JP2022162359A - Wiring board and method for manufacturing wiring board - Google Patents

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Abstract

To provide a wiring board and a method for manufacturing the wiring board for suppressing occurrence of damage to wiring even when a base material is greatly locally deformed.SOLUTION: A wiring board with an electronic component includes, in plan view, at least one first rigid member 30 overlapping a base material and an electronic component and having higher rigidity than the base material, and a conductive layer including wiring 51. The first rigid member has an outer edge that includes at least two first corners 32 and a first side 31 that are chamfered. The base material includes a first overlapping region 23 overlapping the first rigid member and a first peripheral region 24 contacting the first overlapping region and not overlapping the first rigid member. The first peripheral region includes a first stable region 241 extending from the central portion of the first side toward the side away from the center of the first rigid member in plan view. The first stable region has a dimension W1 of the following formula in the direction in which the first side extends. W1=-1.1148×R1+0.532×K1. R1 is the first corner chamfer dimension, and K1 is the dimension of the two first corners of the first side and the first side.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本開示の実施形態は、配線基板及びその製造方法に関する。 An embodiment of the present disclosure relates to a wiring board and a manufacturing method thereof.

近年、伸縮性などの変形性を有する電子デバイスの研究がおこなわれている。例えば特許文献1は、基材と、基材に設けられた配線と、を備え、伸縮性を有する配線基板を開示している。特許文献1においては、予め伸長させた状態の基材に回路を設け、回路を形成した後に基材を弛緩させる、という製造方法を採用している。特許文献1に記載の配線基板は、配線基板に搭載される電子部品に重なる補強部材を備えている。 In recent years, research has been conducted on electronic devices having deformability such as stretchability. For example, Patent Literature 1 discloses a flexible wiring board that includes a base material and wiring provided on the base material. Patent Document 1 employs a manufacturing method in which a circuit is formed on a pre-stretched base material, and the base material is relaxed after the circuit is formed. The wiring board described in Patent Document 1 includes a reinforcing member that overlaps an electronic component mounted on the wiring board.

国際公開2019/074115号WO2019/074115

基材に張力を加える時、平面視において補強部材に重なる基材の領域の変形が、補強部材によって抑制される。この場合、補強部材の周囲に位置する基材の領域が局所的に大きく変形することがある。基材が局所的に大きく変形すると、配線に折れなどの破損が生じてしまうことが考えられる。 When tension is applied to the base material, deformation of the area of the base material that overlaps the reinforcing member in plan view is suppressed by the reinforcing member. In this case, the region of the base material located around the reinforcing member may be locally significantly deformed. If the base material is deformed locally to a large extent, it is conceivable that the wiring may be broken or otherwise damaged.

本開示の実施形態は、このような課題を効果的に解決し得る配線基板及び配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 An object of the embodiments of the present disclosure is to provide a wiring board and a wiring board manufacturing method that can effectively solve such problems.

本開示の一実施形態は、
電子部品が搭載される配線基板であって、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
平面視において前記基材及び前記電子部品に重なり、前記基材よりも高い剛性を有する少なくとも1つの第1剛性部材と、
前記基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電層と、を備え、
前記第1剛性部材は、平面視において、前記第1剛性部材の中心から遠ざかる側で面取りされている少なくとも2つの第1コーナーと、2つの前記第1コーナーの間で延びる第1辺と、を含む外縁を備え、
前記基材は、平面視において前記第1剛性部材に重なる第1重なり領域と、前記第1重なり領域に接し、平面視において前記第1剛性部材に重ならない第1周囲領域と、を含み、
前記第1周囲領域は、前記第1辺の中央部から、平面視において前記第1剛性部材の中心から遠ざかる側へ広がる第1安定領域を含み、
前記第1安定領域は、前記第1辺が延びる方向において、下記の式で表される寸法W1を有し、
W1=-1.1148×R1+0.532×K1
R1は、前記第1コーナーの面取り寸法であり、K1は、前記第1辺が延びる方向における2つの前記第1コーナー及び前記第1辺の寸法であり、
前記配線は、前記第1安定領域を通って前記第1重なり領域に至るよう延びる、配線基板である。
One embodiment of the present disclosure provides:
A wiring board on which electronic components are mounted,
a stretchable base material including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface;
at least one first rigid member overlapping the base material and the electronic component in plan view and having higher rigidity than the base material;
a conductive layer including wiring located on the first surface side of the base material,
The first rigid member has, in plan view, at least two first corners that are chamfered on a side away from the center of the first rigid member, and a first side that extends between the two first corners. with an outer rim containing
The base material includes a first overlapping region that overlaps the first rigid member in plan view, and a first surrounding region that is in contact with the first overlapping region and does not overlap the first rigid member in plan view,
The first peripheral region includes a first stable region that spreads from the center of the first side toward the side away from the center of the first rigid member in a plan view,
The first stable region has a dimension W1 represented by the following formula in the direction in which the first side extends,
W1 = -1.1148 x R1 + 0.532 x K1
R1 is the chamfer dimension of the first corner, K1 is the dimensions of the two first corners and the first side in the direction in which the first side extends,
The wiring is a wiring substrate extending through the first stability region to the first overlap region.

本開示の一実施形態による配線基板において、R1/K1が0.020以上0.30以下であってもよい。 In the wiring board according to an embodiment of the present disclosure, R1/K1 may be 0.020 or more and 0.30 or less.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記第1剛性部材の弾性係数は、前記基材の弾性係数の10倍以上であってもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the elastic modulus of the first rigid member may be 10 times or more the elastic modulus of the base material.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記第1剛性部材は、前記基材の前記第2面側に位置していてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the first rigid member may be positioned on the second surface side of the base material.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記第1剛性部材は、前記基材に埋め込まれていてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the first rigid member may be embedded in the base material.

本開示の一実施形態による配線基板は、平面視において前記第1剛性部材に重なり、前記導電層を部分的に覆う第1絶縁層と、平面視において前記導電層に重なり、前記第1絶縁層を貫通する第1孔と、を備えていてもよい。 A wiring board according to an embodiment of the present disclosure includes a first insulating layer that overlaps the first rigid member and partially covers the conductive layer in plan view, and a first insulating layer that overlaps the conductive layer in plan view and includes the first insulating layer. and a first hole penetrating the.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記導電層は、平面視において前記第1孔を囲み、前記配線に接続されているパッドを含んでいてもよい。 In the wiring board according to an embodiment of the present disclosure, the conductive layer may include a pad surrounding the first hole in plan view and connected to the wiring.

本開示の一実施形態による配線基板は、平面視において前記基材に部分的に重なる少なくとも1つの第2剛性部材と、前記第2剛性部材に設けられ、前記配線に電気的に接続される導電体と、前記導電体を介して前記配線に電気的に接続される前記電子部品と、前記基材の前記第1面側に位置し、前記第2剛性部材よりも低い剛性を有し、前記第2剛性部材及び前記電子部品を覆う保護層と、を備えていてもよい。前記第2剛性部材は、平面視において、前記第2剛性部材の中心から遠ざかる側で面取りされている少なくとも2つの第2コーナーと、2つの前記第2コーナーの間で延びる第2辺と、を含む外縁を備えていてもよい。前記保護層は、平面視において前記第2剛性部材に重なる第2重なり領域と、前記第2重なり領域に接し、平面視において前記第2剛性部材に重ならない第2周囲領域と、を含んでいてもよい。前記第2周囲領域は、前記第2辺の中央部から、平面視において前記第2剛性部材の中心から遠ざかる側へ広がる第2安定領域を含んでいてもよい。前記第2安定領域は、前記第2辺が延びる方向において、下記の式で表される寸法W2を有していてもよい。
W2=-1.1148×R2+0.532×K2
R2は、前記第2コーナーの面取り寸法であり、K2は、前記第2辺が延びる方向における2つの前記第2コーナー及び前記第2辺の寸法である。前記配線は、前記第2安定領域を通って前記第2重なり領域に至るよう延びていてもよい。
A wiring board according to an embodiment of the present disclosure includes at least one second rigid member that partially overlaps the base material in a plan view, and a conductive member provided on the second rigid member and electrically connected to the wiring. a body, the electronic component electrically connected to the wiring via the conductor, the electronic component located on the first surface side of the base material, having a rigidity lower than that of the second rigid member, and the A protective layer covering the second rigid member and the electronic component may be provided. The second rigid member has, in plan view, at least two second corners that are chamfered on the side away from the center of the second rigid member, and a second side that extends between the two second corners. It may have an outer edge that includes. The protective layer includes a second overlapping region that overlaps the second rigid member in plan view, and a second surrounding region that is in contact with the second overlapping region and does not overlap the second rigid member in plan view. good too. The second peripheral region may include a second stable region extending from the central portion of the second side toward a side away from the center of the second rigid member in plan view. The second stable region may have a dimension W2 expressed by the following formula in the direction in which the second side extends.
W2 = -1.1148 x R2 + 0.532 x K2
R2 is the chamfer dimension of the second corner, and K2 is the dimension of the two second corners and the second side in the extending direction of the second side. The wiring may extend through the second stability region to the second overlap region.

本開示の一実施形態は、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電層と、
平面視において前記基材に部分的に重なる少なくとも1つの第2剛性部材と、
前記第2剛性部材に設けられ、前記配線に電気的に接続される導電体と、
平面視において前記第2剛性部材に重なり、前記導電体を介して前記配線に電気的に接続される電子部品と、
前記基材の前記第1面側に位置し、前記第2剛性部材よりも低い剛性を有し、前記第2剛性部材及び前記電子部品を覆う保護層と、を備え、
前記第2剛性部材は、平面視において、前記第2剛性部材の中心から遠ざかる側で面取りされている少なくとも2つの第2コーナーと、2つの前記第2コーナーの間で延びる第2辺と、を含む外縁を備え、
前記保護層は、平面視において前記第2剛性部材に重なる第2重なり領域と、前記第2重なり領域に接し、平面視において前記第2剛性部材に重ならない第2周囲領域と、を含み、
前記第2周囲領域は、前記第2辺の中央部から、平面視において前記第2剛性部材の中心から遠ざかる側へ広がる第2安定領域を含み、
前記第2安定領域は、前記第2辺が延びる方向において、下記の式で表される寸法W2を有し、
W2=-1.1148×R2+0.532×K2
R2は、前記第2コーナーの面取り半径であり、K2は、前記第2辺が延びる方向における2つの前記第2コーナー及び前記第2辺の寸法であり、
前記配線は、前記第2安定領域を通って前記第2重なり領域に至るよう延びる、配線基板である。
One embodiment of the present disclosure provides:
a stretchable base material including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface;
a conductive layer including wiring located on the first surface side of the base;
at least one second rigid member that partially overlaps the base material in plan view;
a conductor provided on the second rigid member and electrically connected to the wiring;
an electronic component that overlaps the second rigid member in plan view and is electrically connected to the wiring via the conductor;
a protective layer located on the first surface side of the base material, having a lower rigidity than the second rigid member, and covering the second rigid member and the electronic component;
The second rigid member has, in plan view, at least two second corners that are chamfered on the side away from the center of the second rigid member, and a second side that extends between the two second corners. with an outer rim containing
The protective layer includes a second overlapping region that overlaps the second rigid member in plan view, and a second surrounding region that is in contact with the second overlapping region and does not overlap the second rigid member in plan view,
The second peripheral region includes a second stable region that spreads from the central portion of the second side toward the side away from the center of the second rigid member in a plan view,
The second stable region has a dimension W2 represented by the following formula in the direction in which the second side extends,
W2 = -1.1148 x R2 + 0.532 x K2
R2 is the chamfer radius of the second corner, K2 is the dimension of the two second corners and the second side in the direction in which the second side extends,
The wiring is a wiring substrate extending through the second stability region to the second overlap region.

本開示の一実施形態による配線基板において、R2/K2が0.020以上0.30以下であってもよい。 In the wiring board according to an embodiment of the present disclosure, R2/K2 may be 0.020 or more and 0.30 or less.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記第2剛性部材の弾性係数は、前記保護層の弾性係数の10倍以上であってもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the elastic modulus of the second rigid member may be ten times or more the elastic modulus of the protective layer.

本開示の一実施形態による配線基板は、平面視において前記第2剛性部材に重なり、前記導電層を部分的に覆う第1絶縁層と、平面視において前記導電層に重なり、前記第1絶縁層を貫通する第1孔と、前記第1孔に位置し、前記導電層及び前記導電体に接続される半田と、を備えていてもよい。 A wiring board according to an embodiment of the present disclosure includes a first insulating layer that overlaps the second rigid member in plan view and partially covers the conductive layer, and a first insulating layer that overlaps the conductive layer in plan view and includes the first insulating layer. and solder located in the first hole and connected to the conductive layer and the conductor.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記導電層は、平面視において前記第1孔を囲み、前記配線に接続されているパッドを含んでいてもよい。 In the wiring board according to an embodiment of the present disclosure, the conductive layer may include a pad surrounding the first hole in plan view and connected to the wiring.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記基材は、熱可塑性エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゲル又はシリコンゲルを含んでいてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the base material may contain thermoplastic elastomer, silicone rubber, urethane gel, or silicone gel.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記配線を支持する支持基板を備えていてもよい。 A wiring board according to an embodiment of the present disclosure may include a support substrate that supports the wiring.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記支持基板の弾性係数は、前記基材の弾性係数の10倍以上であってもよい。 In the wiring board according to an embodiment of the present disclosure, the modulus of elasticity of the support substrate may be ten times or more the modulus of elasticity of the base material.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記支持基板は、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂、又はポリエチレンテレフタラートを含んでいてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the support substrate may contain polyethylene naphthalate, polyimide, polycarbonate, acrylic resin, or polyethylene terephthalate.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記基材の前記第1面側に位置し、平面視において少なくとも部分的に前記配線に重なる第2絶縁層を備えていてもよい。 A wiring board according to an embodiment of the present disclosure may include a second insulating layer located on the first surface side of the base material and at least partially overlapping the wiring in plan view.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記制御層は、前記基材よりも大きい弾性係数を有していてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the control layer may have a larger elastic modulus than the base material.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線は、前記配線の長さ方向に並ぶ複数の山部を含んでいてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the wiring may include a plurality of ridges arranged in the length direction of the wiring.

本開示の一実施形態は、電子部品が搭載される配線基板の製造方法であって、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、平面視において前記基材及び前記電子部品に重なり、前記基材よりも高い剛性を有する少なくとも1つの第1剛性部材と、を備える積層体の前記基材に張力を加えて、前記基材を伸長させる伸長工程と、
前記伸長工程によって伸長した状態の前記基材の第1面側に配線を設ける配線形成工程と、
前記基材から張力を取り除く収縮工程と、を備え、
前記第1剛性部材は、平面視において、前記第1剛性部材の中心から遠ざかる側で面取りされている少なくとも2つの第1コーナーと、2つの前記第1コーナーの間で延びる第1辺と、を含む外縁を備え、
前記基材は、平面視において前記第1剛性部材に重なる第1重なり領域と、前記第1重なり領域に接し、平面視において前記第1剛性部材に重ならない第1周囲領域と、を含み、
前記第1周囲領域は、前記第1辺の中央部から、平面視において前記第1剛性部材の中心から遠ざかる側へ広がる第1安定領域を含み、
前記第1安定領域は、前記第1辺が延びる方向において、下記の式で表される寸法W1を有し、
W1=-1.1148×R1+0.532×K1
R1は、前記第1コーナーの面取り寸法であり、K1は、前記第1辺が延びる方向における2つの前記第1コーナー及び前記第1辺の寸法であり、
前記配線は、前記第1安定領域を通って前記第1重なり領域に至るよう延びる、配線基板の製造方法である。
An embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing a wiring board on which electronic components are mounted,
A stretchable substrate including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, overlapping the substrate and the electronic component in plan view, and having higher rigidity than the substrate a stretching step of applying tension to the substrate of a laminate comprising at least one first rigid member to elongate the substrate;
a wiring forming step of providing wiring on the first surface side of the base material stretched by the stretching step;
a shrinking step that removes tension from the substrate;
The first rigid member has, in plan view, at least two first corners that are chamfered on a side away from the center of the first rigid member, and a first side that extends between the two first corners. with an outer rim containing
The base material includes a first overlapping region that overlaps the first rigid member in plan view, and a first surrounding region that is in contact with the first overlapping region and does not overlap the first rigid member in plan view,
The first peripheral region includes a first stable region that spreads from the center of the first side toward the side away from the center of the first rigid member in a plan view,
The first stable region has a dimension W1 represented by the following formula in the direction in which the first side extends,
W1 = -1.1148 x R1 + 0.532 x K1
R1 is the chamfer dimension of the first corner, K1 is the dimensions of the two first corners and the first side in the direction in which the first side extends,
In the method of manufacturing a wiring board, the wiring extends through the first stable region to reach the first overlapping region.

本開示の一実施形態は、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材に張力を加えて、前記基材を伸長させる伸長工程と、
前記伸長工程によって伸長した状態の前記基材の第1面側に配線を設ける配線形成工程と、
前記基材から張力を取り除く収縮工程と、を備え、
前記基材の前記第1面側には、少なくとも1つの第2剛性部材と、第2剛性部材に設けられ、前記配線に電気的に接続される導電体と、平面視において前記第2剛性部材に重なり、前記導電体を介して前記配線に電気的に接続される電子部品と、前記第2剛性部材よりも低い剛性を有し、前記第2剛性部材及び前記電子部品を覆う保護層と、が設けられており、
前記第2剛性部材は、平面視において、前記第2剛性部材の中心から遠ざかる側で面取りされている少なくとも2つの第2コーナーと、2つの前記第2コーナーの間で延びる第2辺と、を含む外縁を備え、
前記保護層は、平面視において前記第2剛性部材に重なる第2重なり領域と、前記第2重なり領域に接し、平面視において前記第2剛性部材に重ならない第2周囲領域と、を含み、
前記第2周囲領域は、前記第2辺の中央部から、平面視において前記第2剛性部材の中心から遠ざかる側へ広がる第2安定領域を含み、
前記第2安定領域は、前記第2辺が延びる方向において、下記の式で表される寸法W2を有し、
W2=-1.1148×R2+0.532×K2
R2は、前記第2コーナーの面取り寸法であり、K2は、前記第2辺が延びる方向における2つの前記第2コーナー及び前記第2辺の寸法であり、
前記配線は、前記第2安定領域を通って前記第2重なり領域に至るよう延びる、配線基板の製造方法である。
One embodiment of the present disclosure provides:
an elongation step of applying tension to a stretchable substrate comprising a first surface and a second surface located opposite to the first surface to elongate the substrate;
a wiring forming step of providing wiring on the first surface side of the base material stretched by the stretching step;
a shrinking step that removes tension from the substrate;
At least one second rigid member, a conductor provided on the second rigid member and electrically connected to the wiring, and the second rigid member in plan view on the first surface side of the base material an electronic component that overlaps with the conductor and is electrically connected to the wiring via the conductor; a protective layer that has lower rigidity than the second rigid member and covers the second rigid member and the electronic component; is provided,
The second rigid member has, in plan view, at least two second corners that are chamfered on the side away from the center of the second rigid member, and a second side that extends between the two second corners. with an outer rim containing
The protective layer includes a second overlapping region that overlaps the second rigid member in plan view, and a second surrounding region that is in contact with the second overlapping region and does not overlap the second rigid member in plan view,
The second peripheral region includes a second stable region that spreads from the central portion of the second side toward the side away from the center of the second rigid member in a plan view,
The second stable region has a dimension W2 represented by the following formula in the direction in which the second side extends,
W2 = -1.1148 x R2 + 0.532 x K2
R2 is the chamfer dimension of the second corner, K2 is the dimension of the two second corners and the second side in the direction in which the second side extends,
In the method of manufacturing a wiring board, the wiring extends through the second stable region to reach the second overlapping region.

本開示の実施形態によれば、配線に折れなどの破損が生じることを抑制できる。 According to the embodiments of the present disclosure, it is possible to suppress the occurrence of damage such as breakage in wiring.

