JP2022133165A - Wiring board, manufacturing method of wiring board and loop antenna - Google Patents

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Shinya Tanaka
雄一 天達
Yuichi Amadachi
祥 山田
Sho Yamada
直子 沖本
Naoko Okimoto
健一 小川
Kenichi Ogawa
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Abstract

To provide a wiring board having stable characteristics, a manufacturing method of the wiring board and a loop antenna.SOLUTION: In a loop antenna, a wiring board 10 comprises: a substrate 20 including a first face and a second face which is positioned at an opposite side of the first face, and having flexibility; and a wire 50 positioned at the side of the first face of the substrate. The wire includes: a plurality of crest parts arranged side by side in a length direction of the wire; a first side edge 501 and a second side edge 502 which extend in the length direction; a slit 60 extending in the length direction; a first portion 51 positioned between the slit and the first side edge and extending in the length direction; a second portion 52 positioned between the slit and the second side edge and extending in the length direction; and a connection portion 55 connecting the first portion and the second portion.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本開示の実施形態は、配線基板及びその製造方法に関する。また、本開示の実施形態は、ループアンテナに関する。 An embodiment of the present disclosure relates to a wiring board and a manufacturing method thereof. Embodiments of the present disclosure also relate to loop antennas.

近年、伸縮性などの変形性を有する電子デバイスの研究がおこなわれている。例えば、伸縮性を有する基材及び伸縮性を有する銀配線を備える電子デバイスが知られている。また、伸縮性を有する基材及び馬蹄形の配線を備える電子デバイスが知られている(例えば特許文献1参照)。また、特許文献2は、基材と、基材に設けられた配線と、を備え、伸縮性を有する配線基板を開示している。特許文献2においては、予め伸長させた状態の基材に回路を設け、回路を形成した後に基材を弛緩させる、という製造方法を採用している。 In recent years, research has been conducted on electronic devices having deformability such as stretchability. For example, an electronic device is known that includes a stretchable base material and stretchable silver wiring. Further, an electronic device is known that includes a stretchable base material and horseshoe-shaped wiring (see, for example, Patent Document 1). Further, Patent Literature 2 discloses a flexible wiring board that includes a base material and wiring provided on the base material. Patent Document 2 employs a manufacturing method in which a circuit is provided on a pre-stretched base material, and the base material is relaxed after the circuit is formed.

特開2013-187308号公報JP 2013-187308 A 特開2007-281406号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-281406

基材が弛緩状態にある場合、基材に設けられている配線は、複数の山部が基材の面内方向に沿って繰り返し現れる蛇腹形状部を有する。この場合、基材を伸長させると、配線は、蛇腹形状部を面内方向に広げることによって基材の伸張に追従することができる。このため、蛇腹形状部を有するタイプの配線基板によれば、基材の伸縮に伴って配線の抵抗値が変化することを抑制できる。 When the base material is in a relaxed state, the wiring provided on the base material has a bellows-shaped portion in which a plurality of peaks appear repeatedly along the in-plane direction of the base material. In this case, when the base material is stretched, the wiring can follow the expansion of the base material by expanding the bellows-shaped portion in the in-plane direction. Therefore, according to the wiring board of the type having the bellows-shaped portion, it is possible to suppress the change in the resistance value of the wiring due to the expansion and contraction of the base material.

蛇腹形状部の山部の高さが、位置によってばらつくことがある。山部の高さがばらつく原因としては、基材の厚みのばらつき、伸長の際の基材伸びのばらつき、基材に設けられる配線の分布密度のばらつきなどが考えられる。また、基材が大きく伸長すると、蛇腹形状部の周期が乱れることにより、山部の高さが局所的に大きくなることもある。山部の高さが位置によってばらつくと、配線に生じる湾曲や屈曲の程度も局所的に大きくなる。特に、基材の伸張の程度が大きい場合には、配線に折れなどの破損が生じてしまうことが考えられる。 The height of the ridges of the accordion-shaped portion may vary depending on the position. Possible causes of variations in the height of the ridges include variations in the thickness of the base material, variations in the elongation of the base material during elongation, variations in the distribution density of wiring provided on the base material, and the like. Further, when the base material is greatly elongated, the period of the bellows-shaped portion is disturbed, and the height of the ridges may be locally increased. If the height of the ridge varies depending on the position, the degree of bending or bending that occurs in the wiring also increases locally. In particular, when the degree of expansion of the base material is large, it is conceivable that the wiring may be broken or otherwise damaged.

本開示の実施形態は、このような課題を効果的に解決し得る配線基板及び配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 An object of the embodiments of the present disclosure is to provide a wiring board and a wiring board manufacturing method that can effectively solve such problems.

