JP2023097915A - 層状構造の製造方法、電子装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】カーボンナノチューブを含む層を備える層状構造が、生産性よく製造される。
【解決手段】層状構造の製造方法は、第1工程から第5工程を備える。第1工程において、カーボンナノチューブを含む分散質と、分散質が分散される分散媒である液体とを有する第1塗工液が、基板の主面へ塗布される。第2工程において、主面へ塗布された第1塗工液に対して乾燥処理が行われる。第3工程においては、上述の液体が変成されつつ除去されて分散質を含む第1層が形成される。第4工程においては、高分子材料の前駆体を含む第2塗工液が、第1層に対して主面とは反対側から塗布される。第5工程においては、前駆体が重合して高分子材料を含む第2層が形成される。
【選択図】図1
【解決手段】層状構造の製造方法は、第1工程から第5工程を備える。第1工程において、カーボンナノチューブを含む分散質と、分散質が分散される分散媒である液体とを有する第1塗工液が、基板の主面へ塗布される。第2工程において、主面へ塗布された第1塗工液に対して乾燥処理が行われる。第3工程においては、上述の液体が変成されつつ除去されて分散質を含む第1層が形成される。第4工程においては、高分子材料の前駆体を含む第2塗工液が、第1層に対して主面とは反対側から塗布される。第5工程においては、前駆体が重合して高分子材料を含む第2層が形成される。
【選択図】図1
Description
本開示は層状構造を製造する方法および電子装置を製造する方法に関する。
電子装置、例えば液晶ディスプレイや有機EL(Electro Luminescence)ディスプレイを典型とする表示装置には、軽量性、可撓性が望まれる。例えば、基材となるキャリア基板(例えばガラス基板)上にプラスチックフィルム(例えばポリイミドフィルム)が形成され、このプラスチックフィルム上にTFT(thin-film-transistor)回路が形成され、キャリア基板がプラスチックフィルムから剥離される。このようにして得られる電子装置は、軽量性、可撓性に富む。
特許文献1は、キャリア基板をプラスチックフィルムから剥離する方法として、浸液処理をすることによって剥離する方法、レーザーを用いて剥離する方法、キャリア基板とプラスチックフィルムの間に粘着層を形成して剥離する方法を例示する。
特許文献2はガラス基板からポリイミド膜をレーザーが用いられることなく剥離する技術を開示する。特許文献2は、キャリア基板であるガラス基板と、プラスチックフィルムであるポリイミド膜との間に、カーボンナノチューブ(carbon nanotube)を含む剥離層を設ける構造を例示する。特許文献2はカーボンナノチューブを分散質とする分散液をガラス基板に塗布し、当該分散液の分散媒を蒸発させることによって剥離層を形成する技術を開示する。
レーザーを用いて剥離する方法においては、例えばレーザーによってプラスチックフィルムのキャリア基板側の面を焼いた後に、プラスチックフィルムを機械的に引っ張ってキャリア基板から剥離する。かかる手法はEPLaR(Electronics on Plastic by Laser Release)法と称される。EPLaR法では、高出力のレーザーがプラスチックフィルム、例えばポリイミド膜に強いダメージを与える。このダメージによりプラスチックフィルムに応力が発生する。この応力により、剥離後のプラスチックフィルムは、巻き取られるように変形する。この変形はプラスチックフィルム上に形成された回路にダメージを与え得る。EPLaR法には高価なレーザーアニール装置が採用される。
特許文献2は剥離層の形成を開示するが、その剥離層を形成するときの効率の向上についての詳細は開示しない。
本開示は、カーボンナノチューブを含む層を備える層状構造を、生産性よく製造する技術を提供する。
