JP2023098740A - 加熱装置 - Google Patents
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Abstract
Description
11:フェイスプレート
12:ヒータ
13:アンダープレート
14,41:ベースプレート
14a,41a:ベースプレートの中央領域
14b,41b:ベースプレートの外周領域
20a:内側ガス噴出口(ガス噴出口)
20b:外側ガス噴出口(ガス噴出口)
26:ガス流通路
32:ガス排出口
33,42:ガス供給手段
Claims (6)
- ウェハを加熱処理する加熱装置であって、
前記ウェハを載置するフェイスプレートと、
前記フェイスプレートの下方に配置されるヒータと、
前記ヒータの下方に配置されて前記フェイスプレートに対して固定され、前記ヒータを前記フェイスプレートの下面との間に挟持するアンダープレートと、
複数のガス噴出口を上面に有し、前記アンダープレートから下方へ離間した位置に配置されて前記アンダープレートに下方から対向し、前記フェイスプレートを下方から支持するベースプレートと、
前記複数のガス噴出口へガスを供給するガス供給手段と、を備え、
前記ベースプレートの前記複数のガス噴出口は、前記アンダープレートへ向かって開口し、
前記ベースプレートの前記複数のガス噴出口から噴出されるガスは、前記アンダープレートの下面へ向かって噴出される
ことを特徴とする加熱装置。 - 前記ベースプレートの内部には、前記複数のガス噴出口へ連通するガス流通路が区画され、
前記ガス供給手段は、前記ベースプレートの前記ガス流通路を介して前記複数のガス噴出口へガスを供給する
ことを特徴とする請求項1に記載の加熱装置。 - 前記アンダープレートは、円形状に形成され、
前記ベースプレートは、前記アンダープレートの径方向内側の領域に対向する中央領域と、前記中央領域の径方向外側に位置して前記アンダープレートの径方向外側の領域に対向する外周領域とを有し、
前記ベースプレートの前記中央領域には、ガス排出口が形成され、
前記ベースプレートの前記複数のガス噴出口は、前記ベースプレートの前記外周領域に配置される外側ガス噴出口を含み、
前記外側ガス噴出口から噴出されるガスは、前記アンダープレートの径方向内側へ向かって噴出され、前記ガス排出口から前記ベースプレートよりも下方へ排出される
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の加熱装置。 - 前記ベースプレートの前記外側ガス噴出口は、前記中央領域を囲むように、周方向に互いに離間した状態で複数配置される
ことを特徴とする請求項3に記載の加熱装置。 - 前記ベースプレートの前記複数のガス噴出口は、前記ベースプレートの前記中央領域に配置される内側ガス噴出口を含み、
前記ベースプレートに対する前記内側ガス噴出口からのガスの噴出方向の角度は、前記ベースプレートに対する前記外側ガス噴出口からのガスの噴出方向の角度とは異なる角度に設定される
ことを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の加熱装置。 - 前記内側ガス噴出口から噴出されるガスは、前記アンダープレートに直交する方向に噴出される
ことを特徴とする請求項5に記載の加熱装置。
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