JP2023108343A - Manufacturing method of rod - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ロッドの製造方法に関する。 The present invention relates to a rod manufacturing method.
めっき浴の中で、電流の流れの中に絶縁部材と絶縁部材を通過させる孔を設け、めっきが必要な部分と絶縁部材の孔とが対向するよう配置することで電流の流れを制御する技術がある（例えば、特許文献１参照）。 A technology that controls the current flow by placing an insulating member and a hole through which the insulating member passes through the current flow in the plating bath, and arranging the part that needs to be plated and the hole in the insulating member so that they face each other. There is (for example, see Patent Document 1).
ところで、ロッドにめっきを施す場合に、生産性の低下を抑制することが求められている。 By the way, when a rod is plated, it is required to suppress a decrease in productivity.
したがって、本発明は、生産性の低下を抑制することができるロッドの製造方法の提供を目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a rod manufacturing method capable of suppressing a decrease in productivity.
上記目的を達成するために、本発明に係る第１の態様は、大径部と、前記大径部よりも小径であって、端に位置する小径部と、を有するロッドにめっきを施すロッドの製造方法であって、前記小径部の端部に接触する接触部を有する金属の基材部と、前記基材部と前記小径部とを覆い、前記端部と対向する位置に孔部を有する絶縁部と、を備えるマスキング治具を用い、前記大径部側から前記小径部側にめっき液を流すことにより前記ロッドにめっき液を接触させる。 In order to achieve the above object, a first aspect of the present invention provides a rod for plating a rod having a large diameter portion and a small diameter portion positioned at an end and having a smaller diameter than the large diameter portion. In the manufacturing method of , a metal base portion having a contact portion that contacts the end portion of the small diameter portion, covering the base portion and the small diameter portion, and forming a hole at a position facing the end portion The rod is brought into contact with the plating solution by flowing the plating solution from the large-diameter portion side to the small-diameter portion side using a masking jig having an insulating portion.
本発明によれば、生産性の低下を抑制することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the fall of productivity can be suppressed.
