JP2022549223A - 圧力を決定するための方法および圧力センサ - Google Patents
圧力を決定するための方法および圧力センサ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022549223A JP2022549223A JP2022517876A JP2022517876A JP2022549223A JP 2022549223 A JP2022549223 A JP 2022549223A JP 2022517876 A JP2022517876 A JP 2022517876A JP 2022517876 A JP2022517876 A JP 2022517876A JP 2022549223 A JP2022549223 A JP 2022549223A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- pressure sensor
- intensity
- vacuum
- sample chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 55
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 89
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims abstract description 25
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 28
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 26
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 claims description 15
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 11
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 6
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims description 6
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 claims description 5
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims description 3
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 78
- 241000894007 species Species 0.000 description 24
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 16
- 230000006870 function Effects 0.000 description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 14
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 238000003491 array Methods 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 240000005926 Hamelia patens Species 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 argon ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000001636 atomic emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000012886 linear function Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000007620 mathematical function Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000005316 response function Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L21/00—Vacuum gauges
- G01L21/30—Vacuum gauges by making use of ionisation effects
- G01L21/34—Vacuum gauges by making use of ionisation effects using electric discharge tubes with cold cathodes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L21/00—Vacuum gauges
- G01L21/30—Vacuum gauges by making use of ionisation effects
- G01L21/32—Vacuum gauges by making use of ionisation effects using electric discharge tubes with thermionic cathodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J41/00—Discharge tubes for measuring pressure of introduced gas or for detecting presence of gas; Discharge tubes for evacuation by diffusion of ions
- H01J41/02—Discharge tubes for measuring pressure of introduced gas or for detecting presence of gas
- H01J41/06—Discharge tubes for measuring pressure of introduced gas or for detecting presence of gas with ionisation by means of cold cathodes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
Abstract
Description
本発明による方法は、真空系内の圧力を決定するための方法である。本方法は、
a)真空系に流体力学的に接続された試料室内でプラズマを生成するステップであって、プラズマは、第1の電極および第2の電極と電気的に接触している、生成するステップと、
b)第1の電極と第2の電極との間でプラズマを通って流れる電流の電流強度を測定するステップと、
