JP2023105900A - フッ素化膜を備えたフッ素化構造体、該構造体の製造方法、及び該構造体の製造に用いる前駆溶液 - Google Patents
フッ素化膜を備えたフッ素化構造体、該構造体の製造方法、及び該構造体の製造に用いる前駆溶液 Download PDFInfo
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims description 57
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 47
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 47
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims abstract description 45
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 37
- -1 polysiloxane skeleton Polymers 0.000 claims abstract description 30
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 73
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 30
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 24
- OXBLVCZKDOZZOJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-Dihydrothiophene Chemical compound C1CC=CS1 OXBLVCZKDOZZOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 238000006596 Alder-ene reaction Methods 0.000 claims description 23
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 23
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 23
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 19
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 19
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 8
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 12
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 abstract description 6
- 239000005871 repellent Substances 0.000 abstract description 3
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 68
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 18
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 12
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- URJIJZCEKHSLHA-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecane-1-thiol Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCS URJIJZCEKHSLHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C(C)(C)C HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NALFRYPTRXKZPN-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane Chemical compound CC1CC(C)(C)CC(OOC(C)(C)C)(OOC(C)(C)C)C1 NALFRYPTRXKZPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanobutan-2-yldiazenyl)-2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexanoic acid Chemical compound CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methoxy-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-4-methoxy-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)(C)OC PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFXDUNDBQDXPQZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-yl 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOC(C)(C)CC IFXDUNDBQDXPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFSCGDQQLKVJEJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-yl benzenecarboperoxoate Chemical compound CCC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 RFSCGDQQLKVJEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSGAMPVWQZPGJF-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-yl ethaneperoxoate Chemical compound CCC(C)(C)OOC(C)=O FSGAMPVWQZPGJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical group O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- ALBJGICXDBJZGK-UHFFFAOYSA-N [1-[(1-acetyloxy-1-phenylethyl)diazenyl]-1-phenylethyl] acetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(OC(=O)C)N=NC(C)(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 ALBJGICXDBJZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- HPTYUNKZVDYXLP-UHFFFAOYSA-N aluminum;trihydroxy(trihydroxysilyloxy)silane;hydrate Chemical compound O.[Al].[Al].O[Si](O)(O)O[Si](O)(O)O HPTYUNKZVDYXLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000003592 biomimetic effect Effects 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N caproic acid ethyl ester Natural products CCCCCC(=O)OCC SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLAXUAHEGAHXBI-UHFFFAOYSA-N diethoxymethoxy(ethenyl)silane Chemical compound C(=C)[SiH2]OC(OCC)OCC BLAXUAHEGAHXBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910052621 halloysite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(1-methoxy-2-methyl-1-oxopropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanoate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)OC ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000002071 nanotube Substances 0.000 description 1
- 239000011022 opal Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005553 polystyrene-acrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- KOPQZJAYZFAPBC-UHFFFAOYSA-N propanoyl propaneperoxoate Chemical compound CCC(=O)OOC(=O)CC KOPQZJAYZFAPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical group 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- VIFIHLXNOOCGLJ-UHFFFAOYSA-N trichloro(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl)silane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)Cl VIFIHLXNOOCGLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Abstract
【課題】基材上の所望の箇所に、優れた撥液性を付与することが可能な、フッ素化膜を備えたフッ素化構造体及びその構造体の製造方法を提供する。【解決手段】基材と該基材上に形成されたフッ素化膜とを備えたフッ素化構造体であって、前記フッ素化膜は、有機シランと金属アルコシキドが共加水分解・縮重合することにより得られるポリシロキサン骨格を含み、該ポリシロキサン骨格を形成するケイ素原子のうち一部のケイ素原子に、下記の式(1)で表される基が結合した、フッ素化構造体及びその製造方法を提供する。X-C2H4-S-C2H4-R1-・・・(1)[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表し、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表す。]【選択図】図1
Description
本発明は、フッ素化膜を備えたフッ素化構造体、該構造体の製造方法、及び該構造体の製造に用いる前駆溶液に関し、特に、基材の表面を、逆オパール構造からなる凹凸を有するフッ素化膜で部分的に被覆することにより、親液性と撥液性のコントラストを有するパターン化表面を提供することが可能な、フッ素化構造体、該構造体の製造方法、及び該構造の製造に用いる前駆溶液組成に関するものである。
沸騰促進を与える表面処理として、親液表面と疎液表面がパターン化された表面が注目されている。親液表面と疎液表面がパターン化された表面は、撥液性物質を基材表面に塗布することでし得ることができる。特に、水のみならず表面張力の小さな液体に対し撥液性を与えるためには、表面エネルギーの小さな分子の利用では限界があり、凹凸構造を付与し超撥液性を付与する必要がある。
凹凸構造は一般的に、リソグラフィー、粒子堆積法等で形成される。特に、粒子堆積法によって得られた粒子堆積膜は、特殊な装置を必要としない簡便な方法で製造されるため、注目されている。例えば、非特許文献1にはコロイド粒子を利用した凹凸構造の形成方法が紹介されている。この方法は、コロイド粒子を鋳型として、後処理によりコロイド粒子を除去することで、逆オパール構造と呼ばれる凹凸構造を形成する手法である。
また、表面エネルギーの小さな分子としては、通常、フッ化アルキル基と凹凸構造体表面と反応する官能基を有する分子が利用されている。例えば、非特許文献2には鋳型としてポリメタクリル酸(PMMA)で構成された粒子と凹凸構造体の骨格源であるテトラアルコキシシラン(TEOS)の加水分解物を混合し、基材上で硬化させ、PMMA粒子を除去することで凹凸構造を形成し、パーフルオロアルキルトリクロロシランをTEOS由来の凹凸構造体シリカ骨格表面に反応させることで、超撥液表面を得ることが開示されている。
Hatton et al.,Assembly of large-area, highly ordered,crack-freeinverse opal films,PNAS,June 8,2010,vol. 107、no. 23,10354-10359.
BURGESS ET AL. Wettingin Color: ColorimetricDifferentiationof Organic Liquids with High Selectivity, ACS Nano, December 20, 2011, vol.6,1427-1437.
Ma et al., Superamphiphobic Coatings fromCombination of a Biomimetic Catechol-Bearing Fluoropolymer and HalloysiteNanotubes, Advanced Materials Interfaces, September 29, 2017, vol.4, 1700907.