本発明に係る実施形態を図面を参照して以下に説明する。 Embodiments according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
まず、実施形態の製造方法で製造されるロッド１１を図１を参照して説明する。
ロッド１１は、金属製であり、一方向に長く延びる略円筒状の棒状部材である。ロッド１１は、径方向の中央に、軸方向に貫通する貫通孔１２が形成されている。
First, the
The
ロッド１１は、主軸部２０（大径部）と、第１軸部２１（小径部）と、第２軸部２２とを有している。
主軸部２０は円筒状である。主軸部２０は、その径方向外側の外周面部２０ａが円筒面となっている。主軸部２０は、軸方向の一端に第１端面部２０ｂを有しており、軸方向の他端に第２端面部２０ｃを有している。第１端面部２０ｂおよび第２端面部２０ｃは、いずれも外周面部２０ａの中心軸線に対して垂直に広がる平面状である。
The
The
第１軸部２１は、主軸部２０の第１端面部２０ｂから主軸部２０の軸方向に沿って延出している。第１軸部２１は、ロッド１１において軸方向の一端に位置する。第１軸部２１は、略円筒状であり、軸方向の全長にわたり外径が、主軸部２０の外径よりも小径となっている。第１軸部２１は、基端軸部３１と、先端軸部３２（端部）とを有している。
The
基端軸部３１は、第１軸部２１において軸方向の主軸部２０側にあり、主軸部２０の第１端面部２０ｂから主軸部２０の軸方向に沿って延出している。基端軸部３１は円筒状である。基端軸部３１は、その径方向外側の外周面部３１ａが円筒面となっている。基端軸部３１は、軸方向の主軸部２０とは反対側の端に端面部３１ｂを有している。端面部３１ｂは、外周面部３１ａの中心軸線に対して垂直に広がる平面状である。
The
先端軸部３２は、第１軸部２１において軸方向の主軸部２０とは反対側の端部にあり、ネジ軸部４１と、最先端部４２と、を有している。
The
ネジ軸部４１は、先端軸部３２において軸方向の基端軸部３１側にあり、基端軸部３１の端面部３１ｂから基端軸部３１の軸方向に沿って延出している。ネジ軸部４１は、略円筒状であり、軸方向の全長にわたり外径が、基端軸部３１の外径よりも小径となっている。ネジ軸部４１は、外周部にオネジ４５が形成されている。ネジ軸部４１は、軸方向の基端軸部３１とは反対側の端に端面部４１ａを有している。端面部４１ａは、オネジ４５の中心軸線に対して垂直に広がる平面状である。
The
最先端部４２は、先端軸部３２において軸方向の基端軸部３１とは反対側にあり、ロッド１１の軸方向における一側の端部となっている。最先端部４２は、ネジ軸部４１の端面部４１ａからネジ軸部４１の軸方向に沿って延出している。最先端部４２は、略円筒状であり、軸方向の全長にわたり外径が、ネジ軸部４１のネジ底の径よりも小径となっている。最先端部４２は、径方向外側に外周面部４２ａと外周面部４２ｂとを有している。外周面部４２ａは、円筒面であり、端面部４１ａの内周縁部からネジ軸部４１の軸方向に沿って延出している。外周面部４２ｂは、テーパ面であり、外周面部４２ａの軸方向における端面部４１ａとは反対側の端縁部から、外周面部４２ａの軸方向に沿って延出している。外周面部４２ｂは、外周面部４２ａから軸方向に離れるほど外径が小径となる。最先端部４２は、軸方向のネジ軸部４１とは反対側の端に先端面部４２ｃを有している。先端面部４２ｃは、外周面部４２ａ，４２ｂの中心軸線に対して垂直に広がる平面状である。先端面部４２ｃは、ロッド１１の軸方向一側の先端面となっている。先端面部４２ｃと、端面部４１ａと、端面部３１ｂと、第１端面部２０ｂとは、平行である。
The
第２軸部２２は、主軸部２０の第２端面部２０ｃから主軸部２０の軸方向に沿って延出している。第２軸部２２は、ロッド１１において第１軸部２１とは反対側の他端に位置する。第２軸部２２は、略円筒状であり、軸方向の全長にわたり外径が、主軸部２０の外径よりも小径となっている。第２軸部２２は、基端軸部５１と、ネジ軸部５２とを有している。
The
基端軸部５１は、第２軸部２２において軸方向の主軸部２０側にあり、主軸部２０の第２端面部２０ｃから延出している。基端軸部５１は円筒状である。基端軸部５１は、その径方向外側の外周面部５１ａが円筒面となっている。
The
