JP2019044257A - 成膜マスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1および図2を参照して、本発明の実施形態による製造方法で好適に製造される成膜マスク100の構造を説明する。図1および図2は、それぞれ成膜マスク100を模式的に示す断面図および平面図である。図1は、図2中の1A−1A線に沿った断面を示している。なお、図1および図2は、成膜マスク100の一例を模式的に示しており、各構成要素のサイズ、個数、配置関係、長さの比率などが図示する例に限定されないことはいうまでもない。後述する他の図面でも同様である。
図3(a)〜(f)を参照しながら、成膜マスク100の製造方法の例を説明する。図3(a)〜(f)は、成膜マスク100の製造工程を示す工程断面図である。
図1および図2に示した成膜マスク100では、磁性金属層20の各貫通孔21内に、樹脂層10の複数の開口部11が1列に配置されているが、磁性金属層20の貫通孔21の構成はこれに限定されない。例えば、各貫通孔21内に、樹脂層10の複数の開口部11をマトリクス状に配列してもよい。また、複数の貫通孔21は、列方向に沿って平行に配列されてもよいし、マトリクス状に配列されてもよい。
以下に、図4〜図12を参照して、本発明の実施形態による成膜マスクの製造方法において、アクティブ領域形成部に開口部を形成する順序を説明する。本発明の実施形態による製造方法において、開口部を形成する順序は、架張されたマスク基材(樹脂層および/また磁性金属層)に開口部を形成することによるマスク基材に生成される内部応力(張力)の不均一な分布の程度を小さくすることによって、内部応力の不均一な分布に起因する開口部の変形を抑制する。
11 開口部
20 磁性金属層
20a マスク部
20a1 中実部
20a2 非中実部
20b 周辺部
21 貫通孔(スリット)
100 成膜マスク
AA :アクティブ領域形成部
L1、L2 :レーザ光
R1 :第1領域
R2 :第2領域
R3 :第3領域
R4 :第4領域
R5 :第5領域
R6 :第6領域
R7 :第7領域
RS1 :第1間隙領域
RS2 :第2間隙領域
RS3 :第3間隙領域
RS4 :第4間隙領域
Claims (18)
- xy面を規定するように固定された、矩形のマスク基材と、前記マスク基材に設けられた、m行n列に配列された複数の開口部をそれぞれが有するp行q列に配列された複数のアクティブ領域形成部とを有する成膜マスクを製造する方法であって、
xy面を規定するように固定された前記マスク基材を用意する工程と、
前記マスク基材に、前記複数のアクティブ領域形成部を形成する、開口部形成工程と
を包含し、
前記マスク基材は、樹脂層を含み、前記開口部形成工程は、前記樹脂層にレーザ光を照射することによって前記複数の開口部を形成する工程を包含し、
前記開口部形成工程は、少なくとも(n/2)番目の列または{(n+1)/2}番目の列を含む、a本の連続した列の開口部を含む第1領域内の開口部を形成する工程Aと、
sa本の連続した列を含む第1間隙領域を介して、前記第1領域と−x方向に隣接し、b本の連続した列の開口部を含む第2領域内の開口部を形成する工程Bと、
sb本の連続した列を含む第2間隙領域を介して、前記第1領域とx方向に隣接し、c本の連続した列の開口部を含む第3領域内の開口部を形成する工程Cとを含み、
前記工程Aの後に、前記工程Bおよび前記工程Cを行う、製造方法。 - 前記工程A、前記工程Bおよび前記工程Cの後で、前記第1間隙領域内の開口部を形成する工程Dまたは前記第2間隙領域内の開口部を形成する工程Eを行う、請求項1に記載の製造方法。
- 前記第2領域は前記第1領域の−x方向に位置する全領域の中央の列を含み、前記第3領域は前記第1領域のx方向に位置する全領域の中央の列を含む、請求項2に記載の製造方法。
- 前記開口部形成工程は、
d本の連続した列の開口部を含み、前記第2領域の−x方向に位置する第4領域内の開口部を形成する工程Fと、
e本の連続した列の開口部を含み、前記第3領域のx方向に位置する第5領域内の開口部を形成する工程Gとをさらに含み、
前記工程A、前記工程Bおよび前記工程Cの後で、前記工程Fまたは前記工程Gを行う、請求項3に記載の製造方法。 - 前記工程Fおよび前記工程Gは、前記工程Dおよび前記工程Eの前に行う、請求項4に記載の製造方法。
- 前記第4領域は、前記第2領域と直接隣接しない領域であり、前記第5領域は、前記第3領域と直接隣接しない領域である、請求項4または5に記載の製造方法。
