JP2023124692A - 蒸着マスク装置、蒸着マスク装置の製造方法および有機デバイスの製造方法 - Google Patents

蒸着マスク装置、蒸着マスク装置の製造方法および有機デバイスの製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】位置合わせ精度を向上できる蒸着マスク装置、蒸着マスク装置の製造方法および有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】蒸着マスク装置１０は、フレーム１５と、蒸着マスク２０と、アライメントマスク４０と、を備えている。アライメントマスクは、第２方向Ｄ２において互いに異なる位置に位置するとともにフレームに重なる２つの第１アライメントマスク孔４３を含んでいる。第１アライメントマスク孔に対して、第２方向におけるアライメントマスクの外側に、フレームとアライメントマスクとを接合する第１溶接部５１が位置している。第１アライメントマスク孔に対して、第２方向におけるアライメントマスクの内側に、フレームとアライメントマスクとを接合する第２溶接部５２が位置している。【選択図】図２

Description

本開示は、蒸着マスク装置、蒸着マスク装置の製造方法および有機デバイスの製造方法に関する。
スマートフォンやタブレットＰＣ等の持ち運び可能なデバイスで用いられる表示装置の分野において、有機デバイスの一例としての有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置などの有機半導体デバイスの製造方法及び製造装置として、蒸着マスクを用いて画素を形成する方法及び装置が知られている。蒸着マスクには、所望のパターンで配列された貫通孔が形成されているため、画素は、所望のパターンで形成される。例えば、まず、有機ＥＬ表示装置用の基板に、フレームに固定された状態の蒸着マスクを組み合わせる。続いて、蒸着装置において、有機材料を含む蒸着材料を、蒸着マスクの貫通孔を介して基板に蒸着させる。このような蒸着工程を実施することにより、蒸着マスクの貫通孔に対応したパターンで、蒸着材料を含む蒸着層（又は有機ＥＬ表示装置の発光層）を画素として基板上に形成することができる。蒸着層は、有機ＥＬ表示装置の発光層を構成する。
蒸着マスクとフレームとで構成される装置を蒸着マスク装置と称する場合がある。蒸着マスク装置は、蒸着マスクと基板とが位置合わせされるように、蒸着装置内で位置合わせされる。
特許第５３８２２５９号公報
本開示は、位置合わせ精度を向上できる蒸着マスク装置、蒸着マスク装置の製造方法および有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
本開示による蒸着マスク装置は、フレームと、蒸着マスクと、アライメントマスクと、を備えている。フレームは、第1フレーム面と、第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、第１フレーム面から第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、を含んでいる。蒸着マスクは、第1フレーム面に接合される。蒸着マスクは、フレーム開口に平面視で重なる複数の貫通孔を含んでいる。アライメントマスクは、第１フレーム面に接合される。アライメントマスクは、蒸着マスクと第１方向で並ぶ。アライメントマスクは、第１方向に直交する第２方向において互いに異なる位置に位置するとともにフレームに重なる２つの第１アライメントマスク孔を含んでいる。第１アライメントマスク孔に対して、第２方向におけるアライメントマスクの外側に、フレームとアライメントマスクとを接合する第１溶接部が位置している。第１アライメントマスク孔に対して、第２方向におけるアライメントマスクの内側に、フレームとアライメントマスクとを接合する第２溶接部が位置している。
本開示による蒸着マスク装置は、フレームと、蒸着マスクと、アライメントマスクと、を備えている。フレームは、第1フレーム面と、第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、第１フレーム面から第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、を含んでいる。蒸着マスクは、第１フレーム面に接合される。蒸着マスクは、フレーム開口に平面視で重なる複数の貫通孔を含んでいる。アライメントマスクは、第１フレーム面に接合される。アライメントマスクは、蒸着マスクと第１方向で並ぶ。アライメントマスクは、第１方向に直交する第２方向において互いに異なる位置に位置するとともにフレームに重なる２つの第１アライメントマスク孔を含んでいる。第１アライメントマスク孔に対して、第２方向におけるアライメントマスクの外側に、フレームとアライメントマスクとを接合する第１溶接部が位置している。第１アライメントマスク孔に対して、第１方向における両側に、フレームとアライメントマスクとを接合する第５溶接部が位置している。
本開示による蒸着マスク装置の製造方法は、準備工程と、第１接合工程と、第２接合工程と、を備えている。準備工程において、第1フレーム面と、第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、第１フレーム面から第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、を含むフレームを準備する。第１接合工程において、アライメントマスクを、第１溶接部及び第２溶接部によって第１フレーム面に接合する。第２接合工程において、アライメントマスクと第１方向に並べて、第１フレーム面に、フレーム開口に平面視で重なる複数の貫通孔を含む蒸着マスクを接合する。アライメントマスクは、第１方向に直交する第２方向において互いに異なる位置に位置するとともにフレームに重なる２つの第１アライメントマスク孔を含んでいる。第１溶接部は、第１アライメントマスク孔に対して、第２方向におけるアライメントマスクの外側に位置している。第２溶接部は、第１アライメントマスク孔に対して、第２方向におけるアライメントマスクの内側に位置している。
本開示による蒸着マスク装置の製造方法は、準備工程と、第１接合工程と、第２接合工程と、を備えている。準備工程において、第1フレーム面と、第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、第１フレーム面から第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、を含むフレームを準備する。第１接合工程において、アライメントマスクを、第１溶接部及び第５溶接部によって第１フレーム面に接合する。第２接合工程において、アライメントマスクと第１方向に並べて、第１フレーム面に、フレーム開口に平面視で重なる複数の貫通孔を含む蒸着マスクを接合する。アライメントマスクは、第１方向に直交する第２方向において互いに異なる位置に位置するとともにフレームに重なる２つの第１アライメントマスク孔を含んでいる。第１溶接部は、第１アライメントマスク孔に対して、第２方向におけるアライメントマスクの外側に位置している。第５溶接部は、第１アライメントマスク孔に対して、第１方向における両側に位置している。
本開示による有機ＥＬ表示装置の製造方法は、装置準備工程と、位置合わせ工程と、密着工程と、蒸着工程と、を備えている。装置準備工程において、上述した蒸着マスク装置を準備する。位置合わせ工程において、蒸着マスク装置と基板との位置合わせを行う。密着工程において、蒸着マスク装置の蒸着マスクを基板に密着させる。蒸着工程において、蒸着マスクの貫通孔を通して蒸着材料を基板に蒸着させて蒸着層を形成する。
本開示によれば、位置合わせ精度を向上できる。
本開示の実施形態による蒸着マスク装置を備えた蒸着装置を示す図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置を示す平面図である。 図２に示すＡ－Ａ線に沿った断面を模式的に示す図である。 図２に示すフレームを示す平面図である。 図２に示す蒸着マスク装置における第１フレームアライメント孔を示す断面図であって、図７のＢ－Ｂ線に沿った断面図である。 図２に示す蒸着マスク装置における第２フレームアライメント孔を示す断面図であって、図７のＣ－Ｃ線に沿った断面図である。 図２に示す蒸着マスク装置を示す部分拡大平面図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置の製造方法における第１接合工程を示す図である。 図８に示す第１接合工程において、第１アライメント溶接部および第２アライメント溶接部を形成する様子を示す図である。 図８に示す第１接合工程において、第３アライメント溶接部および第４アライメント溶接部を形成する様子を示す図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置の製造方法における第２接合工程を示す図である。 図１１に示す第２接合工程において、第１アライメントマスク孔を視認する様子を示す図である。 図１１に示す第２接合工程において、貫通孔を視認する様子を示す図である。 本開示の実施形態による有機ＥＬ表示装置の製造方法により得られる有機ＥＬ表示装置を模式的に示す断面図である。 本開示の実施形態による有機ＥＬ表示装置の製造方法における位置合わせ工程を示す図である。 図１５に示す位置合わせ工程において、基板アライメント孔および第２アライメントマスク孔を視認する様子を示す図である。 本開示の実施形態による有機ＥＬ表示装置の製造方法における密着工程を示す図である。 本開示の実施形態による有機ＥＬ表示装置の製造方法における蒸着工程を示す図である。 図７に示す蒸着マスク装置の変形例を示す部分拡大平面図である。 図１９に示す蒸着マスク装置の変形例を示す部分拡大平面図である。
本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、「基板」や「基材」や「板」や「シート」や「フィルム」などのある構成の基礎となる物質を意味する用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。
本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に」や「下に」、「上側に」や「下側に」、又は「上方に」や「下方に」とする場合、ある構成が他の構成に直接的に接している場合を含む。さらに、ある構成と他の構成との間に別の構成が含まれている場合、つまり間接的に接している場合も含む。また、特別な説明が無い限りは、「上」や「上側」や「上方」、又は、「下」や「下側」や「下方」という語句は、上下方向が逆転してもよい。
本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号又は類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。
本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、矛盾の生じない範囲で、その他の実施形態や変形例と組み合わせられ得る。また、その他の実施形態同士や、その他の実施形態と変形例も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられ得る。また、変形例同士も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられ得る。
本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、製造方法などの方法に関して複数の工程を開示する場合に、開示されている工程の間に、開示されていないその他の工程が実施されてもよい。また、開示されている工程の順序は、矛盾の生じない範囲で任意である。
本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、「～」という記号によって表現される数値範囲は、「～」という符号の前後に置かれた数値を含んでいる。例えば、「３４～３８質量％」という表現によって画定される数値範囲は、「３４質量％以上且つ３８質量％以下」という表現によって画定される数値範囲と同一である。
本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、本明細書の一実施形態において、有機ＥＬ表示装置を製造する際に有機材料を所望のパターンで基板上にパターニングするために用いられる蒸着マスクやその製造方法に関した例をあげて説明する。ただし、このような適用に限定されることなく、種々の用途に用いられる蒸着マスクに対し、本実施形態を適用することができる。
以下、本開示の一実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態のみに限定して解釈されるものではない。
本開示の第１の態様は、
第1フレーム面と、前記第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、を含むフレームと、
前記第1フレーム面に接合され、前記フレーム開口に平面視で重なる複数の貫通孔を含む蒸着マスクと、
前記第１フレーム面に接合され、前記蒸着マスクと第１方向で並ぶアライメントマスクと、を備え、
前記アライメントマスクは、前記第１方向に直交する第２方向において互いに異なる位置に位置するとともに前記フレームに重なる２つの第１アライメントマスク孔を含み、
前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの外側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第１溶接部が位置し、
前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの内側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第２溶接部が位置している、蒸着マスク装置、
である。
本開示の第２の態様として、上述した第１の態様による蒸着マスク装置において、
前記第１溶接部は、前記第１方向に並ぶ複数の第１溶接分割部を含み、
前記第２溶接部は、前記第１方向に並ぶ複数の第２溶接分割部を含む、
ようにしてもよい。
本開示の第３の態様として、上述した第１の態様又は上述した第２の態様による蒸着マスク装置において、