ネジ軸部５２は、第２軸部２２において軸方向の主軸部２０とは反対側にあり、ロッド１１の軸方向の最先端部４２とは反対側の他端部となっている。ネジ軸部５２は、略円筒状であり、外周部にオネジ５５が形成されている。ネジ軸部５２は、軸方向の基端軸部５１とは反対側の端に先端面部５２ａを有している。先端面部５２ａは、オネジ５５の中心軸線に対して垂直に広がる平面状であり、第２端面部２０ｃと平行である。先端面部５２ａは、ロッド１１の軸方向の先端面部４２ｃとは反対側の先端面となっている。ロッド１１には、先端面部４２ｃの径方向の中央に貫通孔１２の一端が、先端面部５２ａの径方向の中央に貫通孔１２の他端が、それぞれ開口している。
The
ロッド１１は、シリンダ装置を構成するものである。シリンダ装置は、例えば、自動車や鉄道車両等の車両のサスペンション装置に用いられる緩衝器である。シリンダ装置は、ロッド１１と、図示は略すが、ロッド１１が挿入されるシリンダと、ロッド１１に連結されてシリンダ内に摺動可能に設けられるピストンと、シリンダの開口部に設けられてロッド１１を支持するロッドガイドと、シリンダの開口部とロッドとの隙間を閉塞するシール部材とを有している。ロッド１１は、基端軸部３１にピストンが嵌合される。ロッド１１は、ネジ軸部４１のオネジ４５に、ピストンをロッド１１に固定するためのナットが螺合される。ロッド１１は、主軸部２０においてロッドガイドおよびシール部材を摺動する。ロッド１１は、ネジ軸部５２のオネジ５５に、車体への連結用のナットが螺合される。
The
ロッド１１において、いずれも車体への取り付け側にある、主軸部２０の第２端面部２０ｃと、第２軸部２２の外周面部５１ａ、オネジ５５および先端面部５２ａとは、めっきが施されない非めっき領域Ａ１となっている。また、ロッド１１において、ネジ軸部４１のオネジ４５は、めっきが施されない非めっき領域Ａ２となっている。また、ロッド１１において、最先端部４２の外周面部４２ａは、めっきが施されるめっき領域Ｂとなっている。また、ロッド１１において、最先端部４２の外周面部４２ｂは、めっきが施されていてもいなくても良い領域Ｃとなっている。また、ロッド１１において、主軸部２０の外周面部２０ａおよび第１端面部２０ｂと、基端軸部３１の外周面部３１ａとは、所定範囲の厚さのめっきが施されるめっき領域Ｄとなっている。ここで、めっき領域Ｂは、めっき領域Ｄよりもめっきの厚さが薄くても良い領域、すなわち、０より大きく前記所定範囲の上限値よりも小さい厚さのめっきが施される領域となっている。
In the
次に、主に図２～図４に基づいて、ロッド１１の製造方法において用いられるマスキング治具６１について説明する。
図２に示すマスキング治具６１は、全体として略有蓋円筒状をなす。マスキング治具６１は、導電性の金属を主体とするものであり、具体的には、銅系材料を主体とするものである。マスキング治具６１は、胴部７１と、蓋部７２と、突出部７３とを有している。
Next, mainly based on FIGS. 2 to 4, the masking
The masking
胴部７１は、円筒状であり、その径方向外側の外周面部７１ａが円筒面となっている。胴部７１の外径、すなわち外周面部７１ａの外径は、図１に示すロッド１１の基端軸部３１の外径、すなわち外周面部３１ａの外径と同等である。図２に示すように、胴部７１は、軸方向の一端に端面部７１ｂを有している。端面部７１ｂは、外周面部７１ａの中心軸線に対して垂直に広がる平面状である。胴部７１は、その内周部に図示略のメネジ（接触部）が形成されている。
The
胴部７１には、その軸方向における端面部７１ｂとは反対側の端部に、胴部７１を径方向に貫通する孔部７５が形成されている。孔部７５は、胴部７１に、胴部７１の周方向に等間隔で複数（具体的には４箇所）形成されている。これらの孔部７５は、全て同形状であり、全て胴部７１の軸方向における位置を合わせている。胴部７１は、その軸方向において、孔部７５が形成された領域が部分開口部７７となっている。また、胴部７１は、その軸方向において、孔部７５が形成されていない領域が閉塞部７８となっている。閉塞部７８の内周部に図示略の上記したメネジが形成されている。
The
