JP2023092764A - 光学部材の製造方法、光学部材及び眼鏡 - Google Patents

光学部材の製造方法、光学部材及び眼鏡 Download PDF

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Abstract

【課題】光学部材の品質の低下を招くことなく当該光学部材にマーキングを行える技術を提供する。【解決手段】光学基材の光学面を被覆するように形成された、低屈折率層と高屈折率層の積層を含む多層構造の反射防止膜に対して、超短パルスレーザの照射を行い、多層構造の最表層を含む所定の層を部分的に除去することにより、所望のレーザ加工を施す光学部材の製造方法であって、超短パルスレーザは、パルス幅が１０フェムト秒以上１００ピコ秒未満であり、反射防止膜は、超短パルスレーザの照射に対して、多層構造に含まれる他の層よりも相対的に反応性の高い反応層を含み、照射によって、反応層が少なくとも部分的に除去されることによって、可視光により視認しうるレーザ加工が施される、光学部材の製造方法及びその関連技術を提供する。【選択図】図２

Description

本発明は、光学部材の製造方法、光学部材及び眼鏡に関する。
眼鏡レンズとして、レンズ基材の光学面上がハードコート膜や反射防止膜等の薄膜に被覆されて構成されたものがある。近年では、薄膜に対するレーザ照射によって、薄膜の一部の層を部分的に除去することで、眼鏡レンズにマーキングを行うことが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
特表２０１９－５２３４４７号公報
従来のレーザ照射によるマーキングでは、薄膜の一部の層のみを、精緻に除去することが容易でなく、当該薄膜を構成する他の層や、レンズ基材など、除去する層の下層部分にダメージを与えてしまうおそれもある。そのため、眼鏡レンズの製品に適用すると、品質の低下が懸念される。
本開示は、光学部材の品質の低下を招くことなく当該光学部材にマーキングを行える技術を提供することを目的とする。
本発明の第１の態様は、
光学基材の光学面を被覆するように形成された、低屈折率層と高屈折率層の積層を含む多層構造の反射防止膜に対して、超短パルスレーザの照射を行い、前記多層構造の最表層を含む所定の層を部分的に除去することにより、所望のレーザ加工を施す光学部材の製造方法であって、
前記超短パルスレーザは、パルス幅が１０フェムト秒以上１００ピコ秒未満であり、
前記反射防止膜は、前記超短パルスレーザの照射に対して、前記多層構造に含まれる他の層よりも相対的に反応性の高い反応層を含み、
前記照射によって、前記反応層が少なくとも部分的に除去されることによって、可視光により視認しうる前記レーザ加工が施される、
光学部材の製造方法である。
本発明の第２の態様は、
前記反応層の除去においては、前記反応層が厚み方向に少なくとも部分的に昇華、又は蒸発することによって消失し、前記消失に伴い、前記反応層より上層側に積層する他の層が除去される、
第１の態様に記載の光学部材の製造方法である。
本発明の第３の態様は、
前記照射によって、前記反応層の除去が生じた照射部には、前記多層構造に含まれる、高屈折率層が露出する、
第１又は第２の態様に記載の光学部材の製造方法である。
本発明の第４の態様は、
前記反応層は、前記多層構造を構成する他の層よりも導電性が高い導電層である、
第１から第３のいずれか１態様に記載の光学部材の製造方法である。
本発明の第５の態様は、
前記反応層は、ＳｎとＯを含む、
第１から第４のいずれか１態様に記載の光学部材の製造方法である。
本発明の第６の態様は、
前記光学部材は、眼鏡レンズである、
第１から第５のいずれか１態様に記載の光学部材の製造方法である。
本発明の第７の態様は、
前記超短パルスレーザは、パルス幅が０．１ピコ秒以上５０ピコ秒未満である、
第１から第６のいずれか１態様に記載の光学部材の製造方法である。
本発明の第８の態様は、
光学面を有する光学基材と、
前記光学基材の前記光学面を被覆する反射防止膜と、を備え、
前記反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層の積層を含む多層構造を有し、
前記反射防止膜は、超短パルスレーザの照射に対する反応性が、前記反射防止膜に含まれる他の層よりも相対的に高い反応層を含み、
前記多層構造の最表層を含む所定の層が少なくとも部分的に除去されて形成された除去箇所には、前記反応層の下層側にある前記高屈折率層、又は、一部残留する前記反応層が露出していることにより、
前記除去箇所が可視光により視認しうる加工が施されている、光学部材である。
本発明の第９の態様は、
前記低屈折率層の除去によって露出する前記高屈折率層は、前記低屈折率層の除去箇所の厚さｔ１と前記低屈折率層の非除去箇所の厚さｔ２との比ｔ１／ｔ２が０．９０以上１．００以下の範囲内に属する、
第８の態様に記載の光学部材である。
本発明の第１０の態様は、
前記視認しうる加工は、前記光学部材の前記加工が施された被加工面側から視認しうるとともに、前記被加工面の裏面側からも視認しうる、
第８又は第９の態様に記載の光学部材である。
本発明の第１１の態様は、
前記視認しうる加工は、前記光学部材に対する観察者及び照明光との相対位置又は角度によって、視認性が変わる、
第８から第１０のいずれか１態様に記載の光学部材である。
本発明の第１２の態様は、
前記光学部材は、眼鏡レンズである、
第８から第１１のいずれか１態様に記載の光学部材である。
本発明の第１３の態様は、
第１から第７のいずれか１態様に記載の光学部材の製造方法で製造された光学部材である眼鏡レンズ、又は、第８から第１２のいずれか１態様に記載の光学部材である眼鏡レンズを、フレームに嵌め入れた
眼鏡である。
本発明によれば、光学部材の品質の低下を招くことなく、当該光学部材にマーキングを行うことができる。
本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの加工例を示す平面図である。 本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法の手順の一例を示すフロー図である。 本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズにおける薄膜の積層構造の一例を示す側断面図である。 本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法で用いるレーザ加工装置の概略構成例を示す説明図であり、レーザ光源部と、ＡＯＭ（Ａｃｏｕｓｔｏ Ｏｐｔｉｃｓ Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）システム部と、ビームシェイパー部と、ガルバノスキャナ部と、光学系とを備え、これらの各部を経てレーザ光をＡＲ膜に対して照射するように構成されている様子を示す図である。 本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法で用いるレーザ加工装置の概略構成例を示す説明図であり、光学系等を経て行うＡＲ膜へのレーザ光（すなわち、超短パルスレーザ）の照射を、デフォーカス設定で行い得るように構成されている様子を示す図である。 本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの要部構成例を示す説明図であり、本実施形態に係る眼鏡レンズの要部構成例を示す説明図である。 本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの要部構成例を示す説明図であり、ＡＲ膜の断面の電子顕微鏡による観察結果の一具体例を示している。 図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜に対し、レーザ光の波長を１０６４ｎｍとし、パルス幅を１００フェムト秒以上１ピコ秒未満として、ドットパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は２００倍）である。 図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜に対し、レーザ光の波長を５３２ｎｍとし、パルス幅を１００フェムト秒以上１ピコ秒未満として、ドットパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は２００倍）である。 図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜に対し、レーザ光の波長を１０６４ｎｍとし、パルス幅を１０数ピコ秒として、ドットパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は２００倍）である。 