JP2023059434A - 電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】開口からの放射エミッションを抑制することができかつ電子機器の設計の自由度を向上させることができる電子機器を提供する。
【解決手段】電子機器100は、基板1と、金属筐体2とを備えている。金属筐体2には、内部空間と、開口5とが設けられている。内部空間には、基板1が収容されている。開口5は、内部空間に連通している。金属筐体2は、第1仕切部21と、第2仕切部22とを含んでいる。第1仕切部21は、開口5を仕切っている。第2仕切部22は、第1仕切部21とは別体である。第2仕切部22は、開口5を仕切っている。金属筐体2の内部空間ISの外側から開口5、第1仕切部21および第2仕切部22を見たときに、第2仕切部22は、第1仕切部21に重なっている。第2仕切部22は、第1仕切部21から間隔を空けて第1仕切部21と対面している。
【選択図】図2
【解決手段】電子機器100は、基板1と、金属筐体2とを備えている。金属筐体2には、内部空間と、開口5とが設けられている。内部空間には、基板1が収容されている。開口5は、内部空間に連通している。金属筐体2は、第1仕切部21と、第2仕切部22とを含んでいる。第1仕切部21は、開口5を仕切っている。第2仕切部22は、第1仕切部21とは別体である。第2仕切部22は、開口5を仕切っている。金属筐体2の内部空間ISの外側から開口5、第1仕切部21および第2仕切部22を見たときに、第2仕切部22は、第1仕切部21に重なっている。第2仕切部22は、第1仕切部21から間隔を空けて第1仕切部21と対面している。
【選択図】図2
Description
本開示は、電子機器に関するものである。
電子機器の高機能化および小型化に伴う信号の高速化が進むことにより、電子機器の回路基板の動作信号をノイズ源とした不要電磁波(ノイズ)が発生しやすくなっている。例えば、回路基板の集積回路の高性能化に伴って、集積回路が送信するデジタルデータの周波数を高くすることで、大量のデジタルデータを送信することが可能になっている。一方、デジタルデータの周波数が高くなるほど、クロック、データの立上がりおよび立下がりが早くなるため、オーバーシュートおよびアンダーシュートといったノイズが生じやすくなる。ノイズは、回路基板から放出されることで放射エミッションになる。放射エミッションは、電子機器の内部の素子または電子機器の外部の機器に誤作動を生じさせることがある。
したがって、電子機器の筐体を金属製にし、回路基板を電磁的にシールドすることで、放射エミッションを抑制することが求められている。例えば、金属筐体に隙間が生じないように金属筐体が完全に閉じられた場合には、放射エミッションが抑制される。
しかしながら、金属筐体が完全に閉じられた場合には、金属筐体の内部において生じた熱が金属筐体の外に放散されることが抑制される。このため、特開2019-29486号公報(特許文献1)に記載の電子機器では、カバー(金属筐体)に複数の小開口(開口)が設けられている。これにより、カバーの内部において生じた熱は、複数の小開口を通って放散され得る。複数の小開口のうち隣り合う2つの小開口の間には、仕切部が配置されている。これにより、隣り合う2つの小開口の間に仕切部がないことで2つの小開口同士が接続されている場合よりも放射エミッションが抑制される。
上記文献に記載の電子機器では、カバー(金属筐体)に仕切部が一体的に組み込まれている。このため、電子機器の設計の自由度が低い。
本開示は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、開口からの放射エミッションを抑制することができ、かつ電子機器の設計の自由度を向上させることができる電子機器を提供することである。
本開示の電子機器は、基板と、金属筐体とを備えている。金属筐体には、内部空間と、開口とが設けられている。内部空間には、基板が収容されている。開口は、内部空間に連通している。金属筐体は、第1仕切部と、第2仕切部とを含んでいる。第1仕切部は、開口を仕切っている。第2仕切部は、第1仕切部とは別体である。第2仕切部は、開口を仕切っている。金属筐体の内部空間の外側から開口、第1仕切部および第2仕切部を見たときに、第2仕切部は、第1仕切部に重なっている。第2仕切部は、第1仕切部から間隔を空けて第1仕切部と対面している。
本開示の電子機器によれば、第2仕切部は、第1仕切部から間隔を空けて第1仕切部と対面している。このため、開口からの放射エミッションを低減することができる。第2仕切部は、第1仕切部とは別体である。このため、電子機器の設計の自由度を向上させることができる。
以下、実施の形態について図に基づいて説明する。なお、以下では、同一または相当する部分に同一の符号を付すものとし、重複する説明は繰り返さない。
実施の形態1.
