JP2023080840A - 検査装置、及び検査装置の調整方法 - Google Patents

Abstract

【課題】プリズムの表面反射光を検出して揺動機構の動作を精度良く確認するためには、光をプリズムの所望の位置に照射する必要がある。しかしながら、光をプリズムの所望の位置に照射しているか否かを確認する機能を有していないと揺動機構の動作を精度良く確認することが困難である。本開示の目的は、揺動機構の動作を精度良く確認することが可能な検査装置、及び検査装置の調整方法を提供することにある。【解決手段】検査装置は、光学ユニットの検査装置である。光学ユニットは、光学要素と、光学要素を揺動させる揺動機構とを有する。検査装置は、支持部２１と、照射部３ａと、撮像部１１０とを有する。支持部は、光学ユニットを支持可能である。照射部は、支持部に支持された対象物にレーザ光Ｌを照射する。撮像部は、対象物に照射された光と対象物とを撮像する。【選択図】図９

Description

本開示は、検査装置、及び検査装置の調整方法に関する。

カメラによって静止画又は動画を撮影する際に手振れに起因して像ブレが生じることがある。そして、像ブレを抑制して鮮明な撮影を可能にするための手振れ補正装置が実用化されている。手振れ補正装置は、カメラが手振れした場合に、手振れに応じてカメラモジュールの姿勢を補正することによって像ブレを抑制する（例えば、特許文献１参照）。

このような手振れ補正装置は、例えば、プリズムと、プリズムを揺動させる揺動機構とを有する。像ブレの補正精度を向上させるためには、揺動機構の動作を確認する必要がある。揺動機構が正確に動作することを確認する方法としては、プリズムに光を照射し、その反射光を検出することによってプリズムの揺動角度を検出することが考えられる。

しかしながら、プリズムで反射した光を測定することは非常に困難であるため、現状では、プリズムの代わりに金属などからなるダミープリズムを手振れ補正装置に搭載し、ダミープリズムに光を照射してその反射光を検出することによって、揺動機構の動作を確認している。手振れ補正装置をカメラ等に搭載する場合、動作確認後の手振れ補正装置からダミープリズムを取り外し、その後、手振れ補正装置にプリズムを搭載していた。このため、プリズムを搭載した後の手振れ補正装置が実際に所望の動作を行っているか不明であった。

中国実用新案登録第２０６００２７５２号明細書

ところで、近年、プリズムの表面反射光を検出して揺動機構の動作を確認する方法を考案するメーカーが現われ、検査装置の試作品の提供を開始している。揺動機構の動作を精度良く確認するためには、光をプリズムの所望の位置に照射する必要がある。

しかしながら、上記試作品は、光をプリズムの所望の位置に照射しているか否かを確認する機能を有していないため、揺動機構の動作を精度良く確認することが困難である。

本開示は上記課題に鑑みてなされた。本開示の目的は、揺動機構の動作を精度良く確認することが可能な検査装置、及び検査装置の調整方法を提供することにある。

本開示の例示的な検査装置は、光学ユニットの検査装置である。前記光学ユニットは、光学要素と、前記光学要素を揺動させる揺動機構とを有する。前記検査装置は、支持部と、照射部と、撮像部とを有する。前記支持部は、前記光学ユニットを支持可能である。前記照射部は、前記支持部に支持された対象物にレーザ光を照射する。前記撮像部は、前記対象物に照射された光と前記対象物とを撮像する。

例示的な本開示によれば、揺動機構の動作を精度良く確認することができる。

図１は、第１実施形態の検査装置を示す側面図である。 図２は、本実施形態の検査装置によって検査される光学ユニットの斜視図である。 図３は、光学ユニットの分解斜視図である。 図４は、可動体の斜視図である。 図５は、可動体の別の斜視図である。 図６は、支持体の斜視図である。 図７は、第１実施形態の検査装置の構成を示すブロック図である。 図８は、角度測定部の光出射部、受光部及び光学ユニット周辺の構成を示す図である。 図９は、角度測定部と支持台との相対位置を補正する際における、角度測定部の光出射部、受光部及びダミー光学ユニット周辺の構成を示す図である。 図１０は、画像形成部によって生成される撮像画像の一例を示す図である。 図１１は、第１実施形態の検査装置の角度測定部と支持台との相対位置を調整するフローを示す図である。 図１２は、第２実施形態の検査装置の支持台周辺の構造を示す拡大側面図である。 図１３は、第２実施形態の検査装置の角度測定部と支持台との相対位置を調整するフローを示す図である。

以下、図面を参照して、本開示に係る検査装置の例示的な実施形態を説明する。ただし、本開示は以下の実施形態に限定されない。なお、説明が重複する箇所については、適宜説明を省略する場合がある。また、図中、同一又は相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。

本明細書では、理解を容易にするため、互いに直交するＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向を記載することがある。典型的には、Ｘ方向及びＹ方向は水平方向に平行であり、Ｚ方向は鉛直方向に平行である。

（第１実施形態）
まず、図１を参照して、第１実施形態の検査装置１００を説明する。図１は、第１実施形態の検査装置１００を示す側面図である。より詳しくは、図１は、＋Ｙ側から見た検査装置１００を示す。

図１に示すように、検査装置１００は、光学ユニット３００を検査する検査装置である。光学ユニット３００は、図２～図６を参照して後述するように、光学要素３１１と、揺動機構３２１とを有する。揺動機構３２１は、光学要素３１１を揺動させる。検査装置１００の検査対象は、光学ユニット３００である。本実施形態において、揺動機構３２１は、第１回転軸線ＡＸ１を中心に光学要素３１１を揺動させる。また、揺動機構３２１は、第２回転軸線ＡＸ２を中心に光学要素３１１を揺動させる。なお、光学ユニット３００は、スマートフォン、デジタルカメラ、ビデオカメラなどの撮像が可能な種々の電子機器に搭載することができる。以下、スマートフォン、デジタルカメラ、ビデオカメラなどの撮像が可能な種々の電子機器を、「撮像装置」と記載する場合がある。

第１回転軸線ＡＸ１は、Ｚ方向と平行な仮想軸である。第１回転軸線ＡＸ１は、例えば、光学要素３１１の中心を通る。第１回転軸線ＡＸ１を中心とする光学要素３１１の揺動範囲は、例えば、－４°以上＋４°以下である。

第２回転軸線ＡＸ２は、Ｙ方向と平行な仮想軸である。第２回転軸線ＡＸ２は、例えば、光学要素３１１の中心を通る。第２回転軸線ＡＸ２を中心とする光学要素３１１の揺動範囲は、例えば、－４°以上＋４°以下である。

図１に示すように、検査装置１００は、第１支持部２と、角度測定部３と、駆動部４とを有する。第１支持部２は、光学ユニット３００を支持する。駆動部４は、光学ユニット３００の揺動機構３２１を駆動して、光学要素３１１を揺動させる。角度測定部３は、光学要素３１１の揺動角度を測定する。本実施形態において、角度測定部３は、レーザ光Ｌを光学ユニット３００の光学要素３１１に向けて出射する。角度測定部３は、光学要素３１１から反射したレーザ光Ｌに基づいて揺動角度を測定する。レーザ光Ｌは、例えば、赤外線レーザである。

本実施形態では、検査装置１００は、光出射部３ａ及び受光部３ｂを有する。具体的には、角度測定部３は、レーザ光Ｌを出射する光出射部３ａと、光を受光する受光部３ｂとを有する。光出射部３ａは、レーザ光を出射する半導体レーザ等のレーザ素子を有する。受光部３ｂは、光を受光する半導体素子等の受光素子を有する。なお、光出射部３ａは、本発明の「照射部」の一例である。

