JP7486042B2 - Wiring board and method for manufacturing the same - Google Patents

Wiring board and method for manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
JP7486042B2
JP7486042B2 JP2019024747A JP2019024747A JP7486042B2 JP 7486042 B2 JP7486042 B2 JP 7486042B2 JP 2019024747 A JP2019024747 A JP 2019024747A JP 2019024747 A JP2019024747 A JP 2019024747A JP 7486042 B2 JP7486042 B2 JP 7486042B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring
wiring board
base material
substrate
adjustment mechanism
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019024747A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2020136350A (en
Inventor
直子 沖本
健一 小川
充孝 永江
麻紀子 坂田
徹 三好
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2019024747A priority Critical patent/JP7486042B2/en
Publication of JP2020136350A publication Critical patent/JP2020136350A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7486042B2 publication Critical patent/JP7486042B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本開示の実施形態は、伸縮性を有する基材と、配線とを備える配線基板及びその製造方法に関する。 An embodiment of the present disclosure relates to a wiring board having a stretchable substrate and wiring, and a method for manufacturing the same.

近年、伸縮性などの変形性を有する電子デバイスの研究がおこなわれている。例えば、伸縮性を有する基材に伸縮性を有する銀配線を形成したものや、伸縮性を有する基材に馬蹄形の配線を形成したものが知られている(例えば特許文献1参照)。しかしながら、これらのタイプの電子デバイスは、基材の伸縮に伴って配線の抵抗値が変化し易いという課題を有する。 In recent years, research has been conducted into electronic devices that have deformation properties such as elasticity. For example, devices that have elastic silver wiring formed on an elastic substrate and devices that have horseshoe-shaped wiring formed on an elastic substrate are known (see, for example, Patent Document 1). However, these types of electronic devices have the problem that the resistance value of the wiring is easily changed as the substrate expands and contracts.

その他のタイプの電子デバイスとして、例えば特許文献2は、基材と、基材に設けられた配線と、を備え、伸縮性を有する配線基板を開示している。特許文献2においては、予め伸長させた状態の基材に回路を設け、回路を形成した後に基材を弛緩させる、という製造方法を採用している。特許文献2は、基材の伸長状態及び弛緩状態のいずれにおいても基材上の薄膜トランジスタを良好に動作させることを意図している。 As another type of electronic device, for example, Patent Document 2 discloses a stretchable wiring board that includes a substrate and wiring provided on the substrate. Patent Document 2 employs a manufacturing method in which a circuit is provided on a substrate in a pre-stretched state, and the substrate is relaxed after the circuit is formed. Patent Document 2 intends to ensure that thin-film transistors on the substrate operate satisfactorily whether the substrate is stretched or relaxed.

特開2013-187308号公報JP 2013-187308 A 特開2007-281406号公報JP 2007-281406 A

基材が弛緩状態にある場合、基材に設けられている配線は、山部及び谷部が基材の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状部を有する。この場合、基材を伸長させると、配線は、蛇腹形状部を面内方向に広げることによって基材の伸長に追従することができる。このため、蛇腹形状部を有するタイプの電子デバイスによれば、基材の伸縮に伴って配線の抵抗値が変化することを抑制することができる。 When the substrate is in a relaxed state, the wiring provided on the substrate has a bellows-shaped portion in which peaks and valleys appear repeatedly along the in-plane direction of the substrate. In this case, when the substrate is stretched, the wiring can follow the expansion of the substrate by expanding the bellows-shaped portion in the in-plane direction. Therefore, with an electronic device of the type having a bellows-shaped portion, it is possible to suppress changes in the resistance value of the wiring due to the expansion and contraction of the substrate.

一方、蛇腹形状部の山部の高さ及び谷部の深さは、基材の厚みのばらつきや、伸長の際の基材伸びのばらつきや、基材に設けられる配線の分布密度の差などに起因して、位置によってばらつくことがある。また、基材が大きく伸長すると、蛇腹形状部の周期が乱れて山部の高さや谷部の深さが局所的に大きくなることもある。山部の高さ及び谷部の深さが位置によってばらつくと、配線に生じる湾曲や屈曲の程度も局所的に大きくなる。特に、基材の伸長の程度が大きい場合には、配線に折れなどの破損が生じてしまうことが考えられる。 On the other hand, the height of the peaks and the depth of the valleys of the bellows-shaped portion may vary from position to position due to variations in the thickness of the substrate, variations in the elongation of the substrate when stretched, and differences in the distribution density of the wiring provided on the substrate. Furthermore, if the substrate stretches significantly, the period of the bellows-shaped portion may be disrupted, causing the height of the peaks and the depth of the valleys to increase locally. If the height of the peaks and the depth of the valleys vary from position to position, the degree of curvature or bending of the wiring will also increase locally. In particular, if the substrate stretches significantly, it is conceivable that the wiring may be damaged, such as by breaking.

本開示の実施形態は、このような課題を効果的に解決し得る配線基板及び配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 The embodiment of the present disclosure aims to provide a wiring board and a method for manufacturing a wiring board that can effectively solve these problems.

本開示の一実施形態は、第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、前記基材の前記第1面側に位置し、前記基材の前記第1面の面内方向の1つである第1方向に沿って並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有する配線と、前記基材の前記第1面側に位置し、前記第1面の法線方向に沿って見た場合に前記配線との間に間隔を空けて前記第1方向に延びる側縁を有し、表面に樹脂又はエラストマーを含む調整機構と、を備える、配線基板である。 One embodiment of the present disclosure is a wiring board comprising: a base material having elasticity, including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface; wiring located on the first surface side of the base material and having a bellows-shaped portion including a plurality of peaks and valleys aligned along a first direction, which is one of the in-plane directions of the first surface of the base material; and an adjustment mechanism located on the first surface side of the base material, having a side edge extending in the first direction with a gap between it and the wiring when viewed along the normal direction of the first surface, and including a resin or elastomer on a surface thereof.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記調整機構は、前記第1方向に直交する第2方向において前記配線を挟むように位置していてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the adjustment mechanism may be positioned to sandwich the wiring in a second direction perpendicular to the first direction.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記調整機構は、前記配線よりも低い弾性係数を有する調整層を含んでいてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the adjustment mechanism may include an adjustment layer having a lower elastic modulus than the wiring.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記調整機構は、前記基材よりも高い曲げ剛性又は弾性係数を有する調整層を含んでいてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the adjustment mechanism may include an adjustment layer having a bending stiffness or elastic modulus higher than that of the substrate.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線は、ベース材及び導電性粒子を含んでいてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the wiring may include a base material and conductive particles.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記調整機構は、前記基材の前記第1面側において、前記配線よりも高い占有率を有していてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the adjustment mechanism may have a higher occupancy rate on the first surface side of the base material than the wiring.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記調整機構は、前記第1方向に直交する第2方向において、前記配線の幅以上の寸法を有していてもよく、例えば前記配線の幅の2倍以上の寸法を有していてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the adjustment mechanism may have a dimension in a second direction perpendicular to the first direction that is equal to or greater than the width of the wiring, for example, may have a dimension that is at least twice the width of the wiring.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記調整機構の前記側縁と前記配線との間の前記間隔が、配線の幅以下であってもよく、また、100μm以下であってもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the distance between the side edge of the adjustment mechanism and the wiring may be equal to or less than the width of the wiring, and may be equal to or less than 100 μm.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記調整機構は、前記第1方向に沿って並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有していてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the adjustment mechanism may have a bellows-shaped portion including a plurality of peaks and valleys aligned along the first direction.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記基材の前記第2面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅が、前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅と異なっていてもよく、例えば、前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅よりも小さくてもよい。 In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure, the amplitude of the peaks and valleys appearing on the surface of the wiring board on the second surface side of the substrate that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring may be different from the amplitude of the peaks and valleys appearing on the surface of the wiring board on the first surface side of the substrate that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring, and may be smaller than the amplitude of the peaks and valleys appearing on the surface of the wiring board on the first surface side of the substrate that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring, for example.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記基材の前記第2面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期が、前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期と異なっていてもよく、例えば、前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期よりも大きくてもよい。 In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure, the period of the peaks and valleys appearing on the surface of the wiring board on the second surface side of the substrate that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring may be different from the period of the peaks and valleys appearing on the surface of the wiring board on the first surface side of the substrate that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring, and may be, for example, larger than the period of the peaks and valleys appearing on the surface of the wiring board on the first surface side of the substrate that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記基材の前記第2面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の位置が、前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の位置からずれていてもよい。 In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure, the positions of the peaks and valleys appearing in the portion of the surface of the wiring board on the second side of the base material that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring may be shifted from the positions of the peaks and valleys appearing in the portion of the surface of the wiring board on the first side of the base material that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線基板を前記第1方向において伸長させながら、前記配線基板に加えられている張力及び前記配線の電気抵抗を測定した場合、前記電気抵抗は、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が第1伸長量のときに、単位伸長量当たりの前記電気抵抗の増加量が変化する第1転換点を示し、前記張力は、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が前記第1伸長量よりも小さい第2伸長量のときに、単位伸長量当たりの前記張力の増加量が変化する第2転換点を示してもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, when the tension applied to the wiring board and the electrical resistance of the wiring are measured while the wiring board is stretched in the first direction, the electrical resistance may indicate a first turning point where the increase in the electrical resistance per unit of stretch changes when the amount of stretch of the wiring board in the first direction is a first stretch amount, and the tension may indicate a second turning point where the increase in the tension per unit of stretch changes when the amount of stretch of the wiring board in the first direction is a second stretch amount that is smaller than the first stretch amount.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記第1伸長量は、前記第2伸長量の1.1倍以上であってもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the first extension amount may be 1.1 times or more the second extension amount.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が前記第2伸長量より小さいときの、単位伸長量当たりの前記張力の増加量を第1張力増加率と称し、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が前記第2伸長量より大きいときの、単位伸長量当たりの前記張力の増加量を第2張力増加率と称する場合、前記第2張力増加率は前記第1張力増加率より大きくてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, when the extension amount of the wiring board in the first direction is smaller than the second extension amount, the increase in tension per unit extension amount is referred to as a first tension increase rate, and when the extension amount of the wiring board in the first direction is larger than the second extension amount, the increase in tension per unit extension amount is referred to as a second tension increase rate, and the second tension increase rate may be larger than the first tension increase rate.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記第2張力増加率は前記第1張力増加率の2倍以上であってもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the second tension increase rate may be at least twice the first tension increase rate.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が前記第1伸長量より小さいときの、単位伸長量当たりの前記電気抵抗の増加量を第1電気抵抗増加率と称し、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が前記第1伸長量より大きいときの、単位伸長量当たりの前記電気抵抗の増加量を第2電気抵抗増加率と称する場合、前記第2電気抵抗増加率は前記第1電気抵抗増加率より大きくてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, when the extension amount of the wiring board in the first direction is smaller than the first extension amount, the increase in the electrical resistance per unit extension amount is referred to as a first electrical resistance increase rate, and when the extension amount of the wiring board in the first direction is larger than the first extension amount, the increase in the electrical resistance per unit extension amount is referred to as a second electrical resistance increase rate, and the second electrical resistance increase rate may be larger than the first electrical resistance increase rate.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記第2電気抵抗増加率は前記第1電気抵抗増加率の2倍以上であってもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the second electrical resistance increase rate may be at least twice the first electrical resistance increase rate.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記基材は、熱可塑性エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゲル又はシリコンゲルを含んでいてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the base material may include a thermoplastic elastomer, a silicone rubber, a urethane gel, or a silicon gel.

本開示の一実施形態による配線基板は、支持基板を更に備えていてもよい。 The wiring substrate according to one embodiment of the present disclosure may further include a support substrate.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記支持基板は、前記基材よりも高い弾性係数を有し、前記配線を支持していてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the support substrate may have a higher elastic modulus than the base material and may support the wiring.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記支持基板は、前記配線と前記基材の前記第1面との間に位置し、前記配線を支持していてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the support substrate may be located between the wiring and the first surface of the base material and support the wiring.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記支持基板は、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂、又はポリエチレンテレフタラートを含んでいてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the support substrate may include polyethylene naphthalate, polyimide, polycarbonate, acrylic resin, or polyethylene terephthalate.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記配線に電気的に接続される電子部品を更に備えていてもよい。 The wiring board according to one embodiment of the present disclosure may further include an electronic component electrically connected to the wiring.

本開示の一実施形態は、配線基板の製造方法であって、伸縮性を有する基材に、前記基材の前記第1面の面内方向の1つである第1方向において張力を加えて、前記基材を伸長させる第1伸長工程と、前記第1伸長工程によって伸長した状態の前記基材の第1面側に、前記第1方向に延びる配線を設ける配線形成工程と、伸長した状態の前記基材の第1面側に、前記第1面の法線方向に沿って見た場合に前記配線との間に間隔を空けて前記第1方向に延びる側縁を有し、表面に樹脂又はエラストマーを含む調整機構を設ける調整機構形成工程と、前記基材から前記張力を取り除く収縮工程と、を備える、配線基板の製造方法である。 One embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing a wiring board, comprising: a first elongation step of applying tension to an elastic substrate in a first direction, which is one of the in-plane directions of the first surface of the substrate, to elongate the substrate; a wiring formation step of providing wiring extending in the first direction on the first surface side of the substrate in a state elongated by the first elongation step; an adjustment mechanism formation step of providing an adjustment mechanism containing a resin or elastomer on a surface of the first surface side of the substrate in a state elongated, the adjustment mechanism having a side edge extending in the first direction with a gap between the wiring when viewed along the normal direction of the first surface; and a contraction step of removing the tension from the substrate.

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法において、前記配線基板を前記第1方向において伸長させながら、前記配線基板に加えられている張力及び前記配線の電気抵抗を測定した場合、前記電気抵抗は、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が第1伸長量のときに、単位伸長量当たりの前記電気抵抗の増加量が変化する第1転換点を示し、前記張力は、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が第1伸長量よりも小さい第2伸長量のときに、単位伸長量当たりの前記張力の増加量が変化する第2転換点を示してもよい。 In a method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure, when the tension applied to the wiring board and the electrical resistance of the wiring are measured while the wiring board is stretched in the first direction, the electrical resistance may indicate a first turning point where the increase in the electrical resistance per unit of stretch changes when the amount of stretch of the wiring board in the first direction is a first stretch amount, and the tension may indicate a second turning point where the increase in the tension per unit of stretch changes when the amount of stretch of the wiring board in the first direction is a second stretch amount that is smaller than the first stretch amount.

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法の前記調整機構形成工程において、前記調整機構は、前記基材に前記配線を設けた後、前記第1伸長工程よりも小さな伸長率で伸長した状態の前記基材の第1面側に設けられてもよい。 In the adjustment mechanism forming step of the method for manufacturing a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the adjustment mechanism may be provided on the first surface side of the substrate in a state in which the substrate is stretched at a smaller stretch rate than in the first stretching step after the wiring is provided on the substrate.

本開示の実施形態によれば、配線などの構成要素に破断などの不具合が生じることを抑制することができる。 According to the embodiment of the present disclosure, it is possible to prevent defects such as breakage of components such as wiring.

一実施の形態に係る配線基板を示す平面図である。1 is a plan view showing a wiring board according to an embodiment; 図1の配線基板のA-A線に沿った断面図である。2 is a cross-sectional view taken along line AA of the wiring board of FIG. 1. 図1の配線基板のB-B線に沿った断面図である。2 is a cross-sectional view taken along line BB of the wiring board of FIG. 1. 図2の配線基板を拡大して示す断面図である。3 is an enlarged cross-sectional view showing the wiring board of FIG. 2. 図3の配線基板を拡大して示す断面図である。4 is an enlarged cross-sectional view showing the wiring board of FIG. 3. 配線基板の断面図のその他の例である。11 is another example of a cross-sectional view of a wiring board. 配線基板の断面図のその他の例である。11 is another example of a cross-sectional view of a wiring board. 配線基板の断面図のその他の例である。11 is another example of a cross-sectional view of a wiring board. 配線基板の製造方法を説明するための図である。1A to 1C are diagrams for explaining a method for manufacturing a wiring board. 第1の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a first modified example. 第1の変形例に係る配線基板の製造方法を説明するための図である。11A to 11C are diagrams for explaining a method for manufacturing a wiring board according to a first modified example. 第1の変形例に係る配線基板の製造方法を説明するための図である。11A to 11C are diagrams for explaining a method for manufacturing a wiring board according to a first modified example. 配線基板を伸長させた場合に張力及び配線の電気抵抗が変化する様子の一例を示す図である。11A and 11B are diagrams illustrating an example of how tension and electrical resistance of wiring change when a wiring board is stretched. 第2伸長量で伸長した状態の配線基板を示す断面図である。11 is a cross-sectional view showing the wiring board in a state in which it is stretched by a second stretch amount. FIG. 第2の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a second modified example. 第2の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a second modified example. 図15の配線基板を拡大して示す断面図である。16 is an enlarged cross-sectional view showing the wiring board of FIG. 15 . 第2の変形例に係る配線基板の製造方法を説明するための図である。13A to 13C are diagrams for explaining a method for manufacturing a wiring board according to a second modified example. 第3の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a third modified example. 第4の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a fourth modified example. 第5の変形例に係る配線基板を示す平面図である。FIG. 13 is a plan view showing a wiring board according to a fifth modified example. 第6の変形例に係る配線基板を示す平面図である。FIG. 13 is a plan view showing a wiring board according to a sixth modified example. 図22の配線基板のC-C線に沿った断面図である。23 is a cross-sectional view taken along line CC of the wiring board of FIG. 22.

以下、本開示の実施形態に係る配線基板の構成及びその製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態に限定して解釈されるものではない。また、本明細書において、「基板」、「基材」、「シート」や「フィルム」など用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「基板」は、基材、シートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。更に、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。また、本実施形態で参照する図面において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。 The configuration of the wiring board according to the embodiment of the present disclosure and the manufacturing method thereof will be described in detail below with reference to the drawings. Note that the embodiment shown below is an example of the embodiment of the present disclosure, and the present disclosure is not to be interpreted as being limited to these embodiments. In this specification, terms such as "substrate", "base material", "sheet" and "film" are not distinguished from each other based only on the difference in name. For example, "substrate" is a concept that includes members that can be called base material, sheet and film. Furthermore, terms such as "parallel" and "orthogonal" and values of length and angle that specify the shape and geometric conditions and their degree used in this specification are not bound by strict meanings, but are interpreted to include the range in which similar functions can be expected. In addition, in the drawings referred to in this embodiment, the same parts or parts having similar functions are given the same or similar symbols, and repeated explanations may be omitted. In addition, the dimensional ratios of the drawings may differ from the actual ratios for the convenience of explanation, and some of the configurations may be omitted from the drawings.

以下、図1乃至図9を参照して、本開示の一実施の形態について説明する。 Below, one embodiment of the present disclosure will be described with reference to Figures 1 to 9.

(配線基板)
まず、本実施の形態に係る配線基板10について説明する。図1は、配線基板10を示す平面図である。図2は、図1の配線基板10のA-A線に沿った断面図であり、図3は、図1の配線基板10のB-B線に沿った断面図である。
(Wiring board)
First, a description will be given of a wiring board 10 according to the present embodiment. Fig. 1 is a plan view showing the wiring board 10. Fig. 2 is a cross-sectional view taken along line A-A of the wiring board 10 in Fig. 1, and Fig. 3 is a cross-sectional view taken along line B-B of the wiring board 10 in Fig. 1.

図1に示す配線基板10は、基材20、配線52及び調整機構30を少なくとも備える。以下、配線基板10の各構成要素について説明する。 The wiring board 10 shown in FIG. 1 includes at least a base material 20, wiring 52, and an adjustment mechanism 30. Each component of the wiring board 10 will be described below.

〔基材〕
基材20は、少なくとも1つの方向において伸縮性を有するよう構成された部材である。基材20は、配線52側に位置する第1面21と、第1面21の反対側に位置する第2面22と、を含む。図1に示す例において、基材20は、第1面21の法線方向に沿って見た場合に、第1方向D1に延びる一対の辺と、第2方向D2に延びる一対の辺とを含む四角形状を有する。第1方向D1と第2方向D2とは、図1に示すように互いに直交していてもよく、図示はしないが直交していなくてもよい。以下の説明において、第1面21の法線方向に沿って配線基板10又は配線基板10の構成要素を見ることを、単に「平面視」とも称する。本実施の形態において、基材20は、少なくとも第1方向D1において伸縮性を有する。基材20は第1方向D1以外の方向においても伸縮性を有していてもよい。
〔Base material〕
The substrate 20 is a member configured to have elasticity in at least one direction. The substrate 20 includes a first surface 21 located on the wiring 52 side and a second surface 22 located on the opposite side of the first surface 21. In the example shown in FIG. 1, the substrate 20 has a quadrangular shape including a pair of sides extending in a first direction D1 and a pair of sides extending in a second direction D2 when viewed along the normal direction of the first surface 21. The first direction D1 and the second direction D2 may be orthogonal to each other as shown in FIG. 1, or may not be orthogonal to each other (not shown). In the following description, viewing the wiring board 10 or components of the wiring board 10 along the normal direction of the first surface 21 is also simply referred to as "planar view". In this embodiment, the substrate 20 has elasticity at least in the first direction D1. The substrate 20 may also have elasticity in directions other than the first direction D1.

