JP7383972B2 - Wiring board and wiring board manufacturing method - Google Patents

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本開示の実施形態は、配線基板に関する。また、本開示の実施形態は、配線基板の製造方法に関する。 Embodiments of the present disclosure relate to wiring boards. Further, embodiments of the present disclosure relate to a method for manufacturing a wiring board.

近年、伸縮性などの変形性を有する電子デバイスの研究がおこなわれている。例えば特許文献1は、基材と、基材に設けられた配線と、を備え、伸縮性を有する配線基板を開示している。特許文献1においては、予め伸長させた状態の基材に回路を設け、回路を形成した後に基材を弛緩させる、という製造方法を採用している。特許文献1は、基材の伸長状態及び弛緩状態のいずれにおいても基材上の薄膜トランジスタを良好に動作させることを意図している。 In recent years, research has been conducted on electronic devices that have deformability such as stretchability. For example, Patent Document 1 discloses a stretchable wiring board that includes a base material and wiring provided on the base material. Patent Document 1 employs a manufacturing method in which a circuit is provided on a base material that has been stretched in advance, and the base material is relaxed after the circuit is formed. Patent Document 1 is intended to allow a thin film transistor on a base material to operate well in both a stretched state and a relaxed state of the base material.

特開2007-281406号公報Japanese Patent Application Publication No. 2007-281406

既述のような従来の配線基板は、伸縮などの変形に対する耐性を有する部分だけでなく、変形に起因して破損し易い部分も含む。このため、予め伸長させた状態の基材に回路を設けると、配線基板に破損などの不具合が生じ易くなってしまう。 The conventional wiring board as described above includes not only a portion that is resistant to deformation such as expansion and contraction, but also a portion that is easily damaged due to deformation. For this reason, if a circuit is provided on a base material that has been stretched in advance, problems such as damage to the wiring board are likely to occur.

一方、配線基板の基材を被実装体、例えば、人体や物体等に実装する場合には、当該基材であるシリコーンゴムの全面に粘着剤の粘着層を設けて、当該粘着層を被実装体に貼り付ける。そして、当該粘着層を被実装体に長時間貼り付けると、配線基板が貼り付けられた貼付面において人体や物体等の被実装体に着けた時に硬く突っ張ると感じる場合があり、当該被実装体において着け心地が悪い場合があった。 On the other hand, when mounting the base material of a wiring board on a mounted object, such as a human body or an object, an adhesive layer of an adhesive is provided on the entire surface of the silicone rubber base material, and the adhesive layer is applied to the mounted object. Paste it on your body. If the adhesive layer is attached to an object to be mounted for a long time, the surface to which the wiring board is attached may feel hard and tense when attached to the object to be mounted, such as a human body or an object. In some cases, it was uncomfortable to wear.

本開示の実施形態は、このような課題を効果的に解決し得る配線基板及び配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 Embodiments of the present disclosure aim to provide a wiring board and a method for manufacturing a wiring board that can effectively solve such problems.

本開示の一実施形態は、伸縮性を有する配線基板であって、
第1面及びこの第1面の反対側に位置する第2面を含み、第1の弾性係数を有する基材と、
前記基材の前記第1面側、若しくは前記第2面側に位置する配線と、
前記基材の前記第2面側に位置するとともに、前記基材の前記第2面側に貼り付けられる貼付面及びこの貼付面の反対側に位置して前記配線基板が被実装体に実装されたときに前記被実装体に接する実装面を含み、通気性を有する実装用粘着層と、を備え、
前記実装用粘着層の弾性係数は、前記基材の前記第1の弾性係数よりも、小さい、配線基板。
One embodiment of the present disclosure is a wiring board having stretchability,
a base material including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and having a first elastic modulus;
Wiring located on the first surface side or the second surface side of the base material;
A bonding surface located on the second surface side of the base material and attached to the second surface side of the base material, and a bonding surface located on the opposite side of this bonding surface, the wiring board being mounted on the mounted object. a mounting adhesive layer that includes a mounting surface that comes into contact with the object to be mounted and has air permeability;
The wiring board, wherein the mounting adhesive layer has a smaller elastic modulus than the first elastic modulus of the base material.

本開示の一実施形態による配線基板は、
伸縮性を有する配線基板であって、
第1面及びこの第1面の反対側に位置する第2面を含み、第1の弾性係数を有する基材と、
前記基材の前記第1面側、若しくは前記第2面側に位置する配線と、
前記基材の前記第2面側に位置するとともに、前記基材の前記第2面側に貼り付けられる貼付面及びこの貼付面の反対側に位置して前記配線基板が被実装体に実装されたときに前記被実装体に接する実装面を含み、通気性を有する実装用粘着層と、
前記基材の前記第2面と前記実装用粘着層との間に位置し、前記基材に前記実装用粘着層を貼り付けるための接着剤を含む貼付用接着層と、を備え、
前記貼付用接着層の弾性係数は、前記基材の前記第1の弾性係数よりも、小さい、配線基板である。
A wiring board according to an embodiment of the present disclosure includes:
A wiring board having stretchability,
a base material including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and having a first elastic modulus;
Wiring located on the first surface side or the second surface side of the base material;
A bonding surface located on the second surface side of the base material and attached to the second surface side of the base material, and a bonding surface located on the opposite side of this bonding surface, the wiring board being mounted on the mounted object. an adhesive layer for mounting that includes a mounting surface that comes into contact with the object to be mounted and has air permeability;
a pasting adhesive layer located between the second surface of the base material and the mounting adhesive layer and containing an adhesive for pasting the mounting adhesive layer to the base material;
In the wiring board, the elastic modulus of the adhesive layer for sticking is smaller than the first elastic modulus of the base material.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記基材の前記第2面と前記実装用粘着層の前記貼付面との間に位置し、第1面及び前記第1面の反対側の第2面を有する追加層をさらに備え、
前記追加層の弾性係数は、前記基材の前記第1の弾性係数よりも、小さいようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
further comprising an additional layer located between the second surface of the base material and the attachment surface of the mounting adhesive layer, and having a first surface and a second surface opposite to the first surface,
The elastic modulus of the additional layer may be smaller than the first elastic modulus of the base material.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記実装用粘着層は、アクリル系接着剤、シリコーン系接着剤、ウレタン系接着剤、又はエポキシ系接着剤を含むようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
The mounting adhesive layer may contain an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, or an epoxy adhesive.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記実装用粘着層には、切れ込みが形成されているようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
A notch may be formed in the mounting adhesive layer.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記実装用粘着層は、前記基材よりも、硬度、又は、引張強度が小さいようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
The mounting adhesive layer may have lower hardness or tensile strength than the base material.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記貼付用接着層は、シリコーン系接着剤、変成シリコーン系接着剤、変成シリコーン接着剤とエポキシ接着剤とを混合した接着剤、ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、又は、エポキシ系接着剤のいずれかを含むようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
The adhesive layer for pasting may be a silicone adhesive, a modified silicone adhesive, a mixture of a modified silicone adhesive and an epoxy adhesive, a urethane adhesive, an acrylic adhesive, or an epoxy adhesive. It may also include either one.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記貼付用接着層には、切れ込みが形成されているようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
A notch may be formed in the adhesive layer for pasting.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記追加層は、エラストマーゴム、シリコーンゴム、ジェル、ゲル、又は、多孔質体を有する層であるようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
The additional layer may be a layer containing elastomer rubber, silicone rubber, gel, or a porous material.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記実装用粘着層は、不織布、ウレタン、又は、発泡体を用いた材料を含むようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
The mounting adhesive layer may include a material using nonwoven fabric, urethane, or foam.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記基材は、シリコーンゴムを含むようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
The base material may include silicone rubber.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記配線は、前記基材の前記第1面の面内方向に沿って並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有するようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
The wiring may have a bellows-shaped portion including a plurality of peaks and valleys arranged along an in-plane direction of the first surface of the base material.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記配線と前記基材との間に位置し、前記第1の弾性係数よりも大きい第3の弾性係数を有し、前記配線を支持する支持基板を更に備えるようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
The device may further include a support substrate located between the wiring and the base material, having a third elastic modulus larger than the first elastic modulus, and supporting the wiring.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記基材の内部、前記基材の前記第1面側、又は前記基材の前記第2面側に位置し、前記基材の前記第1面の法線方向に沿って見た場合に前記配線基板に搭載される電子部品に少なくとも部分的に重なり、前記第1の弾性係数よりも大きい第2の弾性係数を有する補強部材を更に備えるようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
located inside the base material, on the first surface side of the base material, or on the second surface side of the base material, and when viewed along the normal direction of the first surface of the base material. The electronic device may further include a reinforcing member that at least partially overlaps the electronic component mounted on the wiring board and has a second elastic modulus larger than the first elastic modulus.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記配線のうち前記第1面の法線方向に沿って見た場合に前記補強部材と重ならない部分は、前記基材の前記第1面の面内方向に沿って並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有するようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
A portion of the wiring that does not overlap with the reinforcing member when viewed along the normal direction of the first surface includes a plurality of peaks and valleys lined up in the in-plane direction of the first surface of the base material. It may have a bellows-shaped portion including a portion.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記配線の前記蛇腹形状部の振幅が1μm以上であるようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
The amplitude of the bellows-shaped portion of the wiring may be 1 μm or more.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記補強部材は、金属層を含むようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
The reinforcing member may include a metal layer.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記配線は、複数の導電性粒子を含むようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
The wiring may include a plurality of conductive particles.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記基材の前記第1面側に位置し、前記配線に電気的に接続される電極を有する電子部品を更に備えるようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
The electronic device may further include an electronic component located on the first surface side of the base material and having an electrode electrically connected to the wiring.

本開示の一実施形態による配線基板において、
前記基材の前記第1面の面内方向に沿う引張応力が前記基材に加えられていない第1状態における前記配線の抵抗値を第1抵抗値と称し、前記基材に引張応力を加えて前記基材を前記第1面の面内方向において前記第1状態に比べて30%伸長させた第2状態における前記配線の抵抗値を第2抵抗値と称する場合、前記第1抵抗値に対する、前記第1抵抗値と前記第2抵抗値の差の絶対値の比率が、20%以下であるようにしてもよい。
In a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
The resistance value of the wiring in a first state in which no tensile stress along the in-plane direction of the first surface of the base material is applied to the base material is referred to as a first resistance value, and the tensile stress is applied to the base material. When the resistance value of the wiring in a second state where the base material is elongated by 30% in the in-plane direction of the first surface compared to the first state is referred to as a second resistance value, , the ratio of the absolute value of the difference between the first resistance value and the second resistance value may be 20% or less.

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法は、
伸縮性を有する配線基板の製造方法であって、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、第1の弾性係数を有する基材に引張応力を加えて、前記基材を伸長させる第1工程と、
伸長した状態の前記基材の前記第1面側、若しくは前記第2面側に配線を設ける第2工程と、
前記基材から前記引張応力を取り除く第3工程と、
前記基材の前記第2面側に、前記基材の前記第2面側に貼り付けられる貼付面及びこの貼付面の反対側に位置して前記配線基板が被実装体に実装されたときに前記被実装体に接する実装面を含む実装用粘着層を、設ける第4工程と、を備え、
前記実装用粘着層の弾性係数は、前記基材の前記第1の弾性係数よりも、小さい、配線基板の製造方法である。
A method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure includes:
A method for manufacturing a stretchable wiring board, the method comprising:
A first step of elongating the base material by applying tensile stress to the base material, which includes a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and has a first elastic modulus;
a second step of providing wiring on the first surface side or the second surface side of the base material in an expanded state;
a third step of removing the tensile stress from the base material;
On the second surface side of the base material, an attachment surface that is attached to the second surface side of the base material, and an attachment surface located on the opposite side of this attachment surface when the wiring board is mounted on a mounted object. a fourth step of providing a mounting adhesive layer including a mounting surface in contact with the mounted object;
In the method for manufacturing a wiring board, the elastic modulus of the mounting adhesive layer is smaller than the first elastic modulus of the base material.

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法において、
前記第4工程において、前記基材の前記第2面と前記実装用粘着層との間に位置し且つ接着剤を含む貼付用接着層を設けて、前記基材に前記貼付用接着層を介して前記実装用粘着層を貼り付ける貼付工程を備え、
前記貼付用接着層の弾性係数は、前記基材の前記第1の弾性係数よりも、小さくなるようにしてもよい。
In a method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
In the fourth step, a pasting adhesive layer containing an adhesive is provided between the second surface of the base material and the mounting adhesive layer, and the pasting adhesive layer is attached to the base material through the pasting adhesive layer. a pasting step of pasting the mounting adhesive layer,
The elastic modulus of the adhesive layer for sticking may be smaller than the first elastic modulus of the base material.

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法において、
前記基材の前記第2面と前記実装用粘着層の前記貼付面との間に位置し、第1面及び前記第1面の反対側の第2面を有する追加層を形成する追加層形成工程をさらに備え、
前記追加層の弾性係数は、前記基材の前記第1の弾性係数よりも、小さくなるようにしてもよい。
In a method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
forming an additional layer located between the second surface of the base material and the attachment surface of the mounting adhesive layer and having a first surface and a second surface opposite to the first surface; With further processes,
The elastic modulus of the additional layer may be smaller than the first elastic modulus of the base material.

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法において、
前記配線は、前記基材の前記第1面の面内方向に沿って並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有するようにしてもよい。
In a method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure,
The wiring may have a bellows-shaped portion including a plurality of peaks and valleys arranged along an in-plane direction of the first surface of the base material.

本開示の実施形態によれば、被実装体に対する着け心地を向上させつつ、基材の伸縮に起因して当該配線基板に不具合が生じることを抑制することができる。 According to the embodiments of the present disclosure, it is possible to improve the comfort of wearing the mounting target and to suppress the occurrence of defects in the wiring board due to expansion and contraction of the base material.

一実施の形態に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a wiring board according to an embodiment. 一実施の形態に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a wiring board according to an embodiment. 一実施の形態に係る配線基板を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a wiring board according to an embodiment. 図2Bの配線基板を線B-Bに沿って切断した場合を示す断面図である。2B is a cross-sectional view showing a case where the wiring board of FIG. 2B is cut along line BB. FIG. 一変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a modified example. 図2Aに示す配線基板の配線及びその周辺の構成要素の一例を拡大して示す断面図である。2A is an enlarged cross-sectional view showing an example of wiring and peripheral components of the wiring board shown in FIG. 2A. FIG. 図2Aに示す配線基板の配線及びその周辺の構成要素のその他の例を拡大して示す断面図である。2A is an enlarged cross-sectional view showing another example of the wiring of the wiring board shown in FIG. 2A and components around it. FIG. 図2Aに示す配線基板の配線及びその周辺の構成要素のその他の例を拡大して示す断面図である。2A is an enlarged cross-sectional view showing another example of the wiring of the wiring board shown in FIG. 2A and components around it. FIG. 図2Aに示す配線基板の配線及びその周辺の構成要素のその他の例を拡大して示す断面図である。2A is an enlarged cross-sectional view showing another example of the wiring of the wiring board shown in FIG. 2A and components around it. FIG. 配線基板の製造方法を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining a method for manufacturing a wiring board. 配線基板の製造方法を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining a method for manufacturing a wiring board. 一変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a modified example. 一変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a modified example. 一変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a modified example. 第1の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a first modification. 図12に示す配線基板の配線及びその周辺の構成要素の一例を拡大して示す断面図である。FIG. 13 is an enlarged cross-sectional view showing an example of wiring and peripheral components of the wiring board shown in FIG. 12; 配線基板の製造方法を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining a method for manufacturing a wiring board. 配線基板の製造方法を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining a method for manufacturing a wiring board. 第2の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a second modification. 図15に示す配線基板の配線及びその周辺の構成要素の一例を拡大して示す断面図である。FIG. 16 is an enlarged cross-sectional view showing an example of wiring and peripheral components of the wiring board shown in FIG. 15; 図15に示す配線基板の製造方法を説明するための図である。16 is a diagram for explaining a method of manufacturing the wiring board shown in FIG. 15. FIG. 第3の変形例に係る配線基板のその他の例を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing another example of the wiring board according to the third modification. 第3の変形例に係る配線基板のその他の例を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing another example of the wiring board according to the third modification. 第4の変形例に係る電子部品を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing an electronic component according to a fourth modification. 第4の変形例に係る電子部品の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the electronic component based on the 4th modification. 第4の変形例に係る電子部品の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the electronic component based on the 4th modification. 第5の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a fifth modification.

以下、本開示の実施形態に係る配線基板の構成及びその製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態に限定して解釈されるものではない。また、本明細書において、「基板」、「基材」、「シート」や「フィルム」など用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「基材」は、基板、シートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。更に、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。また、本実施形態で参照する図面において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。 Hereinafter, a configuration of a wiring board and a method for manufacturing the same according to an embodiment of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. Note that the embodiments shown below are examples of the embodiments of the present disclosure, and the present disclosure is not to be interpreted as being limited to these embodiments. Further, in this specification, terms such as "substrate," "base material," "sheet," and "film" are not distinguished from each other based only on the difference in name. For example, the term "base material" is a concept that also includes members that can be called substrates, sheets, and films. Furthermore, terms such as "parallel" and "orthogonal" and values of length and angle used in this specification that specify shapes, geometric conditions, and their degrees are bound by strict meanings. The definition shall be interpreted to include the extent to which similar functions can be expected. In addition, in the drawings referred to in this embodiment, the same parts or parts having similar functions are denoted by the same or similar symbols, and repeated description thereof may be omitted. In addition, the dimensional ratios in the drawings may differ from the actual ratios for convenience of explanation, or a part of the structure may be omitted from the drawings.

以下、図1乃至図11を参照して、本開示の一実施の形態について説明する。 An embodiment of the present disclosure will be described below with reference to FIGS. 1 to 11.

(配線基板)
まず、本実施の形態に係る配線基板10について説明する。図1、図2A及び図2Bはそれぞれ、配線基板10を示す断面図及び平面図である。図2Aに示す断面図は、図2Bの配線基板10を線A-Aに沿って切断した場合の図である。
(wiring board)
First, the wiring board 10 according to the present embodiment will be explained. 1, FIG. 2A, and FIG. 2B are a cross-sectional view and a plan view showing the wiring board 10, respectively. The cross-sectional view shown in FIG. 2A is a diagram when the wiring board 10 of FIG. 2B is cut along line AA.

図2Aに示す配線基板10は、基材20、補強部材31、支持基板40、電子部品51、配線52、実装用粘着層X、及び、貼付用接着層Yを備える。以下、配線基板10の各構成要素について説明する。なお、図1に示すように、配線基板10において、補強部材31及び電子部品51は、含まれていなくてもよい。 The wiring board 10 shown in FIG. 2A includes a base material 20, a reinforcing member 31, a support substrate 40, an electronic component 51, wiring 52, an adhesive layer X for mounting, and an adhesive layer Y for pasting. Each component of the wiring board 10 will be explained below. Note that, as shown in FIG. 1, the reinforcing member 31 and the electronic component 51 may not be included in the wiring board 10.

〔基材〕
基材20は、伸縮性を有するよう構成された部材である。基材20は、電子部品51及び配線52側に位置する第1面21と、第1面21の反対側に位置する第2面22と、を含む。基材20の厚みは、例えば10mm以下であり、より好ましくは1mm以下である。基材20の厚みを小さくすることにより、基材20の伸縮に要する力を低減することができる。また、基材20の厚みを小さくすることにより、配線基板10を用いた製品全体の厚みを小さくすることができる。これにより、例えば、配線基板10を用いた製品が、人の腕などの身体の一部に取り付けるセンサである場合に、装着感を低減することができる。基材20の厚みは、10μm以上であってもよい。
〔Base material〕
The base material 20 is a member configured to have elasticity. The base material 20 includes a first surface 21 located on the electronic component 51 and wiring 52 side, and a second surface 22 located on the opposite side of the first surface 21. The thickness of the base material 20 is, for example, 10 mm or less, and more preferably 1 mm or less. By reducing the thickness of the base material 20, the force required for expansion and contraction of the base material 20 can be reduced. Furthermore, by reducing the thickness of the base material 20, the overall thickness of the product using the wiring board 10 can be reduced. Thereby, for example, when a product using the wiring board 10 is a sensor attached to a part of the body such as a person's arm, the feeling of wearing the product can be reduced. The thickness of the base material 20 may be 10 μm or more.

基材20の伸縮性を表すパラメータの例として、基材20の弾性係数を挙げることができる。基材20の弾性係数は、例えば10MPa以下であり、より好ましくは1MPa以下である。このような弾性係数を有する基材20を用いることにより、配線基板10全体に伸縮性を持たせることができる。以下の説明において、基材20の弾性係数のことを、第1の弾性係数とも称する。基材20の第1の弾性係数は、1kPa以上であってもよい。 An example of a parameter representing the elasticity of the base material 20 is the elastic modulus of the base material 20. The elastic modulus of the base material 20 is, for example, 10 MPa or less, more preferably 1 MPa or less. By using the base material 20 having such an elastic modulus, the entire wiring board 10 can be made elastic. In the following description, the elastic modulus of the base material 20 is also referred to as a first elastic modulus. The first elastic modulus of the base material 20 may be 1 kPa or more.

基材20の第1の弾性係数を算出する方法としては、基材20のサンプルを用いて、JIS K6251に準拠して引張試験を実施するという方法を採用することができる。また、基材20のサンプルの弾性係数を、ISO14577に準拠してナノインデンテーション法によって測定するという方法を採用することもできる。ナノインデンテーション法において用いる測定器としては、ナノインデンターを用いることができる。基材20のサンプルを準備する方法としては、配線基板10から基材20の一部をサンプルとして取り出す方法や、配線基板10を構成する前の基材20の一部をサンプルとして取り出す方法が考えられる。その他にも、基材20の第1の弾性係数を算出する方法として、基材20を構成する材料を分析し、材料の既存のデータベースに基づいて基材20の第1の弾性係数を算出するという方法を採用することもできる。なお、本願における弾性係数は、25℃の環境下における弾性係数である。 As a method for calculating the first elastic modulus of the base material 20, a method can be adopted in which a sample of the base material 20 is used and a tensile test is performed in accordance with JIS K6251. Alternatively, a method may be adopted in which the elastic modulus of the sample of the base material 20 is measured by a nanoindentation method in accordance with ISO14577. As a measuring device used in the nanoindentation method, a nanoindenter can be used. Possible methods for preparing a sample of the base material 20 include a method of taking out a part of the base material 20 as a sample from the wiring board 10, and a method of taking out a part of the base material 20 as a sample before forming the wiring board 10. It will be done. In addition, as a method of calculating the first elastic modulus of the base material 20, the material constituting the base material 20 is analyzed, and the first elastic modulus of the base material 20 is calculated based on an existing database of materials. It is also possible to adopt this method. Note that the elastic modulus in this application is an elastic modulus in an environment of 25°C.

基材20の伸縮性を表すパラメータのその他の例として、基材20の曲げ剛性を挙げることができる。曲げ剛性は、対象となる部材の断面二次モーメントと、対象となる部材を構成する材料の弾性係数との積であり、単位はN・m又はPa・mである。基材20の断面二次モーメントは、配線基板10の伸縮方向に直交する平面によって、基材20のうち配線52と重なっている部分を切断した場合の断面に基づいて算出される。以下の説明において、基材20の曲げ剛性のことを、第1の曲げ剛性とも称する。 Another example of the parameter representing the elasticity of the base material 20 is the bending rigidity of the base material 20. Bending rigidity is the product of the moment of inertia of the target member and the elastic modulus of the material constituting the target member, and the unit is N·m 2 or Pa·m 4 . The moment of inertia of the base material 20 is calculated based on a cross section obtained by cutting a portion of the base material 20 that overlaps with the wiring 52 by a plane perpendicular to the direction of expansion and contraction of the wiring board 10. In the following description, the bending rigidity of the base material 20 is also referred to as first bending rigidity.

基材20を構成する材料の例としては、熱可塑性エラストマー、熱硬化性エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゲル、シリコンゲル等を挙げることができる。また、基材20の材料として、例えば、織物、編物、不織布などの布を用いることもできる。熱可塑性エラストマーとしては、ポリウレタン系エラストマー、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー、塩ビ系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー、1,2-BR系熱可塑性エラストマー、フッ素系熱可塑性エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ポリブタジエン、ポリイソブチレン、ポリスチレンブタジエン、ポリクロロプレン等を用いることができる。機械的強度や耐磨耗性を考慮すると、ウレタンを用いた材料であるウレタン系エラストマーを用いることが好ましい。さらに、シリコーンゴムは、耐熱性・耐薬品性・難燃性に優れており、基材20の材料として好ましい。 Examples of materials constituting the base material 20 include thermoplastic elastomer, thermosetting elastomer, silicone rubber, urethane gel, silicone gel, and the like. Further, as the material of the base material 20, for example, cloth such as woven fabric, knitted fabric, or nonwoven fabric can also be used. Examples of thermoplastic elastomers include polyurethane elastomers, styrene thermoplastic elastomers, olefin thermoplastic elastomers, PVC thermoplastic elastomers, ester thermoplastic elastomers, amide thermoplastic elastomers, 1,2-BR thermoplastic elastomers, Fluorine-based thermoplastic elastomer, silicone rubber, urethane rubber, fluororubber, polybutadiene, polyisobutylene, polystyrene-butadiene, polychloroprene, etc. can be used. Considering mechanical strength and abrasion resistance, it is preferable to use a urethane-based elastomer, which is a material using urethane. Furthermore, silicone rubber has excellent heat resistance, chemical resistance, and flame retardancy, and is therefore preferable as a material for the base material 20.

〔補強部材〕
本実施の形態では、一例として、基材20の伸縮を制御するために補強部材31を配線基板10に設けた例について説明する。しかしながら、配線基板10には、本実施の形態で適用されている補強部材31に代えて、基材20の伸縮を制御するための他の部材や構成が適用されるようにしてもよく、補強部材が省略されていてもよい。
この補強部材31は、上述のように、補強部材31は、基材20を補強することで、基材20の変形を制御、緩和するために配線基板10に設けられた機構である。例えば、配線52における電子部品51の周囲に位置する部分は、伸縮時に大きい応力が生じ易く、また、電子部品51の下方に巻き込まれ易くなり、破損のリスクが高くなり得る。ここで本実施形態によれば、基材20に補強部材30を設けることにより、基材20における電子部品51の周囲の部分の変形を制御、特に緩和することが可能となる。これにより、配線52に局所的に大きい応力が生じることや、配線52が電子部品51の下方に巻き込まれることを抑制することができ、配線52と電子部品51との断線を抑制することができる。図2Aに示す例において、補強部材31は、基材20の内部に設けられている。なお、補強部材31は、基材20第2面22側に位置してもよく、基材20の第1面21側に位置していてもよい。
[Reinforcement member]
In this embodiment, an example will be described in which a reinforcing member 31 is provided on the wiring board 10 in order to control the expansion and contraction of the base material 20. However, instead of the reinforcing member 31 applied in this embodiment, other members or structures for controlling the expansion and contraction of the base material 20 may be applied to the wiring board 10. Some members may be omitted.
As described above, the reinforcing member 31 is a mechanism provided on the wiring board 10 in order to control and alleviate the deformation of the base material 20 by reinforcing the base material 20. For example, a portion of the wiring 52 located around the electronic component 51 is likely to be subjected to large stress during expansion and contraction, and is also likely to be caught under the electronic component 51, increasing the risk of damage. Here, according to the present embodiment, by providing the reinforcing member 30 on the base material 20, it becomes possible to control, particularly alleviate, the deformation of the portion of the base material 20 around the electronic component 51. As a result, it is possible to suppress the occurrence of large stress locally in the wiring 52 and the wiring 52 from being caught under the electronic component 51, and it is possible to suppress disconnection between the wiring 52 and the electronic component 51. . In the example shown in FIG. 2A, the reinforcing member 31 is provided inside the base material 20. Note that the reinforcing member 31 may be located on the second surface 22 side of the base material 20 or may be located on the first surface 21 side of the base material 20.

補強部材31は、基材20の第1の弾性係数よりも大きい弾性係数を有する。補強部材31の弾性係数は、例えば0.1GPa以上で、好ましくは10GPa以上である。補強部材31の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数の100倍以上であってもよく、1000倍以上であってもよい。このような補強部材31を基材20に設けることにより、基材20のうち補強部材31と重なる部分が伸縮することを抑制することができる。これにより、基材20を、伸縮が生じやすい部分と、伸縮が生じにくい部分とに区画することができる。補強部材30の弾性係数が低すぎると、伸縮の制御がしにくい場合がある。また、補強部材30の弾性係数が高すぎると、基材20が伸縮した際に、割れやひびなど構造の破壊が補強部材30に起こる場合がある。以下の説明において、補強部材31の弾性係数のことを、第2の弾性係数とも称する。補強部材31の第2の弾性係数は、500GPa以下であってもよい。また、補強部材31の第2の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数の1.1倍以上1000000倍以下であってもよく、より好ましくは100000倍以下であってもよい。なお、「重なる」とは、基材20の第1面21の法線方向に沿って見た場合に2つの構成要素が重なることを意味している。 The reinforcing member 31 has a larger elastic modulus than the first elastic modulus of the base material 20. The elastic modulus of the reinforcing member 31 is, for example, 0.1 GPa or more, preferably 10 GPa or more. The elastic modulus of the reinforcing member 31 may be 100 times or more, or 1000 times or more, the first elastic modulus of the base material 20. By providing such a reinforcing member 31 on the base material 20, it is possible to suppress expansion and contraction of the portion of the base material 20 that overlaps with the reinforcing member 31. Thereby, the base material 20 can be divided into a portion where expansion and contraction is likely to occur and a portion where expansion and contraction is less likely to occur. If the elastic modulus of the reinforcing member 30 is too low, it may be difficult to control expansion and contraction. Furthermore, if the elastic modulus of the reinforcing member 30 is too high, structural damage such as cracks or cracks may occur in the reinforcing member 30 when the base material 20 expands and contracts. In the following description, the elastic modulus of the reinforcing member 31 is also referred to as a second elastic modulus. The second elastic modulus of the reinforcing member 31 may be 500 GPa or less. Further, the second elastic modulus of the reinforcing member 31 may be 1.1 times or more and 1,000,000 times or less, more preferably 100,000 times or less, than the first elastic modulus of the base material 20. Note that "overlapping" means that two components overlap when viewed along the normal direction of the first surface 21 of the base material 20.

補強部材31の第2の弾性係数を算出する方法は、補強部材31の形態に応じて適宜定められる。例えば、補強部材31の第2の弾性係数を算出する方法は、上述の基材20の弾性係数を算出する方法と同様であってもよく、異なっていてもよい。後述する支持基板40の弾性係数も同様である。例えば、補強部材31又は支持基板40の弾性係数を算出する方法として、補強部材31又は支持基板40のサンプルを用いて、ASTM D882に準拠して引張試験を実施するという方法を採用することができる。 A method for calculating the second elastic modulus of the reinforcing member 31 is determined as appropriate depending on the form of the reinforcing member 31. For example, the method for calculating the second elastic modulus of the reinforcing member 31 may be the same as or different from the method for calculating the elastic modulus of the base material 20 described above. The same applies to the elastic modulus of the support substrate 40, which will be described later. For example, as a method for calculating the elastic modulus of the reinforcing member 31 or the supporting substrate 40, a method can be adopted in which a sample of the reinforcing member 31 or the supporting substrate 40 is used and a tensile test is performed in accordance with ASTM D882. .

また、補強部材31は、基材20の第1の曲げ剛性よりも大きい曲げ剛性を有する。補強部材31の曲げ剛性は、基材20の第1の曲げ剛性の1.1倍以上であってもよく、2倍以上、より好ましくは10倍以上である。以下の説明において、補強部材31の曲げ剛性のことを、第2の曲げ剛性とも称する。 Further, the reinforcing member 31 has a bending rigidity greater than the first bending rigidity of the base material 20. The bending rigidity of the reinforcing member 31 may be 1.1 times or more, more preferably 2 times or more, and more preferably 10 times or more the first bending rigidity of the base material 20. In the following description, the bending rigidity of the reinforcing member 31 is also referred to as second bending rigidity.

補強部材31を構成する材料の例としては、金属材料を含む金属層や、一般的な熱可塑性エラストマー、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系、ポリエステル系、エポキシ系、ビニルエーテル系、ポリエン・チオール系、シリコーン系等のオリゴマー、ポリマー等を挙げることができる。金属材料の例としては、銅、アルミニウム、ステンレス鋼、半田材料等を挙げることができる。補強部材31の厚みは、例えば10μm以上であるが、特に限定されるものではない。上述の材料のうち、金属層は、弾性率が大きくエッチング加工などにより微細加工可能であり、より好ましい。
また、補強部材31の材料例として、PETフィルム、PENフィルム等も適用可能であり、例えば、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタラート等を用いることができる。
Examples of the material constituting the reinforcing member 31 include a metal layer containing a metal material, a general thermoplastic elastomer, an acrylic type, a urethane type, an epoxy type, a polyester type, an epoxy type, a vinyl ether type, a polyene/thiol type, Examples include silicone-based oligomers and polymers. Examples of metal materials include copper, aluminum, stainless steel, solder materials, and the like. The thickness of the reinforcing member 31 is, for example, 10 μm or more, but is not particularly limited. Among the above-mentioned materials, the metal layer is more preferable because it has a high elastic modulus and can be microfabricated by etching or the like.
Further, as examples of materials for the reinforcing member 31, PET film, PEN film, etc. can be used, and for example, polyethylene naphthalate, polyimide, polycarbonate, acrylic resin, polyethylene terephthalate, etc. can be used.

補強部材31を構成する材料として、オリゴマー又はポリマーを用いる場合、補強部材31は、透明性を有していてもよい。また、補強部材31は、遮光性、例えば紫外線を遮蔽する特性を有していてもよい。例えば、補強部材31は黒色であってもよい。また、補強部材31の色と基材20の色とが同一であってもよい。 When using an oligomer or a polymer as the material constituting the reinforcing member 31, the reinforcing member 31 may have transparency. Further, the reinforcing member 31 may have a light blocking property, for example, a property of blocking ultraviolet rays. For example, the reinforcing member 31 may be black. Further, the color of the reinforcing member 31 and the color of the base material 20 may be the same.

図3は、図2Bの配線基板10を線B-Bに沿って切断した場合を示す断面図である。なお、図2Bは、配線基板10を基材20の第1面21側から見た場合を示す平面図であるので、第2面22側に位置する補強部材31は点線で表されている。 FIG. 3 is a cross-sectional view showing the wiring board 10 of FIG. 2B taken along line BB. Note that since FIG. 2B is a plan view showing the wiring board 10 viewed from the first surface 21 side of the base material 20, the reinforcing member 31 located on the second surface 22 side is represented by a dotted line.

〔支持基板〕
支持基板40は、基材20よりも低い伸縮性を有するよう構成された板状の部材である。支持基板40は、基材20側に位置する第2面42と、第2面42の反対側に位置する第1面41と、を含む。図1、図2Aに示す例において、支持基板40は、その第1面41側において電子部品51及び配線52を支持している。また、支持基板40は、その第2面42側において基材20の第1面に接合されている。例えば、基材20と支持基板40との間に、接着剤を含む接着層60が設けられていてもよい。接着層60を構成する材料としては、例えばアクリル系接着剤、シリコーン系接着剤等を用いることができる。接着層60の厚みは、例えば5μm以上且つ200μm以下である。また、図9に示すように、常温接合又は分子接着によって支持基板40の第2面42が基材20の第1面21に接合されていてもよい。この場合、基材20と支持基板40との間に接着層が設けられていなくてもよい。また、基材20の第1面21又は支持基板40の第2面42の一方又は両方に、常温接合、分子接着の接着性を向上させるプライマー層を設けてもよい。常温接合又は分子接着によって支持基板40の第2面42が基材20の第1面21に接合される場合、図10に示すように、補強部材31は、基材20の第1面21又は第2面22に露出しないよう基材20に埋め込まれていることが好ましい。
[Support board]
The support substrate 40 is a plate-shaped member configured to have lower elasticity than the base material 20. The support substrate 40 includes a second surface 42 located on the base material 20 side and a first surface 41 located on the opposite side of the second surface 42. In the example shown in FIGS. 1 and 2A, the support substrate 40 supports an electronic component 51 and wiring 52 on its first surface 41 side. Further, the support substrate 40 is bonded to the first surface of the base material 20 on the second surface 42 side thereof. For example, an adhesive layer 60 containing an adhesive may be provided between the base material 20 and the support substrate 40. As the material constituting the adhesive layer 60, for example, acrylic adhesive, silicone adhesive, etc. can be used. The thickness of the adhesive layer 60 is, for example, 5 μm or more and 200 μm or less. Further, as shown in FIG. 9, the second surface 42 of the support substrate 40 may be bonded to the first surface 21 of the base material 20 by room temperature bonding or molecular bonding. In this case, an adhesive layer may not be provided between the base material 20 and the support substrate 40. Further, a primer layer may be provided on one or both of the first surface 21 of the base material 20 and the second surface 42 of the support substrate 40 to improve adhesiveness of room-temperature bonding and molecular adhesion. When the second surface 42 of the support substrate 40 is bonded to the first surface 21 of the base material 20 by room-temperature bonding or molecular bonding, the reinforcing member 31 is bonded to the first surface 21 of the base material 20 or It is preferable that it is embedded in the base material 20 so as not to be exposed to the second surface 22.

後述するように、支持基板40に接合された基材20から引張応力が取り除かれて基材20が収縮するとき、支持基板40には蛇腹形状部が形成される。支持基板40の特性や寸法は、このような蛇腹形状部が形成され易くなるよう設定されている。例えば、支持基板40は、基材20の第1の弾性係数よりも大きい弾性係数を有する。以下の説明において、支持基板40の弾性係数のことを、第3の弾性係数とも称する。 As will be described later, when the tensile stress is removed from the base material 20 bonded to the support substrate 40 and the base material 20 contracts, a bellows-shaped portion is formed on the support substrate 40. The characteristics and dimensions of the support substrate 40 are set so that such a bellows-shaped portion can be easily formed. For example, the support substrate 40 has a larger elastic modulus than the first elastic modulus of the base material 20. In the following description, the elastic modulus of the support substrate 40 is also referred to as a third elastic modulus.

支持基板40の第3の弾性係数は、例えば100MPa以上であり、より好ましくは1GPa以上である。支持基板40の第3の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数の100倍以上であってもよく、1000倍以上、100000倍以下であってもよく、1000倍以上50000倍以下であってもよい。なお、支持基板40の弾性係数が低すぎると、補強部材30の形成工程中に支持基板40が変形し易く、この結果、電子部品51及び配線52に対する補強部材30の位置合わせが難しくなる。また、支持基板40の弾性係数が高すぎると、弛緩時の基材20の復元が難しくなり、また基材20の割れや折れが発生し易くなる。また、支持基板40の厚みは、例えば10μm以下であり、より好ましくは5μm以下である。支持基板40の弾性係数を高くしたり、支持基板40の厚みを小さくしたりすることにより、基材20の収縮に伴って支持基板40に蛇腹形状部が形成され易くなる。支持基板40を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタラート等を用いることができるが、その中でも、耐久性や耐熱性がよいポリエチレンナフタレートかポリイミドが好ましく用いられ得る。 The third elastic modulus of the support substrate 40 is, for example, 100 MPa or more, and more preferably 1 GPa or more. The third elastic modulus of the support substrate 40 may be 100 times or more, 1000 times or more and 100,000 times or less, 1000 times or more and 50,000 times or less than the first elastic modulus of the base material 20. There may be. Note that if the elastic modulus of the support substrate 40 is too low, the support substrate 40 is likely to deform during the process of forming the reinforcing member 30, and as a result, alignment of the reinforcing member 30 with respect to the electronic component 51 and the wiring 52 becomes difficult. Furthermore, if the elastic modulus of the support substrate 40 is too high, it will be difficult to restore the base material 20 when relaxed, and the base material 20 will be more likely to crack or bend. Further, the thickness of the support substrate 40 is, for example, 10 μm or less, more preferably 5 μm or less. By increasing the elastic modulus of the support substrate 40 or reducing the thickness of the support substrate 40, a bellows-shaped portion is more likely to be formed on the support substrate 40 as the base material 20 contracts. As the material constituting the support substrate 40, for example, polyethylene naphthalate, polyimide, polycarbonate, acrylic resin, polyethylene terephthalate, etc. can be used. Among them, polyethylene naphthalate or polyimide, which has good durability and heat resistance, are preferred. It can be preferably used.

支持基板40の第3の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数の100倍以下であってもよい。支持基板40の第3の弾性係数を算出する方法は、基材20の場合と同様である。また、支持基板40の厚みは、500nm以上であってもよい。
〔実装用粘着層〕
実装用粘着層Xは、例えば、図1、図2Aに示すように、基材20の第2面22側に位置する。なお、実装用粘着層Xは、例えば、図11に示すように、基材20の第1面21側に位置するようにしてもよい。
この実装用粘着層Xは、基材20の第2面22側に貼り付けられる貼付面X1、及び、この貼付面X1の反対側に位置して配線基板10が図示しない被実装体に実装されたときに当該被実装体に接する実装面X2を含む。そして、この実装用粘着層Xは、通気性を有する。なお、この実装用粘着層Xは、例えば、アクリル系接着剤、又はシリコーン系接着剤、ウレタン系接着剤、又はエポキシ系接着剤を含むようにしてもよい。特に、人体など生体への実装時には、人体や生体への安全性を考慮したものが望ましく、JIS T 0993-1 あるいは ISO10993「医療機器の生物学的評価」に準拠して行われた試験をクリアしていることがより好ましい。
また、この実装用粘着層Xは追加の基材を含んでもよい。この場合、追加の基材に用いられる材料としてはウレタン、不織布、ポリエステル、ポリエチレン、透湿性フィルム、ポリウレタン、レーヨン不織布、ポリエステル不織布、ポリウレタン不織布、レーヨン織布、アセテート織布、セルロース系不織布、綿布、ポリエステル編物などが挙げられる。中でも、被実装体が人体の場合、実装時の快適性の観点から基材には伸縮性の高いものが好ましく、ウレタン、不織布が好ましい。この場合、貼付面X1側に追加の基材が位置し、実装面X2側に接着剤が位置する。
なお、既述の被実装体は、例えば、人体や動物などの生体であるが、人体等の生体以外の物体であってもよい。
The third elastic modulus of the support substrate 40 may be 100 times or less than the first elastic modulus of the base material 20. The method for calculating the third elastic modulus of the support substrate 40 is the same as that for the base material 20. Further, the thickness of the support substrate 40 may be 500 nm or more.
[Adhesive layer for mounting]
The mounting adhesive layer X is located on the second surface 22 side of the base material 20, for example, as shown in FIGS. 1 and 2A. Note that the mounting adhesive layer X may be located on the first surface 21 side of the base material 20, for example, as shown in FIG.
This mounting adhesive layer It includes a mounting surface X2 that comes into contact with the object to be mounted when the mounting surface is mounted. This mounting adhesive layer X has air permeability. Note that the mounting adhesive layer X may include, for example, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, or an epoxy adhesive. In particular, when implementing it on a living body such as the human body, it is desirable to consider safety to the human body and living organisms, and it is desirable to pass tests conducted in accordance with JIS T 0993-1 or ISO 10993 "Biological evaluation of medical devices". It is more preferable that you do so.
Further, this mounting adhesive layer X may include an additional base material. In this case, the materials used for the additional base material include urethane, nonwoven fabric, polyester, polyethylene, moisture permeable film, polyurethane, rayon nonwoven fabric, polyester nonwoven fabric, polyurethane nonwoven fabric, rayon woven fabric, acetate woven fabric, cellulose nonwoven fabric, cotton fabric, Examples include polyester knitted fabrics. Among these, when the object to be mounted is a human body, from the viewpoint of comfort during mounting, it is preferable that the base material has high elasticity, and urethane and nonwoven fabric are preferable. In this case, the additional base material is located on the attachment surface X1 side, and the adhesive is located on the mounting surface X2 side.
Note that the above-mentioned mounted object is, for example, a living body such as a human body or an animal, but may be an object other than a living body such as a human body.

この実装用粘着層Xの弾性係数は、例えば、既述の基材20の第1の弾性係数よりも、小さくなるように設定される。特に、実装用粘着層は、基材20よりも、硬度、又は、引張強度が小さくなるように設定されている。
この場合、例えば、実装用粘着層Xには、切れ込みが形成されているようにしてもよい。実装用粘着層Xは、基材20よりも引張強度が小さくなるものであれば、当該切れ込みの大きさや形状はどのようなものでもよい。実装用粘着層Xは深さ方向に貫通する貫通孔が形成されているものでもよく、貫通せず深さ方向の部分的に切り込みが入っていてもよい。また、実装用粘着層Xは、水平方向の対角あるいは隣り合う面に貫通しているものでもよく、貫通せず部分的に切り込みが入っていてもよい。また、内部に空洞を設けた形状でもよい。貫通している場合は被実装体に実装した場合の通気性が向上する。部分的な切り込みや内部に空洞を設けた場合、被実装体との接触面積が大きいため密着性が高い。
The elastic modulus of this mounting adhesive layer X is set to be smaller than, for example, the first elastic modulus of the base material 20 described above. In particular, the mounting adhesive layer is set to have lower hardness or tensile strength than the base material 20.
In this case, for example, the mounting adhesive layer X may have a notch formed therein. The mounting adhesive layer X may have any size or shape of the cut as long as it has a lower tensile strength than the base material 20. The mounting adhesive layer X may be formed with a through hole that penetrates in the depth direction, or may not be penetrated but partially cut in the depth direction. Further, the mounting adhesive layer X may penetrate diagonally or adjacently in the horizontal direction, or may not penetrate but may have a partial cut. Alternatively, it may have a shape with a cavity provided inside. When it is penetrated, air permeability is improved when it is mounted on an object to be mounted. When a partial cut or a cavity is provided inside, the contact area with the mounted object is large, resulting in high adhesion.

このように、被実装体(肌)に貼る側の実装用粘着層Xとして基材20よりも柔らかい層を設けることにより、着け心地を向上させ、配線基板10を貼った時の不快感を解消できる。
なお、上記「着け心地」とは、被実装体に配線基板10を実装した状態において、例えば、被実装体が動いたときの突っ張り感がないこと、すなわち柔らかいことであり、また、引張強度が小さいこと、また上から押されたとき痛くないこと、すなわち、凹凸が少ない、凹凸があっても柔らかく吸収すること、蒸れない、すなわち通気性がある、透湿性がある、速乾性があることなどである
In this way, by providing a layer that is softer than the base material 20 as the mounting adhesive layer X on the side to be applied to the mounted object (skin), the wearing comfort is improved and discomfort when the wiring board 10 is applied is eliminated. can.
The above-mentioned "comfort to wear" means that when the wiring board 10 is mounted on the mounted object, there is no feeling of tension when the mounted object moves, that is, it is soft, and the tensile strength is It should be small, and it should not hurt when pressed from above, that is, it should have few irregularities, be soft and absorbent even when there are irregularities, and not get stuffy, that is, be breathable, moisture permeable, and dry quickly. is

〔貼付用接着層〕
貼付用接着層Yは、例えば、図1、図2Aに示すように、基材20の第2面22と実装用粘着層Xの貼付面X1との間に位置している。なお、実装用粘着層Xが、例えば、図11に示すように、基材20の第1面21側に位置する場合には、貼付用接着層Yは、基材20の第1面21と実装用粘着層Xの貼付面X1との間に位置するようにしてもよい。
[Adhesive layer for pasting]
The adhesive layer Y for attachment is located between the second surface 22 of the base material 20 and the attachment surface X1 of the adhesive layer X for mounting, for example, as shown in FIGS. 1 and 2A. Note that when the mounting adhesive layer X is located on the first surface 21 side of the base material 20, for example, as shown in FIG. It may be positioned between the adhesive layer X for mounting and the attachment surface X1.

そして、この貼付用接着層Yは、例えば、図1、図2Aに示すように、基材20の第2面22に接する第1接着面Y1、及び、この第1接着面Y1の反対側に位置し且つ実装用粘着層Xの貼付面X1に接する第2接着面Y2を含む。 Then, as shown in FIGS. 1 and 2A, for example, this adhesive layer Y for pasting is attached to a first adhesive surface Y1 that is in contact with the second surface 22 of the base material 20, and to the opposite side of this first adhesive surface Y1. It includes a second adhesive surface Y2 located therein and in contact with the attachment surface X1 of the mounting adhesive layer X.

この貼付用接着層Yは、基材20に実装用粘着層Xを貼り付けるための接着剤を含む。この貼付用接着層Yは、例えば、シリコーン系接着剤、変成シリコーン系接着剤、又は、変成シリコーン接着剤とエポキシ接着剤とを混合した接着剤、ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤のいずれかを含むようにしてもよい。なお、硬化タイプは、湿気硬化型、熱硬化型、UV硬化型、二液混合硬化型、熱溶融型、感圧型、再湿型などのいずれの硬化タイプでもよい。 This adhesive layer Y for pasting includes an adhesive for pasting the adhesive layer X for mounting on the base material 20. This adhesive layer Y for pasting is, for example, a silicone adhesive, a modified silicone adhesive, a mixed adhesive of a modified silicone adhesive and an epoxy adhesive, a urethane adhesive, an acrylic adhesive, an epoxy adhesive, etc. It may also contain any adhesive. The curing type may be any curing type, such as a moisture curing type, a thermosetting type, a UV curing type, a two-component mixture curing type, a heat melting type, a pressure sensitive type, or a rewetting type.

なお、この貼付用接着層Yの弾性係数は、例えば、基材20の第1弾性係数よりも、小さくなるように設定されている。この場合、貼付用接着層Yには、切れ込みが形成されているようにしてもよい。基材よりも引張強度が小さくなるものであれば、切れ込みの大きさや形状はどのようなものでもよい。実装用粘着層Xが深さ方向に貫通しているものでもよく、貫通せず深さ方向の部分的に切り込みが入っていてもよい。また、水平方向の対角あるいは隣り合う面に貫通しているものでもよく、貫通せず部分的に切り込みが入っていてもよい。また、内部に空洞を設けた形状でもよい。貫通している場合は被実装体に実装した場合の通気性が向上する。部分的な切り込みや内部に空洞を設けた場合、基材や実装粘着層との接触面積が大きいため密着性が高い。
また、この貼付用接着層Yは追加の基材を含んでもよい。この場合、追加の基材に用いられる材料としてはウレタン、不織布、ポリエステル、ポリエチレン、透湿性フィルム、ポリウレタン、レーヨン不織布、ポリエステル不織布、ポリウレタン不織布、レーヨン織布、アセテート織布、セルロース系不織布、綿布、ポリエステル編物などが挙げられる。中でも、被実装体が人体の場合、実装時に可動することを考えると基材には伸縮性の高いものが好ましく、ウレタン、不織布が好ましい。この場合、貼付面Y2側に基材が位置し、実装面Y1側に接着剤が位置する。
In addition, the elastic modulus of this adhesive layer Y for pasting is set to be smaller than the 1st elastic modulus of the base material 20, for example. In this case, the adhesive layer Y for pasting may have a notch formed therein. The size and shape of the cut may be any size and shape as long as the tensile strength is lower than that of the base material. The mounting adhesive layer X may be penetrating in the depth direction, or may not be penetrating but may be partially cut in the depth direction. Further, it may penetrate diagonally or adjacently in the horizontal direction, or it may not penetrate and may be partially cut. Alternatively, it may have a shape with a cavity provided inside. When it is penetrated, air permeability is improved when it is mounted on an object to be mounted. When a partial cut or a cavity is provided inside, the contact area with the base material and mounting adhesive layer is large, resulting in high adhesion.
Moreover, this adhesive layer Y for pasting may include an additional base material. In this case, the materials used for the additional base material include urethane, nonwoven fabric, polyester, polyethylene, moisture permeable film, polyurethane, rayon nonwoven fabric, polyester nonwoven fabric, polyurethane nonwoven fabric, rayon woven fabric, acetate woven fabric, cellulose nonwoven fabric, cotton fabric, Examples include polyester knitted fabrics. Among these, when the object to be mounted is a human body, the base material is preferably one with high elasticity, considering that it will be movable during mounting, and urethane and nonwoven fabric are preferable. In this case, the base material is located on the attachment surface Y2 side, and the adhesive is located on the mounting surface Y1 side.

このように、被実装体(肌)に貼る側の貼付用接着層Yとして基材20よりも柔らかい層を設けることにより、着け心地を向上させ、配線基板10を貼った時の不快感を解消できる。 In this way, by providing a layer that is softer than the base material 20 as the adhesive layer Y on the side to be applied to the object to be mounted (skin), the wearing comfort is improved and discomfort when the wiring board 10 is applied is eliminated. can.

〔追加層〕
ここで、配線基板10は、例えば、図4に示すように、追加層Nをさらに含むようにしてもよい。
[Additional layer]
Here, the wiring board 10 may further include an additional layer N, as shown in FIG. 4, for example.

この場合、追加層Nは、例えば、図4に示すように、基材20の第2面22(特に貼付用接着層Yの第2接着面Y2)と実装用粘着層Xの貼付面X1との間に位置している。この追加層Nは、第1面N1、及び、この第1面N1の反対側の第2面N2を有する。そして、この追加層Nは、通気性を有する。さらに、この追加層Nは、吸水性又は速乾性を有するようにしてもよい。なお、この追加層Nは、例えば、エラストマーゴム、シリコーンゴム、又は、ジェル、ゲル、多孔質体を有する層である。多孔質体を有する層としては、ウレタン、ポリエチレン、ゴム、シリコン系、メラミンスポンジ、アクリルフォーム、ポリ塩化ビニルが挙げられる。この多孔質体を有する層は、それ自体で上下方向(深さ方向)、および横方向の全方位に対して、通気性を有している。この追加層Nにより追加層Nより上部の貼付用粘着剤Yや基材20それ自体に通気性のない場合でも、横方向への通気性により、被実装面からの通気性が確保できる。 In this case, the additional layer N is, for example, as shown in FIG. It is located between. This additional layer N has a first surface N1 and a second surface N2 opposite to this first surface N1. This additional layer N has breathability. Furthermore, this additional layer N may have water absorption or quick drying properties. Note that this additional layer N is, for example, a layer containing elastomer rubber, silicone rubber, gel, or a porous material. Examples of the layer having a porous material include urethane, polyethylene, rubber, silicone, melamine sponge, acrylic foam, and polyvinyl chloride. The layer having this porous material itself has air permeability in all directions in the vertical direction (depth direction) and in the lateral direction. With this additional layer N, even if the pasting adhesive Y above the additional layer N or the base material 20 itself does not have air permeability, the air permeability in the lateral direction makes it possible to ensure air permeability from the surface to be mounted.

なお、この追加層Nの弾性係数は、例えば、基材20の第1の弾性係数よりも、小さくなるように設定されている。この場合、追加層Nには、切れ込みが形成されているようにしてもよい。追加層Nは、基材20よりも引張強度が小さくなるものであれば、切れ込みの大きさや形状はどのようなものでもよい。追加層Nは、深さ方向に貫通する貫通孔が形成されているものでもよく、貫通せず深さ方向の部分的に切り込みが入っていてもよい。また、追加層Nは、水平方向の対角あるいは隣り合う面に貫通しているものでもよく、貫通せず部分的に切り込みが入っていてもよい。また、内部に空洞を設けた形状でもよい。貫通している場合は被実装体に実装した場合の通気性が向上する。部分的な切り込みや内部に空洞を設けた場合、貼り付け粘着層や実装粘着層との接触面積が大きいため密着性が高い。 Note that the elastic coefficient of this additional layer N is set to be smaller than, for example, the first elastic coefficient of the base material 20. In this case, the additional layer N may have cuts formed therein. The additional layer N may have any size or shape of the cut as long as it has a lower tensile strength than the base material 20. The additional layer N may be formed with a through hole penetrating in the depth direction, or may be partially cut in the depth direction without penetrating it. Furthermore, the additional layer N may penetrate diagonally or adjacently in the horizontal direction, or may not penetrate and may be partially cut. Alternatively, it may have a shape with a cavity provided inside. When it is penetrated, air permeability is improved when it is mounted on an object to be mounted. When a partial cut or a cavity is provided inside, the contact area with the adhesive adhesive layer and the adhesive layer for mounting is large, resulting in high adhesion.

このように、被実装体(肌)に貼る側の追加層Nとして基材20よりも柔らかい層を設けることにより、被実装体の可動時に動きに追従しやすくなり、着け心地を向上させ、配線基板10を貼った時の不快感を解消できる。 In this way, by providing a layer that is softer than the base material 20 as the additional layer N on the side to be attached to the mounted object (skin), it becomes easier to follow the movement of the mounted object when it moves, improving the wearing comfort, and Discomfort when pasting the substrate 10 can be eliminated.

ここで、各層の弾性係数の関係は、基材20の弾性係数≧追加層Nの弾性係数≧貼付用接着層Yの弾性係数≧実装用粘着層Xの弾性係数、の関係になるのが最も好ましい。
ただし、各層の弾性係数の関係は、基材20の弾性係数≧追加層Nの弾性係数=貼付用接着層Yの弾性係数=実装用粘着層Xの弾性係数、の関係になるようにしてもよい。
なお、実装用接着層Yや貼付用粘着層Xは接着剤の役目があればよく、厚みを薄くすることも好ましい。追加層Nの厚みは、基材20よりも引張強度が小さいものであれば何でもいいが、厚い場合は基材の固さ(=引張強度の大きいことによる突っ張り感)を吸収し和らげることができ、薄い場合はデバイス全体が軽くなって、装着感を低減させることができる。
Here, the relationship between the elastic modulus of each layer is best such that the elastic modulus of the base material 20≧the elastic modulus of the additional layer N≧the elastic modulus of the adhesive layer Y for pasting≧the elastic modulus of the adhesive layer X for mounting. preferable.
However, the relationship between the elastic modulus of each layer is such that the elastic modulus of the base material 20 ≧ the elastic modulus of the additional layer N = the elastic modulus of the adhesive layer Y for pasting = the elastic modulus of the adhesive layer X for mounting. good.
Note that the mounting adhesive layer Y and the pasting adhesive layer X only need to function as adhesives, and it is also preferable to make the thickness thin. The thickness of the additional layer N may be any thickness as long as it has a tensile strength lower than that of the base material 20, but if it is thick, it can absorb and soften the hardness of the base material (=the stiffness due to the high tensile strength). If the device is thin, the entire device becomes lighter, which reduces the feeling of wearing it.

〔電子部品〕 図2Aに示す例において、電子部品51は、配線52に接続される電極を少なくとも有する。電子部品51は、能動部品であってもよく、受動部品であってもよく、機構部品であってもよい。
電子部品51の例としては、トランジスタ、LSI(Large-Scale Integration)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)、リレー、LED、OLED、LCDなどの発光素子、センサ、ブザー等の発音部品、振動を発する振動部品、冷却発熱をコントロールするペルチェ素子や電熱線などの冷発熱部品、抵抗器、キャパシタ、インダクタ、圧電素子、スイッチ、コネクタなどを挙げることができる。電子部品51の上述の例のうち、センサが好ましく用いられる。センサとしては、例えば、温度センサ、圧力センサ、光センサ、光電センサ、近接センサ、せん断力センサ、生体センサ、レーザーセンサ、マイクロ波センサ、湿度センサ、歪みセンサ、ジャイロセンサ、加速度センサ、変位センサ、磁気センサ、ガスセンサ、GPSセンサ、超音波センサ、臭いセンサ、脳波センサ、電流センサ、振動センサ、脈波センサ、心電センサ、光度センサ等を挙げることができる。これらのセンサのうち、生体センサが特に好ましい。生体センサは、心拍や脈拍、心電、血圧、体温、血中酸素濃度等の生体情報を測定することができる。
[Electronic Component] In the example shown in FIG. 2A, the electronic component 51 has at least an electrode connected to the wiring 52. The electronic component 51 may be an active component, a passive component, or a mechanical component.
Examples of the electronic components 51 include transistors, LSIs (Large-Scale Integrations), MEMS (Micro Electro Mechanical Systems), relays, light emitting elements such as LEDs, OLEDs, and LCDs, sensors, sounding components such as buzzers, and vibrations that generate vibrations. Examples include parts, cooling heat generating parts such as Peltier elements and heating wires that control cooling heat generation, resistors, capacitors, inductors, piezoelectric elements, switches, connectors, etc. Among the above-mentioned examples of electronic components 51, sensors are preferably used. Examples of the sensor include a temperature sensor, pressure sensor, optical sensor, photoelectric sensor, proximity sensor, shear force sensor, biological sensor, laser sensor, microwave sensor, humidity sensor, strain sensor, gyro sensor, acceleration sensor, displacement sensor, Examples include magnetic sensors, gas sensors, GPS sensors, ultrasonic sensors, odor sensors, brain wave sensors, current sensors, vibration sensors, pulse wave sensors, electrocardiographic sensors, and light intensity sensors. Among these sensors, biological sensors are particularly preferred. A biosensor can measure biometric information such as heartbeat, pulse, electrocardiogram, blood pressure, body temperature, and blood oxygen concentration.

〔配線〕
配線52は、電子部品51の電極に接続された、導電性を有する部材である。例えば図2Bに示すように、配線52の一端及び他端が、2つの電子部品51の電極にそれぞれ接続されている。図2Bに示すように、複数の配線52が2つの電子部品51の間に設けられていてもよい。
なお、この配線52は、図1、図2Aの例では、基材20の第1面21側位置しているが、基材20の第2面22側に位置していてもよい。
〔wiring〕
The wiring 52 is a conductive member connected to the electrode of the electronic component 51. For example, as shown in FIG. 2B, one end and the other end of the wiring 52 are connected to electrodes of two electronic components 51, respectively. As shown in FIG. 2B, a plurality of wiring lines 52 may be provided between two electronic components 51.
In addition, although this wiring 52 is located on the first surface 21 side of the base material 20 in the examples of FIGS. 1 and 2A, it may be located on the second surface 22 side of the base material 20.

後述するように、支持基板40に接合された基材20から引張応力が取り除かれて基材20が収縮するとき、配線52は蛇腹状に変形する。この点を考慮し、好ましくは、配線52は、変形に対する耐性を有する構造を備える。例えば、配線52は、ベース材と、ベース材の中に分散された複数の導電性粒子とを有する。この場合、ベース材として、樹脂などの変形可能な材料を用いることにより、基材20の伸縮に応じて配線52も変形することができる。また、変形が生じた場合であっても複数の導電性粒子の間の接触が維持されるように導電性粒子の分布や形状を設定することにより、配線52の導電性を維持することができる。 As will be described later, when the tensile stress is removed from the base material 20 bonded to the support substrate 40 and the base material 20 contracts, the wiring 52 deforms into a bellows shape. In consideration of this point, the wiring 52 preferably has a structure that is resistant to deformation. For example, the wiring 52 includes a base material and a plurality of conductive particles dispersed within the base material. In this case, by using a deformable material such as resin as the base material, the wiring 52 can also be deformed according to the expansion and contraction of the base material 20. Further, the conductivity of the wiring 52 can be maintained by setting the distribution and shape of the conductive particles so that contact between the plurality of conductive particles is maintained even when deformation occurs. .

配線52のベース材を構成する材料としては、例えば、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができ、例えば、スチレン系エラストマー、アクリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、ポリブタジエン、ポリクロロプレン等を用いることができる。中でも、ウレタン系、シリコーン系構造を含む樹脂やゴムが、その伸縮性や耐久性などの面から好ましく用いられる。また、配線52の導電性粒子を構成する材料としては、例えば銀、銅、金、ニッケル、パラジウム、白金、カーボン等の粒子を用いることができる。中でも、銀粒子が、価格と導電性の観点から好ましく用いられる。 As the material constituting the base material of the wiring 52, for example, general thermoplastic elastomers and thermosetting elastomers can be used, such as styrene elastomers, acrylic elastomers, olefin elastomers, urethane elastomers, and silicone. Rubber, urethane rubber, fluororubber, nitrile rubber, polybutadiene, polychloroprene, etc. can be used. Among these, resins and rubbers containing urethane-based and silicone-based structures are preferably used in view of their elasticity and durability. Further, as the material constituting the conductive particles of the wiring 52, particles of silver, copper, gold, nickel, palladium, platinum, carbon, etc. can be used, for example. Among them, silver particles are preferably used from the viewpoint of cost and conductivity.

なお、配線52に求められることは、蛇腹形状部57の解消及び生成を利用して基材20の伸張及び収縮に追従することである。この点を考慮すると、配線52の材料としては、上述のようにそれ自体が変形性や伸縮性を有しているものだけでなく、それ自体は変形性や伸縮性を有していないものも採用可能である。
配線52に用いられ得る、それ自体は伸縮性を有さない材料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、白金、クロム等の金属や、これらの金属を含む合金が挙げられる。配線52の材料自体が伸縮性を有さない場合、配線52としては、金属膜を用いることができる。
Note that the wiring 52 is required to follow the expansion and contraction of the base material 20 by utilizing the cancellation and formation of the bellows-shaped portion 57. Considering this point, the material for the wiring 52 is not only one that itself has deformability and stretchability as described above, but also a material that does not itself have deformability and stretchability. Adoptable.
Examples of materials that do not have elasticity per se that can be used for the wiring 52 include metals such as gold, silver, copper, aluminum, platinum, and chromium, and alloys containing these metals. When the material of the wiring 52 itself does not have elasticity, a metal film can be used as the wiring 52.

配線52の厚みは、基材20の伸縮に耐え得る厚みであればよく、配線52の材料等に応じて適宜選択される。例えば、配線52の材料が伸縮性を有さない場合、配線52の厚みは、25nm以上50μm以下の範囲内とすることができ、50nm以上10μm以下の範囲内であることが好ましく、100nm以上5μm以下の範囲内であることがより好ましい。 The thickness of the wiring 52 may be any thickness that can withstand expansion and contraction of the base material 20, and is appropriately selected depending on the material of the wiring 52 and the like. For example, when the material of the wiring 52 does not have stretchability, the thickness of the wiring 52 can be within the range of 25 nm or more and 50 μm or less, preferably within the range of 50 nm or more and 10 μm or less, and 100 nm or more and 5 μm or less. It is more preferable that it is within the following range.

また、配線52の材料が伸縮性を有する場合、配線52の厚みは、5μm以上60μm以下の範囲内とすることができ、10μm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、20μm以上40μm以下の範囲内であることがより好ましい。配線52の幅は、例えば50μm以上且つ10mm以下である。 Further, when the material of the wiring 52 has elasticity, the thickness of the wiring 52 can be within the range of 5 μm or more and 60 μm or less, preferably within the range of 10 μm or more and 50 μm or less, and preferably 20 μm or more and 40 μm or less. More preferably, it is within the range. The width of the wiring 52 is, for example, 50 μm or more and 10 mm or less.

また、基材20上または後述する支持基板40上及びこれら基材20または支持基板40に設けられた配線52には、基材20または支持基板40と配線52とを一体的に覆う絶縁膜が設けられてもよい。ただし、絶縁膜は、配線52における電子部品51との接続部分上には設けられない。このような絶縁膜は、熱硬化性の絶縁樹脂等を加熱硬化することで構成され得る。あるいは、絶縁膜は、紫外線によるUV硬化樹脂、または樹脂を含んだ溶液の塗布後に、熱乾燥により溶液中の溶剤を揮発させて得られる溶剤乾燥樹脂にて構成されてもよい。絶縁膜の厚さは、例えば10μm以上500μm以下でもよい。また、絶縁膜の形成は、スクリーン印刷等で行われてもよい。また、接続部51aは、例えば導電性接着剤から構成されてもよいし、半田材料で形成されてもよいし、電子部品51と一体の端子であってもよい。 Further, an insulating film is provided on the base material 20 or on the support substrate 40 (described later) and on the wiring 52 provided on the base material 20 or the support substrate 40, to integrally cover the base material 20 or the support substrate 40 and the wiring 52. may be provided. However, the insulating film is not provided on the connection portion of the wiring 52 with the electronic component 51. Such an insulating film can be constructed by heating and curing a thermosetting insulating resin or the like. Alternatively, the insulating film may be made of a UV-cured resin using ultraviolet light, or a solvent-dried resin obtained by applying a solution containing the resin and then volatilizing the solvent in the solution by heat drying. The thickness of the insulating film may be, for example, 10 μm or more and 500 μm or less. Further, the insulating film may be formed by screen printing or the like. Further, the connecting portion 51a may be made of, for example, a conductive adhesive, a solder material, or a terminal integrated with the electronic component 51.

配線52の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、基材20上または後述する支持基板40上に蒸着法やスパッタリング法、メッキ法、特にCuメッキ法等により金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ法により金属膜をパターニングする方法が挙げられる。あるいは、基材20上または後述する支持基板40上に金属箔を接着積層した後、フォトリソグラフィ法により金属膜をパターニングする方法が挙げられる。また、配線52の材料自体が伸縮性を有する場合、例えば、基材20上または支持基板40上に一般的な印刷法により上記の導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物をパターン状に印刷する方法が挙げられる。これらの方法のうち、材料効率がよく安価に製作できる印刷法が好ましく用いられ得る。 The method for forming the wiring 52 is appropriately selected depending on the material and the like. For example, a method may be used in which a metal film is formed on the base material 20 or a support substrate 40 described later by a vapor deposition method, a sputtering method, a plating method, particularly a Cu plating method, etc., and then the metal film is patterned by a photolithography method. Alternatively, a method may be used in which a metal foil is adhesively laminated on the base material 20 or a support substrate 40 to be described later, and then the metal film is patterned by photolithography. In addition, when the material of the wiring 52 itself has stretchability, for example, a conductive composition containing the above conductive particles and an elastomer is printed on the base material 20 or the support substrate 40 in a pattern by a general printing method. One example is printing. Among these methods, the printing method can be preferably used because it has good material efficiency and can be manufactured at low cost.

〔補強部材の位置関係〕
次に、補強部材31について、電子部品51及び配線52との位置関係に基づいて説明する。
[Positional relationship of reinforcing members]
Next, the reinforcing member 31 will be explained based on its positional relationship with the electronic component 51 and the wiring 52.

