JP2022518898A - レーザ加工装置、これを動作させる方法、及びこれを用いてワークピースを加工する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本明細書において述べられる実施形態は、概してレーザ加工装置及びその構成要素に関するものであり、これを動作させるための方法に関するものである。
一般的に、ワークピースのレーザ加工は、ワークピースにレーザエネルギーを照射してワークピースを形成している1以上の材料の1以上の特性又は性質を加熱し、溶融し、蒸発させ、アブレートし、クラックを生じさせ、脱色し、研磨し、粗くし、炭化し、発泡させ、あるいは改質することによりなされる。例えば、プリント回路基板(PCB)のようなワークピースにレーザ加工を行い、その内部にビアを形成することができる。ワークピースを高速に加工するために、高パワーレーザ源を用いてレーザエネルギーを生成し、レーザエネルギーを照射するワークピースの位置を高速で変化させ、(例えば、パルス持続時間、パルスエネルギー、パルス繰り返し率などの)レーザエネルギーの特性などを高速で変化させられることが要求されることがある。また、レーザ加工中に使用されるレーザエネルギーの波長は、加工されるワークピースの種類に応じて選択され得る。しかしながら、ある特定の波長域(例えば、電磁スペクトルの紫外域の波長)のレーザエネルギーを用いたレーザ加工のために開発された従来の構成要素や方法は、他の波長域(例えば、電磁スペクトルの長波長赤外域の波長)のレーザエネルギーを用いて同一のレーザ加工を行うのには適切ではない場合がある。本明細書において述べられる実施形態は、このような問題及び本発明者等により発見された他の問題を考慮して開発されたものである。
本明細書において述べられる実施形態は、概して、ワークピースをレーザ加工(あるいは、より簡単に「加工」)するための方法及び装置に関するものである。一般的には、レーザ放射をワークピースに照射してワークピースを形成する1以上の材料の1以上の特性又は性質(例えば、化学的組成、原子構造、イオン構造、分子構造、電子構造、微細構造、ナノ構造、密度、粘性、屈折率、透磁率、比誘電率、テクスチャ、色、硬さ、電磁放射に対する透過率など、又はこれらを任意に組み合わせたもの)を加熱し、溶融し、蒸発させ、アブレートし、傷つけ、脱色し、研磨し、粗くし、炭化し、発泡させ、あるいは改質することにより、加工が全体にわたって、あるいは部分的に行われる。加工される材料は、加工の前又は加工中においてワークピースの外部に存在していてもよく、あるいは、加工の前又は加工中において完全にワークピースの内部に位置していても(すなわち、ワークピースの外部に存在していなくても)よい。
図1は、本発明の一実施形態におけるレーザ加工装置を模式的に示している。
一実施形態においては、レーザ源104はレーザパルスを生成することができる。このため、レーザ源104は、パルスレーザ源、CWレーザ源、QCWレーザ源、バーストモードレーザなど、あるいはこれらを任意に組み合わせたものを含み得る。レーザ源104がQCWレーザ源又はCWレーザ源を含む場合、レーザ源104は、パルスモードで動作してもよく、あるいは非パルスモードで動作するが、QCWレーザ源又はCWレーザ源から出力されるレーザ放射のビームを時間的に変調するパルスゲーティングユニット(例えば、音響光学(AO)変調器(AOM)、ビームチョッパなど)をさらに含んでいてもよい。図示されていないが、装置100は、レーザ源104により出力される光の波長を変換するように構成される1以上の高調波発生結晶(「波長変換結晶」としても知られている)を必要に応じて含むことができる。しかしながら、他の実施形態においては、レーザ源104が、QCWレーザ源又はCWレーザ源として提供され、パルスゲーティングユニットを含んでいなくてもよい。このように、レーザ源104は、その後ビーム経路114に沿って伝搬可能な一連のレーザパルスとして、あるいは連続又は準連続レーザビームとして表され得るレーザエネルギービームを生成可能なものとして広く特徴付けることができる。本明細書で述べられる多くの実施形態はレーザパルスに言及しているが、適切な場合又は必要な場合には、連続ビーム又は準連続ビームを代替的又は付加的に用いることができることを理解すべきである。
一般的に、第1のポジショナ106は、(例えば、第1の1次角度範囲116a内、第2の1次角度範囲116b内、あるいはこれらを組み合わせたものの範囲内でビーム経路114を偏向することにより)X軸(又はX方向)、Y軸(又はY方向)、又はこれらを組み合わせたものに沿ってビーム軸118をワークピース102に対して移動できるようになっている。図示されていないが、Y軸(又はY方向)は、図示されたX軸(又はX方向)及びZ軸(又はZ方向)に直交する軸(又は方向)を意味するものと理解できるであろう。
一実施形態においては、第1のポジショナ106は、少なくとも1つの(例えば、1つ、2つ、3つ、4つ、5つ、6つなどの)単一素子AOD、少なくとも1つの(例えば、1つ、2つ、3つ、4つ、5つ、6つなどの)多素子AODなど、あるいはこれらを任意に組み合わせたものを含むAODシステムとして提供される。本明細書においては、AODを1つだけ含むAODシステムは「シングルセルAODシステム」と呼ばれ、1つよりも多くのAODを含むAODシステムは「マルチセルAODシステム」と呼ばれる。本明細書で使用される場合には、「単一素子」AODは、AOセルに音響的に連結された超音波変換素子を1つだけ備えたAODを意味し、「多素子」AODは、共通のAOセルに音響的に連結された超音波変換素子を2つ以上含んでいる。AODシステムは、ビーム経路114を対応する方法で偏向することにより(例えば、ビーム軸を単一の軸に沿って偏向可能な)単一軸AODシステムとして、あるいは(例えば、ビーム軸を1以上の軸に沿って、例えばX軸に沿って、あるいはY軸に沿って、あるいはこれらを任意に組み合わせた軸に沿って偏向可能な)多軸AODシステムとして提供され得る。一般的に、多軸AODシステムは、シングルセルAODシステム又はマルチセルAODシステムとして提供され得る。マルチセル多軸AODシステムは、典型的には、それぞれ異なる軸に沿ってビーム軸を偏向可能な複数のAODを含んでいる。例えば、マルチセル多軸システムは、1つの軸に沿って(例えばX軸に沿って)ビーム軸を偏向可能な第1のAOD(例えば、単一素子又は多素子AODシステム)と、第2の軸(例えばY軸に沿って)ビーム軸を偏向可能な第2のAOD(例えば、単一素子又は多素子AOD)とを含み得る。シングルセル多軸軸システムは、典型的には、2つの軸に沿って(例えばX軸及びY軸に沿って)ビーム軸を偏向可能な単一のAODを含んでいる。例えば、シングルセル多軸システムは、共通のAOセルの直交配置された平面、小面、側面などに音響的に連結された2つ以上の超音波変換素子を含み得る。