c)プラズマから放出される第1の波長範囲の電磁放射線の第1の放射強度を測定するステップであって、第1の波長範囲は、第1の化学元素の第1のプラズマ種の少なくとも第1の輝線を含む、第1の放射強度を測定するステップと、
d)プラズマから放出される第2の波長範囲の電磁放射線の第2の放射強度を測定するステップであって、第2の波長範囲は、第1の化学元素の第1のプラズマ種または第1の化学元素の第2のプラズマ種の第2の輝線を含み、第2の輝線は、第1の波長範囲外にある、第2の放射強度を測定するステップと、
e)測定された電流強度、測定された第1の放射強度、および測定された第2の放射強度の関数として真空系内の圧力を決定するステップと
を含む。
本方法の一変形例では、真空系内の圧力を決定するステップe)において、測定された第1の放射強度および測定された第2の放射強度に基づいて圧力の推定値が決定される。圧力-電流強度較正曲線の定義範囲は、推定値を含み、圧力-電流強度較正曲線が単調である圧力範囲に制限される。制限された定義範囲内の圧力-電流強度較正曲線に基づいて、および測定電流に基づいて、真空系内の圧力が決定される。
log(p0)=a(I_1/I_2)+b
を使用して決定される。
本発明による真空圧力センサは、
- プラズマを発生させることができる試料室であって、第1の電極および第2の電極との電気的接触を有する、試料室と、
- 第1の電極および第2の電極に電気的に接続され、試料室に直列に接続された電流測定装置と、
- 波長選択素子と、
- 電磁放射線の放射強度を測定するための第1の検出素子および第2の検出素子と
を備える。
真空圧力センサの一実施形態は、試料室を囲む測定室を含む。測定室は、測定室の壁の中の、または測定室の壁としての窓を有する。窓は、光波長範囲内で透過性である。試料室から始まり、窓をトラバースし、第1の検出素子内で終端する連続的な第1の放射線経路が画定される。試料室から始まって窓をトラバースし、第2の検出素子内で終端する連続的な第2の放射線経路が画定される。
試料ボリューム内に磁場を発生させるための装置は、例えば、コイルであってもよい。試料ボリューム内に磁場を発生させるための装置はまた、例えば、永久磁石のアレイであってもよい。さらに、強磁性要素を使用して、試料ボリューム内の所望の磁場分布を達成するように、装置によって生成される磁場を案内することもできる。この実施形態では、第1の電極および第2の電極によって生成される電場、ならびに試料ボリューム内に磁場を生成するための装置からの磁場は、非常に効率的にプラズマを生成するように構成することができる。電場は、電子を電離ポテンシャルよりも大きいエネルギーに加速し、磁場は、一方では軌道を延長し、これにより、別の粒子との衝突の確率がより高くなり、他方では、電子を、分子および原子との作用の最大断面が存在する約数百電子ボルトの軌道に保つ。
これは、プラズマを通じた電流強度の測定に基づいて真空圧力センサの圧力測定範囲を拡張するための本発明による方法の適用である。特に、それは、冷陰極真空計の動作原理に基づく真空圧力センサであってもよい。この場合、圧力測定範囲は、真空圧力センサの圧力-電流強度特性曲線の極値よりも低い圧力と高い圧力の両方を含む圧力測定範囲に拡張される。
本発明による使用は、本発明による方法における、本発明による真空圧力センサの使用である。これに関連して、真空圧力センサの実施形態は、矛盾しない限り、所望に応じて方法の変形例と組み合わせることができる。
- プラズマから放出された第1の波長範囲の電磁放射線の第1の放射強度I_1を測定するステップ103、
- プラズマから放出された第2の波長範囲の電磁放射線の第2の放射強度I_2を測定するステップ104。
1 第1の電極
2 第2の電極
3 測定室
4 接続開口部
5 窓
5’ 窓領域(試料室に面する)
6 測定室の壁
7 電気接続部
8 永久磁石アレイ
9 磁気素子
10 圧力センサ
20 試料室
20’ 試料中の最大グローの領域
21 第1の波長範囲の電磁放射線
22 第2の波長範囲の電磁放射線
30 小型分光計
31 第1の検出素子
32 第2の検出素子
33、34、35、36、37、38 さらなる検出素子
39 検出器アレイ
41 高電圧源
42 電流強度測定装置
43 回路基板(検出素子を担持する)
44 回路基板(電源を担持する)
51 フィルタ
52 レンズ
53 スロット
54 光学回折格子
81 フォトダイオードの感度
82 フィルタの透過特性
83 第1の感度分布
84 第2の感度分布
100 圧力を決定するための方法
101 プラズマを発生させる方法ステップ
102 電流強度を測定する方法ステップ
103 第1の放射強度を測定する方法ステップ
104 第2の放射強度を測定する方法ステップ
105 圧力を決定する方法ステップ
N、S 永久磁石アレイのN極/S極
I 強度
I_1 第1の放射強度
I_2 第2の放射強度
C_plasma プラズマを通る電流強度
N2、NI、NII、NIII 窒素のプラズマ種
p 圧力
p0 圧力の推定値
W1、W1’、W1’’ 第1の波長範囲
W2、W2’、W2’’ 第2の波長範囲
λ 波長
開始 方法の開始点
終了 方法の終了点
Claims (15)
- 真空系内の圧力を決定するための方法(100)であって、
a)前記真空系に流体力学的に接続された試料室(20)内でプラズマを生成するステップ(101)であって、前記プラズマは、第1の電極および第2の電極と電気的に接触している、生成するステップ(101)と、
b)前記第1の電極と前記第2の電極との間で前記プラズマを通って流れる電流の電流強度(C_plasma)を測定するステップ(102)と、
c)前記プラズマから放出される第1の波長範囲の電磁放射線の第1の放射強度(I_1)を測定するステップ(103)であって、前記第1の波長範囲は、第1の化学元素の第1のプラズマ種の少なくとも第1の輝線を含む、第1の放射強度(I_1)を測定するステップ(103)と、
d)前記プラズマから放出される第2の波長範囲の電磁放射線の第2の放射強度(I_2)を測定するステップ(104)であって、前記第2の波長範囲は、前記第1の化学元素の前記第1のプラズマ種または前記第1の化学元素の第2のプラズマ種の第2の輝線を含み、前記第2の輝線は、前記第1の波長範囲外にある、第2の放射強度(I_2)を測定するステップ(104)と、
e)測定された前記電流強度(C_plasma)、測定された前記第1の放射強度(I_1)、および測定された前記第2の放射強度(I_2)の関数として前記真空系内の圧力(p)を決定するステップ(105)と
を含む、方法(100)。 - 前記e)前記真空系内の圧力を決定するステップ(105)において、前記測定された第1の放射強度および前記測定された第2の放射強度に基づいて、前記圧力の推定値(p0)が決定され、圧力-電流強度較正曲線の定義範囲が、前記推定値を含み、前記圧力-電流強度較正曲線が単調である圧力範囲に制限され、制限された前記定義範囲内の前記圧力-電流強度較正曲線に基づいて、および前記測定された電流強度に基づいて、前記真空系内の圧力が決定される、請求項1に記載の方法(100)。
- 前記圧力の推定値(p0)の対数が、次式
log(p0)=a(I_1/I_2)+b
を使用して決定され、
式中、aおよびbは、輝線の選択、前記プラズマを生成するために使用される構成、および前記対数の底に依存する所定の係数である、請求項2に記載の方法(100)。 - 真空圧力センサ(10)であって、