一実施の形態に係る配線基板を示す平面図である。1 is a plan view showing a wiring board according to one embodiment; FIG. 図1の配線基板のA-A線に沿った断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the wiring substrate of FIG. 1 taken along line AA; 第1剛性部材の周囲に位置する配線を拡大して示す平面図。FIG. 4 is an enlarged plan view showing wiring positioned around the first rigid member; 図3から第1絶縁層を取り除いた状態を示す平面図。FIG. 4 is a plan view showing a state in which the first insulating layer is removed from FIG. 3; 第1剛性部材の第1コーナーを拡大して示す平面図。The top view which expands and shows the 1st corner of a 1st rigid member. 配線基板に生じる山部の一例を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of ridges formed on a wiring board; 配線基板に生じる山部のその他の例を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing another example of ridges formed on the wiring board; 配線基板に生じる山部の一例を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing an example of ridges formed on a wiring board; 配線基板に生じる山部のその他の例を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing another example of ridges formed on the wiring board; 配線基板に生じる山部のその他の例を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing another example of ridges formed on the wiring board; 配線基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of a wiring board. 配線基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of a wiring board. 配線基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of a wiring board. 配線基板に電子部品を搭載する方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the method of mounting an electronic component in a wiring board. 配線基板に電子部品を搭載する方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the method of mounting an electronic component in a wiring board. 伸長した状態の配線基板を拡大して示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing an enlarged wiring board in an extended state; 第1の変形例に係る配線基板を示す平面図である。It is a top view which shows the wiring board which concerns on a 1st modification. 図14の配線基板のB-B線に沿った断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view of the wiring substrate of FIG. 14 taken along line BB; 第2の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a second modified example; 第2の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a second modified example; 第3の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a third modified example; 図18の配線基板に生じる山部の一例を示す断面図である。FIG. 19 is a cross-sectional view showing an example of ridges formed on the wiring substrate of FIG. 18; 配線基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of a wiring board. 配線基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of a wiring board. 配線基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of a wiring board. 配線基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of a wiring board. 第4の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a fourth modified example; 第5の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a fifth modified example; 第6の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a sixth modification; 第7の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a seventh modification; 第7の変形例に係る配線基板を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing a wiring board according to a seventh modification; 第8の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view showing a wiring board according to an eighth modification; 第8の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view showing a wiring board according to an eighth modification; 第9の変形例に係る第1剛性部材を示す平面図である。FIG. 21 is a plan view showing a first rigid member according to a ninth modification; 第10の変形例に係る第1剛性部材を示す平面図である。FIG. 21 is a plan view showing a first rigid member according to a tenth modified example; 第11の変形例に係る第1剛性部材を示す平面図である。FIG. 21 is a plan view showing a first rigid member according to an eleventh modification; 実施例における積層体を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a laminate in an example; 実施例における積層体を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a laminate in an example; 基材に生じる体積ひずみをシミュレーションによって算出した結果を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing the result of calculating the volumetric strain generated in the base material by simulation. 基材に生じる体積ひずみをシミュレーションによって算出した結果を示すグラフである。4 is a graph showing the result of calculating the volumetric strain generated in the base material by simulation. 基材に生じる体積ひずみをシミュレーションによって算出した結果を示す表である。FIG. 10 is a table showing the results of calculation by simulation of volumetric strain occurring in a base material; FIG. 図34の体積ひずみを正規化した結果を示す表である。FIG. 35 is a table showing the results of normalizing the volume strain of FIG. 34; FIG. 正規化した体積ひずみと正規化した面取り寸法の関係を示すグラフである。10 is a graph showing the relationship between normalized volumetric strain and normalized chamfer dimension;

(第1の実施の形態)
以下、本開示の第1の実施形態に係る配線基板の構成及びその製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例である。本開示の解釈は、これらの実施形態には限定されない。本明細書において、「基板」、「基材」、「シート」、「フィルム」など用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「基板」の概念は、基材、シート、フィルムと呼ばれ得るような部材も含む。本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等の解釈は、厳密な意味には限定されず、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含む。
(First embodiment)
Hereinafter, the configuration of the wiring board and the manufacturing method thereof according to the first embodiment of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. The embodiments described below are examples of embodiments of the present disclosure. Interpretation of this disclosure is not limited to these embodiments. As used herein, the terms "substrate", "substrate", "sheet", "film" and the like are not to be distinguished from each other based solely on their designation. For example, the concept of "substrate" also includes such members as may be referred to as substrates, sheets, and films. Interpretations of terms such as "parallel" and "perpendicular" and values of lengths and angles used herein to specify shapes and geometric conditions as well as degrees thereof are not strictly limited. However, it includes the extent to which similar functions can be expected.

本実施形態で参照する図面において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号を付す。同一の符号又は類似の符号が付された部分の繰り返しの説明は省略される場合がある。図面の寸法比率は、説明の都合上、実際の比率とは異なる場合がある。構成の一部が図面から省略される場合がある。 In the drawings referred to in this embodiment, the same reference numerals or similar reference numerals are given to the same parts or parts having similar functions. Repeated descriptions of parts to which the same or similar reference numerals are attached may be omitted. The dimensional ratios in the drawings may differ from the actual ratios for convenience of explanation. Some configurations may be omitted from the drawings.

本明細書において、あるパラメータに関して複数の上限値の候補及び複数の下限値の候補が挙げられている場合、そのパラメータの数値範囲は、任意の1つの上限値の候補と任意の1つの下限値の候補とを組み合わせることによって構成されてもよい。例えば、「パラメータBは、例えばA1以上であり、A2以上であってもよく、A3以上であってもよい。パラメータBは、例えばA4以下であり、A5以下であってもよく、A6以下であってもよい。」と記載されている場合を考える。この場合、パラメータBの数値範囲は、A1以上A4以下であってもよく、A1以上A5以下であってもよく、A1以上A6以下であってもよく、A2以上A4以下であってもよく、A2以上A5以下であってもよく、A2以上A6以下であってもよく、A3以上A4以下であってもよく、A3以上A5以下であってもよく、A3以上A6以下であってもよい。 In this specification, when multiple upper limit candidates and multiple lower limit candidates are given for a parameter, the numerical range of the parameter is any one upper limit candidate and any one lower limit value. may be configured by combining the candidates of For example, "Parameter B is, for example, A1 or more, may be A2 or more, or may be A3 or more. Parameter B may be, for example, A4 or less, may be A5 or less, or A6 or less. There may be.” In this case, the numerical range of the parameter B may be A1 or more and A4 or less, A1 or more and A5 or less, A1 or more and A6 or less, or A2 or more and A4 or less, It may be A2 or more and A5 or less, A2 or more and A6 or less, A3 or more and A4 or less, A3 or more and A5 or less, or A3 or more and A6 or less.

(配線基板)
図1は、本実施の形態に係る配線基板10を示す平面図である。図2は、図1の配線基板10のA-A線に沿った断面図である。配線基板10は、基材20、第1剛性部材30及び導電層50を備える。配線基板10は、第1絶縁層70を備えていてもよい。配線基板10には電子部品55が搭載される。「配線基板」の概念は、電子部品55が搭載される前の配線基板10及び電子部品55が搭載された後の配線基板10の両方を含む。
(wiring board)
FIG. 1 is a plan view showing a wiring substrate 10 according to this embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view of the wiring board 10 of FIG. 1 along line AA. The wiring board 10 includes a base material 20 , a first rigid member 30 and a conductive layer 50 . The wiring board 10 may include a first insulating layer 70 . An electronic component 55 is mounted on the wiring board 10 . The concept of "wiring board" includes both the wiring board 10 before the electronic component 55 is mounted and the wiring board 10 after the electronic component 55 is mounted.

〔基材〕
基材20は、少なくとも1つの方向において伸縮性を有するよう構成された部材である。基材20は、第1面21と、第1面21の反対側に位置する第2面22と、を含む。図1に示す例において、基材20は、基材20の面の法線方向に沿って見た場合に、第1方向D1に延びる一対の辺と、第1方向D1に直交する第2方向D2に延びる一対の辺とを含む四角形状を有する。以下の説明において、基材20の面の法線方向に沿って配線基板10を見ることを、「平面視」と表現することもある。また、基材20の面の法線方向に沿って配線基板10を見た場合に配線基板10の2つの構成要素が重なることを、「重なる」と表現することもある。基材20は、少なくとも第1方向D1において伸縮性を有する。基材20は第1方向D1以外の方向においても伸縮性を有していてもよい。例えば、基材20は、第2方向D2においても伸縮性を有していてもよい。
〔Base material〕
The base material 20 is a member configured to be stretchable in at least one direction. The substrate 20 includes a first side 21 and a second side 22 opposite the first side 21 . In the example shown in FIG. 1, the base material 20 has a pair of sides extending in a first direction D1 and a second direction orthogonal to the first direction D1 when viewed along the normal direction of the surface of the base material 20. It has a quadrangular shape including a pair of sides extending to D2. In the following description, viewing the wiring board 10 along the normal direction of the surface of the base material 20 may also be expressed as "plan view". In addition, when the wiring board 10 is viewed along the normal direction of the surface of the base material 20, the overlapping of two components of the wiring board 10 may be expressed as "overlapping". The base material 20 has stretchability at least in the first direction D1. The base material 20 may also have elasticity in directions other than the first direction D1. For example, the base material 20 may have stretchability also in the second direction D2.

基材20の厚みT1は、例えば10μmであり、20μm以上であってもよく、30μm以上であってもよい。基材20の厚みT1は、例えば10mm以下であり、3mm以下であってもよく、1mm以下であってもよい。基材20の厚みT1を10μm以上にすることにより、基材20の耐久性を確保できる。基材20の厚みT1を10mm以下にすることにより、配線基板10の装着時の快適性を確保できる。基材20の厚みT1を小さくしすぎると、基材20の伸縮性が損なわれる場合がある。 The thickness T1 of the base material 20 is, for example, 10 μm, may be 20 μm or more, or may be 30 μm or more. The thickness T1 of the base material 20 is, for example, 10 mm or less, may be 3 mm or less, or may be 1 mm or less. By setting the thickness T1 of the base material 20 to 10 μm or more, the durability of the base material 20 can be ensured. By setting the thickness T1 of the base material 20 to 10 mm or less, it is possible to ensure comfort when the wiring board 10 is worn. If the thickness T1 of the base material 20 is too small, the stretchability of the base material 20 may be impaired.

基材20の伸縮性とは、基材20が、常態である非伸長状態から伸長でき、その後、伸長状態から解放したときに基材20が復元できる性質をいう。以下の説明において、伸長状態から解放したときに復元できる性質のことを、復元性とも称する。非伸長状態とは、引張応力が加えられていない時の基材20の状態である。破壊されることなく基材20が非伸長状態から伸長可能な程度は、例えば1%以上であり、20%以上であってもよく、75%以上であってもよい。このような特性を有する基材20を用いることにより、配線基板10が全体として伸縮性を有することができる。さらに、人の腕などの身体の一部に取り付けられる、高い伸縮が必要な製品や用途において、配線基板10を使用できる。一般に、人の脇の下に取り付ける製品には、垂直方向において72%、水平方向において27%の伸縮性が必要であると言われている。また、人の膝、肘、臀部、足首、脇部に取り付ける製品には、垂直方向において26%以上42%以下の伸縮性が必要であると言われている。また、人のその他の部位に取り付ける製品には、20%未満の伸縮性が必要であると言われている。 The stretchability of the base material 20 refers to the property that the base material 20 can be stretched from its normal non-stretched state, and then the base material 20 can be restored when released from the stretched state. In the following description, the property of being able to restore when released from the stretched state is also referred to as resilience. The non-stretched state is the state of substrate 20 when no tensile stress is applied. The extent to which the base material 20 can be stretched from the non-stretched state without being destroyed is, for example, 1% or more, may be 20% or more, or may be 75% or more. By using the base material 20 having such characteristics, the wiring board 10 as a whole can have elasticity. Furthermore, the wiring board 10 can be used in products and applications that require high elasticity, such as those attached to a part of the body such as a human arm. Generally, it is said that a product to be applied to a person's armpit should have a stretchability of 72% in the vertical direction and 27% in the horizontal direction. In addition, it is said that products that are attached to the knees, elbows, buttocks, ankles, and armpits of a person must have a stretchability of 26% or more and 42% or less in the vertical direction. It is also said that less than 20% stretchability is required for products that are attached to other parts of the human body.

非伸長状態にある基材20の形状と、非伸長状態から伸長された後に再び非伸長状態に戻ったときの基材20の形状との差が小さいことが好ましい。この差のことを、以下の説明において形状変化とも称する。基材20の形状変化は、面積比で例えば20%以下であり、10%以下であってもよく、5%以下であってもよい。形状変化の小さい基材20を用いることにより、後述する山部や谷部の形成が容易になる。 It is preferable that the difference between the shape of the substrate 20 in the non-stretched state and the shape of the substrate 20 when it returns to the non-stretched state after being stretched from the non-stretched state is small. This difference is also referred to as shape change in the following description. The change in shape of the substrate 20 is, for example, 20% or less, may be 10% or less, or may be 5% or less in terms of area ratio. By using the base material 20 with a small change in shape, formation of peaks and valleys, which will be described later, is facilitated.

基材20の伸縮性を表すパラメータは、例えば弾性係数である。基材20の弾性係数は、例えば10MPa以下であり、1MPa以下であってもよい。このような弾性係数を有する基材20を用いることにより、配線基板10が全体として伸縮性を有することができる。基材20の弾性係数は、例えば1kPa以上であり、10kPa以上であってもよい。 A parameter representing the stretchability of the base material 20 is, for example, an elastic modulus. The elastic modulus of the base material 20 is, for example, 10 MPa or less, and may be 1 MPa or less. By using the base material 20 having such an elastic modulus, the wiring board 10 as a whole can have stretchability. The elastic modulus of the base material 20 is, for example, 1 kPa or more, and may be 10 kPa or more.

基材20の弾性係数を算出する方法としては、基材20のサンプルを用いて、JIS K6251に準拠して引張試験を実施するという方法を採用できる。また、基材20のサンプルの弾性係数を、ISO14577に準拠してナノインデンテーション法によって測定するという方法を採用してもよい。ナノインデンテーション法において用いる測定器としては、ナノインデンターを用いることができる。基材20のサンプルを準備する方法としては、配線基板10から基材20の一部をサンプルとして取り出す方法や、配線基板10を構成する前の基材20の一部をサンプルとして取り出す方法が考えられる。その他にも、基材20の弾性係数を算出する方法として、基材20を構成する材料を分析し、材料の既存のデータベースに基づいて基材20の弾性係数を算出するという方法を採用できる。本願における弾性係数は、25℃の環境下における弾性係数である。 As a method for calculating the elastic modulus of the base material 20, a method of performing a tensile test in accordance with JIS K6251 using a sample of the base material 20 can be adopted. Alternatively, a method of measuring the elastic modulus of a sample of the base material 20 by a nanoindentation method in compliance with ISO14577 may be adopted. A nanoindenter can be used as a measuring instrument used in the nanoindentation method. As a method of preparing a sample of the base material 20, a method of taking out a part of the base material 20 from the wiring board 10 as a sample and a method of taking out a part of the base material 20 before forming the wiring board 10 as a sample are considered. be done. In addition, as a method of calculating the elastic modulus of the base material 20, a method of analyzing the materials forming the base material 20 and calculating the elastic modulus of the base material 20 based on an existing material database can be adopted. The elastic modulus in the present application is the elastic modulus in an environment of 25°C.

基材20の伸縮性を表すパラメータのその他の例として、基材20の曲げ剛性を挙げることができる。曲げ剛性は、対象となる部材の断面二次モーメントと、対象となる部材を構成する材料の弾性係数との積である。曲げ剛性の単位はN・m又はPa・mである。基材20の断面二次モーメントは、基材20のうち配線51と重なっている部分を、配線基板10の伸縮方向に直交する平面によって切断した場合の断面に基づいて算出される。 Another example of the parameter representing the stretchability of the base material 20 is the flexural rigidity of the base material 20 . Bending stiffness is the product of the area moment of inertia of the member under consideration and the elastic modulus of the material that constitutes the member under consideration. The unit of bending stiffness is N·m 2 or Pa·m 4 . The geometrical moment of inertia of the base material 20 is calculated based on a cross section obtained by cutting a portion of the base material 20 overlapping the wiring 51 along a plane perpendicular to the expansion/contraction direction of the wiring board 10 .

基材20は、エラストマーを主成分として含んでいてもよい。また、基材20は、織物、編物、不織布などの布を主成分として含んでいてもよい。なお「主成分」とは、対象となる構成要素において51重量%以上を占める成分である。エラストマーとしては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができる。エラストマーは、例えば、ポリウレタン系エラストマー、スチレン系エラストマー、ニトリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、塩ビ系エラストマー、エステル系エラストマー、アミド系エラストマー、1,2-BR系エラストマー、フッ素系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ポリブタジエン、ポリイソブチレン、ポリスチレンブタジエン、ポリクロロプレン等である。機械的強度や耐磨耗性を考慮すると、ウレタン系エラストマーを用いることが好ましい。基材20は、ポリジメチルシロキサンなどのシリコーンを含んでいてもよい。シリコーンは、耐熱性・耐薬品性・難燃性に優れている。 Base material 20 may contain an elastomer as a main component. Also, the base material 20 may contain cloth such as woven fabric, knitted fabric, or non-woven fabric as a main component. In addition, the "main component" is a component that accounts for 51% by weight or more of the constituent elements of interest. As the elastomer, general thermoplastic elastomers and thermosetting elastomers can be used. Elastomers include, for example, polyurethane elastomers, styrene elastomers, nitrile elastomers, olefin elastomers, vinyl chloride elastomers, ester elastomers, amide elastomers, 1,2-BR elastomers, fluorine elastomers, silicone rubbers, and urethane rubbers. , fluororubber, polybutadiene, polyisobutylene, polystyrene butadiene, polychloroprene, and the like. Considering mechanical strength and abrasion resistance, it is preferable to use a urethane-based elastomer. Substrate 20 may comprise a silicone such as polydimethylsiloxane. Silicone has excellent heat resistance, chemical resistance, and flame resistance.

〔第1剛性部材〕
第1剛性部材30は、平面視において基材20に重なるように配置されている部材である。配線基板10は、少なくとも1つの第1剛性部材30を備える。図1及び図2に示すように、配線基板10は、2つ以上の第1剛性部材30を備えていてもよい。図2に示すように、第1剛性部材30は、基材20の第2面22側に位置していてもよい。
[First rigid member]
The first rigid member 30 is a member arranged so as to overlap the base material 20 in plan view. The wiring board 10 has at least one first rigid member 30 . As shown in FIGS. 1 and 2 , the wiring board 10 may have two or more first rigid members 30 . As shown in FIG. 2 , the first rigid member 30 may be positioned on the second surface 22 side of the substrate 20 .

第1剛性部材30は、基材20よりも高い剛性を有する。このため、配線基板10に張力などの力を加えたときに、第1剛性部材30に重なる基材20の領域は、第1剛性部材30に重ならない基材20の領域に比べて、伸縮などの変形が生じにくい。以下の説明において、平面視において第1剛性部材30に重なる基材20の領域を、第1重なり領域23とも称し、平面視において第1剛性部材30に重ならない基材20の領域を、第1周囲領域24とも称する。 The first rigid member 30 has higher rigidity than the base material 20 . Therefore, when a force such as tension is applied to the wiring board 10 , the area of the base material 20 that overlaps the first rigid member 30 expands or contracts more than the area of the base material 20 that does not overlap the first rigid member 30 . deformation is less likely to occur. In the following description, the area of the base material 20 that overlaps the first rigid member 30 in plan view is also referred to as a first overlap area 23, and the area of the base material 20 that does not overlap the first rigid member 30 in plan view is referred to as the first overlap area. Also referred to as peripheral region 24 .

図1及び図2に示すように、電子部品55は、平面視において第1剛性部材30に重なるよう配置される。すなわち、電子部品55は、平面視において第1重なり領域23に重なるよう配置される。これにより、配線基板10に張力などの力を加えるときに、及び配線基板10から力を取り除くときに、電子部品55に力が加わることを抑制できる。このため、電子部品55に変形、破損などが生じることを抑制できる。また、電子部品55と配線基板10との間の接合部に変形、破損などが生じることを抑制できる。 As shown in FIGS. 1 and 2, the electronic component 55 is arranged so as to overlap the first rigid member 30 in plan view. That is, the electronic component 55 is arranged so as to overlap the first overlap region 23 in plan view. Accordingly, when a force such as tension is applied to the wiring board 10 and when the force is removed from the wiring board 10 , application of force to the electronic component 55 can be suppressed. Therefore, the electronic component 55 can be prevented from being deformed or damaged. In addition, it is possible to suppress deformation, breakage, and the like of the joint between the electronic component 55 and the wiring board 10 .

第1剛性部材30の厚みT2は、例えば10μmであり、20μm以上であってもよく、30μm以上であってもよい。第1剛性部材30の厚みT2は、例えば1mm以下であり、300μm以下であってもよく、100μm以下であってもよい。 The thickness T2 of the first rigid member 30 is, for example, 10 μm, may be 20 μm or more, or may be 30 μm or more. The thickness T2 of the first rigid member 30 is, for example, 1 mm or less, may be 300 μm or less, or may be 100 μm or less.

第1剛性部材30の剛性を表すパラメータは、例えば弾性係数である。第1剛性部材30の弾性係数は、基材20の弾性係数よりも高くてもよい。第1剛性部材30の弾性係数は、基材20の弾性係数の例えば10倍以上であり、100倍以上であってもよく、1000倍以上であってもよい。第1剛性部材30の弾性係数は、基材20の弾性係数の例えば10000倍以下であり、50000倍以下であってもよい。第1剛性部材30の弾性係数は、例えば1GPa以上であり、10GPa以上であってもよい。 A parameter representing the stiffness of the first rigid member 30 is, for example, an elastic modulus. The elastic modulus of the first rigid member 30 may be higher than the elastic modulus of the base material 20 . The elastic modulus of the first rigid member 30 is, for example, 10 times or more, may be 100 times or more, or may be 1000 times or more that of the base material 20 . The elastic modulus of the first rigid member 30 is, for example, 10,000 times or less, and may be 50,000 times or less, that of the base material 20 . The elastic modulus of the first rigid member 30 is, for example, 1 GPa or more, and may be 10 GPa or more.