しかしながら、非特許文献2に記載の手法においてパターン化表面の作製を試みた場合、パーフルオロアルキルトリクロロシランは凹凸構造体以外の箇所にも反応するため、基材全面がフッ素化されてしまい、撥液表面となってしまう課題があった。
本発明は、こうした従来技術に鑑みてなされたものであり、従来技術における課題を解決して、基材上の所望の箇所のみに優れた撥液性を付与することが可能なフッ素化膜を備えたフッ素化構造体、好ましくは、親液性と撥液性の高コントラストを有するパターン化表面を有するフッ素化膜を備えたフッ素化構造体、及び該構造体の製造方法を提供することを目的とするものである。
本発明は、こうした従来技術に鑑みてなされたものであり、従来技術における課題を解決して、基材上の所望の箇所のみに優れた撥液性を付与することが可能なフッ素化膜を備えたフッ素化構造体、好ましくは、親液性と撥液性の高コントラストを有するパターン化表面を有するフッ素化膜を備えたフッ素化構造体、及び該構造体の製造方法を提供することを目的とするものである。
本発明者らは、上記の従来技術における課題を解決すべく検討した結果、凹凸構造をフッ素化する方法として、チオールと不飽和炭化水素基の反応であるチオール-エン反応に着目し、不飽和結合を有する骨格物質の製造方法として、ゾル-ゲル法に着目した。
なお、ゾル-ゲル法とは、金属アルコキシドの加水分解反応とそれに続く縮重合反応によって、ゾル及びゲル状態を経由して固体を形成する方法である。
なお、ゾル-ゲル法とは、金属アルコキシドの加水分解反応とそれに続く縮重合反応によって、ゾル及びゲル状態を経由して固体を形成する方法である。
ゾル-ゲル法で形成する皮膜の1つとして、本発明者らは、既に、有機シランと金属アルコキシドとを有機溶媒、水、触媒を含む溶液中で共加水分解・縮重合させた前駆液を、基材表面に塗布後、所定時間、室温、大気圧下で静置することにより得られる有機-無機透明ハイブリッド皮膜が、金属、金属酸化膜、合金、半導体、ポリマー、セラミックス、ガラス、樹脂等の各種基材と密着する密着性を示すことを見いだしている(特許文献1、特許文献2参照)。
そこで、本発明者らは、不飽和結合を有する有機シランを用い、これにテトラアルコシキシラン等の金属アルコシキドを混合したゾル-ゲル液を前駆溶液に用いて、或いは該ゾル-ゲル液にポリスチレン粒子を混合しこれを前駆溶液に用いて、基材上に皮膜を形成した後、該皮膜をチオール-エン反応によりフッ素化する方法について検討した。
その結果、非特許文献2に示された方法では凹凸構造体以外の箇所もフッ素化されてしまい、目標のパターン化表面を得ることができなかったのに対し、この方法によれば基材上の所望の箇所のみをフッ素化し得ることが判明した。
その結果、非特許文献2に示された方法では凹凸構造体以外の箇所もフッ素化されてしまい、目標のパターン化表面を得ることができなかったのに対し、この方法によれば基材上の所望の箇所のみをフッ素化し得ることが判明した。
本発明は、上記知見に基づくものであって、上記の課題を解決するための手段として、以下を提案するものである。
[1]基材と該基材上に形成されたフッ素化膜とを備えたフッ素化構造体であって、
前記フッ素化膜は、有機シランと金属アルコシキドが共加水分解・縮重合することにより得られるポリシロキサン骨格を含み、該ポリシロキサン骨格を形成するケイ素原子のうち一部のケイ素原子に、下記の式(1)で表される基が結合した、フッ素化構造体。
X-C2H4-S-C2H4-R1-・・・(1)
[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表し、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表す。]
[2]前記フッ素化膜が、逆オパール構造からなる凹凸を有する、[1]に記載のフッ素化構造体。
[3]前記フッ素化膜が、パターン状に形成された、[1]又は[2]に記載のフッ素化構造体。
[4]前記フッ素化膜の厚みが、0.10~500μmである、[1]~[3]のいずれかに記載のフッ素化構造体。
[5]前記基材が、ガラス、シリコン、アルミニウム、スズ、銅、アルミニウム合金、及び銅合金からなる群から選ばれる、[1]~[4]のいずれかに記載のフッ素化構造体。
[6]基材上に形成されたフッ素化膜を備えたフッ素化構造体の製造方法であって、
基材の上に、有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、下記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、及び下記の式(2)で表される金属アルコキシドを含む前駆溶液を塗布し、硬化させて、有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する硬化膜を得る工程、
前記硬化膜に、下記の式(3)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いてチオール-エン反応を進行させる工程、
を含む、フッ素化構造体の製造方法。
CH2=CH-R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
X-C2H4-SH・・・・・・・・・(3)
[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表す。]
[7]基材上に形成された逆オパール構造からなる凹凸を有するフッ素化膜を備えたフッ素化構造体の製造方法であって、
基材の上に、有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、下記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、下記の式(2)で表される金属アルコキシド、及び高分子微粒子のコロイド溶液を含む前駆溶液を塗布し、硬化させて、有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する膜を得る工程、
前記膜から、前記高分子微粒子を溶解除去して、逆オパール構造からなる凹凸を有する膜とする工程、
前記凹凸を有する膜に、下記の式(3)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いてチオール-エン反応を進行させる工程、
を含む、フッ素化構造体の製造方法。
CH2=CH-R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
X-C2H4-SH・・・・・・・・・(3)
[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表す。]
[8]前記基材表面にパターンが施されたマスクを載置し、該マスクを介して前記前駆溶液を塗布する、[6]又は[7]に記載のフッ素化構造体の製造方法。
[9][1]に記載のフッ素化構造体を製造するための前駆溶液であって、
有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、下記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、及び下記の式(2)で表される金属アルコキシドを含む、前駆溶液。
CH2=CH-R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、単結合又は炭素素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
[10][2]に記載のフッ素化構造体を製造するための前駆溶液であって、
有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、下記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、下記の式(2)で表される金属アルコキシド、及び高分子微粒子のコロイド溶液を含む、前駆溶液。
CH2=CH-R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、単結合又は炭素素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素1~4のアルキル基を表す。)
[1]基材と該基材上に形成されたフッ素化膜とを備えたフッ素化構造体であって、
前記フッ素化膜は、有機シランと金属アルコシキドが共加水分解・縮重合することにより得られるポリシロキサン骨格を含み、該ポリシロキサン骨格を形成するケイ素原子のうち一部のケイ素原子に、下記の式(1)で表される基が結合した、フッ素化構造体。
X-C2H4-S-C2H4-R1-・・・(1)
[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表し、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表す。]
[2]前記フッ素化膜が、逆オパール構造からなる凹凸を有する、[1]に記載のフッ素化構造体。
[3]前記フッ素化膜が、パターン状に形成された、[1]又は[2]に記載のフッ素化構造体。
[4]前記フッ素化膜の厚みが、0.10~500μmである、[1]~[3]のいずれかに記載のフッ素化構造体。
[5]前記基材が、ガラス、シリコン、アルミニウム、スズ、銅、アルミニウム合金、及び銅合金からなる群から選ばれる、[1]~[4]のいずれかに記載のフッ素化構造体。
[6]基材上に形成されたフッ素化膜を備えたフッ素化構造体の製造方法であって、
