KR20220168570A

KR20220168570A - 마스크 장치의 제조 장치, 기록 매체, 마스크 장치의 제조 방법 및 마스크 장치

Info

Publication number: KR20220168570A
Application number: KR1020220072557A
Authority: KR
Inventors: 히데유키 오카모토
Original assignee: 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
Priority date: 2021-06-16
Filing date: 2022-06-15
Publication date: 2022-12-23
Also published as: CN217895725U; US20220403498A1; CN115478246A; TW202308194A

Abstract

마스크 장치는, 개구를 사이에 두고 제1 방향에 있어서 대향하는 제1변 및 제2변과, 개구를 사이에 두고 제1 방향에 교차하는 제2 방향에 있어서 대향하는 제3변 및 제4변을 포함하는 프레임과, 제1변 및 제2변에 고정된 단부를 포함하는 마스크를 구비해도 된다. 제조 장치는, 개구를 향하는 방향에 있어서 제1변 및 제2변을 압박하는 압박 기구와, 제1 방향에서의 제1변 및 제2변의 변형량을 측정하는 변위 측정 기구와, 마스크를 제1변 및 제2변에 고정하는 고정 장치를 구비해도 된다. 압박 기구는, 제2 방향을 따라 500mm 이하의 간격을 두고 배열되어, 제1변을 압박하는 5개 이상의 압박 장치와, 제2 방향을 따라 500mm 이하의 간격을 두고 배열되어, 제2변을 압박하는 5개 이상의 압박 장치를 포함해도 된다.

Description

마스크 장치의 제조 장치, 기록 매체, 마스크 장치의 제조 방법 및 마스크 장치{PRODUCTION DEVICE FOR MASK DEVICE, RECORDING MEDIUM, PRODUCTION METHOD FOR MASK DEVICE, AND MASK DEVICE}

본 개시의 실시 형태는, 마스크 장치의 제조 장치, 기록 매체, 마스크 장치의 제조 방법 및 마스크 장치에 관한 것이다.

유기 EL 표시 장치 등의 유기 디바이스가 주목받고 있다. 유기 디바이스의 소자를 형성하는 방법으로서, 소자를 구성하는 재료를 증착에 의해 기판에 부착시키는 방법이 알려져 있다. 예를 들어, 먼저, 소자에 대응하는 패턴으로 제1 전극이 형성되어 있는 기판을 준비한다. 계속해서, 마스크 장치를 사용해서 증착 공정을 실시한다. 마스크 장치는, 관통 구멍을 포함하는 마스크와, 마스크를 지지하는 프레임을 구비한다. 마스크의 관통 구멍을 통한 유기 재료가 제1 전극 상에 부착됨으로써, 제1 전극 위에 유기층이 형성된다.

프레임은, 마스크의 단부가 고정되어 있는 제1변 및 제2변을 포함한다. 제1변 및 제2변은, 개구를 사이에 두고 제1 방향에 있어서 대향하고 있다. 프레임은, 제1 방향에 있어서 마스크에 장력을 가한 상태에서 마스크를 지지한다. 이에 의해, 마스크에 휨이 생기는 것이 억제된다.

국제 공개 2019/049600호

개구를 향하는 방향에 있어서 프레임의 제1변 및 제2변을 변형시킨 상태에서 제1변 및 제2변에 마스크를 고정할 경우, 제1변 및 제2변이 탄성적으로 복원하는 힘에 기초하여 마스크에 장력이 가해진다. 마스크에 대한 장력을 정밀하게 조정하기 위해서는, 제1변 및 제2변의 변형량을 정밀하게 조정할 것이 요구된다.

유기 디바이스의 제조 비용을 저감하는 수단의 하나로서, 기판의 대형화를 생각할 수 있다. 기판이 대형화하면, 마스크도 대형화하고, 프레임도 대형화한다. 프레임이 대형화하면, 제1변 및 제2변의 변형량의 조정의 난이도가 높아진다.

본 개시의 일 실시 형태에 의한 마스크 장치의 제조 장치에 있어서, 상기 마스크 장치는, 개구를 사이에 두고 제1 방향에 있어서 대향하는 제1변 및 제2변과, 상기 개구를 사이에 두고 상기 제1 방향에 교차하는 제2 방향에 있어서 대향하는 제3변 및 제4변을 포함하는 프레임과, 제1변 및 제2변에 고정된 단부를 포함하는 마스크를 구비해도 된다. 상기 제조 장치는, 상기 개구를 향하는 방향에 있어서 상기 제1변 및 상기 제2변을 압박하는 압박 기구와, 상기 제1 방향에서의 상기 제1변 및 상기 제2변의 변형량을 측정하는 변위 측정 기구와, 상기 마스크를 상기 제1변 및 상기 제2변에 고정하는 고정 장치를 구비해도 된다. 상기 압박 기구는, 상기 제2 방향을 따라 500mm 이하의 간격을 두고 배열되어, 상기 제1변을 압박하는 5개 이상의 압박 장치와, 상기 제2 방향을 따라 500mm 이하의 간격을 두고 배열되어, 상기 제2변을 압박하는 5개 이상의 압박 장치를 포함해도 된다.

본 개시의 실시 형태에 따르면, 프레임의 제1변 및 제2변의 변형량을 적절하게 조정할 수 있다.

도 1은 유기 디바이스의 일례를 도시하는 단면도이다.
도 2는 유기 디바이스군의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 3은 증착 장치의 일례를 도시하는 단면도이다.
도 4는 마스크 장치의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 5는 프레임의 제1변을 확대해서 도시하는 평면도이다.
도 6은 마스크 장치의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 7은 마스크의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 8은 마스크의 일례를 도시하는 단면도이다.
도 9는 마스크 장치의 제조 장치의 일례를 도시하는 블록도이다.
도 10은 제조 장치의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 11은 압박 장치 및 변위계의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 12는 마스크 장치의 제조 방법의 일례를 나타내는 흐름도이다.
도 13은 조정 공정 및 배치 공정의 일례를 나타내는 흐름도이다.
도 14는 제1 조정 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 15는 제1 배치 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 16은 제1 배치 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 17은 제2 마스크 설치 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 18은 제3 마스크 설치 공정 내지 제8 마스크 설치 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 19는 제9 마스크 설치 공정 및 제10 마스크 설치 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 20은 해방 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 21은 제11 압박 장치의 압박력의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 22는 제12 압박 장치의 압박력의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 23은 제1 중앙 압박 장치의 압박력의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 24는 마스크 장치의 분해 방법의 일례를 나타내는 흐름도이다.
도 25는 제거 공정 및 역조정 공정의 일례를 나타내는 흐름도이다.
도 26은 제1 제거 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 27은 제2 제거 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 28은 제3 제거 공정 내지 제8 제거 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 29는 제9 제거 공정 및 제10 제거 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 30은 제11 압박 장치의 압박력의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 31은 제12 압박 장치의 압박력의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 32는 제1 중앙 압박 장치의 압박력의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 33은 마스크 장치의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 34는 제조 장치의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 35는 제조 장치의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 36은 제조 장치의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 37은 예 1에서의 제11 압박력, 제12 압박력, 제21 압박력, 제22 압박력 및 제1 중앙 압박력을 나타내는 그래프이다.
도 38은 예 2에서의 제11 압박력, 제21 압박력 및 제1 중앙 압박력을 나타내는 그래프이다.
도 39는 예 1 내지 예 3에서의 프레임의 변형량과 목표 변형량의 차를 나타내는 그래프이다.
도 40은 제5 실시 형태의 제1 마스크 설치 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 41은 제5 실시 형태의 제1 마스크 설치 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 42는 제5 실시 형태의 제2 마스크 설치 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 43은 제5 실시 형태의 제3 마스크 설치 공정 내지 제8 마스크 설치 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 44는 제5 실시 형태의 제9 마스크 설치 공정 및 제10 마스크 설치 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 45는 제5 실시 형태의 제21 압박 장치의 압박력의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 46은 제5 실시 형태의 제22 압박 장치의 압박력의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 47은 제5 실시 형태의 제2 중앙 압박 장치의 압박력의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 48은 제5 실시 형태의 제1 제거 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 49는 제5 실시 형태의 제2 제거 공정의 일례를 도시하는 평면도이다.
도 50은 제5 실시 형태의 제21 압박 장치의 압박력의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 51은 제5 실시 형태의 제22 압박 장치의 압박력의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 52는 제5 실시 형태의 제2 중앙 압박 장치의 압박력의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 53은 예 4에서의 제11 압박력, 제12 압박력, 제21 압박력, 제22 압박력 및 제1 중앙 압박력을 나타내는 그래프이다.
도 54는 예 5에서의 제11 압박력, 제12 압박력, 제21 압박력, 제22 압박력 및 제1 중앙 압박력을 나타내는 그래프이다.
도 55는 예 4 내지 예 5에서의 프레임의 변형량과 목표 변형량의 차를 나타내는 그래프이다.

본 명세서 및 본 도면에 있어서, 특별한 설명이 없는 한은, 「기판」이나 「기재」나 「판」이나 「시트」나 「필름」등의 어떤 구성의 기초가 되는 물질을 의미하는 용어는, 호칭의 차이에만 기초하여 서로로부터 구별되는 것은 아니다.

본 명세서 및 본 도면에 있어서, 특별한 설명이 없는 한은, 형상이나 기하학적 조건 그리고 그것들의 정도를 특정하는, 예를 들어 「평행」이나 「직교」 등의 용어나 길이나 각도의 값 등에 대해서는, 엄밀한 의미에 구속되지 않으며, 마찬가지의 기능을 기대해도 되는 정도의 범위를 포함해서 해석하는 것으로 한다.

본 명세서 및 본 도면에 있어서, 특별한 설명이 없는 한은, 어떤 부재 또는 어떤 영역 등의 어떤 구성이, 다른 부재 또는 다른 영역 등의 다른 구성의 「위에」나 「아래에」, 「상측에」나 「하측에」, 또는 「상방에」나 「하방에」로 할 경우, 어떤 구성이 다른 구성에 직접적으로 접하고 있는 경우를 포함한다. 또한, 어떤 구성과 다른 구성의 사이에 별도의 구성이 포함되어 있는 경우, 즉 간접적으로 접하고 있는 경우도 포함한다. 또한, 특별한 설명이 없는 한은, 「위」나 「상측」이나 「상방」, 또는, 「아래」나 「하측」이나 「하방」이라는 어구는, 상하 방향이 역전되어도 된다.

본 명세서 및 본 도면에 있어서, 특별한 설명이 없는 한은, 동일 부분 또는 마찬가지의 기능을 갖는 부분에는 동일한 부호 또는 유사한 부호를 붙이고, 그 반복 설명은 생략하는 경우가 있다. 또한, 도면의 치수 비율은 설명의 사정상 실제의 비율과는 다른 경우나, 구성의 일부가 도면에서 생략되는 경우가 있다.

본 명세서 및 본 도면에 있어서, 특별한 설명이 없는 한은, 본 명세서의 일 실시 형태는, 모순이 생기지 않는 범위에서, 그 다른 실시 형태와 조합되어도 된다. 또한, 그 밖의 실시 형태끼리도, 모순이 생기지 않는 범위에서 조합되어도 된다.

본 명세서 및 본 도면에 있어서, 특별한 설명이 없는 한은, 제조 방법 등의 방법에 관해서 복수의 공정을 개시할 경우에, 개시되어 있는 공정의 사이에, 개시되어 있지 않은 기타 공정이 실시되어도 된다. 또한, 개시되어 있는 공정의 순서는, 모순이 생기지 않는 범위에서 임의이다.

본 명세서 및 본 도면에 있어서, 특별한 설명이 없는 한은, 「내지」라는 어구에 의해 표현되는 수치 범위는, 「내지」라는 어구의 전후에 놓인 수치를 포함하고 있다. 예를 들어, 「34 내지 38질량％」라는 표현에 의해 획정되는 수치 범위는, 「34질량％ 이상이면서 또한 38질량％ 이하」라는 표현에 의해 획정되는 수치 범위와 동일하다.

본 명세서의 일 실시 형태에 있어서, 유기 EL 표시 장치를 제조할 때 유기 재료 또는 전극을 원하는 패턴으로 기판 위에 패터닝하기 위해서 사용되는 마스크나 그 제조 방법에 관한 예를 들어서 설명한다. 단, 이러한 적용에 한정되지 않고, 다양한 용도로 사용되는 마스크에 대하여, 본 실시 형태를 적용할 수 있다. 예를 들어, 가상 현실 소위 VR이나 확장 현실 소위 AR을 표현하기 위한 화상이나 영상을 표시 또는 투영하기 위한 장치의 전극을 형성하기 위해서, 본 실시 형태의 마스크를 사용해도 된다. 또한, 액정 표시 장치의 전극 등의, 유기 EL 표시 장치 이외의 표시 장치의 전극을 형성하기 위해서, 본 실시 형태의 마스크를 사용해도 된다. 또한, 압력 센서의 전극 등의, 표시 장치 이외의 유기 디바이스의 전극을 형성하기 위해서, 본 실시 형태의 마스크를 사용해도 된다.

본 개시의 제1 양태는, 마스크 장치의 제조 장치이며,

상기 마스크 장치는, 개구를 사이에 두고 제1 방향에 있어서 대향하는 제1변 및 제2변과, 상기 개구를 사이에 두고 상기 제1 방향에 교차하는 제2 방향에 있어서 대향하는 제3변 및 제4변을 포함하는 프레임과, 제1변 및 제2변에 고정된 단부를 포함하는 마스크를 구비하고,

상기 제조 장치는,

상기 개구를 향하는 방향에 있어서 상기 제1변 및 상기 제2변을 압박하는 압박 기구와,

상기 제1 방향에서의 상기 제1변 및 상기 제2변의 변형량을 측정하는 변위 측정 기구와,

상기 마스크를 상기 제1변 및 상기 제2변에 고정하는 고정 장치를 구비하고,

상기 압박 기구는, 상기 제2 방향을 따라 500mm 이하의 간격을 두고 배열되어, 상기 제1변을 압박하는 5개 이상의 압박 장치와, 상기 제2 방향을 따라 500mm 이하의 간격을 두고 배열되어, 상기 제2변을 압박하는 5개 이상의 압박 장치를 포함하는, 제조 장치이다.

본 개시의 제2 양태는, 상술한 제1 양태에 의한 제조 장치에 있어서, 상기 변위 측정 기구는, 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 적어도 하나의 변위계를 포함해도 되고, 상기 변위계는, 상기 제1변에 접촉하는 센서 헤드를 포함해도 된다.

본 개시의 제3 양태는, 상술한 제2 양태에 의한 제조 장치에 있어서, 상기 변위계는, 상기 제2 방향에 있어서 상기 압박 장치로부터 100mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정해도 된다.

본 개시의 제4 양태는, 상술한 제2 양태 또는 제3 양태에 의한 제조 장치에 있어서, 상기 변위 측정 기구는, 상기 제2 방향에 있어서 상기 압박 장치로부터 100mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 5개 이상의 상기 변위계와, 상기 제2 방향에 있어서 상기 제3변의 외측면으로부터 200mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 제1 보조 변위계와, 상기 제2 방향에 있어서 상기 제4변의 외측면으로부터 200mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 제2 보조 변위계를 포함해도 된다.

본 개시의 제5 양태는, 상술한 제4 양태에 의한 제조 장치에 있어서, 상기 제1 보조 변위계와 상기 제2 보조 변위계의 사이의, 상기 제2 방향에서의 거리가, 1300mm 이상이어도 된다.

본 개시의 제6 양태는, 상술한 제1 양태 내지 제5 양태 중 어느 하나에 의한 제조 장치에 있어서, 상기 제1변을 압박하는 상기 압박 장치와, 상기 제2변을 압박하는 상기 압박 장치의 사이의, 상기 제1 방향에서의 거리가, 1300mm 이상이어도 된다.

본 개시의 제7 양태는, 상술한 제1 양태 내지 제5 양태 중 어느 하나에 의한 제조 장치에 있어서, 상기 마스크 장치는, 제2 방향을 따라 배열되는 N매(N은 2 이상의 정수)의 상기 마스크를 구비해도 되고, 상기 제조 장치는, 상기 압박 기구를 제어하는 제어 장치를 구비해도 되고, 상기 압박 기구는, 각 마스크가 상기 제1변에 고정될 때의 상기 변형량과 목표 변형량의 차가 제1 역치 이하로 되도록, 상기 제1변 및 상기 제2변을 압박해도 된다.

본 개시의 제8 양태는, 상술한 제7 양태에 의한 제조 장치에 있어서, 상기 고정 장치는, 상기 제2 방향에서의 상기 프레임의 중심으로부터 먼 순으로 상기 마스크를 상기 제1변 및 상기 제2변에 고정해도 되고, 상기 제1변을 압박하는 상기 압박 기구는, 1개 또는 2개의 상기 압박 장치를 포함하는 중앙 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제3변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제1 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제4변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제2 그룹을 구비해도 되고, 상기 중앙 그룹의 상기 압박 장치는, 1매째의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(1)을 가해도 되고, 상기 중앙 그룹의 상기 압박 장치는, U매째(U는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(U)을 가해도 되고, 상기 제1 압박력(1)에 대한 상기 제1 압박력(U)의 비율이 1.05 이상이어도 된다.

본 개시의 제9 양태는, 상술한 제7 양태에 의한 제조 장치에 있어서, 상기 고정 장치는, 상기 제2 방향에서의 상기 프레임의 중심으로부터 가까운 순으로 상기 마스크를 상기 제1변 및 상기 제2변에 고정해도 되고, 상기 제1변을 압박하는 상기 압박 기구는, 1개 또는 2개의 상기 압박 장치를 포함하는 중앙 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제3변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제1 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제4변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제2 그룹을 구비해도 되고, 상기 제2 그룹에 속하고, 상기 제4변에 가장 가까운 상기 압박 장치는, 1매째의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(1)을 가해도 되고, 상기 제2 그룹에 속하고, 상기 제4변에 가장 가까운 상기 압박 장치는, U매째(U는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(U)을 가해도 되고, 상기 제1 압박력(1)에 대한 상기 제1 압박력(U)의 비율이 1.05 이상이어도 된다.

본 개시의 제10 양태는, 상술한 제8 양태 또는 제9 양태에 의한 제조 장치에 있어서, 상기 제어 장치는, 하기의 식이 성립하도록 상기 압박 기구를 제어해도 된다.

U≥N/2

본 개시의 제11-1 양태는, 컴퓨터를 상술한 제7 양태 내지 제10 양태 중 어느 하나에 의한 상기 제조 장치의 상기 제어 장치로서 기능시키기 위한 프로그램이다.

본 개시의 제11-2 양태는, 상술한 제11-1 양태에 의한 프로그램이 기록된, 컴퓨터가 판독 가능한 비일과성 기록 매체이다.

본 개시의 제12 양태는, 마스크 장치의 제조 방법이며,

개구를 사이에 두고 제1 방향에 있어서 대향하는 제1변 및 제2변과, 상기 개구를 사이에 두고 상기 제1 방향에 교차하는 제2 방향에 있어서 대향하는 제3변 및 제4변을 포함하는 프레임을 준비하는 공정과,

상기 개구를 향하는 방향에 있어서 압박 기구가 상기 제1변 및 상기 제2변에 가하는 제1 압박력을 조정하는 조정 공정과,

마스크의 단부를 제1변 및 제2변에 고정하는 고정 공정을 구비하고,

상기 압박 기구는, 상기 제2 방향을 따라 500mm 이하의 간격을 두고 배열되어, 상기 제1변을 압박하는 5개 이상의 압박 장치와, 상기 제2 방향을 따라 500mm 이하의 간격을 두고 배열되어, 상기 제2변을 압박하는 5개 이상의 압박 장치를 포함하는, 제조 방법이다.

본 개시의 제13 양태는, 상술한 제12 양태에 의한 제조 방법에 있어서, 상기 조정 공정은, 상기 제1 방향에서의 상기 제1변 및 상기 제2변의 변형량을 측정하는 변위 측정 기구로부터의 정보에 기초하여 상기 제1 압박력을 조정해도 되고, 상기 변위 측정 기구는, 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 적어도 하나의 변위계를 포함해도 되고, 상기 변위계는, 상기 제1변에 접촉하는 센서 헤드를 포함해도 된다.

본 개시의 제14 양태는, 상술한 제13 양태에 의한 제조 방법에 있어서, 상기 변위계는, 상기 제2 방향에 있어서 상기 압박 장치로부터 100mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정해도 된다.

본 개시의 제15 양태는, 상술한 제13 양태 또는 제14 양태에 의한 제조 방법에 있어서, 상기 변위 측정 기구는, 상기 제2 방향에 있어서 상기 압박 장치로부터 100mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 5개 이상의 상기 변위계와, 상기 제2 방향에 있어서 상기 제3변의 외측면으로부터 200mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 제1 보조 변위계와, 상기 제2 방향에 있어서 상기 제4변의 외측면으로부터 200mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 제2 보조 변위계를 포함해도 된다.

상술한 제15 양태에 있어서, 상기 제1 보조 변위계와 상기 제2 보조 변위계의 사이의, 상기 제2 방향에서의 거리가, 1300mm 이상이어도 된다.

상술한 제12 양태 내지 제15 양태에 있어서, 상기 제1변을 압박하는 상기 압박 장치와, 상기 제2변을 압박하는 상기 압박 장치의 사이의, 상기 제1 방향에서의 거리가, 1300mm 이상이어도 된다.

본 개시의 제16 양태는, 상술한 제11 양태 내지 제15 양태 중 어느 하나에 의한 제조 방법에 있어서, 상기 마스크 장치는, 제2 방향을 따라 배열되는 N매(N은 2 이상의 정수)의 상기 마스크를 구비해도 되고, 상기 조정 공정은, 각 마스크가 상기 제1변에 고정될 때의 상기 제1변의 변형량과 목표 변형량의 차가 제1 역치 이하로 되도록, 상기 제1 압박력을 조정해도 된다.

본 개시의 제17 양태는, 상술한 제16 양태에 의한 제조 방법에 있어서, 상기 고정 공정은, 상기 제2 방향에서의 상기 프레임의 중심으로부터 먼 순으로 상기 마스크를 상기 제1변 및 상기 제2변에 고정해도 되고, 상기 제1변을 압박하는 상기 압박 기구는, 1개 또는 2개의 상기 압박 장치를 포함하는 중앙 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제3변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제1 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제4변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제2 그룹을 구비해도 되고, 상기 중앙 그룹의 상기 압박 장치는, 1매째의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(1)을 가해도 되고, 상기 중앙 그룹의 상기 압박 장치는, U매째(U는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(U)을 가해도 되고, 상기 제1 압박력(1)에 대한 상기 제1 압박력(U)의 비율이 1.05 이상이어도 된다.

본 개시의 제18 양태는, 상술한 제16 양태에 의한 제조 방법에 있어서, 상기 고정 공정은, 상기 제2 방향에서의 상기 프레임의 중심으로부터 가까운 순으로 상기 마스크를 상기 제1변 및 상기 제2변에 고정해도 되고, 상기 제1변을 압박하는 상기 압박 기구는, 1개 또는 2개의 상기 압박 장치를 포함하는 중앙 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제3변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제1 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제4변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제2 그룹을 구비해도 되고, 상기 제2 그룹에 속하고, 상기 제4변에 가장 가까운 상기 압박 장치는, 1매째의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(1)을 가해도 되고, 상기 제2 그룹에 속하고, 상기 제4변에 가장 가까운 상기 압박 장치는, U매째(U는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(U)을 가해도 되고, 상기 제1 압박력(1)에 대한 상기 제1 압박력(U)의 비율이 1.05 이상이어도 된다.

본 개시의 제19 양태는, 상술한 제17 양태 또는 제18 양태에 의한 제조 방법에 있어서, 상기 조정 공정은, 하기의 식이 성립하도록 상기 제1 압박력을 조정해도 된다.

U≥N/2

본 개시의 제20 양태는, 마스크 장치이며,

개구를 사이에 두고 제1 방향에 있어서 대향하는 제1변 및 제2변과, 상기 개구를 사이에 두고 상기 제1 방향에 교차하는 제2 방향에 있어서 대향하는 제3변 및 제4변을 포함하는 프레임과,

제1변 및 제2변에 고정된 단부를 포함하고, 제2 방향을 따라 배열되는 N매(N은 2 이상의 정수)의 마스크를 구비하고,

상기 제1변 및 상기 제2변은, 상기 개구를 향해서 휘도록, 상기 제2 방향에 있어서 최종 변형량으로 변형되어 있고,

상기 제2 방향에서의 상기 프레임의 중심으로부터 가까운 순으로 상기 마스크를 상기 프레임으로부터 분리하는 제거 공정과, 상기 제거 공정 후, 상기 제1변 및 상기 제2변이 상기 제2 방향에 있어서 최종 변형량으로 변형되도록, 상기 개구를 향하는 방향에 있어서 압박 기구가 상기 제1변 및 상기 제2변에 가하는 제2 압박력을 조정하는 역조정 공정을 교대로 실시한 경우, 제2 압박력(N)에 대한 제2 압박력(Q)의 비율이 1.05 이상이며,

상기 제1변을 압박하는 상기 압박 기구는, 상기 제1변을 압박하는 1개 또는 2개의 압박 장치를 포함하는 중앙 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제3변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제1 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제4변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제2 그룹을 구비하고,

상기 제2 압박력(Q)은, 상기 중앙 그룹의 상기 압박 장치가, Q매째(Q는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)의 상기 마스크가 상기 프레임으로부터 분리된 후에 상기 제1변에 가하는 압박력이며,

상기 제2 압박력(N)은, 상기 중앙 그룹의 상기 압박 장치가, N매째의 상기 마스크가 상기 프레임으로부터 분리된 후에 상기 제1변에 가하는 압박력인,

마스크 장치이다.

본 개시의 제21 양태는, 마스크 장치이며,

상기 제2 방향에서의 상기 프레임의 중심으로부터 먼 순으로 상기 마스크를 상기 프레임으로부터 분리하는 제거 공정과, 상기 제거 공정 후, 상기 제1변 및 상기 제2변이 상기 제2 방향에 있어서 최종 변형량으로 변형되도록, 상기 개구를 향하는 방향에 있어서 압박 기구가 상기 제1변 및 상기 제2변에 가하는 제2 압박력을 조정하는 역조정 공정을 교대로 실시한 경우, 제2 압박력(N)에 대한 제2 압박력(Q)의 비율이 1.05 이상이며,

상기 제2 압박력(Q)은, 상기 제2 그룹에 속하고, 상기 제4변에 가장 가까운 상기 압박 장치가, Q매째(Q는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)의 상기 마스크가 상기 프레임으로부터 분리된 후에 상기 제1변에 가하는 압박력이며,

상기 제2 압박력(N)은, 상기 제2 그룹에 속하고, 상기 제4변에 가장 가까운 상기 압박 장치가, N매째의 상기 마스크가 상기 프레임으로부터 분리된 후에 상기 제1변에 가하는 압박력인,

마스크 장치이다.

본 개시의 제22 양태는, 상술한 제21 양태 또는 제22 양태에 의한 마스크 장치에 있어서, 하기의 식이 성립해도 된다.