- 前記工程Dは、前記第1領域と前記第2領域の間に位置する全領域の中央の列を含む、sa本よりも少ない連続した列の開口部を形成する工程であり、前記工程Eは、前記第1領域と前記第3領域の間に位置する全領域の中央の列を含む、sb本よりも少ない連続した列の開口部を形成する工程である、請求項2から6のいずれかに記載の製造方法。
- 前記第4領域は、前記第2領域の−x方向に位置する全領域の中央の列を含む、d本よりも少ない連続した列の開口部を含み、
前記第5領域は、前記第3領域のx方向に位置する全領域の中央の列を含む、e本よりも少ない連続した列の開口部を含む、請求項2から7のいずれかに記載の製造方法。 - 前記開口部形成工程は、
sc本の連続した列を含む第3間隙領域を介して、前記第2領域と−x方向に隣接し、d本の連続した列の開口部を含む第4領域内の開口部を形成する工程Fと、
sd本の連続した列を含む第4間隙領域を介して、前記第3領域とx方向に隣接し、e本の連続した列の開口部を含む第5領域内の開口部を形成する工程Gとをさらに含み、
前記工程A、前記工程Bおよび前記工程Cの後で、前記工程Fまたは前記工程Gを行う、請求項1または2に記載の製造方法。 - 前記工程Fおよび前記工程Gは、前記工程Dおよび前記工程Eの前に行う、請求項2を引用する請求項9に記載の製造方法。
- 前記開口部形成工程は、
f本の連続した列の開口部を含み、前記第4領域の−x方向に位置する第6領域内の開口部を形成する工程Hおよび/または、g本の連続した列の開口部を含み、前記第5領域のx方向に位置する第7領域内の開口部を形成する工程Iを行う、請求項9または10に記載の製造方法。 - 前記a本、前記b本、前記c本、前記sa本および前記sb本は、それぞれ独立に、100本以上300本以下である、請求項1から11のいずれかに記載の製造方法。
- 任意の列の全てのアクティブ領域形成部にわたって、前記工程Aの後で、前記工程Bおよび前記工程Cを行う、請求項1から12のいずれかに記載の製造方法。
- 前記開口部形成工程は、(q/2)番目の列または{(q+1)/2}番目の列に属するアクティブ領域形成部から行われる、請求項1から13のいずれかに記載の製造方法。
- 前記開口部形成工程は、(p/2)番目の行または{(p+1)/2}番目の行に属するアクティブ領域形成部から行われる、請求項1から14のいずれかに記載の製造方法。
- xy面を規定するように固定された、矩形のマスク基材と、前記マスク基材に設けられた、m行n列に配列された複数の開口部をそれぞれが有するp行q列に配列された複数のアクティブ領域形成部とを有する成膜マスクを製造する方法であって、
xy面を規定するように固定された前記マスク基材を用意する工程と、
前記マスク基材に、前記複数のアクティブ領域形成部を形成する、開口部形成工程と
を包含し、
前記マスク基材は、樹脂層を含み、前記開口部形成工程は、前記樹脂層にレーザ光を照射することによって前記複数の開口部を形成する工程を包含し、
前記開口部形成工程は、(p/2)番目の行または{(p+1)/2}番目の行に属するアクティブ領域形成部から行われる、製造方法。 - 前記開口部形成工程は、(q/2)番目の列または{(q+1)/2}番目の列に属するアクティブ領域形成部から行われる、請求項16に記載の製造方法。
- 前記マスク基材は、前記樹脂層に形成される前記複数の開口部を露出する少なくとも1つの貫通孔を有する磁性金属層を含む、請求項1から17のいずれかに記載の製造方法。
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JP2018027642A JP6560385B2 (ja) | 2018-02-20 | 2018-02-20 | 成膜マスクの製造方法 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112501425A (zh) * | 2020-11-27 | 2021-03-16 | 山东大学 | 一种具有反高斯分布冲击波强度的激光表面强化方法 |
-
2018
- 2018-02-20 JP JP2018027642A patent/JP6560385B2/ja not_active Expired - Fee Related
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CN112501425A (zh) * | 2020-11-27 | 2021-03-16 | 山东大学 | 一种具有反高斯分布冲击波强度的激光表面强化方法 |
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