図1~図4を用いて、実施の形態1に係る電子機器100の構成を説明する。
図1~図4を用いて、実施の形態1に係る電子機器100の構成を説明する。
図1に示されるように、電子機器100は、基板1と、金属筐体2とを含んでいる。本実施の形態に係る電子機器100は、複数の第1固定部31と、複数の第2固定部32と、複数のコネクタ4とをさらに含んでいる。金属筐体2には、内部空間ISおよび開口5が設けられている。
基板1は、第1面1aと、第2面1bと、図示されないグランド層とを含んでいる。第2面1bは、第1面1aに対向している。基板1には、複数のコネクタ4と、集積回路11(IC:Integrated Circuit)とが実装されている。基板1には、信号線12が配線されている。集積回路11および信号線12は、基板1の第1面1aに実装されている。集積回路11は、信号線12によって複数のコネクタ4に電気的に接続されている。図示されないが、基板1のグランド層は、例えば、金属筐体2を介して接地されていてもよい。図示されないが、複数のコネクタ4の各々の接続部(ピン)は、金属筐体2の内部空間ISにおいて基板1に電気的に接続されている。複数のコネクタ4の各々の接続部(ピン)の数は、4以下であってもよいし、4以上であってもよい。接続部の数が4以上である場合には、コネクタ4は、多ピンコネクタである。複数のコネクタ4の各々は、信号を伝送するためのコネクタである。複数のコネクタ4の各々が入出力する信号のインターフェースは、例えば、Ethernet、SerDes(SERializer/DESerializer)、LVDS SerDes(Low Voltage Differential Signaling SERializer/DESerializer)等である。
金属筐体2は、第1仕切部21と、第2仕切部22と、天面23と、底面24と、側面25とを含んでいる。天面23は、底面24から離れて底面24と向かい合っている。天面23と底面24との間には、基板1が配置されている。側面25は、天面23から底面24に向かって立ち上がっている。側面25は、天面23の全周に接続されている。第1仕切部21は、側面25に接続されている。なお、図1では、第1仕切部21と側面25との境界は、破線によって示されている。第1仕切部21は、側面25から底面24に向かって伸びている。第1仕切部21は、側面25と一体的に構成されていてもよい。第1仕切部21、天面23および側面25は、一体的に構成されていてもよい。この場合、第1底部は、天面23および側面25とで金属筐体2のケースを構成している。金属筐体2の第1仕切部21および第2仕切部22は、金属によって構成されている。第1仕切部21および第2仕切部22は、同じ材料によって構成されていてもよいし、異なる材料によって構成されていてもよい。
第2仕切部22は、底面24から天面23に向かって立ち上がっている。第2仕切部22は、底面24と一体的に構成されていてもよい。この場合、第2仕切部22は、底面24とで金属筐体2の底部を構成している。図1では第2仕切部22の正面視における形状は、矩形であるが、第2仕切部22の正面視における形状は半円形、多角形状等であってもよい。第2仕切部22は、第1仕切部21とは別体である。すなわち、第2仕切部22は、第1仕切部21から分離可能に構成されている。
図示されないが、第1仕切部21および第2仕切部22には、貫通孔が設けられていてもよい。なお、貫通孔の寸法は、基板1から生じる電磁波の波長の10分の1以下である。貫通孔の形状は、例えば、円形、三角形、矩形等である。
金属筐体2には、第1仕切部21および第2仕切部22が複数設けられていてもよい。この場合、複数の第2仕切部22の各々は、複数の第1仕切部21の各々と対面している。
内部空間ISには、基板1が収容されている。内部空間ISにおいて、基板1は、複数の第1固定部31によって金属筐体2に固定されている。複数の第2固定部32は、金属筐体2の側面25を底面24に固定している。第2固定部32は、例えば、ねじである。図1では、複数の第1固定部31および複数の第2固定部32の数は4だが、複数の第1固定部31および複数の第2固定部32の数はこれに限られない。複数のコネクタ4の各々は、少なくとも部分的に内部空間ISの内側に配置されている。複数のコネクタ4の各々は、部分的に内部空間ISの外側に配置されていてもよい。
開口5は、内部空間ISに連通している。第1仕切部21は、開口5を仕切っている。第2仕切部22は、開口5を仕切っている。開口5は、第1仕切部21および第2仕切部22によって複数の領域51に分割されている。複数の領域51のうち隣り合う2つの領域51は、第1仕切部21および第2仕切部22を挟んでいる。第1仕切部21および第2仕切部22は、2つの領域51に隣接している。図2に示されるように、金属筐体2の内部空間ISの外側から開口5、第1仕切部21および第2仕切部22を見たときに、第2仕切部22は、第1仕切部21に重なっている。第2仕切部22は、内部空間ISに面する背面と、背面に対向する正面とを有している。背面および正面の少なくともいずれかは、第1仕切部21に重なった部分を有している。