Q≤N/2

본 개시의 제1 실시 형태에 대해서, 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다. 또한, 이하에 기재하는 실시 형태는 본 개시의 실시 형태의 일례이며, 본 개시는 이들 실시 형태에만 한정해서 해석되는 것은 아니다.

마스크를 사용함으로써 형성되는 요소를 구비하는 유기 디바이스(100)에 대해서 설명한다. 도 1은, 유기 디바이스(100)의 일례를 도시하는 단면도이다.

유기 디바이스(100)는, 제1면(111) 및 제2면(112)을 포함하는 기판(110)과, 기판(110)의 제1면(111)에 위치하는 복수의 소자(115)를 포함한다. 소자(115)는, 예를 들어 화소이다. 소자(115)는, 제1면(111)의 면내 방향을 따라 배열되어 있어도 된다. 기판(110)은, 2 이상의 종류의 소자(115)를 포함해도 된다. 예를 들어, 기판(110)은, 제1 소자(115A) 및 제2 소자(115B)를 포함해도 된다. 도시는 하지 않지만, 기판(110)은, 제3 소자를 포함하고 있어도 된다. 제1 소자(115A), 제2 소자(115B) 및 제3 소자는, 예를 들어 적색 화소, 청색 화소 및 녹색 화소이다.

소자(115)는, 제1 전극(120)과, 제1 전극(120) 위에 위치하는 유기층(130)과, 유기층(130) 위에 위치하는 제2 전극(140)을 포함해도 된다. 마스크를 사용함으로써 형성되는 요소는, 유기층(130)이어도 되고, 제2 전극(140)이어도 된다. 마스크를 사용함으로써 형성되는 요소를, 증착층이라고도 칭한다.

유기 디바이스(100)는, 평면으로 보아 인접하는 2개의 제1 전극(120)의 사이에 위치하는 절연층(160)을 구비하고 있어도 된다. 절연층(160)은, 예를 들어 폴리이미드를 포함하고 있다. 절연층(160)은, 평면으로 보아 제1 전극(120)의 끝에 겹쳐 있어도 된다.

유기 디바이스(100)는, 액티브·매트릭스형이어도 된다. 예를 들어, 도시는 하지 않지만, 유기 디바이스(100)는, 복수의 소자(115) 각각에 전기적으로 접속되어 있는 스위치를 구비하고 있어도 된다. 스위치는, 예를 들어 트랜지스터이다. 스위치는, 대응하는 소자(115)에 대한 전압 또는 전류의 ON/OFF를 제어할 수 있다.

기판(110)은, 절연성을 갖는 판상의 부재이어도 된다. 기판(110)은, 바람직하게는 광을 투과시키는 투명성을 갖는다. 기판(110)의 재료로서는, 예를 들어 석영 유리, 파이렉스(등록 상표) 유리, 합성 석영판 등의 가요성이 없는 강성재, 혹은, 수지 필름, 광학용 수지판, 박 유리 등의 가요성을 갖는 플렉시블재 등을 사용할 수 있다. 또한, 기재는, 수지 필름의 편면 또는 양면에 배리어층을 갖는 적층체이어도 된다.

소자(115)는, 제1 전극(120)과 제2 전극(140)의 사이에 전압이 인가됨으로써, 또는, 제1 전극(120)과 제2 전극(140)의 사이에 전류가 흐름으로써, 어떠한 기능을 실현하도록 구성되어 있다. 예를 들어, 소자(115)가, 유기 EL 표시 장치의 화소일 경우, 소자(115)는, 영상을 구성하는 광을 방출할 수 있다.

제1 전극(120)은, 도전성을 갖는 재료를 포함한다. 예를 들어, 제1 전극(120)은, 금속, 도전성을 갖는 금속 산화물이나, 그 밖의 도전성을 갖는 무기 재료 등을 포함한다. 제1 전극(120)은, 인듐주석 산화물(ITO), 인듐아연 산화물(IZO) 등의, 투명성 및 도전성을 갖는 금속 산화물을 포함해도 된다.

유기층(130)은 유기 재료를 포함한다. 유기층(130)에 전류가 흐르면, 유기층(130)은, 어떠한 기능을 발휘할 수 있다. 유기층(130)으로서는, 전류에 의해 광을 방출하는 발광층 등을 사용할 수 있다. 유기층(130)은, 유기 반도체 재료를 포함해도 된다. 유기층(130)의 투과율, 굴절률 등의 특성은, 적절히 조정되어 있어도 된다.

도 1에 도시하는 바와 같이, 유기층(130)은, 제1 유기층(130A) 및 제2 유기층(130B)을 포함해도 된다. 제1 유기층(130A)은, 제1 소자(115A)에 포함된다. 제2 유기층(130B)은, 제2 소자(115B)에 포함된다. 도시는 하지 않지만, 유기층(130)은, 제3 소자에 포함되는 제3 유기층을 포함해도 된다. 제1 유기층(130A), 제2 유기층(130B) 및 제3 유기층은, 예를 들어 적색 발광층, 청색 발광층 및 녹색 발광층이다.

제1 전극(120)과 제2 전극(140)의 사이에 전압을 인가하면, 유기층(130)에 전류가 흐른다. 유기층(130)이 발광층일 경우, 유기층(130)으로부터 광이 방출되어, 광이 제2 전극(140)측 또는 제1 전극(120)측으로부터 외부로 취출된다.

유기층(130)은, 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층, 전자 주입층, 전하 발생층 등을 더 포함해도 된다.

제2 전극(140)은, 금속 등의, 도전성을 갖는 재료를 포함한다. 제2 전극(140)은, 마스크를 사용하는 증착법에 의해 유기층(130) 위에 형성된다. 제2 전극(140)을 구성하는 재료로서는, 백금, 금, 은, 구리, 철, 주석, 크롬, 알루미늄, 인듐, 리튬, 나트륨, 칼륨, 칼슘, 마그네슘, 인듐주석 산화물(ITO), 인듐아연 산화물(IZO), 탄소 등을 사용할 수 있다. 이들 재료는, 단독으로 사용해도, 2종류 이상을 조합해서 사용해도 된다. 2종류 이상을 사용하는 경우에는, 각 재료를 포함하는 층을 적층해도 된다. 또한, 2종류 이상의 재료를 포함하는 합금을 사용해도 된다. 예를 들어, MgAg 등의 마그네슘 합금, AlLi, AlCa, AlMg 등의 알루미늄 합금을 사용할 수 있다. MgAg를, 마그네슘 은이라고도 칭한다. 마그네슘 은은, 제2 전극(140)의 재료로서 바람직하게 사용된다. 알칼리 금속류 및 알칼리 토류 금속류의 합금 등을 사용해도 된다. 예를 들어, 불화리튬, 불화나트륨, 불화칼륨 등을 사용해도 된다.

제2 전극(140)은, 공통 전극이어도 된다. 예를 들어, 1개의 소자(115)의 제2 전극(140)이, 그 밖의 소자(115)의 제2 전극(140)에 전기적으로 접속되어 있어도 된다.

제2 전극(140)은, 1개의 층으로 구성되어 있어도 된다. 예를 들어, 제2 전극(140)은, 1개의 마스크를 사용하는 증착 공정에 의해 형성되는 층이어도 된다.

혹은, 도 1에 도시하는 바와 같이, 제2 전극(140)은, 제1층(140A) 및 제2층(140B)을 포함하고 있어도 된다. 제1층(140A)은, 제1 마스크를 사용하는 증착 공정에 의해 형성되는 층이어도 된다. 제2층(140B)은, 제2 마스크를 사용하는 증착 공정에 의해 형성되는 층이어도 된다. 이와 같이, 2개 이상의 마스크를 사용해서 제2 전극(140)을 형성해도 된다. 이에 의해, 평면으로 보았을 때의 제2 전극(140)의 패턴의 자유도가 높아진다. 예를 들어, 유기 디바이스(100)는, 평면으로 보아 제2 전극(140)이 존재하지 않는 영역을 포함할 수 있다. 제2 전극(140)이 존재하지 않는 영역은, 제2 전극(140)이 존재하는 영역에 비하여 높은 투과율을 가질 수 있다.

도 1에 도시하는 바와 같이, 제1층(140A)의 단부와 제2층(140B)의 단부가 부분적으로 겹쳐 있어도 된다. 이에 의해, 제1층(140A)과 제2층(140B)을 전기적으로 접속할 수 있다.

도시는 하지 않지만, 제2 전극(140)은, 제3층 등의 기타 층을 포함해도 된다. 제3층 등의 기타 층은, 제1층(140A) 및 제2층(140B)에 전기적으로 접속되어 있어도 된다.

이하의 설명에서, 제2 전극(140)의 구성 중, 제1층(140A), 제2층(140B), 제3층 등에 공통되는 구성을 설명할 경우에는, 「제2 전극(140)」이라는 용어 및 부호를 사용한다.

유기 디바이스(100)의 제조 방법에 있어서는, 도 2에 도시한 바와 같은 유기 디바이스군(102)이 제작되어도 된다. 유기 디바이스군(102)은, 2개 이상의 유기 디바이스(100)를 포함한다. 예를 들어, 유기 디바이스군(102)은, 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)으로 배열되는 유기 디바이스(100)를 포함해도 된다. 제2 방향(D2)은, 제1 방향(D1)에 교차하는 방향이다. 제2 방향(D2)은, 제1 방향(D1)에 직교하고 있어도 된다. 2개 이상의 유기 디바이스(100)에 있어서, 공통의 1매의 기판(110)이 사용되어도 된다. 예를 들어, 유기 디바이스군(102)은, 1매의 기판(110) 위에 위치하고, 2개 이상의 유기 디바이스(100)를 구성하는 제1 전극(120), 유기층(130), 제2 전극(140) 등의 층을 포함해도 된다. 유기 디바이스군(102)을 분할함으로써, 유기 디바이스(100)가 얻어진다.

제1 방향(D1)은, 후술하는 바와 같이, 유기 디바이스(100)를 제조하기 위해서 사용되는 마스크(50)가 연장되는 방향이어도 된다.

제1 방향(D1)에서의 유기 디바이스(100)의 치수(A1)는, 예를 들어 10mm 이상이어도 되고, 30mm 이상이어도 되고, 100mm 이상이어도 된다. 치수(A1)는, 예를 들어 200mm 이하이어도 되고, 500mm 이하이어도 되고, 1000mm 이하이어도 된다. 치수(A1)의 범위는, 10mm, 30mm 및 100mm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 200mm, 500mm 및 1000mm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 치수(A1)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(A1)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(A1)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 치수(A1)는, 10mm 이상 1000mm 이하이어도 되고, 10mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 10mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 10mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 10mm 이상 30mm 이하이어도 되고, 30mm 이상 1000mm 이하이어도 되고, 30mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 30mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 30mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 1000mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 200mm 이상 1000mm 이하이어도 되고, 200mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 500mm 이상 1000mm 이하이어도 된다.

제2 방향(D2)에서의 유기 디바이스(100)의 치수(A2)는, 예를 들어 10mm 이상이어도 되고, 20mm 이상이어도 되고, 50mm 이상이어도 된다. 치수(A2)는, 예를 들어 100mm 이하이어도 되고, 200mm 이하이어도 되고, 500mm 이하이어도 된다. 치수(A2)의 범위는, 10mm, 20mm 및 50mm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 100mm, 200mm 및 500mm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 치수(A2)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(A2)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(A2)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 치수(A2)는, 10mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 10mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 10mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 10mm 이상 50mm 이하이어도 되고, 10mm 이상 20mm 이하이어도 되고, 20mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 20mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 20mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 20mm 이상 50mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 200mm 이상 500mm 이하이어도 된다.

유기 디바이스군(102)은, 복수의 유기 디바이스(100)가 위치하는 디바이스 영역(103)을 포함한다. 디바이스 영역(103)은, 제1 방향(D1)에 있어서 치수(G12)를 갖고, 제2 방향(D2)에 있어서 치수(G22)를 갖는다.

기판(110)을 대형화함으로써, 디바이스 영역(103)의 치수(G12 및 G22)를 크게 할 수 있다. 이에 의해, 1매의 기판(110) 위에 형성되는 유기 디바이스(100)의 수가 증가한다. 이에 의해, 유기 디바이스(100)의 제조 비용을 저감할 수 있다.

제1 방향(D1)에서의 기판(110)의 치수(G11)는, 예를 들어 1000mm 이상이어도 되고, 1200mm 이상이어도 되고, 1300mm 이상이어도 되고, 2100mm 이상이어도 된다. 치수(G11)는, 예를 들어 1200mm 이하이어도 되고, 1300mm 이하이어도 되고, 1900mm 이하이어도 되고, 2100mm 이하이어도 되고, 2300mm 이하이어도 된다. 치수(G11)의 범위는, 1000mm, 1200mm, 1300mm 및 2100mm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 1200mm, 1300mm, 1900mm, 2100mm 및 2300mm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 치수(G11)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(G11)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(G11)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 치수(G11)는, 1000mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 1000mm 이상 2100mm 이하이어도 되고, 1000mm 이상 1900mm 이하이어도 되고, 1000mm 이상 1300mm 이하이어도 되고, 1000mm 이상 1200mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 2100mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 1900mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 1300mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 2100mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 1900mm 이하이어도 되고, 1900mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 1900mm 이상 2100mm 이하이어도 되고, 2100mm 이상 2300mm 이하이어도 된다.

제2 방향(D2)에서의 기판(110)의 치수(G21)는, 예를 들어 1200mm 이상이어도 되고, 1300mm 이상이어도 되고, 1500mm 이상이어도 되고, 2000mm 이상이어도 되고, 2400mm 이상이어도 된다. 치수(G21)는, 예를 들어 1300mm 이하이어도 되고, 2300mm 이하이어도 되고, 2400mm 이하이어도 되고, 2600mm 이하이어도 된다. 치수(G21)의 범위는, 1200mm, 1300mm, 1500mm, 2000mm 및 2400mm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 1300mm, 2300mm, 2400mm 및 2600mm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 치수(G21)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(G21)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(G21)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 치수(G21)는, 1200mm 이상 2600mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 2400mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 1500mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 1300mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 2600mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 2400mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 1500mm 이하이어도 되고, 1500mm 이상 2600mm 이하이어도 되고, 1500mm 이상 2400mm 이하이어도 되고, 1500mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 2000mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 2300mm 이상 2600mm 이하이어도 되고, 2300mm 이상 2400mm 이하이어도 되고, 2400mm 이상 2600mm 이하이어도 된다.

치수(G11)의 특정 수치 범위와, 치수(G21)의 특정 수치 범위가 조합되어도 된다. 예를 들어, 치수(G11)가 1000mm 이상 1200mm 이하이고, 치수(G21)가 1200mm 이상 1300mm 이하이어도 된다. 예를 들어, 치수(G11)가 1200mm 이상 1300mm 이하이고, 치수(G21)가 2000mm 이상 2300mm 이하이어도 된다. 예를 들어, 치수(G11)가 2100mm 이상 2300mm 이하이고, 치수(G21)가 2400mm 이상 2600mm 이하이어도 된다.

이어서, 유기층(130), 제2 전극(140) 등의 요소를 증착법에 의해 형성하는 방법에 대해서 설명한다. 도 3은, 증착 장치(10)를 도시하는 도면이다. 증착 장치(10)는, 기판(110)에 증착 재료를 증착시키는 증착 처리를 실시한다.

도 3에 도시한 바와 같이, 증착 장치(10)는, 그 내부에, 증착원(6), 히터(8) 및 마스크 장치(15)를 구비해도 된다. 증착 장치(10)는, 증착 장치(10)의 내부를 진공 분위기로 하기 위한 배기 수단을 구비해도 된다. 증착원(6)은, 예를 들어 도가니이다. 증착원(6)은, 유기 재료, 금속 재료 등의 증착 재료(7)를 수용한다. 히터(8)는, 증착원(6)을 가열함으로써, 진공 분위기 하에서 증착 재료(7)를 증발시킨다.

도 3에 도시한 바와 같이, 마스크 장치(15)는, 적어도 하나의 마스크(50)를 구비한다. 마스크 장치(15)는, 마스크(50)를 지지하는 프레임(40)을 구비해도 된다. 프레임(40)은 개구(45)를 포함한다. 마스크(50)는, 평면으로 보아 개구(45)를 가로 지르도록 프레임(40)에 고정되어 있어도 된다. 프레임(40)은, 마스크(50)가 고정되어 있는 제1 프레임면(401)과, 제1 프레임면(401)의 반대측에 위치하는 제2 프레임면(402)을 포함해도 된다. 프레임(40)은, 마스크(50)가 휘는 것을 억제하도록, 마스크(50)를 그 면 방향으로 잡아당긴 상태에서 지지하고 있어도 된다.

마스크 장치(15)는, 도 3에 도시한 바와 같이, 기판(110)의 제1면(111)에 마스크(50)가 대면하도록, 증착 장치(10) 내에 배치되어 있다. 마스크(50)는, 증착원(6)으로부터 비래한 증착 재료(7)를 통과시키는 복수의 관통 구멍(56)을 포함한다. 이하의 설명에서, 기판(110)에 면하는 마스크(50)의 면을 제1면(551)이라고 칭한다. 제1면(551)의 반대측에 위치하는 마스크(50)의 면을 제2면(552)이라고 칭한다.

증착 장치(10)는, 도 3에 도시한 바와 같이, 기판(110)을 보유 지지하는 기판 홀더(2)를 구비해도 된다. 기판 홀더(2)는, 기판(110)의 두께 방향에 있어서 이동 가능해도 된다. 기판 홀더(2)는, 기판(110)의 면 방향에 있어서 이동 가능해도 된다. 기판 홀더(2)는, 기판(110)의 기울기를 제어하도록 구성되어 있어도 된다. 예를 들어, 기판 홀더(2)는, 기판(110)의 외연에 설치된 복수의 척을 포함해도 된다. 각 척은, 기판(110)의 두께 방향이나 면 방향에 있어서 독립적으로 이동 가능해도 된다.

증착 장치(10)는, 도 3에 도시한 바와 같이, 마스크 장치(15)를 보유 지지하는 마스크 홀더(3)를 구비해도 된다. 마스크 홀더(3)는, 이동 가능해도 된다.

기판 홀더(2) 또는 마스크 홀더(3) 중 적어도 어느 한쪽을 이동시킴으로써, 기판(110)에 대한 마스크(50)의 위치를 조정할 수 있다.

증착 장치(10)는 냉각판(4)을 구비해도 된다. 냉각판(4)은, 도 3에 도시한 바와 같이, 기판(110)의 제2면(112)측에 배치되어 있어도 된다. 냉각판(4)은, 냉각판(4)의 내부에 냉매를 순환시키기 위한 유로를 가져도 된다. 냉각판(4)은, 증착 공정 시에 기판(110)의 온도가 상승하는 것을 억제할 수 있다.

증착 장치(10)는 자석(5)을 구비해도 된다. 자석(5)은, 도 3에 도시한 바와 같이, 기판(110)의 제2면(112)측에 배치되어 있어도 된다. 자석(5)은, 기판(110)으로부터 먼 냉각판(4)의 면에 배치되어 있어도 된다. 자석(5)은, 자력에 의해 마스크(50)를 기판(110)측으로 끌어 당길 수 있다. 이에 의해, 마스크(50)와 기판(110)의 사이의 간극을 저감하거나, 간극을 없애거나 할 수 있다. 이에 의해, 증착 공정에서 섀도우가 발생하는 것을 억제할 수 있다. 섀도우란, 마스크(50)와 기판(110)의 사이의 간극에 증착 재료(7)가 들어가서, 이에 의해 증착층의 형상이 불균일해지는 현상이다. 증착층의 형상은, 증착층의 두께, 평면으로 보았을 때의 증착층의 치수 등이다. 정전기력을 이용하는 정전 척을 사용해서 마스크(50)를 기판(110)측으로 끌어 당겨도 된다.

도 4는, 마스크 장치(15)를 제1면(551)측에서 본 경우를 도시하는 평면도이다. 마스크 장치(15)는, 프레임(40)과, 프레임(40)에 고정된 마스크(50)를 구비해도 된다. 프레임(40)은, 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)으로 연장되는 직사각형의 윤곽을 갖고 있어도 된다. 프레임(40)은, 제1 방향(D1)에 있어서 마스크(50)에 장력을 가한 상태에서 마스크(50)를 지지해도 된다.

프레임(40)은, 제1변(41), 제2변(42), 제3변(43), 제4변(44) 및 개구(45)를 포함한다. 제1변(41) 및 제2변(42)은, 개구(45)를 사이에 두고 제1 방향(D1)에 있어서 대향하고 있다. 제1변(41) 및 제2변(42)은, 제2 방향(D2)으로 연장되어 있어도 된다. 제3변(43) 및 제4변(44)은, 개구(45)를 사이에 두고 제2 방향(D2)에 있어서 대향하고 있다. 제3변(43) 및 제4변(44)은, 제1 방향(D1)으로 연장되어 있어도 된다. 제1변(41) 및 제4변(44)이, 제3변(43) 및 제4변(44)보다도 길어도 된다. 개구(45)는, 제1변(41)과 측면(42)의 사이 및 제3변(43)과 제4변(44)의 사이에 위치하고 있다.

제1변(41)은, 외측면(41a) 및 내측면(41b)을 포함한다. 제2변(42)은, 외측면(42a) 및 내측면(42b)을 포함한다. 제3변(43)은, 외측면(43a) 및 내측면(43b)을 포함한다. 제4변(44)은, 외측면(44a) 및 내측면(44b)을 포함한다. 내측면(41b, 42b, 43b, 44b)은, 개구(45)에 면하고 있다. 외측면(41a, 42a)은, 제1 방향(D1)에 있어서 내측면(41b, 42b)의 반대측에 위치한다. 외측면(43a, 44a)은, 제2 방향(D2)에 있어서 내측면(43b, 44b)의 반대측에 위치한다. 프레임(40)은, 2개의 변의 외측면이 교차하는 각(46)을 포함한다.

프레임(40)은, 제1 방향(D1)에 있어서 치수(E11)를 갖는다. 치수(E11)는, 예를 들어 1000mm 이상이어도 되고, 1200mm 이상이어도 되고, 1300mm 이상이어도 되고, 2100mm 이상이어도 된다. 치수(E11)는, 예를 들어 1200mm 이하이어도 되고, 1300mm 이하이어도 되고, 1900mm 이하이어도 되고, 2100mm 이하이어도 되고, 2300mm 이하이어도 된다. 치수(E11)의 범위는, 1000mm, 1200mm, 1300mm 및 2100mm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 1200mm, 1300mm, 1900mm, 2100mm 및 2300mm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 치수(E11)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(E11)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(E11)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 치수(E11)는, 1000mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 1000mm 이상 2100mm 이하이어도 되고, 1000mm 이상 1900mm 이하이어도 되고, 1000mm 이상 1300mm 이하이어도 되고, 1000mm 이상 1200mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 2100mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 1900mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 1300mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 2100mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 1900mm 이하이어도 되고, 1900mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 1900mm 이상 2100mm 이하이어도 되고, 2100mm 이상 2300mm 이하이어도 된다.

프레임(40)은, 제2 방향(D2)에 있어서 치수(E21)를 갖는다. 치수(E21)는, 치수(E11)보다도 커도 된다. 치수(E21)는, 예를 들어 1200mm 이상이어도 되고, 1300mm 이상이어도 되고, 1500mm 이상이어도 되고, 2000mm 이상이어도 되고, 2400mm 이상이어도 된다. 치수(E21)는, 예를 들어 1300mm 이하이어도 되고, 2300mm 이하이어도 되고, 2400mm 이하이어도 되고, 2600mm 이하이어도 된다. 치수(E21)의 범위는, 1200mm, 1300mm, 1500mm, 2000mm 및 2400mm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 1300mm, 2300mm, 2400mm 및 2600mm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 치수(E21)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(E21)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(E21)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 치수(E21)는, 1200mm 이상 2600mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 2400mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 1500mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 1300mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 2600mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 2400mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 1500mm 이하이어도 되고, 1500mm 이상 2600mm 이하이어도 되고, 1500mm 이상 2400mm 이하이어도 되고, 1500mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 2000mm 이상 2300mm 이하이어도 되고, 2300mm 이상 2600mm 이하이어도 되고, 2300mm 이상 2400mm 이하이어도 되고, 2400mm 이상 2600mm 이하이어도 된다.

치수(E11)에 대한 치수(E21)의 비는, 예를 들어 1.1 이상이어도 되고, 1.2 이상이어도 되고, 1.3 이상이어도 된다. 치수(E11)에 대한 치수(E21)의 비는, 예를 들어 1.5 이하이어도 되고, 1.7 이하이어도 되고, 2.0 이하이어도 된다. 치수(E11)에 대한 치수(E21)의 비의 범위는, 1.1, 1.2 및 1.3을 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 1.5, 1.7 및 2.0을 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 치수(E11)에 대한 치수(E21)의 비의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(E11)에 대한 치수(E21)의 비의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(E11)에 대한 치수(E21)의 비의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 치수(E11)에 대한 치수(E21)의 비는, 1.1 이상 2.0 이하이어도 되고, 1.1 이상 1.7 이하이어도 되고, 1.1 이상 1.5 이하이어도 되고, 1.1 이상 1.3 이하이어도 되고, 1.1 이상 1.2 이하이어도 되고, 1.2 이상 2.0 이하이어도 되고, 1.2 이상 1.7 이하이어도 되고, 1.2 이상 1.5 이하이어도 되고, 1.2 이상 1.3 이하이어도 되고, 1.3 이상 2.0 이하이어도 되고, 1.3 이상 1.7 이하이어도 되고, 1.3 이상 1.5 이하이어도 되고, 1.5 이상 2.0 이하이어도 되고, 1.5 이상 1.7 이하이어도 되고, 1.7 이상 2.0 이하이어도 된다.

치수(E11)의 특정 수치 범위와, 치수(E21)의 특정 수치 범위가 조합되어도 된다. 예를 들어, 치수(E11)가 1000mm 이상 1200mm 이하이고, 치수(E21)가 1200mm 이상 1300mm 이하이어도 된다. 예를 들어, 치수(E11)가 1200mm 이상 1300mm 이하이고, 치수(E21)가 2000mm 이상 2300mm 이하이어도 된다. 예를 들어, 치수(E11)가 2100mm 이상 2300mm 이하이고, 치수(E21)가 2400mm 이상 2600mm 이하이어도 된다.

개구(45)는, 제1 방향(D1)에 있어서 치수(E12)를 갖고, 제2 방향(D2)에 있어서 치수(E22)를 갖는다. 프레임(40)의 치수를 크게 함으로써, 개구(45)의 치수를 크게 할 수 있다. 개구(45)의 치수를 크게 함으로써, 평면으로 보아 개구(45)에 겹치는 마스크(50)의 면적을 크게 할 수 있다. 이에 의해, 1매의 기판(110) 위에 형성되는 유기 디바이스(100)의 수가 증가한다. 이에 의해, 유기 디바이스(100)의 제조 비용을 저감할 수 있다. 「평면으로 보아」란, 마스크(50)의 두께 방향을 따라 대상물을 보는 것을 의미한다.