孔部７５は、平面部７５ａと、一対の側面部７５ｂと、湾曲面部７５ｃとを有している。平面部７５ａは、胴部７１の軸方向における孔部７５の端面部７１ｂ側にある。平面部７５ａは端面部７１ｂと平行に広がる平面状である。一対の側面部７５ｂは、胴部７１の周方向における平面部７５ａの両端縁部から、胴部７１の軸方向に沿って端面部７１ｂとは反対側に延出している。一対の側面部７５ｂは平面状である。湾曲面部７５ｃは、胴部７１の軸方向における一対の側面部７５ｂの平面部７５ａとは反対側の端縁部同士を結んでいる。湾曲面部７５ｃは、胴部７１の周方向における中央側ほど胴部７１の軸方向において平面部７５ａから離れるように湾曲している。湾曲面部７５ｃは、胴部７１の軸方向における平面部７５ａとは反対側の端部が、蓋部７２の軸方向における胴部７１側の端部と位置を合わせている。
The
ここで、図３に示すように、胴部７１の軸方向における端面部７１ｂと湾曲面部７５ｃとの最大距離は、ロッド１１の軸方向における端面部３１ｂと先端面部４２ｃとの距離と同等である。また、胴部７１の軸方向における端面部７１ｂと平面部７５ａとの距離は、ロッド１１の軸方向における端面部３１ｂと端面部４１ａとの距離よりも若干長い。また、胴部７１の軸方向における平面部７５ａと湾曲面部７５ｃとの最大距離は、ロッド１１の軸方向における端面部４１ａと先端面部４２ｃとの距離よりも若干短い。
Here, as shown in FIG. 3, the maximum distance between the
図２に示す蓋部７２は、略円板状であり、胴部７１の軸方向における端面部７１ｂとは反対側の端部を閉塞している。
突出部７３は、棒状であり、蓋部７２の径方向における中央から蓋部７２の軸方向において胴部７１とは反対側に突出している。突出部７３は、円柱状であり、その外径が蓋部７２の外径よりも小径となっている。
The
The protruding
マスキング治具６１は、そのほとんどを構成する金属製、具体的には銅系材料製の基材部８１と、基材部８１の外表面８１ａの一部を覆う絶縁部８２とからなっている。絶縁部８２は、耐クロム酸性の良好な絶縁材料、具体的にはフッ素系材料を基材部８１の外表面８１ａにコーティングすることによって形成されている。マスキング治具６１は、その外側に向く外表面６１ａのうち、マスキング治具６１の軸方向において端面部７１ｂから孔部７５を越える所定位置までの範囲が、絶縁部８２となっている。言い換えれば、マスキング治具６１は、その外表面６１ａのうち、胴部７１に配置される部分の全体と、蓋部７２の軸方向における胴部７１側の一部に配置される部分とが、絶縁部８２となっている。また、孔部７５の平面部７５ａ、一対の側面部７５ｂおよび湾曲面部７５ｃも、全て絶縁部８２となっている。絶縁部８２は、略円筒状である。絶縁部８２は、その軸方向における一端側の端縁部８２ａが、端面部７１ｂを構成している。絶縁部８２は、その軸方向における他端側の端縁部８２ｂが、絶縁部８２の中心軸線に垂直に広がる平面に配置される円形である。端縁部８２ｂは、マスキング治具６１の軸方向において、突出部７３と孔部７５との間に配置されている。基材部８１の内面も、図示略の上記したメネジを除いて、絶縁部８２となっている。
The masking
マスキング治具６１は、その外表面６１ａのうち、絶縁部８２を除く部分が基材部８１の外表面８１ａが露出して構成されている。すなわち、蓋部７２の軸方向における胴部７１とは反対側の一部の外表面および突出部７３の外表面は、基材部８１の外表面８１ａが露出する露出面部８１ｂとなっている。また、マスキング治具６１の図示略の上記したメネジも、基材部８１が露出している。
The masking
図４に示すように、マスキング治具６１は、第１軸部２１の先端軸部３２を覆って、ネジ軸部４１のオネジ４５をマスキングするものである。マスキング治具６１は、その図示略の上記したメネジがロッド１１のオネジ４５に螺合される。その際に、マスキング治具６１は、端面部７１ｂがロッド１１の端面部３１ｂに面接触で当接するまで螺合される。この状態で、マスキング治具６１は、絶縁部８２からなる端面部７１ｂがロッド１１の端面部３１ｂに全面的に隙間なく密着する。また、この状態で、マスキング治具６１は、蓋部７２がロッド１１の先端面部４２ｃに全面的に隙間なく密着する。また、この状態で、図示略の上記したメネジはオネジ４５を全面的に覆う。また、この状態で、胴部７１の絶縁部８２からなる外周面部７１ａは、ロッド１１の基端軸部３１の外周面部３１ａと同一円筒面に配置される状態になる。また、この状態で、孔部７５の平面部７５ａが、ロッド１１およびマスキング治具６１の軸方向において端面部４１ａよりも若干端面部３１ｂとは反対側に配置される状態となる。また、この状態で、孔部７５の湾曲面部７５ｃは、ロッド１１およびマスキング治具６１の軸方向において、平面部７５ａとは反対側の端部が、ロッド１１の先端面部４２ｃと位置を合わせる。よって、この状態で、孔部７５は、ロッド１１の最先端部４２の外周面部４２ａ，４２ｂと、ロッド１１およびマスキング治具６１の軸方向における位置を重ね合わせる。よって、ロッド１１の最先端部４２の外周面部４２ａ，４２ｂは、孔部７５を介してマスキング治具６１から径方向外方に向けて露出する。
