JP2023104694A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】フィルタの不純物除去能力が低下した場合に、フィルタを交換することなく不純物除去能力を回復させることができる基板処理装置および処理液供給方法を提供する【解決手段】基板処理装置１は、処理液で基板Ｗを処理する処理ユニット２と、処理ユニット２から処理液を回収する回収タンク２０と、回収タンク２０内の処理液のｐＨを調整する第１ｐＨ調整ユニット９０と、回収タンク２０から処理液が送られる再生タンク３０と、再生タンク３０内の処理液のｐＨの変化に応じて、再生タンク３０内の処理液から不純物を捕集したり、再生タンク３０内の処理液に不純物を放出したりするゲルフィルタ５０とを備える。【選択図】図１

Description

この発明は、処理液で基板を処理する基板処理装置、および、処理液で基板を処理する基板処理方法に関する。処理の対象となる基板には、たとえば、半導体ウェハ、液晶表示装置および有機ＥＬ(Electroluminescence)表示装置等のＦＰＤ(Flat Panel Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板等が含まれる。

基板への不純物の付着を抑制するために、処理液を送液する配管には、処理液中の不純物を除去するフィルタが設けられている（下記特許文献１を参照）。

特開２０１９－０３６６３９号公報

特許文献１に開示されているフィルタは、そのポア径よりも大きい不純物を捕集するように構成されている。そのため、使用時間の経過とともにフィルタが目詰まりを起こして不純物除去能力が低下するので、定期的に交換する必要がある。

そこで、この発明の１つの目的は、フィルタの不純物除去能力が低下した場合に、フィルタを交換することなく不純物除去能力を回復させることができる基板処理装置および処理液供給方法を提供することである。

この発明の一実施形態は、処理液で基板を処理する処理ユニットと、前記処理ユニットから処理液を回収する回収タンクと、前記回収タンク内の処理液のｐＨを調整する第１ｐＨ調整ユニットと、前記回収タンクから処理液が送られる再生タンクユニットと、前記再生タンクユニット内の処理液のｐＨの変化に応じて、前記再生タンクユニット内の処理液から不純物を捕集したり、前記再生タンクユニット内の処理液に不純物を放出したりするゲルフィルタとを備える、基板処理装置を提供する。

この装置によれば、基板の処理に用いられた処理液が回収タンクに回収され、回収タンクから再生タンクユニットに処理液が送られる。

ゲルフィルタは、再生タンクユニット内の処理液のｐＨの変化に応じて、再生タンクユニット内の処理液から不純物を捕集したり、再生タンクユニット内の処理液に不純物を放出したりできる。そのため、ｐＨを変化させれば、ゲルフィルタに処理液中の不純物を捕集させて基板の処理に再度利用できるように処理液を再生させたり、ゲルフィルタから処理液に不純物を放出させてゲルフィルタを再生させたりすることができる。したがって、ゲルフィルタの不純物除去能力が低下した場合であっても、ゲルフィルタを交換することなく不純物除去能力を回復させることができる。

この発明の一実施形態では、前記ゲルフィルタは、第１温度と、前記第１温度よりも高温の第２温度との間で加熱および冷却を繰り返すことで不純物の放出する性質を有している。そして、前記基板処理装置は、前記再生タンクユニット内の処理液の温度を前記第１温度および前記第２温度に調整可能な温度調整ユニットをさらに備える。

第１温度と第２温度との間で加熱および冷却を繰り返すように再生タンクユニット内の処理液の温度を調整することで、ゲルフィルタの加熱および冷却を繰り返すことができる。これにより、ゲルフィルタからの不純物の放出を促進し、ゲルフィルタの不純物除去能力を速やかに回復させることができる。

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記再生タンクユニットから処理液を排出する排出流路と、前記ゲルフィルタを洗浄するリンス液を前記再生タンクユニットに供給するリンス液供給ユニットとをさらに備える。そのため、再生タンクユニットにリンス液を供給してゲルフィルタを洗浄することで、排出流路を介して処理液を再生タンクユニットから排出した後においてもゲルフィルタに付着する処理液を、除去することができる。

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記再生タンクユニット内の処理液を前記回収タンクに戻す戻し流路をさらに備える。ゲルフィルタによって不純物が充分に除去されない場合には、処理液のｐＨが所望の値になっていないことがその原因として考えられる。そのため、再生タンクユニット内の処理液を回収タンクに戻して、処理液のｐＨの再調整を行った後、再生タンクユニットに処理液を再度送れば、ゲルフィルタによって不純物を除去できる。

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記再生タンクユニット内の処理液のｐＨを調整する第２ｐＨ調整ユニットをさらに備える。この装置によれば、処理液から不純物が充分に除去できない場合に、処理液を回収タンクに戻すことなく、処理液のｐＨを再度調整することができる。そのため、処理液のｐＨが所望の値になっていないためにゲルフィルタによって不純物が充分に除去されない場合であっても、再生タンクユニットで処理液のｐＨを再調整することで、ゲルフィルタによって処理液から不純物を除去することができる。

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記再生タンクユニットから処理液が送られ、前記処理ユニットに処理液を供給する供給タンクをさらに備える。

この装置によれば、ゲルフィルタによって不純物が充分に除去されて清浄化された処理液を、供給タンクに送ることで、処理ユニットに供給するための処理液を供給タンクに貯留することができる。そのため、ゲルフィルタの再生が必要になる前に、処理ユニットに供給する処理液を準備しておくことができる。

この発明の一実施形態では、前記再生タンクユニットが、前記ゲルフィルタが収容され処理液を貯留する再生タンクと、前記再生タンク内の処理液を循環させる循環流路とを含む。

この装置によれば、循環流路によって再生タンク内の処理液が循環される。そのため、再生タンク内に収容されているゲルフィルタに通過する処理液の流れを形成することができる。そのため、ゲルフィルタが、処理液中の不純物を効率的に捕集したり処理液に不純物を効率的に放出したりすることができる。

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記再生タンクユニット内の処理液中の不純物量を測定する不純物量測定ユニットをさらに備える。

この装置によれば、再生タンクユニット内の不純物量を測定できる。そのため、たとえば、不純物量が比較的少ない場合には、ゲルフィルタが充分に高い不純物除去能力を有していると判定できる。一方、不純物量が比較的多い場合には、ゲルフィルタの不純物除去能力が低下しているため、ゲルフィルタの再生が必要であると判定できる。

この発明の一実施形態では、前記再生タンクユニットは、複数設けられており、前記ゲルフィルタは、複数設けられている。そして、複数の前記ゲルフィルタは、それぞれ、対応する前記再生タンクユニット内の処理液のｐＨの変化に応じて、対応する前記再生タンクユニット内の処理液から不純物を捕集したり、対応する前記再生タンクユニット内の処理液に不純物を放出したりする。

この装置によれば、複数のゲルフィルタは、それぞれ、対応する再生タンクユニット内の処理液のｐＨの変化に応じて不純物の捕集および放出を行う。そのため、一部のゲルフィルタの再生を行うために当該ゲルフィルタから処理液に不純物を放出させている間に、残りのゲルフィルタによって処理液から不純物を捕集させて、処理液を清浄化することができる。

この発明の一実施形態では、前記ゲルフィルタは、前記再生タンクユニット内の処理液のｐＨが第１範囲であるときに当該処理液から不純物を捕集し、かつ、前記再生タンクユニット内の処理液のｐＨが第２範囲であるときに当該処理液に不純物を放出する性質を有する。

そのため、ｐＨが第１範囲に調整された処理液を回収タンクから再生タンクユニットに送ることで、ゲルフィルタに処理液中の不純物を捕集させて、基板の処理に再度利用できるように処理液を再生させることができる。また、ｐＨが第２範囲に調整された処理液を回収タンクから再生タンクユニットに送ることで、ゲルフィルタから処理液に不純物を放出させて、ゲルフィルタを再生させたりすることができる。

この発明の他の実施形態は、処理液で基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する供給工程と、前記処理ユニットから排出された処理液を回収タンクに回収する回収工程と、前記回収タンク内の処理液のｐＨを第１範囲内に調整する第１ｐＨ調整工程と、処理液のｐＨが前記第１範囲であるときに当該処理液から不純物を捕集し、かつ、処理液のｐＨが第２範囲であるときに当該不純物を放出する性質を有するゲルフィルタが設けられた再生タンクユニットに、前記第１範囲内のｐＨを有する処理液を、前記回収タンクから送出する第１回収処理液送出工程と、前記回収タンク内の処理液のｐＨを前記第２範囲内に調整する第２ｐＨ調整工程と、前記第２範囲内のｐＨを有する処理液を前記回収タンクから前記再生タンクユニットに送出する第２回収処理液送出工程とを含む、基板処理方法を提供する。

この方法によれば、処理ユニットに供給された処理液が回収タンクに回収され、回収タンク内でｐＨが第１範囲内に調整された処理液が、再生タンクユニットに送られる。

ゲルフィルタは、処理液のｐＨが第１範囲であるときに当該処理液から不純物を捕集し、かつ、処理液のｐＨが第２範囲であるときに当該不純物を放出する性質を有する。

そのため、ｐＨが第１範囲に調整された処理液を回収タンクから再生タンクユニットに送ることで、ゲルフィルタに処理液中の不純物を捕集させて、基板の処理に再度利用できるように処理液を再生させることができる。また、ｐＨが第２範囲に調整された処理液を回収タンクから再生タンクユニットに送ることで、ゲルフィルタから処理液に不純物を放出させて、ゲルフィルタを再生させたりすることができる。

したがって、ゲルフィルタの不純物除去能力が低下した場合であっても、ゲルフィルタを交換することなく不純物除去能力を回復させることができる。

この発明の他の実施形態では、前記ゲルフィルタが、第１温度と、前記第１温度よりも高温の第２温度との間で加熱および冷却を繰り返すことで不純物の放出する性質を有している。そして、前記基板処理方法が、前記第２回収処理液送出工程において前記再生タンクユニットに送られた処理液の温度を前記第１温度および前記第２温度の間で加熱および冷却を繰り返す温度調整工程をさらに含む。

この方法によれば、第１温度と第２温度との間で加熱および冷却を繰り返すように再生タンクユニット内の処理液の温度を調整することで、ゲルフィルタの加熱および冷却を繰り返すことができる。これにより、ゲルフィルタからの不純物の放出を促進し、ゲルフィルタの不純物除去能力を速やかに回復させることができる。

この発明の他の実施形態では、前記基板処理方法が、前記第１回収処理液送出工程の後、前記再生タンクユニット内の処理液を前記回収タンクに戻す戻し工程と、前記戻し工程によって前記回収タンクに戻された処理液のｐＨを前記第１範囲内に調整する再調整工程と、前記再調整工程によってｐＨが調整された処理液を前記回収タンクから前記再生タンクユニットに送出する再送出工程とを含む。

そのため、ゲルフィルタによって不純物が充分に除去されない場合には、処理液のｐＨが所望の値になっていないことがその原因として考えられる。再生タンクユニット内の処理液を回収タンクに戻して、処理液のｐＨの再調整を行った後、再生タンクユニットに処理液を再度送れば、ゲルフィルタによって不純物を除去できる。

この発明の他の実施形態では、前記基板処理方法が、前記第１回収処理液送出工程の後、前記再生タンクユニット内の処理液のｐＨを前記第１範囲内に調整する再調整工程をさらに含む。

この方法によれば、処理液を回収タンクに戻すことなく、再生タンクユニット内で処理液のｐＨを再調整することができる。そのため、処理液のｐＨが所望の値になっていないためにゲルフィルタによって不純物が充分に除去されない場合であっても、再生タンクユニットで処理液のｐＨを再調整することで、ゲルフィルタによって処理液から不純物を除去することができる。