第1仕切部21および第2仕切部22が開口5を仕切っているため、開口5が仕切られていない場合よりも、金属筐体2の共振周波数が高域にシフトされる。第1仕切部21および第2仕切部22が複数設けられている場合には、第1仕切部21および第2仕切部22が1つだけ設けられている場合よりも、金属筐体2の共振周波数が高域にシフトされる。金属筐体2の共振周波数が高域にシフトされることで、金属筐体2の共振による放射ノイズが抑制され得る。
複数のコネクタ4の各々は、開口5の複数の領域51の各々からそれぞれ露出している。複数のコネクタ4は、例えば、第1コネクタ、第2コネクタおよび第3コネクタを含んでいる。
図3に示されるように、第2仕切部22は、第1仕切部21から間隔を空けて第1仕切部21と対面している。第2仕切部22は、第1仕切部21から間隔を空けて第1仕切部と対面している部分を有している。第2仕切部22は、第1仕切部21とで平行平板コンデンサを形成するように構成されている。第1仕切部21および第2仕切部22は、容量結合によって結合されている。本実施の形態では、第1仕切部21および第2仕切部22は、平行に対面している。第1仕切部21および第2仕切部22は、平行平板コンデンサを形成している場合には、平行に対面していなくてもよい。第1仕切部21と第2仕切部22との間隔は、第1仕切部21と第2仕切部22とが平行平板コンデンサを形成可能な距離である。第1仕切部21と第2仕切部22とが形成する平行平板コンデンサの静電容量は、第1仕切部21と第2仕切部22とが対面する面積に応じて定まる。
第1仕切部21と第2仕切部22とが対面する面積は、例えば、95mm2以上である。また、第1仕切部21および第2仕切部22の寸法(長さ)は、例えば、10mm以上である。第1仕切部21と第2仕切部22とが対面する面積が95mm2以上である場合または第1仕切部21および第2仕切部22の寸法が10mm以上である場合には、上記の静電容量は第1仕切部21と第2仕切部22とが接続されておりかつ一体的に構成されている場合と同等である。
第1仕切部21は、外側仕切部211と、内側仕切部212とを含んでいる。外側仕切部211は、第2仕切部22に対して基板1とは反対側に配置されている。外側仕切部211は、第2仕切部22に対して内部空間ISの外側において第2仕切部22に対面している。外側仕切部211は、第2仕切部22から間隔を空けて第2仕切部22と対面している。外側仕切部211は、第2仕切部22とで平行平板コンデンサを形成するように構成されている。外側仕切部211と第2仕切部22との間隔は、外側仕切部211と第2仕切部22とが平行平板コンデンサを形成可能な距離である。
内側仕切部212は、第2仕切部22に対して外側仕切部211とは反対側に配置されている。内側仕切部212は、第2仕切部22に対して内部空間ISの内側において第2仕切部22に対面している。内側仕切部212は、外側仕切部211とで第2仕切部22を挟んでいる。内側仕切部212は、第2仕切部22から間隔を空けて第2仕切部22と対面している。内側仕切部212は、第2仕切部22とで平行平板コンデンサを形成するように構成されている。内側仕切部212と第2仕切部22との間隔は、内側仕切部212と第2仕切部22とが平行平板コンデンサを形成可能な距離である。
第2仕切部22の両面は、外側仕切部211および内側仕切部212とで平行平板コンデンサを形成している。第2仕切部22は、外側仕切部211および内側仕切部212の各々に電気的に接続されていない。第2仕切部22は、外側仕切部211および内側仕切部212の各々と接触していない。第2仕切部22は、側面25と接触していない。外側仕切部211、内側仕切部212および第2仕切部22は、ラビリンス構造を形成している。
図3では、外側仕切部211は側面25と一体的に構成されており、かつ内側仕切部212は側面25と一体的に構成されている。外側仕切部211および内側仕切部212は、側面25と別体であってもよい。例えば、内側仕切部212は、側面25に後付けされていてもよい。内側仕切部212は、側面25に対して例えばねじによって電気的に接続されていてもよい。
図4に示されるように、基板1は、集積回路11、SoC(System on a Chip)13、マイクロコンピュータ14、DRAM(Dynamic Random Access Memory)15、外部インターフェースコネクタ16および電源回路17を含んでいる。集積回路11は、複数のコネクタ4の各々から入力された差動信号をシリアル信号に変換するように構成されている。集積回路11は、SoC13に差動信号またはシリアル信号を送信するように構成されている。SoC13は、集積回路11から差動信号またはシリアル信号を受信するように構成されている。SoC13は、受信した差動信号およびシリアル信号の情報処理を行い、各素子に伝達するように構成されている。