As shown in FIG. 4 , the masking
この状態で、マスキング治具６１は、基材部８１の図示略の上記したメネジが、ロッド１１の先端軸部３２のオネジ４５に接触する。また、この状態で、マスキング治具６１は、その軸方向における基材部８１の基端軸部３１とは反対側の外表面８１ａが露出して露出面部８１ｂとなる。また、この状態で、絶縁部８２は、基材部８１とロッド１１の先端軸部３２とを覆う。その際に、絶縁部８２は、先端軸部３２のオネジ４５については、その軸方向の全長にわたり全周を全面的に覆う。また、この状態で、絶縁部８２および基材部８１は、ロッド１１の先端軸部３２の最先端部４２と、ロッド１１およびマスキング治具６１の軸方向における位置を重ね合わせて径方向に対向する位置に、孔部７５を有する。
In this state, the masking
次に、主に図５に基づいて、ロッド１１の製造方法において用いられる補助陰極１０１および整流部材１０２について説明する。
補助陰極１０１は、金属製であり、具体的にはチタン製である。補助陰極１０１は、有底円筒状であり、その開口側からロッド１１の第２軸部２２が挿入される。補助陰極１０１は、ロッド１１の第２軸部２２のオネジ５５に螺合されてロッド１１に装着される。この状態で、補助陰極１０１は、開口側の端面部１０１ａがロッド１１の第２端面部２０ｃに全面的に隙間なく密着する。また、この状態で、補助陰極１０１は、円筒面からなる外周面部１０１ｂがロッド１１の主軸部２０の外周面部２０ａと同一円筒面に配置される状態になる。
Next, mainly based on FIG. 5, the
The
整流部材１０２は、樹脂製であり、具体的にはＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン樹脂）製である。整流部材１０２は、端面部１０２ａにおいて補助陰極１０１の軸方向における端面部１０１ａとは反対側の端面部１０１ｃに当接して補助陰極１０１に接合される。整流部材１０２は、補助陰極１０１に接合された状態で、軸方向の補助陰極１０１とは反対側の先端面部１０２ｂが半球状をなす。整流部材１０２は、補助陰極１０１に接合された状態で、円筒面からなる外周面部１０２ｃが、補助陰極１０１の外周面部１０１ｂと同一円筒面に配置される状態になる。
The rectifying
次に、実施形態のロッド１１の製造方法および製造装置１１１について説明する。実施形態のロッド１１の製造方法では、ロッド１１にめっきを施す。実施形態のロッド１１の製造方法は、具体的には、鋼鉄製のロッド１１の表面にクロムめっきを施す。
Next, the manufacturing method and
実施形態の製造装置１１１は、アノード１２１を有している。アノード１２１は、円筒状の胴部１２２と、胴部１２２の軸方向の一端を閉塞する円板状の底部１２３と、胴部１２２の軸方向の他端の開口部１２４とを有する有底円筒状である。アノード１２１の軸方向における開口部１２４の底部１２３とは反対側の開口端面１２４ａは、胴部１２２の中心軸線に垂直に広がる平面状である。アノード１２１は、その中心軸線が鉛直に沿っており、下端に底部１２３が配置されている。底部１２３には液導入口１２５が設けられている。液導入口１２５は上方に開口しており、アノード１２１内に開口している。液導入口１２５は、底部１２３の中央、すなわちアノード１２１の中心軸線上に配置されている。
A
ここで、製造装置１１１を用いたロッド１１の製造方法では、ロッド１１に、上記のように、整流部材１０２が固定された補助陰極１０１と、マスキング治具６１とが取り付けられて装着体１４１とされる。よって、この製造方法では、ロッド１１の先端軸部３２をマスキング治具６１で覆う。
Here, in the method of manufacturing the
製造装置１１１は、給電クランプ１３１を有している。