本開示にかかる層状構造の製造方法は、カーボンナノチューブを含む分散質と、前記分散質が分散される分散媒である液体とを有する第1塗工液を、基板の主面へ塗布する第1工程と、前記主面へ塗布された前記第1塗工液に対して乾燥処理を行う第2工程と、前記液体を変成しつつ除去して前記分散質を含む第1層を形成する第3工程と、高分子材料の前駆体を含む第2塗工液を、前記第1層に対して前記主面とは反対側から塗布する第4工程と、前記前駆体を重合させて前記高分子材料を含む第2層を形成する第5工程とを備える。
第2層に対して主面と反対側において構造物を形成することは、基板が構造物の形成の際に支持層となるので容易である。構造物が形成された後は、基板を第2層から分離することが容易である。
<1.電子装置の製造工程の全体的な説明>
図1は電子装置の製造工程を例示するフローチャートである。当該電子装置は例えば表示装置である。図2は基板10を、その厚さ方向に対して直角の方向からみた側面図である。
図1は電子装置の製造工程を例示するフローチャートである。当該電子装置は例えば表示装置である。図2は基板10を、その厚さ方向に対して直角の方向からみた側面図である。
ステップS10は基板10を準備する工程である。基板10は平滑な主面10aを有する。基板10には、例えば板状のガラスが採用される。基板10は厚さ方向において主面10aと対向する面10bを有する。厚さ方向は主面10aに垂直な方向であると言える。図1から図8において方向Pは、基板10の厚さ方向のうち、主面10aから面10bに向かう方向である。
方向Pに沿って見る平面視において、基板10の形状やサイズは特に限定されない。例えば平面視において基板10は矩形を呈する。平面視は、主面10aに対して垂直な方向から見ることに相当する。
基板10は電子装置の製造工程において、後述するポリイミド層30や回路層50(あるいは更にバリア層40)を保持して搬送するためのキャリア基板として機能する。基板10は最終製品としての電子装置には残らない。
基板10をキャリア基板として用いることにより、柔軟なポリイミド層30が安定して保持され、このポリイミド層30上へ回路層50が形成されやすい。基板10をキャリア基板として用いることは、既存の、一般的な基板上に回路層を形成する製造設備(例えば塗布装置、熱処理装置)を利用して電子装置を製造することを容易にする。
ステップS11は、ステップS10によって準備された基板10上に第1塗工液102を塗布する工程である。ここで「基板10上」は「主面10aの上」と同義である。第1塗工液102は公知の方法、例えば、スリット塗布法によって主面10aへ塗布される。
スリット塗布法においては、例えばスリットコータが利用される。スリットコータは例えば、第1塗工液102を塗布液として吐出するスリットノズルを、静止状態で保持される基板10に対して一定速度で走査させる。塗布液の塗布範囲を制御することによって、平面視上、第1塗工液102は基板10の主面10aに収まる。図3は、基板10上に第1塗工液102が塗布された状態を示す側面図である。
ステップS10とステップS11との間に、主面10aを洗浄する処理が行われてもよい。このような処理の例としては、薬液によって主面10aを洗浄する薬液洗浄や、ブラシによって主面10aから機械的に汚染物質を除去するブラシ洗浄や、主面10aに紫外線を照射して汚染物質を分解除去する処理が挙げられる。
第1塗工液102は分散体であり、分散質と、被分散液体とを有する。本開示にかかる製造方法において、分散質にはカーボンナノチューブが含まれる。被分散液体は分散媒を含み、分散媒の中には分散質が分散する。分散媒としては水系の液体および有機系の液体のいずれかもしくは両方が採用される。被分散液体は更に分散剤を含んでもよい。分散剤の例として界面活性剤が挙げられる。分散剤は液体に限定されず、固体であってもよい。
ステップS12は第1塗工液102を乾燥させる処理(図面および以下において単に「乾燥処理」と表記される)を実行する工程である。この乾燥処理の例として、減圧乾燥、加熱が挙げられる。この乾燥処理により、第1塗工液102の少なくとも分散媒の一部が減少する。