マイクロコンピュータ14およびDRAM15は、情報処理が実行された信号をSoC13から受信するように構成されている。外部インターフェースコネクタ16は、SoC13およびマイクロコンピュータ14において情報処理が行われた信号を外部インターフェースコネクタ16の接続先である外部機器200に送信するように構成されている。集積回路11からSoC13に送信される信号のインターフェースは、例えば、RGMII(Reduced Gigabit Media-Independent Interface)、SGMII(Serial Gigabit Media Independent Interface)等である。
電源回路17は、SoC13、マイクロコンピュータ14、DRAM15および集積回路11に電力を供給するように構成されている。電源回路17は、例えば、DC-DCコンバータ、LDO(Low Drop Out)、PMIC(Power Management Integrated Circuit)等によって構成されている。入力電源18は、外部機器200に含まれている。入力電源18は、外部インターフェースコネクタ16を介して電源回路17に接続されている。図示されないが、基板1には、インダクタおよびコンデンサ等の部品が実装されている。また、コネクタ4、集積回路11、SoC13、外部インターフェースコネクタ16、マイクロコンピュータ14およびDRAM15は、基板1の第1面1a(図1参照)または第2面1b(図1参照)に実装されている。
次に、本実施の形態に係る電子機器100に生じるノイズであるディファレンシャルモードノイズおよびコモンモードノイズについて説明する。
図4を参照して、ディファレンシャルモードノイズは、基板1および外部機器200のHi(High:高)の信号端子とLo(Low:低)の信号端子との間に生じる。本実施の形態では、ディファレンシャルモードノイズは、例えば、基板1の集積回路11において生じる。ディファレンシャルモードノイズは、信号に直列に加算される。
コモンモードノイズは、基板1の信号端子と大地との間に生じる。コモンモードノイズによって、Hiの信号端子およびLoの信号端子の電位が大地に対して変化する。Hiの信号端子のコモンモードノイズによる大地に対する振幅および位相は、Loの信号端子の各々のコモンモードノイズによる大地に対する振幅および位相と同じである。コモンモードノイズは、同相雑音、対地誘導雑音、不平衡雑音、非対称雑音と呼ばれることもある。本実施の形態において、コモンモードノイズは、不要電磁波である。コモンモードノイズは、放射エミッションの要因になる。
続いて、本実施の形態に係る電子機器100の作用効果を、比較例1~3と比較して説明する。
図5および図6に示されるように、比較例1に係る電子機器101では、金属筐体2は、仕切部26を含んでいる。仕切部26は、底面24および側面25に接続されており、かつ底面24および側面25と一体として構成されている。このため、仕切部26によって放射エミッションを抑制する効果が得られるが、仕切部26によって金属筐体2の設計の自由度が低下する。
これに対して、本実施の形態に係る電子機器100によれば、図3に示されるように、第2仕切部22は、第1仕切部21とは別体である。このため、金属筐体2の設計の自由度を向上させることができる。
図7および図8に示されるように、比較例2に係る電子機器102は、非接触仕切部27を含んでいる。非接触仕切部27は、底面24から天面23に向かって立ち上がっている。非接触仕切部27は、側面25と接触していない。すなわち、非接触仕切部27と側面25との間には、ギャップが設けられている。ギャップは、金属筐体2から露出している。このため、不要電磁波がギャップを通って電子機器100の外に放射される。よって、放射エミッションを抑制する効果が低い。
図9および図10に示されるように、比較例3に係る電子機器103は、仕切部を含んでいない。このため、不要電磁波が開口を通って電子機器100の外に放射される。よって、放射エミッションを抑制する効果がない。
これに対して、本実施の形態に係る電子機器100によれば、図3に示されるように、金属筐体2の内部空間ISの外側から開口5(図1参照)、第1仕切部21および第2仕切部22を見たときに、第2仕切部22は、第1仕切部21に重なっており、第2仕切部22は、第1仕切部21から間隔を空けて第1仕切部21と対面している。このため、第1仕切部21および第2仕切部22によって平行平板コンデンサを形成することができる。よって、第1仕切部21および第2仕切部22の容量結合によって金属筐体2のインピーダンスを低減することができるため、不要電磁波が電子機器100の外に放射されることを抑制することができる。したがって、開口5(図1参照)からの放射エミッションを低減することができる。また、金属筐体2のインピーダンスを低減することができるため、電子機器100の外から電子機器100の内部空間ISに電磁波が侵入することを抑制することができる。したがって、放射イミュニティを低減することができる。言い換えると、電磁波妨害(EMI:Electro Magnetic Interference)対策を十分に講じることができる。
実施の形態2.
