JP6937664B2 - Rod manufacturing method and masking jig - Google Patents

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Description

本発明は、ロッドの製造方法およびマスキング治具に関する。 The present invention relates to a rod manufacturing method and a masking jig.

ワークのサイズに応じて高さ調整を行うことができるめっき用ハンガがある(例えば、特許文献1参照)。 There is a plating hanger whose height can be adjusted according to the size of the work (see, for example, Patent Document 1).

実開平7−40774号公報Jikkenhei 7-40774

ロッドにめっき処理を行う際の生産性を向上させることが要望されている。 It is required to improve the productivity when plating the rod.

したがって、本発明は、めっき処理を行う際の生産性を向上させることができるロッドの製造方法およびマスキング治具の提供を目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a rod manufacturing method and a masking jig capable of improving productivity when performing a plating process.

上記目的を達成するために、本発明に係るロッドの製造方法は、大径部と、前記大径部よりも小径の小径部と、前記大径部と前記小径部とを繋ぐ鍔部と、を有するロッドの前記大径部にめっきを施すロッドの製造方法であって、収容穴と、前記収容穴よりも該収容穴の径方向における外側に広がる当接部と、前記当接部よりも前記収容穴の径方向における外側にあって前記収容穴の軸方向に沿って一側から他側まで貫通する貫通路と、を有するマスキング治具を用い、前記当接部を上に向けて前記マスキング治具を配置し、該マスキング治具に向けて下からめっき液を流すことにより、前記収容穴に前記小径部を収容し前記当接部を前記鍔部に当接させるとともにめっき液を前記貫通路に流して前記大径部に接触させる、構成とした。 In order to achieve the above object, the method for manufacturing a rod according to the present invention includes a large diameter portion, a small diameter portion having a diameter smaller than that of the large diameter portion, and a flange portion connecting the large diameter portion and the small diameter portion. This is a method for manufacturing a rod in which the large-diameter portion of the rod having the above-mentioned is plated. Using a masking jig having a through path that is outside in the radial direction of the accommodating hole and penetrates from one side to the other along the axial direction of the accommodating hole, the contact portion is directed upward. By arranging a masking jig and flowing the plating solution toward the masking jig from below, the small diameter portion is accommodated in the accommodating hole, the abutting portion is brought into contact with the flange portion, and the plating solution is applied. It was configured to flow through a through path and come into contact with the large diameter portion.

本発明に係るマスキング治具は、大径部と、前記大径部よりも小径の小径部と、前記大径部と前記小径部とを繋ぐ鍔部と、を有するロッドの前記大径部にめっきを施す際に用いられるマスキング治具であって、前記小径部を収容する収容穴と、前記収容穴よりも該収容穴の径方向における外側に広がって前記鍔部に当接可能な当接部と、前記当接部よりも前記収容穴の径方向における外側にあって前記収容穴の軸方向に沿って一側から他側に貫通するめっき液流通用の貫通路と、を有する、構成とした。 The masking jig according to the present invention is applied to the large-diameter portion of a rod having a large-diameter portion, a small-diameter portion having a smaller diameter than the large-diameter portion, and a flange portion connecting the large-diameter portion and the small-diameter portion. A masking jig used for plating, which is a contact between an accommodating hole accommodating the small diameter portion and an contact that extends outward in the radial direction of the accommodating hole from the accommodating hole and can come into contact with the flange portion. A configuration including a portion and a through path for flowing a plating solution which is outside the abutting portion in the radial direction of the accommodating hole and penetrates from one side to the other along the axial direction of the accommodating hole. And said.

本発明によれば、めっき処理を行う際の生産性を向上させることができる。 According to the present invention, it is possible to improve the productivity when performing the plating treatment.

本発明に係る一実施形態のロッドの製造方法で製造されるロッドを含むシリンダ装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the cylinder apparatus which includes the rod manufactured by the manufacturing method of the rod of one Embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る一実施形態のロッドの製造方法で用いられるめっき装置を示す、マスキング治具を図3に示すII−II線で断面とした断面図である。It is sectional drawing which showed the plating apparatus used in the manufacturing method of the rod of one Embodiment which concerns on this invention, and made the masking jig a cross section by line II-II shown in FIG. 本発明に係る一実施形態のロッドの製造方法で用いられるマスキング治具および電極を示す平断面図である。It is a plan sectional view which shows the masking jig and the electrode used in the manufacturing method of the rod of one Embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る一実施形態のロッドの製造方法で用いられるめっき装置のめっき処理前の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state before the plating process of the plating apparatus used in the manufacturing method of the rod of one Embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る一実施形態のロッドの製造方法で用いられるめっき装置のめっき処理時の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state at the time of the plating process of the plating apparatus used in the manufacturing method of the rod of one Embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る一実施形態のロッドの製造方法で用いられる他のマスキング治具を含むめっき装置のめっき処理時の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state at the time of the plating process of the plating apparatus including another masking jig used in the manufacturing method of the rod of one Embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る一実施形態のロッドの製造方法で用いられるマスキング治具の他の例を示すものであって、(a)は(b)のX−X’断面図、(b)は(a)のY−Y’断面図である。Other examples of the masking jig used in the method for manufacturing a rod according to the present invention are shown, in which (a) is a cross-sectional view taken along the line XX'of (b) and (b) is (a). ) YY'Cross section. 本発明に係る一実施形態のロッドの製造方法で用いられるマスキング治具の他の例を示すものであって、(a)は平面図、(b)は(a)のX−X’断面図である。Other examples of the masking jig used in the method for manufacturing a rod according to the present invention are shown, in which (a) is a plan view and (b) is an XX'cross-sectional view of (a). Is.

本発明に係る一実施形態のロッドの製造方法およびマスキング治具を図面を参照して以下に説明する。 A method for manufacturing a rod and a masking jig according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

まず、本実施形態の製造方法で製造されるロッド10を含むシリンダ装置11を図1を参照して説明する。図1に示すシリンダ装置11は、自動車や鉄道車両等の車両のサスペンション装置に用いられる緩衝器であり、具体的には自動車のストラット型サスペンションに用いられる緩衝器である。シリンダ装置11は、作動液体が封入される円筒状の内筒12と、内筒12よりも大径で内筒12の外周側に設けられ内筒12との間に作動液体および作動気体が封入されるリザーバ室13を形成する有底筒状の外筒14とを有している。つまり、シリンダ装置11は、外筒14内に内筒12が設けられた複筒式の緩衝器である。 First, the cylinder device 11 including the rod 10 manufactured by the manufacturing method of the present embodiment will be described with reference to FIG. The cylinder device 11 shown in FIG. 1 is a shock absorber used in a suspension device of a vehicle such as an automobile or a railroad vehicle, and specifically, is a shock absorber used in a strut type suspension of an automobile. In the cylinder device 11, the working liquid and the working gas are sealed between the cylindrical inner cylinder 12 in which the working liquid is sealed and the inner cylinder 12 provided on the outer peripheral side of the inner cylinder 12 having a diameter larger than that of the inner cylinder 12. It has a bottomed cylindrical outer cylinder 14 forming a reservoir chamber 13 to be formed. That is, the cylinder device 11 is a double-cylinder type shock absorber in which the inner cylinder 12 is provided in the outer cylinder 14.

外筒14は、金属製の一部材からなる一体成形品であり、円筒状の側壁部17と、側壁部17の軸方向の一端側を閉塞する底部18と、側壁部17の底部18とは反対側の開口部19とを有している。側壁部17および底部18の中心軸線が外筒14の中心軸線となる。 The outer cylinder 14 is an integrally molded product made of one metal member, and the cylindrical side wall portion 17, the bottom portion 18 that closes one end side of the side wall portion 17 in the axial direction, and the bottom portion 18 of the side wall portion 17 are It has an opening 19 on the opposite side. The central axes of the side wall 17 and the bottom 18 are the central axes of the outer cylinder 14.