本実施形態によれば、駆動部４により、光学ユニット３００の光学要素３１１を揺動させることができる。従って、角度測定部３により、揺動する光学要素３１１の揺動角度を測定することができる。よって、例えば、光学ユニット３００の出荷前の検査工程において、光学ユニット３００が良品であるか否かを判別できる。具体的には、揺動機構３２１の動作に応じた角度だけ、光学要素３１１が揺動するか否かを判別できる。

続いて、図１を参照して、本実施形態の検査装置１００をさらに説明する。図１に示すように、検査装置１００は、支持台２１を有する。具体的には、第１支持部２は、支持台２１と、第１回転機構２２と、第２回転機構２３とを含む。支持台２１には、光学ユニット３００が載置される。支持台２１は、光学ユニット３００を支持可能である。支持台２１は、光学ユニット３００を支持する。第１回転機構２２及び第２回転機構２３はそれぞれ支持台２１を回転させる。なお、支持台２１は、本発明の「支持部」の一例である。

ここで、支持台２１をさらに説明する。本実施形態において、支持台２１は、光学ユニット３００を固定する。例えば、支持台２１は、光学ユニット３００を位置決めする位置決め部（図示せず）を有してもよい。位置決め部は、支持台２１に対する光学ユニット３００のＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向の位置を決める。位置決め部は、例えば、光学ユニット３００を収容する凹部であってもよいし、光学ユニット３００に接触する壁部又は凸部であってもよい。また、例えば、支持台２１は、光学ユニット３００を把持する把持機構を含んでもよい。また、本実施形態において、支持台２１は、駆動部４を支持する。具体的には、駆動部４は、支持台２１に固定される。

続いて、図１を参照して、第１回転機構２２及び第２回転機構２３をさらに説明する。図１に示すように、第１回転機構２２は、第１可動部材２２１と、第１固定部材２２２とを有する。第２回転機構２３は、第２可動部材２３１と、第２固定部材２３２とを有する。

支持台２１は、第１可動部材２２１の＋Ｘ側に配置されて、第１可動部材２２１によって支持される。第１可動部材２２１は、第１固定部材２２２の＋Ｘ側に配置されて、第１固定部材２２２によって回転可能に支持される。第１固定部材２２２は、第２可動部材２３１の＋Ｘ側に配置されて、第２可動部材２３１によって支持される。第２可動部材２３１は、第２固定部材２３２の＋Ｘ側に配置されて、第２固定部材２３２によって回転可能に支持される。具体的には、支持台２１は、第１可動部材２２１に固定される。第１固定部材２２２は、第２可動部材２３１に固定される。

第１可動部材２２１は、第２回転軸線ＡＸ２を中心に回転する。第１回転機構２２は、例えば、ゴニオステージである。光学ユニット３００は、支持台２１により、第１回転軸線ＡＸ１が光学要素３１１の中心を通る位置で支持される。第１可動部材２２１が回転することにより、支持台２１が第２回転軸線ＡＸ２を中心に回転する。この結果、光学ユニット３００が第２回転軸線ＡＸ２を中心に回転する。

また、第１可動部材２２１及び第１固定部材２２２の表面には、目盛り等の印が付されていてもよい。例えば、第１可動部材２２１の印（目盛り等）と第１固定部材２２２の印（目盛り等）とを一致させることによって、支持台２１を水平にすることができる。

第１回転機構２２は、第１駆動源２２３と、第１駆動機構（不図示）とをさらに有する。第１駆動機構は、第１固定部材２２２の内部に配置されている。第１駆動源２２３は、第１可動部材２２１を回転させる動力を発生する。第１駆動源２２３は、例えば、正逆回転可能な電動モータを含む。第１駆動源２２３は、正逆回転可能な電動モータとして、ステッピングモータを含んでもよい。第１駆動源２２３から発生した動力は、第１駆動機構に出力される。第１駆動機構は、第１駆動源２２３から発生した動力により、第１可動部材２２１を回転させる。第１駆動機構は、例えば、ウォームギヤを含む。

第２可動部材２３１は、第１回転軸線ＡＸ１を中心に回転する。第２回転機構２３は、例えば、ゴニオステージである。光学ユニット３００は、支持台２１により、第１回転軸線ＡＸ１が光学要素３１１の中心を通る位置で支持される。第２可動部材２３１が回転することにより、第１可動部材２２１及び第１固定部材２２２が第１回転軸線ＡＸ１を中心に回転する。従って、第２可動部材２３１が回転することにより、支持台２１が第１回転軸線ＡＸ１を中心に回転する。この結果、光学ユニット３００が第１回転軸線ＡＸ１を中心に回転する。

また、第２可動部材２３１及び第２固定部材２３２の表面には、目盛り等の印が付されていてもよい。例えば、第２可動部材２３１の印（目盛り等）と第２固定部材２３２の印（目盛り等）とを一致させることによって、角度測定部３及び支持台２１の互いに対向する面を平行にすることができる。言い換えると、角度測定部３の－Ｘ側の面と、支持台２１の＋Ｘ側の面とを、平行にできる。このため、例えば、ＸＺ平面に対して平行な方向に出射され、光学ユニット３００で反射されたレーザ光Ｌ（反射光）は、ＸＺ平面に対して平行に進行する。

第２回転機構２３は、第２駆動源２３３と、第２駆動機構（不図示）とをさらに含む。第２駆動機構は、第２固定部材２３２の内部に配置されている。第２駆動源２３３は、第２可動部材２３１を回転させる動力を発生する。第２駆動源２３３は、例えば、正逆回転可能な電動モータを含む。第２駆動源２３３は、正逆回転可能な電動モータとして、ステッピングモータを含んでもよい。第２駆動源２３３から発生した動力は、第２駆動機構に出力される。第２駆動機構は、第２駆動源２３３から発生した動力により、第２可動部材２３１を回転させる。第２駆動機構は、例えば、ウォームギヤを含む。

続いて、図１を参照して、第１支持部２をさらに説明する。図１に示すように、検査装置１００は、第１移動ステージ２５をさらに有する。本実施形態では、第１支持部２は、第１支持部材２４と、第１移動ステージ２５とをさらに含む。なお、第１移動ステージ２５は、本発明の「移動機構」の一例である。第２固定部材２３２は、第１支持部材２４の＋Ｘ側に配置されて、第１支持部材２４によって支持される。第１支持部材２４は、第１移動ステージ２５の＋Ｚ側に配置されて、第１移動ステージ２５によって支持される。具体的には、第１支持部材２４は、第１移動ステージ２５に固定される。第２固定部材２３２は、第１支持部材２４に固定される。

第１支持部材２４は、第２固定部材２３２を支持する。第１支持部材２４は、例えば、支柱であってもよい。

第１移動ステージ２５は、ＸＹ平面に沿って移動する。第１移動ステージ２５は、支持台２１を移動させる。具体的には、第１移動ステージ２５がＸＹ平面に沿って移動することにより、第１支持部材２４、第２回転機構２３、第１回転機構２２、支持台２１、及び光学ユニット３００がＸＹ平面に沿って移動する。第１移動ステージ２５により、光学ユニット３００の光学要素３１１の位置を、レーザ光Ｌが照射される位置に合わせることができる。本実施形態において、第１移動ステージ２５は、Ｘ軸ステージ２５１と、Ｙ軸ステージ２５２と含む。Ｘ軸ステージ２５１は、Ｘ軸方向に沿って移動可能である。Ｙ軸ステージ２５２は、Ｙ軸方向に沿って移動可能である。