本開示の一実施形態は、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置する配線と、を備え、
前記配線は、前記配線の長さ方向に並ぶ複数の山部と、前記長さ方向に延びる第1側縁及び第2側縁と、前記長さ方向に延びるスリットと、前記スリットと前記第1側縁との間に位置し、前記長さ方向に延びる第1部分と、前記スリットと前記第2側縁との間に位置し、前記長さ方向に延びる第2部分と、前記第1部分と前記第2部分とを接続する接続部分と、を備える、配線基板である。
One embodiment of the present disclosure provides:
a stretchable base material including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface;
a wiring located on the first surface side of the base material,
The wiring includes a plurality of ridges arranged in the length direction of the wiring, a first side edge and a second side edge extending in the length direction, a slit extending in the length direction, the slit and the first side edge. a first portion located between the side edge and extending in the length direction; a second portion located between the slit and the second side edge and extending in the length direction; and a connection portion that connects the second portion.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線は、前記配線が延びる方向が変化するコーナー配線を含み、前記スリットは、前記コーナー配線に位置するコーナースリットを含んでいてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the wiring may include a corner wiring whose extending direction changes, and the slit may include a corner slit located in the corner wiring.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記基材は、熱可塑性エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゲル又はシリコンゲルを含んでいてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the base material may contain thermoplastic elastomer, silicone rubber, urethane gel, or silicone gel.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記基材は、前記スリットに重なるスリットを備えていてもよい。 In the wiring board according to an embodiment of the present disclosure, the base may have a slit overlapping the slit.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記配線を支持する支持基板を備えていてもよい。 A wiring board according to an embodiment of the present disclosure may include a support substrate that supports the wiring.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記支持基板の弾性係数は、前記基材の弾性係数の10倍以上であってもよい。 In the wiring board according to an embodiment of the present disclosure, the modulus of elasticity of the support substrate may be ten times or more the modulus of elasticity of the base material.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記支持基板は、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂、又はポリエチレンテレフタラートを含んでいてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the support substrate may contain polyethylene naphthalate, polyimide, polycarbonate, acrylic resin, or polyethylene terephthalate.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記支持基板は、前記スリットに重なる支持基板スリットを備えていてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the support substrate may include a support substrate slit that overlaps the slit.

本開示の一実施形態による配線基板は、前記基材の前記第1面側に位置する制御層を備えていてもよい。 A wiring board according to an embodiment of the present disclosure may include a control layer located on the first surface side of the base material.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記制御層は、前記基材よりも大きい弾性係数を有していてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the control layer may have a larger elastic modulus than the base material.

本開示の一実施形態による配線基板は、平行に延びる2本の前記配線を備え、前記制御層は、2本の前記配線の間に位置し、前記長さ方向に延びる第1制御層を含んでいてもよい。 A wiring board according to an embodiment of the present disclosure includes two of the wires extending in parallel, and the control layer includes a first control layer located between the two wires and extending in the length direction. You can stay.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記制御層は、前記長さ方向に並ぶ複数の第2制御層を含んでいてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the control layer may include a plurality of second control layers arranged in the length direction.

本開示の一実施形態による配線基板は、平行に延びる2本の前記配線を備え、前記第2制御層は、2本の前記配線に重なっていてもよい。 The wiring board according to an embodiment of the present disclosure may include two of the wirings extending in parallel, and the second control layer may overlap the two of the wirings.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線は、前記配線が延びる方向が変化するコーナー配線を含み、前記第2制御層は、前記コーナー配線に重なっており、前記第2制御層の幅は、少なくとも部分的に、内側に向かうにつれて小さくなってもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the wiring includes a corner wiring whose extending direction changes, the second control layer overlaps the corner wiring, and the width of the second control layer may, at least in part, decrease inwardly.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記第1側縁は、前記配線の幅方向に沿って見た場合に前記スリットの端部において重なる段部を含んでいてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the first side edge may include a stepped portion that overlaps an end portion of the slit when viewed along the width direction of the wiring.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記スリットは、湾曲した端部を含んでいてもよい。 In the wiring board according to an embodiment of the present disclosure, the slit may include curved ends.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記スリットは、前記長さ方向に延びる第1スリット及び第2スリットを含み、前記配線は、前記第1スリットと前記第1側縁との間に位置する前記第1部分と、前記第2スリットと前記第2側縁との間に位置する前記第2部分と、前記第1スリットと前記第2スリットとの間に位置する第3部分と、を含んでいてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the slit includes a first slit and a second slit extending in the length direction, and the wiring is positioned between the first slit and the first side edge. the first portion located between the second slit and the second side edge; and the third portion located between the first slit and the second slit. may contain.

本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線は、前記長さ方向に並ぶ複数の前記スリットを備えていてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the wiring may include a plurality of slits arranged in the length direction.

本開示の一実施形態は、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置し、ループを構成する配線と、を備え、
前記配線は、前記配線の長さ方向に並ぶ複数の山部と、前記長さ方向に延びる第1側縁及び第2側縁と、前記長さ方向に延びるスリットと、前記スリットと前記第1側縁との間に位置し、前記長さ方向に延びる第1部分と、前記スリットと前記第2側縁との間に位置し、前記長さ方向に延びる第2部分と、前記第1部分と前記第2部分とを接続する接続部分と、を備える、ループアンテナである。
One embodiment of the present disclosure provides:
a stretchable base material including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface;
a wiring located on the first surface side of the base material and forming a loop,
The wiring includes a plurality of ridges arranged in the length direction of the wiring, a first side edge and a second side edge extending in the length direction, a slit extending in the length direction, the slit and the first side edge. a first portion located between the side edge and extending in the length direction; a second portion located between the slit and the second side edge and extending in the length direction; and a connection portion that connects the second portion to the loop antenna.

本開示の一実施形態は、
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材に引張応力を加えて、前記基材を伸長させる伸長工程と、
前記伸長工程によって伸長した状態の前記基材の第1面側に配線を設ける配線形成工程と、
前記基材から張力を取り除く収縮工程と、を備え、
前記配線は、前記配線の長さ方向に並ぶ複数の山部と、前記長さ方向に延びる第1側縁及び第2側縁と、前記長さ方向に延びるスリットと、前記スリットと前記第1側縁との間に位置し、前記長さ方向に延びる第1部分と、前記スリットと前記第2側縁との間に位置し、前記長さ方向に延びる第2部分と、前記第1部分と前記第2部分とを接続する接続部分と、を備える、配線基板の製造方法である。
One embodiment of the present disclosure provides:
an elongation step of applying a tensile stress to a stretchable base material including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface to elongate the base material;
a wiring forming step of providing wiring on the first surface side of the base material stretched by the stretching step;
a shrinking step that removes tension from the substrate;
The wiring includes a plurality of ridges arranged in the length direction of the wiring, a first side edge and a second side edge extending in the length direction, a slit extending in the length direction, the slit and the first side edge. a first portion located between the side edge and extending in the length direction; a second portion located between the slit and the second side edge and extending in the length direction; and a connection portion that connects the second portion to the second portion.