- プラズマを発生させることができる試料室(20)であって、第1の電極(1)および第2の電極(2)との電気的接触を有する、試料室(20)と、
- 前記第1の電極および前記第2の電極に電気的に接続され、前記試料室に直列に接続された電流測定装置(42)と、
- 波長選択素子(51、54)と、
- 電磁放射線の放射強度を測定するための第1の検出素子(31)および第2の検出素子(32)と
を備え、
前記波長選択素子、前記第1の検出素子、および前記第2の検出素子は、前記第1の検出素子内で、前記試料室から発する第1の波長範囲の電磁放射線のみが到達することができ、前記第2の検出素子内で、前記試料室から発する第2の波長範囲の電磁放射線のみが到達することができるように配置構成されており、
前記第1の波長範囲には、少なくとも、第1の化学元素の第1のプラズマ種の第1の輝線があり、前記第1の化学元素の前記第1のプラズマ種または前記第1の化学元素の第2のプラズマ種の第2の輝線が、前記第2の波長範囲内にあり、前記第2の輝線は、前記第1の波長範囲外にある、真空圧力センサ(10)。 - 測定室であって、前記試料室を囲み、壁内のまたは前記測定室の壁としての窓(5)を有する測定室(3)を備え、前記窓は、光波長範囲で透過性であり、前記試料室から始まって前記窓をトラバースし、前記第1の検出素子内で終端する連続的な第1の放射線経路が画定され、前記試料室から始まって前記窓をトラバースし、前記第2の検出素子内で終端する連続的な第2の放射線経路が画定される、請求項4に記載の真空圧力センサ(10)。
- 前記第1の検出素子(31)および/または前記第2の検出素子(32)は、フォトダイオード、フォトトランジスタ、電荷結合素子、マルチチャネルプレート、またはチャネル型電子増倍器である、請求項4または5に記載の真空圧力センサ(10)。
- 前記真空圧力センサは、検出器アレイ(39)を備える小型分光計(30)を備え、前記第1の検出素子(31)および前記第2の検出素子(32)は、前記検出器アレイの要素である、請求項4~6のいずれか1項に記載の真空圧力センサ(10)。
- 前記真空圧力センサが、前記試料室(20)内に磁場を発生させるための装置(8)を備える、請求項4~7のいずれか1項に記載の真空圧力センサ(10)。
- 第1の電極(1)、第2の電極(2)、および前記試料室内に磁場を発生させるための前記装置(8)の配置構成が、前記電極に電圧を印加することによって、磁場に対して実質的に垂直に前記試料室内に位置整合する電場を発生させることができるように設計されており、特に、前記配置構成がマグネトロンアレイ、逆マグネトロンアレイまたはペニングアレイとして設計されている、請求項8に記載の真空圧力センサ(10)。
- 前記試料室内のプラズマにエネルギーを供給するためのエネルギー源をさらに備える、請求項4~9のいずれか1項に記載の真空圧力センサ(10)。
- 電源は、前記第1の電極および前記第2の電極に導電的に接続され、前記電流測定装置に直列に接続された高電圧源(41)を備える、請求項10に記載の真空圧力センサ(10)。
- 前記電源は、AC電源および誘導コイルを備え、前記誘導コイルは、前記AC電源に電気的に接続され、AC電力が前記誘導コイルを通過するときに前記試料室内に交流磁場を発生させるように適合されている、請求項10に記載の真空圧力センサ(10)。
- 請求項1~3のいずれか1項に記載の方法を実行するための装置であって、
請求項4~12のいずれか1項に記載の真空圧力センサと、処理ユニットと、を備え、
前記処理ユニットは、前記電流強度測定装置(42)、前記測定された電流強度(C_plasma)、前記測定された第1の放射強度(I_1)、および前記測定された第2の放射強度(I_2)を伝送するための電磁放射線の前記第1の検出素子(31)および前記第2の検出素子(32)に動作可能に接続され、その関数として前記真空系内の圧力(p)を決定するように適合されている、装置。 - プラズマによる電流強度の測定に基づく真空圧力センサ、特に冷陰極真空計の動作原理に基づく真空圧力センサの圧力測定範囲を、前記真空圧力センサの圧力-電流強度特性曲線の極値を下回る圧力と上回る圧力の両方を含む圧力測定範囲に拡張するための、請求項1~3のいずれか1項に記載の方法の適用。
- 請求項1~3のいずれか1項に記載の方法における、請求項4~12のいずれか1項に記載の真空圧力センサ(10)の使用。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2024027428A JP2024059852A (ja) | 2019-09-20 | 2024-02-27 | 圧力を決定するための方法および圧力センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/EP2019/075367 WO2021052599A1 (de) | 2019-09-20 | 2019-09-20 | Verfahren zu bestimmung eines drucks und drucksensor |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024027428A Division JP2024059852A (ja) | 2019-09-20 | 2024-02-27 | 圧力を決定するための方法および圧力センサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022549223A true JP2022549223A (ja) | 2022-11-24 |
JP7493033B2 JP7493033B2 (ja) | 2024-05-30 |
Family
ID=67999674
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022517876A Active JP7493033B2 (ja) | 2019-09-20 | 2019-09-20 | 圧力を決定するための方法および圧力センサ |
JP2024027428A Pending JP2024059852A (ja) | 2019-09-20 | 2024-02-27 | 圧力を決定するための方法および圧力センサ |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024027428A Pending JP2024059852A (ja) | 2019-09-20 | 2024-02-27 | 圧力を決定するための方法および圧力センサ |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220334016A1 (ja) |
EP (1) | EP4031845A1 (ja) |
JP (2) | JP7493033B2 (ja) |
KR (1) | KR20220062647A (ja) |
CN (1) | CN114424039A (ja) |
TW (1) | TW202119006A (ja) |