続いて、図１を参照して、本実施形態の検査装置１００をさらに説明する。図１に示すように、本実施形態の検査装置１００は、第２移動ステージ５２をさらに有する。具体的には、検査装置１００は、第２支持部５を有する。第２支持部５は、角度測定部３を支持する。具体的には、第２支持部５は、第２支持部材５１と、第２移動ステージ５２とを有する。第２移動ステージ５２は、後述するように光出射部３ａを移動させる。なお、第２移動ステージ５２は、本発明の「移動機構」の一例である。

第２支持部材５１は、角度測定部３を支持する。具体的には、角度測定部３は、第２支持部材５１に固定される。第２支持部材５１は、角度測定部３を支持する。第２支持部材５１は、例えば、支柱であってもよい。

第２支持部材５１は、第２移動ステージ５２の＋Ｚ側に配置されて、第２移動ステージ５２によって支持される。具体的には、第２支持部材５１は、第２移動ステージ５２に固定される。

第２移動ステージ５２は、ＸＹ平面に沿って移動する。第２移動ステージ５２がＸＹ平面に沿って移動することにより、第２支持部材５１及び角度測定部３がＸＹ平面に沿って移動する。第２移動ステージ５２により、角度測定部３からレーザ光Ｌを出射する位置を、光学ユニット３００の光学要素３１１の位置に合わせることができる。本実施形態において、第２移動ステージ５２は、Ｘ軸ステージ５２１と、Ｙ軸ステージ５２２と含む。Ｘ軸ステージ５２１は、Ｘ軸方向に沿って移動可能である。Ｙ軸ステージ５２２は、Ｙ軸方向に沿って移動可能である。

続いて、図１を参照して、本実施形態の検査装置１００をさらに説明する。図１に示すように、検査装置１００は、底板６をさらに有する。底板６は、第１移動ステージ２５及び第２移動ステージ５２を支持する。第１移動ステージ２５及び第２移動ステージ５２の各々は、底板６の＋Ｚ側に配置されて、底板６に固定される。

ここで、図２～図６を参照して、光学ユニット３００を説明する。図２は、本実施形態の検査装置１００によって検査される光学ユニット３００の斜視図である。光学ユニット３００は、入射した光を特定の方向に反射する。

図２に示すように、光学ユニット３００は、光学要素３１１を有する。光学要素３１１は、入射面３１１ａと、出射面３１１ｂとを有する。なお、入射面３１１ａは、本発明の「光出射面」の一例である。また、出射面３１１ｂは、本発明の「照射面」の一例である。ここで、入射面３１１ａは、撮像装置に搭載された光学ユニット３００に対して光が入射する面を示す。出射面３１１ｂは、撮像装置に搭載された光学ユニット３００から光が出射する面を示す。本実施形態の検査装置１００は、出射面３１１ｂの揺動角度を測定する。具体的には、図１を参照して説明したレーザ光Ｌが、出射面３１１ｂ（以下、レーザ光照射面と記載することがある）に照射される。図１を参照して説明した角度測定部３は、出射面３１１ｂから反射したレーザ光Ｌに基づいて、出射面３１１ｂの揺動角度を測定する。なお、出射面３１１ｂは、本発明の「レーザ光照射面」及び「照射面」の一例である。

撮像装置に搭載された光学ユニット３００において、光学要素３１１は、入射面３１１ａに入射した光を、出射面３１１ｂから出射する。従って、光学要素３１１に入射した光は、光学要素３１１によって進行方向が変更される。具体的には、光学要素３１１は、反射面３１１ｃ（図８参照）を有する。入射面３１１ａに入射した光は、反射面３１１ｃで反射する。反射面３１１ｃで反射した光は、出射面３１１ｂから出射する。光学要素３１１は、例えば、略三角柱形状を有する。本実施形態では、光学要素３１１は、プリズムである。なお、光学要素３１１は、例えば、板状の鏡であってもよい。

光学要素３１１は、第１揺動軸線ＡＸ３を中心に揺動可能である。第１揺動軸線ＡＸ３は、Ｚ方向と平行である。第１揺動軸線ＡＸ３は、光学要素３１１の中心を通る仮想軸である。また、光学要素３１１は、第２揺動軸線ＡＸ４を中心に揺動可能である。第２揺動軸線ＡＸ４は、Ｙ方向と平行である。第２揺動軸線ＡＸ４は、光学要素３１１の中心を通る仮想軸である。図１を参照して説明した第１支持部２（支持台２１）は、第１揺動軸線ＡＸ３が第１回転軸線ＡＸ１（図１参照）と同一軸となり、第２揺動軸線ＡＸ４が第２回転軸線ＡＸ２（図１参照）と同一軸となる位置で光学ユニット３００を支持する。なお、第１揺動軸線ＡＸ３は、ロール軸とも呼ばれる。第２揺動軸線ＡＸ４は、ピッチング軸とも呼ばれる。

図３は、光学ユニット３００の分解斜視図である。図３に示すように、光学ユニット３００は、可動体３１０と、支持体３２０と、揺動機構３２１とをさらに有する。可動体３１０は、第１可動体３１０ａと、第２可動体３１０ｂとを有する。光学要素３１１は、第１可動体３１０ａに固定されている。揺動機構３２１は、支持体３２０に固定されている。

第１可動体３１０ａは、第２可動体３１０ｂによって、第２揺動軸線ＡＸ４を中心に揺動可能に支持される。第１可動体３１０ａが揺動することにより、光学要素３１１が第２揺動軸線ＡＸ４を中心に揺動する。第２可動体３１０ｂは、支持体３２０によって、第１揺動軸線ＡＸ３を中心に揺動可能に支持される。第２可動体３１０ｂが揺動することにより、光学要素３１１が第１揺動軸線ＡＸ３を中心に揺動する。

揺動機構３２１は、駆動電流が供給されることで駆動する。揺動機構３２１が駆動することにより、光学要素３１１が第１揺動軸線ＡＸ３又は第２揺動軸線ＡＸ４を中心に揺動する。具体的には、揺動機構３２１は、第２揺動軸線ＡＸ４を中心に第１可動体３１０ａを揺動させる。この結果、第２揺動軸線ＡＸ４を中心に光学要素３１１が揺動する。また、揺動機構３２１は、第１揺動軸線ＡＸ３を中心に第２可動体３１０ｂを揺動させる。この結果、第１揺動軸線ＡＸ３を中心に光学要素３１１が揺動する。図１を参照して説明した駆動部４は、揺動機構３２１に駆動電流を供給して揺動機構３２１を駆動させる。

続いて、図３～図６を参照して、光学ユニット３００の詳細を説明する。図４は、可動体３１０の斜視図である。図５は、可動体３１０の別の斜視図である。図３～図５に示すように、光学ユニット３００は、第１磁石３１２～第３磁石３１４をさらに有する。図３に示すように、第１磁石３１２は、第２可動体３１０ｂの＋Ｙ側の外面に固定される。図４に示すように、第２磁石３１３は、第２可動体３１０ｂの－Ｙ側の外面に固定される。図５に示すように、第３磁石３１４は、第１可動体３１０ａの－Ｘ側の外面に固定される。

図６は、支持体３２０の斜視図である。図３及び図６に示すように、揺動機構３２１は、支持体３２０に固定される。本実施形態において、揺動機構３２１は、第１コイル３２２～第３コイル３２４を含む。