次に、図11および図12を用いて、実施の形態2に係る電子機器100の構成を説明する。実施の形態2は、特に説明しない限り、上記の実施の形態1と同一の構成および作用効果を有している。したがって、上記の実施の形態1と同一の構成には同一の符号を付し、説明を繰り返さない。
次に、図11および図12を用いて、実施の形態2に係る電子機器100の構成を説明する。実施の形態2は、特に説明しない限り、上記の実施の形態1と同一の構成および作用効果を有している。したがって、上記の実施の形態1と同一の構成には同一の符号を付し、説明を繰り返さない。
図11に示されるように、本実施の形態に係る電子機器100では、第1仕切部21は、外側仕切部211を含んでいる。第1仕切部21は、内側仕切部212(図3参照)を含んでいない。図12に示されるように、第1仕切部21は、第2仕切部22の片面のみに向かい合っている。第2仕切部22は、第2仕切部22に対して外側仕切部211とは反対側において第1仕切部21から露出している。なお、本実施の形態では、第1仕切部21が外側仕切部211および内側仕切部の両方を含んでいる場合よりも、外側仕切部211の寸法(長さ)を大きくする必要がある。
次に、図13および図14を用いて、実施の形態2の変形例に係る電子機器100の構成を説明する。
図13に示されるように、実施の形態2の変形例に係る電子機器100では、第1仕切部21は、内側仕切部212を含んでいる。第1仕切部21は、外側仕切部211(図3参照)を含んでいない。図14に示されるように、第2仕切部22は、第2仕切部22に対して内側仕切部212とは反対側において第1仕切部21から露出している。なお、本実施の形態では、第1仕切部21が外側仕切部および内側仕切部212の両方を含んでいる場合よりも、内側仕切部212の寸法(長さ)を大きくする必要がある。
続いて、本実施の形態の作用効果を説明する。
本実施の形態に係る電子機器100によれば、図12に示されるように、第2仕切部22は、第2仕切部22に対して外側仕切部211とは反対側において第1仕切部21から露出している。このため、第1仕切部21が内側仕切部を含まないようにすることができる。よって、第1仕切部21が内側仕切部を含む場合よりも第1仕切部21の形状を簡易にすることができるため、電子機器100の製造コストを低減させることができる。
本実施の形態に係る電子機器100によれば、図12に示されるように、第2仕切部22は、第2仕切部22に対して外側仕切部211とは反対側において第1仕切部21から露出している。このため、第1仕切部21が内側仕切部を含まないようにすることができる。よって、第1仕切部21が内側仕切部を含む場合よりも第1仕切部21の形状を簡易にすることができるため、電子機器100の製造コストを低減させることができる。
実施の形態2の変形例に係る電子機器100によれば、図14に示されるように、第2仕切部22は、第2仕切部22に対して内側仕切部212とは反対側において第1仕切部21から露出している。このため、第1仕切部21が外側仕切部を含まないようにすることができる。よって、第1仕切部21が外側仕切部を含む場合よりも第1仕切部21の形状を簡易にすることができるため、電子機器100の製造コストを低減させることができる。
実施の形態3.
次に、図15および図16を用いて、実施の形態3に係る電子機器100の構成を説明する。実施の形態3は、特に説明しない限り、上記の実施の形態1と同一の構成および作用効果を有している。したがって、上記の実施の形態1と同一の構成には同一の符号を付し、説明を繰り返さない。
次に、図15および図16を用いて、実施の形態3に係る電子機器100の構成を説明する。実施の形態3は、特に説明しない限り、上記の実施の形態1と同一の構成および作用効果を有している。したがって、上記の実施の形態1と同一の構成には同一の符号を付し、説明を繰り返さない。
図15に示されるように、本実施の形態に係る電子機器100では、第2仕切部22は、第1部221と、第2部222とを含んでいる。第1部221は、第2仕切部22の先端部に位置している。第1部221は、第1部221の全周にわたって第1仕切部21と対面している。第1部221は、第1部221から間隔を空けて全周にわたって第1仕切部21と対面している。第1仕切部21は、第1部221の正面、背面および側面と対面している。第1部221は、第1仕切部21と接触していない。第1部221は、第1仕切部21と電気的に接続されていない。第1部221は、第2部222に接続されている。図15では、第1仕切部21の形状は、円筒状であるが、これに限られない。第1仕切部21の形状は、例えば、角筒状であってもよい。
図16に示されるように、第1仕切部21には、中空空間223が設けられている。第1部221は、中空空間223に挿入されている。中空空間223において、第1部221は、第1仕切部21と向かい合っている。第2部222は、中空空間223に挿入されていない。第2部222は、底面24に接続されている。
続いて、本実施の形態の作用効果を説明する。
本実施の形態に係る電子機器100によれば、図15に示されるように、第1部221は、第1部221の全周にわたって第1仕切部21と対面している。このため、第1部221が第1部221の全周にわたって第1仕切部21と対面していない場合よりも、容量結合の容量成分を大きくすることができる。よって、放射エミッションをさらに低減することができる。また、第1仕切部21の寸法(長さ)を小さくすることができる。なお、第1仕切部21と第1部221とは電気的に接続されていないが、第1仕切部21と第1部221とが接近するほど、容量成分が大きくなるため、放射エミッションが低減される。
本実施の形態に係る電子機器100によれば、図15に示されるように、第1部221は、第1部221の全周にわたって第1仕切部21と対面している。このため、第1部221が第1部221の全周にわたって第1仕切部21と対面していない場合よりも、容量結合の容量成分を大きくすることができる。よって、放射エミッションをさらに低減することができる。また、第1仕切部21の寸法(長さ)を小さくすることができる。なお、第1仕切部21と第1部221とは電気的に接続されていないが、第1仕切部21と第1部221とが接近するほど、容量成分が大きくなるため、放射エミッションが低減される。
実施の形態4.