마스크(50)는, 제1변(41) 및 제2변(42)에 고정되어 있다. 평면으로 보아, 마스크(50)는, 제1변(41) 및 제2변(42)에 고정되어 있는 한 쌍의 단부(51)와, 한 쌍의 단부(51)의 사이에 위치하는 중간부(52)를 포함한다. 한 쌍의 단부(51)는, 제1 방향(D1)에 있어서 대향하고 있다. 중간부(52)는, 평면으로 보아 개구(45)에 겹쳐 있다. 중간부(52)는, 관통 구멍군(53)을 포함한다.

마스크 장치(15)는, 제2 방향을 따라 배열되는 N매의 마스크(50)를 구비해도 된다. N은, 2 이상의 정수이다. N은, 짝수이어도 된다. 도 4에 도시하는 마스크 장치(15)는, 10매의 마스크(50)를 구비한다. 후술하는 바와 같이, N은, 홀수이어도 된다.

마스크(50)는, 중앙 마스크 그룹(50C), 제1 마스크 그룹(50A) 및 제2 마스크 그룹(50B)을 포함해도 된다. 중앙 마스크 그룹(50C), 제1 마스크 그룹(50A) 및 제2 마스크 그룹(50B)은 각각, 마스크(50)를 포함한다. 도 4에 도시하는 바와 같이, 제1 마스크 그룹(50A)은, 제2 방향(D2)에 있어서 중앙 마스크 그룹(50C)과 제3변(43)의 사이에 위치한다. 도 4에 도시하는 바와 같이, 제2 마스크 그룹(50B)은, 제2 방향(D2)에 있어서 중앙 마스크 그룹(50C)과 제4변(44)의 사이에 위치한다.

중앙 마스크 그룹(50C)은, 1매 또는 2매의 마스크(50)를 포함한다. N이 짝수일 경우, 중앙 마스크 그룹(50C)은 2매의 마스크(50)를 포함해도 된다. N이 홀수일 경우, 중앙 마스크 그룹(50C)은 1매의 마스크(50)를 포함해도 된다. 도 4에 도시하는 중앙 마스크 그룹(50C)은, 제11 마스크(50A1) 및 제12 마스크(50A2)를 포함한다. 제11 마스크(50A1)는, 제2 중심선(Lc2)과 제3변(43)의 사이에 위치해도 된다. 제12 마스크(50A2)는, 제2 중심선(Lc2)과 제4변(44)의 사이에 위치해도 된다. 제2 중심선(Lc2)은, 제2 방향(D2)에서의 개구(45)의 중심을 통과하여, 제1 방향(D1)으로 연장되는 가상적인 직선이다. 도시는 하지 않지만, 제11 마스크(50A1) 또는 제12 마스크(50A2)가 제2 중심선(Lc2)에 겹쳐 있어도 된다.

제1 마스크 그룹(50A)은, 1매 이상의 마스크(50)를 포함한다. 제1 마스크 그룹(50A)은, 2매 이상의 마스크(50)를 포함해도 된다. 도 4에 도시하는 제1 마스크 그룹(50A)은, 제3변(43)으로부터 제2 중심선(Lc2)을 향하는 방향으로 순서대로 배열되는 제11 마스크(50A1), 제12 마스크(50A2), 제13 마스크(50A3) 및 제14 마스크(50A4)를 포함한다.

제2 마스크 그룹(50B)은, 1매 이상의 마스크(50)를 포함한다. 제2 마스크 그룹(50B)은, 2매 이상의 마스크(50)를 포함해도 된다. 제2 마스크 그룹(50B)에 포함되는 마스크(50)의 수는, 제1 마스크 그룹(50A)에 포함되는 마스크(50)의 수와 동일해도 된다. 도 4에 도시하는 제2 마스크 그룹(50B)은, 제4변(44)으로부터 제2 중심선(Lc2)을 향하는 방향으로 순서대로 배열되는 제21 마스크(50B1), 제22 마스크(50B2), 제23 마스크(50B3) 및 제24 마스크(50B4)를 포함한다.

도시는 하지 않지만, 마스크 장치(15)는, 평면으로 보아 마스크(50)에 부분적으로 겹치는 부재를 구비해도 된다. 부재는, 개구(45)를 가로 지르도록 프레임(40)의 변에 고정되어 있어도 된다. 부재는, 마스크(50)의 제2면(552)에 접하고 있어도 된다. 부재의 일례는, 제3변(43) 및 제4변(44)에 고정된 한 쌍의 단부를 포함해도 된다. 부재의 일례는, 제1변(41) 및 제2변(42)에 고정된 한 쌍의 단부를 포함하고, 제2 방향(D2)에 있어서 인접하는 2매의 마스크(50)의 사이의 간극에 위치해도 된다.

프레임(40)에 대해서 상세하게 설명한다. 제1변(41) 및 제2변(42)은, 제1 방향(D1)에 있어서 마스크(50)에 장력을 가해도 된다. 예를 들어, 제1변(41) 및 제2변(42)은, 개구(45)를 향하는 방향으로 탄성적으로 변형되어 있어도 된다.

예를 들어, 제1변(41)은, 선(L11)보다도 내측에 위치해도 된다. 선(L11)은, 변형되기 전의 제1변(41)의 외측면(41a)의 위치를 나타낸다. 부호 d11은, 제1 방향(D1)에서의 제1변(41)의 변형량을 나타낸다. 변형량(d11)은, 제2 중심선(Lc2)에 가까울수록 커도 된다. 선(L11)은, 제1변(41)의 양단에 위치하는 각(46)을 연결하는 직선으로서 설정되어도 된다.

예를 들어, 제2변(42)은, 선(L12)보다도 내측에 위치해도 된다. 선(L12)은, 변형되기 전의 제2변(42)의 외측면(42a)의 위치를 나타낸다. 부호 d12는, 제1 방향(D1)에서의 제2변(42)의 변형량을 나타낸다. 변형량(d12)은, 제2 중심선(Lc2)에 가까울수록 커도 된다. 선(L12)은, 제2변(42)의 양단에 위치하는 각(46)을 연결하는 직선으로서 설정되어도 된다.

「내측」은, 개구(45)를 향하는 측을 의미한다. 「외측」은, 개구(45)로부터 멀어지는 측을 의미한다.

도 5는, 제1변(41)의 일부를 확대해서 도시하는 평면도이다. 제1변(41)이 내측으로 탄성적으로 변형되어 있을 경우, 제1변(41)에는, 외측으로의 복원력(F)이 생기고 있다. 마찬가지로, 제2변(42)에도 외측으로의 복원력이 생기고 있다. 이 때문에, 마스크(50)는, 제1변(41) 및 제2변(42)에 의해 제1 방향(D1)에 있어서 외측으로 잡아당겨진다. 이에 의해, 마스크(50)에 변형이나 이완이 생기는 것을 억제할 수 있다.

이하의 설명에 있어서, 마스크(50)에 가해지고 있는 장력을, 부호 TXX로 나타내는 경우도 있다. 「XX」는, 임의의 문자 또는 숫자이다. 예를 들어, 제14 마스크(50A4)에 가해지고 있는 장력은, TA4로 표현된다. 예를 들어, 중앙 제1 마스크(50C1)에 가해지고 있는 장력은, TC1로 표현된다.

이하의 설명에 있어서, 마스크(50XX)의 위치에서 제1변(41)에 생긴 복원력을, 부호 FXX로 나타내는 경우도 있다. 예를 들어, 제14 마스크(50A4)의 위치에서 제1변(41)에 생긴 복원력은, FA4로 표현된다. 예를 들어, 중앙 제1 마스크(50C1)의 위치에서 제1변(41)에 생긴 복원력은, FC1로 표현된다.

이하의 설명에 있어서, 마스크(50XX)의 위치에서의 제1변(41)의 변형량을, 부호 dXX로 나타내는 경우도 있다. 예를 들어, 제14 마스크(50A4)의 위치에서의 제1변(41)의 변형량은, 부호 dA4로 표현된다. 예를 들어, 중앙 제1 마스크(50C1)의 위치에서의 제1변(41)의 변형량은, 부호 dC1로 표현된다.

제1변(41) 및 제2변(42)은, 마스크(50)로부터 반력을 받는다. 이하의 설명에 있어서, 제1변(41)이 마스크(50XX)로부터 받는 반력을, 부호 RXX로 나타내는 경우도 있다. 예를 들어, 제1변(41)이 제14 마스크(50A4)로부터 받는 반력은, 부호 RA4로 표현된다. 예를 들어, 제1변(41)이 중앙 제1 마스크(50C1)로부터 받는 반력은, 부호 RC1로 표현된다.

이하의 설명에 있어서, 각 마스크의 공통의 구성을 설명할 경우에는, 「마스크(50)」라는 용어 및 부호를 사용하는 경우가 있다. 또한, 장력, 복원력, 반력 등에 관해서, 각 마스크(50)에 공통되는 특징을 설명할 경우에는, 「장력(T)」, 「복원력(F)」, 「반력(R)」 등의 용어 및 부호를 사용하는 경우가 있다.

마스크(50)는, 고정부(47)에 의해 제1변(41) 및 제2변(42)에 고정되어 있다. 고정부(47)는, 예를 들어 도 5에 도시한 바와 같이, 용접부(47a)를 포함한다. 용접부(47a)는, 마스크(50)의 일부와 프레임(40)의 일부가 서로 용융함으로써 형성된 부분이다. 용접부(47a)는, 예를 들어 프레임(40)의 제1 프레임면(401)에 겹치는 마스크(50)의 단부(51)에 레이저를 조사함으로써 형성된다. 고정부(47)는, 복수의 용접부(47a)를 포함해도 된다. 용접부(47a)는, 평면으로 보았을 때의 제1변(41)의 내측 테두리를 따라 배열되어 있어도 된다.

제3변(43) 및 제4변(44)에 대해서 설명한다. 도 4에 도시하는 바와 같이, 제3변(43) 및 제4변(44)은, 탄성적으로 변형되어 있지 않아도 된다. 혹은, 제3변(43) 및 제4변(44)은, 탄성적으로 변형되어 있어도 된다. 도 6은, 마스크 장치(15)의 일례를 도시하는 평면도이다.

도 6에 도시하는 바와 같이, 제3변(43) 및 제4변(44)은, 외측으로 탄성적으로 변형되어 있어도 된다. 직선(L21)은, 변형되기 전의 제3변(43)의 외측면(43a)의 위치를 나타낸다. 직선(L22)은, 변형되기 전의 제4변(44)의 외측면(44a)의 위치를 나타낸다.

프레임(40)의 치수에 대해서 설명한다. 프레임(40)의 치수는, 복원력(F)을 적절하게 생기게 하도록 설정되어 있다. 제1변(41)은 폭(W1)을 갖는다. 폭(W1)은, 제1 방향(D1)에서의 제1변(41)의 치수이다. 폭(W1)은, 예를 들어 20mm 이상이어도 되고, 60mm 이상이어도 되고, 100mm 이상이어도 된다. 폭(W1)은, 예를 들어 150mm 이하이어도 되고, 200mm 이하이어도 되고, 250mm 이하이어도 된다. 폭(W1)의 범위는, 20mm, 60mm 및 100mm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 150mm, 200mm 및 250mm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 폭(W1)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 폭(W1)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 폭(W1)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 폭(W1)은, 20mm 이상 250mm 이하이어도 되고, 20mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 20mm 이상 150mm 이하이어도 되고, 20mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 20mm 이상 60mm 이하이어도 되고, 60mm 이상 250mm 이하이어도 되고, 60mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 60mm 이상 150mm 이하이어도 되고, 60mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 250mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 150mm 이하이어도 되고, 150mm 이상 250mm 이하이어도 되고, 150mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 200mm 이상 250mm 이하이어도 된다.

제1변(41)은, 단면적(B1)을 갖는다. 단면적(B1)은, 제2 방향(D2)에 직교하는 평면으로 제1변(41)을 절단한 경우에 산출되는 단면적이다. 단면적(B1)은, 예를 들어 600mm² 이상이어도 되고, 1800mm² 이상이어도 되고, 3000mm² 이상이어도 된다. 단면적(B1)은, 예를 들어 4500mm² 이하이어도 되고, 6000mm² 이하이어도 되고, 7500mm² 이하이어도 된다. 단면적(B1)의 범위는, 600mm², 1800mm² 및 3000mm²를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 4500mm², 6000mm² 및 7500mm²를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 단면적(B1)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 단면적(B1)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 단면적(B1)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 단면적(B1)은, 600mm² 이상 7500mm² 이하이어도 되고, 600mm² 이상 6000mm² 이하이어도 되고, 600mm² 이상 4500mm² 이하이어도 되고, 600mm² 이상 3000mm² 이하이어도 되고, 600mm² 이상 1800mm² 이하이어도 되고, 1800mm² 이상 7500mm² 이하이어도 되고, 1800mm² 이상 6000mm² 이하이어도 되고, 1800mm² 이상 4500mm² 이하이어도 되고, 1800mm² 이상 3000mm² 이하이어도 되고, 3000mm² 이상 7500mm² 이하이어도 되고, 3000mm² 이상 6000mm² 이하이어도 되고, 3000mm² 이상 4500mm² 이하이어도 되고, 4500mm² 이상 7500mm² 이하이어도 되고, 4500mm² 이상 6000mm² 이하이어도 되고, 6000mm² 이상 7500mm² 이하이어도 된다.

제2변(42)의 폭, 제3변(43)의 폭 및 제4변(44)의 폭의 수치 범위로서는, 상술한 폭(W1)의 수치 범위를 채용할 수 있다. 제2변(42)의 단면적, 제3변(43)의 단면적 및 제4변(44)의 단면적의 수치 범위로서는, 상술한 단면적(B1)의 수치 범위를 채용할 수 있다.

마스크(50)에 대해서 상세하게 설명한다. 도 7은, 마스크(50)의 일례를 도시하는 평면도이다. 평면으로 보아, 마스크(50)는, 제1 방향(D1)으로 연장되는 제1 측연부(501) 및 제2 측연부(502)와, 제1단(503) 및 제2단(504)을 포함해도 된다. 제1단(503) 및 제2단(504)은, 제1 방향(D1)에서의 마스크(50)의 끝이다.

중간부(52)의 관통 구멍군(53)은, 평면으로 보아 규칙적으로 배열되는 복수의 관통 구멍(56)을 포함한다. 관통 구멍(56)은, 2개의 방향에 있어서 주기적으로 배열되어 있어도 된다. 예를 들어, 관통 구멍(56)은, 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)에 있어서 주기적으로 배열되어 있어도 된다.

1개의 관통 구멍군(53)은, 1개의 유기 디바이스(100)에 대응한다. 예를 들어, 1개의 유기 디바이스(100)에 포함되는 복수의 제1 유기층(130A)은, 1개의 관통 구멍군(53)의 복수의 관통 구멍(56)을 통한과 증착 재료에 의해 구성된다. 마스크(50)는, 적어도 하나의 관통 구멍군(53)을 포함한다. 마스크(50)는, 제1 방향(D1)으로 배열되는 2개 이상의 관통 구멍군(53)을 포함해도 된다.

마스크(50)는, 제1 방향(D1)에 있어서 치수(M11)를 갖는다. 치수(M11)는, 예를 들어 600mm 이상이어도 되고, 800mm 이상이어도 되고, 1000mm 이상이어도 된다. 치수(M11)는, 예를 들어 1200mm 이하이어도 되고, 1500mm 이하이어도 되고, 2000mm 이하이어도 된다. 치수(M11)의 범위는, 600mm, 800mm 및 1000mm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 1200mm, 1500mm 및 2000mm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 치수(M11)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(M11)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(M11)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 치수(M11)는, 600mm 이상 2000mm 이하이어도 되고, 600mm 이상 1500mm 이하이어도 되고, 600mm 이상 1200mm 이하이어도 되고, 600mm 이상 1000mm 이하이어도 되고, 600mm 이상 800mm 이하이어도 되고, 800mm 이상 2000mm 이하이어도 되고, 800mm 이상 1500mm 이하이어도 되고, 800mm 이상 1200mm 이하이어도 되고, 800mm 이상 1000mm 이하이어도 되고, 1000mm 이상 2000mm 이하이어도 되고, 1000mm 이상 1500mm 이하이어도 되고, 1000mm 이상 1200mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 2000mm 이하이어도 되고, 1200mm 이상 1500mm 이하이어도 되고, 1500mm 이상 2000mm 이하이어도 된다.

마스크(50)는, 제2 방향(D2)에 있어서 치수(M21)를 갖는다. 치수(M21)는, 예를 들어 50mm 이상이어도 되고, 100mm 이상이어도 되고, 150mm 이상이어도 된다. 치수(M21)는, 예를 들어 200mm 이하이어도 되고, 300mm 이하이어도 되고, 410mm 이하이어도 된다. 치수(M21)의 범위는, 50mm, 100mm 및 150mm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 200mm, 300mm 및 410mm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 치수(M21)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(M21)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 치수(M21)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 치수(M21)는, 50mm 이상 410mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 300mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 150mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 410mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 300mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 150mm 이하이어도 되고, 150mm 이상 410mm 이하이어도 되고, 150mm 이상 300mm 이하이어도 되고, 150mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 200mm 이상 410mm 이하이어도 되고, 200mm 이상 300mm 이하이어도 되고, 300mm 이상 410mm 이하이어도 된다.

이어서, 마스크(50)의 단면 구조를 설명한다. 도 8은, 마스크(50)의 일례를 도시하는 단면도이다.

마스크(50)는, 기재(55)와, 기재(55)를 관통하는 관통 구멍(56)을 구비한다. 기재(55)는, 제1면(551) 및 제2면(552)을 포함한다. 관통 구멍(56)은, 제1면(551)으로부터 제2면(552)으로 기재(55)를 관통하고 있다.

관통 구멍(56)은, 제1 오목부(561)와, 제2 오목부(562)와, 제1 오목부(561)와 제2 오목부(562)를 접속하는 접속부(563)를 포함해도 된다. 제1 오목부(561)는, 제1면(551)에 위치하고, 제2면(552)을 향해서 오목해진 오목부이다. 제2 오목부(562)는, 제2면(552)에 위치하고, 제1면(551)을 향해서 오목해진 오목부이다. 제1 오목부(561)와 제2 오목부(562)가 접속됨으로써, 관통 구멍(56)이 구성된다. 제1 오목부(561)는, 기재(55)를 제1면(551)측으로부터 에칭이나 레이저 등에 의해 가공함으로써 형성된다. 제2 오목부(562)는, 기재(55)를 제2면(552)측으로부터 에칭이나 레이저 등에 의해 가공함으로써 형성된다.

제1 오목부(561)는, 평면으로 보아 치수(r1)를 갖는다. 제2 오목부(562)는, 평면으로 보아 치수(r2)를 갖는다. 치수(r2)는, 치수(r1)보다도 커도 된다. 예를 들어, 평면으로 보아 제2 오목부(562)의 윤곽이 제1 오목부(561)의 윤곽을 둘러싸고 있어도 된다.

접속부(563)는, 한바퀴에 걸쳐서 연속된 윤곽을 가져도 된다. 접속부(563)는, 제1면(551)과 제2면(552)의 사이에 위치하고 있어도 된다. 접속부(563)는, 마스크(50)의 평면으로 보아 관통 구멍(56)의 개구 면적이 최소가 되는 관통부(564)를 구획 형성하고 있어도 된다.

관통부(564)의 치수(r)는, 예를 들어 10μm 이상이어도 되고, 15μm 이상이어도 되고, 20μm 이상이어도 되고, 25μm 이상이어도 된다. 또한, 관통부(564)의 치수(r)는, 예를 들어 40μm 이하이어도 되고, 45μm 이하이어도 되고, 50μm 이하이어도 되고, 55μm 이하이어도 된다. 관통부(564)의 치수(r)의 범위는, 10μm, 15μm, 20μm 및 25μm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 40μm, 45μm, 50μm 및 55μm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 관통부(564)의 치수(r)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 관통부(564)의 치수(r)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 관통부(564)의 치수(r)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 관통부(564)의 치수(r)는, 10μm 이상 55μm 이하이어도 되고, 10μm 이상 50μm 이하이어도 되고, 10μm 이상 45μm 이하이어도 되고, 10μm 이상 40μm 이하이어도 되고, 10μm 이상 25μm 이하이어도 되고, 10μm 이상 20μm 이하이어도 되고, 10μm 이상 15μm 이하이어도 되고, 15μm 이상 55μm 이하이어도 되고, 15μm 이상 50μm 이하이어도 되고, 15μm 이상 45μm 이하이어도 되고, 15μm 이상 40μm 이하이어도 되고, 15μm 이상 25μm 이하이어도 되고, 15μm 이상 20μm 이하이어도 되고, 20μm 이상 55μm 이하이어도 되고, 20μm 이상 50μm 이하이어도 되고, 20μm 이상 45μm 이하이어도 되고, 20μm 이상 40μm 이하이어도 되고, 20μm 이상 25μm 이하이어도 되고, 25μm 이상 55μm 이하이어도 되고, 25μm 이상 50μm 이하이어도 되고, 25μm 이상 45μm 이하이어도 되고, 25μm 이상 40μm 이하이어도 되고, 40μm 이상 55μm 이하이어도 되고, 40μm 이상 50μm 이하이어도 되고, 40μm 이상 45μm 이하이어도 되고, 45μm 이상 55μm 이하이어도 되고, 45μm 이상 50μm 이하이어도 되고, 50μm 이상 55μm 이하이어도 된다.

관통부(564)의 치수(r)는, 관통 구멍(56)을 투과하는 광에 의해 획정된다. 구체적으로는, 마스크(50)의 법선 방향을 따라 평행광을 마스크(50)의 제1면(551) 또는 제2면(552)의 한쪽에 입사시켜, 관통 구멍(56)을 투과시켜서 제1면(551) 또는 제2면(552)의 다른 쪽으로부터 출사시킨다. 출사한 광이 마스크(50)의 면 방향에 있어서 차지하는 영역의 치수를, 관통부(564)의 치수(r)로서 채용한다.

도 8에서는, 인접하는 2개의 제2 오목부(562)의 사이에 기재(55)의 제2면(552)이 잔존하고 있는 예를 나타냈지만, 이것에 한정되지 않는다. 도시는 하지 않지만, 인접하는 2개의 제2 오목부(562)가 접속되도록 에칭이 실시되어도 된다. 즉, 인접하는 2개의 제2 오목부(562)의 사이에, 기재(55)의 제2면(552)이 잔존하지 않고 있는 장소가 존재하고 있어도 된다.

마스크(50) 및 프레임(40)의 재료에 대해서 설명한다. 마스크(50) 및 프레임(40)의 주요한 재료로서는, 니켈을 포함하는 철 합금을 사용할 수 있다. 철 합금은, 니켈에 더하여 코발트를 더 포함하고 있어도 된다. 예를 들어, 마스크(50)의 기재(55)의 재료로서, 니켈 및 코발트의 함유량이 합계 28질량％ 이상이면서 또한 54질량％ 이하이고, 또한 코발트의 함유량이 0질량％ 이상이면서 또한 6질량％ 이하인 철 합금을 사용할 수 있다. 이에 의해, 마스크(50) 및 프레임(40)의 열팽창 계수와, 유리를 포함하는 기판(110)의 열팽창 계수의 차를 작게 할 수 있다. 이 때문에, 증착 처리에 의해 기판(110) 위에 형성되는 층의 치수 정밀도나 위치 정밀도가, 마스크(50), 프레임(40), 기판(110) 등의 열팽창에 기인해서 저하되는 것을 억제할 수 있다.

기재(55)에서의 니켈의 함유량 및 코발트의 함유량 합계는, 28질량％ 이상이면서 또한 38질량％ 이하이어도 된다. 이 경우, 니켈 혹은 니켈 및 코발트를 포함하는 철 합금의 구체예로서는, 인바재, 슈퍼 인바재, 울트라 인바재 등을 들 수 있다. 인바재는, 34질량％ 이상이면서 또한 38질량％ 이하의 니켈과, 잔부의 철 및 불가피 불순물을 포함하는 철 합금이다. 슈퍼 인바재는, 30질량％ 이상이면서 또한 34질량％ 이하의 니켈과, 코발트와, 잔부의 철 및 불가피 불순물을 포함하는 철 합금이다. 울트라 인바재는, 28질량％ 이상이면서 또한 34질량％ 이하의 니켈과, 2질량％ 이상이면서 또한 7질량％ 이하의 코발트와, 0.1질량％ 이상이면서 또한 1.0질량％ 이하의 망간과, 0.10질량％ 이하의 실리콘과, 0.01질량％ 이하의 탄소와, 잔부의 철 및 불가피 불순물을 포함하는 철 합금이다.

마스크(50)에서의 니켈의 함유량 및 코발트의 함유량의 합계는, 38질량％ 이상이면서 또한 54질량％ 이하이어도 된다. 예를 들어, 마스크(50)는, 38질량％ 이상이면서 또한 54질량％ 이하의 니켈과, 잔부의 철 및 불가피 불순물을 포함하는 철 합금에 의해 구성되어 있어도 된다. 이러한 마스크(50)는, 도금법에 의해 제조되어도 된다.

증착 처리 시에, 마스크(50), 프레임(40) 및 기판(110)의 온도가 고온에는 도달하지 않을 경우는, 마스크(50) 및 프레임(40)의 열팽창 계수를, 기판(110)의 열팽창 계수와 동등한 값으로 할 필요는 없다. 이 경우, 마스크(50)를 구성하는 재료로서, 상술한 철 합금 이외의 재료를 사용해도 된다. 예를 들어, 크롬을 포함하는 철 합금 등, 상술한 니켈을 포함하는 철 합금 이외의 철 합금을 사용해도 된다. 크롬을 포함하는 철 합금으로서는, 예를 들어 소위 스테인리스라고 칭해지는 철 합금을 사용할 수 있다. 또한, 니켈이나 니켈-코발트 합금 등, 철 합금 이외의 합금을 사용해도 된다.

마스크(50)의 두께(T0)는, 예를 들어 8μm 이상이어도 되고, 10μm 이상이어도 되고, 13μm 이상이어도 되고, 15μm 이상이어도 된다. 또한, 두께(T0)는, 예를 들어 20μm 이하이어도 되고, 30μm 이하이어도 되고, 40μm 이하이어도 되고, 50μm 이하이어도 된다. 두께(T0)의 범위는, 8μm, 10μm, 13μm 및 15μm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 20μm, 30μm, 40μm 및 50μm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 두께(T0)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 두께(T0)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 두께(T0)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 두께(T0)는, 8μm 이상 50μm 이하이어도 되고, 8μm 이상 40μm 이하이어도 되고, 8μm 이상 30μm 이하이어도 되고, 8μm 이상 20μm 이하이어도 되고, 8μm 이상 15μm 이하이어도 되고, 8μm 이상 13μm 이하이어도 되고, 8μm 이상 10μm 이하이어도 되고, 10μm 이상 50μm 이하이어도 되고, 10μm 이상 40μm 이하이어도 되고, 10μm 이상 30μm 이하이어도 되고, 10μm 이상 20μm 이하이어도 되고, 10μm 이상 15μm 이하이어도 되고, 10μm 이상 13μm 이하이어도 되고, 13μm 이상 50μm 이하이어도 되고, 13μm 이상 40μm 이하이어도 되고, 13μm 이상 30μm 이하이어도 되고, 13μm 이상 20μm 이하이어도 되고, 13μm 이상 15μm 이하이어도 되고, 15μm 이상 50μm 이하이어도 되고, 15μm 이상 40μm 이하이어도 되고, 15μm 이상 30μm 이하이어도 되고, 15μm 이상 20μm 이하이어도 되고, 20μm 이상 50μm 이하이어도 되고, 20μm 이상 40μm 이하이어도 되고, 20μm 이상 30μm 이하이어도 되고, 30μm 이상 50μm 이하이어도 되고, 30μm 이상 40μm 이하이어도 되고, 40μm 이상 50μm 이하이어도 된다.