底部18は、側壁部17の軸方向の端縁部から側壁部17から離れるほど縮径するように延出するテーパ筒状部21と、テーパ筒状部21の側壁部17とは反対側の端縁部から径方向内方に延出する平板状の円環部22と、円環部22のテーパ筒状部21とは反対側の端縁部から円環部22から離れるほど縮径するように延出するテーパ筒状部23と、テーパ筒状部23の円環部22とは反対側の端縁部から径方向内方に延出する平板状の円板部24とを有している。テーパ筒状部21,23は、外筒14の中心軸線を中心とするテーパ状となっており、円環部22および円板部24は、外筒14の中心軸線に対し直交して広がっている。 The bottom portion 18 has a tapered tubular portion 21 extending from the axial end edge portion of the side wall portion 17 so as to decrease in diameter toward the side wall portion 17, and a side surface of the tapered tubular portion 21 opposite to the side wall portion 17. The diameter of the flat plate-shaped annulus 22 extending inward in the radial direction from the end edge is reduced as the distance from the annulus 22 is from the end edge of the annulus 22 opposite to the tapered tubular portion 21. It has a tapered tubular portion 23 extending in the radial direction from an end edge portion of the tapered tubular portion 23 opposite to the annulus portion 22, and a flat plate-shaped disc portion 24 extending inward in the radial direction. ing. The tapered tubular portions 21 and 23 have a tapered shape centered on the central axis of the outer cylinder 14, and the annulus portion 22 and the disc portion 24 extend orthogonally to the central axis of the outer cylinder 14. There is.

内筒12は、金属製の一部材からなる一体成形品であり、円筒状をなしている。内筒12は、その軸方向の一端部に取り付けられた円環状のベース部材30を介して外筒14の底部18に係合している。また、内筒12は、その軸方向の他端部に取り付けられた円環状のロッドガイド31を介して外筒14の側壁部17の底部18とは反対側に係合している。 The inner cylinder 12 is an integrally molded product made of one metal member and has a cylindrical shape. The inner cylinder 12 is engaged with the bottom portion 18 of the outer cylinder 14 via an annular base member 30 attached to one end in the axial direction thereof. Further, the inner cylinder 12 is engaged with the bottom portion 18 of the side wall portion 17 of the outer cylinder 14 via an annular rod guide 31 attached to the other end portion in the axial direction thereof.

ベース部材30は、内筒12に嵌合し固定された状態で外筒14の底部18に載置されている。ベース部材30は、底部18の円環部22に載置されており、その際に、テーパ筒状部21で径方向に位置決めされる。これにより、ベース部材30は、外筒14と同軸状に配置されることになり、その結果、内筒12の軸方向の一端部を外筒14と同軸状に配置する。 The base member 30 is placed on the bottom 18 of the outer cylinder 14 in a state of being fitted and fixed to the inner cylinder 12. The base member 30 is placed on the annular portion 22 of the bottom portion 18, and at that time, the base member 30 is positioned in the radial direction by the tapered tubular portion 21. As a result, the base member 30 is arranged coaxially with the outer cylinder 14, and as a result, one end portion of the inner cylinder 12 in the axial direction is arranged coaxially with the outer cylinder 14.

ロッドガイド31は、内筒12と外筒14の側壁部17とに嵌合することで、内筒12の軸方向の他端部を外筒14と同軸状に配置する。このロッドガイド31に対して底部18とは反対側には、円環状のシール部材33が配置されており、このシール部材33も側壁部17の内周部に嵌合されている。側壁部17の底部18とは反対の開口部19側には、カール加工によって径方向内方に塑性変形させられた加締め部34が形成されており、シール部材33は、この加締め部34とロッドガイド31とに挟持されている。シール部材33は、その軸方向の外側がこの加締め部34で係止されることによって、外筒14の開口部19側を封止する。 The rod guide 31 is fitted to the inner cylinder 12 and the side wall portion 17 of the outer cylinder 14, so that the other end portion of the inner cylinder 12 in the axial direction is arranged coaxially with the outer cylinder 14. An annular seal member 33 is arranged on the opposite side of the rod guide 31 from the bottom portion 18, and the seal member 33 is also fitted to the inner peripheral portion of the side wall portion 17. A crimping portion 34 that is plastically deformed inward in the radial direction by curling is formed on the opening 19 side opposite to the bottom portion 18 of the side wall portion 17, and the sealing member 33 is the crimping portion 34. Is sandwiched between the rod guide 31 and the rod guide 31. The sealing member 33 seals the opening 19 side of the outer cylinder 14 by locking the outer side in the axial direction with the crimping portion 34.

内筒12内には、ピストン35が摺動可能に嵌装されている。このピストン35は、内筒12内に第1室38と第2室39とを画成している。第1室38は、内筒12内のピストン35とロッドガイド31との間に設けられ、第2室39は、内筒12内のピストン35とベース部材30との間に設けられている。内筒12内の第2室39は、内筒12の一端側に設けられたベース部材30によって、リザーバ室13と画成されている。第1室38および第2室39には作動液体である油液が充填されており、リザーバ室13には作動気体であるガスと作動液体である油液とが充填されている。 A piston 35 is slidably fitted in the inner cylinder 12. The piston 35 defines a first chamber 38 and a second chamber 39 in the inner cylinder 12. The first chamber 38 is provided between the piston 35 in the inner cylinder 12 and the rod guide 31, and the second chamber 39 is provided between the piston 35 in the inner cylinder 12 and the base member 30. The second chamber 39 in the inner cylinder 12 is defined as the reservoir chamber 13 by the base member 30 provided on one end side of the inner cylinder 12. The first chamber 38 and the second chamber 39 are filled with an oil liquid which is a working liquid, and the reservoir chamber 13 is filled with a gas which is a working gas and an oil liquid which is a working liquid.

ピストン35にはロッド10がナット43によって連結されている。ロッド10は、円柱状の大径部61と、大径部61よりも小径の円柱状の小径部62と、大径部61と小径部62とを繋ぐ円環状の鍔部63と、を有している。大径部61と小径部62とは同軸状に配置されている。 A rod 10 is connected to the piston 35 by a nut 43. The rod 10 has a columnar large-diameter portion 61, a columnar small-diameter portion 62 having a diameter smaller than that of the large-diameter portion 61, and an annular flange portion 63 connecting the large-diameter portion 61 and the small-diameter portion 62. doing. The large diameter portion 61 and the small diameter portion 62 are arranged coaxially.

大径部61は、円筒面からなる外径面71と、外径面71の小径部62側の端縁部から小径部62側に延出する、延出先端側ほど小径となるテーパ面72と、を有している。鍔部63は、テーパ面72の外径面71とは反対側の端縁部から径方向内方に延出する円環状の平坦面からなる軸直交面75を有している。小径部62は、軸直交面75の内周縁部から軸方向の大径部61とは反対側に延出する円筒面からなる外径面78と、外径面78の軸方向の大径部61とは反対側に形成されたオネジ部79とを有している。ピストン35は小径部62の外径面78に嵌合されており、鍔部63の軸直交面75に当接している。ナット43は小径部62のオネジ部79に螺合されている。 The large-diameter portion 61 has an outer diameter surface 71 formed of a cylindrical surface and a tapered surface 72 extending from the edge portion of the outer diameter surface 71 on the small-diameter portion 62 side toward the small-diameter portion 62, and having a smaller diameter toward the extending tip side. And have. The flange portion 63 has an axially orthogonal surface 75 formed of an annular flat surface extending inward in the radial direction from an end edge portion of the tapered surface 72 opposite to the outer diameter surface 71. The small diameter portion 62 has an outer diameter surface 78 formed of a cylindrical surface extending from the inner peripheral edge portion of the axially orthogonal surface 75 to the side opposite to the large diameter portion 61 in the axial direction, and an axially large diameter portion of the outer diameter surface 78. It has a male screw portion 79 formed on the opposite side to the 61. The piston 35 is fitted to the outer diameter surface 78 of the small diameter portion 62, and is in contact with the axis orthogonal surface 75 of the flange portion 63. The nut 43 is screwed into the male screw portion 79 of the small diameter portion 62.