次に、図17および図18を用いて、実施の形態4に係る電子機器100の構成を説明する。実施の形態4は、特に説明しない限り、上記の実施の形態1と同一の構成および作用効果を有している。したがって、上記の実施の形態1と同一の構成には同一の符号を付し、説明を繰り返さない。
次に、図17および図18を用いて、実施の形態4に係る電子機器100の構成を説明する。実施の形態4は、特に説明しない限り、上記の実施の形態1と同一の構成および作用効果を有している。したがって、上記の実施の形態1と同一の構成には同一の符号を付し、説明を繰り返さない。
図17に示されるように、本実施の形態に係る電子機器100は、スペーサー6をさらに含んでいる。スペーサー6は、絶縁体である。スペーサー6の材料は、絶縁体であれば適宜に決められてもよい。スペーサー6は、空気よりも大きい誘電率を有している。すなわち、スペーサー6は、1よりも大きい比誘電率を有する。図18に示されるように、スペーサー6は、第1仕切部21と第2仕切部22とに挟まれている。スペーサー6は、第1仕切部21および第2仕切部22に接触している。スペーサー6は、外側仕切部211と第2仕切部22との間に配置されている。スペーサー6は、内側仕切部212と第2仕切部22との間に配置されていてもよい。スペーサー6は、外側仕切部211と第2仕切部22との間および内側仕切部212と第2仕切部22との間に配置されていてもよい。
スペーサー6は、第1仕切部21と第2仕切部22とが向かい合う対面箇所と同じ大きさを有していてもよい。スペーサー6は、第1仕切部21と第2仕切部22とが向かい合う対面箇所よりも大きい面積を有していてもよい。スペーサー6の形状は、例えば、矩形、円形、三角形、星形等である。
続いて、本実施の形態の作用効果を説明する。
本実施の形態に係る電子機器100によれば、図18に示されるように、スペーサー6は、第1仕切部21と第2仕切部22とに挟まれている。このため、第1仕切部21と第2仕切部22との間の静電容量を向上させることができる。よって、特にGHz(ギガヘルツ)帯域の周波数において、第1仕切部21と第2仕切部22との間のインピーダンスを低くすることができる。よって、放射エミッションおよび放射イミュニティをさらに低減することができる。特に、スペーサー6の比誘電率を大きくするほど、静電容量を大きくすることができ、放射エミッションおよび放射イミュニティを低減することができる。
本実施の形態に係る電子機器100によれば、図18に示されるように、スペーサー6は、第1仕切部21と第2仕切部22とに挟まれている。このため、第1仕切部21と第2仕切部22との間の静電容量を向上させることができる。よって、特にGHz(ギガヘルツ)帯域の周波数において、第1仕切部21と第2仕切部22との間のインピーダンスを低くすることができる。よって、放射エミッションおよび放射イミュニティをさらに低減することができる。特に、スペーサー6の比誘電率を大きくするほど、静電容量を大きくすることができ、放射エミッションおよび放射イミュニティを低減することができる。
次に、図19を用いて、第1~第3の実施例に係る電子機器100および第1~第3の比較例に係る電子機器について説明する。
図3を参照して、第1~第3の実施例に係る電子機器100は、実施例1に係る電子機器100に対応している。第1~第3の実施例に係る電子機器100は、それぞれ異なる第1仕切部21の寸法(長さ)、同じ第1仕切部21の寸法(幅)および同じ第2仕切部22の寸法(長さおよび幅)を有している。第1~第3の実施例に係る電子機器100の第1仕切部21(外側仕切部211および内側仕切部212)は、それぞれ3mm、5mmおよび10mmの寸法(長さ)を有している。第1~第3の実施例に係る電子機器100の第1仕切部21は、5mmの寸法(幅)を有している。第1~第3の実施例に係る電子機器100の第2仕切部22は、9.5mmの寸法(長さ)を有している。第1~第3の実施例に係る電子機器100の第2仕切部22は、5mmの寸法(幅)を有している。第1~第3の実施例に係る電子機器100の第2仕切部22は、1.5mmの寸法(奥行き)を有している。
図6を参照して、第1の比較例に係る電子機器では、仕切部26を含み、仕切部26は底面24および側面25と一体的に構成されている。図8を参照して、第2の比較例に係る電子機器は、非接触仕切部27を含んでいる。図10を参照して、第3の比較例に係る電子機器は、第1仕切部および第2仕切部を含んでいない。