WO (1) | WO2021052599A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH719946A2 (de) | 2022-08-08 | 2024-02-15 | Inficon ag | Kammer für Ionisationsvakuummeter. |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52131780A (en) * | 1976-04-26 | 1977-11-04 | Varian Associates | Apparatus for and method of measuring pressure and indicating leakage by analyzing optically |
JPS58139042A (ja) * | 1982-02-15 | 1983-08-18 | Toshiba Corp | 真空度測定装置 |
JP2000133640A (ja) * | 1998-10-21 | 2000-05-12 | Huabang Electronic Co Ltd | 半導体装置製造プロセスにおけるプラズマエッチングチャンバ―の圧力の測定方法と半導体装置製造プロセスにおけるプラズマエッチングチャンバ―の圧力とエッチング効率との両者の同期測定方法 |
US20080278173A1 (en) * | 2007-05-09 | 2008-11-13 | Tsinghua University | Ionization vacuum gauge |
JP2016170072A (ja) * | 2015-03-13 | 2016-09-23 | Vista株式会社 | 真空排気監視装置 |
Family Cites Families (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE716712C (de) | 1938-12-10 | 1942-01-27 | Telefunken Gmbh | Goniometerpeilanlage |
GB1013818A (en) * | 1962-06-06 | 1965-12-22 | Atomic Energy Commission | Electron-beam vacuum gauge |
US3196687A (en) * | 1962-08-30 | 1965-07-27 | Schalkowsky Samuel | Absolute pressure gage for ultra-high vacuum measurement |
US4000457A (en) * | 1975-10-06 | 1976-12-28 | Varian Associates | Cold cathode ionization gauge control for vacuum measurement |
US4270091A (en) * | 1978-01-25 | 1981-05-26 | Varian Associates, Inc. | Apparatus and method for measuring pressures and indicating leaks with optical analysis |
EP0079181B1 (en) * | 1981-10-30 | 1986-03-26 | Kabushiki Kaisha Meidensha | Vacuum monitor for vacuum interrupter and use of the vacuum monitor |
US4692630A (en) * | 1986-05-27 | 1987-09-08 | Inficon Leybold-Heraeus | Wavelength specific detection system for measuring the partial pressure of a gas excited by an electron beam |
US4988871A (en) * | 1989-05-08 | 1991-01-29 | Leybold Inficon, Inc. | Gas partial pressure sensor for vacuum chamber |
US5157333A (en) * | 1991-03-12 | 1992-10-20 | Mks Instruments, Inc. | Discharge initiating means for cold cathode discharge ionization gauge |
US5198772A (en) * | 1991-03-12 | 1993-03-30 | Mks Instruments, Inc. | Removable discharge initiating means for cold cathode discharge ionization gauge |
US5170057A (en) * | 1992-02-18 | 1992-12-08 | Danielson Associates, Inc. | Method and apparatus for measuring the partial pressure of a gas in a vacuum |
FI98410C (fi) * | 1993-12-16 | 1997-06-10 | Instrumentarium Oy | Kaasuseosten analysointiin käytettävä mittausanturi ja mittausjärjestely |
US5889281A (en) * | 1997-03-21 | 1999-03-30 | Leybold Inficon, Inc. | Method for linearization of ion currents in a quadrupole mass analyzer |
US6351131B1 (en) * | 2000-06-09 | 2002-02-26 | Hy-Tech Research Corporation | Species-selective pressure gauge with extended operation |
US6642641B2 (en) * | 2001-04-19 | 2003-11-04 | Inficon, Inc. | Apparatus for measuring total pressure and partial pressure with common electron beam |
CN1701224A (zh) * | 2002-09-27 | 2005-11-23 | 霍尼韦尔国际公司 | 低功率气体泄漏检测器 |
US7248062B1 (en) * | 2002-11-04 | 2007-07-24 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Contactless charge measurement of product wafers and control of corona generation and deposition |
DE102004034381A1 (de) * | 2004-07-16 | 2006-02-16 | Inficon Gmbh | Gassensor und Verfahren zum Betreiben einer Getterpumpe |