図2A及び図2Bに示すように、補強部材31は、基材20の第1面21の法線方向に沿って見た場合に電子部品51と少なくとも部分的に重なるように配置されている。好ましくは、補強部材31は、基材20の第1面21の法線方向に沿って見た場合に電子部品51の全域にわたって電子部品51に重なっている。このため、基材20のうち電子部品51と重なる部分は、すなわち補強部材31と重なる部分は、基材20のうち補強部材31と重ならない部分に比べて変形しにくい。これにより、基材20に引張応力などの力を加えたときや、基材20から引張応力などの力を取り除いたときなどに、基材20のうち電子部品51と重なる部分に変形が生じることを抑制することができる。このことにより、基材20の変形に起因する応力が電子部品51に加わることを抑制することができ、電子部品51が変形したり破損したりしてしまうことを抑制することができる。また、電子部品51と配線52との間の電気接合部が破損してしまうことを抑制することができる。 As shown in FIGS. 2A and 2B, the reinforcing member 31 is arranged so as to at least partially overlap the electronic component 51 when viewed along the normal direction of the first surface 21 of the base material 20. Preferably, the reinforcing member 31 overlaps the electronic component 51 over the entire area of the electronic component 51 when viewed along the normal direction of the first surface 21 of the base material 20 . Therefore, the portion of the base material 20 that overlaps with the electronic component 51, that is, the portion that overlaps with the reinforcing member 31, is less likely to deform than the portion of the base material 20 that does not overlap with the reinforcing member 31. This prevents deformation from occurring in the portion of the base material 20 that overlaps with the electronic component 51 when a force such as tensile stress is applied to the base material 20 or when a force such as tensile stress is removed from the base material 20. can be suppressed. By this, it is possible to suppress stress caused by the deformation of the base material 20 from being applied to the electronic component 51, and it is possible to suppress the electronic component 51 from being deformed or damaged. Furthermore, it is possible to prevent the electrical joint between the electronic component 51 and the wiring 52 from being damaged.

なお、図2Aにおいては、基材20の内部に補強部材31が位置する例が示されているが、補強部材31の位置は任意である。すなわち、既述のように、補強部材31は、基材20の第1面21側、基材20の第2面22側、又は、基材20の内部に位置するようにしてもよい。
また、上述の実施の形態においては、補強部材31が、基材20の第1面21又は第2面22に露出しないよう基材20に埋め込まれている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、例えば、補強部材31は、基材20の第1面21に露出するよう基材20に埋め込まれていてもよい。また、補強部材31は、基材20の第2面22に露出するよう基材20に埋め込まれていてもよい。また、補強部材31は、接着層60に埋め込まれていてもよい。
なお、複数の補強部材31は、例えば、図2Bに示すように、複数の電子部品51のそれぞれに対応して設けられている。電子部品と補強部材が一対一に対応していてもよいし、複数の電子部品と一つの補強部材が対応していてもよい。
特に、複数の補強部材31は、例えば、図2Bに示すように、基材20の第1面21の法線方向に沿って見た場合に配線基板10に搭載される複数の電子部品51に少なくとも部分的にそれぞれに対応して重なっている。
Note that although FIG. 2A shows an example in which the reinforcing member 31 is located inside the base material 20, the position of the reinforcing member 31 is arbitrary. That is, as described above, the reinforcing member 31 may be located on the first surface 21 side of the base material 20, on the second surface 22 side of the base material 20, or inside the base material 20.
Moreover, in the above-mentioned embodiment, the reinforcing member 31 showed the example embedded in the base material 20 so that it may not be exposed to the 1st surface 21 or the 2nd surface 22 of the base material 20. However, the invention is not limited to this, and for example, the reinforcing member 31 may be embedded in the base material 20 so as to be exposed on the first surface 21 of the base material 20. Further, the reinforcing member 31 may be embedded in the base material 20 so as to be exposed on the second surface 22 of the base material 20. Further, the reinforcing member 31 may be embedded in the adhesive layer 60.
Note that the plurality of reinforcing members 31 are provided corresponding to each of the plurality of electronic components 51, for example, as shown in FIG. 2B. An electronic component and a reinforcing member may correspond one-to-one, or a plurality of electronic components and one reinforcing member may correspond.
In particular, the plurality of reinforcing members 31 are attached to the plurality of electronic components 51 mounted on the wiring board 10 when viewed along the normal direction of the first surface 21 of the base material 20, for example, as shown in FIG. 2B. At least partially they correspond to each other and overlap.

〔配線の構造〕
続いて、配線52の断面構造について、図5Aを参照して詳細に説明する。図5Aは、図2Aに示す配線基板10の配線52及びその周辺の構成要素の一例を拡大して示す断面図である。
[Wiring structure]
Next, the cross-sectional structure of the wiring 52 will be described in detail with reference to FIG. 5A. FIG. 5A is an enlarged cross-sectional view showing an example of the wiring 52 and peripheral components of the wiring board 10 shown in FIG. 2A.

図2A乃至図3に示すように、配線52全体は、若しくは配線52の大部分は、補強部材31と重ならないように配置されている。このため、基材20に収縮などの変形が生じたとき、配線52は、基材20の変形に伴って変形し易い。例えば、伸長させた状態の基材20に配線52を設けた後、基材20を弛緩させると、図5Aに示すように、配線52のうち補強部材31と重なっていない部分に、蛇腹形状部57が生じる。 As shown in FIGS. 2A to 3, the entire wiring 52 or most of the wiring 52 is arranged so as not to overlap the reinforcing member 31. Therefore, when the base material 20 undergoes deformation such as shrinkage, the wiring 52 is likely to deform along with the deformation of the base material 20. For example, when the base material 20 is relaxed after the wiring 52 is provided on the stretched base material 20, as shown in FIG. 57 occurs.

蛇腹形状部57は、基材20の第1面21の法線方向における山部及び谷部を含む。図5Aにおいて、符号53は、配線52の表面に現れる山部を表し、符号54は、配線52の裏面に現れる山部を表す。また、符号55は、配線52の表面に現れる谷部を表し、符号56は、配線52の裏面に現れる谷部を表す。表面とは、配線52の面のうち基材20から遠い側に位置する面であり、裏面とは、配線52の面のうち基材20に近い側に位置する面である。また、図5Aにおいて、符号26及び27は、基材20の第1面21に現れる山部及び谷部を表す。第1面21に山部26及び谷部27が現れるように基材20が変形することにより、配線52が蛇腹状に変形して蛇腹形状部57を有するようになる。基材20の第1面21の山部26が、配線52の蛇腹形状部57の山部53,54に対応し、基材20の第1面21の谷部27が、配線52の蛇腹形状部57の谷部55,56に対応している。 The bellows-shaped portion 57 includes peaks and valleys in the normal direction of the first surface 21 of the base material 20 . In FIG. 5A, reference numeral 53 represents a peak appearing on the front surface of the wiring 52, and reference numeral 54 represents a peak appearing on the back surface of the wiring 52. Further, reference numeral 55 represents a valley appearing on the front surface of the wiring 52, and reference numeral 56 represents a valley appearing on the back surface of the wiring 52. The front surface is the surface of the wiring 52 located on the side far from the base material 20, and the back surface is the surface of the wiring 52 located on the side close to the base material 20. Further, in FIG. 5A, symbols 26 and 27 represent peaks and valleys appearing on the first surface 21 of the base material 20. By deforming the base material 20 so that the peaks 26 and troughs 27 appear on the first surface 21, the wiring 52 is deformed into a bellows shape and has a bellows-shaped portion 57. The peaks 26 on the first surface 21 of the base material 20 correspond to the peaks 53 and 54 of the bellows-shaped portion 57 of the wiring 52, and the valleys 27 on the first surface 21 of the base material 20 correspond to the bellows-shaped portion 57 of the wiring 52. This corresponds to the troughs 55 and 56 of the portion 57.

山部53,54及び谷部55,56は、基材20の第1面21の面内方向に沿って繰り返し現れる。山部53,54及び谷部55,56が繰り返し現れる周期Fは、例えば10μm以上且つ100mm以下である。なお、図5Aにおいては、蛇腹形状部57の複数の山部及び谷部が一定の周期で並ぶ例が示されているが、これに限られることはない。図示はしないが、蛇腹形状部57の複数の山部及び谷部は、第1面21の面内方向に沿って不規則に並んでいてもよい。例えば、第1面21の面内方向において隣り合う2つの山部の間の間隔が一定でなくてもよい。 The peaks 53 and 54 and the valleys 55 and 56 appear repeatedly along the in-plane direction of the first surface 21 of the base material 20. The period F in which the peaks 53, 54 and the valleys 55, 56 repeatedly appear is, for example, 10 μm or more and 100 mm or less. Note that although FIG. 5A shows an example in which the plurality of peaks and valleys of the bellows-shaped portion 57 are arranged at a constant period, the present invention is not limited to this. Although not shown, the plurality of peaks and valleys of the bellows-shaped portion 57 may be arranged irregularly along the in-plane direction of the first surface 21. For example, the distance between two adjacent peaks in the in-plane direction of the first surface 21 may not be constant.

図5Aにおいて、符号S1は、配線52の表面における蛇腹形状部57の振幅を表す。振幅S1は、例えば1μm以上であり、より好ましくは10μm以上である。振幅S1を10μm以上とすることにより、基材20の伸張に追従して配線52が変形し易くなる。また、振幅S1は、例えば500μm以下であってもよい。 In FIG. 5A, the symbol S1 represents the amplitude of the bellows-shaped portion 57 on the surface of the wiring 52. In FIG. The amplitude S1 is, for example, 1 μm or more, and more preferably 10 μm or more. By setting the amplitude S1 to 10 μm or more, the wiring 52 is easily deformed following the expansion of the base material 20. Further, the amplitude S1 may be, for example, 500 μm or less.

振幅S1は、例えば、配線52の長さ方向における一定の範囲にわたって、隣り合う山部53と谷部55との間の、第1面21の法線方向における距離を測定し、それらの平均を求めることにより算出される。「配線52の長さ方向における一定の範囲」は、例えば10mmである。隣り合う山部53と谷部55との間の距離を測定する測定器としては、レーザー顕微鏡などを用いた非接触式の測定器を用いてもよく、接触式の測定器を用いてもよい。また、断面写真などの画像に基づいて、隣り合う山部53と谷部55との間の距離を測定してもよい。後述する振幅S2、S3、S4の算出方法も同様である。 The amplitude S1 is determined by, for example, measuring the distance in the normal direction of the first surface 21 between the adjacent peaks 53 and troughs 55 over a certain range in the length direction of the wiring 52, and calculating the average of the distances. It is calculated by asking. The "certain range in the length direction of the wiring 52" is, for example, 10 mm. As a measuring device for measuring the distance between the adjacent peaks 53 and troughs 55, a non-contact measuring device such as a laser microscope may be used, or a contact measuring device may be used. . Alternatively, the distance between adjacent peaks 53 and valleys 55 may be measured based on an image such as a cross-sectional photograph. The same applies to the calculation method of amplitudes S2, S3, and S4, which will be described later.

図5Aにおいて、符号S2は、配線52の裏面における蛇腹形状部57の振幅を表す。振幅S2は、振幅S1と同様に、例えば1μm以上であり、より好ましくは10μm以上である。また、振幅S2は、例えば500μm以下であってもよい。 In FIG. 5A, the symbol S2 represents the amplitude of the bellows-shaped portion 57 on the back surface of the wiring 52. In FIG. Like the amplitude S1, the amplitude S2 is, for example, 1 μm or more, and more preferably 10 μm or more. Further, the amplitude S2 may be, for example, 500 μm or less.

図5Aに示すように、支持基板40、接着層60や基材20の第1面21にも、配線52と同様の蛇腹形状部が形成されていてもよい。図5Aにおいて、符号S3は、基材20の第1面21における蛇腹形状部の振幅を表す。第1面21における蛇腹形状部は、複数の山部26及び谷部27を含む。振幅S3は、例えば1μm以上であり、より好ましくは10μm以上である。また、振幅S3は、例えば500μm以下であってもよい。 As shown in FIG. 5A, a bellows-shaped portion similar to the wiring 52 may be formed on the support substrate 40, the adhesive layer 60, and the first surface 21 of the base material 20. In FIG. 5A, the symbol S3 represents the amplitude of the bellows-shaped portion on the first surface 21 of the base material 20. In FIG. The bellows-shaped portion on the first surface 21 includes a plurality of peaks 26 and troughs 27 . The amplitude S3 is, for example, 1 μm or more, more preferably 10 μm or more. Further, the amplitude S3 may be, for example, 500 μm or less.

図5Bは、図2Aに示す配線基板10の配線52及びその周辺の構成要素のその他の例を拡大して示す断面図である。図5Bに示すように、基材20の第1面21には蛇腹形状部が形成されていなくてもよい。 FIG. 5B is an enlarged cross-sectional view showing another example of the wiring 52 and peripheral components of the wiring board 10 shown in FIG. 2A. As shown in FIG. 5B, the bellows-shaped portion may not be formed on the first surface 21 of the base material 20.

図6は、図2Aに示す配線基板10の配線52及びその周辺の構成要素のその他の例を拡大して示す断面図である。図6に示すように、基材20の第1面21だけでなく第2面22にも蛇腹形状部が形成されていてもよい。第2面22における蛇腹形状部は、複数の山部28及び谷部29を含む。図6に示す例において、第2面22の山部28は、第1面21の谷部27に重なる位置に現れ、第2面22の谷部29は、第1面21の山部26に重なる位置に現れている。なお、図示はしないが、基材20の第2面22の山部28及び谷部29の位置は、第1面21の谷部27及び山部26に重なっていなくてもよい。また、基材20の第2面22の山部28及び谷部29の数又は周期は、第1面21の山部26及び谷部27の数又は周期と同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、基材20の第2面22の山部28及び谷部29の周期が、第1面21の山部26及び谷部27の周期よりも大きくてもよい。この場合、基材20の第2面22の山部28及び谷部29の周期は、第1面21の山部26及び谷部27の周期の1.1倍以上であってもよく、1.2倍以上であってもよく、1.5倍以上であってもよく、2.0倍以上であってもよい。なお、「基材20の第2面22の山部28及び谷部29の周期が、第1面21の山部26及び谷部27の周期よりも大きい」とは、基材20の第2面22に山部及び谷部が現れない場合を含む概念である。 FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view showing another example of the wiring 52 and peripheral components of the wiring board 10 shown in FIG. 2A. As shown in FIG. 6, a bellows-shaped portion may be formed not only on the first surface 21 but also on the second surface 22 of the base material 20. The bellows-shaped portion on the second surface 22 includes a plurality of peaks 28 and troughs 29. In the example shown in FIG. 6, the peaks 28 of the second surface 22 appear at positions overlapping the valleys 27 of the first surface 21, and the valleys 29 of the second surface 22 overlap the peaks 26 of the first surface 21. They appear in overlapping positions. Although not shown, the positions of the peaks 28 and troughs 29 on the second surface 22 of the base material 20 do not need to overlap with the troughs 27 and ridges 26 on the first surface 21. Further, the number or period of the peaks 28 and troughs 29 on the second surface 22 of the base material 20 may be the same as or different from the number or period of the peaks 26 and troughs 27 on the first surface 21. You can. For example, the period of the peaks 28 and troughs 29 on the second surface 22 of the base material 20 may be larger than the period of the peaks 26 and troughs 27 on the first surface 21. In this case, the period of the peaks 28 and troughs 29 on the second surface 22 of the base material 20 may be 1.1 times or more the period of the peaks 26 and troughs 27 on the first surface 21; It may be .2 times or more, 1.5 times or more, or 2.0 times or more. Note that "the period of the peaks 28 and troughs 29 on the second surface 22 of the base material 20 is larger than the period of the peaks 26 and troughs 27 on the first surface 21" means that This concept includes cases in which no peaks or valleys appear on the surface 22.

図6において、符号S4は、基材20の第2面22に現れる山部28及び谷部29の振幅を表す。第2面22の振幅S4は、振幅S1と同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、第2面22の振幅S4が、振幅S1よりも小さくてもよい。例えば、第2面22の振幅S4が、振幅S1の0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよく、0.6倍以下であってもよい。また、第2面22の振幅S4は、振幅S1の0.1倍以上であってもよく、0.2倍以上であってもよい。基材20の厚みが小さい場合、振幅S1に対する第2面22の振幅S4の比率が大きくなり易い。なお、「基材20の第2面22の山部28及び谷部29の振幅が、第1面21の山部26及び谷部27の振幅よりも小さい」とは、基材20の第2面22に山部及び谷部が現れない場合を含む概念である。 In FIG. 6, the symbol S4 represents the amplitude of the peaks 28 and troughs 29 appearing on the second surface 22 of the base material 20. The amplitude S4 of the second surface 22 may be the same as the amplitude S1, or may be different. For example, the amplitude S4 of the second surface 22 may be smaller than the amplitude S1. For example, the amplitude S4 of the second surface 22 may be 0.9 times or less, 0.8 times or less, or 0.6 times or less than the amplitude S1. Further, the amplitude S4 of the second surface 22 may be 0.1 times or more, or may be 0.2 times or more the amplitude S1. When the thickness of the base material 20 is small, the ratio of the amplitude S4 of the second surface 22 to the amplitude S1 tends to be large. Note that "the amplitudes of the peaks 28 and troughs 29 of the second surface 22 of the base material 20 are smaller than the amplitudes of the peaks 26 and troughs 27 of the first surface 21" means that This concept includes cases in which no peaks or valleys appear on the surface 22.

また、図6においては、第2面22の山部28及び谷部29の位置が、第1面21の谷部27及び山部26の位置に一致する例を示したが、これに限られることはない。図7に示すように、第2面22の山部28及び谷部29の位置が、第1面21の谷部27及び山部26の位置からJだけずれていてもよい。ずれ量Jは、例えば0.1×F以上であり、0.2×F以上であってもよい。 Further, although FIG. 6 shows an example in which the positions of the peaks 28 and troughs 29 of the second surface 22 match the positions of the valleys 27 and ridges 26 of the first surface 21, the present invention is not limited to this. Never. As shown in FIG. 7, the positions of the peaks 28 and troughs 29 of the second surface 22 may be shifted from the positions of the troughs 27 and peaks 26 of the first surface 21 by J. The amount of deviation J is, for example, 0.1×F or more, and may be 0.2×F or more.

図5A、図5B、図6、図7に示す蛇腹形状部57が配線52に形成されていることの利点について説明する。上述のように、基材20は、10MPa以下の弾性係数を有する。このため、配線基板10に引張応力を加えた場合、基材20は、弾性変形によって伸長することができる。ここで、仮に配線52も同様に弾性変形によって伸長すると、配線52の全長が増加し、配線52の断面積が減少するので、配線52の抵抗値が増加してしまう。また、配線52の弾性変形に起因して配線52にクラックなどの破損が生じてしまうことも考えられる。 The advantages of forming the bellows-shaped portion 57 shown in FIGS. 5A, 5B, 6, and 7 on the wiring 52 will be explained. As mentioned above, the base material 20 has an elastic modulus of 10 MPa or less. Therefore, when tensile stress is applied to the wiring board 10, the base material 20 can be expanded by elastic deformation. Here, if the wiring 52 were similarly expanded due to elastic deformation, the total length of the wiring 52 would increase, the cross-sectional area of the wiring 52 would decrease, and the resistance value of the wiring 52 would increase. It is also conceivable that damage such as cracks may occur in the wiring 52 due to elastic deformation of the wiring 52.

これに対して、本実施の形態においては、配線52が蛇腹形状部57を有している。このため、基材20が伸張する際、配線52は、蛇腹形状部57の起伏を低減するように変形することによって、すなわち蛇腹形状を解消することによって、基材20の伸張に追従することができる。このため、基材20の伸張に伴って配線52の全長が増加することや、配線52の断面積が減少することを抑制することができる。このことにより、配線基板10の伸張に起因して配線52の抵抗値が増加することを抑制することができる。また、配線52にクラックなどの破損が生じてしまうことを抑制することができる。 In contrast, in this embodiment, the wiring 52 has a bellows-shaped portion 57. Therefore, when the base material 20 expands, the wiring 52 can follow the expansion of the base material 20 by deforming to reduce the undulations of the bellows-shaped portion 57, that is, by eliminating the bellows shape. can. Therefore, it is possible to suppress the total length of the wiring 52 from increasing and the cross-sectional area of the wiring 52 from decreasing due to the expansion of the base material 20. This can suppress an increase in the resistance value of the wiring 52 due to the expansion of the wiring board 10. Further, it is possible to suppress damage such as cracks from occurring in the wiring 52.

(配線基板の製造方法)
以下、図8A(a)~(d)を参照して、伸縮性を有する配線基板10の製造方法について説明する。
(Method for manufacturing wiring board)
Hereinafter, a method for manufacturing the stretchable wiring board 10 will be described with reference to FIGS. 8A(a) to 8(d).

まず、基材20を準備する基材準備工程を実施する。本実施の形態においては、基材準備工程において、図8A(a)に示すように、補強部材31が内部に埋め込まれた基材20を準備する。なお、基材20の第2面22に補強部材31を設けるようにしてもよい。この場合、例えば、まず、基材20の第2面22の全域にわたって金属層を形成し、続いて、エッチングなどによって金属層を部分的に除去する。これによって、金属層を含む補強部材31を形成することができる。 First, a base material preparation step for preparing the base material 20 is performed. In this embodiment, in the base material preparation step, as shown in FIG. 8A(a), a base material 20 in which a reinforcing member 31 is embedded is prepared. Note that the reinforcing member 31 may be provided on the second surface 22 of the base material 20. In this case, for example, a metal layer is first formed over the entire second surface 22 of the base material 20, and then the metal layer is partially removed by etching or the like. Thereby, the reinforcing member 31 including the metal layer can be formed.

また、支持基板40を準備する支持基板準備工程を実施する。本実施の形態においては、支持基板準備工程において、図8A(b)に示すように、支持基板40の第1面41に電子部品51及び配線52を設ける。配線52を設ける方法としては、例えば、ベース材及び導電性粒子を含む導電性ペーストを支持基板40の第1面41に印刷する方法を採用することができる。 Further, a support substrate preparation step for preparing the support substrate 40 is performed. In this embodiment, in the support substrate preparation step, electronic components 51 and wiring 52 are provided on the first surface 41 of the support substrate 40, as shown in FIG. 8A(b). As a method for providing the wiring 52, for example, a method of printing a conductive paste containing a base material and conductive particles on the first surface 41 of the support substrate 40 can be adopted.

続いて、基材20に引張応力Tを加えて基材20を伸長させる第1工程を実施する。基材20の伸張率は、例えば10%以上且つ200%以下である。第1工程は、基材20を加熱した状態で実施してもよく、常温で実施してもよい。基材20を加熱する場合、基材20の温度は例えば50℃以上且つ100℃以下である。 Subsequently, a first step is performed in which a tensile stress T is applied to the base material 20 to elongate the base material 20. The elongation rate of the base material 20 is, for example, 10% or more and 200% or less. The first step may be performed with the base material 20 heated, or may be performed at room temperature. When heating the base material 20, the temperature of the base material 20 is, for example, 50°C or higher and 100°C or lower.

続いて、引張応力Tによって伸長した状態の基材20の第1面21側に、電子部品51及び配線52を設ける第2工程を実施する。本実施の形態の第2工程においては、図8A(c)に示すように、補強部材31が設けられ伸長した状態の基材20の第1面21に、配線52が設けられた支持基板40を、支持基板40の第2面42側から接合させる。この際、基材20と支持基板40との間に接着層60を設けてもよい。 Subsequently, a second step is performed in which the electronic component 51 and the wiring 52 are provided on the first surface 21 side of the base material 20 that has been stretched by the tensile stress T. In the second step of the present embodiment, as shown in FIG. 8A(c), a support substrate 40 on which wiring 52 is provided is placed on the first surface 21 of the base material 20 in an expanded state with the reinforcing member 31 provided thereon. are joined from the second surface 42 side of the support substrate 40. At this time, an adhesive layer 60 may be provided between the base material 20 and the support substrate 40.

その後、基材20から引張応力Tを取り除く第3工程を実施する。これにより、図8A(d)において矢印Cで示すように、基材20が収縮し、基材20に接合されている支持基板40及び配線52にも変形が生じる。支持基板40の第3の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数よりも大きい。このため、支持基板40及び配線52の変形を、蛇腹形状部の生成として生じさせることができる。 After that, a third step of removing the tensile stress T from the base material 20 is performed. As a result, as shown by arrow C in FIG. 8A(d), the base material 20 contracts, and the support substrate 40 and wiring 52 bonded to the base material 20 are also deformed. The third elastic modulus of the support substrate 40 is larger than the first elastic modulus of the base material 20. Therefore, the support substrate 40 and the wiring 52 can be deformed as a bellows-shaped portion.

上記第3工程の後、基材20の第2面22側に実装用粘着層Xを設ける第4工程を実施する(図8A(d))。すなわち、この第4工程では、基材20の第2面22側に、基材20の第2面22側に貼り付けられる貼付面X1及びこの貼付面X1の反対側に位置して配線基板10が図示しない被実装体に実装されたときに被実装体に接する実装面X2を含み、通気性を有する実装用粘着層Xを設ける。実装用粘着層Xの貼り付け方法としては、アプリケーターやスクリーン印刷により全面に形成した後で、カッティングプロッタやレーザー加工にて切り込みを形成する方法が挙げられる。また、側面を貫通する場合や中に空洞を形成する場合は貫通孔や空洞となる型を用いて基材20に形成してもよい。また、追加の基材を含む場合は、追加の基材上に接着剤を形成後、追加の基材と接着剤を合わせた実装用接着層をパンチングやカッティングプロッタ、レーザーカッタを用いて切り込みを形成する方法もある。
なお、この第4工程において、図8Bに示すように、基材20の第2面22と実装用粘着層Xとの間に位置し且つ接着剤を含む貼付用接着層Yを設けて、基材20に貼付用接着層Yを介して実装用粘着層Xを貼り付ける貼付工程を実施するようにしてもよい。この場合の構成が図2Aの配線基板10に対応する。
After the third step, a fourth step of providing a mounting adhesive layer X on the second surface 22 side of the base material 20 is performed (FIG. 8A(d)). That is, in this fourth step, a pasting surface X1 is pasted on the second surface 22 side of the base material 20, and a wiring board 10 is pasted on the second surface 22 side of the base material 20, and the wiring board 10 is pasted on the opposite side of this pasting surface X1. A mounting adhesive layer X having air permeability is provided, including a mounting surface X2 that comes into contact with the mounting object when the mounting surface is mounted on the mounting object (not shown). The mounting adhesive layer X can be pasted by forming it on the entire surface using an applicator or screen printing, and then forming cuts using a cutting plotter or laser processing. Further, when penetrating the side surface or forming a cavity inside, it may be formed in the base material 20 using a mold that forms a through hole or cavity. In addition, if an additional base material is included, after forming an adhesive on the additional base material, cut the mounting adhesive layer, which is a combination of the additional base material and adhesive, using a punching, cutting plotter, or laser cutter. There is also a way to form.
In this fourth step, as shown in FIG. 8B, a pasting adhesive layer Y containing an adhesive is provided between the second surface 22 of the base material 20 and the mounting adhesive layer You may make it carry out the pasting process of pasting the adhesive layer X for mounting on the material 20 via the adhesive layer Y for pasting. The configuration in this case corresponds to the wiring board 10 in FIG. 2A.

また、本実施の形態においては、基材20の第1面21に、電子部品51と重なるよう補強部材31が配置されている。このため、第1工程において基材20のうち電子部品51と重なる部分が伸張することを抑制することができる。従って、第3工程において基材20のうち電子部品51と重なる部分が収縮することを抑制することができる。このことにより、基材20の変形に起因する応力が電子部品51に加わることを抑制することができ、電子部品51が変形したり破損したりしてしまうことを抑制することができる。また、電子部品51と配線52との間の電気接合部が破損してしまうことを抑制することができる。このように、本実施の形態によれば、基材20に生じる変形を位置に応じて制御することにより、電子部品51の実装のし易さや電子部品51及び配線52の信頼性を高めることができる。 Further, in this embodiment, reinforcing member 31 is arranged on first surface 21 of base material 20 so as to overlap electronic component 51 . Therefore, it is possible to suppress the portion of the base material 20 that overlaps with the electronic component 51 from expanding in the first step. Therefore, it is possible to suppress shrinkage of the portion of the base material 20 that overlaps with the electronic component 51 in the third step. By this, it is possible to suppress stress caused by the deformation of the base material 20 from being applied to the electronic component 51, and it is possible to suppress the electronic component 51 from being deformed or damaged. Furthermore, it is possible to prevent the electrical joint between the electronic component 51 and the wiring 52 from being damaged. As described above, according to the present embodiment, by controlling the deformation that occurs in the base material 20 according to the position, it is possible to improve the ease of mounting the electronic component 51 and the reliability of the electronic component 51 and the wiring 52. can.

なお、基材20が伸張する際、補強部材31に反りなどの変形が生じる可能性はある。仮に補強部材31に変形が生じたとしても、補強部材31の変形量は、基材20のうち補強部材31と重ならない部分で生じる変形量に比べて小さい。従って、電子部品51が変形したり破損したりしてしまうことを抑制することができる。また、電子部品51と配線52との間の電気接合部が破損してしまうことを抑制することができる。 Note that when the base material 20 is stretched, there is a possibility that the reinforcing member 31 is deformed such as warping. Even if the reinforcing member 31 is deformed, the amount of deformation of the reinforcing member 31 is smaller than the amount of deformation that occurs in the portion of the base material 20 that does not overlap with the reinforcing member 31. Therefore, it is possible to prevent the electronic component 51 from being deformed or damaged. Furthermore, it is possible to prevent the electrical joint between the electronic component 51 and the wiring 52 from being damaged.

配線52の蛇腹形状部57によって得られる、配線52の抵抗値に関する効果の一例について説明する。ここでは、基材20の第1面21の面内方向に沿う引張応力が基材20に加えられていない第1状態における配線52の抵抗値を、第1抵抗値と称する。また、基材20に引張応力を加えて基材20を第1面21の面内方向において第1状態に比べて30%伸長させた第2状態における配線52の抵抗値を、第2抵抗値と称する。本実施の形態によれば、配線52に蛇腹形状部57を形成することにより、第1抵抗値に対する、第1抵抗値と第2抵抗値の差の絶対値の比率を、20%以下にすることができ、より好ましくは10%以下にすることができ、更に好ましくは5%以下にすることができる。 An example of the effect on the resistance value of the wiring 52 obtained by the bellows-shaped portion 57 of the wiring 52 will be described. Here, the resistance value of the wiring 52 in a first state in which no tensile stress along the in-plane direction of the first surface 21 of the base material 20 is applied to the base material 20 is referred to as a first resistance value. Further, the resistance value of the wiring 52 in a second state where tensile stress is applied to the base material 20 and the base material 20 is elongated by 30% in the in-plane direction of the first surface 21 compared to the first state is determined as the second resistance value. It is called. According to the present embodiment, by forming the bellows-shaped portion 57 in the wiring 52, the ratio of the absolute value of the difference between the first resistance value and the second resistance value to the first resistance value is set to 20% or less. It can be made more preferably 10% or less, and still more preferably 5% or less.

配線基板10の用途としては、ヘルスケア分野、医療分野、介護分野、エレクトロニクス分野、スポーツ・フィットネス分野、美容分野、モビリティ分野、畜産・ペット分野、アミューズメント分野、ファッション・アパレル分野、セキュリティ分野、ミリタリー分野、流通分野、教育分野、建材・家具・装飾分野、環境エネルギー分野、農林水産分野、ロボット分野などを挙げることができる。例えば、人の腕などの身体の一部に取り付ける製品を、本実施の形態による配線基板10を用いて構成する。配線基板10は伸張することができるので、例えば配線基板10を伸長させた状態で身体に取り付けることにより、配線基板10を身体の一部により密着させることができる。このため、良好な着用感を実現することができる。また、配線基板10が伸張した場合に配線52の抵抗値が低下することを抑制することができるので、配線基板10の良好な電気特性を実現することができる。他にも配線基板10は伸長することができるので、人などの生体に限らず曲面や立体形状に沿わせて設置や組込むことが可能である。それらの製品の一例としては、バイタルセンサ、マスク、補聴器、歯ブラシ、絆創膏、湿布、コンタクトレンズ、義手、義足、義眼、カテーテル、ガーゼ、薬液パック、包帯、ディスポーザブル生体電極、おむつ、リハビリ用機器、家電製品、ディスプレイ、サイネージ、パーソナルコンピューター、携帯電話、マウス、スピーカー、スポーツウェア、リストバンド、はちまき、手袋、水着、サポーター、ボール、グローブ、ラケット、クラブ、バット、釣竿、リレーのバトンや器械体操用具、またそのグリップ、身体トレーニング用機器、浮き輪、テント、水着、ゼッケン、ゴールネット、ゴールテープ、薬液浸透美容マスク、電気刺激ダイエット用品、懐炉、付け爪、タトゥーや自動車、飛行機、列車、船舶、自転車、ベビーカー、ドローン、車椅子、などの、シート、インパネ、タイヤ、内装、外装、サドル、ハンドルや、道路、レール、橋、トンネル、ガスや水道の管、電線、テトラポッド、ロープ、首輪、リード、ハーネス、動物用のタグ、ブレスレット、ベルトなど、ゲーム機器、コントローラなどのハプティクスデバイス、ランチョンマット、チケット、人形、ぬいぐるみ、応援グッズ、帽子、服、メガネ、靴、インソール、靴下、ストッキング、スリッパ、インナーウェア、マフラー、耳あて、鞄、アクセサリー、指輪、時計、ネクタイ、個人ID認識デバイス、ヘルメット、パッケージ、ICタグ、ペットボトル、文具、書籍、ペン、カーペット、ソファ、寝具、照明、ドアノブ、手すり、花瓶、ベッド、マットレス、座布団、カーテン、ドア、窓、天井、壁、床、ワイヤレス給電アンテナ、電池、ビニールハウス、ネット(網)、ロボットハンド、ロボット外装を挙げることができる。 Applications of the wiring board 10 include the healthcare field, medical field, nursing care field, electronics field, sports/fitness field, beauty field, mobility field, livestock/pet field, amusement field, fashion/apparel field, security field, and military field. , distribution field, education field, building materials/furniture/decoration field, environmental energy field, agriculture, forestry and fisheries field, and robot field. For example, a product to be attached to a part of a person's body, such as an arm, is configured using the wiring board 10 according to this embodiment. Since the wiring board 10 can be expanded, for example, by attaching the wiring board 10 to the body in an expanded state, the wiring board 10 can be brought into closer contact with a part of the body. Therefore, a good wearing feeling can be achieved. Further, since it is possible to suppress the resistance value of the wiring 52 from decreasing when the wiring board 10 is expanded, it is possible to realize good electrical characteristics of the wiring board 10. In addition, since the wiring board 10 can be extended, it can be installed or incorporated along not only living bodies such as humans but also curved surfaces and three-dimensional shapes. Examples of these products include vital sensors, masks, hearing aids, toothbrushes, adhesive plasters, compresses, contact lenses, prosthetic hands, prosthetic legs, artificial eyes, catheters, gauze, drug packs, bandages, disposable bioelectrodes, diapers, rehabilitation equipment, and home appliances. Products, displays, signage, personal computers, mobile phones, mice, speakers, sportswear, wristbands, headbands, gloves, swimwear, supporters, balls, gloves, rackets, clubs, bats, fishing rods, relay batons and gymnastics equipment, In addition, grips, physical training equipment, floats, tents, swimsuits, bibs, goal nets, goal tape, beauty masks with liquid penetration, electric stimulation diet products, pocket warmers, artificial nails, tattoos, cars, airplanes, trains, ships, and bicycles. , strollers, drones, wheelchairs, seats, instrument panels, tires, interiors, exteriors, saddles, handles, roads, rails, bridges, tunnels, gas and water pipes, electric wires, tetrapods, ropes, collars, leashes, etc. Harnesses, animal tags, bracelets, belts, game equipment, haptic devices such as controllers, place mats, tickets, dolls, stuffed animals, cheering goods, hats, clothes, glasses, shoes, insoles, socks, stockings, slippers, Innerwear, mufflers, earmuffs, bags, accessories, rings, watches, ties, personal ID recognition devices, helmets, packages, IC tags, plastic bottles, stationery, books, pens, carpets, sofas, bedding, lighting, doorknobs, handrails , vases, beds, mattresses, cushions, curtains, doors, windows, ceilings, walls, floors, wireless power antennas, batteries, greenhouses, nets, robot hands, and robot exteriors.

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。 Note that various changes can be made to the embodiments described above. Modifications will be described below with reference to the drawings as necessary. In the following description and the drawings used in the following description, the same reference numerals as those used for corresponding parts in the above-described embodiment are used for parts that can be configured similarly to the above-described embodiment, Omit duplicate explanations. Furthermore, if it is clear that the effects obtained in the above-described embodiment can also be obtained in the modified example, the explanation thereof may be omitted.

(第1の変形例)
上述の実施の形態においては、補強部材31が基材20の内部に位置する例を示したが、これに限られることはなく、補強部材31が基材20の第1面21側(例えば、接着層60の内部)に設けられていてもよい。例えば、図12に示すように、補強部材31は、基材20の第1面21と電子部品51との間に位置していてもよい。図12に示す例において、補強部材31は、支持基板40の第2面42に位置している。
(First modification)
In the above-described embodiment, an example was shown in which the reinforcing member 31 is located inside the base material 20, but the reinforcing member 31 is located inside the base material 20 on the first surface 21 side (for example, It may be provided inside the adhesive layer 60). For example, as shown in FIG. 12, the reinforcing member 31 may be located between the first surface 21 of the base material 20 and the electronic component 51. In the example shown in FIG. 12, the reinforcing member 31 is located on the second surface 42 of the support substrate 40.

図13は、図12に示す配線基板10の配線52及びその周辺の構成要素の一例を拡大して示す断面図である。本変形例においても、上述の実施の形態の場合と同様に、配線52のうち補強部材31と重なっていない部分には蛇腹形状部57が形成されている。このため、基材20の変形に伴って配線52の全長が増加することや、配線52の断面積が減少することを抑制することができる。 FIG. 13 is an enlarged cross-sectional view showing an example of the wiring 52 and peripheral components of the wiring board 10 shown in FIG. 12. Also in this modification, a bellows-shaped portion 57 is formed in a portion of the wiring 52 that does not overlap with the reinforcing member 31, as in the above-described embodiment. Therefore, it is possible to suppress the total length of the wiring 52 from increasing and the cross-sectional area of the wiring 52 from decreasing due to deformation of the base material 20.

図14A(a)~(d)は、図12に示す伸縮性を有する配線基板10の製造方法を説明するための図である。 14A(a) to (d) are diagrams for explaining a method of manufacturing the stretchable wiring board 10 shown in FIG. 12.

まず、図14A(a)に示すように、基材20を準備する基材準備工程を実施する。続いて、図14A(b)に示すように、支持基板40を準備する支持基板準備工程を実施する。本変形例においては、支持基板準備工程において、図14A(b)に示すように、支持基板40の第1面41に電子部品51及び配線52を設ける。また、支持基板40の第2面42に補強部材31を設ける。支持基板40に補強部材31、電子部品51、配線52を設ける順序は任意である。 First, as shown in FIG. 14A(a), a base material preparation step for preparing the base material 20 is performed. Subsequently, as shown in FIG. 14A(b), a support substrate preparation step for preparing the support substrate 40 is performed. In this modification, in the support substrate preparation step, electronic components 51 and wiring 52 are provided on the first surface 41 of the support substrate 40, as shown in FIG. 14A(b). Further, a reinforcing member 31 is provided on the second surface 42 of the support substrate 40. The reinforcing member 31, electronic component 51, and wiring 52 may be provided in any order on the support substrate 40.

続いて、基材20に引張応力Tを加えて基材20を伸長させる第1工程を実施する。続いて、引張応力Tによって伸長した状態の基材20の第1面21側に、電子部品51及び配線52を設ける第2工程を実施する。本変形例においては、第2工程において、図14A(c)に示すように、伸長した状態の基材20の第1面21に、補強部材31、電子部品51、配線52及び補強部材31が設けられた支持基板40を、支持基板40の第2面42側から接合させる。 Subsequently, a first step is performed in which a tensile stress T is applied to the base material 20 to elongate the base material 20. Subsequently, a second step is performed in which the electronic component 51 and the wiring 52 are provided on the first surface 21 side of the base material 20 that has been stretched by the tensile stress T. In this modification, in the second step, the reinforcing member 31, the electronic component 51, the wiring 52, and the reinforcing member 31 are placed on the first surface 21 of the base material 20 in an expanded state, as shown in FIG. 14A(c). The provided support substrate 40 is joined from the second surface 42 side of the support substrate 40.

その後、基材20から引張応力Tを取り除く第3工程を実施する。これにより、図14A(d)において矢印Cで示すように、基材20が収縮し、基材20に接合されている支持基板40及び配線52にも変形が生じる。支持基板40の第3の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数よりも大きい。このため、支持基板40及び配線52の変形を、蛇腹形状部の生成として生じさせることができる。 After that, a third step of removing the tensile stress T from the base material 20 is performed. As a result, as shown by arrow C in FIG. 14A(d), the base material 20 contracts, and the support substrate 40 and wiring 52 bonded to the base material 20 are also deformed. The third elastic modulus of the support substrate 40 is larger than the first elastic modulus of the base material 20. Therefore, the support substrate 40 and the wiring 52 can be deformed as a bellows-shaped portion.

上記第3工程の後、基材20の第2面22側に実装用粘着層Xを設ける第4工程を実施する(図14A(d))。すなわち、この第4工程では、基材20の第2面22側に、基材20の第2面22側に貼り付けられる貼付面X1及びこの貼付面X1の反対側に位置して配線基板10が図示しない被実装体に実装されたときに被実装体に接する実装面X2を含み、通気性を有する実装用粘着層Xを設ける。アプリケーターやスクリーン印刷により全面に形成した後で、カッティングプロッタやレーザー加工にて切り込みを形成する方法が挙げられる。また、側面を貫通する場合や中に空洞を形成する場合は貫通孔や空洞となる型を用いて基材20に形成してもよい。また、追加の基材を含む場合は、追加の基材上に接着剤を形成後、追加の基材と接着剤を合わせた実装用接着層をパンチングやカッティングプロッタ、レーザーカッタを用いて切り込みを形成する方法もある。
なお、この第4工程において、例えば、図14Bに示すように、基材20の第2面22と実装用粘着層Xとの間に位置し且つ接着剤を含む貼付用接着層Yを設けて、基材20に貼付用接着層Yを介して実装用粘着層Xを貼り付ける貼付工程を実施するようにしてもよい。貼付用接着層Yの形成方法はアプリケーターやスクリーン印刷などが挙げられる。
また実装用粘着層Yに追加の基材を設けてもよい。なお、この場合、追加の基材が設けられた実装用粘着層に、例えば、引張強度を小さくするための既述の切り込みとして、上下方向に貫通する貫通孔を形成し、貼付用粘着層Yおよび追加層Nには切り込みを形成しないようにしてもよい。
After the third step, a fourth step of providing a mounting adhesive layer X on the second surface 22 side of the base material 20 is performed (FIG. 14A(d)). That is, in this fourth step, a pasting surface X1 is pasted on the second surface 22 side of the base material 20, and a wiring board 10 is pasted on the second surface 22 side of the base material 20, and the wiring board 10 is pasted on the opposite side of this pasting surface X1. A mounting adhesive layer X having air permeability is provided, including a mounting surface X2 that comes into contact with the mounting object when the mounting surface is mounted on the mounting object (not shown). An example of a method is to form the entire surface using an applicator or screen printing, and then form cuts using a cutting plotter or laser processing. Further, when penetrating the side surface or forming a cavity inside, it may be formed in the base material 20 using a mold that forms a through hole or cavity. In addition, if an additional base material is included, after forming an adhesive on the additional base material, cut the mounting adhesive layer, which is a combination of the additional base material and adhesive, using a punching, cutting plotter, or laser cutter. There is also a way to form.
In this fourth step, for example, as shown in FIG. 14B, a pasting adhesive layer Y containing an adhesive is provided between the second surface 22 of the base material 20 and the mounting adhesive layer X. You may make it carry out the sticking process which sticks the adhesive layer X for mounting on the base material 20 via the adhesive layer Y for sticking. Examples of the method for forming the adhesive layer Y for pasting include an applicator and screen printing.
Further, an additional base material may be provided on the mounting adhesive layer Y. In this case, a through hole penetrating in the vertical direction is formed in the mounting adhesive layer provided with the additional base material, for example, as the above-mentioned cut to reduce the tensile strength, and the mounting adhesive layer Y Also, the additional layer N may not have any incisions formed therein.

また、本変形例においては、支持基板40の第2面42に、電子部品51と重なるよう補強部材31が配置されている。このため、第3工程において基材20が収縮することの影響を電子部品51が受けることを抑制することができる。これにより、電子部品51が変形したり破損したりしてしまうことを抑制することができる。 Further, in this modification, the reinforcing member 31 is arranged on the second surface 42 of the support substrate 40 so as to overlap with the electronic component 51. Therefore, it is possible to suppress the electronic component 51 from being affected by the shrinkage of the base material 20 in the third step. This can prevent the electronic component 51 from being deformed or damaged.

(第2の変形例)
上述の実施の形態及び変形例1においては、電子部品51及び配線52が、基材20の第1の弾性係数よりも高い第3の弾性係数を有する支持基板40によって支持される例を示したが、これに限られることはない。図15に示すように、電子部品51及び配線52は、基材20の第1面21に設けられていてもよい。
(Second modification)
In the above-described embodiment and modification 1, an example was shown in which the electronic component 51 and the wiring 52 are supported by the support substrate 40 having a third elastic modulus higher than the first elastic modulus of the base material 20. However, it is not limited to this. As shown in FIG. 15, the electronic component 51 and the wiring 52 may be provided on the first surface 21 of the base material 20.

図16は、図15に示す配線基板10の配線52及びその周辺の構成要素の一例を拡大して示す断面図である。本変形例においても、上述の実施の形態の場合と同様に、配線52のうち補強部材31と重なっていない部分には蛇腹形状部57が形成されている。このため、基材20の変形に伴って配線52の全長が増加することや、配線52の断面積が減少することを抑制することができる。 FIG. 16 is an enlarged cross-sectional view showing an example of the wiring 52 of the wiring board 10 shown in FIG. 15 and components around it. Also in this modification, a bellows-shaped portion 57 is formed in a portion of the wiring 52 that does not overlap with the reinforcing member 31, as in the above-described embodiment. Therefore, it is possible to suppress the total length of the wiring 52 from increasing and the cross-sectional area of the wiring 52 from decreasing due to deformation of the base material 20.

図17(a)~(d)は、図15に示す伸縮性を有する配線基板10の製造方法を説明するための図である。 17(a) to (d) are diagrams for explaining a method of manufacturing the stretchable wiring board 10 shown in FIG. 15. FIG.

まず、図17(a)に示すように、基材20を準備する基材準備工程を実施する。本変形例においては、基材準備工程において、図17(a)に示すように、内部に補強部材31を設けた基材20を準備する。 First, as shown in FIG. 17(a), a base material preparation step for preparing the base material 20 is performed. In this modification, in the base material preparation step, as shown in FIG. 17(a), a base material 20 having a reinforcing member 31 provided therein is prepared.

続いて、図17(b)に示すように、基材20に引張応力Tを加えて基材20を伸長させる第1工程を実施する。続いて、図17(c)に示すように、引張応力Tによって伸長した状態の基材20の第1面21に、電子部品51及び配線52を設ける第2工程を実施する。 Subsequently, as shown in FIG. 17(b), a first step of applying tensile stress T to the base material 20 and elongating the base material 20 is performed. Subsequently, as shown in FIG. 17(c), a second step is performed in which electronic components 51 and wiring 52 are provided on the first surface 21 of the base material 20 which is stretched by the tensile stress T.

その後、基材20から引張応力Tを取り除く第3工程を実施する。これにより、図17(d)において矢印Cで示すように、基材20が収縮し、基材20に設けられている配線52にも変形が生じる。補強部材31は、配線52全体若しくは配線52の大部分と重ならないように配置されている。このため、配線52の変形は、蛇腹形状部の生成として生じる。 After that, a third step of removing the tensile stress T from the base material 20 is performed. As a result, as shown by arrow C in FIG. 17(d), the base material 20 contracts, and the wiring 52 provided on the base material 20 is also deformed. The reinforcing member 31 is arranged so as not to overlap the entire wiring 52 or most of the wiring 52. Therefore, the deformation of the wiring 52 occurs as a bellows-shaped portion is generated.

上記第3工程の後、基材20の第2面22側に実装用粘着層Xを設ける第4工程を実施する(図17(d))。すなわち、この第4工程では、基材20の第2面22側に、基材20の第2面22側に貼り付けられる貼付面X1及びこの貼付面X1の反対側に位置して配線基板10が図示しない被実装体に実装されたときに被実装体に接する実装面X2を含み、通気性を有する実装用粘着層Xを設ける。特に、この第4工程において、基材20の第2面22と実装用粘着層Xとの間に位置し且つ接着剤を含む貼付用接着層Yを設けて、基材20に貼付用接着層Yを介して実装用粘着層Xを貼り付ける貼付工程を実施する。 After the third step, a fourth step of providing a mounting adhesive layer X on the second surface 22 side of the base material 20 is performed (FIG. 17(d)). That is, in this fourth step, a pasting surface X1 is pasted on the second surface 22 side of the base material 20, and a wiring board 10 is pasted on the second surface 22 side of the base material 20, and the wiring board 10 is pasted on the opposite side of this pasting surface X1. A mounting adhesive layer X having air permeability is provided, including a mounting surface X2 that comes into contact with the mounting object when the mounting surface is mounted on the mounting object (not shown). Particularly, in this fourth step, a sticking adhesive layer Y containing adhesive is provided between the second surface 22 of the base material 20 and the mounting adhesive layer X, and the pasting adhesive layer Y is provided on the base material 20. A pasting process of pasting the mounting adhesive layer X through Y is carried out.

また、本変形例においては、基材20の第2面22に補強部材31が配置されている。このため、第1工程において基材20のうち電子部品51と重なる予定の部分が伸張することを抑制することができる。従って、第3工程において基材20のうち電子部品51と重なる部分が収縮することを抑制することができる。このことにより、基材20の変形に起因する応力が電子部品51に加わることを抑制することができ、電子部品51が変形したり破損したりしてしまうことを抑制することができる。 Further, in this modification, a reinforcing member 31 is arranged on the second surface 22 of the base material 20. Therefore, it is possible to suppress the portion of the base material 20 that is scheduled to overlap the electronic component 51 from expanding in the first step. Therefore, it is possible to suppress shrinkage of the portion of the base material 20 that overlaps with the electronic component 51 in the third step. By this, it is possible to suppress stress caused by the deformation of the base material 20 from being applied to the electronic component 51, and it is possible to suppress the electronic component 51 from being deformed or damaged.

(第3の変形例)
上述の実施の形態及び各変形例においては、電子部品51が、配線基板10に実装される前の段階で予めパッケージ化されたものである例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、電子部品51は、電子部品51の構成要素の一部が配線基板10に実装された後、一部の構成要素を封止することによって構成されるものであってもよい。
図18及び図19に示すように、パッケージ化された電子部品51を補強するために、ポッティング用の樹脂50を設けてもよい。この場合、図18に示すように、樹脂50は、電子部品51の全体を覆っていてもよい。若しくは、図19に示すように、樹脂50は、電子部品51の全体を覆っていなくてもよい。例えば、樹脂50は、電子部品51の周囲を補強するよう、電子部品51の周囲で補強部材31の端部と電子部品51の端部との間に位置していてもよい。図18及び図19のいずれの例においても、樹脂50は、補強部材31の端部よりも内側(電子部品51側)に位置することが好ましい。
(Third modification)
In the above-described embodiment and each modification example, the electronic component 51 is packaged in advance before being mounted on the wiring board 10. However, the present invention is not limited to this, and the electronic component 51 may be configured by mounting some of the components of the electronic component 51 on the wiring board 10 and then sealing some of the components. There may be.
As shown in FIGS. 18 and 19, a potting resin 50 may be provided to reinforce the packaged electronic component 51. In this case, as shown in FIG. 18, the resin 50 may cover the entire electronic component 51. Alternatively, as shown in FIG. 19, the resin 50 does not need to cover the entire electronic component 51. For example, the resin 50 may be located around the electronic component 51 between the end of the reinforcing member 31 and the end of the electronic component 51 so as to reinforce the periphery of the electronic component 51. In both the examples shown in FIGS. 18 and 19, the resin 50 is preferably located inside the end of the reinforcing member 31 (on the electronic component 51 side).

(第4の変形例)
上述の実施の形態及び各変形例においては、電子部品51が、配線基板10の各構成要素とは別の部材からなる部品である例を示した。下記の変形例においては、電子部品51が、配線基板10の複数の構成要素のうちの少なくとも1つの構成要素と一体的な部材を含む例について説明する。
(Fourth modification)
In the above-described embodiment and each modification example, the electronic component 51 is a component made of a member different from each component of the wiring board 10. In the following modification, an example will be described in which the electronic component 51 includes a member that is integral with at least one of the plurality of components of the wiring board 10.

図20は、一変形例に係る配線基板10を拡大して示す断面図である。図20に示すように、電子部品51は、配線基板10の配線52を構成する導電層と一体的な導電層を含む。図20に示す例において、配線52を構成する導電層及び電子部品51を構成する導電層はいずれも、支持基板40の第1面41上に位置している。配線52を構成する導電層には、蛇腹形状部57が現れている。一方、電子部品51を構成する導電層には補強部材31が重ねられており、このため、電子部品51を構成する導電層には蛇腹形状部が現れていない。 FIG. 20 is an enlarged cross-sectional view of a wiring board 10 according to a modified example. As shown in FIG. 20, electronic component 51 includes a conductive layer that is integral with the conductive layer that constitutes wiring 52 of wiring board 10. As shown in FIG. In the example shown in FIG. 20, the conductive layer that constitutes the wiring 52 and the conductive layer that constitutes the electronic component 51 are both located on the first surface 41 of the support substrate 40. A bellows-shaped portion 57 appears in the conductive layer constituting the wiring 52 . On the other hand, the reinforcing member 31 is overlaid on the conductive layer constituting the electronic component 51, so that no bellows-shaped portion appears in the conductive layer constituting the electronic component 51.

図21は、図20に示す電子部品51の一例を示す平面図である。図21に示す例において、電子部品51を構成する導電層は、配線52を構成する導電層よりも広い幅を有する。導電層の幅が変化する部分が、電子部品51の外縁512である。図21に示す電子部品51は、例えばパッドとして機能することができる。パッドには、検査用のプローブ、ソフトウェア書き換え用の端子などが接続される。 FIG. 21 is a plan view showing an example of the electronic component 51 shown in FIG. 20. In the example shown in FIG. 21, the conductive layer constituting the electronic component 51 has a wider width than the conductive layer constituting the wiring 52. The portion where the width of the conductive layer changes is the outer edge 512 of the electronic component 51. The electronic component 51 shown in FIG. 21 can function as a pad, for example. A probe for inspection, a terminal for rewriting software, etc. are connected to the pad.

図22は、図20に示す電子部品51のその他の例を示す平面図である。図22に示す例において、電子部品51を構成する導電層は、らせん状に延びる形状を有する。導電層がらせん状に延び始める部分が、電子部品51の外縁512である。図22に示すような、所定のパターンを有する導電層を含む電子部品51は、アンテナや圧力センサとして機能することができる。 FIG. 22 is a plan view showing another example of the electronic component 51 shown in FIG. 20. In the example shown in FIG. 22, the conductive layer constituting the electronic component 51 has a spirally extending shape. The portion where the conductive layer begins to extend spirally is the outer edge 512 of the electronic component 51. An electronic component 51 including a conductive layer having a predetermined pattern as shown in FIG. 22 can function as an antenna or a pressure sensor.

(第5の変形例)
図23は、配線基板10の一変形例を示す平面図である。配線基板10には、配線52に加えて、絶縁層45を介して配線52に積層された交差配線59が更に設けられている。本変形例においては、交差配線59が電子部品51を構成する。交差配線59は、平面視において配線52と交差するよう延びている。配線52と交差配線59との間に絶縁層45を設けることにより、交差配線59が配線52とショートが生じてしまうことを抑制することができる。絶縁層45を構成する材料としては、ポリイミド、アクリル、ウレタン、エポキシ等の有機系樹脂、あるいは、SiO、アルミナ等の無機系材料が用いられ得る。
(Fifth modification)
FIG. 23 is a plan view showing a modified example of the wiring board 10. As shown in FIG. In addition to the wiring 52, the wiring board 10 is further provided with a cross wiring 59 that is laminated on the wiring 52 with an insulating layer 45 interposed therebetween. In this modification, the cross wiring 59 constitutes the electronic component 51. The intersecting wiring 59 extends to intersect with the wiring 52 in plan view. By providing the insulating layer 45 between the wiring 52 and the crossing wiring 59, it is possible to prevent the crossing wiring 59 from shorting with the wiring 52. As a material constituting the insulating layer 45, an organic resin such as polyimide, acrylic, urethane, or epoxy, or an inorganic material such as SiO 2 or alumina may be used.

補強部材31は、図23に示すように、配線52を構成する導電層と電子部品51を構成する交差配線59の導電層に跨るように設けられている。これにより、配線基板10に例えば伸長や曲げ等の応力が加えられた際に、絶縁層45が割れたり絶縁性能が低下したりして、配線52と交差配線59とのショートが生じてしまうことを防ぐことができる。 As shown in FIG. 23, the reinforcing member 31 is provided so as to straddle the conductive layer constituting the wiring 52 and the conductive layer of the cross wiring 59 constituting the electronic component 51. As a result, when stress such as elongation or bending is applied to the wiring board 10, the insulating layer 45 may crack or the insulation performance may deteriorate, resulting in a short circuit between the wiring 52 and the cross wiring 59. can be prevented.

(配線基板の変形例)
上述の実施の形態及び各変形例においては、配線基板10が、基材20の第1面21側に搭載された電子部品51を備える例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、配線基板10は、電子部品51を備えていなくてもよい。例えば、電子部品51が搭載されていない状態の基材20に蛇腹形状部57が生じていてもよい。また、電子部品51が搭載されていない状態の支持基板40が基材20に貼り合されてもよい。また、配線基板10は、電子部品51が搭載されていない状態で出荷されてもよい。
(Modified example of wiring board)
In the above-described embodiment and each modification example, the wiring board 10 includes the electronic component 51 mounted on the first surface 21 side of the base material 20. However, the present invention is not limited to this, and the wiring board 10 may not include the electronic component 51. For example, the bellows-shaped portion 57 may be formed on the base material 20 without the electronic component 51 mounted thereon. Further, the support substrate 40 on which the electronic component 51 is not mounted may be bonded to the base material 20. Furthermore, the wiring board 10 may be shipped without the electronic component 51 mounted thereon.

なお、上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。 Although several modifications to the embodiment described above have been described, it is of course possible to apply a plurality of modifications in combination as appropriate.

10 配線基板
20 基材
21 第1面
22 第2面
31 補強部材
40 支持基板
41 第1面
42 第2面
51 電子部品
52 配線
53、54 山部
55、56 谷部
57 蛇腹形状部
60 接着層
X 実装用粘着層
X1 貼付面
X2 実装面
Y 貼付用接着層
Y1 第1接着面
Y2 第2接着面
N 追加層
N1 第1面
N2 第2面
10 Wiring board 20 Base material 21 First surface 22 Second surface 31 Reinforcing member 40 Support substrate 41 First surface 42 Second surface 51 Electronic component 52 Wiring 53, 54 Peaks 55, 56 Valley 57 Bellows-shaped portion 60 Adhesive layer X Adhesive layer for mounting X1 Pasting surface X2 Mounting surface Y Adhesive layer for pasting Y1 First adhesive surface Y2 Second adhesive surface N Additional layer N1 First surface N2 Second surface

Claims (21)

伸縮性を有する配線基板であって、
第1面及びこの第1面の反対側に位置する第2面を含み、第1の弾性係数を有する基材と、
前記基材の前記第1面側、若しくは前記第2面側に位置する配線と、
前記基材の前記第2面側に位置するとともに、前記基材の前記第2面側に貼り付けられる貼付面及びこの貼付面の反対側に位置して前記配線基板が被実装体に実装されたときに前記被実装体に接する実装面を含み、通気性を有する実装用粘着層と、
前記基材の前記第2面と前記実装用粘着層との間に位置し、前記基材に前記実装用粘着層を貼り付けるための接着剤を含む貼付用接着層と、を備え、
前記貼付用接着層の弾性係数は、前記基材の前記第1の弾性係数よりも、小さいものであり、
前記貼付用接着層には、切れ込みが形成されている、配線基板。
A wiring board having stretchability,
a base material including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and having a first elastic modulus;
Wiring located on the first surface side or the second surface side of the base material;
A bonding surface located on the second surface side of the base material and attached to the second surface side of the base material, and a bonding surface located on the opposite side of this bonding surface, the wiring board being mounted on the mounted object. an adhesive layer for mounting that includes a mounting surface that comes into contact with the object to be mounted and has air permeability;
a pasting adhesive layer located between the second surface of the base material and the mounting adhesive layer and containing an adhesive for pasting the mounting adhesive layer to the base material;
The elastic modulus of the adhesive layer for pasting is smaller than the first elastic modulus of the base material,
A wiring board , wherein a notch is formed in the adhesive layer for pasting .
前記基材の前記第2面と前記実装用粘着層の前記貼付面との間に位置し、第1面及び前記第1面の反対側の第2面を有する追加層をさらに備え、
前記追加層の弾性係数は、前記基材の前記第1の弾性係数よりも、小さい、請求項1に記載の配線基板。
further comprising an additional layer located between the second surface of the base material and the attachment surface of the mounting adhesive layer, and having a first surface and a second surface opposite to the first surface,
The wiring board according to claim 1 , wherein the additional layer has a smaller elastic modulus than the first elastic modulus of the base material.
前記実装用粘着層は、アクリル系接着剤、シリコーン系接着剤、ウレタン系接着剤、又は、エポキシ系接着剤を含む、請求項1ないし2のいずれか一項に記載の配線基板。 3. The wiring board according to claim 1, wherein the mounting adhesive layer contains an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, or an epoxy adhesive. 前記実装用粘着層には、切れ込みが形成されている、請求項3に記載の配線基板。 4. The wiring board according to claim 3 , wherein the mounting adhesive layer has a notch formed therein. 前記実装用粘着層は、前記基材よりも、硬度、又は、引張強度が小さい請求項1ないし4のいずれか一項に記載の配線基板。 5. The wiring board according to claim 1, wherein the mounting adhesive layer has lower hardness or tensile strength than the base material. 前記貼付用接着層は、シリコーン系接着剤、変成シリコーン系接着剤、変成シリコーン接着剤とエポキシ接着剤とを混合した接着剤、ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、又は、エポキシ系接着剤のいずれかを含む、請求項1に記載の配線基板。 The adhesive layer for pasting may be a silicone adhesive, a modified silicone adhesive, a mixture of a modified silicone adhesive and an epoxy adhesive, a urethane adhesive, an acrylic adhesive, or an epoxy adhesive. The wiring board according to claim 1, comprising any one of the above . 前記追加層は、エラストマーゴム、シリコーンゴム、ジェル、ゲル、又は、多孔質体を有する層である請求項2に記載の配線基板。 3. The wiring board according to claim 2, wherein the additional layer is a layer containing elastomer rubber, silicone rubber, gel, or a porous material. 前記実装用粘着層は、不織布、ウレタン、又は、発泡体を用いた材料を含む請求項1ないし7のいずれか一項に記載の配線基板。 8. The wiring board according to claim 1, wherein the mounting adhesive layer includes a material using nonwoven fabric, urethane, or foam. 前記基材は、シリコーンゴムを含む、請求項1ないし8のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 8 , wherein the base material contains silicone rubber. 前記配線は、前記基材の前記第1面の面内方向に沿って並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有する、請求項1ないし9のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 9 , wherein the wiring has a bellows-shaped portion including a plurality of peaks and valleys arranged along an in-plane direction of the first surface of the base material. . 前記配線と前記基材との間に位置し、前記第1の弾性係数よりも大きい第3の弾性係数を有し、前記配線を支持する支持基板を更に備える、請求項1ないし10のいずれか一項に記載の配線基板。 Any one of claims 1 to 10, further comprising a support substrate located between the wiring and the base material, having a third elastic modulus larger than the first elastic modulus, and supporting the wiring. The wiring board according to item 1. 前記基材の内部、前記基材の前記第1面側、又は前記基材の前記第2面側に位置し、前記基材の前記第1面の法線方向に沿って見た場合に前記配線基板に搭載される電子部品に少なくとも部分的に重なり、前記第1の弾性係数よりも大きい第2の弾性係数を有する補強部材を更に備える、請求項1ないし11のいずれか一項に記載の配線基板。 located inside the base material, on the first surface side of the base material, or on the second surface side of the base material, and when viewed along the normal direction of the first surface of the base material. 12. The reinforcing member according to claim 1, further comprising a reinforcing member that at least partially overlaps the electronic component mounted on the wiring board and has a second elastic modulus larger than the first elastic modulus. wiring board. 前記配線のうち前記第1面の法線方向に沿って見た場合に前記補強部材と重ならない部分は、前記基材の前記第1面の面内方向に沿って並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有する、請求項12に記載の配線基板。 A portion of the wiring that does not overlap with the reinforcing member when viewed along the normal direction of the first surface includes a plurality of peaks and valleys lined up in the in-plane direction of the first surface of the base material. The wiring board according to claim 12 , having a bellows-shaped portion including a portion. 前記配線の前記蛇腹形状部の振幅が1μm以上である、請求項13に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 13 , wherein the amplitude of the bellows-shaped portion of the wiring is 1 μm or more. 前記補強部材は、金属層を含む、請求項13に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 13 , wherein the reinforcing member includes a metal layer. 前記配線は、複数の導電性粒子を含む、請求項1ないし15のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 15 , wherein the wiring includes a plurality of conductive particles. 前記基材の前記第1面側に位置し、前記配線に電気的に接続される電極を有する電子部品を更に備える、請求項1ないし16のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 16 , further comprising an electronic component having an electrode located on the first surface side of the base material and electrically connected to the wiring. 前記基材の前記第1面の面内方向に沿う引張応力が前記基材に加えられていない第1状態における前記配線の抵抗値を第1抵抗値と称し、前記基材に引張応力を加えて前記基材を前記第1面の面内方向において前記第1状態に比べて30%伸長させた第2状態における前記配線の抵抗値を第2抵抗値と称する場合、前記第1抵抗値に対する、前記第1抵抗値と前記第2抵抗値の差の絶対値の比率が、20%以下である、請求項1ないし17のいずれか一項に記載の配線基板。 The resistance value of the wiring in a first state in which no tensile stress along the in-plane direction of the first surface of the base material is applied to the base material is referred to as a first resistance value, and the tensile stress is applied to the base material. When the resistance value of the wiring in a second state where the base material is elongated by 30% in the in-plane direction of the first surface compared to the first state is referred to as a second resistance value, 18. The wiring board according to claim 1, wherein a ratio of an absolute value of a difference between the first resistance value and the second resistance value is 20% or less. 伸縮性を有する配線基板の製造方法であって、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、第1の弾性係数を有する基材に引張応力を加えて、前記基材を伸長させる第1工程と、
伸長した状態の前記基材の前記第1面側、若しくは前記第2面側に配線を設ける第2工程と、
前記基材から前記引張応力を取り除く第3工程と、
前記基材の前記第2面側に、前記基材の前記第2面側に貼り付けられる貼付面及びこの貼付面の反対側に位置して前記配線基板が被実装体に実装されたときに前記被実装体に接する実装面を含む実装用粘着層を、設ける第4工程と、を備え、
前記実装用粘着層の弾性係数は、前記基材の前記第1の弾性係数よりも、小さいものであり、
前記第4工程において、前記基材の前記第2面と前記実装用粘着層との間に位置し且つ接着剤を含む貼付用接着層を設けて、前記基材に前記貼付用接着層を介して前記実装用粘着層を貼り付ける貼付工程を備え、
前記貼付用接着層の弾性係数は、前記基材の前記第1の弾性係数よりも、小さいものであり、
前記貼付用接着層には、切れ込みが形成されている、配線基板の製造方法。
A method for manufacturing a stretchable wiring board, the method comprising:
A first step of elongating the base material by applying tensile stress to the base material, which includes a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and has a first elastic modulus;
a second step of providing wiring on the first surface side or the second surface side of the base material in an expanded state;
a third step of removing the tensile stress from the base material;
On the second surface side of the base material, an attachment surface that is attached to the second surface side of the base material, and an attachment surface located on the opposite side of this attachment surface when the wiring board is mounted on a mounted object. a fourth step of providing a mounting adhesive layer including a mounting surface in contact with the mounted object;
The elastic modulus of the mounting adhesive layer is smaller than the first elastic modulus of the base material,
In the fourth step, a pasting adhesive layer containing an adhesive is provided between the second surface of the base material and the mounting adhesive layer, and the pasting adhesive layer is attached to the base material through the pasting adhesive layer. a pasting step of pasting the mounting adhesive layer,
The elastic modulus of the adhesive layer for pasting is smaller than the first elastic modulus of the base material,
A method for manufacturing a wiring board , wherein a notch is formed in the adhesive layer for pasting .
前記基材の前記第2面と前記実装用粘着層の前記貼付面との間に位置し、第1面及び前記第1面の反対側の第2面を有する追加層を形成する追加層形成工程をさらに備え、
前記追加層の弾性係数は、前記基材の前記第1の弾性係数よりも、小さい、請求項19に記載の配線基板の製造方法。
forming an additional layer located between the second surface of the base material and the attachment surface of the mounting adhesive layer and having a first surface and a second surface opposite to the first surface; With further processes,
20. The method for manufacturing a wiring board according to claim 19 , wherein the additional layer has a smaller elastic modulus than the first elastic modulus of the base material.
前記配線は、前記基材の前記第1面の面内方向に沿って並ぶ複数の山部及び谷部を含む蛇腹形状部を有する、請求項19ないし20のいずれか一項に記載の配線基板の製造方法。 The wiring board according to any one of claims 19 to 20 , wherein the wiring has a bellows-shaped portion including a plurality of peaks and valleys arranged along an in-plane direction of the first surface of the base material. manufacturing method.
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