基材の上に、有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、下記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、及び下記の式(2)で表される金属アルコキシドを含む前駆溶液を塗布し、硬化させて、有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する硬化膜を得る工程、
前記硬化膜に、下記の式(3)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いてチオール-エン反応を進行させる工程、
を含む、フッ素化構造体の製造方法。
CH2=CH-R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
X-C2H4-SH・・・・・・・・・(3)
[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表す。]
[7]基材上に形成された逆オパール構造からなる凹凸を有するフッ素化膜を備えたフッ素化構造体の製造方法であって、
基材の上に、有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、下記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、下記の式(2)で表される金属アルコキシド、及び高分子微粒子のコロイド溶液を含む前駆溶液を塗布し、硬化させて、有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する膜を得る工程、
前記膜から、前記高分子微粒子を溶解除去して、逆オパール構造からなる凹凸を有する膜とする工程、
前記凹凸を有する膜に、下記の式(3)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いてチオール-エン反応を進行させる工程、
を含む、フッ素化構造体の製造方法。
CH2=CH-R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
X-C2H4-SH・・・・・・・・・(3)
[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表す。]
[8]前記基材表面にパターンが施されたマスクを載置し、該マスクを介して前記前駆溶液を塗布する、[6]又は[7]に記載のフッ素化構造体の製造方法。
[9][1]に記載のフッ素化構造体を製造するための前駆溶液であって、
有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、下記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、及び下記の式(2)で表される金属アルコキシドを含む、前駆溶液。
CH2=CH-R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、単結合又は炭素素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
[10][2]に記載のフッ素化構造体を製造するための前駆溶液であって、
有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、下記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、下記の式(2)で表される金属アルコキシド、及び高分子微粒子のコロイド溶液を含む、前駆溶液。
CH2=CH-R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、単結合又は炭素素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素1~4のアルキル基を表す。)
本発明によれば、基材上の所望の箇所に優れた撥液性を付与することが可能な、フッ素化膜を備えたフッ素化構造体及びその製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、親液表面を有する基材上にフッ素化膜をパターン状に形成することで、親液表面と撥液表面がパターン化された表面を得ることができる。さらに、パターン化されたフッ素化膜を、逆オパール構造からなる凹凸を有する膜とすることで、親液性と撥液性のコントラストを高くして、沸騰促進体として有用な構造体とすることができる。
本発明の第一の側面は、基材と該基材上に形成されたフッ素化膜とを備えたフッ素化構造体であって、前記フッ素化膜は、有機シランと金属アルコシキドが共加水分解・縮重合することにより得られるポリシロキサン骨格を含み、該ポリシロキサン骨格を形成するケイ素原子のうち一部のケイ素原子に、下記の式(1)で表される基が結合した、フッ素化構造体である。
X-C2H4-S-C2H4-R1-・・・(1)
[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表し、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表す。]
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~10のアルキル基を表す。)
X-C2H4-S-C2H4-R1-・・・(1)
[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表し、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表す。]
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~10のアルキル基を表す。)
また、本発明の第二の側面は、基材上に形成されたフッ素化膜を備えたフッ素化構造体の製造方法であって、基材の上に、有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、下記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、及び上記の式(2)で表される金属アルコキシドを含む前駆溶液を塗布し、硬化させて、有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する硬化膜を得る工程、前記硬化膜に、下記の式(3)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いてチオール-エン反応を進行させる工程、を含む、フッ素化構造体の製造方法である。
CH2=CH-R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
X-C2H4-SH・・・・・・・・・(3)
[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表す。]
CH2=CH-R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
X-C2H4-SH・・・・・・・・・(3)
[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表す。]
また、本発明の第三の側面は、基材上に形成された逆オパール構造からなる凹凸を有するフッ素化膜を備えたフッ素化構造体の製造方法であって、基材の上に、有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、上記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、上記の式(2)で表される金属アルコキシド、及び高分子微粒子のコロイド溶液を含む前駆溶液を塗布し、硬化させて、有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する被膜を得る工程、前記被膜から、前記高分子微粒子を溶解除去して、逆オパール構造からなる凹凸を有する被膜とする工程、前記凹凸を有する被膜に、上記の式(3)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いてチオール-エン反応を進行させる工程、を含む、フッ素化構造体の製造方法である。
また、本発明の第四の側面は、基材と、該基材上に形成されたフッ素化膜とを備えたフッ素化構造体を製造するための前駆溶液であって、有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、上記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、及び上記の式(2)で金属アルコキシドを含む、前駆溶液である。
また、本発明の第五の側面は、基材上に形成された逆オパール構造からなる凹凸を有するフッ素化膜を備えたフッ素化構造体を製造するための前駆溶液であって、有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、上記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、上記の式(2)で表される金属アルコキシド、及び高分子微粒子のコロイド溶液を含む、前駆溶液である。
本発明は、以上の側面により、基材上にフッ素化膜を備えたフッ素化構造体、又は基材上に逆オパール構造からなる凹凸を有するフッ素化膜を備えたフッ素化構造体、及びこれらのフッ素化膜を備えたフッ素化構造体の製造方法、並びにこれらのフッ素化膜を備えたフッ素化構造体の製造に用いる前駆溶液を提供するものである。