EP1698878A1 (en) * | 2005-03-04 | 2006-09-06 | Inficon GmbH | Electrode configuration and pressure measuring apparatus |
DE102005010716A1 (de) * | 2005-03-09 | 2006-09-14 | Inficon Gmbh | Kaltkathoden-Drucksensor |
WO2006121173A1 (ja) * | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Vaclab Inc. | 電離真空計 |
WO2008121828A2 (en) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Bionanomatrix, Inc. | Methods of macromolecular analysis using nanochannel arrays |
US7728984B2 (en) * | 2008-02-28 | 2010-06-01 | Inficon Gmbh | Method for evaluating a measured parameter |
SE532551C2 (sv) * | 2008-06-30 | 2010-02-16 | Senseair Ab | Ett för spektralanalys anpassat arrangemang |
US8756978B2 (en) * | 2010-04-09 | 2014-06-24 | Inficon Gmbh | Leak detector with optical tracer gas detection |
US9651488B2 (en) * | 2010-10-14 | 2017-05-16 | Thermo Fisher Scientific (Bremen) Gmbh | High-accuracy mid-IR laser-based gas sensor |
DE102011050171A1 (de) * | 2011-05-06 | 2012-11-08 | Heinrich-Heine-Universität Düsseldorf | Verfahren und Anordnung zum Detektieren eines ersten Gases in einem wenigstens ein weiteres Gas umfassenden Gasgemisch |
EP2541584B1 (en) * | 2011-06-27 | 2018-08-08 | TRUMPF Huettinger Sp. Z o. o. | Generating a highly ionized plasma in a plasma chamber |
AU2013300150A1 (en) * | 2012-05-21 | 2014-12-04 | Blacklight Power, Inc. | CIHT power system |
CH707685A1 (de) | 2013-03-06 | 2014-09-15 | Inficon Gmbh | Ionisations-Vakuummesszelle mit Abschirmvorrichtung. |
CN103868859B (zh) * | 2014-03-04 | 2015-12-30 | 中国空间技术研究院 | 一种基于ccd成像的电弧金属蒸汽浓度测量系统 |
JP2016033509A (ja) * | 2014-07-30 | 2016-03-10 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 真空計と汚染診断方法 |
CN107533008B (zh) * | 2015-03-06 | 2020-12-08 | 机械解析有限公司 | 多模式基于等离子体的光发射气体检测器 |
GB201802848D0 (en) * | 2018-02-22 | 2018-04-11 | Gencoa Ltd | Plasma monitoring system |
CN109900420B (zh) * | 2019-04-01 | 2020-09-25 | 中国计量大学 | 一种小型化冷原子真空压力传感系统 |
-
2019
- 2019-09-20 EP EP19773077.3A patent/EP4031845A1/de active Pending
- 2019-09-20 JP JP2022517876A patent/JP7493033B2/ja active Active
- 2019-09-20 US US17/762,019 patent/US20220334016A1/en active Pending
- 2019-09-20 KR KR1020227013140A patent/KR20220062647A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-09-20 CN CN201980100546.5A patent/CN114424039A/zh active Pending
- 2019-09-20 WO PCT/EP2019/075367 patent/WO2021052599A1/de unknown
-
2020
- 2020-09-18 TW TW109132313A patent/TW202119006A/zh unknown
-
2024
- 2024-02-27 JP JP2024027428A patent/JP2024059852A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52131780A (en) * | 1976-04-26 | 1977-11-04 | Varian Associates | Apparatus for and method of measuring pressure and indicating leakage by analyzing optically |
JPS58139042A (ja) * | 1982-02-15 | 1983-08-18 | Toshiba Corp | 真空度測定装置 |
JP2000133640A (ja) * | 1998-10-21 | 2000-05-12 | Huabang Electronic Co Ltd | 半導体装置製造プロセスにおけるプラズマエッチングチャンバ―の圧力の測定方法と半導体装置製造プロセスにおけるプラズマエッチングチャンバ―の圧力とエッチング効率との両者の同期測定方法 |
US20080278173A1 (en) * | 2007-05-09 | 2008-11-13 | Tsinghua University | Ionization vacuum gauge |
JP2016170072A (ja) * | 2015-03-13 | 2016-09-23 | Vista株式会社 | 真空排気監視装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7493033B2 (ja) | 2024-05-30 |
TW202119006A (zh) | 2021-05-16 |
WO2021052599A1 (de) | 2021-03-25 |
KR20220062647A (ko) | 2022-05-17 |