ロッド１１の製造方法では、給電クランプ１３１が、この装着体１４１のマスキング治具６１の突出部７３をクランプする。そして、この製造方法では、給電クランプ１３１が、クランプした装着体１４１を、マスキング治具６１を上側にし、整流部材１０２を下側にした状態で吊り下げて、アノード１２１内に開口部１２４から挿入する。そして、この製造方法では、給電クランプ１３１が、装着体１４１を、胴部１２２の径方向の中央位置で、鉛直方向に沿わせる。すなわち、給電クランプ１３１は、装着体１４１を胴部１２２と同軸状に配置する。また、その際に、給電クランプ１３１は、マスキング治具６１の絶縁部８２の端縁部８２ｂを、アノード１２１の開口端面１２４ａよりも所定量上側に位置させる。また、その際に、給電クランプ１３１は、マスキング治具６１の孔部７５の全体を、開口端面１２４ａよりも下側に位置させる。
The
In the method of manufacturing the
この状態で、装着体１４１のロッド１１は、下から順番に、第２軸部２２のネジ軸部５２、第２軸部２２の基端軸部５１、主軸部２０、第１軸部２１の基端軸部３１、第１軸部２１の先端軸部３２のネジ軸部４１、第１軸部２１の先端軸部３２の最先端部４２が、配置された状態となる。よって、主軸部２０および主軸部２０よりも小径の第１軸部２１のうちの主軸部２０が下側に、第１軸部２１が上側に位置する。
In this state, the
ロッド１１の製造方法では、アノード１２１内にめっき液Ｆを注入する。そして、図示略のポンプによってめっき液Ｆを液導入口１２５からアノード１２１内に吐出させる。すると、アノード１２１内のめっき液Ｆに、図５に二点鎖線矢印で示すように、胴部１２２と装着体１４１との間を鉛直方向に沿って下側から上側に流れる流れが生じる。よって、この製造方法では、めっき液Ｆを、ロッド１１の主軸部２０側から、主軸部２０よりも小径の第１軸部２１側に流す。それと共に、アノード１２１内のめっき液Ｆの余剰分が開口部１２４からあふれ出す。なお、その際に、めっき液Ｆの液面が、マスキング治具６１の絶縁部８２の端縁部８２ｂよりも下側かつ孔部７５よりも上側となるように、装着体１４１の配置高さが設定されている。
In the method of manufacturing the
そして、この製造方法では、このようなめっき液Ｆの流れを胴部１２２と装着体１４１との間に生じさせた状態で、給電クランプ１３１から装着体１４１に給電を行ってロッド１１に高速めっきを施す。すると、金属製のロッド１１には、めっき液Ｆに浸漬されると共にマスキング治具６１および補助陰極１０１で一切被覆されていない図１に示すめっき領域Ｄ、すなわち図５に示す主軸部２０の外周面部２０ａおよび第１端面部２０ｂと、基端軸部３１の外周面部３１ａとに上記した所定範囲の厚さのめっきが電着される。また、めっき液Ｆに浸漬されると共に、マスキング治具６１の部分開口部７７で覆われるものの、孔部７５を介して露出する図１に示すめっき領域Ｂおよびめっき領域Ｃ、すなわち図５に示す最先端部４２の外周面部４２ａ，４２ｂには、０より大きく前記所定範囲の上限値よりも小さい厚さのめっきが電着される。
In this manufacturing method, in a state in which such a flow of the plating solution F is generated between the
対して、めっき液Ｆに浸漬されるものの、マスキング治具６１の閉塞部７８の図示略の上記したメネジに螺合されて被覆される図４に示すネジ軸部４１のオネジ４５および閉塞部７８で被覆される基端軸部３１の端面部３１ｂ、すなわち図１に示す非めっき領域Ａ２には、めっきが電着されない。また、図５に示すように、めっき液Ｆに浸漬されるものの、補助陰極１０１で被覆される図１に示す非めっき領域Ａ１、すなわち図５に示す主軸部２０の第２端面部２０ｃと、第２軸部２２の外周面部５１ａ、オネジ５５および先端面部５２ａとには、めっきが電着されない。加えて、補助陰極１０１で下端が閉塞され上端がマスキング治具６１の蓋部７２で閉塞されている貫通孔１２も、めっきが電着されない。なお、補助陰極１０１に取り付けられた整流部材１０２は、対向する液導入口１２５から吐出されるめっき液Ｆを整流して、ロッド１１の電流集中を抑制する。
On the other hand, although immersed in the plating solution F, the
なお、実施形態では、ロッド１１とアノード１２１とを鉛直方向に延びるように配置しているが、これに限らず、いずれの方向に延びるように配置しても良い。例えば水平方向に延びるようにロッド１１とアノード１２１とを配置してもよい。この場合も、めっき液Ｆを、上記と同様に、整流部材１０２側からマスキング治具６１側に流す。