前記フレームは、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に向かって延びる、前記第１アライメントマスク孔に平面視で重なる第１フレームアライメント孔を含む、
ようにしてもよい。
本開示の第４の態様として、上述した第３の態様による蒸着マスク装置において、
前記第１フレームアライメント孔は、第１フレーム面から第２フレーム面に貫通している、
ようにしてもよい。
本開示の第５の態様として、上述した第４の態様による蒸着マスク装置において、
前記第１フレームアライメント孔は、前記第１方向及び前記第２方向に直交する第３方向に延びている、
ようにしてもよい。
本開示の第６の態様として、上述した第１の態様から上述した第５の態様のそれぞれによる蒸着マスク装置において、
前記第１アライメントマスク孔は、前記第２方向において前記フレーム開口の両側に位置している、
ようにしてもよい。
本開示の第７の態様として、上述した第１の態様から上述した第６の態様のそれぞれによる蒸着マスク装置において、
前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第１方向における少なくとも一方の側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第５溶接部が位置している、
ようにしてもよい。
本開示の第８の態様として、上述した第１の態様から上述した第７の態様のそれぞれによる蒸着マスク装置において、
前記アライメントマスクは、前記第２方向において互いに異なる位置に位置するとともに前記フレームに重なる２つの第２アライメントマスク孔を含み、
前記第２アライメントマスク孔の各々は、前記第２方向において、一方の前記第２溶接部と他方の前記第２溶接部との間に位置している、
ようにしてもよい。
本開示の第９の態様として、上述した第８の態様による蒸着マスク装置において、
前記第２アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの外側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第３溶接部が位置し、
前記第２アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの内側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第４溶接部が位置している、
ようにしてもよい。
本開示の第１０の態様として、上述した第９の態様による蒸着マスク装置において、
前記第３溶接部は、前記第１方向に並ぶ複数の第３溶接分割部を含み、
前記第４溶接部は、前記第１方向に並ぶ複数の第４溶接分割部を含む、
ようにしてもよい。
本開示の第１１の態様として、上述した第８の態様から上述した第１０の態様のそれぞれによる蒸着マスク装置において、
前記フレームは、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に向かって延びる第２フレームアライメント孔を含み、
前記第２フレームアライメント孔は、前記第１フレーム面に位置する、前記第２アライメントマスク孔に平面視で重なるアライメントフレーム開口を含む、
ようにしてもよい。
本開示の第１２の態様として、上述した第１１の態様による蒸着マスク装置において、
前記第２フレームアライメント孔は、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に貫通している、
ようにしてもよい。
本開示の第１３の態様として、上述した第１２の態様による蒸着マスク装置において、
前記第２フレームアライメント孔は、前記第１フレーム面に対して傾斜している、
ようにしてもよい。
本開示の第１４の態様として、上述した第８の態様から上述した第１３の態様のそれぞれによる蒸着マスク装置において、
前記第２アライメントマスク孔は、前記第１方向において前記フレーム開口の一方の側に位置している、
ようにしてもよい。
本開示の第１５の態様として、上述した第８の態様から上述した第１４の態様のそれぞれによる蒸着マスク装置において、
前記第２アライメントマスク孔に対して、前記第１方向における少なくとも一方の側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第６溶接部が位置している、
ようにしてもよい。
本開示の第１６の態様は、
第1フレーム面と、前記第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、を含むフレームと、
前記第1フレーム面に接合され、前記フレーム開口に平面視で重なる複数の貫通孔を含む蒸着マスクと、
前記第１フレーム面に接合され、前記蒸着マスクと第１方向で並ぶアライメントマスクと、を備え、
前記アライメントマスクは、前記第１方向に直交する第２方向において互いに異なる位置に位置するとともに前記フレームに重なる２つの第１アライメントマスク孔を含み、
前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの外側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第１溶接部が位置し、
前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第１方向における両側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第５溶接部が位置している、蒸着マスク装置、
である。
本開示の第１７の態様として、上述した第１６の態様による蒸着マスク装置において、
前記アライメントマスクは、前記第２方向において互いに異なる位置に位置するとともに前記フレームに重なる２つの第２アライメントマスク孔を含み、
前記第２アライメントマスク孔の各々は、前記第２方向において、一方の前記第１アライメントマスク孔と他方の前記第１アライメントマスク孔との間に位置している、
ようにしてもよい。
本開示の第１８の態様として、上述した第１７の態様による蒸着マスク装置において、
前記第２アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの外側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第３溶接部が位置し、
前記第２アライメントマスク孔に対して、前記第１方向における両側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第６溶接部が位置している、
ようにしてもよい。
本開示の第１９の態様は、
第1フレーム面と、前記第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、を含むフレームを準備する準備工程と、
アライメントマスクを、第１溶接部及び第２溶接部によって前記第１フレーム面に接合する第１接合工程と、
前記アライメントマスクと第１方向に並べて、前記第１フレーム面に、前記フレーム開口に平面視で重なる複数の貫通孔を含む蒸着マスクを接合する第２接合工程と、を備え、
前記アライメントマスクは、前記第１方向に直交する第２方向において互いに異なる位置に位置するとともに前記フレームに重なる２つの第１アライメントマスク孔を含み、
前記第１溶接部は、前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの外側に位置し、
前記第２溶接部は、前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの内側に位置している、蒸着マスク装置の製造方法、
である。
本開示の第２０の態様は、
第1フレーム面と、前記第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、を含むフレームを準備する準備工程と、
アライメントマスクを、第１溶接部及び第５溶接部によって前記第１フレーム面に接合する第１接合工程と、
前記アライメントマスクと第１方向に並べて、前記第１フレーム面に、前記フレーム開口に平面視で重なる複数の貫通孔を含む蒸着マスクを接合する第２接合工程と、を備え、
前記アライメントマスクは、前記第１方向に直交する第２方向において互いに異なる位置に位置するとともに前記フレームに重なる２つの第１アライメントマスク孔を含み、
前記第１溶接部は、前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの外側に位置し、
前記第５溶接部は、前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第１方向における両側に位置している、蒸着マスク装置の製造方法、
である。
なお、上述した第１９の態様から上述した第２０の態様はそれぞれ、第１９の態様から第２０の態様のそれぞれの蒸着マスク装置の製造方法によって製造された蒸着マスク装置であってもよい。
本開示の第２１の態様は、
上述した第１の態様から上述した第１８の態様のそれぞれによる蒸着マスク装置を準備する装置準備工程と、
前記蒸着マスク装置と基板との位置合わせを行う位置合わせ工程と、
前記蒸着マスク装置の前記蒸着マスクを基板に密着させる密着工程と、
前記蒸着マスクの前記貫通孔を通して蒸着材料を前記基板に蒸着させて蒸着層を形成する蒸着工程と、を備えた有機デバイスの製造方法、
である。
なお、上述した第２１の態様は、第２１の態様の有機デバイスの製造方法により製造された有機デバイスであってもよい。
以下、本開示の一実施形態による蒸着マスク装置、蒸着マスク装置の製造方法及び有機デバイスの製造方法について、図１～図２０を参照して説明する。
まず、対象物に蒸着材料を蒸着させる蒸着処理を実施する蒸着装置８０について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、蒸着装置８０は、るつぼ８１等の蒸着源と、ヒータ８３と、蒸着マスク装置１０と、を備えていてもよい。蒸着装置８０は、蒸着装置８０の内部を真空雰囲気にするための排気手段（図示せず）を更に備えていてもよい。るつぼ８１は、蒸着装置８０の内部に設けられており、有機発光材料などの蒸着材料８２を収容するように構成されている。ヒータ８３は、るつぼ８１を加熱するように構成されている。真空雰囲気でるつぼ８１を加熱することにより、蒸着材料８２が蒸発する。
蒸着マスク装置１０は、るつぼ８１に対向するように蒸着装置８０内に位置していてもよい。蒸着マスク装置１０は、るつぼ８１の上方に位置していてもよい。蒸着マスク装置１０の蒸着マスク２０に対面するように基板９１が位置している。基板９１は、蒸着材料８２を付着させる対象物である。基板９１は、蒸着マスク２０の上方に位置していてもよい。基板９１は、図示しないクランプに把持されて保持されていてもよい。るつぼ８１から飛来した蒸着材料は、蒸着マスク２０の後述する貫通孔２５を通って、基板９１に付着する。
図１に示すように、蒸着装置８０は、基板９１の上方に位置する磁石８５を備えていてもよい。磁石８５を設けることにより、磁力によって蒸着マスク２０が磁石８５に向かって引き寄せて、蒸着マスク２０を基板９１に密着できる。これにより、蒸着工程においてシャドー（後述）が発生することを抑制でき、基板９１に付着した蒸着材料８２によって形成される蒸着層の形状精度や位置精度を高めることができる。蒸着層は、後述する有機ＥＬ表示装置９０の発光層９２（図１４参照）に相当する。基板９１と磁石８５との間には、蒸着時に基板９１を冷却する冷却板（図示せず）が介在されていてもよい。
次に、本開示の一実施形態による蒸着マスク装置１０について、図２～図７を参照して説明する。
図２及び図３に示すように、本実施形態による蒸着マスク装置１０は、フレーム１５と、フレーム１５上に設けられた蒸着マスク２０と、フレーム１５上に設けられたアライメントマスク４０と、を備えていてもよい。フレーム１５上には、第１方向Ｄ１に並んだ２つ以上の蒸着マスク２０が接合されていてもよい。本実施形態では、蒸着マスク２０は、第１方向Ｄ１に直交する第２方向Ｄ２が長手方向となるように細長状に形成されている。蒸着マスク２０は、第２方向Ｄ２に一列状に配列された複数の貫通孔群２６を有している。複数の蒸着マスク２０は、第１方向Ｄ１に並んで、フレーム１５に固定されていてもよい。
フレーム１５は、蒸着マスク２０をフレーム１５の平面に沿った方向に引っ張った状態で支持されていてもよい。この場合、蒸着マスク２０が撓むことを抑制できる。このように、蒸着マスク２０は、フレーム１５に架張して固定されていてもよい。
図３に示すように、フレーム１５は、第１フレーム面１５ａと、第２フレーム面１５ｂと、を含んでいてもよい。第１フレーム面１５ａは、蒸着マスク２０に接する面であってもよい。第１フレーム面１５ａに、蒸着マスク２０が接合されていてもよい。第２フレーム面１５ｂは、第１フレーム面１５ａとは反対側に位置していてもよい。なお、図３は、図２のＡ－Ａ線断面を模式的に示した図であり、図面を明瞭にするために、後述する貫通孔群２６の個数及び貫通孔２５の個数を少なくしている。
図２及び図４に示すように、フレーム１５は、平面視で矩形の枠の形状に形成されていてもよい。フレーム１５は、フレーム開口１６を含んでいてもよい。フレーム開口１６は、第１フレーム面１５ａから第２フレーム面１５ｂに貫通していてもよい。フレーム開口１６は、平面視で、蒸着マスク２０の貫通孔群２６に重なっていてもよい。図２に示す例では、フレーム開口１６は、平面視で、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に沿うように矩形の形状に形成されている。ここで、「平面視」とは、蒸着マスク２０の厚み方向で見ることを意味する用語であって、例えば、図２の紙面に垂直な方向で見ることを意味する用語とする。厚み方向は、第１方向Ｄ１に直交するとともに第２方向Ｄ２に直交する方向であり、以下、第３方向Ｄ３と称する。
フレーム１５は、２つの第１延在部分１５ｃと、２つの第２延在部分１５ｄと、を含んでいてもよい。第１延在部分１５ｃは、第１方向Ｄ１において、フレーム開口１６の両側に位置している。２つの第１延在部分１５ｃの間に、フレーム開口１６が位置している。第２延在部分１５ｄは、第２方向Ｄ２において、フレーム開口１６の両側に位置している。２つの第２延在部分１５ｄの間に、フレーム開口１６が位置している。第１延在部分１５ｃ及び第２延在部分１５ｄは、一体に連続状に形成されて、フレーム１５が構成されている。