本開示の実施形態によれば、配線基板に生じる山部を制御できる。 According to the embodiments of the present disclosure, it is possible to control the ridges formed on the wiring board.

一実施の形態に係る配線基板を示す平面図である。1 is a plan view showing a wiring board according to one embodiment; FIG. 配線基板の配線を拡大して示す平面図である。FIG. 2 is an enlarged plan view showing wiring of a wiring substrate; 図2の配線基板のA-A線に沿った断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the wiring substrate of FIG. 2 taken along line AA; 配線基板に生じる山部の一例を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing an example of ridges formed on a wiring board; 図4の配線基板のB-B線に沿った断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the wiring substrate of FIG. 4 taken along line BB; 配線基板の断面図のその他の例である。It is another example of the cross-sectional view of the wiring board. 配線基板の断面図のその他の例である。It is another example of the cross-sectional view of the wiring board. 配線基板の断面図のその他の例である。It is another example of the cross-sectional view of the wiring board. 配線基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of a wiring board. 伸長した状態の配線基板を拡大して示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing an enlarged wiring board in an extended state; 第1の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a first modified example; 配線基板に生じる山部の一例を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of ridges formed on a wiring board; 第1の変形例に係る配線基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the wiring board based on a 1st modification. 第2の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a second modified example; 第3の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a third modified example; 第4の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a fourth modified example; 第5の変形例に係る配線を示す平面図である。It is a top view which shows the wiring which concerns on a 5th modification. 第6の変形例に係る配線を示す平面図である。It is a top view which shows the wiring which concerns on a 6th modification. 第7の変形例に係る配線を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing wiring according to a seventh modification; 第8の変形例に係る配線を示す平面図である。FIG. 20 is a plan view showing wiring according to an eighth modified example; 第9の変形例に係る配線を示す平面図である。FIG. 21 is a plan view showing wiring according to a ninth modification; 第10の変形例に係る配線基板を示す平面図である。FIG. 20 is a plan view showing a wiring board according to a tenth modification; 配線基板の配線を拡大して示す平面図である。FIG. 2 is an enlarged plan view showing wiring of a wiring substrate; 第11の変形例に係る配線を示す平面図である。FIG. 21 is a plan view showing wiring according to an eleventh modification; 第12の変形例に係る配線を示す平面図である。FIG. 20 is a plan view showing wiring according to a twelfth modification; 第13の変形例に係る配線を示す平面図である。FIG. 21 is a plan view showing wiring according to a thirteenth modification; 第14の変形例に係る配線を示す平面図である。FIG. 20 is a plan view showing wiring according to a fourteenth modification; 第15の変形例に係る配線を示す平面図である。FIG. 20 is a plan view showing wiring according to a fifteenth modification; 第16の変形例に係る配線基板を示す平面図である。FIG. 20 is a plan view showing a wiring board according to a sixteenth modification; 配線基板のコーナー配線を拡大して示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing an enlarged corner wiring of the wiring substrate; 第17の変形例に係るコーナー配線を示す平面図である。FIG. 22 is a plan view showing a corner wiring according to a seventeenth modification; 第18の変形例に係るコーナー配線を示す平面図である。FIG. 20 is a plan view showing a corner wiring according to an eighteenth modification; 第19の変形例に係るコーナー配線を示す平面図である。FIG. 20 is a plan view showing a corner wiring according to a nineteenth modification; 第20の変形例に係る配線基板を示す断面図である。FIG. 21 is a cross-sectional view showing a wiring board according to a twentieth modification; 配線基板に生じる山部の一例を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of ridges formed on a wiring board; 第21の変形例に係る制御層を示す平面図である。FIG. 20 is a plan view showing a control layer according to a twenty-first modification; 図36の配線基板のC-C線に沿った断面図である。FIG. 37 is a cross-sectional view of the wiring substrate of FIG. 36 taken along line CC; 第22の変形例に係る制御層を示す平面図である。FIG. 20 is a plan view showing a control layer according to a twenty-second modification; 第23の変形例に係る制御層を示す平面図である。FIG. 21 is a plan view showing a control layer according to a twenty-third modification; 第24の変形例に係る制御層を示す平面図である。FIG. 20 is a plan view showing a control layer according to a twenty-fourth modification; 第25の変形例に係る配線基板を示す平面図である。FIG. 20 is a plan view showing a wiring board according to a twenty-fifth modification; 第26の変形例に係る配線基板を示す平面図である。FIG. 20 is a plan view showing a wiring board according to a twenty-sixth modification; 第27の変形例に係る配線基板を示す平面図である。FIG. 20 is a plan view showing a wiring board according to a twenty-seventh modification;

以下、本開示の実施形態に係る配線基板の構成及びその製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例である。本開示の解釈は、これらの実施形態には限定されない。本明細書において、「基板」、「基材」、「シート」、「フィルム」など用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「基板」の概念は、基材、シート、フィルムと呼ばれ得るような部材も含む。本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等の解釈は、厳密な意味には限定されず、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含む。 Hereinafter, a configuration of a wiring board and a method for manufacturing the same according to embodiments of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. The embodiments described below are examples of embodiments of the present disclosure. Interpretation of this disclosure is not limited to these embodiments. As used herein, the terms "substrate", "substrate", "sheet", "film" and the like are not to be distinguished from each other based solely on their designation. For example, the concept of "substrate" also includes such members as may be referred to as substrates, sheets, and films. Interpretations of terms such as "parallel" and "perpendicular" and values of lengths and angles used herein to specify shapes and geometric conditions as well as degrees thereof are not strictly limited. However, it includes the extent to which similar functions can be expected.