ステップS13は乾燥処理が施された後の第1塗工液102から剥離層20を形成する工程である。例えばステップS13は、被分散液体を変成しつつ除去して分散質を含む剥離層20を形成する工程である。ここで「変成」とは、その一態様として被分散液体の分解を含み、種々の態様が下記に例示される。
被分散液体が除去されることにより、カーボンナノチューブが相互に絡み合った紙状物として剥離層20が得られる。紙状物とは、繊維形状物で形成された多孔質膜である。カーボンナノチューブはそれ自体が繊維形状物である。第1塗工液102から被分散液体が除去されることによって、繊維形状のカーボンナノチューブが相互に絡み合った紙状物が形成される。剥離層20の膜厚は例えば100nm以下である。
ステップS14は、剥離層20へ第2塗工液103を塗布する工程である。より具体的には剥離層20に対して、主面10aとは反対側から、第2塗工液103を塗布する。第2塗工液103は公知の方法、例えば、スリット塗布法によって剥離層20へ塗布される。
本実施形態においては、平面視で第2塗工液103は剥離層20を覆いつつ、主面10aに収まる。第2塗工液103は剥離層20の周囲の主面10aにも塗布される。平面視上、剥離層20から外側に位置する第2塗工液103は主面10aと接触する。
図4は、剥離層20上に第2塗工液103が塗布された状態を示す側面図である。図4において、剥離層20の平面視における外縁20fが示される。
ステップS15は第2塗工液103からポリイミド層30を形成する工程である。例えばステップS15は重合を含む。ポリイミド層30の膜厚は約10μmである。
第2塗工液103は高分子材料の前駆体、本実施の形態の例ではポリイミド前駆体を含む。ステップS15は当該前駆体を重合させて、高分子材料を含む層、本実施の形態の例ではポリイミド層30を形成する工程である。例えばステップS15は第2塗工液103を、基板10と共に350℃以上に加熱してイミド化する。ステップS15においては、例えば熱処理炉が利用される。当該熱処理炉は、熱風を送風することによって基板10を加熱する。
図5は、剥離層20上にポリイミド層30が形成された状態を示す平面図である。剥離層20の外縁20fからはみ出たポリイミド層30の四辺の周縁部は、外縁20fの外方にいて主面10aと接触する。
剥離層20は繊維状構造を有する多孔質膜であり、繊維状構造の微小な凹凸に第2塗工液103が入り込み易い。重合して得られるポリイミド層30と剥離層20との密着性は高い。主面10aは平滑であり、これと剥離層20との密着性は低い。基板10と剥離層20との剥離性は、ポリイミド層30と剥離層20との剥離性よりも高い。
剥離層20と基板10との密着性が低くなると、表示装置の製造工程の途中で剥離層20が基板10から剥離する懸念が生じる。剥離層20の外縁20fよりも外方にて主面10aと接触する部分のポリイミド層30は、表示装置の製造工程の途中で剥離層20が基板10から剥離することを抑制する機能を有する。
ステップS40はポリイミド層30上にバリア層40を形成する工程である。図6は、ポリイミド層30上にバリア層40が形成された状態を示す断面図である。図7は、ポリイミド層30上にバリア層40が形成された状態を示す平面図である。
バリア層40は、後述される回路層50に水分が浸透するのを防ぐための層であり、例えば窒化シリコン(SiNx)膜で構成される。バリア層40は、例えばCVD法等の公知の種々の手法によって形成される。
バリア層40はポリイミド層30上の所定領域Rにおいて形成される。所定領域Rは、平面視上、外縁20fに囲まれる。
ステップS16はバリア層40上に回路層50を形成する工程である。図7は、バリア層40上に回路層50が形成された状態を示す平面図である。図8は、バリア層40上に回路層50が形成された状態を示す断面図である。バリア層40は平面視において所定領域Rにおいて形成されており、回路層50も同様である。
例えば回路層50は薄膜トランジスタを含む電子回路を有する。回路層50は、成膜、フォトリソグラフィー、エッチング等の工程を繰り返す公知のアレイプロセスによって形成される。回路層50の形成後に、さらに有機EL層や封止層が形成されてもよい。