図４に示すように、フレーム１５は、４つの第１フレームアライメント孔１７と、４つの第２フレームアライメント孔１８と、を含んでいてもよい。
第１フレームアライメント孔１７は、フレーム１５とアライメントマスク４０との位置合わせを行うための孔であってもよい。第１フレームアライメント孔１７は、後述する第２接合工程において、フレーム１５の第２フレーム面１５ｂの側から第１アライメントマスク孔４３を視認させるための孔であってもよい（図１２参照）。
図５に示すように、第１フレームアライメント孔１７は、第１フレーム面１５ａから第２フレーム面１５ｂに向かって延びていてもよい。第１フレームアライメント孔１７は、第３方向Ｄ３に延びていてもよい。第１フレームアライメント孔１７は、第１フレーム面１５ａに垂直に延びていてもよく、第２フレーム面１５ｂに垂直に延びていてもよい。第１フレームアライメント孔１７は、第１フレーム面１５ａから第２フレーム面１５ｂに貫通していてもよい。しかしながら、第１フレームアライメント孔１７は、アライメントマスク４０の後述する第１アライメントマスク面４０ａの側から第１アライメントマスク孔４３を視認できれば、フレーム１５を貫通していなくてもよい。第１フレームアライメント孔１７の平面形状は任意であるが、図７に示すように円形の形状であってもよい。
図４に示すように、４つの第１フレームアライメント孔１７は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に沿った四角形の頂点に位置していてもよい。第２方向Ｄ２に並んだ２つの第１フレームアライメント孔１７は、第２方向Ｄ２においてフレーム開口１６の両側に位置していてもよい。図４に示す例では、上側に位置する第１フレームアライメント孔１７は、フレーム開口１６の上側に位置し、下側に位置する第１フレームアライメント孔１７は、フレーム開口１６の下側に位置している。第２方向Ｄ２に並んだ２つの第１フレームアライメント孔１７は、１つのアライメントマスク４０の後述する第１アライメントマスク孔４３に対応している。
第２フレームアライメント孔１８は、有機ＥＬ表示装置９０の製造方法の位置合わせ工程において用いられる孔であってもよい。より具体的には、第２フレームアライメント孔１８は、蒸着装置８０内で蒸着マスク装置１０と基板９１とを位置合わせを行う際に、第２アライメントマスク孔４４の視認性を向上させるための孔であってもよい。第２アライメントマスク孔４４の視認性が向上することにより、蒸着マスク装置１０の位置合わせの精度を向上できる。
図６に示すように、第２フレームアライメント孔１８は、第１フレーム面１５ａから第２フレーム面１５ｂに向かって延びていてもよい。第２フレームアライメント孔１８は、第１フレーム面１５ａに対して傾斜していてもよく、第２フレーム面１５ｂに対して傾斜していてもよい。第２フレームアライメント孔１８は、第１フレーム面１５ａから第２フレーム面１５ｂに貫通していてもよい。しかしながら、第２フレームアライメント孔１８は、後述するアライメントフレーム開口１８ａを含んでいれば、フレーム１５を貫通していなくてもよい。
第２フレームアライメント孔１８は、第１フレーム面１５ａに位置するアライメントフレーム開口１８ａを含んでいてもよい。アライメントフレーム開口１８ａは、後述する第２アライメントマスク孔４４に平面視で重なっていてもよい。アライメントフレーム開口１８ａの平面形状は任意であるが、図７に示すように円形の形状であってもよい。
図４に示すように、フレーム１５は、４つの第２フレームアライメント孔１８を含んでいてもよい。４つの第２フレームアライメント孔１８は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に沿った四角形の頂点に位置していてもよい。第１方向Ｄ１に並んだ２つの第２フレームアライメント孔１８は、第１方向Ｄ１においてフレーム開口１６の両側に位置していてもよい。図４に示す例では、左側に位置する第２フレームアライメント孔１８は、フレーム開口１６の左側に位置し、右側に位置する第２フレームアライメント孔１８は、フレーム開口１６の右側に位置している。第２方向Ｄ２に並んだ２つの第２フレームアライメント孔１８は、１つのアライメントマスク４０の後述する第２アライメントマスク孔４４に対応している。
フレーム１５は、後述する蒸着マスク２０を構成する材料と同じ材料で構成されていてもよい。しかしながら、このことに限られることはなく、蒸着マスク２０とは異なる材料で構成されていてもよい。
図３に示すように、フレーム１５は、第１フレーム面１５ａから第２フレーム面１５ｂにわたる厚みＨ１を有している。厚みＨ１は、例えば、１０ｍｍ以上であってもよく、１５ｍｍ以上であってもよく、２０ｍｍ以上であってもよく、２５ｍｍ以上であってもよい。厚みＨ１を１０ｍｍ以上とすることにより、架張した蒸着マスク２０から受ける張力によって変形することを抑制できる。また、厚みＨ１は、例えば、２５ｍｍ以下であってもよく、４０ｍｍ以下であってもよく、４５ｍｍ以下であってもよく、５０ｍｍ以下であってもよい。厚みＨ１を５０ｍｍ以下とすることにより、質量の増大を抑制できる。厚みＨ１の範囲は、１０ｍｍ、１５ｍｍ、２０ｍｍ及び２５ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、２５ｍｍ、４０ｍｍ、４５ｍｍ及び５０ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。厚みＨ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。厚みＨ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。厚みＨ１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上４５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上１５ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上４５ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上４５ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上４５ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上４５ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、４０ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよく、４０ｍｍ以上４５ｍｍ以下であってもよく、４５ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよい。
次に、本開示の一実施形態による蒸着マスク２０について、図２及び図３を参照して説明する。
図３に示すように、蒸着マスク２０は、第１マスク面２０ａと、第２マスク面２０ｂと、を含んでいてもよい。第１マスク面２０ａは、蒸着時に基板９１（図１参照）に密着する面であってもよい。第２マスク面２０ｂは、第２マスク面２０ｂとは反対側に位置していてもよい。第２マスク面２０ｂは、上述したフレーム１５に接する面であってもよい。
図２及び図３に示すように、蒸着マスク２０は、２つの重なり部２１を含んでいてもよい。重なり部２１は、第２方向Ｄ２における蒸着マスク２０の両側に位置していてもよい。重なり部２１は、第１フレーム面１５ａであって、第２延在部分１５ｄに重なっていてもよい。重なり部２１は、第２方向Ｄ２において、後述する貫通孔群２６よりも平面視で外側に位置している部分である。重なり部２１の一部は、蒸着マスク２０をフレーム１５に接合した後に切断されて、除去される。
図３に示すように、蒸着マスク２０は、２つ以上の貫通孔２５を含んでいてもよい。蒸着マスク２０は、２つ以上の貫通孔２５で構成される貫通孔群２６を含んでいてもよい。本実施形態では、図２に示すように、各蒸着マスク２０は、第２方向Ｄ２に並んだ２つ以上の貫通孔群２６を含んでいる。貫通孔群２６は、第２方向Ｄ２において２つの重なり部２１の間に位置している。
図３に示すように、貫通孔２５は、第１マスク面２０ａから第２マスク面２０ｂに延びており、蒸着マスク２０を貫通している。図３においては、図面を簡略させるために、貫通孔２５の壁面が、第１マスク面２０ａから第２マスク面２０ｂに向かって中心軸線ＣＬから遠ざかるように中心軸線ＣＬに対して直線状に傾斜している例が示されている。このように、貫通孔２５の壁面は、第１マスク面２０ａにおける開口寸法が、第２マスク面２０ｂにおける開口寸法よりも小さくなるように形成されていてもよい。この場合、蒸着装置８０のるつぼ８１から飛来した蒸着材料８２が、基板９１に到達する前に第２マスク面２０ｂに到達することを抑制できる。この場合、蒸着材料８２が、貫通孔２５の壁面に到達して付着することを抑制できる。基板９１に形成される発光層９２の厚みが、貫通孔２５の壁面の近傍で薄くなることを抑制できる。このことにより、シャドーが発生することを抑制できる。シャドーとは、基板９１への蒸着材料８２の付着が貫通孔２５の壁面によって阻害されることを言う。このため、基板９１に付着した蒸着材料８２によって形成される発光層９２（図１４参照）の形状精度や位置精度を向上でき、発光層９２の精細度を高めることができる。なお、貫通孔２５の断面形状についてのより詳細な説明はここでは省略するが、蒸着マスク２０の製造方法に応じて、貫通孔２５の壁面の形状は湾曲の形状であってもよく、任意である。
図２及び図３に示すように、貫通孔群２６は、上述したフレーム１５のフレーム開口１６に重なっており、フレーム開口１６から露出している。貫通孔２５は、フレーム開口１６に平面視で重なっている。全ての貫通孔群２６が、フレーム開口１６に重なっていてもよい。貫通孔群２６は、２つ以上の貫通孔２５が群をなすように構成されていてもよい。貫通孔群２６とは、規則的に配列された複数の貫通孔２５の集合体を意味する用語として用いている。１つの貫通孔群２６を構成する外縁の貫通孔２５は、同様に規則的に配列されている複数の貫通孔２５のうち最も外側に位置する貫通孔２５である。外縁の貫通孔２５の外側には、同様に規則的に配列されて蒸着材料８２の通過を意図する貫通孔２５は存在していなくてもよい。しかしながら、外縁の貫通孔２５の外側には、他の用途の貫通孔や凹部（いずれも図示せず）は形成されていてもよい。これらの他の用途の貫通孔や凹部は、貫通孔２５の配列の規則性を持たずに形成されていてもよく、貫通孔群２６には属していないと考えてもよい。
図２に示すように、複数の貫通孔群２６は、所定の間隔を開けて配列されていてもよい。貫通孔群２６は、第２方向Ｄ２において所定の間隔を開けて配列されていてもよい。図示しないが、貫通孔群２６は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２にそれぞれ配列されて、並列配列されていてもよい。より具体的には、第１方向Ｄ１に沿った１つの列を構成する各貫通孔群２６と、この列と第２方向Ｄ２において隣り合う他の列を構成する各貫通孔群２６とは、第２方向Ｄ２において整列されていてもよい。
１つの貫通孔群２６において、複数の貫通孔２５は、所定の間隔を開けて配列されていてもよい。貫通孔２５は、第１方向Ｄ１において所定の間隔を開けて配列されると共に、第２方向Ｄ２において所定の間隔を開けて配列されていてもよい。貫通孔２５の配列ピッチは、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２で異なっていてもよいが、等しくてもよい。貫通孔２５の配列ピッチは、表示装置又は投影装置の画素密度に応じて、例えば以下のように定められていてもよい。
・画素密度が６００ｐｐｉ以上の場合：ピッチは４２．３μｍ以下
・画素密度が１２００ｐｐｉ以上の場合：ピッチは２１．２μｍ以下
・画素密度が３０００ｐｐｉ以上の場合：ピッチは８．５μｍ以下
・画素密度が５０００ｐｐｉ以上の場合：ピッチは５．１μｍ以下
画素密度が６００ｐｐｉの表示装置又は投影装置は、眼球から１５ｃｍ程度の距離で画像や映像を表示するように用いられてもよく、例えば、スマートフォン用の有機ＥＬ表示装置として用いられてもよい。画素密度が１２００ｐｐｉの表示装置又は投影装置は、眼球から８ｃｍ程度の距離で画像や映像を表示するように用いられてもよく、例えば、仮想現実（いわゆるＶＲ）を表現するための画像や映像を表示又は投影するために用いられてもよい。画素密度が３０００ｐｐｉの表示装置又は投影装置は、眼球から３ｃｍ程度の距離で画像や映像を表示するように用いられてもよく、例えば、拡張現実（いわゆるＡＲ）を表現するための画像や映像を表示又は投影するために用いられてもよい。画素密度が５０００ｐｐｉの表示装置又は投影装置は、眼球から２ｃｍ程度の距離で画像や映像を表示するように用いられてもよく、例えば、拡張現実を表現するための画像や映像を表示又は投影するために用いられてもよい。
なお、１つの貫通孔群２６における貫通孔２５は、並列配列ではなく、千鳥配列（図示せず）されていてもよい。すなわち、第１方向Ｄ１に沿った１つの列を構成する各貫通孔２５と、この列と第２方向Ｄ２において隣り合う他の列を構成する各貫通孔２５とは、第２方向Ｄ２において整列されていなくてもよい。１つの列を構成する各貫通孔２５と、隣り合う他の列を構成する貫通孔２５とは、第１方向Ｄ１においてずれて配列されていてもよい。そのずれ量は、第１方向Ｄ１における配列ピッチＣ１の半分になっていてもよいが、ずれ量は任意である。
貫通孔２５は、平面視において、略矩形形状の輪郭を有していてもよい。輪郭の形状は、画素の形状に応じて任意に定められ得る。例えば、六角形、八角形などのその他の多角形の形状を有していてもよく、円形の形状を有していてもよい。また、輪郭の形状は、複数の形状の組み合わせであってもよい。また、貫通孔２５はそれぞれ、互いに異なる輪郭の形状を有していてもよい。貫通孔２５が多角形形状の輪郭を有する場合、貫通孔２５の開口寸法は、多角形において対向する一対の辺の間隔としてもよい。
図３において、蒸着マスク２０の第１マスク面２０ａにおける貫通孔２５の開口寸法が、符号Ｓ１で示されている。蒸着マスク２０の第２マスク面２０ｂにおける貫通孔２５の開口寸法が、符号Ｓ２で示されている。符号Ｓ３は、第１マスク面２０ａにおける互いに隣り合う貫通孔２５同士の間の距離を示している。