なお、本明細書において、数値範囲等を「~」を用いて表す場合、その両端の数値等を含む。
以下、本発明の各側面について、その最良の形態を含めて、さらに具体的な本発明の実施形態(以下、「本実施形態」という。)について説明する。
《基材》
本実施形態で使用し得る基材としては、例えば、ガラス、シリコン、アルミニウム、スズ、銅などの金属、金属酸化膜、アルミニウム合金や銅合金等の合金、半導体、セラミックス、樹脂、木材、紙、繊維等の適宜の材料を任意に使用することができる。特に、親液性と撥液性のコントラストを有するパターン化表面を提供することを目的とする場合には、親液性の基材を用いることが好ましく、基材の具体例としては、例えば、ガラス、シリコン、アルミニウム、スズ、銅、アルミニウム合金、及び銅合金が好適なものとして例示される。
本実施形態で使用し得る基材としては、例えば、ガラス、シリコン、アルミニウム、スズ、銅などの金属、金属酸化膜、アルミニウム合金や銅合金等の合金、半導体、セラミックス、樹脂、木材、紙、繊維等の適宜の材料を任意に使用することができる。特に、親液性と撥液性のコントラストを有するパターン化表面を提供することを目的とする場合には、親液性の基材を用いることが好ましく、基材の具体例としては、例えば、ガラス、シリコン、アルミニウム、スズ、銅、アルミニウム合金、及び銅合金が好適なものとして例示される。
これらの基材の形状は、板状、凹凸状、粉末状、チューブ状、ポーラス状、繊維状等、任意な形状の基材を使用することができる。
また、本実施形態においては、特に、基材の前処理は必要としないが、プラズマやUV等で基材表面を洗浄/活性化した後に使用することも可能である。
さらに、基材上に、任意の易接着層を形成した後に使用することも可能である。
また、本実施形態においては、特に、基材の前処理は必要としないが、プラズマやUV等で基材表面を洗浄/活性化した後に使用することも可能である。
さらに、基材上に、任意の易接着層を形成した後に使用することも可能である。
《フッ素化膜》
本実施形態に係るフッ素化膜は、有機シランと金属アルコシキドが共加水分解・縮重合することにより得られるポリシロキサン骨格を含み、該ポリシロキサン骨格を形成するケイ素原子のうち一部のケイ素原子に、下記の式(1)で表される基が結合した膜であって、下記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シランと、下記の式(2)で表される金属アルコシキドを含む前駆溶液を用いて基材上に形成された後、下記の式(3)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いてチオール-エン反応を進行させることで得られる。
本実施形態に係るフッ素化膜は、有機シランと金属アルコシキドが共加水分解・縮重合することにより得られるポリシロキサン骨格を含み、該ポリシロキサン骨格を形成するケイ素原子のうち一部のケイ素原子に、下記の式(1)で表される基が結合した膜であって、下記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シランと、下記の式(2)で表される金属アルコシキドを含む前駆溶液を用いて基材上に形成された後、下記の式(3)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いてチオール-エン反応を進行させることで得られる。
X-C2H4-S-C2H4-R1-・・・(1)
[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表し、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表す。]
CH2=CH-R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、前記のR1と同じものを表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
X-C2H4-SH・・・・・・・・・(3)
(式中、Xは、前記のXと同じものを表す。)
以下、さらに詳しく記載する。
[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表し、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表す。]
CH2=CH-R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、前記のR1と同じものを表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
X-C2H4-SH・・・・・・・・・(3)
(式中、Xは、前記のXと同じものを表す。)
以下、さらに詳しく記載する。
〈式(1´)で表される有機シラン〉
上記式(1´)で表される有機シランは、フッ素化膜の原料として用いられるものであり、上記式(1´)において、R1は、単結合又はアルキレン基であり、アルキレン基である場合、その炭素数は、入手容易性の点から10以下であり、好ましくは6以下である。具体的には、R1として、単結合又はメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられ、より好ましくは、単結合又はメチレン基が挙げられる。
また、上記式(1´)におけるアルコキシ基である-OR2は、フッ素化膜における前記ポリシロキサン骨格を形成する際の共加水分解・縮重合反応に寄与する基であって、加水分解速度および加水分解後の離脱基の揮発性の点から、アルキル基(R2)の炭素数は、1~4が好ましく、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキシ基、t-ブトキシ基が挙げられる。
上記式(1´)で表される有機シランは、フッ素化膜の原料として用いられるものであり、上記式(1´)において、R1は、単結合又はアルキレン基であり、アルキレン基である場合、その炭素数は、入手容易性の点から10以下であり、好ましくは6以下である。具体的には、R1として、単結合又はメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられ、より好ましくは、単結合又はメチレン基が挙げられる。
また、上記式(1´)におけるアルコキシ基である-OR2は、フッ素化膜における前記ポリシロキサン骨格を形成する際の共加水分解・縮重合反応に寄与する基であって、加水分解速度および加水分解後の離脱基の揮発性の点から、アルキル基(R2)の炭素数は、1~4が好ましく、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキシ基、t-ブトキシ基が挙げられる。
式(1´)で表される有機シランとして、具体的にはビニルトリメトキシシラン、ビニルジエトキシメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルジエトキシメトキシシラン等を用いることができる。
〈式(2)で表される金属アルコキシド〉
上記式(2)で表される金属アルコキシドは、前記式(1´)で表される有機シランとともにフッ素化膜の原料として用いられるものであり、式(2)におけるアルコキシ基である-OR3は、前述の-OR2とともに、フッ素化膜における前記ポリシロキサン骨格を形成する際の共加水分解・共縮重合反応に寄与する基であって、加水分解速度および加水分解後の離脱基の揮発性の点から、アルキル基(R3)の炭素数は、1~4が好ましく、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキシ基、t-ブトキシ基が挙げられる。
上記式(2)で表される金属アルコキシドは、前記式(1´)で表される有機シランとともにフッ素化膜の原料として用いられるものであり、式(2)におけるアルコキシ基である-OR3は、前述の-OR2とともに、フッ素化膜における前記ポリシロキサン骨格を形成する際の共加水分解・共縮重合反応に寄与する基であって、加水分解速度および加水分解後の離脱基の揮発性の点から、アルキル基(R3)の炭素数は、1~4が好ましく、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキシ基、t-ブトキシ基が挙げられる。
《フッ素化構造体の製造方法》
本実施形態において、フッ素化構造体の製造方法は、
[1]基材の上に、有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、上記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、及び上記の式(2)で表される金属アルコキシドを含む前駆溶液を塗布し、硬化させて、有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する硬化膜を得る工程、及び
[2]前記硬化膜に、上記の式(3)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いてチオール-エン反応を進行させる工程、
を含む。
図1は、本実施形態に係るフッ素化構造体の製造工程を模式的に示す図であり、前記[1]及び[2]の工程を、該図の上段左部から下段に示す。
以下、さらに詳しく記載する。
本実施形態において、フッ素化構造体の製造方法は、