第1~第3の実施例に係る電子機器100および第1~第3の比較例に係る電子機器では、金属筐体2の内側において、幅の寸法は116mmであり、奥行きの寸法は116mmであり、長さの寸法は26mmである。開口5の幅の寸法は、55mmである。2つの第1仕切部21および第2仕切部22が15mm間隔で配置されている。
fは周波数(GHz)である。m、nおよびpは共振のモードである。Xは金属筐体2の幅方向の寸法(mm)であり、Yは金属筐体2の奥行きの寸法(mm)であり、Zは金属筐体2の長さ方向の寸法(mm)である。この場合、金属筐体2の共振周波数は、(f/300)2=(m/2X)2+(n/2Y)2+(p/Z)2から算出される。第1の実施例および第1~第3の比較例の金属筐体2の共振周波数は、1.83GHzである。
図19のグラフは、金属筐体2の内部の筐体の第1面1aに配置されている集積回路11からノイズが放射された場合において、電子機器100から50mm離れた位置におけるノイズの電界強度を示している。縦軸は、ノイズの電界強度(dBμV/m)を示し、横軸はノイズの周波数(GHz)を示している。
本実施例および本比較例に係る電子機器100は、CISPR25(「国際無線障害特別委員会の諸規格」のうち「車載受信機保護のための妨害波の推奨限度値および測定法」)で規定されている放射エミッション規格に則っている。CISPR25は、自動車に搭載される電子機器100から外部に放射されたノイズの電界強度を評価する試験を定めている。CISPR25は、ある電子機器から放射される電磁妨害波が他の電子機器を妨害または誤作動させることを抑制するために規定されている。1.5GHz~2GHzの周波数ではGPS(Global Positioning System)、GLONASS(Global Navigation Satellite System)等が使用されている。電子機器100が搭載される機器にはGPS等が使用されるため、当該周波数の電界強度を低減することが重要である。
したがって、第1~第3の実施例および第1~第3の比較例では、1.5GHz以上2GHz以下の範囲で放射エミッションが比較された。なお、1.5GHz以上2GHz以下の範囲の周波数は、金属筐体2の共振周波数でもあった。
図19に示されるように、第1~第3の実施例では、第2および第3の比較例よりもノイズの電界強度が低減されていた。第2の比較例および第3の比較例では、1.5GHz以上2GHz以下の範囲でノイズの電界強度の差は小さかった。なお、第1の比較例に係る電子機器は、最もノイズの電界強度を低減する効果が高かった。具体的には、第1の比較例に係る電子機器では、1.5GHz以上2GHz以下の範囲で、ノイズの電界強度が第2の比較例よりも24dB低減された。
1.5GHz以上2GHz以下の範囲において、第1の実施例のノイズの電界強度は、第2の比較例よりも11dB低かった。1.5GHz以上2GHz以下の範囲において、第2の実施例のノイズの電界強度は、第2の比較例よりも17dB低かった。1.5GHz以上2GHz以下の範囲において、第3の実施例のノイズの電界強度は、第2の比較例よりも24dB低かった。
以上より、金属筐体2が第1仕切部21および第2仕切部22を含む第1~第3の実施例では、第2~第3の比較例よりもノイズの電界強度を低減することができた。このため、金属筐体2が第1仕切部21および第2仕切部22を含む第1~第3の実施例では、第2~第3の比較例よりも放射エミッションを低減することができた。また、第1~第3の実施例は、第1仕切部21および第2仕切部22が別体であるという点において、第1の比較例よりも高い設計の自由度を有していた。
次に、図20を用いて、第4~第7の実施例および第4の比較例に係る電子機器について説明する。
図20のグラフの縦軸は、ノイズの電界強度(dBμV/m)を示している。上記の電界強度は、1.5GHz以上2GHz以下の周波数の範囲における最大電界強度である。図20のグラフの横軸は、第1仕切部21および第2仕切部22が対面している面積(mm2)を示している。
図3を参照して、第4~第7の実施例に係る電子機器100は、実施の形態1に係る電子機器100に対応している。第4~第7の実施例に係る電子機器100の第1仕切部21の寸法(長さ)は、それぞれ1mm、3mm、7mmおよび10mmである。第4~第7の実施例に係る電子機器100の第1仕切部21の寸法(幅)は、5mmである。第4~第7の実施例に係る電子機器100の第2仕切部22の寸法(長さ)は、14.5mmである。第4~第7の実施例に係る電子機器100の第2仕切部22の寸法(幅)は、5mmである。第4~第7の実施例に係る電子機器100において、第1仕切部21と第2仕切部22との間隔は、0.5mmである。第4~第7の実施例に係る電子機器100において、第2仕切部22は、側面25から長さ方向で0.5mm離れている。