第1剛性部材30の弾性係数を算出する方法は、第1剛性部材30の形態に応じて適宜定められる。例えば、第1剛性部材30の弾性係数を算出する方法は、基材20の弾性係数を算出する方法と同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、第1剛性部材30の弾性係数を算出する方法として、第1剛性部材30のサンプルを用いて、ASTM D882に準拠して引張試験を実施するという方法を採用できる。 A method for calculating the elastic modulus of the first rigid member 30 is appropriately determined according to the form of the first rigid member 30 . For example, the method for calculating the elastic modulus of the first rigid member 30 may be the same as or different from the method for calculating the elastic modulus of the base material 20 . For example, as a method of calculating the elastic modulus of the first rigid member 30, a method of performing a tensile test in accordance with ASTM D882 using a sample of the first rigid member 30 can be adopted.

第1剛性部材30は、金属材料を含む金属層や、一般的な熱可塑性エラストマー、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系、ポリエステル系、エポキシ系、ビニルエーテル系、ポリエン・チオール系、シリコーン系等のオリゴマー、ポリマー等を含んでいてもよい。金属材料は、例えば銅、アルミニウム、ステンレス鋼等である。第1剛性部材30は、プリント基板で用いられる基材であってもよい。プリント基板で用いられる基材の材料は、ガラスエポキシ、紙フェノールなどである。ガラスエポキシとは、エポキシ樹脂が含侵されたガラス繊維である。紙フェノールとは、フェノール樹脂が含侵された紙である。 The first rigid member 30 is composed of a metal layer containing a metal material, general thermoplastic elastomer, acrylic, urethane, epoxy, polyester, epoxy, vinyl ether, polyene/thiol, and silicone oligomers. , polymers, and the like. Metal materials are, for example, copper, aluminum, stainless steel, and the like. The first rigid member 30 may be a base material used in printed circuit boards. Base materials used in printed circuit boards are glass epoxy, paper phenol, and the like. Glass epoxy is glass fiber impregnated with epoxy resin. Paper phenol is paper impregnated with phenolic resin.

〔導電層〕
導電層50は、導電性を有する層である。導電層50は、基材20の第1面21側に位置する。図2に示すように、導電層50は、第1面21上に位置していてもよい。導電層50は、少なくとも配線51を含む。配線51は、電子部品55に電気的に接続される。導電層50は、パッド52を含んでいてもよい。パッド52は、配線51に接続されている。例えば、パッド52は、配線51の端部に接続されている。配線51及びパッド52は、導電層50によって一体的に構成されていてもよい。
[Conductive layer]
The conductive layer 50 is a layer having conductivity. The conductive layer 50 is located on the first surface 21 side of the base material 20 . As shown in FIG. 2, the conductive layer 50 may be located on the first surface 21 . Conductive layer 50 includes at least wiring 51 . The wiring 51 is electrically connected to the electronic component 55 . Conductive layer 50 may include pads 52 . Pad 52 is connected to wiring 51 . For example, the pad 52 is connected to the end of the wiring 51 . The wiring 51 and the pad 52 may be integrally configured by the conductive layer 50 .

パッド52には、電子部品55の端子、パッドなどが半田54などを介して接続される。後述するように、配線基板10と電子部品55との間にプリント基板が設けられる場合、パッド52には、プリント基板の端子、パッドなどが半田などを介して接続される。 Terminals, pads, and the like of an electronic component 55 are connected to the pads 52 via solder 54 or the like. As will be described later, when a printed circuit board is provided between the wiring board 10 and the electronic component 55, the pads 52 are connected to terminals, pads, etc. of the printed circuit board via solder or the like.

図3は、第1剛性部材30の周囲に位置する配線51を拡大して示す平面図である。図3においては、便宜上、電子部品55及び半田54が省略されている。図4は、図3から第1絶縁層70を取り除いた状態を示す平面図である。図3及び図4は、第1面21側から見た場合の配線基板10を示している。 FIG. 3 is an enlarged plan view showing the wiring 51 positioned around the first rigid member 30. As shown in FIG. In FIG. 3, the electronic component 55 and the solder 54 are omitted for convenience. FIG. 4 is a plan view showing a state in which the first insulating layer 70 is removed from FIG. 3 and 4 show the wiring board 10 as viewed from the first surface 21 side.

配線51は、導電性を有し、平面視において細長い形状を有する部材である。図1に示す例において、配線51は、第1方向D1又は第2方向D2に延びている。配線51の長さは、配線51の幅の例えば2倍以上であり、5倍以上であってもよく、10倍以上であってもよい。配線51の長さとは、配線51が延びる方向における配線51の寸法である。配線51の幅とは、配線51が延びる方向に直交する方向における配線51の寸法である。 The wiring 51 is a member having conductivity and having an elongated shape in plan view. In the example shown in FIG. 1, the wiring 51 extends in the first direction D1 or the second direction D2. The length of the wiring 51 is, for example, twice or more the width of the wiring 51, may be five times or more, or may be ten times or more. The length of the wiring 51 is the dimension of the wiring 51 in the direction in which the wiring 51 extends. The width of the wiring 51 is the dimension of the wiring 51 in the direction orthogonal to the direction in which the wiring 51 extends.

配線51の幅W2は、配線51に求められる電気抵抗値に応じて適宜選択される。配線51の幅W2は、例えば100μm以上であり、200μm以上であってもよく、500μm以上であってもよく、1mm以上であってもよい。配線51の幅W2は、例えば20mm以下であり、10mm以下であってもよく、5mm以下であってもよい。 The width W2 of the wiring 51 is appropriately selected according to the electrical resistance value required for the wiring 51 . The width W2 of the wiring 51 is, for example, 100 μm or more, may be 200 μm or more, may be 500 μm or more, or may be 1 mm or more. The width W2 of the wiring 51 is, for example, 20 mm or less, may be 10 mm or less, or may be 5 mm or less.

パッド52の幅は、配線51の幅よりも大きくてもよい。パッド52の幅とは、配線51が延びる方向に直交する方向におけるパッド52の寸法である。 The width of the pad 52 may be larger than the width of the wiring 51 . The width of the pad 52 is the dimension of the pad 52 in the direction perpendicular to the direction in which the wiring 51 extends.

図3及び図4においては、第2面22側に位置する第1剛性部材30の輪郭が点線で示されている。点線の内側に位置する基材20の領域が、上述の第1重なり領域23である。配線51は、第1周囲領域24から第1重なり領域23に至るよう延びている。パッド52は、第1重なり領域23に位置している。 In FIGS. 3 and 4, the outline of the first rigid member 30 located on the second surface 22 side is indicated by dotted lines. The area of the base material 20 located inside the dotted line is the first overlapping area 23 described above. The wiring 51 extends from the first peripheral region 24 to the first overlapping region 23 . Pad 52 is located in first overlap region 23 .

基材20に伸縮などの変形が生じると、配線51などの導電層50にも力が加わる。例えば、配線51は、張力を加えられて第1伸長量で伸長された状態の基材20に設けられてもよい。この場合、基材20から張力が取り除かれて基材20が収縮するとき、配線51は蛇腹状に変形する。これにより、配線51に、長さ方向に並ぶ複数の山部が生じる。 When deformation such as expansion and contraction occurs in the base material 20 , force is applied to the conductive layer 50 such as the wiring 51 . For example, the wiring 51 may be provided on the substrate 20 in a state of being stretched by a first stretch amount under tension. In this case, when the tension is removed from the substrate 20 and the substrate 20 contracts, the wiring 51 deforms into a bellows shape. As a result, the wiring 51 has a plurality of ridges aligned in the length direction.

配線51を構成する導電層50は、山部の解消及び生成を利用して基材20の伸長及び収縮に追従できる材料を含んでいてもよい。導電層50の材料は、それ自体が伸縮性を有していてもよく、伸縮性を有していなくてもよい。
伸縮性を有さない導電層50の材料の例は、金、銀、銅、アルミニウム、白金、クロム等の金属や、これらの金属を含む合金等である。
伸縮性を有する導電層50の材料の例は、ベース材と、ベース材の中に分散された複数の導電性粒子とを有する導電性組成物等である。ベース材として、樹脂などの変形可能な材料を用いることにより、基材20の伸縮に応じて配線51も変形できる。また、変形が生じた場合であっても複数の導電性粒子の間の接触が維持されるように導電性粒子の分布や形状を設定することにより、配線51の導電性を維持できる。
The conductive layer 50 that constitutes the wiring 51 may contain a material that can follow the expansion and contraction of the base material 20 by using elimination and formation of peaks. The material of the conductive layer 50 itself may or may not have elasticity.
Examples of materials for the non-stretchable conductive layer 50 include metals such as gold, silver, copper, aluminum, platinum, and chromium, and alloys containing these metals.
Examples of materials for the stretchable conductive layer 50 include a conductive composition having a base material and a plurality of conductive particles dispersed within the base material. By using a deformable material such as resin as the base material, the wiring 51 can also be deformed according to the expansion and contraction of the base material 20 . Moreover, the conductivity of the wiring 51 can be maintained by setting the distribution and shape of the conductive particles so that the contact between the plurality of conductive particles is maintained even when deformation occurs.

ベース材としては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができる。ベース材は、例えば、スチレン系エラストマー、アクリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、ポリブタジエン、ポリクロロプレン等である。ウレタン系、シリコーン系構造を含む樹脂やゴムは、伸縮性及び耐久性を有するので、ベース材として好ましい。導電性粒子の材料は、例えば銀、銅、金、ニッケル、パラジウム、白金、カーボン等である。特に、銀粒子が好ましく用いられる。 Common thermoplastic elastomers and thermosetting elastomers can be used as the base material. Examples of the base material include styrene elastomer, acrylic elastomer, olefin elastomer, urethane elastomer, silicone rubber, urethane rubber, fluororubber, nitrile rubber, polybutadiene, and polychloroprene. Resins and rubbers containing urethane-based or silicone-based structures are preferable as the base material because they have stretchability and durability. Materials for the conductive particles include, for example, silver, copper, gold, nickel, palladium, platinum, and carbon. In particular, silver particles are preferably used.

配線51を含む導電層50の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、基材20上または後述する支持基板40上に蒸着法やスパッタリング法、金属箔の積層等により金属膜を形成する。その後、フォトリソグラフィ法により金属膜をパターニングする。これにより、配線51が形成される。基材20上または後述する支持基板40上に金属箔を積層する場合、基材20または支持基板40と金属箔との間に接着層などが介在されていてもよい。また、配線51の材料自体が伸縮性を有する場合、例えば、基材20上または支持基板40上に一般的な印刷法により上記の導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物をパターン状に印刷してもよい。これらの方法のうち、印刷法が好ましく用いられ得る。印刷法は、高い材料効率を有するので、配線51を安価に製作できる。 A method for forming the conductive layer 50 including the wiring 51 is appropriately selected according to the material and the like. For example, a metal film is formed on the base material 20 or a support substrate 40 to be described later by a vapor deposition method, a sputtering method, lamination of metal foil, or the like. After that, the metal film is patterned by photolithography. Thereby, the wiring 51 is formed. When a metal foil is laminated on the base material 20 or a support substrate 40 described later, an adhesive layer or the like may be interposed between the base material 20 or the support substrate 40 and the metal foil. Further, when the material of the wiring 51 itself has stretchability, for example, the conductive composition containing the above-described conductive particles and elastomer is patterned on the base material 20 or the support substrate 40 by a general printing method. You may print. Among these methods, the printing method can be preferably used. Since the printing method has high material efficiency, the wiring 51 can be manufactured at low cost.

導電層50の厚みT3は、基材20の伸縮に耐え得るよう、導電層50の材料等に応じて適宜選択される。
導電層50の材料が伸縮性を有さない場合、導電層50の厚みT3は、例えば25nm以上であり、50nm以上であってもよく、100nm以上であってもよい。導電層50の厚みT3は、例えば100μm以下であり、50μm以下であってもよく、5μm以下であってもよい。
導電層50の材料が伸縮性を有する場合、導電層50の厚みT3は、例えば5μm以上であり、10μm以上であってもよく、20μm以上であってもよい。導電層50の厚みT3は、例えば60μm以下であり、50μm以下であってもよく、40μm以下であってもよい。
The thickness T3 of the conductive layer 50 is appropriately selected according to the material of the conductive layer 50 and the like so as to withstand expansion and contraction of the base material 20 .
When the material of the conductive layer 50 does not have elasticity, the thickness T3 of the conductive layer 50 is, for example, 25 nm or more, may be 50 nm or more, or may be 100 nm or more. The thickness T3 of the conductive layer 50 is, for example, 100 μm or less, may be 50 μm or less, or may be 5 μm or less.
When the material of the conductive layer 50 has stretchability, the thickness T3 of the conductive layer 50 is, for example, 5 μm or more, may be 10 μm or more, or may be 20 μm or more. The thickness T3 of the conductive layer 50 is, for example, 60 μm or less, may be 50 μm or less, or may be 40 μm or less.

上述の材料、厚みT3などの工夫により、基材20の変形に起因して配線51に変形、破損などが生じることを抑制できる。以下に説明するように、配線51の配置が工夫されていてもよい。配線51の配置の工夫により、基材20の変形に起因して配線51に変形、破損などが生じることを抑制できる。 By devising the above-described material, thickness T3, and the like, it is possible to suppress deformation and breakage of the wiring 51 due to the deformation of the base material 20 . The arrangement of the wiring 51 may be devised as described below. By devising the arrangement of the wirings 51 , it is possible to prevent the wirings 51 from being deformed or damaged due to the deformation of the base material 20 .

後述する実施例によって立証されるように、第1剛性部材30のコーナーの周辺においては、基材20に大きな歪が生じやすい。大きな歪が生じる基材20の領域に配線51が重なっていると、配線51に変形、破損などが生じやすい。本実施の形態においては、大きな歪が生じにくい基材20の領域に配線51を配置することを提案する。 As evidenced by the examples described later, the substrate 20 is likely to be greatly distorted around the corners of the first rigid member 30 . If the wiring 51 overlaps the area of the base material 20 in which large strain occurs, the wiring 51 is likely to be deformed or damaged. In this embodiment, it is proposed to arrange the wiring 51 in a region of the base material 20 in which a large strain is unlikely to occur.

第1剛性部材30の輪郭を具体的に説明する。図3及び図4に示すように、第1剛性部材30は、平面視において、第1辺31及び第1コーナー32を含む。第1辺31は、2つの第1コーナー32の間で直線状に延びている。第1辺31は、第1方向D1に延びる2つの第11辺311と、第2方向D2に延びる2つの第12辺312と、を含んでいてもよい。第1コーナー32は、第11辺311と第12辺312とを接続している。第1コーナー32は、第1辺31とは異なる方向に延びている。図3及び図4に示す例において、第1剛性部材30は、4つの第1コーナー32を含む。 The outline of the first rigid member 30 will be specifically described. As shown in FIGS. 3 and 4, the first rigid member 30 includes a first side 31 and a first corner 32 in plan view. The first side 31 extends linearly between the two first corners 32 . The first side 31 may include two eleventh sides 311 extending in the first direction D1 and two twelfth sides 312 extending in the second direction D2. The first corner 32 connects the eleventh side 311 and the twelfth side 312 . The first corner 32 extends in a direction different from that of the first side 31 . In the example shown in FIGS. 3 and 4, first rigid member 30 includes four first corners 32 .

図5は、図3の第1コーナー32を拡大して示す平面図である。第1コーナー32は、平面視における第1剛性部材30の中心C1から遠ざかる側で面取りされている。「中心C1から遠ざかる側で面取りされている」とは、第1コーナー32によって接続される2つの第1辺31の延長線EL1の交点P1が、第1コーナー32よりも外側に位置していることを意味する。「外側」とは、平面視において中心C1から遠ざかる側である。 FIG. 5 is a plan view showing an enlarged first corner 32 of FIG. The first corner 32 is chamfered on the side away from the center C1 of the first rigid member 30 in plan view. “Chamfered on the side away from the center C1” means that the intersection point P1 of the extension line EL1 of the two first sides 31 connected by the first corner 32 is located outside the first corner 32. means that The “outer side” is the side away from the center C1 in plan view.

第1コーナー32は、面取り寸法R1を有する。図5の面取り寸法R1は、第12辺312との関係で規定される第1コーナー32の面取り寸法である。面取り寸法R1は、第12辺312が延びる方向における、交点P1と境界点322との間の距離である。境界点322は、第12辺312と第1コーナー32の境界に位置する。図示はしないが、第11辺311との関係で規定される第1コーナー32の面取り寸法は、第11辺311が延びる方向における、交点P1と境界点321との間の距離である。境界点321は、第11辺311と第1コーナー32の境界に位置する。 The first corner 32 has a chamfer dimension R1. A chamfering dimension R1 in FIG. 5 is a chamfering dimension of the first corner 32 defined in relation to the twelfth side 312 . Chamfer dimension R1 is the distance between intersection point P1 and boundary point 322 in the direction in which twelfth side 312 extends. A boundary point 322 is located at the boundary between the twelfth side 312 and the first corner 32 . Although not shown, the chamfer dimension of the first corner 32 defined in relation to the eleventh side 311 is the distance between the intersection point P1 and the boundary point 321 in the direction in which the eleventh side 311 extends. A boundary point 321 is positioned at the boundary between the eleventh side 311 and the first corner 32 .

図5に示すように、第1コーナー32は湾曲していてもよい。この場合、第1コーナー32の面取り寸法R1は、第1コーナー32の曲率半径であってもよい。 As shown in FIG. 5, the first corner 32 may be curved. In this case, the chamfer dimension R1 of the first corner 32 may be the radius of curvature of the first corner 32 .

面取り寸法R1が小さいほど、第1コーナー32の周辺において基材20に大きな歪が局所的に生じやすい。従って、面取り寸法R1は、所定値以上であることが好ましい。 The smaller the chamfer dimension R1 is, the more easily the substrate 20 is locally distorted around the first corner 32 . Therefore, it is preferable that the chamfer dimension R1 is equal to or greater than a predetermined value.

一方、後述する実施例によって立証されるように、面取り寸法R1が大きいほど、図3~図5に示す第1安定領域241の寸法W1が小さくなる。第1安定領域241とは、第1辺31の周辺に位置し、歪が抑制されている基材20の領域である。第1安定領域241は、第1周囲領域24の一部である。図3及び図4に示すように、第1安定領域241は、第1辺31の中央部から外側へ広がっている。例えば、第12辺312に接する第1安定領域241は、第12辺312の中央部から外側へ第1方向D1に広がっている。図5に示す第1安定領域241に関して「外側」という用語が意味する向きが、矢印D11で表されている。 On the other hand, as the chamfer dimension R1 is larger, the dimension W1 of the first stable region 241 shown in FIGS. The first stable region 241 is a region of the base material 20 located around the first side 31 and in which distortion is suppressed. The first stable area 241 is part of the first peripheral area 24 . As shown in FIGS. 3 and 4, the first stable region 241 extends outward from the central portion of the first side 31 . For example, the first stable region 241 in contact with the twelfth side 312 extends outward from the central portion of the twelfth side 312 in the first direction D1. The direction in which the term "outer" is meant with respect to the first stable area 241 shown in FIG. 5 is represented by arrow D11.

本実施の形態においては、第1安定領域241を通って第1重なり領域23に至るように配線51を配置することを提案する。これにより、第1周囲領域24と第1重なり領域23の境界において配線51に変形、破損などが生じることを抑制できる。第1辺31が延びる方向における第1安定領域241の寸法W1を十分に確保するためには、面取り寸法R1が所定値以下であることが好ましい。これにより、例えば、複数の配線51を第1安定領域241に配置できる。寸法W1は、第1安定領域241が接する第1辺31の中央部の長さと言い換えることもできる。 In this embodiment, it is proposed to arrange the wiring 51 so as to pass through the first stable region 241 and reach the first overlapping region 23 . As a result, it is possible to prevent the wiring 51 from being deformed or damaged at the boundary between the first peripheral region 24 and the first overlapping region 23 . In order to sufficiently ensure the dimension W1 of the first stable region 241 in the direction in which the first side 31 extends, the chamfer dimension R1 is preferably equal to or less than a predetermined value. Thereby, for example, a plurality of wirings 51 can be arranged in the first stable region 241 . The dimension W1 can also be rephrased as the length of the central portion of the first side 31 with which the first stable region 241 is in contact.

後述する実施例によって立証されるように、第1安定領域241の寸法W1は、下記の式に基づいて算出されてもよい。
W1=-1.1148×R1+0.532×K1
K1は、第1辺31が延びる方向における、2つの第1コーナー32及び第1辺31の寸法である。第1安定領域241が第12辺312の中央部から外側に広がる場合、寸法K1は、図5に示すように、第2方向D2における、2つの第1コーナー32及び第12辺312の寸法である。
The dimension W1 of the first stable region 241 may be calculated based on the following formula, as evidenced by the examples described below.
W1 = -1.1148 x R1 + 0.532 x K1
K1 is the dimension of the two first corners 32 and the first side 31 in the direction in which the first side 31 extends. When the first stable region 241 extends outward from the central portion of the twelfth side 312, the dimension K1 is the dimension of the two first corners 32 and the twelfth side 312 in the second direction D2, as shown in FIG. be.