図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜に対し、レーザ光の波長を５３２ｎｍとし、パルス幅を１０数ピコ秒として、ドットパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は２００倍）である。 図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜に対し、レーザ光の波長を３５５ｎｍとし、パルス幅を１０数ピコ秒として、ドットパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は２００倍）である。 図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜に対し、レーザ光の波長を３５５ｎｍとし、パルス幅を１０数ピコ秒として、ドットパターンを重複させてべたパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は５０倍）である。 図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜に対し、レーザ光の波長を５３２ｎｍとし、パルス幅を数１０ピコ秒として、ドットパターンを重複させてべたパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は２００倍）である。 図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜に対し、レーザ光の波長を３５５ｎｍとし、パルス幅を１０数ナノ秒として、ドットパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は５０倍）である。 図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜に対し、レーザ光の波長を２６６ｎｍとし、パルス幅を１０数ナノ秒として、ドットパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（左側像の倍率は５０倍、右側４画像は５００倍）である。
以下、本発明の実施形態を、図面に基づいて説明する。
本実施形態では、光学部材が眼鏡レンズである場合を例に挙げて、以下の説明を行う。
眼鏡レンズは、光学面として、物体側の面と眼球側の面とを有する。「物体側の面」は、眼鏡レンズを備えた眼鏡が装用者に装用された際に物体側に位置する表面である。「眼球側の面」は、その反対、すなわち眼鏡レンズを備えた眼鏡が装用者に装用された際に眼球側に位置する表面である。物体側の面は凸面であり、眼球側の面は凹面であること、つまり眼鏡レンズはメニスカスレンズであることが一般的である。
図１は、本実施形態に係る眼鏡レンズの加工例を示す平面図である。
本実施形態においては、平面視円形状（例えば、外径φ６０～８０ｍｍ）の眼鏡レンズ１に対して、装用者が装用する眼鏡フレームのフレーム形状２に合わせてレンズ外形を削る玉形加工（フレームカット加工）を行うとともに、その前または後に、フレームカット後のレンズ領域内に位置するようにロゴやハウスマーク等、文字、記号、図柄などを表す加飾パターン３の光学面上へのマーキングを行うものとする。
加飾パターン３のマーキングは、例えば、デジタルデータに基づいて照射位置を精緻に制御可能なレーザ照射加工を利用して行うことが考えられるが、マーキングに起因してレンズ品質や機能の低下を招いてしまうことは好ましくない。そこで、本実施形態においては、加飾パターン３のマーキングを、以下に説明する加工手順によって行う。
（１）眼鏡レンズの製造方法
ここで、加飾パターンのマーキングを含む眼鏡レンズの加工手順、すなわち本実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法の手順について、具体的に説明する。
図２は、本実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法の手順の一例を示すフロー図である。
眼鏡レンズの製造にあたっては、まず、光学基材であるレンズ基材を用意し、そのレンズ基材に対して眼鏡装用者の処方情報に応じた研磨処理を行うとともに、必要に応じて染色処理を行う（ステップ１０１、以下ステップを「Ｓ」と略す。）。
レンズ基材としては、例えば、屈折率（ｎＤ）１．５０～１．７４程度の樹脂材料が用いられる。具体的には、樹脂材料として、例えば、アリルジグリコールカーボネート、ウレタン系樹脂、ポリカーボネート、チオウレタン系樹脂及びエピスルフィド樹脂が例示される。ただし、これらの樹脂材料ではなく、所望の屈折度が得られる他の樹脂材料によって構成してもよいし、また無機ガラスによって構成したものであってもよい。また、レンズ基材は、所定のレンズ形状を構成するための光学面を、物体側の面と眼球側の面とのそれぞれに有する。所定のレンズ形状は、単焦点レンズ、多焦点レンズ、累進屈折力レンズ等のいずれを構成するものであってもよいが、いずれの場合も各光学面が眼鏡装用者の処方情報を基に特定される曲面によって構成される。光学面は、例えば研磨処理によって形成されるが、研磨処理を要さないキャスト（成形）品であってもよい。
尚、レンズ基材に対する研磨処理及び染色処理については、公知技術を利用して行えばよく、ここではその詳細な説明を省略する。
その後は、レンズ基材の少なくとも一方の光学面上、好ましくは両方の光学面上に、ハードコート膜（ＨＣ膜）を成膜する（Ｓ１０２）。
ＨＣ膜は、例えば、ケイ素化合物を含む硬化性材料を用いて構成されたもので、３μｍ～４μｍ程度の厚さで形成された膜である。ＨＣ膜の屈折率（ｎＤ）は、上述したレンズ基材の材料の屈折率に近く、例えば１．４９～１．７４程度であり、レンズ基材の材料に応じて膜構成が選択される。このようなＨＣ膜の被覆によって、眼鏡レンズの耐久性向上が図れるようになる。
ＨＣ膜の成膜は、例えば、ケイ素化合物を含む硬化性材料を溶解させた溶液を用いた浸漬法（Ｄｉｐｐｉｎｇ ｍｅｔｈｏｄ）によって行えばよい。
ＨＣ膜の成膜後は、続いて、そのＨＣ膜に重ねるように、反射防止膜（ＡＲ膜）を成膜する（Ｓ１０３）。
ＡＲ膜は、屈折率の異なる膜を積層させた多層構造を有し、干渉作用によって光の反射を防止する膜である。具体的には、ＡＲ膜は、低屈折率層と高屈折率層とが積層された多層構造を有して構成されている。低屈折率層は、例えば、屈折率１．４３～１．４７程度の二酸化珪素（ＳｉＯ2）からなる。
また、高屈折率層は、低屈折率層よりも高い屈折率を有する材料からなり、例えば、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化錫（ＳｎＯ2）、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、これらの混合物（例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ））等を用いて構成される。
このうち、ＳｎとＯを含む高屈折層は、後述の超短パルスレーザに対する反応性が、他の層に比べて大きいため、反応層として機能する。具体的には、上記のＳｎＯ2や、ＩＴＯがこれにあたる。
本明細書における「反応層」は、レーザ照射を受けたときに励起エネルギーが低い層を指す。本発明の一実施例では、超短パルスレーザを照射する。そして、反応層となり得る
ＳｎＯ2層は、多光子吸収（例えば２光子吸収）により、励起エネルギーが極めて低くなり、反応性に富む。これは、ＩＴＯ層でも同様であり、ＩＴＯ層も、本明細書における反応層となり得る。
その結果、本発明の一実施例では、該ＳｎＯ2層（或いはＩＴＯ層）は昇華又は蒸発し、上層側にあるＳｉＯ2層とともに、照射箇所から消失する。多層構造に含まれる他の層よりも相対的に反応性の高い反応層とは、本発明の一実施例ではＳｎＯ2層又はＩＴＯ層を指す。該反応層を、多層構造に含まれる他の層よりも最も反応性の高い反応層と設定してもよい。
尚、多層構造のＡＲ膜の最表層は、低屈折率層（例えば、ＳｉＯ2層）となるように構成されている。このようなＡＲ膜の被覆によって、本態様のレーザ加工によるパターンは、照明光の照射により生じる可視光の反射性の差異によって、視認性向上が図れるようになる。
また、多層構造の最下層（基材側）の層も低屈折率層（例えばＳｉＯ2層）であることが好ましい。
ＡＲ膜の成膜は、例えば、イオンアシスト蒸着を適用して行えばよい。
ＡＲ膜の最表層である低屈折率層上には、撥水膜を成膜するようにしてもよい。撥水膜を防汚膜と称しても構わない。尚、撥水膜の成膜は、本実施形態に係るマーキングを行う前に実施してもよいし、マーキングを行った後に実施してもよい。