本実施形態で参照する図面において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号を付す。同一の符号又は類似の符号が付された部分の繰り返しの説明は省略される場合がある。図面の寸法比率は、説明の都合上、実際の比率とは異なる場合がある。構成の一部が図面から省略される場合がある。 In the drawings referred to in this embodiment, the same reference numerals or similar reference numerals are given to the same parts or parts having similar functions. Repeated descriptions of parts to which the same or similar reference numerals are attached may be omitted. The dimensional ratios in the drawings may differ from the actual ratios for convenience of explanation. Some configurations may be omitted from the drawings.

本明細書において、あるパラメータに関して複数の上限値の候補及び複数の下限値の候補が挙げられている場合、そのパラメータの数値範囲は、任意の1つの上限値の候補と任意の1つの下限値の候補とを組み合わせることによって構成されてもよい。例えば、「パラメータBは、例えばA1以上であり、A2以上であってもよく、A3以上であってもよい。パラメータBは、例えばA4以下であり、A5以下であってもよく、A6以下であってもよい。」と記載されている場合を考える。この場合、パラメータBの数値範囲は、A1以上A4以下であってもよく、A1以上A5以下であってもよく、A1以上A6以下であってもよく、A2以上A4以下であってもよく、A2以上A5以下であってもよく、A2以上A6以下であってもよく、A3以上A4以下であってもよく、A3以上A5以下であってもよく、A3以上A6以下であってもよい。 In this specification, when multiple upper limit candidates and multiple lower limit candidates are given for a parameter, the numerical range of the parameter is any one upper limit candidate and any one lower limit value. may be configured by combining the candidates of For example, "Parameter B is, for example, A1 or more, may be A2 or more, or may be A3 or more. Parameter B may be, for example, A4 or less, may be A5 or less, or A6 or less. There may be.” In this case, the numerical range of the parameter B may be A1 or more and A4 or less, A1 or more and A5 or less, A1 or more and A6 or less, or A2 or more and A4 or less, It may be A2 or more and A5 or less, A2 or more and A6 or less, A3 or more and A4 or less, A3 or more and A5 or less, or A3 or more and A6 or less.

(配線基板)
図1は、本実施の形態に係る配線基板10を示す平面図である。本実施の形態においては、配線基板10がループアンテナ1を構成する例を説明する。ループアンテナ1は、例えば、無線による通信や給電のために用いられる。配線基板10は、基材20及び配線50を少なくとも備える。図2は、配線50を拡大して示す平面図である。図3は、図2の配線基板10のA-A線に沿った断面図である。
(wiring board)
FIG. 1 is a plan view showing a wiring substrate 10 according to this embodiment. In this embodiment, an example in which the wiring substrate 10 constitutes the loop antenna 1 will be described. The loop antenna 1 is used, for example, for wireless communication and power supply. The wiring board 10 includes at least the base material 20 and the wiring 50 . FIG. 2 is a plan view showing the wiring 50 in an enlarged manner. FIG. 3 is a cross-sectional view of the wiring substrate 10 of FIG. 2 taken along line AA.

〔基材〕
基材20は、少なくとも1つの方向において伸縮性を有するよう構成された部材である。基材20は、第1面21と、第1面21の反対側に位置する第2面22と、を含む。図1に示す例において、基材20は、第1面21の法線方向に沿って見た場合に、x方向に延びる一対の辺と、x方向に交差するy方向に延びる一対の辺とを含む四角形状を有する。y方向は、図1に示すように、x方向に直交していてもよい。図示はしないが、y方向は、x方向に直交していなくてもよい。以下の説明において、第1面21の法線方向に沿って配線基板10又は配線基板10の構成要素を見ることを、単に「平面視」とも称する。本実施の形態において、基材20は、少なくともx方向において伸縮性を有する。基材20はx方向以外の方向においても伸縮性を有していてもよい。例えば、基材20は、y方向においても伸縮性を有していてもよい。
〔Base material〕
The base material 20 is a member configured to be stretchable in at least one direction. The substrate 20 includes a first side 21 and a second side 22 opposite the first side 21 . In the example shown in FIG. 1, the base material 20 has a pair of sides extending in the x direction and a pair of sides extending in the y direction intersecting the x direction when viewed along the normal direction of the first surface 21. It has a square shape containing The y-direction may be orthogonal to the x-direction, as shown in FIG. Although not shown, the y-direction need not be orthogonal to the x-direction. In the following description, viewing the wiring board 10 or components of the wiring board 10 along the normal direction of the first surface 21 is also simply referred to as "plan view". In this embodiment, the base material 20 has elasticity at least in the x-direction. The base material 20 may also have stretchability in directions other than the x-direction. For example, the base material 20 may also have elasticity in the y direction.