ロッド10は、大径部61の外径面71においてロッドガイド31およびシール部材33を通って内筒12および外筒14から外部へと延出している。これにより、ロッド10は、一端側が外筒14および内筒12内に配置され他端側が外筒14および内筒12の外部に配置されている。ロッド10は、大径部61の外径面71がロッドガイド31に摺接することになり、ロッドガイド31で案内されて、内筒12および外筒14に対して、ピストン35と一体に軸方向に移動する。ロッド10は、大径部61の外径面71がシール部材33に摺接することになり、シール部材33は、外筒14とロッド10との間を閉塞して、内筒12内の作動液体と、リザーバ室13内の作動気体および作動液体とが外部に漏出するのを規制する。 The rod 10 extends from the inner cylinder 12 and the outer cylinder 14 to the outside through the rod guide 31 and the seal member 33 on the outer diameter surface 71 of the large diameter portion 61. As a result, one end of the rod 10 is arranged inside the outer cylinder 14 and the inner cylinder 12, and the other end side is arranged outside the outer cylinder 14 and the inner cylinder 12. In the rod 10, the outer diameter surface 71 of the large diameter portion 61 is in sliding contact with the rod guide 31, and is guided by the rod guide 31 with respect to the inner cylinder 12 and the outer cylinder 14 in the axial direction integrally with the piston 35. Move to. In the rod 10, the outer diameter surface 71 of the large diameter portion 61 is in sliding contact with the seal member 33, and the seal member 33 closes between the outer cylinder 14 and the rod 10 to form a working liquid in the inner cylinder 12. And, the working gas and the working liquid in the reservoir chamber 13 are regulated from leaking to the outside.

ピストン35には、軸方向に貫通する通路44および通路45が形成されている。通路44,45は、第1室38と第2室39とを連通可能となっている。ピストン35には、ピストン35に当接することで通路44を閉塞可能な円環状のディスクバルブ46が軸方向の底部18とは反対側に設けられている。また、ピストン35には、ピストン35に当接することで通路45を閉塞可能な円環状のディスクバルブ47が軸方向の底部18側に設けられている。 The piston 35 is formed with a passage 44 and a passage 45 penetrating in the axial direction. The passages 44 and 45 allow the first chamber 38 and the second chamber 39 to communicate with each other. The piston 35 is provided with an annular disc valve 46 that can close the passage 44 by contacting the piston 35 on the side opposite to the bottom portion 18 in the axial direction. Further, the piston 35 is provided with an annular disc valve 47 on the bottom 18 side in the axial direction, which can close the passage 45 by contacting the piston 35.

ディスクバルブ46は、ロッド10が内筒12および外筒14内への進入量を増やす縮み側に移動しピストン35が第2室39を狭める方向に移動して第2室39の圧力が第1室38の圧力よりも所定値以上高くなると通路44を開くことになり、その際に減衰力を発生させる減衰バルブとなっている。ディスクバルブ47は、ロッド10が内筒12および外筒14からの突出量を増やす伸び側に移動しピストン35が第1室38を狭める方向に移動して第1室38の圧力が第2室39の圧力よりも所定値以上高くなると通路45を開くことになり、その際に減衰力を発生させる減衰バルブとなっている。 In the disc valve 46, the rod 10 moves to the contraction side that increases the amount of entry into the inner cylinder 12 and the outer cylinder 14, the piston 35 moves in the direction of narrowing the second chamber 39, and the pressure in the second chamber 39 becomes the first. When the pressure is higher than the pressure of the chamber 38 by a predetermined value or more, the passage 44 is opened, and the damping valve generates a damping force at that time. In the disc valve 47, the rod 10 moves to the extension side that increases the amount of protrusion from the inner cylinder 12 and the outer cylinder 14, the piston 35 moves in the direction of narrowing the first chamber 38, and the pressure of the first chamber 38 becomes the second chamber. When the pressure is higher than the pressure of 39 by a predetermined value or more, the passage 45 is opened, and the damping valve generates a damping force at that time.

ベース部材30には、軸方向に貫通する通路52および通路53が形成されている。通路52,53は第2室39とリザーバ室13とを連通可能となっている。ベース部材30には、その軸方向の底部18側に、ベース部材30に当接することで通路52を閉塞可能な円環状のディスクバルブ55が配置され、その軸方向の底部18とは反対側に、ベース部材30に当接することで通路53を閉塞可能な円環状のディスクバルブ56が配置されている。 The base member 30 is formed with a passage 52 and a passage 53 penetrating in the axial direction. The passages 52 and 53 can communicate with the second chamber 39 and the reservoir chamber 13. An annular disc valve 55 capable of closing the passage 52 by abutting against the base member 30 is arranged on the base member 30 on the side of the bottom 18 in the axial direction, and is located on the side opposite to the bottom 18 in the axial direction. An annular disc valve 56 that can close the passage 53 by abutting against the base member 30 is arranged.

ディスクバルブ55は、ロッド10が縮み側に移動して第2室39の圧力がリザーバ室13の圧力よりも所定値以上高くなると通路52を開くことになり、その際に減衰力を発生させる減衰バルブとなっている。ディスクバルブ56は、ロッド10が伸び側に移動しピストン35が第1室38側に移動して第2室39の圧力がリザーバ室13の圧力より下降すると通路53を開くことになるが、その際にリザーバ室13から第2室39内に実質的に減衰力を発生させずに作動液体を流すサクションバルブである。 The disc valve 55 opens the passage 52 when the rod 10 moves to the contraction side and the pressure in the second chamber 39 becomes higher than the pressure in the reservoir chamber 13 by a predetermined value or more, and the damping force is generated at that time. It is a valve. The disc valve 56 opens the passage 53 when the rod 10 moves to the extension side, the piston 35 moves to the first chamber 38 side, and the pressure in the second chamber 39 drops below the pressure in the reservoir chamber 13. It is a suction valve that allows the working liquid to flow from the reservoir chamber 13 into the second chamber 39 without substantially generating a damping force.

外筒14の底部18の円板部24の外側には円筒状の取付アイ58が溶接により固定されている。シリンダ装置11は、例えばロッド10が車両の車体側に連結され、取付アイ58が車両の車輪側に連結されて、車輪の車体に対する移動に対して減衰力を発生させる。シリンダ装置11は、ロッド10および外筒14が外部から衝撃力を受ける。 A cylindrical mounting eye 58 is fixed to the outside of the disk portion 24 of the bottom portion 18 of the outer cylinder 14 by welding. In the cylinder device 11, for example, the rod 10 is connected to the vehicle body side and the mounting eye 58 is connected to the wheel side of the vehicle to generate a damping force with respect to the movement of the wheels with respect to the vehicle body. In the cylinder device 11, the rod 10 and the outer cylinder 14 receive an impact force from the outside.