撥水膜は、表面に撥水性を与える膜で、例えばメタキシレンヘキサフロライド等のフッ素系化合物溶液を塗布することによって構成することができる。
撥水膜の成膜は、ＡＲ膜の場合と同様に、例えば、イオンアシスト蒸着を適用して行えばよい。
また、ＡＲ膜上には他の機能性層が成膜されていてもかまわない。かかる機能性層は、金属成分を含んでいても、含まなくても、レーザ照射による精緻な加工の効果が得られる限りにおいて問題はない。また、かかる機能層は、均一な膜であっても、表面上に散在したものであってもかまわない。
以上のような成膜処理を経ることで、レンズ基材の光学面上には、図３に示すような積層構造の薄膜が形成される。
図３は、本実施形態に係る薄膜の積層構造の一例を示す側断面図である。
図例の積層構造は、レンズ基材１１の光学面上に、ＨＣ膜１２、ＡＲ膜１３、撥水膜１４が順に積層されて構成されている。そして、ＡＲ膜１３は、低屈折率層であるＳｉＯ2層１３ａと高屈折率層であるＳｎＯ2層１３ｂ及びＺｒＯ2層１３ｃとが積層された多層構造を有しており、最表層（すなわち撥水膜１４の側の表層）がＳｉＯ2層１３ａとなるように構成されている。
ここで、ＳｎＯ2層は、高屈折率層であるとともに、反応層でもある。
薄膜形成後は、続いて、図２に示すように、その薄膜が形成された眼鏡レンズに対して、フレームカット加工及び加飾パターンのマーキングを行う。例えば、フレームカット後に加飾加工を行う場合であれば（Ｓ１０４：カット後）、まず、加工対象となる眼鏡レンズの一方の光学面（具体的には、後述する加飾加工が施されない光学面）を専用治具に装着する治具ブロッキングを行う（Ｓ１０５）。そして、ブロッキングされた眼鏡レンズを玉形加工機にセットして、その眼鏡レンズに対する玉形加工（フレームカット加工）を行い、その眼鏡レンズの外形をフレーム形状にカットする（Ｓ１０６）。治具ブロッキング及びフレームカット加工については、公知技術を利用して行えばよいため、ここでは詳細な説明を省略する。
フレームカット加工後は、次いで、加飾加工（すなわち、加飾パターンのマーキング）を行う。加飾加工にあたっては、まず、ブロッキングされた状態のまま、加工対象となる眼鏡レンズの被加工面（具体的には、ブロッキングされていない側の光学面）について、その加工エリアのレンズ高さ（すなわち、被加工面における加工エリアの三次元形状）を計測する（Ｓ１０７）。計測手法は特に限定されないが、例えば非接触タイプの三次元測定機を用いて行うことが考えられる。
加工エリアとは、後述するレーザスキャン領域を含む領域である。
加工エリアのレンズ高さの計測後は、続いて、加工エリアにレーザ光を照射するレーザ加工を行うとともに、レーザ光の照射位置を予め用意されたパターンデータに基づいて移動させるラスタースキャンを行う（Ｓ１０８）。ラスタースキャンではなく、ベクタースキャンであってもよい。これにより、眼鏡レンズの被加工面の加工エリアには、加飾パターンのマーキングがされることになる。尚、加飾パターンのマーキングのためのレーザ加工の詳細については後述する。
加飾パターンのマーキング後は、専用治具から眼鏡レンズを取り外す治具デブロッキングを行い（Ｓ１０９）、取り外した眼鏡レンズについてマーキングの際の残存物や付着物（異物）等を除去するためのレンズ洗浄を行う（Ｓ１１０）。そして、最終的なレンズ外観検査（Ｓ１１１）を経て、眼鏡レンズの製造が完了する。
一方、例えば、加飾加工後にフレームカットを行う場合であれば（Ｓ１０４：カット前）、まず、加工対象となる眼鏡レンズの被加工面について、その加工エリアのレンズ高さ（すなわち、被加工面における加工エリアの三次元形状）を計測する（Ｓ１１２）。計測手法は、上述したフレームカット後に加飾加工を行う場合と同様である。
加工エリアのレンズ高さの計測後は、続いて、加工エリアにレーザ光を照射するレーザ加工を行うとともに、レーザ光の照射位置を予め用意されたパターンデータに基づいて移動させるラスタースキャンを行う（Ｓ１１３）。ラスタースキャンではなく、ベクタースキャンであってもよい。これにより、眼鏡レンズの被加工面の加工エリアには、加飾パターンのマーキングがされることになる。尚、加飾パターンのマーキングのためのレーザ加工の詳細については後述する。
加飾パターンのマーキング後は、そのマーキング後の眼鏡レンズに対してフレームカット加工を行う。フレームカット加工にあたっては、まず、加工対象となる眼鏡レンズの一方の光学面を専用治具に装着する治具ブロッキングを行った上で（Ｓ１１４）、ブロッキングされた眼鏡レンズを玉形加工機にセットして、その眼鏡レンズに対する玉形加工（フレームカット加工）を行い、その眼鏡レンズの外形をフレーム形状にカットする（Ｓ１１５）。フレームカット加工後は、専用治具から眼鏡レンズを取り外す治具デブロッキングを行い（Ｓ１１６）、取り外した眼鏡レンズについて加工の際の残存物や付着物（異物）等を除去するためのレンズ洗浄を行う（Ｓ１１７）。そして、最終的なレンズ外観検査（Ｓ１１８）を経て、眼鏡レンズの製造が完了する。
（２）レーザ加工の詳細
次に、加飾パターンをマーキングする際のレーザ加工について、更に詳しく説明する。
本実施形態においては、レンズ基材１１の光学面を被覆するＡＲ膜１３に対してレーザ光を照射し、これによりＡＲ膜１３の最表層であるＳｉＯ2層１３ａを含む所定の層を部分的に除去することで、加飾パターンのマーキングを行うことができる。
具体的には、最表層のＳｉＯ2層を透過したレーザ光が、その下層側にあるＳｎＯ2層に到達すると、ＳｎＯ2層が照射のエネルギーによって昇華、又は蒸発し、上層側にあるＳｉＯ2層とともに、照射箇所から消失する。つまり、レーザ光を照射するレーザ加工によって最表層のＳｉＯ2層１３ａを含む所定層を部分的に除去する。このとき、照射箇所には、その下層側の高屈折率層を露出させる除去工程を経て、加飾パターンのマーキングがされるようになっている。ここで、露出させる高屈折率層は、例えば、ＺｒＯ2層１３ｃである。
ＳｎＯ2層１３ｂについては、薄厚（例えば、３～２０ｎｍ、より好ましくは、３～１０ｎｍ）に形成することが可能となる。本態様では５ｎｍとした。
尚、上記においてＳｎＯ2は、レーザ照射に対して最も反応性の高い、反応層として機能する。この反応層は、ＳｎとＯが含まれていることが好ましく、ＳｎＯ2のほか、ＩＴＯが使用できる。
また、上記においては、ＳｎＯ2が昇華又は蒸発によって除去され、その下層側にある高屈折率層としてのＺｒＯ2が照射箇所に露出するが、反応層は、必ずしも完全に除去される必要はなく、照射箇所に一部が残留していてもよい。例えば、レーザ照射によって、反応層は、層の厚み方向に、少なくとも部分的に除去されてもよい。また、部分的な除去の他の一例として、レーザ照射によって、層の厚み方向のみならず、レーザ照射方向から見たとき（平面視したとき）、レーザ照射箇所において反応層が一部残存しても構わない。本段落の例で言うと、ＺｒＯ2が部分的にのみ露出していても構わない。なぜなら、ＺｒＯ2と同様、ＳｎＯ2（或いはＩＴＯ）も高屈折率材料であり、除去箇所を平面視した時にＳｎＯ2が一部残存していても視認性に問題は生じないためである。そのため、反応層の下層側にある高屈折率層、又は、一部残留する反応層が露出していればよい。
レーザ照射の際に生じる現象は以下のように考えられる。反応層（ＳｎＯ2やＩＴＯなど）は、積層構造に含まれる他の層にくらべて導電性の高い、導電層であることが好ましい。
発明者の検討によると、ＳｎＯ2からなる反応層は、上層側（最表面側）のＳｉＯ2よりも、また下層側のＺｒＯ2層よりも、後述する条件でのレーザ照射を受けた際に励起が生じるバンドギャップに対応するエネルギーが小さい。このため、上層側、下層側の隣接層に比べて、最も迅速に昇華／蒸発による消失を生じやすい。
この際、いわゆる多光子吸収（例えば２光子吸収）と呼ばれる現象が生じていると考えられ、非常に高いエネルギー効率で、加工が行い得る。そして、この際にＳｎＯ2が導電層であることが有利に作用するとみられる。
尚、ＳｎＯ2が消失後、下層側のＺｒＯ2が照射のエネルギーによって、蒸発や溶解などによるダメージを受ける懸念については、かかるダメージの発生段階までの遅延を利用すべく、照射条件を制御することにより、実質的に反応層及びそれより上層側の層のみを除去することができる。そして、上記多分子吸収の現象を伴う、このような精緻な加工制御には、後述する超短パルスレーザを選択することが有利であることが見いだされた。
ここで、レーザ加工に用いるレーザ加工装置について簡単に説明する。
図４は、本実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法で用いるレーザ加工装置の概略構成例を示す説明図である。
