JP2022192018A - マスク装置の製造装置、記録媒体、マスク装置の製造方法、及びマスク装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】マスクへの張力を精密に調整することができるマスク装置の製造装置および製造方法を提供する。【解決手段】マスク装置は、開口４５を挟んで第１方向Ｄ１において対向する第１辺４１及び第２辺４２と、開口を挟んで第１方向に交差する第２方向Ｄ２において対向する第３辺４３及び第４辺４４と、を含むフレーム４０と、第１辺及び第２辺に固定された端部を含むマスクと、を備えてもよい。製造装置６０は、開口に向かう方向において第１辺及び第２辺を押圧する押圧機構と、第１方向における第１辺及び第２辺の変形量を測定する変位測定機構と、マスクを第１辺及び第２辺に固定する固定装置７４と、を備えてもよい。押圧機構は、第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、第１辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、第２辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、を含んでもよい。【選択図】図１０
Description
本開示の実施形態は、マスク装置の製造装置、記録媒体、マスク装置の製造方法、及びマスク装置に関する。
有機ＥＬ表示装置などの有機デバイスが注目されている。有機デバイスの素子を形成する方法として、素子を構成する材料を蒸着により基板に付着させる方法が知られている。例えば、まず、素子に対応するパターンで第１電極が形成されている基板を準備する。続いて、マスク装置を用いて蒸着工程を実施する。マスク装置は、貫通孔を含むマスクと、マスクを支持するフレームと、を備える。マスクの貫通孔を通った有機材料が第１電極の上に付着することにより、第１電極の上に有機層が形成される。
フレームは、マスクの端部が固定されている第１辺及び第２辺を含む。第１辺及び第２辺は、開口を挟んで第１方向において対向している。フレームは、第１方向においてマスクに張力を加えた状態でマスクを支持する。これにより、マスクに撓みが生じることが抑制される。
開口に向かう方向においてフレームの第１辺及び第２辺を変形させた状態で第１辺及び第２辺にマスクを固定する場合、第１辺及び第２辺が弾性的に復元する力に基づいてマスクに張力が加えられる。マスクへの張力を精密に調整するためには、第１辺及び第２辺の変形量を精密に調整することが求められる。
有機デバイスの製造コストを低減する手段の１つとして、基板の大型化が考えられる。基板が大型化すると、マスクも大型化し、フレームも大型化する。フレームが大型化すると、第１辺及び第２辺の変形量の調整の難易度が高くなる。
本開示の一実施形態によるマスク装置の製造装置において、前記マスク装置は、開口を挟んで第１方向において対向する第１辺及び第２辺と、前記開口を挟んで前記第１方向に交差する第２方向において対向する第３辺及び第４辺と、を含むフレームと、第１辺及び第２辺に固定された端部を含むマスクと、を備えてもよい。前記製造装置は、前記開口に向かう方向において前記第１辺及び前記第２辺を押圧する押圧機構と、前記第１方向における前記第１辺及び前記第２辺の変形量を測定する変位測定機構と、前記マスクを前記第１辺及び前記第２辺に固定する固定装置と、を備えてもよい。前記押圧機構は、前記第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、前記第１辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、前記第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、前記第２辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、を含んでもよい。
本開示の実施形態によれば、フレームの第１辺及び第２辺の変形量を適切に調整できる。
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、「基板」や「基材」や「板」や「シート」や「フィルム」などのある構成の基礎となる物質を意味する用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待してもよい程度の範囲を含めて解釈することとする。
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に」や「下に」、「上側に」や「下側に」、又は「上方に」や「下方に」とする場合、ある構成が他の構成に直接的に接している場合を含む。さらに、ある構成と他の構成との間に別の構成が含まれている場合、つまり間接的に接している場合も含む。また、特別な説明が無い限りは、「上」や「上側」や「上方」、又は、「下」や「下側」や「下方」という語句は、上下方向が逆転してもよい。
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、本明細書の一実施形態は、矛盾の生じない範囲で、その他の実施形態と組み合わせられてもよい。また、その他の実施形態同士も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられてもよい。
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、製造方法などの方法に関して複数の工程を開示する場合に、開示されている工程の間に、開示されていないその他の工程が実施されてもよい。また、開示されている工程の順序は、矛盾の生じない範囲で任意である。
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、「～」という記号によって表現される数値範囲は、「～」という符号の前後に置かれた数値を含んでいる。例えば、「３４～３８質量％」という表現によって画定される数値範囲は、「３４質量％以上且つ３８質量％以下」という表現によって画定される数値範囲と同一である。
本明細書の一実施形態において、有機ＥＬ表示装置を製造する際に有機材料又は電極を所望のパターンで基板上にパターニングするために用いられるマスクやその製造方法に関した例をあげて説明する。ただし、このような適用に限定されることなく、種々の用途に用いられるマスクに対し、本実施形態を適用することができる。例えば、仮想現実いわゆるＶＲや拡張現実いわゆるＡＲを表現するための画像や映像を表示又は投影するための装置の電極を形成するために、本実施形態のマスクを用いてもよい。また、液晶表示装置の電極などの、有機ＥＬ表示装置以外の表示装置の電極を形成するために、本実施形態のマスクを用いてもよい。また、圧力センサの電極などの、表示装置以外の有機デバイスの電極を形成するために、本実施形態のマスクを用いてもよい。
本開示の第１の態様は、マスク装置の製造装置であって、
前記マスク装置は、開口を挟んで第１方向において対向する第１辺及び第２辺と、前記開口を挟んで前記第１方向に交差する第２方向において対向する第３辺及び第４辺と、を含むフレームと、第１辺及び第２辺に固定された端部を含むマスクと、を備え、
前記製造装置は、
前記開口に向かう方向において前記第１辺及び前記第２辺を押圧する押圧機構と、
前記第１方向における前記第１辺及び前記第２辺の変形量を測定する変位測定機構と、
前記マスクを前記第１辺及び前記第２辺に固定する固定装置と、を備え、
前記押圧機構は、前記第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、前記第１辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、前記第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、前記第２辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、を含む、製造装置である。
前記マスク装置は、開口を挟んで第１方向において対向する第１辺及び第２辺と、前記開口を挟んで前記第１方向に交差する第２方向において対向する第３辺及び第４辺と、を含むフレームと、第１辺及び第２辺に固定された端部を含むマスクと、を備え、
前記製造装置は、
前記開口に向かう方向において前記第１辺及び前記第２辺を押圧する押圧機構と、
前記第１方向における前記第１辺及び前記第２辺の変形量を測定する変位測定機構と、
前記マスクを前記第１辺及び前記第２辺に固定する固定装置と、を備え、
前記押圧機構は、前記第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、前記第１辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、前記第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、前記第２辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、を含む、製造装置である。
本開示の第２の態様は、上述した第１の態様による製造装置において、前記変位測定機構は、前記第１辺の前記変形量を測定する少なくとも１つの変位計を含んでもよく、前記変位計は、前記第１辺に接触するセンサヘッドを含んでもよい。
本開示の第３の態様は、上述した第２の態様による製造装置において、前記変位計は、前記第２方向において前記押圧装置から１００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定してもよい。
本開示の第４の態様は、上述した第２の態様又は第３の態様による製造装置において、前記変位測定機構は、前記第２方向において前記押圧装置から１００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定する５つ以上の前記変位計と、前記第２方向において前記第３辺の外側面から２００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定する第１補助変位計と、前記第２方向において前記第４辺の外側面から２００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定する第２補助変位計と、を含んでもよい。
本開示の第５の態様は、上述した第４の態様による製造装置において、前記第１補助変位計と前記第２補助変位計との間の、前記第２方向における距離が、１３００ｍｍ以上であってもよい。
本開示の第６の態様は、上述した第１の態様～第５の態様のいずれか１つによる製造装置において、前記第１辺を押圧する前記押圧装置と、前記第２辺を押圧する前記押圧装置との間の、前記第１方向における距離が、１３００ｍｍ以上であってもよい。
本開示の第７の態様は、上述した第１の態様～第５の態様のいずれか１つによる製造装置において、前記マスク装置は、第２方向に沿って並ぶＮ枚（Ｎは２以上の整数）の前記マスクを備えてもよく、前記製造装置は、前記押圧機構を制御する制御装置を備えてもよく、前記押圧機構は、各マスクが前記第１辺に固定される時の前記変形量と目標変形量との差が第１閾値以下になるよう、前記第１辺及び前記第２辺を押圧してもよい。
本開示の第８の態様は、上述した第７の態様による製造装置において、前記固定装置は、前記第２方向における前記フレームの中心から遠い順に前記マスクを前記第１辺及び前記第２辺に固定してもよく、前記第１辺を押圧する前記押圧機構は、１つ又は２つの前記押圧装置を含む中央グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第３辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第１グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第４辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第２グループと、を備えてもよく、前記中央グループの前記押圧装置は、１枚目の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力（１）を加えてもよく、前記中央グループの前記押圧装置は、Ｕ枚目（Ｕは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力（Ｕ）を加えてもよく、前記第１押圧力（１）に対する前記第１押圧力（Ｕ）の比率が１．０５以上であってもよい。
本開示の第９の態様は、上述した第７の態様による製造装置において、前記固定装置は、前記第２方向における前記フレームの中心から近い順に前記マスクを前記第１辺及び前記第２辺に固定してもよく、前記第１辺を押圧する前記押圧機構は、１つ又は２つの前記押圧装置を含む中央グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第３辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第１グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第４辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第２グループと、を備えてもよく、前記第２グループに属し、前記第４辺に最も近い前記押圧装置は、１枚目の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力（１）を加えてもよく、前記第２グループに属し、前記第４辺に最も近い前記押圧装置は、Ｕ枚目（Ｕは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力（Ｕ）を加えてもよく、前記第１押圧力（１）に対する前記第１押圧力（Ｕ）の比率が１．０５以上であってもよい。
本開示の第１０の態様は、上述した第８の態様又は第９の態様による製造装置において、前記制御装置は、下記の式が成立するよう前記押圧機構を制御してもよい。
Ｕ≧Ｎ／２
Ｕ≧Ｎ／２
本開示の第１１－１の態様は、コンピュータを上述した第７の態様～第１０の態様のいずれか１つによる前記製造装置の前記制御装置として機能させるためのプログラムである。
本開示の第１１－２の態様は、上述した第１１－１の態様によるプログラムが記録された、コンピュータが読み取り可能な非一過性の記録媒体である。
本開示の第１２の態様は、マスク装置の製造方法であって、
開口を挟んで第１方向において対向する第１辺及び第２辺と、前記開口を挟んで前記第１方向に交差する第２方向において対向する第３辺及び第４辺と、を含むフレームを準備する工程と、
前記開口に向かう方向において押圧機構が前記第１辺及び前記第２辺に加える第１押圧力を調整する調整工程と、
マスクの端部を第１辺及び第２辺に固定する固定工程と、を備え、
前記押圧機構は、前記第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、前記第１辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、前記第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、前記第２辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、を含む、製造方法である。
開口を挟んで第１方向において対向する第１辺及び第２辺と、前記開口を挟んで前記第１方向に交差する第２方向において対向する第３辺及び第４辺と、を含むフレームを準備する工程と、
前記開口に向かう方向において押圧機構が前記第１辺及び前記第２辺に加える第１押圧力を調整する調整工程と、
マスクの端部を第１辺及び第２辺に固定する固定工程と、を備え、
前記押圧機構は、前記第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、前記第１辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、前記第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、前記第２辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、を含む、製造方法である。
本開示の第１３の態様は、上述した第１２の態様による製造方法において、前記調整工程は、前記第１方向における前記第１辺及び前記第２辺の変形量を測定する変位測定機構からの情報に基づいて前記第１押圧力を調整してもよく、前記変位測定機構は、前記第１辺の前記変形量を測定する少なくとも１つの変位計を含んでもよく、前記変位計は、前記第１辺に接触するセンサヘッドを含んでもよい。
本開示の第１４の態様は、上述した第１３の態様による製造方法において、前記変位計は、前記第２方向において前記押圧装置から１００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定してもよい。
本開示の第１５の態様は、上述した第１３の態様又は第１４の態様による製造方法において、前記変位測定機構は、前記第２方向において前記押圧装置から１００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定する５つ以上の前記変位計と、前記第２方向において前記第３辺の外側面から２００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定する第１補助変位計と、前記第２方向において前記第４辺の外側面から２００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定する第２補助変位計と、を含んでもよい。
上述した第１５の態様において、前記第１補助変位計と前記第２補助変位計との間の、前記第２方向における距離が、１３００ｍｍ以上であってもよい。
上述した第１２の態様～第１５の態様において、前記第１辺を押圧する前記押圧装置と、前記第２辺を押圧する前記押圧装置との間の、前記第１方向における距離が、１３００ｍｍ以上であってもよい。
本開示の第１６の態様は、上述した第１１の態様～第１５の態様のいずれか１つによる製造方法において、前記マスク装置は、第２方向に沿って並ぶＮ枚（Ｎは２以上の整数）の前記マスクを備えてもよく、前記調整工程は、各マスクが前記第１辺に固定される時の前記第１辺の変形量と目標変形量との差が第１閾値以下になるよう、前記第１押圧力を調整してもよい。
本開示の第１７の態様は、上述した第１６の態様による製造方法において、前記固定工程は、前記第２方向における前記フレームの中心から遠い順に前記マスクを前記第１辺及び前記第２辺に固定してもよく、前記第１辺を押圧する前記押圧機構は、１つ又は２つの前記押圧装置を含む中央グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第３辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第１グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第４辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第２グループと、を備えてもよく、前記中央グループの前記押圧装置は、１枚目の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力８１）を加えてもよく、前記中央グループの前記押圧装置は、Ｕ枚目（Ｕは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力（Ｕ）を加えてもよく、前記第１押圧力（１）に対する前記第１押圧力（Ｕ）の比率が１．０５以上であってもよい。
本開示の第１８の態様は、上述した第１６の態様による製造方法において、前記固定工程は、前記第２方向における前記フレームの中心から近い順に前記マスクを前記第１辺及び前記第２辺に固定してもよく、前記第１辺を押圧する前記押圧機構は、１つ又は２つの前記押圧装置を含む中央グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第３辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第１グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第４辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第２グループと、を備えてもよく、前記第２グループに属し、前記第４辺に最も近い前記押圧装置は、１枚目の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力（１）を加えてもよく、前記第２グループに属し、前記第４辺に最も近い前記押圧装置は、Ｕ枚目（Ｕは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力（Ｕ）を加えてもよく、前記第１押圧力（１）に対する前記第１押圧力（Ｕ）の比率が１．０５以上であってもよい。
本開示の第１９の態様は、上述した第１７の態様又は第１８の態様による製造方法において、前記調整工程は、下記の式が成立するよう前記第１押圧力を調整してもよい。
Ｕ≧Ｎ／２
Ｕ≧Ｎ／２
本開示の第２０の態様は、マスク装置であって、
開口を挟んで第１方向において対向する第１辺及び第２辺と、前記開口を挟んで前記第１方向に交差する第２方向において対向する第３辺及び第４辺と、を含むフレームと、
第１辺及び第２辺に固定された端部を含み、第２方向に沿って並ぶＮ枚（Ｎは２以上の整数）のマスクと、を備え、
前記第１辺及び前記第２辺は、前記開口に向かって撓むように、前記第２方向において最終変形量で変形しており、
前記第２方向における前記フレームの中心から近い順に前記マスクを前記フレームから外す除去工程と、前記除去工程の後、前記第１辺及び前記第２辺が前記第２方向において最終変形量で変形するように、前記開口に向かう方向において押圧機構が前記第１辺及び前記第２辺に加える第２押圧力を調整する逆調整工程と、を交互に実施した場合、第２押圧力（Ｎ）に対する第２押圧力（Ｑ）の比率が１．０５以上であり、
前記第１辺を押圧する前記押圧機構は、前記第１辺を押圧する１つ又は２つの押圧装置を含む中央グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第３辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第１グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第４辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第２グループと、を備え、
前記第２押圧力（Ｑ）は、前記中央グループの前記押圧装置が、Ｑ枚目（Ｑは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の前記マスクが前記フレームから外された後に前記第１辺に加える押圧力であり、
記第２押圧力（Ｎ）は、前記中央グループの前記押圧装置が、Ｎ枚目の前記マスクが前記フレームから外された後に前記第１辺に加える押圧力である、
マスク装置である。
開口を挟んで第１方向において対向する第１辺及び第２辺と、前記開口を挟んで前記第１方向に交差する第２方向において対向する第３辺及び第４辺と、を含むフレームと、
第１辺及び第２辺に固定された端部を含み、第２方向に沿って並ぶＮ枚（Ｎは２以上の整数）のマスクと、を備え、
前記第１辺及び前記第２辺は、前記開口に向かって撓むように、前記第２方向において最終変形量で変形しており、
前記第２方向における前記フレームの中心から近い順に前記マスクを前記フレームから外す除去工程と、前記除去工程の後、前記第１辺及び前記第２辺が前記第２方向において最終変形量で変形するように、前記開口に向かう方向において押圧機構が前記第１辺及び前記第２辺に加える第２押圧力を調整する逆調整工程と、を交互に実施した場合、第２押圧力（Ｎ）に対する第２押圧力（Ｑ）の比率が１．０５以上であり、
前記第１辺を押圧する前記押圧機構は、前記第１辺を押圧する１つ又は２つの押圧装置を含む中央グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第３辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第１グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第４辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第２グループと、を備え、
前記第２押圧力（Ｑ）は、前記中央グループの前記押圧装置が、Ｑ枚目（Ｑは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の前記マスクが前記フレームから外された後に前記第１辺に加える押圧力であり、
記第２押圧力（Ｎ）は、前記中央グループの前記押圧装置が、Ｎ枚目の前記マスクが前記フレームから外された後に前記第１辺に加える押圧力である、
マスク装置である。
本開示の第２１の態様は、マスク装置であって、
開口を挟んで第１方向において対向する第１辺及び第２辺と、前記開口を挟んで前記第１方向に交差する第２方向において対向する第３辺及び第４辺と、を含むフレームと、
第１辺及び第２辺に固定された端部を含み、第２方向に沿って並ぶＮ枚（Ｎは２以上の整数）のマスクと、を備え、
前記第１辺及び前記第２辺は、前記開口に向かって撓むように、前記第２方向において最終変形量で変形しており、
前記第２方向における前記フレームの中心から遠い順に前記マスクを前記フレームから外す除去工程と、前記除去工程の後、前記第１辺及び前記第２辺が前記第２方向において最終変形量で変形するように、前記開口に向かう方向において押圧機構が前記第１辺及び前記第２辺に加える第２押圧力を調整する逆調整工程と、を交互に実施した場合、第２押圧力（Ｎ）に対する第２押圧力（Ｑ）の比率が１．０５以上であり、
前記第１辺を押圧する前記押圧機構は、前記第１辺を押圧する１つ又は２つの押圧装置を含む中央グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第３辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第１グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第４辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第２グループと、を備え、
前記第２押圧力（Ｑ）は、前記第２グループに属し、前記第４辺に最も近い前記押圧装置が、Ｑ枚目（Ｑは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の前記マスクが前記フレームから外された後に前記第１辺に加える押圧力であり、
前記第２押圧力（Ｎ）は、前記第２グループに属し、前記第４辺に最も近い前記押圧装置が、Ｎ枚目の前記マスクが前記フレームから外された後に前記第１辺に加える押圧力である、
マスク装置である。
開口を挟んで第１方向において対向する第１辺及び第２辺と、前記開口を挟んで前記第１方向に交差する第２方向において対向する第３辺及び第４辺と、を含むフレームと、
第１辺及び第２辺に固定された端部を含み、第２方向に沿って並ぶＮ枚（Ｎは２以上の整数）のマスクと、を備え、
前記第１辺及び前記第２辺は、前記開口に向かって撓むように、前記第２方向において最終変形量で変形しており、
前記第２方向における前記フレームの中心から遠い順に前記マスクを前記フレームから外す除去工程と、前記除去工程の後、前記第１辺及び前記第２辺が前記第２方向において最終変形量で変形するように、前記開口に向かう方向において押圧機構が前記第１辺及び前記第２辺に加える第２押圧力を調整する逆調整工程と、を交互に実施した場合、第２押圧力（Ｎ）に対する第２押圧力（Ｑ）の比率が１．０５以上であり、
前記第１辺を押圧する前記押圧機構は、前記第１辺を押圧する１つ又は２つの押圧装置を含む中央グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第３辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第１グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第４辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第２グループと、を備え、
前記第２押圧力（Ｑ）は、前記第２グループに属し、前記第４辺に最も近い前記押圧装置が、Ｑ枚目（Ｑは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の前記マスクが前記フレームから外された後に前記第１辺に加える押圧力であり、
前記第２押圧力（Ｎ）は、前記第２グループに属し、前記第４辺に最も近い前記押圧装置が、Ｎ枚目の前記マスクが前記フレームから外された後に前記第１辺に加える押圧力である、
マスク装置である。
本開示の第２２の態様は、上述した第２１の態様又は第２２の態様によるマスク装置において、下記の式が成立してもよい。
Ｑ≦Ｎ／２
Ｑ≦Ｎ／２
本開示の第１の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態のみに限定して解釈されるものではない。
マスクを用いることにより形成される要素を備える有機デバイス１００について説明する。図１は、有機デバイス１００の一例を示す断面図である。
有機デバイス１００は、第１面１１１及び第２面１１２を含む基板１１０と、基板１１０の第１面１１１に位置する複数の素子１１５と、を含む。素子１１５は、例えば画素である。素子１１５は、第１面１１１の面内方向に沿って並んでいてもよい。基板１１０は、２以上の種類の素子１１５を含んでもよい。例えば、基板１１０は、第１素子１１５Ａ及び第２素子１１５Ｂを含んでもよい。図示はしないが、基板１１０は、第３素子を含んでいてもよい。第１素子１１５Ａ、第２素子１１５Ｂ及び第３素子は、例えば、赤色画素、青色画素及び緑色画素である。
素子１１５は、第１電極１２０と、第１電極１２０上に位置する有機層１３０と、有機層１３０上に位置する第２電極１４０と、を含んでもよい。マスクを用いることにより形成される要素は、有機層１３０であってもよく、第２電極１４０であってもよい。マスクを用いることにより形成される要素のことを、蒸着層とも称する。
有機デバイス１００は、平面視において隣り合う２つの第１電極１２０の間に位置する絶縁層１６０を備えていてもよい。絶縁層１６０は、例えばポリイミドを含んでいる。絶縁層１６０は、平面視において第１電極１２０の端に重なっていてもよい。
有機デバイス１００は、アクティブ・マトリクス型であってもよい。例えば、図示はしないが、有機デバイス１００は、複数の素子１１５のそれぞれに電気的に接続されているスイッチを備えていてもよい。スイッチは、例えばトランジスタである。スイッチは、対応する素子１１５に対する電圧又は電流のＯＮ／ＯＦＦを制御することができる。
基板１１０は、絶縁性を有する板状の部材であってもよい。基板１１０は、好ましくは、光を透過させる透明性を有する。基板１１０の材料としては、例えば、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のないリジッド材、あるいは、樹脂フィルム、光学用樹脂板、薄ガラス等の可撓性を有するフレキシブル材等を用いることができる。また、基材は、樹脂フィルムの片面または両面にバリア層を有する積層体であってもよい。
素子１１５は、第１電極１２０と第２電極１４０との間に電圧が印加されることにより、又は、第１電極１２０と第２電極１４０との間に電流が流れることにより、何らかの機能を実現するよう構成されている。例えば、素子１１５が、有機ＥＬ表示装置の画素である場合、素子１１５は、映像を構成する光を放出できる。
第１電極１２０は、導電性を有する材料を含む。例えば、第１電極１２０は、金属、導電性を有する金属酸化物や、その他の導電性を有する無機材料などを含む。第１電極１２０は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などの、透明性及び導電性を有する金属酸化物を含んでもよい。
有機層１３０は、有機材料を含む。有機層１３０に電流が流れると、有機層１３０は、何らかの機能を発揮することができる。有機層１３０としては、電流により光を放出する発光層などを用いることができる。有機層１３０は、有機半導体材料を含んでもよい。有機層１３０の透過率、屈折率などの特性は、適宜調整されていてもよい。
図１に示すように、有機層１３０は、第１有機層１３０Ａ及び第２有機層１３０Ｂを含んでもよい。第１有機層１３０Ａは、第１素子１１５Ａに含まれる。第２有機層１３０Ｂは、第２素子１１５Ｂに含まれる。図示はしないが、有機層１３０は、第３素子に含まれる第３有機層を含んでもよい。第１有機層１３０Ａ、第２有機層１３０Ｂ及び第３有機層は、例えば、赤色発光層、青色発光層及び緑色発光層である。
第１電極１２０と第２電極１４０との間に電圧を印加すると、有機層１３０に電流が流れる。有機層１３０が発光層である場合、有機層１３０から光が放出され、光が第２電極１４０側又は第１電極１２０側から外部へ取り出される。
有機層１３０は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層、電荷発生層などを更に含んでもよい。
第２電極１４０は、金属などの、導電性を有する材料を含む。第２電極１４０は、マスクを用いる蒸着法によって有機層１３０の上に形成される。第２電極１４０を構成する材料としては、白金、金、銀、銅、鉄、錫、クロム、アルミニウム、インジウム、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、炭素等を用いることができる。これらの材料は、単独で用いても、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を用いる場合には、各材料からなる層を積層してもよい。また、２種類以上の材料を含む合金を用いてもよい。例えば、ＭｇＡｇ等のマグネシウム合金、ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等のアルミニウム合金を用いることができる。ＭｇＡｇのことを、マグネシウム銀とも称する。マグネシウム銀は、第２電極１４０の材料として好ましく用いられる。アルカリ金属類およびアルカリ土類金属類の合金等を用いてもよい。例えば、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム等を用いてもよい。
第２電極１４０は、共通電極であってもよい。例えば、１つの素子１１５の第２電極１４０が、その他の素子１１５の第２電極１４０に電気的に接続されていてもよい。
第２電極１４０は、１つの層から構成されていてもよい。例えば、第２電極１４０は、１つのマスクを用いる蒸着工程によって形成される層であってもよい。
若しくは、図１に示すように、第２電極１４０は、第１層１４０Ａ及び第２層１４０Ｂを含んでいてもよい。第１層１４０Ａは、第１のマスクを用いる蒸着工程によって形成される層であってもよい。第２層１４０Ｂは、第２のマスクを用いる蒸着工程によって形成される層であってもよい。このように、２つ以上のマスクを用いて第２電極１４０を形成してもよい。これにより、平面視における第２電極１４０のパターンの自由度が高くなる。例えば、有機デバイス１００は、平面視において第２電極１４０が存在しない領域を含むことができる。第２電極１４０が存在しない領域は、第２電極１４０が存在する領域に比べて高い透過率を有することができる。
図１に示すように、第１層１４０Ａの端部と第２層１４０Ｂの端部とが部分的に重なっていてもよい。これにより、第１層１４０Ａと第２層１４０Ｂとを電気的に接続できる。
図示はしないが、第２電極１４０は、第３層などのその他の層を含んでもよい。第３層などのその他の層は、第１層１４０Ａ及び第２層１４０Ｂに電気的に接続されていてもよい。
以下の説明において、第２電極１４０の構成のうち、第１層１４０Ａ、第２層１４０Ｂ、第３層などに共通する構成を説明する場合には、「第２電極１４０」という用語及び符号を用いる。
有機デバイス１００の製造方法においては、図２に示すような有機デバイス群１０２が作製されてもよい。有機デバイス群１０２は、２つ以上の有機デバイス１００を含む。例えば、有機デバイス群１０２は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に並ぶ有機デバイス１００を含んでもよい。第２方向Ｄ２は、第１方向Ｄ１に交差する方向である。第２方向Ｄ２は、第１方向Ｄ１に直交していてもよい。２つ以上の有機デバイス１００において、共通の１枚の基板１１０が用いられてもよい。例えば、有機デバイス群１０２は、１枚の基板１１０の上に位置し、２つ以上の有機デバイス１００を構成する第１電極１２０、有機層１３０、第２電極１４０などの層を含んでもよい。有機デバイス群１０２を分割することにより、有機デバイス１００が得られる。
第１方向Ｄ１は、後述するように、有機デバイス１００を製造するために用いられるマスク５０が延びる方向であってもよい。
第１方向Ｄ１における有機デバイス１００の寸法Ａ１は、例えば、１０ｍｍ以上でもよく、３０ｍｍ以上でもよく、１００ｍｍ以上でもよい。寸法Ａ１は、例えば、２００ｍｍ以下でもよく、５００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以下でもよい。寸法Ａ１の範囲は、１０ｍｍ、３０ｍｍ及び１００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、２００ｍｍ、５００ｍｍ及び１０００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ａ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ａ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ａ１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ａ１は、１０ｍｍ以上１０００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上３０ｍｍ以下でもよく、３０ｍｍ以上１０００ｍｍ以下でもよく、３０ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、３０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、３０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、５００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下でもよい。
第２方向Ｄ２における有機デバイス１００の寸法Ａ２は、例えば、１０ｍｍ以上でもよく、２０ｍｍ以上でもよく、５０ｍｍ以上でもよい。寸法Ａ２は、例えば、１００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以下でもよく、５００ｍｍ以下でもよい。寸法Ａ２の範囲は、１０ｍｍ、２０ｍｍ及び５０ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１００ｍｍ、２００ｍｍ及び５００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ａ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ａ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ａ２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ａ２は、１０ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよい。
有機デバイス群１０２は、複数の有機デバイス１００が位置するデバイス領域１０３を含む。デバイス領域１０３は、第１方向Ｄ１において寸法Ｇ１２を有し、第２方向Ｄ２において寸法Ｇ２２を有する。
基板１１０を大型化することにより、デバイス領域１０３の寸法Ｇ１２及びＧ２２を大きくできる。これにより、１枚の基板１１０の上に形成される有機デバイス１００の数が増加する。これにより、有機デバイス１００の製造コストを低減できる。
第１方向Ｄ１における基板１１０の寸法Ｇ１１は、例えば、１０００ｍｍ以上でもよく、１２００ｍｍ以上でもよく、１３００ｍｍ以上でもよく、２１００ｍｍ以上でもよい。寸法Ｇ１１は、例えば、１２００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以下でもよく、１９００ｍｍ以下でもよく、２１００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以下でもよい。寸法Ｇ１１の範囲は、１０００ｍｍ、１２００ｍｍ、１３００ｍｍ及び２１００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１２００ｍｍ、１３００ｍｍ、１９００ｍｍ、２１００ｍｍ及び２３００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｇ１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｇ１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｇ１１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ｇ１１は、１０００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１９００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１９００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上１９００ｍｍ以下でもよく、１９００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１９００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、２１００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよい。
第２方向Ｄ２における基板１１０の寸法Ｇ２１は、例えば、１２００ｍｍ以上でもよく、１３００ｍｍ以上でもよく、１５００ｍｍ以上でもよく、２０００ｍｍ以上でもよく、２４００ｍｍ以上でもよい。寸法Ｇ２１は、例えば、１３００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以下でもよく、２４００ｍｍ以下でもよく、２６００ｍｍ以下でもよい。寸法Ｇ２１の範囲は、１２００ｍｍ、１３００ｍｍ、１５００ｍｍ、２０００ｍｍ及び２４００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１３００ｍｍ、２３００ｍｍ、２４００ｍｍ及び２６００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｇ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｇ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｇ２１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ｇ２１は、１２００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、２０００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、２４００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよい。
寸法Ｇ１１の特定の数値範囲と、寸法Ｇ２１の特定の数値範囲とが組み合わされてもよい。例えば、寸法Ｇ１１が１０００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下であり、寸法Ｇ２１が１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下であってもよい。例えば、寸法Ｇ１１が１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下であり、寸法Ｇ２１が２０００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下であってもよい。例えば、寸法Ｇ１１が２１００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下であり、寸法Ｇ２１が２４００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下であってもよい。
次に、有機層１３０、第２電極１４０などの要素を蒸着法によって形成する方法について説明する。図３は、蒸着装置１０を示す図である。蒸着装置１０は、基板１１０に蒸着材料を蒸着させる蒸着処理を実施する。
図３に示すように、蒸着装置１０は、その内部に、蒸着源６、ヒータ８、及びマスク装置１５を備えてもよい。蒸着装置１０は、蒸着装置１０の内部を真空雰囲気にするための排気手段を備えてもよい。蒸着源６は、例えばるつぼである。蒸着源６は、有機材料、金属材料などの蒸着材料７を収容する。ヒータ８は、蒸着源６を加熱することにより、真空雰囲気の下で蒸着材料７を蒸発させる。
図３に示すように、マスク装置１５は、少なくとも１つのマスク５０を備える。マスク装置１５は、マスク５０を支持するフレーム４０を備えてもよい。フレーム４０は、開口４５を含む。マスク５０は、平面視において開口４５を横切るようにフレーム４０に固定されていてもよい。フレーム４０は、マスク５０が固定されている第１フレーム面４０１と、第１フレーム面４０１の反対側に位置する第２フレーム面４０２と、を含んでもよい。フレーム４０は、マスク５０が撓むことを抑制するように、マスク５０をその面方向に引っ張った状態で支持していてもよい。
マスク装置１５は、図３に示すように、基板１１０の第１面１１１にマスク５０が対面するよう、蒸着装置１０内に配置されている。マスク５０は、蒸着源６から飛来した蒸着材料７を通過させる複数の貫通孔５６を含む。以下の説明において、基板１１０に面するマスク５０の面を第１面５５１と称する。第１面５５１の反対側に位置するマスク５０の面を第２面５５２と称する。
蒸着装置１０は、図３に示すように、基板１１０を保持する基板ホルダ２を備えてもよい。基板ホルダ２は、基板１１０の厚み方向において移動可能であってもよい。基板ホルダ２は、基板１１０の面方向において移動可能であってもよい。基板ホルダ２は、基板１１０の傾きを制御するよう構成されていてもよい。例えば、基板ホルダ２は、基板１１０の外縁に取り付けられた複数のチャックを含んでもよい。各チャックは、基板１１０の厚み方向や面方向において独立に移動可能であってもよい。
蒸着装置１０は、図３に示すように、マスク装置１５を保持するマスクホルダ３を備えてもよい。マスクホルダ３は、移動可能であってもよい。
基板ホルダ２又はマスクホルダ３の少なくともいずれか一方を移動させることにより、基板１１０に対するマスク５０の位置を調整できる。
蒸着装置１０は、冷却板４を備えてもよい。冷却板４は、図３に示すように、基板１１０の第２面１１２側に配置されていてもよい。冷却板４は、冷却板４の内部に冷媒を循環させるための流路を有してもよい。冷却板４は、蒸着工程の際に基板１１０の温度が上昇することを抑制できる。
蒸着装置１０は、磁石５を備えてもよい。磁石５は、図３に示すように、基板１１０の第２面１１２側に配置されていてもよい。磁石５は、基板１１０から遠い冷却板４の面に配置されていてもよい。磁石５は、磁力によってマスク５０を基板１１０側に引き寄せることができる。これにより、マスク５０と基板１１０との間の隙間を低減したり、隙間をなくしたりできる。このことにより、蒸着工程においてシャドーが発生することを抑制できる。シャドーとは、マスク５０と基板１１０との間の隙間に蒸着材料７が入り込み、これによって蒸着層の形状が不均一になる現象のことである。蒸着層の形状は、蒸着層の厚み、平面視における蒸着層の寸法などである。静電気力を利用する静電チャックを用いてマスク５０を基板１１０側に引き寄せてもよい。
図４は、マスク装置１５を第１面５５１側から見た場合を示す平面図である。マスク装置１５は、フレーム４０と、フレーム４０に固定されたマスク５０と、を備えてもよい。フレーム４０は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に延びる矩形の輪郭を有していてもよい。フレーム４０は、第１方向Ｄ１においてマスク５０に張力を加えた状態でマスク５０を支持してもよい。
フレーム４０は、第１辺４１、第２辺４２、第３辺４３、第４辺４４及び開口４５を含む。第１辺４１及び第２辺４２は、開口４５を挟んで第１方向Ｄ１において対向している。第１辺４１及び第２辺４２は、第２方向Ｄ２に延びていてもよい。第３辺４３及び第４辺４４は、開口４５を挟んで第２方向Ｄ２において対向している。第３辺４３及び第４辺４４は、第１方向Ｄ１に延びていてもよい。第１辺４１及び第４辺４４が、第３辺４３及び第４辺４４よりも長くてもよい。開口４５は、第１辺４１と側面４２の間、及び第３辺４３と第４辺４４の間に位置している。
第１辺４１は、外側面４１ａ及び内側面４１ｂを含む。第２辺４２は、外側面４２ａ及び内側面４２ｂを含む。第３辺４３は、外側面４３ａ及び内側面４３ｂを含む。第４辺４４は、外側面４４ａ及び内側面４４ｂを含む。内側面４１ｂ、４２ｂ、４３ｂ、４４ｂは、開口４５に面している。外側面４１ａ、４２ａは、第１方向Ｄ１において内側面４１ｂ、４２ｂの反対側に位置する。外側面４３ａ、４４ａは、第２方向Ｄ２において内側面４３ｂ、４４ｂの反対側に位置する。フレーム４０は、２つの辺の外側面が交わる角４６を含む。
フレーム４０は、第１方向Ｄ１において寸法Ｅ１１を有する。寸法Ｅ１１は、例えば、１０００ｍｍ以上でもよく、１２００ｍｍ以上でもよく、１３００ｍｍ以上でもよく、２１００ｍｍ以上でもよい。寸法Ｅ１１は、例えば、１２００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以下でもよく、１９００ｍｍ以下でもよく、２１００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以下でもよい。寸法Ｅ１１の範囲は、１０００ｍｍ、１２００ｍｍ、１３００ｍｍ及び２１００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１２００ｍｍ、１３００ｍｍ、１９００ｍｍ、２１００ｍｍ及び２３００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｅ１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｅ１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｅ１１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ｅ１１は、１０００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１９００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１９００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上１９００ｍｍ以下でもよく、１９００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１９００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、２１００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよい。
フレーム４０は、第２方向Ｄ２において寸法Ｅ２１を有する。寸法Ｅ２１は、寸法Ｅ１１よりも大きくてもよい。寸法Ｅ２１は、例えば、１２００ｍｍ以上でもよく、１３００ｍｍ以上でもよく、１５００ｍｍ以上でもよく、２０００ｍｍ以上でもよく、２４００ｍｍ以上でもよい。寸法Ｅ２１は、例えば、１３００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以下でもよく、２４００ｍｍ以下でもよく、２６００ｍｍ以下でもよい。寸法Ｅ２１の範囲は、１２００ｍｍ、１３００ｍｍ、１５００ｍｍ、２０００ｍｍ及び２４００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１３００ｍｍ、２３００ｍｍ、２４００ｍｍ及び２６００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｅ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｅ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｅ２１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ｅ２１は、１２００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、２０００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、２４００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよい。
寸法Ｅ１１に対する寸法Ｅ２１の比は、例えば、１．１以上でもよく、１．２以上でもよく、１．３以上でもよい。寸法Ｅ１１に対する寸法Ｅ２１の比は、例えば、１．５以下でもよく、１．７以下でもよく、２．０以下でもよい。寸法Ｅ１１に対する寸法Ｅ２１の比の範囲は、１．１、１．２及び１．３からなる第１グループ、及び／又は、１．５、１．７及び２．０からなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｅ１１に対する寸法Ｅ２１の比の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｅ１１に対する寸法Ｅ２１の比の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｅ１１に対する寸法Ｅ２１の比の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ｅ１１に対する寸法Ｅ２１の比は、１．１以上２．０以下でもよく、１．１以上１．７以下でもよく、１．１以上１．５以下でもよく、１．１以上１．３以下でもよく、１．１以上１．２以下でもよく、１．２以上２．０以下でもよく、１．２以上１．７以下でもよく、１．２以上１．５以下でもよく、１．２以上１．３以下でもよく、１．３以上２．０以下でもよく、１．３以上１．７以下でもよく、１．３以上１．５以下でもよく、１．５以上２．０以下でもよく、１．５以上１．７以下でもよく、１．７以上２．０以下でもよい。
寸法Ｅ１１の特定の数値範囲と、寸法Ｅ２１の特定の数値範囲とが組み合わされてもよい。例えば、寸法Ｅ１１が１０００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下であり、寸法Ｅ２１が１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下であってもよい。例えば、寸法Ｅ１１が１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下であり、寸法Ｅ２１が２０００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下であってもよい。例えば、寸法Ｅ１１が２１００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下であり、寸法Ｅ２１が２４００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下であってもよい。
開口４５は、第１方向Ｄ１において寸法Ｅ１２を有し、第２方向Ｄ２において寸法Ｅ２２を有する。フレーム４０の寸法を大きくすることにより、開口４５の寸法を大きくできる。開口４５の寸法を大きくすることにより、平面視において開口４５に重なるマスク５０の面積を大きくできる。これにより、１枚の基板１１０の上に形成される有機デバイス１００の数が増加する。これにより、有機デバイス１００の製造コストを低減できる。「平面視」とは、マスク５０の厚み方向に沿って対象物を見ることを意味する。
マスク５０は、第１辺４１及び第２辺４２に固定されている。平面視において、マスク５０は、第１辺４１及び第２辺４２に固定されている一対の端部５１と、一対の端部５１の間に位置する中間部５２と、を含む。一対の端部５１は、第１方向Ｄ１において対向している。中間部５２は、平面視において開口４５に重なっている。中間部５２は、貫通孔群５３を含む。
マスク装置１５は、第２方向に沿って並ぶＮ枚のマスク５０を備えてもよい。Ｎは、２以上の整数である。Ｎは、偶数であってもよい。図４に示すマスク装置１５は、１０枚のマスク５０を備える。後述するように、Ｎは、奇数であってもよい。
マスク５０は、中央マスクグループ５０Ｃ、第１マスクグループ５０Ａ及び第２マスクグループ５０Ｂを含んでもよい。中央マスクグループ５０Ｃ、第１マスクグループ５０Ａ及び第２マスクグループ５０Ｂはそれぞれ、マスク５０を含む。図４に示すように、第１マスクグループ５０Ａは、第２方向Ｄ２において中央マスクグループ５０Ｃと第３辺４３との間に位置する。図４に示すように、第２マスクグループ５０Ｂは、第２方向Ｄ２において中央マスクグループ５０Ｃと第４辺４４との間に位置する。
中央マスクグループ５０Ｃは、１枚又は２枚のマスク５０を含む。Ｎが偶数である場合、中央マスクグループ５０Ｃは、２枚のマスク５０を含んでもよい。Ｎが奇数である場合、中央マスクグループ５０Ｃは、１枚のマスク５０を含んでもよい。図４に示す中央マスクグループ５０Ｃは、第１１マスク５０Ａ１及び第１２マスク５０Ａ２を含む。第１１マスク５０Ａ１は、第２中心線Ｌｃ２と第３辺４３との間に位置してもよい。第１２マスク５０Ａ２は、第２中心線Ｌｃ２と第４辺４４との間に位置してもよい。第２中心線Ｌｃ２は、第２方向Ｄ２における開口４５の中心を通り、第１方向Ｄ１に延びる仮想的な直線である。図示はしないが、第１１マスク５０Ａ１又は第１２マスク５０Ａ２が第２中心線Ｌｃ２に重なっていてもよい。
第１マスクグループ５０Ａは、１枚以上のマスク５０を含む。第１マスクグループ５０Ａは、２枚以上のマスク５０を含んでもよい。図４に示す第１マスクグループ５０Ａは、第３辺４３から第２中心線Ｌｃ２に向かう方向に順に並ぶ第１１マスク５０Ａ１、第１２マスク５０Ａ２、第１３マスク５０Ａ３及び第１４マスク５０Ａ４を含む。
第２マスクグループ５０Ｂは、１枚以上のマスク５０を含む。第２マスクグループ５０Ｂは、２枚以上のマスク５０を含んでもよい。第２マスクグループ５０Ｂに含まれるマスク５０の数は、第１マスクグループ５０Ａに含まれるマスク５０の数と同一であってもよい。図４に示す第２マスクグループ５０Ｂは、第４辺４４から第２中心線Ｌｃ２に向かう方向に順に並ぶ第２１マスク５０Ｂ１、第２２マスク５０Ｂ２、第２３マスク５０Ｂ３及び第２４マスク５０Ｂ４を含む。
図示はしないが、マスク装置１５は、平面視においてマスク５０に部分的に重なる部材を備えてもよい。部材は、開口４５を横切るようにフレーム４０の辺に固定されていてもよい。部材は、マスク５０の第２面５５２に接していてもよい。部材の一例は、第３辺４３及び第４辺４４に固定された一対の端部を含んでもよい。部材の一例は、第１辺４１及び第２辺４２に固定された一対の端部を含み、第２方向Ｄ２において隣り合う２枚のマスク５０の間の隙間に位置してもよい。
フレーム４０について詳細に説明する。第１辺４１及び第２辺４２は、第１方向Ｄ１においてマスク５０に張力を加えてもよい。例えば、第１辺４１及び第２辺４２は、開口４５に向かう方向に弾性的に変形していてもよい。
例えば、第１辺４１は、線Ｌ１１よりも内側に位置してもよい。線Ｌ１１は、変形する前の第１辺４１の外側面４１ａの位置を表す。符号ｄ１１は、第１方向Ｄ１における第１辺４１の変形量を表す。変形量ｄ１１は、第２中心線Ｌｃ２に近いほど大きくてもよい。線Ｌ１１は、第１辺４１の両端に位置する角４６を結ぶ直線として設定されてもよい。
例えば、第２辺４２は、線Ｌ１２よりも内側に位置してもよい。線Ｌ１２は、変形する前の第２辺４２の外側面４２ａの位置を表す。符号ｄ１２は、第１方向Ｄ１における第２辺４２の変形量を表す。変形量ｄ１２は、第２中心線Ｌｃ２に近いほど大きくてもよい。線Ｌ１２は、第２辺４２の両端に位置する角４６を結ぶ直線として設定されてもよい。
「内側」は、開口４５に向かう側を意味する。「外側」は、開口４５から遠ざかる側を意味する。
例えば、第１辺４１は、線Ｌ１１よりも内側に位置してもよい。線Ｌ１１は、変形する前の第１辺４１の外側面４１ａの位置を表す。符号ｄ１１は、第１方向Ｄ１における第１辺４１の変形量を表す。変形量ｄ１１は、第２中心線Ｌｃ２に近いほど大きくてもよい。線Ｌ１１は、第１辺４１の両端に位置する角４６を結ぶ直線として設定されてもよい。
例えば、第２辺４２は、線Ｌ１２よりも内側に位置してもよい。線Ｌ１２は、変形する前の第２辺４２の外側面４２ａの位置を表す。符号ｄ１２は、第１方向Ｄ１における第２辺４２の変形量を表す。変形量ｄ１２は、第２中心線Ｌｃ２に近いほど大きくてもよい。線Ｌ１２は、第２辺４２の両端に位置する角４６を結ぶ直線として設定されてもよい。
「内側」は、開口４５に向かう側を意味する。「外側」は、開口４５から遠ざかる側を意味する。
図５は、第１辺４１の一部を拡大して示す平面図である。第１辺４１が内側に弾性的に変形している場合、第１辺４１には、外側への復元力Ｆが生じている。同様に、第２辺４２にも外側への復元力が生じている。このため、マスク５０は、第１辺４１及び第２辺４２によって第１方向Ｄ１において外側へ引っ張られる。これにより、マスク５０に歪みや弛みが生じることを抑制できる。
以下の説明において、マスク５０に加えられている張力を、符号ＴＸＸで表すこともある。「ＸＸ」は、任意の文字又は数字である。例えば、第１４マスク５０Ａ４に加えられている張力は、ＴＡ４で表される。例えば、中央第１マスク５０Ｃ１に加えられている張力は、ＴＣ１で表される。
以下の説明において、マスク５０ＸＸの位置で第１辺４１に生じている復元力を、符号ＦＸＸで表すこともある。例えば、第１４マスク５０Ａ４の位置で第１辺４１に生じている復元力は、ＦＡ４で表される。例えば、中央第１マスク５０Ｃ１の位置で第１辺４１に生じている復元力は、ＦＣ１で表される。
以下の説明において、マスク５０ＸＸの位置における第１辺４１の変形量を、符号ｄＸＸで表すこともある。例えば、第１４マスク５０Ａ４の位置における第１辺４１の変形量は、符号ｄＡ４で表される。例えば、中央第１マスク５０Ｃ１の位置における第１辺４１の変形量は、符号ｄＣ１で表される。
第１辺４１及び第２辺４２は、マスク５０から反力を受ける。以下の説明において、第１辺４１がマスク５０ＸＸから受ける反力を、符号ＲＸＸで表すこともある。例えば、第１辺４１が第１４マスク５０Ａ４から受ける反力は、符号ＲＡ４で表される。例えば、第１辺４１が中央第１マスク５０Ｃ１から受ける反力は、符号ＲＣ１で表される。
以下の説明において、各マスクの共通の構成を説明する場合には、「マスク５０」という用語及び符号を用いることがある。また、張力、復元力、反力なに関して、各マスク５０に共通する特徴を説明する場合には、「張力Ｔ」、「復元力Ｆ」、「反力Ｒ」などの用語及び符号を用いることがある。
マスク５０は、固定部４７によって第１辺４１及び第２辺４２に固定されている。固定部４７は、例えば図５に示すように、溶接部４７ａを含む。溶接部４７ａは、マスク５０の一部とフレーム４０の一部とが互いに溶融することによって形成された部分である。溶接部４７ａは、例えば、フレーム４０の第１フレーム面４０１に重なるマスク５０の端部５１にレーザーを照射することによって形成される。固定部４７は、複数の溶接部４７ａを含んでもよい。溶接部４７ａは、平面視における第１辺４１の内縁に沿って並んでいてもよい。
第３辺４３及び第４辺４４について説明する。図４に示すように、第３辺４３及び第４辺４４は、弾性的に変形していなくてもよい。若しくは、第３辺４３及び第４辺４４は、弾性的に変形していてもよい。図６は、マスク装置１５の一例を示す平面図である。
図６に示すように、第３辺４３及び第４辺４４は、外側に弾性的に変形していてもよい。直線Ｌ２１は、変形する前の第３辺４３の外側面４３ａの位置を表す。直線Ｌ２２は、変形する前の第４辺４４の外側面４４ａの位置を表す。
フレーム４０の寸法について説明する。フレーム４０の寸法は、復元力Ｆを適切に生じさせるよう設定されている。第１辺４１は、幅Ｗ１を有する。幅Ｗ１は、第１方向Ｄ１における第１辺４１の寸法である。幅Ｗ１は、例えば、２０ｍｍ以上でもよく、６０ｍｍ以上でもよく、１００ｍｍ以上でもよい。幅Ｗ１は、例えば、１５０ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以下でもよく、２５０ｍｍ以下でもよい。幅Ｗ１の範囲は、２０ｍｍ、６０ｍｍ及び１００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１５０ｍｍ、２００ｍｍ及び２５０ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。幅Ｗ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。幅Ｗ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。幅Ｗ１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、幅Ｗ１は、２０ｍｍ以上２５０ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上６０ｍｍ以下でもよく、６０ｍｍ以上２５０ｍｍ以下でもよく、６０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、６０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下でもよく、６０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上２５０ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上１５０ｍｍ以下でもよく、１５０ｍｍ以上２５０ｍｍ以下でもよく、１５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上２５０ｍｍ以下でもよい。
第１辺４１は、断面積Ｂ１を有する。断面積Ｂ１は、第２方向Ｄ２に直交する平面で第１辺４１を切断した場合に算出される断面積である。断面積Ｂ１は、例えば、６００ｍｍ２以上でもよく、１８００ｍｍ２以上でもよく、３０００ｍｍ２以上でもよい。断面積Ｂ１は、例えば、４５００ｍｍ２以下でもよく、６０００ｍｍ２以下でもよく、７５００ｍｍ２以下でもよい。断面積Ｂ１の範囲は、６００ｍｍ２、１８００ｍｍ２及び３０００ｍｍ２からなる第１グループ、及び／又は、４５００ｍｍ２、６０００ｍｍ２及び７５００ｍｍ２からなる第２グループによって定められてもよい。断面積Ｂ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。断面積Ｂ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。断面積Ｂ１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、断面積Ｂ１は、６００ｍｍ２以上７５００ｍｍ２以下でもよく、６００ｍｍ２以上６０００ｍｍ２以下でもよく、６００ｍｍ２以上４５００ｍｍ２以下でもよく、６００ｍｍ２以上３０００ｍｍ２以下でもよく、６００ｍｍ２以上１８００ｍｍ２以下でもよく、１８００ｍｍ２以上７５００ｍｍ２以下でもよく、１８００ｍｍ２以上６０００ｍｍ２以下でもよく、１８００ｍｍ２以上４５００ｍｍ２以下でもよく、１８００ｍｍ２以上３０００ｍｍ２以下でもよく、３０００ｍｍ２以上７５００ｍｍ２以下でもよく、３０００ｍｍ２以上６０００ｍｍ２以下でもよく、３０００ｍｍ２以上４５００ｍｍ２以下でもよく、４５００ｍｍ２以上７５００ｍｍ２以下でもよく、４５００ｍｍ２以上６０００ｍｍ２以下でもよく、６０００ｍｍ２以上７５００ｍｍ２以下でもよい。
第２辺４２の幅、第３辺４３の幅及び第４辺４４の幅の数値の範囲としては、上述の幅Ｗ１の数値の範囲を採用できる。第２辺４２の断面積、第３辺４３の断面積及び第４辺４４の断面積の数値の範囲としては、上述の断面積Ｂ１の数値の範囲を採用できる。
マスク５０について詳細に説明する。図７は、マスク５０の一例を示す平面図である。平面視において、マスク５０は、第１方向Ｄ１に延びる第１側縁５０１及び第２側縁５０２と、第１端５０３及び第２端５０４と、を含んでもよい。第１端５０３及び第２端５０４は、第１方向Ｄ１におけるマスク５０の端である。
中間部５２の貫通孔群５３は、平面視において規則的に並ぶ複数の貫通孔５６を含む。貫通孔５６は、２つの方向において周期的に並んでいてもよい。例えば、貫通孔５６は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２において周期的に並んでいてもよい。
１つの貫通孔群５３は、１つの有機デバイス１００に対応する。例えば、１つの有機デバイス１００に含まれる複数の第１有機層１３０Ａは、１つの貫通孔群５３の複数の貫通孔５６を通った蒸着材料によって構成される。マスク５０は、少なくとも１つの貫通孔群５３を含む。マスク５０は、第１方向Ｄ１に並ぶ２つ以上の貫通孔群５３を含んでもよい。
マスク５０は、第１方向Ｄ１において寸法Ｍ１１を有する。寸法Ｍ１１は、例えば、６００ｍｍ以上でもよく、８００ｍｍ以上でもよく、１０００ｍｍ以上でもよい。寸法Ｍ１１は、例えば、１２００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以下でもよく、２０００ｍｍ以下でもよい。寸法Ｍ１１の範囲は、６００ｍｍ、８００ｍｍ及び１０００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１２００ｍｍ、１５００ｍｍ及び２０００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｍ１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｍ１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｍ１１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ｍ１１は、６００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下でもよく、６００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、６００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下でもよく、６００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下でもよく、６００ｍｍ以上８００ｍｍ以下でもよく、８００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下でもよく、８００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、８００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下でもよく、８００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下でもよい。
マスク５０は、第２方向Ｄ２において寸法Ｍ２１を有する。寸法Ｍ２１は、例えば、５０ｍｍ以上でもよく、１００ｍｍ以上でもよく、１５０ｍｍ以上でもよい。寸法Ｍ２１は、例えば、２００ｍｍ以下でもよく、３００ｍｍ以下でもよく、４１０ｍｍ以下でもよい。寸法Ｍ２１の範囲は、５０ｍｍ、１００ｍｍ及び１５０ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、２００ｍｍ、３００ｍｍ及び４１０ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｍ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｍ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｍ２１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ｍ２１は、５０ｍｍ以上４１０ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上４１０ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上３００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上１５０ｍｍ以下でもよく、１５０ｍｍ以上４１０ｍｍ以下でもよく、１５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下でもよく、１５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上４１０ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上３００ｍｍ以下でもよく、３００ｍｍ以上４１０ｍｍ以下でもよい。
次に、マスク５０の断面構造を説明する。図８は、マスク５０の一例を示す断面図である。
マスク５０は、基材５５と、基材５５を貫通する貫通孔５６と、を備える。基材５５は、第１面５５１及び第２面５５２を含む。貫通孔５６は、第１面５５１から第２面５５２へ基材５５を貫通している。
貫通孔５６は、第１凹部５６１と、第２凹部５６２と、第１凹部５６１と第２凹部５６２とを接続する接続部５６３と、を含んでもよい。第１凹部５６１は、第１面５５１に位置し、第２面５５２に向かって凹んだ凹部である。第２凹部５６２は、第２面５５２に位置し第１面５５１に向かって凹んだ凹部である。第１凹部５６１と第２凹部５６２が接続されることにより、貫通孔５６が構成される。第１凹部５６１は、基材５５を第１面５５１側からエッチングやレーザーなどによって加工することによって形成される。第２凹部５６２は、基材５５を第２面５５２側からエッチングやレーザーなどによって加工することによって形成される。
第１凹部５６１は、平面視において寸法ｒ１を有する。第２凹部５６２は、平面視において寸法ｒ２を有する。寸法ｒ２は、寸法ｒ１よりも大きくてもよい。例えば、平面視において第２凹部５６２の輪郭が第１凹部５６１の輪郭を囲んでいてもよい。
接続部５６３は、一周にわたって連続した輪郭を有してもよい。接続部５６３は、第１面５５１と第２面５５２の間に位置していてもよい。接続部５６３は、マスク５０の平面視において貫通孔５６の開口面積が最小になる貫通部５６４を画成していてもよい。
貫通部５６４の寸法ｒは、例えば、１０μｍ以上であってもよく、１５μｍ以上であってもよく、２０μｍ以上であってもよく、２５μｍ以上であってもよい。また、貫通部５６４の寸法ｒは、例えば、４０μｍ以下であってもよく、４５μｍ以下であってもよく、５０μｍ以下であってもよく、５５μｍ以下であってもよい。貫通部５６４の寸法ｒの範囲は、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ及び２５μｍからなる第１グループ、及び／又は、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍ及び５５μｍからなる第２グループによって定められてもよい。貫通部５６４の寸法ｒの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。貫通部５６４の寸法ｒの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。貫通部５６４の寸法ｒの範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、貫通部５６４の寸法ｒは、１０μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上４５μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上２５μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上４５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上４５μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上２５μｍ以下であってもよく、２５μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、２５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２５μｍ以上４５μｍ以下であってもよく、２５μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、４０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以上４５μｍ以下であってもよく、４５μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、４５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、５０μｍ以上５５μｍ以下であってもよい。
貫通部５６４の寸法ｒは、貫通孔５６を透過する光によって画定される。具体的には、マスク５０の法線方向に沿って平行光をマスク５０の第１面５５１又は第２面５５２の一方に入射させ、貫通孔５６を透過させて第１面５５１又は第２面５５２の他方から出射させる。出射した光がマスク５０の面方向において占める領域の寸法を、貫通部５６４の寸法ｒとして採用する。
図８においては、隣り合う二つの第２凹部５６２の間に基材５５の第２面５５２が残存している例を示したが、これに限られることはない。図示はしないが、隣り合う２つの第２凹部５６２が接続されるようにエッチングが実施されてもよい。すなわち、隣り合う２つの第２凹部５６２の間に、基材５５の第２面５５２が残存していない場所が存在していてもよい。
マスク５０及びフレーム４０の材料について説明する。マスク５０およびフレーム４０の主要な材料としては、ニッケルを含む鉄合金を用いることができる。鉄合金は、ニッケルに加えてコバルトを更に含んでいてもよい。例えば、マスク５０の基材５５の材料として、ニッケル及びコバルトの含有量が合計で２８質量％以上且つ５４質量％以下であり、且つコバルトの含有量が０質量％以上且つ６質量％以下である鉄合金を用いることができる。これにより、マスク５０及びフレーム４０の熱膨張係数と、ガラスを含む基板１１０の熱膨張係数との差を小さくできる。このため、蒸着処理によって基板１１０上に形成される層の寸法精度や位置精度が、マスク５０、フレーム４０、基板１１０などの熱膨張に起因して低下することを抑制できる。
基材５５におけるニッケルの含有量及びコバルトの含有量の合計は、２８質量％以上且つ３８質量％以下であってもよい。この場合、ニッケル若しくはニッケル及びコバルトを含む鉄合金の具体例としては、インバー材、スーパーインバー材、ウルトラインバー材などを挙げることができる。インバー材は、３４質量％以上且つ３８質量％以下のニッケルと、残部の鉄及び不可避の不純物とを含む鉄合金である。スーパーインバー材は、３０質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルと、コバルトと、残部の鉄及び不可避の不純物と含む鉄合金である。ウルトラインバー材は、２８質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルと、２質量％以上且つ７質量％以下のコバルトと、０．１質量％以上且つ１．０質量％以下のマンガンと、０．１０質量％以下のシリコンと、０．０１質量％以下の炭素と、残部の鉄及び不可避の不純物とを含む鉄合金である。
マスク５０におけるニッケルの含有量及びコバルトの含有量の合計は、３８質量％以上且つ５４質量％以下であってもよい。例えば、マスク５０は、３８質量％以上且つ５４質量％以下のニッケルと、残部の鉄及び不可避の不純物とを含む鉄合金によって構成されていてもよい。このようなマスク５０は、めっき法によって製造されてもよい。
蒸着処理の際に、マスク５０、フレーム４０および基板１１０の温度が高温には達しない場合は、マスク５０およびフレーム４０の熱膨張係数を、基板１１０の熱膨張係数と同等の値にする必要はない。この場合、マスク５０を構成する材料として、上述の鉄合金以外の材料を用いてもよい。例えば、クロムを含む鉄合金など、上述のニッケルを含む鉄合金以外の鉄合金を用いてもよい。クロムを含む鉄合金としては、例えば、いわゆるステンレスと称される鉄合金を用いることができる。また、ニッケルやニッケル－コバルト合金など、鉄合金以外の合金を用いてもよい。
マスク５０の厚みＴ０は、例えば、８μｍ以上であってもよく、１０μｍ以上であってもよく、１３μｍ以上であってもよく、１５μｍ以上であってもよい。また、厚みＴ０は、例えば、２０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以下であってもよく、５０μｍ以下であってもよい。厚みＴ０の範囲は、８μｍ、１０μｍ、１３μｍ及び１５μｍからなる第１グループ、及び／又は、２０μｍ、３０μｍ、４０μｍ及び５０μｍからなる第２グループによって定められてもよい。厚みＴ０の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。厚みＴ０の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。厚みＴ０の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、厚みＴ０は、８μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、８μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、８μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、８μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、８μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、８μｍ以上１３μｍ以下であってもよく、８μｍ以上１０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上１３μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以上５０μｍ以下であってもよい。
厚みＴ０を５０μｍ以下にすることにより、貫通孔５６を通過する前に貫通孔５６の壁面に蒸着材料７が付着することを抑制できる。これにより、蒸着材料７の利用効率を高めることができる。また、厚みＴ０を８μｍ以上にすることにより、マスク５０の強度を確保し、マスク５０に損傷や変形が生じることを抑制できる。
厚みＴ０を測定する方法としては、接触式の測定方法を採用する。接触式の測定方法としては、ボールブッシュガイド式のプランジャーを備える、ハイデンハイン社製の長さゲージHEIDENHAIM-METROの「MT1271」を用いる。
次に、上述のマスク装置１５を製造する製造装置を説明する。図９は、製造装置６０の一例を示すブロック図である。図１０は、製造装置６０の一例を示す平面図である。製造装置６０は、押圧機構６２、変位測定機構６１及び制御装置６３を備えてもよい。製造装置６０は、観察装置７３、固定装置７４、引張装置７６などを備えてもよい。
押圧機構６２は、開口４５に向かう方向においてフレーム４０の第１辺４１及び第２辺４２を押圧する。例えば、押圧機構６２は、第１方向Ｄ１において内側に第１辺４１及び第２辺４２を押圧する。変位測定機構６１は、第１方向Ｄ１における第１辺４１の変形量及び第２辺４２の変形量を測定する。
制御装置６３は、第１辺４１及び第２辺４２の変形量に関する情報に基づいて押圧機構６２を制御する。第１辺４１及び第２辺４２を内側に弾性的に変形させると、外側への復元力が第１辺４１及び第２辺４２に生じる。このため、マスク５０は、第１辺４１及び第２辺４２によって第１方向Ｄ１において外側へ引っ張られる。第１辺４１及び第２辺４２の変形量を調整することにより、マスク５０に加わる張力を調整できる。第１辺４１及び第２辺４２の変形量が目標変形量になるように押圧機構６２を制御することにより、マスク５０に加わる張力を適切に調整できる。
制御装置６３の機能は、例えば、パソコンなどのコンピュータで動作するソフトウェアによって実現されてもよい。例えば、プログラムをコンピュータにインストールすることにより、コンピュータが制御装置６３として機能してもよい。
プログラムは、コンピュータの出荷時に予めコンピュータにインストールされていてもよく、若しくは、コンピュータの出荷後に、プログラムが記録された、コンピュータが読み取り可能な非一過性の記録媒体を利用することによって、コンピュータにインストールされてもよい。記録媒体のタイプが特に限られることはなく、磁気ディスクや光ディスク等の携帯型の記録媒体や、ハードディスク装置やメモリ等の固定型の記録媒体など、様々なものが考えられる。またプログラムは、インターネット等の通信回線を介して頒布されてもよい。なおプログラムが通信回線を介して頒布される場合、頒布のためのサーバには、少なくとも一時的に、本実施の形態によるプログラムが格納された記録媒体が存在する。
観察装置７３は、マスク５０を観察する。観察装置７３は、例えばカメラを含む。観察装置７３は、マスク５０の貫通孔５６、輪郭などを検出する。観察装置７３は、マスク５０に形成されているマークを検出してもよい。
観察装置７３は、移動機構７１によって支持されていてもよい。移動機構７１は、第１方向Ｄ１、第２方向Ｄ２などに沿って観察装置７３を移動させる。例えば、移動機構７１は、第１方向Ｄ１に沿って観察装置７３を移動させる第１移動装置７２を含んでもよい。移動機構７１は、第２方向Ｄ２に沿って第１移動装置７２を移動させる第２移動装置を含んでもよい。複数の位置において観察装置７３がマスク５０を観察することにより、フレーム４０に対するマスク５０の位置に関する情報を得ることができる。
引張装置７６は、フレーム４０に固定されていない状態のマスク５０に、第１方向Ｄ１において張力を加える。引張装置７６は、後述するように、例えばクランプを含む。引張装置７６は、フレーム４０の第１フレーム面４０１の面内方向においてマスク５０を運ぶこともできる。
固定装置７４は、マスク５０を第１辺４１及び第２辺４２に固定する。固定装置７４は、例えばレーザーをマスク５０に向けて照射する。上述の溶接部４７ａがマスク５０とフレーム４０の間に形成されることにより、マスク５０がフレーム４０に固定される。固定装置７４は、引張装置７６がマスク５０に張力を加えた状態で、マスク５０をフレーム４０に固定してもよい。
固定装置７４は、移動機構７１によって支持されていてもよい。固定装置７４を移動させる移動機構７１は、観察装置７３を移動させる移動機構７１と同一であってもよく、異なっていてもよい。
制御装置６３は、観察装置７３からの情報に基づいて引張装置７６及び固定装置７４を制御してもよい。例えば、制御装置６３は、マスク５０の貫通孔５６、輪郭、マークなどの位置が目標位置に向かうよう、引張装置７６を制御する。例えば、制御装置６３は、引張装置７６の位置、引張装置７６がマスク５０に加える張力などを制御する。制御装置６３は、マスク５０の実際の位置と目標位置との差が閾値以下の場合に、固定装置７４を制御することによってマスク５０をフレーム４０に固定してもよい。
引張装置７６及び固定装置７４を制御する制御装置６３は、押圧機構６２を制御する制御装置６３と同一であってもよく、異なっていてもよい。
押圧機構６２について詳細に説明する。第１辺４１を押圧する押圧機構６２は、複数の押圧装置を含んでもよい。好ましくは、押圧機構６２は、第１辺４１を押圧する５つ以上の押圧装置を含む。例えば、押圧機構６２は、第１辺４１を押圧する６つの押圧装置を含んでもよい。各押圧装置は、第１辺４１の外側面４１ａを内側へ押圧してもよい。
第１辺４１を押圧する押圧装置は、中央グループ６２Ｃ、第１グループ６２Ａ及び第２グループ６２Ｂに分類されてもよい。図１０に示すように、第１グループ６２Ａは、第２方向Ｄ２において中央グループ６２Ｃと第３辺４３との間に位置する。第２グループ６２Ｂは、第２方向Ｄ２において中央グループ６２Ｃと第４辺４４との間に位置する。
中央グループ６２Ｃは、１つ又は２つの押圧装置を含む。マスク５０の数を示す上述のＮが偶数である場合、中央グループ６２Ｃは、２つの押圧装置を含んでもよい。Ｎが奇数である場合、中央グループ６２Ｃは、１つの押圧装置を含んでもよい。本実施の形態において、中央グループ６２Ｃは、第１中央押圧装置６２Ｃ１及び第２中央押圧装置６２Ｃ２を含む。図１０に示すように、第１中央押圧装置６２Ｃ１は、第２中心線Ｌｃ２と第３辺４３との間に位置してもよい。第２中央押圧装置６２Ｃ２は、第２中心線Ｌｃ２と第４辺４４との間に位置してもよい。図示はしないが、第１中央押圧装置６２Ｃ１又は第２中央押圧装置６２Ｃ２が第２中心線Ｌｃ２に重なっていてもよい。
第１グループ６２Ａは、２つ以上の押圧装置を含む。本実施の形態において、第１グループ６２Ａは、第３辺４３から第２中心線Ｌｃ２に向かう方向に順に並ぶ第１１押圧装置６２Ａ１及び第１２押圧装置６２Ａ２を含む。
第２グループ６２Ｂは、２つ以上の押圧装置を含む。第２グループ６２Ｂに含まれる押圧装置の数は、第１グループ６２Ａに含まれる押圧装置の数と同一であってもよい。本実施の形態において、第２グループ６２Ｂは、第４辺４４から第２中心線Ｌｃ２に向かう方向に順に並ぶ第２１押圧装置６２Ｂ１及び第２２押圧装置６２Ｂ２を含む。
押圧装置は、第２方向Ｄ２に沿って間隔を空けて並んでいてもよい。図１０に示す例においては、第３辺４３から第４辺４４に向かう方向に順に、第１１押圧装置６２Ａ１、第１２押圧装置６２Ａ２、第１中央押圧装置６２Ｃ１、第２中央押圧装置６２Ｃ２、第２２押圧装置６２Ｂ２及び第２１押圧装置６２Ｂ１が並んでいる。
好ましくは、第２方向Ｄ２において隣り合う２つの押圧装置の間の間隔が５００ｍｍ以下である。間隔を小さくすることにより、第１辺４１の各位置における第１辺４１の変形量を精密に調整できる。これにより、第１辺４１が各マスク５０に加える張力が目標張力からずれることを抑制できる。間隔は、第１辺４１に接触している押圧装置の部分の中心の位置に基づいて算出される。符号６５Ａ１、６５Ａ２、６５Ｃ１、６５Ｃ２、６５Ｂ２及び６５Ｂ１は、第１辺４１に接触している第１１押圧装置６２Ａ１、第１２押圧装置６２Ａ２、第１中央押圧装置６２Ｃ１、第２中央押圧装置６２Ｃ２、第２２押圧装置６２Ｂ２及び第２１押圧装置６２Ｂ１の部分を表す。
隣り合う２つの押圧装置の間の間隔は、例えば、５０ｍｍ以上でもよく、１００ｍｍ以上でもよく、２００ｍｍ以上でもよい。隣り合う２つの押圧装置の間の間隔は、例えば、３００ｍｍ以下でもよく、４００ｍｍ以下でもよく、５００ｍｍ以下でもよい。隣り合う２つの押圧装置の間の間隔の範囲は、５０ｍｍ、１００ｍｍ及び２００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、３００ｍｍ、４００ｍｍ及び５００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。隣り合う２つの押圧装置の間の間隔の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。隣り合う２つの押圧装置の間の間隔の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。隣り合う２つの押圧装置の間の間隔の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、隣り合う２つの押圧装置の間の間隔は、５０ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上４００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上４００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上３００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上４００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上３００ｍｍ以下でもよく、３００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、３００ｍｍ以上４００ｍｍ以下でもよく、４００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよい。
符号Ｓ２＿ＡＡは、第１グループ６２Ａに属する２つの押圧装置の間の間隔を表す。符号Ｓ２＿ＡＣは、第１グループ６２Ａに属する押圧装置と、中央グループ６２Ｃに属する押圧装置との間の間隔を表す。符号Ｓ２＿ＣＣは、中央グループ６２Ｃに属する２つの押圧装置の間の間隔を表す。符号Ｓ２＿ＢＣは、第２グループ６２Ｂに属する押圧装置と、中央グループ６２Ｃに属する押圧装置との間の間隔を表す。符号Ｓ２＿ＢＢは、第２グループ６２Ｂに属する２つの押圧装置の間の間隔を表す。間隔Ｓ２＿ＡＡ、間隔Ｓ２＿ＡＣ、間隔Ｓ２＿ＣＣ、間隔Ｓ２＿ＢＣ及び間隔Ｓ２＿ＢＢは、同一であってもよく、異なっていてもよい。
第２辺４２を押圧する押圧機構６２も、複数の押圧装置を含んでもよい。好ましくは、押圧機構６２は、第２辺４２を押圧する５つ以上の押圧装置を含む。図１０に示す例において、押圧機構６２は、第２辺４２を押圧する６つの押圧装置を含む。各押圧装置は、第２辺４２の外側面４２ａを内側へ押圧してもよい。
第２辺４２を押圧する押圧装置の構成は、第１辺４１を押圧する押圧装置の構成と同一でもよい。例えば、図１０に示すように、押圧機構６２は、第３辺４３から第４辺４４に向かう方向に順に並び、第２辺４２を押圧する第１１押圧装置６２Ａ１、第１２押圧装置６２Ａ２、第１中央押圧装置６２Ｃ１、第２中央押圧装置６２Ｃ２、第２２押圧装置６２Ｂ２及び第２１押圧装置６２Ｂ１を含んでもよい。
好ましくは、第２辺４２に位置し、第２方向Ｄ２において隣り合う２つの押圧装置の間の間隔も５００ｍｍ以下である。第２辺４２に位置し、第２方向Ｄ２において隣り合う２つの押圧装置の間の間隔の数値の範囲としては、第１辺４１に位置し、第２方向Ｄ２において隣り合う２つの押圧装置の間の間隔の数値の範囲を採用できる。第１辺４１に位置する押圧装置と、第２辺４２に位置する押圧装置とが、第１方向Ｄ１において並んでいてもよい。例えば、第１辺４１に位置する第１中央押圧装置６２Ｃ１と、第２辺４２に位置する第１中央押圧装置６２Ｃ１とが、第２方向Ｄ２において同一の座標に位置していてもよい。
図１０に示す符号Ｓ＿１１は、第１辺４１を押圧する押圧装置と、第２辺４２を押圧する押圧装置との間の、第１方向Ｄ１における距離を表す。距離Ｓ＿１１は、例えば、１３００ｍｍ以上でもよく、１５００ｍｍ以上でもよく、１７００ｍｍ以上でもよい。距離Ｓ＿１１は、例えば、１９００ｍｍ以下でもよく、２１００ｍｍ以下でもよく、２４００ｍｍ以下でもよい。距離Ｓ＿１１の範囲は、１３００ｍｍ、１５００ｍｍ及び１７００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１９００ｍｍ、２１００ｍｍ及び２４００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。距離Ｓ＿１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ＿１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ＿１１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、距離Ｓ＿１１は、１３００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上１９００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上１７００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上１９００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上１７００ｍｍ以下でもよく、１７００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１７００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、１７００ｍｍ以上１９００ｍｍ以下でもよく、１９００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１９００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、２１００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよい。
各押圧装置に共通する構成を説明する場合には、「押圧装置６２ｘ」という用語及び符号を用いることがある。
変位測定機構６１について詳細に説明する。第１辺４１の変形量を測定する変位測定機構６１は、複数の変位計を含んでもよい。好ましくは、変位測定機構６１は、各押圧装置の近くで第１辺４１の変形量を測定する変位計を含む。好ましくは、第１辺４１の変形量を測定する変位計の数は、第１辺４１を押圧する押圧装置の数以上である。例えば、第１辺４１を押圧する押圧装置の数が５つである場合、好ましくは、変位測定機構６１は、５つ以上の変位計を含む。これにより、全ての押圧装置の近くに変位計を配置できる。
押圧装置の近くで第１辺４１の変形量を測定する変位計は、図９に示すように、中央測定グループ６１Ｃ、第１測定グループ６１Ａ及び第２測定グループ６１Ｂに分類されてもよい。第１測定グループ６１Ａは、第２方向Ｄ２において中央測定グループ６１Ｃと第３辺４３との間に位置する。第２測定グループ６１Ｂは、第２方向Ｄ２において中央測定グループ６１Ｃと第４辺４４との間に位置する。
中央測定グループ６１Ｃは、１つ又は２つの変位計を含む。上述の押圧機構６２の中央グループ６２Ｃが１つの押圧装置を含む場合、中央測定グループ６１Ｃは、１つの変位計を含んでもよい。中央グループ６２Ｃが２つの押圧装置を含む場合、中央測定グループ６１Ｃは、２つの変位計を含んでもよい。本実施の形態において中央測定グループ６１Ｃは、第１中央変位計６１Ｃ１及び第２中央変位計６１Ｃ２を含む。第１中央変位計６１Ｃ１は、第１中央押圧装置６２Ｃ１の近くに位置する。第２中央変位計６１Ｃ２は、第２中央押圧装置６２Ｃ２の近くに位置する。
第１測定グループ６１Ａは、２つ以上の変位計を含む。本実施の形態において、第１測定グループ６１Ａは、第３辺４３から第２中心線Ｌｃ２に向かう方向に順に並ぶ第１１変位計６１Ａ１及び第１２変位計６１Ａ２を含む。第１１変位計６１Ａ１は、第１１押圧装置６２Ａ１の近くに位置する。第１２変位計６１Ａ２は、第１２押圧装置６２Ａ２の近くに位置する。
第２測定グループ６１Ｂは、２つ以上の変位計を含む。本実施の形態において、第２測定グループ６１Ｂは、第４辺４４から第２中心線Ｌｃ２に向かう方向に順に並ぶ第２１変位計６１Ｂ１及び第２２変位計６１Ｂ２を含む。第２１変位計６１Ｂ１は、第２１押圧装置６２Ｂ１の近くに位置する。第２２変位計６１Ｂ２は、第２２押圧装置６２Ｂ２の近くに位置する。
各変位計に共通する構成を説明する場合には、「変位計６１ｘ」という用語及び符号を用いることがある。
図１１は、押圧装置６２ｘ及び変位計６１ｘの一例を示す図である。変位計６１ｘは、押圧装置６２ｘの近くに位置する。第２方向Ｄ２における押圧装置６２ｘと変位計６１ｘとの間の間隔Ｓ＿Ｆは、好ましくは１００ｍｍ以下である。間隔Ｓ＿Ｆを小さくすることにより、変位計６１ｘの測定結果に基づいて押圧装置６２ｘをより精密に制御できる。このため、第１辺４１の各位置における変形量を精密に調整できる。これにより、第１辺４１が各マスク５０に加える張力が目標張力からずれることを抑制できる。間隔Ｓ＿Ｆは、第１辺４１に接触している押圧装置６２ｘの部分６５の中心の位置、及び、変位計６１ｘが測定している第１辺４１の位置に基づいて算出される。変位計６１ｘが第１辺４１に接触している場合、変位計６１ｘが測定している第１辺４１の位置は、第１辺４１に接触している変位計６１ｘの部分６４の中心の位置である。製造装置６０を用いてマスク装置１５を製造する間、間隔Ｓ＿Ｆが一定に維持されることが好ましい。すなわち、変位計６１ｘは、第２方向Ｄ２において押圧装置６２ｘに対して静止していることが好ましい。製造装置６０を用いてマスク装置１５を製造する間、第２方向Ｄ２において押圧装置６２ｘに対して静止している変位計６１ｘのことを、静止タイプの変位計６１ｘとも称する。
間隔Ｓ＿Ｆは、例えば、１ｍｍ以上でもよく、５ｍｍ以上でもよく、１０ｍｍ以上でもよい。間隔Ｓ＿Ｆは、例えば、２０ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以下でもよい。間隔Ｓ＿Ｆの範囲は、１ｍｍ、５ｍｍ及び１０ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、２０ｍｍ、５０ｍｍ及び１００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。間隔Ｓ＿Ｆの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。間隔Ｓ＿Ｆの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。間隔Ｓ＿Ｆの範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、間隔Ｓ＿Ｆは、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以上２０ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以上５ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上２０ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上１０ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよい。
変位計６１ｘは、センサヘッド６１１及び支持部６１２を含んでもよい。支持部６１２は、センサヘッド６１１が第１方向Ｄ１において移動できるようセンサヘッド６１１を支持する。センサヘッド６１１は、第１辺４１の外側面４１ａに接触する先端を含む。変位計６１ｘは、センサヘッド６１１の先端の位置に基づいて、第１辺４１の変形量を検出する。
押圧装置６２ｘは、ロッド６２１及び駆動部６２２を含んでもよい。駆動部６２２は、第１方向Ｄ１においてロッド６２１を駆動する。駆動部６２２は、例えばモータを含む。ロッド６２１は、第１辺４１の外側面４１ａに接触する先端を含む。押圧装置６２ｘは、ロードセルなどの荷重計を含んでもよい。荷重計は、ロッド６２１がフレーム４０に加える押圧力を検出する。
図１０に示すように、変位測定機構６１は、第１補助変位計６１Ｄ及び第２補助変位計６１Ｅを含んでもよい。第１補助変位計６１Ｄは、第２方向Ｄ２において第３辺４３の外側面４３ａから距離Ｓ＿Ｄ離れた位置において第１辺４１の変形量を測定する。第２補助変位計６１Ｅは、第２方向Ｄ２において第４辺４４の外側面４４ａから距離Ｓ＿Ｅ離れた位置において第１辺４１の変形量を測定する。第１補助変位計６１Ｄ及び第２補助変位計６１Ｅの構成は、中央測定グループ６１Ｃ、第１測定グループ６１Ａ及び第２測定グループ６１Ｂの変位計の構成と同一でもよく、異なっていてもよい。
距離Ｓ＿Ｄ及び距離Ｓ＿Ｅは、例えば、１ｍｍ以上でもよく、５ｍｍ以上でもよく、２０ｍｍ以上でもよい。距離Ｓ＿Ｄ及び距離Ｓ＿Ｅは、例えば、５０ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以下でもよい。距離Ｓ＿Ｄ及び距離Ｓ＿Ｅの範囲は、１ｍｍ、５ｍｍ及び２０ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、５０ｍｍ、１００ｍｍ及び２００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。距離Ｓ＿Ｄ及び距離Ｓ＿Ｅの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ＿Ｄ及び距離Ｓ＿Ｅの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ＿Ｄ及び距離Ｓ＿Ｅの範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、距離Ｓ＿Ｄ及び距離Ｓ＿Ｅは、１ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以上２０ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以上５ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上２０ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよい。
好ましくは、第２方向Ｄ２において隣り合う２つの変位計の間の間隔が５００ｍｍ以下である。間隔を小さくすることにより、第１辺４１の各位置における変形量を正確に測定できる。このため、第１辺４１の各位置における変形量を、押圧装置を用いて精密に調整できる。これにより、第１辺４１が各マスク５０に加える張力が目標張力からずれることを抑制できる。
隣り合う２つの変位計の間の間隔は、例えば、５０ｍｍ以上でもよく、１００ｍｍ以上でもよく、２００ｍｍ以上でもよい。隣り合う２つの変位計の間の間隔は、例えば、３００ｍｍ以下でもよく、４００ｍｍ以下でもよく、５００ｍｍ以下でもよい。隣り合う２つの変位計の間の間隔の範囲は、５０ｍｍ、１００ｍｍ及び２００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、３００ｍｍ、４００ｍｍ及び５００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。隣り合う２つの変位計の間の間隔の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。隣り合う２つの変位計の間の間隔の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。隣り合う２つの変位計の間の間隔の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、隣り合う２つの変位計の間の間隔は、５０ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上４００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上４００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上３００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上４００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上３００ｍｍ以下でもよく、３００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、３００ｍｍ以上４００ｍｍ以下でもよく、４００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよい。
符号Ｓ１＿ＡＡは、第１測定グループ６１Ａに属する２つの変位計の間の間隔を表す。符号Ｓ１＿ＡＣは、第１測定グループ６１Ａに属する変位計と、中央測定グループ６１Ｃに属する変位計との間の間隔を表す。符号Ｓ１＿ＣＣは、中央測定グループ６１Ｃに属する２つの変位計の間の間隔を表す。符号Ｓ１＿ＢＣは、第２測定グループ６１Ｂに属する変位計と、中央測定グループ６１Ｃに属する変位計との間の間隔を表す。符号Ｓ１＿ＢＢは、第２測定グループ６１Ｂに属する２つの変位計の間の間隔を表す。間隔Ｓ１＿ＡＡ、間隔Ｓ１＿ＡＣ、間隔Ｓ１＿ＣＣ、間隔Ｓ１＿ＢＣ及び間隔Ｓ１＿ＢＢは、同一であってもよく、異なっていてもよい。
好ましくは、第２方向Ｄ２において隣り合う変位計と補助変位計との間の間隔が５００ｍｍ以下である。変位計と補助変位計との間の間隔の数値の範囲としては、上述の「２つの変位計の間の間隔」の数値の範囲を採用できる。
第２辺４２の変形量を測定する変位測定機構６１も、複数の変位計を含んでもよい。好ましくは、変位測定機構６１は、各押圧装置の近くで第２辺４２の変形量を測定する変位計を含む。好ましくは、第２辺４２の変形量を測定する変位計の数は、第２辺４２を押圧する押圧装置の数以上である。例えば、第２辺４２を押圧する押圧装置の数が５つである場合、好ましくは、変位測定機構６１は、５つ以上の変位計を含む。第２辺４２の変形量を測定する変位測定機構６１も、第１補助変位計６１Ｄ及び第２補助変位計６１Ｅを含んでもよい。
第２辺４２においても、第２方向Ｄ２における押圧装置と変位計との間の間隔は、好ましくは１００ｍｍ以下である。第２辺４２における、第２方向Ｄ２における押圧装置と変位計との間の間隔の数値の範囲としては、第１辺４１における、第２方向Ｄ２における押圧装置と変位計との間の間隔の数値の範囲を採用できる。
第２辺４２においても、隣り合う２つの変位計の間の、第２方向Ｄ２における間隔の範囲は、５００ｍｍ以下である。第２辺４２に沿って隣り合う２つの変位計の間の、第２方向Ｄ２における間隔の範囲としては、第１辺４１に沿って隣り合う２つの変位計の間の間隔の数値の範囲を採用できる。
第１辺４１に位置する変位計と、第２辺４２に位置する変位計とが、第１方向Ｄ１において並んでいてもよい。例えば、第１辺４１に位置する第１中央変位計６１Ｃ１と、第２辺４２に位置する第１中央変位計６１Ｃ１とが、第２方向Ｄ２において同一の座標に位置していてもよい。
第２辺４２の変形量を測定する変位測定機構６１も、第１補助変位計６１Ｄ及び第２補助変位計６１Ｅを含んでもよい。
次に、製造装置６０を用いてマスク装置１５を製造する方法を説明する。図１２は、製造方法の一例を示すフローチャートである。まず、フレーム４０を準備する（工程Ｓ１）。フレーム４０は、製造装置６０の図示しないステージの上に置かれてもよい。続いて、フレーム４０の基準位置を定める（工程Ｓ２）。例えば、押圧機構６２がフレーム４０を押圧していない状態において、変位測定機構６１を用いてフレーム４０の位置を測定する。例えば、押圧装置６２ｘのロッド６２１をフレーム４０から離した状態で、変位計６１ｘのセンサヘッド６１１をフレーム４０に接触させる。これにより、フレーム４０が変形していない時のフレーム４０の位置、すなわち基準位置が定められる。
続いて、Ｎ枚のマスク５０をフレーム４０に順に取り付けるマスク取付工程Ｓ３を実施する。ｋ枚目（ｋは１以上Ｎ以下の整数）のマスク５０をフレーム４０に取り付ける工程のことを、第ｋマスク取付工程Ｓ３（ｋ）とも称する。マスク取付工程Ｓ３は、第１マスク取付工程Ｓ３（１）～第Ｎマスク取付工程Ｓ３（Ｎ）というＮ回の工程を含む。
マスク取付工程Ｓ３は、図１２に示すように、調整工程Ｓ４及び配置工程Ｓ５をＮ回繰り返す。第ｋマスク取付工程Ｓ３（ｋ）における調整工程及び配置工程のことを、第ｋ調整工程Ｓ４（ｋ）及び第ｋ配置工程Ｓ５（ｋ）とも称する。
調整工程Ｓ４は、開口４５に向かう方向において押圧機構６２が第１辺４１及び第２辺４２に加える押圧力を調整する。具体的には、調整工程Ｓ４は、各マスク５０が第１辺４１及び第２辺４２に固定される時の第１辺４１及び第２辺４２の変形量が目標変形量になるよう、押圧力を調整する。マスク装置１５の製造方法において押圧機構６２が第１辺４１及び第２辺４２に加える押圧力を、第１押圧力とも称する。
目標変形量は、第１辺４１の各位置及び第２辺４２の各位置で予め定められている。目標変形量で変形している第１辺４１及び第２辺４２は、Ｎ本のマスク５０がフレーム４０に取り付けられている状態において、弾性的な復元力に基づいて各マスク５０に目標張力を加えることができる。目標変形量は、フレーム４０の形状、物性などに基づいて算出されてもよい。例えば、ＣＡＤなどで作製したフレーム４０の三次元形状に基づいて、有限要素法を用いて、復元力と変形量との関係を算出してもよい。この関係に基づいて、目標変形量を算出してもよい。
以下の説明において、第ｋ調整工程Ｓ４（ｋ）において第１辺４１に加えられる第１押圧力を、符号Ｐ（ｋ）で表すこともある。また、第ｋ調整工程Ｓ４（ｋ）において第１１押圧装置６２Ａ１、第１２押圧装置６２Ａ２、第２１押圧装置６２Ｂ１、第２２押圧装置６２Ｂ２、第１中央押圧装置６２Ｃ１、第２中央押圧装置６２Ｃ２が第１辺４１に加える第１押圧力を、符号Ｐ（ｋ）＿Ａ１、Ｐ（ｋ）＿Ａ２、Ｐ（ｋ）＿Ｂ１、Ｐ（ｋ）＿Ｂ２、Ｐ（ｋ）＿Ｃ１、Ｐ（ｋ）＿Ｃ２で表すこともある。
第ｋ調整工程Ｓ４（ｋ）において第１グループ６２Ａの押圧装置が第１辺４１に加える第１押圧力の平均値を、符号Ｐ（ｋ）＿Ａで表すこともある。第ｋ調整工程Ｓ４（ｋ）において第２グループ６２Ｂの押圧装置が第１辺４１に加える第１押圧力の平均値を、符号Ｐ（ｋ）＿Ｂで表すこともある。第ｋ調整工程Ｓ４（ｋ）において中央グループ６２Ｃの押圧装置が第１辺４１に加える第１押圧力の平均値を、符号Ｐ（ｋ）＿Ｃで表すこともある。
以下の説明において、第ｋ調整工程Ｓ４（ｋ）において第１辺４１に生じている変形量を、符号ｄ（ｋ）で表すこともある。また、第ｋ調整工程Ｓ４（ｋ）において第１１変位計６１Ａ１、第１２変位計６１Ａ２、第２１変位計６１Ｂ１、第２２変位計６１Ｂ２、第１中央変位計６１Ｃ１、第２中央変位計６１Ｃ２、第１補助変位計６１Ｄ、第２補助変位計６１Ｅが測定した変形量を、符号ｄ（ｋ）＿Ａ１、ｄ（ｋ）＿Ａ２、ｄ（ｋ）＿Ｂ１、ｄ（ｋ）＿Ｂ２、ｄ（ｋ）＿Ｃ１、ｄ（ｋ）＿Ｃ２、ｄ（ｋ）＿Ｄ、ｄ（ｋ）＿Ｅで表すこともある。
以下の説明において、第１１変位計６１Ａ１が第１辺４１を測定する位置における目標変形量を、符号Ｔ＿Ａ１で表すこともある。同様に、第１２変位計６１Ａ２、第２１変位計６１Ｂ１、第２２変位計６１Ｂ２、第１中央変位計６１Ｃ１、第２中央変位計６１Ｃ２、第１補助変位計６１Ｄ、第２補助変位計６１Ｅに対応する目標変形量を、符号Ｔ＿Ａ２、Ｔ＿Ｂ１、Ｔ＿Ｂ２、Ｔ＿Ｃ１、Ｔ＿Ｃ２、Ｔ＿Ｄ、Ｔ＿Ｅで表すこともある。
図１３は、調整工程Ｓ４及び配置工程Ｓ５の一例を示すフローチャートである。第ｋ調整工程Ｓ４（ｋ）は、押圧工程Ｓ４１（ｋ）と、判定工程Ｓ４２（ｋ）と、を含んでもよい。押圧工程Ｓ４１（ｋ）は、フレーム４０への第１押圧力Ｐ（ｋ）を調整する。判定工程Ｓ４２（ｋ）は、Δｄ（ｋ）が第１閾値ＴＨ１以下であるか否かを判定する。Δｄ（ｋ）は、変形量ｄ（ｋ）と目標変形量との差の絶対値である。Δｄ（ｋ）は、例えば、第１中央変位計６１Ｃ１が測定した変形量ｄ（ｋ）＿Ｃ１と目標変形量Ｔ＿Ｃ１との差の絶対値である。判定工程Ｓ４２（ｋ）は、複数の変形量の測定値に関してΔｄ（ｋ）が第１閾値ＴＨ１以下であるか否かを判定してもよい。例えば、判定工程Ｓ４２（ｋ）は、変形量ｄ（ｋ）＿Ｃ１と目標変形量Ｔ＿Ｃ１との差、変形量ｄ（ｋ）＿Ａ１と目標変形量Ｔ＿Ａ１との差、及び変形量ｄ（ｋ）＿Ａ２と目標変形量Ｔ＿Ａ２との差が第１閾値ＴＨ１以下であるか否かを判定してもよい。判定工程Ｓ４２（ｋ）は、上述の変形量ｄ（ｋ）＿Ａ１、ｄ（ｋ）＿Ａ２、ｄ（ｋ）＿Ｂ１、ｄ（ｋ）＿Ｂ２、ｄ（ｋ）＿Ｃ１、ｄ（ｋ）＿Ｃ２、ｄ（ｋ）＿Ｄ、ｄ（ｋ）＿Ｅのそれぞれに関して、Δｄ（ｋ）が第１閾値ＴＨ１以下であるか否かを判定してもよい。
第１閾値ＴＨ１は、求められる張力の精度に基づいて定められてもよい。第１閾値ＴＨ１は、例えば、０．０１μｍ以上でもよく、０．０２μｍ以上でもよく、０．０５μｍ以上でもよい。第１閾値ＴＨ１は、例えば、０．１０μｍ以下でもよく、０．１５μｍ以下でもよく、０．２０μｍ以下でもよい。第１閾値ＴＨ１の範囲は、０．０１μｍ、０．０２μｍ及び０．０５μｍからなる第１グループ、及び／又は、０．１０μｍ、０．１５μｍ及び０．２０μｍからなる第２グループによって定められてもよい。第１閾値ＴＨ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。第１閾値ＴＨ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。第１閾値ＴＨ１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、第１閾値ＴＨ１は、０．０１μｍ以上０．２０μｍ以下でもよく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下でもよく、０．０１μｍ以上０．１０μｍ以下でもよく、０．０１μｍ以上０．０５μｍ以下でもよく、０．０１μｍ以上０．０２μｍ以下でもよく、０．０２μｍ以上０．２０μｍ以下でもよく、０．０２μｍ以上０．１５μｍ以下でもよく、０．０２μｍ以上０．１０μｍ以下でもよく、０．０２μｍ以上０．０５μｍ以下でもよく、０．０５μｍ以上０．２０μｍ以下でもよく、０．０５μｍ以上０．１５μｍ以下でもよく、０．０５μｍ以上０．１０μｍ以下でもよく、０．１０μｍ以上０．２０μｍ以下でもよく、０．１０μｍ以上０．１５μｍ以下でもよく、０．１５μｍ以上０．２０μｍ以下でもよい。
配置工程Ｓ５は、マスク５０の端部５１を第１辺４１及び第２辺４２に固定する。第ｋ固定工程Ｓ５（ｋ）は、ｋ枚目のマスク５０の位置を調整する位置調整工程Ｓ５１（ｋ）と、判定工程Ｓ５２（ｋ）と、固定工程Ｓ５３（ｋ）と、を含んでもよい。
位置調整工程Ｓ５１（ｋ）は、マスク５０に張力を加えた状態でマスク５０の位置を調整してもよい。上述の移動機構７１及び引張装置７６を用いることにより、マスク５０に張力を加えた状態でマスク５０の位置を調整できる。位置調整工程Ｓ５１（ｋ）は、フレーム４０に対するマスク５０の位置が目標位置になるよう、移動機構７１及び引張装置７６を制御してもよい。例えば、位置調整工程Ｓ５１（ｋ）は、上述の観察装置７３からの情報に基づいて引張装置７６及び固定装置７４を制御してもよい。
判定工程Ｓ５２（ｋ）は、マスク誤差が第２閾値ＴＨ２以下であるか否かを判定する。マスク誤差は、例えば、マスク５０のマークの実際の位置と目標位置との差の絶対値である。判定工程Ｓ５２（ｋ）は、１つのマークに関してマスク誤差が第２閾値ＴＨ２以下であるか否かを判定してもよい。判定工程Ｓ５２（ｋ）は、２つ以上のマークに関してマスク誤差が第２閾値ＴＨ２以下であるか否かを判定してもよい。判定工程Ｓ５２（ｋ）は、マーク以外の要素の位置に基づいて、マスク誤差が第２閾値ＴＨ２以下であるか否かを判定してもよい。例えば、判定工程Ｓ５２（ｋ）は、マスク５０の輪郭、貫通孔５６などの位置に基づいて、マスク誤差が第２閾値ＴＨ２以下であるか否かを判定してもよい。マスク誤差は、ＰＰＡとも称される。「ＰＰＡ」は、Pixel Position Accuracyを意味する。
第２閾値ＴＨ２は、例えば、０．１μｍ以上でもよく、０．２μｍ以上でもよく、０．５μｍ以上でもよい。第２閾値ＴＨ２は、例えば、１．０μｍ以下でもよく、２．０ｍ以下でもよく、３．０μｍ以下でもよい。第２閾値ＴＨ２の範囲は、０．１μｍ、０．２μｍ及び０．５μｍからなる第１グループ、及び／又は、１．０μｍ、２．０ｍ及び３．０μｍからなる第２グループによって定められてもよい。第２閾値ＴＨ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。第２閾値ＴＨ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。第２閾値ＴＨ２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、第２閾値ＴＨ２は、０．１μｍ以上３．０μｍ以下でもよく、０．１μｍ以上２．０ｍ以下でもよく、０．１μｍ以上１．０μｍ以下でもよく、０．１μｍ以上０．５μｍ以下でもよく、０．１μｍ以上０．２μｍ以下でもよく、０．２μｍ以上３．０μｍ以下でもよく、０．２μｍ以上２．０ｍ以下でもよく、０．２μｍ以上１．０μｍ以下でもよく、０．２μｍ以上０．５μｍ以下でもよく、０．５μｍ以上３．０μｍ以下でもよく、０．５μｍ以上２．０ｍ以下でもよく、０．５μｍ以上１．０μｍ以下でもよく、１．０μｍ以上３．０μｍ以下でもよく、１．０μｍ以上２．０ｍ以下でもよく、２．０ｍ以上３．０μｍ以下でもよい。
固定工程Ｓ５３（ｋ）は、ｋ枚目のマスク５０を第１辺４１及び第２辺４２に固定する。上述の固定装置７４を用いることにより、マスク５０を第１辺４１及び第２辺４２に固定できる。
マスク取付工程Ｓ３の後、解放工程Ｓ６を実施してもよい。解放工程Ｓ６は、フレーム４０への第１押圧力をゼロにする。例えば、押圧機構６２の各押圧装置のロッド６２１をフレーム４０から離す。続いて、最終確認工程Ｓ７を実施してもよい。最終確認工程Ｓ７は、第１辺４１及び第２辺４２に最終的に生じている変形量を測定する。第１辺４１及び第２辺４２に最終的に生じている変形量のことを、最終変形量とも称する。
最終確認工程Ｓ７は、最終変形量と目標変形量との差が上述の第１閾値ＴＨ１以下であるか否かを判定してもよい。最終確認工程Ｓ７は、第１辺４１及び第２辺４２の各位置における複数の最終変形量を判定してもよい。最終確認工程Ｓ７は、製造装置６０に含まれる全ての変位計によって測定された最終変形量を判定してもよい。
図１０及び図１４～図２０を参照して、マスク装置１５の製造方法を具体的に説明する。
図１０に示すように、フレーム４０が変形していない状態において、変位測定機構６１を用いてフレーム４０の位置を測定する。続いて、Ｎ枚のマスク５０をフレーム４０に取り付けるマスク取付工程Ｓ３を実施する。本実施の形態においては、第２方向Ｄ２におけるフレーム４０の中心から遠い順にマスク５０を第１辺４１及び第２辺４２に取り付ける例を説明する。第２方向Ｄ２におけるフレーム４０の中心からの距離が同一である場合、第３辺４３と第２中心線Ｌｃ２との間に位置するマスク５０が、第４辺４４と第２中心線Ｌｃ２との間に位置するマスク５０よりも先に第１辺４１及び第２辺４２に取り付けられる。従って、第１１マスク５０Ａ１、第２１マスク５０Ｂ１、第１２マスク５０Ａ２、第２２マスク５０Ｂ２、第１３マスク５０Ａ３、第２３マスク５０Ｂ３、第１４マスク５０Ａ４、第２４マスク５０Ｂ４、中央第１マスク５０Ｃ１、中央第２マスク５０Ｃ２がこの順で第１辺４１及び第２辺４２に取り付けられる。
１枚目のマスク５０をフレーム４０に取り付ける第１マスク取付工程Ｓ３（１）を実施する。１枚目のマスク５０は、第１１マスク５０Ａ１である。第１マスク取付工程Ｓ３（１）は、第１調整工程Ｓ４（１）及び第１配置工程Ｓ５（１）を含む。
図１４は、第１調整工程Ｓ４（１）を示す図である。第１調整工程Ｓ４（１）は、押圧工程Ｓ４１（１）及び判定工程Ｓ４２（１）を含む。押圧工程Ｓ４１（１）は、図１４に示すように、マスク５０がフレーム４０に取り付けられていない状態において、第１辺４１及び第２辺４２を押圧する。制御装置６３は、ｄ（１）＿Ａ１、ｄ（１）＿Ａ２、ｄ（１）＿Ｃ（１）などの変形量が目標変形量になるよう、押圧機構６２を制御する。
判定工程Ｓ４２（１）は、Δｄ（１）が第１閾値ＴＨ１以下であるか否かを判定する。Δｄ（１）が第１閾値ＴＨ１を超えている場合、押圧工程Ｓ４１（１）が再び実施される。Δｄ（１）が第１閾値ＴＨ１以下である場合、第１配置工程Ｓ５（１）に進む。Δｄ（１）が第１閾値ＴＨ１以下である場合、押圧機構６２の押圧装置が第１辺４１及び第２辺４２に加えている第１押圧力を記録してもよい。
制御装置６３は、第１調整工程Ｓ４（１）において押圧機構６２の各押圧装置が第１辺４１に加える第１押圧力の差が所定の範囲内になるよう、押圧機構６２を制御してもよい。例えば、第１比率ＲＡ１及び第２比率ＲＡ２が所定の値以下になるよう、制御装置６３が押圧機構６２を制御してもよい。第１比率ＲＡ１は、第１調整工程Ｓ４（１）における、中央グループ６２Ｃの平均第１押圧力Ｐ（１）＿Ｃに対する第１グループ６２Ａの平均第１押圧力Ｐ（１）＿Ａの比率である。第２比率ＲＡ２は、第１調整工程Ｓ４（１）における、中央グループ６２Ｃの平均第１押圧力Ｐ（１）＿Ｃに対する第２グループ６２Ｂの平均第１押圧力Ｐ（１）＿Ｂの比率である。平均第１押圧力Ｐ（１）＿Ａは、第１調整工程Ｓ４（１）において第１グループ６２Ａの押圧装置が第１辺４１に加える第１押圧力の平均値である。平均第１押圧力Ｐ（１）＿Ｂは、第１調整工程Ｓ４（１）において第２グループ６２Ｂの押圧装置が第１辺４１に加える第１押圧力の平均値である。平均第１押圧力Ｐ（１）＿Ｃは、第１調整工程Ｓ４（１）において中央グループ６２Ｃの押圧装置が第１辺４１に加える第１押圧力の平均値である。
第１比率ＲＡ１及び第２比率ＲＡ２は、例えば、０．６以上でもよく、０．７以上でもよく、０．８以上でもよく、０．９以上でもよい。第１比率ＲＡ１及び第２比率ＲＡ２は、例えば、１．１以下でもよく、１．２以下でもよく、１．３以下でもよく、１．４以下でもよい。第１比率ＲＡ１及び第２比率ＲＡ２の範囲は、０．６、０．７、０．８及び０．９からなる第１グループ、及び／又は、１．１、１．２、１．３及び１．４からなる第２グループによって定められてもよい。第１比率ＲＡ１及び第２比率ＲＡ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。第１比率ＲＡ１及び第２比率ＲＡ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。第１比率ＲＡ１及び第２比率ＲＡ２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、第１比率ＲＡ１及び第２比率ＲＡ２は、０．６以上１．４以下でもよく、０．６以上１．３以下でもよく、０．６以上１．２以下でもよく、０．６以上１．１以下でもよく、０．６以上０．９以下でもよく、０．６以上０．８以下でもよく、０．６以上０．７以下でもよく、０．７以上１．４以下でもよく、０．７以上１．３以下でもよく、０．７以上１．２以下でもよく、０．７以上１．１以下でもよく、０．７以上０．９以下でもよく、０．７以上０．８以下でもよく、０．８以上１．４以下でもよく、０．８以上１．３以下でもよく、０．８以上１．２以下でもよく、０．８以上１．１以下でもよく、０．８以上０．９以下でもよく、０．９以上１．４以下でもよく、０．９以上１．３以下でもよく、０．９以上１．２以下でもよく、０．９以上１．１以下でもよく、１．１以上１．４以下でもよく、１．１以上１．３以下でもよく、１．１以上１．２以下でもよく、１．２以上１．４以下でもよく、１．２以上１．３以下でもよく、１．３以上１．４以下でもよい。
第１配置工程Ｓ５（１）は、位置調整工程Ｓ５１（１）、判定工程Ｓ５２（１）、及び固定工程Ｓ５３（１）を含む。図１５は、位置調整工程Ｓ５１（１）及び判定工程Ｓ５２（１）を示す図である。
位置調整工程Ｓ５１（１）は、図１５に示すように、第１１マスク５０Ａ１に張力を加えた状態で第１１マスク５０Ａ１の位置を調整する。位置調整工程Ｓ５１（１）は、引張装置７６を用いて第１１マスク５０Ａ１の位置を調整する。引張装置７６は、クランプを用いて第１１マスク５０Ａ１に張力を加えてもよい。引張装置７６は、例えば、第１の端部５１に取り付けられる２つのクランプ７６１と、第２の端部５１に取り付けられる２つのクランプ７６１と、を含んでもよい。各クランプ７６１の位置を調整することにより、第１１マスク５０Ａ１の位置及び張力を調整できる。
判定工程Ｓ５２（１）は、観察装置７３を用いて第１１マスク５０Ａ１の位置を観察する。判定工程Ｓ５２（１）は、第１１マスク５０Ａ１のマスク誤差が第２閾値ＴＨ２以下であるか否かを判定する。マスク誤差が第２閾値ＴＨ２を超えている場合、位置調整工程Ｓ５１（１）が再び実施される。マスク誤差が第２閾値ＴＨ２以下である場合、固定工程Ｓ５３（１）に進む。
図１６は、固定工程Ｓ５３（１）を示す図である。固定工程Ｓ５３（１）は、例えばレーザーを第１１マスク５０Ａ１の端部５１に照射する。これにより、端部５１に溶接部４７ａが形成される。溶接部４７ａを介して第１１マスク５０Ａ１が第１辺４１及び第２辺４２に固定される。図１６に示すように、溶接部４７ａよりも外側に位置する端部５１の部分を除去してもよい。Ｎ枚のマスク５０をフレーム４０に取り付けた後に、溶接部４７ａよりも外側に位置する端部５１の部分を除去してもよい。
続いて、図１７に示すように、２枚目のマスク５０をフレーム４０に取り付ける第２マスク取付工程Ｓ３（２）を実施する。２枚目のマスク５０は、第２１マスク５０Ｂ１である。第２マスク取付工程Ｓ３（２）は、第２調整工程Ｓ４（２）及び第２配置工程Ｓ５（２）を含む。
続いて、図１８に示すように、第３マスク取付工程Ｓ３（３）～第８マスク取付工程Ｓ３（８）を順に実施する。これにより、第１マスクグループ５０Ａの各マスク５０及び第２マスクグループ５０Ｂの各マスク５０がフレーム４０に取り付けられる。第３マスク取付工程Ｓ３（３）～第８マスク取付工程Ｓ３（８）は、第３調整工程Ｓ４（３）～第８調整工程Ｓ４（８）及び第３配置工程Ｓ５（３）～第８配置工程Ｓ５（８）を含む。
続いて、図１９に示すように、第９マスク取付工程Ｓ３（９）～第１０マスク取付工程Ｓ３（１０）を順に実施する。これにより、中央マスクグループ５０Ｃの各マスク５０がフレーム４０に取り付けられる。第９マスク取付工程Ｓ３（９）～第１０マスク取付工程Ｓ３（１０）は、第９調整工程Ｓ４（９）～第１０調整工程Ｓ４（１０）及び第９配置工程Ｓ５（９）～第１０配置工程Ｓ５（１０）を含む。
続いて、解放工程Ｓ６を実施する。例えば図２０に示すように、押圧機構６２の各押圧装置のロッド６２１をフレーム４０から離す。続いて、最終確認工程Ｓ７を実施する。最終確認工程Ｓ７は、第１辺４１及び第２辺４２の最終変形量と目標変形量との差が上述の第１閾値ＴＨ１以下であるか否かを判定する。差が第１閾値ＴＨ１以下である場合、マスク装置１５を合格品として認定する。
図２１は、第１調整工程Ｓ４（１）～第１０調整工程Ｓ４（１０）において第１１押圧装置６２Ａ１が第１辺４１に加える第１押圧力Ｐ＿Ａ１の推移の一例を示す図である。図２１に示すように、第１押圧力Ｐ＿Ａ１は、２回以上の調整工程Ｓ４の間、減少してもよい。図２１に示す例において、第１押圧力Ｐ＿Ａ１は、第２調整工程Ｓ４（２）～第７調整工程Ｓ４（７）の間、減少している。
図２１に示すように、第１押圧力Ｐ＿Ａ１は、最後の調整工程Ｓ４の前に、すなわち第１０調整工程Ｓ４（１０）の前にゼロになってもよい。図２１に示す例においては、第７調整工程Ｓ４（７）において第１押圧力Ｐ＿Ａ１がゼロになる。
符号Ｐ（１１）＿Ａ１は、解放工程Ｓ６のときの第１押圧力Ｐ＿Ａ１を意味する。第１押圧力Ｐ（１１）＿Ａ１はゼロである。
符号Ｐ（１１）＿Ａ１は、解放工程Ｓ６のときの第１押圧力Ｐ＿Ａ１を意味する。第１押圧力Ｐ（１１）＿Ａ１はゼロである。
図２２は、第１調整工程Ｓ４（１）～第１０調整工程Ｓ４（１０）において第１２押圧装置６２Ａ２が第１辺４１に加える第１押圧力Ｐ＿Ａ２の推移の一例を示す図である。図２２に示すように、第１押圧力Ｐ＿Ａ２は、２回以上の調整工程Ｓ４の間、減少してもよい。図２２に示す例において、第１押圧力Ｐ＿Ａ２は、第４調整工程Ｓ４（４）～第９調整工程Ｓ４（９）の間、減少している。第１押圧力Ｐ＿Ａ２が減少する期間は、第１押圧力Ｐ＿Ａ１が減少する期間よりも後に生じてもよい。
図２２に示すように、第１押圧力Ｐ＿Ａ２は、最後の調整工程Ｓ４の前に、すなわち第１０調整工程Ｓ４（１０）の前にゼロになってもよい。図２２に示す例においては、第９調整工程Ｓ４（９）において第１押圧力Ｐ＿Ａ２がゼロになる。第１押圧力Ｐ＿Ａ２は、第１押圧力Ｐ＿Ａ１がゼロになった後にゼロになってもよい。
符号Ｐ（１１）＿Ａ２は、解放工程Ｓ６のときの第１押圧力Ｐ＿Ａ２を意味する。第１押圧力Ｐ（１１）＿Ａ２はゼロである。
符号Ｐ（１１）＿Ａ２は、解放工程Ｓ６のときの第１押圧力Ｐ＿Ａ２を意味する。第１押圧力Ｐ（１１）＿Ａ２はゼロである。
図２３は、第１調整工程Ｓ４（１）～第１０調整工程Ｓ４（１０）において第１中央押圧装置６２Ｃ１が第１辺４１に加える第１押圧力Ｐ＿Ｃ１の推移の一例を示す図である。図２３に示すように、第１押圧力Ｐ＿Ｃ１は、２回以上の調整工程Ｓ４の間、減少してもよい。図２３に示す例において、第１押圧力Ｐ＿Ｃ１は、第６調整工程Ｓ４（６）～第１０調整工程Ｓ４（１０）の間、減少している。第１押圧力Ｐ＿Ｃ１が減少する期間は、第１グループ６２Ａの押圧装置の第１押圧力が減少する期間よりも後に生じてもよい。
図２３に示すように、第１押圧力Ｐ＿Ｃ１は、最後の調整工程Ｓ４のときに、すなわち第Ｎ調整工程Ｓ４（Ｎ）のときに、ゼロよりも大きくてもよい。
符号Ｐ（１１）＿Ｃ１は、解放工程Ｓ６のときの第１押圧力Ｐ＿Ｃ１を意味する。第１押圧力Ｐ（１１）＿Ｃ１はゼロである。
符号Ｐ（１１）＿Ｃ１は、解放工程Ｓ６のときの第１押圧力Ｐ＿Ｃ１を意味する。第１押圧力Ｐ（１１）＿Ｃ１はゼロである。
第１押圧力Ｐ＿Ｃ１は、第Ｕ調整工程Ｓ４（Ｕ）（Ｕは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の時に最大値を示してもよい。これにより、中央測定グループ６１Ｃにおける変形量と目標変形量との差を抑制できる。図２３に示す例において、第１押圧力Ｐ＿Ｃ１は、第６調整工程Ｓ４（６）の時に最大値を示す。第Ｕ調整工程Ｓ４（Ｕ）において、第１中央押圧装置６２Ｃ１は第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｃ１を第１辺４１に加える。
式Ｕ≧Ｎ／２が成立していてもよい。すなわち、後半の調整工程Ｓ４において第１押圧力Ｐ＿Ｃ１が最大値を示してもよい。
式Ｕ≧Ｎ／２が成立していてもよい。すなわち、後半の調整工程Ｓ４において第１押圧力Ｐ＿Ｃ１が最大値を示してもよい。
第１押圧力Ｐ（１）＿Ｃ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｃ１の比率は、例えば、１．０５以上でもよく、１．１０以上でもよく、１．１５以上でもよい。第１押圧力Ｐ（１）＿Ｃ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｃ１の比率は、例えば、１．２０以下でもよく、１．３０以下でもよく、１．５０以下でもよい。第１押圧力Ｐ（１）＿Ｃ１は、第１調整工程Ｓ４（１）において第１中央押圧装置６２Ｃ１が第１辺４１に加える第１押圧力である。
第１押圧力Ｐ（１）＿Ｃ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｃ１の比率の範囲は、１．０５、１．１０及び１．１５からなる第１グループ、及び／又は、１．２０、１．３０及び１．５０からなる第２グループによって定められてもよい。第１押圧力Ｐ（１）＿Ｃ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｃ１の比率の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。第１押圧力Ｐ（１）＿Ｃ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｃ１の比率の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。第１押圧力Ｐ（１）＿Ｃ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｃ１の比率の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、第１押圧力Ｐ（１）＿Ｃ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｃ１の比率は、１．０５以上１．５０以下でもよく、１．０５以上１．３０以下でもよく、１．０５以上１．２０以下でもよく、１．０５以上１．１５以下でもよく、１．０５以上１．１０以下でもよく、１．１０以上１．５０以下でもよく、１．１０以上１．３０以下でもよく、１．１０以上１．２０以下でもよく、１．１０以上１．１５以下でもよく、１．１５以上１．５０以下でもよく、１．１５以上１．３０以下でもよく、１．１５以上１．２０以下でもよく、１．２０以上１．５０以下でもよく、１．２０以上１．３０以下でもよく、１．３０以上１．５０以下でもよい。
図２１に示す第１押圧力Ｐ＿Ａ１の推移は、第２１押圧装置６２Ｂ１においても実現されてもよい。図２２に示す第１押圧力Ｐ＿Ａ２の推移は、第２２押圧装置６２Ｂ２においても実現されてもよい。図２３に示す第１押圧力Ｐ＿Ｃ１の推移は、第２中央押圧装置６２Ｃ２においても実現されてもよい。
上述のように、製造装置６０の押圧機構６２は、第２方向Ｄ２に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、第１辺４１を押圧する５つ以上の押圧装置を備える。このため、第１辺４１の各位置における第１辺４１の変形量を精密に調整できる。これにより、フレーム４０が大型化した場合であっても、第１辺４１が各マスク５０に加える張力が目標張力からずれることを抑制できる。
上述のように、製造装置６０の変位測定機構６１は、第２方向において押圧装置から１００ｍｍ以下の位置において第１辺４１の変形量を測定する５つ以上の変位計を備える。このため、第１辺４１の各位置における変形量を精密に調整できる。これにより、フレーム４０が大型化した場合であっても、第１辺４１が各マスク５０に加える張力が目標張力からずれることを抑制できる。
マスク装置１５からマスク５０を取り外す分解方法が実施されてもよい。分解方法は、第１辺４１及び第２辺４２に押圧力を加えながらマスク５０をフレーム４０から取り外してもよい。これにより、フレーム４０の変形を維持しながらマスク５０をフレーム４０から取り外すことができる。また、マスク装置１５の製造方法においてフレーム４０に加えられた第１押圧力を推測できる。分解方法は、上述の製造装置６０の変位測定機構６１、押圧機構６２及び制御装置６３を用いて実施されてもよい。マスク装置１５の分解方法において押圧機構６２が第１辺４１及び第２辺４２に加える押圧力を、第２押圧力とも称する。
図２４は、分解方法の一例を示すフローチャートである。まず、マスク装置１５を準備する（工程ＲＳ１）。マスク装置１５は、図示しないステージの上に置かれてもよい。続いて、フレーム４０の基準位置を定める（工程ＲＳ２）。具体的には、変位測定機構６１を用いてフレーム４０の第１辺４１及び第２辺４２の最終変形量を測定する。第１辺４１及び第２辺４２の最終変形量は、角４６を結ぶ直線Ｌ１１及び直線Ｌ１２を基準として算出される。
続いて、Ｎ枚のマスク５０をフレーム４０から順に取り外すマスク取外し工程ＲＳ３を実施する。ｍ枚目（ｍは１以上Ｎ以下の整数）のマスク５０をフレーム４０から取り外す工程のことを、第ｍマスク取外し工程ＲＳ３（ｍ）とも称する。マスク取外し工程ＲＳ３は、第１マスク取外し工程ＲＳ３（１）～第Ｎマスク取外し工程ＲＳ３（Ｎ）というＮ回の工程を含む。
マスク取外し工程ＲＳ３は、図２４に示すように、除去工程ＲＳ４及び逆調整工程ＲＳ５をＮ回繰り返す。第ｍマスク取外し工程ＲＳ３（ｋ）における除去工程及び逆調整工程のことを、第ｍ除去工程ＲＳ４（ｍ）及び第ｍ逆調整工程ＲＳ５（ｍ）とも称する。
除去工程ＲＳ４は、マスク５０をフレーム４０から外す。例えば、マスク５０が切断される。これにより、第１辺４１及び第２辺４２がマスク５０から受ける反力がほぼゼロになる。
逆調整工程ＲＳ５は、除去工程ＲＳ５の後、開口４５に向かう方向において押圧機構６２が第１辺４１及び第２辺４２に加える第２押圧力を調整する。具体的には、逆調整工程ＲＳ５は、各マスク５０が第１辺４１及び第２辺４２から外された後の第１辺４１及び第２辺４２の変形量が最終変形量になるよう、第２押圧力を調整する。
以下の説明において、第ｍ逆調整工程ＲＳ５（ｍ）において第１辺４１に加えられる第２押圧力を、符号ＲＰ（ｍ）で表すこともある。また、第ｍ逆調整工程ＲＳ５（ｍ）において第１１押圧装置６２Ａ１、第１２押圧装置６２Ａ２、第２１押圧装置６２Ｂ１、第２２押圧装置６２Ｂ２、第１中央押圧装置６２Ｃ１、第２中央押圧装置６２Ｃ２が第１辺４１に加える第２押圧力を、符号ＲＰ（ｍ）＿Ａ１、ＲＰ（ｍ）＿Ａ２、ＲＰ（ｍ）＿Ｂ１、ＲＰ（ｍ）＿Ｂ２、ＲＰ（ｍ）＿Ｃ１、ＲＰ（ｍ）＿Ｃ２で表すこともある。
第ｍ逆調整工程ＲＳ５（ｍ）において第１グループ６２Ａの押圧装置が第１辺４１に加える第２押圧力の平均値を、符号ＲＰ（ｍ）＿Ａで表すこともある。第ｍ逆調整工程ＲＳ５（ｍ）において第２グループ６２Ｂの押圧装置が第１辺４１に加える第２押圧力の平均値を、符号ＲＰ（ｍ）＿Ｂで表すこともある。第ｍ逆調整工程ＲＳ５（ｍ）において中央グループ６２Ｃの押圧装置が第１辺４１に加える第２押圧力の平均値を、符号ＲＰ（ｍ）＿Ｃで表すこともある。
図２５は、除去工程ＲＳ４及び逆調整工程ＲＳ５の一例を示すフローチャートである。第ｍ除去工程ＲＳ４（ｍ）は、切断工程ＲＳ４１（ｍ）を含んでもよい。切断工程ＲＳ４１（ｍ）は、ｍ枚目のマスク５０を切断する。
逆調整工程ＲＳ５は、押圧工程ＲＳ５１（ｍ）と、判定工程ＲＳ５２（ｍ）と、記録工程ＲＳ５３（ｍ）と、を含んでもよい。押圧工程ＲＳ５１（ｍ）は、切断工程ＲＳ４１（ｍ）の後、フレーム４０への第２押圧力ＲＰ（ｍ）を調整する。判定工程ＲＳ５２（ｍ）は、ΔＲｄ（ｍ）が第３閾値ＴＨ３以下であるか否かを判定する。ΔＲｄ（ｍ）は、押圧工程ＲＳ５１（ｍ）のときの第１辺４１の変形量Ｒｄ（ｍ）と最終変形量との差の絶対値である。上述の判定工程Ｓ４２（ｋ）の場合と同様に、判定工程ＲＳ５２（ｍ）は、第１中央変位計６１Ｃ１が測定した変形量に関してΔＲｄ（ｍ）が第３閾値ＴＨ３以下であるか否かを判定してもよい。判定工程ＲＳ５２（ｍ）は、複数の変形量の測定値に関してΔＲｄ（ｍ）が第３閾値ＴＨ３以下であるか否かを判定してもよい。上述の判定工程Ｓ４２（ｋ）の場合と同様に、判定工程ＲＳ５２（ｍ）は、変位測定機構６１の各変位計における変形量の測定値のそれぞれに関してΔＲｄ（ｍ）が第３閾値ＴＨ３以下であるか否かを判定してもよい。第３閾値ＴＨ３の数値の範囲としては、上述の第１閾値ＴＨ１の数値の範囲を採用できる。
記録工程ＲＳ５３（ｍ）は、ΔＲｄ（ｍ）が第３閾値ＴＨ３以下であるときの第２押圧力ＲＰ（ｍ）を記録する。
図２４に示すように、マスク取外し工程ＲＳ３の後、解放工程ＲＳ６を実施してもよい。解放工程ＲＳ６は、フレーム４０への第２押圧力をゼロにする。例えば、押圧機構６２の各押圧装置のロッド６２１をフレーム４０から離す。
図２０及び図２６～図２９を参照して、マスク装置１５の分解方法を具体的に説明する。
図２０に示すように、フレーム４０にＮ枚のマスク５０が固定されている状態において、変位測定機構６１を用いて第１辺４１及び第２辺４２の最終変形量を測定する。続いて、Ｎ枚のマスク５０をフレーム４０から取り外すマスク取外し工程ＲＳ３を実施する。本実施の形態においては、第２方向Ｄ２におけるフレーム４０の中心から近い順にマスク５０をフレーム４０から取り外す例を説明する。具体的には、中央第１マスク５０Ｃ１、中央第２マスク５０Ｃ２、第１４マスク５０Ａ４、第２４マスク５０Ｂ４、第１３マスク５０Ａ３、第２３マスク５０Ｂ３、第１２マスク５０Ａ２、第２２マスク５０Ｂ２、第１１マスク５０Ａ１、第２１マスク５０Ｂ１がこの順で第１辺４１及び第２辺４２から取り外される。
１枚目のマスク５０をフレーム４０から取り外す第１マスク取付工程ＲＳ３（１）を実施する。１枚目のマスク５０は、中央第１マスク５０Ｃ１である。第１マスク取外し工程ＲＳ３（１）は、第１除去工程ＲＳ４（１）及び第１逆調整工程ＲＳ５（１）を含む。
図２６は、第１除去工程ＲＳ４（１）及び第１逆調整工程ＲＳ５（１）を示す図である。第１除去工程ＲＳ４（１）は、切断工程ＲＳ４１（１）を含む。切断工程ＲＳ４１（１）は、図２６に示すように、中央第１マスク５０Ｃ１を切断する。中央第１マスク５０Ｃ１の端部５１がフレーム４０に残ってもよい。
第１逆調整工程ＲＳ５（１）は、押圧工程ＲＳ５１（１）、判定工程ＲＳ５２（１）及び記録工程ＲＳ５３（１）を含む。
押圧工程ＲＳ５１（１）は、図２６に示すように、中央第１マスク５０Ｃ１が除去された後、第１辺４１及び第２辺４２を押圧する。制御装置６３は、第１辺４１及び第２辺４２の変形量が最終変形量になるよう、押圧機構６２を制御する。
判定工程ＲＳ５２（１）は、ΔＲｄ（１）が第３閾値ＴＨ３以下であるか否かを判定する。ΔＲｄ（１）が第３閾値ＴＨ３を超えている場合、押圧工程ＲＳ５１（１）が再び実施される。ΔＲｄ（１）が第３閾値ＴＨ３以下である場合、記録工程ＲＳ５３（１）に進む。記録工程ＲＳ５３（１）は、押圧機構６２の押圧装置が第１辺４１及び第２辺４２に加えている第２押圧力を第２押圧力ＲＰ（１）として記録する。
続いて、図２７に示すように、２枚目のマスク５０をフレーム４０から取り外す第２マスク取外し工程ＲＳ３（２）を実施する。２枚目のマスク５０は、中央第２マスク５０Ｃ２である。第２マスク取外し工程ＲＳ３（２）は、第２除去工程ＲＳ４（２）及び第２逆調整工程ＲＳ５（２）を含む。このようにして、中央マスクグループ５０Ｃの各マスク５０がフレーム４０から取り外される。
続いて、図２８に示すように、第３マスク取外し工程ＲＳ３（３）～第８マスク取外し工程ＲＳ３（８）を順に実施する。第３マスク取外し工程ＲＳ３（３）～第８マスク取外し工程ＲＳ３（８）は、第３除去工程ＲＳ４（３）～第８除去工程ＲＳ４（８）及び第３配置逆調整工程ＲＳ５（３）～第８逆調整工程ＲＳ５（８）を含む。
続いて、図２９に示すように、第９マスク取外し工程ＲＳ３（９）～第１０マスク取外し工程ＲＳ３（１０）を順に実施する。第９マスク取外し工程ＲＳ３（９）～第１０マスク取外し工程ＲＳ３（１０）は、第９除去工程ＲＳ４（９）～第１０除去工程ＲＳ４（１０）及び第９逆調整工程ＲＳ５（９）～第１０逆調整工程ＲＳ５（１０）を含む。
続いて、解放工程ＲＳ６を実施する。例えば、押圧機構６２の各押圧装置のロッド６２１をフレーム４０から離す。
図３０は、第１逆調整工程ＲＳ５（１）～第１０逆調整工程ＲＳ５（１０）において第１１押圧装置６２Ａ１が第１辺４１に加える第２押圧力ＲＰ＿Ａ１の推移の一例を示す図である。図３０に示すように、第２押圧力ＲＰ＿Ａ１は、２回以上の逆調整工程ＲＳ５の間、増加してもよい。図３０に示す例において、第２押圧力ＲＰ＿Ａ１は、第４逆調整工程ＲＳ５（４）～第９調整工程ＲＳ５（９）の間、増加している。
図３０に示すように、第２押圧力ＲＰ＿Ａ１は、２回目以降の逆調整工程ＲＳ５からゼロよりも大きくなってもよい。図３０に示す例においては、第５調整工程ＲＳ５（５）において第２押圧力ＲＰ＿Ａ１がゼロよりも大きくなる。
図３１は、第１逆調整工程ＲＳ５（１）～第１０逆調整工程ＲＳ５（１０）において第１２押圧装置６２Ａ２が第１辺４１に加える第２押圧力ＲＰ＿Ａ２の推移の一例を示す図である。図３１に示すように、第２押圧力ＲＰ＿Ａ２は、２回以上の逆調整工程ＲＳ５の間、増加してもよい。図３１に示す例において、第２押圧力ＲＰ＿Ａ２は、第２逆調整工程ＲＳ５（２）～第７逆調整工程ＲＳ５（７）の間、増加している。
図３１に示すように、第２押圧力ＲＰ＿Ａ２は、２回目以降の逆調整工程ＲＳ５からゼロよりも大きくなってもよい。図３１に示す例においては、第３調整工程ＲＳ５（３）において第２押圧力ＲＰ＿Ａ２がゼロよりも大きくなる。第２押圧力ＲＰ＿Ａ２は、第２押圧力ＲＰ＿Ａ１がゼロよりも大きくなる前に、ゼロよりも大きくなってもよい。
図３２は、第１逆調整工程ＲＳ５（１）～第１０逆調整工程ＲＳ５（１０）において第１中央押圧装置６２Ｃ１が第１辺４１に加える第２押圧力ＲＰ＿Ｃ１の推移の一例を示す図である。図３２に示すように、第２押圧力ＲＰ＿Ｃ１は、２回以上の逆調整工程ＲＳ５の間、増加してもよい。図３２に示す例において、第２押圧力ＲＰ＿Ｃ１は、第１逆調整工程ＲＳ５（１）～第５逆調整工程ＲＳ５（５）の間、増加している。第２押圧力ＲＰ＿Ｃ１が増加する期間は、第１グループ６２Ａの押圧装置の第２押圧力が増加する期間よりも前に生じてもよい。
図３２に示すように、第２押圧力ＲＰ＿Ｃ１は、第１逆調整工程ＲＳ５（１）のときにゼロよりも大きくてもよい。
第２押圧力ＲＰ＿Ｃ１は、第Ｑ逆調整工程ＲＳ５（Ｑ）（Ｑは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の時に最大値を示してもよい。図３２に示す例において、第２押圧力ＲＰ＿Ｃ１は、第５逆調整工程ＲＳ５（５）の時に最大値を示す。
式Ｑ≦Ｎ／２が成立していてもよい。すなわち、前半の逆調整工程ＲＳ５において第２押圧力ＲＰ＿Ｃ１が最大値を示してもよい。
式Ｑ≦Ｎ／２が成立していてもよい。すなわち、前半の逆調整工程ＲＳ５において第２押圧力ＲＰ＿Ｃ１が最大値を示してもよい。
最後の逆調整工程ＲＳ５のときに、すなわち第Ｎ逆調整工程ＲＳ５（Ｎ）のときに、第１中央押圧装置６２Ｃ１は、第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｃ１を第１辺４１に加える。
第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｃ１に対する第２押圧力ＲＰ（Ｑ）＿Ｃ１の比率は、例えば、１．０５以上でもよく、１．１０以上でもよく、１．１５以上でもよい。第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｃ１に対する第２押圧力ＲＰ（Ｑ）＿Ｃ１の比率は、例えば、１．２０以下でもよく、１．３０以下でもよく、１．５０以下でもよい。第２押圧力ＲＰ（Ｑ）＿Ｃ１は、第Ｑ逆調整工程ＲＳ５（Ｑ）において第１中央押圧装置６２Ｃ１が第１辺４１に加える第２押圧力である。
第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｃ１に対する第２押圧力ＲＰ（Ｑ）＿Ｃ１の比率の範囲は、１．０５、１．１０及び１．１５からなる第１グループ、及び／又は、１．２０、１．３０及び１．５０からなる第２グループによって定められてもよい。第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｃ１に対する第２押圧力ＲＰ（Ｑ）＿Ｃ１の比率は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｃ１に対する第２押圧力ＲＰ（Ｑ）＿Ｃ１の比率は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｃ１に対する第２押圧力ＲＰ（Ｑ）＿Ｃ１の比率は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｃ１に対する第２押圧力ＲＰ（Ｑ）＿Ｃ１の比率は、１．０５以上１．５０以下でもよく、１．０５以上１．３０以下でもよく、１．０５以上１．２０以下でもよく、１．０５以上１．１５以下でもよく、１．０５以上１．１０以下でもよく、１．１０以上１．５０以下でもよく、１．１０以上１．３０以下でもよく、１．１０以上１．２０以下でもよく、１．１０以上１．１５以下でもよく、１．１５以上１．５０以下でもよく、１．１５以上１．３０以下でもよく、１．１５以上１．２０以下でもよく、１．２０以上１．５０以下でもよく、１．２０以上１．３０以下でもよく、１．３０以上１．５０以下でもよい。
図３０に示す第２押圧力ＲＰ＿Ａ１の推移は、第２１押圧装置６２Ｂ１においても実現されてもよい。図３１に示す第２押圧力ＲＰ＿Ａ２の推移は、第２２押圧装置６２Ｂ２においても実現されてもよい。図３２に示す第２押圧力ＲＰ＿Ｃ１の推移は、第２中央押圧装置６２Ｃ２においても実現されてもよい。
制御装置６３は、第Ｎ逆調整工程ＲＳ５（Ｎ）において押圧機構６２の各押圧装置が第１辺４１に加える第２押圧力の差が所定の範囲内になるよう、押圧機構６２を制御してもよい。例えば、第３比率ＲＡ３及び第４比率ＲＡ４が所定の値以下になるよう、制御装置６３が押圧機構６２を制御してもよい。第３比率ＲＡ３は、第Ｎ逆調整工程ＲＳ５（Ｎ）における、中央グループ６２Ｃの平均第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｃに対する第１グループ６２Ａの平均第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ａの比率である。第４比率ＲＡ４は、第Ｎ逆調整工程ＲＳ５（Ｎ）における、中央グループ６２Ｃの平均第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｃに対する第２グループ６２Ｂの平均第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｂの比率である。平均第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ａは、第Ｎ逆調整工程ＲＳ５（Ｎ）において第１グループ６２Ａの押圧装置が第１辺４１に加える第２押圧力の平均値である。平均第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｂは、第Ｎ逆調整工程ＲＳ５（Ｎ）において第２グループ６２Ｂの押圧装置が第１辺４１に加える第２押圧力の平均値である。平均第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｃは、第Ｎ逆調整工程ＲＳ５（Ｎ）において中央グループ６２Ｃの押圧装置が第１辺４１に加える第２押圧力の平均値である。
第３比率ＲＡ３及び第４比率ＲＡ４は、例えば、０．６以上でもよく、０．７以上でもよく、０．８以上でもよく、０．９以上でもよい。第３比率ＲＡ３及び第４比率ＲＡ４は、例えば、１．１以下でもよく、１．２以下でもよく、１．３以下でもよく、１．４以下でもよい。第３比率ＲＡ３及び第４比率ＲＡ４の範囲は、０．６、０．７、０．８及び０．９からなる第１グループ、及び／又は、１．１、１．２、１．３及び１．４からなる第２グループによって定められてもよい。第３比率ＲＡ３及び第４比率ＲＡ４の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。第３比率ＲＡ３及び第４比率ＲＡ４の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。第３比率ＲＡ３及び第４比率ＲＡ４の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、第３比率ＲＡ３及び第４比率ＲＡ４は、０．６以上１．４以下でもよく、０．６以上１．３以下でもよく、０．６以上１．２以下でもよく、０．６以上１．１以下でもよく、０．６以上０．９以下でもよく、０．６以上０．８以下でもよく、０．６以上０．７以下でもよく、０．７以上１．４以下でもよく、０．７以上１．３以下でもよく、０．７以上１．２以下でもよく、０．７以上１．１以下でもよく、０．７以上０．９以下でもよく、０．７以上０．８以下でもよく、０．８以上１．４以下でもよく、０．８以上１．３以下でもよく、０．８以上１．２以下でもよく、０．８以上１．１以下でもよく、０．８以上０．９以下でもよく、０．９以上１．４以下でもよく、０．９以上１．３以下でもよく、０．９以上１．２以下でもよく、０．９以上１．１以下でもよく、１．１以上１．４以下でもよく、１．１以上１．３以下でもよく、１．１以上１．２以下でもよく、１．２以上１．４以下でもよく、１．２以上１．３以下でもよく、１．３以上１．４以下でもよい。
上述した一実施形態を様々に変更できる。以下、必要に応じて図面を参照しながら、その他の実施形態について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した一実施形態と同様に構成され得る部分について、上述の一実施形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いる。重複する説明は省略する。また、上述した一実施形態において得られる作用効果がその他の実施形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略する場合もある。
図３３は、第２の実施の形態に係るマスク装置１５を示す平面図である。マスク装置１５は、第２方向に沿って並ぶＮ枚のマスク５０を備える。Ｎは奇数である。図３３示すマスク装置１５は、９枚のマスク５０を備える。
中央マスクグループ５０Ｃは、１枚のマスク５０を含む。具体的には、中央マスクグループ５０Ｃは、第１１マスク５０Ａ１を含む。第１１マスク５０Ａ１は、第２中心線Ｌｃ２に重なっていてもよい。
第１マスクグループ５０Ａは、１枚以上のマスク５０を含む。第１マスクグループ５０Ａは、２枚以上のマスク５０を含んでもよい。図３３に示す第１マスクグループ５０Ａは、第３辺４３から第２中心線Ｌｃ２に向かう方向に順に並ぶ第１１マスク５０Ａ１、第１２マスク５０Ａ２、第１３マスク５０Ａ３及び第１４マスク５０Ａ４を含む。
第２マスクグループ５０Ｂは、１枚以上のマスク５０を含む。第２マスクグループ５０Ｂは、２枚以上のマスク５０を含んでもよい。第２マスクグループ５０Ｂに含まれるマスク５０の数は、第１マスクグループ５０Ａに含まれるマスク５０の数と同一であってもよい。図３３に示す第２マスクグループ５０Ｂは、第４辺４４から第２中心線Ｌｃ２に向かう方向に順に並ぶ第２１マスク５０Ｂ１、第２２マスク５０Ｂ２、第２３マスク５０Ｂ３及び第２４マスク５０Ｂ４を含む。
図３４は、第２の実施の形態に係る製造装置６０を示す平面図である。
第１辺４１を押圧する押圧機構６２は、中央グループ６２Ｃ、第１グループ６２Ａ及び第２グループ６２Ｂを含む。中央グループ６２Ｃは、１つの押圧装置を含んでもよい。具体的には、中央グループ６２Ｃは、第１中央押圧装置６２Ｃ１を含む。第１中央押圧装置６２Ｃ１は、第２中心線Ｌｃ２に重なっていてもよい。
第１グループ６２Ａは、２つ以上の押圧装置を含む。本実施の形態において、第１グループ６２Ａは、第３辺４３から第２中心線Ｌｃ２に向かう方向に順に並ぶ第１１押圧装置６２Ａ１及び第１２押圧装置６２Ａ２を含む。
第２グループ６２Ｂは、２つ以上の押圧装置を含む。第２グループ６２Ｂに含まれる押圧装置の数は、第１グループ６２Ａに含まれる押圧装置の数と同一であってもよい。本実施の形態において、第２グループ６２Ｂは、第４辺４４から第２中心線Ｌｃ２に向かう方向に順に並ぶ第２１押圧装置６２Ｂ１及び第２２押圧装置６２Ｂ２を含む。
第１辺４１の変形量を測定する変位測定機構６１は、中央測定グループ６１Ｃ、第１測定グループ６１Ａ及び第２測定グループ６１Ｂを含む。中央測定グループ６１Ｃは、１つの変位計を含んでもよい。具体的には、中央測定グループ６１Ｃは、第１中央変位計６１Ｃ１を含んでもよい。第１中央変位計６１Ｃ１は、第１中央押圧装置６２Ｃ１の近くに位置する。変位測定機構６１は、第１補助変位計６１Ｄ及び第２補助変位計６１Ｅを含んでもよい。
第１測定グループ６１Ａは、２つ以上の変位計を含む。本実施の形態において、第１測定グループ６１Ａは、第３辺４３から第２中心線Ｌｃ２に向かう方向に順に並ぶ第１１変位計６１Ａ１及び第１２変位計６１Ａ２を含む。第１１変位計６１Ａ１は、第１１押圧装置６２Ａ１の近くに位置する。第１２変位計６１Ａ２は、第１２押圧装置６２Ａ２の近くに位置する。
第２測定グループ６１Ｂは、２つ以上の変位計を含む。本実施の形態において、第２測定グループ６１Ｂは、第４辺４４から第２中心線Ｌｃ２に向かう方向に順に並ぶ第２１変位計６１Ｂ１及び第２２変位計６１Ｂ２を含む。第２１変位計６１Ｂ１は、第２１押圧装置６２Ｂ１の近くに位置する。第２２変位計６１Ｂ２は、第２２押圧装置６２Ｂ２の近くに位置する。
押圧機構６２の押圧装置は、上述の実施の形態の場合と同様に、第２方向Ｄ２に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並んでいる。このため、第１辺４１の各位置における第１辺４１の変形量を精密に調整できる。これにより、フレーム４０が大型化した場合であっても、第１辺４１が各マスク５０に加える張力が目標張力からずれることを抑制できる。
変位測定機構６１の変位計は、上述の実施の形態の場合と同様に、第２方向において押圧装置から１００ｍｍ以下の位置において第１辺４１の変形量を測定する。このため、第１辺４１の各位置における変形量を精密に調整できる。これにより、フレーム４０が大型化した場合であっても、第１辺４１が各マスク５０に加える張力が目標張力からずれることを抑制できる。
図３５は、第３の実施の形態に係る製造装置６０を示す平面図である。変位測定機構６１の変位計は、フレーム４０に接触することなく第１辺４１及び第２辺４２の変形量を測定してもよい。変位計のタイプは、光学式、渦電流式、超音波式、レーザーフォーカス式、静電容量式などである。
レーザーフォーカス式の変位計は、フレーム４０に向けてレーザーを照射し、フレームによって反射されたレーザーを検出する。
静電容量式の変位計は、変位計とフレーム４０との間の静電容量を測定し、静電容量に基づいて変位計とフレーム４０との間の距離を算出する。
レーザーフォーカス式の変位計は、フレーム４０に向けてレーザーを照射し、フレームによって反射されたレーザーを検出する。
静電容量式の変位計は、変位計とフレーム４０との間の静電容量を測定し、静電容量に基づいて変位計とフレーム４０との間の距離を算出する。
図３６は、第４の実施の形態に係る製造装置６０を示す平面図である。変位測定機構６１は、移動機構６６によって支持されていてもよい。この場合、変位測定機構６１は、フレーム４０に接触することなく第１辺４１及び第２辺４２の変形量を測定する。移動機構６６は、第１方向Ｄ１、第２方向Ｄ２などに沿って変位測定機構６１を移動させる。例えば、移動機構６６は、第１方向Ｄ１に沿って変位測定機構６１を移動させる第１移動装置６７を含んでもよい。移動機構６６は、第２方向Ｄ２に沿って第１移動装置６７を移動させる第２移動装置を含んでもよい。複数の位置において変位測定機構６１がフレーム４０を観察することにより、第１辺４１及び第２辺４２の変形量を測定できる。
上述の実施の形態においては、第２方向Ｄ２におけるフレーム４０の中心から遠い順にマスク５０を第１辺４１及び第２辺４２に取り付ける例を説明した。第５の実施の形態においては、第２方向Ｄ２におけるフレーム４０の中心から近い順にマスク５０を第１辺４１及び第２辺４２に取り付ける例を説明する。すなわち、本実施の形態においては、中央マスクグループ５０Ｃのマスク５０が、第１マスクグループ５０Ａのマスク５０及び第２マスクグループ５０Ｂのマスク５０よりも先に第１辺４１及び第２辺４２に取り付けられる。第２方向Ｄ２におけるフレーム４０の中心からの距離が同一である場合、第３辺４３と第２中心線Ｌｃ２との間に位置するマスク５０が、第４辺４４と第２中心線Ｌｃ２との間に位置するマスク５０よりも先に第１辺４１及び第２辺４２に取り付けられる。従って、中央第１マスク５０Ｃ１、中央第２マスク５０Ｃ２、第１４マスク５０Ａ４、第２４マスク５０Ｂ４、第１３マスク５０Ａ３、第２３マスク５０Ｂ３、第１２マスク５０Ａ２、第２２マスク５０Ｂ２、第１１マスク５０Ａ１、第２１マスク５０Ｂ１がこの順で第１辺４１及び第２辺４２に取り付けられる。
まず、１枚目のマスク５０をフレーム４０に取り付ける第１マスク取付工程Ｓ３（１）を実施する。１枚目のマスク５０は、中央第１マスク５０Ｃ１である。第１マスク取付工程Ｓ３（１）は、第１調整工程Ｓ４（１）及び第１配置工程Ｓ５（１）を含む。
第１調整工程Ｓ４（１）は、上述の第１の実施の形態と同様に、押圧工程Ｓ４１（１）及び判定工程Ｓ４２（１）を含む。第１配置工程Ｓ５（１）は、上述の第１の実施の形態と同様に、位置調整工程Ｓ５１（１）、判定工程Ｓ５２（１）、及び固定工程Ｓ５３（１）を含む。
位置調整工程Ｓ５１（１）は、図４０に示すように、中央第１マスク５０Ｃ１に張力を加えた状態で中央第１マスク５０Ｃ１の位置を調整する。判定工程Ｓ５２（１）は、観察装置７３を用いて中央第１マスク５０Ｃ１の位置を観察する。判定工程Ｓ５２（１）は、中央第１マスク５０Ｃ１のマスク誤差が第２閾値ＴＨ２以下であるか否かを判定する。マスク誤差が第２閾値ＴＨ２を超えている場合、位置調整工程Ｓ５１（１）が再び実施される。マスク誤差が第２閾値ＴＨ２以下である場合、固定工程Ｓ５３（１）に進む。図４１は、固定工程Ｓ５３（１）を示す図である。
続いて、図４２に示すように、２枚目のマスク５０をフレーム４０に取り付ける第２マスク取付工程Ｓ３（２）を実施する。２枚目のマスク５０は、中央第２マスク５０Ｃ２である。第２マスク取付工程Ｓ３（２）は、第２調整工程Ｓ４（２）及び第２配置工程Ｓ５（２）を含む。
続いて、図４３に示すように、第３マスク取付工程Ｓ３（３）～第８マスク取付工程Ｓ３（８）を順に実施する。これにより、第１４マスク５０Ａ４、第２４マスク５０Ｂ４、第１３マスク５０Ａ３、第２３マスク５０Ｂ３、第１２マスク５０Ａ２及び第２２マスク５０Ｂ２がこの順でフレーム４０に取り付けられる。第３マスク取付工程Ｓ３（３）～第８マスク取付工程Ｓ３（８）は、第３調整工程Ｓ４（３）～第８調整工程Ｓ４（８）及び第３配置工程Ｓ５（３）～第８配置工程Ｓ５（８）を含む。
続いて、図４４に示すように、第９マスク取付工程Ｓ３（９）～第１０マスク取付工程Ｓ３（１０）を順に実施する。これにより、第１１マスク５０Ａ１及び第２１マスク５０Ｂ１がこの順でフレーム４０に取り付けられる。第９マスク取付工程Ｓ３（９）～第１０マスク取付工程Ｓ３（１０）は、第９調整工程Ｓ４（９）～第１０調整工程Ｓ４（１０）及び第９配置工程Ｓ５（９）～第１０配置工程Ｓ５（１０）を含む。
続いて、解放工程Ｓ６を実施する。例えば、押圧機構６２の各押圧装置のロッド６２１をフレーム４０から離す。続いて、最終確認工程Ｓ７を実施する。最終確認工程Ｓ７は、第１辺４１及び第２辺４２の最終変形量と目標変形量との差が上述の第１閾値ＴＨ１以下であるか否かを判定する。差が第１閾値ＴＨ１以下である場合、マスク装置１５を合格品として認定する。
図４５は、第１調整工程Ｓ４（１）～第１０調整工程Ｓ４（１０）において第２１押圧装置６２Ｂ１が第１辺４１に加える第１押圧力Ｐ＿Ｂ１の推移の一例を示す図である。第２１押圧装置６２Ｂ１は、第２グループ６２Ｂに属する押圧装置のうち、第４辺４４に最も近い押圧装置である。図４５に示すように、第１押圧力Ｐ＿Ｂ１は、２回以上の調整工程Ｓ４の間、減少してもよい。図４５に示す例において、第１押圧力Ｐ＿Ｂ１は、第８調整工程Ｓ４（８）～第１０調整工程Ｓ４（１０）の間、減少している。第１押圧力Ｐ＿Ｂ１が減少する期間は、中央グループ６２Ｃの押圧装置の第１押圧力が減少する期間よりも後に生じてもよい。
図４５に示すように、第１押圧力Ｐ＿Ｂ１は、最後の調整工程Ｓ４のときに、すなわち第Ｎ調整工程Ｓ４（Ｎ）のときに、ゼロよりも大きくてもよい。図４５に示す例において、最後の調整工程Ｓ４は、第１０調整工程Ｓ４（１０）である。
符号Ｐ（１１）＿Ｂ１は、解放工程Ｓ６のときの第１押圧力Ｐ＿Ｂ１を意味する。第１押圧力Ｐ（１１）＿Ｂ１はゼロである。
符号Ｐ（１１）＿Ｂ１は、解放工程Ｓ６のときの第１押圧力Ｐ＿Ｂ１を意味する。第１押圧力Ｐ（１１）＿Ｂ１はゼロである。
第１押圧力Ｐ＿Ｂ１は、第Ｕ調整工程Ｓ４（Ｕ）（Ｕは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の時に最大値を示してもよい。これにより、第２測定グループ６１Ｂにおける変形量と目標変形量との差を抑制できる。図４５に示す例において、第１押圧力Ｐ＿Ｂ１は、第８調整工程Ｓ４（８）の時に最大値を示す。第Ｕ調整工程Ｓ４（Ｕ）において、第２１押圧装置６２Ｂ１は第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｂ１を第１辺４１に加える。
式Ｕ≧Ｎ／２が成立していてもよい。すなわち、後半の調整工程Ｓ４において第１押圧力Ｐ＿Ｂ１が最大値を示してもよい。
式Ｕ≧Ｎ／２が成立していてもよい。すなわち、後半の調整工程Ｓ４において第１押圧力Ｐ＿Ｂ１が最大値を示してもよい。
第１押圧力Ｐ（１）＿Ｂ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｂ１の比率は、例えば、１．０５以上でもよく、１．１０以上でもよく、１．１５以上でもよい。第１押圧力Ｐ（１）＿Ｂ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｂ１の比率は、例えば、１．２０以下でもよく、１．３０以下でもよく、１．５０以下でもよい。第１押圧力Ｐ（１）＿Ｂ１は、第１調整工程Ｓ４（１）において第２１押圧装置６２Ｂ１が第１辺４１に加える第１押圧力である。
第１押圧力Ｐ（１）＿Ｂ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｂ１の比率の範囲は、１．０５、１．１０及び１．１５からなる第１グループ、及び／又は、１．２０、１．３０及び１．５０からなる第２グループによって定められてもよい。第１押圧力Ｐ（１）＿Ｂ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｂ１の比率の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。第１押圧力Ｐ（１）＿Ｂ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｂ１の比率の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。第１押圧力Ｐ（１）＿Ｂ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｂ１の比率の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、第１押圧力Ｐ（１）＿Ｂ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｂ１の比率は、１．０５以上１．５０以下でもよく、１．０５以上１．３０以下でもよく、１．０５以上１．２０以下でもよく、１．０５以上１．１５以下でもよく、１．０５以上１．１０以下でもよく、１．１０以上１．５０以下でもよく、１．１０以上１．３０以下でもよく、１．１０以上１．２０以下でもよく、１．１０以上１．１５以下でもよく、１．１５以上１．５０以下でもよく、１．１５以上１．３０以下でもよく、１．１５以上１．２０以下でもよく、１．２０以上１．５０以下でもよく、１．２０以上１．３０以下でもよく、１．３０以上１．５０以下でもよい。
図４６は、第１調整工程Ｓ４（１）～第１０調整工程Ｓ４（１０）において第２２押圧装置６２Ｂ２が第１辺４１に加える第１押圧力Ｐ＿Ｂ２の推移の一例を示す図である。図４６に示すように、第１押圧力Ｐ＿Ｂ２は、２回以上の調整工程Ｓ４の間、減少してもよい。図４６に示す例において、第１押圧力Ｐ＿Ｂ２は、第６調整工程Ｓ４（６）～第８調整工程Ｓ４（８）の間、減少している。第１押圧力Ｐ＿Ｂ２が減少する期間は、中央グループ６２Ｃの押圧装置の第１押圧力が減少する期間よりも後に生じてもよい。第１押圧力Ｐ＿Ｂ２が減少する期間は、第１押圧力Ｐ＿Ｂ１が減少する期間よりも先に生じてもよい。
図４６に示すように、第１押圧力Ｐ＿Ｂ２は、最後の調整工程Ｓ４の前に、すなわち第１０調整工程Ｓ４（１０）の前にゼロになってもよい。図４６に示す例においては、第９調整工程Ｓ４（９）において第１押圧力Ｐ＿Ｂ２がゼロになる。第１押圧力Ｐ＿Ｂ２は、第１押圧力Ｐ＿Ｂ１がゼロになる前にゼロになってもよい。
符号Ｐ（１１）＿Ｂ２は、解放工程Ｓ６のときの第１押圧力Ｐ＿Ｂ２を意味する。第１押圧力Ｐ（１１）＿Ｂ２はゼロである。
符号Ｐ（１１）＿Ｂ２は、解放工程Ｓ６のときの第１押圧力Ｐ＿Ｂ２を意味する。第１押圧力Ｐ（１１）＿Ｂ２はゼロである。
第１押圧力Ｐ＿Ｂ２は、第１調整工程Ｓ４（１）以外の時に最大値を示してもよい。これにより、第２測定グループ６１Ｂにおける変形量と目標変形量との差を抑制できる。図４６に示す例において、第１押圧力Ｐ＿Ｂ２は、第２調整工程Ｓ４（２）の時に最大値を示す。第２調整工程Ｓ４（２）において、第２２押圧装置６２Ｂ２は第１押圧力Ｐ（２）＿Ｂ２を第１辺４１に加える。図示はしないが、第１押圧力Ｐ＿Ｂ２は、第３調整工程Ｓ４（３）又は第４調整工程Ｓ４（４）の時に最大値を示してもよい。
第１押圧力Ｐ（１）＿Ｂ２に対する、第１押圧力Ｐ＿Ｂ２の最大値の比率の範囲としては、上述の「第１押圧力Ｐ（１）＿Ｂ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｂ１の比率」の数値の範囲を採用できる。
図４７は、第１調整工程Ｓ４（１）～第１０調整工程Ｓ４（１０）において第２中央押圧装置６２Ｃ２が第１辺４１に加える第１押圧力Ｐ＿Ｃ２の推移の一例を示す図である。図４７に示すように、第１押圧力Ｐ＿Ｃ２は、２回以上の調整工程Ｓ４の間、減少してもよい。図４７に示す例において、第１押圧力Ｐ＿Ｃ２は、第１調整工程Ｓ４（１）～第７調整工程Ｓ４（７）の間、減少している。このように、第１押圧力Ｐ＿Ｃ２は、第１調整工程Ｓ４（１）を起点として単調に減少してもよい。
図４７に示すように、第１押圧力Ｐ＿Ｃ２は、最後の調整工程Ｓ４の前に、すなわち第１０調整工程Ｓ４（１０）の前にゼロになってもよい。図４７に示す例においては、第７調整工程Ｓ４（７）において第１押圧力Ｐ＿Ｃ２がゼロになる。
符号Ｐ（１１）＿Ｃ２は、解放工程Ｓ６のときの第１押圧力Ｐ＿Ｃ２を意味する。第１押圧力Ｐ（１１）＿Ｃ２はゼロである。
符号Ｐ（１１）＿Ｃ２は、解放工程Ｓ６のときの第１押圧力Ｐ＿Ｃ２を意味する。第１押圧力Ｐ（１１）＿Ｃ２はゼロである。
図４５に示す第１押圧力Ｐ＿Ｂ１の推移は、第１１押圧装置６２Ａ１においても実現されてもよい。図４６に示す第１押圧力Ｐ＿Ｂ２の推移は、第１２押圧装置６２Ａ２においても実現されてもよい。図４７に示す第１押圧力Ｐ＿Ｃ２の推移は、第１中央押圧装置６２Ｃ１においても実現されてもよい。
制御装置６３は、第１調整工程Ｓ４（１）において押圧機構６２の各押圧装置が第１辺４１に加える第１押圧力の差が所定の範囲内になるよう、押圧機構６２を制御してもよい。例えば、上述の第１の実施の形態の場合と同様に、第１比率ＲＡ１及び第２比率ＲＡ２が所定の値以下になるよう、制御装置６３が押圧機構６２を制御してもよい。
マスク装置１５からマスク５０を取り外す分解方法が実施されてもよい。図４４及び図４８～図４９を参照して、マスク装置１５の分解方法を具体的に説明する。
図４４に示すように、フレーム４０にＮ枚のマスク５０が固定されている状態において、変位測定機構６１を用いて第１辺４１及び第２辺４２の最終変形量を測定する。続いて、Ｎ枚のマスク５０をフレーム４０から取り外すマスク取外し工程ＲＳ３を実施する。本実施の形態においては、第２方向Ｄ２におけるフレーム４０の中心から遠い順にマスク５０をフレーム４０から取り外す例を説明する。すなわち、本実施の形態においては、第１マスクグループ５０Ａのマスク５０及び第２マスクグループ５０Ｂのマスク５０が、中央マスクグループ５０Ｃのマスク５０よりも先にフレーム４０から取り外される。第２方向Ｄ２におけるフレーム４０の中心からの距離が同一である場合、第４辺４４と第２中心線Ｌｃ２との間に位置するマスク５０が、第３辺４３と第２中心線Ｌｃ２との間に位置するマスク５０よりも先にフレーム４０から取り外される。従って、第２１マスク５０Ｂ１、第１１マスク５０Ａ１、第２２マスク５０Ｂ２、第１２マスク５０Ａ２、第２３マスク５０Ｂ３、第１３マスク５０Ａ３、第２４マスク５０Ｂ４、第１４マスク５０Ａ４、中央第２マスク５０Ｃ２、中央第１マスク５０Ｃ１がこの順でフレーム４０から取り外される。
１枚目のマスク５０をフレーム４０から取り外す第１マスク取付工程ＲＳ３（１）を実施する。１枚目のマスク５０は、第２１マスク５０Ｂ１である。第１マスク取外し工程ＲＳ３（１）は、上述の実施の形態と同様に、第１除去工程ＲＳ４（１）及び第１逆調整工程ＲＳ５（１）を含む。
図４８は、第１除去工程ＲＳ４（１）及び第１逆調整工程ＲＳ５（１）を示す図である。第１除去工程ＲＳ４（１）は、切断工程ＲＳ４１（１）を含む。切断工程ＲＳ４１（１）は、図４８に示すように、第２１マスク５０Ｂ１を切断する。第２１マスク５０Ｂ１の端部５１がフレーム４０に残ってもよい。
第１逆調整工程ＲＳ５（１）は、押圧工程ＲＳ５１（１）、判定工程ＲＳ５２（１）及び記録工程ＲＳ５３（１）を含む。
押圧工程ＲＳ５１（１）は、図４８に示すように、第２１マスク５０Ｂ１が除去された後、第１辺４１及び第２辺４２を押圧する。制御装置６３は、第１辺４１及び第２辺４２の変形量が最終変形量になるよう、押圧機構６２を制御する。
判定工程ＲＳ５２（１）は、ΔＲｄ（１）が第３閾値ＴＨ３以下であるか否かを判定する。ΔＲｄ（１）が第３閾値ＴＨ３を超えている場合、押圧工程ＲＳ５１（１）が再び実施される。ΔＲｄ（１）が第３閾値ＴＨ３以下である場合、記録工程ＲＳ５３（１）に進む。記録工程ＲＳ５３（１）は、押圧機構６２の押圧装置が第１辺４１及び第２辺４２に加えている第２押圧力を第２押圧力ＲＰ（１）として記録する。
続いて、図４９に示すように、２枚目のマスク５０をフレーム４０から取り外す第２マスク取外し工程ＲＳ３（２）を実施する。２枚目のマスク５０は、第１１マスク５０Ａ１である。第２マスク取外し工程ＲＳ３（２）は、第２除去工程ＲＳ４（２）及び第２逆調整工程ＲＳ５（２）を含む。
続いて、第３マスク取外し工程ＲＳ３（３）～第１０マスク取外し工程ＲＳ３（１０）を順に実施する。第３マスク取外し工程ＲＳ３（３）～第１０マスク取外し工程ＲＳ３（１０）は、第３除去工程ＲＳ４（３）～第１０除去工程ＲＳ４（１０）及び第３配置逆調整工程ＲＳ５（３）～第１０逆調整工程ＲＳ５（１０）を含む。
続いて、解放工程ＲＳ６を実施する。例えば、押圧機構６２の各押圧装置のロッド６２１をフレーム４０から離す。
図５０は、第１逆調整工程ＲＳ５（１）～第１０逆調整工程ＲＳ５（１０）において第２１押圧装置６２Ｂ１が第１辺４１に加える第２押圧力ＲＰ＿Ｂ１の推移の一例を示す図である。第２１押圧装置６２Ｂ１は、第２グループ６２Ｂに属する押圧装置のうち、第４辺４４に最も近い押圧装置である。図５０に示すように、第２押圧力ＲＰ＿Ｂ１は、２回以上の逆調整工程ＲＳ５の間、増加してもよい。図５０に示す例において、第２押圧力ＲＰ＿Ｂ１は、第１逆調整工程ＲＳ５（１）～第３逆調整工程ＲＳ５（３）の間、増加している。第１押圧力Ｐ＿Ｂ１が増加する期間は、中央グループ６２Ｃの押圧装置の第１押圧力が増加する期間よりも先に生じてもよい。
図５０に示すように、第２押圧力ＲＰ＿Ｂ１は、第１逆調整工程ＲＳ５（１）のときにゼロよりも大きくてもよい。
第２押圧力ＲＰ＿Ｂ１は、第Ｑ逆調整工程ＲＳ５（Ｑ）（Ｑは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の時に最大値を示してもよい。図５０に示す例において、第２押圧力ＲＰ＿Ｂ１は、第３逆調整工程ＲＳ５（３）の時に最大値を示す。
式Ｑ≦Ｎ／２が成立していてもよい。すなわち、前半の逆調整工程ＲＳ５において第２押圧力ＲＰ＿Ｂ１が最大値を示してもよい。
式Ｑ≦Ｎ／２が成立していてもよい。すなわち、前半の逆調整工程ＲＳ５において第２押圧力ＲＰ＿Ｂ１が最大値を示してもよい。
最後の逆調整工程ＲＳ５のときに、すなわち第Ｎ逆調整工程ＲＳ５（Ｎ）のときに、第２１押圧装置６２Ｂ１は、第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｂ１を第１辺４１に加える。
第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｂ１に対する第２押圧力ＲＰ（Ｑ）＿Ｂ１の比率は、例えば、１．０５以上でもよく、１．１０以上でもよく、１．１５以上でもよい。第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｂ１に対する第２押圧力ＲＰ（Ｑ）＿Ｂ１の比率は、例えば、１．２０以下でもよく、１．３０以下でもよく、１．５０以下でもよい。第２押圧力ＲＰ（Ｑ）＿Ｂ１は、第Ｑ逆調整工程ＲＳ５（Ｑ）において第２１押圧装置６２Ｂ１が第１辺４１に加える第２押圧力である。第２押圧力ＲＰ（Ｎ）＿Ｂ１に対する第２押圧力ＲＰ（Ｑ）＿Ｂ１の比率の数値の範囲としては、上述の「第１押圧力Ｐ（１）＿Ｂ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｂ１の比率」の数値の範囲を採用できる。
図５１は、第１逆調整工程ＲＳ５（１）～第１０逆調整工程ＲＳ５（１０）において第２２押圧装置６２Ｂ２が第１辺４１に加える第２押圧力ＲＰ＿Ｂ２の推移の一例を示す図である。図５１に示すように、第２押圧力ＲＰ＿Ｂ２は、２回以上の逆調整工程ＲＳ５の間、増加してもよい。図５１に示す例において、第２押圧力ＲＰ＿Ｂ２は、第２逆調整工程ＲＳ５（２）～第７逆調整工程ＲＳ５（５）の間、増加している。
図５１に示すように、第２押圧力ＲＰ＿Ｂ２は、２回目以降の逆調整工程ＲＳ５からゼロよりも大きくなってもよい。図５１に示す例においては、第２調整工程ＲＳ５（２）において第２押圧力ＲＰ＿Ｂ２がゼロよりも大きくなる。第２押圧力ＲＰ＿Ｂ２は、第２押圧力ＲＰ＿Ｂ１がゼロよりも大きくなった後に、ゼロよりも大きくなってもよい。第２押圧力ＲＰ＿Ｂ２は、後述する第２押圧力ＲＰ＿Ｃ２がゼロよりも大きくなる前に、ゼロよりも大きくなってもよい
第２押圧力ＲＰ＿Ｂ２は、第Ｎ逆調整工程ＲＳ５（Ｎ）以外の時に最大値を示してもよい。図５１に示す例において、第２押圧力ＲＰ＿Ｂ２は、第９逆調整工程ＲＳ５（９）の時に最大値を示す。すなわち、第２押圧力ＲＰ＿Ｂ２は、第（Ｎ－１）逆調整工程ＲＳ５（Ｎ－１）の時に最大値を示す。第９逆調整工程ＲＳ５（９）において、第２２押圧装置６２Ｂ２は第２押圧力Ｐ（９）＿Ｂ２を第１辺４１に加える。図示はしないが、第２押圧力Ｐ＿Ｂ２は、第（Ｎ－２）逆調整工程ＲＳ５（Ｎ－２）又は第（Ｎ－３）逆調整工程ＲＳ５（Ｎ－３）の時に最大値を示してもよい。
第２押圧力Ｐ（Ｎ）＿Ｂ２に対する、第２押圧力Ｐ＿Ｂ２の最大値の比率の範囲としては、上述の「第１押圧力Ｐ（１）＿Ｂ１に対する第１押圧力Ｐ（Ｕ）＿Ｂ１の比率」の数値の範囲を採用できる。
図５２は、第１逆調整工程ＲＳ５（１）～第１０逆調整工程ＲＳ５（１０）において第２中央押圧装置６２Ｃ２が第１辺４１に加える第２押圧力ＲＰ＿Ｃ２の推移の一例を示す図である。図５２に示すように、第２押圧力ＲＰ＿Ｃ２は、２回以上の逆調整工程ＲＳ５の間、増加してもよい。図５２に示す例において、第２押圧力ＲＰ＿Ｃ２は、第６逆調整工程ＲＳ５（６）～第１０調整工程ＲＳ５（１０）の間、増加している。
図５０に示す第２押圧力ＲＰ＿Ｂ１の推移は、第１１押圧装置６２Ａ１においても実現されてもよい。図５１に示す第２押圧力ＲＰ＿Ｂ２の推移は、第１２押圧装置６２Ａ２においても実現されてもよい。図５２に示す第２押圧力ＲＰ＿Ｃ２の推移は、第１中央押圧装置６２Ｃ１においても実現されてもよい。
制御装置６３は、第Ｎ逆調整工程ＲＳ５（Ｎ）において押圧機構６２の各押圧装置が第１辺４１に加える第２押圧力の差が所定の範囲内になるよう、押圧機構６２を制御してもよい。例えば、上述の第１の実施の形態の場合と同様に、第３比率ＲＡ３及び第４比率ＲＡ４が所定の値以下になるよう、制御装置６３が押圧機構６２を制御してもよい。
次に、本開示の実施形態を実施例により更に具体的に説明するが、本開示の実施形態はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。
（例１）
製造装置６０を用いてマスク装置１５を製造した。マスク装置１５及び製造装置６０の主要な構成は下記のとおりである。
・フレーム４０の寸法Ｇ１１：１４９３．２ｍｍ
・フレーム４０の寸法Ｇ２１：２４９１．９ｍｍ
・マスク５０の枚数Ｎ：９
・第１辺４１を押圧する押圧装置の数：５
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの押圧装置の間の間隔：４１５ｍｍ
・第１辺４１を測定する変位計の数：７
・変位計のタイプ：キーエンス製接触式デジタルセンサ GT2-A12K
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの変位計の間の間隔：４１５ｍｍ
製造装置６０を用いてマスク装置１５を製造した。マスク装置１５及び製造装置６０の主要な構成は下記のとおりである。
・フレーム４０の寸法Ｇ１１：１４９３．２ｍｍ
・フレーム４０の寸法Ｇ２１：２４９１．９ｍｍ
・マスク５０の枚数Ｎ：９
・第１辺４１を押圧する押圧装置の数：５
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの押圧装置の間の間隔：４１５ｍｍ
・第１辺４１を測定する変位計の数：７
・変位計のタイプ：キーエンス製接触式デジタルセンサ GT2-A12K
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの変位計の間の間隔：４１５ｍｍ
例１においては、第１の実施の形態の場合と同様に、第２方向Ｄ２におけるフレーム４０の中心から遠い順にマスク５０をフレーム４０に取り付けた。図３７は、第１調整工程Ｓ４（１）～第９調整工程Ｓ４（９）において押圧機構６２の各押圧装置が第１辺４１に加えた第１押圧力の推移を示す図である。ｋ＝１は、第１調整工程Ｓ４（１）を意味する。ｋ＝９は、第９調整工程Ｓ４（９）を意味する。Ｐ＿Ａ１は、第１１押圧装置６２Ａ１が第１辺４１に加えた第１押圧力である。Ｐ＿Ａ２は、第１２押圧装置６２Ａ２が第１辺４１に加えた第１押圧力である。Ｐ＿Ｂ１は、第２１押圧装置６２Ｂ１が第１辺４１に加えた第１押圧力である。Ｐ＿Ｂ２は、第２２押圧装置６２Ｂ２が第１辺４１に加えた第１押圧力である。Ｐ＿Ｃ１は、第１中央押圧装置６２Ｃ１が第１辺４１に加えた第１押圧力である。
図３７に示すように、第１中央押圧装置６２Ｃ１の第１押圧力Ｐ＿Ｃ１は、第６調整工程Ｓ４（６）の時に最大値を示した。第１調整工程Ｓ４（１）の第１押圧力Ｐ＿Ｃ１に対する第６調整工程Ｓ４（６）の第１押圧力Ｐ＿Ｃ１の比率は、１．１７であった。
第ｋ固定工程（ｋ）の後に第１中央変位計６１Ｃ１を用いて第１辺４１の変形量ｄ（ｋ）を測定した。変形量ｄ（ｋ）と目標変形量との差の絶対値を図３９に示す。
（例２）
製造装置６０を用いてマスク装置１５を製造した。マスク装置１５及び製造装置６０の主要な構成は下記のとおりである。
・フレーム４０の寸法Ｇ１１：１４９３．２ｍｍ
・フレーム４０の寸法Ｇ２１：２４９１．９ｍｍ
・マスク５０の枚数Ｎ：９
・第１辺４１を押圧する押圧装置の数：３
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの押圧装置の間の間隔：６９５ｍｍ
・第１辺４１を測定する変位計の数：５
・変位計のタイプ：キーエンス製接触式デジタルセンサ GT2-A12K
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの変位計の間の間隔：６９５ｍｍ
製造装置６０を用いてマスク装置１５を製造した。マスク装置１５及び製造装置６０の主要な構成は下記のとおりである。
・フレーム４０の寸法Ｇ１１：１４９３．２ｍｍ
・フレーム４０の寸法Ｇ２１：２４９１．９ｍｍ
・マスク５０の枚数Ｎ：９
・第１辺４１を押圧する押圧装置の数：３
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの押圧装置の間の間隔：６９５ｍｍ
・第１辺４１を測定する変位計の数：５
・変位計のタイプ：キーエンス製接触式デジタルセンサ GT2-A12K
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの変位計の間の間隔：６９５ｍｍ
例２においても、第２方向Ｄ２におけるフレーム４０の中心から遠い順にマスク５０をフレーム４０に取り付けた。図３８は、第１調整工程Ｓ４（１）～第９調整工程Ｓ４（９）において押圧機構６２の各押圧装置が第１辺４１に加えた第１押圧力の推移を示す図である。Ｐ＿Ａ１は、第１１押圧装置６２Ａ１が第１辺４１に加えた第１押圧力である。Ｐ＿Ｂ１は、第２１押圧装置６２Ｂ１が第１辺４１に加えた第１押圧力である。Ｐ＿Ｃ１は、第１中央押圧装置６２Ｃ１が第１辺４１に加えた第１押圧力である。
第ｋ固定工程（ｋ）の後に第１中央変位計６１Ｃ１を用いて第１辺４１の変形量ｄ（ｋ）を測定した。変形量ｄ（ｋ）と目標変形量との差の絶対値を図３９に示す。
（例３）
製造装置６０を用いてマスク装置１５を製造した。マスク装置１５及び製造装置６０の主要な構成は下記のとおりである。
・フレーム４０の寸法Ｇ１１：１１０５ｍｍ
・フレーム４０の寸法Ｇ２１：１７０１ｍｍ
・マスク５０の枚数Ｎ：６
・第１辺４１を押圧する押圧装置の数：３
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの押圧装置の間の間隔：４７５ｍｍ
・第１辺４１を測定する変位計の数：５
・変位計のタイプ：キーエンス製接触式デジタルセンサ GT2-A12K
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの変位計の間の間隔：４７５ｍｍ
製造装置６０を用いてマスク装置１５を製造した。マスク装置１５及び製造装置６０の主要な構成は下記のとおりである。
・フレーム４０の寸法Ｇ１１：１１０５ｍｍ
・フレーム４０の寸法Ｇ２１：１７０１ｍｍ
・マスク５０の枚数Ｎ：６
・第１辺４１を押圧する押圧装置の数：３
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの押圧装置の間の間隔：４７５ｍｍ
・第１辺４１を測定する変位計の数：５
・変位計のタイプ：キーエンス製接触式デジタルセンサ GT2-A12K
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの変位計の間の間隔：４７５ｍｍ
例３においても、第２方向Ｄ２におけるフレーム４０の中心から遠い順にマスク５０をフレーム４０に取り付けた。第ｋ固定工程（ｋ）の後に第１中央変位計６１Ｃ１を用いて第１辺４１の変形量ｄ（ｋ）を測定した。変形量ｄ（ｋ）と目標変形量との差の絶対値を図３９に示す。
（例４）
製造装置６０を用いてマスク装置１５を製造した。マスク装置１５及び製造装置６０の主要な構成は下記のとおりである。
・フレーム４０の寸法Ｇ１１：１４９３．２ｍｍ
・フレーム４０の寸法Ｇ２１：２４９１．９ｍｍ
・マスク５０の枚数Ｎ：８
・第１辺４１を押圧する押圧装置の数：５
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの押圧装置の間の間隔：４１５ｍｍ
・第１辺４１を測定する変位計の数：７
・変位計のタイプ：キーエンス製接触式デジタルセンサ GT2-A12K
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの変位計の間の間隔：４１５ｍｍ
製造装置６０を用いてマスク装置１５を製造した。マスク装置１５及び製造装置６０の主要な構成は下記のとおりである。
・フレーム４０の寸法Ｇ１１：１４９３．２ｍｍ
・フレーム４０の寸法Ｇ２１：２４９１．９ｍｍ
・マスク５０の枚数Ｎ：８
・第１辺４１を押圧する押圧装置の数：５
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの押圧装置の間の間隔：４１５ｍｍ
・第１辺４１を測定する変位計の数：７
・変位計のタイプ：キーエンス製接触式デジタルセンサ GT2-A12K
・第２方向Ｄ２において隣り合う２つの変位計の間の間隔：４１５ｍｍ
例４においても、例１の場合と同様に、第２方向Ｄ２におけるフレーム４０の中心から遠い順にマスク５０をフレーム４０に取り付けた。図５３は、第１調整工程Ｓ４（１）～第８調整工程Ｓ４（８）において押圧機構６２の各押圧装置が第１辺４１に加えた第１押圧力の推移を示す図である。
図５３に示すように、第１中央押圧装置６２Ｃ１の第１押圧力Ｐ＿Ｃ１は、第６調整工程Ｓ４（６）の時に最大値を示した。第１調整工程Ｓ４（１）の第１押圧力Ｐ＿Ｃ１に対する第６調整工程Ｓ４（６）の第１押圧力Ｐ＿Ｃ１の比率は、１．１７であった。
第ｋ固定工程（ｋ）の後に第１中央変位計６１Ｃ１を用いて第１辺４１の変形量ｄ（ｋ）を測定した。変形量ｄ（ｋ）と目標変形量との差の絶対値を図５５に示す。
（例５）
製造装置６０を用いてマスク装置１５を製造した。マスク装置１５及び製造装置６０の主要な構成は、例４の場合と同一である。
製造装置６０を用いてマスク装置１５を製造した。マスク装置１５及び製造装置６０の主要な構成は、例４の場合と同一である。
例５においては、第５の実施の形態の場合と同様に、第２方向Ｄ２におけるフレーム４０の中心から近い順にマスク５０をフレーム４０に取り付けた。図５４は、第１調整工程Ｓ４（１）～第８調整工程Ｓ４（８）において押圧機構６２の各押圧装置が第１辺４１に加えた第１押圧力の推移を示す図である。
図５４に示すように、第２１押圧装置６２Ｂ１の第１押圧力Ｐ＿Ｂ１は、第６調整工程Ｓ４（６）の時に最大値を示した。第１調整工程Ｓ４（１）の第１押圧力Ｐ＿Ｂ１に対する第６調整工程Ｓ４（６）の第１押圧力Ｐ＿Ｂ１の比率は、１．２３であった。
第ｋ固定工程（ｋ）の後に第１中央変位計６１Ｃ１を用いて第１辺４１の変形量ｄ（ｋ）を測定した。変形量ｄ（ｋ）と目標変形量との差の絶対値を図５５に示す。
Claims (22)
- マスク装置の製造装置であって、
前記マスク装置は、開口を挟んで第１方向において対向する第１辺及び第２辺と、前記開口を挟んで前記第１方向に交差する第２方向において対向する第３辺及び第４辺と、を含むフレームと、第１辺及び第２辺に固定された端部を含むマスクと、を備え、
前記製造装置は、
前記開口に向かう方向において前記第１辺及び前記第２辺を押圧する押圧機構と、
前記第１方向における前記第１辺及び前記第２辺の変形量を測定する変位測定機構と、
前記マスクを前記第１辺及び前記第２辺に固定する固定装置と、を備え、
前記押圧機構は、前記第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、前記第１辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、前記第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、前記第２辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、を含む、製造装置。 - 前記変位測定機構は、前記第１辺の前記変形量を測定する少なくとも１つの変位計を含み、
前記変位計は、前記第１辺に接触するセンサヘッドを含む、請求項１に記載の製造装置。 - 前記変位計は、前記第２方向において前記押圧装置から１００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定する、請求項２に記載の製造装置。
- 前記変位測定機構は、前記第２方向において前記押圧装置から１００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定する５つ以上の前記変位計と、前記第２方向において前記第３辺の外側面から２００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定する第１補助変位計と、前記第２方向において前記第４辺の外側面から２００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定する第２補助変位計と、を含む、請求項２又は３に記載の製造装置。
- 前記第１補助変位計と前記第２補助変位計との間の、前記第２方向における距離が、１３００ｍｍ以上である、請求項４に記載の製造装置。
- 前記第１辺を押圧する前記押圧装置と、前記第２辺を押圧する前記押圧装置との間の、前記第１方向における距離が、１３００ｍｍ以上である、請求項１に記載の製造装置。
- 前記マスク装置は、第２方向に沿って並ぶＮ枚（Ｎは２以上の整数）の前記マスクを備え、
前記製造装置は、前記押圧機構を制御する制御装置を備え、
前記押圧機構は、各マスクが前記第１辺に固定される時の前記変形量と目標変形量との差が第１閾値以下になるよう、前記第１辺及び前記第２辺を押圧する、請求項１に記載の製造装置。 - 前記固定装置は、前記第２方向における前記フレームの中心から遠い順に前記マスクを前記第１辺及び前記第２辺に固定し、
前記第１辺を押圧する前記押圧機構は、１つ又は２つの前記押圧装置を含む中央グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第３辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第１グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第４辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第２グループと、を備え、
前記中央グループの前記押圧装置は、１枚目の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力（１）を加え、
前記中央グループの前記押圧装置は、Ｕ枚目（Ｕは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力（Ｕ）を加え、
前記第１押圧力（１）に対する前記第１押圧力（Ｕ）の比率が１．０５以上である、請求項７に記載の製造装置。 - 前記固定装置は、前記第２方向における前記フレームの中心から近い順に前記マスクを前記第１辺及び前記第２辺に固定し、
前記第１辺を押圧する前記押圧機構は、１つ又は２つの前記押圧装置を含む中央グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第３辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第１グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第４辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第２グループと、を備え、
前記第２グループに属し、前記第４辺に最も近い前記押圧装置は、１枚目の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力（１）を加え、
前記第２グループに属し、前記第４辺に最も近い前記押圧装置は、Ｕ枚目（Ｕは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力（Ｕ）を加え、
前記第１押圧力（１）に対する前記第１押圧力（Ｕ）の比率が１．０５以上である、請求項７に記載の製造装置。 - 前記制御装置は、下記の式が成立するよう前記押圧機構を制御する、
Ｕ≧Ｎ／２
請求項８又は９に記載の製造装置。 - コンピュータを請求項７に記載の前記製造装置の前記制御装置として機能させるためのプログラムが記録された、コンピュータが読み取り可能な非一過性の記録媒体。
- マスク装置の製造方法であって、
開口を挟んで第１方向において対向する第１辺及び第２辺と、前記開口を挟んで前記第１方向に交差する第２方向において対向する第３辺及び第４辺と、を含むフレームを準備する工程と、
前記開口に向かう方向において押圧機構が前記第１辺及び前記第２辺に加える第１押圧力を調整する調整工程と、
マスクの端部を第１辺及び第２辺に固定する固定工程と、を備え、
前記押圧機構は、前記第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、前記第１辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、前記第２方向に沿って５００ｍｍ以下の間隔を空けて並び、前記第２辺を押圧する５つ以上の押圧装置と、を含む、製造方法。 - 前記調整工程は、前記第１方向における前記第１辺及び前記第２辺の変形量を測定する変位測定機構からの情報に基づいて前記第１押圧力を調整し、
前記変位測定機構は、前記第１辺の前記変形量を測定する少なくとも１つの変位計を含み、
前記変位計は、前記第１辺に接触するセンサヘッドを含む、請求項１２に記載の製造方法。 - 前記変位計は、前記第２方向において前記押圧装置から１００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定する、請求項１３に記載の製造方法。
- 前記変位測定機構は、前記第２方向において前記押圧装置から１００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定する５つ以上の前記変位計と、前記第２方向において前記第３辺の外側面から２００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定する第１補助変位計と、前記第２方向において前記第４辺の外側面から２００ｍｍ以下の位置において前記第１辺の前記変形量を測定する第２補助変位計と、を含む、請求項１３又は１４に記載の製造方法。
- 前記マスク装置は、第２方向に沿って並ぶＮ枚（Ｎは２以上の整数）の前記マスクを備え、
前記調整工程は、各マスクが前記第１辺に固定される時の前記第１辺の変形量と目標変形量との差が第１閾値以下になるよう、前記第１押圧力を調整する、請求項１２に記載の製造方法。 - 前記固定工程は、前記第２方向における前記フレームの中心から遠い順に前記マスクを前記第１辺及び前記第２辺に固定し、
前記第１辺を押圧する前記押圧機構は、１つ又は２つの前記押圧装置を含む中央グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第３辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第１グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第４辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第２グループと、を備え、
前記中央グループの前記押圧装置は、１枚目の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力（１）を加え、
前記中央グループの前記押圧装置は、Ｕ枚目（Ｕは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力（Ｕ）を加え、
前記第１押圧力（１）に対する前記第１押圧力（Ｕ）の比率が１．０５以上である、請求項１６に記載の製造方法。 - 前記固定工程は、前記第２方向における前記フレームの中心から近い順に前記マスクを前記第１辺及び前記第２辺に固定し、
前記第１辺を押圧する前記押圧機構は、１つ又は２つの前記押圧装置を含む中央グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第３辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第１グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第４辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第２グループと、を備え、
前記第２グループに属し、前記第４辺に最も近い前記押圧装置は、１枚目の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力（１）を加え、
前記第２グループに属し、前記第４辺に最も近い前記押圧装置は、Ｕ枚目（Ｕは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の前記マスクを前記フレームに固定する時に前記第１辺に第１押圧力（Ｕ）を加え、
前記第１押圧力（１）に対する前記第１押圧力（Ｕ）の比率が１．０５以上である、請求項１６に記載の製造方法。 - 前記調整工程は、下記の式が成立するよう前記第１押圧力を調整する、
Ｕ≧Ｎ／２
請求項１７又は１８に記載の製造方法。 - マスク装置であって、
開口を挟んで第１方向において対向する第１辺及び第２辺と、前記開口を挟んで前記第１方向に交差する第２方向において対向する第３辺及び第４辺と、を含むフレームと、
第１辺及び第２辺に固定された端部を含み、第２方向に沿って並ぶＮ枚（Ｎは２以上の整数）のマスクと、を備え、
前記第１辺及び前記第２辺は、前記開口に向かって撓むように、前記第２方向において最終変形量で変形しており、
前記第２方向における前記フレームの中心から近い順に前記マスクを前記フレームから外す除去工程と、前記除去工程の後、前記第１辺及び前記第２辺が前記第２方向において最終変形量で変形するように、前記開口に向かう方向において押圧機構が前記第１辺及び前記第２辺に加える第２押圧力を調整する逆調整工程と、を交互に実施した場合、第２押圧力（Ｎ）に対する第２押圧力（Ｑ）の比率が１．０５以上であり、
前記第１辺を押圧する前記押圧機構は、前記第１辺を押圧する１つ又は２つの押圧装置を含む中央グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第３辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第１グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第４辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第２グループと、を備え、
前記第２押圧力（Ｑ）は、前記中央グループの前記押圧装置が、Ｑ枚目（Ｑは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の前記マスクが前記フレームから外された後に前記第１辺に加える押圧力であり、
前記第２押圧力（Ｎ）は、前記中央グループの前記押圧装置が、Ｎ枚目の前記マスクが前記フレームから外された後に前記第１辺に加える押圧力である、
マスク装置。 - マスク装置であって、
開口を挟んで第１方向において対向する第１辺及び第２辺と、前記開口を挟んで前記第１方向に交差する第２方向において対向する第３辺及び第４辺と、を含むフレームと、
第１辺及び第２辺に固定された端部を含み、第２方向に沿って並ぶＮ枚（Ｎは２以上の整数）のマスクと、を備え、
前記第１辺及び前記第２辺は、前記開口に向かって撓むように、前記第２方向において最終変形量で変形しており、
前記第２方向における前記フレームの中心から遠い順に前記マスクを前記フレームから外す除去工程と、前記除去工程の後、前記第１辺及び前記第２辺が前記第２方向において最終変形量で変形するように、前記開口に向かう方向において押圧機構が前記第１辺及び前記第２辺に加える第２押圧力を調整する逆調整工程と、を交互に実施した場合、第２押圧力（Ｎ）に対する第２押圧力（Ｑ）の比率が１．０５以上であり、
前記第１辺を押圧する前記押圧機構は、前記第１辺を押圧する１つ又は２つの押圧装置を含む中央グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第３辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第１グループと、前記第２方向において前記中央グループと前記第４辺との間に位置する２つ以上の前記押圧装置を含む第２グループと、を備え、
前記第２押圧力（Ｑ）は、前記第２グループに属し、前記第４辺に最も近い前記押圧装置が、Ｑ枚目（Ｑは１よりも大きくＮよりも小さい整数）の前記マスクが前記フレームから外された後に前記第１辺に加える押圧力であり、
前記第２押圧力（Ｎ）は、前記第２グループに属し、前記第４辺に最も近い前記押圧装置が、Ｎ枚目の前記マスクが前記フレームから外された後に前記第１辺に加える押圧力である、
マスク装置。 - 下記の式が成立する、
Ｑ≦Ｎ／２
請求項２０又は２１に記載のマスク装置。
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