寸法Ｓ１、寸法Ｓ２及び寸法Ｓ３は、表示装置又は投影装置の画素密度に応じて例えば以下の表１のように定められる。
Figure 2023124692000002
貫通孔群２６は、有効領域２７と称することがある。有効領域２７の周囲に位置する領域は周囲領域２８と称することがある。本実施形態では、周囲領域２８は、１つの有効領域２７を囲んでいる。
蒸着マスク２０を用いて有機ＥＬ表示装置などの表示装置を作製する場合、１つの有効領域２７は、１つの有機ＥＬ表示装置の表示領域に対応する。このため、図２に示す蒸着マスク２０によれば、有機ＥＬ表示装置の多面付蒸着が可能である。１つの有効領域２７が複数の表示領域に対応してもよい。
有効領域２７は、例えば、平面視において略矩形の形状の輪郭を有していてもよい。有効領域２７の輪郭は、対応する貫通孔群２６のうち最も外側に位置する貫通孔２５に外側から接する線によって画定されてもよい。より詳細には、有効領域２７の輪郭は、貫通孔２５の開口に接する線によって画定されていてもよい。図２に示す例においては、有効領域２７の輪郭が、略矩形の形状の輪郭となっている。図示はしないが、各有効領域２７は、有機ＥＬ表示装置の表示領域の形状に応じて、様々な形状の輪郭を有していてもよい。例えば、各有効領域２７は、円形の形状の輪郭を有していてもよい。
図３に示すように、蒸着マスク２０は、第１マスク面２０ａから第２マスク面２０ｂにわたる厚みＨ２を有している。厚みＨ２は、例えば、２μｍ以上であってもよく、５μｍ以上であってもよく、１０μｍ以上であってもよく、１５μｍ以上であってもよい。厚みＨ２を２μｍ以上とすることにより、蒸着マスク２０の機械的強度を確保できる。また、厚みＨ２は、例えば、２０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以下であってもよく、５０μｍ以下であってもよい。厚みＨ２を５０μｍ以下とすることにより、シャドーが発生することを抑制できる。厚みＨ２の範囲は、２μｍ、５μｍ、１０μｍ及び１５μｍからなる第１グループ、及び／又は、２０μｍ、３０μｍ、４０μｍ及び５０μｍからなる第２グループによって定められてもよい。厚みＨ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。厚みＨ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。厚みＨ２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、２μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、２μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、２μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、２μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、２μｍ以上１０μｍ以下であってもよく、２μｍ以上５μｍ以下であってもよく、５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、５μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、５μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、５μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、５μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、５μｍ以上１０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以上５０μｍ以下であってもよい。
蒸着マスク２０は、金属材料で構成されていてもよい。金属材料は、磁性金属材料であってもよい。蒸着マスク２０は、例えば、ニッケルを含む鉄合金で構成されていてもよい。鉄合金は、ニッケルに加えてコバルトを更に含んでいてもよい。例えば、蒸着マスク２０の材料として、ニッケル及びコバルトの含有量が合計で３０質量％以上且つ５４質量％以下であり、且つコバルトの含有量が０質量％以上且つ６質量％以下である鉄合金を用いてもよい。ニッケルを含む鉄合金の具体例としては、３４質量％以上且つ３８質量％以下のニッケルを含むインバー材、３８質量％以上且つ５４質量％以下のニッケルを含む低熱膨張Ｆｅ－Ｎｉ系めっき合金などが挙げられる。ニッケル及びコバルトを含む鉄合金の具体例としては、３０質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルに加えてさらにコバルトを含むスーパーインバー材などが挙げられる。このような鉄合金を用いることにより、蒸着マスク２０の熱膨張係数を低くできる。例えば、基板９１としてガラス基板が用いられる場合に、蒸着マスク２０の熱膨張係数を、ガラス基板と同等の低い値にできる。これにより、蒸着工程の際、基板９１に形成される発光層９２の形状精度や位置精度が、蒸着マスク２０と基板９１との間の熱膨張係数の差に起因して低下することを抑制できる。
蒸着マスク２０を構成する材料としては、熱膨張係数をガラス基板と同等の低い値にしなくてもよい場合には、上述した鉄合金の代わりに、例えば、単体のニッケルで構成されていてもよく、又はコバルトを含むニッケル合金で構成されていてもよい。コバルトを含むニッケル合金で構成される場合には、蒸着マスク２０の材料として、コバルトの含有量が、８質量％以上且つ１０質量％以下であるニッケル合金が用いられてもよい。このようなニッケル又はニッケル合金を用いることにより、蒸着マスク２０をめっき処理で製造する場合には、蒸着マスク２０をなすめっき被膜を析出させるめっき液を安定させることができ、管理を容易にさせるとともに取扱性を向上できる。めっき被膜の成分を均等にでき、蒸着マスク２０の品質を向上できる。
図２、図３及び図７に示すように、蒸着マスク２０に、蒸着マスク溶接部３０が形成されていてもよい。蒸着マスク溶接部３０は、フレーム１５と蒸着マスク２０とを接合している。
蒸着マスク溶接部３０は、重なり部２１に位置していてもよい。蒸着マスク溶接部３０は、第１方向Ｄ１に並ぶ複数の溶接分割部３０ａを含んでいてもよい。溶接分割部３０ａは、平面視で点状に形成されていてもよく、蒸着マスク２０からフレーム１５にわたって形成されていてもよい。例えば、スポット溶接によって、溶接分割部３０ａが形成されていてもよい。溶接分割部３０ａの個数は１つでもよく、２つ以上でもよく、任意である。
蒸着マスク溶接部３０は、複数の溶接分割部３０ａを含んでいることに限られることはない。例えば、図示しないが、蒸着マスク溶接部３０は、第１方向Ｄ１に連続状に延びるように形成されていてもよい。
次に、本開示の一実施形態によるアライメントマスク４０について、図２及び図５～図７を参照して説明する。
図２に示すように、フレーム１５に、２つのアライメントマスク４０が接合されていてもよい。アライメントマスク４０は、フレーム１５の第１フレーム面１５ａに接合されていてもよい。アライメントマスク４０は、フレーム１５に架張して固定されていてもよい。
図５及び図６に示すように、アライメントマスク４０は、第１アライメントマスク面４０ａと、第２アライメントマスク面４０ｂと、を含んでいてもよい。第１アライメントマスク面４０ａは、蒸着時に基板９１が密着する面であってもよい。第２アライメントマスク面４０ｂは、第１アライメントマスク面４０ａとは反対側に位置していてもよい。第２アライメントマスク面４０ｂは、上述したフレーム１５に接する面であってもよい。
図２に示すように、アライメントマスク４０は、第１方向Ｄ１で蒸着マスク２０と並んでいてもよい。より具体的には、アライメントマスク４０は、第１方向Ｄ１において、フレーム開口１６の一方の側に位置していてもよい。一方のアライメントマスク４０は、平面視で一方の第１延在部分１５ｃに重なっており、この第１延在部分１５ｃの近くに位置する蒸着マスク２０と第１方向Ｄ１で並んでいてもよい。他方のアライメントマスク４０は、平面視で他方の第１延在部分１５ｃに重なっており、この第１延在部分１５ｃの近くに位置する蒸着マスク２０と第１方向Ｄ１で並んでいてもよい。図２に示す例においては、左側のアライメントマスク４０は、平面視で左側の第１延在部分１５ｃに重なっており、最も左側に位置する蒸着マスク２０の左側に位置していてもよい。右側のアライメントマスク４０は、平面視で右側の第１延在部分１５ｃに重なっており、最も右側に位置する蒸着マスク２０の右側に位置していてもよい。
図２及び図７に示すように、アライメントマスク４０は、２つの第１アライメント重なり部４１と、第２アライメント重なり部４２と、を含んでいてもよい。
第１アライメント重なり部４１は、第２方向Ｄ２においてフレーム開口１６の両側に位置している。第１アライメント重なり部４１は、第１フレーム面１５ａであって第２延在部分１５ｄに平面視で重なっている。図２に示す例においては、上側の第１アライメント重なり部４１は、フレーム開口１６の上側に位置しており、上側の第２延在部分１５ｄに重なっている。下側の第１アライメント重なり部４１は、フレーム開口１６の下側に位置しており、下側の第２延在部分１５ｄに重なっている。
第２アライメント重なり部４２は、第１方向Ｄ１においてフレーム開口１６の一方の側に位置している。第２アライメント重なり部４２は、第１フレーム面１５ａであって第１延在部分１５ｃに平面視で重なっている。図２に示す例においては、左側のアライメントマスク４０の第２アライメント重なり部４２は、フレーム開口１６の左側に位置しており、左側の第１延在部分１５ｃに重なっている。右側のアライメントマスク４０の第２アライメント重なり部４２は、フレーム開口１６の右側に位置しており、右側の第１延在部分１５ｃに重なっている。
図２に示すように、アライメントマスク４０は、２つの第１アライメントマスク孔４３と、２つの第２アライメントマスク孔４４と、を含んでいてもよい。
第１アライメントマスク孔４３は、フレーム１５とアライメントマスク４０との位置合わせを行うための孔であってもよい。第１アライメントマスク孔４３は、後述する第２接合工程において、蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置を規定するための座標の原点を設定するための孔であってもよい。
第１アライメントマスク孔４３は、第２方向Ｄ２において互いに異なる位置に位置するとともにフレーム１５に重なっていてもよい。第１アライメントマスク孔４３は、対応する第１アライメント重なり部４１に位置していてもよい。第１アライメントマスク孔４３は、第２方向Ｄ２においてフレーム開口１６の両側に位置していてもよい。図２に示す例においては、上側の第１アライメントマスク孔４３は、フレーム開口１６の上側に位置しており、下側の第１アライメントマスク孔４３は、フレーム開口１６の下側に位置している。図７に示すように、第１アライメントマスク孔４３は、対応する第１フレームアライメント孔１７に平面視で重なる位置に位置していてもよい。
図５に示すように、第１アライメントマスク孔４３は、第１アライメントマスク面４０ａから第２アライメントマスク面４０ｂに延びており、アライメントマスク４０を貫通していてもよい。しかしながら、第１アライメントマスク孔４３は、フレーム１５とアライメントマスク４０との位置合わせを行うことができるとともに、蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置を規定するための座標の原点を設定することができれば、アライメントマスク４０を貫通していなくてもよい。第１アライメントマスク孔４３の平面形状は任意であるが、図７に示すように円形の形状であってもよい。
図５及び図７に示すように、第１アライメントマスク孔４３は、対応する第１フレームアライメント孔１７に平面視で重なっていてもよい。第１アライメントマスク孔４３及び第１フレームアライメント孔１７の平面形状が円形である場合、第１アライメントマスク孔４３の直径は、第１フレームアライメント孔１７の直径よりも小さくてもよい。
第２アライメントマスク孔４４は、有機ＥＬ表示装置９０の製造方法の位置合わせ工程において用いられる孔であってもよい。より具体的には、第２アライメントマスク孔４４は、蒸着装置８０内で蒸着マスク装置１０と基板９１とを位置合わせを行うための孔であってもよい。
図２及び図７に示すように、第２アライメントマスク孔４４は、第２方向Ｄ２において互いに異なる位置に位置するとともにフレーム１５に重なっていてもよい。第２アライメントマスク孔４４は、第２アライメント重なり部４２に位置していてもよい。第２アライメント重なり部４２に、２つの第２アライメントマスク孔４４が位置していてもよい。２つの第２アライメントマスク孔４４は、第２方向Ｄ２に離間していてもよい。図２に示す例においては、左側のアライメントマスク４０の第２アライメントマスク孔４４は、フレーム開口１６の左側に位置しており、右側のアライメントマスク４０の第２アライメントマスク孔４４は、フレーム開口１６の右側に位置している。
第２アライメントマスク孔４４は、第２方向Ｄ２に並ぶ２つの第２アライメント溶接部５２の間に位置していてもよい。例えば、図２に示すように、第２アライメントマスク孔４４は、第２方向Ｄ２において、上側の第２アライメント溶接部５２と下側の第２アライメント溶接部５２との間に位置していてもよい。
図６に示すように、第２アライメントマスク孔４４は、第１アライメントマスク面４０ａから第２アライメントマスク面４０ｂに延びており、アライメントマスク４０を貫通していてもよい。しかしながら、第２アライメントマスク孔４４は、蒸着マスク装置１０と基板９１との位置合わせを行うことができれば、アライメントマスク４０を貫通していなくてもよい。第２アライメントマスク孔４４の平面形状は任意であるが、図７に示すように円形の形状であってもよい。
図６及び図７に示すように、第２アライメントマスク孔４４は、対応する第２フレームアライメント孔１８のアライメントフレーム開口１８ａに平面視で重なっていてもよい。第２アライメントマスク孔４４及びアライメントフレーム開口１８ａの平面形状が円形である場合、第２アライメントマスク孔４４の直径は、アライメントフレーム開口１８ａの直径よりも大きくなっていてもよい。