次に、本実施形態のロッド10の製造方法について説明する。ロッド10は、金属製であり、大径部61においてロッドガイド31およびシール部材33に対し摺動することになる。また、鍔部63においてピストン35に当接し、小径部62のオネジ部79にナット43を螺合させる。ロッド10は、めっきが施される被めっき物であり、ロッドガイド31およびシール部材33に対し摺動したり、シール部材33よりも外部に露出したりする大径部61にめっきが電着される。具体的には、大径部61の外径面71およびテーパ面72にめっきが電着される。他方で、常に油液に満たされた内筒12の内部にある、鍔部63の軸直交面75と小径部62の外径面78およびオネジ部79とについてはめっきの電着が抑制される。 Next, a method of manufacturing the rod 10 of the present embodiment will be described. The rod 10 is made of metal and slides on the rod guide 31 and the seal member 33 in the large diameter portion 61. Further, the flange portion 63 abuts on the piston 35, and the nut 43 is screwed into the male screw portion 79 of the small diameter portion 62. The rod 10 is an object to be plated, and the plating is electrodeposited on a large diameter portion 61 that slides on the rod guide 31 and the seal member 33 or is exposed to the outside of the seal member 33. NS. Specifically, plating is electrodeposited on the outer diameter surface 71 and the tapered surface 72 of the large diameter portion 61. On the other hand, plating electrodeposition is suppressed on the axially orthogonal surface 75 of the flange portion 63, the outer diameter surface 78 of the small diameter portion 62, and the male thread portion 79, which are always inside the inner cylinder 12 filled with the oil liquid. ..

本実施形態のロッド10の製造方法は、上記したロッド10に対し、めっきを電着させたくない鍔部63の軸直交面75と小径部62の外径面78およびオネジ部79とを遮蔽しつつ、大径部61の外径面71およびテーパ面72にめっきを電着させる方法となっている。 In the method for manufacturing the rod 10 of the present embodiment, the rod 10 is shielded from the axially orthogonal surface 75 of the flange portion 63, the outer diameter surface 78 of the small diameter portion 62, and the male screw portion 79, which are not to be electrodeposited with plating. At the same time, the plating is electrodeposited on the outer diameter surface 71 and the tapered surface 72 of the large diameter portion 61.

本実施形態のロッド10の製造方法で用いられるめっき処理装置81は、図2に示すように、ロッド10における大径部61よりも小径部62とは反対側の部分を把持する搬送ロボットの把持部82を有している。把持部82は、ロッド10を把持部82から鉛直下方に延出させた状態で把持する。把持部82は、上下に昇降可能となっている。把持部82で把持された状態のロッド10は鉛直方向に沿っており、大径部61よりも小径部62が下側に配置されている。 As shown in FIG. 2, the plating processing device 81 used in the method for manufacturing the rod 10 of the present embodiment grips the transfer robot that grips the portion of the rod 10 opposite to the small diameter portion 62 rather than the large diameter portion 61. It has a part 82. The grip portion 82 grips the rod 10 in a state of extending vertically downward from the grip portion 82. The grip portion 82 can be raised and lowered up and down. The rod 10 gripped by the grip portion 82 is along the vertical direction, and the small diameter portion 62 is arranged below the large diameter portion 61.

めっき処理装置81は、把持部82で把持され把持部82とともに下降するロッド10が進入可能な挿入口85を上部に備える処理槽本体86を備えている。また、めっき処理装置81は、処理槽本体86内に、把持部82で把持され把持部82とともに下降するロッド10が進入可能な挿入口91を上部に備える電極92を有している。処理槽本体86の挿入口85よりも電極92の挿入口91の方が下側に配置されている。電極92は、円筒状の壁電極部95と、壁電極部95の上端縁部側に図示せぬ螺子などの締結部材により締結された環状部材96とを有している。環状部材96は、外周側が壁電極部95の外径と同径で、内周側は壁電極部95の内径よりも小径に構成される。つまり、環状部材96は、内周側に壁電極部95よりも径方向内方まで延出する部分を有する。また、環状部材96は、絶縁体である。この環状部材96は、マスキング治具111が電極92から飛び出さないようにするストッパの役割をしている。マスキング治具111を交換するときに取り外しが容易となるように、環状部材96を締結部材により壁電極部95に締結しておくことが望ましい。なお、環状部材96は、壁電極部95の上端縁部から径方向内方に若干延出する円環状の内側延出電極部として壁電極部95と一体構成とし、電極を兼ねてもよい。 The plating processing apparatus 81 includes a processing tank main body 86 having an insertion port 85 at the upper portion into which a rod 10 gripped by the grip portion 82 and descending together with the grip portion 82 can enter. Further, the plating processing apparatus 81 has an electrode 92 in the processing tank main body 86 having an insertion port 91 at the upper portion into which a rod 10 gripped by the gripping portion 82 and descending together with the gripping portion 82 can enter. The insertion port 91 of the electrode 92 is arranged lower than the insertion port 85 of the processing tank main body 86. The electrode 92 has a cylindrical wall electrode portion 95 and an annular member 96 fastened to the upper end edge side of the wall electrode portion 95 by a fastening member such as a screw (not shown). The outer peripheral side of the annular member 96 has the same diameter as the outer diameter of the wall electrode portion 95, and the inner peripheral side has a diameter smaller than the inner diameter of the wall electrode portion 95. That is, the annular member 96 has a portion extending inward in the radial direction from the wall electrode portion 95 on the inner peripheral side. Further, the annular member 96 is an insulator. The annular member 96 acts as a stopper to prevent the masking jig 111 from popping out from the electrode 92. It is desirable to fasten the annular member 96 to the wall electrode portion 95 with a fastening member so that the masking jig 111 can be easily removed when the masking jig 111 is replaced. The annular member 96 may be integrated with the wall electrode portion 95 as an annular inward extending electrode portion that slightly extends inward in the radial direction from the upper end edge portion of the wall electrode portion 95, and may also serve as an electrode.

めっき処理装置81は、電極92の壁電極部95の内側に配置されるマスキング治具111を有している。マスキング治具111は、ロッド10の大径部61にめっきを施す際にロッド10の鍔部63および小径部62をマスキングするために用いられるものである。マスキング治具111は、電極92に対して独立して移動可能であり、壁電極部95の円筒面状の内周面98を摺動可能であって、上下に昇降可能となっている。 The plating processing apparatus 81 has a masking jig 111 arranged inside the wall electrode portion 95 of the electrode 92. The masking jig 111 is used to mask the flange portion 63 and the small diameter portion 62 of the rod 10 when plating the large diameter portion 61 of the rod 10. The masking jig 111 can move independently of the electrode 92, can slide on the cylindrical inner peripheral surface 98 of the wall electrode portion 95, and can move up and down.

マスキング治具111は、壁電極部95の内周面98に摺接する円筒面状の外径面112を有している。マスキング治具111には、径方向の中央に、円形穴である収容穴115が軸方向に沿って形成されている。収容穴115は、マスキング治具111の軸方向の一端から他端側の途中位置まで形成されている。言い換えれば、収容穴115は、マスキング治具111の軸方向の一端に開口部116を有し他端側は開口しない袋穴となっている。収容穴115は、円筒面状の内壁面117と、内壁面117の開口部116とは反対側の端縁部から径方向内方に広がる底面118とを有している。収容穴115の内径は、ロッド10の小径部62の外径よりも大径であり、鍔部63の軸直交面75の最大径よりも小径となっている。また、収容穴115の深さは、ロッド10の小径部62の軸方向の長さよりも深くなっている。これにより、収容穴115には、ロッド10の小径部62が収容可能であり、鍔部63および大径部61は収容不可となっている。 The masking jig 111 has a cylindrical outer diameter surface 112 that is in sliding contact with the inner peripheral surface 98 of the wall electrode portion 95. In the masking jig 111, an accommodating hole 115, which is a circular hole, is formed in the center in the radial direction along the axial direction. The accommodating hole 115 is formed from one end in the axial direction of the masking jig 111 to an intermediate position on the other end side. In other words, the accommodating hole 115 is a bag hole having an opening 116 at one end in the axial direction of the masking jig 111 and not opening at the other end. The accommodating hole 115 has a cylindrical inner wall surface 117 and a bottom surface 118 extending inward in the radial direction from an edge portion of the inner wall surface 117 opposite to the opening 116. The inner diameter of the accommodating hole 115 is larger than the outer diameter of the small diameter portion 62 of the rod 10, and is smaller than the maximum diameter of the axially orthogonal surface 75 of the flange portion 63. Further, the depth of the accommodating hole 115 is deeper than the axial length of the small diameter portion 62 of the rod 10. As a result, the small diameter portion 62 of the rod 10 can be accommodated in the accommodating hole 115, and the flange portion 63 and the large diameter portion 61 cannot be accommodated.

