JP2022509895A - 表示基板、表示装置及び表示基板の製造方法 - Google Patents

表示基板、表示装置及び表示基板の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2022509895A
JP2022509895A JP2020549808A JP2020549808A JP2022509895A JP 2022509895 A JP2022509895 A JP 2022509895A JP 2020549808 A JP2020549808 A JP 2020549808A JP 2020549808 A JP2020549808 A JP 2020549808A JP 2022509895 A JP2022509895 A JP 2022509895A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating layer
signal lines
flexible substrate
vias
display board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020549808A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7372931B2 (ja
Inventor
シングオ・リ
ヨンダ・マ
シュエグアン・ハオ
シンイン・ウ
ヨン・チャオ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Technology Development Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Technology Development Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Beijing BOE Technology Development Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Publication of JP2022509895A publication Critical patent/JP2022509895A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7372931B2 publication Critical patent/JP7372931B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/131Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/1218Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition or structure of the substrate
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133305Flexible substrates, e.g. plastics, organic film
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286Wiring, e.g. gate line, drain line
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/1368Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/124Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits
    • H01L27/1244Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits for preventing breakage, peeling or short circuiting
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10Substrates, e.g. flexible substrates
    • H10K77/111Flexible substrates
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301Details of OLEDs
    • H10K2102/311Flexible OLED
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/1201Manufacture or treatment

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

表示領域と、周辺領域とを有する表示基板を提供する。前記周辺領域内に位置する前記表示基板は、フレキシブル基板と、前記フレキシブル基板上に位置する第1の絶縁層と、前記第1の絶縁層の前記フレキシブル基板から離れた側に位置し、複数の第1の信号線を備える第1の信号線層と、前記第1の信号線層の前記フレキシブル基板から離れた側に位置する第2の絶縁層と、を備える。前記表示基板は、前記複数の第1の信号線のそれぞれを貫通して前記第1の絶縁層の第1の表面を露出させる複数の第1のビアを有し、前記第2の絶縁層は、前記複数の第1のビアを貫通して前記第1の絶縁層の前記第1の表面と直接接する。