図６に示すように、第１コイル３２２は、支持体３２０の＋Ｙ側の内面に固定されて、図３に示す第１磁石３１２と対向する。図３に示すように、第２コイル３２３は、支持体３２０の－Ｙ側の内面に固定されて、図４に示す第２磁石３１３と対向する。図３及び図６に示すように、第３コイル３２４は、支持体３２０の－Ｘ側の内面に固定されて、図５に示す第３磁石３１４と対向する。

第１コイル３２２（図６）及び第２コイル３２３（図３）に駆動電流が供給されると、第２可動体３１０ｂが第１揺動軸線ＡＸ３を中心に揺動する。その結果、光学要素３１１が第１揺動軸線ＡＸ３を中心に揺動する。第３コイル３２４（図３及び図６）に駆動電流が供給されると、第１可動体３１０ａが第２揺動軸線ＡＸ４を中心に揺動する。その結果、光学要素３１１が第２揺動軸線ＡＸ４を中心に揺動する。

続いて、図１～図７を参照して、本実施形態の検査装置１００をさらに説明する。図７は、本実施形態の検査装置１００の構成を示すブロック図である。図７に示すように、検査装置１００は、制御部８をさらに有する。制御部８は、駆動部４を制御する。

具体的には、駆動部４は、制御部８からの命令に基づいて駆動電流を生成する。制御部８は、駆動電流の電流値を制御する。例えば、第１回転軸線ＡＸ１（図１参照）を中心に光学要素３１１を揺動させる場合、駆動部４は、第１コイル３２２（図６参照）及び第２コイル３２３（図３参照）に供給する駆動電流を生成する。この結果、光学要素３１１が第１回転軸線ＡＸ１を中心に揺動する。また、第２回転軸線ＡＸ２（図１参照）を中心に光学要素３１１を揺動させる場合、駆動部４は、第３コイル３２４（図３及び図６参照）に供給する駆動電流を生成する。この結果、光学要素３１１が第２回転軸線ＡＸ２を中心に揺動する。

本実施形態では、制御部８は、第１回転機構２２及び第２回転機構２３をさらに制御する。より具体的には、図７に示すように、検査装置１００は、第１駆動源コントローラ１２及び第２駆動源コントローラ１４をさらに有する。制御部８は、第１駆動源コントローラ１２を介して第１駆動源２２３を制御する。制御部８は、第２駆動源コントローラ１４を介して第２駆動源２３３を制御する。

第１駆動源コントローラ１２は、制御部８からの命令に基づいて第１駆動源２２３を制御する。例えば、第１駆動源コントローラ１２は、制御部８からの命令に基づいて、第１駆動源２２３に含まれる電動モータに駆動電流を供給する。この結果、電動モータが駆動して、第１可動部材２２１が回転する。

第２駆動源コントローラ１４は、制御部８からの命令に基づいて第２駆動源２３３を制御する。例えば、第２駆動源コントローラ１４は、制御部８からの命令に基づいて、第２駆動源２３３に含まれる電動モータに駆動電流を供給する。この結果、電動モータが駆動して、第２可動部材２３１が回転する。

また、制御部８は、第１移動ステージ２５及び第２移動ステージ５２を制御する。制御部８は、第１移動ステージ２５を底板６に対してＸ方向及びＹ方向に移動させる。制御部８は、第２移動ステージ５２を底板６に対してＸ方向及びＹ方向に移動させる。

制御部８は、角度測定部３をさらに制御する。具体的には、制御部８は、角度測定部３による揺動角度の測定の開始を命令する。また、制御部８は、角度測定部３による揺動角度の測定の停止を命令する。

制御部８は、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）又はＭＰＵ（Ｍｉｃｒｏ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）のようなプロセッサを有する。あるいは、制御部８は、マイクロコンピュータを有してもよいし、専用のハードウェアを有してもよい。

制御部８がプロセッサを有する場合、制御部８はメモリをさらに有する。メモリには、プロセッサが実行する種々のコンピュータプログラムや、種々のデータが格納される。

メモリは、例えば、半導体メモリである。半導体メモリは、例えば、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）、及びＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）を含む。あるいは、半導体メモリは、ＲＡＭ及びＲＯＭに替えて、又はＲＡＭ及びＲＯＭに加えて、フラッシュメモリ、ＥＰＲＯＭ（Ｅｒａｓａｂｌｅ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、及びＥＥＰＲＯＭ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｅｒａｓａｂｌｅ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｒｅａｄ－Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）の少なくとも１つを含み得る。

制御部８が専用のハードウェアを有する場合、制御部８は、例えば、単一回路、複合回路、プログラム化されたプロセッサ、並列プログラム化されたプロセッサ、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）、ＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ－Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｇａｔｅ Ａｒｒａｙ）、又は、これらを組み合わせた回路であり得る。

本実施形態において、制御部８はさらに、良否判定処理を実行する。具体的には、制御部８は、角度測定部３により測定された揺動角度と駆動電流の電流値とに基づいて、光学ユニット３００の良否を判定する。具体的には、制御部８は、角度測定部３により測定された揺動角度が許容範囲内の値である場合、光学ユニット３００が基準を満たしていると判定する。一方、制御部８は、角度測定部３により測定された揺動角度が許容範囲内の値でない場合、光学ユニット３００が基準を満たしていないと判定する。

本実施形態によれば、制御部８が良否判定処理を実行する。従って、例えば、検査装置１００を生産ラインに設置して、生産ラインにおいて生産された光学ユニット３００の良否を判定することができる。

続いて、図８を参照して、角度測定部３をさらに説明する。図８は、角度測定部３の光出射部３ａ、受光部３ｂ及び光学ユニット３００周辺の構成を示す図である。

本実施形態では、光出射部３ａは、水平方向に対して傾斜する方向にレーザ光Ｌを出射する。具体的には、光出射部３ａは、水平方向に対して例えば数十度下向きにレーザ光Ｌを出射する。受光部３ｂは、水平方向に対して傾斜する方向に向かって配置される。具体的には、受光部３ｂは、水平方向に対して例えば数十度上向きに向かって配置される。また、本実施形態では、光出射部３ａは、赤外線のレーザ光Ｌを出射する。受光部３ｂは、少なくとも赤外線を検出する。

光出射部３ａから出射したレーザ光Ｌは、光学要素３１１のレーザ光照射面（出射面３１１ｂ）に照射される。レーザ光Ｌの一部は、レーザ光照射面（出射面３１１ｂ）で反射され、受光部３ｂで受光される。つまり、受光部３ｂは、レーザ光照射面（出射面３１１ｂ）で反射されたレーザ光Ｌを受光する。角度測定部３は演算器（不図示）をさらに有する。演算器は、受光部３ｂの中心位置と、受光部３ｂにおいてレーザ光Ｌが受光された位置とに基づいて、揺動角度を算出する。

また、本実施形態では、検査装置１００は、遮光部材７をさらに有する。遮光部材７は、光を遮光する。遮光部材７は、例えば、金属板であってもよいし、遮光性を有する樹脂板であってもよい。また、遮光部材７は、例えば板状の部材に貼り付けられる紙又はテープであってもよい。遮光部材７は、照射位置Ｐ１から離隔した位置に配置される。照射位置Ｐ１は、レーザ光照射面（出射面３１１ｂ）のうちレーザ光Ｌが照射される位置である。遮光部材７は、例えば、支持台２１に固定される。遮光部材７は、光学要素３１１から離隔する。また、遮光部材７は、照射位置Ｐ１と受光部３ｂとを結ぶ線Ｑから離隔した位置に配置される。