本実施形態において用いるレーザ加工装置は、図４Ａに示すように、レーザ光源部２１と、ＡＯＭ（Ａｃｏｕｓｔｏ Ｏｐｔｉｃｓ Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）システム部２２と、ビームシェイパー部２３と、ガルバノスキャナ部２４と、光学系２５とを備え、これらの各部２１～２５を経てレーザ光をＡＲ膜１３に対して照射するように構成されている。
レーザ光源部２１は、レーザ加工に用いるレーザ光を出射するものであり、超短パルスレーザを出射するように構成されている。
本実施形態において、超短パルスレーザのパルス幅の下限値については、特に限定されるものではなく０フェムト秒を超えるものであればよいが、０．０１ピコ（１０フェムト）秒以上のものが好ましく、０．１ピコ秒以上のもの（１ピコ秒以上のものを含む。）を用いると、装置の維持管理やコストの点で有利であり、商業的な利用により好適である。
例えば、パルス幅が０．０１ピコ（１０フェムト）秒以上１００ピコ秒未満であるもの、好ましくはパルス幅が０．０１ピコ秒以上５０ピコ秒未満であるもの、より好ましくはパルス幅が０．０１ピコ秒以上１５ピコ秒未満であるものも使用可能である。
更に、例えば、パルス幅が０．１ピコ秒以上１００ピコ秒未満であるもの、好ましくはパルス幅が０．１ピコ秒以上５０ピコ秒未満であるもの、より好ましくはパルス幅が０．１ピコ秒以上１５ピコ秒未満下であるものを用いることができる。
また、パルス幅が０．０１ピコ秒以上１ピコ秒未満（又は、０．１ピコ秒未満）であるものも使用可能である。
超短パルスレーザの波長は、例えば、３５５ｎｍのＴＨＧ（Ｔｈｉｒｄ Ｈａｒｍｏｎｉｃ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ）又は５３２ｎｍのＳＨＧ（Ｓｅｃｏｎｄ Ｈａｒｍｏｎｉｃ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ）のほか、１０６４ｎｍの基本波長を用いることができる。照射においては所望の加工デザインに応じて、照射ビーム径を選択することができる。微細なデザインを解像度高く加工するために、ビーム径を小さく絞ることが有効であるが、その際には、短波長側の方が有利であるので、上記の波長のうち、５３２ｎｍが好ましく、３５５ｎｍがより好ましい。又は２６６ｎｍのＦＨＧ（Ｆｏｒｔｈ Ｈａｒｍｏｎｉｃ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ）も好適である。
超短パルスレーザのパルスエネルギーは、例えば、５０ｋＨｚで０．１μＪ以上３０μＪ以下（最大６０μＪ程度）である。超短パルスレーザのビーム径は、例えば、１０μｍ以上３０μｍ以下である。
本検討によると、レーザ照射条件について以下のことが判明した。
（１）超短パルスレーザのパルス幅が０．１ピコ秒未満の場合
２６６～１０６４ｎｍの波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利。但し、装置の初期投資やランニングコストなど、生産負荷が大きい。
（２）超短パルスレーザのパルス幅が０．１ピコ秒以上、１ピコ秒未満の場合
２６６～１０６４ｎｍの波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利である。
（３）超短パルスレーザのパルス幅が１ピコ秒以上、１００ピコ秒未満の場合
２６６～１０６４ｎｍの波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。装置のコスト、生産条件の安定性などにおいても好適。この波長範囲の中では波長が短い方が微細加工においてより有利。
（４）超短パルスレーザのパルス幅が１００ピコ秒以上、１ナノ秒未満の場合
適用波長により、加工安定性に不均一が生じる。例えば適用波長として、短波長側の２６６ｎｍを用いると、ＳｎＯ2の反応とともに、下層側にダメージが生じやすい。また、３５５ｎｍでもわずかな照射条件変動によって、加工の均一性が失われ、除去加工がＳｎＯ2より下層側に到達してしまう現象を防止できない。
（５）超短パルスレーザのパルス幅が１ナノ秒以上
ＳｎＯ2及びそれより表面側の層を選択的に安定して除去する加工ができない。
上記（４）、（５）の場合には、加工されたパターンの視認性に影響が生じる。例えば、眼鏡レンズにおいて、装用者の視界に干渉するリスクが生じる。また、形成された加飾パターンを観察する際、観察者に対してパターンが明瞭に視認できる所定の照明条件以外の場合に、クリアなレンズではなく異物や汚れのあるレンズ認識されうる、不完全な視認状態が生じやすい。
上記のような不都合を防止するためには、超短パルスレーザによる除去加工が、加工径や加工深さにおいて均一であることが肝要であり、そのためには、所定の超短パルス幅を適用することで、照射によるエネルギーの持続時間、及び、下層側材料のアブレーションの遅延を制御、利用することが有用であると考えられる。
このような超短パルスレーザを出射可能であれば、レーザ光源部２１の具体的な構成或いは波長とパルス幅との組み合わせについては、特に限定されるものではない。
ＡＯＭシステム部２２は、ガルバノスキャナ部２４の動作開始直後及び動作終了間際におけるレーザ光のビーム出力をキャンセルすることで、レーザ加工の際の加工ムラの原因となるレーザ光の過大照射を抑制するものである。
ビームシェイパー部２３は、レーザ光源部２１からのレーザ光について、ガウシアン型のエネルギー分布からトップハット型のエネルギー分布に変換することで、均一なエネルギー分布のレーザ光によるレーザ加工を実現可能にするものである。
特に、トップハット型の分布を適用すると、複数のビームスポットを部分的に重畳させて、所定面積の加工領域を形成しようとするときに、安定して均一な加工が行える。スポットの重畳に起因する局所的なエネルギーの過剰付加が抑制されるためである。
ガルバノスキャナ部２４は、レーザ光源部２１からのレーザ光の照射位置を二次元又は三次元で移動させることで、そのレーザ光による走査を実現可能にし、これにより所望パターンのマーキングをレーザ加工によって行えるようにするものである。尚、ガルバノスキャナ部２４によるレーザ光の走査可能範囲（すなわち、レーザ最大加工エリア）４は、加工対象となる眼鏡レンズの外形を完全に包含し得る大きさ及び形状に設定されているものとする（図１参照）。
光学系２５は、テレセントリックレンズ等の光学レンズやミラーを組み合わせて構成されたもので、レーザ光源部２１からのレーザ光が眼鏡レンズの被加工箇所に到達するように、そのレーザ光を導くものである。
また、本実施形態において用いるレーザ加工装置は、図４Ｂに示すように、光学系２５等を経て行うＡＲ膜１３へのレーザ光（すなわち、超短パルスレーザ）の照射を、デフォーカス設定で行い得るように構成されている。デフォーカス設定とは、照射するレーザ光の焦点位置Ｆが、当該レーザ光による被加工箇所であるＡＲ膜１３の表面から所定のデフォーカス距離の分だけ離れて設定されていることをいう。このようなデフォーカス設定でレーザ光の照射を行えば、当該レーザ光が照射されるＡＲ膜１３の表面ではビームエネルギーを分散させることができ、これにより均一な膜除去加工を行うことが実現可能となる。このことは、特に、ＡＲ膜１３の表面形状の影響で被照射箇所の高さに変動が生じ得る場合に非常に有用である。ただし、必ずしもデフォーカス設定に限定されることはなく、例えば、焦点位置ＦがＡＲ膜１３の表面に合致するフォーカス設定、又はデフォーカス設定とは逆方向に焦点位置Ｆが離れるインフォーカス設定で、レーザ光の照射を行うようにしても構わない。
続いて、以上のような構成のレーザ加工装置を用いて行うレーザ加工の手順について説明する。
レーザ加工にあたっては、まず、加工対象となる眼鏡レンズをレーザ加工装置にセットする。このとき、眼鏡レンズの光学面、更に詳しくは当該光学面におけるＡＲ膜１３の表面が被加工面となるように、当該眼鏡レンズのセットを行う。被加工面となる光学面は物体側の面と眼球側の面とのいずれであってもよいが、ここでは例えば眼球側の面を被加工面とする。
眼鏡レンズのセット後は、予め用意されたパターンデータ（すなわち、得ようとする加飾パターンに基づいて作成された、所定解像度のパターンデータ）に基づいて、レーザ光源部２１及びガルバノスキャナ部２４を動作させる。これにより、眼鏡レンズの被加工面の加工エリアには、加飾パターンに対応するパターン形状で、超短パルスレーザが照射される。
超短パルスレーザが照射されると、その超短パルスレーザは、眼鏡レンズの被加工面における撥水膜１４を透過し、その被加工面におけるＡＲ膜１３に到達する。超短パルスレーザが到達すると、ＡＲ膜１３では、超短パルスレーザによる非加熱加工が行われることになる。