[1]基材の上に、有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、上記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、及び上記の式(2)で表される金属アルコキシドを含む前駆溶液を塗布し、硬化させて、有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する硬化膜を得る工程、及び
[2]前記硬化膜に、上記の式(3)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いてチオール-エン反応を進行させる工程、
を含む。
図1は、本実施形態に係るフッ素化構造体の製造工程を模式的に示す図であり、前記[1]及び[2]の工程を、該図の上段左部から下段に示す。
以下、さらに詳しく記載する。
〈前記[1]の工程〉
第1図の上段左部に示すように、前記不飽和結合を含有する有機シランと前記金属アルコキシドに、有機溶媒、水、及びゾル-ゲル触媒を加えた前駆溶液を基材に塗布し、該前駆溶液中のアルコキシ基同士を反応させて加水分解及び共縮重合することにより、酸素を介してSi分子が結合されたポリシロキサン骨格を有する膜を形成し、基材との密着性を改良するとともに、前記有機シラン由来の不飽和結合を含む膜を得ることができる。
第1図の上段左部に示すように、前記不飽和結合を含有する有機シランと前記金属アルコキシドに、有機溶媒、水、及びゾル-ゲル触媒を加えた前駆溶液を基材に塗布し、該前駆溶液中のアルコキシ基同士を反応させて加水分解及び共縮重合することにより、酸素を介してSi分子が結合されたポリシロキサン骨格を有する膜を形成し、基材との密着性を改良するとともに、前記有機シラン由来の不飽和結合を含む膜を得ることができる。
本実施形態では、金属アルコキシドと不飽和結合を含有する有機シランのモル比(金属アルコキシド/有機シラン)が、0.5以上の任意のモル比、好ましくは0.5~100のモル比、さらに好ましくは1~5で混合されていること、得られる膜が、前記基材と強固に密着すること、得られる膜が、平面、曲面、凹凸面、ポーラス面の中から選択した少なくとも1種類以上の表面から構成された混合表面と強固に密着することを、好ましい実施態様としている。
また、本実施形態では、不飽和結合を有する有機シランと金属アルコキシドのモル比を調整することで、後述する逆オパール構造を有する凹凸を形成する際に用いる溶剤に前記基材を浸漬した際のソルベントクラックの発生、膜の剥離を抑制し、均一に逆オパール構造を有する凹凸を形成できることを好ましい実施態様としている。
(溶媒)
前記前駆溶液に用いる有機溶媒は、透明で均一な皮膜を形成するために、少量の水と混和し、かつ、不飽和結合を有する有機シランと金属アルコキシドを溶解させることができること、基材上に前駆溶液を塗布した際、速やかに揮発するものであることが望ましい。すなわち、蒸気圧が水より高い、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン等の有機溶媒を用いて前駆溶液を調製することが好ましい。
前記前駆溶液に用いる有機溶媒は、透明で均一な皮膜を形成するために、少量の水と混和し、かつ、不飽和結合を有する有機シランと金属アルコキシドを溶解させることができること、基材上に前駆溶液を塗布した際、速やかに揮発するものであることが望ましい。すなわち、蒸気圧が水より高い、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン等の有機溶媒を用いて前駆溶液を調製することが好ましい。
添加する水の量は、前駆溶液に含まれる全ての反応性官能基であるアルコキシ基が加水分解し、Si-OH基を生成するために、アルコキシ基のモル数以上の水が含まれていることが好ましい。水の量が上記のモル数より少なくても、皮膜の形成は可能である。しかし、上記のモル数以上の水を含むことによって、十分な加水分解を行い、加水分解していない有機シランおよび金属アルコキシドが処理中に揮発することが避けられるので、歩留まりが向上する。
(ゾル-ゲル触媒)
本実施形態に係る前駆溶液では、不飽和結合を有する有機シラン及び金属アルコキシドのアルコキシ基の加水分解を促進させる(Si-OH基の生成)ために、アルコキシ基の加水分解を促進する効果を有するゾル-ゲル触媒が使用される。
例えば、不飽和結合を有する有機シランと金属アルコキシドの縮重合物質がpH1~3で安定化する場合には、塩酸、p-トルエンスルホン酸等の有機酸を使用することが好ましい。
本実施形態に係る前駆溶液では、不飽和結合を有する有機シラン及び金属アルコキシドのアルコキシ基の加水分解を促進させる(Si-OH基の生成)ために、アルコキシ基の加水分解を促進する効果を有するゾル-ゲル触媒が使用される。
例えば、不飽和結合を有する有機シランと金属アルコキシドの縮重合物質がpH1~3で安定化する場合には、塩酸、p-トルエンスルホン酸等の有機酸を使用することが好ましい。
(前駆溶液の塗布)
本実施形態において、前駆溶液は、硬化後の膜厚で0.10~500μmとなるように塗布されることが好ましい。
前駆溶液の塗布方法は、特に制限はなく、例えば、スピンコーティング法、ディップコーティング法、ローラーコーティング法、バーコティング法、インクジェットコーティング法、グラビアコーティング法、スプレー法から選択したいずれかの方法が利用可能である。
本実施形態において、前駆溶液は、硬化後の膜厚で0.10~500μmとなるように塗布されることが好ましい。
前駆溶液の塗布方法は、特に制限はなく、例えば、スピンコーティング法、ディップコーティング法、ローラーコーティング法、バーコティング法、インクジェットコーティング法、グラビアコーティング法、スプレー法から選択したいずれかの方法が利用可能である。
本実施形態においては、基材表面にパターンが施されたマスクを載置し、該マスクを介して前記前駆溶液を塗布することで、パターン状に塗布することもできる。
パターンの形状及び大きさは特に限定されないが、例えば、ドット径の大きさは10μmから10mmの間で制御することができる。また、ピッチ間はドット径の100~5000%の範囲で指定することができる。
また、マスクの材質も特に限定されないが、例えば、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ガラスなどが好ましく用いられる。
パターンの形状及び大きさは特に限定されないが、例えば、ドット径の大きさは10μmから10mmの間で制御することができる。また、ピッチ間はドット径の100~5000%の範囲で指定することができる。
また、マスクの材質も特に限定されないが、例えば、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ガラスなどが好ましく用いられる。
(硬化膜の形成)
前記の基材上に塗布された前駆溶液を加熱、硬化させることによって、前記有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する膜を形成できる。
膜の硬化温度は、特に制限はなく、用いる溶媒が揮発可能な温度であり、好ましくは0~150℃、より好ましくは室温~100℃である。
また、膜の硬化時間は、用いる溶媒と温度によって変動するが、好ましくは、1分間~24時間である。
なお、熱以外のエネルギーを加えて、前記有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合反応を誘起することもできる。
前記の基材上に塗布された前駆溶液を加熱、硬化させることによって、前記有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する膜を形成できる。
膜の硬化温度は、特に制限はなく、用いる溶媒が揮発可能な温度であり、好ましくは0~150℃、より好ましくは室温~100℃である。
また、膜の硬化時間は、用いる溶媒と温度によって変動するが、好ましくは、1分間~24時間である。
なお、熱以外のエネルギーを加えて、前記有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合反応を誘起することもできる。
〈前記[2]の工程〉
前記[2]の工程は、第1図の下段に示すように、チオール-エン反応(TER)を用いてフッ素化を行う工程であり、該工程では、前記[1]の工程で形成された硬化膜に、前記の式(3)(X-C2H4-SH)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いて反応を進行させると、該チオール化合物のSH基と前記の式(1´)(CH2=CH-R1-Si-(OR2)3)で表される有機シランが有する不飽和結合とのチオール-エン反応により、ポリシロキサン骨格を形成するケイ素原子のうち一部のケイ素原子に、X-C2H4-S-C2H4-R1-で表される基が結合したフッ素化膜が得られる。
前記[2]の工程は、第1図の下段に示すように、チオール-エン反応(TER)を用いてフッ素化を行う工程であり、該工程では、前記[1]の工程で形成された硬化膜に、前記の式(3)(X-C2H4-SH)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いて反応を進行させると、該チオール化合物のSH基と前記の式(1´)(CH2=CH-R1-Si-(OR2)3)で表される有機シランが有する不飽和結合とのチオール-エン反応により、ポリシロキサン骨格を形成するケイ素原子のうち一部のケイ素原子に、X-C2H4-S-C2H4-R1-で表される基が結合したフッ素化膜が得られる。
図2は、本実施形態におけるチオール-エン反応によるフッ素化を模式的に示す図である。該図に示すように、チオール-エン反応を用いる方法は原理的に二重結合の存在している部位のみで選択的に反応が進行するため、従来一般的に利用される方法における有機シラン等が非選択的に系内で反応する(下地も撥液性になる)という問題が発生しない。