また、遮光部材７は、照射位置Ｐ１に対して－Ｚ側に配置される。つまり、遮光部材７は、照射位置Ｐ１に対して光出射部３ａが配置される側（＋Ｚ側）とは反対側に配置される。また、本実施形態では、遮光部材７は、線Ｑに対して－Ｚ側に配置される。つまり、遮光部材７は、線Ｑに対して光出射部３ａが配置される側（＋Ｚ側）とは反対側に配置される。

このように、遮光部材７を照射位置Ｐ１から離隔した位置に配置することによって、遮光部材７により迷光Ｌｓを遮光できる。よって、受光部３ｂに迷光Ｌｓが入射することを抑制できるので、角度測定部３による誤検出を抑制できる。よって、検査精度の低下を抑制できる。なお、迷光Ｌｓは、光学要素３１１の内部に入射し、反射面３１１ｃ以外の面（図８では入射面３１１ａ）で１回以上反射する光である。図８では、迷光Ｌｓを破線矢印で示している。

また、本実施形態では、光学ユニット３００の良否判定は、暗所で行われる。言い換えると、検査装置１００を遮光部材で囲った状態で、光学ユニット３００の良否判定が行われる。これにより、受光部３ｂに外光が入射することを抑制できるので、角度測定部３による誤検出をより抑制できる。よって、検査精度の低下をより抑制できる。

ところで、揺動機構３２１の動作を精度良く測定するためには、光学要素３１１の所望の位置にレーザ光Ｌを照射する必要がある。しかしながら、検査装置１００の継続的な使用により角度測定部３と支持台２１との相対位置がずれることによって、光学要素３１１の所望の位置からずれた位置にレーザ光Ｌが照射される場合がある。そこで、本実施形態の検査装置１００は、角度測定部３と支持台２１との相対位置を補正できるように構成されている。

以下、図９及び図１０を参照して、検査装置１００の構成をさらに詳細に説明する。図９は、角度測定部３と支持台２１との相対位置を補正する際における、角度測定部３の光出射部３ａ、受光部３ｂ及びダミー光学ユニット３９０周辺の構成を示す図である。図１０は、画像処理部３１によって生成される撮像画像４００の一例を示す図である。

図９に示すように、角度測定部３と支持台２１との相対位置を補正する場合、支持台２１には、光学ユニット３００に替えて例えばダミー光学ユニット３９０が固定される。つまり、ダミー光学ユニット３９０は、支持台２１に支持される。ダミー光学ユニット３９０は、例えば、光学ユニット３００と同じ外形を有する。なお、ダミー光学ユニット３９０は、光学要素３１１のレーザ光照射面（出射面３１１ｂ）と同程度の大きさを有していれば、光学ユニット３００と同じ外形を有しなくてもよい。ダミー光学ユニット３９０は、本発明の「対象物」の一例である。

ダミー光学ユニット３９０は、例えば金属によって構成されている。光出射部３ａは、ダミー光学ユニット３９０にレーザ光Ｌを照射する。ダミー光学ユニット３９０は、レーザ光Ｌを反射する。ダミー光学ユニット３９０のレーザ光Ｌに対する反射率は、例えば３０％以上である。ダミー光学ユニット３９０のレーザ光Ｌに対する反射率は、５０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。

ダミー光学ユニット３９０は、レーザ光Ｌが照射されるレーザ光照射面３９０ａを有する。ダミー光学ユニット３９０は、全体が金属によって構成されていてもよいし、レーザ光照射面３９０ａだけが金属によって構成されていてもよい。なお、ダミー光学ユニット３９０のレーザ光照射面３９０ａは、レーザ光Ｌを反射する機能を有すれば、金属以外の材質により構成されていてもよい。

検査装置１００は、撮像部１１０をさらに有する。撮像部１１０は、ダミー光学ユニット３９０に照射されたレーザ光Ｌと、ダミー光学ユニット３９０とを撮像する。撮像部１１０は、レーザ光照射面３９０ａで反射されたレーザ光Ｌを撮像する。撮像部１１０は、例えば、スマートフォン、デジタルカメラ又はビデオカメラ等の撮像が可能な電子機器である。撮像部１１０は、ＣＣＤセンサー又はＣＭＯＳセンサー等の撮像素子であってもよい。なお、角度測定部３と支持台２１との相対位置の補正は、例えば、明所で行われる。言い換えると、ダミー光学ユニット３９０に外光が当たる状態で、角度測定部３と支持台２１との相対位置の補正が行われる。

上記のように、撮像部１１０は、ダミー光学ユニット３９０に照射されたレーザ光Ｌと、ダミー光学ユニット３９０とを撮像する。従って、ダミー光学ユニット３９０に照射された光を撮像することによって、撮像した光の位置に基づいて、光出射部３ａ及び支持台２１の少なくとも一方の位置を調整できる。よって、調整後の検査装置１００では、レーザ光Ｌを光学ユニット３００の所望の位置に照射させることができるので、揺動機構３２１の動作を精度良く確認することができる。
また、上記のように、撮像部１１０は、レーザ光照射面３９０ａで反射されたレーザ光Ｌを撮像する。従って、レーザ光照射面３９０ａに対するレーザ光Ｌの照射位置を検出できるので、ダミー光学ユニット３９０を支持する支持台２１の位置を容易に調整できる。

また、上記のように、ダミー光学ユニット３９０は、金属によって構成されている。従って、ダミー光学ユニット３９０がレーザ光Ｌを透過する部材（例えばプリズム）によって構成されている場合と異なり、ダミー光学ユニット３９０のレーザ光照射面３９０ａで反射される光の量が多くなる。よって、レーザ光照射面３９０ａで反射された光を容易に撮像できる。

また、上記のように、レーザ光Ｌは、赤外線である。従って、角度測定部３と支持台２１との相対位置の補正を明所で行う際に、レーザ光Ｌとして例えば可視光を用いる場合に比べて、外光による検出精度の低下を抑制できる。

撮像部１１０の位置は、ダミー光学ユニット３９０のレーザ光照射面３９０ａを撮像可能な位置で、且つ、レーザ光Ｌの光路を遮らない位置であれば、特に限定されない。図９では、撮像部１１０がレーザ光照射面３９０ａの正面に配置されている状態を示しており、撮像部１１０は、角度測定部３の光出射部３ａと受光部３ｂとの間に配置されている。なお、撮像部１１０は、第２支持部５とは異なる支持部（図示せず）によって支持されてもよい。

図７に示すように、制御部８は、撮像部１１０が撮像した撮像データを取得する。具体的には、本実施形態の検査装置１００は、画像処理部３１をさらに有する。画像処理部３１は、撮像部１１０によって撮像された撮像データに基づいて画像処理を実行し、撮像画像４００（図１０参照）を生成する。

制御部８は、撮像画像４００に基づいて、角度測定部３と支持台２１との相対位置のずれ量を検出する。具体的には、制御部８は、照射位置Ｐ１０１と基準照射位置Ｐ１１０とのずれ量を検出する。照射位置Ｐ１０１は、レーザ光照射面３９０ａのうちレーザ光Ｌが照射された位置である。基準照射位置Ｐ１１０は、レーザ光Ｌが照射されるべき位置であり、角度測定部３と支持台２１との相対位置のずれ量がゼロである場合に、レーザ光Ｌが照射される位置である。なお、基準照射位置Ｐ１１０は、本発明の「基準位置」の一例である。