두께(T0)를 50μm 이하로 함으로써, 관통 구멍(56)을 통과하기 전에 관통 구멍(56)의 벽면에 증착 재료(7)가 부착되는 것을 억제할 수 있다. 이에 의해, 증착 재료(7)의 이용 효율을 높일 수 있다. 또한, 두께(T0)를 8μm 이상으로 함으로써, 마스크(50)의 강도를 확보하여, 마스크(50)에 손상이나 변형이 생기는 것을 억제할 수 있다.

두께(T0)를 측정하는 방법으로서는, 접촉식 측정 방법을 채용한다. 접촉식 측정 방법으로서는, 볼부시 가이드식 플런저를 구비하는, 하이덴하인사 제조의 길이 게이지 HEIDENHAIM-METRO의 「MT1271」을 사용한다.

이어서, 상술한 마스크 장치(15)를 제조하는 제조 장치를 설명한다. 도 9는, 제조 장치(60)의 일례를 도시하는 블록도이다. 도 10은, 제조 장치(60)의 일례를 도시하는 평면도이다. 제조 장치(60)는, 압박 기구(62), 변위 측정 기구(61) 및 제어 장치(63)를 구비해도 된다. 제조 장치(60)는, 관찰 장치(73), 고정 장치(74), 인장 장치(76) 등을 구비해도 된다.

압박 기구(62)는, 개구(45)를 향하는 방향에 있어서 프레임(40)의 제1변(41) 및 제2변(42)을 압박한다. 예를 들어, 압박 기구(62)는, 제1 방향(D1)에 있어서 내측으로 제1변(41) 및 제2변(42)을 압박한다. 변위 측정 기구(61)는, 제1 방향(D1)에서의 제1변(41)의 변형량 및 제2변(42)의 변형량을 측정한다.

제어 장치(63)는, 제1변(41) 및 제2변(42)의 변형량에 관한 정보에 기초하여 압박 기구(62)를 제어한다. 제1변(41) 및 제2변(42)을 내측으로 탄성적으로 변형시키면, 외측으로의 복원력이 제1변(41) 및 제2변(42)에 생긴다. 이 때문에, 마스크(50)는, 제1변(41) 및 제2변(42)에 의해 제1 방향(D1)에 있어서 외측으로 잡아당겨진다. 제1변(41) 및 제2변(42)의 변형량을 조정함으로써, 마스크(50)에 가해지는 장력을 조정할 수 있다. 제1변(41) 및 제2변(42)의 변형량이 목표 변형량으로 되도록 압박 기구(62)를 제어함으로써, 마스크(50)에 가해지는 장력을 적절하게 조정할 수 있다.

제어 장치(63)의 기능은, 예를 들어 퍼스컴 등의 컴퓨터에서 동작하는 소프트웨어에 의해 실현되어도 된다. 예를 들어, 프로그램을 컴퓨터에 인스톨함으로써, 컴퓨터가 제어 장치(63)로서 기능해도 된다.

프로그램은, 컴퓨터의 출하 시에 미리 컴퓨터에 인스톨되어 있어도 되고, 혹은, 컴퓨터의 출하 후에, 프로그램이 기록된, 컴퓨터가 판독 가능한 비일과성 기록 매체를 이용함으로써, 컴퓨터에 인스톨되어도 된다. 기록 매체의 타입이 특별히 한정되지는 않으며, 자기 디스크나 광 디스크 등의 휴대형 기록 매체나, 하드 디스크 장치나 메모리 등의 고정형 기록 매체 등, 다양한 것을 생각할 수 있다. 또한 프로그램은, 인터넷 등의 통신 회선을 통해서 반포되어도 된다. 또한 프로그램이 통신 회선을 통해서 반포될 경우, 반포를 위한 서버에는, 적어도 일시적으로, 본 실시 형태에 의한 프로그램이 저장된 기록 매체가 존재한다.

관찰 장치(73)는 마스크(50)를 관찰한다. 관찰 장치(73)는, 예를 들어 카메라를 포함한다. 관찰 장치(73)는, 마스크(50)의 관통 구멍(56), 윤곽 등을 검출한다. 관찰 장치(73)는, 마스크(50)에 형성되어 있는 마크를 검출해도 된다.

관찰 장치(73)는, 이동 기구(71)에 의해 지지되어 있어도 된다. 이동 기구(71)는, 제1 방향(D1), 제2 방향(D2) 등을 따라 관찰 장치(73)를 이동시킨다. 예를 들어, 이동 기구(71)는, 제1 방향(D1)을 따라 관찰 장치(73)를 이동시키는 제1 이동 장치(72)를 포함해도 된다. 이동 기구(71)는, 제2 방향(D2)을 따라 제1 이동 장치(72)를 이동시키는 제2 이동 장치를 포함해도 된다. 복수의 위치에서 관찰 장치(73)가 마스크(50)를 관찰함으로써, 프레임(40)에 대한 마스크(50)의 위치에 관한 정보를 얻을 수 있다.

인장 장치(76)는, 프레임(40)에 고정되어 있지 않은 상태의 마스크(50)에, 제1 방향(D1)에 있어서 장력을 가한다. 인장 장치(76)는, 후술하는 바와 같이, 예를 들어 클램프를 포함한다. 인장 장치(76)는, 프레임(40)의 제1 프레임면(401)의 면내 방향에 있어서 마스크(50)를 운반할 수도 있다.

고정 장치(74)는, 마스크(50)를 제1변(41) 및 제2변(42)에 고정한다. 고정 장치(74)는, 예를 들어 레이저를 마스크(50)를 향해서 조사한다. 상술한 용접부(47a)가 마스크(50)와 프레임(40)의 사이에 형성됨으로써, 마스크(50)가 프레임(40)에 고정된다. 고정 장치(74)는, 인장 장치(76)가 마스크(50)에 장력을 가한 상태에서, 마스크(50)를 프레임(40)에 고정해도 된다.

고정 장치(74)는, 이동 기구(71)에 의해 지지되어 있어도 된다. 고정 장치(74)를 이동시키는 이동 기구(71)는, 관찰 장치(73)를 이동시키는 이동 기구(71)와 동일해도 되고, 달라도 된다.

제어 장치(63)는, 관찰 장치(73)로부터의 정보에 기초하여 인장 장치(76) 및 고정 장치(74)를 제어해도 된다. 예를 들어, 제어 장치(63)는, 마스크(50)의 관통 구멍(56), 윤곽, 마크 등의 위치가 목표 위치를 향하도록, 인장 장치(76)를 제어한다. 예를 들어, 제어 장치(63)는, 인장 장치(76)의 위치, 인장 장치(76)가 마스크(50)에 가하는 장력 등을 제어한다. 제어 장치(63)는, 마스크(50)의 실제 위치와 목표 위치의 차가 역치 이하인 경우에, 고정 장치(74)를 제어함으로써 마스크(50)를 프레임(40)에 고정해도 된다.

인장 장치(76) 및 고정 장치(74)를 제어하는 제어 장치(63)는, 압박 기구(62)를 제어하는 제어 장치(63)와 동일해도 되고, 달라도 된다.

압박 기구(62)에 대해서 상세하게 설명한다. 제1변(41)을 압박하는 압박 기구(62)는, 복수의 압박 장치를 포함해도 된다. 바람직하게는, 압박 기구(62)는, 제1변(41)을 압박하는 5개 이상의 압박 장치를 포함한다. 예를 들어, 압박 기구(62)는, 제1변(41)을 압박하는 6개의 압박 장치를 포함해도 된다. 각 압박 장치는, 제1변(41)의 외측면(41a)을 내측으로 압박해도 된다.

제1변(41)을 압박하는 압박 장치는, 중앙 그룹(62C), 제1 그룹(62A) 및 제2 그룹(62B)으로 분류되어도 된다. 도 10에 도시하는 바와 같이, 제1 그룹(62A)은, 제2 방향(D2)에 있어서 중앙 그룹(62C)과 제3변(43)의 사이에 위치한다. 제2 그룹(62B)은, 제2 방향(D2)에 있어서 중앙 그룹(62C)과 제4변(44)의 사이에 위치한다.

중앙 그룹(62C)은, 1개 또는 2개의 압박 장치를 포함한다. 마스크(50)의 수를 나타내는 상술한 N이 짝수일 경우, 중앙 그룹(62C)은, 2개의 압박 장치를 포함해도 된다. N이 홀수일 경우, 중앙 그룹(62C)은, 1개의 압박 장치를 포함해도 된다. 본 실시 형태에 있어서, 중앙 그룹(62C)은, 제1 중앙 압박 장치(62C1) 및 제2 중앙 압박 장치(62C2)를 포함한다. 도 10에 도시하는 바와 같이, 제1 중앙 압박 장치(62C1)는, 제2 중심선(Lc2)과 제3변(43)의 사이에 위치해도 된다. 제2 중앙 압박 장치(62C2)는, 제2 중심선(Lc2)과 제4변(44)의 사이에 위치해도 된다. 도시는 하지 않지만, 제1 중앙 압박 장치(62C1) 또는 제2 중앙 압박 장치(62C2)가 제2 중심선(Lc2)에 겹쳐 있어도 된다.

제1 그룹(62A)은, 2개 이상의 압박 장치를 포함한다. 본 실시 형태에 있어서, 제1 그룹(62A)은, 제3변(43)으로부터 제2 중심선(Lc2)을 향하는 방향으로 순서대로 배열되는 제11 압박 장치(62A1) 및 제12 압박 장치(62A2)를 포함한다.

제2 그룹(62B)은, 2개 이상의 압박 장치를 포함한다. 제2 그룹(62B)에 포함되는 압박 장치의 수는, 제1 그룹(62A)에 포함되는 압박 장치의 수와 동일해도 된다. 본 실시 형태에 있어서, 제2 그룹(62B)은, 제4변(44)으로부터 제2 중심선(Lc2)을 향하는 방향으로 순서대로 배열되는 제21 압박 장치(62B1) 및 제22 압박 장치(62B2)를 포함한다.

압박 장치는, 제2 방향(D2)을 따라 간격을 두고 배열되어 있어도 된다. 도 10에 도시하는 예에서는, 제3변(43)으로부터 제4변(44)을 향하는 방향으로 순서대로, 제11 압박 장치(62A1), 제12 압박 장치(62A2), 제1 중앙 압박 장치(62C1), 제2 중앙 압박 장치(62C2), 제22 압박 장치(62B2) 및 제21 압박 장치(62B1)가 배열되어 있다.

바람직하게는, 제2 방향(D2)에 있어서 인접하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격이 500mm 이하이다. 간격을 작게 함으로써, 제1변(41)의 각 위치에서의 제1변(41)의 변형량을 정밀하게 조정할 수 있다. 이에 의해, 제1변(41)이 각 마스크(50)에 가하는 장력이 목표 장력으로부터 어긋나는 것을 억제할 수 있다. 간격은, 제1변(41)에 접촉하고 있는 압박 장치의 부분의 중심 위치에 기초하여 산출된다. 부호 65A1, 65A2, 65C1, 65C2, 65B2 및 65B1은, 제1변(41)에 접촉하고 있는 제11 압박 장치(62A1), 제12 압박 장치(62A2), 제1 중앙 압박 장치(62C1), 제2 중앙 압박 장치(62C2), 제22 압박 장치(62B2) 및 제21 압박 장치(62B1)의 부분을 나타낸다.

인접하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격은, 예를 들어 50mm 이상이어도 되고, 100mm 이상이어도 되고, 200mm 이상이어도 된다. 인접하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격은, 예를 들어 300mm 이하이어도 되고, 400mm 이하이어도 되고, 500mm 이하이어도 된다. 인접하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격 범위는, 50mm, 100mm 및 200mm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 300mm, 400mm 및 500mm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 인접하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 인접하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 인접하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 인접하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격은, 50mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 400mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 300mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 400mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 300mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 200mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 200mm 이상 400mm 이하이어도 되고, 200mm 이상 300mm 이하이어도 되고, 300mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 300mm 이상 400mm 이하이어도 되고, 400mm 이상 500mm 이하이어도 된다.

부호 S2_AA는, 제1 그룹(62A)에 속하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격을 나타낸다. 부호 S2_AC는, 제1 그룹(62A)에 속하는 압박 장치와, 중앙 그룹(62C)에 속하는 압박 장치의 사이의 간격을 나타낸다. 부호 S2_CC는, 중앙 그룹(62C)에 속하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격을 나타낸다. 부호 S2_BC는, 제2 그룹(62B)에 속하는 압박 장치와, 중앙 그룹(62C)에 속하는 압박 장치의 사이의 간격을 나타낸다. 부호 S2_BB는, 제2 그룹(62B)에 속하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격을 나타낸다. 간격(S2_AA), 간격(S2_AC), 간격(S2_CC), 간격(S2_BC) 및 간격(S2_BB)은, 동일해도 되고, 달라도 된다.

제2변(42)을 압박하는 압박 기구(62)도, 복수의 압박 장치를 포함해도 된다. 바람직하게는, 압박 기구(62)는, 제2변(42)을 압박하는 5개 이상의 압박 장치를 포함한다. 도 10에 도시하는 예에서, 압박 기구(62)는, 제2변(42)을 압박하는 6개의 압박 장치를 포함한다. 각 압박 장치는, 제2변(42)의 외측면(42a)을 내측으로 압박해도 된다.

제2변(42)을 압박하는 압박 장치의 구성은, 제1변(41)을 압박하는 압박 장치의 구성과 동일해도 된다. 예를 들어, 도 10에 도시하는 바와 같이, 압박 기구(62)는, 제3변(43)으로부터 제4변(44)을 향하는 방향으로 순서대로 배열되어, 제2변(42)을 압박하는 제11 압박 장치(62A1), 제12 압박 장치(62A2), 제1 중앙 압박 장치(62C1), 제2 중앙 압박 장치(62C2), 제22 압박 장치(62B2) 및 제21 압박 장치(62B1)를 포함해도 된다.

바람직하게는, 제2변(42)에 위치하고, 제2 방향(D2)에 있어서 인접하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격도 500mm 이하이다. 제2변(42)에 위치하고, 제2 방향(D2)에 있어서 인접하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격의 수치 범위로서는, 제1변(41)에 위치하고, 제2 방향(D2)에 있어서 인접하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격의 수치 범위를 채용할 수 있다. 제1변(41)에 위치하는 압박 장치와, 제2변(42)에 위치하는 압박 장치가, 제1 방향(D1)에 있어서 배열되어 있어도 된다. 예를 들어, 제1변(41)에 위치하는 제1 중앙 압박 장치(62C1)와, 제2변(42)에 위치하는 제1 중앙 압박 장치(62C1)가, 제2 방향(D2)에 있어서 동일한 좌표에 위치하고 있어도 된다.

도 10에 나타내는 부호 S_11은, 제1변(41)을 압박하는 압박 장치와, 제2변(42)을 압박하는 압박 장치의 사이의, 제1 방향(D1)에서의 거리를 나타낸다. 거리(S_11)는, 예를 들어 1300mm 이상이어도 되고, 1500mm 이상이어도 되고, 1700mm 이상이어도 된다. 거리(S_11)는, 예를 들어 1900mm 이하이어도 되고, 2100mm 이하이어도 되고, 2400mm 이하이어도 된다. 거리(S_11)의 범위는, 1300mm, 1500mm 및 1700mm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 1900mm, 2100mm 및 2400mm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 거리(S_11)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 거리(S_11)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 거리(S_11)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 거리(S_11)는, 1300mm 이상 2400mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 2100mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 1900mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 1700mm 이하이어도 되고, 1300mm 이상 1500mm 이하이어도 되고, 1500mm 이상 2400mm 이하이어도 되고, 1500mm 이상 2100mm 이하이어도 되고, 1500mm 이상 1900mm 이하이어도 되고, 1500mm 이상 1700mm 이하이어도 되고, 1700mm 이상 2400mm 이하이어도 되고, 1700mm 이상 2100mm 이하이어도 되고, 1700mm 이상 1900mm 이하이어도 되고, 1900mm 이상 2400mm 이하이어도 되고, 1900mm 이상 2100mm 이하이어도 되고, 2100mm 이상 2400mm 이하이어도 된다.

각 압박 장치에 공통되는 구성을 설명할 경우에는, 「압박 장치(62x)」라는 용어 및 부호를 사용하는 경우가 있다.

변위 측정 기구(61)에 대해서 상세하게 설명한다. 제1변(41)의 변형량을 측정하는 변위 측정 기구(61)는, 복수의 변위계를 포함해도 된다. 바람직하게는, 변위 측정 기구(61)는, 각 압박 장치의 가까이서 제1변(41)의 변형량을 측정하는 변위계를 포함한다. 바람직하게는, 제1변(41)의 변형량을 측정하는 변위계의 수는, 제1변(41)을 압박하는 압박 장치의 수 이상이다. 예를 들어, 제1변(41)을 압박하는 압박 장치의 수가 5개일 경우, 바람직하게는 변위 측정 기구(61)는, 5개 이상의 변위계를 포함한다. 이에 의해, 모든 압박 장치의 가까이에 변위계를 배치할 수 있다.

압박 장치의 가까이서 제1변(41)의 변형량을 측정하는 변위계는, 도 9에 도시하는 바와 같이, 중앙 측정 그룹(61C), 제1 측정 그룹(61A) 및 제2 측정 그룹(61B)으로 분류되어도 된다. 제1 측정 그룹(61A)은, 제2 방향(D2)에 있어서 중앙 측정 그룹(61C)과 제3변(43)의 사이에 위치한다. 제2 측정 그룹(61B)은, 제2 방향(D2)에 있어서 중앙 측정 그룹(61C)과 제4변(44)의 사이에 위치한다.

중앙 측정 그룹(61C)은, 1개 또는 2개의 변위계를 포함한다. 상술한 압박 기구(62)의 중앙 그룹(62C)이 1개의 압박 장치를 포함하는 경우, 중앙 측정 그룹(61C)은 1개의 변위계를 포함해도 된다. 중앙 그룹(62C)이 2개의 압박 장치를 포함하는 경우, 중앙 측정 그룹(61C)은 2개의 변위계를 포함해도 된다. 본 실시 형태에 있어서 중앙 측정 그룹(61C)은, 제1 중앙 변위계(61C1) 및 제2 중앙 변위계(61C2)를 포함한다. 제1 중앙 변위계(61C1)는, 제1 중앙 압박 장치(62C1)의 가까이에 위치한다. 제2 중앙 변위계(61C2)는, 제2 중앙 압박 장치(62C2)의 가까이에 위치한다.

제1 측정 그룹(61A)은, 2개 이상의 변위계를 포함한다. 본 실시 형태에 있어서, 제1 측정 그룹(61A)은, 제3변(43)으로부터 제2 중심선(Lc2)을 향하는 방향으로 순서대로 배열되는 제11 변위계(61A1) 및 제12 변위계(61A2)를 포함한다. 제11 변위계(61A1)는, 제11 압박 장치(62A1)의 가까이에 위치한다. 제12 변위계(61A2)는, 제12 압박 장치(62A2)의 가까이에 위치한다.

제2 측정 그룹(61B)은, 2개 이상의 변위계를 포함한다. 본 실시 형태에 있어서, 제2 측정 그룹(61B)은, 제4변(44)으로부터 제2 중심선(Lc2)을 향하는 방향으로 순서대로 배열되는 제21 변위계(61B1) 및 제22 변위계(61B2)를 포함한다. 제21 변위계(61B1)는, 제21 압박 장치(62B1)의 가까이에 위치한다. 제22 변위계(61B2)는, 제22 압박 장치(62B2)의 가까이에 위치한다.

각 변위계에 공통되는 구성을 설명할 경우에는, 「변위계(61x)」라는 용어 및 부호를 사용하는 경우가 있다.

도 11은, 압박 장치(62x) 및 변위계(61x)의 일례를 도시하는 도면이다. 변위계(61x)는, 압박 장치(62x)의 가까이에 위치한다. 제2 방향(D2)에서의 압박 장치(62x)와 변위계(61x)의 사이의 간격(S_F)은, 바람직하게는 100mm 이하이다. 간격(S_F)을 작게 함으로써, 변위계(61x)의 측정 결과에 기초하여 압박 장치(62x)를 보다 정밀하게 제어할 수 있다. 이 때문에, 제1변(41)의 각 위치에서의 변형량을 정밀하게 조정할 수 있다. 이에 의해, 제1변(41)이 각 마스크(50)에 가하는 장력이 목표 장력으로부터 어긋나는 것을 억제할 수 있다. 간격(S_F)은, 제1변(41)에 접촉하고 있는 압박 장치(62x)의 부분(65)의 중심 위치, 및 변위계(61x)가 측정하고 있는 제1변(41)의 위치에 기초하여 산출된다. 변위계(61x)가 제1변(41)에 접촉하고 있을 경우, 변위계(61x)가 측정하고 있는 제1변(41)의 위치는, 제1변(41)에 접촉하고 있는 변위계(61x)의 부분(64)의 중심 위치이다. 제조 장치(60)를 사용해서 마스크 장치(15)를 제조하는 동안에, 간격(S_F)이 일정하게 유지되는 것이 바람직하다. 즉, 변위계(61x)는, 제2 방향(D2)에 있어서 압박 장치(62x)에 대하여 정지하고 있는 것이 바람직하다. 제조 장치(60)를 사용해서 마스크 장치(15)를 제조하는 동안에, 제2 방향(D2)에 있어서 압박 장치(62x)에 대하여 정지하고 있는 변위계(61x)를, 정지 타입 변위계(61x)라고도 칭한다.

간격(S_F)은, 예를 들어 1mm 이상이어도 되고, 5mm 이상이어도 되고, 10mm 이상이어도 된다. 간격(S_F)은, 예를 들어 20mm 이하이어도 되고, 50mm 이하이어도 되고, 100mm 이하이어도 된다. 간격(S_F)의 범위는, 1mm, 5mm 및 10mm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 20mm, 50mm 및 100mm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 간격(S_F)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 간격(S_F)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 간격(S_F)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 간격(S_F)은, 1mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 1mm 이상 50mm 이하이어도 되고, 1mm 이상 20mm 이하이어도 되고, 1mm 이상 10mm 이하이어도 되고, 1mm 이상 5mm 이하이어도 되고, 5mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 5mm 이상 50mm 이하이어도 되고, 5mm 이상 20mm 이하이어도 되고, 5mm 이상 10mm 이하이어도 되고, 10mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 10mm 이상 50mm 이하이어도 되고, 10mm 이상 20mm 이하이어도 되고, 20mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 20mm 이상 50mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 100mm 이하이어도 된다.

변위계(61x)는, 센서 헤드(611) 및 지지부(612)를 포함해도 된다. 지지부(612)는, 센서 헤드(611)가 제1 방향(D1)에 있어서 이동할 수 있도록 센서 헤드(611)를 지지한다. 센서 헤드(611)는, 제1변(41)의 외측면(41a)에 접촉하는 선단을 포함한다. 변위계(61x)는, 센서 헤드(611)의 선단의 위치에 기초하여, 제1변(41)의 변형량을 검출한다.

압박 장치(62x)는, 로드(621) 및 구동부(622)를 포함해도 된다. 구동부(622)는, 제1 방향(D1)에 있어서 로드(621)를 구동한다. 구동부(622)는, 예를 들어 모터를 포함한다. 로드(621)는, 제1변(41)의 외측면(41a)에 접촉하는 선단을 포함한다. 압박 장치(62x)는, 로드셀 등의 하중계를 포함해도 된다. 하중계는, 로드(621)가 프레임(40)에 가하는 압박력을 검출한다.

도 10에 도시하는 바와 같이, 변위 측정 기구(61)는, 제1 보조 변위계(61D) 및 제2 보조 변위계(61E)를 포함해도 된다. 제1 보조 변위계(61D)는, 제2 방향(D2)에 있어서 제3변(43)의 외측면(43a)으로부터 거리(S_D) 이격된 위치에서 제1변(41)의 변형량을 측정한다. 제2 보조 변위계(61E)는, 제2 방향(D2)에 있어서 제4변(44)의 외측면(44a)으로부터 거리(S_E) 이격된 위치에서 제1변(41)의 변형량을 측정한다. 제1 보조 변위계(61D) 및 제2 보조 변위계(61E)의 구성은, 중앙 측정 그룹(61C), 제1 측정 그룹(61A) 및 제2 측정 그룹(61B)의 변위계의 구성과 동일해도 되고, 달라도 된다.

거리(S_D) 및 거리(S_E)는, 예를 들어 1mm 이상이어도 되고, 5mm 이상이어도 되고, 20mm 이상이어도 된다. 거리(S_D) 및 거리(S_E)는, 예를 들어 50mm 이하이어도 되고, 100mm 이하이어도 되고, 200mm 이하이어도 된다. 거리(S_D) 및 거리(S_E)의 범위는, 1mm, 5mm 및 20mm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 50mm, 100mm 및 200mm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 거리(S_D) 및 거리(S_E)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 거리(S_D) 및 거리(S_E)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 거리(S_D) 및 거리(S_E)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 거리(S_D) 및 거리(S_E)는, 1mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 1mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 1mm 이상 50mm 이하이어도 되고, 1mm 이상 20mm 이하이어도 되고, 1mm 이상 5mm 이하이어도 되고, 5mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 5mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 5mm 이상 50mm 이하이어도 되고, 5mm 이상 20mm 이하이어도 되고, 20mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 20mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 20mm 이상 50mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 200mm 이하이어도 된다.

바람직하게는, 제2 방향(D2)에 있어서 인접하는 2개의 변위계의 사이의 간격이 500mm 이하이다. 간격을 작게 함으로써, 제1변(41)의 각 위치에서의 변형량을 정확하게 측정할 수 있다. 이 때문에, 제1변(41)의 각 위치에서의 변형량을, 압박 장치를 사용해서 정밀하게 조정할 수 있다. 이에 의해, 제1변(41)이 각 마스크(50)에 가하는 장력이 목표 장력으로부터 어긋나는 것을 억제할 수 있다.

인접하는 2개의 변위계의 사이의 간격은, 예를 들어 50mm 이상이어도 되고, 100mm 이상이어도 되고, 200mm 이상이어도 된다. 인접하는 2개의 변위계의 사이의 간격은, 예를 들어 300mm 이하이어도 되고, 400mm 이하이어도 되고, 500mm 이하이어도 된다. 인접하는 2개의 변위계의 사이의 간격 범위는, 50mm, 100mm 및 200mm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 300mm, 400mm 및 500mm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 인접하는 2개의 변위계의 사이의 간격 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 인접하는 2개의 변위계의 사이의 간격 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 인접하는 2개의 변위계의 사이의 간격 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 인접하는 2개의 변위계의 사이의 간격은, 50mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 400mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 300mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 50mm 이상 100mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 400mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 300mm 이하이어도 되고, 100mm 이상 200mm 이하이어도 되고, 200mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 200mm 이상 400mm 이하이어도 되고, 200mm 이상 300mm 이하이어도 되고, 300mm 이상 500mm 이하이어도 되고, 300mm 이상 400mm 이하이어도 되고, 400mm 이상 500mm 이하이어도 된다.