一般的に、第2のポジショナ108は、(例えば、第1の2次角度範囲118a内又は第2の2次角度範囲118b内でビーム経路114を偏向することにより)ワークピース102に対してビーム軸をX軸(又はX方向)、Y軸(又はY方向)、又はこれらの組み合わせたものに沿って移動させることが可能である。
第3のポジショナ110は、スキャンレンズ112に対してワークピース102(例えばワークピース102a及び102b)を移動させ、その結果、ビーム軸に対してワークピース102を移動させることができる。ビーム軸に対するワークピース102の移動は、第3のスキャン領域内でプロセススポットをスキャン、移動、あるいは位置決めできるように概して限定されている。第3のポジショナ110の構成のような1以上のファクタに応じて、第3のスキャン領域は、X方向、Y方向、あるいはこれらを任意に組み合わせた方向において、第2のスキャン領域の対応する距離よりも長い距離又はこれと等しい距離まで延びていてもよい。しかしながら、一般的に、(例えば、X方向又はY方向、あるいはその他の方向における)第3のスキャン領域の最大寸法は、ワークピース102に形成されるフィーチャの(XY平面において測定される)対応する最大寸法よりも大きいか、これと等しい。必要に応じて、第3のポジショナ110は、(例えば、1mmから50mmの範囲にわたって)Z方向に延びるスキャン領域内でビーム軸に対してワークピース102を移動可能であってもよい。このように、第3のスキャン領域は、X方向、Y方向、及び/又はZ方向に沿って延びていてもよい。
概して、(例えば、単純なレンズ又は複合レンズのいずれかとして提供される)スキャンレンズ112は、典型的には、所望のプロセススポット又はその近傍に位置し得るビームウェストを生成するようにビーム経路に沿って方向付けられたレーザエネルギービームの焦点を合わせるように構成されている。スキャンレンズ112は、fシータレンズ、テレセントリックレンズ、アキシコンレンズ(その場合には、一連のビームウェストが生成され、ビーム軸に沿って互いにずれた複数のプロセススポットが生じる)など、あるいはこれらを任意に組み合わせたものとして提供され得る。スキャンレンズ112は、(図示されるような)非テレセントリックレンズfシータレンズ、テレセントリックレンズ、アキシコンレンズ(その場合には、一連のビームウェストが生成され、ビーム軸に沿って互いにずれた複数のプロセススポットが生じる)など、あるいはこれらを任意に組み合わせたものとして提供され得る。
一般的に、装置100は、装置100の制御及び動作を制御又は促進するためのコントローラ122のような1以上のコントローラを含んでいる。一実施形態においては、コントローラ122は、レーザ源104、第1のポジショナ106、第2のポジショナ108、第3のポジショナ110、レンズアクチュエータ、(可変焦点距離レンズとして提供される場合には)スキャンレンズ112、固定具などの装置100の1以上の構成要素と(例えば、USB、RS-232、Ethernet、Firewire、Wi-Fi、RFID、NFC、Bluetooth、Li-Fi、SERCOS、MARCO、EtherCATなど、あるいはこれらを任意に組み合わせたもののような1以上の有線又は無線のシリアル又はパラレル通信リンクを介して)通信可能に連結されており、これにより、これらの構成要素が、コントローラ122により出力された1以上の制御信号に応答して動作するようになっている。
A.AODシステムに関する実施形態
図2を参照すると、第1のポジショナ106が(例えば上述したような)AODシステムとして提供される場合には、ゼロ次ビーム経路200が第1の1次角度範囲116aと第2の1次角度範囲116bとの間に位置しているビーム経路偏向スキームを実現するように第1のポジショナ106を動作させることができる。この偏向スキームにおいては、(例えば、特定の周波数を有する印加RF駆動信号に応答して)印加されるRF駆動信号の位相を反転させることにより、第1の1次角度範囲116a又は第2の1次角度範囲116b内でビーム経路114を偏向するように第1のポジショナ106を動作させる又は駆動することができる。図示された実施形態においては、ビームトラップ202は、ビーム経路200に沿って伝搬するレーザエネルギーを吸収するように配置される。
ある実施形態においては、第1のポジショナ106は、AODから望ましくないビーム経路に沿って伝搬するレーザエネルギーを捕捉及び吸収する(すなわちトラップする)1以上のビームダンプシステムを含んでいる。従来から、AODから伝搬する望ましくないレーザエネルギーは、レーザエネルギーを離れた位置にあるビームトラップに(例えば、その反射面で)反射するピックオフミラーを用いてその進路が変えられている。レーザエネルギーは、ピックオフミラーから直接ビームトラップに反射されてもよいし、あるいは、1以上の付加的なリレーミラーを介して間接的にビームトラップに反射されてもよい。ピックオフミラーとビームトラップ(及びその間のリレーミラー)は、ビームダンプシステムを構成する。
一実施形態においては、ビームダンプシステムのピックオフミラーとビームトラップ(及びその間のリレーミラー)は、(例えば、ネジ、接着材、クランプなど、あるいはこれらを任意に組み合わせたものにより)それぞれ共通の光ブレッドボードなどに別々に設けられ装着される物理的に分離した構成要素として提供される。これにより柔軟な解決法が提供されるが、これらの構成要素間の位置決めが困難で時間のかかるプロセスになり得る。