この発明の他の実施形態では、前記再生タンクユニットが、前記ゲルフィルタが収容され処理液を貯留する再生タンクと、前記再生タンク内の処理液を循環させる循環流路とを含む。そして、前記基板処理方法が、前記第１回収処理液送出工程および前記第２回収処理液送出工程の少なくとも一方の実行中に、前記循環流路を介して前記再生タンク内の処理液を循環させる循環工程をさらに含む。

この方法によれば、循環流路によって再生タンク内の処理液が循環される。そのため、再生タンク内に収容されているゲルフィルタに通過する処理液の流れを形成することができる。そのため、ゲルフィルタが、処理液中の不純物を効率的に捕集したり処理液に不純物を効率的に放出したりすることができる。

この発明の他の実施形態では、前記基板処理方法が、前記第２回収処理液送出工程において前記再生タンクユニットに送られた処理液を前記再生タンクユニットから排出する処理液排出工程と、前記処理液排出工程の後、前記再生タンクユニットにリンス液を供給するリンス液供給工程とをさらに含む。

この方法によれば、ゲルフィルタから放出された不純物を含む処理液を再生タンクユニットから排出することができる。さらに、再生タンクユニットにリンス液を供給してゲルフィルタを洗浄することで、処理液の排出後においてもゲルフィルタに付着する汚染された処理液を除去することができる。

この発明の他の実施形態では、前記基板処理方法が、前記リンス液供給工程において前記再生タンクユニットに供給されたリンス液中の不純物量を測定するリンス不純物量測定工程をさらに含む。

この方法によれば、リンス液供給工程においてリンス液がゲルフィルタを洗浄することでリンス液中に混入した不純物の量を測定することができる。リンス液に混入している不純物量が比較的多い場合には、ゲルフィルタから不純物が充分に除去できていないと判定し、リンス液に混入している不純物量が比較的少ない場合には、ゲルフィルタから不純物を充分に除去できていると判定することができる。

この発明の他の実施形態では、前記リンス不純物量測定工程において測定される不純物量が基準不純物量よりも少ない場合には、前記再生タンクユニットから前記リンス液を排出するリンス液排出工程が実行され、前記リンス不純物量測定工程において測定される不純物量が前記基準不純物量以上である場合には、前記リンス液供給工程において前記再生タンクユニットに供給されたリンス液のｐＨを前記第２範囲に調整するリンス液ｐＨ調整工程が実行されるように、前記リンス液排出工程および前記リンス液ｐＨ調整工程が選択的に実行される。

この方法によれば、リンス液の不純物量が基準不純物量よりも小さい場合には、リンス液を再生タンクユニットから排出し、ゲルフィルタの洗浄を完了することができる。一方、リンス液の不純物量が基準不純物量以上である場合には、ゲルフィルタから不純物が充分に除去できていないと判定し、リンス液のｐＨを調整することで、リンス液の役割を、処理液の排出後においてもゲルフィルタに付着する処理液を除去する役割から、ゲルフィルタから不純物を放出させる役割に切り替えることができる。これにより、ゲルフィルタから不純物を再度放出させてゲルフィルタの不純物除去能力の回復を図ることができる。

図１は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の構成例を示す模式図である。 図２は、ｐＨ応答性ゲルによる不純物の吸着および放出のメカニズムの一例について説明するための模式図である。 図３は、温度変化によってｐＨ応答性ゲルから不純物が放出されるメカニズムの一例について説明するための模式図である。 図４は、前記基板処理装置の主要部の電気的構成例を示すブロック図である。 図５は、前記基板処理装置によって実行される処理液再生処理を説明するためのフローチャートである。 図６Ａは、前記処理液再生処理を説明するための模式図である。 図６Ｂは、前記処理液再生処理を説明するための模式図である。 図６Ｃは、前記処理液再生処理を説明するための模式図である。 図６Ｄは、前記処理液再生処理を説明するための模式図である。 図６Ｅは、前記処理液再生処理を説明するための模式図である。 図７は、前記基板処理装置によって実行されるゲルフィルタ再生処理を説明するためのフローチャートである。 図８Ａは、前記ゲルフィルタ再生処理を説明するための模式図である。 図８Ｂは、前記ゲルフィルタ再生処理を説明するための模式図である。 図８Ｃは、前記ゲルフィルタ再生処理を説明するための模式図である。 図８Ｄは、前記ゲルフィルタ再生処理を説明するための模式図である。 図８Ｅは、前記ゲルフィルタ再生処理を説明するための模式図である。 図８Ｆは、前記ゲルフィルタ再生処理を説明するための模式図である。 図８Ｇは、前記ゲルフィルタ再生処理を説明するための模式図である。 図８Ｈは、前記ゲルフィルタ再生処理を説明するための模式図である。 図９は、この発明の第２実施形態に係る基板処理装置の構成例を示す模式図である。 図１０は、第２実施形態に係る前記基板処理装置によって実行される処理液再生処理を説明するためのフローチャートである。 図１１は、第２実施形態に係る前記処理液再生処理を説明するための模式図である。 図１２は、第２実施形態に係る前記基板処理装置によって実行されるゲルフィルタ再生処理を説明するためのフローチャートである。 図１３は、第２実施形態に係る前記ゲルフィルタ再生処理を説明するための模式図である。 図１４は、第２実施形態に係る処理液供給装置の第１変形例を示す模式図である。 図１５は、第２実施形態に係る処理液供給装置の第２変形例を示す模式図である。 図１６Ａは、ゲルフィルタの金属除去能力を評価するための除去能力評価実験の手順を説明するための模式図である。 図１６Ｂは、ｐＨ応答性ゲルの金属除去能力を評価するための除去能力評価実験の結果を示すグラフであり、金属溶液のｐＨが２である場合の結果を示すグラフである。 図１６Ｃは、ｐＨ応答性ゲルの金属除去能力を評価するための除去能力評価実験の結果を示すグラフであり、金属溶液のｐＨが７である場合の結果を示すグラフである。 図１７Ａは、ｐＨ応答性ゲルの金属除去能力を再生するための再生評価実験の手順を説明するための模式図である。 図１７Ｂは、再生評価実験の結果を示すグラフである。

以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して説明する。

＜第１実施形態に係る基板処理装置の構成＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１の構成例を示す模式図である。図１に示す基板処理装置１は、半導体ウェハなどの円板状の基板Ｗを一枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置１は、処理液で基板Ｗを処理する処理ユニット２と、処理ユニット２に基板Ｗを搬送する搬送ロボット（図示せず）と、処理ユニット２に処理液を供給する処理液供給装置３と、基板処理装置１を制御する制御装置４（図４を参照）とを含む。

処理ユニット２内で基板Ｗに対して供給される処理液には、薬液やリンス液等が含まれる。薬液は、たとえば、フッ酸（フッ化水素水：ＨＦ）である。薬液は、フッ酸に限られず、硫酸、酢酸、硝酸、塩酸、フッ酸、バッファードフッ酸（ＢＨＦ）、希フッ酸（ＤＨＦ）、アンモニア水、過酸化水素水、界面活性剤、腐食防止剤、有機溶剤のうちの少なくとも１つを含む液であってもよい。有機溶剤は、たとえば、ＩＰＡ（イソプロパノール）である。

これらを混合した薬液の例としては、ＳＰＭ（硫酸過酸化水素水混合液）、ＳＣ１（アンモニア過酸化水素水混合液：ＡＰＭ）、ＳＣ２（塩酸過酸化水素水混合液：ＨＰＭ）等が挙げられる。

リンス液とは、たとえば、脱イオン水（Deionized Water: DIW）である。リンス液は、ＤＩＷに限られず、炭酸水、電解イオン水、オゾン水、希釈濃度（たとえば、１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下）の塩酸水、希釈濃度（たとえば、１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下）のアンモニア水、還元水（水素水）のうちの少なくとも１つを含む液であってもよい。

処理ユニット２は、スピンチャック１０と、処理液ノズル１１と、カップ１２と、処理チャンバ１３とを含む。スピンチャック１０は、一枚の基板Ｗを水平な姿勢で保持しながら、基板Ｗの中央部を通る鉛直な回転軸線Ａ１まわりに基板Ｗを回転させる。処理液ノズル１１は、基板Ｗの上面に処理液を供給する。カップ１２は、スピンチャック１０を取り囲み、基板Ｗから飛散する処理液を受ける。処理チャンバ１３は、スピンチャック１０、処理液ノズル１１およびカップ１２を収容する。処理ユニット２内で使用された処理液を汚染処理液という。したがって、カップ１２の底部から排出される処理液は、汚染処理液である。

処理液供給装置３は、処理液を貯留する回収タンク２０、再生タンク３０、および、供給タンク４０、ゲルフィルタ５０を含む。回収タンク２０は、処理ユニット２から処理液を回収し、当該処理液を貯留する。再生タンク３０は、回収タンク２０から処理液が供給され、当該処理液を貯留する。供給タンク４０は、再生タンク３０から処理液が供給され、当該処理液を貯留する。供給タンク４０に貯留されている処理液は、処理ユニット２に供給される。

各タンクには、タンク内の処理液の液面の高さを検知する液面センサ（図示せず）が設けられていてもよい。液面センサは、非接触式のレベルセンサが好ましく、たとえば、超音波式のレベルセンサであってもよい。

再生タンク３０は、処理液を貯留する内部空間３１を有する。ゲルフィルタ５０は、再生タンク３０に収容されている。再生タンク３０の内部空間３１は、ゲルフィルタ５０によって、第１収容部３１ａと第２収容部３１ｂとに仕切られている。この実施形態では、ゲルフィルタ５０は、第２収容部３１ｂが第１収容部３１ａよりも下方に位置するように再生タンク３０の内部空間３１を仕切っている。

ゲルフィルタ５０は、再生タンク３０内の処理液のｐＨの変化に応じて、再生タンク３０内の処理液から不純物Ｐを捕集したり、再生タンク３０内の処理液に不純物Ｐを放出したりする。ゲルフィルタ５０は、ｐＨ応答性ゲル５１と、処理液を通過させつつｐＨ応答性ゲル５１を保持するフィルタ部材５２とを含む。この実施形態では、フィルタ部材５２は、ｐＨ応答性ゲル５１を挟む一対のシート状フィルタ５２ａを含む。第１収容部３１ａと第２収容部３１ｂとの間を移動する処理液の流れが形成されれば、ゲルフィルタ５０によって処理液中の不純物Ｐを効率的に捕集したり、ゲルフィルタ５０から処理液に不純物Ｐを効率的に放出したりすることができる。

ｐＨ応答性ゲル５１は、たとえば、ポリマーであり、単一種類のモノマーからなる重合体であってもよいし、二種類以上のモノマーの共重合体であってもよい。ｐＨ応答性ゲル５１は、処理液のｐＨが第１範囲であるときに当該処理液から不純物Ｐを捕集し、かつ、処理液のｐＨが第２範囲であるときに当該処理液に不純物Ｐを放出するｐＨ応答性を有する。第１範囲は、たとえば、ｐＨが６以上の範囲であり（ｐＨ≧６）、第２範囲は、たとえば、ｐＨが２以下の範囲である（ｐＨ≦２）。

ここで、図２を用いてｐＨ応答性ゲル５１が処理液中の不純物Ｐを捕集したり、不純物Ｐを放出したりするメカニズムについて説明する。なお、不純物Ｐの捕集および放出のメカニズムは、必ずしも図２に示すメカニズムであるとは限られない。