基材20の厚みは、例えば10μm以上10mm以下であり、より好ましくは20μm以上3mm以下である。基材20の厚みを10μm以上にすることにより、基材20の耐久性を確保することができる。また、基材20の厚みを10mm以下にすることにより、配線基板10の装着快適性を確保することができる。なお、基材20の厚みを小さくしすぎると、基材20の伸縮性が損なわれる場合がある。 The thickness of the substrate 20 is, for example, 10 μm or more and 10 mm or less, and more preferably 20 μm or more and 3 mm or less. By making the thickness of the substrate 20 10 μm or more, the durability of the substrate 20 can be ensured. Furthermore, by making the thickness of the substrate 20 10 mm or less, the wearing comfort of the wiring board 10 can be ensured. Note that if the thickness of the substrate 20 is made too small, the elasticity of the substrate 20 may be impaired.

なお、基材20の伸縮性とは、基材20が伸び縮みすることができる性質、すなわち、常態である非伸長状態から伸長することができ、この伸長状態から解放したときに復元することができる性質をいう。非伸長状態とは、引張応力が加えられていない時の基材20の状態である。本実施形態において、伸縮可能な基材は、好ましくは、破壊されることなく非伸長状態から1%以上伸長することができ、より好ましくは20%以上伸長することができ、更に好ましくは75%以上伸長することができる。このような能力を有する基材20を用いることにより、配線基板10が全体に伸縮性を有することができる。さらに、人の腕などの身体の一部に取り付けるという、高い伸縮が必要な製品や用途において、配線基板10を使用することができる。一般に、人の脇の下に取り付ける製品には、垂直方向において72%、水平方向において27%の伸縮性が必要であると言われている。また、人の膝、肘、臀部、足首、脇部に取り付ける製品には、垂直方向において26%以上42%以下の伸縮性が必要であると言われている。また、人のその他の部位に取り付ける製品には、20%未満の伸縮性が必要であると言われている。 The elasticity of the substrate 20 refers to the property of the substrate 20 being able to expand and contract, that is, the property of being able to expand from a non-stretched state, which is the normal state, and being able to restore when released from this stretched state. The non-stretched state is the state of the substrate 20 when no tensile stress is applied. In this embodiment, the stretchable substrate can preferably be stretched from a non-stretched state by 1% or more without being broken, more preferably by 20% or more, and even more preferably by 75% or more. By using a substrate 20 having such capabilities, the wiring board 10 can be made elastic as a whole. Furthermore, the wiring board 10 can be used in products and applications that require high elasticity, such as attachment to a part of the body, such as a human arm. In general, it is said that products that are attached to a person's armpits require elasticity of 72% in the vertical direction and 27% in the horizontal direction. It is also said that products that are attached to a person's knees, elbows, buttocks, ankles, and armpits require elasticity of 26% or more and 42% or less in the vertical direction. It is also said that products that are attached to other parts of the person require elasticity of less than 20%.

また、非伸長状態にある基材20の形状と、非伸長状態から伸長された後に再び非伸長状態に戻ったときの基材20の形状との差が小さいことが好ましい。この差のことを、以下の説明において形状変化とも称する。基材20の形状変化は、例えば面積比で20%以下、より好ましくは10%以下、さらに好ましくは5%以下である。形状変化の小さい基材20を用いることにより、後述する山部や谷部の形成が容易になる。 It is also preferable that the difference between the shape of the substrate 20 in an unstretched state and the shape of the substrate 20 when it is stretched from the unstretched state and then returns to the unstretched state is small. This difference is also referred to as shape change in the following description. The shape change of the substrate 20 is, for example, 20% or less in area ratio, more preferably 10% or less, and even more preferably 5% or less. By using a substrate 20 with small shape change, it becomes easier to form the peaks and valleys described below.

基材20の伸縮性を表すパラメータの例として、基材20の弾性係数を挙げることができる。基材20の弾性係数は、例えば10MPa以下であり、より好ましくは1MPa以下である。このような弾性係数を有する基材20を用いることにより、配線基板10全体に伸縮性を持たせることができる。以下の説明において、基材20の弾性係数のことを、第1の弾性係数とも称する。基材20の第1の弾性係数は、1kPa以上であってもよい。 An example of a parameter that represents the elasticity of the substrate 20 is the elastic modulus of the substrate 20. The elastic modulus of the substrate 20 is, for example, 10 MPa or less, and more preferably 1 MPa or less. By using a substrate 20 having such an elastic modulus, the entire wiring board 10 can be made elastic. In the following description, the elastic modulus of the substrate 20 is also referred to as the first elastic modulus. The first elastic modulus of the substrate 20 may be 1 kPa or more.

基材20の第1の弾性係数を算出する方法としては、基材20のサンプルを用いて、JIS K6251に準拠して引張試験を実施するという方法を採用することができる。また、基材20のサンプルの弾性係数を、ISO14577に準拠してナノインデンテーション法によって測定するという方法を採用することもできる。ナノインデンテーション法において用いる測定器としては、ナノインデンターを用いることができる。基材20のサンプルを準備する方法としては、配線基板10から基材20の一部をサンプルとして取り出す方法や、配線基板10を構成する前の基材20の一部をサンプルとして取り出す方法が考えられる。その他にも、基材20の第1の弾性係数を算出する方法として、基材20を構成する材料を分析し、材料の既存のデータベースに基づいて基材20の第1の弾性係数を算出するという方法を採用することもできる。なお、本願における弾性係数は、25℃の環境下における弾性係数である。 As a method for calculating the first elastic modulus of the substrate 20, a tensile test can be performed in accordance with JIS K6251 using a sample of the substrate 20. In addition, a method can be adopted in which the elastic modulus of the sample of the substrate 20 is measured by a nanoindentation method in accordance with ISO14577. A nanoindenter can be used as a measuring device used in the nanoindentation method. As a method for preparing a sample of the substrate 20, a method of taking out a part of the substrate 20 from the wiring board 10 as a sample, or a method of taking out a part of the substrate 20 before constructing the wiring board 10 as a sample can be considered. In addition, as a method for calculating the first elastic modulus of the substrate 20, a method of analyzing the material constituting the substrate 20 and calculating the first elastic modulus of the substrate 20 based on an existing database of materials can be adopted. Note that the elastic modulus in this application is an elastic modulus in an environment of 25°C.

基材20の伸縮性を表すパラメータのその他の例として、基材20の曲げ剛性を挙げることができる。曲げ剛性は、対象となる部材の断面二次モーメントと、対象となる部材を構成する材料の弾性係数との積であり、単位はN・m又はPa・mである。基材20の断面二次モーメントは、配線基板10の伸縮方向に直交する平面によって、基材20のうち配線52と重なっている部分を切断した場合の断面に基づいて算出される。 Another example of a parameter representing the stretchability of the substrate 20 is the bending rigidity of the substrate 20. The bending rigidity is the product of the second moment of area of the target member and the elastic modulus of the material constituting the target member, and is expressed in units of N· m2 or Pa· m4 . The second moment of area of the substrate 20 is calculated based on a cross section of a portion of the substrate 20 overlapping with the wiring 52 cut by a plane perpendicular to the stretch direction of the wiring board 10.

基材20を構成する材料の例としては、例えば、エラストマーを挙げることができる。また、基材20の材料として、例えば、織物、編物、不織布などの布を用いることもできる。エラストマーとしては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができ、具体的には、ポリウレタン系エラストマー、スチレン系エラストマー、ニトリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、塩ビ系エラストマー、エステル系エラストマー、アミド系エラストマー、1,2-BR系エラストマー、フッ素系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ポリブタジエン、ポリイソブチレン、ポリスチレンブタジエン、ポリクロロプレン等を用いることができる。機械的強度や耐磨耗性を考慮すると、ウレタン系エラストマーを用いることが好ましい。また、基材20が、ポリジメチルシロキサンなどのシリコーンを含んでいてもよい。シリコーンは、耐熱性・耐薬品性・難燃性に優れており、基材20の材料として好ましい。 An example of a material constituting the substrate 20 is an elastomer. In addition, the substrate 20 may be made of a cloth such as a woven fabric, a knitted fabric, or a nonwoven fabric. As the elastomer, a general thermoplastic elastomer and a thermosetting elastomer may be used. Specifically, a polyurethane-based elastomer, a styrene-based elastomer, a nitrile-based elastomer, an olefin-based elastomer, a PVC-based elastomer, an ester-based elastomer, an amide-based elastomer, a 1,2-BR-based elastomer, a fluorine-based elastomer, a silicone rubber, a urethane rubber, a fluorine rubber, a polybutadiene, a polyisobutylene, a polystyrene butadiene, a polychloroprene, or the like may be used. In consideration of mechanical strength and abrasion resistance, it is preferable to use a urethane-based elastomer. In addition, the substrate 20 may contain a silicone such as polydimethylsiloxane. Silicone has excellent heat resistance, chemical resistance, and flame retardancy, and is therefore preferable as a material for the substrate 20.

〔配線〕
配線52は、導電性を有し、平面視において細長い形状を有する部材である。図1に示す例において、配線52は、基材20の第1面21の面内方向の1つである第1方向D1に延びている。
〔wiring〕
The wiring 52 is a conductive member having an elongated shape in a planar view. In the example shown in FIG. 1 , the wiring 52 extends in a first direction D1, which is one of the in-plane directions of the first surface 21 of the base material 20.

本実施の形態において、配線52は、基材20の第1面21側に位置している。図2に示すように、配線52は、基材20の第1面21に接していてもよい。図示はしないが、基材20の第1面21と配線52との間にその他の部材が介在されていてもよい。 In this embodiment, the wiring 52 is located on the first surface 21 side of the substrate 20. As shown in FIG. 2, the wiring 52 may be in contact with the first surface 21 of the substrate 20. Although not shown, other members may be interposed between the first surface 21 of the substrate 20 and the wiring 52.

配線52の材料としては、後述する蛇腹形状部の解消及び生成を利用して基材20の伸長及び収縮に追従することができる材料が用いられる。配線52の材料は、それ自体が伸縮性を有していてもよく、伸縮性を有していなくてもよい。
配線52に用いられ得る、それ自体は伸縮性を有さない材料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、白金、クロム等の金属や、これらの金属を含む合金が挙げられる。配線52の材料自体が伸縮性を有さない場合、配線52としては、金属膜を用いることができる。
配線52に用いられる材料自体が伸縮性を有する場合、材料の伸縮性は、例えば、基材20の伸縮性と同様である。配線52に用いられ得る、それ自体が伸縮性を有する材料としては、例えば、導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物が挙げられる。導電性粒子としては、配線に使用できるものであればよく、例えば、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、カーボン等の粒子が挙げられる。中でも、銀粒子が好ましく用いられる。
The material of the wiring 52 is a material that can follow the expansion and contraction of the base material 20 by utilizing the elimination and generation of a bellows-shaped portion described later. The material of the wiring 52 may or may not have elasticity by itself.
Examples of materials that do not have elasticity and that can be used for the wiring 52 include metals such as gold, silver, copper, aluminum, platinum, and chromium, and alloys containing these metals. When the material of the wiring 52 itself does not have elasticity, a metal film can be used for the wiring 52.
When the material used for the wiring 52 itself has elasticity, the elasticity of the material is, for example, the same as that of the substrate 20. Examples of materials that can be used for the wiring 52 and that have elasticity themselves include conductive compositions containing conductive particles and elastomers. The conductive particles may be any particles that can be used for wiring, and examples of the conductive particles include particles of gold, silver, copper, nickel, palladium, platinum, carbon, etc. Among these, silver particles are preferably used.

好ましくは、配線52は、変形に対する耐性を有する構造を備える。例えば、配線52は、ベース材と、ベース材の中に分散された複数の導電性粒子とを有する。この場合、ベース材として、樹脂などの変形可能な材料を用いることにより、基材20の伸縮に応じて配線52も変形することができる。また、変形が生じた場合であっても複数の導電性粒子の間の接触が維持されるように導電性粒子の分布や形状を設定することにより、配線52の導電性を維持することができる。 Preferably, the wiring 52 has a structure that is resistant to deformation. For example, the wiring 52 has a base material and a plurality of conductive particles dispersed in the base material. In this case, by using a deformable material such as resin as the base material, the wiring 52 can also deform in response to the expansion and contraction of the substrate 20. In addition, the conductivity of the wiring 52 can be maintained by setting the distribution and shape of the conductive particles so that contact between the plurality of conductive particles is maintained even if deformation occurs.

配線52のベース材を構成する材料としては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができ、例えば、スチレン系エラストマー、アクリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、ポリブタジエン、ポリクロロプレン等を用いることができる。中でも、ウレタン系、シリコーン系構造を含む樹脂やゴムが、その伸縮性や耐久性などの面から好ましく用いられる。また、配線52の導電性粒子を構成する材料としては、例えば銀、銅、金、ニッケル、パラジウム、白金、カーボン等の粒子を用いることができる。中でも、銀粒子が好ましく用いられる。 As the material constituting the base material of the wiring 52, general thermoplastic elastomers and thermosetting elastomers can be used, such as styrene-based elastomers, acrylic-based elastomers, olefin-based elastomers, urethane-based elastomers, silicone rubber, urethane rubber, fluororubber, nitrile rubber, polybutadiene, polychloroprene, etc. can be used. Among these, resins and rubbers containing urethane-based and silicone-based structures are preferably used in terms of their elasticity and durability. In addition, as the material constituting the conductive particles of the wiring 52, particles of silver, copper, gold, nickel, palladium, platinum, carbon, etc. can be used. Among these, silver particles are preferably used.

配線52の厚みは、基材20の伸縮に耐え得る厚みであればよく、配線52の材料等に応じて適宜選択される。
例えば、配線52の材料が伸縮性を有さない場合、配線52の厚みは、25nm以上100μm以下の範囲内とすることができ、50nm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、100nm以上5μm以下の範囲内であることがより好ましい。
また、配線52の材料が伸縮性を有する場合、配線52の厚みは、5μm以上60μm以下の範囲内とすることができ、10μm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、20μm以上40μm以下の範囲内であることがより好ましい。
配線52の幅は、例えば50μm以上且つ10mm以下である。
The thickness of the wiring 52 may be any thickness that can withstand the expansion and contraction of the base material 20, and is appropriately selected depending on the material of the wiring 52, etc.
For example, if the material of the wiring 52 is not elastic, the thickness of the wiring 52 can be in the range of 25 nm to 100 μm, preferably in the range of 50 nm to 50 μm, and more preferably in the range of 100 nm to 5 μm.
Furthermore, when the material of the wiring 52 is elastic, the thickness of the wiring 52 can be in the range of 5 μm or more and 60 μm or less, preferably in the range of 10 μm or more and 50 μm or less, and more preferably in the range of 20 μm or more and 40 μm or less.
The width of the wiring 52 is, for example, not less than 50 μm and not more than 10 mm.

配線52の幅は、配線52に求められる電気抵抗値に応じて適宜選択される。配線52の幅は、例えば1μm以上であり、好ましくは50μm以上である。また、配線52の幅は、例えば10mm以下であり、好ましくは1mm以下である。 The width of the wiring 52 is appropriately selected according to the electrical resistance value required for the wiring 52. The width of the wiring 52 is, for example, 1 μm or more, and preferably 50 μm or more. The width of the wiring 52 is, for example, 10 mm or less, and preferably 1 mm or less.

配線52の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、基材20上または後述する支持基板40上に蒸着法やスパッタリング法、金属箔の積層等により金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ法により金属膜をパターニングする方法が挙げられる。基材20上または後述する支持基板40上に金属箔を積層する場合、基材20または支持基板40と金属箔との間に接着層などが介在されていてもよい。また、配線52の材料自体が伸縮性を有する場合、例えば、基材20上または支持基板40上に一般的な印刷法により上記の導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物をパターン状に印刷する方法が挙げられる。これらの方法のうち、材料効率がよく安価に製作できる印刷法が好ましく用いられ得る。 The method of forming the wiring 52 is appropriately selected depending on the material, etc. For example, a method of forming a metal film on the base material 20 or the support substrate 40 described later by deposition, sputtering, lamination of metal foil, etc., and then patterning the metal film by photolithography can be used. When laminating metal foil on the base material 20 or the support substrate 40 described later, an adhesive layer or the like may be interposed between the base material 20 or the support substrate 40 and the metal foil. In addition, when the material of the wiring 52 itself has elasticity, for example, a method of printing a conductive composition containing the above-mentioned conductive particles and elastomer in a pattern on the base material 20 or the support substrate 40 by a general printing method can be used. Among these methods, a printing method that has good material efficiency and can be produced inexpensively can be preferably used.

〔調整機構〕
調整機構30は、基材20の伸縮を制御するために基材20の第1面21側に設けられている機構である。調整機構30は、基材20の広域にわたって設けられている。例えば、調整機構30は、基材20の第1面21側において、配線52よりも高い占有率を有する。このため、調整機構30が設けられていない場合に比べて、配線基板10を伸縮させる際に配線基板10の一部に局所的に応力が集中することを抑制することができる。例えば、基材20の弾性係数と配線52の弾性係数の相違が大きく、且つ配線52の占有率が低い場合、配線基板10を伸縮させる際に配線52に応力が集中し易い。これに対して、本実施の形態によれば、基材20に調整機構30を設けることにより、配線52に応力が集中することを抑制することができる。これにより、配線基板10に生じる湾曲や屈曲などの変形が局所的に大きくなることを抑制することができる。このため、配線52にクラックなどの破損が生じてしまうことを抑制することができる。また、配線基板10を繰り返し伸縮させた際に配線52の電気抵抗値が増加してしまうことを抑制することができる。
[Adjustment mechanism]
The adjustment mechanism 30 is a mechanism provided on the first surface 21 side of the substrate 20 to control the expansion and contraction of the substrate 20. The adjustment mechanism 30 is provided over a wide area of the substrate 20. For example, the adjustment mechanism 30 has a higher occupancy rate on the first surface 21 side of the substrate 20 than the wiring 52. Therefore, compared to a case where the adjustment mechanism 30 is not provided, it is possible to suppress localized concentration of stress on a part of the wiring substrate 10 when the wiring substrate 10 is expanded or contracted. For example, when the difference between the elastic modulus of the substrate 20 and the elastic modulus of the wiring 52 is large and the occupancy rate of the wiring 52 is low, stress is likely to concentrate on the wiring 52 when the wiring substrate 10 is expanded or contracted. In contrast, according to the present embodiment, by providing the adjustment mechanism 30 on the substrate 20, it is possible to suppress the concentration of stress on the wiring 52. As a result, it is possible to suppress deformation such as curvature and bending occurring in the wiring substrate 10 from becoming locally large. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of damage such as cracks in the wiring 52. In addition, it is possible to suppress an increase in the electrical resistance value of the wiring 52 when the wiring substrate 10 is repeatedly expanded or contracted.

なお「調整機構の占有率」とは、基材20の第1面21の法線方向に沿って見た場合の配線基板10全体の面積に対する、基材20の第1面21の法線方向に沿って見た場合の、第1面21側に位置する全ての調整機構30の面積の比率である。同様に、「配線の占有率」とは、基材20の第1面21の法線方向に沿って見た場合の配線基板10全体の面積に対する、基材20の第1面21の法線方向に沿って見た場合の、第1面21側に位置する全ての配線52の面積の比率である。 The "occupancy rate of the adjustment mechanism" is the ratio of the area of all the adjustment mechanisms 30 located on the first surface 21 side when viewed along the normal direction of the first surface 21 of the substrate 20 to the area of the entire wiring board 10 when viewed along the normal direction of the first surface 21 of the substrate 20. Similarly, the "occupancy rate of the wiring" is the ratio of the area of all the wiring 52 located on the first surface 21 side when viewed along the normal direction of the first surface 21 of the substrate 20 to the area of the entire wiring board 10 when viewed along the normal direction of the first surface 21 of the substrate 20.