図7を参照すると、一体化ビームダンプシステム700のような一体化ビームダンプシステムは、鋼、黄銅、アルミニウム又はアルミニウム合金、銅又は銅合金など、あるいはこれらを任意に組み合わせたもののような材料から形成されるフレーム702を含み得る。フレーム702は、面704,706,708,710,712,714,716のような複数の面を形成するために、当該技術分野において知られている任意の好適な又は所望のプロセスにより(例えば、CNCミリング、鋳造、溶接など、あるいはこれらを任意に組み合わせたものにより)形成され得る。一般的に、面704,706,708は反射面として提供され、面710,712,714,716は必要に応じて吸収面として提供される。例えば、図8及び図9に関して詳細に述べられるように、面704及び706はピックオフミラーとして機能することができ、面708はリレーミラーとして機能することができ、面710,712,714,716は、ビームトラップ718を形成するように互いに相対的に配置され得る。このように、面704及び706は、好ましくないビーム経路に沿って伝搬するレーザエネルギーの進路を面708に向けることができ、面708は、進路が変えられたレーザエネルギーをビームトラップ718に向けて反射する。
第1のポジショナ106に含められるAODの種類によっては、AODを通過した1次ビーム経路内で偏光面(すなわち電界が振動する平面)を回転させることが望ましい場合がある。入射レーザエネルギービームの相当な部分を1次ビームに回折するために必要なRF駆動パワー量が、偏向されているレーザエネルギービームの偏光状態に大きく依存している場合には、偏光面を回転させることが望ましい。さらに、マルチセルAODシステム内のそれぞれのAODが同一の材料から構成されるAOセルを含んでいる場合、及びマルチセルAODシステム内のそれぞれのAODが入射レーザエネルギービームを偏向するために同一種の音波を用いる場合、及びマルチセルAODシステム内の第1のAOD(例えば、多軸AODシステム400における第1のAOD402)を通過した1次ビーム内の偏光状態を直線的にし、マルチセルAODシステム内の第2のAOD(例えば、多軸AODシステム400における第2のAOD404)の回折軸に対して特定の方向に向けることが好ましい場合には、第2のAODの方向が第1のAODの方向に対して回転されるのと同様に、第2のAODを通過した1次ビーム内の偏光状態を第1のAODを通過した1次ビーム内の偏光状態に対して回転させることが同様に好ましい。
多くの場合、透過型光学的構成要素は、これに入射する光の一部を吸収する。入射光が高パワーレーザエネルギービームである場合、吸収された光は、透過型光学的構成要素を構成している材料を加熱する。時として、レーザエネルギービームが(例えば、ガウス形空間強度プロファイルと同様の)不均一な空間強度プロファイルを有している場合、ビームの異なる領域が、透過型光学的構成要素の異なる部分を異なる温度に加熱する。例えば、ガウス形空間強度分布を有するビームの中央領域は、ビームの周辺領域に比べて、透過型光学的構成要素の1つの領域をより多く加熱する。透過型光学的構成要素を構成する多くの材料の屈折率は温度とともに変化する(熱光学効果として知られる)ので、高パワーレーザエネルギービームの波面は、透過型光学的構成要素を通過するときに修正される。加えて、透過型光学的構成要素の比較的高温である領域は(熱膨張の結果として)膨らむことがあり、そのような膨張により透過型光学的構成要素の形状がレンズの形状に近くなることがある。また、透過型光学的構成要素内の熱誘導機械的応力(光弾性効果として知られる)によって屈折率の変化が生じ得る。本明細書において使用される場合には、透過型光学的構成要素の異なる部分を異なる形態で加熱することを透過型光学的構成要素の「示差加熱」ともいうことがある。透過型光学的構成要素の示差加熱は、レーザエネルギーの吸収以外の手段によっても実現することができる。例えば、透過型光学的構成要素を熱源の近くに置くことができる。EOセル又はAOセルのような透過型光学的構成要素は、例えば、これらが組み込まれているシステムが作動されているときに、異なる形態で加熱され得る。当該技術分野において知られているように、透過型光学的構成要素の示差加熱は、透過型光学的構成要素内の屈折率の特異的な変化、すなわち「熱レンズ」としても知られる効果を引き起こすことがある。熱レンズ効果は、レーザエネルギービームがビーム経路114に沿って伝搬し、ビーム経路アセンブリを通過する際に、レーザエネルギービームを好ましくない形で集束し、あるいは焦点を外し、あるいはその波面を歪ませることがある。
熱レンズ効果により引き起こされることが考えられるレーザエネルギービーム中の収差の性質について述べてきたが、収差を補償するためにビーム経路114に配置され得る波面補償光学部品の数多くの実施形態を以下で説明する。しかしながら、一般的に、波面補償光学部品は、1以上のレンズ、ミラーなど、あるいはこれらを任意に組み合わせたもののような1以上の光学的構成要素として提供され得る。
一実施形態においては、図16及び図16Aを参照すると、メンブレン型形状可変鏡はミラー1600として提供され得る。一般的に、ミラー1600は、反射面1602、本体1604、及び本体1604内に形成されたポケット1606(例えば、本体の背面から反射面1602に向かって延びる)を含んでいる。このように、本体1604は、(例えば、反射面1602とポケット1606との間に形成された)相対的に薄いメンブレン領域1608と、(例えば、ポケット1606の周縁を取り囲む)相対的に厚いメンブレン領域1610とを含むものとして特徴付けることができる。一実施形態においては、本体1604は銅のような材料から形成され得る。また、反射面1602は本体1604と同一の材料から形成され得る(例えば、本体1604を研磨して反射面1602を形成してもよい)。あるいは、反射面1602は、本体1604上に形成された膜又は他の被覆として形成され得る。