基材20の厚みT1は、例えば10μmであり、20μm以上であってもよく、30μm以上であってもよい。基材20の厚みT1は、例えば10mm以下であり、3mm以下であってもよく、1mm以下であってもよい。基材20の厚みT1を10μm以上にすることにより、基材20の耐久性を確保することができる。基材20の厚みT1を10mm以下にすることにより、配線基板10の装着快適性を確保することができる。基材20の厚みT1を小さくしすぎると、基材20の伸縮性が損なわれる場合がある。 The thickness T1 of the base material 20 is, for example, 10 μm, may be 20 μm or more, or may be 30 μm or more. The thickness T1 of the base material 20 is, for example, 10 mm or less, may be 3 mm or less, or may be 1 mm or less. By setting the thickness T1 of the base material 20 to 10 μm or more, the durability of the base material 20 can be ensured. By setting the thickness T1 of the base material 20 to 10 mm or less, the wearing comfort of the wiring board 10 can be ensured. If the thickness T1 of the base material 20 is too small, the stretchability of the base material 20 may be impaired.

基材20の伸縮性とは、基材20が、常態である非伸長状態から伸長でき、その後、伸長状態から解放したときに基材20が復元できる性質をいう。以下の説明において、伸長状態から解放したときに復元することができる性質のことを、復元性とも称する。非伸長状態とは、引張応力が加えられていない時の基材20の状態である。破壊されることなく基材20が非伸長状態から伸長可能な程度は、例えば1%以上であり、20%以上であってもよく、75%以上であってもよい。このような特性を有する基材20を用いることにより、配線基板10が全体として伸縮性を有することができる。さらに、人の腕などの身体の一部に取り付けられる、高い伸縮が必要な製品や用途において、配線基板10を使用することができる。一般に、人の脇の下に取り付ける製品には、垂直方向において72%、水平方向において27%の伸縮性が必要であると言われている。また、人の膝、肘、臀部、足首、脇部に取り付ける製品には、垂直方向において26%以上42%以下の伸縮性が必要であると言われている。また、人のその他の部位に取り付ける製品には、20%未満の伸縮性が必要であると言われている。 The stretchability of the base material 20 refers to the property that the base material 20 can be stretched from its normal non-stretched state, and then the base material 20 can be restored when released from the stretched state. In the following description, the property of being able to restore itself when released from the stretched state is also referred to as resilience. The non-stretched state is the state of substrate 20 when no tensile stress is applied. The extent to which the base material 20 can be stretched from the non-stretched state without being destroyed is, for example, 1% or more, may be 20% or more, or may be 75% or more. By using the base material 20 having such characteristics, the wiring board 10 as a whole can have elasticity. Furthermore, the wiring board 10 can be used in products and applications that require a high degree of expansion and contraction and that are attached to a part of the body such as a human arm. Generally, it is said that a product to be applied to a person's armpit should have a stretchability of 72% in the vertical direction and 27% in the horizontal direction. In addition, it is said that products that are attached to the knees, elbows, buttocks, ankles, and armpits of a person must have a stretchability of 26% or more and 42% or less in the vertical direction. It is also said that less than 20% stretchability is required for products that are attached to other parts of the human body.

非伸長状態にある基材20の形状と、非伸長状態から伸長された後に再び非伸長状態に戻ったときの基材20の形状との差が小さいことが好ましい。この差のことを、以下の説明において形状変化とも称する。基材20の形状変化は、面積比で例えば20%以下であり、10%以下であってもよく、5%以下であってもよい。形状変化の小さい基材20を用いることにより、後述する山部や谷部の形成が容易になる。 It is preferable that the difference between the shape of the substrate 20 in the non-stretched state and the shape of the substrate 20 when it returns to the non-stretched state after being stretched from the non-stretched state is small. This difference is also referred to as shape change in the following description. The change in shape of the substrate 20 is, for example, 20% or less, may be 10% or less, or may be 5% or less in terms of area ratio. By using the base material 20 with a small change in shape, formation of peaks and valleys, which will be described later, is facilitated.

基材20の伸縮性を表すパラメータの例として、基材20の弾性係数を挙げることができる。基材20の弾性係数は、例えば10MPa以下であり、1MPa以下であってもよい。このような弾性係数を有する基材20を用いることにより、配線基板10が全体として伸縮性を有することができる。以下の説明において、基材20の弾性係数のことを、第1の弾性係数とも称する。基材20の第1の弾性係数は、例えば1kPa以上であり、10kPa以上であってもよい。 An example of a parameter representing the stretchability of the base material 20 is the elastic modulus of the base material 20 . The elastic modulus of the base material 20 is, for example, 10 MPa or less, and may be 1 MPa or less. By using the base material 20 having such an elastic modulus, the wiring board 10 as a whole can have stretchability. In the following description, the elastic modulus of the base material 20 is also referred to as the first elastic modulus. The first elastic modulus of the base material 20 is, for example, 1 kPa or more, and may be 10 kPa or more.

基材20の第1の弾性係数を算出する方法としては、基材20のサンプルを用いて、JIS K6251に準拠して引張試験を実施するという方法を採用できる。また、基材20のサンプルの弾性係数を、ISO14577に準拠してナノインデンテーション法によって測定するという方法を採用してもよい。ナノインデンテーション法において用いる測定器としては、ナノインデンターを用いることができる。基材20のサンプルを準備する方法としては、配線基板10から基材20の一部をサンプルとして取り出す方法や、配線基板10を構成する前の基材20の一部をサンプルとして取り出す方法が考えられる。その他にも、基材20の第1の弾性係数を算出する方法として、基材20を構成する材料を分析し、材料の既存のデータベースに基づいて基材20の第1の弾性係数を算出するという方法を採用できる。本願における弾性係数は、25℃の環境下における弾性係数である。 As a method of calculating the first elastic modulus of the base material 20, a method of performing a tensile test in accordance with JIS K6251 using a sample of the base material 20 can be adopted. Alternatively, a method of measuring the elastic modulus of a sample of the base material 20 by a nanoindentation method in compliance with ISO14577 may be adopted. A nanoindenter can be used as a measuring instrument used in the nanoindentation method. As a method of preparing a sample of the base material 20, a method of taking out a part of the base material 20 from the wiring board 10 as a sample and a method of taking out a part of the base material 20 before forming the wiring board 10 as a sample are considered. be done. In addition, as a method of calculating the first elastic modulus of the base material 20, the material constituting the base material 20 is analyzed, and the first elastic modulus of the base material 20 is calculated based on an existing material database. method can be adopted. The elastic modulus in the present application is the elastic modulus in an environment of 25°C.