ステップS17は回路層50が形成された後に実行される。ステップS17はポリイミド層30および剥離層20を切断する工程である。ステップS18はステップS17が実行された後に実行される。ステップS18は剥離層20から基板10を剥離する工程である。ステップS17,S18は纏まって、基板10から剥離層20、ポリイミド層30、バリア層40および回路層50を含む積層体60を剥離する工程であるということもできる。
図9は、ステップS17,S18を説明する、あるいは基板10から積層体60を剥離する工程を説明する断面図である。ステップS17においては外縁20fと所定領域Rとの間で、ポリイミド層30および剥離層20が切断される。ステップS18においては、積層体60が基板10から機械的に引き剥がされる。図9において鎖線は、ポリイミド層30および剥離層20が切断される位置を示し、引き剥がされた積層体60と、基板10に残されたポリイミド層30および剥離層20との位置関係を示す。
剥離層20とポリイミド層30との密着性が高い一方で剥離層20と基板10との密着性は低い。ポリイミド層30を含む積層体60を機械的に引っ張ると、剥離層20と基板10との界面が容易に剥離する。従って、ポリイミド層30に与えるダメージを小さくしつつ、基板10からポリイミド層30が容易に剥離される。
剥離された後の積層体60は、薄いポリイミド基板上に電子回路が形成された構成を有する。かかる積層体60は、柔軟性に富んだフレキシブルデバイス、例えば表示装置の主要構成部品に供される。
剥離層20とポリイミド層30との密着性が高いため、積層体60においてポリイミド層30に剥離層20が貼り付いて残る。剥離層20は、例えば膜厚100nm以下の紙状物であって、積層体60の可撓性を妨げにくい。剥離層20がバリア層としての機能を有してもよい。
ステップS17を省略できる場合もある。例えば基板10に接触するポリイミド層30の周縁部の面積が小さいとき、単に積層体60を機械的に引っ張って基板10から外してもよい。かかる処理は、第2塗工液103が外縁20fを超えずに剥離層20へ塗布され、ポリイミド層30が基板10に接触しない場合にも同様である。
本実施形態において、剥離層20が基板10とポリイミド層30との間に挟み込まれる。剥離層20はポリイミド層30との密着性が高い一方、基板10との密着性は低い。ポリイミド層30を機械的に引っ張ることにより、ポリイミド層30は剥離層20とともに基板10から剥離され易い。剥離層20はデボンディングレイヤーとして機能する。
本実施の形態によれば、レーザー等を使用してポリイミド層30を焼き切らなくても、ポリイミド層30は基板10から容易に剥離される。高価なレーザーアニール装置が不要であるため、安価に基板10からポリイミド層30が剥離される。
本実施の形態によれば、ポリイミド層30の剥離にレーザーを使用しないので、基板10からポリイミド層30を剥離すときにポリイミド層30に与えられるダメージは小さい。よってポリイミド層30に応力が発生して当該ポリイミド層30が巻き取られるような変形はし難く、ポリイミド層30上の回路層50に機械的なダメージを与えることも抑制される。かかる変形やダメージの抑制は、積層体60を利用したデバイスの製造歩留まりの向上に寄与する。
剥離層20に含まれるカーボンナノチューブは導電性を有する。かかる導電性は、基板10からポリイミド層30を剥離するときの静電気発生を抑制することに寄与する。静電気発生の抑制は、回路層50への電気的なダメージの抑制に寄与する。
<2.層状構造の製造方法の説明>
ステップS11~S15は剥離層20が第1層として例示され、ポリイミド層30が第2層として例示される、下記の層状構造の製造方法であると考えることができる。
ステップS11~S15は剥離層20が第1層として例示され、ポリイミド層30が第2層として例示される、下記の層状構造の製造方法であると考えることができる。
ステップS11は、カーボンナノチューブを含む分散質と、分散質が分散される被分散液体とを有する第1塗工液102を、基板10の主面10aへ塗布する第1工程であると言える。