부호 S1_AA는, 제1 측정 그룹(61A)에 속하는 2개의 변위계의 사이의 간격을 나타낸다. 부호 S1_AC는, 제1 측정 그룹(61A)에 속하는 변위계와, 중앙 측정 그룹(61C)에 속하는 변위계의 사이의 간격을 나타낸다. 부호 S1_CC는, 중앙 측정 그룹(61C)에 속하는 2개의 변위계의 사이의 간격을 나타낸다. 부호 S1_BC는, 제2 측정 그룹(61B)에 속하는 변위계와, 중앙 측정 그룹(61C)에 속하는 변위계의 사이의 간격을 나타낸다. 부호 S1_BB는, 제2 측정 그룹(61B)에 속하는 2개의 변위계의 사이의 간격을 나타낸다. 간격(S1_AA), 간격(S1_AC), 간격(S1_CC), 간격(S1_BC) 및 간격(S1_BB)은, 동일해도 되고, 달라도 된다.

바람직하게는, 제2 방향(D2)에 있어서 인접하는 변위계와 보조 변위계의 사이의 간격이 500mm 이하이다. 변위계와 보조 변위계의 사이의 간격의 수치 범위로서는, 상술한 「2개의 변위계의 사이의 간격」의 수치 범위를 채용할 수 있다.

제2변(42)의 변형량을 측정하는 변위 측정 기구(61)도, 복수의 변위계를 포함해도 된다. 바람직하게는, 변위 측정 기구(61)는, 각 압박 장치의 가까이서 제2변(42)의 변형량을 측정하는 변위계를 포함한다. 바람직하게는, 제2변(42)의 변형량을 측정하는 변위계의 수는, 제2변(42)을 압박하는 압박 장치의 수 이상이다. 예를 들어, 제2변(42)을 압박하는 압박 장치의 수가 5개일 경우, 바람직하게는 변위 측정 기구(61)는, 5개 이상의 변위계를 포함한다. 제2변(42)의 변형량을 측정하는 변위 측정 기구(61)도, 제1 보조 변위계(61D) 및 제2 보조 변위계(61E)를 포함해도 된다.

제2변(42)에서도, 제2 방향(D2)에서의 압박 장치와 변위계의 사이의 간격은, 바람직하게는 100mm 이하이다. 제2변(42)에서의, 제2 방향(D2)에서의 압박 장치와 변위계의 사이의 간격의 수치 범위로서는, 제1변(41)에서의, 제2 방향(D2)에서의 압박 장치와 변위계의 사이의 간격의 수치 범위를 채용할 수 있다.

제2변(42)에서도, 인접하는 2개의 변위계의 사이의, 제2 방향(D2)에서의 간격의 범위는 500mm 이하이다. 제2변(42)을 따라 인접하는 2개의 변위계의 사이의, 제2 방향(D2)에서의 간격의 범위로서는, 제1변(41)을 따라 인접하는 2개의 변위계의 사이의 간격의 수치 범위를 채용할 수 있다.

제1변(41)에 위치하는 변위계와, 제2변(42)에 위치하는 변위계가, 제1 방향(D1)에 있어서 배열되어 있어도 된다. 예를 들어, 제1변(41)에 위치하는 제1 중앙 변위계(61C1)와, 제2변(42)에 위치하는 제1 중앙 변위계(61C1)가, 제2 방향(D2)에 있어서 동일한 좌표에 위치하고 있어도 된다.

제2변(42)의 변형량을 측정하는 변위 측정 기구(61)도, 제1 보조 변위계(61D) 및 제2 보조 변위계(61E)를 포함해도 된다.

이어서, 제조 장치(60)를 사용해서 마스크 장치(15)를 제조하는 방법을 설명한다. 도 12는, 제조 방법의 일례를 나타내는 흐름도이다. 먼저, 프레임(40)을 준비한다(공정 S1). 프레임(40)은, 제조 장치(60)의 도시하지 않은 스테이지 위에 놓여도 된다. 계속해서, 프레임(40)의 기준 위치를 정한다(공정 S2). 예를 들어, 압박 기구(62)가 프레임(40)을 압박하고 있지 않은 상태에서, 변위 측정 기구(61)를 사용해서 프레임(40)의 위치를 측정한다. 예를 들어, 압박 장치(62x)의 로드(621)를 프레임(40)으로부터 이격시킨 상태에서, 변위계(61x)의 센서 헤드(611)를 프레임(40)에 접촉시킨다. 이에 의해, 프레임(40)이 변형되어 있지 않은 때의 프레임(40)의 위치, 즉 기준 위치가 정해진다.

계속해서, N매의 마스크(50)를 프레임(40)에 순서대로 설치하는 마스크 설치 공정 S3을 실시한다. k매째(k는 1 이상 N 이하의 정수)의 마스크(50)를 프레임(40)에 설치하는 공정을, 제k 마스크 설치 공정 S3(k)이라고도 칭한다. 마스크 설치 공정 S3은, 제1 마스크 설치 공정 S3(1) 내지 제N 마스크 설치 공정 S3(N)이라는 N회의 공정을 포함한다.

마스크 설치 공정 S3은, 도 12에 도시하는 바와 같이, 조정 공정 S4 및 배치 공정 S5를 N회 반복한다. 제k 마스크 설치 공정 S3(k)에서의 조정 공정 및 배치 공정을, 제k 조정 공정 S4(k) 및 제k 배치 공정 S5(k)라고도 칭한다.

조정 공정 S4는, 개구(45)를 향하는 방향에 있어서 압박 기구(62)가 제1변(41) 및 제2변(42)에 가하는 압박력을 조정한다. 구체적으로는, 조정 공정 S4는, 각 마스크(50)가 제1변(41) 및 제2변(42)에 고정될 때의 제1변(41) 및 제2변(42)의 변형량이 목표 변형량으로 되도록 압박력을 조정한다. 마스크 장치(15)의 제조 방법에 있어서 압박 기구(62)가 제1변(41) 및 제2변(42)에 가하는 압박력을, 제1 압박력이라고도 칭한다.

목표 변형량은, 제1변(41)의 각 위치 및 제2변(42)의 각 위치에서 미리 정해져 있다. 목표 변형량으로 변형되어 있는 제1변(41) 및 제2변(42)은, N개의 마스크(50)가 프레임(40)에 설치되어 있는 상태에서, 탄성적인 복원력에 기초하여 각 마스크(50)에 목표 장력을 가할 수 있다. 목표 변형량은, 프레임(40)의 형상, 물성 등에 기초하여 산출되어도 된다. 예를 들어, CAD 등으로 제작한 프레임(40)의 삼차원 형상에 기초하여, 유한 요소법을 사용해서, 복원력과 변형량의 관계를 산출해도 된다. 이 관계에 기초하여, 목표 변형량을 산출해도 된다.

이하의 설명에 있어서, 제k 조정 공정 S4(k)에서 제1변(41)에 가해지는 제1 압박력을, 부호 P(k)로 나타내는 경우도 있다. 또한, 제k 조정 공정 S4(k)에서 제11 압박 장치(62A1), 제12 압박 장치(62A2), 제21 압박 장치(62B1), 제22 압박 장치(62B2), 제1 중앙 압박 장치(62C1), 제2 중앙 압박 장치(62C2)가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력을, 부호 P(k)_A1, P(k)_A2, P(k)_B1, P(k)_B2, P(k)_C1, P(k)_C2로 나타내는 경우도 있다.

제k 조정 공정 S4(k)에서 제1 그룹(62A)의 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력의 평균값을, 부호 P(k)_A로 나타내는 경우도 있다. 제k 조정 공정 S4(k)에서 제2 그룹(62B)의 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력의 평균값을, 부호 P(k)_B로 나타내는 경우도 있다. 제k 조정 공정 S4(k)에서 중앙 그룹(62C)의 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력의 평균값을, 부호 P(k)_C로 나타내는 경우도 있다.

이하의 설명에 있어서, 제k 조정 공정 S4(k)에서 제1변(41)에 생긴 변형량을, 부호 d(k)로 나타내는 경우도 있다. 또한, 제k 조정 공정 S4(k)에서 제11 변위계(61A1), 제12 변위계(61A2), 제21 변위계(61B1), 제22 변위계(61B2), 제1 중앙 변위계(61C1), 제2 중앙 변위계(61C2), 제1 보조 변위계(61D), 제2 보조 변위계(61E)가 측정한 변형량을, 부호 d(k)_A1, d(k)_A2, d(k)_B1, d(k)_B2, d(k)_C1, d(k)_C2, d(k)_D, d(k)_E로 나타내는 경우도 있다.

이하의 설명에 있어서, 제11 변위계(61A1)가 제1변(41)을 측정하는 위치에서의 목표 변형량을, 부호 T_A1로 나타내는 경우도 있다. 마찬가지로, 제12 변위계(61A2), 제21 변위계(61B1), 제22 변위계(61B2), 제1 중앙 변위계(61C1), 제2 중앙 변위계(61C2), 제1 보조 변위계(61D), 제2 보조 변위계(61E)에 대응하는 목표 변형량을, 부호 T_A2, T_B1, T_B2, T_C1, T_C2, T_D, T_E로 나타내는 경우도 있다.

도 13은, 조정 공정 S4 및 배치 공정 S5의 일례를 나타내는 흐름도이다. 제k 조정 공정 S4(k)는, 압박 공정 S41(k)과, 판정 공정 S42(k)를 포함해도 된다. 압박 공정 S41(k)은, 프레임(40)에 대한 제1 압박력(P(k))을 조정한다. 판정 공정 S42(k)는, Δd(k)가 제1 역치(TH1) 이하인지 여부를 판정한다. Δd(k)는, 변형량(d(k))과 목표 변형량의 차의 절댓값이다. Δd(k)는, 예를 들어 제1 중앙 변위계(61C1)가 측정한 변형량(d(k)_C1)과 목표 변형량(T_C1)의 차의 절댓값이다. 판정 공정 S42(k)는, 복수의 변형량의 측정값에 관해서 Δd(k)가 제1 역치(TH1) 이하인지 여부를 판정해도 된다. 예를 들어, 판정 공정 S42(k)는, 변형량(d(k)_C1)과 목표 변형량(T_C1)의 차, 변형량(d(k)_A1)과 목표 변형량(T_A1)의 차, 및 변형량(d(k)_A2)과 목표 변형량(T_A2)의 차가 제1 역치(TH1) 이하인지 여부를 판정해도 된다. 판정 공정 S42(k)는, 상술한 변형량(d(k)_A1, d(k)_A2, d(k)_B1, d(k)_B2, d(k)_C1, d(k)_C2, d(k)_D, d(k)_E) 각각에 관해서, Δd(k)가 제1 역치(TH1) 이하인지 여부를 판정해도 된다.

제1 역치(TH1)는, 요구되는 장력의 정밀도에 기초해서 정해져도 된다. 제1 역치(TH1)는, 예를 들어 0.01μm 이상이어도 되고, 0.02μm 이상이어도 되고, 0.05μm 이상이어도 된다. 제1 역치(TH1)는, 예를 들어 0.10μm 이하이어도 되고, 0.15μm 이하이어도 되고, 0.20μm 이하이어도 된다. 제1 역치(TH1)의 범위는, 0.01μm, 0.02μm 및 0.05μm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 0.10μm, 0.15μm 및 0.20μm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 제1 역치(TH1)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 제1 역치(TH1)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 제1 역치(TH1)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 제1 역치(TH1)는, 0.01μm 이상 0.20μm 이하이어도 되고, 0.01μm 이상 0.15μm 이하이어도 되고, 0.01μm 이상 0.10μm 이하이어도 되고, 0.01μm 이상 0.05μm 이하이어도 되고, 0.01μm 이상 0.02μm 이하이어도 되고, 0.02μm 이상 0.20μm 이하이어도 되고, 0.02μm 이상 0.15μm 이하이어도 되고, 0.02μm 이상 0.10μm 이하이어도 되고, 0.02μm 이상 0.05μm 이하이어도 되고, 0.05μm 이상 0.20μm 이하이어도 되고, 0.05μm 이상 0.15μm 이하이어도 되고, 0.05μm 이상 0.10μm 이하이어도 되고, 0.10μm 이상 0.20μm 이하이어도 되고, 0.10μm 이상 0.15μm 이하이어도 되고, 0.15μm 이상 0.20μm 이하이어도 된다.

배치 공정 S5는, 마스크(50)의 단부(51)를 제1변(41) 및 제2변(42)에 고정한다. 제k 고정 공정 S5(k)는, k매째의 마스크(50)의 위치를 조정하는 위치 조정 공정 S51(k)과, 판정 공정 S52(k)와, 고정 공정 S53(k)을 포함해도 된다.

위치 조정 공정 S51(k)은, 마스크(50)에 장력을 가한 상태에서 마스크(50)의 위치를 조정해도 된다. 상술한 이동 기구(71) 및 인장 장치(76)를 사용함으로써, 마스크(50)에 장력을 가한 상태에서 마스크(50)의 위치를 조정할 수 있다. 위치 조정 공정 S51(k)은, 프레임(40)에 대한 마스크(50)의 위치가 목표 위치로 되도록, 이동 기구(71) 및 인장 장치(76)를 제어해도 된다. 예를 들어, 위치 조정 공정 S51(k)은, 상술한 관찰 장치(73)로부터의 정보에 기초하여 인장 장치(76) 및 고정 장치(74)를 제어해도 된다.

판정 공정 S52(k)는, 마스크 오차가 제2 역치(TH2) 이하인지 여부를 판정한다. 마스크 오차는, 예를 들어 마스크(50)의 마크의 실제 위치와 목표 위치의 차의 절댓값이다. 판정 공정 S52(k)는, 1개의 마크에 관해서 마스크 오차가 제2 역치(TH2) 이하인지 여부를 판정해도 된다. 판정 공정 S52(k)는, 2개 이상의 마크에 관해서 마스크 오차가 제2 역치(TH2) 이하인지 여부를 판정해도 된다. 판정 공정 S52(k)는, 마크 이외의 요소의 위치에 기초하여, 마스크 오차가 제2 역치(TH2) 이하인지 여부를 판정해도 된다. 예를 들어, 판정 공정 S52(k)는, 마스크(50)의 윤곽, 관통 구멍(56) 등의 위치에 기초하여, 마스크 오차가 제2 역치(TH2) 이하인지 여부를 판정해도 된다. 마스크 오차는, PPA라고도 칭해진다. 「PPA」는, Pixel Position Accuracy를 의미한다.

제2 역치(TH2)는, 예를 들어 0.1μm 이상이어도 되고, 0.2μm 이상이어도 되고, 0.5μm 이상이어도 된다. 제2 역치(TH2)는, 예를 들어 1.0μm 이하이어도 되고, 2.0m 이하이어도 되고, 3.0μm 이하이어도 된다. 제2 역치(TH2)의 범위는, 0.1μm, 0.2μm 및 0.5μm를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 1.0μm, 2.0m 및 3.0μm를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 제2 역치(TH2)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 제2 역치(TH2)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 제2 역치(TH2)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 제2 역치(TH2)는, 0.1μm 이상 3.0μm 이하이어도 되고, 0.1μm 이상 2.0m 이하이어도 되고, 0.1μm 이상 1.0μm 이하이어도 되고, 0.1μm 이상 0.5μm 이하이어도 되고, 0.1μm 이상 0.2μm 이하이어도 되고, 0.2μm 이상 3.0μm 이하이어도 되고, 0.2μm 이상 2.0m 이하이어도 되고, 0.2μm 이상 1.0μm 이하이어도 되고, 0.2μm 이상 0.5μm 이하이어도 되고, 0.5μm 이상 3.0μm 이하이어도 되고, 0.5μm 이상 2.0m 이하이어도 되고, 0.5μm 이상 1.0μm 이하이어도 되고, 1.0μm 이상 3.0μm 이하이어도 되고, 1.0μm 이상 2.0m 이하이어도 되고, 2.0m이상 3.0μm 이하이어도 된다.

고정 공정 S53(k)은, k매째의 마스크(50)를 제1변(41) 및 제2변(42)에 고정한다. 상술한 고정 장치(74)를 사용함으로써, 마스크(50)를 제1변(41) 및 제2변(42)에 고정할 수 있다.

마스크 설치 공정 S3 후, 해방 공정 S6을 실시해도 된다. 해방 공정 S6은, 프레임(40)에 대한 제1 압박력을 제로로 한다. 예를 들어, 압박 기구(62)의 각 압박 장치의 로드(621)를 프레임(40)으로부터 이격시킨다. 계속해서, 최종 확인 공정 S7을 실시해도 된다. 최종 확인 공정 S7은, 제1변(41) 및 제2변(42)에 최종적으로 생긴 변형량을 측정한다. 제1변(41) 및 제2변(42)에 최종적으로 생긴 변형량을, 최종 변형량이라고도 칭한다.

최종 확인 공정 S7은, 최종 변형량과 목표 변형량의 차가 상술한 제1 역치(TH1) 이하인지 여부를 판정해도 된다. 최종 확인 공정 S7은, 제1변(41) 및 제2변(42)의 각 위치에서의 복수의 최종 변형량을 판정해도 된다. 최종 확인 공정 S7은, 제조 장치(60)에 포함되는 모든 변위계에 의해 측정된 최종 변형량을 판정해도 된다.

도 10 및 도 14 내지 도 20을 참조하여, 마스크 장치(15)의 제조 방법을 구체적으로 설명한다.

도 10에 도시하는 바와 같이, 프레임(40)이 변형되어 있지 않은 상태에서, 변위 측정 기구(61)를 사용해서 프레임(40)의 위치를 측정한다. 계속해서, N매의 마스크(50)를 프레임(40)에 설치하는 마스크 설치 공정 S3을 실시한다. 본 실시 형태에서는, 제2 방향(D2)에서의 프레임(40)의 중심으로부터 먼 순으로 마스크(50)를 제1변(41) 및 제2변(42)에 설치하는 예를 설명한다. 제2 방향(D2)에서의 프레임(40)의 중심으로부터의 거리가 동일한 경우, 제3변(43)과 제2 중심선(Lc2)의 사이에 위치하는 마스크(50)가, 제4변(44)과 제2 중심선(Lc2)의 사이에 위치하는 마스크(50)보다도 먼저 제1변(41) 및 제2변(42)에 설치된다. 따라서, 제11 마스크(50A1), 제21 마스크(50B1), 제12 마스크(50A2), 제22 마스크(50B2), 제13 마스크(50A3), 제23 마스크(50B3), 제14 마스크(50A4), 제24 마스크(50B4), 중앙 제1 마스크(50C1), 중앙 제2 마스크(50C2)가 이 순으로 제1변(41) 및 제2변(42)에 설치된다.

1매째의 마스크(50)를 프레임(40)에 설치하는 제1 마스크 설치 공정 S3(1)을 실시한다. 1매째의 마스크(50)는 제11 마스크(50A1)이다. 제1 마스크 설치 공정 S3(1)은, 제1 조정 공정 S4(1) 및 제1 배치 공정 S5(1)를 포함한다.

도 14는, 제1 조정 공정 S4(1)를 도시하는 도면이다. 제1 조정 공정 S4(1)는, 압박 공정 S41(1) 및 판정 공정 S42(1)를 포함한다. 압박 공정 S41(1)은, 도 14에 도시하는 바와 같이, 마스크(50)가 프레임(40)에 설치되어 있지 않은 상태에서, 제1변(41) 및 제2변(42)을 압박한다. 제어 장치(63)는, d(1)_A1, d(1)_A2, d(1)_C(1) 등의 변형량이 목표 변형량으로 되도록 압박 기구(62)를 제어한다.

판정 공정 S42(1)는, Δd(1)가 제1 역치(TH1) 이하인지 여부를 판정한다. Δd(1)가 제1 역치(TH1)를 초과하는 경우, 압박 공정 S41(1)이 다시 실시된다. Δd(1)가 제1 역치(TH1) 이하인 경우, 제1 배치 공정 S5(1)로 진행한다. Δd(1)가 제1 역치(TH1) 이하인 경우, 압박 기구(62)의 압박 장치가 제1변(41) 및 제2변(42)에 가하고 있는 제1 압박력을 기록해도 된다.

제어 장치(63)는, 제1 조정 공정 S4(1)에서 압박 기구(62)의 각 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력의 차가 소정의 범위 내로 되도록 압박 기구(62)를 제어해도 된다. 예를 들어, 제1 비율(RA1) 및 제2 비율(RA2)이 소정의 값 이하로 되도록, 제어 장치(63)가 압박 기구(62)를 제어해도 된다. 제1 비율(RA1)은, 제1 조정 공정 S4(1)에서의, 중앙 그룹(62C)의 평균 제1 압박력(P(1)_C)에 대한 제1 그룹(62A)의 평균 제1 압박력(P(1)_A)의 비율이다. 제2 비율(RA2)은, 제1 조정 공정 S4(1)에서의, 중앙 그룹(62C)의 평균 제1 압박력(P(1)_C)에 대한 제2 그룹(62B)의 평균 제1 압박력(P(1)_B)의 비율이다. 평균 제1 압박력(P(1)_A)은, 제1 조정 공정 S4(1)에서 제1 그룹(62A)의 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력의 평균값이다. 평균 제1 압박력(P(1)_B)은, 제1 조정 공정 S4(1)에서 제2 그룹(62B)의 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력의 평균값이다. 평균 제1 압박력(P(1)_C)은, 제1 조정 공정 S4(1)에서 중앙 그룹(62C)의 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력의 평균값이다.

제1 비율(RA1) 및 제2 비율(RA2)은, 예를 들어 0.6 이상이어도 되고, 0.7 이상이어도 되고, 0.8 이상이어도 되고, 0.9 이상이어도 된다. 제1 비율(RA1) 및 제2 비율(RA2)은, 예를 들어 1.1 이하이어도 되고, 1.2 이하이어도 되고, 1.3 이하이어도 되고, 1.4 이하이어도 된다. 제1 비율(RA1) 및 제2 비율(RA2)의 범위는, 0.6, 0.7, 0.8 및 0.9를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 1.1, 1.2, 1.3 및 1.4를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 제1 비율(RA1) 및 제2 비율(RA2)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 제1 비율(RA1) 및 제2 비율(RA2)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 제1 비율(RA1) 및 제2 비율(RA2)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 제1 비율(RA1) 및 제2 비율(RA2)은, 0.6 이상 1.4 이하이어도 되고, 0.6 이상 1.3 이하이어도 되고, 0.6 이상 1.2 이하이어도 되고, 0.6 이상 1.1 이하이어도 되고, 0.6 이상 0.9 이하이어도 되고, 0.6 이상 0.8 이하이어도 되고, 0.6 이상 0.7 이하이어도 되고, 0.7 이상 1.4 이하이어도 되고, 0.7 이상 1.3 이하이어도 되고, 0.7 이상 1.2 이하이어도 되고, 0.7 이상 1.1 이하이어도 되고, 0.7 이상 0.9 이하이어도 되고, 0.7 이상 0.8 이하이어도 되고, 0.8 이상 1.4 이하이어도 되고, 0.8 이상 1.3 이하이어도 되고, 0.8 이상 1.2 이하이어도 되고, 0.8 이상 1.1 이하이어도 되고, 0.8 이상 0.9 이하이어도 되고, 0.9 이상 1.4 이하이어도 되고, 0.9 이상 1.3 이하이어도 되고, 0.9 이상 1.2 이하이어도 되고, 0.9 이상 1.1 이하이어도 되고, 1.1 이상 1.4 이하이어도 되고, 1.1 이상 1.3 이하이어도 되고, 1.1 이상 1.2 이하이어도 되고, 1.2 이상 1.4 이하이어도 되고, 1.2 이상 1.3 이하이어도 되고, 1.3 이상 1.4 이하이어도 된다.

제1 배치 공정 S5(1)는, 위치 조정 공정 S51(1), 판정 공정 S52(1) 및 고정 공정 S53(1)을 포함한다. 도 15는, 위치 조정 공정 S51(1) 및 판정 공정 S52(1)를 도시하는 도면이다.

위치 조정 공정 S51(1)은, 도 15에 도시하는 바와 같이, 제11 마스크(50A1)에 장력을 가한 상태에서 제11 마스크(50A1)의 위치를 조정한다. 위치 조정 공정 S51(1)은, 인장 장치(76)를 사용해서 제11 마스크(50A1)의 위치를 조정한다. 인장 장치(76)는, 클램프를 사용해서 제11 마스크(50A1)에 장력을 가해도 된다. 인장 장치(76)는, 예를 들어 제1 단부(51)에 설치되는 2개의 클램프(761)와, 제2 단부(51)에 설치되는 2개의 클램프(761)를 포함해도 된다. 각 클램프(761)의 위치를 조정함으로써, 제11 마스크(50A1)의 위치 및 장력을 조정할 수 있다.

판정 공정 S52(1)는, 관찰 장치(73)를 사용해서 제11 마스크(50A1)의 위치를 관찰한다. 판정 공정 S52(1)는, 제11 마스크(50A1)의 마스크 오차가 제2 역치(TH2) 이하인지 여부를 판정한다. 마스크 오차가 제2 역치(TH2)를 초과하는 경우, 위치 조정 공정 S51(1)이 다시 실시된다. 마스크 오차가 제2 역치(TH2) 이하인 경우, 고정 공정 S53(1)으로 진행한다.

도 16은, 고정 공정 S53(1)을 도시하는 도면이다. 고정 공정 S53(1)은, 예를 들어 레이저를 제11 마스크(50A1)의 단부(51)에 조사한다. 이에 의해, 단부(51)에 용접부(47a)가 형성된다. 용접부(47a)를 통해서 제11 마스크(50A1)가 제1변(41) 및 제2변(42)에 고정된다. 도 16에 도시하는 바와 같이, 용접부(47a)보다도 외측에 위치하는 단부(51)의 부분을 제거해도 된다. N매의 마스크(50)를 프레임(40)에 설치한 후에, 용접부(47a)보다도 외측에 위치하는 단부(51)의 부분을 제거해도 된다.

계속해서, 도 17에 도시하는 바와 같이, 2매째의 마스크(50)를 프레임(40)에 설치하는 제2 마스크 설치 공정 S3(2)을 실시한다. 2매째의 마스크(50)는, 제21 마스크(50B1)이다. 제2 마스크 설치 공정 S3(2)은, 제2 조정 공정 S4(2) 및 제2 배치 공정 S5(2)를 포함한다.

계속해서, 도 18에 도시하는 바와 같이, 제3 마스크 설치 공정 S3(3) 내지 제8 마스크 설치 공정 S3(8)을 순서대로 실시한다. 이에 의해, 제1 마스크 그룹(50A)의 각 마스크(50) 및 제2 마스크 그룹(50B)의 각 마스크(50)가 프레임(40)에 설치된다. 제3 마스크 설치 공정 S3(3) 내지 제8 마스크 설치 공정 S3(8)은, 제3 조정 공정 S4(3) 내지 제8 조정 공정 S4(8) 및 제3 배치 공정 S5(3) 내지 제8 배치 공정 S5(8)를 포함한다.