本態様のアブレーション加工は、超短パルスレーザの多光子吸収現象により、エネルギー効率の高い加工を行える技術である。更に詳しくは、加工箇所周辺の熱の影響を極力抑え、レーザ光の照射箇所が瞬時に溶融、蒸発、又は昇華し、飛散することで行われる除去加工である。このような非加熱加工によれば、反応性の高い材料が、照射箇所においてが瞬時に除去されるため、加工箇所周辺への熱影響が少なく、熱損傷（熱による変形等）を抑えた加工を行うことができる。
本実施形態に係るレーザ加工は、非熱加工としてのアブレーション加工とすることができる。このような加工は、先に挙げた多光子吸収現象をもたらす多光子吸収過程（例えば２光子吸収過程）を生じさせうる。このため、レーザに対して比較的透明な（透過率が高い）材料に対しても、多光子吸収によれば、効率的で良好な加工ができる。この場合、適用できるレーザ波長の範囲は広く、レーザ光の波長としては、３５５ｎｍ（ＴＨＧ）、５３２ｎｍ（ＳＨＧ）のほか、１０６４ｎｍを有利に用いることができる。
そして上記にて触れたとおり、上記多光子吸収を誘起するためには、パルス幅の短いピコ秒レーザ、フェムト秒レーザが有利である。具体的な数値としては、例えば、パルス幅が１００ピコ秒未満、好ましくは５０ピコ秒未満、更に好ましくは１ピコ秒未満（すなわちフェムト秒）とすることができる。
超短パルスレーザの照射による非加熱加工が行われると、ＡＲ膜１３では、そのＡＲ膜１３を構成する多層構造のうちのＳｉＯ2を透過して反応層（本態様ではＳｎＯ2）に到達し、反応層が瞬時に反応して昇華／蒸発することに伴い、最表層であるＳｉＯ2層１３ａが、除去される。このようにして、加飾パターンに対応するパターン形状で、反射防止膜の差異表面層を含む所定の層のみが、部分的に除去される。また、これに伴って、撥水膜１４の対応部分についても除去される。これにより、照射箇所では、ＳｎＯ2層１３ｂの下層側に位置するＺｒＯ2層１３ｃが露出することになる。
以上のようなレーザ加工を行うことで、ＡＲ膜１３の最表層であるＳｉＯ2層１３ａを含む所定の層が部分的に除去されて（除去箇所が形成されて）、高屈折率層としてのＺｒＯ2層１３ｃが露出するので、これにより眼鏡レンズの被加工面に対して加飾パターンのマーキングがされることになる。
以上のように、所定のレーザ照射が行われた照射箇所が、被加工面の内において部分的に加工されることとなる。
（３）眼鏡レンズの構成
次に、以上の説明した手順の製造方法によって得られる眼鏡レンズの構成、すなわち本実施形態に係る眼鏡レンズの構成について、具体的に説明する。
図５Ａは、本実施形態に係る眼鏡レンズの要部構成例を示す説明図である。
図５Ｂは、ＡＲ膜１３の断面の電子顕微鏡による観察結果の一具体例を示している。図例は、図５Ａ中におけるＡ部及びＢ部を拡大表示したものでレーザスキャン領域１６及び非加工領域１５の電子顕微鏡画像を示している。
図５Ａに示すように、本実施形態に係る眼鏡レンズは、レンズ基材１１の光学面上に、ＨＣ膜１２、ＡＲ膜１３、撥水膜１４が順に積層されて構成されている。そして、ＡＲ膜１３は、低屈折率層であるＳｉＯ2層１３ａと高屈折率層であるＳｎＯ2層１３ｂ及びＺｒＯ2層１３ｃとが積層された多層構造を有しており、その多層構造の最表層であるＳｉＯ2層１３ａを含む所定層（具体的には、反応層であるＳｎＯ2層、及びそれより表面側の層）が部分的に除去されて、高屈折率層であるＺｒＯ2層１３ｃが露出するように構成されている。つまり、本実施形態に係る眼鏡レンズは、レンズ基材１１の光学面がＨＣ膜１２、ＡＲ膜１３及び撥水膜１４によって被覆されている非加工領域１５と、ＡＲ膜１３における最表層のＳｉＯ2層１３ａ、その直下の層であるＳｎＯ2層１３ｂ及び撥水膜１４が部分的に除去されて、高屈折率層であるＺｒＯ2層１３ｃｂが露出することになるレーザスキャン領域（パターン化領域）１６と、を備えて構成されている。
非加工領域１５とレーザスキャン領域１６とは、一方はＳｉＯ2層１３ａで覆われ他方はＺｒＯ2層１３ｃ（又は反応層が一部残留する場合には、高屈折層である該反応層）が露出しているので、ＳｉＯ2層１３ａの有無により、それぞれにおける光の反射率が相違する。そのため、眼鏡レンズに照明光が照射した状態を外観視したときに、レーザスキャン領域１６が形成するパターン形状を視認し得るようになる。つまり、加飾パターンに対応するパターン形状でレーザスキャン領域１６が形成されていれば、その加飾パターンを視認することができる。このように、ＡＲ膜１３の所定層の除去箇所は、加飾パターンを構成するものとして利用することが可能となる。
加飾パターンを構成するレーザスキャン領域１６は、ＡＲ膜１３の最表層であるＳｉＯ2層１３ａと、その直下の層であるＳｎＯ2層１３ｂとが除去されて形成されている。つまり、除去対象が、反応層であるＳｎＯ2を含む所定の層に止められている。そのため、ＡＲ膜１３を構成する多層構造の各層について、レーザスキャン領域１６の形成に起因して剥がれが生じてしまうのを抑制することができる。
ＡＲ膜１３の最表層であるＳｉＯ2層１３ａの除去は、既述のように、超短パルスレーザの照射による非加熱加工によって実現可能である。このような非加熱加工によれば、加工箇所周辺への熱影響が少なく、熱損傷が生じてしまうのを抑えることができる。また、上記所定のパルス幅を適用することにより、反応層より下層側へのダメージを抑止しつつ、安定した加工が行える。これにより高屈折率層としてのＺｒＯ2層１３ｃが露出することになるが、そのＺｒＯ2層１３ｃの露出表面にダメージが生じるのを抑制することができる。
ＺｒＯ2層１３ｃの露出表面へのダメージを抑制できれば、そのＺｒＯ2層１３ｃでは、除去加工に伴う膜厚の減少についても抑制することができる。ＳｉＯ2層１３ａ、ＳｎＯ2層１３ｂ、ＺｒＯ2層１３ｃ等の膜厚については、ＡＲ膜１３の断面の電子顕微鏡画像を取得し、その取得画像を解析することによって特定することが可能である。
図５Ｂは、ＡＲ膜１３の断面の電子顕微鏡による観察結果の一具体例を示している。図例は、図５Ａ中におけるＡ部及びＢ部を拡大表示したものでレーザスキャン領域１６及び非加工領域１５の電子顕微鏡画像を示している。尚、非加工領域１５では、ＳｉＯ2層１３ａ、ＳｎＯ2層１３ｂ及びＺｒＯ2層１３ｃが積層されているが、ＳｎＯ2層１３ｂが薄厚（例えば５ｎｍ程度）のため、画像中においては認識し難くなっている。一方、レーザスキャン領域１６では、ＳｎＯ2層１３ｂ及びそれより表面側のＳｉＯ2が除去されて、これによりＺｒＯ2層１３ｃが露出している。
図例の電子顕微鏡画像によれば、ＳｎＯ2及びそれより表面側の層の除去によって露出することになるＺｒＯ2層１３ｃにおいて、レーザスキャン領域１６の部分の厚さｔ１と、非加工領域１５の部分の厚さｔ２とで、それぞれに大きな違いがないことが分かる。更に具体的には、除去箇所の厚さｔ１と非除去箇所の厚さｔ２との比ｔ１／ｔ２が、例えば、０．９０以上１．００以下の範囲内、好ましくは０．９５以上１．００以下の範囲内、より好ましくは０．９９以上１．００以下の範囲内に属するようになっている。
このように、露出する高屈折率層であるＺｒＯ2層１３ｃでは、除去加工に伴う膜厚の減少が生じていないか、又は減少が生じていてもその減少量が極めて小さくなるように抑制されている。レーザスキャン領域１６が超短パルスレーザの照射による非加熱加工によって形成され、下層であるＺｒＯ2層１３ｃにダメージが生じないからである。このことは、露出するＺｒＯ2層１３ｃの厚さの比ｔ１／ｔ２が上述の範囲内に属していれば、そのＺｒＯ2層１３ｃにダメージが及ぶことなくレーザスキャン領域１６が形成されており、そのレーザスキャン領域１６の形成が超短パルスレーザによる非加熱加工を利用して行われたものと推定できることを意味する。
ＺｒＯ2層１３へのダメージが生じないのは、超短パルスレーザによる反応層（ここではＳｎＯ2層）の反応性が、ＺｒＯ2より高いためである。そして、この反応性の差異は、後述するように、所定のパルス幅の超短パルスレーザの適用によって、顕著に得られる。
尚、ＳｎＯ2層に対して、ＺｒＯ2層の厚さが１０倍以上、好ましくは１５倍以上であることにより、ＳｎＯ2層が消失したのち、ＺｒＯ2層がわずかに減膜した場合においても、膜剥れのリスクや加飾パターンの視認性に影響はない。
更に、ＳｎＯ2の融点は、上層側のＳｉＯ2よりも低く、また、下層側のＺｒＯ2よりも大幅に低いことも、アブレーションの制御の容易さに関与していると考えられる。
以上のように構成された眼鏡レンズによれば、加飾パターンがマーキングされていても、多層構造のＡＲ膜１３を構成する各層の剥がれが生じてしまうのを抑制でき、また露出するＺｒＯ2層１３ｃにダメージが生じてしまうこともない。そのため、眼鏡レンズの製品に適用した場合であっても、その製品の品質の低下を招くことなく、眼鏡レンズに対する加飾パターンのマーキングを行うことが実現可能である。
以下、パルス幅の違いと、光学部材の品質の低下を招くことなく当該光学部材にマーキングを行えるか否かとの間の関係を説明する。以降の図において、白色部分（例：ドットパターン）がレーザスキャン領域１６であり、青色（黒色）部分が非加工領域１５である。以降、マーキングを行うことをレーザ加工ともいう。