一般的に、透過型光学的構成要素内の熱レンズ効果により引き起こされる波面収差は、透過型光学的構成要素内の特定に位置で生じ、これは、本明細書において「物体平面」又は「第1の平面」と呼ぶ平面によって近似することができる。理想的には、波面収差は、物体平面(すなわち波面収差が生成された場所)で補正される。しかしながら、これは通常物理的に不可能である。したがって、物体平面は、透過型光学的構成要素の外部に位置する他の平面(「像平面」又は「第2の平面」という)に再投影され、波面補償光学部品は、(例えば、上述した方法により)波面収差を補償するために像平面に位置する。
光リレーシステムは、任意の数の光学的構成要素(例えば、1以上のミラー、1以上のレンズなど、あるいはこれらを任意に組み合わせたもの)を含み得る。光リレーシステム内の光学的構成要素の構成及び配置は、像平面での物体の像のサイズが物体平面での実際の物体のサイズと異なる(例えば、これよりも大きい又は小さい)ことを確実にするために、当該技術分野において知られているようなものであり得る。
図20を参照すると、光リレーシステム2000のような光リレーシステムは、第1の光リレー2000a、第2の光リレー2000b、又は第1の光リレー2000aと第2の光リレー2000bの組み合わせを含み得る。光リレーシステム2000は、波面補償光学部品2002と第1の光学的構成要素2004a及び第2の光学的構成要素2004bの一方又は双方とを含むビーム経路アセンブリ内に組み込まれる。一般的に、第1の光学的構成要素2004a及び第2の光学的構成要素2004bのうち少なくとも一方は、(例えば上述したように)熱レンズ効果により入射レーザエネルギービームの波面を歪ませ得る光学的構成要素を代表している。このため、波面補償光学部品2002は、第1の光学的構成要素2004a内の熱レンズ効果の結果としてレーザエネルギービームにより蓄積された実波面歪みを補償する、あるいは第2の光学的構成要素2004b内の熱レンズ効果の結果としてレーザエネルギービームにより蓄積された予想波面歪みを補償する、あるいはこれらを組み合わせるように構成され得る。波面補償光学部品2002は、静的波面補償光学部品、動的波面補償光学部品など、あるいはこれらを任意に組み合わせたものとして提供され得る。しかしながら、一般的に、波面補償光学部品2002は、これに入射するレーザエネルギービームに対して透過性を有しており、入射レーザエネルギービームを透過するように構成される。
レンズ、窓、位相リターダ、フィルタ、ミラーなどのような上述した光学的構成要素のいずれかは、光学マウントを用いてビーム経路アセンブリ内の適切な位置に保持され得る。そして、光学マウントは、典型的には、装置100のフレーム又は壁、装置100内に組み込まれた光ブレッドボードなどに連結される。多くの場合、マウントは、一定の範囲の環境条件で光学的構成要素の位置を保持及び維持するように、1以上の圧縮力が光学的構成要素に作用するように構成される。しかしながら、一部の光学的構成要素の光学的表面は、機械的応力に対して非常に敏感であり得るので、比較的小さな圧縮力でさえ光学的表面を好ましくない形態で変形させることがある。本明細書で使用される場合には、「光学的表面」は、(例えば、光学的構成要素がミラーの場合)反射面、(例えば、光学的構成要素がレンズなどの場合)屈折面のことを意味し得る。
AODは、スペクトル分散性を有する要素であり、この結果、AODによりレーザエネルギービームが偏向される角度がレーザエネルギービームの波長に依存することは理解されるべきである。AODに入射するレーザエネルギービームのスペクトル線幅が大きすぎる場合、AOD内の入射ビームの回折により、好ましくない形態で空間的に歪み得る偏向レーザエネルギービーム(これは例えば、ワークピース102において細長いプロセススポットのように好ましくない形態の歪みを生じ得る)あるいは異なる波長又はスペクトル線幅を有する多くのビームレットに空間的に分解され得る偏向レーザエネルギービームが生じる。このため、上述したようなレーザ加工用途については、第1のポジショナ106におけるAODに最終的に入射するレーザエネルギービームは、線幅の広いレーザエネルギービームに対するAOD回折内イベントの上述した悪影響を最小限にする又はこれをなくすのに好適に狭いスペクトル線幅を有することが好ましい。スペクトル線幅は、例えばレーザエネルギービーム内の光パワースペクトル強度の半値全幅(FWHM)に基づいて測定することができる。
一実施形態においては、図26を参照すると、分散補償器2600は、AOD2602の光学的に上流側の位置でビーム経路114上に配置される。一般的に、分散補償器2600は、AOD2602の偏向平面に平行な(又は少なくとも概して又は実質的に平行な)平面上でレーザエネルギービームを分散させるように方向付けなければならない。図26に示される実施形態においては、AOD2602は、第1のポジショナ106のAOD(例えば、第1のAOD402又は第2のAOD404)である。
図29には示されていないが、装置100は、第1のポジショナ106の光出力部と第1の光ポート2906aとの間で(第1の側面2904とは反対側の)光学ボード2902の第2の側面に配置された、第1の1次角度範囲116a内で偏向されたビーム経路114を第1の光ポート2906aに導くための1以上のミラーを含み得る。同様に、装置100は、第1のポジショナ106の光出力と第2の光ポート2906bとの間で光学ボード2902の第2の側面に配置された、第2の1次角度範囲116b内で偏向されたビーム経路114を第2の光ポート2906bに導くための1以上のミラーを含んでいてもよい。光学ボード2902の第2の側面でのビーム経路アセンブリに関する例示的な実施形態を図30に関して述べる。
一実施形態においては、第1の光学的構成要素2004aは、第2の光学的構成要素2004bを組み込んだ第2のAOD404に関連付けられた第2の回転軸が、第1の光学的構成要素2004aを組み込んだ第1のAOD402に関連付けられた第1の回転軸に平行(又は少なくとも実質的に平行)となるように、図30に示されるビーム経路アセンブリ内で第2の光学的構成要素2004bに対して方向付けられている。この場合において、ミラー3006a及び3006bは、第1のAOD402の偏向平面が第2のAOD404に投影された際に、第2のAOD404の偏向平面と異なる(例えば、これに直交するか、斜めに交わる)ことを確実にするように方向付けられている。例えば、偏向平面がどのように回転し得るのかについては国際公開WO2019/060590A1を参照されたい。
図示はされていないが、図30に示されるビーム経路アセンブリ内に、レーザエネルギービームがビーム経路114に沿って(例えば、レーザ源104から光ポート2906a及び2906bの一方又は双方に)伝搬する際に、レーザエネルギービームを集束し、拡大し、コリメートし、整形し、偏光し、フィルタし、分割し、結合し、クロップし、吸収し、あるいは変更し、調整し、方向付けするなどのための1以上の他の光学的構成要素(例えば、ビームトラップ、ビームダンプシステム、ビームエキスパンダ、整形器、ビームスプリッタ、アパーチャ、フィルタ、コリメータ、レンズ、ミラー、プリズム、偏光器、位相リターダ、DOE、ROEなど、あるいはこれらを任意に組み合わせたもの)を設けてもよい。以下では、図30に示されるビーム経路アセンブリに組み込まれ得る付加的な光学的構成要素について簡単に述べる。ビーム経路アセンブリは、これらの光学的構成要素のうち1つ以上又はすべてを任意の組み合わせで含んでいてもよいことは理解できるであろう。
必要に応じて、装置100は、レーザセンサシステム3014a及び3014bのような1以上のレーザセンサシステムをさらに含んでいる。この実施形態においては、ミラー3010a及び3010bは、入射レーザエネルギービーム中の光の大部分を反射し、わずかな光(例えば、2%又はその前後)を透過するように構成された部分透過ミラーとして提供され、レーザセンサシステムは、対応する部分透過ミラーを透過した光を受けるように配置される。例えば、レーザセンサシステム3014aは、ミラー3010aを透過した光を受けるように配置され、レーザセンサシステム3014bは、ミラー3010bを透過した光を受けるように配置される。
i.ビーム分岐に関する実施形態
上述したように、図4は、総じて、多軸AODシステム400に入射する1次角度範囲116内のビーム経路114の偏向を図示している。図3に関して上記で述べた偏向スキームを実現するために、複数の第1の周波数範囲のうちの1つの範囲内にある駆動周波数を有する第1の印加RF駆動信号によりAOD402を動作又は駆動させることができ、複数の第2の周波数範囲のうちの対応する1つの範囲内にある駆動周波数を有する第2の印加RF駆動信号により第2のAOD404を動作又は駆動させることができる。例えば、図1、図4、及び図31を参照すると、多軸AODシステム400に入射するビーム経路114を第1の1次角度範囲116a内で(第2のポジショナ108aに)偏向するために、第1のAOD402に印加される第1のRF駆動信号は、第1の周波数範囲3102a内にある第1の駆動周波数f1を有し得る。第2のAOD404に印加される第2のRF駆動信号は、対応する第2の周波数範囲3104a内にある第2の駆動周波数f2を有し得る。多軸AODシステム400に入射するビーム経路114を第2の1次角度範囲116b内で(第2のポジショナ108bに)偏向するために、第1のAOD402に印加される第1のRF駆動信号は、第1の周波数範囲3102b内にある第1の駆動周波数f1を有し得る。第2のAOD404に印加される第2のRF駆動信号は、対応する第2の周波数範囲3104b内にある第2の駆動周波数f2を有し得る。
上述したように、AODは、最終的にワークピース102に照射されるプロセススポットを歪ませる(例えば細長くする)ことが可能なスペクトル分散要素である。プロセススポットを歪ませる程度は、レーザエネルギービームのスペクトル線幅に比例し、AODにより(あるいは複数のAODにより生じる偏向の合計により)生じる偏向に比例するものとして少なくとも部分的に特徴付けることができる。例えば、第1のAOD402及び第2のAOD404の偏向の合計により生じるスペクトル分散は、f1を第1の駆動周波数とし、f2を第2の駆動周波数とすると、
に比例する。
が、第2のサブスキャン領域3106bに対する
に等しくなる(又は少なくとも実質的に等しくなる)ように選択され得る。第1のサブスキャン領域3106aに対するf1は、第2のサブスキャン領域3106bに対するf2に等しくなり得る(又は少なくとも実質的に等しくなり得る)。同様に、第1のサブスキャン領域3106aに対するf2は、第2のサブスキャン領域3106bに対するf1に等しくなり得る(又は少なくとも実質的に等しくなり得る)。第1のサブスキャン領域3106aに対する
が第2のサブスキャン領域3106bに対する
に等しい(又は少なくとも実質的に等しい)場合には、第1のサブスキャン領域3106a内で偏向されるレーザエネルギービームに与えられるスペクトル分散の大きさは、第2のサブスキャン領域3106b内で偏向されるレーザエネルギービームに与えられるスペクトル分散の大きさと等しい(又は少なくとも実質的に等しい)が、スペクトル分散の方向は異なる。このため、第1の分散補償器2600aは、第2の分散補償器2600bと同一の構成を有し得るが、(例えば第1のミラー2908a3に対する)第1の分散補償器2600aの方向は、(例えば第1のミラー2908b3に対する)第2の分散補償器2600bの方向と異なる。すなわち、(例えば第1のミラー2908a3に対する)第1の分散補償器2600aの方向は、第1のサブスキャン領域3106aの中心又はその近傍で偏向されるレーザエネルギービームに与えられるスペクトル分散の方向に対応し得る。(例えば第1のミラー2908b3に対する)第2の分散補償器2600bの方向は、第2のサブスキャン領域3106bの中心又はその近傍で偏向されるレーザエネルギービームに与えられるスペクトル分散の方向に対応し得る。
図31に示される実施形態においては、第1の周波数範囲3102a及び3102bは、第1の方向に(例えば、第1の周波数範囲ギャップに対応する角度だけ)、また第2の方向に(例えば、第2の周波数範囲ギャップに対応する角度だけ)互いに空間的にオフセットされた1対の正方形状のサブスキャン領域3106a及び3106bを生成するように、第2の周波数範囲3104a及び3104bと協調して選択される。第1の周波数範囲ギャップが第2の周波数範囲ギャップに等しい場合、サブスキャン領域3106aと3106bとの間で最も近い点(すなわち、図31に示されるように、第1のサブスキャン領域3106aの右下の隅と第2のサブスキャン領域3106bの左上の隅)は、第1の周波数範囲ギャップ又は第2の周波数範囲ギャップのいずれかよりも41%大きい。また、サブスキャン領域3106aと3106bとの間で最も近い点は、実際には、線ではなく点である。したがって、第2のサブスキャン領域3106b内(すなわち第2の1次角度範囲116b内)で偏向されるレーザエネルギービームに対して、第1のサブスキャン領域3106a内(すなわち第1の1次角度範囲116a内)で偏向されるレーザエネルギービームを選択的に反射するために使用されるピックオフミラー(例えばミラー3008a)上でビームクリッピングによりビーム歪みが生じる場合には、そのような歪みが生じる頻度は、サブスキャン領域の縁部全体に沿ってビーム歪みが生じるのではなく、サブスキャン領域の1つの隅においてのみビーム歪みが生じる場合に比べて、ずっと低い。しかしながら、第1の周波数範囲ギャップ及び第2の周波数範囲ギャップの一方又は双方のサイズは、そのような歪みに対するワークピース加工の感度(又は不感応度)によっては必要に応じて、独立して又は協調して大きくしたり小さくしたりできることは理解できるであろう。
上述したように、パルススライシングを行うように、すなわち、共通のレーザパルス(本明細書では「マザーレーザパルス」ともいう)を少なくとも2つのレーザパルスに時間的に分割するように第1のポジショナ106を動作させることができる。本明細書では、共通のマザーレーザパルスの時間的に分割された部分は「パルススライス」とも呼ばれる。パルススライシングの一実施形態は図35に例示的に示されており、ここではマザーレーザパルス3500が2つのパルススライスに時間的に分割されている。具体的には、第1のスライス期間p1中にマザーレーザパルス3500が第1のパルススライス3500aに分割され、第2のスライス期間p2中にマザーレーザパルス3500が第2のパルススライス3500bに分割される。理解されるように、パルススライスのパルス持続時間は、一般的に、そのマザーレーザパルスから時間的に分割されたスライス期間の長さに対応している。このため、例えば、第1のパルススライス3500aは、第1のスライス期間p1に等しいパルス持続時間を有するものとして特徴付けることができ、第2のパルススライス3500bは、第2のスライス期間p2に等しいパルス持続時間を有するものとして特徴付けることができる。
本明細書で使用される場合には、「回折効率」という用語は、AODに入射するレーザエネルギービームにおいてAODのAOセル内で1次ビームに回折されるエネルギーの割合を意味する。このため、回折効率は、AODに入射する入射レーザエネルギービームの光パワーに対するAODにより生成された1次ビームの光パワーの比として表され得る。一般的に、印加RF駆動信号の振幅は、AODの回折効率に対して非線形効果を与えることがあり、AODの回折効率は、AODを駆動するために印加されるRF駆動信号の周波数の関数としても変化し得る。上記の観点から、第1のポジショナ106が上述したAODシステム400として提供される実施形態においては、第1のAOD402を駆動するために印加される第1のRF駆動信号は、ある振幅(本明細書では「第1の振幅」ともいう)を有するものとして特徴付けることができ、第2のAOD404を駆動するために印加される第2のRF駆動信号は、ある振幅(本明細書では「第2の振幅」ともいう)を有するものとして特徴付けることができる。
上記は、本発明の実施形態及び例を説明したものであって、これに限定するものとして解釈されるものではない。いくつかの特定の実施形態及び例が図面を参照して述べられたが、当業者は、本発明の新規な教示や利点から大きく逸脱することなく、開示された実施形態及び例と他の実施形態に対して多くの改良が可能であることを容易に認識するであろう。したがって、そのような改良はすべて、特許請求の範囲において規定される本発明の範囲に含まれることを意図している。例えば、当業者は、そのような組み合わせが互いに排他的になる場合を除いて、いずれかの文や段落、例又は実施形態の主題を他の文や段落、例又は実施形態の一部又は全部の主題と組み合わせることができることを理解するであろう。したがって、本発明の範囲は、以下の特許請求の範囲とこれに含まれるべき請求項の均等物とによって決定されるべきである。
Claims (54)
- ビーム経路に沿って伝搬可能なレーザエネルギービームを生成可能なレーザ源と、
前記ビーム経路内に配置され、前記ビーム経路を偏向可能な第1のポジショナと、
前記第1のポジショナに連結されるコントローラと
を備え、
前記コントローラは、前記ビーム経路を第1の1次角度範囲内及び第2の1次角度範囲内で偏向するように前記第1のポジショナの動作を制御するように構成され、前記第2の1次角度範囲は、前記第1の角度範囲と重なっておらず、前記第1の1次角度範囲と接しておらず、
前記コントローラは、前記ビーム経路を前記第1の1次角度範囲内の複数の第1の角度に偏向し、第2の1次角度範囲内の複数の第2の角度に偏向するように前記第1のポジショナの動作を制御するようにさらに構成されている、
レーザ加工装置。 - 前記レーザ源は、電磁波スペクトルの紫外(UV)域の波長を有するレーザエネルギービームを生成可能である、請求項1の装置。
- 前記レーザ源は、電磁波スペクトルの長波長赤外(LWIR)域の波長を有するレーザエネルギービームを生成可能である、請求項1の装置。
- 前記第1のポジショナは、
第1の音響光学偏向器(AOD)と、
前記第1のAODの出力に光学的に連結される第2のAODと
を備え、
前記第1のAOD及び前記第2のAODは、同一の軸に沿って前記ビーム経路を偏向可能である、
請求項1の装置。 - スキャンレンズを含む第1のスキャンヘッドと、
スキャンレンズを含む第2のスキャンヘッドと、
前記第1の角度範囲内で偏向された前記ビーム経路を前記第1のスキャンヘッドに導くように配置される少なくとも1つの光学的構成要素と、
前記第2の角度範囲内で偏向された前記ビーム経路を前記第2のスキャンヘッドに導くように配置される少なくとも1つの光学的構成要素と
をさらに備える、請求項1の装置。 - 前記第1のスキャンヘッド及び前記第2のスキャンヘッドからなる群から選択される少なくとも1つは、前記ビーム経路を偏向可能な第2のポジショナを含む、請求項5の装置。
- 前記第2のポジショナは、ガルバノメータミラーシステムを含む、請求項6の装置。
- フレームと、
前記フレームに連結され、レーザエネルギービームを反射するように構成されるピックオフミラーと、
前記フレームに連結され、前記レーザエネルギービームを吸収するように構成されるビームダンプと
を備える、一体化ビームダンプシステム。 - 前記ピックオフミラーは、レーザエネルギービームを前記ビームダンプに反射するように配置される、請求項8の一体化ビームダンプシステム。
- 前記フレームに連結されるリレーミラーであって、前記ピックオフミラーにより反射された前記レーザエネルギービームを受け、該受けたレーザエネルギービームを前記ビームダンプに反射するように配置されるリレーミラーをさらに備える、請求項8の一体化ビームダンプシステム。
- 前記ピックオフミラーは、前記フレーム上に形成されたコーティングを含む、請求項8の一体化ビームダンプシステム。
- 第1の面と、少なくとも1つの第2の面とを有するフレームを備え、
前記第1の面は、レーザエネルギービームを反射するように構成され、
前記少なくとも1つの第2の面は、前記レーザエネルギービームを吸収するように構成される、
一体化ビームダンプシステム。 - 前記第1の面は、レーザエネルギービームを前記少なくとも1つの第2の面に反射するように配置される、請求項12の一体化ビームダンプシステム。
- 前記フレームは、前記レーザエネルギービームを反射するように構成される第3の面であって、前記第1の面により反射された前記レーザエネルギービームを受け、該受けたレーザエネルギービームを前記少なくとも1つの第2の面に反射するように配置される第3の面を有する、請求項12の一体化ビームダンプシステム。
- 前記フレームに連結される冷却システムであって、前記少なくとも1つの第2の面を有する前記フレームの部分と熱接触する冷却システムをさらに備える、請求項12の一体化ビームダンプシステム。
- 前記フレームは、
光入力ポートと、
前記第1の面に隣接して配置される光出力ポートと
をさらに含み、
前記光入力ポート及び前記光出力ポートは、前記レーザエネルギービームが伝搬可能な共通の軸上に配置される、
請求項12の一体化ビームダンプシステム。 - 反射面を有するミラーを備え、前記反射面の形状は、フリンジゼルニケZ4項及びZ9項により特徴付けられ、前記Z4項の係数に対する前記Z9項の係数の比は、-0.1から-0.3の範囲にある、波面補正光学部品。
- 前記Z4項の係数に対する前記Z9項の係数の比は、-0.18から-0.23の範囲にある、請求項17の波面補正光学部品。
- 前記反射面は変形可能である、請求項17の波面補正光学部品。
- 形状可変鏡を備え、前記形状可変鏡は、
反射面と、
本体と、
前記本体内に規定されるポケットと
を含み、
前記本体は、前記反射面と前記ポケットとの間に形状可変なメンブレン領域を含み、
前記メンブレン領域の中心部分は第1の厚さを有し、前記メンブレン領域の周縁部分は前記第1の厚さよりも大きな第2の厚さを有する、
波面補正光学部品。 - 前記形状可変鏡の前記本体に連結される台座であって、前記台座を貫通する穿孔を有する台座をさらに備え、
前記穿孔は、前記ポケットと流体的に連通する、
請求項20の波面補正光学部品。 - 形状可変鏡を備え、前記形状可変鏡は、
反射面と、
少なくとも1つのリブを含む本体と、
前記本体内に規定された複数のポケットと
を含み、
前記本体は、前記反射面と前記ポケットとの間に形状可変なメンブレン領域を含み、
前記少なくとも1つのリブは、前記複数のポケットの間に配置される、
波面補正光学部品。 - 前記メンブレン領域の中央部分は第1の厚さを有し、前記メンブレン領域の周縁部分は前記第1の厚さよりも大きい第2の厚さを有する、請求項22の波面補正光学部品。
- 前記本体は複数のリブを含む、請求項22の波面補正光学部品。
- 前記形状可変鏡の前記本体に連結される台座であって、前記台座を貫通する少なくとも1つの穿孔を有する台座をさらに含み、
前記少なくとも1つの穿孔は、前記複数のポケットのうち少なくとも1つと流体的に連通する、
請求項22の波面補正光学部品。 - 加圧可能ポケットを有するメンブレン型形状可変鏡と、
前記ミラーに連結される台座であって、前記台座を貫通する少なくとも1つの穿孔を有し、前記少なくとも1つの穿孔は、前記加圧可能ポケットと流体的に連通する台座と、
前記台座と光学マウントアセンブリとに連結されるマウントプレートと
を備える、波面補正光学部品システム。 - 前記台座は、前記マウントプレートに形成された孔に挿入され、
前記少なくとも1つの穿孔は、前記マウントプレートに形成された前記孔に延びる、
請求項26のシステム。 - 前記少なくとも1つの穿孔に挿入される継手をさらに備える、請求項27のシステム。
- 前記継手の端部に連結されるホースをさらに備える、請求項28のシステム。
- レーザエネルギービームを透過可能な第1の光学的構成要素であって、熱レンズ効果の影響を受けやすい第1の光学的構成要素と、
前記第1の光学的構成要素を透過した前記レーザエネルギービームにおける波面収差であって前記熱レンズ効果に起因する波面収差を補正するように構成される波面補償光学部品と、
第1の平面での前記第1の光学的構成要素の像を第2の平面にリレーするように配置及び構成される光リレーシステムと
を備え、
前記波面補償光学部品は、前記第2の平面に配置され、
前記第1の光リレーシステムは、前記第2の平面での前記第1の光学的構成要素の前記像のサイズが、前記第1の平面での前記第1の光学的構成要素の前記像のサイズと異なるように構成される、
システム。 - 前記第2の平面での前記第1の光学的構成要素の前記像のサイズは、前記第1の平面での前記第1の光学的構成要素の前記像のサイズよりも大きい、請求項30のシステム。