図２に示すように、ｐＨ応答性ゲル５１は、分子内に吸着サイト５３を有している。ｐＨ応答性ゲル５１は、たとえば、吸着サイト５３としてアミド結合を側鎖に有するポリマーである。処理液中に存在する不純物は、たとえば、処理液中で陽イオンになる金属異物である。
処理液のｐＨが第１範囲（高ｐＨ）であれば、ｐＨ応答性ゲル５１の吸着サイト５３がプロトン（Ｈ^＋）を放出して陰イオン化し、処理液中の不純物Ｐ（陽イオン）を吸着する。一方、処理液のｐＨが第２範囲（低ｐＨ）であれば、ｐＨ応答性ゲル５１の吸着サイト５３がプロトン化し、不純物Ｐに対する吸着サイト５３の吸着から解消され、不純物Ｐが処理液中に放出される。

ｐＨ応答性ゲル５１は、たとえば、ポリ（Ｎ－アルキルアクリルアミド）、ポリ（Ｎ－イソプロピルアクリルアミド）、ポリ（Ｎ－ビニルアルキルアミド）、ポリビニルアルキルエーテル、メチルセルロース、ポリ（アクリルアミド－ＣＯ－アクリロニトリル）、ポリ（アリルアミン－ＣＯ－アリルウレア）、スルフォベタインポリマーのうちの少なくとも１つを含んでいてもよい。

アクリル酸、アクリルアミド、および、Ｎ，Ｎ－メチレンビス（アクリルアミド）の共重合体は、ｐＨが６以上であれば、充分に金属除去量が増大することが知られている（Journal of Cleaner Production 2018, Superabsorbent polymer hydrogels with good thermal and mechanical properties for removal of selected heavy metal ions, Shah, LAを参照）。

ｐＨ応答性ゲル５１は、ｐＨ応答性に加えて、温度応答性を有する。ｐＨ応答性ゲル５１の温度応答性は、第１温度（たとえば、２５℃）と、第１温度よりも高温の第２温度（たとえば、５５℃）との間で加熱および冷却を繰り返すことで不純物Ｐの放出する性質である。たとえば、図３に示すように、加熱および冷却を繰り返すことに起因してｐＨ応答性ゲル５１の膨張および収縮が繰り返されることによって、ｐＨ応答性ゲル５１の吸着サイト５３以外の部分で物理的に保持されていた不純物ＰがｐＨ応答性ゲル５１から放出される。

再び図１を参照して、処理液供給装置３は、回収流路２１、第１排出流路２２、第１送液流路２３、循環流路３３、第２送液流路３４、戻し流路３５、第２排出流路３６、供給流路４１、および、供給循環流路４２を含む。各流路は、たとえば、配管部材によって形成されている。

回収流路２１は、処理ユニット２のカップ１２と回収タンク２０とを連結し、カップ１２から回収タンク２０に処理液を送る。この実施形態では、回収流路２１の上流端は、カップ１２の底部に接続されており、回収流路２１の下流端は、回収タンク２０に接続されている。

第１排出流路２２は、回収タンク２０から処理液を排出して廃棄する。詳しくは、第１排出流路は、廃棄設備（図示せず）に処理液を送る。この実施形態では、第１排出流路２２の上流端は、回収タンク２０に接続されており、第１排出流路２２の下流端は、廃棄設備に接続されている。

第１送液流路２３は、回収タンク２０の処理液を再生タンク３０に送る。この実施形態では、第１送液流路２３の上流端は、回収タンク２０に接続されており、第１送液流路２３の下流端は、再生タンク３０の第２収容部３１ｂに接続されている。

循環流路３３は、再生タンク３０から処理液が流入し、循環流路３３から再生タンク３０に処理液を戻すことによって、再生タンク３０内の処理液を循環させる。循環流路３３の上流端および下流端は、再生タンク３０に接続されている。この実施形態では、循環流路３３の上流端は、再生タンク３０の内部空間３１の第１収容部３１ａに接続されており、循環流路３３の下流端は、内部空間３１の第２収容部３１ｂに接続されている。循環流路３３および再生タンク３０は、回収タンク２０から処理液が供給される再生タンクユニットを構成している。

第２送液流路３４は、再生タンク３０内の処理液を供給タンク４０に送る。この実施形態では、第２送液流路３４の上流端は、循環流路３３に分岐接続されており、第２送液流路３４の下流端は、供給タンク４０に接続されている。

戻し流路３５は、再生タンク３０から回収タンク２０に処理液を戻す。この実施形態では、戻し流路３５の上流端は、循環流路３３に分岐接続されており、戻し流路３５の下流端は、回収流路２１に分岐接続されている。

第２排出流路３６は、再生タンク３０から処理液を排出して廃棄する。詳しくは、第２排出流路３６は、廃棄設備（図示せず）に処理液を送る。この実施形態では、第２排出流路３６の上流端は、再生タンク３０の第２収容部３１ｂに接続されており、第２排出流路３６の下流端は、廃棄設備に接続されている。

供給流路４１は、供給タンク４０から処理ユニット２に処理液を供給する。供給流路４１の上端部は、供給タンク４０に接続されており、供給流路４１の下流端は、処理ユニット２の処理液ノズル１１に接続されている。

供給循環流路４２は、供給タンク４０から処理液が流入し、供給循環流路４２から供給タンク４０に処理液を戻すことによって、供給タンク４０内の処理液を循環させる。供給循環流路４２の上流端は、供給流路４１に分岐接続されており、供給循環流路４２の下流端は、供給タンク４０に接続されている。

処理液供給装置３は、回収バルブ６０、第１廃棄バルブ６１、第１送液バルブ６２、第１ポンプ７０、第２ポンプ７１、循環バルブ６３、循環ヒータ７５、第２送液バルブ６４、戻しバルブ６５、第２廃棄バルブ６６、第３ポンプ７２、供給ヒータ７６、供給フィルタ７８、供給バルブ６７、供給循環バルブ６８、供給循環ヒータ７７、および、供給循環フィルタ７９をさらに含む。

回収バルブ６０は、回収流路２１に設けられており、回収流路２１を開閉する。回収バルブ６０は、回収流路２１において戻し流路３５の接続位置よりも上流側に配置されている。回収バルブ６０が回収流路２１に設けられるとは、回収バルブ６０が回収流路２１を構成する配管に介装されることを意味していてもよい。その他のバルブおよびフィルタにおいても同様である。図示はしないが、回収バルブ６０は、弁座が内部に設けられたバルブボディと、弁座を開閉する弁体と、開位置と閉位置との間で弁体を移動させるアクチュエータとを含む。他のバルブについても同様の構成を有していてもよい。

第１廃棄バルブ６１は、第１排出流路２２に設けられている。第１送液バルブ６２は、第１送液流路２３に設けられている。第１ポンプ７０は、回収タンク２０内の処理液を第１送液流路２３に送り出す。この実施形態では、第１ポンプ７０は、第１送液流路２３において、第１送液バルブ６２よりも上流側に配置されている。

第２ポンプ７１は、再生タンク３０内の処理液を循環流路３３に送り出す。この実施形態では、第２ポンプ７１は、循環流路３３において第２送液流路３４の接続位置よりも上流側に配置されている。そのため、第２ポンプ７１は、第２送液流路３４にも処理液を送り出すことができる。

循環バルブ６３は、循環流路３３を開閉する。循環バルブ６３は、循環流路３３における第２送液流路３４の接続位置、循環流路３３における戻し流路３５の接続位置、および、第２ポンプ７１よりも下流側に配置されている。循環ヒータ７５は、循環流路３３に設定される再生加熱位置を加熱する。再生加熱位置は、循環流路３３において循環バルブ６３よりも下流側に位置する。循環ヒータ７５および循環バルブ６３の位置関係は、図１の位置関係と逆であってもよい。

第２送液バルブ６４は、第２送液流路３４に設けられている。戻しバルブ６５は、戻し流路３５に設けられている。第２廃棄バルブ６６は、第２排出流路３６に設けられている。

第３ポンプ７２は、供給流路４１における供給循環流路４２の接続位置よりも上流側に配置されている。そのため、第３ポンプ７２は、供給循環流路４２にも、処理液を送り出すことができる。

供給ヒータ７６は、供給流路４１に設定される供給加熱位置を加熱する。供給加熱位置は、供給流路４１において供給循環流路４２の接続位置よりも下流側に位置する。供給フィルタ７８は、供給加熱位置よりも下流側に設けられている。供給バルブ６７は、供給フィルタ７８よりも下流側に設けられている。供給ヒータ７６、供給フィルタ７８および供給バルブ６７の位置関係は図１と異なっていてもよい。

供給循環バルブ６８は、供給循環流路４２に設けられている。供給循環ヒータ７７は、供給循環流路４２に設定される供給循環加熱位置を加熱する。この実施形態では、供給循環加熱位置は、供給循環流路４２において供給循環バルブ６８よりも下流側に位置する。この実施形態では、供給循環フィルタ７９は、供給循環流路４２において供給循環加熱位置よりも下流側に配置されている。供給循環ヒータ７７、供給循環バルブ６８、および、供給循環フィルタ７９の位置関係は、図１と異なっていてもよい。

処理液供給装置３は、回収タンク２０にｐＨ調整液を供給する第１ｐＨ調整ユニット９０と、再生タンク３０内の処理液の不純物量を測定する不純物量測定ユニット１００と、再生タンク３０にリンス液を供給するリンス液供給ユニット１２０とをさらに含む。

第１ｐＨ調整ユニット９０は、回収タンク２０にｐＨ調整液を供給する第１ｐＨ調整液供給ユニット９１と、回収タンク２０内の処理液のｐＨを測定する第１ｐＨ測定ユニット９２とを含む。第１ｐＨ調整液供給ユニット９１は、回収タンク２０にｐＨ調整液として酸性液体を供給する第１酸性液体流路９３と、第１酸性液体流路９３を開閉する第１酸性液体バルブ９４と、回収タンク２０にｐＨ調整液としてアルカリ性液体を供給する第１アルカリ性液体流路９５と、第１アルカリ性液体流路９５を開閉する第１アルカリ性液体バルブ９６とを含む。

この実施形態では、第１酸性液体流路９３の上流端は酸性液体供給源（図示せず）に接続されており、第１酸性液体流路９３の下流端は回収タンク２０に接続されている。この実施形態では、第１アルカリ性液体流路９５の上流端は第１酸性液体供給源（図示せず）に接続されており、第１アルカリ性液体流路９５の下流端は回収タンク２０に接続されている。酸性液体は、たとえば、塩酸（１０ｗｔ％～３７ｗｔ％）、硫酸（１０ｗｔ％～９８ｗｔ％）、リン酸（１０ｗｔ％～８０ｗｔ％）のうちのいずれかであり、アルカリ性液体は、たとえば、アンモニア水（１０ｗｔ％～３０ｗｔ％）である。ｗｔ％は、質量パーセント濃度を意味する。第１ｐＨ測定ユニット９２は、たとえば、ｐＨメータである。

不純物量測定ユニット１００は、たとえば、液中パーティクル測定器および金属濃度測定器の少なくとも一方を含む機器である。液中パーティクル測定器は、サンプルに光を照射して、パーティクルからの光の散乱の強さを測り、そのパーティクルの大きさに比例した光強度を電気信号として取り出すことでパーティクル径およびパーティクル数を測定する機器である。金属濃度測定器は、イオン選択性電極法（ＩＳＥ: Ion Selective Electrode）を用いた電気化学的測定手法によって、液中の特定イオン濃度を測定する機器である。

リンス液供給ユニット１２０は、再生タンク３０にリンス液を供給するリンス液流路１２１と、リンス液流路１２１を開閉するリンス液バルブ１２２とを含む。この実施形態では、リンス液流路１２１の上流端はリンス液供給源（図示せず）に接続されており、リンス液流路１２１の下流端は再生タンク３０に接続されている。