Description

本発明は表示技術に関し、特に、表示基板、表示装置及び表示基板の製造方法に関する。
(関連出願の相互参照)
本発明は、2018年11月26日に提出された中国特許出願第201821951977.1号の優先権を主張し、そのすべての内容を参照によりここに援用する。
フレキシブルディスプレイ技術には、フレキシブルディスプレイパネルが軽量で、耐振動性及び耐衝撃性に優れている等の様々な利点があり、広く応用されている。
1つの方面において、本発明は、表示領域と、周辺領域とを有する表示基板であって、前記周辺領域内に位置する前記表示基板は、フレキシブル基板と、前記フレキシブル基板上に位置する第1の絶縁層と、前記第1の絶縁層の前記フレキシブル基板から離れた側に位置し、複数の第1の信号線を備える第1の信号線層と、前記第1の信号線層の前記フレキシブル基板から離れた側に位置する第2の絶縁層と、を備え、前記表示基板は、前記複数の第1の信号線のそれぞれを貫通して前記第1の絶縁層の第1の表面を露出させる複数の第1のビアを有し、前記第2の絶縁層は、前記複数の第1のビアを貫通して前記第1の絶縁層の前記第1の表面と直接接する、表示基板を提供する。
或いは、前記周辺領域内に位置する前記表示基板は、前記第2の絶縁層の前記第1の絶縁層から離れた側に位置し、複数の第2の信号線を備える第2の信号線層と、前記第2の信号線層の前記フレキシブル基板から離れた側に位置する第3の絶縁層と、をさらに備え、前記表示基板は、前記複数の第2の信号線のそれぞれを貫通して前記第2の絶縁層の第2の表面を露出させる複数の第2のビアを有し、前記第3の絶縁層は、前記複数の第2のビアを貫通して前記第2の絶縁層の前記第2の表面と直接接してもよい。
或いは、前記フレキシブル基板上の前記複数の第1の信号線それぞれの正射影は、前記フレキシブル基板上の前記複数の第2の信号線の正射影と実質的に重ならず、前記フレキシブル基板上の前記複数の第2の信号線それぞれの正射影は、前記フレキシブル基板上の前記複数の第1の信号線の正射影と実質的に重ならなくてもよい。
或いは、前記フレキシブル基板上の前記複数の第1の信号線の正射影と、前記フレキシブル基板上の前記複数の第2の信号線の正射影とが交互に配置されてもよい。
或いは、前記複数の第1の信号線及び前記複数の第2の信号線は、前記表示領域から前記周辺領域の方向に沿って延在してもよい。
或いは、前記複数の第1の信号線のそれぞれ及び前記複数の第2の信号線のそれぞれは、前記表示基板の平面視において曲線形状であってもよい。
或いは、前記曲線形状は波形であってもよい。
或いは、前記複数の第1の信号線それぞれの延在方向に垂直な断面に沿った前記複数の第1の信号線それぞれの第1の幅は実質的に等しく、前記複数の第2の信号線それぞれの延在方向に垂直な断面に沿った複数の第2の信号線それぞれの第2の幅は実質的に等しくてもよい。
或いは、前記複数の第1の信号線のそれぞれを貫通する前記複数の第1のビアそれぞれの中間点から、前記複数の第1の信号線それぞれの幅を横切る前記複数の第1の信号線それぞれの2つの対向する縁部までは実質的に等距離であり、前記複数の第2の信号線のそれぞれを貫通する前記複数の第2のビアそれぞれの中間点から、前記複数の第2の信号線それぞれの幅を横切る前記複数の第2の信号線それぞれの2つの対向する縁部までは実質的に等距離であってもよい。
或いは、前記複数の第1のビアのそれぞれが、前記フレキシブル基板から離れた側に第1の直径を、前記フレキシブル基板に近い側に第2の直径を有し、前記第1の直径は前記第2の直径より大きく、前記複数の第2のビアのそれぞれが、前記フレキシブル基板から離れた側に第3の直径を、前記フレキシブル基板に近い側に第4の直径を有し、前記第3の直径は前記第4の直径より大きくてもよい。
或いは、前記複数の第1のビアはそれぞれ円錐台形状であり、前記複数の第2のビアはそれぞれ円錐台形状であってもよい。
或いは、前記複数の第1のビアそれぞれの側面と前記フレキシブル基板との間の第1の内角は、15度から85度の範囲にあり、前記複数の第2のビアそれぞれの側面と前記フレキシブル基板との間の第2の内角は、15度から85度の範囲にあってもよい。
或いは、前記複数の第1のビアそれぞれの中へ延在する前記第2の絶縁層の第1の部分が、前記フレキシブル基板から離れた側に第1の直径を、前記フレキシブル基板に近い側に第2の直径を有し、前記第1の直径は前記第2の直径より大きく、前記複数の第2のビアそれぞれの中へ延在する前記第3の絶縁層の第2の部分が、前記フレキシブル基板から離れた側に第3の直径を、前記フレキシブル基板に近い側に第4の直径を有し、前記第3の直径は前記第4の直径より大きくてもよい。
或いは、前記複数の第1のビアそれぞれの中へ延在する前記第2の絶縁層の第1の部分が、前記複数の第1のビアそれぞれの側面に沿って前記複数の第1の信号線のそれぞれと直接接し、前記複数の第2のビアそれぞれの中へ延在する前記第3の絶縁層の第2の部分が、前記複数の第2のビアそれぞれの側面に沿って前記複数の第2の信号線のそれぞれと直接接してもよい。
或いは、前記表示基板は、前記表示領域内に、前記表示基板の画像表示を駆動する複数の薄膜トランジスタをさらに備え、前記周辺領域はファンアウト領域を備え、前記周辺領域の少なくとも一部は折り曲げ可能領域であり、前記折り曲げ可能領域は前記ファンアウト領域内に位置してもよい。
或いは、前記ファンアウト領域は、前記表示領域と、接続端子をボンディングするボンディング領域との間に位置してもよい。
或いは、前記周辺領域の少なくとも一部は折り曲げ可能領域であり、前記折り曲げ可能領域内に位置する前記表示基板は、前記フレキシブル基板と、前記フレキシブル基板上に位置する前記第1の絶縁層と、前記第1の絶縁層の前記フレキシブル基板から離れた側に位置し、前記複数の第1の信号線を備える前記第1の信号線層と、前記第1の信号線層の前記フレキシブル基板から離れた側に位置する前記第2の絶縁層と、を備え、前記表示基板は、前記複数の第1の信号線のそれぞれを貫通して前記第1の絶縁層の第1の表面を露出させる複数の第1のビアを有し、前記第2の絶縁層は、前記複数の第1のビアを貫通して前記第1の絶縁層の前記第1の表面と直接接してもよい。
別の方面において、本発明は本明細書で述べた表示基板又は本明細書で述べた方法により製造された表示基板を備える表示装置を提供する。
別の方面において、本発明は、表示領域と、周辺領域とを有する表示基板の製造方法であって、前記周辺領域において、フレキシブル基板上に第1の絶縁層を形成することと、前記第1の絶縁層の前記フレキシブル基板から離れた側に、複数の第1の信号線を備えるように形成される第1の信号線層を形成することと、前記複数の第1の信号線のそれぞれを貫通して前記第1の絶縁層の第1の表面を露出させる複数の第1のビアを形成することと、前記第1の信号線層の前記フレキシブル基板から離れた側に、前記複数の第1のビアを貫通して前記第1の絶縁層の前記第1の表面と直接接するように形成される第2の絶縁層を形成することと、を含む、表示基板の製造方法を提供する。
或いは、当該方法は、前記周辺領域において、前記第2の絶縁層の前記第1の絶縁層から離れた側に、複数の第2の信号線を備えるように形成される第2の信号線層を形成することと、前記複数の第2の信号線のそれぞれを貫通して前記第2の絶縁層の第2の表面を露出させる複数の第2のビアを形成することと、前記第2の信号線層の前記フレキシブル基板から離れた側に、前記複数の第2のビアを貫通して前記第2の絶縁層の前記第2の表面と直接接するように形成される第3の絶縁層を形成することと、をさらに含んでもよい。
以下の図面は開示する様々な実施形態による例示を目的とした例にすぎず、本発明の範囲を限定することを意図しない。
本開示のいくつかの実施形態における表示基板の構造を示す模式図である。 本開示のいくつかの実施形態における表示基板の平面図である。 本開示のいくつかの実施形態における表示基板の部分平面図である。 本開示のいくつかの実施形態における表示基板の部分断面図である。 本開示のいくつかの実施形態における表示基板の構造を示す模式図である。 図2の表示基板のA-A’方向における部分断面図である。 本開示のいくつかの実施形態における複数の第1の信号線の構造を示す模式図である。 本開示のいくつかの実施形態における表示基板の断面図である。 本開示のいくつかの実施形態における複数の第2の信号線の構造を示す模式図である。 本開示のいくつかの実施形態における表示基板の断面図である。 本開示のいくつかの実施形態における表示基板の部分断面図である。 本開示のいくつかの実施形態における表示基板の部分断面図である。
以下では、実施形態を参照しつつ、本開示について具体的に説明する。なお、いくつかの実施形態に関する以下の説明は例示及び説明としてのものにすぎず、網羅的であること、又は開示された正確な形態に限定されることを意図するものではない。
フレキシブル表示基板はユーザによって頻繁に曲げられる。通常、信号線はフレキシブル表示基板の折り曲げ可能領域に配置され、信号線と、信号線に直接接触する絶縁層とは、ユーザが折り曲げ動作を繰り返すことで離れてしまうことがある。信号線が絶縁層から離れると、信号線の異なる部分に加わる力が均一でなくなり、信号線が破断して信号線の電気的短絡及び表示基板の損傷につながることがある。