Although the
上記した特許文献１には、めっき浴の中で、電流の流れの中に絶縁部材と絶縁部材を通過させる孔を設け、めっきが必要な部分と絶縁部材の孔とが対向するよう配置することで電流の流れを制御する技術が開示されている。ところで、ロッドにめっきを施す場合に、生産性の低下を抑制することが求められている。 In the above-mentioned Patent Document 1, in the plating bath, an insulating member and a hole for passing the insulating member are provided in the current flow, and the part that needs to be plated and the hole of the insulating member are arranged so as to face each other. Techniques for controlling current flow in are disclosed. By the way, when a rod is plated, it is required to suppress a decrease in productivity.
実施形態のロッド１１にめっきを施す場合に、実施形態とは逆に、給電クランプ１３１で第２軸部２２をクランプしてロッド１１を吊り下げ、第１軸部２１から主軸部２０の方向にめっき液Ｆを流してめっきを施すことを考えた。その際に、非めっき領域Ａ１については、めっき液Ｆに浸漬させないことでめっきの付着を防止することを考えた。また、その際に、貫通孔１２については、先端面部４２ｃに当接する樹脂製あるいは金属製の遮蔽部材で塞ぐことで、非めっき領域とすることを考えた。また、その際に、第１軸部２１のネジ軸部４１をチタン製の補助陰極で覆って非めっき領域Ａ２を形成することを考えた。ここで、ネジ軸部４１を樹脂製の絶縁材料で覆うことも考えたが、その場合、端面部３１ｂにめっきの異常析出を生じてしまう可能性があるため、チタン製とすることを考えた。以上のようにすることで、非めっき領域Ａ１，Ａ２と、めっき領域Ｂ，Ｃ，Ｄとを形成することを考えた。
When the
しかしながら、このようにめっき処理を行うと、主軸部２０の第１端面部２０ｂに電流集中によるめっきの異常析出が生じて、光沢を損なう等のめっき品質の低下を生じる可能性が考えられた。特に高速めっきを行う場合には、その可能性が高くなってしまう。一方で、第１軸部２１の基端軸部３１の外周面部３１ａおよび主軸部２０の外周面部２０ａはめっきを施す必要があることから、これらの間の第１端面部２０ｂをマスキング治具で覆うことは困難である。これらの理由から、低電流密度でめっき処理を行う必要があり、生産性の点で課題があった。
However, when the plating process is performed in this manner, abnormal deposition of plating occurs due to current concentration on the first
これに対して、実施形態のロッド１１の製造方法は、主軸部２０よりも小径であって、端に位置する第１軸部２１の先端軸部３２のオネジ４５に接触する図示略の上記したメネジを有する金属の基材部８１と、基材部８１と第１軸部２１とを覆い、先端軸部３２と対向する位置に孔部７５を有する絶縁部８２と、を備えるマスキング治具６１を用いる。そして、主軸部２０側から第１軸部２１側にめっき液Ｆを流すことによりロッド１１にめっき液Ｆを接触させる。このように、主軸部２０側から、これよりも小径の第１軸部２１側にめっき液を流すことにより、主軸部２０の第１端面部２０ｂに生じるめっきの異常析出、例えば光沢を損なう等のめっき品質の低下を抑制することができる。よって、実施形態のロッド１１の製造方法によれば、低電流密度でめっき処理を行うことなく、品質を維持しためっきをロッド１１に施すことが可能となるため、生産性の低下を抑制することができる。しかも、マスキング治具６１が、基材部８１と第１軸部２１とを覆う絶縁部８２を有するため、基材部８１にめっきが施されてしまうことを抑制できる。加えて、絶縁部８２は、先端軸部３２の最先端部４２と対向する位置に孔部７５を有するため、最先端部４２にも、めっきを施すことができる。絶縁部８２は、最先端部４２と対向する位置に孔部７５を有するため、最先端部４２の電流集中を抑制することができ、最先端部４２のめっきの異常析出を抑制することができる。