基準照射位置Ｐ１１０は、例えば、レーザ光照射面３９０ａの中心である。例えば、レーザ光照射面３９０ａの中心に予めマークを付しておき、撮像部１１０がマークを撮像することによって、制御部８が基準照射位置Ｐ１１０を検出してもよい。また、制御部８は、レーザ光照射面３９０ａの縁の位置から基準照射位置Ｐ１１０を算出し、基準照射位置Ｐ１１０を撮像画像４００に重ね合わせて表示してもよい。

制御部８は、照射位置Ｐ１０１と基準照射位置Ｐ１１０とのずれ量に基づいて、角度測定部３と支持台２１との相対位置のずれ量を検出する。制御部８は、角度測定部３と支持台２１との相対位置のずれ量に基づいて、第１駆動源コントローラ１２及び第２駆動源コントローラ１４の少なくとも一方を介して、第１駆動源２２３及び第２駆動源２３３を制御する。これにより、角度測定部３と支持台２１との相対位置のずれ量をゼロ又は所定値未満にできる。

次に、図１１を参照して、角度測定部３と支持台２１との相対位置を調整するフローについて説明する。図１１は、本実施形態の検査装置１００の角度測定部３と支持台２１との相対位置を調整するフローを示す図である。本実施形態の検査装置１００の角度測定部３と支持台２１との相対位置の調整方法は、ステップＳ１～ステップＳ４を含む。ステップＳ１～ステップＳ４は、制御部８によって実行される。

ステップＳ１において、支持台２１に支持されたダミー光学ユニット３９０に、光出射部３ａからレーザ光Ｌを出射する。レーザ光Ｌは、レーザ光照射面３９０ａに照射される。

次に、ステップＳ２において、撮像部１１０がダミー光学ユニット３９０に照射された光を撮像する。具体的には、撮像部１１０は、レーザ光照射面３９０ａの照射位置Ｐ１０１で発せられた光を撮像する。

次に、ステップＳ３において、制御部８は、撮像部１１０が撮像したレーザ光Ｌの位置（照射位置Ｐ１０１）と基準照射位置Ｐ１１０とに基づいて、光出射部３ａ及び支持台２１の少なくとも一方の位置を変更するか否かを判定する。具体的には、制御部８は、照射位置Ｐ１０１と基準照射位置Ｐ１１０との間の距離が所定値以上である場合、光出射部３ａと支持台２１との相対位置を変更すると判定する。一方、制御部８は、照射位置Ｐ１０１と基準照射位置Ｐ１１０との間の距離が所定値未満である場合、光出射部３ａと支持台２１との相対位置を変更しないと判定する。

ステップＳ３で制御部８が光出射部３ａと支持台２１との相対位置を変更すると判定した場合、ステップＳ４に進む。

次に、ステップＳ４において、制御部８は、撮像部１１０が撮像した撮像結果に基づいて、光出射部３ａ及び支持台２１の少なくとも一方の位置を調整する。言い換えると、制御部８は、撮像部１１０が撮像した撮像結果に基づいて、光出射部３ａと支持台２１との相対位置を調整する。具体的には、制御部８は、第１移動ステージ２５及び第２移動ステージ５２の少なくとも一方を介して、光出射部３ａ及び支持台２１の少なくとも一方の位置を変更する。これにより、照射位置Ｐ１０１と基準照射位置Ｐ１１０との間の距離がゼロ又は所定値未満になる。

上記のように、制御部８は、撮像部１１０が撮像した撮像結果に基づいて、第１移動ステージ２５及び第２移動ステージ５２の少なくとも一方を制御して、支持台２１及び光出射部３ａの少なくとも一方の位置を調整する。従って、光出射部３ａと支持台２１との相対位置を自動で調整できる。

以上、図１１を参照して説明したように本実施形態の検査装置１００の調整方法は、支持台２１に支持されたダミー光学ユニット３９０にレーザ光Ｌを照射するステップＳ１と、ダミー光学ユニット３９０に照射されたレーザ光Ｌを撮像するステップＳ２と、撮像部１１０が撮像した撮像結果に基づいて、光出射部３ａ及び支持台２１の少なくとも一方の位置を調整するステップＳ４とを有する。従って、ダミー光学ユニット３９０に照射された光を撮像することによって、撮像した光の位置に基づいて、光出射部３ａ及び支持台２１の少なくとも一方の位置を調整できる。よって、調整後の検査装置１００では、レーザ光Ｌを光学ユニット３００の所望の位置に照射させることができるので、揺動機構３２１の動作を精度良く確認することができる。

また、上記のように、本実施形態の検査装置１００の調整方法は、ステップＳ４に先立って、撮像部１１０が撮像したレーザ光Ｌの位置（照射位置Ｐ１０１）と基準照射位置Ｐ１１０とに基づいて、光出射部３ａ及び支持台２１の少なくとも一方の位置を変更するか否かを判定するステップＳ３を有する。従って、照射位置Ｐ１０１と基準照射位置Ｐ１１０とに基づいて光出射部３ａ及び支持台２１の少なくとも一方の位置を変更するか否かを判定することができるので、光出射部３ａ及び支持台２１の少なくとも一方の位置を変更するか否かを適切に判定できる。

（第２実施形態）
次に、図１２及び図１３を参照して、第２実施形態の検査装置１００について説明する。図１２は、第２実施形態の検査装置１００の支持台２１周辺の構造を示す拡大側面図である。

図１２に示すように、光出射部３ａは、出射面３１１ｂの垂線Ｈ１に対して傾斜する方向にレーザ光Ｌを出射する。本実施形態では、光出射部３ａは、垂線Ｈ１に対して下向きにレーザ光Ｌを出射する。

図１２に示すように、本実施形態では、撮像部１１０は、光学ユニット３００よりも上方に配置される。撮像部１１０は、光学要素３１１の入射面３１１ａを撮像する。入射面３１１ａは、レーザ光照射面（出射面３１１ｂ）から入射したレーザ光Ｌを出射する。撮像部１１０は、入射面３１１ａから出射したレーザ光Ｌを撮像する。具体的には、レーザ光照射面（出射面３１１ｂ）から入射したレーザ光Ｌは、反射面３１１ｃで反射される。反射面３１１ｃで反射されたレーザ光Ｌの大部分は、入射面３１１ａ（以下、入射面３１１ａをレーザ光出射面と記載することがある）から外部に出射する。また、レーザ光照射面（出射面３１１ｂ）から入射したレーザ光Ｌは、反射面３１１ｃの反射位置Ｐ２０１で反射される。反射位置Ｐ２０１は、例えば、反射面３１１ｃの中心である。反射位置Ｐ２０１で反射されたレーザ光Ｌは、レーザ光出射面（入射面３１１ａ）の出射位置Ｐ２０２から出射する。

上記のように、撮像部１１０は、入射面３１１ａから出射したレーザ光Ｌを撮像する。入射面３１１ａから出射したレーザ光Ｌは、レーザ光照射面（出射面３１１ｂ）で反射されるレーザ光Ｌに比べて、光量が多いので、撮像部１１０によってレーザ光Ｌを容易に撮像できる。なお、レーザ光照射面（出射面３１１ｂ）のレーザ光Ｌの反射率は数％未満である。一方、レーザ光照射面（出射面３１１ｂ）から入射したレーザ光Ｌの８０～９０％以上が入射面３１１ａから出射する。