マスキング治具111には、収容穴115の開口部116側の端部に、収容穴115よりも収容穴115の径方向における外側、言い換えれば収容穴115よりもマスキング治具111の径方向における外側に広がる当接部121を有している。当接部121は、マスキング治具111の軸方向に直交して広がる平坦な円環状の当接面122を有している。当接面122の最小径は、収容穴115の内径と同等であり、ロッド10の鍔部63の軸直交面75の最大径よりも小径で、軸直交面75の最小径よりも大径となっている。また、当接面122の最大径は、軸直交面75の最大径よりも大径となっている。よって、当接部121には、その当接面122に、収容穴115に小径部62が収容された状態のロッド10の鍔部63が軸直交面75において当接可能となっている。収容穴115に小径部62が中心軸線を一致させた同軸状態で収容されると、軸直交面75は全周にわたって当接面122に当接する。
なお、本実施の形態では、マスキング治具111の当接面122は、マスキング治具111の軸方向に直交して広がる平坦な円環状の面としたが、ロッド10にテーパ面72を設けるものにおいては、図7に示すように、マスキング治具111の当接面122もテーパ面とするほうが望ましい。テーパ面72の下切片で円環状の当接面122に当たるようにするには、円環状の当接面122と円筒面状の内壁面117とのなす角Bの範囲が、テーパ面72の角度をAとしたとき、90°<B<(180−A)の範囲となる。
これに平面状の当接面122であてる場合も範囲も考えると、Bの範囲は、
90°≦B<(180−A)
となる。
On the masking jig 111, at the end of the accommodating hole 115 on the opening 116 side, the outer side of the accommodating hole 115 in the radial direction of the accommodating hole 115, in other words, the outer side of the accommodating hole 115 in the radial direction of the masking jig 111. It has an abutting portion 121 that extends to. The contact portion 121 has a flat annular contact surface 122 that extends orthogonally to the axial direction of the masking jig 111. The minimum diameter of the contact surface 122 is equal to the inner diameter of the accommodating hole 115, is smaller than the maximum diameter of the shaft orthogonal surface 75 of the flange portion 63 of the rod 10, and is larger than the minimum diameter of the shaft orthogonal surface 75. It has become. Further, the maximum diameter of the contact surface 122 is larger than the maximum diameter of the axis orthogonal surface 75. Therefore, the flange portion 63 of the rod 10 in which the small diameter portion 62 is accommodated in the accommodating hole 115 can be brought into contact with the abutting portion 121 on the axially orthogonal surface 75. When the small diameter portion 62 is accommodated in the accommodating hole 115 in a coaxial state in which the central axes are aligned, the axis orthogonal surface 75 abuts on the abutting surface 122 over the entire circumference.
In the present embodiment, the contact surface 122 of the masking jig 111 is a flat annular surface that extends orthogonally to the axial direction of the masking jig 111, but the rod 10 is provided with a tapered surface 72. In the above, as shown in FIG. 7, it is desirable that the contact surface 122 of the masking jig 111 is also a tapered surface. In order to make the lower section of the tapered surface 72 hit the annular contact surface 122, the range of the angle B formed by the annular contact surface 122 and the cylindrical inner wall surface 117 is the angle of the tapered surface 72. Is A, the range is 90 ° <B <(180-A).
Considering the case where the flat contact surface 122 is applied to this and the range, the range of B is
90 ° ≤ B <(180-A)
Will be.

マスキング治具111には、外径面112から径方向内方に凹む溝状の貫通路125が形成されている。貫通路125は、マスキング治具111を、マスキング治具111の軸方向、言い換えれば収容穴115の軸方向に沿って一端側から他端側まで貫通している。マスキング治具111には、図3に示すように、貫通路125が周方向に等間隔で複数、具体的には4箇所形成されている。貫通路125は、当接部121よりも収容穴115の径方向における外側、言い換えれば当接部121よりもマスキング治具111の径方向における外側に配置されている。これら貫通路125は、めっき液をマスキング治具111の軸方向に通過させるめっき液流通用の通路である。なお、本実施の形態の貫通路125は図3に示すように断面が凹状をしているが、この形状は円形でもよく、どのような形状でもよい。 The masking jig 111 is formed with a groove-shaped through-passage 125 that is recessed inward in the radial direction from the outer diameter surface 112. The gangway 125 penetrates the masking jig 111 from one end side to the other end side along the axial direction of the masking jig 111, in other words, the axial direction of the accommodating hole 115. As shown in FIG. 3, the masking jig 111 is formed with a plurality of through-passages 125 at equal intervals in the circumferential direction, specifically, four locations. The gangway 125 is arranged outside the contact portion 121 in the radial direction of the accommodating hole 115, in other words, outside the contact portion 121 in the radial direction of the masking jig 111. These through-passages 125 are passages for circulating the plating solution through which the plating solution passes in the axial direction of the masking jig 111. The gangway 125 of the present embodiment has a concave cross section as shown in FIG. 3, but this shape may be circular or any shape.

マスキング治具111には、図2に示すように、軸方向の中間位置に中空部131が、マスキング治具111の軸方向に沿って形成されている。図3に示すように、中空部131は断面円形状であり、マスキング治具111には、中空部131が周方向に等間隔で複数、具体的には4箇所形成されている。中空部131は、当接部121よりも収容穴115の径方向における外側、言い換えれば当接部121よりもマスキング治具111の径方向における外側に配置されている。中空部131は、マスキング治具111の周方向において貫通路125と交互に等間隔で配置されている。これら中空部131は、空気を保持して密閉されており、マスキング治具111に浮力を生じさせる部分となっている。 As shown in FIG. 2, the masking jig 111 has a hollow portion 131 formed at an intermediate position in the axial direction along the axial direction of the masking jig 111. As shown in FIG. 3, the hollow portion 131 has a circular cross section, and the masking jig 111 is formed with a plurality of hollow portions 131 at equal intervals in the circumferential direction, specifically, four locations. The hollow portion 131 is arranged outside the contact portion 121 in the radial direction of the accommodating hole 115, in other words, outside the contact portion 121 in the radial direction of the masking jig 111. The hollow portions 131 are arranged alternately with the gangway 125 in the circumferential direction of the masking jig 111 at equal intervals. These hollow portions 131 hold air and are sealed, and serve as a portion that causes buoyancy in the masking jig 111.

マスキング治具111は、絶縁性の合成樹脂材料により形成されており、全体が絶縁体となっている。マスキング治具111は、比重が、めっき液よりも小さくなるように構成されている。マスキング治具111は、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチエンで形成されている。なお、本実施の形態では、マスキング治具111全体を合成樹脂材料により形成した例を示したが、外周摺動面や穴115を耐摺動性の無機材料や金属材料などで被覆するなど、適宜変更することが可能である。
なお、図8に示すように例えばベーンポンプのベーンのように金属製または硬い樹脂製の中央部材201の円筒状の外周面に複数のスリット202を設け、各スリット202に壁部材203を埋め込んでこれら壁部材203の中央部材201とは反対端に円筒状部材204を固定するようにしてもよい。このように構成することにより、貫通路125を加工等により形成せずとも、設けることができる。
The masking jig 111 is made of an insulating synthetic resin material, and is an insulator as a whole. The masking jig 111 is configured so that the specific gravity is smaller than that of the plating solution. The masking jig 111 is made of, for example, polyvinyl chloride, polyvinylidene fluoride, or polytetrafluoroethylene. In the present embodiment, an example in which the entire masking jig 111 is formed of a synthetic resin material is shown, but the outer peripheral sliding surface and the hole 115 are covered with a sliding resistant inorganic material, a metal material, or the like. It can be changed as appropriate.
As shown in FIG. 8, a plurality of slits 202 are provided on the cylindrical outer peripheral surface of the central member 201 made of metal or hard resin, such as a vane of a vane pump, and the wall member 203 is embedded in each slit 202. The cylindrical member 204 may be fixed to the end of the wall member 203 opposite to the central member 201. With this configuration, the gangway 125 can be provided without being formed by processing or the like.