ところで、本件発明者らが鋭意研究を行ったところ、調整機構30が配線52に接していると、配線52の電気特性に劣化が生じ易いことを見出した。例えば、配線52が全体的に調整機構30によって覆われている場合、配線基板10を1万回にわたって繰り返し伸縮させる伸縮試験の前後で、配線52の電気抵抗値が5倍以上に増加することがあった。このような電気抵抗値の増加は、配線52が、ベース材と、ベース材の中に分散された複数の導電性粒子とを有し、調整機構30のうち配線52に接する表面が樹脂又はエラストマーを含む場合に顕著に現れた。 However, the inventors of the present invention conducted extensive research and found that when the adjustment mechanism 30 is in contact with the wiring 52, the electrical properties of the wiring 52 are likely to deteriorate. For example, when the wiring 52 is entirely covered by the adjustment mechanism 30, the electrical resistance of the wiring 52 can increase by more than five times before and after a stretching test in which the wiring board 10 is repeatedly stretched 10,000 times. This increase in electrical resistance is evident when the wiring 52 has a base material and a plurality of conductive particles dispersed in the base material, and the surface of the adjustment mechanism 30 that is in contact with the wiring 52 contains a resin or elastomer.

このような課題を考慮し、本実施の形態においては、調整機構30が配線52に全く又はほとんど重ならないように調整機構30を設けることを提案する。例えば、図1に示すように、平面視において配線52との間に間隔Z1を空けて調整機構30を設けることを提案する。この場合、調整機構30は、配線52との間に間隔Z1を空けて第1方向D1に延びる側縁30eを有する。このように調整機構30を設けることにより、配線52と調整機構30との接触に起因して配線52の電気抵抗値が増加してしまうことを防ぐことができる。配線52と調整機構30の側縁30eとの間の間隔Z1は、好ましくは1μm以上であり、より好ましくは3μm以上である。 Considering these problems, in this embodiment, it is proposed to provide the adjustment mechanism 30 so that the adjustment mechanism 30 does not overlap the wiring 52 at all or almost does not overlap the wiring 52. For example, as shown in FIG. 1, it is proposed to provide the adjustment mechanism 30 with a gap Z1 between it and the wiring 52 in a plan view. In this case, the adjustment mechanism 30 has a side edge 30e that extends in the first direction D1 with a gap Z1 between it and the wiring 52. By providing the adjustment mechanism 30 in this manner, it is possible to prevent the electrical resistance value of the wiring 52 from increasing due to contact between the wiring 52 and the adjustment mechanism 30. The gap Z1 between the wiring 52 and the side edge 30e of the adjustment mechanism 30 is preferably 1 μm or more, and more preferably 3 μm or more.

一方、間隔Z1が大きくなり過ぎると、配線52に応力が集中することを調整機構30によって抑制するという効果が生じにくくなる。配線52と調整機構30の側縁30eとの間の間隔Z1は、配線52の幅以下であることが好ましい。また、間隔Z1は、例えば1mm以下であり、500μm以下であってもよく、100μm以下であってもよく、10μm以下であってもよく、7μm以下であってもよい。 On the other hand, if the distance Z1 becomes too large, it becomes difficult for the adjustment mechanism 30 to have the effect of suppressing the concentration of stress on the wiring 52. It is preferable that the distance Z1 between the wiring 52 and the side edge 30e of the adjustment mechanism 30 is equal to or less than the width of the wiring 52. Furthermore, the distance Z1 is, for example, 1 mm or less, and may be 500 μm or less, 100 μm or less, 10 μm or less, or 7 μm or less.

好ましくは、配線基板10のうち配線52が設けられていない部分には、より高い密度で調整機構30が設けられる。配線基板10のうち配線52が設けられていない部分の面積に対する、調整機構30の面積の比率は、例えば50%以上であり、60%以上であってもよく、70%以上であってもよく、80%以上であってもよく、90%以上であってもよく、95%以上であってもよい。 Preferably, the adjustment mechanisms 30 are provided at a higher density in the portions of the wiring board 10 where the wiring 52 is not provided. The ratio of the area of the adjustment mechanisms 30 to the area of the portions of the wiring board 10 where the wiring 52 is not provided is, for example, 50% or more, may be 60% or more, 70% or more, 80% or more, 90% or more, or may be 95% or more.

図1に示すように、調整機構30は、配線52が延びる第1方向D1に直交する第2方向D2において配線52を挟むように位置していてもよい。この場合、第2方向D2において配線52の一方の側に位置する調整機構30と配線52との間の間隔と、第2方向D2において配線52の他方の側に位置する調整機構30と配線52との間の間隔は、同一であってもよく、異なっていてもよい。また、図示はしないが、調整機構30は、第2方向D2において配線52の一方の側又は他方の側にのみ位置していてもよい。 As shown in FIG. 1, the adjustment mechanism 30 may be positioned to sandwich the wiring 52 in a second direction D2 perpendicular to the first direction D1 in which the wiring 52 extends. In this case, the distance between the adjustment mechanism 30 located on one side of the wiring 52 in the second direction D2 and the wiring 52 and the distance between the adjustment mechanism 30 located on the other side of the wiring 52 in the second direction D2 and the wiring 52 may be the same or different. Also, although not shown, the adjustment mechanism 30 may be positioned only on one side or the other side of the wiring 52 in the second direction D2.

図1において、符号W1は、第1方向D1に直交する第2方向D2における配線52の寸法を表し、符号W2は、第2方向D2における調整機構30の寸法を表す。以下の説明において、第1方向D1に直交する第2方向D2における配線52の寸法のことを、配線52の幅とも称する。調整機構30の寸法W2は、配線52の幅W1の2倍以上であってもよく、より好ましくは5倍以上である。 In FIG. 1, the symbol W1 represents the dimension of the wiring 52 in the second direction D2 perpendicular to the first direction D1, and the symbol W2 represents the dimension of the adjustment mechanism 30 in the second direction D2. In the following description, the dimension of the wiring 52 in the second direction D2 perpendicular to the first direction D1 is also referred to as the width of the wiring 52. The dimension W2 of the adjustment mechanism 30 may be at least twice the width W1 of the wiring 52, and is more preferably at least five times.

図3に示すように、調整機構30は、第1面21側において第1面21の面内方向に広がる調整層31を少なくとも含む。調整層31は、第1方向D1において、基材20の第1の弾性係数よりも高い弾性係数を有してもよい。また、調整層31の弾性係数は、配線52の弾性係数よりも低くてもよい。調整層31の弾性係数は、例えば10GPa以上500GPa以下であり、より好ましくは1GPa以上300GPa以下である。調整層31の弾性係数が低すぎると、基材20の伸長を抑制できない場合がある。また、調整層31の弾性係数が高すぎると、基材20が伸縮した際に、割れやひびなど構造の破壊が調整層31に起こる場合がある。調整層31の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数の1.1倍以上5000倍以下であってもよく、より好ましくは10倍以上3000倍以下である。以下の説明において、調整層31の弾性係数のことを、第2の弾性係数とも称する。 3, the adjustment mechanism 30 includes at least an adjustment layer 31 extending in the in-plane direction of the first surface 21 on the first surface 21 side. The adjustment layer 31 may have a higher elastic modulus than the first elastic modulus of the substrate 20 in the first direction D1. The elastic modulus of the adjustment layer 31 may be lower than the elastic modulus of the wiring 52. The elastic modulus of the adjustment layer 31 is, for example, 10 GPa or more and 500 GPa or less, more preferably 1 GPa or more and 300 GPa or less. If the elastic modulus of the adjustment layer 31 is too low, the extension of the substrate 20 may not be suppressed. If the elastic modulus of the adjustment layer 31 is too high, the structure of the adjustment layer 31 may be destroyed, such as by cracking or cracking, when the substrate 20 expands and contracts. The elastic modulus of the adjustment layer 31 may be 1.1 times or more and 5000 times or less than the first elastic modulus of the substrate 20, more preferably 10 times or more and 3000 times or less. In the following description, the elastic modulus of the adjustment layer 31 is also referred to as the second elastic modulus.

調整層31の材料は、伸縮性を有していてもよく、伸縮性を有していなくてもよい。中でも、調整層の材料は伸縮性を有することが好ましい。調整層31が伸縮性を有する材料を含む場合には、変形に対する耐性を有することができるからである。 The material of the adjustment layer 31 may or may not be elastic. In particular, it is preferable that the material of the adjustment layer is elastic. This is because when the adjustment layer 31 contains an elastic material, it can have resistance to deformation.

調整層31に用いられる伸縮性を有さない材料としては、例えば、樹脂を挙げることができる。樹脂としては、一般的な樹脂を用いることができ、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等のいずれも用いることができる。また、調整層31が樹脂又はエラストマーを含む場合、調整層としては、樹脂基材を用いることもできる。 An example of a material that does not have elasticity and is used for the adjustment layer 31 is a resin. As the resin, a general resin can be used, and for example, any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a photocurable resin, etc. can be used. In addition, when the adjustment layer 31 contains a resin or an elastomer, a resin substrate can also be used as the adjustment layer.

調整層31に用いられる伸縮性を有する材料の伸縮性としては、基材20の伸縮性と同様とすることができる。
調整層31に用いられる伸縮性を有する材料としては、例えば、エラストマーを挙げることができる。エラストマーとしては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができ、具体的には、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、アミド系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ポリブタジエン、ポリイソブチレン、ポリスチレンブタジエン、ポリクロロプレン等が挙げられる。調整層31を構成する材料がこれらの樹脂である場合、調整層31は、透明性を有していてもよい。また、調整層は、遮光性、例えば紫外線を遮蔽する特性を有していてもよい。例えば、調整層31は黒色であってもよい。また調整層の色と基板の色とが同一であってもよい。調整層31にデザイン性を持たせて加飾の役割を持っていてもよい。
The elasticity of the elastic material used in the adjustment layer 31 can be the same as that of the base material 20 .
Examples of materials having elasticity used for the adjustment layer 31 include elastomers. As the elastomers, general thermoplastic elastomers and thermosetting elastomers can be used, and specifically, styrene-based elastomers, olefin-based elastomers, urethane-based elastomers, amide-based elastomers, silicone rubber, urethane rubber, fluororubber, polybutadiene, polyisobutylene, polystyrene butadiene, polychloroprene, and the like can be mentioned. When the material constituting the adjustment layer 31 is these resins, the adjustment layer 31 may have transparency. In addition, the adjustment layer may have a light-shielding property, for example, a property of shielding ultraviolet rays. For example, the adjustment layer 31 may be black. In addition, the color of the adjustment layer and the color of the substrate may be the same. The adjustment layer 31 may have a design property and serve as a decoration.

また、調整層31は、絶縁性を有していてもよい。絶縁性を有する調整層31の材料としては、樹脂やエラストマーを用いることができる。 The adjustment layer 31 may also be insulating. Resins and elastomers can be used as materials for the adjustment layer 31 that have insulating properties.

調整層31の第2の弾性係数を算出する方法は、調整層31の形態に応じて適宜定められる。例えば、調整層31の第2の弾性係数を算出する方法は、上述の基材20の弾性係数を算出する方法と同様であってもよく、異なっていてもよい。後述する支持基板40の弾性係数も同様である。例えば、調整層31又は支持基板40の弾性係数を算出する方法として、調整層31又は支持基板40のサンプルを用いて、ASTM D882に準拠して引張試験を実施するという方法を採用することができる。 The method for calculating the second elastic coefficient of the adjustment layer 31 is appropriately determined depending on the form of the adjustment layer 31. For example, the method for calculating the second elastic coefficient of the adjustment layer 31 may be the same as or different from the method for calculating the elastic coefficient of the base material 20 described above. The same applies to the elastic coefficient of the support substrate 40 described below. For example, a method for calculating the elastic coefficient of the adjustment layer 31 or the support substrate 40 can be adopted in which a tensile test is performed in accordance with ASTM D882 using a sample of the adjustment layer 31 or the support substrate 40.

調整機構30は、樹脂又はエラストマーを含む表面を有していてもよい。図3に示すように調整機構30が調整層31からなる場合、調整機構30の樹脂又はエラストマーを含む表面は、調整層31が樹脂又はエラストマーを含むことによって実現され得る。 The adjustment mechanism 30 may have a surface that includes a resin or an elastomer. When the adjustment mechanism 30 is made of an adjustment layer 31 as shown in FIG. 3, the surface of the adjustment mechanism 30 that includes a resin or an elastomer can be realized by the adjustment layer 31 including a resin or an elastomer.

調整層31の厚みは、伸縮に耐え得る厚みであればよく、調整層31の材料等に応じて適宜選択される。調整層31の厚みは、例えば、0.1μm以上とすることができ、1μm以上であってもよく、10μm以上であってもよい。また、調整層31の厚みは、例えば、5mm以下とすることができ、1mm以下であってもよく、500μm以下であってもよく、100μm以下であってもよい。調整層31が薄すぎると、応力集中を低減する効果が十分に得られない場合がある。また、調整層31が厚すぎると、調整層31の弾性係数が上述の関係を満たしていても、調整層31の曲げ剛性が大きくなり、応力集中を低減することが困難になる場合がある。 The thickness of the adjustment layer 31 may be any thickness that can withstand expansion and contraction, and is appropriately selected according to the material of the adjustment layer 31. The thickness of the adjustment layer 31 may be, for example, 0.1 μm or more, 1 μm or more, or 10 μm or more. The thickness of the adjustment layer 31 may be, for example, 5 mm or less, 1 mm or less, 500 μm or less, or 100 μm or less. If the adjustment layer 31 is too thin, the effect of reducing stress concentration may not be sufficiently obtained. If the adjustment layer 31 is too thick, even if the elastic coefficient of the adjustment layer 31 satisfies the above-mentioned relationship, the bending rigidity of the adjustment layer 31 may be large, making it difficult to reduce stress concentration.

調整層31の特性を、弾性係数に替えて曲げ剛性によって表してもよい。調整層31の断面二次モーメントは、配線52が延びる方向に直交する平面によって調整層31を切断した場合の断面に基づいて算出される。調整層31の曲げ剛性は、基材20の曲げ剛性の1.1倍以上であってもよく、より好ましくは2倍以上であり、更に好ましくは10倍以上である。なお、曲げ剛性は、対象となる部材の断面二次モーメントと、対象となる部材を構成する材料の弾性係数との積であり、単位はN・m又はPa・mである。 The characteristics of the adjustment layer 31 may be expressed by bending rigidity instead of the elastic modulus. The second moment of area of the adjustment layer 31 is calculated based on a cross section of the adjustment layer 31 cut by a plane perpendicular to the direction in which the wiring 52 extends. The bending rigidity of the adjustment layer 31 may be 1.1 times or more, more preferably 2 times or more, and even more preferably 10 times or more, of the bending rigidity of the base material 20. The bending rigidity is the product of the second moment of area of the target member and the elastic modulus of the material constituting the target member, and is expressed in units of N·m 2 or Pa·m 4 .

調整層31の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、基材20上または後述する支持基板40上に配線52を形成した後、調整層31を構成する材料を印刷法により基材20上に印刷する方法が挙げられる。調整層31を構成する金属箔、樹脂フィルムなどの部材を基材20に接着層などを介して貼り付けてもよい。 The method for forming the adjustment layer 31 is appropriately selected depending on the material, etc. For example, after forming the wiring 52 on the base material 20 or on the support substrate 40 described below, the material constituting the adjustment layer 31 is printed on the base material 20 by a printing method. The member constituting the adjustment layer 31, such as a metal foil or a resin film, may be attached to the base material 20 via an adhesive layer, etc.

次に、配線基板10の断面形状について詳細に説明する。まず、配線基板10のうち配線52を含む部分の断面形状について、図4を参照して説明する。図4は、配線52を通るA-A線に沿った断面図である図2の配線基板を拡大して示す図である。 Next, the cross-sectional shape of the wiring board 10 will be described in detail. First, the cross-sectional shape of the portion of the wiring board 10 that includes the wiring 52 will be described with reference to FIG. 4. FIG. 4 is an enlarged view of the wiring board of FIG. 2, which is a cross-sectional view taken along line A-A that passes through the wiring 52.

後述するように、配線52は、張力を加えられて第1伸長量で伸長された状態の基材20に設けられる。この場合、基材20から張力が取り除かれて基材20が収縮するとき、配線52は、図4に示すように、蛇腹状に変形して蛇腹形状部55を有するようになる。 As described below, the wiring 52 is provided on the substrate 20 in a state in which tension is applied and the substrate 20 is stretched by a first extension amount. In this case, when the tension is removed from the substrate 20 and the substrate 20 contracts, the wiring 52 is deformed into a bellows shape and has a bellows-shaped portion 55 as shown in FIG. 4.

配線52の蛇腹形状部55は、配線52が延びる第1方向D1方向に沿って並ぶ複数の山部53を含む。山部53は、配線52の表面において第1面21の法線方向に隆起した部分である。図4に示すように、配線52が延びる方向において隣り合う2つの山部53の間には谷部54が存在していてもよい。 The bellows-shaped portion 55 of the wiring 52 includes a plurality of peaks 53 aligned along the first direction D1 in which the wiring 52 extends. The peaks 53 are raised portions on the surface of the wiring 52 in the normal direction of the first face 21. As shown in FIG. 4, a valley 54 may be present between two peaks 53 adjacent to each other in the direction in which the wiring 52 extends.

図4に示す例において、配線52の山部53及び谷部54並びに基材20の第1面21の山部23及び谷部24は、基材20の辺が延びる方向である第1方向D1に並んでいる。すなわち、配線52の山部53及び谷部54並びに基材20の第1面21の山部23及び谷部24が並ぶ方向と、基材20の辺が延びる方向とが一致している。しかしながら、これに限られることはなく、図示はしないが、配線52の山部53及び谷部54並びに基材20の第1面21の山部23及び谷部24が並ぶ方向と、基材20の辺が延びる方向とが一致していなくてもよい。また、図4においては、蛇腹形状部55の複数の山部53及び谷部54が一定の周期で並ぶ例が示されているが、これに限られることはない。図示はしないが、蛇腹形状部55の複数の山部53及び谷部54は、第1方向D1に沿って不規則に並んでいてもよい。例えば、第1方向D1において隣り合う2つの山部53の間の間隔が一定でなくてもよい。 In the example shown in FIG. 4, the peaks 53 and valleys 54 of the wiring 52 and the peaks 23 and valleys 24 of the first surface 21 of the substrate 20 are aligned in the first direction D1, which is the direction in which the sides of the substrate 20 extend. That is, the direction in which the peaks 53 and valleys 54 of the wiring 52 and the peaks 23 and valleys 24 of the first surface 21 of the substrate 20 are aligned coincides with the direction in which the sides of the substrate 20 extend. However, this is not limited to this, and although not shown, the direction in which the peaks 53 and valleys 54 of the wiring 52 and the peaks 23 and valleys 24 of the first surface 21 of the substrate 20 are aligned does not have to coincide with the direction in which the sides of the substrate 20 extend. Also, in FIG. 4, an example in which multiple peaks 53 and valleys 54 of the bellows-shaped portion 55 are aligned at a constant period is shown, but this is not limited to this. Although not shown, the multiple peaks 53 and valleys 54 of the bellows-shaped portion 55 may be arranged irregularly along the first direction D1. For example, the distance between two adjacent peaks 53 in the first direction D1 may not be constant.

図4において、符号S1は、第1面21側における配線基板10の表面のうち配線52の蛇腹形状部55に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅を表す。図4に示す例においては、配線52が配線基板10の表面に位置しているので、振幅S1は、配線52の山部53及び谷部54の振幅である。振幅S1は、例えば1μm以上であり、より好ましくは10μm以上である。振幅S1を10μm以上とすることにより、基材20の伸長に追従して配線52が変形し易くなる。また、振幅S1は、例えば500μm以下であってもよい。 In FIG. 4, the symbol S1 represents the amplitude of the peaks and valleys that appear on the surface of the wiring board 10 on the first surface 21 side, which overlaps with the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52. In the example shown in FIG. 4, since the wiring 52 is located on the surface of the wiring board 10, the amplitude S1 is the amplitude of the peaks 53 and valleys 54 of the wiring 52. The amplitude S1 is, for example, 1 μm or more, and more preferably 10 μm or more. By setting the amplitude S1 to 10 μm or more, the wiring 52 becomes more likely to deform in response to the expansion of the substrate 20. The amplitude S1 may also be, for example, 500 μm or less.

山部及び谷部の振幅は、例えば、山部及び谷部が並ぶ方向における一定の範囲にわたって、隣り合う山部と谷部との間の、基材20の法線方向における距離を測定し、それらの平均を求めることにより算出される。「山部及び谷部が並ぶ方向における一定の範囲」は、例えば10mmである。隣り合う山部と谷部との間の距離を測定する測定器としては、レーザー顕微鏡などを用いた非接触式の測定器を用いてもよく、接触式の測定器を用いてもよい。また、断面写真などの画像に基づいて、隣り合う山部と谷部との間の距離を測定してもよい。 The amplitude of the peaks and valleys is calculated, for example, by measuring the distance between adjacent peaks and valleys in the normal direction of the substrate 20 over a certain range in the direction in which the peaks and valleys are aligned, and averaging these distances. The "certain range in the direction in which the peaks and valleys are aligned" is, for example, 10 mm. A non-contact measuring device using a laser microscope or the like may be used as a measuring device for measuring the distance between adjacent peaks and valleys, or a contact measuring device may be used. The distance between adjacent peaks and valleys may also be measured based on an image such as a cross-sectional photograph.

図4において、符号F1は、第1面21側における配線基板10の表面のうち配線52の蛇腹形状部55に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期を表す。図4に示す例においては、配線52が配線基板10の表面に位置しているので、周期F1は、配線52の山部53及び谷部54の周期である。周期F1は、例えば10μm以上であり、より好ましくは100μm以上である。また、周期F1は、例えば100mm以下であり、より好ましくは10mm以下である。山部及び谷部の周期F1は、山部及び谷部が並ぶ方向における一定の範囲にわたって、複数の山部の間隔を測定し、それらの平均を求めることにより算出される。 In FIG. 4, the symbol F1 represents the period of the peaks and valleys that appear on the surface of the wiring board 10 on the first surface 21 side, which overlaps with the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52. In the example shown in FIG. 4, since the wiring 52 is located on the surface of the wiring board 10, the period F1 is the period of the peaks 53 and valleys 54 of the wiring 52. The period F1 is, for example, 10 μm or more, and more preferably 100 μm or more. The period F1 is, for example, 100 mm or less, and more preferably 10 mm or less. The period F1 of the peaks and valleys is calculated by measuring the spacing between multiple peaks over a certain range in the direction in which the peaks and valleys are arranged, and averaging the measured spacing.

図4において、符号S2は、配線52の蛇腹形状部55に重なる部分において基材20の第1面21に現れる山部23及び谷部24の振幅を表す。図4に示すように配線52が基材20の第1面21上に位置している場合、基材20の第1面21の山部23及び谷部24の振幅S2は、配線52の蛇腹形状部55の振幅S1に等しい。 In FIG. 4, the symbol S2 represents the amplitude of the peaks 23 and valleys 24 appearing on the first surface 21 of the substrate 20 in the portion overlapping the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52. When the wiring 52 is located on the first surface 21 of the substrate 20 as shown in FIG. 4, the amplitude S2 of the peaks 23 and valleys 24 on the first surface 21 of the substrate 20 is equal to the amplitude S1 of the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52.

図4に示すように、配線基板10のうち基材20の第2面22側の表面にも、配線52が延びる方向に沿って並ぶ複数の山部25や谷部26が現れてもよい。図3に示す例において、第2面22側の山部25は、配線52の蛇腹形状部55の谷部54に重なる位置に現れ、第2面22側の谷部26は、配線52の蛇腹形状部55の山部53に重なる位置に現れている。 As shown in FIG. 4, a plurality of peaks 25 and valleys 26 aligned along the direction in which the wiring 52 extends may also appear on the surface of the second surface 22 side of the base material 20 of the wiring board 10. In the example shown in FIG. 3, the peaks 25 on the second surface 22 side appear at positions overlapping the valleys 54 of the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52, and the valleys 26 on the second surface 22 side appear at positions overlapping the peaks 53 of the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52.

図4において、符号S3は、基材20の第2面22側における配線基板10の表面において配線52が延びる方向に沿って並ぶ複数の山部25及び谷部26の、基材20の第2面22の法線方向における振幅を表す。第2面22側の山部25及び谷部26の振幅S3は、第1面21側の山部53及び谷部54の振幅S1と同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、第2面22側の山部25及び谷部26の振幅S3が、第1面21側の山部53及び谷部54の振幅S1よりも小さくてもよい。例えば、振幅S3は、振幅S1の0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよく、0.6倍以下であってもよい。また、振幅S3は、振幅S1の0.1倍以上であってもよく、0.2倍以上であってもよい。なお、「第2面22側の山部25及び谷部26の振幅S3が、第1面21側の山部53及び谷部54の振幅S1よりも小さい」とは、第2面22側における配線基板10の表面に山部及び谷部が現れない場合を含む概念である。 4, the symbol S3 represents the amplitude in the normal direction of the second surface 22 of the substrate 20 of the multiple peaks 25 and valleys 26 arranged along the direction in which the wiring 52 extends on the surface of the wiring board 10 on the second surface 22 side of the substrate 20. The amplitude S3 of the peaks 25 and valleys 26 on the second surface 22 side may be the same as or different from the amplitude S1 of the peaks 53 and valleys 54 on the first surface 21 side. For example, the amplitude S3 of the peaks 25 and valleys 26 on the second surface 22 side may be smaller than the amplitude S1 of the peaks 53 and valleys 54 on the first surface 21 side. For example, the amplitude S3 may be 0.9 times or less, 0.8 times or less, or 0.6 times or less of the amplitude S1. The amplitude S3 may be 0.1 times or more, or 0.2 times or more, of the amplitude S1. Note that "the amplitude S3 of the peaks 25 and valleys 26 on the second surface 22 side is smaller than the amplitude S1 of the peaks 53 and valleys 54 on the first surface 21 side" is a concept that includes cases where the peaks and valleys do not appear on the surface of the wiring board 10 on the second surface 22 side.

図4において、符号F3は、基材20の第2面22側における配線基板10の表面において配線52が延びる方向に沿って並ぶ複数の山部25及び谷部26の周期を表す。第2面22側の山部25及び谷部26の周期F3は、図4に示すように、第1面21側の山部53及び谷部54の周期F1と同一であってもよい。 In FIG. 4, the symbol F3 represents the period of the multiple peaks 25 and valleys 26 arranged along the direction in which the wiring 52 extends on the surface of the wiring board 10 on the second surface 22 side of the base material 20. The period F3 of the peaks 25 and valleys 26 on the second surface 22 side may be the same as the period F1 of the peaks 53 and valleys 54 on the first surface 21 side, as shown in FIG. 4.

図5は、配線基板10の断面図のその他の例を示している。図5に示すように、第2面22側の山部25及び谷部26の周期F3は、第1面21側の山部53及び谷部54の周期F1よりも大きくてもよい。例えば、周期F3は、周期F1の1.1倍以上であってもよく、1.2倍以上であってもよく、1.5倍以上であってもよく、2.0倍以上であってもよい。なお、「第2面22側の山部25及び谷部26の周期F3が、第1面21側の山部53及び谷部54の周期F1よりも大きい」とは、第2面22側における配線基板10の表面に山部及び谷部が現れない場合を含む概念である。 Figure 5 shows another example of a cross-sectional view of the wiring board 10. As shown in Figure 5, the period F3 of the peaks 25 and valleys 26 on the second surface 22 side may be larger than the period F1 of the peaks 53 and valleys 54 on the first surface 21 side. For example, the period F3 may be 1.1 times or more, 1.2 times or more, 1.5 times or more, or 2.0 times or more of the period F1. Note that "the period F3 of the peaks 25 and valleys 26 on the second surface 22 side is larger than the period F1 of the peaks 53 and valleys 54 on the first surface 21 side" is a concept that includes cases where the peaks and valleys do not appear on the surface of the wiring board 10 on the second surface 22 side.

図6は、配線基板10の断面図のその他の例を示している。図6に示すように、第2面22側の山部25及び谷部26の位置が、第1面21側の谷部54及び山部53の位置からJだけずれていてもよい。ずれ量Jは、例えば0.1×F1以上であり、0.2×F1以上であってもよい。 Figure 6 shows another example of a cross-sectional view of the wiring board 10. As shown in Figure 6, the positions of the peaks 25 and valleys 26 on the second surface 22 side may be shifted by J from the positions of the valleys 54 and peaks 53 on the first surface 21 side. The shift amount J is, for example, 0.1 x F1 or more, and may be 0.2 x F1 or more.

次に、配線基板10のうち配線52に隣接する調整機構30を含む部分の断面形状について、図7を参照して説明する。図7は、調整機構30を通るB-B線に沿った断面図である図3の配線基板を拡大して示す図である。 Next, the cross-sectional shape of the portion of the wiring board 10 that includes the adjustment mechanism 30 adjacent to the wiring 52 will be described with reference to FIG. 7. FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of the wiring board of FIG. 3 taken along line B-B, which passes through the adjustment mechanism 30.

配線52と同様に調整機構30も、張力を加えられて伸長された状態の基材20に設けられる。例えば、第1伸長量で伸長された状態の基材20に配線52を設ける工程において、調整機構30も基材20に設けられる。この場合、基材20から張力が取り除かれて基材20が収縮するとき、調整機構30は、図7に示すように、蛇腹状に変形して蛇腹形状部35を有するようになる。調整機構30の蛇腹形状部35は、第1方向D1方向に沿って並ぶ複数の山部33及び谷部34を含む。 Like the wiring 52, the adjustment mechanism 30 is also provided on the substrate 20 in a state stretched by tension. For example, in the process of providing the wiring 52 on the substrate 20 in a state stretched by a first stretch amount, the adjustment mechanism 30 is also provided on the substrate 20. In this case, when the tension is removed from the substrate 20 and the substrate 20 contracts, the adjustment mechanism 30 deforms into a bellows shape and has a bellows-shaped portion 35 as shown in FIG. 7. The bellows-shaped portion 35 of the adjustment mechanism 30 includes a plurality of peaks 33 and valleys 34 aligned along the first direction D1.

図7において、符号S4は、第1面21側における配線基板10の表面のうち調整機構30の蛇腹形状部35に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅を表す。図7に示す例においては、調整機構30が配線基板10の表面に位置しているので、振幅S4は、調整機構30の山部33及び谷部34の振幅である。振幅S4は、例えば1μm以上であり、より好ましくは10μm以上である。また、振幅S4は、例えば500μm以下であってもよい。 In FIG. 7, the symbol S4 represents the amplitude of the peaks and valleys that appear on the surface of the wiring board 10 on the first surface 21 side, which overlaps with the bellows-shaped portion 35 of the adjustment mechanism 30. In the example shown in FIG. 7, the adjustment mechanism 30 is located on the surface of the wiring board 10, so the amplitude S4 is the amplitude of the peaks 33 and valleys 34 of the adjustment mechanism 30. The amplitude S4 is, for example, 1 μm or more, and more preferably 10 μm or more. The amplitude S4 may also be, for example, 500 μm or less.

調整機構30の蛇腹形状部35の領域における振幅S4は、配線52の蛇腹形状部55の領域における振幅S1と同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、調整機構30の領域における振幅S4が、配線52の領域における振幅S1よりも大きくてもよく、振幅S1よりも小さくてもよい。 The amplitude S4 in the region of the bellows-shaped portion 35 of the adjustment mechanism 30 may be the same as or different from the amplitude S1 in the region of the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52. For example, the amplitude S4 in the region of the adjustment mechanism 30 may be greater than the amplitude S1 in the region of the wiring 52, or may be smaller than the amplitude S1.

図7において、符号F4は、第1面21側における配線基板10の表面のうち調整機構30の蛇腹形状部35に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期を表す。調整機構30の蛇腹形状部35の領域における周期F4は、配線52の蛇腹形状部55の領域における周期F1と同一であってもよく、異なっていてもよい。 In FIG. 7, symbol F4 represents the period of the peaks and valleys that appear on the surface of the wiring board 10 on the first surface 21 side, which overlaps with the bellows-shaped portion 35 of the adjustment mechanism 30. The period F4 in the area of the bellows-shaped portion 35 of the adjustment mechanism 30 may be the same as or different from the period F1 in the area of the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52.

図7において、符号S5は、調整機構30の蛇腹形状部35に重なる部分において基材20の第1面21に現れる山部23及び谷部24の振幅を表す。調整機構30に重なる部分における基材20の第1面21の振幅S5は、配線52に重なる部分における基材20の第1面21の振幅S1と同一であってもよく、振幅S1よりも大きくてもよく、振幅S1よりも小さくてもよい。 In FIG. 7, the symbol S5 represents the amplitude of the peaks 23 and valleys 24 appearing on the first surface 21 of the substrate 20 in the portion overlapping the bellows-shaped portion 35 of the adjustment mechanism 30. The amplitude S5 of the first surface 21 of the substrate 20 in the portion overlapping the adjustment mechanism 30 may be the same as the amplitude S1 of the first surface 21 of the substrate 20 in the portion overlapping the wiring 52, or may be greater than the amplitude S1, or may be smaller than the amplitude S1.

図7において、符号S6及びF6は、調整機構30の蛇腹形状部35に重なる部分において基材20の第2面22に現れる山部25及び谷部26の振幅及び周期を表す。調整機構30に重なる部分における基材20の第2面22の振幅S6は、配線52に重なる部分における基材20の第2面22の振幅S3と同一であってもよく、振幅S6よりも大きくてもよく、振幅S6よりも小さくてもよい。また、調整機構30に重なる部分における基材20の第2面22の周期F6は、配線52に重なる部分における基材20の第2面22の周期F3と同一であってもよく、周期F6よりも大きくてもよく、周期F6よりも小さくてもよい。 7, the symbols S6 and F6 represent the amplitude and period of the peaks 25 and valleys 26 appearing on the second surface 22 of the substrate 20 in the portion overlapping the bellows-shaped portion 35 of the adjustment mechanism 30. The amplitude S6 of the second surface 22 of the substrate 20 in the portion overlapping the adjustment mechanism 30 may be the same as the amplitude S3 of the second surface 22 of the substrate 20 in the portion overlapping the wiring 52, or may be greater than the amplitude S6, or may be smaller than the amplitude S6. In addition, the period F6 of the second surface 22 of the substrate 20 in the portion overlapping the adjustment mechanism 30 may be the same as the period F3 of the second surface 22 of the substrate 20 in the portion overlapping the wiring 52, or may be greater than the period F6, or may be smaller than the period F6.

図8は、配線基板10の断面図のその他の例を示している。図8に示すように、調整機構30は、調整層31に接する接着層32を含んでいてもよい。図8に示す例において、接着層32は、調整層31と基材20の第1面21との間に位置している。すなわち、調整層31が接着層32によって基材20の第1面21に接着されている。この場合、調整機構30の樹脂又はエラストマーを含む表面は、接着層32が樹脂又はエラストマーを含むことによって実現され得る。 Figure 8 shows another example of a cross-sectional view of the wiring board 10. As shown in Figure 8, the adjustment mechanism 30 may include an adhesive layer 32 in contact with the adjustment layer 31. In the example shown in Figure 8, the adhesive layer 32 is located between the adjustment layer 31 and the first surface 21 of the substrate 20. That is, the adjustment layer 31 is adhered to the first surface 21 of the substrate 20 by the adhesive layer 32. In this case, the surface of the adjustment mechanism 30 that includes a resin or elastomer can be achieved by the adhesive layer 32 including a resin or elastomer.

接着層32の厚みは、接着層32が伸縮可能であり、且つ調整層31を基材20の第1面側に貼合可能であるよう設定される。接着層32の厚みは、例えば10μm以上、100μm以下の範囲内である。 The thickness of the adhesive layer 32 is set so that the adhesive layer 32 is stretchable and the adjustment layer 31 can be attached to the first surface side of the substrate 20. The thickness of the adhesive layer 32 is, for example, in the range of 10 μm or more and 100 μm or less.

接着層32は、分子接着層であってもよい。なお、「分子接着」とは、分子接着剤となる化合物を2つの被着体の間に付与し、化学結合によりこれらの2つの被着体を接着接合することをいう。 The adhesive layer 32 may be a molecular adhesion layer. Note that "molecular adhesion" refers to applying a compound that acts as a molecular adhesive between two adherends, and bonding the two adherends together through chemical bonding.

分子接着層に用いられる分子接着剤としては、公知の分子接着剤を用いることができ、配線基板10の用途等に応じて適宜選択される。例えば、シランカップリング剤、チオール系化合物等が挙げられる。分子接着層の厚さは、例えば数nm~100nm程度である。 The molecular adhesive used in the molecular adhesion layer may be any known molecular adhesive, and is appropriately selected depending on the application of the wiring board 10. Examples include silane coupling agents and thiol-based compounds. The thickness of the molecular adhesion layer is, for example, several nm to about 100 nm.

調整層31及び接着層32を含む調整機構30の蛇腹形状部35の領域における振幅S4は、配線52の蛇腹形状部55の領域における振幅S1よりも小さくてもよい。また、調整層31及び接着層32を含む調整機構30の蛇腹形状部35の領域における周期F4は、配線52の蛇腹形状部55の領域における周期F1よりも大きくてもよい。 The amplitude S4 in the region of the bellows-shaped portion 35 of the adjustment mechanism 30 including the adjustment layer 31 and the adhesive layer 32 may be smaller than the amplitude S1 in the region of the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52. In addition, the period F4 in the region of the bellows-shaped portion 35 of the adjustment mechanism 30 including the adjustment layer 31 and the adhesive layer 32 may be larger than the period F1 in the region of the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52.

(配線基板の製造方法)
次に、図9(a)~(c)を参照して、配線基板10の製造方法について説明する。
(Method of Manufacturing Wiring Board)
Next, a method for manufacturing the wiring board 10 will be described with reference to FIGS.

まず、図9(a)に示すように、第1面21及び第2面22を含み、伸縮性を有する基材20を準備する基材準備工程を実施する。符号L0は、張力が加えられていない状態の基材20の、第1方向D1における寸法を表している。 First, as shown in FIG. 9(a), a substrate preparation step is carried out to prepare a substrate 20 having elasticity and including a first surface 21 and a second surface 22. The reference character L0 represents the dimension of the substrate 20 in the first direction D1 when no tension is applied.

続いて、図9(b)に示すように、第1方向D1において基材20に第1張力T1を加えて、基材20を寸法L1まで伸長させる第1伸長工程を実施する。第1方向D1における基材20の伸長率(=(L1-L0)×100/L0)は、例えば10%以上且つ200%以下である。伸長工程は、基材20を加熱した状態で実施してもよく、常温で実施してもよい。基材20を加熱する場合、基材20の温度は例えば50℃以上且つ100℃以下である。 Next, as shown in FIG. 9(b), a first elongation step is performed in which a first tension T1 is applied to the substrate 20 in the first direction D1 to elongate the substrate 20 to a dimension L1. The elongation rate of the substrate 20 in the first direction D1 (= (L1-L0) x 100/L0) is, for example, 10% or more and 200% or less. The elongation step may be performed with the substrate 20 in a heated state, or at room temperature. When the substrate 20 is heated, the temperature of the substrate 20 is, for example, 50°C or more and 100°C or less.

続いて、図9(b)に示すように、第1伸長工程における第1張力T1によって伸長した状態の基材20の第1面21に配線52を設ける配線形成工程を実施する。例えば、ベース材及び導電性粒子を含む導電性ペーストを基材20の第1面21に印刷する。 Next, as shown in FIG. 9(b), a wiring formation process is carried out to provide wiring 52 on the first surface 21 of the substrate 20 in a state stretched by the first tension T1 in the first stretching process. For example, a conductive paste containing a base material and conductive particles is printed on the first surface 21 of the substrate 20.

また、図9(b)において点線で示すように、伸長した状態の基材20の第1面21のうち配線52と重ならない領域に調整機構30を設ける調整機構形成工程を実施する。例えば、配線52の場合と同様に、第1張力T1によって伸長した状態の基材20の第1面21に調整機構30を設ける。配線52を設ける前に調整機構30を設けてもよく、配線52を設けた後に調整機構30を設けてもよい。 In addition, as shown by the dotted line in FIG. 9(b), an adjustment mechanism formation process is carried out in which the adjustment mechanism 30 is provided in an area of the first surface 21 of the substrate 20 in an elongated state that does not overlap with the wiring 52. For example, similar to the case of the wiring 52, the adjustment mechanism 30 is provided on the first surface 21 of the substrate 20 in an elongated state due to the first tension T1. The adjustment mechanism 30 may be provided before the wiring 52 is provided, or may be provided after the wiring 52 is provided.

その後、基材20から第1張力T1を取り除く第1収縮工程を実施する。これにより、図9(c)において矢印Cで示すように、第1方向D1において基材20が収縮し、基材20に設けられている配線52及び調整機構30にも変形が生じる。配線52及び調整機構30の変形は、上述のように蛇腹形状部55及び蛇腹形状部35として生じ得る。このようにして、蛇腹形状部が現れている配線基板10を得ることができる。 Then, a first contraction process is carried out to remove the first tension T1 from the substrate 20. As a result, the substrate 20 contracts in the first direction D1 as shown by the arrow C in FIG. 9(c), and the wiring 52 and the adjustment mechanism 30 provided on the substrate 20 also deform. The deformation of the wiring 52 and the adjustment mechanism 30 can occur as the bellows-shaped portion 55 and the bellows-shaped portion 35 as described above. In this way, a wiring board 10 in which a bellows-shaped portion appears can be obtained.

本実施の形態によれば、配線基板10の配線52が蛇腹形状部55を有している。このため、配線基板10の基材20が伸長する際、配線52は、蛇腹形状部55の起伏を低減するように変形することによって、すなわち蛇腹形状を解消することによって、基材20の伸長に追従することができる。このため、基材20の伸長に伴って配線52の全長が増加することや、配線52の断面積が減少することを抑制することができる。このことにより、配線基板10の伸長に起因して配線52の抵抗値が増加することを抑制することができる。また、配線52にクラックなどの破損が生じてしまうことを抑制することができる。 According to this embodiment, the wiring 52 of the wiring board 10 has a bellows-shaped portion 55. Therefore, when the base material 20 of the wiring board 10 expands, the wiring 52 can follow the expansion of the base material 20 by deforming to reduce the undulations of the bellows-shaped portion 55, i.e., by eliminating the bellows shape. Therefore, it is possible to suppress an increase in the overall length of the wiring 52 and a decrease in the cross-sectional area of the wiring 52 due to the expansion of the base material 20. This makes it possible to suppress an increase in the resistance value of the wiring 52 due to the expansion of the wiring board 10. In addition, it is possible to suppress the occurrence of damage such as cracks in the wiring 52.

配線52の蛇腹形状部55によって得られる、配線52の電気抵抗値に関する効果の一例について説明する。ここでは、第1方向D1における張力が基材20に加えられていない第1状態における配線52の電気抵抗値を、第1電気抵抗値と称する。また、第1方向D1において基材20に張力を加えて基材20を第1状態に比べて30%伸長させた第2状態における配線52の抵抗値を、第2電気抵抗値と称する。本実施の形態によれば、配線52に蛇腹形状部55を形成することにより、第1電気抵抗値に対する、第1電気抵抗値と第2電気抵抗値の差の絶対値の比率を、20%以下にすることができ、より好ましくは10%以下にすることができ、更に好ましくは5%以下にすることができる。 An example of the effect on the electrical resistance value of the wiring 52 obtained by the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52 will be described. Here, the electrical resistance value of the wiring 52 in the first state where tension in the first direction D1 is not applied to the substrate 20 is referred to as the first electrical resistance value. Also, the resistance value of the wiring 52 in the second state where tension is applied to the substrate 20 in the first direction D1 and the substrate 20 is stretched by 30% compared to the first state is referred to as the second electrical resistance value. According to this embodiment, by forming the bellows-shaped portion 55 in the wiring 52, the ratio of the absolute value of the difference between the first electrical resistance value and the second electrical resistance value to the first electrical resistance value can be made 20% or less, more preferably 10% or less, and even more preferably 5% or less.

また、本実施の形態によれば、配線基板10が調整機構30を有している。このため、基材20の弾性係数と配線52の弾性係数の相違に起因して配線52に応力が集中することを抑制することができる。これにより、配線基板10に生じる湾曲や屈曲などの変形が局所的に大きくなることを抑制することができる。このため、配線52にクラックなどの破損が生じてしまうことを抑制することができる。また、配線基板10を繰り返し伸縮させた際に配線52の電気抵抗値が増加してしまうことを抑制することができる。 In addition, according to this embodiment, the wiring board 10 has an adjustment mechanism 30. Therefore, it is possible to suppress the concentration of stress on the wiring 52 due to the difference between the elastic modulus of the base material 20 and the elastic modulus of the wiring 52. This makes it possible to suppress deformation such as curvature and bending occurring in the wiring board 10 from becoming large locally. This makes it possible to suppress the occurrence of damage such as cracks in the wiring 52. In addition, it is possible to suppress an increase in the electrical resistance value of the wiring 52 when the wiring board 10 is repeatedly expanded and contracted.

また、本実施の形態によれば、配線52と重ならないよう調整機構30が配置されている。例えば、調整機構30は、配線52との間に間隔Z1を空けて設けられており、このため調整機構30は、配線52に沿って延びる側縁30eを有している。調整機構30が配線52と重なっていないことにより、調整機構30が配線52に接することに起因して配線52の電気特性の劣化が生じることを抑制することができる。これにより、例えば、配線基板10を繰り返し伸縮させる前後で配線52の電気抵抗値が増加してしまうことを防ぐことができる。また、配線52と調整機構30との間の間隔Z1を10μm以下にすることにより、基材20のうち調整機構30と重なる部分に現れる蛇腹形状部35の周期性が、基材20のうち配線52と重なる部分に現れる蛇腹形状部35の周期性に影響を及ぼすことができる。 In addition, according to this embodiment, the adjustment mechanism 30 is arranged so as not to overlap with the wiring 52. For example, the adjustment mechanism 30 is provided with a gap Z1 between it and the wiring 52, and therefore the adjustment mechanism 30 has a side edge 30e extending along the wiring 52. Since the adjustment mechanism 30 does not overlap with the wiring 52, it is possible to suppress deterioration of the electrical characteristics of the wiring 52 caused by the adjustment mechanism 30 contacting the wiring 52. This makes it possible to prevent, for example, an increase in the electrical resistance value of the wiring 52 before and after the wiring board 10 is repeatedly expanded and contracted. In addition, by setting the gap Z1 between the wiring 52 and the adjustment mechanism 30 to 10 μm or less, the periodicity of the bellows-shaped portion 35 appearing in the portion of the base material 20 overlapping with the adjustment mechanism 30 can affect the periodicity of the bellows-shaped portion 35 appearing in the portion of the base material 20 overlapping with the wiring 52.

配線基板10の用途としては、ヘルスケア分野、医療分野、介護分野、エレクトロニクス分野、スポーツ・フィットネス分野、美容分野、モビリティ分野、畜産・ペット分野、アミューズメント分野、ファッション・アパレル分野、セキュリティ分野、ミリタリー分野、流通分野、教育分野、建材・家具・装飾分野、環境エネルギー分野、農林水産分野、ロボット分野などを挙げることができる。例えば、人の腕などの身体の一部に取り付ける製品を、本実施の形態による配線基板10を用いて構成する。配線基板10は伸長することができるので、例えば配線基板10を伸長させた状態で身体に取り付けることにより、配線基板10を身体の一部により密着させることができる。このため、良好な着用感を実現することができる。また、配線基板10が伸長した場合に配線52の電気抵抗値が低下することを抑制することができるので、配線基板10の良好な電気特性を実現することができる。他にも配線基板10は伸長することができるので、人などの生体に限らず曲面や立体形状に沿わせて設置や組込むことが可能である。それらの製品の一例としては、バイタルセンサ、マスク、補聴器、歯ブラシ、絆創膏、湿布、コンタクトレンズ、義手、義足、義眼、カテーテル、ガーゼ、薬液パック、包帯、ディスポーザブル生体電極、おむつ、家電製品、スポーツウェア、リストバンド、はちまき、手袋、水着、サポーター、ボール、ラケット、グリップ、薬液浸透美容マスク、電気刺激ダイエット用品、懐炉、自動車内装、シート、インパネ、ベビーカー、ドローン、車椅子、タイヤ、首輪、リード、ハプティクスデバイス、ランチョンマット、帽子、服、メガネ、靴、インソール、靴下、ストッキング、インナーウェア、マフラー、耳あて、鞄、アクセサリー、指輪、付け爪、時計、個人ID認識デバイス、ヘルメット、パッケージ、ICタグ、ペットボトル、文具、書籍、カーペット、ソファ、寝具、照明、ドアノブ、花瓶、ベッド、マットレス、座布団、ワイヤレス給電アンテナ、電池、ビニールハウス、ロボットハンド、ロボット外装を挙げることができる。 The applications of the wiring board 10 include the health care field, the medical field, the nursing field, the electronics field, the sports and fitness field, the beauty field, the mobility field, the livestock and pet field, the amusement field, the fashion and apparel field, the security field, the military field, the distribution field, the education field, the building materials, furniture and decoration field, the environmental energy field, the agriculture, forestry and fisheries field, and the robot field. For example, a product to be attached to a part of the body such as a human arm is constructed using the wiring board 10 according to this embodiment. Since the wiring board 10 can be stretched, for example, by attaching the wiring board 10 to the body in a stretched state, the wiring board 10 can be made to adhere more closely to the part of the body. Therefore, a good wearing feeling can be realized. In addition, since the electrical resistance value of the wiring 52 can be suppressed from decreasing when the wiring board 10 is stretched, the wiring board 10 can achieve good electrical characteristics. In addition, since the wiring board 10 can be stretched, it is possible to install or incorporate it along a curved surface or a three-dimensional shape, not limited to a living body such as a human. Examples of such products include vital sensors, masks, hearing aids, toothbrushes, bandages, compresses, contact lenses, artificial hands, artificial legs, artificial eyes, catheters, gauze, medical packs, bandages, disposable bioelectrodes, diapers, home appliances, sportswear, wristbands, headbands, gloves, swimsuits, supporters, balls, rackets, grips, medical beauty masks, electrical stimulation diet products, pocket warmers, car interiors, seats, instrument panels, strollers, drones, wheelchairs, tires, collars, leashes, haptic devices, placemats, hats, clothes, glasses, shoes, insoles, socks, stockings, innerwear, scarves, earmuffs, bags, accessories, rings, false nails, watches, personal ID recognition devices, helmets, packages, IC tags, plastic bottles, stationery, books, carpets, sofas, bedding, lighting, doorknobs, vases, beds, mattresses, cushions, wireless power supply antennas, batteries, vinyl greenhouses, robot hands, and robot exteriors.

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。 Note that various modifications can be made to the above-described embodiment. Below, modified examples will be described with reference to the drawings as necessary. In the following description and the drawings used in the following description, parts that can be configured similarly to the above-described embodiment will be labeled with the same reference numerals as those used for the corresponding parts in the above-described embodiment, and duplicated descriptions will be omitted. Also, if it is clear that the effects obtained in the above-described embodiment can also be obtained in the modified example, the description may be omitted.

(第1の変形例)
本変形例においては、調整機構30が、基材20が過剰に伸長して配線52などの構成要素に破断などの不具合が生じることを防ぐストッパーとしても機能する例について説明する。
(First Modification)
In this modified example, an example will be described in which the adjustment mechanism 30 also functions as a stopper that prevents the substrate 20 from being excessively stretched and causing defects such as breakage of components such as the wiring 52.

図10は、調整機構30を通る図1のB-B線に沿った配線基板10の断面図であり、上述の実施の形態における図7に相当する図である。本変形例において、調整機構30の蛇腹形状部35の領域における山部及び谷部の周期F4は、上述の図4などに示す配線52の蛇腹形状部55の領域における山部及び谷部の周期F1よりも大きい。例えば、周期F4は、周期F1の1.1倍以上であってもよく、1.2倍以上であってもよく、1.5倍以上であってもよく、2.0倍以上であってもよい。また、調整機構30の蛇腹形状部35の領域における山部及び谷部の振幅S4は、上述の図4などに示す配線52の蛇腹形状部55の領域における山部及び谷部の振幅S1よりも小さい。例えば、振幅S4は、振幅S1の0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよく、0.6倍以下であってもよい。また、振幅S4は、振幅S1の0.1倍以上であってもよく、0.2倍以上であってもよい。 Figure 10 is a cross-sectional view of the wiring board 10 along line B-B in Figure 1 passing through the adjustment mechanism 30, and corresponds to Figure 7 in the above-mentioned embodiment. In this modified example, the period F4 of the peaks and valleys in the region of the bellows-shaped portion 35 of the adjustment mechanism 30 is larger than the period F1 of the peaks and valleys in the region of the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52 shown in Figure 4 and the like. For example, the period F4 may be 1.1 times or more, 1.2 times or more, 1.5 times or more, or 2.0 times or more of the period F1. In addition, the amplitude S4 of the peaks and valleys in the region of the bellows-shaped portion 35 of the adjustment mechanism 30 is smaller than the amplitude S1 of the peaks and valleys in the region of the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52 shown in Figure 4 and the like. For example, the amplitude S4 may be 0.9 times or less, 0.8 times or less, or 0.6 times or less of the amplitude S1. Furthermore, the amplitude S4 may be 0.1 times or more, or 0.2 times or more, of the amplitude S1.

(配線基板の製造方法)
次に、図11(a)~(c)及び図12(a)~(c)を参照して、配線基板10の製造方法について説明する。
(Method of Manufacturing Wiring Board)
Next, a method for manufacturing the wiring board 10 will be described with reference to FIGS. 11(a) to 11(c) and 12(a) to 12(c).

まず、図11(a)に示すように、基材20を準備する基材準備工程を実施する。続いて、図11(b)に示すように、第1方向D1において基材20に第1張力T1を加えて、基材20を寸法L1まで伸長させる第1伸長工程を実施する。続いて、図11(b)に示すように、第1伸長工程における第1張力T1によって伸長した状態の基材20の第1面21に配線52を設ける配線形成工程を実施する。その後、基材20から第1張力T1を取り除く第1収縮工程を実施する。 First, as shown in FIG. 11(a), a substrate preparation process is performed to prepare the substrate 20. Then, as shown in FIG. 11(b), a first extension process is performed to apply a first tension T1 to the substrate 20 in a first direction D1 to extend the substrate 20 to a dimension L1. Then, as shown in FIG. 11(b), a wiring formation process is performed to provide wiring 52 on the first surface 21 of the substrate 20 in a state extended by the first tension T1 in the first extension process. After that, a first contraction process is performed to remove the first tension T1 from the substrate 20.

続いて、図12(a)に示すように、第1方向D1において基材20に第2張力T2を加えて、基材20を寸法L2まで伸長させる第2伸長工程を実施する。第2張力T2は、上述の第1伸長工程における第1張力T1よりも小さい。このため、第2伸長工程における基材20の伸長率(=(L2-L0)×100/L0)は、第1伸長工程における基材20の伸長率よりも小さい。従って、第2伸長工程においては、配線52の蛇腹形状部55が完全には解消されない。第2伸長工程における基材20の伸長率は、第1伸長工程における基材20の0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよく、0.6倍以下であってもよい。 Next, as shown in FIG. 12(a), a second extension step is performed in which a second tension T2 is applied to the substrate 20 in the first direction D1 to extend the substrate 20 to a dimension L2. The second tension T2 is smaller than the first tension T1 in the above-mentioned first extension step. Therefore, the extension rate of the substrate 20 in the second extension step (=(L2-L0)×100/L0) is smaller than the extension rate of the substrate 20 in the first extension step. Therefore, in the second extension step, the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52 is not completely eliminated. The extension rate of the substrate 20 in the second extension step may be 0.9 times or less, 0.8 times or less, or 0.6 times or less than that of the substrate 20 in the first extension step.

続いて、図12(b)において点線で示すように、第2伸長工程における第2張力T2によって伸長した状態の基材20の第1面21のうち配線52と重ならない領域に調整機構30を設ける調整機構形成工程を実施する。 Next, as shown by the dotted line in FIG. 12(b), an adjustment mechanism formation process is carried out to provide an adjustment mechanism 30 in an area of the first surface 21 of the substrate 20 that does not overlap with the wiring 52 when the substrate 20 is stretched by the second tension T2 in the second stretching process.

その後、基材20から第2張力T2を取り除く第2収縮工程を実施する。これにより、図12(c)において矢印Cで示すように、第1方向D1において基材20が収縮し、基材20に設けられている調整機構30にも変形が生じる。調整機構30の変形は、上述のように蛇腹形状部35として生じ得る。このようにして、基材20、配線52及び調整機構30を備える配線基板10を得ることができる。 Then, a second contraction process is carried out to remove the second tension T2 from the substrate 20. As a result, as shown by the arrow C in FIG. 12(c), the substrate 20 contracts in the first direction D1, and the adjustment mechanism 30 provided on the substrate 20 also deforms. The deformation of the adjustment mechanism 30 can occur as the bellows-shaped portion 35 as described above. In this manner, a wiring board 10 including the substrate 20, the wiring 52, and the adjustment mechanism 30 can be obtained.

次に、図13を参照して、配線基板10の作用について説明する。図13は、配線基板10を伸長させた場合に張力及び配線52の電気抵抗が変化する様子の一例を示す図である。図13において、横軸は、配線基板10の伸長量Eを表す。左側の縦軸は、配線基板10に加えられている張力Tを表す。右側の縦軸は、配線52で第1方向D1に並ぶ2点の間における電気抵抗Rを表す。 Next, the function of the wiring board 10 will be described with reference to FIG. 13. FIG. 13 is a diagram showing an example of how the tension and electrical resistance of the wiring 52 change when the wiring board 10 is stretched. In FIG. 13, the horizontal axis represents the amount of stretch E of the wiring board 10. The vertical axis on the left represents the tension T applied to the wiring board 10. The vertical axis on the right represents the electrical resistance R between two points on the wiring 52 that are aligned in the first direction D1.

図13において、符号C1が付された線は、配線基板10を第1方向D1において伸長させながら、配線52上の2点間の電気抵抗Rを測定することによって得られた測定点を順に結ぶことによって描かれる。また、符号C2が付された線は、配線基板10を第1方向D1において伸長させながら配線基板10に加えられている張力Tを測定することによって得られた測定点を順に結ぶことによって描かれる。張力Tを測定するための測定器としては、「JIS L 1096 織物及び編物の生地試験方法」に準拠して伸長率及び弾性率を測定することができるものを用いることができ、例えばエー・アンド・デイ社製のテンシロン万能材料試験機を用いることができる。また、電気抵抗Rを測定するための測定器としては、例えばケースレー社製のKEITHLEY 2000デジタルマルチメーターを用いることができる。配線52上の2点の間の第1方向D1における距離は、10mm以上200mm以下であり、例えば30mmである。 In FIG. 13, the line marked with the symbol C1 is drawn by connecting the measurement points obtained by measuring the electrical resistance R between two points on the wiring 52 while stretching the wiring board 10 in the first direction D1. The line marked with the symbol C2 is drawn by connecting the measurement points obtained by measuring the tension T applied to the wiring board 10 while stretching the wiring board 10 in the first direction D1. As a measuring device for measuring the tension T, a device capable of measuring the elongation rate and the elastic modulus in accordance with "JIS L 1096 Testing Method for Woven and Knit Fabrics" can be used, for example, a Tensilon universal material testing machine manufactured by A&D Co., Ltd. can be used. As a measuring device for measuring the electrical resistance R, for example, a KEITHLEY 2000 digital multimeter manufactured by Keithley Co., Ltd. can be used. The distance in the first direction D1 between two points on the wiring 52 is 10 mm or more and 200 mm or less, for example, 30 mm.

図13に示すように、電気抵抗Rは、第1方向D1における基材20の伸長量Eが第1伸長量E1のときに、単位伸長量当たりの電気抵抗Eの増加量が変化する第1転換点P1を示す。第1転換点P1は、例えば、配線52の蛇腹形状部55が解消されるときに現れる。 As shown in FIG. 13, when the extension amount E of the substrate 20 in the first direction D1 is the first extension amount E1, the electrical resistance R indicates a first turning point P1 at which the increase in electrical resistance E per unit extension amount changes. The first turning point P1 appears, for example, when the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52 is eliminated.

図13の例において、第1転換点P1は、直線M1と直線M2とが交わる点における伸長量を有する点として定義される。直線M1は、伸長量Eがゼロの位置において線C1に接する直線である。直線M1の傾きは、第1方向D1における配線基板10の伸長量Eが第1伸長量E1より小さいときの、単位伸長量当たりの電気抵抗Rの増加量(以下、第1電気抵抗増加率とも称する)を表している。また、直線M2は、線C1の傾きが直線M1の傾きよりも有意に大きくなる位置において線C1を近似する直線である。直線M2の傾きは、第1方向D1における配線基板10の伸長量Eが第1伸長量E1より大きいときの、単位伸長量当たりの電気抵抗Rの増加量(以下、第2電気抵抗増加率とも称する)を表している。 In the example of FIG. 13, the first turning point P1 is defined as a point having an elongation amount at the point where the straight lines M1 and M2 intersect. The straight line M1 is a straight line that is tangent to the line C1 at a position where the elongation amount E is zero. The slope of the straight line M1 represents the increase in the electrical resistance R per unit elongation amount (hereinafter also referred to as the first electrical resistance increase rate) when the elongation amount E of the wiring board 10 in the first direction D1 is smaller than the first elongation amount E1. The straight line M2 is a straight line that approximates the line C1 at a position where the slope of the line C1 is significantly larger than the slope of the straight line M1. The slope of the straight line M2 represents the increase in the electrical resistance R per unit elongation amount (hereinafter also referred to as the second electrical resistance increase rate) when the elongation amount E of the wiring board 10 in the first direction D1 is larger than the first elongation amount E1.