ステップS12は、主面10aへ塗布された第1塗工液102に対して乾燥処理を行う第2工程であると言える。
ステップS13は、被分散液体を変成しつつ除去して分散質を含む第1層(上述の例では剥離層20)を形成する第3工程であると言える。
ステップS14は、高分子材料の前駆体(上述の例ではポリイミド前駆体)を含む第2塗工液103を、第1層に対して主面10aとは反対側から塗布する第4工程であると言える。
ステップS15は、当該前駆体を重合させて高分子材料(上述の例ではポリイミド)を含む第2層(上述の例ではポリイミド層30)を形成する第5工程であると言える。
第2層に対して主面10aと反対側において、構造物(上述の例では回路層50)を形成することは、基板10が構造物の形成の際に支持層となるので容易である。構造物が形成された後は、基板10を第2層から分離することが容易である。
以下では、主としてステップS12,S13における種々の方法が説明される。
<2-1.光照射による、被分散液体の変成>
図10はステップS13の内容(剥離層20の形成)を例示するフローチャートである。ステップS13aにおいては光の照射が、ステップS13bにおいては加熱処理が、それぞれ実行される。ステップS13bが実行された後、処理は図1に示されたフローチャートに復帰する(具体的にはステップS14の実行の開始)。
図10はステップS13の内容(剥離層20の形成)を例示するフローチャートである。ステップS13aにおいては光の照射が、ステップS13bにおいては加熱処理が、それぞれ実行される。ステップS13bが実行された後、処理は図1に示されたフローチャートに復帰する(具体的にはステップS14の実行の開始)。
具体的には、ステップS13aにおいては、第1塗工液102に対して、300nm以下の波長を有する光(以下「紫外光」と称する)が照射される。かかる光の照射は第1塗工液102の近傍において酸素ラジカルを生成する。第1塗工液102は例えば被分散液体に含まれる分散媒において有機物を含み、あるいは被分散液体に含まれ得る分散剤において有機物を含み、当該有機物は主として炭素、水素、酸素を含む化合物である。
炭素原子C、水素原子H、酸素原子O、酸素ラジカルO*を導入して、酸素ラジカルO*は下記のように有機物を分解し、一酸化炭素、二酸化炭素、水を生成する。かかる分解は上述の変成の一態様である。一酸化炭素、二酸化炭素は気体として、水は液体若しくは気体として第1塗工液102から除去され、カーボンナノチューブを含む分散媒が主面10aに残置する。
本実施の形態において紫外光の光源としては、例えば深紫外発光ダイオード、低圧水銀ランプ、エキシマランプが例示される。低圧水銀ランプは主として波長が254nmの光を発生させる。エキシマランプは主として波長が172nmの光を発生させる。
ステップS13aによる光の照射の後、ステップS13bが実行される。ステップS13bでは例えば350℃の加熱が行われる。例えばステップS13aにおいて低圧水銀ランプによって一平方センチメートル辺り1000mJの紫外線が第1塗工液102に照射された後、ステップS13bにおいて30分間、350℃での加熱が行われる。
酸素ラジカルO*を用いた被分散液体の変成は、単なる加熱による被分散液体の除去と比較して、高温の処理を省略しやすい。例えば酸素ラジカルO*を用いない場合、被分散液体の除去には500℃程度の加熱が必要である。これに対して酸素ラジカルO*を用いることにより、加熱温度が低くてすみ、剥離層20を形成する効率が向上する。
ステップS13aには加熱が伴われてもよい。例えばステップS12において減圧乾燥が採用され、ステップS13aにおいて第1温度の加熱を伴って紫外光の照射が行われ、ステップS13bにおいて第1温度よりも高い第2温度で加熱処理が行われる。
例えばステップS12において加熱によって乾燥処理が行われ、加熱を伴わずにあるいは加熱を維持してステップS13aが実行される。その後、ステップS12における加熱よりも高い温度でステップS13bが実行される。例えばステップS12,S13aにおいては、100~150℃の加熱が採用される。