図２及び図７に示すように、アライメントマスク４０に、第１アライメント溶接部５１及び第２アライメント溶接部５２が形成されていてもよい。第１アライメント溶接部５１及び第２アライメント溶接部５２は、フレーム１５とアライメントマスク４０とを接合している。第１アライメント溶接部５１は、第１溶接部の一例であり、第２アライメント溶接部５２は、第２溶接部の一例である。
第１アライメント溶接部５１及び第２アライメント溶接部５２は、第１アライメント重なり部４１に位置していてもよい。第１アライメント溶接部５１は、第１アライメントマスク孔４３に対して、第２方向Ｄ２におけるアライメントマスク４０の外側に位置していてもよい。この場合、第１アライメント溶接部５１は、第２方向Ｄ２において、第１アライメントマスク孔４３よりもアライメントマスク４０の中心から遠い位置に位置する。第２アライメント溶接部５２は、第１アライメントマスク孔４３に対して、第２方向Ｄ２におけるアライメントマスク４０の内側に位置していてもよい。この場合、第２アライメント溶接部５２は、第２方向Ｄ２において、第１アライメントマスク孔４３よりもアライメントマスク４０の中心に近い位置に位置する。第２方向Ｄ２において、第１アライメント溶接部５１と第２アライメント溶接部５２との間に、第１アライメントマスク孔４３が位置していてもよい。
図７に示すように、第１アライメント溶接部５１は、第１方向Ｄ１に並ぶ複数の第１溶接分割部５１ａを含んでいてもよい。第２アライメント溶接部５２は、第１方向Ｄ１に並ぶ複数の第２溶接分割部５２ａを含んでいてもよい。第１溶接分割部５１ａ及び第２溶接分割部５２ａは、平面視で点状に形成されていてもよく、アライメントマスク４０からフレーム１５にわたって形成されていてもよい。例えば、スポット溶接によって、第１溶接分割部５１ａ及び第２溶接分割部５２ａが形成されていてもよい。第１溶接分割部５１ａの個数は１つでもよく、２つ以上でもよく、任意である。第２溶接分割部５２ａの個数は１つでもよく、２つ以上でもよく、任意である。第１溶接分割部５１ａ及び第２溶接分割部５２ａは、第１アライメントマスク面４０ａに対して盛り上がらないように形成されていてもよい。
第１アライメント溶接部５１は、複数の第１溶接分割部５１ａを含んでいることに限られることはない。例えば、図示しないが、第１アライメント溶接部５１は、第１方向Ｄ１に連続状に延びるように形成されていてもよい。第２アライメント溶接部５２も同様に、第１方向Ｄ１に連続状に延びるように形成されていてもよい。
図７に示すように、第１アライメント溶接部５１と第１アライメントマスク孔４３とは、距離Ｌ１で離間していてもよい。距離Ｌ１は、平面視で第１アライメント溶接部５１の中心と第１アライメントマスク孔４３の中心との間の第２方向Ｄ２における距離である。第２アライメント溶接部５２と第１アライメントマスク孔４３とは、距離Ｌ２で離間していてもよい。距離Ｌ２は、平面視で第２アライメント溶接部５２の中心と第１アライメントマスク孔４３の中心との間の第２方向Ｄ２における距離である。
距離Ｌ１は、例えば、５．０ｍｍ以上でもよく、５．５ｍｍ以上でもよく、６．０ｍｍ以上でもよい。距離Ｌ１を５．０ｍｍ以上とすることにより、第１アライメントマスク孔４３に対して第１アライメント溶接部５１の溶接歪みの影響が及ぼされることを抑制できる。距離Ｌ１は、例えば、６．５ｍｍ以下でもよく、７．０ｍｍ以下でもよく、７．５ｍｍ以下でもよい。距離Ｌ１を７．５ｍｍ以下とすることにより、第１アライメントマスク孔４３から第１アライメント溶接部５１が遠ざかることを抑制できる。距離Ｌ１の範囲は、５．０ｍｍ、５．５ｍｍ及び６．０ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、６．５ｍｍ、７．０ｍｍ及び７．５ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。距離Ｌ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｌ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｌ１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、５．０ｍｍ以上７．５ｍｍ以下でもよく、５．０ｍｍ以上７．０ｍｍ以下でもよく、５．０ｍｍ以上６．５ｍｍ以下でもよく、５．０ｍｍ以上６．０ｍｍ以下でもよく、５．０ｍｍ以上５．５ｍｍ以下でもよく、５．５ｍｍ以上７．５ｍｍ以下でもよく、５．５ｍｍ以上７．０ｍｍ以下でもよく、５．５ｍｍ以上６．５ｍｍ以下でもよく、５．５ｍｍ以上６．０ｍｍ以下でもよく、６．０ｍｍ以上７．５ｍｍ以下でもよく、６．０ｍｍ以上７．０ｍｍ以下でもよく、６．０ｍｍ以上６．５ｍｍ以下でもよく、６．５ｍｍ以上７．５ｍｍ以下でもよく、６．５ｍｍ以上７．０ｍｍ以下でもよく、７．０ｍｍ以上７．５ｍｍ以下でもよい。
距離Ｌ２は、例えば、３．５ｍｍ以上でもよく、４．０ｍｍ以上でもよく、４．５ｍｍ以上でもよい。距離Ｌ２を３．５ｍｍ以上とすることにより、第１アライメントマスク孔４３に対して第２アライメント溶接部５２の溶接歪みの影響が及ぼされることを抑制できる。距離Ｌ２は、例えば、４．０ｍｍ以下でもよく、４．５ｍｍ以下でもよく、５．０ｍｍ以下でもよい。距離Ｌ２を５．０ｍｍ以下とすることにより、第１アライメントマスク孔４３から第２アライメント溶接部５２が遠ざかることを抑制できる。距離Ｌ２の範囲は、３．５ｍｍ、４．０ｍｍ及び４．５ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、４．０ｍｍ、４．５ｍｍ及び５．０ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。距離Ｌ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｌ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｌ２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、３．５ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよく、３．５ｍｍ以上４．５ｍｍ以下でもよく、３．５ｍｍ以上４．０ｍｍ以下でもよく、３．５ｍｍ以上４．５ｍｍ以下でもよく、３．５ｍｍ以上４．０ｍｍ以下でもよく、４．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよく、４．０ｍｍ以上４．５ｍｍ以下でもよく、４．０ｍｍ以上４．０ｍｍ以下でもよく、４．０ｍｍ以上４．５ｍｍ以下でもよく、４．５ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよく、４．５ｍｍ以上４．５ｍｍ以下でもよく、４．５ｍｍ以上４．０ｍｍ以下でもよく、４．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよく、４．０ｍｍ以上４．５ｍｍ以下でもよく、４．５ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよい。
図２及び図７に示すように、アライメントマスク４０に、第３アライメント溶接部５３及び第４アライメント溶接部５４が形成されていてもよい。第３アライメント溶接部５３及び第４アライメント溶接部５４は、フレーム１５とアライメントマスク４０とを接合している。第３アライメント溶接部５３は、第３溶接部の一例であり、第４アライメント溶接部５４は、第４溶接部の一例である。
第３アライメント溶接部５３及び第４アライメント溶接部５４は、第２アライメント重なり部４２に位置していてもよい。第３アライメント溶接部５３は、第２アライメントマスク孔４４に対して、第２方向Ｄ２におけるアライメントマスク４０の外側に位置していてもよい。この場合、第３アライメント溶接部５３は、第２方向Ｄ２において、第２アライメントマスク孔４４よりもアライメントマスク４０の中心から遠い位置に位置する。第４アライメント溶接部５４は、第２アライメントマスク孔４４に対して、第２方向Ｄ２におけるアライメントマスク４０の内側に位置していてもよい。この場合、第４アライメント溶接部５４は、第２方向Ｄ２において、第２アライメントマスク孔４４よりもアライメントマスク４０の中心に近い位置に位置する。第２方向Ｄ２において、第３アライメント溶接部５３と第４アライメント溶接部５４との間に、第２アライメントマスク孔４４が位置していてもよい。
図７に示すように、第３アライメント溶接部５３は、第１方向Ｄ１に並ぶ複数の第３溶接分割部５３ａを含んでいてもよい。第４アライメント溶接部５４は、第２方向Ｄ２に並ぶ複数の第４溶接分割部５４ａを含んでいてもよい。第３溶接分割部５３ａ及び第４溶接分割部５４ａは、平面視で点状に形成されていてもよく、アライメントマスク４０からフレーム１５にわたって形成されていてもよい。例えば、スポット溶接によって、第３溶接分割部５３ａ及び第４溶接分割部５４ａが形成されていてもよい。第３溶接分割部５３ａの個数は１つでもよく、２つ以上でもよく、任意である。第４溶接分割部５４ａの個数は１つでもよく、２つ以上でもよく、任意である。第３溶接分割部５３ａ及び第４溶接分割部５４ａは、第１アライメントマスク面４０ａに対して盛り上がらないように形成されていてもよい。
第３アライメント溶接部５３は、複数の第３溶接分割部５３ａを含んでいることに限られることはない。例えば、図示しないが、第３アライメント溶接部５３は、第１方向Ｄ１に連続状に延びるように形成されていてもよい。第４アライメント溶接部５４も同様に、第１方向Ｄ１に連続状に延びるように形成されていてもよい。
図７に示すように、第３アライメント溶接部５３と第２アライメントマスク孔４４とは、距離Ｌ３で離間していてもよい。距離Ｌ３は、平面視で第３アライメント溶接部５３の中心と第２アライメントマスク孔４４の中心との間の第２方向Ｄ２における距離である。第４アライメント溶接部５４と第２アライメントマスク孔４４とは、距離Ｌ４で離間していてもよい。距離Ｌ４は、平面視で第４アライメント溶接部５４の中心と第２アライメントマスク孔４４の中心との間の第２方向Ｄ２における距離である。
距離Ｌ３は、例えば、８．０ｍｍ以上でもよく、８．５ｍｍ以上でもよく、９．０ｍｍ以上でもよい。距離Ｌ３を８．０ｍｍ以上とすることにより、第２アライメントマスク孔４４に対して第３アライメント溶接部５３の溶接歪みの影響が及ぼされることを抑制できる。距離Ｌ３は、例えば、１０．５ｍｍ以下でもよく、１１．０ｍｍ以下でもよく、１１．５ｍｍ以下でもよい。距離Ｌ３を１１．５ｍｍ以下とすることにより、第２アライメントマスク孔４４から第３アライメント溶接部５３が遠ざかることを抑制できる。距離Ｌ３の範囲は、８．０ｍｍ、８．５ｍｍ及び９．０ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１０．５ｍｍ、１１．０ｍｍ及び１１．５ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。距離Ｌ３の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｌ３の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｌ３の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、８．０ｍｍ以上１１．５ｍｍ以下でもよく、８．０ｍｍ以上１１．０ｍｍ以下でもよく、８．０ｍｍ以上１０．５ｍｍ以下でもよく、８．０ｍｍ以上９．０ｍｍ以下でもよく、８．０ｍｍ以上８．５ｍｍ以下でもよく、８．５ｍｍ以上１１．５ｍｍ以下でもよく、８．５ｍｍ以上１１．０ｍｍ以下でもよく、８．５ｍｍ以上１０．５ｍｍ以下でもよく、８．５ｍｍ以上９．０ｍｍ以下でもよく、９．０ｍｍ以上１１．５ｍｍ以下でもよく、９．０ｍｍ以上１１．０ｍｍ以下でもよく、９．０ｍｍ以上１０．５ｍｍ以下でもよく、１０．５ｍｍ以上１１．５ｍｍ以下でもよく、１０．５ｍｍ以上１１．０ｍｍ以下でもよく、１１．０ｍｍ以上１１．５ｍｍ以下でもよい。
距離Ｌ４は、例えば、８．０ｍｍ以上でもよく、８．５ｍｍ以上でもよく、９．０ｍｍ以上でもよい。距離Ｌ４を８．０ｍｍ以上とすることにより、第２アライメントマスク孔４４に対して第４アライメント溶接部５４の溶接歪みの影響が及ぼされることを抑制できる。距離Ｌ４は、例えば、１０．５ｍｍ以下でもよく、１１．０ｍｍ以下でもよく、１１．５ｍｍ以下でもよい。距離Ｌ４を１１．５ｍｍ以下とすることにより、第２アライメントマスク孔４４から第４アライメント溶接部５４が遠ざかることを抑制できる。距離Ｌ４の範囲は、８．０ｍｍ、８．５ｍｍ及び９．０ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１０．５ｍｍ、１１．０ｍｍ及び１１．５ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。距離Ｌ４の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｌ４の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｌ４の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、８．０ｍｍ以上１１．５ｍｍ以下でもよく、８．０ｍｍ以上１１．０ｍｍ以下でもよく、８．０ｍｍ以上１０．５ｍｍ以下でもよく、８．０ｍｍ以上９．０ｍｍ以下でもよく、８．０ｍｍ以上８．５ｍｍ以下でもよく、８．５ｍｍ以上１１．５ｍｍ以下でもよく、８．５ｍｍ以上１１．０ｍｍ以下でもよく、８．５ｍｍ以上１０．５ｍｍ以下でもよく、８．５ｍｍ以上９．０ｍｍ以下でもよく、９．０ｍｍ以上１１．５ｍｍ以下でもよく、９．０ｍｍ以上１１．０ｍｍ以下でもよく、９．０ｍｍ以上１０．５ｍｍ以下でもよく、１０．５ｍｍ以上１１．５ｍｍ以下でもよく、１０．５ｍｍ以上１１．０ｍｍ以下でもよく、１１．０ｍｍ以上１１．５ｍｍ以下でもよい。
アライメントマスク４０は、上述した蒸着マスク２０を構成する材料と同じ材料で構成されていてもよい。しかしながら、このことに限られることはなく、蒸着マスク２０とは異なる材料で構成されていてもよい。
次に、このような構成からなる本実施形態による蒸着マスク装置１０の製造方法について、図８～図１１を参照して説明する。本実施形態による蒸着マスク装置１０の製造方法は、フレーム準備工程と、蒸着マスク準備工程と、アライメントマスク準備工程と、第１接合工程と、第２接合工程と、を備えていてもよい。蒸着マスク装置１０の製造は、図示しない架張装置内で行われてもよい。
まず、準備工程として、上述したフレーム１５を準備してもよい。フレーム１５は、任意の製造方法により製造することができる。例えば、フレーム１５は、板材や鍛造材などを機械加工することにより製造されていてもよい。例えば、第１フレームアライメント孔１７及び第２フレームアライメント孔１８は、機械加工により形成されていてもよい。フレーム１５は、上述した架張装置に取り付けられてもよい。
蒸着マスク準備工程として、上述した蒸着マスク２０を準備してもよい。蒸着マスク２０は、上述したように、圧延材のエッチング処理またはめっき処理など任意の製造方法により製造されていてもよい。めっき処理で製造される場合には、蒸着マスク２０は、２つ以上の層で構成されていてもよい。この場合、貫通孔２５は、これらの層を貫通するように形成される。
アライメントマスク準備工程として、上述したアライメントマスク４０を準備してもよい。アライメントマスク４０は、蒸着マスク２０と同様に、圧延材のエッチング処理またはめっき処理などの任意の製造方法により製造されていてもよい。
各準備工程の後、第１接合工程として、図８に示すように、２つのアライメントマスク４０が、各アライメント溶接部５１～５４によってフレーム１５の第１フレーム面１５ａに接合されてもよい。
より具体的には、まず、アライメントマスク４０が、主として第２方向Ｄ２に張力を付与されながら、第１フレーム面１５ａ上の所望の位置に位置合わせされる。この際、第１アライメントマスク孔４３が、対応する第１フレームアライメント孔１７に対して位置合わせされる。例えば、第２フレーム面１５ｂの側からカメラ６１（図１２参照）で第１フレームアライメント孔１７及び第１アライメントマスク孔４３を視認して、位置合わせが行われてもよい。第１アライメントマスク孔４３の直径が、第１フレームアライメント孔１７の直径よりも小さい場合、カメラ６１は、第１アライメントマスク孔４３を容易に視認できる。アライメントマスク４０がフレーム１５に対して位置合わせされた場合、平面視で、第１アライメント重なり部４１は、第２延在部分１５ｄに重なり、第２アライメント重なり部４２は、第１延在部分１５ｃに重なる。
アライメントマスク４０が位置合わせされた後、図８～図１０に示すように、アライメントマスク４０が、各アライメント溶接部５１～５４によってフレーム１５に接合される。アライメントマスク４０に張力が付与された状態で、各アライメント溶接部５１～５４が形成される。例えば、レーザ光Ｌによるスポット溶接で、アライメントマスク４０がフレーム１５に接合されてもよい。この場合、図９及び図１０に示すように、アライメントマスク４０の第１アライメントマスク面４０ａにレーザ光Ｌが照射される。レーザ光Ｌが照射された領域のうち第１アライメントマスク面４０ａから第２アライメントマスク面４０ｂを越えてフレーム１５にわたる領域に溶融部が形成される。溶融部が冷却されて固化することにより、第１アライメント重なり部４１に第１溶接分割部５１ａ及び第２溶接分割部５２ａが形成されるとともに、第２アライメント重なり部４２に第３溶接分割部５３ａ及び第４溶接分割部５４ａが形成される。
このようにして、アライメントマスク４０はフレーム１５に接合されて固定される。
第１接合工程の後、第２接合工程として、図１１に示すように、フレーム１５の第１フレーム面１５ａに、複数の蒸着マスク２０が接合されてもよい。複数の蒸着マスク２０は、アライメントマスク４０に対して第１方向Ｄ１に並べられる。
より具体的には、まず、蒸着マスク２０が、主として第２方向Ｄ２に張力を付与されながら、第１フレーム面１５ａ上の所望の位置に位置合わせされる。この際、フレーム１５に対する貫通孔２５の位置が確認される。より具体的には、貫通孔２５の位置が、所望の位置に対して許容範囲内に位置づけられているか否かが確認されてもよい。例えば、４つの第１アライメントマスク孔４３に基づいて設定される原点に対する貫通孔２５の座標を測定し、その測定された座標と、貫通孔２５の目標座標とを比較してもよい。
例えば、対角線上に位置する２つの第１アライメントマスク孔４３の中心を通る２つの直線の交点を、原点としてもよい。図１２に示すように、第１アライメントマスク孔４３の中心は、第２フレーム面１５ｂの側からカメラ６１で視認して、画像解析することにより測定してもよい。貫通孔２５の座標は、平面視における貫通孔２５の中心点であってもよい。図１３に示すように、貫通孔２５の座標は、第２フレーム面１５ｂの側からカメラ６１で視認して、画像解析することにより測定してもよい。座標の測定が複数の貫通孔２５で行われて、複数の貫通孔２５の位置を確認してもよい。各貫通孔２５の位置が、所望の位置に位置づけられるように、蒸着マスク２０に付与される張力が調整されてもよい。蒸着マスク２０が位置合わせされた場合、平面視で、重なり部２１は、第２延在部分１５ｄに重なる。
蒸着マスク２０が位置合わせされた後、図１１に示すように、蒸着マスク２０が、フレーム１５に接合される。蒸着マスク２０に張力が付与された状態で、蒸着マスク溶接部３０の溶接分割部３０ａが形成される。蒸着マスク溶接部３０は、上述したアライメント溶接部５１～５４と同様に形成されてもよい。蒸着マスク溶接部３０の溶接分割部３０ａは、重なり部２１に形成される。
このようにして、蒸着マスク２０はフレーム１５に接合されて固定される。
第２接合工程の後、切断工程として、各蒸着マスク２０の重なり部２１の一部が切断（トリミングとも称する）される。この場合、蒸着マスク２０の重なり部２１のうち蒸着マスク溶接部３０よりも第２方向Ｄ２の外側の位置で、蒸着マスク２０が切断される。
このようにして、図２に示す蒸着マスク装置１０が得られる。蒸着マスク装置１０は、架張装置から取り出される。
次に、本実施形態による蒸着マスク装置１０を用いた有機デバイスの製造方法について、図１及び図１４～図１８を参照して説明する。以下、有機デバイスの一例として、有機ＥＬ表示装置９０を例にとって説明する。
ここで、有機ＥＬ表示装置９０について図１４を用いて説明する。図１４は、有機ＥＬ表示装置９０を示す模式断面図である。有機ＥＬ表示装置９０は、上述した本実施形態による蒸着マスク装置１０を用いることにより基板９１に形成された発光層９２を備えている。発光層９２は、蒸着層の一例である。１つの有機ＥＬ表示装置９０は、１つの表示領域に相当していてもよい。
より具体的には、図１４に示すように、基板９１の一方の面に、複数の素子９３が並んで設けられている。図示はしないが、素子９３は、図１４の紙面の奥行き方向に並んでいてもよい。素子９３は、画素として構成されていてもよい。素子９３は、第１電極９４と、通電層９５と、第２電極９６と、を含んでいてもよい。第１電極９４は、基板９１上に位置していてもよい。通電層９５は、第１電極９４上に位置していてもよい。第２電極９６は、通電層９５上に位置していてもよい。通電層９５は、発光層９２を含んでいてもよい。複数の素子９３によって１つの有機ＥＬ表示装置９０が構成されている。１つの基板９１に、複数の有機ＥＬ表示装置９０の素子９３が形成されて、多面付されていてもよい。この場合、基板９１を有機ＥＬ表示装置９０毎に裁断することにより、個々の有機ＥＬ表示装置９０が得られる。図１４においては、一例として、２つの有機ＥＬ表示装置９０が、１つの基板９１に形成されている例を示している。
図１に示すように、基板９１は、第１基板面９１ａと、第２基板面９１ｂと、を含んでいてもよい。第２基板面９１ｂは、第１基板面９１ａとは反対側に位置していてもよい。第２基板面９１ｂは、蒸着時に蒸着マスク２０の第１マスク面２０ａに密着する面であってもよい。
図１５に示すように、基板９１は、基板アライメント孔９１ｃを含んでいてもよい。基板アライメント孔９１ｃは、第１基板面９１ａから第２基板面９１ｂに延びており（図１６参照）、基板９１を貫通していてもよい。しかしながら、基板アライメント孔９１ｃは、第２アライメントマスク孔４４との位置合わせを行うことができれば、基板９１を貫通していなくてもよい。基板アライメント孔９１ｃの平面形状は、任意である。基板アライメント孔９１ｃの平面形状は、図１５に示すように、円形の形状であってもよい。基板９１が可視光に対する透過性を有している場合には、基板アライメント孔９１ｃの直径は、第２アライメントマスク孔４４の直径と等しくてもよく、異なっていてもよい。この場合、基板アライメント孔９１ｃの直径は、第２アライメントマスク孔４４の直径よりも大きくてもよく、小さくてもよい。基板９１が可視光に対する透過性を有していない場合には、基板アライメント孔９１ｃの直径は、第２アライメントマスク孔４４の直径よりも小さくてもよい。
基板９１は、絶縁性を有する板状の部材であってもよい。基板９１は、光を透過させる光透過性を有していてもよい。基板９１は、例えば、ガラス基板であってもよく、シリコン基板であってもよい。また、基板９１は、例えば、石英、光透過性を有するポリイミド、又は光透過性を有する液晶ポリマーで構成されていてもよい。
図１４に示すように、第１電極９４は、導電性を有する材料を含む。例えば、第１電極９４は、金属、導電性を有する金属酸化物、又はその他の無機材料などを含んでいてもよい。第１電極９４は、インジウム・スズ酸化物などの、光透過性及び導電性を有する金属酸化物を含んでいてもよい。
通電層９５は、上述したように、通電により光を放出する発光層９２を含んでいてもよい。この場合、通電層９５は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層などを含んでいてもよい。例えば、第１電極９４が陽極であるとともに第２電極９６が陰極である場合には、第１電極９４上に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層９２、電子輸送層、電子注入層及び第２電極９６がこの順番に積層される。通電とは、通電層９５に電圧が印加されること、又は通電層９５に電流が流れることを意味する。図１４においては、図面を簡略させるために、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層は省略している。
第２電極９６は、金属などの、導電性を有する材料を含む。第２電極９６を構成する材料の例としては、白金、金、銀、銅、鉄、錫、クロム、アルミニウム、インジウム、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、クロム、炭素等及びこれらの合金が挙げられる。
有機ＥＬ表示装置９０において画像を表示する場合、素子９３を構成する第１電極９４と第２電極９６との間に電圧が印加される。このことにより、素子９３の発光層９２から光が放出され、放出された光は、発光層９２から第１電極９４に向かう方向で外部へ、又は発光層９２から第１電極９４に向かう方向で外部へ取り出される。各素子９３において発光層９２から光の放出を制御することにより、所望の画像が表示される。
次に、本開示の一実施形態による有機ＥＬ表示装置９０の製造方法について、図１５～図１８を参照して説明する。有機ＥＬ表示装置９０の製造は、図１に示す蒸着装置８０内で行われてもよい。
有機ＥＬ表示装置９０の製造方法は、蒸着マスク装置１０を用いて基板９１に蒸着材料８２を付着させて発光層９２を形成する工程を備えていてもよい。より具体的には、本実施形態による有機ＥＬ表示装置の製造方法は、基板準備工程と、装置準備工程と、基板位置合わせ工程と、密着工程と、蒸着工程と、を備えていてもよい。
まず、基板準備工程として、上述した基板９１を準備してもよい
また、装置準備工程として、上述した蒸着マスク装置１０を準備してもよい。蒸着マスク装置１０は、上述した蒸着装置８０内に取り付けられてもよい。
装置準備工程の後、位置合わせ工程として、図１５に示すように、蒸着マスク装置１０と基板９１とが位置合わせされる。例えば、アライメントマスク４０の第２アライメントマスク孔４４と、基板９１の基板アライメント孔９１ｃが位置合わせされるように、蒸着マスク装置１０及び基板９１の少なくとも一方の位置が調整されてもよい。この場合、まず、図１６に示すように、蒸着マスク２０の第１マスク面２０ａに、基板９１が位置付けられる。続いて、基板９１の第１基板面９１ａの側からカメラ６２で基板アライメント孔９１ｃ及び第２アライメントマスク孔４４を視認して、位置合わせが行われてもよい。基板９１が、可視光を透過可能である場合、基板アライメント孔９１ｃと第２アライメントマスク孔４４との大小関係に関わることなく、基板アライメント孔９１ｃと第２アライメントマスク孔４４をカメラ６２は視認できる。第２アライメントマスク孔４４の直径が、第２フレームアライメント孔１８のアライメントフレーム開口１８ａの直径よりも大きい場合、カメラ６２は、第２アライメントマスク孔４４を容易に視認できる。位置合わせ工程において、基板９１は、図示しないクランプに保持されていてもよい。
位置合わせ工程の後、密着工程として、図１７に示すように、蒸着マスク２０に基板９１を密着させてもよい。蒸着マスク２０の第１マスク面２０ａに、基板９１を密着させてもよい。
より具体的には、まず、蒸着マスク２０の第１マスク面２０ａが上方に配置されるように、蒸着マスク装置１０が蒸着装置８０内に配置される。また、基板９１が、クランプに保持される。続いて、基板９１が、クランプに保持された状態で、蒸着マスク２０の上方に配置される。次に、基板９１の第２基板面９１ｂと蒸着マスク２０の第１マスク面２０ａとが突き合わされる。
次に、図１７に示すように、基板９１の上面に磁石８５が位置づけられ、磁石８５の磁力で、蒸着マスク２０が基板９１に引き寄せられる。このことにより、蒸着マスク２０の第１マスク面２０ａに、基板９１が密着する。なお、第１電極９４が陽極である場合、基板９１には、蒸着マスク２０を密着させる前に、第１電極９４と、通電層９５を構成する正孔注入層及び正孔輸送層とが形成されていてもよい。
密着工程の後、蒸着工程として、図１８に示すように、蒸着マスク２０の貫通孔２５を通して蒸着材料８２を基板９１に蒸着させて発光層９２が形成されてもよい。発光層９２は、対応する通電層９５の正孔輸送層上に形成される。より具体的には、蒸着装置８０の内部空間を真空雰囲気にし、蒸着材料８２を蒸発させて基板９１に飛来させる。飛来した蒸着材料８２は、蒸着マスク２０の各貫通孔２５を通って、所望の通電層９５の正孔輸送層に到達し、付着する。このことにより、基板９１に、貫通孔２５のパターンに対応したパターンで発光層９２が形成される。