（フェムト秒のパルス幅）
図５Ｂに示す眼鏡レンズ１（ここでは両面平板のｐｌａｎｏレンズ）の非加工領域１５におけるＡＲ膜１３に対し、パルス幅を１００フェムト秒以上１ピコ秒未満としてレーザ加工試験を行った。その際、レーザ光の波長を、１０６４ｎｍ（赤外領域、第一高調波）、５３２ｎｍ（緑色領域、第二高調波）と各々設定したうえで各試験を行った。
図６Ａは、図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜１３に対し、レーザ光の波長を１０６４ｎｍとし、パルス幅を１００フェムト秒以上１ピコ秒未満として、ドットパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は２００倍）である。
図６Ｂは、図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜１３に対し、レーザ光の波長を５３２ｎｍとし、パルス幅を１００フェムト秒以上１ピコ秒未満として、ドットパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は２００倍）である。レーザ光による加工径は約２７μｍである。
図６Ａ及び図６Ｂに示すように、パルス幅を１００フェムト秒以上１ピコ秒未満とした場合、安定して径と深さが均一となる除去加工が行えた。特に、図６Ｂに示すように、レーザ光の波長が低波長である場合、小径の加工が行いやすく、効果がより顕著であった。
（ピコ秒のパルス幅）
図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜１３に対し、パルス幅を１０数ピコ秒としてレーザ加工試験を行った。その際、レーザ光の波長を、１０６４ｎｍ（赤外領域、第一高調波）、５３２ｎｍ（緑色領域、第二高調波）に加え、３５５ｎｍ（紫外（ＵＶ）領域、第三高調波）と各々設定したうえで各試験を行った。
なお、「１０数ピコ秒」の「１０数」とは、１０を超え、２０未満の範囲の値である。
図７Ａは、図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜１３に対し、レーザ光の波長を１０６４ｎｍとし、パルス幅を１０数ピコ秒として、ドットパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は２００倍）である。
図７Ｂは、図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜１３に対し、レーザ光の波長を５３２ｎｍとし、パルス幅を１０数ピコ秒として、ドットパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は２００倍）である。
図７Ｃは、図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜１３に対し、レーザ光の波長を３５５ｎｍとし、パルス幅を１０数ピコ秒として、ドットパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は２００倍）である。
図７Ａ、図７Ｂ及び図７Ｃに示すように、パルス幅を数１０ピコ秒とした場合、安定した深さの除去加工を行い、当該光学部材にマーキングを行えた。尚、図７Ａ、図７Ｂは、デフォーカスを＋３ｍｍとしている。通常、デフォーカスの条件としては、±１ｍｍまでは十分に適用可能である。つまり、本実施形態ならば、フォーカス変動に対しても安定して光学部材の品質の低下を招くことなく当該光学部材にマーキングを行える。
なお、「数１０」は、２０以上、９０未満の範囲の値である。
図８Ａは、図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜１３に対し、レーザ光の波長を３５５ｎｍとし、パルス幅を１０数ピコ秒として、ドットパターンを重複させて隙間なく除去加工を行う試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は２００倍）である。ＳｎＯ2の反応層及びそれより表面側のＳｉＯ2層が均一に除去されて、良好な加工が行えた。
図８Ｂは、図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜１３に対し、レーザ光の波長を５３２ｎｍとし、パルス幅を"数１０"ピコ秒として、ドットパターンを重複させて隙間のない除去加工を行う試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は２００倍）である。
図８Ａ及び図８Ｂに示すように、パルス幅を１０数ピコ秒又は数１０ピコ秒とした場合、当該光学部材にマーキングを行えた。特に、図８Ｂには、局所的に、ＳｎＯ2層の下層側にダメージが生じたが、図８Ａに示すように、パルス幅を１０数ピコ秒とした場合、均一な除去加工が行えた。
（ナノ秒のパルス幅）
図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜１３に対し、パルス幅を１０数ナノ秒としてレーザ加工試験を行った。その際、レーザ光の波長を、３５５ｎｍ（紫外（ＵＶ）領域、第三高調波）、２６６ｎｍ（深紫外（ＤＵＶ）領域、第四高調波）と各々設定したうえで各試験を行った。
図９Ａは、図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜１３に対し、レーザ光の波長を３５５ｎｍとし、パルス幅を１０数ナノ秒として、ドットパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は５０倍）である。
図９Ｂは、図５Ｂに示す眼鏡レンズ１のＡＲ膜１３に対し、レーザ光の波長を２６６ｎｍとし、パルス幅を１０数ナノ秒として、ドットパターンを形成する試験を行った結果を示す顕微鏡写真（倍率は左側５０倍、右側４画像５００倍）である。
図９Ａに示すように、パルス幅を１０数ナノ秒とした場合、レーザ出力が小さい場合、加工自体が行えなかった。加工が行える程度にまでレーザ出力を上げると、下層のＺｒＯ２にダメージが生じた。
加工条件が安定せず、下層にダメージが生じることにより、本実施形態の眼鏡レンズ１に比べ、加飾パターンが、眼鏡レンズの装用者自身に視認されてしまい、視界を遮ることから、眼鏡としての機能を損なうリスクがある。また、加工部分が、本実施形態の眼鏡レンズ１に比べ、膜剥れが生じやすく、耐候性、耐薬性も劣化しかねない。
図９Ｂに示すように、レーザ光のフォーカスを変化させることにより加工自体は行えたものの、加工ムラが大きく、フォーカスによっては想定よりも下層にダメージが生じた。所望の深さに均一に安定して加工することが困難であった。
本実施形態によれば、以下に示す１つ又は複数の効果が得られる。
（ａ）本実施形態においては、レンズ基材１１の光学面を被覆する薄膜の一つであるＡＲ膜１３に対して、そのＡＲ膜１３の反応層（上記態様ではＳｎＯ2）及びそれより表面側の層を部分的に除去し、これにより高屈折率層であるＺｒＯ2層１３ｃを露出させることで、眼鏡レンズに加飾パターンのマーキングを行う。
（ｂ）本実施形態においては、超短パルスレーザの照射による非加熱加工を行って、ＡＲ膜１３の反応層（上記態様ではＳｎＯ2）及びそれより表面側の層を部分的に除去し、これにより高屈折率層であるＺｒＯ2層１３ｃを露出させることで、眼鏡レンズに加飾パターンのマーキングを行う。このような非加熱加工によれば、レーザ光の吸収エネルギー効果よりもパルス幅の効果によって除去加工を行うため、ＡＲ膜１３の最表層であるＳｉＯ2層１３ａを含む所定の層のみを選択的に、均一に除去することが可能となる。しかも、非加熱加工であるが故に、加工箇所周辺に熱損傷が生じてしまうのを抑えることができ、これにより反応層の下層側にあるＺｒＯ2層１３ｃの露出表面にダメージが生じるのを抑制することができる。
（ｃ）以上のように、本実施形態においては、超短パルスレーザを利用しつつＡＲ膜１３の最表層を含む所定の層を除去し、高屈折率層を露出させることで、眼鏡レンズに加飾パターンのマーキングを行う。従って、本実施形態によれば、ＡＲ膜１３の各層に剥がれが生じてしまうことを抑制でき、また露出するＺｒＯ2層１３ｃにダメージが生じてしまうこともないので、眼鏡レンズの製品に適用した場合であっても、その製品の品質の低下を招くことなく、眼鏡レンズに対する加飾パターンのマーキングを行うことが実現可能となる。
（ｄ）本実施形態においては、超短パルスレーザのパルス幅は、０フェムト秒を超えるものであればよいが、０．０１ピコ（１０フェムト）秒以上１００ピコ秒未満のものが好ましく、０．１ピコ秒以上のもの（１ピコ秒以上のものを含む。）を用いると、装置の維持管理やコストの点で有利であり、商業的な利用により好適である。