図４は、基板処理装置１の主要部の電気的構成を説明するためのブロック図である。
制御装置４は、コンピュータ本体４ａと、コンピュータ本体４ａに接続された周辺装置４ｄとを含む、コンピュータである。コンピュータ本体４ａは、各種の命令を実行するプロセッサ（ＣＰＵ）４ｂと、プログラム等の情報を記憶するメモリ４ｃとを含む。

周辺装置４ｄは、プログラム等の情報を記憶する補助記憶装置４ｅと、ホストコンピュータＨＣ等の他の装置と通信する通信装置４ｆとを含む。補助記憶装置４ｅは、電力が供給されていなくても記憶を保持する不揮発性メモリである。補助記憶装置４ｅは、たとえば、ハードディスクドライブ等の磁気記憶装置である。補助記憶装置４ｅは、各種範囲、各種閾値、および、プログラムを記憶する。具体的には、補助記憶装置４ｅには、第１範囲、第２範囲、第１基準不純物量（後述）、第２基準不純物量（後述）、不純物除去時間（後述）、不純物放出時間（後述）、洗浄時間（後述）が記憶されている。言い換えると、補助記憶装置４ｅは、第１範囲、第２範囲、第１基準不純物量、第２基準不純物量、不純物除去時間、不純物放出時間、洗浄時間等を記憶する記憶部として機能する。

制御装置４は、入力装置４Ａ、表示装置４Ｂ、および警報装置４Ｃに接続されている。入力装置４Ａは、ユーザやメンテナンス担当者等の操作者が基板処理装置１に情報を入力するときに操作される。情報は、表示装置４Ｂの画面に表示される。入力装置４Ａは、キーボード、ポインティングデバイス、およびタッチパネルのいずれかであってもよいし、これら以外の装置であってもよい。入力装置４Ａおよび表示装置４Ｂを兼ねるタッチパネルディスプレイが基板処理装置１に設けられていてもよい。警報装置４Ｃは、光、音、文字、および図形のうちの１つ以上を用いて警報を発する。入力装置４Ａがタッチパネルディスプレイの場合、入力装置４Ａが、警報装置４Ｃを兼ねていてもよい。

制御装置４の制御対象としては、スピンチャック１０、第１ポンプ７０、第２ポンプ７１、第３ポンプ７２、循環ヒータ７５、供給ヒータ７６、供給循環ヒータ７７、回収バルブ６０、第１廃棄バルブ６１、第１送液バルブ６２、循環バルブ６３、第２送液バルブ６４、戻しバルブ６５、第２廃棄バルブ６６、供給バルブ６７、供給循環バルブ６８、第１酸性液体バルブ９４、第１アルカリ性液体バルブ９６、リンス液バルブ１２２、第１ｐＨ測定ユニット９２、不純物量測定ユニット１００等が挙げられる。

図４には、代表的な部材が図示されているが、図示されていない部材について制御装置４によって制御されないことを意味するものではなく、制御装置４は、基板処理装置１に備えられる各部材を適切に制御することができる。図４には、後述する第２実施形態で説明する部材についても併記しており、この部材も制御装置４によって制御される。

制御装置４は、ホストコンピュータＨＣ等の外部装置によって指定されたレシピに従って当該基板Ｗを処理ユニット２で処理する処理スケジュールを作成する。その後、制御装置４は、搬送ロボット、処理ユニット２、処理液供給装置３等の基板処理装置１の制御対象（リソース）に処理スケジュールを実行させる。

以下の各動作は、制御装置４が処理スケジュールに従って基板処理装置１を制御することにより実行される。言い換えると、制御装置４は、以下の各工程を実行するようにプログラムされている。

次に、基板処理装置１の全体の動作について説明する。

まず、第３ポンプ７２が作動している状態で供給バルブ６７が開かれる。これにより、供給タンク４０から供給流路４１に引き込まれた処理液が処理ユニット２に供給される（供給工程）。詳しくは、処理液は、処理液ノズル１１に供給され、処理液ノズル１１から吐出される。供給流路４１を流れる処理液は、処理液ノズル１１に達する前に、供給ヒータ７６によって所望の温度に加熱される。

供給バルブ６７が開かれる前に、第３ポンプ７２が作動している状態で供給循環バルブ６８を開いてもよい。そうすることによって、供給循環流路４２によって供給タンク４０内の処理液を循環させながら供給循環ヒータ７７によって処理液を加熱することができる。これにより、処理液ノズル１１に処理液が供給される前に供給タンク４０内の処理液を加熱することができる。

処理液ノズル１１から吐出された処理液は、回転状態の基板Ｗの上面に着液する。基板Ｗの上面に着液した処理液は、遠心力の作用によって基板Ｗ外に飛散し、カップ１２によって受けられる。

カップ１２によって受けられた汚染処理液は、回収流路２１を介して回収タンク２０に回収される（回収工程）。回収タンク２０に流入した処理液が再生タンク３０に供給されてゲルフィルタ５０を通過することによって、汚染処理液中の不純物が除去される（不純物除去工程）。これにより、不純物が除去された清浄処理液が生成される。清浄処理液は、再生タンク３０から供給タンク４０に送られる。このように、汚染処理液から不純物が除去されて清浄処理液が生成され、清浄処理液が供給タンク４０に戻される。つまり、処理液が再利用される。

処理液からの不純物の除去に関連して、基板処理装置１は、処理液再生処理およびゲル再生処理を実行することができる。

＜第１実施形態に係る処理液再生処理＞
次に、基板処理装置１によって実行される処理液再生処理について詳しく説明する。処理液再生処理は、たとえば、回収タンク２０に一定量の汚染処理液が貯留された時点で開始される。図５は、基板処理装置１よって実行される処理液再生処理を説明するためのフローチャートである。図６Ａ～図６Ｅは、処理液再生処理を説明するための模式図である。

図６Ａ～図６Ｅでは、開いているバルブを黒色で示しており、閉じているバルブが白色で示されている（後述する図８Ａ～図８Ｈ、図１１および図１３においても同様）。また、図６Ａ～図６Ｅでは、液体が流れている流路が太線で示されている（後述する図８Ａ～図８Ｈ、図１１および図１３においても同様）。また、図６Ｃおよび図６Ｅには、説明の便宜上不純物Ｐを図示しているが、その他の図中の汚染処理液には不純物Ｐが存在していないことを意味するものではない（後述する図８Ａ～図８Ｈ、図１１および図１３においても同様）。

まず、制御装置４は、回収タンク２０内の汚染処理液のｐＨが第１範囲であるか否かを判定する（第１ｐＨ判定工程：ステップＳ１）。制御装置４は、第１ｐＨ判定ユニットとして機能する。回収タンク２０内の汚染処理液のｐＨが第１範囲ではない場合には（ステップＳ１：ＮＯ）、第１ｐＨ調整液供給ユニット９１から回収タンク２０にｐＨ調整液が供給されることによって（第１ｐＨ調整液供給工程：ステップＳ２）、回収タンク２０内の汚染処理液のｐＨが調整される（第１ｐＨ調整工程）。

具体的には、汚染処理液のｐＨの調整は、第１ｐＨ測定ユニット９２の測定結果に基づいて行われる（第１ｐＨ測定工程）。第１ｐＨ測定ユニット９２による測定結果（汚染処理液のｐＨ）が第１範囲内でない場合には、図６Ａに示すように、第１アルカリ性液体バルブ９６が開かれて回収タンク２０にアルカリ性液体が供給される（アルカリ液体供給工程、第１ｐＨ調整液供給工程）。回収タンク２０内の汚染処理液にアルカリ性液体が混合され、汚染処理液のｐＨが第１範囲内に変更される。

回収タンク２０内の汚染処理液のｐＨが第１範囲に変更された場合には（ステップＳ１：ＹＥＳ）、図６Ｂに示すように、回収タンク２０から再生タンク３０に汚染処理液が送られる（第１回収処理液送出工程：ステップＳ３）。具体的には、第１ポンプ７０が作動している状態で、第１送液バルブ６２が開かれる。

アルカリ性液体の供給前に既に第１範囲内である場合には、ｐＨ調整液の供給は行われない。処理液再生処理の開始時において回収タンク２０内の汚染処理液のｐＨが第１範囲である場合には（ステップＳ１：ＹＥＳ）、第１ｐＨ調整液供給工程（ステップＳ２）を実行することなく、第１回収処理液送出工程（ステップＳ３）が実行される。すなわち、ｐＨの調整は、必ずしもｐＨを変更することを意味するものでなく、ｐＨの調整にはｐＨ調整液の供給を行わないことも含まれる。

回収タンク２０から再生タンク３０への汚染処理液の移動が少なくとも開始された後、再生タンク３０内の汚染処理液が循環流路３３を介して循環される（第１循環工程）。具体的には、第２ポンプ７１が作動している状態で、循環バルブ６３が開かれる。回収タンク２０内の汚染処理液が全て再生タンク３０に移動されると、第１ポンプ７０が停止され、かつ、第１送液バルブ６２が閉じられる。図６Ｃに示すように、第１循環工程が開始されることによって、汚染処理液がゲルフィルタ５０を通過し、汚染処理液から不純物Ｐが除去される（不純物除去工程）。汚染処理液から不純物Ｐが充分に除去されることによって、汚染処理液が再生（浄化）されて清浄処理液となる。

なお、循環工程が行われている間、循環する処理液は、循環ヒータ７５によって第１温度および第２温度の間の所望の温度に加熱されてもよい。

不純物Ｐが充分に除去されたか否かについては、再生タンク３０内の処理液の循環が一定時間（不純物除去時間）行われた後に、不純物量が第１基準不純物量よりも小さいか否かによって判断される。

具体的には、回収タンク２０から再生タンク３０への汚染処理液の移動が少なくとも開始された後、制御装置４は、不純物除去時間の経過を監視する（不純物除去時間監視工程：ステップＳ４）。制御装置４は、不純物除去時間監視ユニットとして機能する。不純物除去時間は、たとえば、循環バルブ６３が開かれてから経過した時間であり、たとえば、２時間～２４時間である。不純物除去時間が経過するまでの間（ステップＳ４：ＮＯ）、第１循環工程が継続される。

不純物除去時間が経過すると（ステップＳ４：ＹＥＳ）、不純物量測定ユニット１００によって汚染処理液中の不純物Ｐの量が測定される（第１不純物量測定工程）。制御装置４は、不純物量測定ユニット１００の測定結果に基づいて、再生タンク３０内の処理液中の不純物量が第１基準不純物量よりも小さいか否かを判定する（第１不純物量判定工程：ステップＳ５）。不純物除去時間の経過後に、再生タンク３０内の処理液中の不純物量が第１基準不純物量よりも小さい場合には（ステップＳ５：ＹＥＳ）、図６Ｄに示すように、再生タンク３０から供給タンク４０に処理液（清浄処理液）が送られて、処理液再生処理が終了する（第１再生処理液送出工程：ステップＳ６）。具体的には、第２ポンプ７１が作動している状態で、循環バルブ６３が閉じられ、その代わりに、第２送液バルブ６４が開かれる。

一方、不純物除去時間の経過後においても再生タンク３０内の処理液中の不純物量が第１基準不純物量以上である場合には（ステップＳ５：ＮＯ）、図６Ｅに示すように、再生タンク３０内の処理液が回収タンク２０に戻され（戻し工程：ステップＳ７）、図６Ａに示すように、処理液のｐＨが再度調整される（第１ｐＨ再調整工程）。

