JP2022542223A - 繰り返し率のずれによって誘発される波長誤差を補償する方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 71
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 310
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 87
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 30
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 18
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 15
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims description 8
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 35
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 19
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 15
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 14
- 230000008859 change Effects 0.000 description 13
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 description 7
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 description 4
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 4
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000003491 array Methods 0.000 description 3
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004422 calculation algorithm Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 3
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000005312 nonlinear dynamic Methods 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 241000699670 Mus sp. Species 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000011217 control strategy Methods 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000000671 immersion lithography Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70575—Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength or matching of optical components to wavelength
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/08004—Construction or shape of optical resonators or components thereof incorporating a dispersive element, e.g. a prism for wavelength selection
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/10038—Amplitude control
- H01S3/10046—Pulse repetition rate control
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/10069—Memorized or pre-programmed characteristics, e.g. look-up table [LUT]
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/105—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
- H01S3/1055—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length one of the reflectors being constituted by a diffraction grating
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/1305—Feedback control systems
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
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Abstract
Description
[0001] この出願は、2019年7月23日に出願された、METHOD OF COMPENSATING WAVELENGTH ERROR INDUCED BY REPETITION RATE DEVIATIONと題する米国特許出願第62/877,796号の優先権を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
[000111] 放射パルス410cの波長誤差を減らすために制御信号450に調整が行われることがある。調整は、調整された制御信号を生成するために制御信号450に適用され得る補正係数の形をとることがある。調整された制御信号は次の形式をとることがある。
1.放射パルスを制御するための放射システムであって、 放射パルスの特性を制御するために放射パルスと相互作用するように構成された光学素子と、
放射システムの基準パルス繰り返し率に少なくとも部分的に依存する、コントローラから受信した制御信号によって光学素子を作動させるように構成されたアクチュエータと、を備え、コントローラが、パルス情報を受け取り、パルス情報を用いて制御信号の調整を決定及び適用するように構成された、放射システム。
2.特性が放射パルスの波長である、条項1の放射システム。
3.パルス情報が放射システムの動作パルス繰り返し率を含み、調整が、基準パルス繰り返し率と動作パルス繰り返し率との差異を少なくとも部分的に考慮する、条項1の放射システム。
4.調整が制御信号の大きさを変化させる、条項1の放射システム。
5.制御信号の大きさが、
ここでU(f)が周波数領域におけるアクチュエータの制御信号であり、λTが放射パルスの目標波長であり、nがパルス数であり、P(f)が周波数領域におけるアクチュエータの動的モデルである、条項4の放射システム。
6.パルス情報がパルス数を含み、制御信号の変化させた大きさが、
ここでCが補正係数である、条項5の放射システム。
7.補正係数が
ここでRrが放射システムの基準パルス繰り返し率であり、Δが動作パルス繰り返し率と基準パルス繰り返し率との差異である、条項6の放射システム。
8.補正係数が、放射システムが発生させた放射パルス毎に計算され、制御信号に適用される、条項7の放射システム。
9.アクチュエータが、放射パルスの光学素子への入射角が変化するように光学素子を回転させるように構成されたピエゾ素子を備えた、条項1の放射システム。
10.光学素子が、選択された帯域の放射波長が放射システムの出力に送信されるように波長依存的に放射パルスを反射するように構成された格子を備えた、条項1の放射システム。
11.光学素子が、選択された帯域の放射波長が放射システムの出力に送信されるように波長依存的に放射パルスを屈折させるように構成されたプリズムを備えた、条項1の放射システム。
12.放射パルスを受け取り、放射パルスにパターン付与し、パターン付与した放射パルスをターゲット上に投影するように構成されたリソグラフィ装置と、
条項1に記載の放射システムと、を備えたリソグラフィシステム。
13.放射パルスを制御する方法であって、
放射パルスの特性を制御するために放射パルスと相互作用する光学素子を使用すること、
放射システムの基準パルス繰り返し率に少なくとも部分的に依存する制御信号によって光学素子を作動させるアクチュエータを使用すること、
パルス情報を受け取ること、及び
制御信号の調整を決定及び適用するためにパルス情報を使用すること、を含む方法。
14.特性が放射パルスの波長である、条項13の方法。
15.パルス情報が放射システムの動作パルス繰り返し率を含み、調整が、基準パルス繰り返し率と動作パルス繰り返し率との差異を少なくとも部分的に考慮する、条項14の方法。
16.調整が制御信号の大きさを変化させる、条項14の方法。
17.制御信号の大きさが、
ここでU(f)がアクチュエータの制御信号であり、λTが放射パルスの目標波長であり、nがパルス数であり、P(f)がアクチュエータの動的モデルである、条項16の方法。
18.パルス情報がパルス数を含み、制御信号の変化させた大きさが、
ここでCが補正係数である、条項17の方法。
19.補正係数が
ここでRrが放射システムの基準パルス繰り返し率であり、Δが動作パルス繰り返し率と基準パルス繰り返し率との差異である、条項18の方法。
20.補正係数が、放射システムが発生させた放射パルス毎に計算され、制御信号に適用される、条項19の方法。
21.放射パルスを含むパターン付与された放射ビームをターゲット上に投影する方法であって、
放射パルスの特性を制御するために放射パルスと相互作用する光学素子を使用すること、
放射システムの基準パルス繰り返し率に少なくとも部分的に依存する制御信号によって光学素子を作動させるアクチュエータを使用すること、
パルス情報を受け取ること、及び
制御信号の調整を決定及び適用するためにパルス情報を使用すること、を含む方法に従って放射パルスを制御することを更に含む方法。
22.コンピュータに放射パルスを制御する方法を実行させるように構成されたコンピュータ可読命令を含むコンピュータプログラムであって、方法が、
放射パルスの特性を制御するために放射パルスと相互作用する光学素子を使用すること、
放射システムの基準パルス繰り返し率に少なくとも部分的に依存する制御信号によって光学素子を作動させるアクチュエータを使用すること、
パルス情報を受け取ること、及び
制御信号の調整を決定及び適用するためにパルス情報を使用すること、を含むコンピュータプログラム。
23.プロセッサ可読命令を記憶するメモリと、メモリに記憶された命令を読み出し実行するように構成されたプロセッサとを備えた、放射パルスを制御するためのコンピュータ装置であって、プロセッサ可読命令が、放射パルスを制御する方法を実行するようにコンピュータを制御するように構成された命令を含み、方法が、
放射パルスの特性を制御するために放射パルスと相互作用する光学素子を使用すること、
放射システムの基準パルス繰り返し率に少なくとも部分的に依存する制御信号によって光学素子を作動させるアクチュエータを使用すること、
パルス情報を受け取ること、及び
制御信号の調整を決定及び適用するためにパルス情報を使用すること、を含むコンピュータ装置。
Claims (23)
- 放射パルスを制御するための放射システムであって、
前記放射パルスの特性を制御するために前記放射パルスと相互作用するように構成された光学素子と、
前記放射システムの基準パルス繰り返し率に少なくとも部分的に依存する、コントローラから受信した制御信号によって前記光学素子を作動させるように構成されたアクチュエータと、を備え、前記コントローラが、パルス情報を受け取り、前記パルス情報を用いて前記制御信号の調整を決定及び適用するように構成された、放射システム。 - 前記特性が前記放射パルスの波長である、請求項1の放射システム。
- 前記パルス情報が前記放射システムの動作パルス繰り返し率を含み、前記調整が、前記基準パルス繰り返し率と前記動作パルス繰り返し率との差異を少なくとも部分的に考慮する、請求項1の放射システム。
- 前記調整が前記制御信号の大きさを変化させる、請求項1の放射システム。
- 前記補正係数が、前記放射システムが発生させた放射パルス毎に計算され、前記制御信号に適用される、請求項7の放射システム。
- 前記アクチュエータが、前記放射パルスの前記光学素子への入射角が変化するように前記光学素子を回転させるように構成されたピエゾ素子を備えた、請求項1の放射システム。
- 前記光学素子が、選択された帯域の放射波長が前記放射システムの出力に送信されるように波長依存的に前記放射パルスを反射するように構成された格子を備えた、請求項1の放射システム。
- 前記光学素子が、選択された帯域の放射波長が前記放射システムの出力に送信されるように波長依存的に前記放射パルスを屈折させるように構成されたプリズムを備えた、請求項1の放射システム。
- 放射パルスを受け取り、前記放射パルスにパターン付与し、パターン付与した前記放射パルスをターゲット上に投影するように構成されたリソグラフィ装置と、
請求項1に記載の放射システムと、を備えたリソグラフィシステム。 - 放射パルスを制御する方法であって、
前記放射パルスの特性を制御するために前記放射パルスと相互作用する光学素子を使用すること、
放射システムの基準パルス繰り返し率に少なくとも部分的に依存する制御信号によって前記光学素子を作動させるアクチュエータを使用すること、
パルス情報を受け取ること、及び
前記制御信号の調整を決定及び適用するために前記パルス情報を使用すること、を含む方法。 - 前記特性が前記放射パルスの波長である、請求項13の方法。
- 前記パルス情報が前記放射システムの動作パルス繰り返し率を含み、前記調整が、前記基準パルス繰り返し率と前記動作パルス繰り返し率との差異を少なくとも部分的に考慮する、請求項14の方法。
- 前記調整が前記制御信号の大きさを変化させる、請求項14の方法。
- 前記補正係数が、前記放射システムが発生させた放射パルス毎に計算され、前記制御信号に適用される、請求項19の方法。
- 放射パルスを含むパターン付与された放射ビームをターゲット上に投影する方法であって、
前記放射パルスの特性を制御するために前記放射パルスと相互作用する光学素子を使用すること、
放射システムの基準パルス繰り返し率に少なくとも部分的に依存する制御信号によって前記光学素子を作動させるアクチュエータを使用すること、
パルス情報を受け取ること、及び
前記制御信号の調整を決定及び適用するために前記パルス情報を使用すること、を含む方法に従って前記放射パルスを制御することを更に含む方法。 - コンピュータに放射パルスを制御する方法を実行させるように構成されたコンピュータ可読命令を含むコンピュータプログラムであって、前記方法が、
前記放射パルスの特性を制御するために前記放射パルスと相互作用する光学素子を使用すること、
放射システムの基準パルス繰り返し率に少なくとも部分的に依存する制御信号によって前記光学素子を作動させるアクチュエータを使用すること、
パルス情報を受け取ること、及び
前記制御信号の調整を決定及び適用するために前記パルス情報を使用すること、を含むコンピュータプログラム。 - プロセッサ可読命令を記憶するメモリと、前記メモリに記憶された命令を読み出し実行するように構成されたプロセッサとを備えた、放射パルスを制御するためのコンピュータ装置であって、前記プロセッサ可読命令が、前記放射パルスを制御する方法を実行するように前記コンピュータを制御するように構成された命令を含み、前記方法が、
前記放射パルスの特性を制御するために前記放射パルスと相互作用する光学素子を使用すること、
放射システムの基準パルス繰り返し率に少なくとも部分的に依存する制御信号によって前記光学素子を作動させるアクチュエータを使用すること、
パルス情報を受け取ること、及び
前記制御信号の調整を決定及び適用するために前記パルス情報を使用すること、を含むコンピュータ装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201962877796P | 2019-07-23 | 2019-07-23 | |
US62/877,796 | 2019-07-23 | ||
PCT/US2020/039520 WO2021015919A1 (en) | 2019-07-23 | 2020-06-25 | Method of compensating wavelength error induced by repetition rate deviation |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022542223A true JP2022542223A (ja) | 2022-09-30 |
JP7358610B2 JP7358610B2 (ja) | 2023-10-10 |
Family
ID=71662326
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022502017A Active JP7358610B2 (ja) | 2019-07-23 | 2020-06-25 | 繰り返し率のずれによって誘発される波長誤差を補償する方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11803126B2 (ja) |
JP (1) | JP7358610B2 (ja) |
KR (1) | KR102628796B1 (ja) |
CN (1) | CN114144731B (ja) |
TW (1) | TWI803761B (ja) |
WO (1) | WO2021015919A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2023500603A (ja) * | 2019-11-08 | 2023-01-10 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | 放射のパルスのバーストを制御するための放射システム |
CN117581429A (zh) * | 2021-08-06 | 2024-02-20 | 极光先进雷射株式会社 | 激光装置和电子器件的制造方法 |
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US6853653B2 (en) | 1997-07-22 | 2005-02-08 | Cymer, Inc. | Laser spectral engineering for lithographic process |
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JP3977324B2 (ja) | 2002-11-12 | 2007-09-19 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置 |