上述したように、本実施形態では、貫通孔２５が各有効領域２７において所定のパターンで配置されている。なお、複数の色によるカラー表示を行いたい場合には、各色に対応する蒸着マスク２０を備えた蒸着マスク装置１０を準備し、各蒸着マスク装置１０で、対応する通電層９５の正孔輸送層に各色の蒸着材料８２を付着させる。これにより、例えば、赤色用の有機発光材料、緑色用の有機発光材料及び青色用の有機発光材料を一の基板９１にそれぞれ蒸着させることができる。
発光層９２が形成された後、発光層９２上に、通電層９５を構成する電子輸送層及び電子注入層が形成され、通電層９５が得られる。その後、各通電層９５上に、第２電極９６が形成される。
このようにして、基板９１に、各色の発光層９２が形成された有機ＥＬ表示装置９０が得られる。
有機ＥＬ表示装置９０の製造後、他の有機ＥＬ表示装置９０を製造する場合には、蒸着マスク装置１０は、蒸着装置８０から取り外されてもよい。取り外された蒸着マスク装置１０は、対応する有機ＥＬ表示装置９０を製造する場合には、再び蒸着装置８０に取り付けられてもよい。この場合においても、アライメントマスク４０は、第２アライメントマスク孔４４が位置ずれすることが抑制される。
より具体的には、第２方向Ｄ２における第１アライメントマスク孔４３の両側に第１アライメント溶接部５１及び第２アライメント溶接部５２が形成されている。このことにより、蒸着マスク装置１０の取り扱い中に、第１アライメント重なり部４１が第３方向Ｄ３に撓むことが抑制される。このため、第１アライメントマスク孔４３の位置がずれることを抑制でき、蒸着マスク装置１０と基板９１との位置合わせ精度を再現できる。
同様に、第２方向Ｄ２における第２アライメントマスク孔４４の両側に第３アライメント溶接部５３及び第４アライメント溶接部５４が形成されている。このことにより、蒸着マスク装置１０の取り扱い中に、第２アライメント重なり部４２が第３方向Ｄ３に撓むことが抑制される。このため、第２アライメントマスク孔４４の位置がずれることを抑制でき、蒸着マスク装置１０と基板９１との位置合わせ精度を再現できる。
このように本実施形態によれば、第１アライメントマスク孔４３に対して、第２方向Ｄ２におけるアライメントマスク４０の外側に、第１アライメント溶接部５１が位置している。第１アライメントマスク孔４３に対して、第２方向Ｄ２におけるアライメントマスク４０の内側に、第２アライメント溶接部５２が位置している。このことにより、第２方向Ｄ２における第１アライメントマスク孔４３の両側で、アライメントマスク４０をフレーム１５に固定でき、アライメントマスク４０が第３方向Ｄ３に撓むことを抑制できる。このため、第１アライメントマスク孔４３の位置がずれることを抑制できる。この結果、アライメントマスク４０とフレーム１５との位置合わせ精度を向上できる。
また、本実施形態によれば、第１アライメント溶接部５１は、第１方向Ｄ１に並ぶ複数の第１溶接分割部５１ａを含み、第２アライメント溶接部５２は、第１方向Ｄ１に並ぶ複数の第２溶接分割部５２ａを含んでいる。このことにより、第２方向Ｄ２における第１アライメントマスク孔４３の両側で、アライメントマスク４０をフレーム１５により一層強固に固定でき、アライメントマスク４０が第３方向Ｄ３に撓むことをより一層抑制できる。このため、第１アライメントマスク孔４３の位置がずれることをより一層抑制できる。
また、本実施形態によれば、フレーム１５は、第１フレーム面１５ａから第２フレーム面１５ｂに向かって延びる第１フレームアライメント孔１７を含んでいる。第１フレームアライメント孔１７は、第１アライメントマスク孔４３に平面視で重なっている。このことにより、第１アライメントマスク孔４３と第１フレームアライメント孔１７とを用いて、アライメントマスク４０とフレーム１５との位置合わせを行うことができる。
また、本実施形態によれば、第１フレームアライメント孔１７は、第１フレーム面１５ａから第２フレーム面１５ｂに貫通している。このことにより、第１フレームアライメント孔１７を、第１フレーム面１５ａから機械加工することにより形成でき、又は第２フレーム面１５ｂから機械加工することにより形成できる。このため、第１フレームアライメント孔１７を容易に形成できる。
また、本実施形態によれば、第１フレームアライメント孔１７は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に直交する第３方向Ｄ３に延びている。このことにより、フレーム１５の第２フレーム面１５ｂの側から第１フレームアライメント孔１７を介して第１アライメントマスク孔４３を視認できる。
また、本実施形態によれば、第１アライメントマスク孔４３は、第２方向Ｄ２においてフレーム開口１６の両側に位置している。このことにより、アライメントマスク４０の２つの第１アライメントマスク孔４３を、第２方向Ｄ２において互いに遠ざけることができる。このため、アライメントマスク４０とフレーム１５との位置合わせ精度を向上できる。
また、本実施形態によれば、アライメントマスク４０は、第２方向Ｄ２において互いに異なる位置に位置するとともにフレーム１５に重なる２つの第２アライメントマスク孔４４を含んでいる。２つの第２アライメントマスク孔４４は、第２方向Ｄ２において、一方の第２アライメント溶接部５２と、他方の第２アライメント溶接部５２との間に位置している。このことにより、第２アライメントマスク孔４４を用いて、蒸着マスク装置１０と基板９１との位置合わせを行うことができる。
また、本実施形態によれば、第２アライメントマスク孔４４に対して、第２方向Ｄ２におけるアライメントマスク４０の外側に、第３アライメント溶接部５３が位置している。第２アライメントマスク孔４４に対して、第２方向Ｄ２におけるアライメントマスク４０の内側に、第４アライメント溶接部５４が位置している。このことにより、第２方向Ｄ２における第２アライメントマスク孔４４の両側で、アライメントマスク４０をフレーム１５に固定でき、アライメントマスク４０が第３方向Ｄ３に撓むことを抑制できる。このため、第２アライメントマスク孔４４の位置がずれることを抑制できる。この結果、アライメントマスク４０とフレーム１５との位置合わせ精度を向上できる。
また、本実施形態によれば、第３アライメント溶接部５３は、第１方向Ｄ１に並ぶ複数の第３溶接分割部５３ａを含み、第４アライメント溶接部５４は、第１方向Ｄ１に並ぶ複数の第４溶接分割部５４ａを含んでいる。このことにより、第２方向Ｄ２における第２アライメントマスク孔４４の両側で、アライメントマスク４０をフレーム１５により一層強固に固定でき、アライメントマスク４０が第３方向Ｄ３に撓むことをより一層抑制できる。このため、第２アライメントマスク孔４４の位置がずれることをより一層抑制できる。
また、本実施形態によれば、フレーム１５は、第１フレーム面１５ａから第２フレーム面１５ｂに向かって延びる第２フレームアライメント孔１８を含んでいる。第２フレームアライメント孔１８は、第１フレーム面１５ａに位置するアライメントフレーム開口１８ａを含んでいる。アライメントフレーム開口１８ａは、第２アライメントマスク孔４４に平面視で重なっている。このことにより、第２アライメントマスク孔４４とアライメントフレーム開口１８ａとを用いて、蒸着マスク装置１０と基板９１との位置合わせを行うことができる。また、アライメントマスク４０の第１アライメントマスク面４０ａの側から第２アライメントマスク孔４４を視認する際、第２アライメントマスク孔４４を介してアライメントフレーム開口１８ａを視認できる。この場合、第２アライメントマスク孔４４の視認性を向上できる。
また、本実施形態によれば、第２フレームアライメント孔１８は、第１フレーム面１５ａから第２フレーム面１５ｂに貫通している。このことにより、第２フレームアライメント孔１８を、第１フレーム面１５ａから機械加工することにより形成でき、又は第２フレーム面１５ｂから機械加工することにより形成できる。このため、第２フレームアライメント孔１８を容易に形成できる。
また、本実施形態によれば、第２フレームアライメント孔１８は、第１フレーム面１５ａに対して傾斜している。このことにより、第２フレームアライメント孔１８がフレーム１５を貫通している場合であっても、蒸着工程において、蒸着材料８２が、アライメントフレーム開口１８ａに到達することを抑制できる。このため、１つの蒸着マスク装置１０で複数回の蒸着を行うことができ、繰り返し使用できる。また、第２フレームアライメント孔１８が第１フレーム面１５ａに対して傾斜している場合、第２フレームアライメント孔１８と第２アライメントマスク孔４４とのコントラストを強めることができる。このため、第２アライメントマスク孔４４の視認性を向上できる。
また、本実施形態によれば、第２アライメントマスク孔４４は、第１方向Ｄ１においてフレーム開口１６の一方の側に位置している。このことにより、２つのアライメントマスク４０の第１アライメントマスク孔４３を、第１方向Ｄ１において互いに遠ざけることができる。このため、アライメントマスク４０とフレーム１５との位置合わせ精度を向上できる。
上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明及び以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
上述した本実施形態においては、第２フレームアライメント孔１８は、第１フレーム面１５ａに対して傾斜している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、第２フレームアライメント孔１８は、蒸着工程において蒸着材料８２がアライメントフレーム開口１８ａに到達することを抑制できれば、第１フレーム面１５ａに対して傾斜していなくてもよい。
上述した本実施形態においては、第２アライメントマスク孔４４を用いて、蒸着マスク装置１０と基板９１との位置合わせを行う例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、第１アライメントマスク孔４３を用いて、蒸着マスク装置１０と基板９１との位置合わせを行ってもよい。この場合、アライメントマスク４０は、第２アライメントマスク孔４４を含んでいなくてもよく、フレーム１５は、第２フレームアライメント孔１８を含んでいなくてもよい。アライメントマスク４０は、第３アライメント溶接部５３を含んでいなくてもよく、第４アライメント溶接部５４を含んでいなくてもよい。
上述した本実施形態においては、第２方向Ｄ２において、第１アライメントマスク孔４３の外側に第１アライメント溶接部５１が位置し、第１アライメントマスク孔４３の内側に第２アライメント溶接部５２が位置している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。
例えば、図１９に示すように、第１アライメントマスク孔４３に対して、第１方向Ｄ１における少なくとも一方の側に、フレーム１５とアライメントマスク４０とを接合するアライメント溶接部が位置していてもよい。より具体的には、図１９に示す第５アライメント溶接部５５及び第６アライメント溶接部５６の少なくとも一方がアライメントマスク４０に形成されていてもよい。第５アライメント溶接部５５及び第６アライメント溶接部５６は、第５溶接部の一例である。アライメントマスク４０に、第５アライメント溶接部５５及び第６アライメント溶接部５６のいずれか一方が形成され、他方は形成されていなくてもよい。図１９に示すように、アライメントマスク４０に、第５アライメント溶接部５５及び第６アライメント溶接部５６の両方が形成されていてもよく、この場合、第１アライメントマスク孔４３が、アライメント溶接部５１、５２、５５、５６によって囲まれる。
図１９に示すように、第５アライメント溶接部５５は、第１アライメントマスク孔４３に対して、第１方向Ｄ１におけるフレーム１５の外側に位置していてもよい。この場合、第５アライメント溶接部５５は、第１方向Ｄ１において、第１アライメントマスク孔４３よりもアライメントマスク４０の中心から遠い位置に位置する。第５アライメント溶接部５５は、複数の第５溶接分割部５５ａを含んでいてもよい。複数の第５溶接分割部５５ａは、第２方向Ｄ２に並んでいてもよい。第５溶接分割部５５ａは、第２方向Ｄ２において、第１アライメントマスク孔４３の両側に配置されていてもよい。第５溶接分割部５５ａは、第１溶接分割部５１ａ等と同様に形成されていてもよい。
第６アライメント溶接部５６は、第１アライメントマスク孔４３に対して、第１方向Ｄ１におけるフレーム１５の内側に位置していてもよい。この場合、第６アライメント溶接部５６は、第１方向Ｄ１において、第１アライメントマスク孔４３よりもアライメントマスク４０の中心に近い位置に位置する。第６アライメント溶接部５６は、複数の第６溶接分割部５６ａを含んでいてもよい。複数の第６溶接分割部５６ａは、第２方向Ｄ２に並んでいてもよい。第６溶接分割部５６ａは、第２方向Ｄ２において、第１アライメントマスク孔４３の両側に配置されていてもよい。第６溶接分割部５６ａは、第１溶接分割部５１ａ等と同様に形成されていてもよい。
このように図１９に示す変形例によれば、第２方向Ｄ２における第１アライメントマスク孔４３の両側でアライメントマスク４０をフレーム１５に固定できる。また、第１方向Ｄ１における第１アライメントマスク孔４３の両側でアライメントマスク４０をフレーム１５に固定できる。このことにより、アライメントマスク４０が第３方向Ｄ３に撓むことをより一層抑制でき、第１アライメントマスク孔４３の位置がずれることをより一層抑制できる。
例えば、図１９に示すように、第２アライメントマスク孔４４に対して、第１方向Ｄ１における少なくとも一方の側に、フレーム１５とアライメントマスク４０とを接合するアライメント溶接部が位置していてもよい。第７アライメント溶接部５７及び第８アライメント溶接部５８の少なくとも一方がアライメントマスク４０に形成されていてもよい。第７アライメント溶接部５７及び第８アライメント溶接部５８は、第６溶接部の一例である。アライメントマスク４０に、第７アライメント溶接部５７及び第８アライメント溶接部５８のいずれか一方が形成され、他方は形成されていなくてもよい。アライメントマスク４０に、第７アライメント溶接部５７及び第８アライメント溶接部５８の両方が形成されていてもよく、この場合、第２アライメントマスク孔４４が、アライメント溶接部５３、５４、５７、５８によって囲まれる。