また、撮像部１１０は、傾斜軸線ＡＸ１０上に配置される。傾斜軸線ＡＸ１０は、入射面３１１ａの垂線Ｈ２に対して傾斜する。従って、レーザ光照射面（出射面３１１ｂ）に対してレーザ光Ｌを傾斜した方向から入射させた場合であっても、レーザ光出射面（入射面３１１ａ）から出射するレーザ光Ｌを容易に撮像（検出）できる。

本実施形態では、撮像部１１０は、反射位置Ｐ２０１及び出射位置Ｐ２０２よりも＋Ｘ側に配置される。また、撮像部１１０は、鉛直方向（Ｚ軸方向）に対して傾斜する方向に向かって配置される。具体的には、撮像部１１０は、鉛直方向（Ｚ軸方向）に対して例えば数十度、－Ｘ側に向かって配置される。本実施形態では、レーザ光照射面（出射面３１１ｂ）から入射して反射面３１１ｃで反射されたレーザ光Ｌは、レーザ光出射面（入射面３１１ａ）から例えば数十度、＋Ｘ側に向かって出射する。このため、撮像部１１０を例えば数十度－Ｘ側に向かって配置することによって、レーザ光出射面（入射面３１１ａ）から出射するレーザ光Ｌを撮像部１１０によって容易に撮像できる。

本実施形態では、角度測定部３と支持台２１との相対位置を補正する場合、支持台２１には、光学ユニット３００に替えてダミー光学ユニット３９１が固定される。ダミー光学ユニット３９１は、例えば、光学ユニット３００と同じ外形を有する。なお、ダミー光学ユニット３９１は、光学要素３１１のレーザ光照射面（出射面３１１ｂ）と同程度の大きさを有していれば、光学ユニット３００と同じ外形を有しなくてもよい。ダミー光学ユニット３９１は、本発明の「対象物」の一例である。

ダミー光学ユニット３９１は、第１実施形態とは異なり、光学要素３１１を有する。従って、ダミー光学ユニット３９１は、レーザ光Ｌの大部分を透過してレーザ光出射面（入射面３１１ａ）から出射させる。なお、ダミー光学ユニット３９１の光学要素３１１以外の部分は、光学ユニット３００と同様に構成されていてもよいし、光学ユニット３００とは異なる構造を有してもよい。

第１実施形態と同様、図７に示す制御部８は、撮像部１１０が撮像した撮像データを取得する。画像処理部３１は、撮像部１１０によって撮像された撮像データに基づいて画像処理を実行し、撮像画像（図示せず）を生成する。

制御部８は、撮像画像（図示せず）に基づいて、角度測定部３と支持台２１との相対位置のずれ量を検出する。具体的には、制御部８は、撮像画像（図示せず）に基づいて、制御部８は、レーザ光出射面（入射面３１１ａ）の縁に対する出射位置Ｐ２０２の位置を検出する。制御部８は、レーザ光出射面（入射面３１１ａ）の縁に対する出射位置Ｐ２０２の位置に基づいて、反射位置Ｐ２０１の位置を算出する。また、制御部８は、算出した反射位置Ｐ２０１の位置に基づいて、照射位置Ｐ１を算出する。つまり、制御部８は、撮像部１１０が撮像したレーザ光Ｌの位置に基づいて、光出射部３ａがダミー光学ユニット３９１を照射した位置を算出する。

制御部８は、算出した照射位置Ｐ１と、レーザ光照射面（出射面３１１ｂ）の基準照射位置（図示せず）とのずれ量に基づいて、角度測定部３と支持台２１との相対位置のずれ量を算出する。そして、第１実施形態と同様に、制御部８は、角度測定部３と支持台２１との相対位置のずれ量に基づいて、第１駆動源２２３及び第２駆動源２３３を制御して、角度測定部３と支持台２１との相対位置のずれ量をゼロ又は所定値未満にする。

第２実施形態の検査装置１００のその他の構造及び効果は、上記第１実施形態と同様である。

次に、図１３を参照して、本実施形態における角度測定部３と支持台２１との相対位置を調整するフローについて説明する。図１３は、本実施形態の検査装置１００の角度測定部３と支持台２１との相対位置を調整するフローを示す図である。本実施形態の検査装置１００の角度測定部３と支持台２１との相対位置の調整方法は、ステップＳ１、Ｓ２、Ｓ１１、Ｓ３～Ｓ４を含む。ステップＳ１、Ｓ２、Ｓ１１、Ｓ３～Ｓ４は、制御部８によって実行される。

ステップＳ１において、光出射部３ａからダミー光学ユニット３９１にレーザ光Ｌを出射する。レーザ光Ｌは、レーザ光照射面（出射面３１１ｂ）に照射される。レーザ光照射面（出射面３１１ｂ）に照射されたレーザ光Ｌの大部分は、光学要素３１１の内部に進入し、反射面３１１ｃで反射される。反射面３１１ｃで反射されたレーザ光Ｌの大部分は、レーザ光出射面（入射面３１１ａ）から出射する。

次に、ステップＳ２において、撮像部１１０がダミー光学ユニット３９１に照射されたレーザ光Ｌを撮像する。具体的には、撮像部１１０は、ダミー光学ユニット３９１に照射され、レーザ光出射面（入射面３１１ａ）から出射したレーザ光Ｌを撮像する。

次に、ステップＳ１１において、制御部８は、撮像部１１０が撮像したレーザ光Ｌの位置（出射位置Ｐ２０２）に基づいて、光出射部３ａがダミー光学ユニット３９１を照射した位置（照射位置Ｐ１）を算出する。

次に、ステップＳ３において、制御部８は、撮像部１１０が撮像したレーザ光Ｌの位置（出射位置Ｐ２０２）と基準照射位置Ｐ１１０とに基づいて、光出射部３ａと支持台２１との相対位置を変更するか否かを判定する。具体的には、出射位置Ｐ２０２から算出された照射位置Ｐ１０１と、基準照射位置Ｐ１１０とに基づいて、光出射部３ａと支持台２１との相対位置を変更するか否かを判定する。

そして、第１実施形態と同様、制御部８は、照射位置Ｐ１０１と基準照射位置Ｐ１１０との間の距離が所定値以上である場合、光出射部３ａと支持台２１との相対位置を変更すると判定する。一方、制御部８は、照射位置Ｐ１０１と基準照射位置Ｐ１１０との間の距離が所定値未満である場合、光出射部３ａと支持台２１との相対位置を変更しないと判定する。

第２実施形態のその他の調整方法は、第１実施形態と同様である。

以上、図１３を参照して説明したように本実施形態の検査装置１００の調整方法は、ステップＳ３に先立って、撮像部１１０が撮像したレーザ光Ｌの位置（出射位置Ｐ２０２）に基づいて、光出射部３ａがダミー光学ユニット３９１を照射した位置（照射位置Ｐ１）を算出するステップＳ１１を有する。従って、例えば、撮像部１１０がレーザ光照射面（出射面３１１ｂ）を撮像していない場合であっても、照射位置Ｐ１を容易に特定できる。

以上、図面を参照して本開示の実施形態について説明した。ただし、本開示は、上記の実施形態に限定されない。本開示は、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施できる。また、上記の実施形態に開示される複数の構成要素は適宜改変可能である。例えば、ある実施形態に示される全構成要素のうちのある構成要素を別の実施形態の構成要素に追加してもよく、又は、ある実施形態に示される全構成要素のうちのいくつかの構成要素を実施形態から削除してもよい。

図面は、理解を容易にするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の厚さ、長さ、個数、間隔等は、図面作成の都合上から実際とは異なる場合もある。また、上記の実施形態で示す各構成要素の構成は一例であって、特に限定されない。上記の実施形態で示す各構成要素の構成は、本開示の効果から実質的に逸脱しない範囲で種々の変更が可能であることは言うまでもない。

例えば、第１実施形態及び第２実施形態では、レーザ光Ｌが赤外線である例について説明したが、本発明はこれに限らない。レーザ光Ｌは赤外線以外の光であってもよい。ただし、外光による検出精度の低下を抑制するためには、赤外線を用いることが好ましい。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、制御部８が光出射部３ａと支持台２１との相対位置を調整する例について説明したが、本発明はこれに限らない。例えば、ユーザーが撮像画像を見ながら光出射部３ａと支持台２１との相対位置を手動で調整してもよい。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、光出射部３ａが水平方向に対して傾斜する方向にレーザ光Ｌを出射する例について説明したが、本発明はこれに限らない。例えば、光出射部３ａが水平方向に対して平行にレーザ光Ｌを出射してもよい。この場合、例えば、第２実施形態において、撮像部１１０は、レーザ光出射面（入射面３１１ａ）の上方で、鉛直方向に対して平行（－Ｚ方向）に向かって配置されてもよい。

また、第２実施形態では、角度測定部３と支持台２１との相対位置を補正する場合に、ダミー光学ユニット３９１を用いる例について説明したが、本発明はこれに限らない。例えば、基準となる光学ユニット３００を予め選定しておいて、選定された光学ユニット３００を用いてもよい。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、光学ユニット３００の良否判定が暗所で行われる例について説明したが、本発明はこれに限らない。例えば、光学ユニット３００の良否判定を明所で行ってもよい。ただし、光学ユニット３００の良否判定を明所で行う場合、レーザ出力を高くする必要がある。このため、光学ユニット３００の良否判定は暗所で行うことが好ましい。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、第１支持部２が第１回転機構２２、第２回転機構２３、Ｘ軸ステージ２５１、及び、Ｙ軸ステージ２５２を有する例について説明したが、本発明はこれに限らない。例えば、第１支持部２が、Ｘ方向と平行な仮想軸を中心として支持台２１を回転させる回転機構と、支持台２１をＺ方向に移動させるＺ軸ステージとの少なくとも一方をさらに有してもよい。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、第２支持部５がＸ軸ステージ５２１及びＹ軸ステージ５２２を有する例について説明したが、本発明はこれに限らない。例えば、第２支持部５が、角度測定部３をＺ方向に移動させるＺ軸ステージをさらに有してもよい。また、第２支持部５が、Ｘ方向と平行な仮想軸を中心として角度測定部３を回転させる回転機構、Ｙ方向と平行な仮想軸を中心として角度測定部３を回転させる回転機構、及び、Ｚ方向と平行な仮想軸を中心として角度測定部３を回転させる回転機構の少なくとも１つをさらに有してもよい。

本開示の検査装置は、光学部品を検査する分野に有用である。

３ａ ：光出射部（照射部）
３ｂ ：受光部
７ ：遮光部材
８ ：制御部
２１ ：支持台（支持部）
２５ ：第１移動ステージ（移動機構）
５２ ：第２移動ステージ（移動機構）
１００ ：検査装置
１１０ ：撮像部
３００ ：光学ユニット
３１１ ：光学要素
３１１ａ ：入射面（光出射面）
３１１ｂ ：出射面（照射面）
３２１ ：揺動機構
３９０ ：ダミー光学ユニット（対象物）
３９０ａ ：レーザ光照射面
３９１ ：ダミー光学ユニット（対象物）
ＡＸ１０ ：傾斜軸線
Ｈ１、Ｈ２：垂線
Ｌ ：レーザ光
Ｐ１ ：照射位置（撮像部が撮像したレーザ光の位置、対象物を照射した位置）
Ｐ１０１ ：照射位置（撮像部が撮像したレーザ光の位置）
Ｐ１１０ ：基準照射位置（基準位置）

Claims (13)

1. 光学要素と、前記光学要素を揺動させる揺動機構とを有する光学ユニットの検査装置であって、
   前記光学ユニットを支持可能な支持部と、
   前記支持部に支持された対象物にレーザ光を照射する照射部と、
   前記対象物に照射された光と前記対象物とを撮像する撮像部と
   を有する、検査装置。
2. 前記対象物は、前記レーザ光が照射されるレーザ光照射面を有し、
   前記撮像部は、前記レーザ光照射面で反射されたレーザ光を撮像する、請求項１に記載の検査装置。
3. 前記対象物は、金属によって構成されている、請求項２に記載の検査装置。
4. 受光部と、
   前記レーザ光を遮光する遮光部材と
   をさらに有し、
   前記光学要素は、プリズムを有し、
   前記プリズムは、前記レーザ光が照射される照射面を有し、
   前記受光部は、前記照射面で反射されたレーザ光を受光し、
   前記遮光部材は、照射位置から離隔した位置に配置され、
   前記照射位置は、前記照射面のうち前記レーザ光が照射される位置である、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の検査装置。
5. 前記対象物は、プリズムを有し、
   前記プリズムは、前記レーザ光が照射される照射面と、光出射面とを有し、
   前記光出射面は、前記照射面から入射した前記レーザ光を出射し、
   前記撮像部は、前記光出射面から出射したレーザ光を撮像する、請求項１に記載の検査装置。
6. 前記照射部は、前記照射面の垂線に対して傾斜する方向に前記レーザ光を出射し、
   前記撮像部は、傾斜軸線上に配置され、
   前記傾斜軸線は、前記光出射面の垂線に対して傾斜する、請求項５に記載の検査装置。
7. 前記レーザ光は、赤外線である、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の検査装置。
8. 前記照射部及び前記支持部の少なくとも一方を移動させる移動機構と、
   前記移動機構を制御する制御部と
   をさらに有し、
   前記制御部は、前記撮像部が撮像した撮像結果に基づいて、前記移動機構を制御して前記照射部及び前記支持部の少なくとも一方の位置を調整する、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の検査装置。
9. 前記制御部は、前記撮像部が撮像した前記レーザ光の位置と基準位置とに基づいて、前記照射部及び前記支持部の少なくとも一方の位置を変更するか否かを判定する、請求項８に記載の検査装置。
10. 前記制御部は、前記撮像部が撮像した前記レーザ光の位置に基づいて、前記照射部が前記対象物を照射した位置を算出する、請求項８又は請求項９に記載の検査装置。
11. 光学要素と、前記光学要素を揺動させる揺動機構とを有する光学ユニットの検査装置の調整方法であって、
    前記光学ユニットを支持可能な支持部に支持された対象物に、照射部からレーザ光を照射する工程と、
    前記対象物に照射された光を撮像する工程と、
    撮像部が撮像した撮像結果に基づいて、前記照射部及び前記支持部の少なくとも一方の位置を調整する工程と
    を有する、検査装置の調整方法。
12. 前記照射部及び前記支持部の少なくとも一方の位置を調整する工程に先立って、
    前記撮像部が撮像した前記レーザ光の位置と基準位置とに基づいて、前記照射部及び前記支持部の少なくとも一方の位置を変更するか否かを判定する工程をさらに有する、請求項１１に記載の検査装置の調整方法。
13. 前記照射部及び前記支持部の少なくとも一方の位置を変更するか否かを判定する工程に先立って、前記撮像部が撮像した前記レーザ光の位置に基づいて、前記照射部が前記対象物を照射した位置を算出する工程をさらに有する、請求項１１又は請求項１２に記載の検査装置の調整方法。

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