第2電気抵抗増加率は、第1電気抵抗増加率の好ましくは2倍以上であり、3倍以上であってもよく、4倍以上であってもよい。なお、図示はしないが、第1転換点P1は、線C1の傾きが直線M1の2倍になる点として定義されてもよい。 The second electrical resistance increase rate is preferably at least twice as high as the first electrical resistance increase rate, and may be at least three times, or may be at least four times as high. Although not shown, the first turning point P1 may be defined as the point at which the slope of line C1 is twice that of line M1.

図13に示すように、張力Tは、第1方向D1における基材20の伸長量Eが第2伸長量E2のときに、単位伸長量当たりの張力Tの増加量が変化する第2転換点P2を示す。第2転換点P2は、例えば、調整機構30の蛇腹形状部35が解消されるときに現れる。 As shown in FIG. 13, when the extension amount E of the substrate 20 in the first direction D1 is the second extension amount E2, the tension T indicates a second turning point P2 at which the increase in the tension T per unit extension amount changes. The second turning point P2 appears, for example, when the bellows-shaped portion 35 of the adjustment mechanism 30 is released.

図13の例において、第2転換点P2は、直線N1と直線N2とが交わる点における伸長量を有する点として定義される。直線N1は、伸長量Eがゼロの位置において線C2に接する直線である。直線N1の傾きは、第1方向D1における配線基板10の伸長量Eが第2伸長量E2より小さいときの、単位伸長量当たりの張力Tの増加量(以下、第1張力増加率とも称する)を表している。また、直線N2は、線C2の傾きが直線N1の傾きよりも有意に大きくなる位置において線C2を近似する直線である。直線N2の傾きは、第1方向D1における配線基板10の伸長量Eが第2伸長量E2より大きいときの、単位伸長量当たりの張力Tの増加量(以下、第2張力増加率とも称する)を表している。 In the example of FIG. 13, the second turning point P2 is defined as a point having an elongation amount at the point where the straight lines N1 and N2 intersect. The straight line N1 is a straight line that is tangent to the line C2 at a position where the elongation amount E is zero. The inclination of the straight line N1 represents the increase in tension T per unit elongation amount (hereinafter also referred to as the first tension increase rate) when the elongation amount E of the wiring board 10 in the first direction D1 is smaller than the second elongation amount E2. The straight line N2 is a straight line that approximates the line C2 at a position where the inclination of the line C2 is significantly larger than the inclination of the straight line N1. The inclination of the straight line N2 represents the increase in tension T per unit elongation amount (hereinafter also referred to as the second tension increase rate) when the elongation amount E of the wiring board 10 in the first direction D1 is larger than the second elongation amount E2.

第2張力増加率は、好ましくは第1張力増加率の2倍以上であり、3倍以上であってもよく、4倍以上であってもよい。なお、図示はしないが、第2転換点P2は、線C2の傾きが直線N1の2倍になる点として定義されてもよい。 The second tension increase rate is preferably at least twice the first tension increase rate, and may be at least three times, or may be at least four times. Although not shown, the second turning point P2 may be defined as the point at which the slope of line C2 is twice that of line N1.

本実施の形態においては、上述のように、調整機構30を設ける時の基材20の伸長率が、配線52を設ける時の基材20の伸長率よりも小さい。このため、基材20を備える配線基板10を伸長させると、配線52の蛇腹形状部55よりも先に調整機構30の蛇腹形状部35が解消される。従って、図13に示すように、第1伸長量E1よりも小さい第2伸長量E2のときに、配線基板10に第2転換点P2が現れるようにすることができる。 In this embodiment, as described above, the extension rate of the substrate 20 when the adjustment mechanism 30 is provided is smaller than the extension rate of the substrate 20 when the wiring 52 is provided. Therefore, when the wiring board 10 including the substrate 20 is extended, the bellows-shaped portion 35 of the adjustment mechanism 30 is eliminated before the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52 is eliminated. Therefore, as shown in FIG. 13, the second turning point P2 can be made to appear on the wiring board 10 when the second extension amount E2 is smaller than the first extension amount E1.

図14は、第2伸長量E2まで伸長させた場合の配線基板10の断面図の一例である。図14に示す例において、調整機構30の蛇腹形状部35は解消されているが、配線52の蛇腹形状部55は解消されていない。配線基板10を図14に示す状態から更に伸長させるためには、調整機構30自体を第1方向D1において変形させる必要がある。このため、第2転換点P2が現れた後は、図13に示すように線C2の傾きが大きく増加するので、配線基板10が伸長し難くなる。これにより、配線基板10が過剰に伸長されてしまうことを抑制することができる。このことにより、配線基板10の配線52などの構成要素に破断などの不具合が生じることを抑制することができる。 Figure 14 is an example of a cross-sectional view of the wiring board 10 when it is stretched to the second stretch amount E2. In the example shown in Figure 14, the bellows-shaped portion 35 of the adjustment mechanism 30 is eliminated, but the bellows-shaped portion 55 of the wiring 52 is not eliminated. In order to further stretch the wiring board 10 from the state shown in Figure 14, it is necessary to deform the adjustment mechanism 30 itself in the first direction D1. Therefore, after the second turning point P2 appears, the inclination of the line C2 increases significantly as shown in Figure 13, making it difficult for the wiring board 10 to stretch. This makes it possible to prevent the wiring board 10 from being stretched excessively. This makes it possible to prevent defects such as breakage from occurring in components such as the wiring 52 of the wiring board 10.

第1伸長量E1は、好ましくは第2伸長量E2の1.1倍以上であり、1.2倍以上であってもよく、1.5倍以上であってもよく、2.0倍以上であってもよい。第1伸長量E1が第2伸長量E2の1.1倍以上であることにより、配線基板10の伸長が第1伸長量E1に達するよりも前に配線基板10の伸長を停止させ易くなる。また、第1伸長量E1は、第2伸長量E2の5倍以下であってもよい。言い換えると、第2伸長量E2は、第1伸長量の1/5以上であってもよい。人の腕などの身体の一部に配線基板10を取り付けることなどの際に必要になる伸長量を確保することができる。 The first extension amount E1 is preferably 1.1 times or more than the second extension amount E2, and may be 1.2 times or more, 1.5 times or more, or 2.0 times or more. By making the first extension amount E1 1.1 times or more than the second extension amount E2, it becomes easier to stop the extension of the wiring board 10 before the extension of the wiring board 10 reaches the first extension amount E1. Furthermore, the first extension amount E1 may be 5 times or less than the second extension amount E2. In other words, the second extension amount E2 may be 1/5 or more of the first extension amount. It is possible to ensure the extension amount required when attaching the wiring board 10 to a part of the body such as a person's arm.

このように、本実施の形態によれば、配線52に破断などの不具合が生じてしまうことを抑制しながら、使用時に第1方向D1において配線基板10を伸長させることができる。このため、様々な方向における伸長性が求められる用途において配線基板10を適用することができる。 In this way, according to this embodiment, the wiring board 10 can be stretched in the first direction D1 during use while preventing defects such as breakage of the wiring 52. Therefore, the wiring board 10 can be used in applications that require stretchability in various directions.

また、上述の実施の形態の場合と同様に、本変形例においても、調整機構30は、配線52に応力が集中することを抑制するという機能を果たすことができる。これにより、配線基板10に生じる湾曲や屈曲などの変形が局所的に大きくなることを抑制することができる。このため、配線52にクラックなどの破損が生じてしまうことを抑制することができる。また、配線基板10を繰り返し伸縮させた際に配線52の電気抵抗値が増加してしまうことを抑制することができる。 Also, as in the case of the above-described embodiment, in this modified example, the adjustment mechanism 30 can also function to suppress the concentration of stress on the wiring 52. This can suppress deformation such as curvature and bending occurring in the wiring board 10 from becoming large locally. This can suppress the occurrence of damage such as cracks in the wiring 52. In addition, it can suppress an increase in the electrical resistance value of the wiring 52 when the wiring board 10 is repeatedly expanded and contracted.

また、本変形例においても、調整機構30は、配線52との間に間隔Z1を空けて設けられている。このため、調整機構30が配線52に接することに起因して配線52の電気特性の劣化が生じることを抑制することができる。これにより、例えば、配線基板10を繰り返し伸縮させる前後で配線52の電気抵抗値が増加してしまうことを防ぐことができる。 In addition, in this modified example, the adjustment mechanism 30 is also provided with a gap Z1 between it and the wiring 52. This makes it possible to suppress deterioration of the electrical characteristics of the wiring 52 caused by the adjustment mechanism 30 coming into contact with the wiring 52. This makes it possible to prevent, for example, an increase in the electrical resistance of the wiring 52 before and after the wiring board 10 is repeatedly expanded and contracted.

(第2の変形例)
上述の実施の形態においては、配線52が基材20の第1面21に設けられる例を示したが、これに限られることはない。本変形例においては、配線52が支持基板によって支持される例を示す。
(Second Modification)
In the above embodiment, an example in which the wiring 52 is provided on the first surface 21 of the base material 20 has been described, but the present invention is not limited to this. In the present modified example, an example in which the wiring 52 is supported by a supporting substrate will be described.

図15は、第2の変形例に係る配線基板10のうち配線52を含む部分の断面図であり、上述の実施の形態における図4に相当する図である。また、図16は、第2の変形例に係る配線基板10のうち調整機構30を含む部分の断面図であり、上述の実施の形態における図7に相当する図である。配線基板10は、基材20、支持基板40、配線52及び調整機構30を少なくとも備える。 Figure 15 is a cross-sectional view of a portion of wiring board 10 according to the second modified example, including wiring 52, and corresponds to Figure 4 in the above-described embodiment. Also, Figure 16 is a cross-sectional view of a portion of wiring board 10 according to the second modified example, including adjustment mechanism 30, and corresponds to Figure 7 in the above-described embodiment. Wiring board 10 includes at least base material 20, support substrate 40, wiring 52, and adjustment mechanism 30.

〔支持基板〕
支持基板40は、基材20よりも低い伸縮性を有するよう構成された部材である。支持基板40は、基材20側に位置する第2面42と、第2面42の反対側に位置する第1面41と、を含む。図15に示す例において、支持基板40は、その第1面41側において配線52を支持している。また、支持基板40は、その第2面42側において基材20の第1面21に接合されている。例えば、基材20と支持基板40との間に、接着剤を含む接着層60が設けられていてもよい。接着層60を構成する材料としては、例えばアクリル系接着剤、シリコーン系接着剤等を用いることができる。接着層60の厚みは、例えば5μm以上且つ200μm以下である。
[Support substrate]
The support substrate 40 is a member configured to have lower elasticity than the base material 20. The support substrate 40 includes a second surface 42 located on the base material 20 side and a first surface 41 located on the opposite side of the second surface 42. In the example shown in FIG. 15, the support substrate 40 supports the wiring 52 on the first surface 41 side. The support substrate 40 is also bonded to the first surface 21 of the base material 20 on the second surface 42 side. For example, an adhesive layer 60 containing an adhesive may be provided between the base material 20 and the support substrate 40. For example, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, or the like can be used as a material constituting the adhesive layer 60. The thickness of the adhesive layer 60 is, for example, 5 μm or more and 200 μm or less.

本変形例においても、上述の実施の形態の場合と同様に、調整機構30は、配線52に接しないよう配置されている。例えば、図16に示すように、調整機構30は、支持基板40の第1面41のうち配線52と重ならない部分に設けられている。 In this modified example, as in the above-described embodiment, the adjustment mechanism 30 is arranged so as not to contact the wiring 52. For example, as shown in FIG. 16, the adjustment mechanism 30 is provided in a portion of the first surface 41 of the support substrate 40 that does not overlap with the wiring 52.

図17は、図15の配線基板10を拡大して示す断面図である。本変形例においては、支持基板40に接合された基材20から張力が取り除かれて基材20が収縮するとき、配線52の山部53及び谷部54と同様の山部及び谷部が支持基板40にも現れる。支持基板40の特性や寸法は、このような山部や谷部が形成され易くなるよう設定されている。例えば、支持基板40は、基材20の第1の弾性係数よりも大きい弾性係数を有する。以下の説明において、支持基板40の弾性係数のことを、第3の弾性係数とも称する。 Figure 17 is an enlarged cross-sectional view of the wiring board 10 of Figure 15. In this modification, when tension is removed from the base material 20 bonded to the support substrate 40 and the base material 20 contracts, peaks and valleys similar to the peaks 53 and valleys 54 of the wiring 52 also appear on the support substrate 40. The characteristics and dimensions of the support substrate 40 are set so that such peaks and valleys are easily formed. For example, the support substrate 40 has an elastic modulus greater than the first elastic modulus of the base material 20. In the following description, the elastic modulus of the support substrate 40 is also referred to as the third elastic modulus.

なお、図示はしないが、支持基板40は、その第2面42側において配線52を支持していてもよい。この場合、調整機構30も、支持基板40の第2面42のうち配線52と重ならない部分に設けられていてもよい。 Although not shown, the support substrate 40 may support the wiring 52 on the second surface 42 side. In this case, the adjustment mechanism 30 may also be provided on a portion of the second surface 42 of the support substrate 40 that does not overlap with the wiring 52.

支持基板40の第3の弾性係数は、例えば100MPa以上であり、より好ましくは1GPa以上である。また、支持基板40の第3の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数の100倍以上50000倍以下であってもよく、好ましくは1000倍以上10000倍以下である。このように支持基板40の第3の弾性係数を設定することにより、山部53及び谷部54の周期F1が小さくなり過ぎることを抑制することができる。また、山部53及び谷部54において局所的な折れ曲がりが生じることを抑制することができる。
なお、支持基板40の弾性係数が低すぎると、配線52の形成工程中に支持基板40が変形し易く、この結果、支持基板40に対する配線52の位置合わせが難しくなる。また、支持基板40の弾性係数が高すぎると、弛緩時の基材20の復元が難しくなり、また基材20の割れや折れが発生し易くなる。
The third elastic modulus of the support substrate 40 is, for example, 100 MPa or more, more preferably 1 GPa or more. The third elastic modulus of the support substrate 40 may be 100 times or more and 50,000 times or less, and preferably 1,000 times or more and 10,000 times or less, of the first elastic modulus of the base material 20. By setting the third elastic modulus of the support substrate 40 in this manner, it is possible to prevent the period F1 of the peaks 53 and the valleys 54 from becoming too small. It is also possible to prevent local bending in the peaks 53 and the valleys 54.
If the elastic modulus of the support substrate 40 is too low, the support substrate 40 is likely to deform during the process of forming the wiring 52, which makes it difficult to align the wiring 52 with respect to the support substrate 40. If the elastic modulus of the support substrate 40 is too high, it becomes difficult for the base material 20 to restore its original shape when relaxed, and the base material 20 is likely to crack or break.

また、支持基板40の厚みは、例えば500nm以上10μm以下であり、より好ましくは1μm以上5μm以下である。支持基板40の厚みが小さすぎると、支持基板40の製造工程や、支持基板40上に配線52などの部材を形成する工程における、支持基板40のハンドリングが難しくなる。支持基板40の厚みが大きすぎると、弛緩時の基材20の復元が難しくなり、目標の基材20の伸縮が得られなくなる。 The thickness of the support substrate 40 is, for example, 500 nm or more and 10 μm or less, and more preferably 1 μm or more and 5 μm or less. If the thickness of the support substrate 40 is too small, it becomes difficult to handle the support substrate 40 during the manufacturing process of the support substrate 40 and during the process of forming components such as the wiring 52 on the support substrate 40. If the thickness of the support substrate 40 is too large, it becomes difficult for the base material 20 to restore its original shape when relaxed, and the desired expansion and contraction of the base material 20 cannot be obtained.

支持基板40を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂等を用いることができる。その中でも、耐久性や耐熱性がよいポリエチレンナフタレートかポリイミドが好ましく用いられ得る。 Materials that can be used to form the support substrate 40 include, for example, polyethylene naphthalate, polyimide, polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic resin, etc. Among these, polyethylene naphthalate or polyimide, which have good durability and heat resistance, can be preferably used.

支持基板40の第3の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数の100倍以下であってもよい。支持基板40の第3の弾性係数を算出する方法は、基材20又は調整層31の場合と同様である。 The third elastic modulus of the support substrate 40 may be 100 times or less than the first elastic modulus of the base material 20. The method for calculating the third elastic modulus of the support substrate 40 is the same as that for the base material 20 or the adjustment layer 31.

(配線基板の製造方法)
次に、図18(a)~(c)を参照して、本変形例に係る配線基板10の製造方法について説明する。
(Method of Manufacturing Wiring Board)
Next, a method for manufacturing the wiring board 10 according to this modified example will be described with reference to FIGS.

まず、支持基板40を準備する。続いて、支持基板40の第1面41に配線52を設ける。例えば、まず、蒸着法などによって支持基板40の第1面41に銅層などの金属層を形成する。続いて、フォトリソグラフィ法およびエッチング法を用いて金属層を加工する。これにより、第1面41に配線52を得ることができる。 First, the support substrate 40 is prepared. Next, wiring 52 is provided on the first surface 41 of the support substrate 40. For example, a metal layer such as a copper layer is first formed on the first surface 41 of the support substrate 40 by a deposition method or the like. Next, the metal layer is processed using a photolithography method and an etching method. This makes it possible to obtain wiring 52 on the first surface 41.

続いて、図18(b)に示すように、第1方向D1において基材20に第1張力T1を加えて、基材20を寸法L1まで伸長させる第1伸長工程を実施する。続いて、第1伸長工程における第1張力T1によって伸長した状態の基材20の第1面21に配線52を設ける配線形成工程を実施する。本変形例の配線形成工程においては、図18(b)に示すように、基材20の第1面21に、配線52が設けられた支持基板40の第2面42を接合させる。この際、基材20と支持基板40との間に接着層60を設けてもよい。 Next, as shown in FIG. 18(b), a first extension step is performed in which a first tension T1 is applied to the substrate 20 in the first direction D1 to extend the substrate 20 to a dimension L1. Then, a wiring formation step is performed in which wiring 52 is provided on the first surface 21 of the substrate 20 in a state extended by the first tension T1 in the first extension step. In the wiring formation step of this modified example, as shown in FIG. 18(b), the second surface 42 of the support substrate 40, on which wiring 52 is provided, is bonded to the first surface 21 of the substrate 20. At this time, an adhesive layer 60 may be provided between the substrate 20 and the support substrate 40.

その後、基材20から第1張力T1を取り除く第1収縮工程を実施する。これにより、図18(c)において矢印Cで示すように、第1方向D1において基材20が収縮し、基材20に設けられている支持基板40及び配線52にも変形が生じる。支持基板40及び配線52の変形は、上述のように蛇腹形状部として生じ得る。 Then, a first contraction process is carried out to remove the first tension T1 from the substrate 20. As a result, as shown by the arrow C in FIG. 18(c), the substrate 20 contracts in the first direction D1, and the support substrate 40 and wiring 52 provided on the substrate 20 also deform. The deformation of the support substrate 40 and wiring 52 can occur as a bellows-shaped portion as described above.

本変形例において、支持基板40に調整機構30を設ける調整機構形成工程を実施するタイミングは任意である。
例えば、基材20に接合される前の状態の支持基板40に調整機構30を設けてもよい。この場合、配線52を設ける前に支持基板40に調整機構30を設けてもよく、配線52を設けた後に支持基板40に調整機構30を設けてもよい。
また、上述の第1の変形例の場合と同様に、第1伸長工程における基材20の伸長率よりも小さい伸長率で伸長されている状態の基材20に接合されている支持基板40に調整機構30を設けてもよい。
In this modification, the timing for performing the adjustment mechanism forming step of providing the adjustment mechanism 30 on the support substrate 40 is arbitrary.
For example, the adjustment mechanism 30 may be provided on the support substrate 40 before it is bonded to the base material 20. In this case, the adjustment mechanism 30 may be provided on the support substrate 40 before the wiring 52 is provided, or the adjustment mechanism 30 may be provided on the support substrate 40 after the wiring 52 is provided.
Also, as in the case of the first modified example described above, an adjustment mechanism 30 may be provided on a support substrate 40 joined to a substrate 20 in a state in which the substrate 20 is elongated at an elongation rate smaller than the elongation rate of the substrate 20 in the first elongation step.

本変形例においても、調整機構30は、配線52に応力が集中することを抑制するという機能を果たすことができる。これにより、配線基板10に生じる湾曲や屈曲などの変形が局所的に大きくなることを抑制することができる。このため、配線52にクラックなどの破損が生じてしまうことを抑制することができる。また、配線基板10を繰り返し伸縮させた際に配線52の電気抵抗値が増加してしまうことを抑制することができる。 Even in this modified example, the adjustment mechanism 30 can function to suppress the concentration of stress on the wiring 52. This can suppress deformation such as curvature and bending that occurs in the wiring board 10 from becoming large locally. This can suppress the occurrence of damage such as cracks in the wiring 52. In addition, it can suppress an increase in the electrical resistance value of the wiring 52 when the wiring board 10 is repeatedly expanded and contracted.

また、本変形例においても、調整機構30は、配線52との間に間隔Z1を空けて設けられている。このため、調整機構30が配線52に接することに起因して配線52の電気特性の劣化が生じることを抑制することができる。これにより、例えば、配線基板10を繰り返し伸縮させる前後で配線52の電気抵抗値が増加してしまうことを防ぐことができる。 In addition, in this modified example, the adjustment mechanism 30 is also provided with a gap Z1 between it and the wiring 52. This makes it possible to suppress deterioration of the electrical characteristics of the wiring 52 caused by the adjustment mechanism 30 coming into contact with the wiring 52. This makes it possible to prevent, for example, an increase in the electrical resistance of the wiring 52 before and after the wiring board 10 is repeatedly expanded and contracted.

(第3の変形例)
上述の第2の変形例においては、支持基板40が接着層60を介して基材20に接合される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、非接着表面を分子修飾させて、分子接着結合させる方法などによって支持基板40が基材20に接合されていてもよい。この場合、図19に示すように、基材20と支持基板40との間に接着層が設けられていなくてもよい。
(Third Modification)
In the above-mentioned second modified example, an example has been shown in which the support substrate 40 is bonded to the base material 20 via the adhesive layer 60. However, this is not limited thereto, and the support substrate 40 may be bonded to the base material 20 by a method of molecularly modifying a non-adhesive surface and performing molecular adhesive bonding. In this case, as shown in FIG. 19, an adhesive layer may not be provided between the base material 20 and the support substrate 40.

(第4の変形例)
上述の第2の変形例及び第3の変形例においては、支持基板40の第1面41側に配線52及び調整機構30が設けられている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図20に示すように、配線52及び調整機構30は、支持基板40の第2面42側に設けられていてもよい。
(Fourth Modification)
In the above-described second and third modified examples, an example has been shown in which the wiring 52 and the adjustment mechanism 30 are provided on the first surface 41 side of the support substrate 40. However, this is not limited to this, and the wiring 52 and the adjustment mechanism 30 may be provided on the second surface 42 side of the support substrate 40 as shown in FIG.

(第5の変形例)
上述の実施の形態においては、配線52に重ならないよう調整機構30が配置されている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図21に示すように、調整機構30が、配線52に重なる重なり部分37を含んでいてもよい。この場合、配線52全体の面積に対する、配線52のうち調整機構30と重なっていない部分の面積の比率(以下、非重複率)が、配線52全体の面積に対する、配線52のうち調整機構30と重なっている部分の面積の比率(重複率)よりも大きいことが好ましい。非重複率は、重複率の例えば2倍以上であり、3倍以上であってもよく、4倍以上であってもよく、5倍以上であってもよい。これにより、調整機構30が配線52に接することに起因して配線52の電気特性の劣化が生じることを抑制することができる。
(Fifth Modification)
In the above-described embodiment, an example has been shown in which the adjustment mechanism 30 is disposed so as not to overlap the wiring 52. However, this is not limited thereto, and as shown in FIG. 21, the adjustment mechanism 30 may include an overlapping portion 37 that overlaps the wiring 52. In this case, it is preferable that the ratio of the area of the portion of the wiring 52 that does not overlap with the adjustment mechanism 30 to the entire area of the wiring 52 (hereinafter, non-overlapping rate) is greater than the ratio of the area of the portion of the wiring 52 that overlaps with the adjustment mechanism 30 to the entire area of the wiring 52 (overlapping rate). The non-overlapping rate is, for example, two or more times the overlapping rate, and may be three or more times, four or more times, or five or more times. This makes it possible to suppress deterioration of the electrical characteristics of the wiring 52 caused by the adjustment mechanism 30 contacting the wiring 52.

図21に示すように、調整機構30の重なり部分37は、配線52が延びる方向に沿って間隔を空けて並んでいてもよい。この場合、伸縮した状態の基材20を弛緩させたとき、配線52に、重なり部分37の配置の周期に対応した蛇腹形状部55が生じ易くなる。すなわち、重なり部分37によって蛇腹形状部55の周期を制御することができる。 As shown in FIG. 21, the overlapping portions 37 of the adjustment mechanism 30 may be arranged at intervals along the direction in which the wiring 52 extends. In this case, when the base material 20 in a stretched state is relaxed, bellows-shaped portions 55 corresponding to the arrangement period of the overlapping portions 37 are likely to be generated in the wiring 52. In other words, the period of the bellows-shaped portions 55 can be controlled by the overlapping portions 37.

(第6の変形例)
図22は、本変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図23は、図22の配線基板10のC-C線に沿った断面図である。図22及び図23に示すように、配線基板10は、配線52に電気的に接続された電子部品51を備えていてもよい。図22及び図23に示す例において、電子部品51は、支持基板40の第1面41側に位置している。若しくは、配線基板10は、電子部品51が搭載されてはいないが、配線52に電気的に接続される電子部品51が搭載され得るように構成されていてもよい。
(Sixth Modification)
Fig. 22 is a plan view showing the wiring board 10 according to this modified example. Fig. 23 is a cross-sectional view taken along line CC of the wiring board 10 in Fig. 22. As shown in Figs. 22 and 23, the wiring board 10 may include an electronic component 51 electrically connected to wiring 52. In the example shown in Figs. 22 and 23, the electronic component 51 is located on the first surface 41 side of the support substrate 40. Alternatively, the wiring board 10 may be configured such that the electronic component 51 is not mounted, but the electronic component 51 is electrically connected to the wiring 52.

図22に示すように、調整機構30は、電子部品51と重ならないよう配置されていてもよい。図示はしないが、調整機構30の一部が電子部品51に重なっていてもよい。 As shown in FIG. 22, the adjustment mechanism 30 may be arranged so as not to overlap the electronic component 51. Although not shown, a portion of the adjustment mechanism 30 may overlap the electronic component 51.

電子部品51は、配線52に接続される電極を有していてもよい。この場合、配線基板10は、電子部品51の電極に接するとともに配線52に電気的に接続された接続部を有する。接続部は、例えばパッドである。 The electronic component 51 may have an electrode connected to the wiring 52. In this case, the wiring board 10 has a connection portion that contacts the electrode of the electronic component 51 and is electrically connected to the wiring 52. The connection portion is, for example, a pad.

また、電子部品51は、配線52に接続される電極を有していなくてもよい。例えば、電子部品51は、配線基板10の複数の構成要素のうちの少なくとも1つの構成要素と一体的な部材を含んでいてもよい。このような電子部品51の例として、配線基板10の配線52を構成する導電層と一体的な導電層を含むものや、配線52を構成する導電層とは別の層に位置する導電層を含むものを挙げることができる。例えば、電子部品51は、配線52を構成する導電層よりも平面視において広い幅を有する導電層によって構成されたパッドであってもよい。パッドには、検査用のプローブ、ソフトウェア書き換え用の端子などが接続される。また、電子部品51は、導電層が平面視においてらせん状に延びることによって構成された配線パターンであってもよい。このように、導電層がパターニングされて所定の機能が付与された部分も、電子部品51となり得る。 The electronic component 51 may not have an electrode connected to the wiring 52. For example, the electronic component 51 may include a member integral with at least one of the multiple components of the wiring board 10. Examples of such electronic components 51 include those including a conductive layer integral with the conductive layer constituting the wiring 52 of the wiring board 10, and those including a conductive layer located in a layer different from the conductive layer constituting the wiring 52. For example, the electronic component 51 may be a pad formed by a conductive layer having a width wider in a planar view than the conductive layer constituting the wiring 52. A probe for inspection, a terminal for software rewriting, etc. are connected to the pad. The electronic component 51 may also be a wiring pattern formed by a conductive layer extending in a spiral shape in a planar view. In this way, a part in which a conductive layer is patterned and a predetermined function is given can also be the electronic component 51.

電子部品51は、能動部品であってもよく、受動部品であってもよく、機構部品であってもよい。電子部品51の例としては、トランジスタ、LSI(Large-Scale Integration)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)、リレー、LED、OLED、LCDなどの発光素子、センサ、ブザー等の発音部品、振動を発する振動部品、冷却発熱をコントロールするペルチェ素子や電熱線などの冷発熱部品、抵抗器、キャパシタ、インダクタ、圧電素子、スイッチ、コネクタなどを挙げることができる。電子部品51の上述の例のうち、センサが好ましく用いられる。センサとしては、例えば、温度センサ、圧力センサ、光センサ、光電センサ、近接センサ、せん断力センサ、生体センサ、レーザーセンサ、マイクロ波センサ、湿度センサ、歪みセンサ、ジャイロセンサ、加速度センサ、変位センサ、磁気センサ、ガスセンサ、GPSセンサ、超音波センサ、臭いセンサ、脳波センサ、電流センサ、振動センサ、脈波センサ、心電センサ、光度センサ等を挙げることができる。これらのセンサのうち、生体センサが特に好ましい。生体センサは、心拍や脈拍、心電、血圧、体温、血中酸素濃度等の生体情報を測定することができる。 The electronic component 51 may be an active component, a passive component, or a mechanical component. Examples of the electronic component 51 include transistors, LSIs (Large-Scale Integration), MEMS (Micro Electro Mechanical Systems), relays, light-emitting elements such as LEDs, OLEDs, and LCDs, sensors, sound-generating components such as buzzers, vibration components that generate vibrations, cooling and heating components such as Peltier elements and heating wires that control cooling and heating, resistors, capacitors, inductors, piezoelectric elements, switches, and connectors. Of the above examples of the electronic component 51, sensors are preferably used. Examples of sensors include temperature sensors, pressure sensors, optical sensors, photoelectric sensors, proximity sensors, shear force sensors, biosensors, laser sensors, microwave sensors, humidity sensors, strain sensors, gyro sensors, acceleration sensors, displacement sensors, magnetic sensors, gas sensors, GPS sensors, ultrasonic sensors, odor sensors, brainwave sensors, current sensors, vibration sensors, pulse wave sensors, electrocardiogram sensors, and luminosity sensors. Of these sensors, biosensors are particularly preferred. Biometric sensors can measure biometric information such as heart rate, pulse, electrocardiogram, blood pressure, body temperature, and blood oxygen concentration.

次に、電極を有さない電子部品51の用途について説明する。例えば、上述のパッドは、検査用のプローブ、ソフトウェア書き換え用の端子などが接続される部分として機能し得る。また、らせん状に延びることによって構成された配線パターンは、アンテナなどとして機能し得る。 Next, the uses of the electronic component 51 that does not have electrodes will be described. For example, the pads described above can function as parts to which probes for testing or terminals for software rewriting are connected. In addition, the wiring pattern formed by extending in a spiral shape can function as an antenna, etc.

なお、上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。 Although several variations on the above embodiment have been described, it is of course possible to combine multiple variations as appropriate.

次に、本発明を実施例及び比較例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。 Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to the description of the following examples as long as it does not deviate from the gist of the invention.

[実施例1]
(伸縮性基材の準備)
支持台の上に、接着層60として機能する粘着シートを載置した。粘着シートとしては、3M社製の粘着シート8146を用いた。続いて、粘着シート上に2液付加縮合のポリジメチルシロキサン(PDMS)を塗布し、PDMSを硬化させた。これにより、粘着シートの上に基材20を形成した。硬化後の基材20の厚さは900μmであった。続いて、基材20及び接着層60を含む第1積層体の一部分を切り出し、接着層60を除去した基材20をサンプルとして用いて、基材20の弾性係数を、JIS K6251に準拠した引張試験により測定した。結果、基材20の弾性係数は0.05MPaであった。また、基材20の断面積は0.45×10-6であった。
[Example 1]
(Preparation of elastic substrate)
An adhesive sheet functioning as the adhesive layer 60 was placed on the support. As the adhesive sheet, an adhesive sheet 8146 manufactured by 3M was used. Then, two-liquid addition condensation polydimethylsiloxane (PDMS) was applied onto the adhesive sheet, and the PDMS was cured. This resulted in the formation of a substrate 20 on the adhesive sheet. The thickness of the substrate 20 after curing was 900 μm. Then, a part of the first laminate including the substrate 20 and the adhesive layer 60 was cut out, and the substrate 20 from which the adhesive layer 60 had been removed was used as a sample to measure the elastic modulus of the substrate 20 by a tensile test in accordance with JIS K6251. As a result, the elastic modulus of the substrate 20 was 0.05 MPa. In addition, the cross-sectional area of the substrate 20 was 0.45×10 −6 m 2 .

(支持基板、配線および調整層の準備)
支持基板40として厚さ2.5μmのポリエチレンナフタレート(PEN)フィルムを準備した。続いて、支持基板40の第1面41に導電性ペーストを所定のパターンで印刷することにより、配線52を形成した。印刷法としては、スクリーン印刷を用いた。導電性ペーストとしては、銀の導電性粒子を含むものを用いた。配線52は、200μmの幅、40mmの長さを有する。また、支持基板40の一部分をサンプルとして取り出し、支持基板40の弾性係数を、ASTM D882に準拠した引張試験により測定した。結果、支持基板の弾性係数は2.2GPaであった。
(Preparation of supporting substrate, wiring and adjustment layer)
A polyethylene naphthalate (PEN) film having a thickness of 2.5 μm was prepared as the support substrate 40. Then, a conductive paste was printed in a predetermined pattern on the first surface 41 of the support substrate 40 to form the wiring 52. Screen printing was used as the printing method. The conductive paste used contained silver conductive particles. The wiring 52 had a width of 200 μm and a length of 40 mm. In addition, a part of the support substrate 40 was taken as a sample, and the elastic modulus of the support substrate 40 was measured by a tensile test in accordance with ASTM D882. As a result, the elastic modulus of the support substrate was 2.2 GPa.

続いて、支持基板40の第1面41のうち配線52と重ならない領域に、ウレタン樹脂を印刷することにより、調整層31を形成した。印刷法としては、スクリーン印刷を用いた。調整層31は、30μmの厚みを有する。続いて、調整層31の一部分をサンプルとして取り出し、調整層31の弾性係数を、JIS K6251に準拠した引張試験により測定した。結果、調整層31の弾性係数は35MPaであった。 Next, an adjustment layer 31 was formed by printing urethane resin on the area of the first surface 41 of the support substrate 40 that did not overlap with the wiring 52. Screen printing was used as the printing method. The adjustment layer 31 had a thickness of 30 μm. Next, a portion of the adjustment layer 31 was taken as a sample, and the elastic modulus of the adjustment layer 31 was measured by a tensile test in accordance with JIS K6251. As a result, the elastic modulus of the adjustment layer 31 was 35 MPa.

基材20、支持基板40、配線52及び調整層31それぞれの弾性係数の大小関係は下記の通りである。
基材20<調整層31<配線52<支持基板40
The relationship in magnitude between the elastic modulus of the base material 20, the support substrate 40, the wiring 52, and the adjustment layer 31 is as follows.
Base material 20 < adjustment layer 31 < wiring 52 < support substrate 40

(基材と支持基板の接合)
接着層60が形成されている基材20に張力を加え、基材20及び接着層60を第1方向D1において50%伸長させた状態で、配線52及び調整層31が設けられた支持基板40を接着層60に接合させた。この状態における配線52の抵抗は35Ωであった。
(Joining of Base Material and Support Substrate)
A tension was applied to the base material 20 on which the adhesive layer 60 was formed, and in a state in which the base material 20 and the adhesive layer 60 were stretched by 50% in the first direction D1, the support substrate 40 on which the wiring 52 and the adjustment layer 31 were provided was joined to the adhesive layer 60. The resistance of the wiring 52 in this state was 35 Ω.

続いて、張力を取り除いて伸長を解放させて、基材20を収縮させた。このようにして、配線基板10を作製した。得られた配線基板10において、支持基板40及び支持基板40に設けられている配線52の表面には、複数の山部を含む蛇腹形状部が現れていた。複数の山部の5周期分にわたって周期を測定したところ、平均周期は540μmであった。蛇腹形状部における曲率半径の最小値は43μmであった。また、配線の抵抗は42Ωであり、収縮前の抵抗との差は小さかった。 Then, the tension was removed to release the extension, and the substrate 20 was allowed to shrink. In this manner, the wiring board 10 was produced. In the obtained wiring board 10, a bellows-shaped portion including multiple peaks appeared on the surface of the support substrate 40 and the wiring 52 provided on the support substrate 40. When the period was measured over five periods of the multiple peaks, the average period was 540 μm. The minimum value of the radius of curvature in the bellows-shaped portion was 43 μm. In addition, the resistance of the wiring was 42 Ω, and the difference from the resistance before shrinkage was small.

続いて、配線基板10に対して、30%伸長させる処置及び伸長状態を解放する処置を繰り返し1万回実施した。その後に測定された配線の抵抗は71Ωであり、1万回の伸縮試験の前に比べて1.7倍になっていた。 Then, the wiring board 10 was stretched by 30% and then released from the stretched state, repeatedly performed 10,000 times. The resistance of the wiring measured after that was 71 Ω, which was 1.7 times higher than before the 10,000-time stretch test.

[比較例1]
支持基板40の第1面41側において配線52と重ならない領域にもウレタン樹脂を含む調整層31を形成したこと以外は、実施例1の場合と同様にして、配線基板10を作製した。この状態における配線52の抵抗は35Ωであった。
[Comparative Example 1]
Wiring board 10 was fabricated in the same manner as in Example 1, except that adjustment layer 31 containing urethane resin was also formed in an area not overlapping wiring 52 on first surface 41 side of support substrate 40. Resistance of wiring 52 in this state was 35 Ω.

続いて、張力を取り除いて伸長を解放させて、基材20を収縮させた。このようにして、配線基板10を作製した。得られた配線基板10において、支持基板40及び支持基板40に設けられている配線52の表面には、複数の山部を含む蛇腹形状部が現れていた。複数の山部の5周期分にわたって周期を測定したところ、平均周期は620μmであった。蛇腹形状部における曲率半径の最小値は45μmであった。また、配線の抵抗は39Ωであり、収縮前の抵抗との差は小さかった。 Then, the tension was removed to release the extension, and the substrate 20 was allowed to shrink. In this manner, the wiring board 10 was produced. In the obtained wiring board 10, a bellows-shaped portion including multiple peaks appeared on the surface of the support substrate 40 and the wiring 52 provided on the support substrate 40. When the period was measured over five periods of the multiple peaks, the average period was 620 μm. The minimum value of the radius of curvature in the bellows-shaped portion was 45 μm. In addition, the resistance of the wiring was 39 Ω, and the difference from the resistance before shrinkage was small.

続いて、配線基板10に対して、30%伸長させる処置及び伸長状態を解放する処置を繰り返し1万回実施した。その後に測定された配線の抵抗は220Ωであり、1万回の伸縮試験の前に比べて5.7倍になっていた。 Then, the wiring board 10 was stretched by 30% and released from the stretched state, repeatedly performed 10,000 times. The resistance of the wiring measured after that was 220 Ω, which was 5.7 times higher than before the 10,000-time stretch test.

[比較例2]
支持基板40の第1面41に調整層31を形成しなかったこと以外は、実施例1の場合と同様にして、配線基板10を作製した。この状態における配線52の抵抗は47Ωであった。
[Comparative Example 2]
Except for not forming the adjustment layer 31 on the first surface 41 of the support substrate 40, the wiring substrate 10 was fabricated in the same manner as in Example 1. The resistance of the wiring 52 in this state was 47 Ω.

続いて、張力を取り除いて伸長を解放させて、基材20を収縮させた。このようにして、配線基板10を作製した。得られた配線基板10において、支持基板40及び支持基板40に設けられている配線52の表面には、複数の山部を含む蛇腹形状部が現れていた。複数の山部の5周期分にわたって周期を測定したところ、平均周期は420μmであり、周期の標準偏差は67μmであった。また、蛇腹形状部における曲率半径の最小値は2μmであった。蛇腹形状部には、不均一な皺や配線の折れが確認された。また、配線の抵抗は81Ωであり、収縮前に比べて1.7倍になっていた。 Then, the tension was removed to release the extension, and the substrate 20 was allowed to shrink. In this manner, the wiring board 10 was produced. In the obtained wiring board 10, a bellows-shaped portion including multiple peaks appeared on the surface of the support substrate 40 and the wiring 52 provided on the support substrate 40. When the period of the multiple peaks was measured over five periods, the average period was 420 μm, and the standard deviation of the period was 67 μm. Furthermore, the minimum value of the radius of curvature of the bellows-shaped portion was 2 μm. Non-uniform wrinkles and bent wiring were confirmed in the bellows-shaped portion. Furthermore, the resistance of the wiring was 81 Ω, 1.7 times that before shrinkage.

10 配線基板
20 基材
21 第1面
22 第2面
23 山部
24 谷部
25 山部
26 谷部
30 調整機構
31 調整層
32 接着層
33 山部
34 谷部
37 重なり部分
40 支持基板
41 第1面
42 第2面
51 電子部品
52 配線
53 山部
54 谷部
REFERENCE SIGNS LIST 10 Wiring board 20 Base material 21 First surface 22 Second surface 23 Peak 24 Valley 25 Peak 26 Valley 30 Adjustment mechanism 31 Adjustment layer 32 Adhesive layer 33 Peak 34 Valley 37 Overlapping portion 40 Support substrate 41 First surface 42 Second surface 51 Electronic component 52 Wiring 53 Peak 54 Valley

Claims (29)

配線基板であって、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置し、前記基材の前記第1面の面内方向の1つである第1方向に沿って並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有する配線と、
前記基材の前記第1面側に位置し、前記第1面の法線方向に沿って見た場合に前記配線との間に間隔を空けて前記第1方向に延びる側縁を有し、表面に樹脂又はエラストマーを含む調整機構と、を備え、
前記配線基板のうち前記配線が設けられていない部分の面積に対する、前記調整機構の面積の比率が、50%以上であり、
前記配線基板を前記第1方向において伸長させながら、前記配線基板に加えられている張力及び前記配線の電気抵抗を測定した場合、前記電気抵抗は、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が第1伸長量のときに、単位伸長量当たりの前記電気抵抗の増加量が変化する第1転換点を示し、前記張力は、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が前記第1伸長量よりも小さい第2伸長量のときに、単位伸長量当たりの前記張力の増加量が変化する第2転換点を示す、配線基板。
A wiring board,
A base material having elasticity, the base material including a first surface and a second surface located opposite the first surface;
a wiring located on the first surface side of the base material and having a bellows-shaped portion including a plurality of peaks and valleys aligned along a first direction that is one of the in-plane directions of the first surface of the base material;
an adjustment mechanism that is located on the first surface side of the base material, has a side edge that extends in the first direction with a gap between it and the wiring when viewed along a normal direction of the first surface, and includes a resin or an elastomer on a surface thereof;
a ratio of an area of the adjustment mechanism to an area of a portion of the wiring board on which the wiring is not provided is 50% or more;
When the tension applied to the wiring board and the electrical resistance of the wiring are measured while the wiring board is stretched in the first direction, the electrical resistance shows a first turning point where the increase in the electrical resistance per unit elongation amount changes when the elongation amount of the wiring board in the first direction is a first elongation amount, and the tension shows a second turning point where the increase in the tension per unit elongation amount changes when the elongation amount of the wiring board in the first direction is a second elongation amount that is smaller than the first elongation amount .
前記調整機構は、前記第1方向に直交する第2方向において前記配線を挟むように位置している、請求項1に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 1, wherein the adjustment mechanism is positioned so as to sandwich the wiring in a second direction perpendicular to the first direction. 前記調整機構は、前記配線よりも低い弾性係数を有する調整層を含む、請求項1又は2に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 1 or 2, wherein the adjustment mechanism includes an adjustment layer having a lower elastic modulus than the wiring. 前記調整機構は、前記基材よりも高い曲げ剛性又は弾性係数を有する調整層を含む、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein the adjustment mechanism includes an adjustment layer having a bending stiffness or elastic modulus higher than that of the substrate. 前記配線は、ベース材及び導電性粒子を含む、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 4, wherein the wiring includes a base material and conductive particles. 前記調整機構は、前記第1方向に直交する第2方向において、前記配線の幅以上の寸法を有する、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 5, wherein the adjustment mechanism has a dimension in a second direction perpendicular to the first direction that is equal to or greater than the width of the wiring. 前記調整機構は、前記第1方向に直交する第2方向において、前記配線の幅の2倍以上の寸法を有する、請求項6に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 6, wherein the adjustment mechanism has a dimension in a second direction perpendicular to the first direction that is at least twice the width of the wiring. 前記調整機構の前記側縁と前記配線との間の前記間隔が、配線の幅以下である、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 7, wherein the distance between the side edge of the adjustment mechanism and the wiring is equal to or less than the width of the wiring. 前記調整機構の前記側縁と前記配線との間の前記間隔が、100μm以下である、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 8, wherein the distance between the side edge of the adjustment mechanism and the wiring is 100 μm or less. 前記調整機構は、前記第1方向に沿って並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有する、請求項1乃至9のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 9, wherein the adjustment mechanism has a bellows-shaped portion including a plurality of peaks and valleys aligned along the first direction. 配線基板であって、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置し、前記基材の前記第1面の面内方向の1つである第1方向に沿って並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有する配線と、
前記基材の前記第1面側に位置し、前記第1面の法線方向に沿って見た場合に前記配線との間に間隔を空けて前記第1方向に延びる側縁を有し、表面に樹脂又はエラストマーを含む調整機構と、を備え、
前記配線基板のうち前記配線が設けられていない部分の面積に対する、前記調整機構の面積の比率が、50%以上であり、
前記基材の前記第2面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅が、前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅と異なる、配線基板。
A wiring board,
A base material having elasticity, the base material including a first surface and a second surface located opposite the first surface;
a wiring located on the first surface side of the base material and having a bellows-shaped portion including a plurality of peaks and valleys aligned along a first direction that is one of the in-plane directions of the first surface of the base material;
an adjustment mechanism that is located on the first surface side of the base material, has a side edge that extends in the first direction with a gap between it and the wiring when viewed along a normal direction of the first surface, and includes a resin or an elastomer on a surface thereof;
a ratio of an area of the adjustment mechanism to an area of a portion of the wiring board on which the wiring is not provided is 50% or more;
A wiring board, wherein the amplitude of peaks and valleys appearing on a portion of the surface of the wiring board on the second surface side of the base material that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring is different from the amplitude of peaks and valleys appearing on a portion of the surface of the wiring board on the first surface side of the base material that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring .
前記基材の前記第2面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅が、前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の振幅よりも小さい、請求項11に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 11, wherein the amplitude of the peaks and valleys appearing in the portion of the surface of the wiring board on the second surface side of the base material that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring is smaller than the amplitude of the peaks and valleys appearing in the portion of the surface of the wiring board on the first surface side of the base material that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring. 配線基板であって、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置し、前記基材の前記第1面の面内方向の1つである第1方向に沿って並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有する配線と、
前記基材の前記第1面側に位置し、前記第1面の法線方向に沿って見た場合に前記配線との間に間隔を空けて前記第1方向に延びる側縁を有し、表面に樹脂又はエラストマーを含む調整機構と、を備え、
前記配線基板のうち前記配線が設けられていない部分の面積に対する、前記調整機構の面積の比率が、50%以上であり、
前記基材の前記第2面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期が、前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期と異なる、配線基板。
A wiring board,
A base material having elasticity, the base material including a first surface and a second surface located opposite the first surface;
a wiring located on the first surface side of the base material and having a bellows-shaped portion including a plurality of peaks and valleys aligned along a first direction that is one of the in-plane directions of the first surface of the base material;
an adjustment mechanism that is located on the first surface side of the base material, has a side edge that extends in the first direction with a gap between it and the wiring when viewed along a normal direction of the first surface, and includes a resin or an elastomer on a surface thereof;
a ratio of an area of the adjustment mechanism to an area of a portion of the wiring board on which the wiring is not provided is 50% or more;
A wiring board, wherein the periodicity of peaks and valleys appearing in a portion of the surface of the wiring board on the second surface side of the base material that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring is different from the periodicity of peaks and valleys appearing in a portion of the surface of the wiring board on the first surface side of the base material that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring .
前記基材の前記第2面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期が、前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の周期よりも大きい、請求項13に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 13, wherein the periodicity of the peaks and valleys appearing in the portion of the surface of the wiring board on the second side of the base material that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring is greater than the periodicity of the peaks and valleys appearing in the portion of the surface of the wiring board on the first side of the base material that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring. 配線基板であって、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置し、前記基材の前記第1面の面内方向の1つである第1方向に沿って並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有する配線と、
前記基材の前記第1面側に位置し、前記第1面の法線方向に沿って見た場合に前記配線との間に間隔を空けて前記第1方向に延びる側縁を有し、表面に樹脂又はエラストマーを含む調整機構と、を備え、
前記配線基板のうち前記配線が設けられていない部分の面積に対する、前記調整機構の面積の比率が、50%以上であり、
前記基材の前記第2面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の位置が、前記基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記蛇腹形状部に重なる部分に現れる山部及び谷部の位置からずれている、配線基板。
A wiring board,
A base material having elasticity, the base material including a first surface and a second surface located opposite the first surface;
a wiring located on the first surface side of the base material and having a bellows-shaped portion including a plurality of peaks and valleys aligned along a first direction that is one of the in-plane directions of the first surface of the base material;
an adjustment mechanism that is located on the first surface side of the base material, has a side edge that extends in the first direction with a gap between it and the wiring when viewed along a normal direction of the first surface, and includes a resin or an elastomer on a surface thereof;
a ratio of an area of the adjustment mechanism to an area of a portion of the wiring board on which the wiring is not provided is 50% or more;
a wiring board, wherein the positions of peaks and valleys appearing in a portion of the surface of the wiring board on the second surface side of the base material that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring are shifted from the positions of peaks and valleys appearing in a portion of the surface of the wiring board on the first surface side of the base material that overlaps the bellows-shaped portion of the wiring .
前記配線基板を前記第1方向において伸長させながら、前記配線基板に加えられている張力及び前記配線の電気抵抗を測定した場合、前記電気抵抗は、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が第1伸長量のときに、単位伸長量当たりの前記電気抵抗の増加量が変化する第1転換点を示し、前記張力は、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が前記第1伸長量よりも小さい第2伸長量のときに、単位伸長量当たりの前記張力の増加量が変化する第2転換点を示す、請求項11乃至15のいずれか一項に記載の配線基板。 16. The wiring board according to claim 11, wherein, when the tension applied to the wiring board and the electrical resistance of the wiring are measured while the wiring board is stretched in the first direction, the electrical resistance indicates a first turning point where an increase in the electrical resistance per unit elongation amount changes when the elongation amount of the wiring board in the first direction is a first elongation amount, and the tension indicates a second turning point where an increase in the tension per unit elongation amount changes when the elongation amount of the wiring board in the first direction is a second elongation amount that is smaller than the first elongation amount. 前記第1伸長量は、前記第2伸長量の1.1倍以上である、請求項1乃至10及び16のいずれか一項に記載の配線基板。 17. The wiring board according to claim 1 , wherein the first extension amount is 1.1 times or more the second extension amount. 前記第1方向における前記配線基板の伸長量が前記第2伸長量より小さいときの、単位伸長量当たりの前記張力の増加量を第1張力増加率と称し、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が前記第2伸長量より大きいときの、単位伸長量当たりの前記張力の増加量を第2張力増加率と称する場合、前記第2張力増加率は前記第1張力増加率より大きい、請求項16又は17に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 16 or 17, in which the increase in tension per unit of elongation when the elongation of the wiring board in the first direction is smaller than the second elongation is called a first tension increase rate, and the increase in tension per unit of elongation when the elongation of the wiring board in the first direction is larger than the second elongation is called a second tension increase rate, the second tension increase rate being larger than the first tension increase rate. 前記第2張力増加率は前記第1張力増加率の2倍以上である、請求項18に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 18, wherein the second tension increase rate is at least twice the first tension increase rate. 前記第1方向における前記配線基板の伸長量が前記第1伸長量より小さいときの、単位伸長量当たりの前記電気抵抗の増加量を第1電気抵抗増加率と称し、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が前記第1伸長量より大きいときの、単位伸長量当たりの前記電気抵抗の増加量を第2電気抵抗増加率と称する場合、前記第2電気抵抗増加率は前記第1電気抵抗増加率より大きい、請求項16乃至19のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 16 to 19, wherein the increase in the electrical resistance per unit of elongation amount when the elongation amount of the wiring board in the first direction is smaller than the first elongation amount is referred to as a first electrical resistance increase rate, and the increase in the electrical resistance per unit of elongation amount when the elongation amount of the wiring board in the first direction is larger than the first elongation amount is referred to as a second electrical resistance increase rate, and the second electrical resistance increase rate is larger than the first electrical resistance increase rate. 前記第2電気抵抗増加率は前記第1電気抵抗増加率の2倍以上である、請求項20に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 20, wherein the second electrical resistance increase rate is at least twice the first electrical resistance increase rate. 前記基材は、熱可塑性エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゲル又はシリコンゲルを含む、請求項1乃至21のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 21, wherein the substrate includes a thermoplastic elastomer, a silicone rubber, a urethane gel, or a silicon gel. 支持基板を更に備える、請求項1乃至22のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 22, further comprising a support substrate. 前記支持基板は、前記基材よりも高い弾性係数を有し、前記配線を支持する、請求項23に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 23, wherein the support substrate has a higher elastic modulus than the base material and supports the wiring. 前記支持基板は、前記配線と前記基材の前記第1面との間に位置し、前記配線を支持する、請求項23又は24に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 23 or 24, wherein the support substrate is located between the wiring and the first surface of the base material and supports the wiring. 前記支持基板は、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂、又はポリエチレンテレフタラートを含む、請求項23乃至25のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 23 to 25, wherein the support substrate includes polyethylene naphthalate, polyimide, polycarbonate, acrylic resin, or polyethylene terephthalate. 前記配線に電気的に接続される電子部品を更に備える、請求項1乃至26のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 26, further comprising an electronic component electrically connected to the wiring. 配線基板の製造方法であって、
伸縮性を有する基材に、前記基材の第1面の面内方向の1つである第1方向において張力を加えて、前記基材を伸長させる第1伸長工程と、
前記第1伸長工程によって伸長した状態の前記基材の第1面側に、前記第1方向に延びる配線を設ける配線形成工程と、
伸長した状態の前記基材の第1面側に、前記第1面の法線方向に沿って見た場合に前記配線との間に間隔を空けて前記第1方向に延びる側縁を有し、表面に樹脂又はエラストマーを含む調整機構を設ける調整機構形成工程と、
前記基材から前記張力を取り除く収縮工程と、を備え、
前記配線基板のうち前記配線が設けられていない部分の面積に対する、前記調整機構の面積の比率が、50%以上であり、
前記配線基板を前記第1方向において伸長させながら、前記配線基板に加えられている張力及び前記配線の電気抵抗を測定した場合、前記電気抵抗は、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が第1伸長量のときに、単位伸長量当たりの前記電気抵抗の増加量が変化する第1転換点を示し、前記張力は、前記第1方向における前記配線基板の伸長量が第1伸長量よりも小さい第2伸長量のときに、単位伸長量当たりの前記張力の増加量が変化する第2転換点を示す、配線基板の製造方法。
A method for manufacturing a wiring board, comprising:
A first elongation step of applying tension to an elastic substrate in a first direction, which is one of in-plane directions of a first surface of the substrate, to elongate the substrate;
a wiring forming step of providing wiring extending in the first direction on a first surface side of the base material in a state stretched by the first stretching step;
an adjustment mechanism forming step of providing an adjustment mechanism having a side edge extending in the first direction with a gap between it and the wiring when viewed along a normal direction of the first surface on a first surface side of the base material in an extended state, the adjustment mechanism including a resin or an elastomer on a surface thereof;
and a contraction step of removing the tension from the substrate,
a ratio of an area of the adjustment mechanism to an area of a portion of the wiring board on which the wiring is not provided is 50% or more;
A method for manufacturing a wiring board, wherein when the tension applied to the wiring board and the electrical resistance of the wiring are measured while the wiring board is stretched in the first direction, the electrical resistance shows a first turning point where an increase in the electrical resistance per unit elongation amount changes when the elongation amount of the wiring board in the first direction is a first elongation amount, and the tension shows a second turning point where an increase in the tension per unit elongation amount changes when the elongation amount of the wiring board in the first direction is a second elongation amount that is smaller than the first elongation amount .
前記調整機構形成工程において、前記調整機構は、前記基材に前記配線を設けた後、前記第1伸長工程よりも小さな伸長率で伸長した状態の前記基材の第1面側に設けられる、請求項28に記載の配線基板の製造方法。 29. The method for manufacturing a wiring board according to claim 28, wherein in the adjustment mechanism forming step, the adjustment mechanism is provided on the first surface side of the base material in a state in which the base material is stretched at an elongation rate smaller than that in the first elongation step after the wiring is provided on the base material.
JP2019024747A 2019-02-14 Wiring board and method for manufacturing the same Active JP7486042B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019024747A JP7486042B2 (en) 2019-02-14 Wiring board and method for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019024747A JP7486042B2 (en) 2019-02-14 Wiring board and method for manufacturing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020136350A JP2020136350A (en) 2020-08-31
JP7486042B2 true JP7486042B2 (en) 2024-05-17

Family

ID=

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040192082A1 (en) 2003-03-28 2004-09-30 Sigurd Wagner Stretchable and elastic interconnects
JP2008187154A (en) 2007-01-31 2008-08-14 Nitto Denko Corp Connection structure of flexible wiring circuit board, and electronic device
US20140218872A1 (en) 2013-02-06 2014-08-07 Electronics And Telecommunications Research Institute Electronic circuit and method of fabricating the same
JP2015073064A (en) 2013-09-05 2015-04-16 株式会社フジクラ Printed wiring board and connector connecting wiring board
JP2016143557A (en) 2015-02-02 2016-08-08 株式会社フジクラ Elasticized wiring board
WO2017047519A1 (en) 2015-09-17 2017-03-23 ポリマテック・ジャパン株式会社 Elastic wiring member
JP2018120989A (en) 2017-01-26 2018-08-02 オムロン株式会社 Resin structure and production method therefor

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040192082A1 (en) 2003-03-28 2004-09-30 Sigurd Wagner Stretchable and elastic interconnects
JP2008187154A (en) 2007-01-31 2008-08-14 Nitto Denko Corp Connection structure of flexible wiring circuit board, and electronic device
US20140218872A1 (en) 2013-02-06 2014-08-07 Electronics And Telecommunications Research Institute Electronic circuit and method of fabricating the same
JP2015073064A (en) 2013-09-05 2015-04-16 株式会社フジクラ Printed wiring board and connector connecting wiring board
JP2016143557A (en) 2015-02-02 2016-08-08 株式会社フジクラ Elasticized wiring board
WO2017047519A1 (en) 2015-09-17 2017-03-23 ポリマテック・ジャパン株式会社 Elastic wiring member
JP2018120989A (en) 2017-01-26 2018-08-02 オムロン株式会社 Resin structure and production method therefor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7100852B2 (en) Wiring board and manufacturing method of wiring board
JP7154508B2 (en) Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP7184289B2 (en) Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP7331423B2 (en) Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP7251165B2 (en) Wiring board and method for manufacturing wiring board
EP3883352A1 (en) Wiring substrate, and method for manufacturing wiring substrate
JP7486042B2 (en) Wiring board and method for manufacturing the same
JP7249514B2 (en) Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP7385823B2 (en) wiring board
JP7269544B2 (en) Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP7272065B2 (en) Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP7249512B2 (en) Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP2021057507A (en) Wiring board
JP7236052B2 (en) Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP2020155605A (en) Wiring substrate and manufacturing method of the same
JP7400510B2 (en) Wiring board and its manufacturing method
JP7216912B2 (en) Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP7316538B2 (en) Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP7216911B2 (en) Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP7312367B2 (en) Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP7320186B2 (en) Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP2020136350A (en) Wiring board and manufacturing method thereof
WO2020189790A1 (en) Wiring board, and method for manufacturing wiring board
JP7015952B1 (en) Wiring board and manufacturing method of wiring board
JP6729840B1 (en) Wiring board and method for manufacturing wiring board