マスキング治具111は、図2に示すように、当接部121および収容穴115の開口部116が上に向く状態で、電極92の壁電極部95内に同軸状に配置されている。マスキング治具111は、自重により壁電極部95の下部位置まで下がると、図示略のストッパに当接して、それ以上の下降が規制される。マスキング治具111は、図示略のストッパに当接して停止する図2に示す位置が昇降範囲の最下位置となっており、この最下位置にある状態が待機状態となっている。 As shown in FIG. 2, the masking jig 111 is coaxially arranged in the wall electrode portion 95 of the electrode 92 with the contact portion 121 and the opening 116 of the accommodating hole 115 facing upward. When the masking jig 111 is lowered to the lower position of the wall electrode portion 95 by its own weight, it comes into contact with a stopper (not shown), and further lowering is restricted. The position shown in FIG. 2 at which the masking jig 111 comes into contact with a stopper (not shown) and stops is the lowest position in the elevating range, and the state at this lowest position is the standby state.

ロッド10の大径部61にめっきを施す際に、めっき処理装置81は、把持部82で把持したロッド10を小径部62側から、処理槽本体86の挿入口85に挿入し、さらに電極92の挿入口91に挿入する。そして、把持部82は、図4に示すように大径部61が所定長さ電極92内に挿入されるようにロッド10を下降させて停止する。このように把持部82で把持されて停止するロッド10は、電極92およびマスキング治具111と同軸状に配置されて、待機状態にあるマスキング治具111よりも上側に停止する。 When plating the large diameter portion 61 of the rod 10, the plating processing device 81 inserts the rod 10 gripped by the grip portion 82 from the small diameter portion 62 side into the insertion port 85 of the processing tank main body 86, and further inserts the electrode 92. Is inserted into the insertion port 91 of. Then, as shown in FIG. 4, the grip portion 82 lowers the rod 10 and stops so that the large diameter portion 61 is inserted into the predetermined length electrode 92. The rod 10 that is gripped and stopped by the grip portion 82 is arranged coaxially with the electrode 92 and the masking jig 111, and stops above the masking jig 111 in the standby state.

めっき処理装置81は、上記のように当接部121および収容穴115の開口部116を上に向けて壁電極部95内に配置されて最下位置で停止しているマスキング治具111に向けて、図5に矢印で示すように、電極92内で下から上に向けてめっき液を流す。すると、マスキング治具111は、めっき液の抵抗構造になっており、また、比重がめっき液よりも小さいため、めっき液の流れで浮力が生じ、上昇することになる。このとき、中空部131は密封されているため、めっき液が入り込むことはなく安定した浮力を発生させる。 The plating processing apparatus 81 faces the masking jig 111 which is arranged in the wall electrode portion 95 with the contact portion 121 and the opening 116 of the accommodating hole 115 facing upward as described above and is stopped at the lowest position. Then, as shown by an arrow in FIG. 5, the plating solution is flowed from the bottom to the top in the electrode 92. Then, since the masking jig 111 has a resistance structure of the plating solution and the specific gravity is smaller than that of the plating solution, buoyancy is generated by the flow of the plating solution and the masking jig 111 rises. At this time, since the hollow portion 131 is sealed, the plating solution does not enter and a stable buoyancy is generated.

めっき液によって上昇させられたマスキング治具111は、その収容穴115にロッド10の小径部62を収容しつつ当接部121をロッド10の鍔部63に当接させて停止する。このようにマスキング治具111がロッド10の鍔部63に押し付けられて停止すると、めっき液は、貫通路125を下から上に向けて流れて電極92内で大径部61に接触する。電極92の挿入口91から溢れためっき液は、処理槽本体86と電極92との間を通って下方に流れる。 The masking jig 111 raised by the plating solution stops the contact portion 121 by abutting the flange portion 63 of the rod 10 while accommodating the small diameter portion 62 of the rod 10 in the accommodating hole 115. When the masking jig 111 is pressed against the flange portion 63 of the rod 10 and stopped in this way, the plating solution flows from the bottom to the top in the through-passage 125 and comes into contact with the large diameter portion 61 in the electrode 92. The plating solution overflowing from the insertion port 91 of the electrode 92 flows downward through between the treatment tank main body 86 and the electrode 92.

以上を言い換えれば、めっき処理装置81は、当接部121および収容穴115の開口部116を上に向けてマスキング治具111を配置し、マスキング治具111に向けて下からめっき液を流すことにより、マスキング治具111の収容穴115にロッド10の小径部62を収容し、マスキング治具111の当接部121をロッド10の鍔部63に当接させるとともに、めっき液をマスキング治具111の貫通路125に下から流してロッド10の大径部61に接触させる。 In other words, the plating processing apparatus 81 arranges the masking jig 111 with the contact portion 121 and the opening 116 of the accommodating hole 115 facing upward, and flows the plating solution toward the masking jig 111 from below. As a result, the small diameter portion 62 of the rod 10 is accommodated in the accommodating hole 115 of the masking jig 111, the contact portion 121 of the masking jig 111 is brought into contact with the flange portion 63 of the rod 10, and the plating solution is brought into contact with the masking jig 111. It flows from below through the through-passage 125 of the rod 10 and comes into contact with the large-diameter portion 61 of the rod 10.

そして、上記のように電極92内でめっき液を流し続けた状態で、ロッド10と電極92の接点との間に給電する。すると、絶縁体であるマスキング治具111と軸方向の位置が重なり合って覆われている小径部62は、めっきの電着すなわちめっき層の形成が抑制され、マスキング治具111に軸方向の位置が重なり合わず覆われていない大径部61にはめっきが電着されめっき層が形成される。しかも、ロッド10の鍔部63が全周にわたって当接部121に当接して挿入口85を閉塞していて、挿入口85内へのめっき液の流入を抑制することから、小径部62のめっき層の形成がさらに抑制される。加えて、ロッド10の鍔部63の外周縁部が全周にわたって当接部121に当接しているため、鍔部63の軸直交面75と当接部121の当接面122との間へのめっき液の流入をも抑制し、よって、鍔部63の軸直交面75もめっき層の形成が抑制される。さらに、マスキング治具111の円筒面状の外径面112と電極部95の円筒面状の内周面98の隙間を狭くすることによって、マスキング治具111が、マスキング治具111より下部に位置する電極部95の円筒面状の内周面98から流れてくるはずの電流を遮蔽する遮蔽板として働くため、本来ロッド10の下方に集中するはずの電流を抑制する。このことにより膜厚均一化に効果が得られる。 Then, in a state where the plating solution continues to flow in the electrode 92 as described above, power is supplied between the rod 10 and the contact point of the electrode 92. Then, the small diameter portion 62, which is covered with the masking jig 111 which is an insulator and the position in the axial direction overlaps with each other, is suppressed from the electrodeposition of plating, that is, the formation of the plating layer, and the position in the axial direction is set on the masking jig 111. Plating is electrodeposited on the large diameter portion 61 which is not overlapped and not covered to form a plating layer. Moreover, since the flange portion 63 of the rod 10 abuts on the contact portion 121 over the entire circumference to block the insertion port 85 and suppresses the inflow of the plating solution into the insertion port 85, the plating of the small diameter portion 62 is performed. Layer formation is further suppressed. In addition, since the outer peripheral edge portion of the flange portion 63 of the rod 10 is in contact with the contact portion 121 over the entire circumference, it is possible to move between the axis orthogonal surface 75 of the flange portion 63 and the contact surface 122 of the contact portion 121. The inflow of the plating solution is also suppressed, and thus the formation of the plating layer is also suppressed at the axially orthogonal plane 75 of the flange portion 63. Further, by narrowing the gap between the cylindrical outer diameter surface 112 of the masking jig 111 and the cylindrical inner peripheral surface 98 of the electrode portion 95, the masking jig 111 is positioned below the masking jig 111. Since it acts as a shielding plate that shields the current that should flow from the cylindrical inner peripheral surface 98 of the electrode portion 95, it suppresses the current that should be concentrated below the rod 10. This is effective in making the film thickness uniform.

大径部61に所定厚さのめっき層が形成されると、めっき処理装置81は、電極92内でマスキング治具111に向けて下から流すめっき液を停止させる。すると、マスキング治具111は、自重により最下位置まで下降してストッパに当接して待機状態に戻る。その後、図2に示す把持部82が上昇してロッド10を電極92および処理槽本体86から引き上げて、後工程に払い出し、次にめっき処理するロッド10を把持する。 When a plating layer having a predetermined thickness is formed on the large diameter portion 61, the plating processing apparatus 81 stops the plating liquid flowing from below toward the masking jig 111 in the electrode 92. Then, the masking jig 111 descends to the lowest position due to its own weight, comes into contact with the stopper, and returns to the standby state. After that, the grip portion 82 shown in FIG. 2 rises to pull up the rod 10 from the electrode 92 and the processing tank main body 86, pay out to a subsequent process, and then grip the rod 10 to be plated.

上記した特許文献1には、ワークのサイズに応じて高さ調整を行うことができるめっき用ハンガが記載されている。このようなめっき用ハンガを用いると、ワークのサイズに応じて高さ調整を行う必要があり、生産性が低下してしまう。 The above-mentioned Patent Document 1 describes a hanger for plating whose height can be adjusted according to the size of the work. If such a hanger for plating is used, it is necessary to adjust the height according to the size of the work, and the productivity is lowered.

これに対して、本実施形態は、収容穴115と、収容穴115よりも収容穴115の径方向における外側に広がる当接部121と、当接部121よりも収容穴115の径方向における外側にあって収容穴115の軸方向に沿って一側から他側まで貫通する貫通路125と、を有するマスキング治具111を用いることになり、当接部121および収容穴115の開口部116を上に向けてマスキング治具111を配置するとともに、このマスキング治具111の上方に、小径部62を大径部61よりも下にしてロッド10を固定する。そして、マスキング治具111に向けて下からめっき液を下から流すことにより、マスキング治具111を上昇させて、収容穴115にロッド10の小径部62を収容し、当接部121をロッド10の鍔部63に当接させるとともに、めっき液を貫通路125に下から流してロッド10の大径部61に接触させる。この状態でめっき処理を行う。 On the other hand, in the present embodiment, the accommodating hole 115, the abutting portion 121 extending outward in the radial direction of the accommodating hole 115 from the accommodating hole 115, and the outer side in the radial direction of the accommodating hole 115 than the abutting portion 121. A masking jig 111 having a through-passage 125 penetrating from one side to the other along the axial direction of the accommodating hole 115 is used, and the contact portion 121 and the opening 116 of the accommodating hole 115 are formed. The masking jig 111 is arranged upward, and the rod 10 is fixed above the masking jig 111 with the small diameter portion 62 below the large diameter portion 61. Then, by flowing the plating solution from below toward the masking jig 111, the masking jig 111 is raised, the small diameter portion 62 of the rod 10 is accommodated in the accommodating hole 115, and the contact portion 121 is placed on the rod 10. The plating solution is brought into contact with the large-diameter portion 61 of the rod 10 by flowing the plating solution through the through-passage 125 from below. Plating is performed in this state.

これにより、大径部61の長さが異なる複数種類のロッド10を、同じめっき処理装置81によってめっき処理する場合であっても、最下位置から上昇するマスキング治具111が、大径部61の長さに応じて高さ位置が異なることになる鍔部63の高さ位置に応じて停止して鍔部63および小径部62を良好にマスキングする。よって、大径部61の長さが異なる複数種類のロッド10をめっき処理する場合であっても、めっきを電着させたくない鍔部63の軸直交面75と小径部62の外径面78およびオネジ部79を遮蔽しつつ大径部61にめっきを電着させることが、めっき処理装置81の段取り替えを行うことなくできることになる。したがって、めっき処理を行う際の生産性を向上させることができる。 As a result, even when a plurality of types of rods 10 having different lengths of the large diameter portion 61 are plated by the same plating processing device 81, the masking jig 111 rising from the lowest position can be used for the large diameter portion 61. The height position is different depending on the length of the collar portion 63, and the flange portion 63 and the small diameter portion 62 are satisfactorily masked by stopping according to the height position of the flange portion 63. Therefore, even when plating a plurality of types of rods 10 having different lengths of the large diameter portion 61, the axially orthogonal surface 75 of the flange portion 63 and the outer diameter surface 78 of the small diameter portion 62 for which plating is not desired to be electrodeposited. It is possible to electrodeposit the plating on the large diameter portion 61 while shielding the male screw portion 79 and without changing the setup of the plating processing apparatus 81. Therefore, the productivity at the time of performing the plating process can be improved.

また、マスキング治具111にめっき液を流通させる貫通路125を形成しているため、電極92内でマスキング治具111を上昇させるためにマスキング治具111の下方からマスキング治具111に向けて流すめっき液を、マスキング治具111の上方にあってめっきが施される大径部61に接触するように円滑に流すことができる。 Further, since the masking jig 111 is formed with a through path 125 through which the plating solution is circulated, the masking jig 111 is flown from below the masking jig 111 toward the masking jig 111 in order to raise the masking jig 111 in the electrode 92. The plating solution can be smoothly flowed above the masking jig 111 so as to come into contact with the large diameter portion 61 to be plated.

また、マスキング治具111に中空部131が形成されているため、マスキング治具111にめっき液に対する浮力を良好に生じさせることができる。中空部131は、例えば、マスキング治具111の射出成形時において袋穴状に形成され、その開口部を別体の蓋部材で閉塞すること等により形成される。なお、中空部131は、下部に開口部を有していても、めっき液の浸入は抑制されるため、マスキング治具111に浮力を発生させることができる。 Further, since the hollow portion 131 is formed in the masking jig 111, the masking jig 111 can be satisfactorily generated with buoyancy against the plating solution. The hollow portion 131 is formed in a bag hole shape at the time of injection molding of the masking jig 111, for example, and the hollow portion 131 is formed by closing the opening with a separate lid member or the like. Even if the hollow portion 131 has an opening at the lower portion, the infiltration of the plating solution is suppressed, so that buoyancy can be generated in the masking jig 111.

なお、めっき液の被覆力(カバーリングパワー)に応じてマスキング治具111の構造を変更しても良い。ここで、めっき液の被覆力とは、凹部や裏面などの陰になり易い部分にめっきを電着させる能力である。例えば、上記においては、図2〜図5に示すようにマスキング治具111の収容穴115を袋穴としたが、図6に示すように収容穴115をマスキング治具111を軸方向に貫通する貫通穴としても良い。例えば、めっき液の被覆力が高い場合、図2〜図5に示すように収容穴115を袋穴とする。他方、めっき液の被覆力が低い場合は、図6に示すように収容穴115を貫通穴としても、例えばマスキング治具111の軸方向長さを必要に応じて長くすることによってめっきの小径部62への析出を抑制することができる。 The structure of the masking jig 111 may be changed according to the covering power (covering power) of the plating solution. Here, the covering power of the plating solution is the ability to electrodeposit the plating on a portion that tends to be shaded, such as a recess or the back surface. For example, in the above, the accommodating hole 115 of the masking jig 111 is a bag hole as shown in FIGS. 2 to 5, but the accommodating hole 115 penetrates the masking jig 111 in the axial direction as shown in FIG. It may be a through hole. For example, when the coating power of the plating solution is high, the accommodating hole 115 is used as a bag hole as shown in FIGS. On the other hand, when the coating force of the plating solution is low, even if the accommodating hole 115 is used as a through hole as shown in FIG. 6, for example, by increasing the axial length of the masking jig 111 as necessary, the small diameter portion of the plating Precipitation to 62 can be suppressed.

以上に述べた実施形態の第1の態様は、大径部と、前記大径部よりも小径の小径部と、前記大径部と前記小径部とを繋ぐ鍔部と、を有するロッドの前記大径部にめっきを施すロッドの製造方法であって、収容穴と、前記収容穴よりも該収容穴の径方向における外側に広がる当接部と、前記当接部よりも前記収容穴の径方向における外側にあって前記収容穴の軸方向に沿って一側から他側まで貫通する貫通路と、を有するマスキング治具を用い、前記当接部を上に向けて前記マスキング治具を配置し、該マスキング治具に向けて下からめっき液を流すことにより、前記収容穴に前記小径部を収容し前記当接部を前記鍔部に当接させるとともにめっき液を前記貫通路に流して前記大径部に接触させることを特徴とする。これにより、めっき処理を行う際の生産性を向上させることができる。 The first aspect of the embodiment described above is the rod having a large diameter portion, a small diameter portion having a diameter smaller than that of the large diameter portion, and a flange portion connecting the large diameter portion and the small diameter portion. A method for manufacturing a rod for plating a large-diameter portion, that is, an accommodating hole, a contact portion extending outward from the accommodating hole in the radial direction of the accommodating hole, and a diameter of the accommodating hole rather than the abutting portion. A masking jig having a through path that is on the outside in the direction and penetrates from one side to the other along the axial direction of the accommodating hole is used, and the masking jig is arranged with the contact portion facing upward. Then, by flowing the plating solution from below toward the masking jig, the small diameter portion is accommodated in the accommodation hole, the contact portion is brought into contact with the collar portion, and the plating solution is allowed to flow through the through path. It is characterized in that it is brought into contact with the large diameter portion. Thereby, the productivity at the time of performing the plating process can be improved.

実施形態の第2の態様は、上記第1の態様において、前記マスキング治具が絶縁性の合成樹脂材料により形成されていることを特徴とする。これにより、小径部に析出するめっきを抑制することができる。 The second aspect of the embodiment is characterized in that, in the first aspect, the masking jig is formed of an insulating synthetic resin material. As a result, plating deposited on the small diameter portion can be suppressed.

実施形態の第3の態様は、大径部と、前記大径部よりも小径の小径部と、前記大径部と前記小径部とを繋ぐ鍔部と、を有するロッドの前記大径部にめっきを施す際に用いられるマスキング治具であって、前記小径部を収容する収容穴と、前記収容穴よりも該収容穴の径方向における外側に広がって前記鍔部に当接可能な当接部と、前記当接部よりも前記収容穴の径方向における外側にあって前記収容穴の軸方向に沿って一側から他側に貫通するめっき液流通用の貫通路と、を有することを特徴とする。これにより、めっき処理を行う際の生産性を向上させることができる。 A third aspect of the embodiment is to the large-diameter portion of the rod having a large-diameter portion, a small-diameter portion having a diameter smaller than the large-diameter portion, and a flange portion connecting the large-diameter portion and the small-diameter portion. A masking jig used for plating, which is a contact between an accommodating hole accommodating the small diameter portion and an contact that extends outward in the radial direction of the accommodating hole from the accommodating hole and can come into contact with the flange portion. It has a portion and a through path for plating liquid flow that is outside the abutting portion in the radial direction of the accommodating hole and penetrates from one side to the other along the axial direction of the accommodating hole. It is a feature. Thereby, the productivity at the time of performing the plating process can be improved.

10 ロッド
61 大径部
62 小径部
63 鍔部
111 マスキング治具
115 収容穴
121 当接部
125 貫通路
10 Rod 61 Large diameter part 62 Small diameter part 63 Collar part 111 Masking jig 115 Accommodation hole 121 Contact part 125 Through-passage

Claims (3)

大径部と、前記大径部よりも小径の小径部と、前記大径部と前記小径部とを繋ぐ鍔部と、を有するロッドの前記大径部にめっきを施すロッドの製造方法であって、
収容穴と、前記収容穴よりも該収容穴の径方向における外側に広がる当接部と、前記当接部よりも前記収容穴の径方向における外側にあって前記収容穴の軸方向に沿って一側から他側まで貫通する貫通路と、を有するマスキング治具を用い、
前記当接部を上に向けて前記マスキング治具を配置し、該マスキング治具に向けて下からめっき液を流すことにより、前記収容穴に前記小径部を収容し前記当接部を前記鍔部に当接させるとともにめっき液を前記貫通路に流して前記大径部に接触させることを特徴とするロッドの製造方法。
A method for manufacturing a rod in which the large-diameter portion of a rod having a large-diameter portion, a small-diameter portion having a smaller diameter than the large-diameter portion, and a flange portion connecting the large-diameter portion and the small-diameter portion is plated. hand,
The accommodating hole, the abutting portion extending outward from the accommodating hole in the radial direction of the accommodating hole, and the abutting portion outside the abutting portion in the radial direction of the accommodating hole along the axial direction of the accommodating hole. Using a masking jig with a gangway that penetrates from one side to the other,
By arranging the masking jig with the abutting portion facing upward and flowing the plating solution from below toward the masking jig, the small diameter portion is accommodated in the accommodating hole and the abutting portion is placed on the collar. A method for manufacturing a rod, which comprises abutting on a portion and allowing a plating solution to flow through the through passage to bring the plating solution into contact with the large-diameter portion.
前記マスキング治具が絶縁性の合成樹脂材料により形成されていることを特徴とする請求項1記載のロッドの製造方法。 The method for manufacturing a rod according to claim 1, wherein the masking jig is formed of an insulating synthetic resin material. 大径部と、前記大径部よりも小径の小径部と、前記大径部と前記小径部とを繋ぐ鍔部と、を有するロッドの前記大径部にめっきを施す際に用いられるマスキング治具であって、
前記小径部を収容する収容穴と、
前記収容穴よりも該収容穴の径方向における外側に広がって前記鍔部に当接可能な当接部と、
前記当接部よりも前記収容穴の径方向における外側にあって前記収容穴の軸方向に沿って一側から他側に貫通するめっき液流通用の貫通路と、
を有することを特徴とするマスキング治具。
A masking jig used when plating the large-diameter portion of a rod having a large-diameter portion, a small-diameter portion having a smaller diameter than the large-diameter portion, and a flange portion connecting the large-diameter portion and the small-diameter portion. It ’s a tool,
A storage hole for accommodating the small diameter portion and
An abutting portion that extends outward from the accommodating hole in the radial direction of the accommodating hole and can come into contact with the flange portion.
A through-passage for plating liquid flow that is outside the contact portion in the radial direction of the accommodating hole and penetrates from one side to the other along the axial direction of the accommodating hole.
A masking jig characterized by having.
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