계속해서, 도 19에 도시하는 바와 같이, 제9 마스크 설치 공정 S3(9) 내지 제10 마스크 설치 공정 S3(10)을 순서대로 실시한다. 이에 의해, 중앙 마스크 그룹(50C)의 각 마스크(50)가 프레임(40)에 설치된다. 제9 마스크 설치 공정 S3(9) 내지 제10 마스크 설치 공정 S3(10)은, 제9 조정 공정 S4(9) 내지 제10 조정 공정 S4(10) 및 제9 배치 공정 S5(9) 내지 제10 배치 공정 S5(10)를 포함한다.

계속해서, 해방 공정 S6을 실시한다. 예를 들어 도 20에 도시하는 바와 같이, 압박 기구(62)의 각 압박 장치의 로드(621)를 프레임(40)으로부터 이격시킨다. 계속해서, 최종 확인 공정 S7을 실시한다. 최종 확인 공정 S7은, 제1변(41) 및 제2변(42)의 최종 변형량과 목표 변형량의 차가 상술한 제1 역치(TH1) 이하인지 여부를 판정한다. 차가 제1 역치(TH1) 이하인 경우, 마스크 장치(15)를 합격품으로서 인정한다.

도 21은, 제1 조정 공정 S4(1) 내지 제10 조정 공정 S4(10)에서 제11 압박 장치(62A1)가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력(P_A1)의 추이의 일례를 도시하는 도면이다. 도 21에 도시하는 바와 같이, 제1 압박력(P_A1)은, 2회 이상의 조정 공정 S4 동안에 감소해도 된다. 도 21에 도시하는 예에서, 제1 압박력(P_A1)은, 제2 조정 공정 S4(2) 내지 제7 조정 공정 S4(7) 동안에 감소하고 있다.

도 21에 도시하는 바와 같이, 제1 압박력(P_A1)은, 최후의 조정 공정 S4 전에, 즉 제10 조정 공정 S4(10) 전에 제로가 되어도 된다. 도 21에 도시하는 예에서는, 제7 조정 공정 S4(7)에서 제1 압박력(P_A1)이 제로가 된다.

부호 P(11)_A1은, 해방 공정 S6일 때의 제1 압박력(P_A1)을 의미한다. 제1 압박력(P(11)_A1)은 제로이다.

도 22는, 제1 조정 공정 S4(1) 내지 제10 조정 공정 S4(10)에서 제12 압박 장치(62A2)가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력(P_A2)의 추이의 일례를 도시하는 도면이다. 도 22에 도시하는 바와 같이, 제1 압박력(P_A2)은, 2회 이상의 조정 공정 S4 동안에 감소해도 된다. 도 22에 도시하는 예에서, 제1 압박력(P_A2)은, 제4 조정 공정 S4(4) 내지 제9 조정 공정 S4(9) 동안에 감소하고 있다. 제1 압박력(P_A2)이 감소하는 기간은, 제1 압박력(P_A1)이 감소하는 기간보다도 후에 생겨도 된다.

도 22에 도시하는 바와 같이, 제1 압박력(P_A2)은, 최후의 조정 공정 S4 전에, 즉 제10 조정 공정 S4(10) 전에 제로가 되어도 된다. 도 22에 도시하는 예에서는, 제9 조정 공정 S4(9)에서 제1 압박력(P_A2)이 제로가 된다. 제1 압박력(P_A2)은, 제1 압박력(P_A1)이 제로가 된 후에 제로로 되어도 된다.

부호 P(11)_A2는, 해방 공정 S6일 때의 제1 압박력(P_A2)을 의미한다. 제1 압박력(P(11)_A2)은 제로이다.

도 23은, 제1 조정 공정 S4(1) 내지 제10 조정 공정 S4(10)에서 제1 중앙 압박 장치(62C1)가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력(P_C1)의 추이의 일례를 도시하는 도면이다. 도 23에 도시하는 바와 같이, 제1 압박력(P_C1)은, 2회 이상의 조정 공정 S4 동안에 감소해도 된다. 도 23에 도시하는 예에서, 제1 압박력(P_C1)은, 제6 조정 공정 S4(6) 내지 제10 조정 공정 S4(10) 동안에 감소하고 있다. 제1 압박력(P_C1)이 감소하는 기간은, 제1 그룹(62A)의 압박 장치의 제1 압박력이 감소하는 기간보다도 후에 생겨도 된다.

도 23에 도시하는 바와 같이, 제1 압박력(P_C1)은, 최후의 조정 공정 S4일 때, 즉 제N 조정 공정 S4(N)일 때 제로보다도 커도 된다.

부호 P(11)_C1은, 해방 공정 S6일 때의 제1 압박력(P_C1)을 의미한다. 제1 압박력(P(11)_C1)은 제로이다.

제1 압박력(P_C1)은, 제U 조정 공정 S4(U)(U는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)일 때 최댓값을 나타내도 된다. 이에 의해, 중앙 측정 그룹(61C)에서의 변형량과 목표 변형량의 차를 억제할 수 있다. 도 23에 도시하는 예에서, 제1 압박력(P_C1)은, 제6 조정 공정 S4(6)일 때 최댓값을 나타낸다. 제U 조정 공정 S4(U)에서, 제1 중앙 압박 장치(62C1)는 제1 압박력(P(U)_C1)을 제1변(41)에 가한다.

식 U≥N/2가 성립하고 있어도 된다. 즉, 후반의 조정 공정 S4에서 제1 압박력(P_C1)이 최댓값을 나타내도 된다.

제1 압박력(P(1)_C1)에 대한 제1 압박력(P(U)_C1)의 비율은, 예를 들어 1.05 이상이어도 되고, 1.10 이상이어도 되고, 1.15 이상이어도 된다. 제1 압박력(P(1)_C1)에 대한 제1 압박력(P(U)_C1)의 비율은, 예를 들어 1.20 이하이어도 되고, 1.30 이하이어도 되고, 1.50 이하이어도 된다. 제1 압박력(P(1)_C1)은, 제1 조정 공정 S4(1)에서 제1 중앙 압박 장치(62C1)가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력이다.

제1 압박력(P(1)_C1)에 대한 제1 압박력(P(U)_C1)의 비율의 범위는, 1.05, 1.10 및 1.15를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 1.20, 1.30 및 1.50을 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 제1 압박력(P(1)_C1)에 대한 제1 압박력(P(U)_C1)의 비율의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 제1 압박력(P(1)_C1)에 대한 제1 압박력(P(U)_C1)의 비율의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 제1 압박력(P(1)_C1)에 대한 제1 압박력(P(U)_C1)의 비율의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 제1 압박력(P(1)_C1)에 대한 제1 압박력(P(U)_C1)의 비율은, 1.05 이상 1.50 이하이어도 되고, 1.05 이상 1.30 이하이어도 되고, 1.05 이상 1.20 이하이어도 되고, 1.05 이상 1.15 이하이어도 되고, 1.05 이상 1.10 이하이어도 되고, 1.10 이상 1.50 이하이어도 되고, 1.10 이상 1.30 이하이어도 되고, 1.10 이상 1.20 이하이어도 되고, 1.10 이상 1.15 이하이어도 되고, 1.15 이상 1.50 이하이어도 되고, 1.15 이상 1.30 이하이어도 되고, 1.15 이상 1.20 이하이어도 되고, 1.20 이상 1.50 이하이어도 되고, 1.20 이상 1.30 이하이어도 되고, 1.30 이상 1.50 이하이어도 된다.

도 21에 도시하는 제1 압박력(P_A1)의 추이는, 제21 압박 장치(62B1)에서도 실현되어도 된다. 도 22에 도시하는 제1 압박력(P_A2)의 추이는, 제22 압박 장치(62B2)에서도 실현되어도 된다. 도 23에 도시하는 제1 압박력(P_C1)의 추이는, 제2 중앙 압박 장치(62C2)에서도 실현되어도 된다.

상술한 바와 같이, 제조 장치(60)의 압박 기구(62)는, 제2 방향(D2)을 따라 500mm 이하의 간격을 두고 배열되어, 제1변(41)을 압박하는 5개 이상의 압박 장치를 구비한다. 이 때문에, 제1변(41)의 각 위치에서의 제1변(41)의 변형량을 정밀하게 조정할 수 있다. 이에 의해, 프레임(40)이 대형화한 경우라도, 제1변(41)이 각 마스크(50)에 가하는 장력이 목표 장력으로부터 어긋나는 것을 억제할 수 있다.

상술한 바와 같이, 제조 장치(60)의 변위 측정 기구(61)는, 제2 방향에 있어서 압박 장치로부터 100mm 이하의 위치에서 제1변(41)의 변형량을 측정하는 5개 이상의 변위계를 구비한다. 이 때문에, 제1변(41)의 각 위치에서의 변형량을 정밀하게 조정할 수 있다. 이에 의해, 프레임(40)이 대형화한 경우라도, 제1변(41)이 각 마스크(50)에 가하는 장력이 목표 장력으로부터 어긋나는 것을 억제할 수 있다.

마스크 장치(15)로부터 마스크(50)를 분리하는 분해 방법이 실시되어도 된다. 분해 방법은, 제1변(41) 및 제2변(42)에 압박력을 가하면서 마스크(50)를 프레임(40)으로부터 분리해도 된다. 이에 의해, 프레임(40)의 변형을 유지하면서 마스크(50)를 프레임(40)으로부터 분리할 수 있다. 또한, 마스크 장치(15)의 제조 방법에 있어서 프레임(40)에 가해진 제1 압박력을 추측할 수 있다. 분해 방법은, 상술한 제조 장치(60)의 변위 측정 기구(61), 압박 기구(62) 및 제어 장치(63)를 사용해서 실시되어도 된다. 마스크 장치(15)의 분해 방법에 있어서 압박 기구(62)가 제1변(41) 및 제2변(42)에 가하는 압박력을, 제2 압박력이라고도 칭한다.

도 24는, 분해 방법의 일례를 나타내는 흐름도이다. 먼저, 마스크 장치(15)를 준비한다(공정 RS1). 마스크 장치(15)는, 도시하지 않은 스테이지 위에 놓여도 된다. 계속해서, 프레임(40)의 기준 위치를 정한다(공정 RS2). 구체적으로는, 변위 측정 기구(61)를 사용해서 프레임(40)의 제1변(41) 및 제2변(42)의 최종 변형량을 측정한다. 제1변(41) 및 제2변(42)의 최종 변형량은, 각(46)을 연결하는 직선(L11) 및 직선(L12)를 기준으로 해서 산출된다.

계속해서, N매의 마스크(50)를 프레임(40)으로부터 순서대로 분리하는 마스크 분리 공정 RS3을 실시한다. m매째(m은 1 이상 N 이하의 정수)의 마스크(50)를 프레임(40)으로부터 분리하는 공정을, 제m 마스크 분리 공정 RS3(m)이라고도 칭한다. 마스크 분리 공정 RS3은, 제1 마스크 분리 공정 RS3(1) 내지 제N 마스크 분리 공정 RS3(N)이라는 N회의 공정을 포함한다.

마스크 분리 공정 RS3은, 도 24에 도시하는 바와 같이, 제거 공정 RS4 및 역조정 공정 RS5를 N회 반복한다. 제m 마스크 분리 공정 RS3(k)에서의 제거 공정 및 역조정 공정을, 제m 제거 공정 RS4(m) 및 제m 역조정 공정 RS5(m)라고도 칭한다.

제거 공정 RS4는, 마스크(50)를 프레임(40)으로부터 분리한다. 예를 들어, 마스크(50)가 절단된다. 이에 의해, 제1변(41) 및 제2변(42)이 마스크(50)로부터 받는 반력이 거의 제로가 된다.

역조정 공정 RS5는, 제거 공정 RS5 후, 개구(45)를 향하는 방향에 있어서 압박 기구(62)가 제1변(41) 및 제2변(42)에 가하는 제2 압박력을 조정한다. 구체적으로는, 역조정 공정 RS5는, 각 마스크(50)가 제1변(41) 및 제2변(42)으로부터 분리된 후의 제1변(41) 및 제2변(42)의 변형량이 최종 변형량으로 되도록, 제2 압박력을 조정한다.

이하의 설명에 있어서, 제m 역조정 공정 RS5(m)에서 제1변(41)에 가해지는 제2 압박력을, 부호 RP(m)로 나타내는 경우도 있다. 또한, 제m 역조정 공정 RS5(m)에서 제11 압박 장치(62A1), 제12 압박 장치(62A2), 제21 압박 장치(62B1), 제22 압박 장치(62B2), 제1 중앙 압박 장치(62C1), 제2 중앙 압박 장치(62C2)가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력을, 부호 RP(m)_A1, RP(m)_A2, RP(m)_B1, RP(m)_B2, RP(m)_C1, RP(m)_C2로 나타내는 경우도 있다.

제m 역조정 공정 RS5(m)에서 제1 그룹(62A)의 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력의 평균값을, 부호 RP(m)_A로 나타내는 경우도 있다. 제m 역조정 공정 RS5(m)에서 제2 그룹(62B)의 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력의 평균값을, 부호 RP(m)_B로 나타내는 경우도 있다. 제m 역조정 공정 RS5(m)에서 중앙 그룹(62C)의 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력의 평균값을, 부호 RP(m)_C로 나타내는 경우도 있다.

도 25는, 제거 공정 RS4 및 역조정 공정 RS5의 일례를 나타내는 흐름도이다. 제m 제거 공정 RS4(m)는, 절단 공정 RS41(m)을 포함해도 된다. 절단 공정 RS41(m)은, m매째의 마스크(50)를 절단한다.

역조정 공정 RS5는, 압박 공정 RS51(m)과, 판정 공정 RS52(m)와, 기록 공정 RS53(m)을 포함해도 된다. 압박 공정 RS51(m)은, 절단 공정 RS41(m) 후, 프레임(40)에 대한 제2 압박력(RP(m))을 조정한다. 판정 공정 RS52(m)는, ΔRd(m)가 제3 역치(TH3) 이하인지 여부를 판정한다. ΔRd(m)는, 압박 공정 RS51(m)일 때의 제1변(41)의 변형량(Rd(m))과 최종 변형량의 차의 절댓값이다. 상술한 판정 공정 S42(k)의 경우와 마찬가지로, 판정 공정 RS52(m)는, 제1 중앙 변위계(61C1)가 측정한 변형량에 관해서 ΔRd(m)가 제3 역치(TH3) 이하인지 여부를 판정해도 된다. 판정 공정 RS52(m)는, 복수의 변형량의 측정값에 관해서 ΔRd(m)가 제3 역치(TH3) 이하인지 여부를 판정해도 된다. 상술한 판정 공정 S42(k)의 경우와 마찬가지로, 판정 공정 RS52(m)는, 변위 측정 기구(61)의 각 변위계에서의 변형량의 측정값 각각에 관해서 ΔRd(m)가 제3 역치(TH3) 이하인지 여부를 판정해도 된다. 제3 역치(TH3)의 수치 범위로서는, 상술한 제1 역치(TH1)의 수치 범위를 채용할 수 있다.

기록 공정 RS53(m)은, ΔRd(m)가 제3 역치(TH3) 이하일 때의 제2 압박력(RP(m))을 기록한다.

도 24에 도시하는 바와 같이, 마스크 분리 공정 RS3 후, 해방 공정 RS6을 실시해도 된다. 해방 공정 RS6은, 프레임(40)에 대한 제2 압박력을 제로로 한다. 예를 들어, 압박 기구(62)의 각 압박 장치의 로드(621)를 프레임(40)으로부터 이격시킨다.

도 20 및 도 26 내지 도 29를 참조하여, 마스크 장치(15)의 분해 방법을 구체적으로 설명한다.

도 20에 도시하는 바와 같이, 프레임(40)에 N매의 마스크(50)가 고정되어 있는 상태에서, 변위 측정 기구(61)를 사용해서 제1변(41) 및 제2변(42)의 최종 변형량을 측정한다. 계속해서, N매의 마스크(50)를 프레임(40)으로부터 분리하는 마스크 분리 공정 RS3을 실시한다. 본 실시 형태에서는, 제2 방향(D2)에서의 프레임(40)의 중심으로부터 가까운 순으로 마스크(50)를 프레임(40)으로부터 분리하는 예를 설명한다. 구체적으로는, 중앙 제1 마스크(50C1), 중앙 제2 마스크(50C2), 제14 마스크(50A4), 제24 마스크(50B4), 제13 마스크(50A3), 제23 마스크(50B3), 제12 마스크(50A2), 제22 마스크(50B2), 제11 마스크(50A1), 제21 마스크(50B1)가 이 순으로 제1변(41) 및 제2변(42)으로부터 분리된다.

1매째의 마스크(50)를 프레임(40)으로부터 분리하는 제1 마스크 설치 공정 RS3(1)을 실시한다. 1매째의 마스크(50)는, 중앙 제1 마스크(50C1)이다. 제1 마스크 분리 공정 RS3(1)은, 제1 제거 공정 RS4(1) 및 제1 역조정 공정 RS5(1)를 포함한다.

도 26은, 제1 제거 공정 RS4(1) 및 제1 역조정 공정 RS5(1)를 도시하는 도면이다. 제1 제거 공정 RS4(1)는, 절단 공정 RS41(1)을 포함한다. 절단 공정 RS41(1)은, 도 26에 도시하는 바와 같이 중앙 제1 마스크(50C1)를 절단한다. 중앙 제1 마스크(50C1)의 단부(51)가 프레임(40)에 남아도 된다.

제1 역조정 공정 RS5(1)는, 압박 공정 RS51(1), 판정 공정 RS52(1) 및 기록 공정 RS53(1)을 포함한다.

압박 공정 RS51(1)은, 도 26에 도시하는 바와 같이, 중앙 제1 마스크(50C1)가 제거된 후, 제1변(41) 및 제2변(42)을 압박한다. 제어 장치(63)는, 제1변(41) 및 제2변(42)의 변형량이 최종 변형량으로 되도록 압박 기구(62)를 제어한다.

판정 공정 RS52(1)는, ΔRd(1)가 제3 역치(TH3) 이하인지 여부를 판정한다. ΔRd(1)가 제3 역치(TH3)를 초과하는 경우, 압박 공정 RS51(1)이 다시 실시된다. ΔRd(1)가 제3 역치(TH3) 이하인 경우, 기록 공정 RS53(1)으로 진행한다. 기록 공정 RS53(1)은, 압박 기구(62)의 압박 장치가 제1변(41) 및 제2변(42)에 가하고 있는 제2 압박력을 제2 압박력(RP(1))으로서 기록한다.

계속해서, 도 27에 도시하는 바와 같이, 2매째의 마스크(50)를 프레임(40)으로부터 분리하는 제2 마스크 분리 공정 RS3(2)을 실시한다. 2매째의 마스크(50)는 중앙 제2 마스크(50C2)이다. 제2 마스크 분리 공정 RS3(2)은, 제2 제거 공정 RS4(2) 및 제2 역조정 공정 RS5(2)를 포함한다. 이와 같이 하여, 중앙 마스크 그룹(50C)의 각 마스크(50)가 프레임(40)으로부터 분리된다.

계속해서, 도 28에 도시하는 바와 같이, 제3 마스크 분리 공정 RS3(3) 내지 제8 마스크 분리 공정 RS3(8)을 순서대로 실시한다. 제3 마스크 분리 공정 RS3(3) 내지 제8 마스크 분리 공정 RS3(8)은, 제3 제거 공정 RS4(3) 내지 제8 제거 공정 RS4(8) 및 제3 배치 역조정 공정 RS5(3) 내지 제8 역조정 공정 RS5(8)를 포함한다.

계속해서, 도 29에 도시하는 바와 같이, 제9 마스크 분리 공정 RS3(9) 내지 제10 마스크 분리 공정 RS3(10)을 순서대로 실시한다. 제9 마스크 분리 공정 RS3(9) 내지 제10 마스크 분리 공정 RS3(10)은, 제9 제거 공정 RS4(9) 내지 제10 제거 공정 RS4(10) 및 제9 역조정 공정 RS5(9) 내지 제10 역조정 공정 RS5(10)를 포함한다.

계속해서, 해방 공정 RS6을 실시한다. 예를 들어, 압박 기구(62)의 각 압박 장치의 로드(621)를 프레임(40)으로부터 이격시킨다.

도 30은, 제1 역조정 공정 RS5(1) 내지 제10 역조정 공정 RS5(10)에서 제11 압박 장치(62A1)가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력(RP_A1)의 추이의 일례를 도시하는 도면이다. 도 30에 도시하는 바와 같이, 제2 압박력(RP_A1)은, 2회 이상의 역조정 공정 RS5 동안에 증가해도 된다. 도 30에 도시하는 예에서, 제2 압박력(RP_A1)은, 제4 역조정 공정 RS5(4) 내지 제9 조정 공정 RS5(9) 동안에 증가하고 있다.

도 30에 도시하는 바와 같이, 제2 압박력(RP_A1)은, 2회째 이후의 역조정 공정 RS5부터 제로보다도 커져도 된다. 도 30에 도시하는 예에서는, 제5 조정 공정 RS5(5)에서 제2 압박력(RP_A1)이 제로보다도 커진다.

도 31은, 제1 역조정 공정 RS5(1) 내지 제10 역조정 공정 RS5(10)에서 제12 압박 장치(62A2)가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력(RP_A2)의 추이의 일례를 도시하는 도면이다. 도 31에 도시하는 바와 같이, 제2 압박력(RP_A2)은, 2회 이상의 역조정 공정 RS5 동안에 증가해도 된다. 도 31에 도시하는 예에서, 제2 압박력(RP_A2)은, 제2 역조정 공정 RS5(2) 내지 제7 역조정 공정 RS5(7) 동안에 증가하고 있다.

도 31에 도시하는 바와 같이, 제2 압박력(RP_A2)은, 2회째 이후의 역조정 공정 RS5부터 제로보다도 커져도 된다. 도 31에 도시하는 예에서는, 제3 조정 공정 RS5(3)에서 제2 압박력(RP_A2)이 제로보다도 커진다. 제2 압박력(RP_A2)은, 제2 압박력(RP_A1)이 제로보다도 커지기 전에, 제로보다도 커져도 된다.

도 32는, 제1 역조정 공정 RS5(1) 내지 제10 역조정 공정 RS5(10)에서 제1 중앙 압박 장치(62C1)가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력(RP_C1)의 추이의 일례를 도시하는 도면이다. 도 32에 도시하는 바와 같이, 제2 압박력(RP_C1)은, 2회 이상의 역조정 공정 RS5 동안에 증가해도 된다. 도 32에 도시하는 예에서, 제2 압박력(RP_C1)은, 제1 역조정 공정 RS5(1) 내지 제5 역조정 공정 RS5(5) 동안에 증가하고 있다. 제2 압박력(RP_C1)이 증가하는 기간은, 제1 그룹(62A)의 압박 장치의 제2 압박력이 증가하는 기간보다도 전에 생겨도 된다.

도 32에 도시하는 바와 같이, 제2 압박력(RP_C1)은, 제1 역조정 공정 RS5(1)일 때 제로보다도 커도 된다.

제2 압박력(RP_C1)은, 제Q 역조정 공정 RS5(Q)(Q는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)일 때 최댓값을 나타내도 된다. 도 32에 도시하는 예에서, 제2 압박력(RP_C1)은, 제5 역조정 공정 RS5(5)일 때 최댓값을 나타낸다.

식Q≤N/2가 성립하고 있어도 된다. 즉, 전반의 역조정 공정 RS5에서 제2 압박력(RP_C1)이 최댓값을 나타내도 된다.

최후의 역조정 공정 RS5일 때, 즉 제N 역조정 공정 RS5(N)일 때, 제1 중앙 압박 장치(62C1)는, 제2 압박력(RP(N)_C1)을 제1변(41)에 가한다.

제2 압박력(RP(N)_C1)에 대한 제2 압박력(RP(Q)_C1)의 비율은, 예를 들어 1.05 이상이어도 되고, 1.10 이상이어도 되고, 1.15 이상이어도 된다. 제2 압박력(RP(N)_C1)에 대한 제2 압박력(RP(Q)_C1)의 비율은, 예를 들어 1.20 이하이어도 되고, 1.30 이하이어도 되고, 1.50 이하이어도 된다. 제2 압박력(RP(Q)_C1)은, 제Q 역조정 공정 RS5(Q)에서 제1 중앙 압박 장치(62C1)가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력이다.

제2 압박력(RP(N)_C1)에 대한 제2 압박력(RP(Q)_C1)의 비율의 범위는, 1.05, 1.10 및 1.15를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 1.20, 1.30 및 1.50을 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 제2 압박력(RP(N)_C1)에 대한 제2 압박력(RP(Q)_C1)의 비율은, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 제2 압박력(RP(N)_C1)에 대한 제2 압박력(RP(Q)_C1)의 비율은, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 제2 압박력(RP(N)_C1)에 대한 제2 압박력(RP(Q)_C1)의 비율은, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 제2 압박력(RP(N)_C1)에 대한 제2 압박력(RP(Q)_C1)의 비율은, 1.05 이상 1.50 이하이어도 되고, 1.05 이상 1.30 이하이어도 되고, 1.05 이상 1.20 이하이어도 되고, 1.05 이상 1.15 이하이어도 되고, 1.05 이상 1.10 이하이어도 되고, 1.10 이상 1.50 이하이어도 되고, 1.10 이상 1.30 이하이어도 되고, 1.10 이상 1.20 이하이어도 되고, 1.10 이상 1.15 이하이어도 되고, 1.15 이상 1.50 이하이어도 되고, 1.15 이상 1.30 이하이어도 되고, 1.15 이상 1.20 이하이어도 되고, 1.20 이상 1.50 이하이어도 되고, 1.20 이상 1.30 이하이어도 되고, 1.30 이상 1.50 이하이어도 된다.

도 30에 도시하는 제2 압박력(RP_A1)의 추이는, 제21 압박 장치(62B1)에서도 실현되어도 된다. 도 31에 도시하는 제2 압박력(RP_A2)의 추이는, 제22 압박 장치(62B2)에서도 실현되어도 된다. 도 32에 도시하는 제2 압박력(RP_C1)의 추이는, 제2 중앙 압박 장치(62C2)에서도 실현되어도 된다.

제어 장치(63)는, 제N 역조정 공정 RS5(N)에서 압박 기구(62)의 각 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력의 차가 소정의 범위 내로 되도록 압박 기구(62)를 제어해도 된다. 예를 들어, 제3 비율(RA3) 및 제4 비율(RA4)이 소정의 값 이하로 되도록, 제어 장치(63)가 압박 기구(62)를 제어해도 된다. 제3 비율(RA3)은, 제N 역조정 공정 RS5(N)에서의, 중앙 그룹(62C)의 평균 제2 압박력(RP(N)_C)에 대한 제1 그룹(62A)의 평균 제2 압박력(RP(N)_A)의 비율이다. 제4 비율(RA4)은, 제N 역조정 공정 RS5(N)에서의, 중앙 그룹(62C)의 평균 제2 압박력(RP(N)_C)에 대한 제2 그룹(62B)의 평균 제2 압박력(RP(N)_B)의 비율이다. 평균 제2 압박력(RP(N)_A)은, 제N 역조정 공정 RS5(N)에서 제1 그룹(62A)의 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력의 평균값이다. 평균 제2 압박력(RP(N)_B)은, 제N 역조정 공정 RS5(N)에서 제2 그룹(62B)의 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력의 평균값이다. 평균 제2 압박력(RP(N)_C)은, 제N 역조정 공정 RS5(N)에서 중앙 그룹(62C)의 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력의 평균값이다.