図１９に示すように、第７アライメント溶接部５７は、第２アライメントマスク孔４４に対して、第１方向Ｄ１におけるフレーム１５の外側に位置していてもよい。この場合、第７アライメント溶接部５７は、第１方向Ｄ１において、第１アライメントマスク孔４３よりもアライメントマスク４０の中心から遠い位置に位置する。第７アライメント溶接部５７は、複数の第７溶接分割部５７ａを含んでいてもよい。複数の第７溶接分割部５７ａは、第２方向Ｄ２に並んでいてもよい。第７溶接分割部５７ａは、第２方向Ｄ２において、第２アライメントマスク孔４４の両側に配置されていてもよい。第７溶接分割部５７ａは、第１溶接分割部５１ａ等と同様に形成されていてもよい。
第８アライメント溶接部５８は、第２アライメントマスク孔４４に対して、第１方向Ｄ１におけるフレーム１５の内側に位置していてもよい。この場合、第８アライメント溶接部５８は、第１方向Ｄ１において、第１アライメントマスク孔４３よりもアライメントマスク４０の中心に近い位置に位置する。第８アライメント溶接部５８は、複数の第８溶接分割部５８ａを含んでいてもよい。複数の第８溶接分割部５８ａは、第２方向Ｄ２に並んでいてもよい。第８溶接分割部５８ａは、第２方向Ｄ２において、第２アライメントマスク孔４４の両側に配置されていてもよい。第８溶接分割部５８ａは、第１溶接分割部５１ａ等と同様に形成されていてもよい。
このように図１９に示す変形例によれば、第２方向Ｄ２における第２アライメントマスク孔４４の両側でアライメントマスク４０をフレーム１５に固定できる。また、第１方向Ｄ１における第２アライメントマスク孔４４の両側でアライメントマスク４０をフレーム１５に固定できる。このことにより、アライメントマスク４０が第３方向Ｄ３に撓むことをより一層抑制でき、第２アライメントマスク孔４４の位置がずれることをより一層抑制できる。
図１９に示す例においては、第１アライメントマスク孔４３に対して、第１アライメント溶接部５１、第２アライメント溶接部５２、第５アライメント溶接部５５および第６アライメント溶接部５６が形成されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、図２０に示すように、第２アライメント溶接部５２は形成されていなくてもよい。この場合、第１アライメントマスク孔４３に対して、第１アライメント溶接部５１、第５アライメント溶接部５５および第６アライメント溶接部５６が形成されている。図２０に示す変形例によれば、第２方向Ｄ２における第１アライメントマスク孔４３の外側でアライメントマスク４０をフレーム１５に固定できる。また、第１方向Ｄ１における第１アライメントマスク孔４３の両側でアライメントマスク４０をフレーム１５に固定できる。このことにより、アライメントマスク４０が第３方向Ｄ３に撓むことを抑制でき、第１アライメントマスク孔４３の位置がずれることを抑制できる。
図１９に示す例においては、第２アライメントマスク孔４４に対して、第３アライメント溶接部５３、第４アライメント溶接部５４、第７アライメント溶接部５７および第８アライメント溶接部５８が形成されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、図２０に示すように、第４アライメント溶接部５４は形成されていなくてもよい。この場合、第２アライメントマスク孔４４に対して、第３アライメント溶接部５３、第７アライメント溶接部５７および第８アライメント溶接部５８が形成されている。図２０に示す変形例によれば、第２方向Ｄ２における第２アライメントマスク孔４４の外側でアライメントマスク４０をフレーム１５に固定できる。また、第１方向Ｄ１における第２アライメントマスク孔４４の両側でアライメントマスク４０をフレーム１５に固定できる。このことにより、アライメントマスク４０が第３方向Ｄ３に撓むことを抑制でき、第２アライメントマスク孔４４の位置がずれることを抑制できる。
上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。

Claims (21)

  1. 第1フレーム面と、前記第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、を含むフレームと、
    前記第1フレーム面に接合され、前記フレーム開口に平面視で重なる複数の貫通孔を含む蒸着マスクと、
    前記第１フレーム面に接合され、前記蒸着マスクと第１方向で並ぶアライメントマスクと、を備え、
    前記アライメントマスクは、前記第１方向に直交する第２方向において互いに異なる位置に位置するとともに前記フレームに重なる２つの第１アライメントマスク孔を含み、
    前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの外側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第１溶接部が位置し、
    前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの内側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第２溶接部が位置している、蒸着マスク装置。
  2. 前記第１溶接部は、前記第１方向に並ぶ複数の第１溶接分割部を含み、
    前記第２溶接部は、前記第１方向に並ぶ複数の第２溶接分割部を含む、請求項１に記載の蒸着マスク装置。
  3. 前記フレームは、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に向かって延びる、前記第１アライメントマスク孔に平面視で重なる第１フレームアライメント孔を含む、請求項１または２に記載の蒸着マスク装置。
  4. 前記第１フレームアライメント孔は、第１フレーム面から第２フレーム面に貫通している、請求項３に記載の蒸着マスク装置。
  5. 前記第１フレームアライメント孔は、前記第１方向及び前記第２方向に直交する第３方向に延びている、請求項４に記載の蒸着マスク装置。
  6. 前記第１アライメントマスク孔は、前記第２方向において前記フレーム開口の両側に位置している、請求項１～５のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置。
  7. 前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第１方向における少なくとも一方の側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第５溶接部が位置している、請求項１～６のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置。
  8. 前記アライメントマスクは、前記第２方向において互いに異なる位置に位置するとともに前記フレームに重なる２つの第２アライメントマスク孔を含み、
    前記第２アライメントマスク孔の各々は、前記第２方向において、一方の前記第２溶接部と他方の前記第２溶接部との間に位置している、請求項１～７のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置。
  9. 前記第２アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの外側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第３溶接部が位置し、
    前記第２アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの内側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第４溶接部が位置している、請求項８に記載の蒸着マスク装置。
  10. 前記第３溶接部は、前記第１方向に並ぶ複数の第３溶接分割部を含み、
    前記第４溶接部は、前記第１方向に並ぶ複数の第４溶接分割部を含む、請求項９に記載の蒸着マスク装置。
  11. 前記フレームは、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に向かって延びる第２フレームアライメント孔を含み、
    前記第２フレームアライメント孔は、前記第１フレーム面に位置する、前記第２アライメントマスク孔に平面視で重なるアライメントフレーム開口を含む、請求項８～１０のいずれかに記載の蒸着マスク装置。
  12. 前記第２フレームアライメント孔は、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に貫通している、請求項１１に記載の蒸着マスク装置。
  13. 前記第２フレームアライメント孔は、前記第１フレーム面に対して傾斜している、請求項１２に記載の蒸着マスク装置。
  14. 前記第２アライメントマスク孔は、前記第１方向において前記フレーム開口の一方の側に位置している、請求項８～１３のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置。
  15. 前記第２アライメントマスク孔に対して、前記第１方向における少なくとも一方の側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第６溶接部が位置している、請求項８～１４のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置。
  16. 第1フレーム面と、前記第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、を含むフレームと、
    前記第1フレーム面に接合され、前記フレーム開口に平面視で重なる複数の貫通孔を含む蒸着マスクと、
    前記第１フレーム面に接合され、前記蒸着マスクと第１方向で並ぶアライメントマスクと、を備え、
    前記アライメントマスクは、前記第１方向に直交する第２方向において互いに異なる位置に位置するとともに前記フレームに重なる２つの第１アライメントマスク孔を含み、
    前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの外側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第１溶接部が位置し、
    前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第１方向における両側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第５溶接部が位置している、蒸着マスク装置。
  17. 前記アライメントマスクは、前記第２方向において互いに異なる位置に位置するとともに前記フレームに重なる２つの第２アライメントマスク孔を含み、
    前記第２アライメントマスク孔の各々は、前記第２方向において、一方の前記第１アライメントマスク孔と他方の前記第１アライメントマスク孔との間に位置している、請求項１６に記載の蒸着マスク装置。
  18. 前記第２アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの外側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第３溶接部が位置し、
    前記第２アライメントマスク孔に対して、前記第１方向における両側に、前記フレームと前記アライメントマスクとを接合する第６溶接部が位置している、請求項１７に記載の蒸着マスク装置。
  19. 第1フレーム面と、前記第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、を含むフレームを準備する準備工程と、
    アライメントマスクを、第１溶接部及び第２溶接部によって前記第１フレーム面に接合する第１接合工程と、
    前記アライメントマスクと第１方向に並べて、前記第１フレーム面に、前記フレーム開口に平面視で重なる複数の貫通孔を含む蒸着マスクを接合する第２接合工程と、を備え、
    前記アライメントマスクは、前記第１方向に直交する第２方向において互いに異なる位置に位置するとともに前記フレームに重なる２つの第１アライメントマスク孔を含み、
    前記第１溶接部は、前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの外側に位置し、
    前記第２溶接部は、前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの内側に位置している、蒸着マスク装置の製造方法。
  20. 第1フレーム面と、前記第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、を含むフレームを準備する準備工程と、
    アライメントマスクを、第１溶接部及び第５溶接部によって前記第１フレーム面に接合する第１接合工程と、
    前記アライメントマスクと第１方向に並べて、前記第１フレーム面に、前記フレーム開口に平面視で重なる複数の貫通孔を含む蒸着マスクを接合する第２接合工程と、を備え、
    前記アライメントマスクは、前記第１方向に直交する第２方向において互いに異なる位置に位置するとともに前記フレームに重なる２つの第１アライメントマスク孔を含み、
    前記第１溶接部は、前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第２方向における前記アライメントマスクの外側に位置し、
    前記第５溶接部は、前記第１アライメントマスク孔に対して、前記第１方向における両側に位置している、蒸着マスク装置の製造方法。
  21. 請求項１～１８のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置を準備する装置準備工程と、
    前記蒸着マスク装置と基板との位置合わせを行う位置合わせ工程と、
    前記蒸着マスク装置の前記蒸着マスクを基板に密着させる密着工程と、
    前記蒸着マスクの前記貫通孔を通して蒸着材料を前記基板に蒸着させて蒸着層を形成する蒸着工程と、を備えた有機デバイスの製造方法。
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