基材20の伸縮性を表すパラメータのその他の例として、基材20の曲げ剛性を挙げることができる。曲げ剛性は、対象となる部材の断面二次モーメントと、対象となる部材を構成する材料の弾性係数との積である。曲げ剛性の単位はN・m又はPa・mである。基材20の断面二次モーメントは、基材20のうち配線50と重なっている部分を、配線基板10の伸縮方向に直交する平面によって切断した場合の断面に基づいて算出される。 Another example of the parameter representing the stretchability of the base material 20 is the flexural rigidity of the base material 20 . Bending stiffness is the product of the area moment of inertia of the member under consideration and the elastic modulus of the material that constitutes the member under consideration. The unit of bending stiffness is N·m 2 or Pa·m 4 . The geometrical moment of inertia of the base material 20 is calculated based on a cross section obtained by cutting a portion of the base material 20 overlapping the wiring 50 along a plane orthogonal to the expansion/contraction direction of the wiring board 10 .

基材20は、エラストマーを主成分として含んでいてもよい。また、基材20は、織物、編物、不織布などの布を主成分として含んでいてもよい。なお「主成分」とは、対象となる構成要素において51重量%以上を占める成分である。エラストマーとしては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができる。エラストマーは、例えば、ポリウレタン系エラストマー、スチレン系エラストマー、ニトリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、塩ビ系エラストマー、エステル系エラストマー、アミド系エラストマー、1,2-BR系エラストマー、フッ素系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ポリブタジエン、ポリイソブチレン、ポリスチレンブタジエン、ポリクロロプレン等である。機械的強度や耐磨耗性を考慮すると、ウレタン系エラストマーを用いることが好ましい。基材20は、ポリジメチルシロキサンなどのシリコーンを含んでいてもよい。シリコーンは、耐熱性・耐薬品性・難燃性に優れている。 Base material 20 may contain an elastomer as a main component. Also, the base material 20 may contain cloth such as woven fabric, knitted fabric, or non-woven fabric as a main component. In addition, the "main component" is a component that accounts for 51% by weight or more of the constituent elements of interest. As the elastomer, general thermoplastic elastomers and thermosetting elastomers can be used. Elastomers include, for example, polyurethane elastomers, styrene elastomers, nitrile elastomers, olefin elastomers, vinyl chloride elastomers, ester elastomers, amide elastomers, 1,2-BR elastomers, fluorine elastomers, silicone rubbers, and urethane rubbers. , fluororubber, polybutadiene, polyisobutylene, polystyrene butadiene, polychloroprene, and the like. Considering mechanical strength and abrasion resistance, it is preferable to use a urethane-based elastomer. Substrate 20 may comprise a silicone such as polydimethylsiloxane. Silicone has excellent heat resistance, chemical resistance, and flame resistance.

〔配線〕
配線50は、導電性を有し、平面視において細長い形状を有する部材である。図1に示す例において、配線50は、ループの形状を有する。図1に示す例において、配線50によって構成されるループアンテナ1の巻き数は2である。図1に示すように、配線基板10は、配線50の端部に接続されているパッド70を備えていてもよい。配線50及びパッド70は、同一の導電層を含んでいてもよい。
〔wiring〕
The wiring 50 is a member having conductivity and having an elongated shape in plan view. In the example shown in FIG. 1, the wiring 50 has the shape of a loop. In the example shown in FIG. 1, the number of turns of the loop antenna 1 formed by the wiring 50 is two. As shown in FIG. 1 , the wiring board 10 may include pads 70 connected to the ends of the wirings 50 . Wiring 50 and pad 70 may include the same conductive layer.

ループは、図1に示すように矩形であってもよい。この場合、配線50は、x方向に延びるx配線50x、y方向に延びるy配線50y、及びコーナー配線50zを含むコーナー配線50zは、配線50が延びる方向が変化する部分である。コーナー配線50zは、x配線50xとy配線50yとを接続している。
図示はしないが、ループは円形であってもよい。
The loop may be rectangular as shown in FIG. In this case, the wiring 50 includes an x-wiring 50x extending in the x-direction, a y-wiring 50y extending in the y-direction, and a corner wiring 50z including the corner wiring 50z. The corner wiring 50z connects the x wiring 50x and the y wiring 50y.
Although not shown, the loop may be circular.

本実施の形態において、配線50は、基材20の第1面21側に位置している。図3に示すように、配線50は、基材20の第1面21に接していてもよい。図示はしないが、基材20の第1面21と配線50との間にその他の部材が介在されていてもよい。 In this embodiment, the wiring 50 is positioned on the first surface 21 side of the base material 20 . As shown in FIG. 3 , the wiring 50 may be in contact with the first surface 21 of the substrate 20 . Although not shown, another member may be interposed between the first surface 21 of the base material 20 and the wiring 50 .