具体的には、前記の硬化膜が形成された基材を、上記の式(3)で表されるチオール化合物、触媒、及び溶媒が混合された溶液に浸漬し、チオール-エン反応を進行させ、反応後、基材を前記溶媒で洗浄してフッ素化膜が得られる。
(上記の式(3)で表されるチオール化合物)
上記の式(3)におけるXは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基であり、n(炭素数)は6~10が好ましく、8が特に好ましい。
上記の式(3)におけるXは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基であり、n(炭素数)は6~10が好ましく、8が特に好ましい。
(ラジカル発生剤)
チオール-エン反応で使用されるラジカル発生剤としては、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、2,2’-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル、ジメチル-2,2’-アゾビスイソオブチレート、1,1’-アゾビス(シクロヘキサン-1-カルボニトリル)、1,1’-アゾビス(1-アセトキシ1-フェニルエタン)、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)等のアゾビス系化合物、過酸化ベンゾイル、過酸化アセチル、過酸化tert-ブチル、過酸化プロピオニル、過酸化ラウロイル、過酢酸tert-ブチル、過安息香酸tert-ブチル、tert-ブチルヒドロペルオキシド、tert-ブチルペルオキシピバレート、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、t-アミルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、t-アミルパーイソノナノエート、t-アミルパーオキシアセテート、t-アミルパーオキシベンゾエート等の過酸化物系化合物等が挙げられるが、これらに特に限定されない。
チオール-エン反応で使用されるラジカル発生剤としては、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、2,2’-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル、ジメチル-2,2’-アゾビスイソオブチレート、1,1’-アゾビス(シクロヘキサン-1-カルボニトリル)、1,1’-アゾビス(1-アセトキシ1-フェニルエタン)、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)等のアゾビス系化合物、過酸化ベンゾイル、過酸化アセチル、過酸化tert-ブチル、過酸化プロピオニル、過酸化ラウロイル、過酢酸tert-ブチル、過安息香酸tert-ブチル、tert-ブチルヒドロペルオキシド、tert-ブチルペルオキシピバレート、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、t-アミルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、t-アミルパーイソノナノエート、t-アミルパーオキシアセテート、t-アミルパーオキシベンゾエート等の過酸化物系化合物等が挙げられるが、これらに特に限定されない。
(溶媒)
チオール-エン反応において、用いる有機溶媒は、前記チオール化合物及び前記ラジカル発生剤を溶解させることができ、該反応を阻害させない溶媒であることが望ましい。具体的には、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン等の有機溶媒が挙げられる。
チオール-エン反応において、用いる有機溶媒は、前記チオール化合物及び前記ラジカル発生剤を溶解させることができ、該反応を阻害させない溶媒であることが望ましい。具体的には、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン等の有機溶媒が挙げられる。
(チオール-エン反応)
チオール-エン反応の温度は、特に制限はないが、ラジカル発生剤の10時間半減期の温度以上、かつ溶媒の沸点以下が好ましい。
また、時間は、用いる溶媒と温度によって変動するが、好ましくは、1~24時間である。
なお、例えば紫外線照射などの、熱以外のエネルギーを加えて、チオール-エン反応を誘起することもできる。
チオール-エン反応の温度は、特に制限はないが、ラジカル発生剤の10時間半減期の温度以上、かつ溶媒の沸点以下が好ましい。
また、時間は、用いる溶媒と温度によって変動するが、好ましくは、1~24時間である。
なお、例えば紫外線照射などの、熱以外のエネルギーを加えて、チオール-エン反応を誘起することもできる。
(パターン状に形成されたフッ素化膜を有するフッ素化構造体)
本実施形態においては、前記[1]の工程の基材上に前駆溶液を塗布する際に、パターンが施されたマスクを介して前駆溶液を塗布し、硬化させることで、パターン状に形成されたフッ素化膜を有するフッ素化構造体を得ることができる。特に、基材として、ガラス、シリコン、アルミニウム、スズ、銅、アルミニウム合金、及び銅合金等の親液表面を有する基材を用い、該基材上に本実施形態に係るフッ素化膜をパターン状に形成することで、親液表面と撥液表面がパターン化された表面を得ることができるため、得られたフッ素化構造体を伝熱体に適用した場合には、優れた沸騰促進体として機能する。
本実施形態においては、前記[1]の工程の基材上に前駆溶液を塗布する際に、パターンが施されたマスクを介して前駆溶液を塗布し、硬化させることで、パターン状に形成されたフッ素化膜を有するフッ素化構造体を得ることができる。特に、基材として、ガラス、シリコン、アルミニウム、スズ、銅、アルミニウム合金、及び銅合金等の親液表面を有する基材を用い、該基材上に本実施形態に係るフッ素化膜をパターン状に形成することで、親液表面と撥液表面がパターン化された表面を得ることができるため、得られたフッ素化構造体を伝熱体に適用した場合には、優れた沸騰促進体として機能する。
《基材上に形成された逆オパール構造からなる凹凸を有するフッ素化膜を備えたフッ素化構造体》
本実施形態に係るフッ素化構造体は、基材上に形成されたフッ素化膜が逆オパール構造からなる凹凸を有することが好ましい。
本実施形態に係るフッ素化構造体は、基材上に形成されたフッ素化膜が逆オパール構造からなる凹凸を有することが好ましい。
本実施形態に係る、逆オパール構造からなる凹凸を有するフッ素化膜は、ポリスチレン(以下、PSと略称する)等の高分子からなる微粒子の積層構造(オパール構造)を鋳型として、後処理により該微粒子を除去することで、逆オパール構造と呼ばれる凹凸構造を形成する手法により形成され、巨視的に細孔の配列に3次元的連続性を有する凹凸構造を有している。
したがって、フッ素化膜が逆オパール構造からなる凹凸を有するフッ素化構造体は、より撥液性が高められ、特に前述のように親液表面を有する基材上にパターン状に形成された場合、高コントラストな親液表面と撥液表面が得られるので、優れた沸騰促進構造体を提供することができる。
したがって、フッ素化膜が逆オパール構造からなる凹凸を有するフッ素化構造体は、より撥液性が高められ、特に前述のように親液表面を有する基材上にパターン状に形成された場合、高コントラストな親液表面と撥液表面が得られるので、優れた沸騰促進構造体を提供することができる。
図3は、本実施形態に係る逆オパール構造からなる凹凸を有するフッ素化構造体の伝熱体への適用を模式的に示す図であり、親液部位と撥液部位を有することで、撥液部位による核沸騰開始温度低下と親液部位による限界熱流束が向上する。
具体的には、本実施形態に係る、逆オパール構造からなる凹凸を有するフッ素化膜を有するフッ素化構造体は、
[1―1]基材の上に、有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、前記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、前記の式(2)で表される金属アルコキシド、及び高分子微粒子のコロイド溶液を含む前駆溶液を塗布し、硬化させて、有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する膜を得る工程、
[1-2]前記膜から、前記高分子微粒子を溶解除去して、逆オパール構造からなる凹凸を有する膜とする工程、及び
[2]前記凹凸を有する膜に、前記の式(3)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いてチオール-エン反応を進行させる工程、
により製造される。
[1―1]基材の上に、有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、前記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、前記の式(2)で表される金属アルコキシド、及び高分子微粒子のコロイド溶液を含む前駆溶液を塗布し、硬化させて、有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する膜を得る工程、
[1-2]前記膜から、前記高分子微粒子を溶解除去して、逆オパール構造からなる凹凸を有する膜とする工程、及び