より具体的には、レーザ照射条件について、パルス幅に応じて以下の利点がある
（１）超短パルスレーザのパルス幅が０．１ピコ秒未満の場合
２６６～１０６４ｎｍの波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利。但し、装置の維持管理やコストの点で、生産負荷が大きい。
（２）超短パルスレーザのパルス幅が０．１ピコ秒以上、１ピコ秒未満の場合
２６６～１０６４ｎｍの波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利である。
（３）超短パルスレーザのパルス幅が１ピコ秒以上、１００ピコ秒未満の場合
２６６～１０６４ｎｍの波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利。装置の維持管理、コスト、生産条件の安定性などにおいて好適。
（ｅ）本実施形態においては、超短パルスレーザの照射による非加熱加工にあたり、ＡＲ膜１３に対する超短パルスレーザの照射をデフォーカス設定で行う。このようなデフォーカス設定でレーザ光の照射を行えば、当該レーザ光が照射されるＡＲ膜１３の表面ではビームエネルギーを分散させることができ、これにより均一な膜除去加工を行うことが実現可能となる。このことは、特に、ＡＲ膜１３の表面形状の影響で被照射箇所の高さに変動が生じ得る場合に非常に有用である。
（ｆ）本実施形態においては、所定条件にて超短パルスレーザの照射による非加熱加工を行うので、ＳｎＯ2及びそれより表面側の層の除去によって露出することになる高屈折率層としてのＺｒＯ2層１３ｃの露出表面のダメージを抑制することができる。具体的には、かかる除去箇所におけるＺｒＯ2層１３ｃの厚さｔ１とＳｉＯ2層１３ａ等の非除去箇所におけるＺｒＯ2層１３ｃの厚さｔ２との比ｔ１／ｔ２が、例えば、０．９０以上１．００以下の範囲内、好ましくは０．９５以上１．００以下の範囲内、より好ましくは０．９９以上１．００以下の範囲内に属するようになる。このように、ＺｒＯ2層１３ｃでは、上記除去加工に伴う膜厚の減少が生じていないか、又は減少が生じていてもその減少量が極めて小さくなるように抑制されている。従って、眼鏡レンズの製品に適用した場合に、その製品の品質の低下を招くことなく、眼鏡レンズに対する加飾パターンのマーキングを行う上で、非常に好ましいものとなる。
（５）変形例等
以上に本発明の実施形態を説明したが、上述した開示内容は、本発明の例示的な実施形態を示すものである。すなわち、本発明の技術的範囲は、上述の例示的な実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である
上述の実施形態では、光学部材が眼鏡レンズである場合を例に挙げたが、本発明がこれに限定されることはない。つまり、眼鏡レンズ以外の光学部材についても、全く同様に適用することが可能である。
上述の実施形態では、超短パルスレーザを用いた非加熱加工によって加飾パターンのマーキングを行う場合を例に挙げたが、本発明がこれに限定されることはない。つまり、超短パルスレーザを用いた非加熱加工は、光学部材の光学面に何らかのパターニングを行うためのものであればよく、加飾パターンのマーキング以外にも全く同様に適用することが可能である。
上述の実施形態では、ＡＲ膜１３の最表層が低屈折率層としてのＳｉＯ2層１３ａであり、ＳｉＯ2層１３ａの下方側の層が高屈折率層としての反応層であるＳｎＯ2層１３ｂであり、更に下層側に高屈折率層としてのＺｒＯ2層１３ｃがあり、ＳｎＯ2がレーザ照射によって反応し、部分的に除去されると、これに伴いＳｉＯ2も除去され、これにより高屈折率層としてのＺｒＯ2層１３ｃが露出する場合を例に挙げたが、本発明がこれに限定されることはない。ＡＲ膜１３は、ＳｉＯ2層１３ａ、ＳｎＯ2層１３ｂ、ＺｒＯ2層１３ｃ以外の各層が積層されて構成されたものであってもよい。また、ＡＲ膜１３の最表層は、低屈折率層であれば、ＳｉＯ2層１３ａ以外の物であってもよい。高屈折率層としては、ＳｎＯ2層１３ｂ又はＺｒＯ2層１３ｃ以外の物であってもよい。例えば、反応層としてのＳｎＯ2層１３ｂについては、該ＳｎＯ2層１３ｂに代わって導電性を有する薄厚のＩＴＯ層としてもよい。
上述の実施形態では、超短パルスレーザを用いた非加熱加工によって、ＡＲ膜１３に含まれる反応層であるＳｎＯ2層と、その直上であって最表層であるＳｉＯ2層１３ａが除去される場合を例に挙げている。これにより、既述のように、膜剥がれを抑制できるという効果を奏する。このように、超短パルスレーザを用いた非加熱加工は、最表層を含む所定の複数層を除去するように行うことが実現可能である。最表層を含む複数層を除去する場合であっても、超短パルスレーザを用いた非加熱加工によれば、除去によって露出することになる層の露出表面へのダメージを抑制できるので、除去加工に伴う膜厚の減少についても抑制することができる。つまり、最表層を含む複数層を除去する場合であっても、除去された層の直下の層について、除去箇所の厚さｔ１と非除去箇所の厚さｔ２との比ｔ１／ｔ２が、例えば、０．９０以上１．００以下の範囲内、好ましくは０．９５以上１．００以下の範囲内、より好ましくは０．９９以上１．００以下の範囲内に属するようになる。このことは、本開示が以下のような発明概念を含むことを意味する。
すなわち、本開示によれば、
光学面を有する光学基材と、
前記光学基材の前記光学面を被覆する反射防止膜と、を備え、
前記反射防止膜は、多層構造を有するとともに、前記多層構造を構成する少なくとも一つの層が部分的に除去されて構成されており、
前記少なくとも一つの層の直下の層は、前記少なくとも一つの層の除去箇所の厚さｔ１と前記少なくとも一つの層の非除去箇所の厚さｔ２との比ｔ１／ｔ２が０．９０以上１．００以下の範囲内に属するように構成されている
光学部材。
本実施形態におけるレーザ加工前の眼鏡レンズは、両面に反射防止膜が設けられてもよい。該眼鏡レンズの一具体例としては国際公開公報ＷＯ２０２０／０６７４０７号に記載の内容が挙げられる。該公報の記載は本明細書にて全て参照可能である。特に該公報に記載の実施例１、２の構成（いずれか一つを挙げるとするならば実施例１）の眼鏡レンズを一具体例として採用してもよい。本実施形態における加飾前の眼鏡レンズの一具体例としては以下の通りである。
一具体例の眼鏡レンズは、
レンズ基材の両面に多層膜を備える眼鏡レンズであって、
前記眼鏡レンズの各面における３６０～４００ｎｍの波長帯域での平均反射率の和は６．０％以下であり、
前記眼鏡レンズの各面における４００～４４０ｎｍの波長帯域での平均反射率の和は２０．０％以上であり、
前記眼鏡レンズの各面における４８０～６８０ｎｍの波長帯域での平均反射率の和は２．０％以下である、眼鏡レンズである
つまり、青色領域の光のうち、特に遮断すべき紫色領域（４００～４４０ｎｍ）では各面の平均反射率の和を２０．０％以上（好適には２０．０％を超え、更に好適には２５．０％以上）とする。つまり、前記紫色領域にて局所的に反射率を増大させる。
その代わり、紫外領域ないし紫色領域の低波長側（３６０～４００ｎｍ）では各面の平均反射率の和を６．０％以下（好適には６．０％未満、更に好適には５．０％以下）とし、紫色領域（４００～４４０ｎｍ）の場合とは逆に、局所的に反射率を減少させる。
更に、青色の波長領域のうちの高波長側ないし赤色領域（４８０～６８０ｎｍ）では各面の平均反射率の和を２．０％以下（好適には２．０％未満、更に好適には１．５％以下）とし、可視光線の透過を狙うべく、可視光の主な波長帯域では特に局所的に反射率を減少させる。
このような一具体例ならば、前記青色領域の光に対する遮断効果を確保しつつも可視光線の透過も確保できる。
この一具体例の眼鏡レンズに対して本実施形態に係るレーザ加工が行われると、以下の有利な効果を奏する。この一具体例の眼鏡レンズは、青色領域の光に対する遮断効果が確保されている、つまり青色領域の光の反射率が高い。そのため、眼鏡レンズ１の装用者の正面に相対する第三者から前記眼鏡レンズ１を見た時、眼鏡レンズは青色に見える。その一方、レーザ加工が行われた箇所（加飾パターン３）は、レーザ加工により露出した層の色（この一具体例においてはＺｒＯ2層の色である黄色ないし金色）に見える。その結果、眼鏡レンズ１の装用者の正面に相対する第三者にとっては、フレームに嵌め入れられた眼鏡レンズ１において、加飾パターン３が、青色の背景に浮かび上がるように見える。その場合、意匠的な効果が高い加飾パターン３が得らえる。これは、青色の背景ではない場合、すなわち青色領域の光の反射率が高いのではなく他の色の領域の光の反射率が高い場合でも同様である。背景となる色の一例としては、眼鏡レンズ１の装用者の正面に相対する第三者から前記眼鏡レンズ１を見た時、眼鏡レンズ１は緑色又はパール色が挙げられる。
