られた高分子複合材料は、ヤング率が高く、また、高い破壊エネルギーを有するものであり、機械的強度に優れる材料であることがわかった。
Claims (10)
- ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーと、該第1のポリマー以外の第2のポリマーとを含み、
前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された基である、高分子複合材料。 - 前記架橋重合体はゲスト基をさらに有し、前記ホスト基及び前記ゲスト基が包接錯体を形成している、請求項1に記載の高分子複合材料。
- 前記架橋重合体は、前記ホスト基に直鎖状高分子が貫通した構造を有する、請求項1に記載の高分子複合材料。
- 前記架橋重合体が分散して存在している、請求項1~3のいずれか1項に記載の高分子複合材料。
- 前記第2のポリマーは、前記架橋重合体の網目を貫通している、請求項1~4のいずれか1項に記載の高分子複合材料。
- 高分子複合材料の製造方法であって、
下記の工程1
工程1;ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーを含む原料と、重合性単量体とを含む混合物の重合反応により、ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーと、該第1のポリマー以外の第2のポリマーとを含む高分子複合材料を得る工程、
を備え、
前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された基である、高分子複合材料の製造方法。 - 前記工程で使用する前記第1のポリマーを含む原料は、粉末状、ゲル状、スラリー状又は成形体である、請求項6に記載の製造方法。
- 前記重合性単量体は、ラジカル重合性単量体である、請求項6又は7に記載の製造方法。
- ホスト基を有する架橋重合体を含む第1のポリマーが溶媒に溶解、分散又は膨潤したスラリーを含有する、高分子組成物。
- 請求項1~5のいずれか1項に記載の高分子複合材料の製造用である、請求項9に記載の高分子組成物。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2022075994A JP2023165217A (ja) | 2022-05-02 | 2022-05-02 | 高分子複合材料及びその製造方法並びに高分子組成物 |
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