第1仕切部21および第2仕切部22が対面している面積S(mm2)は、第2仕切部22の寸法(幅)をW(mm)、第1仕切部21の寸法(長さ)をL(mm)とした場合に、下式で示される。
S=W×(L-0.5)×2
右辺の0.5は、第2仕切部22の側面25からの長さ方向の距離を示している。第4~第7の実施例に係る電子機器100の第1仕切部21および第2仕切部22が対面している面積は、それぞれ5mm2、25mm2、45mm2、65mm2、95mm2である。
右辺の0.5は、第2仕切部22の側面25からの長さ方向の距離を示している。第4~第7の実施例に係る電子機器100の第1仕切部21および第2仕切部22が対面している面積は、それぞれ5mm2、25mm2、45mm2、65mm2、95mm2である。
図8を参照して、第4の比較例に係る電子機器は、実施例2に係る電子機器に対応している。第4の比較例に係る電子機器は、非接触仕切部27を含んでおり、第1仕切部および第2仕切部を含んでいない。このため、第4の比較例に係る電子機器の第1仕切部と第2仕切部とが対面している面積は、0mm2であった。
第4の実施例に係る電子機器100では、金属筐体2から50mm離れた位置における電界強度は、161dBだった。第7の実施例に係る電子機器では、金属筐体2から50mm離れた位置における電界強度は、142dBだった。
第1仕切部21および第2仕切部22が対面している面積が95mm2である第7の実施例では、第1の比較例と同等の電界強度だった。よって、第1仕切部21および第2仕切部22が別体である場合であっても、仕切部によって開口が仕切られている場合と同等の放射エミッション抑制効果を得ることができた。なお、第1仕切部21および第2仕切部22が対面している面積が95mm2において電界強度を低減する効果は飽和したと考えられる。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本開示の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
1 基板、2 金属筐体、5 開口、21 第1仕切部、22 第2仕切部、100 電子機器、211 外側仕切部、212 内側仕切部、221 第1部、IS 内部空間。
Claims (6)
- 基板と、
前記基板が収容された内部空間と、前記内部空間に連通する開口とが設けられ、かつ前記開口を仕切る第1仕切部と、前記第1仕切部とは別体でありかつ前記開口を仕切る第2仕切部とを含む金属筐体とを備え、
前記金属筐体の前記内部空間の外側から前記開口、前記第1仕切部および前記第2仕切部を見たときに、前記第2仕切部は、前記第1仕切部に重なっており、
前記第2仕切部は、前記第1仕切部から間隔を空けて前記第1仕切部と対面している、電子機器。 - 前記第1仕切部は、前記第2仕切部に対して前記内部空間の外側において前記第2仕切部に対面する外側仕切部と、前記第2仕切部に対して前記内部空間の内側において前記第2仕切部に対面する内側仕切部とを含み、
前記内側仕切部は、前記外側仕切部とで前記第2仕切部を挟んでいる、請求項1に記載の電子機器。 - 前記第1仕切部は、前記第2仕切部に対して前記内部空間の外側において前記第2仕切部に対面する外側仕切部を含み、
前記第2仕切部は、前記第2仕切部に対して前記外側仕切部とは反対側において前記第1仕切部から露出している、請求項1に記載の電子機器。 - 前記第1仕切部は、前記第2仕切部に対して前記内部空間の内側において前記第2仕切部に対面する内側仕切部を含み、
前記第2仕切部は、前記第2仕切部に対して前記内側仕切部とは反対側において前記第1仕切部から露出している、請求項1に記載の電子機器。 - 前記第2仕切部は、第1部を含み、
前記第1部は、前記第1部の全周にわたって前記第1仕切部と対面している、請求項1~3のいずれか1項に記載の電子機器。 - 絶縁体であるスペーサーをさらに備え、
前記スペーサーは、前記第1仕切部と前記第2仕切部とに挟まれている、請求項1~4のいずれか1項に記載の電子機器。
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