第1コーナー32の面取り寸法R1は、例えば0.05mm以上であり、0.10mm以上であってもよく、0.20mm以上であってもよい。第1コーナー32の面取り寸法R1は、例えば1.5mm以下であり、1.0mm以下であってもよく、0.8mm以下であってもよい。 The chamfer dimension R1 of the first corner 32 is, for example, 0.05 mm or more, may be 0.10 mm or more, or may be 0.20 mm or more. The chamfer dimension R1 of the first corner 32 is, for example, 1.5 mm or less, may be 1.0 mm or less, or may be 0.8 mm or less.

第1コーナー32の面取り寸法R1は、寸法K1に対する比に基づいて定められてもよい。寸法K1に対する面取り寸法R1の比であるR1/K1は、例えば0.020以上であり、0.025以上であってもよく、0.030以上であってもよい。R1/K1は、例えば0.30以下であり、0.25以下であってもよく、0.20以下であってもよい。 The chamfer dimension R1 of the first corner 32 may be determined based on the ratio to the dimension K1. R1/K1, which is the ratio of chamfer dimension R1 to dimension K1, is, for example, 0.020 or more, may be 0.025 or more, or may be 0.030 or more. R1/K1 is, for example, 0.30 or less, may be 0.25 or less, or may be 0.20 or less.

〔第1絶縁層〕
第1絶縁層70について説明する。第1絶縁層70は、絶縁性を有する層である。図2及び図3に示すように、第1絶縁層70は、平面視において第1剛性部材30に重なっている。図3に示すように、第1絶縁層70の輪郭は、第1剛性部材30の輪郭の内側に位置していてもよい。第1絶縁層70は、導電層50を部分的に覆っている。例えば、第1絶縁層70は、配線51及びパッド52を部分的に覆っている。
[First insulating layer]
The first insulating layer 70 will be described. The first insulating layer 70 is a layer having insulating properties. As shown in FIGS. 2 and 3, the first insulating layer 70 overlaps the first rigid member 30 in plan view. As shown in FIG. 3 , the contour of the first insulating layer 70 may lie inside the contour of the first rigid member 30 . The first insulating layer 70 partially covers the conductive layer 50 . For example, the first insulating layer 70 partially covers the wiring 51 and the pads 52 .

図3に示すように、第1絶縁層70には、第1絶縁層70を貫通する第1孔71が形成されていてもよい。第1孔71は、導電層50に重なっていてもよい。第1孔71に重なる導電層50は、パッド52を構成していてもよい。この場合、第1孔71は、半田54が設けられる領域を区画できる。図2に示すように、パッド52と電子部品55とが、半田54を介して電気的に接続される。 As shown in FIG. 3 , the first insulating layer 70 may have a first hole 71 penetrating through the first insulating layer 70 . The first hole 71 may overlap the conductive layer 50 . The conductive layer 50 overlapping the first hole 71 may constitute a pad 52 . In this case, the first hole 71 can define a region where the solder 54 is provided. As shown in FIG. 2 , pads 52 and electronic components 55 are electrically connected via solder 54 .

図4において、第1孔71の輪郭が点線で示されている。図4に示すように、パッド52の輪郭が、第1孔71の輪郭を囲んでいてもよい。第1孔71の輪郭は、半田54の輪郭を画定する。
配線基板10に曲げなどの変形が生じる場合、導電層50の大部分は、第1剛性部材30の変形に追従するように変形する。一方、半田54に接続されている導電層50は、半田54に追従すると考えられる。このため、第1剛性部材30の変形の方が半田54の変形よりも大きい場合、半田54の輪郭に重なる導電層50に大きな応力が生じ、導電層50にクラックなどの破損が生じることが考えられる。
図4に示す例においては、パッド52の輪郭が、第1孔71の輪郭を囲んでいる。このため、半田54の輪郭の一辺に沿って導電層50にクラックなどの破損が生じたとしても、半田54の輪郭のその他の辺において、導電層50と半田54との間の電気的な接続を維持できる。これにより、配線基板10の信頼性を高めることができる。
In FIG. 4, the outline of the first hole 71 is indicated by dotted lines. As shown in FIG. 4, the contour of pad 52 may surround the contour of first hole 71 . The outline of first hole 71 defines the outline of solder 54 .
When the wiring substrate 10 is deformed such as by bending, most of the conductive layer 50 is deformed so as to follow the deformation of the first rigid member 30 . On the other hand, the conductive layer 50 connected to the solder 54 would follow the solder 54 . Therefore, if the deformation of the first rigid member 30 is larger than the deformation of the solder 54 , a large stress is generated in the conductive layer 50 overlapping the outline of the solder 54 , and damage such as cracks may occur in the conductive layer 50 . be done.
In the example shown in FIG. 4, the contour of pad 52 surrounds the contour of first hole 71 . Therefore, even if the conductive layer 50 is damaged such as a crack along one side of the solder 54 contour, electrical connection between the conductive layer 50 and the solder 54 cannot be achieved on the other sides of the solder 54 contour. can be maintained. Thereby, the reliability of the wiring board 10 can be improved.

第1絶縁層70の材料は、例えば、ポリイミド、アクリル、ウレタン、エポキシ等の有機系樹脂、あるいは、SiO、アルミナ等の無機系材料である。 The material of the first insulating layer 70 is, for example, an organic resin such as polyimide, acryl, urethane, or epoxy, or an inorganic material such as SiO 2 or alumina.

次に、配線51が形成されている配線基板10の領域の断面形状について詳細に説明する。図6は、配線基板10の断面の一例を示す図である。 Next, the cross-sectional shape of the region of the wiring board 10 where the wiring 51 is formed will be described in detail. FIG. 6 is a diagram showing an example of a cross section of the wiring substrate 10. As shown in FIG.

配線基板10は、第1面21側における配線基板10の表面に現れる上述の山部11を含む。山部11は、配線基板10の表面において第1面21の法線方向に隆起した部分である。山部11を含む構造のことを、蛇腹形状部13とも称する。蛇腹形状部は、長さ方向D1において隣り合う2つの山部11の間に位置する谷部12を含んでいてもよい。 Wiring board 10 includes above-described mountain portion 11 appearing on the surface of wiring board 10 on the first surface 21 side. The peak portion 11 is a portion of the surface of the wiring board 10 that protrudes in the normal direction of the first surface 21 . The structure including the ridges 11 is also referred to as a bellows-shaped portion 13 . The bellows-shaped portion may include valleys 12 located between two peaks 11 adjacent in the length direction D1.

図6に示すように、配線51は、長さ方向D1に並ぶ複数の山部511を含む。配線51は、長さ方向D1において隣り合う2つの山部511の間に位置する谷部512を含んでいてもよい。山部511及び谷部512は、平面視において山部11及び谷部12に重なる配線51の部分に現れる。 As shown in FIG. 6, the wiring 51 includes a plurality of peaks 511 arranged in the length direction D1. The wiring 51 may include a valley portion 512 positioned between two peak portions 511 adjacent in the length direction D1. The peaks 511 and the valleys 512 appear in the portions of the wiring 51 overlapping the peaks 11 and the valleys 12 in plan view.

後述するように、配線51は、張力を加えられて第1伸長量で伸長された状態の基材20に設けられる。基材20から張力が取り除かれて基材20が収縮するとき、図6に示すような山部511が生じる。 As will be described later, the wiring 51 is provided on the base material 20 in a state of being stretched by a first stretching amount under tension. When the tension is removed from the substrate 20 and the substrate 20 contracts, peaks 511 as shown in FIG. 6 are created.

符号S11は、配線基板10に張力が加えられていない状態における山部11及び谷部12の振幅を表す。図6に示す例においては、配線51が配線基板10の表面に位置しているので、振幅S11は、配線51の山部及び谷部の振幅である。振幅S11は、例えば1μm以上であり、10μm以上であってもよい。振幅S11が10μm以上である場合、基材20の伸長に追従して配線51が変形し易い。振幅S11は、例えば500μm以下である。 A reference S11 represents the amplitude of the peaks 11 and the valleys 12 when the wiring board 10 is not under tension. In the example shown in FIG. 6, the wiring 51 is located on the surface of the wiring board 10, so the amplitude S11 is the amplitude of the peaks and valleys of the wiring 51. In the example shown in FIG. The amplitude S11 is, for example, 1 μm or more, and may be 10 μm or more. When the amplitude S<b>11 is 10 μm or more, the wiring 51 tends to deform following the elongation of the base material 20 . The amplitude S11 is, for example, 500 μm or less.

山部及び谷部の振幅は、例えば、山部及び谷部が並ぶ方向における一定の範囲にわたって、隣り合う山部と谷部との間の、基材20の法線方向における距離を測定し、それらの平均を求めることにより算出される。「山部及び谷部が並ぶ方向における一定の範囲」は、例えば10mmである。隣り合う山部と谷部との間の距離を測定する測定器としては、レーザー顕微鏡などを用いた非接触式の測定器を用いてもよく、接触式の測定器を用いてもよい。上述の幅W2などの、平面視における配線基板10の要素の寸法も、非接触式の測定器又は接触式の測定器によって測定されてもよい。
断面写真などの画像に基づいて、隣り合う山部と谷部との間の距離を測定してもよい。上述の厚みT1、T2、T3などの、断面図における配線基板10の要素の寸法も、断面写真などの画像に基づいて測定される。上述の幅W2などが、断面写真などの画像に基づいて測定されてもよい。
The amplitude of peaks and valleys is measured, for example, by measuring the distance in the normal direction of the substrate 20 between adjacent peaks and valleys over a certain range in the direction in which the peaks and valleys are aligned, Calculated by averaging them. The "fixed range in the direction in which the peaks and valleys are arranged" is, for example, 10 mm. As a measuring device for measuring the distance between adjacent peaks and valleys, a non-contact measuring device using a laser microscope or the like may be used, or a contact measuring device may be used. The dimensions of the elements of the wiring board 10 in plan view, such as the width W2 described above, may also be measured by a non-contact measuring instrument or a contact measuring instrument.
Based on an image such as a cross-sectional photograph, the distance between adjacent peaks and valleys may be measured. The dimensions of the elements of the wiring board 10 in the cross-sectional view, such as the thicknesses T1, T2, and T3 described above, are also measured based on an image such as a cross-sectional photograph. The width W2 and the like described above may be measured based on an image such as a cross-sectional photograph.

符号F11は、配線基板10に張力が加えられていない状態における山部11及び谷部12の周期を表す。周期F11は、例えば10μm以上であり、100μm以上であってもよい。周期F11は、例えば100mm以下であり、10mm以下であってもよい。山部11及び谷部12の周期F11は、山部11及び谷部12が並ぶ方向における一定の範囲にわたって、複数の山部11の間隔を測定し、それらの平均を求めることにより算出される。 Reference character F11 represents the period of the peaks 11 and the valleys 12 when the wiring board 10 is not under tension. The period F11 is, for example, 10 μm or more, and may be 100 μm or more. The period F11 is, for example, 100 mm or less, and may be 10 mm or less. The period F11 of the ridges 11 and the troughs 12 is calculated by measuring intervals between the ridges 11 over a certain range in the direction in which the ridges 11 and the troughs 12 are arranged and averaging them.

符号M11及びM21はそれぞれ、配線基板10に張力が加えられていない状態における山部11及び谷部12の、長さ方向D1における寸法を表す。図6に示す例において、山部11の寸法M11及び谷部12の寸法M21は略同一である。配線基板10に張力が加えられていない状態の蛇腹形状部13における山部11の比率を、符号X1で表す。比率X1は、M11/(M11+M21)によって算出される。比率X1は、例えば0.40以上0.60以下である。 Reference numerals M11 and M21 represent dimensions in the length direction D1 of the peaks 11 and the valleys 12, respectively, when the wiring board 10 is not under tension. In the example shown in FIG. 6, the dimension M11 of the peak portion 11 and the dimension M21 of the valley portion 12 are substantially the same. The ratio of the peaks 11 in the bellows-shaped portion 13 when the wiring board 10 is not under tension is represented by X1. The ratio X1 is calculated by M11/(M11+M21). The ratio X1 is, for example, 0.40 or more and 0.60 or less.

図6に示すように、第2面22側における配線基板10の表面にも、長さ方向D1に並ぶ複数の山部16や谷部17を含む蛇腹形状部18が現れてもよい。図6に示す例において、山部16は、谷部512に重なる位置に現れ、谷部17は、山部511に重なる位置に現れている。 As shown in FIG. 6, the surface of the wiring board 10 on the second surface 22 side may also have a bellows-shaped portion 18 including a plurality of peaks 16 and valleys 17 aligned in the length direction D1. In the example shown in FIG. 6 , peak 16 appears at a position overlapping valley 512 , and valley 17 appears at a position overlapping peak 511 .

符号S21は、配線基板10に張力が加えられていない状態における山部16及び谷部17の振幅を表す。振幅S21は、振幅S11と同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、振幅S21が振幅S11よりも小さくてもよい。例えば、振幅S21は、振幅S11の0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよく、0.6倍以下であってもよい。振幅S21は、振幅S11の0.1倍以上であってもよく、0.2倍以上であってもよい。なお、「振幅S21が振幅S11よりも小さい」とは、第2面22側における配線基板10の表面に山部及び谷部が現れない場合を含む概念である。 A reference S21 represents the amplitude of the peaks 16 and the valleys 17 when the wiring board 10 is not under tension. Amplitude S21 may be the same as or different from amplitude S11. For example, amplitude S21 may be smaller than amplitude S11. For example, the amplitude S21 may be 0.9 times or less, 0.8 times or less, or 0.6 times or less the amplitude S11. The amplitude S21 may be 0.1 times or more the amplitude S11, or may be 0.2 times or more. Note that "the amplitude S21 is smaller than the amplitude S11" is a concept that includes the case where peaks and valleys do not appear on the surface of the wiring board 10 on the second surface 22 side.

符号F21は、配線基板10に張力が加えられていない状態における山部16及び谷部17の周期を表す。周期F21は、山部11及び谷部12の周期F11と同一であってもよい。 Reference character F21 represents the period of the peaks 16 and the valleys 17 when the wiring board 10 is not under tension. The period F21 may be the same as the period F11 of the peaks 11 and the valleys 12 .

図7は、配線基板10の断面図のその他の例を示している。図7に示すように、配線基板10に張力が加えられていない状態において、山部11の幅M11が谷部12の幅M21よりも小さくてもよい。このような山部11は、例えば、基材20の第1面21の山部及び谷部が経時的に変形し、その影響が蛇腹形状部13に伝わることによって生じ得る。なお、山部11の幅M11及び谷部12の幅M21は、振幅S11の中心における山部11の幅及び谷部12の幅である。山部11の幅M11は、好ましくは、谷部12の幅M21の0.3倍以上であり、0.5倍以上であってもよく、0.7倍以上であってもよい。山部11の幅M11は、谷部12の幅M21の1.0倍未満であってもよく、0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよく、0.7倍以下であってもよい。 FIG. 7 shows another example of a cross-sectional view of the wiring board 10. As shown in FIG. As shown in FIG. 7, the width M11 of the peak portion 11 may be smaller than the width M21 of the valley portion 12 when the wiring board 10 is not under tension. Such peaks 11 may occur, for example, when the peaks and valleys of the first surface 21 of the base material 20 are deformed over time and the influence of the deformation is transmitted to the bellows-shaped portion 13 . The width M11 of the peak portion 11 and the width M21 of the valley portion 12 are the width of the peak portion 11 and the width of the valley portion 12 at the center of the amplitude S11. The width M11 of the peak portion 11 is preferably 0.3 times or more the width M21 of the valley portion 12, may be 0.5 times or more, or may be 0.7 times or more. The width M11 of the peak portion 11 may be less than 1.0 times the width M21 of the valley portion 12, may be 0.9 times or less, may be 0.8 times or less, or may be 0.8 times or less. It may be 7 times or less.

図8は、配線基板10に生じる蛇腹形状部13の山部11の一例を示す平面図である。図8に示す例において、蛇腹形状部13の複数の山部11は、配線51が延びる方向である第1方向D1に沿って並んでいる。図8に示すように、各山部11は、配線51が延びる方向に直交する方向に延びていてもよく、配線51が延びる方向に直交する方向に対して傾斜した方向に延びていてもよい。 FIG. 8 is a plan view showing an example of the ridges 11 of the bellows-shaped portion 13 formed on the wiring substrate 10. FIG. In the example shown in FIG. 8, the plurality of peaks 11 of the bellows-shaped portion 13 are arranged along the first direction D1 in which the wiring 51 extends. As shown in FIG. 8, each peak 11 may extend in a direction orthogonal to the direction in which the wiring 51 extends, or may extend in a direction inclined with respect to the direction orthogonal to the direction in which the wiring 51 extends. .

図9は、配線基板10の断面図のその他の例を示している。図9に示すように、山部16及び谷部17の周期F21は、山部11及び谷部12の周期F11よりも大きくてもよい。例えば、周期F21は、周期F11の1.1倍以上であってもよく、1.2倍以上であってもよく、1.5倍以上であってもよく、2.0倍以上であってもよい。なお、「周期F21が周期F11よりも大きい」とは、第2面22側における配線基板10の表面に山部及び谷部が現れない場合を含む概念である。 FIG. 9 shows another example of a cross-sectional view of the wiring board 10. As shown in FIG. As shown in FIG. 9 , the period F21 of the peaks 16 and the valleys 17 may be greater than the period F11 of the peaks 11 and the valleys 12 . For example, the period F21 may be 1.1 times or more, 1.2 times or more, 1.5 times or more, or 2.0 times or more the period F11. good too. Note that “the period F21 is longer than the period F11” is a concept that includes the case where peaks and valleys do not appear on the surface of the wiring board 10 on the second surface 22 side.

図10は、配線基板10の断面図のその他の例を示している。図10に示すように、山部16及び谷部17の位置が、谷部12及び山部11の位置からJだけずれていてもよい。ずれ量Jは、例えば0.1×F11以上であり、0.2×F11以上であってもよい。 FIG. 10 shows another example of a cross-sectional view of the wiring board 10. As shown in FIG. As shown in FIG. 10, the positions of the peaks 16 and the valleys 17 may be shifted by J from the positions of the valleys 12 and the peaks 11 . The deviation amount J is, for example, 0.1×F11 or more, and may be 0.2×F11 or more.

(配線基板の製造方法)
次に、図11A~図11Cを参照して、配線基板10の製造方法について説明する。
(Method for manufacturing wiring board)
Next, a method for manufacturing the wiring board 10 will be described with reference to FIGS. 11A to 11C.

まず、図11Aに示すように、基材20を準備する基材準備工程を実施する。符号L0は、張力が加えられていない状態の基材20の、第1方向D1における寸法を表している。 First, as shown in FIG. 11A, a substrate preparation step of preparing the substrate 20 is performed. Reference L0 represents the dimension in the first direction D1 of the base material 20 in a non-tensioned state.

続いて、図11Bに示すように、基材20を伸長させる第1伸長工程を実施する。第1伸長工程は、第1方向D1において基材20に第1張力H1を加えて、基材20を寸法L1まで伸長させる。第1伸長工程においては、第1方向D1及び第1方向D1に交差する方向において基材20に張力が加えてられてもよい。例えば、第1伸長工程においては、第1方向D1及び第2方向D2において基材20に張力が加えてられてもよい。 Subsequently, as shown in FIG. 11B, a first elongation step of elongating the base material 20 is performed. The first elongation step applies a first tension H1 to the substrate 20 in the first direction D1 to elongate the substrate 20 to the dimension L1. In the first stretching step, tension may be applied to the substrate 20 in the first direction D1 and in a direction crossing the first direction D1. For example, in the first stretching step, tension may be applied to the substrate 20 in the first direction D1 and the second direction D2.

第1方向D1における基材20の伸長率(=(L1-L0)×100/L0)は、例えば10%以上であり、30%以上であってもよい。基材20の伸長率は、例えば200%以下であり、100%以下であってもよい。伸長工程は、基材20を加熱した状態で実施されてもよく、常温で実施されてもよい。基材20を加熱する場合、基材20の温度は例えば50℃以上100℃以下である。 The elongation rate (=(L1−L0)×100/L0) of the base material 20 in the first direction D1 is, for example, 10% or more, and may be 30% or more. The elongation rate of the base material 20 is, for example, 200% or less, and may be 100% or less. The elongation step may be performed while the substrate 20 is heated, or may be performed at room temperature. When heating the base material 20, the temperature of the base material 20 is 50 to 100 degreeC, for example.

続いて、図11Bに示すように、配線形成工程を実施する。配線形成工程は、第1伸長工程における第1張力H1によって伸長した状態の基材20の第1面21に配線51を設ける。例えば、ベース材及び導電性粒子を含む導電性ペーストを基材20の第1面21に印刷する。 Subsequently, as shown in FIG. 11B, a wiring forming step is performed. In the wiring forming step, the wiring 51 is provided on the first surface 21 of the base material 20 stretched by the first tension H1 in the first stretching step. For example, a conductive paste containing a base material and conductive particles is printed on the first surface 21 of the substrate 20 .

その後、基材20から第1張力Hを取り除く第1収縮工程を実施する。これにより、図11Cにおいて矢印Cで示すように、第1方向D1において基材20が収縮する。基材20が収縮すると、配線51にも変形が生じる。配線51の変形は、上述のように蛇腹形状部として生じる。このようにして、蛇腹形状部が現れている配線基板10を得ることができる。 After that, a first contraction step is performed to remove the first tension H from the substrate 20 . Thereby, the base material 20 shrinks in the first direction D1, as indicated by an arrow C in FIG. 11C. When the base material 20 shrinks, the wiring 51 is also deformed. The deformation of the wiring 51 occurs as a bellows-shaped portion as described above. Thus, the wiring substrate 10 with the bellows-shaped portion exposed can be obtained.

続いて、図12Aに示すように、第1絶縁層70を形成してもよい。例えば、第1絶縁層70を構成する材料の層を印刷法により第1面21上に形成する。続いて、フォトリソグラフィ法などによって層を加工する。これにより、所定の輪郭を有し、第1孔71が形成された第1絶縁層70を得ることができる。 Subsequently, as shown in FIG. 12A, a first insulating layer 70 may be formed. For example, a layer of material forming the first insulating layer 70 is formed on the first surface 21 by a printing method. Subsequently, the layer is processed by photolithography or the like. Thereby, it is possible to obtain the first insulating layer 70 having a predetermined contour and having the first hole 71 formed therein.

続いて、配線基板10に電子部品55を搭載してもよい。例えば、図12Bに示すように、第1孔71にペースト状の半田54を設ける。続いて、電子部品55の端子が半田54上に位置するように、第1絶縁層70上に電子部品55を配置する。続いて、半田54を加熱する。これにより、半田54を介してパッド52と電子部品55とを電気的に接続できる。このようにして、図2に示すように、電子部品55が搭載された配線基板10を得ることができる。 Subsequently, the electronic component 55 may be mounted on the wiring board 10 . For example, as shown in FIG. 12B, paste-like solder 54 is provided in the first holes 71 . Subsequently, the electronic component 55 is arranged on the first insulating layer 70 so that the terminals of the electronic component 55 are positioned on the solder 54 . Subsequently, the solder 54 is heated. Thereby, the pad 52 and the electronic component 55 can be electrically connected via the solder 54 . Thus, as shown in FIG. 2, the wiring board 10 on which the electronic component 55 is mounted can be obtained.

本実施の形態によれば、配線基板10の配線51が複数の山部511を有している。配線基板10の基材20が伸長する際、配線51は、山部511の振幅を低減するように変形することによって、基材20の伸長に追従できる。このため、基材20の伸長に伴って配線51の全長が増加すること及び配線51の断面積が減少することを抑制できる。このことにより、配線基板10の伸長に起因して配線51の抵抗値が増加することを抑制できる。また、配線51にクラックなどの破損が生じることを抑制できる。 According to the present embodiment, wiring 51 of wiring board 10 has a plurality of peaks 511 . When the base material 20 of the wiring board 10 expands, the wiring 51 can follow the elongation of the base material 20 by deforming so as to reduce the amplitude of the peaks 511 . Therefore, it is possible to suppress an increase in the total length of the wiring 51 and a decrease in the cross-sectional area of the wiring 51 due to the elongation of the base material 20 . As a result, it is possible to suppress an increase in the resistance value of the wiring 51 due to the elongation of the wiring board 10 . Moreover, it is possible to suppress the occurrence of damage such as cracks in the wiring 51 .

配線51の抵抗値に関する効果の一例について説明する。第1方向D1における張力が配線基板10に加えられていない第1状態における配線51の電気抵抗値を、第1電気抵抗値と称する。また、第1方向D1において配線基板10に張力が加えられている第2状態における配線51の抵抗値を、第2電気抵抗値と称する。第2状態において、配線基板10は、第1状態に比べて30%伸長している。本実施の形態によれば、配線51に蛇腹形状部を形成することにより、第1電気抵抗値に対する、第1電気抵抗値と第2電気抵抗値の差の絶対値の比率を低減できる。比率は、例えば20%以下であり、より好ましくは10%以下であり、更に好ましくは5%以下である。 An example of the effect related to the resistance value of the wiring 51 will be described. The electrical resistance value of the wiring 51 in the first state in which no tension is applied to the wiring board 10 in the first direction D1 is referred to as the first electrical resistance value. Also, the resistance value of the wiring 51 in the second state in which the wiring substrate 10 is tensioned in the first direction D1 is referred to as a second electrical resistance value. In the second state, wiring board 10 is elongated by 30% compared to the first state. According to the present embodiment, by forming the bellows-shaped portion in the wiring 51, the ratio of the absolute value of the difference between the first electrical resistance value and the second electrical resistance value to the first electrical resistance value can be reduced. The ratio is, for example, 20% or less, more preferably 10% or less, and even more preferably 5% or less.

図13は、第1方向D1において配線基板10に張力を加えて配線基板10を第1状態に比べて25%伸長させた第3状態における配線基板10を拡大して示す断面図である。符号S12及びF12は、第3状態における蛇腹形状部13の振幅及び周期を表している。符号S22及びF22は、第3状態における蛇腹形状部18の振幅及び周期を表している。第3状態における振幅S12は、第1状態における振幅S11の例えば0.8倍以下であり、0.7倍以下であってもよく、0.6倍以下であってもよい。振幅S12は、振幅S11の例えば0.2倍以上であり、0.3倍以上であってもよく、0.4倍以上であってもよい。 FIG. 13 is an enlarged cross-sectional view showing wiring board 10 in a third state in which wiring board 10 is stretched by 25% compared to the first state by applying tension to wiring board 10 in first direction D1. Symbols S12 and F12 represent the amplitude and period of the bellows-shaped portion 13 in the third state. Symbols S22 and F22 represent the amplitude and period of the bellows-shaped portion 18 in the third state. The amplitude S12 in the third state is, for example, 0.8 times or less the amplitude S11 in the first state, may be 0.7 times or less, or may be 0.6 times or less. The amplitude S12 is, for example, 0.2 times or more the amplitude S11, may be 0.3 times or more, or may be 0.4 times or more.

符号M12及びM22はそれぞれ、第3状態における山部11及び谷部12の、長さ方向D1における寸法を表す。第3状態における寸法M12及び寸法M22は、第1状態における山部11の寸法M11及び谷部12の寸法M21に比べて大きい。 Symbols M12 and M22 respectively represent the dimensions in the length direction D1 of the peaks 11 and the valleys 12 in the third state. The dimension M12 and the dimension M22 in the third state are larger than the dimension M11 of the peak portion 11 and the dimension M21 of the valley portion 12 in the first state.

配線基板10を伸長させるとき、山部11及び谷部12の寸法は、両者の比率を維持しながら増加してもよい。第3状態における山部11の比率を、符号X2で表す。比率X2は、M12/(M12+M22)によって算出される。比率X2は、第1状態における上述のX1と同等であり、例えば0.40以上0.60以下である。また、比率X1と比率X2の差の絶対値は、例えば0.20以下であり、0.15以下であってもよく、0.10以下であってもよく、0.08以下であってもよく、0.06以下であってもよく、0.04以下であってもよい。 When the wiring substrate 10 is stretched, the dimensions of the peaks 11 and the valleys 12 may increase while maintaining the ratio between them. The ratio of peaks 11 in the third state is represented by symbol X2. The ratio X2 is calculated by M12/(M12+M22). The ratio X2 is equivalent to X1 described above in the first state, and is, for example, 0.40 or more and 0.60 or less. Further, the absolute value of the difference between the ratio X1 and the ratio X2 is, for example, 0.20 or less, may be 0.15 or less, may be 0.10 or less, or may be 0.08 or less. It may be 0.06 or less, or 0.04 or less.

また、本実施の形態によれば、配線51が第1安定領域241に配置されている。このため、第1周囲領域24と第1重なり領域23の境界において配線51に変形、破損などが生じることを抑制できる。また、第1剛性部材30の寸法K1に対する第1コーナー32の面取り寸法R1の比が0.020以上であるので、第1安定領域241の寸法W1を十分に確保できる。このため、2本以上の配線51が、第1安定領域241を通って第1重なり領域23に至ることができる。 Further, according to this embodiment, the wiring 51 is arranged in the first stable region 241 . Therefore, it is possible to prevent the wiring 51 from being deformed or damaged at the boundary between the first peripheral region 24 and the first overlapping region 23 . Moreover, since the ratio of the chamfered dimension R1 of the first corner 32 to the dimension K1 of the first rigid member 30 is 0.020 or more, the dimension W1 of the first stable region 241 can be sufficiently ensured. Therefore, two or more wires 51 can reach the first overlapping region 23 through the first stable region 241 .

配線基板10の用途は、例えば、ヘルスケア分野、医療分野、介護分野、エレクトロニクス分野、スポーツ・フィットネス分野、美容分野、モビリティ分野、畜産・ペット分野、アミューズメント分野、ファッション・アパレル分野、セキュリティ分野、ミリタリー分野、流通分野、教育分野、建材・家具・装飾分野、環境エネルギー分野、農林水産分野、ロボット分野などである。例えば、人の腕などの身体の一部に取り付ける製品を、本実施の形態による配線基板10を用いて構成する。配線基板10は伸長できるので、例えば配線基板10を伸長させた状態で身体に取り付けることにより、配線基板10を身体の一部により密着させることができる。このため、良好な着用感を実現できる。また、配線基板10が伸長した場合に配線51の電気抵抗値が低下することを抑制できるので、配線基板10の良好な電気特性を実現できる。他にも配線基板10は伸長できるので、人などの生体に限らず曲面や立体形状に沿わせて設置や組込むことが可能である。それらの製品の例は、バイタルセンサ、マスク、補聴器、歯ブラシ、絆創膏、湿布、コンタクトレンズ、義手、義足、義眼、カテーテル、ガーゼ、薬液パック、包帯、ディスポーザブル生体電極、おむつ、リハビリ用機器、家電製品、ディスプレイ、サイネージ、パーソナルコンピューター、携帯電話、マウス、スピーカー、スポーツウェア、リストバンド、はちまき、手袋、水着、サポーター、ボール、グローブ、ラケット、クラブ、バット、釣竿、リレーのバトンや器械体操用具、またそのグリップ、身体トレーニング用機器、浮き輪、テント、水着、ゼッケン、ゴールネット、ゴールテープ、薬液浸透美容マスク、電気刺激ダイエット用品、懐炉、付け爪、タトゥー、自動車、飛行機、列車、船舶、自転車、ベビーカー、ドローン、車椅子、などのシート、インパネ、タイヤ、内装、外装、サドル、ハンドル、道路、レール、橋、トンネル、ガスや水道の管、電線、テトラポッド、ロープ首輪、リード、ハーネス、動物用のタグ、ブレスレット、ベルトなど、ゲーム機器、コントローラーなどのハプティクスデバイス、ランチョンマット、チケット、人形、ぬいぐるみ、応援グッズ、帽子、服、メガネ、靴、インソール、靴下、ストッキング、スリッパ、インナーウェア、マフラー、耳あて、鞄、アクセサリー、指輪、時計、ネクタイ、個人ID認識デバイス、ヘルメット、パッケージ、ICタグ、ペットボトル、文具、書籍、ペン、カーペット、ソファ、寝具、照明、ドアノブ、手すり、花瓶、ベッド、マットレス、座布団、カーテン、ドア、窓、天井、壁、床、電池、ビニールハウス、ネット(網)、ロボットハンド、ロボット外装等である。 Applications of the wiring board 10 include, for example, the healthcare field, the medical field, the nursing field, the electronics field, the sports/fitness field, the beauty field, the mobility field, the livestock/pet field, the amusement field, the fashion/apparel field, the security field, and the military field. distribution, education, building materials/furniture/decoration, environmental energy, agriculture, forestry and fisheries, and robots. For example, a product to be attached to a part of the human body such as an arm is constructed using the wiring board 10 according to the present embodiment. Since the wiring board 10 can be stretched, for example, by attaching the wiring board 10 to the body in a stretched state, the wiring board 10 can be brought into closer contact with a part of the body. Therefore, it is possible to realize a good wearing feeling. In addition, since it is possible to suppress the decrease in the electrical resistance value of the wiring 51 when the wiring board 10 is elongated, it is possible to realize good electrical characteristics of the wiring board 10 . In addition, since the wiring board 10 can be stretched, it can be installed or incorporated along a curved surface or a three-dimensional shape as well as a living body such as a human being. Examples of such products include vital sensors, masks, hearing aids, toothbrushes, plasters, poultices, contact lenses, artificial hands, artificial legs, artificial eyes, catheters, gauze, drug packs, bandages, disposable bioelectrodes, diapers, rehabilitation equipment, and household appliances. , displays, signage, personal computers, mobile phones, mice, speakers, sportswear, wristbands, headbands, gloves, swimwear, supporters, balls, gloves, rackets, clubs, bats, fishing rods, relay batons, gymnastics equipment, and Grips, equipment for physical training, floats, tents, swimwear, bibs, goal nets, goal tapes, medical solution penetration beauty masks, electrical stimulation diet products, pocket warmers, false nails, tattoos, automobiles, airplanes, trains, ships, bicycles, Strollers, drones, wheelchairs, seats, instrument panels, tires, interiors, exteriors, saddles, handles, roads, rails, bridges, tunnels, gas and water pipes, electric wires, tetrapods, rope collars, leads, harnesses, animals tags, bracelets, belts, etc., game consoles, haptic devices such as controllers, luncheon mats, tickets, dolls, stuffed animals, support goods, hats, clothes, glasses, shoes, insoles, socks, stockings, slippers, innerwear, mufflers , earmuffs, bags, accessories, rings, watches, neckties, personal ID recognition devices, helmets, packages, IC tags, plastic bottles, stationery, books, pens, carpets, sofas, bedding, lighting, doorknobs, handrails, vases, beds , mattresses, cushions, curtains, doors, windows, ceilings, walls, floors, batteries, vinyl houses, nets, robot hands, robot exteriors, etc.

上述した第1の実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、第1の実施の形態と同様に構成され得る部分について、第1の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、第1の実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。 Various modifications can be made to the first embodiment described above. Modifications will be described below with reference to the drawings as necessary. In the following description and the drawings used in the following description, the same reference numerals as those used for the corresponding portions in the first embodiment are used for the portions that can be configured in the same manner as in the first embodiment. , and overlapping explanations are omitted. Further, when it is clear that the effects obtained in the first embodiment can also be obtained in the modified example, the description thereof may be omitted.

(第1の変形例)
図14は、第1の変形例に係る配線基板10の平面図である。図15は、図14の配線基板10のB-B線に沿った断面図である。図14及び図15に示すように、配線基板10は、平面視において少なくとも部分的に配線51に重なる第2絶縁層75を備えていてもよい。図14に示す例において、第2絶縁層75は、配線51に沿って延びている。
(First modification)
FIG. 14 is a plan view of wiring board 10 according to the first modification. FIG. 15 is a cross-sectional view of the wiring substrate 10 of FIG. 14 taken along line BB. As shown in FIGS. 14 and 15, the wiring board 10 may include a second insulating layer 75 that at least partially overlaps the wiring 51 in plan view. In the example shown in FIG. 14, the second insulating layer 75 extends along the wiring 51 .

〔制御層〕
第2絶縁層75は、基材20の伸縮を制御するために設けられている層である。第2絶縁層75は、絶縁性を有する。第2絶縁層75は、基材20の第1周囲領域24に位置していてもよい。第2絶縁層75は、第1面21の法線方向に沿って見た場合に、配線51に重なるか、若しくは配線51に近接するよう配置されている。第2絶縁層75は、配線51の全体に重なっていてもよい。
[Control layer]
The second insulating layer 75 is a layer provided to control expansion and contraction of the base material 20 . The second insulating layer 75 has insulating properties. A second insulating layer 75 may be located on the first peripheral region 24 of the substrate 20 . The second insulating layer 75 is arranged so as to overlap the wiring 51 or be close to the wiring 51 when viewed along the normal direction of the first surface 21 . The second insulating layer 75 may overlap the entire wiring 51 .

第2絶縁層75は、基材20の弾性係数よりも高い弾性係数を有してもよい。第2絶縁層75の弾性係数は、例えば100MPa以上であり、1GPa以上であってもよく、10GPa以上であってもよい。第2絶縁層75の弾性係数は、基材20の弾性係数の例えば1.1倍以上であり、2倍以上であってもよく、10倍以上であってもよく、100倍以上であってもよい。 The second insulating layer 75 may have an elastic modulus higher than that of the substrate 20 . The elastic modulus of the second insulating layer 75 is, for example, 100 MPa or more, may be 1 GPa or more, or may be 10 GPa or more. The elastic modulus of the second insulating layer 75 is, for example, 1.1 times or more, may be 2 times or more, may be 10 times or more, or may be 100 times or more that of the base material 20. good too.

第2絶縁層75の弾性係数は、基材20の弾性係数以下であってもよい。第2絶縁層75の弾性係数は、基材20の弾性係数の例えば1.0倍以下であり、0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよい。 The elastic modulus of the second insulating layer 75 may be equal to or lower than the elastic modulus of the base material 20 . The elastic modulus of the second insulating layer 75 is, for example, 1.0 times or less, may be 0.9 times or less, or may be 0.8 times or less that of the base material 20 .

第2絶縁層75の材料は、伸縮性を有していてもよく、伸縮性を有していなくてもよい。第2絶縁層75が伸縮性を有する材料を含む場合、第2絶縁層75は、変形に対する耐性を有することができる。 The material of the second insulating layer 75 may or may not have elasticity. If the second insulating layer 75 contains a stretchable material, the second insulating layer 75 can be resistant to deformation.

第2絶縁層75に用いられる、伸縮性を有さない材料の例は、樹脂である。樹脂としては、一般的な樹脂を用いることができ、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等のいずれも用いることができる。第2絶縁層75が樹脂又はエラストマーを含む場合、第2絶縁層75としては、樹脂基材を用いることもできる。 An example of a non-stretchable material used for the second insulating layer 75 is resin. As the resin, a general resin can be used, and for example, any of thermoplastic resin, thermosetting resin, photo-setting resin and the like can be used. When the second insulating layer 75 contains resin or elastomer, the second insulating layer 75 may be made of a resin base material.

第2絶縁層75に用いられる材料の伸縮性は、基材20の伸縮性と同一又は同等であってもよい。
伸縮性を有する材料の例は、エラストマーである。エラストマーとしては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができる。エラストマーは、例えば、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、アミド系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ポリブタジエン、ポリイソブチレン、ポリスチレンブタジエン、ポリクロロプレン等である。第2絶縁層75を構成する材料がこれらの樹脂である場合、第2絶縁層75は、透明性を有していてもよい。第2絶縁層75は、遮光性、例えば紫外線を遮蔽する特性を有していてもよい。例えば、第2絶縁層75は黒色であってもよい。第2絶縁層75の色と基材20の色とは、同一であってもよく、異なっていてもよい。
The stretchability of the material used for the second insulating layer 75 may be the same as or equal to the stretchability of the substrate 20 .
An example of a stretchable material is an elastomer. As the elastomer, general thermoplastic elastomers and thermosetting elastomers can be used. Examples of elastomers include styrene-based elastomers, olefin-based elastomers, urethane-based elastomers, amide-based elastomers, silicone rubbers, urethane rubbers, fluororubbers, polybutadiene, polyisobutylene, polystyrene-butadiene, and polychloroprene. When the material forming the second insulating layer 75 is these resins, the second insulating layer 75 may have transparency. The second insulating layer 75 may have a light blocking property, for example, a property of blocking ultraviolet rays. For example, the second insulating layer 75 may be black. The color of the second insulating layer 75 and the color of the substrate 20 may be the same or different.

第2絶縁層75の厚みT4は、伸縮に耐え得る厚みであればよく、第2絶縁層75の材料等に応じて適宜選択される。第2絶縁層75の厚みT4は、例えば0.1μm以上であり、1μm以上であってもよく、10μm以上であってもよい。第2絶縁層75の厚みは、例えば5mm以下であり、1mm以下であってもよく、500μm以下であってもよく、100μm以下であってもよい。第2絶縁層75が薄すぎると、蛇腹形状部の周期を制御する効果が十分に得られない場合がある。また、第2絶縁層75が厚すぎると、第2絶縁層75の弾性係数が上述の関係を満たしていても、第2絶縁層75の曲げ剛性が大きくなり、配線基板10の伸縮性が低下してしまう場合がある。 The thickness T4 of the second insulating layer 75 may be any thickness that can withstand expansion and contraction, and is appropriately selected according to the material of the second insulating layer 75 and the like. The thickness T4 of the second insulating layer 75 is, for example, 0.1 μm or more, may be 1 μm or more, or may be 10 μm or more. The thickness of the second insulating layer 75 is, for example, 5 mm or less, may be 1 mm or less, may be 500 μm or less, or may be 100 μm or less. If the second insulating layer 75 is too thin, the effect of controlling the period of the accordion-shaped portion may not be sufficiently obtained. Further, if the second insulating layer 75 is too thick, even if the elastic modulus of the second insulating layer 75 satisfies the above relationship, the flexural rigidity of the second insulating layer 75 increases and the stretchability of the wiring board 10 decreases. It may happen.

第2絶縁層75の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、基材20上や後述する支持基板40上に配線51を形成した後、第2絶縁層75を構成する材料を印刷法により配線51上に設けてもよい。第2絶縁層75を構成する樹脂フィルムなどの部材を基材20又は支持基板40に接着層などを介して貼り付けてもよい。 A method for forming the second insulating layer 75 is appropriately selected according to the material and the like. For example, after the wiring 51 is formed on the base material 20 or on the support substrate 40 described later, the material forming the second insulating layer 75 may be provided on the wiring 51 by a printing method. A member such as a resin film forming the second insulating layer 75 may be attached to the base material 20 or the support substrate 40 via an adhesive layer or the like.

第2絶縁層75を基材20や支持基板40に貼り付けるための接着層は、分子接着層であってもよい。なお、「分子接着」とは、分子接着剤となる化合物を2つの被着体の間に付与し、化学結合によりこれらの2つの被着体を接着接合することをいう。 The adhesive layer for attaching the second insulating layer 75 to the base material 20 or the support substrate 40 may be a molecular adhesive layer. The term "molecular adhesion" refers to the application of a molecular adhesive compound between two adherends to bond the two adherends by chemical bonding.

分子接着層に用いられる分子接着剤としては、公知の分子接着剤を用いることができ、配線基板10の用途等に応じて適宜選択される。例えば、シランカップリング剤、チオール系化合物等が挙げられる。分子接着層の厚さは、例えば数nm~100nm程度である。 A known molecular adhesive can be used as the molecular adhesive used for the molecular adhesive layer, and the molecular adhesive is appropriately selected according to the use of the wiring board 10 and the like. Examples include silane coupling agents and thiol compounds. The thickness of the molecular adhesion layer is, for example, about several nm to 100 nm.

(第2の変形例)
上述の第1の実施の形態においては、第1剛性部材30が基材20の第2面22側に位置する例を示したが、第1剛性部材30の配置は特には限定されない。
例えば図16に示すように、第1剛性部材30は基材20に埋め込まれていてもよい。この場合、第1剛性部材30は、基材20の第1面21又は第2面22のいずれにも露出していなくてもよい。若しくは、第1剛性部材30は、基材20の第1面21又は第2面22に露出していてもよい。例えば図17に示すように、第1剛性部材30は、第1面21に露出していてもよい。
また、図示はしないが、第1剛性部材30は、基材20の第1面21側に位置していてもよい。
(Second modification)
Although the first rigid member 30 is positioned on the second surface 22 side of the base material 20 in the first embodiment described above, the arrangement of the first rigid member 30 is not particularly limited.
For example, as shown in FIG. 16, the first rigid member 30 may be embedded in the base material 20 . In this case, the first rigid member 30 does not have to be exposed on either the first surface 21 or the second surface 22 of the base material 20 . Alternatively, the first rigid member 30 may be exposed on the first surface 21 or the second surface 22 of the base material 20 . For example, as shown in FIG. 17, the first rigid member 30 may be exposed on the first surface 21 .
Also, although not shown, the first rigid member 30 may be positioned on the first surface 21 side of the base material 20 .

(第3の変形例)
第1の実施の形態においては、配線51が基材20に設けられる例を示したが、これに限られることはない。本変形例においては、配線51が支持基板によって支持される例を示す。
(Third modification)
In the first embodiment, an example in which the wiring 51 is provided on the base material 20 was shown, but the present invention is not limited to this. This modified example shows an example in which the wiring 51 is supported by a support substrate.

図18は、第1の変形例に係る配線基板10の断面図である。配線基板10は、基材20、第1剛性部材30、支持基板40及び導電層50を備える。配線基板10は、第1絶縁層70を備えていてもよい。 FIG. 18 is a cross-sectional view of wiring board 10 according to a first modification. The wiring board 10 includes a base material 20 , a first rigid member 30 , a support substrate 40 and a conductive layer 50 . The wiring board 10 may include a first insulating layer 70 .

〔支持基板〕
支持基板40は、基材20よりも低い伸縮性を有するよう構成された部材である。支持基板40は、基材20に対向する第2面42と、第2面42の反対側に位置する第1面41と、を含む。図18に示す例において、配線51及びパッド52を含む導電層50は、支持基板40の第1面41側に位置している。支持基板40の第2面42は、基材20に接合されている。
[Supporting substrate]
The support substrate 40 is a member configured to have lower stretchability than the base material 20 . The support substrate 40 includes a second surface 42 facing the base material 20 and a first surface 41 located on the opposite side of the second surface 42 . In the example shown in FIG. 18, the conductive layer 50 including the wiring 51 and the pads 52 is positioned on the first surface 41 side of the support substrate 40 . A second surface 42 of the support substrate 40 is bonded to the base material 20 .

図示はしないが、導電層50は、支持基板40の第2面42側に位置していてもよい。 Although not shown, the conductive layer 50 may be positioned on the second surface 42 side of the support substrate 40 .

基材20と支持基板40との間に、接着剤を含む接着層45が設けられていてもよい。接着剤としては、例えばアクリル系接着剤、シリコーン系接着剤等、シロキサン系プライマー、チオール系プライマー等を用いることができる。HMDSO(ヘキサメチルジシロキサン)、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)等の気相法により作製した分子膜を、接着層45として用いてもよい。接着層45の厚みは、例えば5μm以上200μm以下である。 An adhesive layer 45 containing an adhesive may be provided between the base material 20 and the support substrate 40 . Examples of adhesives that can be used include acrylic adhesives, silicone adhesives, siloxane primers, thiol primers, and the like. A molecular film of HMDSO (hexamethyldisiloxane), HMDS (hexamethyldisilazane), or the like, which is produced by a vapor phase method, may be used as the adhesive layer 45 . The thickness of the adhesive layer 45 is, for example, 5 μm or more and 200 μm or less.

図19は、配線51が延びる方向における配線基板10の断面図の一例である。本変形例においては、支持基板40に接合された基材20から張力が取り除かれて基材20が収縮するとき、配線51の山部511及び谷部512と同様の山部及び谷部が支持基板40にも現れる。支持基板40の特性や寸法は、このような山部や谷部が形成され易くなるよう設定されている。例えば、支持基板40は、基材20の弾性係数よりも大きい弾性係数を有する。 FIG. 19 is an example of a cross-sectional view of the wiring board 10 in the direction in which the wiring 51 extends. In this modification, when the tension is removed from the base material 20 bonded to the support substrate 40 and the base material 20 contracts, the peaks and valleys similar to the peaks 511 and valleys 512 of the wiring 51 are supported. It also appears on the substrate 40 . The characteristics and dimensions of the support substrate 40 are set to facilitate the formation of such peaks and valleys. For example, the support substrate 40 has an elastic modulus greater than that of the base material 20 .

支持基板40の弾性係数は、例えば100MPa以上であり、1GPa以上であってもよく、10GPa以上であってもよい。支持基板40の弾性係数は、基材20の弾性係数の例えば10倍以上であり、100倍以上であってもよく、1000倍以上であってもよい。支持基板40の弾性係数は、基材20の弾性係数の例えば50000倍以下であり、10000倍以下であってもよく、5000倍以下であってもよい。このように支持基板40の弾性係数を設定することにより、山部511及び谷部512の周期F11が小さくなり過ぎることを抑制できる。また、山部511及び谷部512において局所的な折れ曲がりが生じることを抑制できる。
支持基板40の弾性係数が低すぎると、配線51の形成工程中に支持基板40が変形し易く、この結果、支持基板40に対する配線51の位置合わせが難しくなる。また、支持基板40の弾性係数が高すぎると、弛緩時の基材20の復元が難しくなり、また基材20の割れや折れが発生し易くなる。
The elastic modulus of the support substrate 40 is, for example, 100 MPa or more, may be 1 GPa or more, or may be 10 GPa or more. The elastic modulus of the support substrate 40 is, for example, 10 times or more, may be 100 times or more, or may be 1000 times or more that of the base material 20 . The elastic modulus of the support substrate 40 is, for example, 50000 times or less, may be 10000 times or less, or may be 5000 times or less than the elastic modulus of the base material 20 . By setting the elastic modulus of the support substrate 40 in this way, it is possible to prevent the period F11 of the peaks 511 and the valleys 512 from becoming too small. Moreover, it is possible to suppress the occurrence of local bending in the peak portions 511 and the valley portions 512 .
If the modulus of elasticity of the support substrate 40 is too low, the support substrate 40 is likely to deform during the process of forming the wirings 51 , and as a result, alignment of the wirings 51 with respect to the support substrate 40 becomes difficult. Further, if the elastic modulus of the support substrate 40 is too high, it becomes difficult to restore the base material 20 when relaxed, and the base material 20 is likely to crack or break.

支持基板40の厚みT5は、例えば500nm以上であり、1μm以上であってもよい。支持基板40の厚みT5は、例えば10μm以下であり、5μm以下であってもよい。支持基板40の厚みT5が小さすぎると、支持基板40の製造工程や、支持基板40上に配線51などの部材を形成する工程における、支持基板40のハンドリングが難しくなる。支持基板40の厚みT5が大きすぎると、弛緩時の基材20の復元が難しくなり、目標の基材20の伸縮が得られなくなる。 The thickness T5 of the support substrate 40 is, for example, 500 nm or more, and may be 1 μm or more. The thickness T5 of the support substrate 40 is, for example, 10 μm or less, and may be 5 μm or less. If the thickness T5 of the support substrate 40 is too small, it becomes difficult to handle the support substrate 40 in the process of manufacturing the support substrate 40 and the process of forming members such as the wirings 51 on the support substrate 40 . If the thickness T5 of the support substrate 40 is too large, it becomes difficult to restore the base material 20 during relaxation, and the desired expansion and contraction of the base material 20 cannot be obtained.

支持基板40は、例えば、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂等の樹脂を含んでいてもよい。ポリエチレンナフタレート又はポリイミドは、耐久性、耐熱性に優れており、好ましく用いられる。 The support substrate 40 may contain, for example, resin such as polyethylene naphthalate, polyimide, polyethylene terephthalate, polycarbonate, and acrylic resin. Polyethylene naphthalate or polyimide is excellent in durability and heat resistance and is preferably used.

支持基板40の弾性係数を算出する方法としては、支持基板40のサンプルを用いて、ASTM D882に準拠して引張試験を実施するという方法を採用できる。 As a method of calculating the elastic modulus of the support substrate 40, a method of performing a tensile test in accordance with ASTM D882 using a sample of the support substrate 40 can be adopted.

(配線基板の製造方法)
次に、図20A~図20Dを参照して、本変形例に係る配線基板10の製造方法について説明する。
(Method for manufacturing wiring board)
Next, with reference to FIGS. 20A to 20D, a method for manufacturing the wiring board 10 according to this modification will be described.

まず、図20Aに示すように、支持基板40を準備する。支持基板40は、キャリア基材80の上に配置されてもよい。続いて、図20Aに示すように、支持基板40の第1面41に導電層50を設ける。例えば、まず、蒸着法、めっき法などによって支持基板40の第1面41に銅層などの導電性を有する層を形成する。続いて、フォトリソグラフィ法およびエッチング法を用いて層を加工する。これにより、配線51を構成する導電層50を第1面41に形成できる。その後、図20Aに示すように、第1絶縁層70を形成してもよい。図示はしないが、支持基板40を基材20に接合した後に第1絶縁層70を形成してもよい。 First, as shown in FIG. 20A, a support substrate 40 is prepared. A support substrate 40 may be placed over a carrier substrate 80 . Subsequently, as shown in FIG. 20A, a conductive layer 50 is provided on the first surface 41 of the support substrate 40 . For example, first, a conductive layer such as a copper layer is formed on the first surface 41 of the support substrate 40 by vapor deposition, plating, or the like. Subsequently, the layer is processed using photolithographic and etching methods. Thereby, the conductive layer 50 forming the wiring 51 can be formed on the first surface 41 . A first insulating layer 70 may then be formed as shown in FIG. 20A. Although not shown, the first insulating layer 70 may be formed after the support substrate 40 is bonded to the base material 20 .

続いて、図20Bにおいて矢印で示すように、支持基板40をキャリア基材80から取り外す。例えば、まず、支持基板40に粘着フィルム85を貼り付ける。続いて、粘着フィルム85を持ち上げる。これにより、支持基板40がキャリア基材80から取り外される。 Subsequently, the support substrate 40 is removed from the carrier substrate 80 as indicated by the arrow in FIG. 20B. For example, first, the adhesive film 85 is attached to the support substrate 40 . Then, the adhesive film 85 is lifted. This removes the support substrate 40 from the carrier base 80 .

続いて、図20Cに示すように、基材20を伸長させる第1伸長工程を実施する。その後、配線形成工程を実施する。配線形成工程は、伸長した状態の基材20の第1面21に、配線51が設けられた支持基板40の第2面42を接合させる。基材20と支持基板40との間に接着層45を設けてもよい。 Subsequently, as shown in FIG. 20C, a first elongation step of elongating the base material 20 is performed. Then, a wiring formation process is implemented. In the wiring forming step, the second surface 42 of the support substrate 40 provided with the wiring 51 is joined to the first surface 21 of the base material 20 in the extended state. An adhesive layer 45 may be provided between the base material 20 and the support substrate 40 .

続いて、図20Dに示すように、支持基板40から粘着フィルム85を取り外す。その後、基材20から第1張力H1を取り除く第1収縮工程を実施する。これにより、第1方向D1において基材20が収縮する。基材20が収縮すると、支持基板40及び配線51にも変形が生じる。支持基板40及び配線51の変形は、上述のように蛇腹形状部として生じる。このようにして、支持基板40を備える配線基板10を得ることができる。その後、第1の実施の形態の場合と同様に、配線基板10に電子部品55を搭載してもよい。 Subsequently, as shown in FIG. 20D, the adhesive film 85 is removed from the support substrate 40. Then, as shown in FIG. After that, a first contraction step is performed to remove the first tension H1 from the base material 20 . Thereby, the base material 20 contracts in the first direction D1. When the base material 20 shrinks, the support substrate 40 and the wiring 51 are also deformed. Deformation of the support substrate 40 and the wiring 51 occurs as a bellows-shaped portion as described above. Thus, the wiring substrate 10 including the support substrate 40 can be obtained. After that, the electronic component 55 may be mounted on the wiring board 10 as in the case of the first embodiment.

本変形例においても、配線51を第1安定領域241に配置することにより、第1周囲領域24と第1重なり領域23の境界において配線51に変形、破損などが生じることを抑制できる。 Also in this modified example, by arranging the wiring 51 in the first stable region 241 , it is possible to prevent the wiring 51 from being deformed or damaged at the boundary between the first surrounding region 24 and the first overlapping region 23 .

(第4の変形例)
図21は、第4の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図21に示すように、支持基板40を備える配線基板10が、平面視において少なくとも部分的に配線51に重なる第2絶縁層75を備えていてもよい。
(Fourth modification)
FIG. 21 is a cross-sectional view showing a wiring board 10 according to a fourth modification. As shown in FIG. 21, the wiring board 10 including the support substrate 40 may include a second insulating layer 75 that at least partially overlaps the wiring 51 in plan view.

(第5の変形例)
図22は、第5の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図22に示すように、配線基板10は、電子部品55を覆う保護層60を備えていてもよい。保護層60は、平面視において電子部品55と重ならない領域にまで広がっていてもよい。例えば、保護層60は、平面視において第1剛性部材30の外側に位置し、配線51に重なっていてもよい。図22の例において、保護層60は、配線基板10の全域に広がっている。
(Fifth Modification)
FIG. 22 is a cross-sectional view showing a wiring board 10 according to a fifth modification. As shown in FIG. 22 , wiring board 10 may include protective layer 60 that covers electronic component 55 . The protective layer 60 may extend to a region that does not overlap the electronic component 55 in plan view. For example, the protective layer 60 may be located outside the first rigid member 30 in plan view and may overlap the wiring 51 . In the example of FIG. 22, the protective layer 60 extends over the entire wiring board 10 .

保護層60を備える配線基板10は、図22に示すように、支持基板40を備えていてもよい。図示はしないが、保護層60を備える配線基板10は、支持基板40を備えていなくてもよい。 The wiring board 10 having the protective layer 60 may have a support substrate 40 as shown in FIG. Although not shown, the wiring board 10 including the protective layer 60 may not include the support substrate 40 .

保護層60は、絶縁性を有していてもよい。保護層60は、基材20と同様に、伸縮性を有していてもよい。保護層60の弾性係数は、例えば10MPa以下であり、1MPa以下であってもよい。保護層60の弾性係数は、例えば1kPa以上であり、10kPa以上であってもよい。 The protective layer 60 may have insulating properties. Like the base material 20, the protective layer 60 may have stretchability. The elastic modulus of the protective layer 60 is, for example, 10 MPa or less, and may be 1 MPa or less. The elastic modulus of the protective layer 60 is, for example, 1 kPa or more, and may be 10 kPa or more.

保護層60の弾性係数を算出する方法としては、保護層60のサンプルを用いて、JIS K6251に準拠して引張試験を実施するという方法を採用できる。また、保護層60のサンプルの弾性係数を、ISO14577に準拠してナノインデンテーション法によって測定するという方法を採用してもよい。 As a method of calculating the elastic modulus of the protective layer 60, a method of performing a tensile test in accordance with JIS K6251 using a sample of the protective layer 60 can be adopted. Alternatively, a method of measuring the elastic modulus of a sample of the protective layer 60 by a nanoindentation method in compliance with ISO14577 may be employed.

保護層60は、基材20と同様に、エラストマーを主成分として含んでいてもよい。保護層60の材料としては、基材20で例示した材料を用いることができる。保護層60の厚みT6は、例えば10μmであり、20μm以上であってもよく、30μm以上であってもよい。保護層60の厚みT6は、例えば10mm以下であり、3mm以下であってもよく、1mm以下であってもよい。 Like the base material 20, the protective layer 60 may contain an elastomer as a main component. As the material of the protective layer 60, the materials exemplified for the base material 20 can be used. The thickness T6 of the protective layer 60 is, for example, 10 μm, may be 20 μm or more, or may be 30 μm or more. The thickness T6 of the protective layer 60 is, for example, 10 mm or less, may be 3 mm or less, or may be 1 mm or less.

保護層60の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、基材20又は支持基板40に電子部品55を設けた後、保護層60を構成する材料を印刷法により形成してもよい。保護層60を構成する樹脂フィルムなどの部材を基材20又は支持基板40に接着層などを介して貼り付けてもよい。 A method for forming the protective layer 60 is appropriately selected according to the material and the like. For example, after providing the electronic component 55 on the base material 20 or the support substrate 40, the material forming the protective layer 60 may be formed by a printing method. A member such as a resin film that constitutes the protective layer 60 may be attached to the base material 20 or the support substrate 40 via an adhesive layer or the like.

(第6の変形例)
図23は、第6の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図23に示すように、配線基板10は、少なくとも1つの第2剛性部材35を備えていてもよい。配線基板10は、2つ以上の第2剛性部材35を備えていてもよい。第2剛性部材35は、導電層50と電子部品55との間に介在され、基材20よりも高い剛性を有する部材である。図23に示すように、第2剛性部材35には導電体38が設けられていてもよい。
(Sixth modification)
FIG. 23 is a cross-sectional view showing a wiring board 10 according to a sixth modification. As shown in FIG. 23, wiring board 10 may include at least one second rigid member 35 . The wiring board 10 may include two or more second rigid members 35 . The second rigid member 35 is interposed between the conductive layer 50 and the electronic component 55 and is a member having higher rigidity than the base material 20 . As shown in FIG. 23, the second rigid member 35 may be provided with a conductor 38 .

第2剛性部材35及び導電体38は、例えばプリント基板を構成している。この場合、第2剛性部材35は、ガラスエポキシ基板などの基板である。導電体38は、基板に形成されている配線、貫通電極などである。導電体38は、電子部品55の図示しない端子に接続されている。電子部品55は、導電体38を介して配線51に電気的に接続される。例えば、導電体38は、半田54に接続される。この場合、電子部品55は、導電体38、半田54及びパッド52を介して配線51に電気的に接続される。 The second rigid member 35 and conductor 38 constitute, for example, a printed circuit board. In this case, the second rigid member 35 is a substrate such as a glass epoxy substrate. The conductor 38 is a wiring, a through electrode, or the like formed on the substrate. The conductor 38 is connected to a terminal (not shown) of the electronic component 55 . The electronic component 55 is electrically connected to the wiring 51 via the conductor 38 . For example, conductor 38 is connected to solder 54 . In this case, the electronic component 55 is electrically connected to the wiring 51 via the conductor 38 , the solder 54 and the pad 52 .

第2剛性部材35の剛性を表すパラメータは、例えば弾性係数である。第2剛性部材35の弾性係数は、基材20の弾性係数よりも高くてもよい。第2剛性部材35の弾性係数は、基材20の弾性係数の例えば10倍以上であり、100倍以上であってもよく、1000倍以上であってもよい。第2剛性部材35の弾性係数は、基材20の弾性係数の例えば10000倍以下であり、50000倍以下であってもよい。第2剛性部材35の弾性係数は、例えば1GPa以上であり、10GPa以上であってもよい。第2剛性部材35の弾性係数を算出する方法として、第1剛性部材30のサンプルを用いて、ASTM D882に準拠して引張試験を実施するという方法を採用できる。 A parameter representing the rigidity of the second rigid member 35 is, for example, an elastic modulus. The elastic modulus of the second rigid member 35 may be higher than the elastic modulus of the base material 20 . The elastic modulus of the second rigid member 35 is, for example, 10 times or more, may be 100 times or more, or may be 1000 times or more that of the base material 20 . The elastic modulus of the second rigid member 35 is, for example, 10000 times or less, and may be 50000 times or less, that of the base material 20 . The elastic modulus of the second rigid member 35 is, for example, 1 GPa or more, and may be 10 GPa or more. As a method of calculating the modulus of elasticity of the second rigid member 35, a method of performing a tensile test according to ASTM D882 using a sample of the first rigid member 30 can be adopted.

第2剛性部材35は、金属材料を含む金属層や、一般的な熱可塑性エラストマー、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系、ポリエステル系、エポキシ系、ビニルエーテル系、ポリエン・チオール系、シリコーン系等のオリゴマー、ポリマー等を含んでいてもよい。金属材料は、例えば銅、アルミニウム、ステンレス鋼等である。第2剛性部材35は、プリント基板で用いられる基材であってもよい。プリント基板で用いられる基材の材料は、ガラスエポキシ、紙フェノールなどである。ガラスエポキシとは、エポキシ樹脂が含侵されたガラス繊維である。紙フェノールとは、フェノール樹脂が含侵された紙である。 The second rigid member 35 is composed of a metal layer containing a metal material, a general thermoplastic elastomer, an oligomer such as acrylic, urethane, epoxy, polyester, epoxy, vinyl ether, polyene/thiol, and silicone. , polymers, and the like. Metal materials are, for example, copper, aluminum, stainless steel, and the like. The second rigid member 35 may be a base material used in printed circuit boards. Base materials used in printed circuit boards are glass epoxy, paper phenol, and the like. Glass epoxy is glass fiber impregnated with epoxy resin. Paper phenol is paper impregnated with phenolic resin.

第2剛性部材35を備える配線基板10は、図23に示すように、支持基板40を備えていてもよい。図示はしないが、第2剛性部材35を備える配線基板10は、支持基板40を備えていなくてもよい。 The wiring board 10 including the second rigid member 35 may include a support substrate 40 as shown in FIG. Although not shown, the wiring board 10 including the second rigid member 35 may not include the support substrate 40 .

(第7の変形例)
図24は、第7の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図24に示すように、第2剛性部材35を備える配線基板10が、上述の保護層60を備えていてもよい。
(Seventh Modification)
FIG. 24 is a cross-sectional view showing a wiring board 10 according to a seventh modification. As shown in FIG. 24, the wiring board 10 including the second rigid member 35 may include the protective layer 60 described above.

第2剛性部材35の弾性係数は、保護層60の弾性係数よりも高くてもよい。第2剛性部材35の弾性係数は、保護層60の弾性係数の例えば10倍以上であり、100倍以上であってもよく、1000倍以上であってもよい。第2剛性部材35の弾性係数は、保護層60の弾性係数の例えば10000倍以下であり、50000倍以下であってもよい。 The elastic modulus of the second rigid member 35 may be higher than the elastic modulus of the protective layer 60 . The elastic modulus of the second rigid member 35 is, for example, 10 times or more, may be 100 times or more, or may be 1000 times or more that of the protective layer 60 . The elastic modulus of the second rigid member 35 is, for example, 10000 times or less, and may be 50000 times or less, that of the protective layer 60 .

配線基板10に張力などの力を加えたときに、第2剛性部材35に重なる保護層60の領域は、第2剛性部材35に重ならない保護層60の領域に比べて、伸縮などの変形が生じにくい。以下の説明において、平面視において第2剛性部材35に重なる保護層60の領域を、第2重なり領域63とも称し、平面視において第2剛性部材35に重ならない保護層60の領域を、第2周囲領域64とも称する。 When a force such as tension is applied to the wiring board 10 , the area of the protective layer 60 overlapping the second rigid member 35 is deformed such as expansion and contraction compared to the area of the protective layer 60 not overlapping the second rigid member 35 . unlikely to occur. In the following description, the area of the protective layer 60 that overlaps the second rigid member 35 in plan view is also referred to as a second overlap area 63, and the area of the protective layer 60 that does not overlap the second rigid member 35 in plan view is referred to as the second overlap area. Also referred to as peripheral region 64 .

配線基板10に変形が生じると、保護層60にも歪などの変形が生じる。大きな歪が生じる保護層60の領域に配線51が重なっていると、配線51に変形、破損などが生じやすい。本変形例においては、大きな歪が生じにくい保護層60の領域に配線51を配置することを提案する。 When the wiring substrate 10 is deformed, the protective layer 60 is also deformed such as strain. If the wiring 51 overlaps the area of the protective layer 60 where large strain occurs, the wiring 51 is likely to be deformed or damaged. In this modified example, it is proposed to arrange the wiring 51 in a region of the protective layer 60 in which large strain is unlikely to occur.

第2剛性部材35の輪郭を具体的に説明する。図25は、配線基板10を示す平面図である。第2剛性部材35は、平面視において、第2辺36及び第2コーナー37を含む。第2辺36は、2つの第2コーナー37の間で直線状に延びている。第2辺36は、第1方向D1に延びる2つの第21辺361と、第2方向D2に延びる2つの第22辺362と、を含んでいてもよい。第2コーナー37は、第21辺361と第22辺362とを接続している。第2コーナー37は、第2辺36とは異なる方向に延びている。図25に示す例において、第2剛性部材35は、4つの第2コーナー37を含む。 The outline of the second rigid member 35 will be specifically described. FIG. 25 is a plan view showing the wiring substrate 10. FIG. The second rigid member 35 includes a second side 36 and a second corner 37 in plan view. The second side 36 extends linearly between the two second corners 37 . The second side 36 may include two 21st sides 361 extending in the first direction D1 and two 22nd sides 362 extending in the second direction D2. The second corner 37 connects the 21st side 361 and the 22nd side 362 . The second corner 37 extends in a direction different from that of the second side 36 . In the example shown in FIG. 25 the second rigid member 35 includes four second corners 37 .

第1剛性部材30の第1コーナー32と同様に、第2コーナー37も、平面視における第2剛性部材35の中心C2から遠ざかる側で面取りされている。第2コーナー37は、面取り寸法R2を有する。面取り寸法R2は、第1コーナー32の面取り寸法R1と同様に定義される。例えば、第22辺362との関係で規定される第2コーナー37の面取り寸法R2は、第22辺362が延びる方向における、交点と境界点との間の距離である。境界点は、第22辺362と第2コーナー37の境界に位置する。交点は、第2コーナー37によって接続される2つの第2辺36の延長線が交わる点である。 As with the first corner 32 of the first rigid member 30, the second corner 37 is also chamfered on the side away from the center C2 of the second rigid member 35 in plan view. The second corner 37 has a chamfer dimension R2. Chamfer dimension R2 is defined similarly to chamfer dimension R1 of first corner 32 . For example, the chamfering dimension R2 of the second corner 37 defined in relation to the 22nd side 362 is the distance between the intersection point and the boundary point in the direction in which the 22nd side 362 extends. The boundary point is located at the boundary between the 22nd side 362 and the second corner 37 . The intersection point is the point where extensions of the two second sides 36 connected by the second corner 37 intersect.

第2コーナー37は湾曲していてもよい。この場合、第2コーナー37の面取り寸法R2は、第2コーナー37の曲率半径であってもよい。 The second corner 37 may be curved. In this case, the chamfer dimension R2 of the second corner 37 may be the radius of curvature of the second corner 37 .

面取り寸法R2が小さいほど、第2コーナー37の周辺において保護層60に大きな歪が生じやすい。従って、面取り寸法R2は、所定値以上であることが好ましい。 The smaller the chamfer dimension R2 is, the more easily the protective layer 60 is distorted around the second corner 37 . Therefore, it is preferable that the chamfer dimension R2 is equal to or greater than a predetermined value.

一方、面取り寸法R2が大きいほど、第2安定領域641の寸法W2が小さくなる。第2安定領域641とは、第2辺36の周辺に位置し、歪が抑制されている保護層60の領域である。第2安定領域641は、第2周囲領域64の一部である。第2安定領域641は、第2辺36の中央部から外側へ広がっている。例えば、第22辺362に接する第2安定領域641は、第22辺362の中央部から外側へ第1方向D1に広がっている。 On the other hand, the larger the chamfer dimension R2, the smaller the dimension W2 of the second stable region 641. The second stable region 641 is a region of the protective layer 60 located around the second side 36 and in which distortion is suppressed. The second stable area 641 is part of the second peripheral area 64 . The second stable region 641 extends outward from the central portion of the second side 36 . For example, the second stable region 641 in contact with the 22nd side 362 extends outward from the central portion of the 22nd side 362 in the first direction D1.

本変形例においては、第2安定領域641を通って第2重なり領域63に至るように配線51を配置することを提案する。これにより、第2周囲領域64と第2重なり領域63の境界において配線51に変形、破損などが生じることを抑制できる。第2辺36が延びる方向における第2安定領域641の寸法W2を十分に確保するためには、面取り寸法R2が所定値以下であることが好ましい。これにより、例えば、複数の配線51を第2安定領域641に配置できる。 In this modified example, it is proposed to arrange the wiring 51 so as to pass through the second stable region 641 and reach the second overlapping region 63 . As a result, it is possible to prevent the wiring 51 from being deformed or damaged at the boundary between the second peripheral region 64 and the second overlapping region 63 . In order to sufficiently secure the dimension W2 of the second stable region 641 in the direction in which the second side 36 extends, it is preferable that the chamfer dimension R2 is equal to or less than a predetermined value. Thereby, for example, a plurality of wirings 51 can be arranged in the second stable region 641 .

第2安定領域641の寸法W2は、第1安定領域241の寸法W1と同様に、下記の式に基づいて算出されてもよい。
W2=-1.1148×R2+0.532×K2
K2は、第2辺36が延びる方向における、2つの第2コーナー37及び第2辺36の寸法である。第2安定領域641が第22辺362の中央部から外側に広がる場合、寸法K2は、第2方向D2における、2つの第2コーナー37及び第22辺362の寸法である。
The dimension W2 of the second stable region 641 may be calculated based on the following formula, similarly to the dimension W1 of the first stable region 241.
W2 = -1.1148 x R2 + 0.532 x K2
K2 is the dimension of the two second corners 37 and the second side 36 in the direction in which the second side 36 extends. When the second stable area 641 extends outward from the central portion of the twenty-second side 362, the dimension K2 is the dimension of the two second corners 37 and the twenty-second side 362 in the second direction D2.

第2コーナー37の面取り寸法R2は、例えば0.05mm以上であり、0.10mm以上であってもよく、0.20mm以上であってもよい。第2コーナー37の面取り寸法R2は、例えば1.5mm以下であり、1.0mm以下であってもよく、0.8mm以下であってもよい。 The chamfer dimension R2 of the second corner 37 is, for example, 0.05 mm or more, may be 0.10 mm or more, or may be 0.20 mm or more. The chamfer dimension R2 of the second corner 37 is, for example, 1.5 mm or less, may be 1.0 mm or less, or may be 0.8 mm or less.

第2コーナー37の面取り寸法R2は、寸法K2に対する比に基づいて定められてもよい。寸法K2に対する面取り寸法R2の比であるR2/K2は、例えば0.020以上であり、0.025以上であってもよく、0.030以上であってもよい。R2/K2は、例えば0.30以下であり、0.25以下であってもよく、0.20以下であってもよい。 Chamfer dimension R2 of second corner 37 may be determined based on a ratio to dimension K2. R2/K2, which is the ratio of chamfer dimension R2 to dimension K2, is, for example, 0.020 or more, may be 0.025 or more, or may be 0.030 or more. R2/K2 is, for example, 0.30 or less, may be 0.25 or less, or may be 0.20 or less.

本変形例によれば、配線51が第2安定領域641に配置されている。このため、第2周囲領域64と第2重なり領域63の境界において配線51に変形、破損などが生じることを抑制できる。また、第2剛性部材35の寸法K2に対する第2コーナー37の面取り寸法R2の比が0.020以上であるので、第2安定領域641の寸法W2を十分に確保できる。このため、2本以上の配線51が、第2安定領域641を通って第2重なり領域63に至ることができる。 According to this modification, the wiring 51 is arranged in the second stable region 641 . Therefore, it is possible to prevent the wiring 51 from being deformed or damaged at the boundary between the second peripheral region 64 and the second overlapping region 63 . Moreover, since the ratio of the chamfered dimension R2 of the second corner 37 to the dimension K2 of the second rigid member 35 is 0.020 or more, the dimension W2 of the second stable region 641 can be sufficiently ensured. Therefore, two or more wires 51 can reach the second overlapping region 63 through the second stable region 641 .

(第8の変形例)
図26は、第8の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図26に示すように、第2剛性部材35及び保護層60を備える配線基板10は、第1剛性部材30を備えていなくてもよい。この場合、配線基板10は、図26に示すように、支持基板40を備えていてもよく、図27に示すように、配線基板10は、支持基板40を備えていなくてもよい。配線基板10が第1剛性部材30を備えない場合であっても、第2剛性部材35が、配線51に変形、破損などが生じることを抑制できる。
(Eighth modification)
FIG. 26 is a cross-sectional view showing a wiring board 10 according to an eighth modification. As shown in FIG. 26 , the wiring board 10 including the second rigid member 35 and the protective layer 60 may not include the first rigid member 30 . In this case, the wiring board 10 may include the support substrate 40 as shown in FIG. 26, and the wiring board 10 may not include the support substrate 40 as shown in FIG. Even if the wiring board 10 does not include the first rigid member 30 , the second rigid member 35 can prevent the wiring 51 from being deformed or damaged.

(第9の変形例)
上述の実施の形態及び変形例においては、第1剛性部材30の第1コーナー32が湾曲している例を示したが、これに限られることはない。図28に示すように、第1コーナー32は、境界点321から境界点322まで直線状に延びていてもよい。図示はしないが、第2剛性部材35の第2コーナー37も、図28の第1コーナー32と同様に直線状に延びていてもよい。
(Ninth modification)
Although the first corner 32 of the first rigid member 30 is curved in the above-described embodiment and modification, the present invention is not limited to this. As shown in FIG. 28, the first corner 32 may extend linearly from the boundary point 321 to the boundary point 322 . Although not shown, the second corner 37 of the second rigid member 35 may also extend linearly like the first corner 32 of FIG.

(第10の変形例)
上述の実施の形態及び変形例においては、第1剛性部材30の4つの第1辺31の長さが等しい例を示したが、これに限られることはない。図29に示すように、第1剛性部材30の4つの第1辺31は、異なる長さを有していてもよい。例えば、第1方向D1に延びる第11辺311が、第2方向D2に延びる第12辺312よりも長くてもよい。図示はしないが、第2剛性部材35の4つの第2辺36も、図28の4つの第1辺31と同様に異なる長さを有していてもよい。
(Tenth Modification)
In the above-described embodiment and modified example, an example in which the four first sides 31 of the first rigid member 30 have the same length is shown, but the present invention is not limited to this. As shown in FIG. 29, the four first sides 31 of the first rigid member 30 may have different lengths. For example, the eleventh side 311 extending in the first direction D1 may be longer than the twelfth side 312 extending in the second direction D2. Although not shown, the four second sides 36 of the second rigid member 35 may also have different lengths like the four first sides 31 of FIG.

(第11の変形例)
上述の実施の形態及び変形例においては、第1剛性部材30が、3つの第1辺31及び3つの第1コーナー32を含む例を示したが、これに限られることはない。図30に示すように、第1剛性部材30は、3つの第1辺31及び3つの第1コーナー32を含んでいてもよい。図示はしないが、第1剛性部材30は、5つ以上の第1コーナー32を含んでいてもよい。第1剛性部材30の第1辺31の数と第1コーナー32の数は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
図示はしないが、第2剛性部材35は、図30の第1剛性部材30と同様に3つの第2辺36及び3つの第2コーナー37を含んでいてもよい。図示はしないが、第2剛性部材35は、5つ以上の第2コーナー37を含んでいてもよい。第2剛性部材35の第2辺36の数と第2コーナー37の数は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
(11th modification)
Although the first rigid member 30 includes three first sides 31 and three first corners 32 in the above-described embodiment and modification, the present invention is not limited to this. As shown in FIG. 30 , the first rigid member 30 may include three first sides 31 and three first corners 32 . Although not shown, first rigid member 30 may include five or more first corners 32 . The number of first sides 31 and the number of first corners 32 of the first rigid member 30 may be the same or different.
Although not shown, the second rigid member 35 may include three second sides 36 and three second corners 37 similar to the first rigid member 30 of FIG. Although not shown, the second rigid member 35 may include five or more second corners 37 . The number of second sides 36 and the number of second corners 37 of the second rigid member 35 may be the same or different.

上述の実施の形態及び変形例は、適宜組み合わされてもよい。 The above embodiments and modifications may be combined as appropriate.

本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例の記載には限定されない。 The present invention will be specifically described based on examples. The present invention is not limited to the description of the following examples as long as the gist thereof is not exceeded.

[実施例1]
基材20及び基材20の一部に重なる第1剛性部材30を備える積層体を第1方向D1及び第2方向D2において伸長させた場合に基材20に生じる体積ひずみを、シミュレーションによって算出した。第1方向D1及び第2方向D2における積層体の伸長率は、150%である。図31及び図32は、積層体を示す平面図及び断面図である。シミュレーションにおいて設定した基材20及び第1剛性部材30のパラメータは下記のとおりである。
・基材20の弾性係数:0.1MPa
・第1剛性部材30の弾性係数:1GPa
・第1剛性部材30の寸法K1:4mm
・第1剛性部材30の第1コーナー32の曲率半径R1:0.5mm
[Example 1]
A simulation was performed to calculate the volumetric strain that occurs in the base material 20 when the laminate including the base material 20 and the first rigid member 30 that partially overlaps the base material 20 is stretched in the first direction D1 and the second direction D2. . The elongation rate of the laminate in the first direction D1 and the second direction D2 is 150%. 31 and 32 are a plan view and a cross-sectional view showing the laminate. The parameters of the base material 20 and the first rigid member 30 set in the simulation are as follows.
- Modulus of elasticity of base material 20: 0.1 MPa
・Elastic modulus of the first rigid member 30: 1 GPa
・Dimension K1 of the first rigid member 30: 4 mm
- Curvature radius R1 of the first corner 32 of the first rigid member 30: 0.5 mm

算出された体積ひずみを図33A及び図33Bに示す。図33Aは、積層体の各位置における体積ひずみを画素の濃度で表現する平面図である。図33Bは、図33Aの横軸x上の各点での体積ひずみを示すグラフである。横軸x上の点V1は、第1方向D1における第11辺311の中心に位置する。点V2は、第11辺311の延長線上に位置し、且つ、第1コーナー32から十分に離れている。点V1から点V2までの距離は、第1剛性部材30の寸法K1の1.25倍である。 The calculated volumetric strain is shown in FIGS. 33A and 33B. FIG. 33A is a plan view expressing the volumetric strain at each position of the laminate by pixel density. FIG. 33B is a graph showing volumetric strain at each point on the horizontal axis x of FIG. 33A. A point V1 on the horizontal axis x is located at the center of the eleventh side 311 in the first direction D1. The point V2 is located on the extended line of the eleventh side 311 and sufficiently separated from the first corner 32 . The distance from point V1 to point V2 is 1.25 times the dimension K1 of the first rigid member 30 .

図33A及び図33Bに示すように、第1コーナー32の周辺においては、基材20に生じる体積ひずみが大きい。点V2においては、第1コーナー32に起因する体積ひずみがほとんど見られなかった。点V3は、点V2における体積ひずみと同一の体積ひずみが算出された、第11辺311上の点である。点V1と点V2の間においては、第1コーナー32に起因する体積ひずみがほとんど見られなかった。従って、点V1から点V3までの第11辺311の部分から外側へ広がる基材20の領域は、上述の第1安定領域241である。 As shown in FIGS. 33A and 33B, a large volume strain is generated in the base material 20 around the first corner 32 . At point V2, almost no volume strain due to the first corner 32 was observed. A point V3 is a point on the 11th side 311 where the same volumetric strain as the volumetric strain at the point V2 is calculated. Almost no volumetric strain due to the first corner 32 was observed between the point V1 and the point V2. Therefore, the area of the base material 20 extending outward from the portion of the eleventh side 311 from point V1 to point V3 is the first stable area 241 described above.

図33Bにおいて点線で示すように、点V1に対して点V3とは反対側に位置する第11辺311上の点においては、点V1を中心とした対称的な体積ひずみのグラフが得られると考えられる。従って、従って、点V1から点V4までの第11辺311の部分から外側へ広がる基材20の領域も、上述の第1安定領域241であると考えられる。点V4は、点V1に対して点V3と対称的な位置にある。従って、第1安定領域241の寸法W1は、点V1から点V3までの距離の2倍である。寸法W1は1.6mmであった。 As indicated by the dotted line in FIG. 33B, at a point on the eleventh side 311 located on the opposite side of the point V1 to the point V3, a symmetric volumetric strain graph centering on the point V1 can be obtained. Conceivable. Accordingly, the area of the base material 20 extending outward from the portion of the eleventh side 311 from point V1 to point V4 is also considered to be the first stable area 241 described above. The point V4 is located symmetrically with the point V3 with respect to the point V1. Therefore, dimension W1 of first stable area 241 is twice the distance from point V1 to point V3. The dimension W1 was 1.6 mm.