上記の加飾パターン３の視認時の良好なコントラストの態様は、眼鏡レンズの物体側の面の各多層膜に対するレーザ加工であっても、眼球側の面の各多層膜に対するレーザ加工であっても、実現可能である。
尚、いずれの面の各多層膜に対するレーザ加工であっても、加飾パターンが装用者の視野に入ることによる視界の干渉は実質的に生じない。すなわち本態様の加飾パターン３が施された眼鏡レンズは、装用者のクリアな視界を阻害しない。
また、他人から装用者のレンズを観察する際には、室内の照明光や太陽光に対して所定の相対位置（又は角度）に装用者のレンズがあるとき、加飾パターン３が明瞭に視認されるが、上記相対位置にない場合には、視認されにくくなる。従って、所定の加飾パターン３が明瞭に現れたり、ほぼ消失したりという、視認性の変化による、デザイン上の付加価値をレンズに付与することができる。
一方、上記の所定の相対位置関係にないときには、他人から見たとき、通常のクリアなレンズ（又は、所定のカラーレンズ、調光レンズ、偏光レンズ）として認識される。
本態様の加飾パターン３は、フレームカットされたレンズ領域内に形成しても、眼鏡の機能に影響せずに、所望の文字や記号、又は図柄をレンズに担持させたり、所望のデザインをレンズに施すことができる。
本態様の加飾パターン３は、レンズの加工面側からでも、裏面側からでも視認しうる加工である。多層構造の反射防止膜において、一部を除去（本態様ではＳｎＯ２およびその上層側のＳｉＯ２を除去）した除去箇所においては、設計された反射防止性が低減し、非除去箇所との間で、反射光量のコントラストが得られるからである。
そのため、本発明の技術的思想は、本実施形態に係る光学部材の製造方法で製造された光学部材である眼鏡レンズ、又は、本実施形態に係る光学部材である眼鏡レンズを、フレームに嵌め入れた眼鏡にも及ぶ。
１…眼鏡レンズ（光学部材）、２…フレーム形状、３…加飾パターン、４…走査可能範囲、１１…レンズ基材（光学基材）、１２…ＨＣ膜、１３…ＡＲ膜、１３ａ…ＳｉＯ2層（低屈折率層）、１３ｂ…ＳｎＯ2層（高屈折率層）、１３ｃ…ＺｒＯ2層（高屈折率層）、１４…撥水膜、１５…非加工領域、１６…レーザスキャン領域（パターン化領域）、２１…レーザ光源部、２２…ＡＯＭシステム部、２３…ビームシェイパー部、２４…ガルバノスキャナ部、２５…光学系

Claims (13)

  1. 光学基材の光学面を被覆するように形成された、低屈折率層と高屈折率層の積層を含む多層構造の反射防止膜に対して、超短パルスレーザの照射を行い、前記多層構造の最表層を含む所定の層を部分的に除去することにより、所望のレーザ加工を施す光学部材の製造方法であって、
    前記超短パルスレーザは、パルス幅が１０フェムト秒以上１００ピコ秒未満であり、
    前記反射防止膜は、前記超短パルスレーザの照射に対して、前記多層構造に含まれる他の層よりも相対的に反応性の高い反応層を含み、
    前記照射によって、前記反応層が少なくとも部分的に除去されることによって、可視光により視認しうる前記レーザ加工が施される、光学部材の製造方法。
  2. 前記反応層の除去においては、前記反応層が厚み方向に少なくとも部分的に昇華、又は蒸発することによって消失し、前記消失に伴い、前記反応層より上層側に積層する他の層が除去される、請求項１に記載の光学部材の製造方法。
  3. 前記照射によって、前記反応層の除去が生じた照射部には、前記多層構造に含まれる、高屈折率層が露出する、請求項１又は２に記載の光学部材の製造方法。
  4. 前記反応層は、前記多層構造を構成する他の層よりも導電性が高い導電層である、請求項１から３のいずれか１項に記載の光学部材の製造方法。
  5. 前記反応層は、ＳｎとＯを含む、請求項１から４のいずれか１項に記載の光学部材の製造方法。
  6. 前記光学部材は、眼鏡レンズである、請求項１から５のいずれか１項に記載の光学部材の製造方法。
  7. 前記超短パルスレーザは、パルス幅が０．１ピコ秒以上５０ピコ秒未満である、請求項１から６のいずれか１項に記載の光学部材の製造方法。
  8. 光学面を有する光学基材と、
    前記光学基材の前記光学面を被覆する反射防止膜と、を備え、
    前記反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層の積層を含む多層構造を有し、
    前記反射防止膜は、超短パルスレーザの照射に対する反応性が、前記反射防止膜に含まれる他の層よりも相対的に高い反応層を含み、
    前記多層構造の最表層を含む所定の層が少なくとも部分的に除去されて形成された除去箇所には、前記反応層の下層側にある前記高屈折率層、又は、一部残留する前記反応層が露出していることにより、前記除去箇所が可視光により視認しうる加工が施されている、光学部材。
  9. 前記低屈折率層の除去によって露出する前記高屈折率層は、前記低屈折率層の除去箇所の厚さｔ１と前記低屈折率層の非除去箇所の厚さｔ２との比ｔ１／ｔ２が０．９０以上１．００以下の範囲内に属する、請求項８に記載の光学部材。
  10. 前記視認しうる加工は、前記光学部材の前記加工が施された被加工面側から視認しうるとともに、前記被加工面の裏面側からも視認しうる、請求項８又は９に記載の光学部材。
  11. 前記視認しうる加工は、前記光学部材に対する観察者及び照明光との相対位置又は角度によって、視認性が変わる、請求項８から１０のいずれか１項に記載の光学部材。
  12. 前記光学部材は、眼鏡レンズである、請求項８から１１のいずれか１項に記載の光学部材。
  13. 請求項１から７のいずれか１項に記載の光学部材の製造方法で製造された光学部材である眼鏡レンズ、又は、請求項８から１２のいずれか１項に記載の光学部材である眼鏡レンズを、フレームに嵌め入れた、眼鏡。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04116502A (ja) * 1990-09-06 1992-04-17 Konica Corp 導電性反射防止コート
JP3081395B2 (ja) * 1992-12-28 2000-08-28 ホーヤ株式会社 レーザマーキング方法
JP2001293818A (ja) * 2000-04-11 2001-10-23 Oike Ind Co Ltd 反射防止性ハードコートフイルム
WO2005001552A1 (ja) * 2003-06-27 2005-01-06 Seiko Epson Corporation 眼鏡レンズの製造方法、マーキング装置、マーキングシステム、眼鏡レンズ
FR2985255B1 (fr) * 2011-12-28 2015-08-07 Ecole Polytech Article revetu d'un revetement interferentiel ayant des proprietes stables dans le temps.
US9933632B2 (en) * 2014-03-26 2018-04-03 Indizen Optical Technologies, S.L. Eyewear lens production by multi-layer additive techniques
JP6427968B2 (ja) * 2014-06-09 2018-11-28 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム及びディスプレイ
JP2016007612A (ja) * 2014-06-23 2016-01-18 株式会社エツミ光学 多層蒸着体のマーキング法及び多層蒸着体
JP6628974B2 (ja) * 2015-03-30 2020-01-15 リンテック株式会社 透明導電性フィルム
FR3054043B1 (fr) 2016-07-18 2018-07-27 Essilor Int Procede de marquage permanent visible d'article optique et article optique marque
EP3647859A4 (en) * 2017-06-28 2021-02-24 Hoya Lens Thailand Ltd. EYEGLASS GLASS MANUFACTURING PROCESS, EYEGLASS GLASS AND GLASS MANUFACTURING SYSTEM
JP2021012224A (ja) * 2017-10-27 2021-02-04 株式会社ニコン 光学素子、光学系、及び、光学装置
CN112840263B (zh) 2018-09-28 2024-05-07 豪雅镜片泰国有限公司 眼镜镜片

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