- 前記第2の平面での前記第1の光学的構成要素の前記像のサイズは、前記第1の平面での前記第1の光学的構成要素の前記像のサイズよりも小さい、請求項30のシステム。
- 前記波面補償光学部品は、前記レーザエネルギービームを透過するように構成される、請求項30のシステム。
- 前記波面補償光学部品は、前記レーザエネルギービームを反射するように構成される、請求項30のシステム。
- 前記波面補償光学部品は、静的波面補償光学部品を含む、請求項30のシステム。
- 前記波面補償光学部品は、動的波面補償光学部品を含む、請求項30のシステム。
- 前記レーザエネルギービームを透過可能な第2の光学的構成要素をさらに備え、
前記光リレーシステムは、前記第2の平面での前記第1の光学的構成要素の像を第3の平面にリレーするように配置及び構成され、
前記第2の光学的構成要素は、前記第3の平面に配置される、
請求項30のシステム。 - 前記光リレーシステムは、前記第2の平面での前記第1の光学的構成要素の前記像のサイズが、前記第3の平面での前記第1の光学的構成要素の前記像のサイズと同じとなるように構成される、請求項37のシステム。
- 前記波面補償光学部品は、前記レーザエネルギービームを反射するように構成され、
前記光リレーシステムは、
2つのレンズを含む第1の光リレーと、
2つのレンズを含む第2の光リレーと
を含む、
請求項37のシステム。 - 前記第1の光リレー及び前記第2の光リレーは、共通のレンズを共有している、請求項39のシステム。
- 前記光リレーシステムは、前記第2の光リレーの2つのレンズの間に配置される少なくとも1つのミラーをさらに含む、請求項39のシステム。
- 前記第1の光学的構成要素は、音響光学(AO)セルを含む、請求項30のシステム。
- 前記第2の光学的構成要素は、音響光学(AO)セルを含む、請求項37のシステム。
- 前記第1の光学的構成要素は、音響光学(AO)セルを含み、前記第2の光学的構成要素は、前記第1の光学的構成要素の前記AOセルのゼロ次ビーム経路が前記第2の光学的構成要素に入射するように配置される、請求項37のシステム。
- 前記第1の光学的構成要素は、第1のレーザエネルギービームを1次ビーム経路に沿って透過させ、第2のレーザエネルギービームをゼロ次ビーム経路に沿って透過させることが可能な音響光学(AO)セルを含み、
前記第2の光学的構成要素は、前記第1の光学的構成要素の前記AOセルの前記ゼロ次ビーム経路が前記第2の光学的構成要素に入射するように配置される、
請求項44のシステム。 - 前記光リレーシステムは、前記第1の光学的構成要素の前記ゼロ次ビーム経路上に配置されるレンズを含み、前記レンズは、前記第1の光リレー又は前記第2の光リレーの一部ではない、請求項45のシステム。
- 音響光学偏向器(AOD)と、
プリズムとグレーティングとからなる群から選択される少なくとも1つを含む分散補償器と、
前記分散補償器の光学的に上流側の位置で前記分散補償器と光学的に連結される第1の光学的構成要素であって、入射レーザエネルギービームを拡大するように構成される第1の光学的構成要素と、
光学的に前記分散補償器と前記AODとの間の位置で前記分散補償器及び前記AODと光学的に連結される第2の光学的構成要素であって、入射するレーザエネルギービームを縮小するように構成される第2の光学的構成要素と
を備える、システム。 - 入射レーザエネルギービームを回折し、該回折されたレーザエネルギービームをビーム経路に沿って出力可能な音響光学偏向器であって、前記入射レーザエネルギービームを可変的に回折することにより、前記ビーム経路を第1の角度範囲内と第2の角度範囲内とで偏向可能な音響光学偏向器(AOD)と、
プリズムとグレーティングとからなる群から選択される少なくとも1つを含む第1の分散補償器であって、前記AODの出力と光学的に連結され、前記第1の角度範囲内で偏向された前記ビーム経路上に配置される第1の分散補償器と、
プリズムとグレーティングとからなる群から選択される少なくとも1つを含む第2の分散補償器であって、前記AODの出力と光学的に連結され、前記第2の角度範囲内で偏向された前記ビーム経路上に配置される第2の分散補償器と
を備える、システム。 - 前記第1の分散補償器の出力と光学的に連結される第1のポジショナであって、前記回折されたレーザエネルギービームを偏向可能な第1のポジショナをさらに備える、請求項48のシステム。
- 前記第2の分散補償器の出力と光学的に連結される第2のポジショナであって、前記回折されたレーザエネルギービームを偏向可能な第2のポジショナをさらに備える、請求項49のシステム。
- ビーム経路に沿って伝搬可能なレーザエネルギービームを生成可能なレーザ源と、
前記ビーム経路内に配置され、前記ビーム経路を偏向可能なポジショナと、第1の音響光学偏向器(AOD)と前記第1のAODの出力と光学的に連結される第2のAODとを含むポジショナと、
前記ポジショナに連結されるコントローラであって、少なくとも1つのスライス期間中に、前記レーザエネルギービームを少なくとも1つのパルススライスに時間的に分割するように前記第1のAOD及び前記第2のAODを動作させるように構成されるコントローラと
を備える、システム。 - 前記コントローラは、複数のスライス期間中に、前記レーザエネルギービームを複数のパルススライスに時間的に分割するように前記第1のAOD及び前記第2のAODを動作させるように構成され、順番に続くスライス期間は間欠的に生じる、請求項51のシステム。
- 前記コントローラは、異なる期間の間、前記レーザエネルギービームをパルススライスに時間的に分割するように前記第1のAOD及び前記第2のAODを動作させるように構成される、請求項51のシステム。
- 前記コントローラは、スライス期間よりも長い期間の間、前記レーザエネルギービームをパルススライスに時間的に分割するように前記第1のAODと前記第2のAODとからなる群から選択される少なくとも1つを動作させるように構成される、請求項51のシステム。
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