제3 비율(RA3) 및 제4 비율(RA4)은, 예를 들어 0.6 이상이어도 되고, 0.7 이상이어도 되고, 0.8 이상이어도 되고, 0.9 이상이어도 된다. 제3 비율(RA3) 및 제4 비율(RA4)은, 예를 들어 1.1 이하이어도 되고, 1.2 이하이어도 되고, 1.3 이하이어도 되고, 1.4 이하이어도 된다. 제3 비율(RA3) 및 제4 비율(RA4)의 범위는, 0.6, 0.7, 0.8 및 0.9를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 1.1, 1.2, 1.3 및 1.4를 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 제3 비율(RA3) 및 제4 비율(RA4)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 제3 비율(RA3) 및 제4 비율(RA4)의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 제3 비율(RA3) 및 제4 비율(RA4)의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 제3 비율(RA3) 및 제4 비율(RA4)은, 0.6 이상 1.4 이하이어도 되고, 0.6 이상 1.3 이하이어도 되고, 0.6 이상 1.2 이하이어도 되고, 0.6 이상 1.1 이하이어도 되고, 0.6 이상 0.9 이하이어도 되고, 0.6 이상 0.8 이하이어도 되고, 0.6 이상 0.7 이하이어도 되고, 0.7 이상 1.4 이하이어도 되고, 0.7 이상 1.3 이하이어도 되고, 0.7 이상 1.2 이하이어도 되고, 0.7 이상 1.1 이하이어도 되고, 0.7 이상 0.9 이하이어도 되고, 0.7 이상 0.8 이하이어도 되고, 0.8 이상 1.4 이하이어도 되고, 0.8 이상 1.3 이하이어도 되고, 0.8 이상 1.2 이하이어도 되고, 0.8 이상 1.1 이하이어도 되고, 0.8 이상 0.9 이하이어도 되고, 0.9 이상 1.4 이하이어도 되고, 0.9 이상 1.3 이하이어도 되고, 0.9 이상 1.2 이하이어도 되고, 0.9 이상 1.1 이하이어도 되고, 1.1 이상 1.4 이하이어도 되고, 1.1 이상 1.3 이하이어도 되고, 1.1 이상 1.2 이하이어도 되고, 1.2 이상 1.4 이하이어도 되고, 1.2 이상 1.3 이하이어도 되고, 1.3 이상 1.4 이하이어도 된다.

상술한 일 실시 형태를 다양하게 변경할 수 있다. 이하, 필요에 따라 도면을 참조하면서, 그 밖의 실시 형태에 대해서 설명한다. 이하의 설명 및 이하의 설명에서 사용하는 도면에서는, 상술한 일 실시 형태와 마찬가지로 구성될 수 있는 부분에 대해서, 상술한 일 실시 형태에서의 대응하는 부분에 대하여 사용한 부호와 동일한 부호를 사용한다. 중복되는 설명은 생략한다. 또한, 상술한 일 실시 형태에서 얻어지는 작용 효과가 그 밖의 실시 형태에서도 얻어지는 것이 명확할 경우, 그 설명을 생략하는 경우도 있다.

도 33은, 제2 실시 형태에 관한 마스크 장치(15)를 도시하는 평면도이다. 마스크 장치(15)는, 제2 방향을 따라 배열되는 N매의 마스크(50)를 구비한다. N은 홀수이다. 도 33에 도시하는 마스크 장치(15)는, 9매의 마스크(50)를 구비한다.

중앙 마스크 그룹(50C)은, 1매의 마스크(50)를 포함한다. 구체적으로는, 중앙 마스크 그룹(50C)은, 제11 마스크(50A1)를 포함한다. 제11 마스크(50A1)는, 제2 중심선(Lc2)에 겹쳐 있어도 된다.

제1 마스크 그룹(50A)은, 1매 이상의 마스크(50)를 포함한다. 제1 마스크 그룹(50A)은, 2매 이상의 마스크(50)를 포함해도 된다. 도 33에 도시하는 제1 마스크 그룹(50A)은, 제3변(43)으로부터 제2 중심선(Lc2)을 향하는 방향으로 순서대로 배열되는 제11 마스크(50A1), 제12 마스크(50A2), 제13 마스크(50A3) 및 제14 마스크(50A4)를 포함한다.

제2 마스크 그룹(50B)은, 1매 이상의 마스크(50)를 포함한다. 제2 마스크 그룹(50B)은, 2매 이상의 마스크(50)를 포함해도 된다. 제2 마스크 그룹(50B)에 포함되는 마스크(50)의 수는, 제1 마스크 그룹(50A)에 포함되는 마스크(50)의 수와 동일해도 된다. 도 33에 도시하는 제2 마스크 그룹(50B)은, 제4변(44)으로부터 제2 중심선(Lc2)을 향하는 방향으로 순서대로 배열되는 제21 마스크(50B1), 제22 마스크(50B2), 제23 마스크(50B3) 및 제24 마스크(50B4)를 포함한다.

도 34는, 제2 실시 형태에 관한 제조 장치(60)를 도시하는 평면도이다.

제1변(41)을 압박하는 압박 기구(62)는, 중앙 그룹(62C), 제1 그룹(62A) 및 제2 그룹(62B)을 포함한다. 중앙 그룹(62C)은, 1개의 압박 장치를 포함해도 된다. 구체적으로는, 중앙 그룹(62C)은, 제1 중앙 압박 장치(62C1)를 포함한다. 제1 중앙 압박 장치(62C1)는, 제2 중심선(Lc2)에 겹쳐 있어도 된다.

제1변(41)의 변형량을 측정하는 변위 측정 기구(61)는, 중앙 측정 그룹(61C), 제1 측정 그룹(61A) 및 제2 측정 그룹(61B)을 포함한다. 중앙 측정 그룹(61C)은, 1개의 변위계를 포함해도 된다. 구체적으로는, 중앙 측정 그룹(61C)은, 제1 중앙 변위계(61C1)를 포함해도 된다. 제1 중앙 변위계(61C1)는, 제1 중앙 압박 장치(62C1)의 가까이에 위치한다. 변위 측정 기구(61)는, 제1 보조 변위계(61D) 및 제2 보조 변위계(61E)를 포함해도 된다.

압박 기구(62)의 압박 장치는, 상술한 실시 형태의 경우와 마찬가지로, 제2 방향(D2)을 따라 500mm 이하의 간격을 두고 배열되어 있다. 이 때문에, 제1변(41)의 각 위치에서의 제1변(41)의 변형량을 정밀하게 조정할 수 있다. 이에 의해, 프레임(40)이 대형화한 경우라도, 제1변(41)이 각 마스크(50)에 가하는 장력이 목표 장력으로부터 어긋나는 것을 억제할 수 있다.

변위 측정 기구(61)의 변위계는, 상술한 실시 형태의 경우와 마찬가지로, 제2 방향에 있어서 압박 장치로부터 100mm 이하의 위치에서 제1변(41)의 변형량을 측정한다. 이 때문에, 제1변(41)의 각 위치에서의 변형량을 정밀하게 조정할 수 있다. 이에 의해, 프레임(40)이 대형화한 경우라도, 제1변(41)이 각 마스크(50)에 가하는 장력이 목표 장력으로부터 어긋나는 것을 억제할 수 있다.

도 35는, 제3 실시 형태에 관한 제조 장치(60)를 도시하는 평면도이다. 변위 측정 기구(61)의 변위계는, 프레임(40)에 접촉하지 않고 제1변(41) 및 제2변(42)의 변형량을 측정해도 된다. 변위계의 타입은, 광학식, 와전류식, 초음파식, 레이저 포커스식, 정전 용량식 등이다.

레이저 포커스식 변위계는, 프레임(40)을 향해서 레이저를 조사하여, 프레임에 의해 반사된 레이저를 검출한다.

정전 용량식 변위계는, 변위계와 프레임(40)의 사이의 정전 용량을 측정하고, 정전 용량에 기초하여 변위계와 프레임(40)의 사이의 거리를 산출한다.

도 36은, 제4 실시 형태에 관한 제조 장치(60)를 도시하는 평면도이다. 변위 측정 기구(61)는, 이동 기구(66)에 의해 지지되어 있어도 된다. 이 경우, 변위 측정 기구(61)는, 프레임(40)에 접촉하지 않고 제1변(41) 및 제2변(42)의 변형량을 측정한다. 이동 기구(66)는, 제1 방향(D1), 제2 방향(D2) 등을 따라 변위 측정 기구(61)를 이동시킨다. 예를 들어, 이동 기구(66)는, 제1 방향(D1)을 따라 변위 측정 기구(61)를 이동시키는 제1 이동 장치(67)를 포함해도 된다. 이동 기구(66)는, 제2 방향(D2)을 따라 제1 이동 장치(67)를 이동시키는 제2 이동 장치를 포함해도 된다. 복수의 위치에서 변위 측정 기구(61)가 프레임(40)을 관찰함으로써, 제1변(41) 및 제2변(42)의 변형량을 측정할 수 있다.

상술한 실시 형태에서는, 제2 방향(D2)에서의 프레임(40)의 중심으로부터 먼 순으로 마스크(50)를 제1변(41) 및 제2변(42)에 설치하는 예를 설명했다. 제5 실시 형태에서는, 제2 방향(D2)에서의 프레임(40)의 중심으로부터 가까운 순으로 마스크(50)를 제1변(41) 및 제2변(42)에 설치하는 예를 설명한다. 즉, 본 실시 형태에서는, 중앙 마스크 그룹(50C)의 마스크(50)가, 제1 마스크 그룹(50A)의 마스크(50) 및 제2 마스크 그룹(50B)의 마스크(50)보다도 먼저 제1변(41) 및 제2변(42)에 설치된다. 제2 방향(D2)에서의 프레임(40)의 중심으로부터의 거리가 동일한 경우, 제3변(43)과 제2 중심선(Lc2)의 사이에 위치하는 마스크(50)가, 제4변(44)과 제2 중심선(Lc2)의 사이에 위치하는 마스크(50)보다도 먼저 제1변(41) 및 제2변(42)에 설치된다. 따라서, 중앙 제1 마스크(50C1), 중앙 제2 마스크(50C2), 제14 마스크(50A4), 제24 마스크(50B4), 제13 마스크(50A3), 제23 마스크(50B3), 제12 마스크(50A2), 제22 마스크(50B2), 제11 마스크(50A1), 제21 마스크(50B1)가 이 순으로 제1변(41) 및 제2변(42)에 설치된다.

먼저, 1매째의 마스크(50)를 프레임(40)에 설치하는 제1 마스크 설치 공정 S3(1)을 실시한다. 1매째의 마스크(50)는, 중앙 제1 마스크(50C1)이다. 제1 마스크 설치 공정 S3(1)은, 제1 조정 공정 S4(1) 및 제1 배치 공정 S5(1)를 포함한다.

제1 조정 공정 S4(1)는, 상술한 제1 실시 형태와 마찬가지로, 압박 공정 S41(1) 및 판정 공정 S42(1)를 포함한다. 제1 배치 공정 S5(1)는, 상술한 제1 실시 형태와 마찬가지로, 위치 조정 공정 S51(1), 판정 공정 S52(1) 및 고정 공정 S53(1)을 포함한다.

위치 조정 공정 S51(1)은, 도 40에 도시하는 바와 같이, 중앙 제1 마스크(50C1)에 장력을 가한 상태에서 중앙 제1 마스크(50C1)의 위치를 조정한다. 판정 공정 S52(1)는, 관찰 장치(73)를 사용해서 중앙 제1 마스크(50C1)의 위치를 관찰한다. 판정 공정 S52(1)는, 중앙 제1 마스크(50C1)의 마스크 오차가 제2 역치(TH2) 이하인지 여부를 판정한다. 마스크 오차가 제2 역치(TH2)를 초과하는 경우, 위치 조정 공정 S51(1)이 다시 실시된다. 마스크 오차가 제2 역치(TH2) 이하인 경우, 고정 공정 S53(1)으로 진행한다. 도 41은, 고정 공정 S53(1)을 도시하는 도면이다.

계속해서, 도 42에 도시하는 바와 같이, 2매째의 마스크(50)를 프레임(40)에 설치하는 제2 마스크 설치 공정 S3(2)을 실시한다. 2매째의 마스크(50)는, 중앙 제2 마스크(50C2)이다. 제2 마스크 설치 공정 S3(2)은, 제2 조정 공정 S4(2) 및 제2 배치 공정 S5(2)를 포함한다.

계속해서, 도 43에 도시하는 바와 같이, 제3 마스크 설치 공정 S3(3) 내지 제8 마스크 설치 공정 S3(8)을 순서대로 실시한다. 이에 의해, 제14 마스크(50A4), 제24 마스크(50B4), 제13 마스크(50A3), 제23 마스크(50B3), 제12 마스크(50A2) 및 제22 마스크(50B2)가 이 순으로 프레임(40)에 설치된다. 제3 마스크 설치 공정 S3(3) 내지 제8 마스크 설치 공정 S3(8)은, 제3 조정 공정 S4(3) 내지 제8 조정 공정 S4(8) 및 제3 배치 공정 S5(3) 내지 제8 배치 공정 S5(8)를 포함한다.

계속해서, 도 44에 도시하는 바와 같이, 제9 마스크 설치 공정 S3(9) 내지 제10 마스크 설치 공정 S3(10)을 순서대로 실시한다. 이에 의해, 제11 마스크(50A1) 및 제21 마스크(50B1)가 이 순으로 프레임(40)에 설치된다. 제9 마스크 설치 공정 S3(9) 내지 제10 마스크 설치 공정 S3(10)은, 제9 조정 공정 S4(9) 내지 제10 조정 공정 S4(10) 및 제9 배치 공정 S5(9) 내지 제10 배치 공정 S5(10)를 포함한다.

계속해서, 해방 공정 S6을 실시한다. 예를 들어, 압박 기구(62)의 각 압박 장치의 로드(621)를 프레임(40)으로부터 이격시킨다. 계속해서, 최종 확인 공정 S7을 실시한다. 최종 확인 공정 S7은, 제1변(41) 및 제2변(42)의 최종 변형량과 목표 변형량의 차가 상술한 제1 역치(TH1) 이하인지 여부를 판정한다. 차가 제1 역치(TH1) 이하인 경우, 마스크 장치(15)를 합격품으로서 인정한다.

도 45는, 제1 조정 공정 S4(1) 내지 제10 조정 공정 S4(10)에서 제21 압박 장치(62B1)가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력(P_B1)의 추이의 일례를 도시하는 도면이다. 제21 압박 장치(62B1)는, 제2 그룹(62B)에 속하는 압박 장치 중, 제4변(44)에 가장 가까운 압박 장치이다. 도 45에 도시하는 바와 같이, 제1 압박력(P_B1)은, 2회 이상의 조정 공정 S4 동안에 감소해도 된다. 도 45에 도시하는 예에서, 제1 압박력(P_B1)은, 제8 조정 공정 S4(8) 내지 제10 조정 공정 S4(10) 동안에 감소하고 있다. 제1 압박력(P_B1)이 감소하는 기간은, 중앙 그룹(62C)의 압박 장치의 제1 압박력이 감소하는 기간보다도 후에 생겨도 된다.

도 45에 도시하는 바와 같이, 제1 압박력(P_B1)은, 최후의 조정 공정 S4일 때, 즉 제N 조정 공정 S4(N)일 때, 제로보다도 커도 된다. 도 45에 도시하는 예에서, 최후의 조정 공정 S4는, 제10 조정 공정 S4(10)이다.

부호 P(11)_B1은, 해방 공정 S6일 때의 제1 압박력(P_B1)을 의미한다. 제1 압박력(P(11)_B1)은 제로이다.

제1 압박력(P_B1)은, 제U 조정 공정 S4(U)(U는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)일 때 최댓값을 나타내도 된다. 이에 의해, 제2 측정 그룹(61B)에서의 변형량과 목표 변형량의 차를 억제할 수 있다. 도 45에 도시하는 예에서, 제1 압박력(P_B1)은, 제8 조정 공정 S4(8)일 때 최댓값을 나타낸다. 제U 조정 공정 S4(U)에서, 제21 압박 장치(62B1)는 제1 압박력(P(U)_B1)을 제1변(41)에 가한다.

식 U≥N/2가 성립하고 있어도 된다. 즉, 후반의 조정 공정 S4에서 제1 압박력(P_B1)이 최댓값을 나타내도 된다.

제1 압박력(P(1)_B1)에 대한 제1 압박력(P(U)_B1)의 비율은, 예를 들어 1.05 이상이어도 되고, 1.10 이상이어도 되고, 1.15 이상이어도 된다. 제1 압박력(P(1)_B1)에 대한 제1 압박력(P(U)_B1)의 비율은, 예를 들어 1.20 이하이어도 되고, 1.30 이하이어도 되고, 1.50 이하이어도 된다. 제1 압박력(P(1)_B1)은, 제1 조정 공정 S4(1)에서 제21 압박 장치(62B1)가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력이다.

제1 압박력(P(1)_B1)에 대한 제1 압박력(P(U)_B1)의 비율의 범위는, 1.05, 1.10 및 1.15를 포함하는 제1 그룹, 및/또는, 1.20, 1.30 및 1.50을 포함하는 제2 그룹에 의해 정해져도 된다. 제1 압박력(P(1)_B1)에 대한 제1 압박력(P(U)_B1)의 비율의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개와, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 1개의 조합에 의해 정해져도 된다. 제1 압박력(P(1)_B1)에 대한 제1 압박력(P(U)_B1)의 비율의 범위는, 상술한 제1 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 제1 압박력(P(1)_B1)에 대한 제1 압박력(P(U)_B1)의 비율의 범위는, 상술한 제2 그룹에 포함되는 값 중 임의의 2개의 조합에 의해 정해져도 된다. 예를 들어, 제1 압박력(P(1)_B1)에 대한 제1 압박력(P(U)_B1)의 비율은, 1.05 이상 1.50 이하이어도 되고, 1.05 이상 1.30 이하이어도 되고, 1.05 이상 1.20 이하이어도 되고, 1.05 이상 1.15 이하이어도 되고, 1.05 이상 1.10 이하이어도 되고, 1.10 이상 1.50 이하이어도 되고, 1.10 이상 1.30 이하이어도 되고, 1.10 이상 1.20 이하이어도 되고, 1.10 이상 1.15 이하이어도 되고, 1.15 이상 1.50 이하이어도 되고, 1.15 이상 1.30 이하이어도 되고, 1.15 이상 1.20 이하이어도 되고, 1.20 이상 1.50 이하이어도 되고, 1.20 이상 1.30 이하이어도 되고, 1.30 이상 1.50 이하이어도 된다.

도 46은, 제1 조정 공정 S4(1) 내지 제10 조정 공정 S4(10)에서 제22 압박 장치(62B2)가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력(P_B2)의 추이의 일례를 도시하는 도면이다. 도 46에 도시하는 바와 같이, 제1 압박력(P_B2)은, 2회 이상의 조정 공정 S4 동안에 감소해도 된다. 도 46에 도시하는 예에서, 제1 압박력(P_B2)은, 제6 조정 공정 S4(6) 내지 제8 조정 공정 S4(8) 동안에 감소하고 있다. 제1 압박력(P_B2)이 감소하는 기간은, 중앙 그룹(62C)의 압박 장치의 제1 압박력이 감소하는 기간보다도 후에 생겨도 된다. 제1 압박력(P_B2)이 감소하는 기간은, 제1 압박력(P_B1)이 감소하는 기간보다도 먼저 생겨도 된다.

도 46에 도시하는 바와 같이, 제1 압박력(P_B2)은, 최후의 조정 공정 S4 전에, 즉 제10 조정 공정 S4(10) 전에 제로로 되어도 된다. 도 46에 도시하는 예에서는, 제9 조정 공정 S4(9)에서 제1 압박력(P_B2)이 제로가 된다. 제1 압박력(P_B2)은, 제1 압박력(P_B1)이 제로가 되기 전에 제로로 되어도 된다.

부호 P(11)_B2는, 해방 공정 S6일 때의 제1 압박력(P_B2)을 의미한다. 제1 압박력(P(11)_B2)은 제로이다.

제1 압박력(P_B2)은, 제1 조정 공정 S4(1) 이외일 때 최댓값을 나타내도 된다. 이에 의해, 제2 측정 그룹(61B)에서의 변형량과 목표 변형량의 차를 억제할 수 있다. 도 46에 도시하는 예에서, 제1 압박력(P_B2)은, 제2 조정 공정 S4(2)일 때 최댓값을 나타낸다. 제2 조정 공정 S4(2)에서, 제22 압박 장치(62B2)는 제1 압박력(P(2)_B2)을 제1변(41)에 가한다. 도시는 하지 않지만, 제1 압박력(P_B2)은, 제3 조정 공정 S4(3) 또는 제4 조정 공정 S4(4)일 때 최댓값을 나타내도 된다.

제1 압박력(P(1)_B2)에 대한, 제1 압박력(P_B2)의 최댓값의 비율의 범위로서는, 상술한 「제1 압박력(P(1)_B1)에 대한 제1 압박력(P(U)_B1)의 비율」의 수치 범위를 채용할 수 있다.

도 47은, 제1 조정 공정 S4(1) 내지 제10 조정 공정 S4(10)에서 제2 중앙 압박 장치(62C2)가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력(P_C2)의 추이의 일례를 도시하는 도면이다. 도 47에 도시하는 바와 같이, 제1 압박력(P_C2)은, 2회 이상의 조정 공정 S4 동안에 감소해도 된다. 도 47에 도시하는 예에서, 제1 압박력(P_C2)은, 제1 조정 공정 S4(1) 내지 제7 조정 공정 S4(7) 동안에 감소하고 있다. 이와 같이, 제1 압박력(P_C2)은, 제1 조정 공정 S4(1)를 기점으로 해서 단조롭게 감소해도 된다.

도 47에 도시하는 바와 같이, 제1 압박력(P_C2)은, 최후의 조정 공정 S4 전에, 즉 제10 조정 공정 S4(10) 전에 제로가 되어도 된다. 도 47에 도시하는 예에서는, 제7 조정 공정 S4(7)에서 제1 압박력(P_C2)이 제로가 된다.

부호 P(11)_C2는, 해방 공정 S6일 때의 제1 압박력(P_C2)을 의미한다. 제1 압박력(P(11)_C2)은 제로이다.

도 45에 도시하는 제1 압박력(P_B1)의 추이는, 제11 압박 장치(62A1)에서도 실현되어도 된다. 도 46에 도시하는 제1 압박력(P_B2)의 추이는, 제12 압박 장치(62A2)에서도 실현되어도 된다. 도 47에 도시하는 제1 압박력(P_C2)의 추이는, 제1 중앙 압박 장치(62C1)에서도 실현되어도 된다.

제어 장치(63)는, 제1 조정 공정 S4(1)에서 압박 기구(62)의 각 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제1 압박력의 차가 소정의 범위 내로 되도록 압박 기구(62)를 제어해도 된다. 예를 들어, 상술한 제1 실시 형태의 경우와 마찬가지로, 제1 비율(RA1) 및 제2 비율(RA2)이 소정의 값 이하로 되도록, 제어 장치(63)가 압박 기구(62)를 제어해도 된다.

마스크 장치(15)로부터 마스크(50)를 분리하는 분해 방법이 실시되어도 된다. 도 44 및 도 48 내지 도 49를 참조하여, 마스크 장치(15)의 분해 방법을 구체적으로 설명한다.

도 44에 도시하는 바와 같이, 프레임(40)에 N매의 마스크(50)가 고정되어 있는 상태에서, 변위 측정 기구(61)를 사용해서 제1변(41) 및 제2변(42)의 최종 변형량을 측정한다. 계속해서, N매의 마스크(50)를 프레임(40)으로부터 분리하는 마스크 분리 공정 RS3을 실시한다. 본 실시 형태에서는, 제2 방향(D2)에서의 프레임(40)의 중심으로부터 먼 순으로 마스크(50)를 프레임(40)으로부터 분리하는 예를 설명한다. 즉, 본 실시 형태에서는, 제1 마스크 그룹(50A)의 마스크(50) 및 제2 마스크 그룹(50B)의 마스크(50)가, 중앙 마스크 그룹(50C)의 마스크(50)보다도 먼저 프레임(40)으로부터 분리된다. 제2 방향(D2)에서의 프레임(40)의 중심으로부터의 거리가 동일한 경우, 제4변(44)과 제2 중심선(Lc2)의 사이에 위치하는 마스크(50)가, 제3변(43)과 제2 중심선(Lc2)의 사이에 위치하는 마스크(50)보다도 먼저 프레임(40)으로부터 분리된다. 따라서, 제21 마스크(50B1), 제11 마스크(50A1), 제22 마스크(50B2), 제12 마스크(50A2), 제23 마스크(50B3), 제13 마스크(50A3), 제24 마스크(50B4), 제14 마스크(50A4), 중앙 제2 마스크(50C2), 중앙 제1 마스크(50C1)가 이 순으로 프레임(40)으로부터 분리된다.

1매째의 마스크(50)를 프레임(40)으로부터 분리하는 제1 마스크 설치 공정 RS3(1)을 실시한다. 1매째의 마스크(50)는, 제21 마스크(50B1)이다. 제1 마스크 분리 공정 RS3(1)은, 상술한 실시 형태와 마찬가지로, 제1 제거 공정 RS4(1) 및 제1 역조정 공정 RS5(1)를 포함한다.

도 48은, 제1 제거 공정 RS4(1) 및 제1 역조정 공정 RS5(1)를 도시하는 도면이다. 제1 제거 공정 RS4(1)는, 절단 공정 RS41(1)을 포함한다. 절단 공정 RS41(1)은, 도 48에 도시하는 바와 같이, 제21 마스크(50B1)를 절단한다. 제21 마스크(50B1)의 단부(51)가 프레임(40)에 남아도 된다.

압박 공정 RS51(1)은, 도 48에 도시하는 바와 같이, 제21 마스크(50B1)가 제거된 후, 제1변(41) 및 제2변(42)을 압박한다. 제어 장치(63)는, 제1변(41) 및 제2변(42)의 변형량이 최종 변형량으로 되도록 압박 기구(62)를 제어한다.

계속해서, 도 49에 도시하는 바와 같이, 2매째의 마스크(50)를 프레임(40)으로부터 분리하는 제2 마스크 분리 공정 RS3(2)을 실시한다. 2매째의 마스크(50)는, 제11 마스크(50A1)이다. 제2 마스크 분리 공정 RS3(2)은, 제2 제거 공정 RS4(2) 및 제2 역조정 공정 RS5(2)를 포함한다.