ステップS13bにおける加熱処理が700℃を超えないことは、剥離層20におけるカーボンナノチューブの特性を劣化させないことに寄与する。
ステップS13aの実行に関し、二つの態様が提案される。図11は基板10を移動させつつ紫外光を照射する態様を模式的に示す側面図である。図12は基板10を移動させずに紫外光を照射する態様を模式的に示す側面図である。
エキシマランプ8は複数のランプ管81を備える。ランプ管81の各々は紙面垂直方向に描かれる方向Mに沿って延在する。ランプ管81の複数が、方向Qに沿って並んで配置される。方向Qは方向Mと非平行であり、ここでは方向Mと直交する場合が例示される。
第1塗工液102が塗布された基板10はその方向Pを方向M,Qのいずれにも非平行にして配置される。ここでは方向Pが方向M,Qと直交する場合が例示される。基板10は第1塗工液102をエキシマランプ8へ向けて配置される。
図11に示される態様においては、基板10は方向Qに沿って移動する。基板10は例えば方向Mに沿って延在するローラ9の複数によって面10bが支持されつつ方向Qへ搬送される。ローラ9の、図面において時計回り方向への回転は、基板10の方向Qへの移動に寄与する。
図11に示される態様は、搬送機構が必要であるが、ランプ管81の本数は少なくて済む。図12に示される態様においては、搬送機構が不要であるが、ランプ管81の本数は多く必要である。
<2-2.プラズマによる、被分散液体の変成>
図13はステップS13の他の内容を例示するフローチャートである。ステップS13cにおいては反応性プラズマの発生が、ステップS13dにおいては加熱処理が、それぞれ実行される。ステップS13dが実行された後、処理は図1に示されたフローチャートに復帰する(具体的にはステップS14の実行の開始)。
図13はステップS13の他の内容を例示するフローチャートである。ステップS13cにおいては反応性プラズマの発生が、ステップS13dにおいては加熱処理が、それぞれ実行される。ステップS13dが実行された後、処理は図1に示されたフローチャートに復帰する(具体的にはステップS14の実行の開始)。
ステップS13dで実行される加熱処理の温度は、例えば200℃以上である。ステップS13dにおける加熱処理が700℃を超えないことは、剥離層20におけるカーボンナノチューブの特性を劣化させないことに寄与する。
ステップS13cにおいては、第1塗工液102の近傍において反応性プラズマが生成される(以下「反応性プラズマが発生する」とも表現される)。反応性プラズマの生成に用いられる反応性ガスとして、酸化性のガスが用いられる態様と、還元性のガスが用いられる態様とが例示される。
酸化性のガスとしては酸素ガスが例示され、反応性プラズマの発生には例えば酸素ガスとアルゴンガスとの混合ガスが利用される。還元性のガスとしては水素ガスが例示され、反応性プラズマの発生には例えば水素ガスとアルゴンガスとの混合ガスが利用される。これらの混合ガスを用いた反応性プラズマの発生については周知であるので、その詳細は省略される。
反応性プラズマの生成に酸素ガスが用いられた場合、発生した酸素プラズマは酸素ラジカルO*を第1塗工液102に供給する。上述された紫外光の照射と同様の化学反応により、カーボンナノチューブを含む分散媒が主面10aに残置する。
反応性プラズマの生成に水素ガスが用いられた場合、発生した水素プラズマは水素ラジカルH*を第1塗工液102に供給する。水素ラジカルH*を導入して、水素ラジカルH*は下記のように有機物を分解して水を生成する。かかる分解は上述の変成の一態様である。水は液体若しくは気体として第1塗工液102から除去され、カーボンナノチューブを含む分散媒が主面10aに残置する。
有機物においてC-Hの結合エネルギーは413KJ/molであり、O-Hの結合エネルギーは463KJ/molであり、C=Oの結合エネルギーは799KJ/molである。C=Oの結合エネルギーはC-Hの結合エネルギーよりも大きい。水素ラジカルH*も酸素ラジカルO*と同様に有機物における結合を切断できる。