EP4031845A1 (de) | 2022-07-27 |
US20220334016A1 (en) | 2022-10-20 |
JP2024059852A (ja) | 2024-05-01 |
CN114424039A (zh) | 2022-04-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Crintea et al. | Plasma diagnostics by optical emission spectroscopy on argon and comparison with Thomson scattering | |
US4147431A (en) | Apparatus and method for measuring pressures and indicating leaks with optical analysis | |
Andrade et al. | A new, versatile, direct-current helium atmospheric-pressure glow discharge | |
JP2024059852A (ja) | 圧力を決定するための方法および圧力センサ | |
KR20130062791A (ko) | 플라즈마 진단 장치 및 방법 | |
US9997335B2 (en) | Plasma source enhanced with booster chamber and low cost plasma strength sensor | |
KR20210124083A (ko) | 글로우 플라즈마 가스 측정 신호 처리 | |
US6034781A (en) | Electro-optical plasma probe | |
KR20100067649A (ko) | 가스 분석 시스템 및 반도체 제조 장치 | |
Kolpaková et al. | Study of plasma system by OES (optical emission spectroscopy) | |
Mehdi et al. | Optical emission diagnostics of an rf magnetron sputtering discharge | |
Thiede et al. | The acetone bandpass detector for inverse photoemission: Operation in proportional and Geiger–Müller modes | |
KR20210062680A (ko) | 질량 분석기 및 질량 분석법에 의한 가스 분석 방법 | |
US10375811B2 (en) | Asymmetric induction devices and systems and methods using them | |
US4692630A (en) | Wavelength specific detection system for measuring the partial pressure of a gas excited by an electron beam | |
US20150194295A1 (en) | Assembly for use in a vacuum treatment process | |
Milosavljević et al. | Phase-resolved optical emission spectroscopy for an electron cyclotron resonance etcher | |
Petrović et al. | Energetic ion, atom, and molecule reactions and excitation in low-current H 2 discharges: Spatial distributions of emissions | |
Fröhler-Bachus | A portable diagnostic tool for the absolute determination of photon fluxes in low pressure plasmas down to the VUV region | |
CN111293028B (zh) | 基于随机功率确定h模式放电气压区间的方法及控制装置 | |
US20240177979A1 (en) | Device and method for plasma generation in a wide pressure range and system and method for optical gas analysis/detection by means of such a device | |
Sode et al. | Wall loss of atomic nitrogen determined by ionization threshold mass spectrometry | |
Hebner et al. | Overview of plasma diagnostic techniques | |
Gulbrandsen | Diagnostics of ion beam and current free double layer in helicon plasma devices with expanding magnetic field | |
KR20240088888A (ko) | 가스 분석 장치 및 제어 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220712 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220727 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230711 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230725 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231010 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20231107 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240227 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20240227 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20240404 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240423 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240520 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7493033 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |