JP2022528615A - パージガスを供給するための制御装置及び方法 - Google Patents

Abstract

本発明の態様は、動的シール（１０）を超える漏洩を低減するためにパージガスの供給量を制御する方法に関する。動的シール（１０）は、対向する第１及び第２の側面（１２－１Ａ、１２－１Ｂ）を有する少なくとも第１のシール部材（１２－１）を備える。第１のシール部材（１２－１）の第２の側面へのパージガスの供給量は、判定された圧力差（ΔＰ）に基づいて制御される。本発明の態様は、パージガスの供給量を制御するための制御装置（２３）、真空システム（２）のための動的シールシステム（１）、及び真空システム（２）に関する。【選択図】図１

Description

本開示は、パージガスを供給するための制御装置及び方法に関する。本発明の態様は、パージガスの供給を制御する方法、パージガスの供給を制御するための制御装置、真空システムのための動的シールシステム、及び真空システムに関する。

真空システムにおいて、真空ポンプの回転軸に対するシールを形成するための動的シールを設けることが知られている。動的シールは、シールを維持して製造プロセスが行われる真空室の中に真空を確立することを可能にする。動的シールは、回転軸の外面とシールを形成するためのリップシール（放射状軸シールとしても知られている）の形態とすることができる。動的シールは、プロセス材料を真空室の中に保持する。動的シールは、真空室と流体連通する内側と、真空室から分離される外側とを有する。動的シールの外側に調節されたパージガス供給量を供給することが知られている。

本出願の発明者は、特定の動作状態で、動的シールを超える漏洩を助長させる圧力差が確立される可能性があることを突き止めた。真空室が動的シールでシールされる真空システムの場合、これらの状態は、真空室の内部の動作圧力が動的シールの反対側の動作圧力よりも高い場合に生じる可能性がある。結果としての圧力差は、本明細書では逆圧力差と呼び、プロセス材料を真空室から外に移動させる可能性がある、動的シールを超える漏洩を助長する場合がある。プロセス材料は、潤滑油容器（例えば油箱）に移動する可能性があり、潤滑油汚染につながる。汚染された潤滑油での真空ポンプの連続動作は、損傷につながる可能性がある。この問題は、動的シールが摩耗した場合に悪化する可能性がある。

本発明の目的は、従来技術に関連する１又は２以上の欠点に対処することである。

本発明の態様及び実施形態は、特許請求の範囲に記載されうようなパージガスの供給量を制御するための方法、パージガスの供給量を制御するための制御装置、真空システムのための動的シールシステム、及び真空システムを提供する。

本発明の態様によれば、動的シールを超える漏洩を低減するためにパージガスの供給量を制御する方法が提供され、動的シールは、対向する第１及び第２の側面を有する少なくとも第１のシール部材を備え、本方法は、
第１のシール部材の第１の側面上の第１の作動圧（Ｐ１）と、第１のシール部材の第２の側面上の第２の作動圧との間の圧力差を判定するステップと、
判定された圧力差に基づいて第１のシール部材の第２の側面へのパージガスの供給量を制御するステップと、
を含む。パージガスの供給量は、第２の作動圧に対する第１の作動圧の変化に基づいて制御することができる。第１のシール部材の第２の側面に対するパージガスの供給量は、第１及び第２の作動圧の比較に基づいてパージガスの供給量を増大又が低減させることで制御することができる。パージガスの供給量は、第１及び第２の作動圧の互いに対する変化に基づいて動的に制御することができる。パージガスの供給量を能動的に制御することで、第１のシール部材を横切る圧力差を制御することができる。少なくとも特定の実施形態において、第１の側面から第２の側面への第１のシール部材を超える流体漏洩が低減される。パージガスの供給量は、第１の作動圧が第２の作動圧よりも大きい動作状態を回避するために制御することができる。第１のシール部材を横切る正の圧力差を維持することで、シールを超えてプロセス材料を移動させることができる逆流のリスクが低減し、これにより軸受及び潤滑システムを含む他の構成要素の汚染が低減する。

また、本方法は、第１の作動圧に基づいて第１のシール部材の第２の側面へのパージガスの供給量を制御することを含む。少なくとも特定の実施形態において、このことは、最終的な真空性能の低下を制限する又は回避するのを助けることができる。

代替的に又は追加的に、本方法は、第１の作動圧及び／又は第２の作動圧の変化に基づいて第１のシール部材の第２の側面へのパージガスの供給量を制御することを含むことができる。本発明は、第１の作動圧及び／又は第２の作動圧の変化が、所定の期間にわたって所定の圧力変化閾値未満となるまで、パージガスの供給量を制御することを含む。

動的シールは、真空室に関連することができる。真空ポンプは、真空室の中に真空を生成するために設けることができる。例えば、動的シールは、真空ポンプの回転軸に関連することができる。第１のシール部材の第１の側面は、真空室と流体連通する内側とすることができる。第１のシール部材の第２の側面は、真空室から切り離された又は分離された外側とすることができる。例えば、第１のシール部材の第２の側面は、油箱と連通することができる。

パージガスの供給量を制御することは、判定された圧力差が、第２の作動圧が第１の作動圧以下であるような場合にパージガスの供給量を増大させることを含むことができる。代替的に又は追加的に、パージガスの供給量を制御することは、判定された圧力差が、第１の作動圧が第２の作動圧よりも大きいような場合にパージガスの供給量を低減させることを含むことができる。

パージガスの供給量を制御することは、判定された圧力差が、所定の第１の圧力差閾値以下である場合にパージガスの供給量を増大させることを含むことができる。代替的に又は追加的に、パージガスの供給量を制御することは、第１の作動圧と第２の作動圧との間の差分が所定の第２の圧力差閾値よりも大きい場合にパージガスの供給量を低減させることを含むことができる。第１の圧力差閾値及び第２の圧力差閾値は、互いに同じである又は互いに異なる場合がある。例えば、第１の圧力差閾値は、５０ｍｂａｒ、１００ｍｂａｒ、１５０ｍｂａｒ、２００ｍｂａｒ、又は２５０ｍｂａｒとすることができる。例えば、第２の圧力差閾値は、５０ｍｂａｒ、１００ｍｂａｒ、１５０ｍｂａｒ、２００ｍｂａｒ、又は２５０ｍｂａｒとすることができる。

本方法は、圧力差の変化速度を判定することを含むことができる。パージガスの供給量を制御することは、圧力差の変化速度が所定の変化速度閾値以上である場合にパージガスの供給量を増大させることを含むことができる。代替的に又は追加的に、パージガスの供給量を制御することは、判定された圧力差が、第１の作動圧が第２の作動圧よりも大きいような場合にパージガスの供給量を低減させることを含むことができる。

圧力差は、第１の作動圧と第２の作動圧との間の圧力差を示す。圧力差を判定することは、第２の作動圧から第１の作動圧を減算することを含むことができる。

本方法は、第２の作動圧が所定の作動圧閾値以下である場合に判定された圧力差に基づいてパージガスの供給量を制御することを含むことができる。パージガスの供給量は、第２の作動圧が所定の作動圧閾値よりも大きい場合に、判定された圧力差に基づいて制御されない場合ある。例えば、所定の作動圧閾値は、大気圧とすることができる。

上述のように、動的シールは、真空室をシールするために使用することができる。真空ポンプは、真空室から空気を汲み出して真空を生成するために設けることができる。使用時、第１の作動圧は、大気圧未満とすること、及び／又は、第２の作動圧は、大気圧未満に低減させることができる。真空ポンプの作動時、第１の作動圧は、第２の作動圧未満とすることができる。真空ポンプが非作動になると、ガスが真空室に引き込まれる（例えば、排気ポートを通って）場合がある。これにより、真空ポンプの非作動後に、第１の作動圧は、大気圧まで増大することができる。しかしながら、第１のシール部材により、第２の作動圧はよりゆっくりと増大することができる。従って、第２の作動圧は、例えば真空ポンプの停止後の真空ポンプの非作動の後で第１の作動圧未満になる可能性がある。本方法は、真空ポンプの非作動後の第１の作動圧及び／又は第２の作動圧の監視を続けることを含むことができる。本方法は、真空ポンプの非作動後に第２の作動圧が所定の作動圧閾値以上になるまで、パージガスの供給量を制御することを含むことができる。例えば、所定の作動圧閾値は、大気圧として定義することができる。従って、パージガスの供給量は、第２の作動圧が少なくとも実質的に大気圧に等しくなるまで制御することができる。

本発明のさらなる態様によれば、動的シールを超える漏洩を低減するためにパージガスの供給量を制御する方法が提供され、動的シールは、少なくとも第１のシール部材を備え、本方法は、
真空室の中に真空を確立するための真空ポンプの動作を監視するステップと、
真空ポンプの動作に基づいてパージガスの供給量を制御するステップと、
を含み、
パージガスの供給量を制御するステップは、真空ポンプの動作速度が低減する又は真空ポンプが非作動にされる場合にパージガスの供給量を増大させるステップを含む。

パージガスは、真空ポンプが第１の動作モードである場合に第１の圧力で供給することができる。例えば、真空ポンプは、真空室の中に真空を確立するために第１の動作モードで動作することができる。パージガスは、真空ポンプの動作速度が低減する又は真空ポンプが非作動にされる場合に第２の圧力で供給することができる。第２の圧力は、第１の圧力よりも大きくすることができる。従って、パージガスの供給量が増大する。

本方法は、第１の作動圧及び／又は第２の作動圧の変化又は変化速度に基づいてパージガスの供給量を維持することを含むことができる。本方法は、第１の作動圧の変化が所定に期間にわたって所定の圧力変化閾値未満となるまで、パージガスを供給することができる。本方法は、第１の作動圧が安定する場合にパージガスの供給量を停止又は低減することを含むことができる。本方法は、第１の作動圧の変化速度が所定の変化速度閾値未満の場合に制御弁を閉鎖することを含むことができる。

本明細書に記載の１又は複数の方法は、パージガス供給弁を開放してパージガスの供給量を増大させること、及びパージガス供給弁を閉鎖してパージガスの供給量を低減させること含むことができる。

本方法は、随意的に、第１のシール部材の第２の側面への調節されたパージガスの供給量を供給することを含むことができる。例えば、調節された供給量は、定常状態のパージガスの供給量を含むことができる。調節された供給量は、判定された圧力差に無関係に維持される又は真空ポンプの動作速度で決まる、連続した供給量とすることができる。調節されたパージガスの供給量は、制御された供給量と並行して維持することができる。流れ制限器は、調節されたパージガスの供給量を制限するために設けることができる。

本発明のさらなる態様によれば、内部に記憶された命令セットを有する非一時的なコンピュータ可読媒体が提供され、命令セットは、実行されると、プロセッサに本明細書に記載の方法を行わせる。

本発明のさらなる態様によれば、動的シールを超える漏洩を低減するためにパージガスの供給量を制御するための制御装置が提供され、動的シールは、対向する第１及び第２の側面を有する少なくとも第１のシール部材を備え、制御装置は、
第１のシール部材の第１の側面上の第１の作動圧と、第１のシール部材の第２の側面上の第２の作動圧との間の圧力差を判定し、
判定された圧力差に基づいて第１のシール部材の第２の側面へのパージガスの供給量を制御する、
ように構成されている。

制御装置は、圧力差を判定するためのプロセッサを備えることができる。プロセッサは、システムメモリに接続することができる。プロセッサは、第１のシール部材の第１の側面上に配置された第１の作動圧センサから第１の作動圧信号を受け取るように構成することができる。第１の作動圧信号は、第１の作動圧を示すことができる。プロセッサは、第１のシール部材の第２の側面上に配置された第２の作動圧センサから第２の作動圧信号を受け取ることができる。第２の作動圧信号は、第２の作動圧を示すことができる。プロセッサは、第１及び第２の作動圧を比較することで圧力差を判定することができる。例えば、プロセッサは第１の作動圧から第２の作動圧を減算することができる。プロセッサは、パージガスの供給量を制御するための制御弁信号を出力するように構成することができる。制御弁信号は、第１及び第２の作動圧の互いに対する変化に基づいて生成することができる。

制御装置は、第１の作動圧に基づいて第１のシール部材の第２の側面へのパージガスの供給量を制御するように構成することができる。

代替的に又は追加的に、制御装置は、第１の作動圧及び／又は第２の作動圧の変化に基づいて、第１のシール部材の第２の側面へのパージガスの供給量を制御するように構成することができる。制御装置は、第１の作動圧及び／又は第２の作動圧の変化が所定の期間にわたって所定の圧力変化閾値未満になるまで、パージガスの供給量を制御するように構成することができる。

代替的に、制御装置は、パージガスの供給量を制御するための機械弁を備えることができる。機械弁は、圧力差調節器を備えることができる。圧力差調節器は、ダイヤフラムを備えることができる。ダイヤフラムの反対側の各測面は、第１のシール部材の第１及び第２の側面と流体連通することができる。圧力差は、ダイヤフラムの位置に基づいて特定することができる。ダイヤフラムは、パージガスの供給量を制御するための弁部材に連結することができる。

制御装置は、第１のシール部材の第２の側面上の第２の作動圧に対する第１のシール部材の第１の側面上の第１の作動圧の変化に基づいて、第１のシール部材の第２の側面に対するパージガスの供給量を制御することができる。

制御装置は、判定された圧力差が、第２の作動圧が第１の作動圧以下であることを示す場合にパージガスの供給量を増大させるように構成することができる。代替的に又は追加的に、制御装置は、判定された圧力差が、第１の作動圧が第２の作動圧よりも大きいことを示す場合にパージガスの供給量を低減させるように構成することができる。

制御装置は、判定された圧力差が所定の第１の圧力差閾値以下である場合にパージガスの供給量を増大させるように構成することができる。代替的に又は追加的に、制御装置は、第１の作動圧と第２の作動圧との間の差分が所定の第２の圧力差閾値よりも大きい場合にパージガスの供給量を低減させるように構成することができる。

圧力差は、第１の作動圧と第２の作動圧との間の圧力差を示す。制御装置は、第２の作動圧から第１の作動圧を減算することで圧力差を判定するように構成することができる。

制御装置は、第２の作動圧が所定の作動圧閾値以下である場合に、判定された圧力差に基づいてパージガスの供給量を制御するように構成することができる。パージガスの供給量は、第２の作動圧が所定の作動圧閾値よりも大きい場合に判定された圧力差に基づいて制御されない場合がある。例えば、所定の作動圧閾値は大気圧とすることができる。

本発明のさらなる態様によれば、動的シールを超える漏洩を低減するためにパージガスの供給量を制御するための制御装置が提供され、動的シールは少なくとも第１のシール部材を備え、制御装置は、
真空ポンプの動作を監視し、
真空ポンプの動作に基づいてパージガスの供給量を制御するための制御弁信号を出力する、
ように構成されたプロセッサを備え、
プロセッサは、真空ポンプの動作速度が低減する又は真空ポンプが非作動にされる場合にパージガスの供給量を増大させるための制御弁信号を出力するように構成される。

パージガスは、真空ポンプが第１の動作モードにある場合に第１の圧力で供給することができる。例えば、真空ポンプは、真空室の中に真空を確立するために第１の動作モードで動作することができる。パージガスは、真空ポンプの動作速度が低減する又は真空ポンプが非作動にされる場合に第２の圧力で供給することができる。第２の圧力は、第１の圧力よりも大きくすることができる。従って、パージガスの供給量が増大する。

制御装置は、パージガス供給弁を開放してパージガスの供給量を増大させること、及びパージガス供給弁を閉鎖してパージガスの供給量を低減又は阻止することができる。

制御装置は、第１の作動圧及び／又は第２の作動圧の変化又は変化速度に基づいてパージガスの供給量を制御するように構成することができる。例えば、制御装置は、所定の期間にわたって第１の作動圧の変化が所定の圧力変化閾値未満になるまでパージガスを供給し続けることができる。制御装置は、第１の作動圧が安定する場合にパージガスの供給量を停止又は低減させるように構成することができる。制御装置は、第１の作動圧の変化速度が所定の変化速度閾値未満の場合に制御弁を閉鎖するように構成することができる。

本発明のさらなる態様によれば、本明細書に記載の制御装置を備える真空システムが提供される。

本発明のさらなる態様によれば、真空システムのための動的シールシステムが提供され、動的シールシステムは、
対向する第１及び第２の側面を有する、少なくとも第１のシール部材と、
第１のシール部材の第２の側面にパージガスを供給するためのパージガス供給システムと、
パージガス供給システムを制御するための制御装置と、
を備え、
制御装置は、第１のシール部材の第１の側面上の第１の作動圧と第１のシール部材の第２の側面上の第２の作動圧との間の圧力差を判定し、判定された圧力差に基づいて第１のシール部材の第２の側面へのパージガスの供給量を制御するためにパージガス供給システムを制御するように構成される。

制御装置は、圧力差を判定するためのプロセッサを備えることができる。プロセッサは、システムメモリに接続することができる。プロセッサは、第１のシール部材の第１の側面上に配置された第１の作動圧センサから第１の作動圧信号を受け取るように構成することができる。第１の作動圧信号は、第１の作動圧を示すことができる。プロセッサは、第１のシール部材の第２の側面上に配置された第２の作動圧センサから第２の作動圧信号を受け取ることができる。第２の作動圧信号は、第２の作動圧を示すことができる。プロセッサは、第１及び第２の作動圧を比較することで圧力差を判定することができる。例えば、プロセッサは第１の作動圧から第２の作動圧を減算することができる。プロセッサは、パージガスの供給量を制御するための制御弁信号を出力するように構成することができる。制御弁信号は、第１及び第２の作動圧の互いに対する変化に基づいて生成することができる。

代替的に、制御装置は、パージガスの供給量を制御するための機械弁を備えることができる。機械弁は、圧力差調節器を備えることができる。圧力差調節器は、ダイヤフラムを備えることができる。ダイヤフラムの反対側の各側面は、第１のシール部材の第１及び第２の側面と流体連通することができる。圧力差は、ダイヤフラムの位置に基づいて判定することができる。ダイヤフラムは、パージガスの供給量を制御するための弁部材に連結することができる。

制御装置は、第２の作動圧が第１の作動圧以下の場合にパージガスの供給量を増大させるように構成することができる。代替的に又は追加的に、第１の作動圧が第２の作動圧よりも大きい場合にパージガスの供給量を低減させるように構成することができる。

制御装置は、第２の作動圧から．第１の作動圧を減算することで圧力差を判定するように構成することができる。

制御装置は、判定された圧力差が所定の第１の圧力差閾値以下である場合にパージガスの供給量を増大させるように構成することができる。代替的に又は追加的に、制御装置は、第１の作動圧と第２の作動圧との間の差分が所定の第２の圧力差閾値よりも大きい場合にパージガスの供給量を低減させるように構成することができる。

制御装置は、第２の作動圧が所定の作動圧閾値以下の場合にパージガスの供給量を制御するように構成することができる。プロセッサは、第２の作動圧が所定の作動圧閾値よりも大きい場合にパージガスの供給量を制御しないように構成することができる。所定の作動圧閾値は、大気圧とすることができる。

本発明のさらなる態様によれば、動的シールシステムが提供され、動的シールシステムは、
真空室をシールするための、対向する第１及び第２の側面を有する少なくとも第１のシール部材と、
第１のシール部材の第２の側面にパージガスを供給するためのパージガス供給システムと、
パージガス供給システムを制御するための制御装置と、
を備え、
制御装置は、真空室に関連する真空ポンプの動作を監視するように構成され、制御装置は、真空ポンプの動作速度が低減する又は真空ポンプが非作動にされる場合にパージガスの供給量を増大させるように構成される。

パージガスは、真空ポンプが第１の動作モードにある場合に第１の圧力で供給することができる。例えば、真空ポンプは、真空室の中に真空を確立するために第１の動作モードで動作することができる。パージガスは、真空ポンプの動作速度が低減する又は真空ポンプが非作動にされる場合に第２の圧力で供給することができる。第２の圧力は、第１の圧力よりも大きくすることができる。従って、パージガスの供給量が増大する。

制御装置は、第１の作動圧及び／又は第２の作動圧の変化又は変化速度に基づいてパージガスの供給量を制御するように構成することができる。例えば、制御装置は、所定の期間にわたって第１の作動圧の変化が所定の圧力変化閾値未満になるまでパージガスを供給し続けることができる。制御装置は、第１の作動圧が安定する場合にパージガスの供給量を停止又は低減させるように構成することができる。制御装置は、第１の作動圧の変化速度が所定の変化速度閾値未満の場合に制御弁を閉鎖するように構成することができる。

本発明のさらなる態様によれば、本明細書に記載の動的シールシステムを備える真空システムが提供される。

本出願の範囲内で、前述の段落、請求項、及び／又は以下の詳細な説明及び図面に記載される様々な態様、実施形態、実施例、及び変形例、及び特にそれらの個別の特徴が、独立して又は何らかの組み合わせで取得できることが明示的に意図される。すなわち、全ての 実施形態及び／又は何らかの実施形態の特徴は、これらの特徴が相容れない場合を除いて、何らかの方法及び／又は組み合わせで組み合わせることができる。本出願は、何らかの最初に提出された従属請求項を補正する権利及び／又は最初にそのようにクレームされていないが何らかの他の請求項の何らかの特徴を組み込む権利を含む、最初に提出された請求項を変更する又は適宜新しい請求項を提出する権利を保有する。

本発明の１又は２以上の実施形態は、添付図面を参照して、以下に単に例示的に説明される。

本発明の実施形態による動的シールシステムを組み込む真空システムの概略図を示す。 図１に示す動的シールシステムのための制御装置の動作を示すブロック図である。 本発明による動的シールシステムなしの真空システムの動作を示す第１のグラフを示す。 本発明による動的シールシステムを組み込む真空システムの動作を示す第１のグラフを示す。

本発明の実施形態による真空システム２のための動的シールシステム１は、図１を参照して本明細書に説明される。

真空システム２は、真空（プロセス）室４の中に真空を生成するように作動可能な真空ポンプ３を備える。真空ポンプ３は、ハウジング６で支持される回転軸５を備える。回転軸５は、長手方向軸Ｘの周りで回転可能であり、第１の端部が第１の軸受７によって支持される。第２の軸受（図示せず）は、回転軸５の第２の端部を支持するために設けられる。潤滑油を収容するための（高真空）油箱９は、第１の軸受７を潤滑するために設けられている。

動的シールシステム１は、真空室４と第１の軸受７との間で回転軸５の周りにシールを形成して維持するように構成される。動的シールシステム１は、参照符号１０で示されるリップシール（放射状軸シールとしても知られている）と、パージガス供給システム１１とを備える。本実施形態のリップシール１０は、第１のシール部材１２－１及び第２のシール部材１２－２を備える。第１のシール部材１２－１は、真空室４に対して内側位置に配置され、第２のシール部材１２－２は、真空室４に対して外側位置に配置される。第１及び第２のシール部材１２－１、１２－２の各々は、使用時に、回転軸５の表面に接触してシールを形成する環状フランジを備える。第１及び第２のシール部材１２－１、１２－２は、回転軸５の回転軸線Ｘに沿って相隔たる。第１及び第２のシール部材１２－１、１２－２の間に環状室１３が形成される。第１及び第２のシール部材１２－１、１２－２は実質的に同じ構成である。第１のシール部材１２－１は、対向する第１及び第２の側面１２－１Ａ、１２－１Ｂと、回転軸５と接触してシールを形成する環状先端部１２－１Ｃとを有する。第１の側面１２－１Ａは、真空室４と流体連通する内側である。第２の側面１２－１Ｂは、真空室４から分離された外側である。

パージガス供給システム１１は、窒素（Ｎ２）などのパージガスを公称流量で環状室１３に供給するように構成される。パージガス供給システム１１は、パージガスを貯蔵するための容器１４と、調節された供給ライン１６と、制御された供給ライン１７と、第１の作動圧センサ１８と、第２の作動圧センサ１９とを備える。調節された供給ライン１６は、調節された供給ライン１６を通るパージガスの流れを制限する流れ制限器２０を備える。調節された供給ライン１６は、パージガスの計量された定常流量を環状室１３に供給する。制御された供給ライン１７は、電磁弁などの制御弁２１を備え、制御弁２１は、制御された供給ライン１７を選択的に開閉するように作動可能である。制御弁２１は、少なくとも第１の開放位置及び第２の閉鎖位置に設定可能である。制御弁２１は、制御された供給ライン１７を通るパージガスの供給のさらなる制御を可能にする１又は２以上の中間位置に設定可能とすることができる。制御弁２１は、第１の開放位置と第２の閉鎖位置との間で連続的に可変とすることができる。調節された供給ライン１６及び制御された供給ライン１７は、互いに平行に配置され、両者は、環状室１３と流体連通する共通供給ライン２２に接続する。パージガスの連続する供給量は、調節された供給ライン１６によって環状室１３に供給される。第１の作動圧センサ１８は、真空室４の圧力を測定し、第２の作動圧センサ１９は、環状室１３の圧力を測定する。

電子制御ユニット（ＥＣＵ）の形態の制御装置２３は、制御弁２１の動作を制御するために設けられる。制御装置２３は、プロセッサ２４及びシステムメモリ２５を備える。計算命令セットは、システムメモリ２５に記憶される。実行されると、計算命令は、プロセッサ２４に本明細書に記載の方法を実行させる。制御装置２３は、図１に示すような電源２６に接続される。本明細書に記載するように、プロセッサ２４は、制御弁２１を選択的に開閉するための制御弁信号Ｓ１を生成するように構成されている。制御装置２３は、第１及び第２の作動圧センサ１８、１９と通信する。詳細には、制御装置２３は、第１の作動圧センサ１８から第１の圧力信号ＳＰ１を受け取り、第２の作動圧センサ１９から第２の圧力信号ＳＰ２を受け取る。第１の圧力信号ＳＰ１は、真空室４の第１の作動圧Ｐ１を表す。第２の圧力信号ＳＰ２は、環状室１３の第２の作動圧Ｐ２を表す。制御装置２３は、第１及び第２の作動圧Ｐ１、Ｐ２を比較して、第１のシール部材１２－１を横切る圧力差ΔＰを決定するよう構成される。本実施形態において、プロセッサ２４は、第２の作動圧Ｐ２から第１の作動圧Ｐ１を引くことで圧力差ΔＰを決定する（ΔＰ＝Ｐ１－Ｐ２）ように構成される。また、制御装置２３は、随意的に制御装置２７から、例えば、真空ポンプ３が現在作動しているか（ＰＵＭＰ ＯＮ）又は非作動であるか（ＰＵＭＰ ＯＦＦ）を示す真空ポンプ３の現在の状態を示すポンプ状態信号ＰＳＳ１を受け取ることもできる。ポンプ状態信号ＰＳＳ１は、随意的に真空ポンプ３の現在の作動速度を示すことができる。

プロセッサ２４は、第１及び第２の作動圧Ｐ１、Ｐ２の比較に基づいて制御弁信号Ｓ１を生成するように構成される。第２の作動圧Ｐ２が第１の作動圧Ｐ１未満である場合、結果として得られる第１のシール部材１２－１を横切る圧力勾配は、真空室４から第１のシール部材１２－１を超えて環状室１３に入る（場合によっては油箱９にも入る）プロセスガスの流れを助長する傾向にあるであろう。上述のように、プロセッサ２４は、第２の作動圧Ｐ２から第１の作動圧Ｐ１を引くことで圧力差ΔＰを決定する。第２の作動圧Ｐ２が第１の作動圧Ｐ１未満であるような動作状態では、判定された圧力差ΔＰは、負の変数（－ｖｅ）であり、これは第１の側面１２－１Ａから第２の側面１２－１Ｂへの第１のシール部材１２－１の漏洩を促進するので本明細書では「逆圧力差ΔＰ」と呼ぶ。圧力差ΔＰは、第１の作動圧Ｐ１から第２の作動圧Ｐ２を引くことで計算することができ、正の変数（＋ｖｅ）の圧力差ΔＰは「逆圧力差ΔＰ」を示すことを理解されたい。

第１のシール部材１２－１を横切って確立される逆圧力差を抑える又は阻止するために、プロセッサ２４は、第１及び第２の作動圧Ｐ１、Ｐ２の比較が、第２の作動圧Ｐ２が第１の作動圧Ｐ１以下である（Ｐ２≦Ｐ１）と決定される場合に、環状室１３へのパージガス供給量を増大させるように制御弁２１を制御するように構成される。プロセッサ２４は、少なくとも部分的に開放制御弁信号Ｓ１－ＯＰを生成し、制御弁２１を開放して、制御された供給ライン１７を通るパージガス供給量を増大させる。環状室１３への増大したパージガス供給量は、第２の作動圧Ｐ２を増大させる。逆に、プロセッサ２４は、第１及び第２の作動圧Ｐ１、Ｐ２の比較が第２の作動圧Ｐ２が第１の作動圧Ｐ１よりも大きい（Ｐ２＞Ｐ１）と決定される場合に、環状室１３へのパージガス供給量を低減させるように制御弁２１を制御するように構成される。プロセッサ２４は、少なくとも部分的に閉鎖制御弁信号Ｓ１－ＣＬを生成し、制御弁２１を閉鎖して、制御された供給ライン１７を通るパージガス供給量を制限するか又は抑制する。制御弁２１の閉鎖は、第２の作動圧Ｐ２の低減につながる。制御弁２１が既に閉鎖構成の場合、制御弁２１は、閉鎖制御弁信号Ｓ１－ＣＬに応答して閉鎖構成に維持される。本実施形態において、調節された供給ライン１６は、実質的に制御弁２１の作動に影響を受けず、使用時、パージガスは、制御弁２１の動作状態に無関係に、調節された供給ライン１６を介して環状室１３に供給され続ける。

プロセッサ２４は、少なくとも実質的にリアルタイムで第１及び第２の作動圧Ｐ１、Ｐ２を連続的に監視する。制御装置２３は、第２の作動圧Ｐ２の能動的制御を提供し、これにより、逆圧力勾配ΔＰの確立を抑制又は阻止する。制御装置２３は、真空ポンプ３の作動時に制御弁２１を制御して環状室１３へのパージガスの供給量を制御する。代替的に又は追加的に、制御装置２３は、例えば、真空システム２の停止手順の一部として、真空ポンプ３の非作動から所定時間にわたって制御弁２１を制御することができる。真空ポンプ３が非作動になると、一般的に、例えば、真空ポンプ３の排気ポート（図示せず）を介して空気が真空室４の中に引き込まれる。第１の作動圧Ｐ１は、増大して大気圧に戻る。動的シールシステム１が回転軸５の周りにシールを確立するので、第２の作動圧Ｐ２は、第１の作動圧Ｐ１よりも遅い独度で増大する傾向にある。従って、第２の作動圧Ｐ２は、第１の作動圧Ｐ１よりもさらにゆっくりと大気圧に戻ることができる。第２の作動圧Ｐ２は、真空ポンプ３の非作動の後で作動圧Ｐ１未満とすることができる。リップシール１０へのパージガスの供給量を制御しない従来の真空システムにおいて、真空ポンプ３の非作動の後で逆圧力差ΔＰが確立される可能性がある。しかしながら、本実施形態による制御装置２３は、真空ポンプ３の非作動の後で第１のシール部材１２－１を横切る逆圧力差ΔＰを低減又は阻止するように制御弁２１の作動を制御するように構成される。制御装置２３は、所定時間にわたって環状室１３へのパージガスの供給量を制御し続けることができる。代替的に又は追加的に、制御装置２３は、第１の作動圧Ｐ１が少なくとも実質的に安定化するまでパージガスの供給量の制御を続けることができる。例えば、制御装置２３は、第１の作動圧Ｐ１の変化が所定の期間にわたって特定の圧力変化閾値未満であることが判明するまでパージガス供給量を制御し続けることができる。例えば、所定の期間は３０秒、６０秒、９０秒、又は１２０秒とすることができる。例示的に、制御装置２３は、第１の作動圧Ｐ１が繰り返される２分の期間にわたって１００ｍｂａｒ未満となるまでパージガス供給量を維持することができる。第１の作動圧Ｐ１の変化が２分の期間にわたって１００ｍｂａｒ未満であると判定されると、制御装置２３は制御弁２１を閉鎖するように設定される。制御装置２３は、第１の作動圧の変化速度（ｄＰ１／ｄｔ）を決定して、変化速度が所定の変化速度閾値未満である場合を特定することができる。第１の作動圧Ｐ２１の変化速度が所定の変化速度閾値未満である場合、制御装置２３は、制御弁２１を閉鎖してパージガスの供給を阻止することができる。第１の作動圧Ｐ１の変化速度（ｄＰ１／ｄｔ）は、所定の期間にわたって特定することができる。

動的シールシステム１のプロセッサ２４は、第２の作動圧Ｐ２が第１の作動圧Ｐ１以下（Ｐ２≦Ｐ１）である場合に、開放制御弁信号Ｓ１－ＯＰを生成して制御弁２を開放させるように構成される。プロセッサ２４は、第２の作動圧Ｐ２から第１の作動圧Ｐ１を減算することで計算される圧力差ΔＰが（ΔＰ＝Ｐ２－Ｐ１）所定の圧力差閾値未満である場合に、開放制御弁信号Ｓ１－ＯＰを生成するように変更することができる。所定の圧力差閾値は、正の変数（＋ｖｅ）とすることができる。従って、パージガスの供給量は、所定の圧力差閾値に対応するマージンにもかかわらず、第２の作動圧Ｐ２が第１の作動圧Ｐ１よりも大きい場合でも増大させることができる。圧力差ΔＰが第１の作動圧Ｐ１から第２の作動圧Ｐ２を減算することで計算される場合、所定の圧力差閾値は、負の変数（－ｖｅ）であることを理解されたい。

変形例において、制御装置２３は、逆圧力差ΔＰが所定の圧力差閾値以上の大きさ有する場合にのみ、制御された供給ライン１７を介して環状室１３へのパージガスの供給量を増大させるように構成することができる。逆圧力差ΔＰが所定の圧力差閾値よりも大きな大きさをもつことが検出されると、プロセッサ２４は、開放制御弁信号Ｓ１－ＯＰを生成して、制御弁２１を開放して制御された供給ライン１７を通るパージガスの供給量を増大させるように構成される。逆に、プロセッサ２４は、逆圧力差ΔＰが所定の圧力差閾値未満の大きさをもつことが検出される場合、制御された供給ライン１７を介して環状室１３へのパージガスの供給量を低減させるように（又は制御された供給ライン１７を介して環状室１３へのパージガスの供給量を阻止し続けるように）構成される。逆圧力差ΔＰが所定の圧力差閾値未満の大きさをもつことが検出される場合、プロセッサ２４は、閉鎖制御弁信号Ｓ１－ＣＬを生成して、制御弁２１を閉鎖して制御された供給ライン１７を通るパージガスの供給量を低減させる。使用時、第１のシール部材１２－１を横切る圧力差ΔＰは、正に維持され、これにより、プロセス材料を真空室４からシールのリップシール１０を超えて移動させる場合があり、第１の軸受７及び油箱９などの他の構成要素の汚染を引き起こす可能性がある、逆流のリスクが低減する。

動的シールシステム１の動作は、図２のブロック図を参照して以下に説明する。真空システム２が作動されて、真空ポンプ３は真空室４の中に真空を確立するために動作する。制御装置２３が作動される（ブロック１１０）。真空ポンプ３の動作状態を確認するためのチェックが行われる（ブロック１１５）。制御装置２３が真空ポンプ３の動作状態が作動状態（すなわち稼働状態）から非作動状態（すなわち非稼働状態）に変化すると判定すると、制御装置２３は、停止期間を監視する。停止期間が終了したことを確認するチェックが行われる（ブロック１２０）。停止期間が終了していない場合、制御装置２３は制御弁２１を開放する（ブロック１２５）。制御装置２３は停止期間が終了したか否かのチェックを続ける。停止期間が終了したと制御装置２３が判定すると、制御弁２１は閉鎖され（ブロック１３０）、処理が終了する（ブロック１３５）。変形例において、停止期間が終了したか否か（ブロック１２０）の判定の代わりに、制御装置２３は、第１の作動圧Ｐ１を監視して、第１の作動圧Ｐ１が制御弁２１を閉鎖可能にするのに十分に安定した場合を判定することができる。制御装置２３は、例えば、繰り返される期間、例えば３０秒の範囲で、圧力勾配が所定の圧力範囲内、例えば１００ｍｂａｒでの変化に対応する場合に第１の作動圧Ｐ１が安定していると判定することができる。制御装置２３は、第１の作動圧Ｐ１が安定するまで制御弁２１を開放することができる。

制御装置２３が、真空ポンプ３の動作状態が作動状態から非作動状態に変化していないと判定すると（ブロック１１５）、すなわち真空ポンプ３が依然として稼働している場合、制御装置２３は、それぞれ真空室４の第１の作動圧Ｐ１及び環状室１３の第２の作動圧Ｐ２を示す、第１及び第２の作動圧センサ１８、１９からの第１及び第２の圧力信号ＳＰ１、ＳＰ２を読み取る。制御装置２３は、第１の作動圧Ｐ１が所定の圧力閾値よりも大きいか否かを判定する（ブロック１４０）。第１の作動圧Ｐ１が所定の圧力閾値以下の場合、制御装置２３は制御弁２１を閉鎖する（ブロック１６０）。第１の作動圧Ｐ１が所定の圧力閾値よりも大きい場合、制御装置２３は、第２の作動圧Ｐ２から第１の作動圧Ｐ１を減算することで第１のシール部材１２－１を横切る圧力差ΔＰを決定する（ΔＰ＝Ｐ２－Ｐ１）。制御装置２３は、圧力差ΔＰを所定の圧力設定点ＳＰ１と比較する（ブロック１４５）。圧力差ΔＰが圧力設定点ＳＰ１よりも大きい場合、制御装置２３は制御弁２１を閉鎖する（ブロック１６０）。圧力差ΔＰが圧力設定点ＳＰ１未満の場合、制御装置２３は、真空ポンプ３のパルスＯＮ持続時間の期間が終了したか否かをチェックする（ブロック１５０）。パルスＯＮ持続時間の期間が終了していない場合、制御装置２３は制御弁２１を開放する（ブロック１５５）。このプロセスは、パルスＯＮ持続時間の期間が終了するまで続く。パルスＯＮ持続時間の期間が終了すると、制御装置２３は制御弁２１を閉じる（ブロック１６０）。制御弁２１の閉鎖後、制御装置２３は、パルスＯＦＦ持続時間の期間が終了したか否かを判定するチェックを実行する（ブロック１６５）。パルスＯＦＦ持続時間が終了すると、制御装置２３は、真空ポンプ３の動作状態の監視に戻る（ブロック１１５）。

図３には、パージガスの供給量を制御するために制御弁２１が作動しない動的シールシステム１の作動を示す第１のグラフ２００が示されている。第１のプロット２１０は、真空室４の中で測定した第１の作動圧Ｐ１を示し、第２のプロット２２０は、環状室１３の中で測定した第２の作動圧Ｐ２を示す。第３のプロット２３０は、瞬間的な圧力差（ΔＰ＝Ｐ２－Ｐ１）を示す。第４のプロット２４０は、真空ポンプ３の現在の状態を示すポンプ状態信号ＰＳＳ１を示す。第４のプロット２４０はデジタル信号であり、「０」値は真空ポンプ３が作動していない（ＰＵＭＰ ＯＦＦ）ことを示し、「１」値は、真空ポンプ３が作動している（ＰＵＭＰ ＯＮ）ことを示す。第５のプロット２５０は、制御弁２１の所望の状態を示す。第５のプロット２５０はデジタル信号であり、「０」値は制御弁２１が閉鎖されていることを示し、「１」値は、制御弁２１が開放されていることを示す。真空室４は、放出弁（図示せず）を開閉することで急速にサイクリングさせることができる。このようなサイクリング運転（第１の領域Ｒ１に示す）の間に、真空室４の中の第１の作動圧Ｐ１は、真空状態に戻る前に大気圧まで増大する。第１のプロット２１０は、第１の作動圧Ｐ１が実質的に瞬間的に反応するので概して方形の波形である。対応する第２の作動圧Ｐ２の増大もあるが、第１のシール部材１２－１と回転軸５との間に形成されたシールによって、第２の作動圧Ｐ２が第１の作動圧Ｐ１よりも遅い速度で増大するという結果になる。その結果、真空室４のサイクリングは、第２のプロット２２０に鋸歯形状を辿るようにさせる。この運転時に、第２の作動圧Ｐ２の最大値は、第１の作動圧Ｐ１の最大値未満である。その結果として、第３のプロット２３０で示すように、第１のシール部材１２－１を横切る逆圧力差ΔＰが確立される。真空システム２の定常運転の間に（第２の領域Ｒ２に示す）、圧力差ΔＰはゼロよりも大きい。真空ポンプ３の停止に続いて（第３の領域Ｒ３に示す）、第１の作動圧Ｐ１は、第２の作動圧Ｐ２よりも迅速に大気圧まで増大し、圧力差ΔＰは、ゼロ未満になる。その結果として、第１のシール部材１２－１を横切る逆圧力差ΔＰが確立される。

例示的に、図４には、動的シールシステム１の作動を示す第２のグラフ３００が示されている。第１のプロット３１０は、真空室４の中で測定した第１の作動圧Ｐ１を示し、第２のプロット３２０は、環状室１３の中で測定した第２の作動圧Ｐ２を示す。第３のプロット３３０は、瞬間的な圧力差（ΔＰ＝Ｐ２－Ｐ１）を示す。第４のプロット３４０は、真空ポンプ３の現在の状態を示すポンプ状態信号ＰＳＳ１を示す。第４のプロット３４０はデジタル信号であり、「０」値は真空ポンプ３が作動していない（ＰＵＭＰ ＯＦＦ）ことを示し、「１」値は、真空ポンプ３が作動している（ＰＵＭＰ ＯＮ）ことを示す。第５のプロット３５０は、制御弁２１の所望の状態を示す。第５のプロット３５０はデジタル信号であり、「０」値は制御弁２１が閉鎖されていることを示し、「１」値は、制御弁２１が開放されていることを示す。第３のプロット３３０で示すように、環状室１３へのパージガスの供給量は、瞬間的な圧力差ΔＰがゼロよりも大きいままであることを保証する。真空室４のサイクリング（第１の領域Ｒ１）の間に、第１及び第２のプロット３１０、３２０で示すよう、第１及び第２の作動圧Ｐ１、Ｐ２の両方は概して方形の波形である。環状室１３へのパージガスの供給は、第１の作動圧Ｐ１の最大値よりも大きい最大値を有する第２の作動圧Ｐ２をもたらす。その結果として、逆圧力差ΔＰは阻止される。その代わりに、圧力差ΔＰは、ゼロよりも大きいままである。同様に、停止時（第３の領域Ｒ３）、圧力差ΔＰは、真空ポンプ３の非作動の後でゼロよりも大きいままである。図示の例において、圧力差ΔＰは、１００ｍｂａｒよりも大きい（ΔＰ＞１００ｍｂａｒ）。制御装置２３は、所定の圧力設定点ＳＰ１に基づいて制御弁２１の動作を制御するように構成される。圧力差ΔＰが圧力設定点ＳＰ１未満の場合、制御装置２３は、制御弁２１を閉鎖するように構成される。圧力差ΔＰが圧力設定点ＳＰ１よりも大きい場合、制御装置２３は、制御弁２１を開放する（又は、制御弁２１を開放状態に維持する）ように構成される。圧力設定点は、例えば、５０ｍｂａｒ、１００ｍｂａｒ、２００ｍｂａｒとして定義できる。

上記の実施形態は、第１及び第２の作動圧Ｐ１、Ｐ２を比較するためのプロセッサ２４を有する制御装置２３を備える。さらなる実施形態において、環状室１３へのパージガスの供給量を制御するために機械弁を使用することができる。機械弁は、第１及び第２の作動圧Ｐ１、Ｐ２の間の圧力差を特定するように構成することができる。例えば、機械弁は、第１及び第２の作動圧Ｐ１、Ｐ２の直接的な比較を行うための差圧調整器を備えることができる。例えば、差圧調整器は、真空室４及び環状室３と流体連通することができる。例えば、差圧調整器は、その反対側の面に作用する第１及び第２の作動圧Ｐ１、Ｐ２に基づいて変位するダイヤフラムを備えることができる。ダイヤフラムの変位は、パージガスの供給量を制御するために弁を選択的に着座させる及び着座させないことを可能にする。第２の作動圧Ｐ２が第１の作動圧以下の場合、差圧弁は、環状室１３にパージガスを供給するように開放するよう構成することができる。遮断弁、例えば電磁弁は、制御された供給ライン１７を閉鎖するために設けることができる。遮断弁は、真空ポンプ３の非作動の後の所定の期間が終了すると制御された供給ライン１７を閉鎖するように構成することができる。従って、パージガス供給システム１１は、真空室３から分離することができる。

本出願の範囲から逸脱することなく、様々な変形及び変更を行い得ることを理解されたい。

本明細書ではパージガス供給システム１１を制御するための制御装置２３は、単独のユニットとして記載されている。制御装置２３は、他の制御ユニット、例えば真空システム２のための内蔵制御装置に組み込むことができることを理解されたい。

本明細書では制御装置２３は第１及び第２の作動圧Ｐ１、Ｐ２を測定するものとして記載されている。作動圧Ｐ１、Ｐ２のうちの少なくとも一方はモデル化することができる。例えば、第１の作動圧Ｐ１は、真空ポンプ３の動作状態（ＯＮ／ＯＦＦ／ＳＰＥＥＤ）及び／又はパージ弁状態（ＯＰＥＮ又はＣＬＯＳＥＤ）に基づいてモデル化することができる。

１ 動的シールシステム
２ 真空システム
３ 真空ポンプ
４ 真空室
５ 回転軸
６ ハウジング
７ 軸受
９ 油箱
１０ リップシール
１１ パージガス供給システム
１２－１ 第１のシール部材
１２－１Ａ 第１の側面
１２－１Ｂ 第２の側面
１２－１Ｃ 環状面
１２－２ 第２のシール部材
１３ 環状室
１４ 容器
１６ 調節された供給ライン
１７ 制御された供給ライン
１８ 第１の作動圧センサ
１９ 第２の作動圧センサ
２０ 流れ制限器
２１ 制御弁
２２ 共通供給ライン
２３ 制御装置
２４ プロセッサ
２５ システムメモリ
２６ 電源
２７ ポンプ制御装置
ＰＳＳ１ ポンプ状態信号

Claims (22)

1. 動的シール（１０）を超える漏洩を低減するためにパージガスの供給量を制御する方法であって、前記動的シール（１０）は、対向する第１及び第２の側面（１２－１Ａ、１２－１Ｂ）を有する少なくとも第１のシール部材（１２－１）を備え、
   前記第１のシール部材（１２－１）の前記第１の側面上の第１の作動圧（Ｐ１）と、前記第１のシール部材（１２－１）の前記第２の側面上の第２の作動圧（Ｐ２）との間の圧力差（ΔＰ）を判定するステップと、
   前記判定された圧力差（ΔＰ）に基づいて前記第１のシール部材（１２－１）の前記第２の側面への前記パージガスの供給量を制御するステップと、を含む、
   ことを特徴とする方法。
2. 前記パージガスの供給量を制御するステップは、
   前記判定された圧力差（ΔＰ）が、前記第２の作動圧（Ｐ２）が前記第１の作動圧（Ｐ１）以下であるような場合にパージガスの供給量を増大させるステップと、
   前記判定された圧力差（ΔＰ）が、前記第１の作動圧（Ｐ１）が前記第２の作動圧（Ｐ２）よりも大きいような場合に前記パージガスの供給量を低減させるステップ、の少なくとも１つを含む、
   請求項１に記載の方法。
3. 前記パージガスの供給量を制御するステップは、
   前記判定された圧力差（ΔＰ）が所定の第１の圧力差（ΔＰ）閾値以下である場合に前記パージガスの供給量を増大させるステップと、
   前記第１の作動圧（Ｐ１）と前記第２の作動圧（Ｐ２）との間の差分が所定の第２の圧力差（ΔＰ）閾値よりも大きい場合に前記パージガスの供給量を低減させるステップ、の少なくとも１つを含む、
   請求項１又は２に記載の方法。
4. 前記圧力差（ΔＰ）を判定するステップは、前記第２の作動圧（Ｐ２）から前記第１の作動圧（Ｐ１）を減算するステップを含む、
   請求項１から３のいずれか１項に記載の方法。
5. 前記第２の作動圧（Ｐ２）が所定の作動圧閾値以下の場合に、前記判定された圧力差（ΔＰ）に基づいて前記パージガスの供給量を制御するステップを含む、
   請求項１から４のいずれか１項に記載の方法。
6. 動的シール（１０）を超える漏洩を低減するためにパージガスの供給量を制御する方法であって、前記動的シール（１０）は、少なくとも第１のシール部材（１２－１）を備え、前記方法は、
   真空室の中に真空を確立するための真空ポンプの動作を監視するステップと、
   前記真空ポンプの動作に基づいて前記パージガスの供給量を制御するステップと、
   を含み、
   前記パージガスの供給量を制御するステップは、前記真空ポンプの動作速度が低減する又は前記真空ポンプが非作動にされる場合にパージガスの供給量を増大させるステップを含む、
   ことを特徴とする方法。
7. 前記パージガスの供給量を制御するステップは、パージガス供給弁（２１）を開放して前記パージガスの供給量を増大させるステップと、前記パージガス供給弁（２１）を閉鎖して前記パージガスの供給量を低減させるステップとを含む、
   請求項１から６のいずれか１項に記載の方法。
8. 動的シール（１０）を超える漏洩を低減するためにパージガスの供給量を制御するための制御装置（２３）であって、前記動的シール（１０）は、対向する第１及び第２の側面（１２－１Ａ、１２－１Ｂ）を有する少なくとも第１のシール部材（１２－１）を備え、前記制御装置（２３）は、
   前記第１のシール部材（１２－１）の前記第１の側面上の第１の作動圧（Ｐ１）と、前記第１のシール部材（１２－１）の前記第２の側面上の第２の作動圧（Ｐ２）との間の圧力差（ΔＰ）を判定し、
   前記判定された圧力差（ΔＰ）に基づいて前記第１のシール部材（１２－１）の前記第２の側面への前記パージガスの供給量を制御する、ように構成されている、
   ことを特徴とする制御装置（２３）。
9. 前記制御装置（２３）は、
   前記判定された圧力差（ΔＰ）が、前記第２の作動圧（Ｐ２）が前記第１の作動圧（Ｐ１）以下であるような場合にパージガスの供給量を増大させる、
   前記判定された圧力差（ΔＰ）が、前記第１の作動圧（Ｐ１）が前記第２の作動圧（Ｐ２）よりも大きいような場合に前記パージガスの供給量を低減させる、の少なくとも１つを行うように構成される、
   請求項８に記載の制御装置（２３）。
10. 前記制御装置（２３）は、
    前記判定された圧力差（ΔＰ）が所定の第１の圧力差（ΔＰ）閾値以下である場合に前記パージガスの供給量を増大させる、
    前記第１の作動圧（Ｐ１）と前記第２の作動圧（Ｐ２）との間の差分が所定の第２の圧力差（ΔＰ）閾値よりも大きい場合に前記パージガスの供給量を低減させる、の少なくとも１つを行うように構成される、
    請求項８又は９に記載の制御装置（２３）。
11. 前記制御装置（２３）は、前記第２の作動圧（Ｐ２）から前記第１の作動圧（Ｐ１）を減算することで前記圧力差（ΔＰ）を判定するように構成される、
    請求項８から１０のいずれか１項に記載の制御装置（２３）。
12. 前記制御装置（２３）は、前記第２の作動圧（Ｐ２）が所定の作動圧閾値以下の場合に、前記判定された圧力差（ΔＰ）に基づいて前記パージガスの供給量を制御するように構成される、
    請求項８から１１のいずれか１項に記載の制御装置（２３）。
13. 動的シール（１０）を超える漏洩を低減するためにパージガスの供給量を制御するための制御装置（２３）であって、前記動的シール（１０）は、少なくとも第１のシール部材（１２－１）を備え、前記制御装置（２３）は、
    真空ポンプの動作を監視し、
    前記真空ポンプの動作に基づいて前記パージガスの供給量を制御するための制御弁信号を出力する、
    ように構成されたプロセッサを備え、
    前記プロセッサは、前記真空ポンプの動作速度が低減する又は前記真空ポンプが非作動にされる場合に前記パージガスの供給量を増大させるための前記制御弁信号を出力するように構成される、
    ことを特徴とする制御装置（２３）。
14. 前記制御装置（２３）は、パージガス供給弁（２１）を開放して前記パージガスの供給量を増大させる、及び前記パージガス供給弁（２１）を閉鎖して前記パージガスの供給量を低減させるように構成される、
    請求項８から１３のいずれか１項に記載の制御装置（２３）。
15. 請求項８から１４のいずれか１項に記載の制御装置（２３）を備える真空システム（２）。
16. 真空システム（２）のための動的シールシステム（１）であって、
    対向する第１及び第２の側面（１２－１Ａ、１２－１Ｂ）を有する、少なくとも第１のシール部材（１２－１）と、
    前記第１のシール部材（１２－１）の前記第２の側面にパージガスを供給するためのパージガス供給システムと、
    前記パージガス供給システムを制御するための制御装置（２３）と、
    を備え、
    前記制御装置（２３）は、前記第１のシール部材（１２－１）の前記第１の側面上の第１の作動圧（Ｐ１）と前記第１のシール部材（１２－１）の前記第２の側面上の第２の作動圧（Ｐ２）との間の圧力差（ΔＰ）を判定し、前記判定された圧力差（ΔＰ）に基づいて前記第１のシール部材（１２－１）の前記第２の側面へのパージガスの供給量を制御するために前記パージガス供給システムを制御するように構成される、
    ことを特徴とする動的シールシステム（１）。
17. 前記制御装置（２３）は、
    前記第２の作動圧（Ｐ２）が前記第１の作動圧（Ｐ１）以下の場合に前記パージガスの供給量を増大させる、
    前記第１の作動圧（Ｐ１）が前記第２の作動圧（Ｐ２）よりも大きい場合に前記パージガスの供給量を低減させる、の少なくとも１つを行うように構成される、
    請求項１６に記載の動的シールシステム（１）。
18. 前記制御装置（２３）は、前記第２の作動圧（Ｐ２）から前記第１の作動圧（Ｐ１）を減算することで前記圧力差（ΔＰ）を判定するように構成される、
    請求項１６又は１７に記載の動的シールシステム（１）。
19. 前記制御装置（２３）は、
    前記判定された圧力差（ΔＰ）が所定の第１の圧力差（ΔＰ）閾値以下である場合に前記パージガスの供給量を増大させる、
    前記第１の作動圧（Ｐ１）と前記第２の作動圧（Ｐ２）との間の差分が所定の第２の圧力差（ΔＰ）閾値よりも大きい場合に前記パージガスの供給量を低減させる、の少なくとも１つを行うように構成される、
    請求項１８に記載の動的シールシステム（１）。
20. 前記制御装置（２３）は、前記第２の作動圧（Ｐ２）が所定の作動圧閾値以下の場合に、前記パージガスの供給量を制御するように構成される、
    請求項１６から１９のいずれか１項に記載の動的シールシステム（１）。
21. 真空室をシールするための、対向する第１及び第２の側面（１２－１Ａ、１２－１Ｂ）を有する少なくとも第１のシール部材（１２－１）と、
    前記第１のシール部材（１２－１）の前記第２の側面にパージガスを供給するためのパージガス供給システムと、
    前記パージガス供給システムを制御するための制御装置（２３）と、
    を備える動的シールシステム（１）であって、
    前記制御装置（２３）は、前記真空室に関連する真空ポンプの動作を監視するように構成され、前記制御装置（２３）は、前記真空ポンプの動作速度が低減する又は前記真空ポンプが非作動にされる場合に前記パージガスの供給量を増大させるように構成される、
    ことを特徴とする動的シールシステム（１）
22. 請求項１６から２１のいずれか１項に記載の動的シールシステム（１）を備える真空システム（２）。

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