配線50は、長さ方向に延びる第1側縁501及び第2側縁502を含む。配線50がx配線50xである場合、長さ方向はx方向である。配線50がy配線50yである場合、長さ方向はy方向である。以下の説明において、長さ方向に直交する方向を幅方向とも称する。長さ方向における配線50の寸法(以下、配線50の長さとも称する)は、幅方向における配線50の寸法(以下、配線50の幅とも称する)よりも大きい。配線50の長さは、配線50の幅の例えば2倍以上であり、5倍以上であってもよく、10倍以上であってもよい。 The trace 50 includes a first side edge 501 and a second side edge 502 extending longitudinally. If the wiring 50 is an x-wiring 50x, the length direction is the x-direction. When the wiring 50 is a y-wiring 50y, the length direction is the y-direction. In the following description, the direction perpendicular to the length direction is also referred to as the width direction. The dimension of the wiring 50 in the length direction (hereinafter also referred to as the length of the wiring 50) is larger than the dimension of the wiring 50 in the width direction (hereinafter also referred to as the width of the wiring 50). The length of the wiring 50 is, for example, twice or more the width of the wiring 50, may be five times or more, or may be ten times or more.

第1側縁501は、内側に位置する配線50の側縁である。第2側縁502は、外側に位置する配線50の側縁である。「内側」とは、ループの中心点2に向かう側である。「外側」とは、ループの中心点2から遠ざかる側である。 The first side edge 501 is the side edge of the wiring 50 positioned inside. The second side edge 502 is the side edge of the wiring 50 located outside. "Inner" is the side towards center point 2 of the loop. "Outer" is the side away from the center point 2 of the loop.

後述するように、配線50は、張力を加えられて第1伸長量で伸長された状態の基材20に設けられる。この場合、基材20から張力が取り除かれて基材20が収縮するとき、配線50は蛇腹状に変形する。これにより、配線50に、長さ方向に並ぶ複数の山部が生じる。 As will be described later, the wiring 50 is provided on the base material 20 in a state of being stretched by a first stretch amount under tension. In this case, when the tension is removed from the substrate 20 and the substrate 20 contracts, the wiring 50 deforms into a bellows shape. As a result, the wiring 50 has a plurality of ridges aligned in the length direction.

配線50の材料としては、山部の解消及び生成を利用して基材20の伸長及び収縮に追従することができる材料が用いられる。配線50の材料は、それ自体が伸縮性を有していてもよく、伸縮性を有していなくてもよい。
配線50に用いられ得る、それ自体は伸縮性を有さない材料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、白金、クロム等の金属や、これらの金属を含む合金が挙げられる。配線50の材料自体が伸縮性を有さない場合、配線50としては、金属膜を用いることができる。
配線50に用いられる材料自体が伸縮性を有する場合、材料の伸縮性は、例えば、基材20の伸縮性と同様である。配線50に用いられ得る、それ自体が伸縮性を有する材料としては、例えば、導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物が挙げられる。導電性粒子としては、配線に使用できるものであればよく、例えば、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、カーボン等の粒子が挙げられる。中でも、銀粒子が好ましく用いられる。
As the material of the wiring 50, a material is used that can follow the expansion and contraction of the base material 20 by utilizing the elimination and formation of peaks. The material of the wiring 50 itself may or may not have elasticity.
Examples of materials that can be used for the wiring 50 and that do not have elasticity per se include metals such as gold, silver, copper, aluminum, platinum, and chromium, and alloys containing these metals. If the material of the wiring 50 itself does not have stretchability, a metal film can be used as the wiring 50 .
When the material itself used for the wiring 50 has elasticity, the elasticity of the material is the same as that of the base material 20, for example. Examples of materials that can be used for the wiring 50 and that have elasticity in themselves include a conductive composition containing conductive particles and an elastomer. The conductive particles may be those that can be used for wiring, and examples thereof include particles of gold, silver, copper, nickel, palladium, platinum, carbon, and the like. Among them, silver particles are preferably used.

好ましくは、配線50は、変形に対する耐性を有する構造を備える。例えば、配線50は、ベース材と、ベース材の中に分散された複数の導電性粒子とを有する。この場合、ベース材として、樹脂などの変形可能な材料を用いることにより、基材20の伸縮に応じて配線50も変形することができる。また、変形が生じた場合であっても複数の導電性粒子の間の接触が維持されるように導電性粒子の分布や形状を設定することにより、配線50の導電性を維持することができる。 Preferably, the wiring 50 comprises a structure that is resistant to deformation. For example, line 50 has a base material and a plurality of conductive particles dispersed within the base material. In this case, by using a deformable material such as resin as the base material, the wiring 50 can also be deformed according to the expansion and contraction of the base material 20 . In addition, the conductivity of the wiring 50 can be maintained by setting the distribution and shape of the conductive particles so that the contact between the plurality of conductive particles is maintained even when deformation occurs. .

配線50のベース材としては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができる。ベース材は、例えば、スチレン系エラストマー、アクリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、ポリブタジエン、ポリクロロプレン等である。ウレタン系、シリコーン系構造を含む樹脂やゴムは、伸縮性及び耐久性を有するので、ベース材として好ましい。配線50の導電性粒子を構成する材料としては、例えば銀、銅、金、ニッケル、パラジウム、白金、カーボン等の粒子を用いることができる。特に、銀粒子が好ましく用いられる。 As the base material of the wiring 50, general thermoplastic elastomers and thermosetting elastomers can be used. Examples of the base material include styrene elastomer, acrylic elastomer, olefin elastomer, urethane elastomer, silicone rubber, urethane rubber, fluororubber, nitrile rubber, polybutadiene, and polychloroprene. Resins and rubbers containing urethane-based or silicone-based structures are preferable as the base material because they have stretchability and durability. As a material that constitutes the conductive particles of the wiring 50, particles such as silver, copper, gold, nickel, palladium, platinum, and carbon can be used. In particular, silver particles are preferably used.