特に、表示基板の折り曲げ可能領域において、信号線は折り曲げ可能領域に集中的に配置される。折り曲げ可能領域が繰り返し曲げられるため、折り曲げ可能領域内に位置する信号線は破断しやすい。
そこで、本開示は、特に、従来技術における制限及び欠点に起因する1つ以上の課題を実質的に解消する、表示基板、表示装置及び表示基板の製造方法を提供する。1つの方面において、本開示は、表示領域と、周辺領域とを有する表示基板を提供する。或いは、表示基板は周辺領域内に、フレキシブル基板と、フレキシブル基板上に位置する第1の絶縁層と、第1の絶縁層のフレキシブル基板から離れた側に位置し、複数の第1の信号線を備える第1の信号線層と、第1の信号線層のフレキシブル基板から離れた側に位置する第2の絶縁層と、を備えてもよい。或いは、表示基板は、複数の第1の信号線のそれぞれを貫通して第1の絶縁層の第1の表面を露出させる複数の第1のビアを有してもよい。或いは、第2の絶縁層は、複数の第1のビアを貫通して第1の絶縁層の第1の表面と直接接してもよい。
図1は、本開示のいくつかの実施形態における表示基板の構造を示す模式図である。図2は、本開示のいくつかの実施形態における表示基板の平面図である。図3は、本開示のいくつかの実施形態における表示基板の部分平面図である。図1、図2及び図3を参照すると、いくつかの実施形態において、表示基板は、表示領域DAと、周辺領域PAとを有する。
ここで「表示領域」とは、画像が実際に表示される表示パネル内に位置する表示基板(例えば、対向基板又はアレイ基板)の領域を指す。或いは、表示領域は、サブ画素領域と、サブ画素間領域との両方を含んでもよい。サブ画素領域とは、液晶ディスプレイ内の画素電極に対応する領域、又は有機発光ダイオードディスプレイパネル内の発光層に対応する領域等のサブ画素の発光領域を指す。サブ画素間領域は、液晶ディスプレイ内のブラックマトリクスに対応する領域、又は有機発光ダイオードディスプレイパネル内の画素定義層に対応する領域等の隣接するサブ画素領域の間の領域を指す。或いは、サブ画素間領域は、同一画素内の隣接するサブ画素領域の間の領域であってもよい。或いは、サブ画素間領域は、2つの隣接する画素に由来する2つの隣接するサブ画素領域の間の領域であってもよい。ここで「周辺領域」とは、表示基板に信号を伝送するために様々な回路及び配線が設けられた表示パネル内の表示基板(例えば、対向基板又はアレイ基板)の領域を指す。表示装置の透明性を高めるために、表示装置の非透明または不透明な構成要素(例えば、電池、プリント配線板、金属フレーム)を、表示領域ではなく周辺領域に配置することができる。
図2を参照すると、いくつかの実施形態において、表示領域DAには、フレキシブル基板100の一方の側に複数のゲート線1及び複数のデータ線2が形成されている。或いは、複数のゲート線1は、複数のデータ線2の延在方向と垂直な方向に延在してもよい。
いくつかの実施形態において、表示基板は、フレキシブル基板100と、フレキシブル基板100の一方の側に位置する複数の薄膜トランジスタ200とを備える。或いは、複数の薄膜トランジスタ200は、表示領域内に位置し、表示基板の画像表示を駆動してもよい。
図2及び図3の両方を参照すると、いくつかの実施形態において、周辺領域PAの少なくとも一部は、折り曲げ可能領域BAである。或いは、周辺領域PAは、ファンアウト領域FAを含んでもよい。或いは、折り曲げ可能領域BAは、ファンアウト領域FA内に位置してもよい。
いくつかの実施形態において、周辺領域PAは、ボンディング領域BDAを含む。或いは、ファンアウト領域FAは、表示領域DAと、接続端子3をボンディングするボンディング領域BDAとの間に位置してもよい。或いは、折り曲げ可能領域BAは、表示領域DAと、ボンディング領域BDAとの間に位置してもよい。
いくつかの実施形態において、フレキシブル基板100の縁部に接続端子3が配置されている。或いは、ボンディング領域BDAは、接続端子3をファンアウト領域FAにボンディングしてもよい。或いは、複数の引き出し線4は、ボンディング領域BDA内に位置するフレキシブル基板100上に位置してもよい。1つの実施例において、複数の引き出し線のそれぞれは、複数のゲート線1のそれぞれを接続端子3に接続する。別の実施例において、複数の引き出し線4のそれぞれは、複数のデータ線2のそれぞれを接続端子3に接続する。
図4は、本開示のいくつかの実施形態における表示基板の部分断面図である。図1、図3及び図4を参照すると、いくつかの実施形態において、周辺領域PA内に位置する表示基板は、フレキシブル基板100と、フレキシブル基板100上に位置する第1の絶縁層300と、第1の絶縁層300のフレキシブル基板100から離れた側に位置し、複数の第1の信号線520を備える第1の信号線層500と、第1の信号線層500のフレキシブル基板100から離れた側に位置する第2の絶縁層400と、を備える。
或いは、第1の絶縁層300と、第1の信号線層500と、第2の絶縁層400とがフレキシブル基板100上に順に形成されてもよい。例えば、第1の信号線層500は、第1の絶縁層300と、第2の絶縁層400との間に位置する。
いくつかの実施形態において、表示基板は、複数の第1の信号線520のそれぞれを貫通して第1の絶縁層300の第1の表面310を露出させる複数の第1のビア510を有する。例えば、第1の絶縁層300の第1の表面310は、第1の絶縁層300のフレキシブル基板100から離れた側に位置する表面である。或いは、第2の絶縁層400は、複数の第1のビア510を貫通して第1の絶縁層300の第1の表面310と直接接してもよい。
第1の絶縁層300と第2の絶縁層400との間に第1の信号線層500を形成し、複数の第1の信号線520のそれぞれを貫通する複数の第1のビア510を形成することにより、第2の絶縁層400が複数の第1のビア510を介して第1の絶縁層300と直接接し、これにより、第1の絶縁層300と第1の信号線層500との間の付着力、及び第2の絶縁層400と第1の信号線層500との間の付着力が増大する。このため、第1の信号線層500は、第1の絶縁層300及び第2の絶縁層400と離れにくい。
図5は、本開示のいくつかの実施形態における表示基板の構造を示す模式図である。図5を参照すると、いくつかの実施形態において、周辺領域PA内に位置する表示基板は、フレキシブル基板100と、フレキシブル基板100上に位置する第1の絶縁層300と、第1の絶縁層300のフレキシブル基板100から離れた側に位置し、複数の第1の信号線520を備える第1の信号線層500と、第1の信号線層500のフレキシブル基板100から離れた側に位置する第2の絶縁層400と、第2の絶縁層400の第1の絶縁層300から離れた側に位置し、複数の第2の信号線720を備える第2の信号線層700と、第2の信号線層700のフレキシブル基板100から離れた側に位置する第3の絶縁層600と、を備える。
或いは、第1の絶縁層300と、第1の信号線層500と、第2の絶縁層400と、第2の信号線層700と、第3の絶縁層600とがフレキシブル基板100上に順に形成されてもよい。第1の信号線層500は、第1の絶縁層300と、第2の絶縁層400との間に位置する。第2の信号線層700は、第2の絶縁層400と、第3の絶縁層600との間に位置する。
いくつかの実施形態において、表示基板は、複数の第1の信号線520のそれぞれを貫通して第1の絶縁層300の第1の表面310を露出させる複数の第1のビア510を有する。例えば、第1の絶縁層300の第1の表面310は、第1の絶縁層300のフレキシブル基板100から離れた側に位置する表面である。或いは、第2の絶縁層400は、複数の第1のビア510を貫通して第1の絶縁層300の第1の表面310と直接接してもよい。
いくつかの実施形態において、表示基板は、複数の第2の信号線720のそれぞれを貫通して第2の絶縁層400の第2の表面410を露出させる複数の第2のビア710をさらに有する。例えば、第2の絶縁層400の第2の表面410は、第2の絶縁層400のフレキシブル基板100から離れた側に位置する表面である。或いは、第3の絶縁層600は、複数の第2のビア710を貫通して第2の絶縁層400の第2の表面410と直接接してもよい。
第1の絶縁層300と第2の絶縁層400との間に第1の信号線層500を形成し、複数の第1の信号線520のそれぞれを貫通する複数の第1のビア510を形成することにより、第2の絶縁層400が複数の第1のビア510を介して第1の絶縁層300と直接接し、これにより、第1の絶縁層300と第1の信号線層500との間の付着力、及び第2の絶縁層400と第1の信号線層500との間の付着力が増大する。このため、第1の信号線層500は、第1の絶縁層300及び第2の絶縁層400と離れにくい。
第2の絶縁層400と第3の絶縁層600との間に第2の信号線層700を形成し、複数の第2の信号線720のそれぞれを貫通する複数の第2のビア710を形成することにより、第3の絶縁層600が複数の第2のビア710を介して第2の絶縁層400と直接接し、これにより、第2の絶縁層400と第2の信号線層700との間の付着力、及び第3の絶縁層600と第2の信号線層700との間の付着力が増大する。このため、第2の信号線層700は、第2の絶縁層400及び第3の絶縁層600と離れにくい。
いくつかの実施形態において、フレキシブル基板100上の複数の第1の信号線520それぞれの正射影は、フレキシブル基板100上の複数の第2の信号線720の正射影と実質的に重ならない。いくつかの実施形態において、フレキシブル基板100上の複数の第2の信号線720それぞれの正射影は、フレキシブル基板100上の複数の第1の信号線520の正射影と実質的に重ならない。ここで「実質的に重ならない」とは、2つの正射影が少なくとも50パーセント(例えば、少なくとも60パーセント、少なくとも70パーセント、少なくとも80パーセント、少なくとも90パーセント、少なくとも95パーセント、少なくとも99パーセント及び100パーセント)重ならないことを指す。或いは、フレキシブル基板100上の複数の第1の信号線520それぞれの正射影は、フレキシブル基板100上の複数の第2の信号線720それぞれの正射影と全く重ならなくてもよい。或いは、フレキシブル基板100上の複数の第2の信号線720それぞれの正射影は、フレキシブル基板100上の複数の第1の信号線520それぞれの正射影と全く重ならなくてもよい。
いくつかの実施形態において、フレキシブル基板100上の複数の第1の信号線520の正射影とフレキシブル基板100上の複数の第2の信号線720の正射影は交互に配置され、これにより、信号線間に電気的短絡の生じる確率が低下する。
いくつかの実施形態において、第1の信号線層500及び第2の信号線層700は異なる層に設けられている。例えば、第1の信号線層500は、第1の絶縁層300のフレキシブル基板100から離れた側に位置する。第2の信号線層700は、第2の絶縁層400のフレキシブル基板100から離れた側に位置する。
図2を参照すると、いくつかの実施形態において、折り曲げ可能領域BAはファンアウト領域FA内に位置し、ファンアウト領域FAは表示領域DAと接続端子3との間に位置する。
いくつかの実施形態において、複数の引き出し線4のそれぞれは、複数のゲート線1のそれぞれを接続端子3に接続する。いくつかの実施形態において、複数の引き出し線4のそれぞれは、複数のデータ線2のそれぞれを接続端子3に接続する。
いくつかの実施形態において、複数の引き出し線4は、複数のゲート線引き出し線と、複数のデータ線引き出し線とを含む。1つの実施例において、複数の第1の信号線520のそれぞれは、複数のゲート線引き出し線のうちの1つ及び複数のデータ線引き出し線のうちの1つから選ばれる引き出し線の一部である。別の実施例において、複数の第2の信号線720のそれぞれは、複数のゲート線引き出し線のうちの1つ及び複数のデータ線引き出し線のうちの1つから選ばれる引き出し線の一部である。
例えば、複数の第1の信号線520のそれぞれは、複数のゲート線引き出し線それぞれの一部であり、複数の第2の信号線720のそれぞれは、複数のデータ線引き出し線それぞれの一部である。例えば、複数の第1の信号線520のそれぞれは、複数のデータ線引き出し線それぞれの一部であり、複数の第2の信号線720のそれぞれは、複数のゲート線引き出し線それぞれの一部である。例えば、複数の第1の信号線520のそれぞれ及び複数の第2の信号線720のそれぞれは、いずれも複数のゲート線引き出し線の2つの異なる引き出し線の一部である。例えば、複数の第1の信号線520のそれぞれ及び複数の第2の信号線720のそれぞれは、いずれも複数のデータ線引き出し線の2つの異なる引き出し線の一部である。
いくつかの実施形態において、複数のゲート線引き出し線のいくつか及び複数のデータ線引き出し線のいくつかは同一層に設けられている。同一層に設けられている複数のゲート線引き出し線のいくつか及び複数のデータ線引き出し線のいくつかの2つの隣接する引き出し線は互いに離間している。
いくつかの実施形態において、複数のゲート線引き出し線は、複数のデータ線引き出し線を有する層と異なる層に設けられている。或いは、フレキシブル基板100上の複数のゲート線引き出し線の正射影とフレキシブル基板100上の複数のデータ線引き出し線の正射影とは交互に配置されてもよい。
図6は、図2の表示基板のA-A’方向における部分断面図である。図2及び図6を参照すると、複数の第1の信号線520及び複数の第2の信号線720は、表示領域DAから周辺領域PAの方向に沿って延在する。或いは、複数の第1の信号線520及び複数の第2の信号線720は、複数の第3のビア800を介して周辺領域PAから表示領域DAに向かって延在してもよい。例えば、複数のゲート線1のそれぞれは、複数の第3のビア800のそれぞれを介して、周辺領域PAから表示領域DAに向かって延在する複数の第1の信号線520のそれぞれに接続されている。
図7は、本開示のいくつかの実施形態における複数の第1の信号線の構造を示す模式図である。図9は、本開示のいくつかの実施形態における複数の第2の信号線の構造を示す模式図である。図7及び図9を参照すると、複数の第1の信号線520のそれぞれ及び複数の第2の信号線720のそれぞれは、表示基板の平面視において曲線形状である。或いは、曲線形状は波形であってもよい。
いくつかの実施形態において、複数の第1の信号線520は互いに平行である。複数の第2の信号線720は互いに平行である。
いくつかの実施形態において、図7を参照すると、複数の第1の信号線520それぞれの延在方向(例えば、第1の延在方向D1)に垂直な断面に沿った複数の第1の信号線520それぞれの第1の幅L1は実質的に等しい。
ここで「実質的に等しい」とは、信号線の延在方向に垂直な複数の断面に沿って信号線の幅を測定したとき、複数の断面に沿った測定幅の平均値と複数の断面に沿った測定幅それぞれとの間の偏差が平均値の10%を超えず、例えば、8%を超えず、6%を超えず、4%を超えず、2%を超えず、1%を超えず、0.5%を超えず、0.1%を超えず、0.05%を超えず、及び0.01%を超えないことを指す。
図8は、本開示のいくつかの実施形態における表示基板の断面図である。いくつかの実施形態において、図7及び図8を参照すると、複数の第1の信号線520それぞれの延在方向(例えば、第1の延在方向D1)に垂直な断面に沿った複数の第1の信号線520それぞれの2つの対向する縁部間の第1の縁部距離W1は実質的に等しい。
いくつかの実施形態において、複数の第1の信号線520のそれぞれを貫通する複数の第1のビア510それぞれの中間点から、複数の第1の信号線520それぞれの幅(例えば、第1の幅L1)を横切る複数の第1の信号線520それぞれの2つの対向する縁部までは実質的に等距離である。例えば、複数の第1のビア510それぞれの中間点と、複数の第1の信号線520それぞれの幅を横切る2つの対向する縁部の1つとの間の第1の距離d1と、複数の第1のビア510それぞれの中間点と、複数の第1の信号線520それぞれの幅を横切る2つの対向する縁部のもう1つとの間の第2の距離d2とは、実質的に同一である。
ここで「等距離である」とは、2つの距離の差が基準値(例えば、2つの値のうちの1つ)の10%を超えず、例えば、8%を超えず、6%を超えず、4%を超えず、2%を超えず、1%を超えず、0.5%を超えず、0.1%を超えず、0.05%を超えず、及び0.01%を超えないことを指す。1つの実施例において、第1の距離d1と第2の距離d2との差は第1の距離d1の10%を超えない。別の実施例において、第3の距離d3と第4の距離d4との差は第3の距離d3の10%を超えない。
ここで「実質的に同一である」とは、2つの値の差が基準値(例えば、2つの値のうちの1つ)の10%を超えず、例えば、8%を超えず、6%を超えず、4%を超えず、2%を超えず、1%を超えず、0.5%を超えず、0.1%を超えず、0.05%を超えず、及び0.01%を超えないことを指す。1つの実施例において、第1の距離d1と第2の距離d2との差は第1の距離d1の10%を超えない。別の実施例において、第3の距離d3と第4の距離d4との差は第3の距離d3の10%を超えない。
いくつかの実施形態において、複数の第1の信号線520それぞれの第1の延在方向D1に垂直であるとともに、複数の第1のビア510それぞれの中間点を有する断面のそれぞれでは、断面それぞれにおける複数の第1の信号線520の第1の幅L1を横切りかつ中間点から離れた方向に沿った、複数の第1のビア510それぞれの縁部と複数の第1の信号線520それぞれの縁部との間の第5の距離E1と、断面それぞれにおける複数の第1の信号線520の第1の幅L1を横切りかつ中間点から離れた方向に沿った、複数の第1のビア510それぞれの別の縁部と複数の第1の信号線520それぞれの別の縁部との間の第6の距離E2は実質的に同一である。
いくつかの実施形態において、複数の第1の信号線520のそれぞれを曲線形状(例えば、波形)に形成することにより、第1の絶縁層300と第1の信号線層500との間の付着力、及び第2の絶縁層400と第1の信号線層500との間の付着力が増大する。このため、第1の信号線層500は、第1の絶縁層300及び第2の絶縁層400と離れにくい。
いくつかの実施形態において、図7を参照すると、複数の第1の信号線520それぞれの延在方向(例えば、第1の延在方向D1)に垂直な断面に沿った複数の第1の信号線520それぞれの第1の幅L1は実質的に等しい。
いくつかの実施形態において、図9を参照すると、複数の第2の信号線720それぞれの延在方向(例えば、第2の延在方向D2)に垂直な断面に沿った複数の第2の信号線720それぞれの第2の幅L2は実質的に等しい。
或いは、第1の幅L1と第2の幅L2は、実質的に同一である。
図10は、本開示のいくつかの実施形態における表示基板の断面図である。いくつかの実施形態において、図7及び図10を参照すると、複数の第1の信号線520それぞれの延在方向(例えば、第1の延在方向D1)に垂直な断面に沿った複数の第1の信号線520それぞれの2つの対向する縁部間の第1の縁部距離W1は実質的に等しい。図9及び図10を参照すると、複数の第2の信号線720それぞれの延在方向(例えば、第2の延在方向D2)に垂直な断面に沿った複数の第2の信号線720それぞれの2つの対向する縁部間の第2の縁部距離W2は実質的に等しい。
いくつかの実施形態において、図7及び図10を参照すると、複数の第1の信号線520のそれぞれを貫通する複数の第1のビア510それぞれの中間点から、複数の第1の信号線520それぞれの幅(例えば、第1の幅L1)を横切る複数の第1の信号線520それぞれの2つの対向する縁部までは実質的に等距離である。例えば、複数の第1のビア510それぞれの中間点と、複数の第1の信号線520それぞれの幅(例えば、第1の幅L1)を横切る2つの対向する縁部の1つとの間の第1の距離d1と、複数の第1のビア510それぞれの中間点と、複数の第1の信号線520それぞれの幅を横切る2つの対向する縁部のもう1つとの間の第2の距離d2とは実質的に同一である。
いくつかの実施形態において、図9及び図10を参照すると、複数の第2の信号線720のそれぞれを貫通する複数の第2のビア710それぞれの中間点から、複数の第2の信号線720それぞれの幅(例えば、第2の幅L2)を横切る複数の第2の信号線720それぞれの2つの対向する縁部までは実質的に等距離である。例えば、複数の第2のビア710それぞれの中間点と、複数の第2の信号線720それぞれの幅(例えば、第2の幅L2)を横切る2つの対向する縁部の1つとの間の第3の距離d3と、複数の第2のビア710それぞれの中間点と、複数の第2の信号線720それぞれの幅(例えば、第2の幅L2)を横切る2つの対向する縁部のもう1つとの間の第4の距離d4とは、実質的に同一である。
或いは、第1の距離d1と、第2の距離d2と、第3の距離d3と、第4の距離d4とは、実質的に同一であってもよい。
いくつかの実施形態において、図7及び図10を参照すると、複数の第1の信号線520それぞれの第1の延在方向D1に垂直であるとともに、複数の第1のビア510それぞれの中間点を有する断面のそれぞれでは、断面それぞれにおける複数の第1の信号線520の第1の幅L1を横切りかつ中間点から離れた方向に沿った、複数の第1のビア510それぞれの縁部と複数の第1の信号線520それぞれの縁部との間の第5の距離E1と、断面それぞれにおける複数の第1の信号線520の第1の幅L1を横切りかつ中間点から離れた方向に沿った、複数の第1のビア510それぞれの別の縁部と複数の第1の信号線520それぞれの別の縁部との間の第6の距離E2は、実質的に同一である。
いくつかの実施形態において、図9及び図10を参照すると、複数の第2の信号線720それぞれの第2の延在方向D2に垂直であるとともに、複数の第2のビア710それぞれの中間点を有する断面のそれぞれでは、断面それぞれにおける複数の第2の信号線720の第2の幅L2を横切りかつ中間点から離れた方向に沿った、複数の第2のビア710それぞれの縁部と複数の第2の信号線720それぞれの縁部との間の第7の距離E3と、断面それぞれにおける複数の第2の信号線720の第2の幅L2を横切りかつ中間点から離れた方向に沿った、複数の第2のビア710それぞれの別の縁部と複数の複数の第2の信号線720それぞれの別の縁部との間の第8の距離E4は、実質的に同一である。
或いは、第5の距離E1と、第6の距離E2と、第7の距離E3と、第8の距離E4とは、実質的に同一であってもよい。
いくつかの実施形態において、複数の第1の信号線520及び複数の第2の信号線720を曲線形状(例えば、波形)に形成することにより、第1の絶縁層300と第1の信号線層500との間の付着力、第2の絶縁層400と第1の信号線層500との間の付着力、第2の絶縁層400と第2の信号線層700との間の付着力、及び第3の絶縁層600と第2の信号線層700との間の付着力が増大する。このため、第1の信号線層500は、第1の絶縁層300及び第2の絶縁層400と離れにくい。また、第2の信号線層700も第2の絶縁層400及び第3の絶縁層600と離れにくい。
図11は、本開示のいくつかの実施形態における表示基板の部分断面図である。図11を参照すると、いくつかの実施形態において、複数の第1のビア510のそれぞれは、フレキシブル基板100から離れた側に第1の直径A1を、フレキシブル基板100に近い側に第2の直径A2を有する。或いは、第1の直径A1は第2の直径A2より大きくてもよい。
或いは、複数の第1のビア510はそれぞれ円錐台形状であってもよい。
或いは、複数の第1のビア510それぞれの側面とフレキシブル基板100との間の第1の内角α1は、15度から85度の範囲にあり、例えば、15度から35度、35度から55度、55度から75度、75度から85度であってもよい。
或いは、複数の第1のビア510それぞれの中へ延在する第2の絶縁層400の第1の部分P1は、フレキシブル基板100から離れた側に第1の直径A1を、フレキシブル基板100に近い側に第2の直径A2を有する。或いは、第1の直径A1は第2の直径A2より大きくてもよい。或いは、第1の部分P1の断面の直径は、フレキシブル基板100から離れる方向に沿って増加してもよい。
或いは、複数の第1のビア510それぞれの中へ延在する第2の絶縁層400の第1の部分P1は、複数の第1のビア510それぞれの側面に沿って複数の第1の信号線520のそれぞれと直接接してもよい。
或いは、第2の絶縁層400の第1の部分P1の側面とフレキシブル基板100との間の第1の内角α1は、15度から85度の範囲にあり、例えば、15度から35度、35度から55度、55度から75度、75度から85度であってもよい。
図12は、本開示のいくつかの実施形態における表示基板の部分断面図である。図12を参照すると、いくつかの実施形態において、複数の第1のビア510のそれぞれは、フレキシブル基板100から離れた側に第1の直径A1を、フレキシブル基板100に近い側に第2の直径A2を有する。或いは、第1の直径A1は第2の直径A2より大きくてもよい。或いは、複数の第2のビア710のそれぞれは、フレキシブル基板100から離れた側に第3の直径A3を、フレキシブル基板100に近い側に第4の直径A4をさらに有してもよい。或いは、第3の直径A3は第4の直径A4より大きくてもよい。
或いは、複数の第1のビア510はそれぞれ円錐台形状であってもよい。或いは、複数の第2のビア710はそれぞれ円錐台形状であってもよい。或いは、複数の第1のビア510及び複数の第2のビア710のいずれも円錐台形状であってもよい。
或いは、複数の第1のビア510それぞれの側面とフレキシブル基板100との間の第1の内角α1は、15度から85度の範囲にあり、例えば、15度から35度、35度から55度、55度から75度、75度から85度であってもよい。或いは、複数の第2のビア710それぞれの側面とフレキシブル基板100との間の第2の内角α2は、15度から85度の範囲にあり、例えば、15度から35度、35度から55度、55度から75度、75度から85度であってもよい。
或いは、複数の第1のビア510それぞれの中へ延在する第2の絶縁層400の第1の部分P1は、フレキシブル基板100から離れた側に第1の直径A1を、フレキシブル基板100に近い側に第2の直径A2を有する。或いは、第1の直径A1は第2の直径A2より大きくてもよい。或いは、複数の第2のビア710それぞれの中へ延在する第3の絶縁層600の第2の部分P2は、フレキシブル基板100から離れた側に第3の直径A3を、フレキシブル基板100に近い側に第4の直径A4を有してもよい。或いは、第3の直径A3は第4の直径A4より大きくてもよい。或いは、第1の部分P1の断面の直径は、フレキシブル基板100から離れる方向に沿って増加してもよい。或いは、第2の部分P2の断面の直径は、フレキシブル基板100から離れる方向に沿って増加してもよい。
或いは、複数の第1のビア510それぞれの中へ延在する第2の絶縁層400の第1の部分P1は、複数の第1のビア510それぞれの側面に沿って複数の第1の信号線520のそれぞれと直接接してもよい。或いは、複数の第2のビア710それぞれの中へ延在する第3の絶縁層600の第2の部分P2は、複数の第2のビア710それぞれの側面に沿って複数の第2の信号線720のそれぞれと直接接してもよい。
或いは、第2の絶縁層400の第1の部分P1の側面とフレキシブル基板100との間の第1の内角α1は、15度から85度の範囲にあり、例えば、15度から35度、35度から55度、55度から75度、75度から85度であってもよい。或いは、第3の絶縁層600の第2の部分P2の側面とフレキシブル基板100との間の第2の内角α2は、15度から85度の範囲にあり、例えば、15度から35度、35度から55度、55度から75度、75度から85度であってもよい。
いくつかの実施形態において、折り曲げ可能領域BAは、フレキシブル基板100から離れる方向に向かって屈曲するように折り曲げ可能である。例えば、複数の第1のビア510それぞれのフレキシブル基板100から離れた側は、複数の第1のビア510それぞれのフレキシブル基板100に近い側より強く引き伸ばされる。複数の第2のビア710それぞれのフレキシブル基板100から離れた側は、複数の第2のビア710それぞれのフレキシブル基板100に近い側より強く引き伸ばされる。ビアを円錐台形状に形成することにより、折り曲げ可能領域を折り曲げたときに引き伸ばしが不均一となるのに円錐台形状が対応して、絶縁層とビアの間が離れることが少なくなり、絶縁層とビアの間の付着力がさらに増大する。
いくつかの実施形態において、図1及び図4を参照すると、周辺領域PAの少なくとも一部は折り曲げ可能領域BAである。折り曲げ可能領域BA内に位置する表示基板は、フレキシブル基板100と、フレキシブル基板100上に位置する第1の絶縁層300と、第1の絶縁層300のフレキシブル基板100から離れた側に位置し、複数の第1の信号線520を備える第1の信号線層500と、第1の信号線層500のフレキシブル基板100から離れた側に位置する第2の絶縁層400と、を備える。或いは、表示基板は、複数の第1の信号線520のそれぞれを貫通して第1の絶縁層300の第1の表面310を露出させる複数の第1のビア510を有してもよい。或いは、第2の絶縁層400は、複数の第1のビア510を貫通して第1の絶縁層300の第1の表面310と直接接してもよい。
別の方面において、本開示は本明細書で述べた表示基板又は本明細書で述べた方法により製造された表示基板を備える表示パネルをさらに提供する。或いは、表示パネルは有機発光ダイオード表示パネルであってもよい。或いは、表示パネルは液晶表示パネルであってもよい。
別の方面において、本開示は本明細書で述べた表示基板又は本明細書で述べた方法により製造された表示基板を備え、1つ以上の集積回路が表示基板に接続された表示装置をさらに提供する。適切な表示装置の例としては、電子ペーパー、携帯電話、タブレットコンピュータ、テレビ、モニタ、ノートブックコンピュータ、デジタルアルバム、GPS等が挙げられるが、これらに限定されない。
別の方面において、本開示は、表示領域と、周辺領域とを有する表示基板の製造方法を提供する。いくつかの実施形態において、当該方法は、周辺領域において、フレキシブル基板上に第1の絶縁層を形成することと、第1の絶縁層のフレキシブル基板から離れた側に、複数の第1の信号線を備えるように形成される第1の信号線層を形成することと、複数の第1の信号線のそれぞれを貫通して第1の絶縁層の第1の表面を露出させる複数の第1のビアを形成することと、第1の信号線層のフレキシブル基板から離れた側に、複数の第1のビアを貫通して第1の絶縁層の第1の表面と直接接するように形成される第2の絶縁層を形成することと、を含む。
いくつかの実施形態において、当該方法は、周辺領域において、第2の絶縁層の第1の絶縁層から離れた側に、複数の第2の信号線を備えるように形成される第2の信号線層を形成することと、複数の第2の信号線のそれぞれを貫通して第2の絶縁層の第2の表面を露出させる複数の第2のビアを形成することと、第2の信号線層のフレキシブル基板から離れた側に、複数の第2のビアを貫通して第2の絶縁層の第2の表面と直接接するように形成される第3の絶縁層を形成することと、をさらに含む。
或いは、複数の第1の信号線及び複数の第2の信号線は、フレキシブル基板上の複数の第1の信号線それぞれの正射影が、フレキシブル基板上の複数の第2の信号線の正射影と実質的に重ならず、フレキシブル基板上の複数の第2の信号線それぞれの正射影が、フレキシブル基板上の複数の第1の信号線の正射影と実質的に重ならないように形成されてもよい。
或いは、複数の第1の信号線及び複数の第2の信号線は、フレキシブル基板上の複数の第1の信号線の正射影と、フレキシブル基板上の複数の第2の信号線の正射影とが交互に配置されるように形成されてもよい。
いくつかの実施形態において、複数の第1の信号線及び複数の第2の信号線は、表示領域から周辺領域の方向に沿って延在するように形成される。或いは、複数の第1の信号線のそれぞれ及び複数の第2の信号線のそれぞれは、表示基板の平面視において曲線形状であってもよい。或いは、曲線形状は波形であってもよい。或いは、複数の第1の信号線及び複数の第2の信号線は、複数の第1の信号線それぞれの延在方向に垂直な断面に沿った複数の第1の信号線それぞれの第1の幅が実質的に等しく、複数の第2の信号線それぞれの延在方向に垂直な断面に沿った複数の第2の信号線それぞれの第2の幅が実質的に等しくなるように形成されてもよい。或いは、複数の第1の信号線のそれぞれを貫通する複数の第1のビアそれぞれの中間点から、複数の第1の信号線それぞれの幅を横切る複数の第1の信号線それぞれの2つの対向する縁部までは実質的に等距離であり、複数の第2の信号線のそれぞれを貫通する複数の第2のビアそれぞれの中間点から、複数の第2の信号線それぞれの幅を横切る複数の第2の信号線それぞれの2つの対向する縁部までは実質的に等距離であってもよい。或いは、複数の第1のビアはそれぞれ、フレキシブル基板から離れた側に第1の直径を、フレキシブル基板に近い側に第2の直径を有し、第1の直径は第2の直径より大きく、複数の第2のビアのそれぞれは、フレキシブル基板から離れた側に第3の直径を、フレキシブル基板に近い側に第4の直径を有し、第3の直径は第4の直径より大きくてもよい。
或いは、複数の第1のビアはそれぞれ円錐台形状であり、複数の第2のビアはそれぞれ円錐台形状であってもよい。或いは、複数の第1のビアそれぞれの側面とフレキシブル基板との間の第1の内角は15度から85度の範囲にあり、複数の第2のビアそれぞれの側面とフレキシブル基板との間の第2の内角は、15度から85度の範囲にあってもよい。
或いは、第2の絶縁層は、複数の第1のビアそれぞれの中へ延在する第1の部分が、フレキシブル基板から離れた側に第1の直径を、フレキシブル基板に近い側に第2の直径を有するように形成され、第1の直径は第2の直径より大きくてもよい。或いは、第2の絶縁層は、複数の第1のビアそれぞれの中へ延在する第1の部分が、複数の第1のビアそれぞれの側面に沿って複数の第1の信号線のそれぞれと直接接するように形成されてもよい。或いは、第3の絶縁層は、複数の第2のビアそれぞれの中へ延在する第2の部分が、フレキシブル基板から離れた側に第3の直径を、フレキシブル基板に近い側に第4の直径を有するように形成され、第3の直径は第4の直径より大きくてもよい。或いは、第3の絶縁層は、複数の第2のビアそれぞれの中へ延在する第2の部分が、複数の第2のビアそれぞれの側面に沿って複数の第2の信号線のそれぞれと直接接するように形成されてもよい。
本発明の実施形態に関する以上の記述は、例示及び説明を目的とする。以上の説明は、網羅的であること、又は開示された正確な形態或いは例示的な実施形態に本発明を限定することを意図しない。それ故、上記記載は限定ではなく例示を目的としていると見なすべきであり、多くの変更や変形は当業者にとって明らかであろう。これらの実施形態は、本発明の原理及びその最良の態様の実際の適用を説明するために選択及び記載されたものであり、それによって、本発明が特定の用途又は想定される実施形態の様々な実施形態及び様々な変形例に適用可能であることを当業者に理解させることを目的としている。本発明の範囲は、本開示に付した請求項及びその均等物により定義することが意図され、別途示唆しない限り、すべての用語は合理的な範囲内で最も広く解釈される。したがって、「本発明」、「本開示」又はこれに類する用語は請求項を必ずしも特定の実施形態に限定せず、本発明の例示的実施形態に対する参照は本発明への限定を示唆するものではなく、かかる限定を推論すべきではない。本発明は添付する請求項の精神と範囲によってのみ限定される。さらに、これらの請求項では後に名詞又は要素を伴って「第1の」、「第2の」等の表現を用いる場合がある。特定の数量が示されない限り、このような用語は専用語であると理解すべきであり、修飾された要素の数量が上記専用語により限定されると解釈してはならない。記載した効果や利点はいずれも本発明のすべての実施形態にあてはまるとは限らない。当業者であれば、以下の特許請求の範囲により定義される本発明の範囲から逸脱せずに、記載した実施形態を変形できることが理解されよう。さらに、本開示の要素及び構成要素は、以下の特許請求の範囲に明記されているか否かを問わず、いずれも公衆に捧げる意図はない。
1 ゲート線
2 データ線
3 接続端子
100 フレキシブル基板
200 薄膜トランジスタ
300 第1の絶縁層
310 第1の表面
400 第2の絶縁層
410 第2の表面
500 第1の信号線層
510 第1のビア
520 第1の信号線
600 第3の絶縁層
700 第2の信号線層
710 第2のビア
720 第2の信号線
800 第3のビア

Claims (20)

  1. 表示領域と、周辺領域とを有する表示基板であって、
    前記周辺領域内に位置する前記表示基板は、
    フレキシブル基板と、
    前記フレキシブル基板上に位置する第1の絶縁層と、
    前記第1の絶縁層の前記フレキシブル基板から離れた側に位置し、複数の第1の信号線を備える第1の信号線層と、
    前記第1の信号線層の前記フレキシブル基板から離れた側に位置する第2の絶縁層と、を備え、
    前記表示基板は、前記複数の第1の信号線のそれぞれを貫通して前記第1の絶縁層の第1の表面を露出させる複数の第1のビアを有し、
    前記第2の絶縁層は、前記複数の第1のビアを貫通して前記第1の絶縁層の前記第1の表面と直接接する、表示基板。
  2. 前記周辺領域内に位置する前記表示基板は、
    前記第2の絶縁層の前記第1の絶縁層から離れた側に位置し、複数の第2の信号線を備える第2の信号線層と、
    前記第2の信号線層の前記フレキシブル基板から離れた側に位置する第3の絶縁層と、をさらに備え、
    前記表示基板は、前記複数の第2の信号線のそれぞれを貫通して前記第2の絶縁層の第2の表面を露出させる複数の第2のビアを有し、
    前記第3の絶縁層は、前記複数の第2のビアを貫通して前記第2の絶縁層の前記第2の表面と直接接する、請求項1に記載の表示基板。
  3. 前記フレキシブル基板上の前記複数の第1の信号線それぞれの正射影は、前記フレキシブル基板上の前記複数の第2の信号線の正射影と実質的に重ならず、
    前記フレキシブル基板上の前記複数の第2の信号線それぞれの正射影は、前記フレキシブル基板上の前記複数の第1の信号線の正射影と実質的に重ならない、請求項2に記載の表示基板。
  4. 前記フレキシブル基板上の前記複数の第1の信号線の正射影と、前記フレキシブル基板上の前記複数の第2の信号線の正射影とが交互に配置される、請求項3に記載の表示基板。
  5. 前記複数の第1の信号線及び前記複数の第2の信号線は、前記表示領域から前記周辺領域の方向に沿って延在する、請求項2から4のいずれか1項に記載の表示基板。
  6. 前記複数の第1の信号線のそれぞれ及び前記複数の第2の信号線のそれぞれは、前記表示基板の平面視において曲線形状を有する、請求項2から5のいずれか1項に記載の表示基板。
  7. 前記曲線形状は波形である、請求項6に記載の表示基板。
  8. 前記複数の第1の信号線それぞれの延在方向に垂直な断面に沿った前記複数の第1の信号線それぞれの第1の幅は実質的に等しく、
    前記複数の第2の信号線それぞれの延在方向に垂直な断面に沿った複数の第2の信号線それぞれの第2の幅は実質的に等しい、請求項2から7のいずれか1項に記載の表示基板。
  9. 前記複数の第1の信号線のそれぞれを貫通する前記複数の第1のビアそれぞれの中間点から、前記複数の第1の信号線それぞれの幅を横切る前記複数の第1の信号線それぞれの2つの対向する縁部までは実質的に等距離であり、
    前記複数の第2の信号線のそれぞれを貫通する前記複数の第2のビアそれぞれの中間点から、前記複数の第2の信号線それぞれの幅を横切る前記複数の第2の信号線それぞれの2つの対向する縁部までは実質的に等距離である、請求項2から7のいずれか1項に記載の表示基板。
  10. 前記複数の第1のビアのそれぞれが、前記フレキシブル基板から離れた側に第1の直径を、前記フレキシブル基板に近い側に第2の直径を有し、前記第1の直径は前記第2の直径より大きく、
    前記複数の第2のビアのそれぞれが、前記フレキシブル基板から離れた側に第3の直径を、前記フレキシブル基板に近い側に第4の直径を有し、前記第3の直径は前記第4の直径より大きい、請求項2から7のいずれか1項に記載の表示基板。
  11. 前記複数の第1のビアはそれぞれ円錐台形状であり、前記複数の第2のビアはそれぞれ円錐台形状である、請求項10に記載の表示基板。
  12. 前記複数の第1のビアそれぞれの側面と前記フレキシブル基板との間の第1の内角は、15度から85度の範囲にあり、
    前記複数の第2のビアそれぞれの側面と前記フレキシブル基板との間の第2の内角は、15度から85度の範囲にある、請求項11に記載の表示基板。
  13. 前記複数の第1のビアそれぞれの中へ延在する前記第2の絶縁層の第1の部分が、前記フレキシブル基板から離れた側に第1の直径を、前記フレキシブル基板に近い側に第2の直径を有し、前記第1の直径は前記第2の直径より大きく、
    前記複数の第2のビアそれぞれの中へ延在する前記第3の絶縁層の第2の部分が、前記フレキシブル基板から離れた側に第3の直径を、前記フレキシブル基板に近い側に第4の直径を有し、前記第3の直径は前記第4の直径より大きい、請求項2から7のいずれか1項に記載の表示基板。
  14. 前記複数の第1のビアそれぞれの中へ延在する前記第2の絶縁層の第1の部分が、前記複数の第1のビアそれぞれの側面に沿って前記複数の第1の信号線のそれぞれと直接接し、
    前記複数の第2のビアそれぞれの中へ延在する前記第3の絶縁層の第2の部分が、前記複数の第2のビアそれぞれの側面に沿って前記複数の第2の信号線のそれぞれと直接接する、請求項2から7のいずれか1項に記載の表示基板。
  15. 前記表示領域内に、前記表示基板の画像表示を駆動する複数の薄膜トランジスタをさらに備え、
    前記周辺領域はファンアウト領域を備え、
    前記周辺領域の少なくとも一部は折り曲げ可能領域であり、
    前記折り曲げ可能領域は前記ファンアウト領域内に位置する、請求項1から14のいずれか1項に記載の表示基板。
  16. 前記ファンアウト領域は、前記表示領域と、接続端子をボンディングするボンディング領域との間に位置する、請求項15に記載の表示基板。
  17. 前記周辺領域の少なくとも一部は折り曲げ可能領域であり、
    前記折り曲げ可能領域内に位置する前記表示基板は、
    前記フレキシブル基板と、
    前記フレキシブル基板上に位置する前記第1の絶縁層と、
    前記第1の絶縁層の前記フレキシブル基板から離れた側に位置し、前記複数の第1の信号線を備える前記第1の信号線層と、
    前記第1の信号線層の前記フレキシブル基板から離れた側に位置する前記第2の絶縁層と、を備え、
    前記表示基板は、前記複数の第1の信号線のそれぞれを貫通して前記第1の絶縁層の第1の表面を露出させる複数の第1のビアを有し、
    前記第2の絶縁層は、前記複数の第1のビアを貫通して前記第1の絶縁層の前記第1の表面と直接接する、請求項1から16のいずれか1項に記載の表示基板。
  18. 請求項1から17のいずれか1項に記載の表示基板を備える表示装置。
  19. 表示領域と、周辺領域とを有する表示基板の製造方法であって、
    前記周辺領域において、
    フレキシブル基板上に第1の絶縁層を形成することと、
    前記第1の絶縁層の前記フレキシブル基板から離れた側に、複数の第1の信号線を備えるように形成される第1の信号線層を形成することと、
    前記複数の第1の信号線のそれぞれを貫通して前記第1の絶縁層の第1の表面を露出させる複数の第1のビアを形成することと、
    前記第1の信号線層の前記フレキシブル基板から離れた側に、前記複数の第1のビアを貫通して前記第1の絶縁層の前記第1の表面と直接接するように形成される第2の絶縁層を形成することと、を含む、表示基板の製造方法。
  20. 前記周辺領域において、
    前記第2の絶縁層の前記第1の絶縁層から離れた側に、複数の第2の信号線を備えるように形成される第2の信号線層を形成することと、
    前記複数の第2の信号線のそれぞれを貫通して前記第2の絶縁層の第2の表面を露出させる複数の第2のビアを形成することと、
    前記第2の信号線層の前記フレキシブル基板から離れた側に、前記複数の第2のビアを貫通して前記第2の絶縁層の前記第2の表面と直接接するように形成される第3の絶縁層を形成することと、を含む、請求項19に記載の表示基板の製造方法。
JP2020549808A 2018-11-26 2019-06-25 表示基板、表示装置及び表示基板の製造方法 Active JP7372931B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201821951977.1 2018-11-26
CN201821951977.1U CN208938550U (zh) 2018-11-26 2018-11-26 显示面板及显示装置
PCT/CN2019/092745 WO2020107880A1 (en) 2018-11-26 2019-06-25 Display substrate, display apparatus, and method of fabricating display substrate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022509895A true JP2022509895A (ja) 2022-01-25
JP7372931B2 JP7372931B2 (ja) 2023-11-01

Family

ID=66728100

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020549808A Active JP7372931B2 (ja) 2018-11-26 2019-06-25 表示基板、表示装置及び表示基板の製造方法

Country Status (11)

Country Link
US (1) US11239303B2 (ja)
EP (1) EP3888075A4 (ja)
JP (1) JP7372931B2 (ja)
KR (1) KR102415286B1 (ja)
CN (1) CN208938550U (ja)
AU (1) AU2019385925B2 (ja)
BR (1) BR112020019332B1 (ja)
MX (1) MX2020010100A (ja)
RU (1) RU2745003C1 (ja)
TW (1) TWI707492B (ja)
WO (1) WO2020107880A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN208077535U (zh) * 2018-04-28 2018-11-09 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性显示面板及柔性显示装置
CN208938550U (zh) * 2018-11-26 2019-06-04 北京京东方技术开发有限公司 显示面板及显示装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013105950A (ja) * 2011-11-15 2013-05-30 Sony Corp 半導体装置および電子機器
US20170277288A1 (en) * 2016-03-24 2017-09-28 Samsung Display Co., Ltd. Display device
US20170352717A1 (en) * 2016-06-02 2017-12-07 Samsung Display Co., Ltd. Display apparatus having reduced defects

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101119196B1 (ko) 2005-02-16 2012-03-22 삼성전자주식회사 표시장치 및 이의 제조 방법
EP2474964B1 (en) * 2009-09-02 2014-04-16 Sharp Kabushiki Kaisha Display device substrate
KR102611499B1 (ko) * 2015-12-15 2023-12-06 엘지디스플레이 주식회사 플렉서블 표시장치
KR102479508B1 (ko) * 2016-03-31 2022-12-20 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
CN107092400B (zh) * 2017-06-27 2019-10-01 上海天马微电子有限公司 触控显示面板及包含其的触控显示装置
CN107342299A (zh) 2017-08-30 2017-11-10 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制作方法、显示装置及其制作方法
CN108649035B (zh) * 2018-04-26 2019-08-16 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制作方法
CN208077535U (zh) * 2018-04-28 2018-11-09 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性显示面板及柔性显示装置
CN108831909B (zh) * 2018-06-07 2021-07-23 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 柔性显示面板及显示装置
CN208938550U (zh) * 2018-11-26 2019-06-04 北京京东方技术开发有限公司 显示面板及显示装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013105950A (ja) * 2011-11-15 2013-05-30 Sony Corp 半導体装置および電子機器
US20170277288A1 (en) * 2016-03-24 2017-09-28 Samsung Display Co., Ltd. Display device
US20170352717A1 (en) * 2016-06-02 2017-12-07 Samsung Display Co., Ltd. Display apparatus having reduced defects

Also Published As

Publication number Publication date
BR112020019332A2 (pt) 2021-01-05
WO2020107880A1 (en) 2020-06-04
EP3888075A1 (en) 2021-10-06
RU2745003C1 (ru) 2021-03-18
US11239303B2 (en) 2022-02-01
AU2019385925B2 (en) 2021-12-02
TWI707492B (zh) 2020-10-11
JP7372931B2 (ja) 2023-11-01
AU2019385925A1 (en) 2020-10-01
KR102415286B1 (ko) 2022-07-01
CN208938550U (zh) 2019-06-04
BR112020019332A8 (pt) 2021-02-02
TW202021170A (zh) 2020-06-01
US20210074791A1 (en) 2021-03-11
EP3888075A4 (en) 2022-08-31
MX2020010100A (es) 2020-10-28
KR20200118167A (ko) 2020-10-14
BR112020019332B1 (pt) 2024-01-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10910410B2 (en) Flexible array substrate, flexible display device and method of assembling the same
TWI684169B (zh) 顯示裝置
KR102581839B1 (ko) 표시 장치
TWI735577B (zh) 顯示裝置
CN108388054B (zh) 显示面板与显示装置
US11158655B2 (en) Display device
KR102617925B1 (ko) 표시 장치
CN107170366B (zh) 显示面板和显示装置
US9761560B2 (en) Display device
US20240268170A1 (en) Display device
CN107037922B (zh) 显示装置及其制造方法
US9715298B2 (en) Flexible display device with sensor layer
US9078362B2 (en) Flexible display device
US20160374193A1 (en) Display device
US11522032B2 (en) Display device
KR20150065053A (ko) 표시장치
JP7372931B2 (ja) 表示基板、表示装置及び表示基板の製造方法
JP2006210809A (ja) 配線基板および実装構造体、電気光学装置および電子機器
US11495646B2 (en) Device substrate with asymmetrical fan-out lines and spliced electronic apparatus using the same
CN114967249B (zh) 一种显示基板、显示装置
US20220304154A1 (en) Display panel and display apparatus
TWI666490B (zh) 電子裝置
CN106873267B (zh) 显示面板
TWI595298B (zh) 顯示面板
US20240284729A1 (en) Array substrate, display apparatus, and method of fabricating array substrate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220617

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230215

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230403

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230703

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20231010

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231020

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7372931

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150