酸素よりも水素のほうが、原子間乖離エネルギーは低く、プラズマ放電し易い。酸素ガスを用いるよりも、水素ガスを用いた反応性プラズマの方が、多くのプラズマが生成され易い。
図14は反応性プラズマの発生を模式的に示す側面図である。チャンバー7は一対の電極83を収容する。一対の電極83の間には混合ガス82が供給される。混合ガス82はチャンバー7の外部から供給され、ここでは一対の電極83の間に供給される態様が例示される。
混合ガス82は、上述の例に即して言えば、アルゴンガスと酸素ガスとの混合ガスであり、あるいはアルゴンガスと水素ガスとの混合ガスである。例えば反応性プラズマとして大気圧プラズマが採用される。
第1塗工液102が塗布された基板10は第1塗工液102を電極83へ向けつつ、チャンバー7内を方向Qに沿って移動する。図11および図12と同様に、図14においても、方向Qが方向Pと直交する場合が例示される。
基板10は例えばローラ9の複数によって、面10bが支持されつつ方向Qへ搬送される。ローラ9のそれぞれは、方向P,Qのいずれとも直交する方向Mに沿って延在する。ローラ9の、図面において時計回り方向への回転は、基板10の方向Qへの移動に寄与する。
反応性プラズマは電極83で挟まれた領域Jにおいて発生する。領域Jからは酸素ラジカルO*あるいは水素ラジカルH*が基板10へ向かって拡散し、第1塗工液102へ供給される。反応性プラズマは、第1塗工液102に含まれる被分散液体に対して、主面10aとは反対側において生成される。
紫外光の照射と同様、酸化性ガスを利用した反応性プラズマによって発生する酸素ラジカルO*を用いた被分散液体の変成も、単なる加熱による被分散液体の除去と比較して、高温の処理を省略しやすい。還元性ガスを利用した反応性プラズマによる被分散液体の変成も同様である。例えば反応性プラズマによって被分散液体を変成して除去するとき、ステップS13dは省略されてもよい。
特許文献2は分散液を塗布して形成した塗布膜を乾燥させて分散媒を蒸発させることを開示するが、分散剤を除去する技術について明記していない。分散剤が被分散液体に含まれる場合、例えば分散剤は、第1塗工液102を500℃の温度において30分程度で加熱することで、変成されつつ除去される。このような加熱処理は剥離層20を形成する効率を低下させる要因となり得る。実施の形態で例示された変成では加熱処理に必要な温度が低く、剥離層20を形成する効率を向上させる。
<3.電子装置の製造方法の説明>
ステップS16,S17,S18は層状構造を製造するステップS11~S15と相まって、回路層50が有する電子回路を備えた電子装置を製造する方法であると考えることができる。
ステップS16,S17,S18は層状構造を製造するステップS11~S15と相まって、回路層50が有する電子回路を備えた電子装置を製造する方法であると考えることができる。
回路層50は、ポリイミド層30で例示される第2層上に形成され、電子回路を有する第3層の例であると言える。ステップS16は、ポリイミド層30で例示される第2層上に、例えば所定領域Rにおいて回路層50で例示される第3層を形成する第6工程であると言える。
ステップS17は、平面視上、外縁20fと所定領域Rとの間において剥離層20で例示される第1層およびポリイミド層30で例示される第2層を切断する第7工程であると言える。この場合、ステップS18は第1層から基板10を剥離する第8工程であると言える。
あるいは、ステップS17が省略されるときには、ステップS18が上述の第7工程であると言える。
<変形>
以上、本開示の実施の形態について説明したが、本開示はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えばバリア層40の形成を省略し、ポリイミド層30の上に直接に回路層50が形成されてもよい。
以上、本開示の実施の形態について説明したが、本開示はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えばバリア層40の形成を省略し、ポリイミド層30の上に直接に回路層50が形成されてもよい。