[実施例2]
第1剛性部材30の第1コーナー32の曲率半径R1を0.1mmに変更して、実施例1の場合と同一のシミュレーションを実施した。第1安定領域241の寸法W1は2.0mmであった。
[Example 2]
The same simulation as in Example 1 was performed by changing the curvature radius R1 of the first corner 32 of the first rigid member 30 to 0.1 mm. The dimension W1 of the first stable area 241 was 2.0 mm.

[実施例3]
第1剛性部材30の第1コーナー32の曲率半径R1を1.0mmに変更して、実施例1の場合と同一のシミュレーションを実施した。第1安定領域241の寸法W1は1.0mmであった。
[Example 3]
The same simulation as in Example 1 was performed by changing the curvature radius R1 of the first corner 32 of the first rigid member 30 to 1.0 mm. The dimension W1 of the first stable region 241 was 1.0 mm.

[実施例4]
第1剛性部材30の寸法K1を2mmに変更して、実施例1の場合と同一のシミュレーションを実施した。第1安定領域241の寸法W1は0.5mmであった。
[Example 4]
The same simulation as in Example 1 was performed with the dimension K1 of the first rigid member 30 changed to 2 mm. The dimension W1 of the first stable region 241 was 0.5 mm.

[実施例5]
第1剛性部材30の寸法K1を10mmに変更して、実施例1の場合と同一のシミュレーションを実施した。第1安定領域241の寸法W1は4.6mmであった。
[Example 5]
The same simulation as in Example 1 was performed with the dimension K1 of the first rigid member 30 changed to 10 mm. The dimension W1 of the first stable area 241 was 4.6 mm.

実施例1~5において算出された寸法W1を図34に示す。 FIG. 34 shows the dimension W1 calculated in Examples 1-5.

寸法W1に基づいて算出したWs1を図35に示す。Ws1は、第1安定領域241の寸法W1を第1剛性部材30の寸法K1で割った値である。図35のRs1は、第1コーナー32の曲率半径R1を第1剛性部材30の寸法K1で割った値である。例えば実施例1においては、W1=1.6mm、K1=4mm、R1=0.5mmであるので、Ws1=0.4、Rs1=0.125である。 FIG. 35 shows Ws1 calculated based on the dimension W1. Ws1 is a value obtained by dividing the dimension W1 of the first stable region 241 by the dimension K1 of the first rigid member 30. As shown in FIG. Rs1 in FIG. 35 is the value obtained by dividing the curvature radius R1 of the first corner 32 by the dimension K1 of the first rigid member 30. In FIG. For example, in Example 1, W1=1.6 mm, K1=4 mm, and R1=0.5 mm, so Ws1=0.4 and Rs1=0.125.

図36は、Rs1とWs1の関係を示すグラフである。図36に示すように、Ws1は、下記のRs1の一次関数として近似される。
Ws1=-1.1148×Rs1+0.532
従って、W1とR1との間には下記の関係式が成立する。
W1=-1.1148×R1+0.532×K1
FIG. 36 is a graph showing the relationship between Rs1 and Ws1. As shown in FIG. 36, Ws1 is approximated as a linear function of Rs1 below.
Ws1=−1.1148×Rs1+0.532
Therefore, the following relational expression holds between W1 and R1.
W1 = -1.1148 x R1 + 0.532 x K1

10 配線基板
20 基材
21 第1面
22 第2面
23 第1重なり領域
24 第1周囲領域
241 第1安定領域
30 第1剛性部材
31 第1辺
32 第1コーナー
35 第2剛性部材
36 第2辺
37 第2コーナー
38 導電体
40 支持基板
41 第1面
42 第2面
50 導電層
51 配線
52 パッド
54 半田
55 電子部品
60 保護層
63 第2重なり領域
64 第2周囲領域
641 第2安定領域
70 第1絶縁層
71 第1孔
75 第2絶縁層
10 Wiring board 20 Base material 21 First surface 22 Second surface 23 First overlapping area 24 First peripheral area 241 First stable area 30 First rigid member 31 First side 32 First corner 35 Second rigid member 36 Second second Side 37 Second corner 38 Conductor 40 Support substrate 41 First surface 42 Second surface 50 Conductive layer 51 Wiring 52 Pad 54 Solder 55 Electronic component 60 Protective layer 63 Second overlap region 64 Second peripheral region 641 Second stable region 70 First insulating layer 71 First hole 75 Second insulating layer

Claims (22)

電子部品が搭載される配線基板であって、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
平面視において前記基材及び前記電子部品に重なり、前記基材よりも高い剛性を有する少なくとも1つの第1剛性部材と、
前記基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電層と、を備え、
前記第1剛性部材は、平面視において、前記第1剛性部材の中心から遠ざかる側で面取りされている少なくとも2つの第1コーナーと、2つの前記第1コーナーの間で延びる第1辺と、を含む外縁を備え、
前記基材は、平面視において前記第1剛性部材に重なる第1重なり領域と、前記第1重なり領域に接し、平面視において前記第1剛性部材に重ならない第1周囲領域と、を含み、
前記第1周囲領域は、前記第1辺の中央部から、平面視において前記第1剛性部材の中心から遠ざかる側へ広がる第1安定領域を含み、
前記第1安定領域は、前記第1辺が延びる方向において、下記の式で表される寸法W1を有し、
W1=-1.1148×R1+0.532×K1
R1は、前記第1コーナーの面取り寸法であり、K1は、前記第1辺が延びる方向における2つの前記第1コーナー及び前記第1辺の寸法であり、
前記配線は、前記第1安定領域を通って前記第1重なり領域に至るよう延びる、配線基板。
A wiring board on which electronic components are mounted,
a stretchable base material including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface;
at least one first rigid member overlapping the base material and the electronic component in plan view and having higher rigidity than the base material;
a conductive layer including wiring located on the first surface side of the base material,
The first rigid member has, in plan view, at least two first corners that are chamfered on a side away from the center of the first rigid member, and a first side that extends between the two first corners. with an outer rim containing
The base material includes a first overlapping region that overlaps the first rigid member in plan view, and a first surrounding region that is in contact with the first overlapping region and does not overlap the first rigid member in plan view,
The first peripheral region includes a first stable region that spreads from the center of the first side toward the side away from the center of the first rigid member in a plan view,
The first stable region has a dimension W1 represented by the following formula in the direction in which the first side extends,
W1 = -1.1148 x R1 + 0.532 x K1
R1 is the chamfer dimension of the first corner, K1 is the dimensions of the two first corners and the first side in the direction in which the first side extends,
A wiring substrate, wherein the wiring extends through the first stability region to reach the first overlap region.
R1/K1が0.020以上0.30以下である、請求項1に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 1, wherein R1/K1 is 0.020 or more and 0.30 or less. 前記第1剛性部材の弾性係数は、前記基材の弾性係数の10倍以上である、請求項1又は2に記載の配線基板。 3. The wiring board according to claim 1, wherein the elastic modulus of said first rigid member is ten times or more the elastic modulus of said base material. 前記第1剛性部材は、前記基材の前記第2面側に位置する、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の配線基板。 4. The wiring board according to claim 1, wherein said first rigid member is positioned on said second surface side of said base material. 前記第1剛性部材は、前記基材に埋め込まれている、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の配線基板。 4. The wiring board according to claim 1, wherein said first rigid member is embedded in said base material. 平面視において前記第1剛性部材に重なり、前記導電層を部分的に覆う第1絶縁層と、
平面視において前記導電層に重なり、前記第1絶縁層を貫通する第1孔と、を備える、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の配線基板。
a first insulating layer that overlaps the first rigid member in plan view and partially covers the conductive layer;
6. The wiring board according to claim 1, further comprising a first hole overlapping said conductive layer in a plan view and penetrating said first insulating layer.
前記導電層は、平面視において前記第1孔を囲み、前記配線に接続されているパッドを含む、請求項6に記載の配線基板。 7. The wiring substrate according to claim 6, wherein said conductive layer includes a pad surrounding said first hole in plan view and connected to said wiring. 平面視において前記基材に部分的に重なる少なくとも1つの第2剛性部材と、
前記第2剛性部材に設けられ、前記配線に電気的に接続される導電体と、
前記導電体を介して前記配線に電気的に接続される前記電子部品と、
前記基材の前記第1面側に位置し、前記第2剛性部材よりも低い剛性を有し、前記第2剛性部材及び前記電子部品を覆う保護層と、を備え、
前記第2剛性部材は、平面視において、前記第2剛性部材の中心から遠ざかる側で面取りされている少なくとも2つの第2コーナーと、2つの前記第2コーナーの間で延びる第2辺と、を含む外縁を備え、
前記保護層は、平面視において前記第2剛性部材に重なる第2重なり領域と、前記第2重なり領域に接し、平面視において前記第2剛性部材に重ならない第2周囲領域と、を含み、
前記第2周囲領域は、前記第2辺の中央部から、平面視において前記第2剛性部材の中心から遠ざかる側へ広がる第2安定領域を含み、
前記第2安定領域は、前記第2辺が延びる方向において、下記の式で表される寸法W2を有し、
W2=-1.1148×R2+0.532×K2
R2は、前記第2コーナーの面取り寸法であり、K2は、前記第2辺が延びる方向における2つの前記第2コーナー及び前記第2辺の寸法であり、
前記配線は、前記第2安定領域を通って前記第2重なり領域に至るよう延びる、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の配線基板。
at least one second rigid member that partially overlaps the base material in plan view;
a conductor provided on the second rigid member and electrically connected to the wiring;
the electronic component electrically connected to the wiring via the conductor;
a protective layer located on the first surface side of the base material, having a lower rigidity than the second rigid member, and covering the second rigid member and the electronic component;
The second rigid member has, in plan view, at least two second corners that are chamfered on the side away from the center of the second rigid member, and a second side that extends between the two second corners. with an outer rim containing
The protective layer includes a second overlapping region that overlaps the second rigid member in plan view, and a second surrounding region that is in contact with the second overlapping region and does not overlap the second rigid member in plan view,
The second peripheral region includes a second stable region that spreads from the central portion of the second side toward the side away from the center of the second rigid member in a plan view,
The second stable region has a dimension W2 represented by the following formula in the direction in which the second side extends,
W2 = -1.1148 x R2 + 0.532 x K2
R2 is the chamfer dimension of the second corner, K2 is the dimension of the two second corners and the second side in the direction in which the second side extends,
8. The wiring board according to any one of claims 1 to 7, wherein said wiring extends through said second stability region to reach said second overlapping region.
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電層と、
平面視において前記基材に部分的に重なる少なくとも1つの第2剛性部材と、
前記第2剛性部材に設けられ、前記配線に電気的に接続される導電体と、
平面視において前記第2剛性部材に重なり、前記導電体を介して前記配線に電気的に接続される電子部品と、
前記基材の前記第1面側に位置し、前記第2剛性部材よりも低い剛性を有し、前記第2剛性部材及び前記電子部品を覆う保護層と、を備え、
前記第2剛性部材は、平面視において、前記第2剛性部材の中心から遠ざかる側で面取りされている少なくとも2つの第2コーナーと、2つの前記第2コーナーの間で延びる第2辺と、を含む外縁を備え、
前記保護層は、平面視において前記第2剛性部材に重なる第2重なり領域と、前記第2重なり領域に接し、平面視において前記第2剛性部材に重ならない第2周囲領域と、を含み、
前記第2周囲領域は、前記第2辺の中央部から、平面視において前記第2剛性部材の中心から遠ざかる側へ広がる第2安定領域を含み、
前記第2安定領域は、前記第2辺が延びる方向において、下記の式で表される寸法W2を有し、
W2=-1.1148×R2+0.532×K2
R2は、前記第2コーナーの面取り半径であり、K2は、前記第2辺が延びる方向における2つの前記第2コーナー及び前記第2辺の寸法であり、
前記配線は、前記第2安定領域を通って前記第2重なり領域に至るよう延びる、配線基板。
a stretchable base material including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface;
a conductive layer including wiring located on the first surface side of the base;
at least one second rigid member that partially overlaps the base material in plan view;
a conductor provided on the second rigid member and electrically connected to the wiring;
an electronic component that overlaps the second rigid member in plan view and is electrically connected to the wiring via the conductor;
a protective layer located on the first surface side of the base material, having a lower rigidity than the second rigid member, and covering the second rigid member and the electronic component;
The second rigid member has, in plan view, at least two second corners that are chamfered on the side away from the center of the second rigid member, and a second side that extends between the two second corners. with an outer rim containing
The protective layer includes a second overlapping region that overlaps the second rigid member in plan view, and a second surrounding region that is in contact with the second overlapping region and does not overlap the second rigid member in plan view,
The second peripheral region includes a second stable region that spreads from the central portion of the second side toward the side away from the center of the second rigid member in a plan view,
The second stable region has a dimension W2 represented by the following formula in the direction in which the second side extends,
W2 = -1.1148 x R2 + 0.532 x K2
R2 is the chamfer radius of the second corner, K2 is the dimension of the two second corners and the second side in the direction in which the second side extends,
A wiring substrate, wherein the wiring extends through the second stability region to reach the second overlap region.
R2/K2が0.020以上0.30以下である、請求項9に記載の配線基板。 10. The wiring board according to claim 9, wherein R2/K2 is 0.020 or more and 0.30 or less. 前記第2剛性部材の弾性係数は、前記保護層の弾性係数の10倍以上である、請求項9又は10に記載の配線基板。 11. The wiring board according to claim 9, wherein the elastic modulus of said second rigid member is 10 times or more the elastic modulus of said protective layer. 平面視において前記第2剛性部材に重なり、前記導電層を部分的に覆う第1絶縁層と、
平面視において前記導電層に重なり、前記第1絶縁層を貫通する第1孔と、
前記第1孔に位置し、前記導電層及び前記導電体に接続される半田と、を備える、請求項9乃至11のいずれか一項に記載の配線基板。
a first insulating layer overlapping the second rigid member in plan view and partially covering the conductive layer;
a first hole overlapping the conductive layer in plan view and penetrating the first insulating layer;
12. The wiring board according to claim 9, further comprising a solder positioned in the first hole and connected to the conductive layer and the conductor.
前記導電層は、平面視において前記第1孔を囲み、前記配線に接続されているパッドを含む、請求項12に記載の配線基板。 13. The wiring substrate according to claim 12, wherein said conductive layer includes a pad surrounding said first hole in plan view and connected to said wiring. 前記基材は、熱可塑性エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゲル又はシリコンゲルを含む、請求項1乃至13のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 13, wherein the base material includes thermoplastic elastomer, silicone rubber, urethane gel, or silicone gel. 前記配線を支持する支持基板を備える、請求項1乃至14のいずれか一項に記載の配線基板。 15. The wiring board according to any one of claims 1 to 14, comprising a support substrate that supports said wiring. 前記支持基板の弾性係数は、前記基材の弾性係数の10倍以上である、請求項15に記載の配線基板。 16. The wiring board according to claim 15, wherein the elastic modulus of said supporting substrate is ten times or more the elastic modulus of said base material. 前記支持基板は、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂、又はポリエチレンテレフタラートを含む、請求項15又は16に記載の配線基板。 17. The wiring board according to claim 15, wherein said supporting substrate contains polyethylene naphthalate, polyimide, polycarbonate, acrylic resin, or polyethylene terephthalate. 前記基材の前記第1面側に位置し、平面視において少なくとも部分的に前記配線に重なる第2絶縁層を備える、請求項1乃至17のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 17, further comprising a second insulating layer located on the first surface side of the base material and at least partially overlapping the wiring in plan view. 前記第2絶縁層は、前記基材よりも大きい弾性係数を有する、請求項18に記載の配線基板。 19. The wiring board according to claim 18, wherein said second insulating layer has a larger elastic modulus than said base material. 前記配線は、前記配線の長さ方向に並ぶ複数の山部を含む、請求項1乃至19のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 19, wherein the wiring includes a plurality of ridges arranged in the length direction of the wiring. 電子部品が搭載される配線基板の製造方法であって、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、平面視において前記基材及び前記電子部品に重なり、前記基材よりも高い剛性を有する少なくとも1つの第1剛性部材と、を備える積層体の前記基材に張力を加えて、前記基材を伸長させる伸長工程と、
前記伸長工程によって伸長した状態の前記基材の第1面側に配線を設ける配線形成工程と、
前記基材から張力を取り除く収縮工程と、を備え、
前記第1剛性部材は、平面視において、前記第1剛性部材の中心から遠ざかる側で面取りされている少なくとも2つの第1コーナーと、2つの前記第1コーナーの間で延びる第1辺と、を含む外縁を備え、
前記基材は、平面視において前記第1剛性部材に重なる第1重なり領域と、前記第1重なり領域に接し、平面視において前記第1剛性部材に重ならない第1周囲領域と、を含み、
前記第1周囲領域は、前記第1辺の中央部から、平面視において前記第1剛性部材の中心から遠ざかる側へ広がる第1安定領域を含み、
前記第1安定領域は、前記第1辺が延びる方向において、下記の式で表される寸法W1を有し、
W1=-1.1148×R1+0.532×K1
R1は、前記第1コーナーの面取り寸法であり、K1は、前記第1辺が延びる方向における2つの前記第1コーナー及び前記第1辺の寸法であり、
前記配線は、前記第1安定領域を通って前記第1重なり領域に至るよう延びる、配線基板の製造方法。
A method for manufacturing a wiring board on which electronic components are mounted, comprising:
A stretchable substrate including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, overlapping the substrate and the electronic component in plan view, and having higher rigidity than the substrate a stretching step of applying tension to the substrate of a laminate comprising at least one first rigid member to elongate the substrate;
a wiring forming step of providing wiring on the first surface side of the base material stretched by the stretching step;
a shrinking step that removes tension from the substrate;
The first rigid member has, in plan view, at least two first corners that are chamfered on a side away from the center of the first rigid member, and a first side that extends between the two first corners. with an outer rim containing
The base material includes a first overlapping region that overlaps the first rigid member in plan view, and a first surrounding region that is in contact with the first overlapping region and does not overlap the first rigid member in plan view,
The first peripheral region includes a first stable region that spreads from the center of the first side toward the side away from the center of the first rigid member in a plan view,
The first stable region has a dimension W1 represented by the following formula in the direction in which the first side extends,
W1 = -1.1148 x R1 + 0.532 x K1
R1 is the chamfer dimension of the first corner, K1 is the dimensions of the two first corners and the first side in the direction in which the first side extends,
The wiring substrate manufacturing method, wherein the wiring extends through the first stable region to reach the first overlapping region.
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材に張力を加えて、前記基材を伸長させる伸長工程と、
前記伸長工程によって伸長した状態の前記基材の第1面側に配線を設ける配線形成工程と、
前記基材から張力を取り除く収縮工程と、を備え、
前記基材の前記第1面側には、少なくとも1つの第2剛性部材と、第2剛性部材に設けられ、前記配線に電気的に接続される導電体と、平面視において前記第2剛性部材に重なり、前記導電体を介して前記配線に電気的に接続される電子部品と、前記第2剛性部材よりも低い剛性を有し、前記第2剛性部材及び前記電子部品を覆う保護層と、が設けられており、
前記第2剛性部材は、平面視において、前記第2剛性部材の中心から遠ざかる側で面取りされている少なくとも2つの第2コーナーと、2つの前記第2コーナーの間で延びる第2辺と、を含む外縁を備え、
前記保護層は、平面視において前記第2剛性部材に重なる第2重なり領域と、前記第2重なり領域に接し、平面視において前記第2剛性部材に重ならない第2周囲領域と、を含み、
前記第2周囲領域は、前記第2辺の中央部から、平面視において前記第2剛性部材の中心から遠ざかる側へ広がる第2安定領域を含み、
前記第2安定領域は、前記第2辺が延びる方向において、下記の式で表される寸法W2を有し、
W2=-1.1148×R2+0.532×K2
R2は、前記第2コーナーの面取り寸法であり、K2は、前記第2辺が延びる方向における2つの前記第2コーナー及び前記第2辺の寸法であり、
前記配線は、前記第2安定領域を通って前記第2重なり領域に至るよう延びる、配線基板の製造方法。
an elongation step of applying tension to a stretchable substrate comprising a first surface and a second surface located opposite to the first surface to elongate the substrate;
a wiring forming step of providing wiring on the first surface side of the base material stretched by the stretching step;
a shrinking step that removes tension from the substrate;
At least one second rigid member, a conductor provided on the second rigid member and electrically connected to the wiring, and the second rigid member in plan view on the first surface side of the base material an electronic component that overlaps with the conductor and is electrically connected to the wiring via the conductor; a protective layer that has lower rigidity than the second rigid member and covers the second rigid member and the electronic component; is provided,
The second rigid member has, in plan view, at least two second corners that are chamfered on the side away from the center of the second rigid member, and a second side that extends between the two second corners. with an outer rim containing
The protective layer includes a second overlapping region that overlaps the second rigid member in plan view, and a second surrounding region that is in contact with the second overlapping region and does not overlap the second rigid member in plan view,
The second peripheral region includes a second stable region that spreads from the central portion of the second side toward the side away from the center of the second rigid member in a plan view,
The second stable region has a dimension W2 represented by the following formula in the direction in which the second side extends,
W2 = -1.1148 x R2 + 0.532 x K2
R2 is the chamfer dimension of the second corner, K2 is the dimension of the two second corners and the second side in the direction in which the second side extends,
The wiring substrate manufacturing method, wherein the wiring extends through the second stable region to reach the second overlapping region.
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