[2]前記凹凸を有する膜に、前記の式(3)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いてチオール-エン反応を進行させる工程、
により製造される。
前記[1―1]、[1-2]及び[2]の工程を、前記図1の上段及び右部に示す。図中、「複合膜」は、前述した積層構造(オパール構造)のポリスチレンビーズと、それを鋳型として形成された、有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する膜を意味している。
以下、さらに詳しく記載する。
以下、さらに詳しく記載する。
〈前記[1―1]の工程〉
前記[1―1]の工程は、第1図の上段に示すように、基材に塗布される前駆溶液中に、鋳型となる高分子微粒子のコロイド液を含む点以外は、前述の[1]の工程と同じである。
鋳型となる高分子微粒子は、前駆溶液中の溶媒には溶解せず、次の[2]の工程において溶解除去することが可能な高分子化合物から構成され、具体的には、ポリスチレンやポリアクリレート等の高分子化合物を例示することができ、中でも、ポリスチレンが好ましく用いられる。
前記[1―1]の工程は、第1図の上段に示すように、基材に塗布される前駆溶液中に、鋳型となる高分子微粒子のコロイド液を含む点以外は、前述の[1]の工程と同じである。
鋳型となる高分子微粒子は、前駆溶液中の溶媒には溶解せず、次の[2]の工程において溶解除去することが可能な高分子化合物から構成され、具体的には、ポリスチレンやポリアクリレート等の高分子化合物を例示することができ、中でも、ポリスチレンが好ましく用いられる。
鋳型となる高分子微粒子の形状は真球又は略球形であることが好ましく、高分子微粒子は、水やアルコール等に単分散させてコロイド溶液とされてから、前駆体液に混合される。
コロイド液中の高分子微粒子の大きさは、適宜選択されるが、好ましくは50nm~5μm、より好ましくは100nm~2μmである。
また、コロイド液中における高分子微粒子の含有量は、高分子微粒子がコロイド液中で安定して分散し得る範囲であれば、特に限定されないが、1~5wt%が好ましい。
コロイド液中の高分子微粒子の大きさは、適宜選択されるが、好ましくは50nm~5μm、より好ましくは100nm~2μmである。
また、コロイド液中における高分子微粒子の含有量は、高分子微粒子がコロイド液中で安定して分散し得る範囲であれば、特に限定されないが、1~5wt%が好ましい。
さらに、前駆溶液に混合される該コロイド液の量は、該コロイド液中の高分子微粒子の含有量と、前駆溶液中の高分子微粒子と該高分子微粒子を鋳型として形成される硬化膜の比率に応じて決定される。
すなわち、前駆溶液中の高分子粒子質量([高分子微粒子]と表す)と該高分子微粒子を鋳型として形成される硬化膜質量([硬化膜]と表す)の比率は、好ましくは、[硬化膜]/[高分子微粒子]の値が2以下であり、さらに好ましくは1以下であり、この比率となるように、コロイド液中の高分子粒子の含有量に応じて、混合されるコロイド液の量が決定される。
すなわち、前駆溶液中の高分子粒子質量([高分子微粒子]と表す)と該高分子微粒子を鋳型として形成される硬化膜質量([硬化膜]と表す)の比率は、好ましくは、[硬化膜]/[高分子微粒子]の値が2以下であり、さらに好ましくは1以下であり、この比率となるように、コロイド液中の高分子粒子の含有量に応じて、混合されるコロイド液の量が決定される。
〈前記[1-2]の工程〉
前記[1-2]の工程は、前記[1-2]の工程で形成された膜から、前記高分子微粒子を溶解除去して、逆オパール構造からなる凹凸を有する膜とする工程であり、該工程では、硬化後の有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する膜から、前記の高分子微粒子を溶解除去するために、高分子微粒子をだけを溶解することができる溶媒を用いる必要がある。
したがって用いる溶媒は、高分子微粒子に用いた高分子化合物に応じて適宜選択されるが、具体的には、例えば、高分子微粒子としてポリスチレンビーズを用いた場合、好ましい溶媒として、トルエンやテトラヒドロフラン(THF)等が挙げられ、中でもトルエンが好ましく用いられる。
前記[1-2]の工程は、前記[1-2]の工程で形成された膜から、前記高分子微粒子を溶解除去して、逆オパール構造からなる凹凸を有する膜とする工程であり、該工程では、硬化後の有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する膜から、前記の高分子微粒子を溶解除去するために、高分子微粒子をだけを溶解することができる溶媒を用いる必要がある。
したがって用いる溶媒は、高分子微粒子に用いた高分子化合物に応じて適宜選択されるが、具体的には、例えば、高分子微粒子としてポリスチレンビーズを用いた場合、好ましい溶媒として、トルエンやテトラヒドロフラン(THF)等が挙げられ、中でもトルエンが好ましく用いられる。
〈前記[2]の工程〉
前記[2]の工程は、第1図の右部に示すように、同図下段に示す前述の[2]の工程と同じであるので、説明を省略する。
前記[2]の工程は、第1図の右部に示すように、同図下段に示す前述の[2]の工程と同じであるので、説明を省略する。
次に、実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、以下の実施例は、本発明の好適な例を示すものであり、本発明は、該実施例によって何ら限定されるものではない。
以下に、実施例及び比較例に用いた濡れ性の評価方法について示す。
(静的接触角)
接触角は3μLの液滴を水平に設置した各種試料表面に静置し、試料の水平方向より液滴の形状をカメラにより撮影し、液体・固体・気体のなす角度を静的接触角と定義した。
(静的接触角)
接触角は3μLの液滴を水平に設置した各種試料表面に静置し、試料の水平方向より液滴の形状をカメラにより撮影し、液体・固体・気体のなす角度を静的接触角と定義した。
(表面エネルギー)
表面エネルギーは各種平滑表面において水、ジヨードメタン、グリセロールの静的接触角を測定し、これらの値を用いて非特許文献3に記載の酸・塩基理論式により、算出した。
表面エネルギーは各種平滑表面において水、ジヨードメタン、グリセロールの静的接触角を測定し、これらの値を用いて非特許文献3に記載の酸・塩基理論式により、算出した。
(実施例1)
エタノール4mL、テトラエトキシシラン(TEOS)4mL、及びビニルトリメトキシシラン6mlの混合溶液に、0.01M塩酸を0.72mL添加し、24時間撹拌し、骨格源となる前駆溶液を調製した。
紫外線照射したアルミニウム基材表面に、ドットパターン(穴径3.0mm、穴間隔5.0mm)が施されたシリコーン樹脂製のマスクを貼付し、穴内に上記前駆溶液を3.0μL滴下し、80℃24時間硬化させ、パターン化した硬化膜を得た。
エタノール4mL、テトラエトキシシラン(TEOS)4mL、及びビニルトリメトキシシラン6mlの混合溶液に、0.01M塩酸を0.72mL添加し、24時間撹拌し、骨格源となる前駆溶液を調製した。
紫外線照射したアルミニウム基材表面に、ドットパターン(穴径3.0mm、穴間隔5.0mm)が施されたシリコーン樹脂製のマスクを貼付し、穴内に上記前駆溶液を3.0μL滴下し、80℃24時間硬化させ、パターン化した硬化膜を得た。
次に、パターン化した硬化膜が形成をされたアルミニウム基材表面を、イソプロパノール20mL、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.07g、1H,1H,2H,2H-パーフルオロデカン-1-チオール1mLが混合された溶液に浸漬し、70℃で24時間撹拌し、チオール-エン反応を進行させた。
反応後、サンプルをイソプロパノールで洗浄し、フッ素化硬化膜をパターン化したアルミニウム基材表面を得た。
パターン化したアルミニウム基材表面上における、濡れ性の各値は以下の表1に示すとおりである。
反応後、サンプルをイソプロパノールで洗浄し、フッ素化硬化膜をパターン化したアルミニウム基材表面を得た。
パターン化したアルミニウム基材表面上における、濡れ性の各値は以下の表1に示すとおりである。
(実施例2)
エタノール4mL、テトラエトキシシラン(TEOS)4mL、及びビニルトリメトキシシラン6mlの混合溶液に、0.01M塩酸を0.72mL添加し、24時間撹拌し、骨格源を調製した。
この骨格源に固形分率が2.5wt%となるように、所定量のエタノールを更に添加した溶液50μLと、これに2.5wt%のポリスチレンコロイド溶液(ポリスチレン粒子の粒径1.0μm)200μLを添加し、前駆溶液とした。
紫外線照射したアルミニウム基材表面に、ドットパターン(穴径3.0mm、穴間隔5.0mm)が施されたシリコーン樹脂製のマスクを貼付し、穴内に上記前駆溶液を3.0μL滴下し、80℃24時間硬化させた。硬化後、ポリスチレン粒子をトルエンで除去し、100℃で乾燥することで逆オパール構造体をパターン化したアルミニウム基材表面を得た(図1)
エタノール4mL、テトラエトキシシラン(TEOS)4mL、及びビニルトリメトキシシラン6mlの混合溶液に、0.01M塩酸を0.72mL添加し、24時間撹拌し、骨格源を調製した。
この骨格源に固形分率が2.5wt%となるように、所定量のエタノールを更に添加した溶液50μLと、これに2.5wt%のポリスチレンコロイド溶液(ポリスチレン粒子の粒径1.0μm)200μLを添加し、前駆溶液とした。
紫外線照射したアルミニウム基材表面に、ドットパターン(穴径3.0mm、穴間隔5.0mm)が施されたシリコーン樹脂製のマスクを貼付し、穴内に上記前駆溶液を3.0μL滴下し、80℃24時間硬化させた。硬化後、ポリスチレン粒子をトルエンで除去し、100℃で乾燥することで逆オパール構造体をパターン化したアルミニウム基材表面を得た(図1)