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US7116695B2 (en) * | 2004-09-28 | 2006-10-03 | Cymer, Inc. | Laser output light pulse beam parameter transient correction system |
US7534552B2 (en) | 2004-12-23 | 2009-05-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
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US20070013889A1 (en) | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby having an increase in depth of focus |
US7728955B2 (en) | 2006-03-21 | 2010-06-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, radiation supply and device manufacturing method |
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NL2005424A (en) | 2009-10-30 | 2011-05-02 | Asml Netherlands Bv | Lithographic method and apparatus. |
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US9762023B2 (en) * | 2015-12-21 | 2017-09-12 | Cymer, Llc | Online calibration for repetition rate dependent performance variables |
JP6595012B2 (ja) | 2016-02-02 | 2019-10-23 | ギガフォトン株式会社 | 狭帯域化レーザ装置 |
US9989866B2 (en) | 2016-10-17 | 2018-06-05 | Cymer, Llc | Wafer-based light source parameter control |
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US11526082B2 (en) | 2017-10-19 | 2022-12-13 | Cymer, Llc | Forming multiple aerial images in a single lithography exposure pass |
NL2022609A (en) | 2018-03-12 | 2019-09-18 | Asml Netherlands Bv | Control System and Method |
KR102462465B1 (ko) | 2018-03-30 | 2022-11-02 | 사이머 엘엘씨 | 펄스형 광 빔의 스펙트럼 특성 선택 및 펄스 타이밍 제어 기술 |
CN109217095A (zh) * | 2018-11-13 | 2019-01-15 | 徐州诺派激光技术有限公司 | 中红外脉冲激光器及其工作方法 |
-
2020
- 2020-06-25 US US17/627,844 patent/US11803126B2/en active Active
- 2020-06-25 JP JP2022502017A patent/JP7358610B2/ja active Active
- 2020-06-25 CN CN202080052966.3A patent/CN114144731B/zh active Active
- 2020-06-25 KR KR1020227002548A patent/KR102628796B1/ko active IP Right Grant
- 2020-06-25 WO PCT/US2020/039520 patent/WO2021015919A1/en active Application Filing
- 2020-07-03 TW TW109122515A patent/TWI803761B/zh active
-
2023
- 2023-10-05 US US18/481,524 patent/US20240036475A1/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004526313A (ja) * | 2001-02-27 | 2004-08-26 | サイマー, インコーポレイテッド | 圧電駆動装置を備えたレーザ波長制御ユニット |
JP2017538963A (ja) * | 2014-12-09 | 2017-12-28 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | 光源内の外乱の補償 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7358610B2 (ja) | 2023-10-10 |
US20240036475A1 (en) | 2024-02-01 |
US20220269181A1 (en) | 2022-08-25 |
US11803126B2 (en) | 2023-10-31 |
KR102628796B1 (ko) | 2024-01-23 |
WO2021015919A1 (en) | 2021-01-28 |
CN114144731A (zh) | 2022-03-04 |
TWI803761B (zh) | 2023-06-01 |
CN114144731B (zh) | 2024-04-09 |
TW202123570A (zh) | 2021-06-16 |
KR20220024953A (ko) | 2022-03-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
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A977 | Report on retrieval |
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