詳しくは、ステップＳ１～ステップＳ５が再び実行される。第１ｐＨ調整液供給ユニット９１から回収タンク２０にｐＨ調整液が供給されることによって（第１ｐＨ調整液再供給工程：ステップＳ２）回収タンク２０内の汚染処理液のｐＨが再調整されると（ステップＳ１：ＹＥＳ）、汚染処理液は、回収タンク２０から再生タンク３０に送出される（再送出工程：ステップＳ３）。再度の不純物量判定工程（ステップＳ５）において不純物量が第１基準不純物量よりも少なくなれば、再生タンク３０から供給タンク４０に処理液（清浄処理液）が送られて、処理液再生処理が終了する（第１再生処理液送出工程：ステップＳ６）。

＜第１実施形態に係るゲル再生処理＞
次に、基板処理装置１によって実行されるゲル再生処理について詳しく説明する。ゲル再生処理は、たとえば、ゲルフィルタ５０の使用開始後一定期間が経過したとき、あるいは、ゲルフィルタ５０の不純物除去能力が一定の基準以下に低下した場合に実行される。図７は、基板処理装置１によって実行されるゲル再生処理を説明するためのフローチャートである。図８Ａ～図８Ｈは、ゲル再生処理を説明するための模式図である。

まず、制御装置４は、回収タンク２０内の汚染処理液のｐＨが第２範囲であるか否かを判定する（第２ｐＨ判定工程：ステップＳ２１）。制御装置４は、第２ｐＨ判定ユニットとして機能する。回収タンク２０内の汚染処理液のｐＨが第２範囲ではない場合には（ステップＳ２１：ＮＯ）、第１ｐＨ調整液供給ユニット９１から回収タンク２０にｐＨ調整液が供給されることによって（第２ｐＨ調整液供給工程：ステップＳ２２）、回収タンク２０内の汚染処理液のｐＨが調整される（第２ｐＨ調整工程）。

具体的には、汚染処理液のｐＨの調整は、第１ｐＨ測定ユニット９２の測定結果に基づいて行われる（第２ｐＨ測定工程）。第１ｐＨ測定ユニット９２による測定結果（汚染処理液のｐＨ）が第２範囲内でない場合には、図８Ａに示すように、第１酸性液体バルブ９４が開かれて回収タンク２０に酸性液体が供給される（酸性液体供給工程、第２ｐＨ調整液供給工程）。回収タンク２０内の汚染処理液に酸性液体が混合され、汚染処理液のｐＨが第２範囲内に変更される。

回収タンク２０内の汚染処理液のｐＨが第２範囲に変更された場合には（ステップＳ２１：ＹＥＳ）、図８Ｂに示すように、回収タンク２０から再生タンク３０に汚染処理液が送られる（第２回収処理液送出工程：Ｓ２３）。具体的には、第１ポンプ７０が作動している状態で、第１送液バルブ６２が開かれる。

酸性液体の供給前に既に第２範囲内である場合には、ｐＨ調整液の供給は行われない。ゲル再生処理の開始時において回収タンク２０内の汚染処理液のｐＨが第２範囲である場合には（ステップＳ２１：ＹＥＳ）、第２ｐＨ調整液供給工程（ステップＳ２２）を実行することなく、第２回収処理液送出工程（ステップＳ２３）が実行される。すなわち、ｐＨの調整は、必ずしもｐＨを変更することを意味するものでなく、ｐＨの調整には、ｐＨ調整液の供給を行わないことも含まれる。

回収タンク２０から再生タンク３０への汚染処理液の移動が少なくとも開始された後、再生タンク３０内の汚染処理液が循環流路３３を介して循環される（第２循環工程）。具体的には、第２ポンプ７１が作動している状態で、循環バルブ６３が開かれる。回収タンク２０内の汚染処理液が全て再生タンク３０に移動されると、第１ポンプ７０が停止され、かつ、第１送液バルブ６２が閉じられる。図８Ｃに示すように、第２循環工程が開始されることによって、汚染処理液がゲルフィルタ５０を通過し、ゲルフィルタ５０から不純物Ｐが汚染処理液に放出される（不純物放出工程）。不純物Ｐが汚染処理液に放出されることによってゲルフィルタ５０の不純物除去能力が上昇する。

なお、第２循環工程が行われている間、循環ヒータ７５による加熱、および、循環ヒータ７５による加熱の停止が繰り返されてもよい。すなわち、第２循環工程が行われている間、汚染処理液の温度を第１温度および第２温度の間で加熱および冷却が繰り返されてもよい（温度調整工程）。循環ヒータ７５は、再生タンク３０内の処理液の温度を第１温度、第２温度、ならびに、第１温度および前記第２温度の間の任意の温度に調整可能な温度調整ユニットの一例である。

回収タンク２０から再生タンク３０への汚染処理液の移動が少なくとも開始された後、制御装置４は、不純物放出時間の経過を監視する（不純物放出時間監視工程：ステップＳ２４）。制御装置４は、不純物放出時間監視ユニットとして機能する。不純物放出時間は、たとえば、循環バルブ６３が開かれてから経過した時間であり、たとえば、２時間～２４時間である。不純物放出時間が経過するまでの間（ステップＳ２４：ＮＯ）、第２循環工程が継続される。

不純物放出時間が経過すると（ステップＳ２４：ＹＥＳ）、図８Ｄに示すように、第２廃棄バルブ６６が開かれて、汚染処理液が再生タンク３０から第２排出流路３６に流入する。これにより、再生タンク３０から汚染処理液が排出されて廃棄される（処理液排出工程、処理液廃棄工程：ステップＳ２５）。

ゲルフィルタ５０の不純物除去能力が充分に回復したか否かについては、再生タンク３０内のリンス液の循環が一定時間（洗浄時間）行われた後に、不純物量が第２基準不純物量より小さいか否かによって判断される。

具体的には、第２排出流路３６を介して、汚染処理液が再生タンク３０および循環流路３３から排出された後、すなわち、処理液排出工程の後、図８Ｅに示すように、再生タンク３０にリンス液が供給される（リンス液供給工程：ステップＳ２６）。具体的には、リンス液バルブ１２２が開かれて、リンス液流路１２１から再生タンク３０にリンス液が供給される。

再生タンク３０へのリンス液の供給が少なくとも開始された後、再生タンク３０内のリンス液が循環流路３３を介して循環される（リンス液循環工程）。具体的には、第２ポンプ７１が作動している状態で、循環バルブ６３が開かれる。これにより、図８Ｆに示すように、リンス液がゲルフィルタ５０を通過し、ゲルフィルタ５０が洗浄される。詳しくは、ゲルフィルタ５０に付着している汚染処理液がリンス液によって洗い流される。

制御装置４は、洗浄時間の経過を監視する（洗浄時間監視工程：ステップＳ２７）。制御装置４は、洗浄時間監視ユニットとして機能する。洗浄時間は、たとえば、循環バルブ６３が開かれてから経過した時間であり、たとえば、１５分間～２時間である。洗浄時間が経過するまでの間（ステップＳ２７：ＮＯ）、リンス液循環工程が継続される。

洗浄時間が経過すると（ステップＳ２７：ＹＥＳ）、不純物量測定ユニット１００によって汚染処理液中の不純物Ｐの量が測定される（第２不純物量測定工程、リンス不純物量測定工程）。制御装置４は、不純物量測定ユニット１００の測定結果に基づいて、再生タンク３０内の処理液中の不純物量が第２基準不純物量よりも小さいか否かを判定する（第２不純物量判定工程：ステップＳ２８）。洗浄時間の経過後に、再生タンク３０内の処理液中の不純物量が第２基準不純物量よりも小さい場合には（ステップＳ２８：ＹＥＳ）、図８Ｇに示すように、リンス液が、第２排出流路３６を介して再生タンク３０から排出されて、ゲル再生処理が終了される（リンス液排出工程、リンス液廃棄工程：ステップＳ２９）。具体的には、第２ポンプ７１が停止され循環バルブ６３が閉じられ、その代わりに、第２廃棄バルブ６６が開かれる。

一方、洗浄時間の経過後に再生タンク３０内のリンス液中の不純物量が第２基準不純物量以上である場合には（ステップＳ２８：ＮＯ）、図８Ｈに示すように、再生タンク３０内のリンス液が回収タンク２０に送られ（リンス送液工程：ステップＳ３０）、回収タンク２０内のリンス液のｐＨが調整される（リンス液ｐＨ調整工程）。具体的には、リンス液のｐＨが第２範囲であるか否かが判定される（リンス液ｐＨ判定工程：ステップＳ２１）。回収タンク２０内のリンス液のｐＨが第２範囲ではない場合には（ステップＳ２１：ＮＯ）、第１ｐＨ調整液供給ユニット９１から回収タンク２０にｐＨ調整液が供給される（ｐＨ調整液供給工程：ステップＳ２２）。

リンス液のｐＨの調整は、第１ｐＨ測定ユニット９２の測定結果に基づいて行われる（リンス液ｐＨ測定工程）。第１ｐＨ測定ユニット９２が検出したｐＨが第２範囲内でない場合には、第１酸性液体バルブ９４が開かれて回収タンク２０に酸性液体が供給される（酸性液体供給工程、第２ｐＨ調整液供給工程）。回収タンク２０内のリンス液に酸性液体が混合され、リンス液のｐＨが第２範囲内に変更される。

その後、ステップＳ２４以降の各工程が実行される。すなわち、ｐＨが第２範囲に調整されたリンス液を、回収タンク２０から再生タンク３０へ送り、当該リンス液をゲルフィルタ５０に通過させることによって、ゲルフィルタ５０からリンス液へ不純物Ｐを放出させてゲルフィルタ５０の不純物除去能力をさらに回復させる。さらにその後、再生タンク３０にリンス液が供給されてゲルフィルタ５０が再度洗浄される（リンス液供給工程：ステップＳ２６）。

第１実施形態によれば、基板Ｗの処理に用いられた処理液（汚染処理液）が回収タンク２０に回収され、回収タンク２０から再生タンク３０に汚染処理液が送られる。

ゲルフィルタ５０は、再生タンク３０内の液体のｐＨの変化に応じて、再生タンク３０内の液体から不純物Ｐを捕集したり、再生タンク３０内の液体に不純物Ｐを放出したりできる。そのため、ｐＨを変化させれば、ゲルフィルタ５０に汚染処理液中の不純物Ｐを捕集させて基板Ｗの処理に再度利用できるように処理液を再生させたり、ゲルフィルタ５０から汚染処理液に不純物Ｐを放出させてゲルフィルタ５０を再生させたりすることができる。したがって、ゲルフィルタ５０の不純物除去能力が低下した場合であっても、ゲルフィルタ５０を交換することなく不純物除去能力を回復させることができる。

また第１実施形態によれば、ゲルフィルタ５０は、再生タンク３０内の液体のｐＨが第１範囲であるときに当該液体から不純物Ｐを捕集し、かつ、再生タンク３０内の液体のｐＨが第２範囲であるときに当該液体に不純物Ｐを放出する性質を有する。

そのため、ｐＨが第１範囲に調整された汚染処理液を回収タンク２０から再生タンク３０に送ることで、ゲルフィルタに汚染処理液中の不純物を捕集させて、基板Ｗの処理に再度利用できるように処理液を再生させることができる。また、ｐＨが第２範囲に調整された汚染処理液を回収タンク２０から再生タンク３０に送ることで、ゲルフィルタ５０から汚染処理液に不純物Ｐを放出させて、ゲルフィルタ５０を再生させることができる。

また第１実施形態によれば、第１温度と第２温度との間で加熱および冷却を繰り返すように、循環流路３３を通過する汚染処理液の温度を調整することで、ゲルフィルタ５０からの不純物Ｐの放出を促進することができる。これにより、ゲルフィルタ５０の不純物除去能力を速やかに回復させることができる。

また第１実施形態によれば、ゲルフィルタ５０によって不純物Ｐが充分に除去されない場合には、汚染処理液のｐＨが所望の値になっていないことがその原因として考えられる。そのため、戻し流路３５を介して再生タンク３０内の汚染処理液を回収タンク２０に戻して、汚染処理液のｐＨの再調整を行った後、汚染処理液を再生タンク３０に再度送ることができる。

また第１実施形態によれば、清浄処理液を、供給タンク４０に送ることで、処理ユニット２に供給するための清浄処理液を供給タンク４０に貯留することができる。そのため、ゲルフィルタ５０の再生が必要になる前に処理ユニット２に供給する清浄処理液を準備しておくことができる。

また第１実施形態によれば、循環流路３３によって再生タンク３０内の汚染処理液が循環される。そのため、再生タンク３０内に収容されているゲルフィルタ５０に通過する汚染処理液の流れを形成することができる。そのため、ゲルフィルタ５０が、汚染処理液中の不純物Ｐを効率的に捕集したり汚染処理液に不純物Ｐを効率的に放出したりすることができる。

また第１実施形態によれば、不純物量測定ユニット１００を用いて再生タンク３０内の不純物量を測定できる。そのため、たとえば、不純物量が比較的少ない場合には、ゲルフィルタ５０が充分に高い不純物除去能力を有していることと判定できる。一方、不純物量が比較的多い場合には、ゲルフィルタ５０の不純物除去能力が低下しているため、ゲルフィルタ５０の再生が必要であると判定できる。

また第１実施形態によれば、再生タンク３０にリンス液を供給してゲルフィルタ５０を洗浄することで、第２排出流路３６を介して汚染処理液を廃棄した後においてもゲルフィルタ５０に付着する汚染処理液を除去することができる。

また第１実施形態によれば、リンス液供給工程において不純物量測定ユニット１００を用いれば、リンス液がゲルフィルタ５０を洗浄することでリンス液中に混入した不純物Ｐの量を測定することができる。リンス液中の不純物量が比較的多い場合には、ゲルフィルタ５０から不純物が充分に除去できていないと判定し、リンス液に混入している不純物量が比較的少ない場合には、ゲルフィルタから不純物を充分に除去できていると判定することができる。

具体的には、不純物量が第２基準不純物量よりも少ない場合には、リンス液排出工程が実行され、不純物量が第２基準不純物量以上である場合には、リンス液ｐＨ調整工程が実行されるように、リンス液排出工程およびリンス液ｐＨ調整工程が選択的に実行される。そのため、リンス液の不純物量が第２基準不純物量よりも小さい場合には、リンス液を再生タンク３０から排出し、ゲルフィルタ５０の洗浄を完了することができる。一方、リンス液の不純物量が第２基準不純物量以上である場合には、ゲルフィルタ５０から不純物Ｐが充分に除去できていないと判定し、リンス液のｐＨを調整することで、リンス液の役割を、汚染処理液の排出後においてもゲルフィルタ５０に付着する汚染処理液を除去する役割から、ゲルフィルタ５０から不純物Ｐを放出させる役割に切り替えることができる。これにより、ゲルフィルタ５０から不純物Ｐを再度放出させてゲルフィルタの不純物除去能力の回復を図ることができる。

＜第２実施形態に係る基板処理装置の構成＞
図９は、この発明の第２実施形態に係る基板処理装置１Ａの構成例を示す模式図である。
図９において、前述の図１～図１０に示された構成と同等の構成については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。後述する図１０～図１２についても同様である。

第２実施形態に係る基板処理装置１Ａが第１実施形態に係る基板処理装置１と主に異なる点は、処理液供給装置３が、再生タンク３０にｐＨ調整液を供給する第２ｐＨ調整ユニット１３０をさらに含む点である。

第２ｐＨ調整ユニット１３０は、再生タンク３０にｐＨ調整液を供給する第２ｐＨ調整液供給ユニット１３１と、再生タンク３０内の液体のｐＨを測定する第２ｐＨ測定ユニット１３２とを含む。第２ｐＨ調整液供給ユニット１３１は、再生タンク３０にｐＨ調整液として酸性液体を供給する第２酸性液体流路１３３と、第２酸性液体流路１３３を開閉する第２酸性液体バルブ１３４と、再生タンク３０にｐＨ調整液としてアルカリ性液体を供給する第２アルカリ性液体流路１３５と、第２アルカリ性液体流路１３５を開閉する第２アルカリ性液体バルブ１３６とを含む。第２ｐＨ測定ユニット１３２は、たとえば、ｐＨメータである。

この実施形態では、第２酸性液体流路１３３の上流端は、第１酸性液体流路９３に接続されており、第２酸性液体流路１３３の下流端は再生タンク３０に接続されている。この実施形態では、第２アルカリ性液体流路１３５の上流端は、第１アルカリ性液体流路９５に接続されており、第２アルカリ性液体流路１３５の下流端は再生タンク３０に接続されている。

図９とは異なり、第２酸性液体流路１３３の上流端は、第１酸性液体流路９３に分岐接続されておらず、酸性液体供給源（図示せず）に接続されていてもよい。同様に、第２アルカリ性液体流路１３５の上流端は、第１アルカリ性液体流路９５に分岐接続されておらず、アルカリ性液体供給源（図示せず）に接続されていてもよい。

＜第２実施形態に係る処理液再生処理＞
次に、基板処理装置１Ａによって実行される処理液再生処理について詳しく説明する。図１０は、第２実施形態に係る処理液再生処理を説明するためのフローチャートである。図１１は、第２実施形態に係る処理液再生処理を説明するための模式図である。

第２実施形態に係る処理液再生処理が第１実施形態に係る処理液再生処理と主に異なる点は、処理液のｐＨの再調整が、再生タンク３０内で行われる点である。

詳しくは、第１不純物量判定工程（ステップＳ５）において、不純物除去時間の経過後においても再生タンク３０内の処理液中の不純物量が第１基準不純物量以上である場合には（ステップＳ５：ＮＯ）、再生タンク３０内の処理液を回収タンク２０に戻すことなく、再生タンク３０内の汚染処理液のｐＨが第１範囲であるか否かを判定する（第１ｐＨ再判定工程：ステップＳ８）。再生タンク３０内の処理液のｐＨが第１範囲ではない場合には（ステップＳ８：ＮＯ）、第２ｐＨ調整液供給ユニット１３１から回収タンク２０にｐＨ調整液が供給されることによって（第１ｐＨ調整液再供給工程：ステップＳ９）、第２ｐＨ調整ユニット１３０によって再生タンク３０内の汚染処理液のｐＨが調整される（第１ｐＨ再調整工程）。

具体的には、汚染処理液のｐＨの調整は、第２ｐＨ測定ユニット１３２の測定結果に基づいて行われる（第１ｐＨ再測定工程）。第２ｐＨ測定ユニット１３２が検出したｐＨが第１範囲内でない場合には、図１１に示すように、第２アルカリ性液体バルブ１３６が開かれて再生タンク３０にアルカリ性液体が供給される（アルカリ性液体供給工程、第１ｐＨ調整液供給工程）。再生タンク３０内の汚染処理液にアルカリ性液体が混合され、汚染処理液のｐＨが第１範囲内に変更される。

再生タンク３０内の汚染処理液のｐＨが第１範囲に調整されると（ステップＳ８：ＹＥＳ）、ステップＳ４～ステップＳ５が再び実行される。再度の不純物量判定工程（ステップＳ５）において不純物量が第１基準不純物量よりも少なくなれば、再生タンク３０から供給タンク４０に処理液（清浄処理液）が送られて、処理液再生処理が終了する（第１再生処理液送出工程：ステップＳ６）。

＜第２実施形態に係るゲル再生処理＞
次に、基板処理装置１Ａによって実行されるゲル再生処理について詳しく説明する。図１２は、第２実施形態に係るゲル再生処理を説明するためのフローチャートである。図１３は、第２実施形態に係るゲル再生処理を説明するための模式図である。

第２実施形態に係るゲル再生処理が第１実施形態に係るゲル再生処理と主に異なる点は、リンス液のｐＨの調整が、再生タンク３０内で行われる点である。

詳しくは、洗浄時間の経過後に再生タンク３０内のリンス液中の不純物量が第２基準不純物量以上である場合には（ステップＳ２８：ＮＯ）、再生タンク３０内のリンス液を回収タンク２０に送ることなく、再生タンク３０内のリンス液のｐＨが調整される（リンス液ｐＨ調整工程）。具体的には、再生タンク３０内のリンス液のｐＨが第２範囲であるか否かを判定する（リンス液ｐＨ判定工程：ステップＳ３１）。再生タンク３０内の処リンス液のｐＨが第２範囲ではない場合には（ステップＳ３１：ＮＯ）、第２ｐＨ調整液供給ユニット１３１から再生タンク３０にｐＨ調整液が供給される。

リンス液のｐＨの調整は、第２ｐＨ測定ユニット１３２の測定結果に基づいて行われる（リンス液ｐＨ測定工程）。第２ｐＨ測定ユニット１３２が検出したｐＨが第２範囲内でない場合には、第２酸性液体バルブ１３４が開かれて再生タンク３０に酸性液体が供給される（酸性液体供給工程、第２ｐＨ調整液供給工程）。再生タンク３０内のリンス液に酸性液体が混合され、リンス液のｐＨが第２範囲内に変更される。

再生タンク３０内のリンス液のｐＨが第２範囲に調整されると（ステップＳ３１：ＹＥＳ）、ステップＳ２４以降の各工程が実行される。すなわち、ｐＨが第２範囲に調整されたリンス液へ不純物Ｐを放出させてゲルフィルタ５０の不純物除去能力をさらに回復させる。さらにその後、再生タンク３０にリンス液が供給されてゲルフィルタ５０が再度洗浄される（リンス液供給工程：ステップＳ２６）。

第２実施形態によれば、第１実施形態と同様の効果を奏する。

第２実施形態によれば、汚染処理液から不純物Ｐが充分に除去できない場合に、汚染処理液を回収タンク２０に戻すことなく、再生タンク３０内で汚染処理液のｐＨを再度調整することができる。そのため、汚染処理液のｐＨが所望の値になっていないために、ゲルフィルタ５０によって不純物Ｐが充分に除去されない場合であっても、再生タンク３０で汚染処理液のｐＨを再調整することで、ゲルフィルタ５０によって汚染処理液から不純物Ｐを除去することができる。

また、リンス液による洗浄が不充分である場合にも、リンス液を回収タンク２０に送ることなく、再生タンク３０内でリンス液のｐＨを調整することができる。そのため、再生タンク３０内でリンス液のｐＨを調整することで、ゲルフィルタ５０から不純物Ｐをさらに放出させることができる。

図１４は、第２実施形態に係る処理液供給装置３の第１変形例を示す模式図である。図１５は、第２実施形態に係る処理液供給装置３の第２変形例を示す模式図である。

図１４に示すように、処理液供給装置３は、供給タンク４０に新たな処理液（新液）を供給する新液供給ユニット１４０を含んでいてもよい。新液供給ユニット１４０は、供給タンク４０に新液を供給する新液流路１４１と、新液流路１４１を開閉する新液バルブ１４２とを含む。新液流路１４１の上流端は新液供給源（図示せず）に接続されており、新液流路１４１の下流端は供給タンク４０に接続されている。

図１５に示すように、処理液供給装置３は、複数（図１５では２つ）の再生タンク３０と複数（図１５では２つ）のゲルフィルタ５０とを含んでいてもよい。以下では、２つの再生タンク３０のうちの一方に符号「３０Ａ」を付し、２つの再生タンク３０のうちの他方に符号「３０Ｂ」を付す。２つのゲルフィルタ５０のうちの一方に符号「５０Ａ」を付し、２つのゲルフィルタ５０のうちの他方に符号「５０Ｂ」を付す。

処理液供給装置３は、再生タンク３０Ａに関連して、第１送液流路２３Ａ、循環流路３３Ａ、第２送液流路３４Ａ、戻し流路３５Ａ、第２排出流路３６Ａ、第１送液バルブ６２Ａ、第１ポンプ７０Ａ、第２ポンプ７１Ａ、循環バルブ６３Ａ、循環ヒータ７５Ａ、第２送液バルブ６４Ａ、戻しバルブ６５Ａ、および、第２廃棄バルブ６６Ａを含む。再生タンク３０Ａに関連する上記各部材の構成は、図９に示す第１送液流路２３、循環流路３３、第２送液流路３４、戻し流路３５、第２排出流路３６、第１送液バルブ６２、第１ポンプ７０、第２ポンプ７１、循環バルブ６３、循環ヒータ７５、第２送液バルブ６４、戻しバルブ６５、および、第２廃棄バルブ６６と同様である。

処理液供給装置３は、再生タンク３０Ｂに関連して、第１送液流路２３Ｂ、循環流路３３Ｂ、第２送液流路３４Ｂ、戻し流路３５Ｂ、第２排出流路３６Ｂ、第１送液バルブ６２Ｂ、第２ポンプ７１Ｂ、循環バルブ６３Ｂ、循環ヒータ７５Ｂ、第２送液バルブ６４Ｂ、戻しバルブ６５Ｂ、および、第２廃棄バルブ６６Ｂとを含む。

第１送液流路２３Ｂは、回収タンク２０の処理液を再生タンク３０Ｂに送る。第１送液流路２３Ｂの上流端は、第１送液流路２３Ａにおいて、第１ポンプ７０Ａよりも下流側でかつ、第１送液バルブ６２Ａよりも上流側に分岐接続されている。第１送液流路２３Ｂの下流端は、再生タンク３０Ｂに接続されている。

循環流路３３Ｂは、再生タンク３０Ｂから循環流路３３Ｂに処理液が流入し、循環流路３３Ｂから再生タンク３０Ｂに処理液を戻すことによって、再生タンク３０Ｂ内の処理液を循環させる。循環流路３３Ｂの上流端および下流端は、再生タンク３０Ｂに接続されている。詳しくは、循環流路３３Ｂの上流端は、再生タンク３０Ｂの内部空間３１の第１収容部３１ａに接続されており、循環流路３３Ｂの下流端は、内部空間３１の第２収容部３１ｂに接続されている。循環流路３３Ｂおよび再生タンク３０Ｂは、回収タンク２０から処理液が供給される再生タンクユニットを構成している。

第２送液流路３４Ｂは、再生タンク３０Ｂ内の処理液を供給タンク４０に送る。第２送液流路３４の上流端は、循環流路３３Ｂに分岐接続されている。第２送液流路３４Ｂの下流端は、第２送液流路３４Ａにおいて第２送液バルブ６４Ａよりも下流側に分岐接続されている。

戻し流路３５Ｂは、再生タンク３０Ｂから回収タンク２０に処理液を戻す。この実施形態では、戻し流路３５Ｂの上流端は、第２送液流路３４Ａに分岐接続されており、戻し流路３５Ｂの下流端は、戻し流路３５Ａにおいて戻しバルブ６５Ａよりも下流側に分岐接続されている。

第２排出流路３６Ｂは、再生タンク３０Ｂから処理液を排出して廃棄する。詳しくは、第２排出流路３６Ｂは、廃棄設備（図示せず）に処理液を送る。第２排出流路３６Ｂの上流端は、再生タンク３０Ｂに接続されており、第２排出流路３６Ｂの下流端は、廃棄設備（図示せず）に接続されている。

第１送液バルブ６２Ｂは、第１送液流路２３Ｂに設けられている。第２ポンプ７１Ｂは、循環流路３３Ｂにおいて第２送液流路３４Ｂの接続位置よりも上流側に配置されている。循環バルブ６３Ｂは、循環流路３３Ｂを開閉する。循環バルブ６３Ｂは、循環流路３３Ｂにおける第２送液流路３４Ｂの接続位置、および、第２ポンプ７１Ｂよりも下流側に配置されている。循環ヒータ７５Ｂは、循環流路３３Ｂに設定される再生加熱位置を加熱する。再生加熱位置は、循環流路３３Ｂにおいて循環バルブ６３Ｂよりも下流側に位置する。

第２送液バルブ６４Ｂは、第２送液流路３４Ｂにおいて戻し流路３５Ｂの接続位置よりも下流側に設けられている。戻しバルブ６５Ｂは、戻し流路３５Ｂに設けられている。第２廃棄バルブ６６Ｂは、第２排出流路３６Ｂに設けられている。

処理液供給装置３は、再生タンク３０Ａに関連して、不純物量測定ユニット１００Ａ、リンス液供給ユニット１２０Ａ、および、第２ｐＨ調整ユニット１３０Ａを含む。再生タンク３０Ａに関連する上記各部材の構成は、図１１に示す不純物量測定ユニット１００、リンス液供給ユニット１２０、および、第２ｐＨ調整ユニット１３０と同様である。処理液供給装置３は、再生タンク３０Ｂに関連して、再生タンク３０Ｂ内の処理液の不純物量を測定する不純物量測定ユニット１００Ｂと、再生タンク３０Ｂにリンス液を供給するリンス液供給ユニット１２０Ｂと、再生タンク３０にｐＨ調整液を供給する第２ｐＨ調整ユニット１３０Ｂとを含む。再生タンク３０Ｂに関連する上記各部材の構成は、図１１に示す不純物量測定ユニット１００、リンス液供給ユニット１２０、および、第２ｐＨ調整ユニット１３０と同様である。

この変形例によれば、複数のゲルフィルタ５０Ａ，５０Ｂによって、それぞれ、対応する再生タンク３０Ａ，３０Ｂ内の汚染処理液のｐＨの変化に応じて不純物Ｐの捕集および放出が行われる。そのため、一部のゲルフィルタ５０Ａの再生を行うためにゲルフィルタ５０Ａから汚染処理液に不純物Ｐを放出させている間に、残りのゲルフィルタ５０Ｂに汚染処理液中の不純物Ｐを捕集させて、汚染処理液を清浄化することができる。

＜除去能力評価実験＞
次に、ｐＨ応答性ゲルの金属除去能力を評価するための除去能力評価実験について説明する。図１６Ａは、除去能力評価実験の手順を説明するための模式図である。除去能力評価実験は、以下の手順（ａ）～（ｄ）で行われた。

（ａ）金属溶液が溜められた容器２０１を水槽２００中の水に浸し、容器２０１にｐＨ応答性ゲル２０２を投入する。金属溶液のｐＨを２とした容器２０１と金属溶液のｐＨを７とした容器２０１とを準備した。溶液中の金属（不純物Ｐ）をチタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）とした、各ｐＨの金属溶液を準備した。

（ｂ）ｐＨ応答性ゲル２０２が投入された容器２０１を所定の温度で２４時間放置した。詳しくは、２５℃で２４時間放置したサンプルＳａと、５５℃で２４時間放置したサンプルＳｂと、５５℃および２５℃の間で温度変化させたサンプルＳｃとを準備した。サンプルＳｃは、２５℃で１２時間放置した後、２５℃から５５℃への昇温および５５℃から２５℃への降温を３回繰り返した。図１６の（ｂ）には、サンプルＳｃの準備の様子を示している。

（ｃ）金属溶液を容器２０１から取り出し、シリンジ２０３およびフィルタ２０４を用いて金属溶液からｐＨ応答性ゲル２０２を除去した。なお、フィルタ２０４のポア径は、０．５μｍである。

（ｄ）誘導結合プラズマ質量分析法 （ＩＣＰ－ＭＳ：Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry）を用いてｐＨ応答性ゲル２０２を投入する前の金属溶液中の金属量と、手順（ａ）～（ｃ）を行った後の金属溶液中の金属量とを比較することで金属除去効率（ＭＲＥ：Metal Removal Efficiency）を算出した。

図１６Ｂおよび図１６Ｃは、除去能力評価実験の結果を示すグラフである。図１６Ｂは、金属溶液のｐＨが２である場合の結果を示すグラフであり、図１６Ｃは、金属溶液のｐＨが７である場合の結果を示すグラフである。

図１６Ｂに示すように、金属溶液のｐＨが２である場合には、温度条件と金属との全ての組み合わせにおいて金属除去効率が１０％～３０％程度であった。一方、図１６Ｃに示すように、金属溶液のｐＨが７である場合には、温度条件と金属との全ての組み合わせにおいて金属除去効率が９５％～９９％程度であった。この結果から、ｐＨの変化によって、金属除去効率が大きく変化することが分かった。すなわち、ｐＨ応答性ゲル２０２のｐＨ応答性が実証された。また、ｐＨ７の条件において、温度に関係なく、金属除去効率が同程度であったことからも、金属除去効率は、温度変化よりもｐＨ変化の影響を受けやすいことが推察できる。

＜再生評価実験＞
次に、ｐＨ応答性ゲルの金属除去能力を再生するための再生評価実験について説明する。図１７Ａは、再生評価実験の手順を説明するための模式図である。除去能力評価実験は、以下の手順（ｅ）～（ｉ）で行われた。

（ｅ）除去能力評価実験においてシリンジ２０３およびフィルタ２０４（図１６Ａを参照）を用いて金属溶液から分離したｐＨ応答性ゲル２０２を容器２１０に投入した。

（ｆ）容器２１０にＤＩＷを投入し、その後、容器２１０中の溶液に硝酸を添加してｐＨを１にした。

（ｇ）容器２１０を所定の温度で２４時間放置した。詳しくは、２５℃で２４時間放置したサンプルＳｄと、５５℃で２４時間放置したサンプルＳｅと、５５℃および２５℃の間で温度変化させたサンプルＳｆとを準備した。サンプルＳｆは、２５℃で１２時間放置した後、２５℃から５５℃への昇温および５５℃から２５℃への降温を３回繰り返した。

（ｈ）ｐＨが１である溶液を容器２１０から取り出し、シリンジ２１１およびフィルタ２１２を用いて当該溶液からｐＨ応答性ゲル２０２を除去した。なお、フィルタ２１２のポア径は、０．５μｍである。

（ｉ）ＩＣＰ－ＭＳを用いて、上記手順（ｅ）～（ｈ）を行った後の溶液中の金属量と、除去能力評価実験の手順（ａ）～（ｃ）（図１６Ａを参照）を行った後の金属溶液中の金属量とを比較することで脱着効率（放出効率）を算出した。

図１７Ｂは、再生評価実験の結果を示すグラフである。図１７Ｂに示すように、全ての温度条件と金属との組み合わせにおいて、ｐＨ応答性ゲルから金属が脱着（放出）されることが分かった。また、２５℃で２４時間放置したサンプルＳｄよりも、５５℃で２４時間放置したサンプルＳｅの方が、脱着効率が高かったため、ｐＨ応答性ゲルからの金属の脱着（放出）は温度依存性を有することが推察できる。さらに、５５℃および２５℃の間で温度変化させたサンプルＳｆの脱着効率は、いずれの金属を用いた場合であっても、約６０％を超えた。このことから、昇温および降温を繰り返すことで、ｐＨ応答性ゲルからの金属の脱着が促進されることが推察できる。

＜その他の実施形態＞
この発明は、以上に説明した実施形態に限定されるものではなく、さらに他の形態で実施することができる。

（１）たとえば、上述の各実施形態とは異なり、ｐＨ調整液としてのアルカリ性液体の供給によって、汚染処理液またはリンス液のｐＨが第２範囲に調整され、ｐＨ調整液としての酸性液体の供給によって、汚染処理液またはリンス液のｐＨが第１範囲に調整されてもよい。

（２）上述の各実施形態では、再生タンクユニットが、再生タンク３０および循環流路３３を含んでいる。しかしながら、循環流路３３が設けられておらず、再生タンク３０内の汚染処理液およびリンス液が循環されなれないように構成されていてもよい。

この場合、再生タンクユニット内の液体を加熱する温度調整ユニットとして、再生タンク３０の側壁および底壁に外側から取り付けられたヒータが設けられていてもよい。再生タンクユニット内の液体を加熱する温度調整ユニットは、再生タンク３０内のエッチング液に浸漬されたヒータであってもよい。

上述したように、再生タンク３０内の汚染処理液を循環流路３３で循環させることで、不純物Ｐを効率良く除去できるが、循環させなくてもゲルフィルタ５０に不純物Ｐを捕集させることも可能である。同様に、再生タンク３０内のリンス液を循環流路３３で循環させることで、ゲルフィルタ５０から不純物Ｐを効率良く放出させることできるが、循環させなくてもゲルフィルタ５０から不純物Ｐを放出させることも可能である。そのため、処理液再生処理およびゲル再生処理において、循環工程が必ずしも実行される必要はない。第１回収処理液送出工程および第２回収処理液送出工程の少なくとも一方の実行中に、循環流路３３を介して再生タンク３０内の汚染処理液が循環されてもよいし、第１回収処理液送出工程および第２回収処理液送出工程のいずれにおいても汚染処理液が循環されなくてもよい。

（４）処理液供給装置３には、循環ヒータ７５に加えて、再生タンクユニット内の処理液を冷却する循環クーラが設けられており、循環ヒータ７５および循環クーラによって、温度調整ユニットが構成されていてもよい。

（５）第２実施形態に係る基板処理装置１Ａを用いて、図５に示す処理液再生処理および図７に示すゲル再生処理を実行することも可能である。

（６）不純物量測定ユニット１００が設けられていなくてもよい。不純物除去時間の監視によってゲルフィルタ５０によって不純物Ｐが充分に除去されたか否かを判定してもよい。同様に、洗浄時間の監視によってゲルフィルタ５０から不純物Ｐが充分に放出されたか否かを判定してもよい。すなわち、第１不純物量判定工程（図５および図１０に示すステップＳ５）および第２不純物量判定工程（図７および図１２に示すステップＳ２８）を省略することが可能である。

第１不純物量判定工程（ステップＳ５）を省略する場合、不純物時間監視工程（ステップＳ４）において、不純物除去時間が経過すると（ステップＳ４：ＹＥＳ）、再生タンク３０から供給タンク４０に処理液（清浄処理液）が送られて、処理液再生処理が終了する（第１再生処理液送出工程：ステップＳ６）。

第２不純物量判定工程（ステップＳ２８）を省略する場合、洗浄時間監視工程（ステップＳ２７）において、洗浄時間が経過すると（ステップＳ２７：ＹＥＳ）、リンス液が、第２排出流路３６を介して、再生タンク３０から排出されて、ゲル再生処理が終了される（リンス液廃棄工程、リンス液排出工程：ステップＳ２９）。

（７）ゲルフィルタ５０は、上述の各実施形態に開示されている構成に限られない。再生タンク３０内の処理液から不純物Ｐを捕集したり再生タンク３０内の処理液に不純物Ｐを放出したりできればよく、必ずしも再生タンク３０の内部空間３１を仕切っている必要はない。ゲルフィルタ５０は、たとえば、再生タンク３０の底部に配置されていてもよいし、循環流路３３に設けられていてもよい。

（８）戻し流路３５の上流端は、再生タンク３０に直接接続されていてもよい。戻し流路３５の下流端は、回収タンク２０に直接接続されてもよい。第２送液流路３４の上流端は、再生タンク３０に直接接続されていてもよい。

また、上述の各実施形態において、配管、ポンプ、バルブ、アクチュエータ等についての図示を一部省略しているが、これらの部材が存在しないことを意味するものではなく、実際にはこれらの部材は適切な位置に設けられている。たとえば、処理液ノズル１１から吐出される処理液の流量を調整する流量調整バルブ（図示せず）が供給流路４１に設けられていてもよい。

１ ：基板処理装置
１Ａ ：基板処理装置
２ ：処理ユニット
２０ ：回収タンク
３０ ：再生タンク（再生タンクユニット）
３０Ａ ：再生タンク（再生タンクユニット）
３０Ｂ ：再生タンク（再生タンクユニット）
３３ ：循環流路（再生タンクユニット）
３３Ａ ：循環流路（再生タンクユニット）
３３Ｂ ：循環流路（再生タンクユニット）
３５ ：戻し流路
３５Ａ ：戻し流路
３５Ｂ ：戻し流路
３６ ：第２排出流路
３６Ａ ：第２排出流路
３６Ｂ ：第２排出流路
４０ ：供給タンク
７５ ：循環ヒータ（温度調整ユニット）
７５Ａ ：循環ヒータ（温度調整ユニット）
７５Ｂ ：循環ヒータ（温度調整ユニット）
９０ ：第１ｐＨ調整ユニット
１００ ：不純物量測定ユニット
１００Ａ ：不純物量測定ユニット
１００Ｂ ：不純物量測定ユニット
１２０ ：リンス液供給ユニット
１２０Ａ ：リンス液供給ユニット
１２０Ｂ ：リンス液供給ユニット
１３０ ：第２ｐＨ調整ユニット
１３０Ａ ：第２ｐＨ調整ユニット
１３０Ｂ ：第２ｐＨ調整ユニット
Ｐ ：不純物
Ｗ ：基板

Claims (18)

1. 処理液で基板を処理する処理ユニットと、
   前記処理ユニットから処理液を回収する回収タンクと、
   前記回収タンク内の処理液のｐＨを調整する第１ｐＨ調整ユニットと、
   前記回収タンクから処理液が送られる再生タンクユニットと、
   前記再生タンクユニット内の処理液のｐＨの変化に応じて、前記再生タンクユニット内の処理液から不純物を捕集したり、前記再生タンクユニット内の処理液に不純物を放出したりするゲルフィルタとを備える、基板処理装置。
2. 前記ゲルフィルタは、第１温度と、前記第１温度よりも高温の第２温度との間で加熱および冷却を繰り返すことで不純物の放出する性質を有しており、
   前記再生タンクユニット内の処理液の温度を前記第１温度および前記第２温度に調整可能な温度調整ユニットをさらに備える、請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記再生タンクユニットから処理液を排出する排出流路と、
   前記ゲルフィルタを洗浄するリンス液を前記再生タンクユニットに供給するリンス液供給ユニットとをさらに備える、請求項１または２に記載の基板処理装置。
4. 前記再生タンクユニット内の処理液を前記回収タンクに戻す戻し流路をさらに備える、請求項１～３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
5. 前記再生タンクユニット内の処理液のｐＨを調整する第２ｐＨ調整ユニットをさらに備える、請求項１～４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
6. 前記再生タンクユニットから処理液が送られ、前記処理ユニットに処理液を供給する供給タンクをさらに備える、請求項１～５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
7. 前記再生タンクユニットが、前記ゲルフィルタが収容され処理液を貯留する再生タンクと、前記再生タンク内の処理液を循環させる循環流路とを含む、請求項１～６のいずれか一項に記載の基板処理装置。
8. 前記再生タンクユニット内の処理液中の不純物量を測定する不純物量測定ユニットをさらに備える、請求項１～７のいずれか一項に記載の基板処理装置。
9. 前記再生タンクユニットは、複数設けられており、
   前記ゲルフィルタは、複数設けられており、
   複数の前記ゲルフィルタは、それぞれ、対応する前記再生タンクユニット内の処理液のｐＨの変化に応じて、対応する前記再生タンクユニット内の処理液から不純物を捕集したり、対応する前記再生タンクユニット内の処理液に不純物を放出したりする、請求項１～８のいずれか一項に記載の基板処理装置。
10. 前記ゲルフィルタは、前記再生タンクユニット内の処理液のｐＨが第１範囲であるときに当該処理液から不純物を捕集し、かつ、前記再生タンクユニット内の処理液のｐＨが第２範囲であるときに当該処理液に不純物を放出する性質を有する、請求項１～９のいずれか一項に記載の基板処理装置。
11. 処理液で基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する供給工程と、
    前記処理ユニットから排出された処理液を回収タンクに回収する回収工程と、
    前記回収タンク内の処理液のｐＨを第１範囲内に調整する第１ｐＨ調整工程と、
    処理液のｐＨが前記第１範囲であるときに当該処理液から不純物を捕集し、かつ、処理液のｐＨが第２範囲であるときに当該不純物を放出する性質を有するゲルフィルタが設けられた再生タンクユニットに、前記第１範囲内のｐＨを有する処理液を、前記回収タンクから送出する第１回収処理液送出工程と、
    前記回収タンク内の処理液のｐＨを前記第２範囲内に調整する第２ｐＨ調整工程と、
    前記第２範囲内のｐＨを有する処理液を前記回収タンクから前記再生タンクユニットに送出する第２回収処理液送出工程とを含む、基板処理方法。
12. 前記ゲルフィルタは、第１温度と、前記第１温度よりも高温の第２温度との間で加熱および冷却を繰り返すことで不純物の放出する性質を有しており、
    前記第２回収処理液送出工程において前記再生タンクユニットに送られた処理液の温度を前記第１温度および前記第２温度の間で加熱および冷却を繰り返す温度調整工程をさらに含む、請求項１１に記載の基板処理方法。
13. 前記第１回収処理液送出工程の後、前記再生タンクユニット内の処理液を前記回収タンクに戻す戻し工程と、
    前記戻し工程によって前記回収タンクに戻された処理液のｐＨを前記第１範囲内に調整する再調整工程と、
    前記再調整工程によってｐＨが調整された処理液を前記回収タンクから前記再生タンクユニットに送出する再送出工程とを含む、請求項１１または１２に記載の基板処理方法。
14. 前記第１回収処理液送出工程の後、前記再生タンクユニット内の処理液のｐＨを前記第１範囲内に調整する再調整工程をさらに含む、請求項１１または１２に記載の基板処理方法。
15. 前記再生タンクユニットが、前記ゲルフィルタが収容され処理液を貯留する再生タンクと、前記再生タンク内の処理液を循環させる循環流路とを含み、
    前記第１回収処理液送出工程および前記第２回収処理液送出工程の少なくとも一方の実行中に、前記循環流路を介して前記再生タンク内の処理液を循環させる循環工程をさらに含む、請求項１１～１４のいずれか一項に記載の基板処理方法。
16. 前記第２回収処理液送出工程において前記再生タンクユニットに送られた処理液を前記再生タンクユニットから排出する処理液排出工程と、
    前記処理液排出工程の後、前記再生タンクユニットにリンス液を供給するリンス液供給工程とをさらに含む、請求項１１～１５のいずれか一項に記載の基板処理方法。
17. 前記リンス液供給工程において前記再生タンクユニットに供給されたリンス液中の不純物量を測定するリンス不純物量測定工程をさらに含む、請求項１６に記載の基板処理方法。
18. 前記リンス不純物量測定工程において測定される不純物量が基準不純物量よりも少ない場合には、前記再生タンクユニットから前記リンス液を排出するリンス液排出工程が実行され、前記リンス不純物量測定工程において測定される不純物量が前記基準不純物量以上である場合には、前記リンス液供給工程において前記再生タンクユニットに供給されたリンス液のｐＨを前記第２範囲に調整するリンス液ｐＨ調整工程が実行されるように、前記リンス液排出工程および前記リンス液ｐＨ調整工程が選択的に実行される、請求項１７に記載の基板処理方法。

Images