次に、逆オパール構造体をパターン化したアルミニウム基材表面を、イソプロパノール20mL、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.07g、1H,1H,2H,2H-パーフルオロデカン-1-チオール1mLが混合された溶液に浸漬し、70℃で24時間撹拌し、チオ-ルエン反応を進行させた。
反応後、サンプルをイソプロパノールで洗浄し、フッ素化された逆オパール構造体をパターン化したアルミニウム基材表面を得た。
図4は、得られた、フッ素化された逆オパール構造体をパターン化したアルミニウム基材表面の外観及びSEM像を撮影した写真である。
フッ素化された逆オパール構造体をパターン化したアルミニウム基材表面上における濡れ性の各値は以下の表1に示すとおりであった。
反応後、サンプルをイソプロパノールで洗浄し、フッ素化された逆オパール構造体をパターン化したアルミニウム基材表面を得た。
図4は、得られた、フッ素化された逆オパール構造体をパターン化したアルミニウム基材表面の外観及びSEM像を撮影した写真である。
フッ素化された逆オパール構造体をパターン化したアルミニウム基材表面上における濡れ性の各値は以下の表1に示すとおりであった。
(比較例1)
エタノール13.5mL、及びテトラエトキシシラン(TEOS)2.63mLの混合溶液に、0.01M塩酸を10mL添加し、24時間撹拌し、骨格源とした。この骨格源に固形分率が2.5wt%となるように、所定量のエタノールを更に添加した50μLと、これに2.5wt%のポリスチレンコロイド溶液(ポリスチレン粒子の粒径1.0μm)200μLを添加し、前駆溶液とした。
紫外線照射したアルミニウム基材表面に、ドットパターン(穴径3.0mm、穴間隔5.0mm)が施されたシリコーン樹脂製のマスクを貼付し、穴内に上記前駆溶液を3.0μL滴下し、80℃で24時間硬化させた。
硬化後、ポリスチレン粒子をトルエンで除去し、100℃で乾燥することで逆オパール構造体をパターン化したアルミニウム基材表面を得た。
エタノール13.5mL、及びテトラエトキシシラン(TEOS)2.63mLの混合溶液に、0.01M塩酸を10mL添加し、24時間撹拌し、骨格源とした。この骨格源に固形分率が2.5wt%となるように、所定量のエタノールを更に添加した50μLと、これに2.5wt%のポリスチレンコロイド溶液(ポリスチレン粒子の粒径1.0μm)200μLを添加し、前駆溶液とした。
紫外線照射したアルミニウム基材表面に、ドットパターン(穴径3.0mm、穴間隔5.0mm)が施されたシリコーン樹脂製のマスクを貼付し、穴内に上記前駆溶液を3.0μL滴下し、80℃で24時間硬化させた。
硬化後、ポリスチレン粒子をトルエンで除去し、100℃で乾燥することで逆オパール構造体をパターン化したアルミニウム基材表面を得た。
次に、密閉可能なテフロン(登録商標)容器に、逆オパール構造体をパターン化したアルミニウム表面、1H,1H,2H,2H-パーフルオロデシルトリクロロシラン(トリクロロ-1H,1H,2H,2H-パーフルオロデシルシラン)100μLが入ったガラス瓶を静置し、密閉後、120℃に設定されたオーブン内に24時間静置した。
フッ素化された逆オパール構造からなる凹凸を有するフッ素化膜を有する構造体をパターン化したアルミニウム基材表面上における濡れ性の各値は、表1に示すとおりであった。
フッ素化された逆オパール構造からなる凹凸を有するフッ素化膜を有する構造体をパターン化したアルミニウム基材表面上における濡れ性の各値は、表1に示すとおりであった。
上記表の結果から、比較例1の方法では、アルミニウム下地表面におけるエタノールの接触角が60°となり、アルミニウム下地表面もフッ素化されて、部位選択的な撥液化が困難であることが明らかである。これに対し、実施例1及び2に示されるように、本発明の、不飽和結合を有する官能基を基材表面にパターン化し、その部位のみをフッ素化する方法によれば、アルミニウム下地表面はフッ素化されず、親液性及び撥液性の高コントラストを有する表面を形成することが可能であることがわかる。
本発明のフッ素化膜構造体を基材上にパターン状に形成することで、親液表面と撥液表面がパターン化された表面を得ることができるため、得られたフッ素化構造体は、優れた沸騰促進機能を有する伝熱体を提供することができる。
Claims (10)
- 基材と該基材上に形成されたフッ素化膜とを備えたフッ素化構造体であって、
前記フッ素化膜は、有機シランと金属アルコシキドが共加水分解・縮重合することにより得られるポリシロキサン骨格を含み、該ポリシロキサン骨格を形成するケイ素原子のうち一部のケイ素原子に、下記の式(1)で表される基が結合した、フッ素化構造体。
X-C2H4-S-C2H4-R1-・・・(1)
[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表し、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表す。] - 前記フッ素化膜が、逆オパール構造からなる凹凸を有する、請求項1に記載のフッ素化構造体。
- 前記フッ素化膜が、パターン状に形成された、請求項1又は2に記載のフッ素化構造体。
- 前記フッ素化膜の厚みが、0.10~500μmである、請求項1~3のいずれか1項に記載のフッ素化構造体。
- 前記基材が、ガラス、シリコン、アルミニウム、スズ、銅、アルミニウム合金、及び銅合金からなる群から選ばれる、請求項1~4のいずれか1項に記載のフッ素化構造体。
- 基材上に形成されたフッ素化膜を備えたフッ素化構造体の製造方法であって、
基材の上に、有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、下記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、及び下記の式(2)で表される金属アルコキシドを含む前駆溶液を塗布し、硬化させて、有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する硬化膜を得る工程、
前記硬化膜に、下記の式(3)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いてチオール-エン反応を進行させる工程、
を含む、フッ素化構造体の製造方法。
CH2=CH―R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
X-C2H4-SH・・・・・・・・・(3)
[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表す。] - 基材上に形成された逆オパール構造からなる凹凸を有するフッ素化膜を備えたフッ素化構造体の製造方法であって、
基材の上に、有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、下記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、下記の式(2)で表される金属アルコキシド、及び高分子微粒子のコロイド溶液を含む前駆溶液を塗布し、硬化させて、有機シランと金属アルコシキドの共加水分解・縮重合物を含有する膜を得る工程、
前記膜から、前記高分子微粒子を溶解除去して、逆オパール構造からなる凹凸を有する膜とする工程、
前記凹凸を有する膜に、下記の式(3)で表されるチオール化合物を含有する溶液を用いてチオール-エン反応を進行させる工程、
を含む、フッ素化構造体の製造方法。
CH2=CH-R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
X-C2H4-SH・・・・・・・・・(3)
[式中、Xは、CF3(CF2)n-1(n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表す。] - 前記基材表面にパターンが施されたマスクを載置し、該マスクを介して前記前駆溶液を塗布する、請求項6又は7に記載のフッ素化構造体の製造方法。
- 請求項1に記載のフッ素化構造体を製造するための前駆溶液であって、
有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、下記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、及び下記の式(2)で表される金属アルコキシドを含む、前駆溶液。
CH2=CH-R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、単結合又は炭素素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。) - 請求項2に記載のフッ素化構造体を製造するための前駆溶液であって、
有機溶媒、水、ゾル-ゲル触媒、下記の式(1´)で表される不飽和結合を有する有機シラン、下記の式(2)で表される金属アルコキシド、及び高分子微粒子のコロイド溶液を含む、前駆溶液。
CH2=CH-R1-Si-(OR2)3・・・(1´)
(式中、R1は、単結合又は炭素素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1~4のアルキル基を表す。)
Si(OR3)4・・・・・・・・・・(2)
(式中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素1~4のアルキル基を表す。)
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