계속해서, 제3 마스크 분리 공정 RS3(3) 내지 제10 마스크 분리 공정 RS3(10)을 순서대로 실시한다. 제3 마스크 분리 공정 RS3(3) 내지 제10 마스크 분리 공정 RS3(10)은, 제3 제거 공정 RS4(3) 내지 제10 제거 공정 RS4(10) 및 제3 배치 역조정 공정 RS5(3) 내지 제10 역조정 공정 RS5(10)를 포함한다.

도 50은, 제1 역조정 공정 RS5(1) 내지 제10 역조정 공정 RS5(10)에서 제21 압박 장치(62B1)가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력(RP_B1)의 추이의 일례를 도시하는 도면이다. 제21 압박 장치(62B1)는, 제2 그룹(62B)에 속하는 압박 장치 중, 제4변(44)에 가장 가까운 압박 장치이다. 도 50에 도시하는 바와 같이, 제2 압박력(RP_B1)은, 2회 이상의 역조정 공정 RS5 동안에 증가해도 된다. 도 50에 도시하는 예에서, 제2 압박력(RP_B1)은, 제1 역조정 공정 RS5(1) 내지 제3 역조정 공정 RS5(3) 동안에 증가하고 있다. 제1 압박력(P_B1)이 증가하는 기간은, 중앙 그룹(62C)의 압박 장치의 제1 압박력이 증가하는 기간보다도 먼저 생겨도 된다.

도 50에 도시하는 바와 같이, 제2 압박력(RP_B1)은, 제1 역조정 공정 RS5(1)일 때 제로보다도 커도 된다.

제2 압박력(RP_B1)은, 제Q 역조정 공정 RS5(Q)(Q는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)일 때 최댓값을 나타내도 된다. 도 50에 도시하는 예에서, 제2 압박력(RP_B1)은, 제3 역조정 공정 RS5(3)일 때 최댓값을 나타낸다.

식 Q≤N/2가 성립하고 있어도 된다. 즉, 전반의 역조정 공정 RS5에서 제2 압박력(RP_B1)이 최댓값을 나타내도 된다.

최후의 역조정 공정 RS5일 때, 즉 제N 역조정 공정 RS5(N)일 때, 제21 압박 장치(62B1)는, 제2 압박력(RP(N)_B1)을 제1변(41)에 가한다.

제2 압박력(RP(N)_B1)에 대한 제2 압박력(RP(Q)_B1)의 비율은, 예를 들어 1.05 이상이어도 되고, 1.10 이상이어도 되고, 1.15 이상이어도 된다. 제2 압박력(RP(N)_B1)에 대한 제2 압박력(RP(Q)_B1)의 비율은, 예를 들어 1.20 이하이어도 되고, 1.30 이하이어도 되고, 1.50 이하이어도 된다. 제2 압박력(RP(Q)_B1)은, 제Q 역조정 공정 RS5(Q)에서 제21 압박 장치(62B1)가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력이다. 제2 압박력(RP(N)_B1)에 대한 제2 압박력(RP(Q)_B1)의 비율의 수치 범위로서는, 상술한 「제1 압박력(P(1)_B1)에 대한 제1 압박력(P(U)_B1)의 비율」의 수치 범위를 채용할 수 있다.

도 51은, 제1 역조정 공정 RS5(1) 내지 제10 역조정 공정 RS5(10)에서 제22 압박 장치(62B2)가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력(RP_B2)의 추이의 일례를 도시하는 도면이다. 도 51에 도시하는 바와 같이, 제2 압박력(RP_B2)은, 2회 이상의 역조정 공정 RS5 동안에 증가해도 된다. 도 51에 도시하는 예에서, 제2 압박력(RP_B2)은, 제2 역조정 공정 RS5(2) 내지 제7 역조정 공정 RS5(5) 동안에 증가하고 있다.

도 51에 도시하는 바와 같이, 제2 압박력(RP_B2)은, 2회째 이후의 역조정 공정 RS5부터 제로보다도 커져도 된다. 도 51에 도시하는 예에서는, 제2 조정 공정 RS5(2)에서 제2 압박력(RP_B2)이 제로보다도 커진다. 제2 압박력(RP_B2)은, 제2 압박력(RP_B1)이 제로보다도 커진 후에, 제로보다도 커져도 된다. 제2 압박력(RP_B2)은, 후술하는 제2 압박력(RP_C2)이 제로보다도 커지기 전에, 제로보다도 커져도 된다.

제2 압박력(RP_B2)은, 제N 역조정 공정 RS5(N) 이외일 때 최댓값을 나타내도 된다. 도 51에 도시하는 예에서, 제2 압박력(RP_B2)은, 제9 역조정 공정 RS5(9)일 때 최댓값을 나타낸다. 즉, 제2 압박력(RP_B2)은, 제(N-1) 역조정 공정 RS5(N-1)일 때 최댓값을 나타낸다. 제9 역조정 공정 RS5(9)에서, 제22 압박 장치(62B2)는 제2 압박력(P(9)_B2)을 제1변(41)에 가한다. 도시는 하지 않지만, 제2 압박력(P_B2)은, 제(N-2) 역조정 공정 RS5(N-2) 또는 제(N-3) 역조정 공정 RS5(N-3)일 때 최댓값을 나타내도 된다.

제2 압박력(P(N)_B2)에 대한, 제2 압박력(P_B2)의 최댓값의 비율의 범위로서는, 상술한 「제1 압박력(P(1)_B1)에 대한 제1 압박력(P(U)_B1)의 비율」의 수치 범위를 채용할 수 있다.

도 52는, 제1 역조정 공정 RS5(1) 내지 제10 역조정 공정 RS5(10)에서 제2 중앙 압박 장치(62C2)가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력(RP_C2)의 추이의 일례를 도시하는 도면이다. 도 52에 도시하는 바와 같이, 제2 압박력(RP_C2)은, 2회 이상의 역조정 공정 RS5 동안에 증가해도 된다. 도 52에 도시하는 예에서, 제2 압박력(RP_C2)은, 제6 역조정 공정 RS5(6) 내지 제10 조정 공정 RS5(10) 동안에 증가하고 있다.

도 50에 도시하는 제2 압박력(RP_B1)의 추이는, 제11 압박 장치(62A1)에서도 실현되어도 된다. 도 51에 도시하는 제2 압박력(RP_B2)의 추이는, 제12 압박 장치(62A2)에서도 실현되어도 된다. 도 52에 도시하는 제2 압박력(RP_C2)의 추이는, 제1 중앙 압박 장치(62C1)에서도 실현되어도 된다.

제어 장치(63)는, 제N 역조정 공정 RS5(N)에서 압박 기구(62)의 각 압박 장치가 제1변(41)에 가하는 제2 압박력의 차가 소정의 범위 내로 되도록 압박 기구(62)를 제어해도 된다. 예를 들어, 상술한 제1 실시 형태의 경우와 마찬가지로, 제3 비율(RA3) 및 제4 비율(RA4)이 소정의 값 이하로 되도록, 제어 장치(63)가 압박 기구(62)를 제어해도 된다.

[실시예]

이어서, 본 개시의 실시 형태를 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 개시의 실시 형태는 그 요지를 초과하지 않는 한, 이하의 실시예의 기재에 한정되는 것은 아니다.

(예 1)

제조 장치(60)를 사용해서 마스크 장치(15)를 제조했다. 마스크 장치(15) 및 제조 장치(60)의 주요한 구성은 하기와 같다.

·프레임(40)의 치수(G11): 1493.2mm

·프레임(40)의 치수(G21): 2491.9mm

·마스크(50)의 매수(N): 9

·제1변(41)을 압박하는 압박 장치의 수: 5

·제2 방향(D2)에 있어서 인접하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격: 415mm

·제1변(41)을 측정하는 변위계의 수: 7

·변위계의 타입: 키엔스제 접촉식 디지털 센서 GT2-A12K

·제2 방향(D2)에 있어서 인접하는 2개의 변위계의 사이의 간격: 415mm

예 1에서는, 제1 실시 형태의 경우와 마찬가지로, 제2 방향(D2)에서의 프레임(40)의 중심으로부터 먼 순으로 마스크(50)를 프레임(40)에 설치했다. 도 37은, 제1 조정 공정 S4(1) 내지 제9 조정 공정 S4(9)에서 압박 기구(62)의 각 압박 장치가 제1변(41)에 가한 제1 압박력의 추이를 도시하는 도면이다. k=1은, 제1 조정 공정 S4(1)를 의미한다. k=9는, 제9 조정 공정 S4(9)를 의미한다. P_A1은, 제11 압박 장치(62A1)가 제1변(41)에 가한 제1 압박력이다. P_A2는, 제12 압박 장치(62A2)가 제1변(41)에 가한 제1 압박력이다. P_B1은, 제21 압박 장치(62B1)가 제1변(41)에 가한 제1 압박력이다. P_B2는, 제22 압박 장치(62B2)가 제1변(41)에 가한 제1 압박력이다. P_C1은, 제1 중앙 압박 장치(62C1)가 제1변(41)에 가한 제1 압박력이다.

도 37에 도시하는 바와 같이, 제1 중앙 압박 장치(62C1)의 제1 압박력(P_C1)은, 제6 조정 공정 S4(6)일 때 최댓값을 나타냈다. 제1 조정 공정 S4(1)의 제1 압박력(P_C1)에 대한 제6 조정 공정 S4(6)의 제1 압박력(P_C1)의 비율은, 1.17이었다.

제k 고정 공정(k) 후에 제1 중앙 변위계(61C1)를 사용해서 제1변(41)의 변형량(d(k))을 측정했다. 변형량(d(k))과 목표 변형량의 차의 절댓값을 도 39에 나타낸다.

(예 2)

·프레임(40)의 치수(G11): 1493.2mm

·프레임(40)의 치수(G21): 2491.9mm

·마스크(50)의 매수(N): 9

·제1변(41)을 압박하는 압박 장치의 수: 3

·제2 방향(D2)에 있어서 인접하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격: 695mm

·제1변(41)을 측정하는 변위계의 수: 5

·변위계의 타입: 키엔스제 접촉식 디지털 센서 GT2-A12K

·제2 방향(D2)에 있어서 인접하는 2개의 변위계의 사이의 간격: 695mm

예 2에서도, 제2 방향(D2)에서의 프레임(40)의 중심으로부터 먼 순으로 마스크(50)를 프레임(40)에 설치했다. 도 38은, 제1 조정 공정 S4(1) 내지 제9 조정 공정 S4(9)에서 압박 기구(62)의 각 압박 장치가 제1변(41)에 가한 제1 압박력의 추이를 도시하는 도면이다. P_A1은, 제11 압박 장치(62A1)가 제1변(41)에 가한 제1 압박력이다. P_B1은, 제21 압박 장치(62B1)가 제1변(41)에 가한 제1 압박력이다. P_C1은, 제1 중앙 압박 장치(62C1)가 제1변(41)에 가한 제1 압박력이다.

(예 3)

·프레임(40)의 치수(G11): 1105mm

·프레임(40)의 치수(G21): 1701mm

·마스크(50)의 매수(N): 6

·제1변(41)을 압박하는 압박 장치의 수: 3

·제2 방향(D2)에 있어서 인접하는 2개의 압박 장치의 사이의 간격: 475mm

·제1변(41)을 측정하는 변위계의 수: 5

·변위계의 타입: 키엔스제 접촉식 디지털 센서 GT2-A12K

·제2 방향(D2)에 있어서 인접하는 2개의 변위계의 사이의 간격: 475mm

예 3에서도, 제2 방향(D2)에서의 프레임(40)의 중심으로부터 먼 순으로 마스크(50)를 프레임(40)에 설치했다. 제k 고정 공정(k) 후에 제1 중앙 변위계(61C1)를 사용해서 제1변(41)의 변형량(d(k))을 측정했다. 변형량(d(k))과 목표 변형량의 차의 절댓값을 도 39에 나타낸다.

(예 4)

·프레임(40)의 치수(G11): 1493.2mm

·프레임(40)의 치수(G21): 2491.9mm

·마스크(50)의 매수(N): 8

·제1변(41)을 압박하는 압박 장치의 수: 5

·제1변(41)을 측정하는 변위계의 수: 7

·변위계의 타입: 키엔스제 접촉식 디지털 센서 GT2-A12K

예 4에서도, 예 1의 경우와 마찬가지로, 제2 방향(D2)에서의 프레임(40)의 중심으로부터 먼 순으로 마스크(50)를 프레임(40)에 설치했다. 도 53은, 제1 조정 공정 S4(1) 내지 제8 조정 공정 S4(8)에서 압박 기구(62)의 각 압박 장치가 제1변(41)에 가한 제1 압박력의 추이를 도시하는 도면이다.

도 53에 도시하는 바와 같이, 제1 중앙 압박 장치(62C1)의 제1 압박력(P_C1)은, 제6 조정 공정 S4(6)일 때 최댓값을 나타냈다. 제1 조정 공정 S4(1)의 제1 압박력(P_C1)에 대한 제6 조정 공정 S4(6)의 제1 압박력(P_C1)의 비율은, 1.17이었다.

제k 고정 공정(k) 후에 제1 중앙 변위계(61C1)를 사용해서 제1변(41)의 변형량(d(k))을 측정했다. 변형량(d(k))과 목표 변형량의 차의 절댓값을 도 55에 나타낸다.

(예 5)

제조 장치(60)를 사용해서 마스크 장치(15)를 제조했다. 마스크 장치(15) 및 제조 장치(60)의 주요한 구성은, 예 4의 경우와 동일하다.

예 5에서는, 제5 실시 형태의 경우와 마찬가지로, 제2 방향(D2)에서의 프레임(40)의 중심으로부터 가까운 순으로 마스크(50)를 프레임(40)에 설치했다. 도 54는, 제1 조정 공정 S4(1) 내지 제8 조정 공정 S4(8)에서 압박 기구(62)의 각 압박 장치가 제1변(41)에 가한 제1 압박력의 추이를 도시하는 도면이다.

도 54에 도시하는 바와 같이, 제21 압박 장치(62B1)의 제1 압박력(P_B1)은, 제6 조정 공정 S4(6)일 때 최댓값을 나타냈다. 제1 조정 공정 S4(1)의 제1 압박력(P_B1)에 대한 제6 조정 공정 S4(6)의 제1 압박력(P_B1)의 비율은, 1.23이었다.

Claims

마스크 장치의 제조 장치이며,
상기 마스크 장치는, 개구를 사이에 두고 제1 방향에 있어서 대향하는 제1변 및 제2변과, 상기 개구를 사이에 두고 상기 제1 방향에 교차하는 제2 방향에 있어서 대향하는 제3변 및 제4변을 포함하는 프레임과, 제1변 및 제2변에 고정된 단부를 포함하는 마스크를 구비하고,
상기 제조 장치는,
상기 개구를 향하는 방향에 있어서 상기 제1변 및 상기 제2변을 압박하는 압박 기구와,
상기 제1 방향에서의 상기 제1변 및 상기 제2변의 변형량을 측정하는 변위 측정 기구와,
상기 마스크를 상기 제1변 및 상기 제2변에 고정하는 고정 장치를 구비하고,
상기 압박 기구는, 상기 제2 방향을 따라 500mm 이하의 간격을 두고 배열되어, 상기 제1변을 압박하는 5개 이상의 압박 장치와, 상기 제2 방향을 따라 500mm 이하의 간격을 두고 배열되어, 상기 제2변을 압박하는 5개 이상의 압박 장치를 포함하는, 제조 장치.
제1항에 있어서, 상기 변위 측정 기구는, 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 적어도 하나의 변위계를 포함하고,
상기 변위계는, 상기 제1변에 접촉하는 센서 헤드를 포함하는, 제조 장치.
제2항에 있어서, 상기 변위계는, 상기 제2 방향에 있어서 상기 압박 장치로부터 100mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는, 제조 장치.
제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 변위 측정 기구는, 상기 제2 방향에 있어서 상기 압박 장치로부터 100mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 5개 이상의 상기 변위계와, 상기 제2 방향에 있어서 상기 제3변의 외측면으로부터 200mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 제1 보조 변위계와, 상기 제2 방향에 있어서 상기 제4변의 외측면으로부터 200mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 제2 보조 변위계를 포함하는, 제조 장치.
제4항에 있어서, 상기 제1 보조 변위계와 상기 제2 보조 변위계의 사이의, 상기 제2 방향에서의 거리가, 1300mm 이상인, 제조 장치.
제1항에 있어서, 상기 제1변을 압박하는 상기 압박 장치와, 상기 제2변을 압박하는 상기 압박 장치의 사이의, 상기 제1 방향에서의 거리가, 1300mm 이상인, 제조 장치.
제1항에 있어서, 상기 마스크 장치는, 제2 방향을 따라 배열되는 N매(N은 2 이상의 정수)의 상기 마스크를 구비하고,
상기 제조 장치는, 상기 압박 기구를 제어하는 제어 장치를 구비하고,
상기 압박 기구는, 각 마스크가 상기 제1변에 고정될 때의 상기 변형량과 목표 변형량의 차가 제1 역치 이하로 되도록, 상기 제1변 및 상기 제2변을 압박하는, 제조 장치.
제7항에 있어서, 상기 고정 장치는, 상기 제2 방향에서의 상기 프레임의 중심으로부터 먼 순으로 상기 마스크를 상기 제1변 및 상기 제2변에 고정하고,
상기 제1변을 압박하는 상기 압박 기구는, 1개 또는 2개의 상기 압박 장치를 포함하는 중앙 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제3변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제1 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제4변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제2 그룹을 구비하고,
상기 중앙 그룹의 상기 압박 장치는, 1매째의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(1)을 가하고,
상기 중앙 그룹의 상기 압박 장치는, U매째(U는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(U)을 가하고,
상기 제1 압박력(1)에 대한 상기 제1 압박력(U)의 비율이 1.05 이상인, 제조 장치.
제7항에 있어서, 상기 고정 장치는, 상기 제2 방향에서의 상기 프레임의 중심으로부터 가까운 순으로 상기 마스크를 상기 제1변 및 상기 제2변에 고정하고,
상기 제1변을 압박하는 상기 압박 기구는, 1개 또는 2개의 상기 압박 장치를 포함하는 중앙 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제3변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제1 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제4변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제2 그룹을 구비하고,
상기 제2 그룹에 속하고, 상기 제4변에 가장 가까운 상기 압박 장치는, 1매째의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(1)을 가하고,
상기 제2 그룹에 속하고, 상기 제4변에 가장 가까운 상기 압박 장치는, U매째(U는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(U)을 가하고,
상기 제1 압박력(1)에 대한 상기 제1 압박력(U)의 비율이 1.05 이상인, 제조 장치.
제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 제어 장치는, 하기의 식이 성립하도록 상기 압박 기구를 제어하는, 제조 장치.
U≥N/2
컴퓨터를 제7항에 기재된 상기 제조 장치의 상기 제어 장치로서 기능시키기 위한 프로그램이 기록된, 컴퓨터가 판독 가능한 비일과성 기록 매체.
마스크 장치의 제조 방법이며,
개구를 사이에 두고 제1 방향에 있어서 대향하는 제1변 및 제2변과, 상기 개구를 사이에 두고 상기 제1 방향에 교차하는 제2 방향에 있어서 대향하는 제3변 및 제4변을 포함하는 프레임을 준비하는 공정과,
상기 개구를 향하는 방향에 있어서 압박 기구가 상기 제1변 및 상기 제2변에 가하는 제1 압박력을 조정하는 조정 공정과,
마스크의 단부를 제1변 및 제2변에 고정하는 고정 공정을 구비하고,
상기 압박 기구는, 상기 제2 방향을 따라 500mm 이하의 간격을 두고 배열되어, 상기 제1변을 압박하는 5개 이상의 압박 장치와, 상기 제2 방향을 따라 500mm 이하의 간격을 두고 배열되어, 상기 제2변을 압박하는 5개 이상의 압박 장치를 포함하는, 제조 방법.
제12항에 있어서, 상기 조정 공정은, 상기 제1 방향에서의 상기 제1변 및 상기 제2변의 변형량을 측정하는 변위 측정 기구로부터의 정보에 기초하여 상기 제1 압박력을 조정하고,
상기 변위 측정 기구는, 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 적어도 하나의 변위계를 포함하고,
상기 변위계는, 상기 제1변에 접촉하는 센서 헤드를 포함하는, 제조 방법.
제13항에 있어서, 상기 변위계는, 상기 제2 방향에 있어서 상기 압박 장치로부터 100mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는, 제조 방법.
제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 변위 측정 기구는, 상기 제2 방향에 있어서 상기 압박 장치로부터 100mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 5개 이상의 상기 변위계와, 상기 제2 방향에 있어서 상기 제3변의 외측면으로부터 200mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 제1 보조 변위계와, 상기 제2 방향에 있어서 상기 제4변의 외측면으로부터 200mm 이하의 위치에서 상기 제1변의 상기 변형량을 측정하는 제2 보조 변위계를 포함하는, 제조 방법.
제12항에 있어서, 상기 마스크 장치는, 제2 방향을 따라 배열되는 N매(N은 2 이상의 정수)의 상기 마스크를 구비하고,
상기 조정 공정은, 각 마스크가 상기 제1변에 고정될 때의 상기 제1변의 변형량과 목표 변형량의 차가 제1 역치 이하로 되도록 상기 제1 압박력을 조정하는, 제조 방법.
제16항에 있어서, 상기 고정 공정은, 상기 제2 방향에서의 상기 프레임의 중심으로부터 먼 순으로 상기 마스크를 상기 제1변 및 상기 제2변에 고정하고,
상기 제1변을 압박하는 상기 압박 기구는, 1개 또는 2개의 상기 압박 장치를 포함하는 중앙 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제3변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제1 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제4변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제2 그룹을 구비하고,
상기 중앙 그룹의 상기 압박 장치는, 1매째의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(1)을 가하고,
상기 중앙 그룹의 상기 압박 장치는, U매째(U는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(U)을 가하고,
상기 제1 압박력(1)에 대한 상기 제1 압박력(U)의 비율이 1.05 이상인, 제조 방법.
제16항에 있어서, 상기 고정 공정은, 상기 제2 방향에서의 상기 프레임의 중심으로부터 가까운 순으로 상기 마스크를 상기 제1변 및 상기 제2변에 고정하고,
상기 제1변을 압박하는 상기 압박 기구는, 1개 또는 2개의 상기 압박 장치를 포함하는 중앙 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제3변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제1 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제4변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제2 그룹을 구비하고,
상기 제2 그룹에 속하고, 상기 제4변에 가장 가까운 상기 압박 장치는, 1매째의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(1)을 가하고,
상기 제2 그룹에 속하고, 상기 제4변에 가장 가까운 상기 압박 장치는, U매째(U는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)의 상기 마스크를 상기 프레임에 고정할 때 상기 제1변에 제1 압박력(U)을 가하고,
상기 제1 압박력(1)에 대한 상기 제1 압박력(U)의 비율이 1.05 이상인, 제조 방법.
제17항 또는 제18항에 있어서, 상기 조정 공정은, 하기의 식이 성립하도록 상기 제1 압박력을 조정하는, 제조 방법.
U≥N/2
마스크 장치이며,
개구를 사이에 두고 제1 방향에 있어서 대향하는 제1변 및 제2변과, 상기 개구를 사이에 두고 상기 제1 방향에 교차하는 제2 방향에 있어서 대향하는 제3변 및 제4변을 포함하는 프레임과,
제1변 및 제2변에 고정된 단부를 포함하고, 제2 방향을 따라 배열되는 N매(N은 2 이상의 정수)의 마스크를 구비하고,
상기 제1변 및 상기 제2변은, 상기 개구를 향해서 휘도록, 상기 제2 방향에 있어서 최종 변형량으로 변형되어 있고,
상기 제2 방향에서의 상기 프레임의 중심으로부터 가까운 순으로 상기 마스크를 상기 프레임으로부터 분리하는 제거 공정과, 상기 제거 공정 후, 상기 제1변 및 상기 제2변이 상기 제2 방향에 있어서 최종 변형량으로 변형되도록, 상기 개구를 향하는 방향에 있어서 압박 기구가 상기 제1변 및 상기 제2변에 가하는 제2 압박력을 조정하는 역조정 공정을 교대로 실시한 경우, 제2 압박력(N)에 대한 제2 압박력(Q)의 비율이 1.05 이상이며,
상기 제1변을 압박하는 상기 압박 기구는, 상기 제1변을 압박하는 1개 또는 2개의 압박 장치를 포함하는 중앙 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제3변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제1 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제4변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제2 그룹을 구비하고,
상기 제2 압박력(Q)은, 상기 중앙 그룹의 상기 압박 장치가, Q매째(Q는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)의 상기 마스크가 상기 프레임으로부터 분리된 후에 상기 제1변에 가하는 압박력이며,
상기 제2 압박력(N)은, 상기 중앙 그룹의 상기 압박 장치가, N매째의 상기 마스크가 상기 프레임으로부터 분리된 후에 상기 제1변에 가하는 압박력인, 마스크 장치.
마스크 장치이며,
개구를 사이에 두고 제1 방향에 있어서 대향하는 제1변 및 제2변과, 상기 개구를 사이에 두고 상기 제1 방향에 교차하는 제2 방향에 있어서 대향하는 제3변 및 제4변을 포함하는 프레임과,
제1변 및 제2변에 고정된 단부를 포함하고, 제2 방향을 따라 배열되는 N매(N은 2 이상의 정수)의 마스크를 구비하고,
상기 제1변 및 상기 제2변은, 상기 개구를 향해서 휘도록, 상기 제2 방향에 있어서 최종 변형량으로 변형되어 있고,
상기 제2 방향에서의 상기 프레임의 중심으로부터 먼 순으로 상기 마스크를 상기 프레임으로부터 분리하는 제거 공정과, 상기 제거 공정 후, 상기 제1변 및 상기 제2변이 상기 제2 방향에 있어서 최종 변형량으로 변형되도록, 상기 개구를 향하는 방향에 있어서 압박 기구가 상기 제1변 및 상기 제2변에 가하는 제2 압박력을 조정하는 역조정 공정을 교대로 실시한 경우, 제2 압박력(N)에 대한 제2 압박력(Q)의 비율이 1.05 이상이며,
상기 제1변을 압박하는 상기 압박 기구는, 상기 제1변을 압박하는 1개 또는 2개의 압박 장치를 포함하는 중앙 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제3변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제1 그룹과, 상기 제2 방향에 있어서 상기 중앙 그룹과 상기 제4변의 사이에 위치하는 2개 이상의 상기 압박 장치를 포함하는 제2 그룹을 구비하고,
상기 제2 압박력(Q)은, 상기 제2 그룹에 속하고, 상기 제4변에 가장 가까운 상기 압박 장치가, Q매째(Q는 1보다도 크고 N보다도 작은 정수)의 상기 마스크가 상기 프레임으로부터 분리된 후에 상기 제1변에 가하는 압박력이며,
상기 제2 압박력(N)은, 상기 제2 그룹에 속하고, 상기 제4변에 가장 가까운 상기 압박 장치가, N매째의 상기 마스크가 상기 프레임으로부터 분리된 후에 상기 제1변에 가하는 압박력인, 마스크 장치.
제20항 또는 제21항에 있어서, 하기의 식이 성립하는, 마스크 장치.
Q≤N/2