上述された技術は、有機ELディスプレイや液晶ディスプレイ等の表示装置の製造、例えばポリイミド基板上に回路を形成したフレキシブルデバイスの製造への利用が可能である。
10 基板
10a 主面
20 剥離層(第1層)
20f 外縁
30 ポリイミド層(第2層)
50 回路層(第3層)
102 第1塗工液
103 第2塗工液
C 炭素原子
H 水素原子
H* 水素ラジカル
O 酸素原子
O* 酸素ラジカル
P (主面に垂直な)方向
R 所定領域
S11 ステップ(第1工程)
S12 ステップ(第2工程)
S13 ステップ(第3工程)
S14 ステップ(第4工程)
S15 ステップ(第5工程)
S16 ステップ(第6工程)
S17 ステップ(第7工程)
S18 ステップ(第8工程;第7工程)
10a 主面
20 剥離層(第1層)
20f 外縁
30 ポリイミド層(第2層)
50 回路層(第3層)
102 第1塗工液
103 第2塗工液
C 炭素原子
H 水素原子
H* 水素ラジカル
O 酸素原子
O* 酸素ラジカル
P (主面に垂直な)方向
R 所定領域
S11 ステップ(第1工程)
S12 ステップ(第2工程)
S13 ステップ(第3工程)
S14 ステップ(第4工程)
S15 ステップ(第5工程)
S16 ステップ(第6工程)
S17 ステップ(第7工程)
S18 ステップ(第8工程;第7工程)
Claims (10)
- カーボンナノチューブを含む分散質と、前記分散質が分散される分散媒である液体とを有する第1塗工液を、基板の主面へ塗布する第1工程と、
前記主面へ塗布された前記第1塗工液に対して乾燥処理を行う第2工程と、
前記液体を変成しつつ除去して前記分散質を含む第1層を形成する第3工程と、
高分子材料の前駆体を含む第2塗工液を、前記第1層に対して前記主面とは反対側から塗布する第4工程と、
前記前駆体を重合させて前記高分子材料を含む第2層を形成する第5工程と
を備える、層状構造の製造方法。 - 前記第3工程において酸素ラジカルが前記液体へ供給される、請求項1に記載の層状構造の製造方法。
- 前記第3工程において、300nm以下の波長を有する光を用いて前記酸素ラジカルが生成される、請求項2に記載の層状構造の製造方法。
- 前記第3工程において、酸素プラズマを用いて前記酸素ラジカルが生成される、請求項2に記載の層状構造の製造方法。
- 前記第3工程において、前記液体に対して前記主面とは反対側において反応性プラズマが生成される、請求項1に記載の層状構造の製造方法。
- 酸化性ガスを反応性ガスとして前記反応性プラズマが生成される、請求項5に記載の層状構造の製造方法。
- 還元性ガスを反応性ガスとして前記反応性プラズマが生成される、請求項5に記載の層状構造の製造方法。
- 前記第4工程において、前記第2塗工液は前記第1層の周囲の前記主面に対しても塗布される、請求項1から請求項7のいずれか一つに記載の層状構造の製造方法。
- 電子回路を有する電子装置を製造する方法であって、
請求項1から請求項7のいずれか一つに記載の層状構造の製造方法が備える前記第1工程から前記第5工程と、
前記第2層上に前記電子回路を有する第3層を形成する第6工程と、
前記第6工程の後に、前記第1層から前記基板を剥離する第7工程と
を備える、電子装置の製造方法。 - 電子回路を有する電子装置を製造する方法であって、
請求項8に記載の層状構造の製造方法が備える前記第1工程から前記第5工程と、
前記第2層上に、前記主面に垂直な方向から見て前記第1層の外縁に囲まれる所定領域において、前記電子回路を有する第3層を形成する第6工程と、
前記第6工程の後に、前記方向から見て前記第1層の外縁と前記所定領域との間において前記第1層および前記第2層を切断する第7工程と、
前記第7工程の後に、前記第1層から前記基板を剥離する第8工程と
を備える、電子装置の製造方法。
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