On the other hand, in the method of manufacturing the
また、マスキング治具６１の基材部８１が電気伝導率の高い銅系材料製であるため、マスキング治具６１の基材部８１を給電部として使用することができ、良好に高速めっきを行うことができる。
Further, since the
１１…ロッド、２０…主軸部（大径部）、２１…第１軸部（小径部）、３２…先端軸部（端部）、６１…マスキング治具、７５…孔部、８１…基材部、８２…絶縁部、Ｆ…めっき液。
DESCRIPTION OF
Claims (2)
前記小径部の端部に接触する接触部を有する金属の基材部と、
前記基材部と前記小径部とを覆い、前記端部と対向する位置に孔部を有する絶縁部と、
を備えるマスキング治具を用い、
前記大径部側から前記小径部側にめっき液を流すことにより前記ロッドにめっき液を接触させるロッドの製造方法。 A rod manufacturing method for plating a rod having a large-diameter portion and a small-diameter portion positioned at an end and having a smaller diameter than the large-diameter portion,
a metal base portion having a contact portion that contacts the end portion of the small diameter portion;
an insulating portion covering the base portion and the small-diameter portion and having a hole at a position facing the end;
Using a masking jig with
A method of manufacturing a rod, wherein the rod is brought into contact with the plating solution by flowing the plating solution from the large diameter portion side to the small diameter portion side.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022009409A JP2023108343A (en) | 2022-01-25 | 2022-01-25 | Manufacturing method of rod |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP2022009409A JP2023108343A (en) | 2022-01-25 | 2022-01-25 | Manufacturing method of rod |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023108343A true JP2023108343A (en) | 2023-08-04 |
Family
ID=87475336
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2022009409A Pending JP2023108343A (en) | 2022-01-25 | 2022-01-25 | Manufacturing method of rod |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2023108343A (en) |
-
2022
- 2022-01-25 JP JP2022009409A patent/JP2023108343A/en active Pending
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