配線50の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、基材20上または後述する支持基板40上に蒸着法やスパッタリング法、金属箔の積層等により金属膜を形成する。その後、フォトリソグラフィ法により金属膜をパターニングする。これにより、配線50が形成される。基材20上または後述する支持基板40上に金属箔を積層する場合、基材20または支持基板40と金属箔との間に接着層などが介在されていてもよい。また、配線50の材料自体が伸縮性を有する場合、例えば、基材20上または支持基板40上に一般的な印刷法により上記の導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物をパターン状に印刷する方法が挙げられる。これらの方法のうち、印刷法が好ましく用いられ得る。印刷法は、高い材料効率を有するので、配線50を安価に製作できる。 A method for forming the wiring 50 is appropriately selected according to the material and the like. For example, a metal film is formed on the base material 20 or a support substrate 40 to be described later by a vapor deposition method, a sputtering method, lamination of metal foil, or the like. After that, the metal film is patterned by photolithography. Thereby, the wiring 50 is formed. When a metal foil is laminated on the base material 20 or a support substrate 40 described later, an adhesive layer or the like may be interposed between the base material 20 or the support substrate 40 and the metal foil. Further, when the material of the wiring 50 itself has stretchability, for example, the conductive composition containing the above-described conductive particles and elastomer is patterned on the base material 20 or the support substrate 40 by a general printing method. There is a method of printing. Among these methods, the printing method can be preferably used. Since the printing method has high material efficiency, the wiring 50 can be manufactured inexpensively.

配線50の厚みT2は、基材20の伸縮に耐え得るよう、配線50の材料等に応じて適宜選択される。
配線50の材料が伸縮性を有さない場合、配線50の厚みT2は、例えば25nm以上であり、50nm以上であってもよく、100nm以上であってもよい。配線50の厚みT2は、例えば100μm以下であり、50μm以下であってもよく、5μm以下であってもよい。
配線50の材料が伸縮性を有する場合、配線50の厚みT2は、例えば5μm以上であり、10μm以上であってもよく、20μm以上であってもよい。配線50の厚みT2は、例えば60μm以下であり、50μm以下であってもよく、40μm以下であってもよい。
The thickness T2 of the wiring 50 is appropriately selected according to the material of the wiring 50 and the like so as to withstand expansion and contraction of the base material 20 .
When the material of the wiring 50 does not have stretchability, the thickness T2 of the wiring 50 is, for example, 25 nm or more, may be 50 nm or more, or may be 100 nm or more. The thickness T2 of the wiring 50 is, for example, 100 μm or less, may be 50 μm or less, or may be 5 μm or less.
When the material of the wiring 50 has stretchability, the thickness T2 of the wiring 50 is, for example, 5 μm or more, may be 10 μm or more, or may be 20 μm or more. The thickness T2 of the wiring 50 is, for example, 60 μm or less, may be 50 μm or less, or may be 40 μm or less.

配線50の幅W1は、配線50に求められる電気抵抗値に応じて適宜選択される。配線50の幅W1は、例えば100μm以上であり、200μm以上であってもよく、500μm以上であってもよく、1mm以上であってもよい。配線50の幅W1は、例えば20mm以下であり、10mm以下であってもよく、5mm以下であってもよい。配線50の幅W1は、後述するスリットが設けられていない配線50の部分の幅として定義される。 The width W1 of the wiring 50 is appropriately selected according to the electrical resistance value required for the wiring 50 . The width W1 of the wiring 50 is, for example, 100 μm or more, may be 200 μm or more, may be 500 μm or more, or may be 1 mm or more. The width W1 of the wiring 50 is, for example, 20 mm or less, may be 10 mm or less, or may be 5 mm or less. The width W1 of the wiring 50 is defined as the width of the portion of the wiring 50 not provided with a slit, which will be described later.

配線50の幅W1が大きいほど、配線50の断面積が大きくなる。配線50の断面積が大きいほど、配線50の抵抗が低くなる。一方、配線50の断面積が大きいほど、配線50の剛性が高くなる。配線50の剛性が高くなり過ぎると、配線50に生じる山部の制御が困難になる。例えば、山部の位置、形状、方向などが設計からずれることが考えられる。 As the width W1 of the wiring 50 increases, the cross-sectional area of the wiring 50 increases. As the cross-sectional area of the wiring 50 increases, the resistance of the wiring 50 decreases. On the other hand, as the cross-sectional area of the wiring 50 increases, the rigidity of the wiring 50 increases. If the rigidity of the wiring 50 becomes too high, it becomes difficult to control the crest formed on the wiring 50 . For example, it is conceivable that the position, shape, direction, etc. of the peaks deviate from the design.

このような課題を考慮し、本実施の形態においては、配線50にスリット60を形成することを提案する。図1に示す例において、配線50は、x配線50xに形成されているxスリット60x、y配線50yに形成されているyスリット60y、及びコーナー配線50zに形成されているコーナースリット60zを含む。図1に示す例において、xスリット60x、yスリット60y及びコーナースリット60zは連続している。 Considering such a problem, it is proposed in the present embodiment to form the slit 60 in the wiring 50 . In the example shown in FIG. 1, wiring 50 includes an x-slit 60x formed in x-wiring 50x, a y-slit 60y formed in y-wiring 50y, and a corner slit 60z formed in corner wiring 50z. In the example shown in FIG. 1, x-slit 60x, y-slit 60y and corner slit 60z are continuous.

配線50の構成について詳細に説明する。図2に示すように、配線50は、第1側縁501、第2側縁502、スリット60、第1部分51、第2部分52及び接続部分55を備える。スリット60は、配線50を貫通する孔である。スリット60は、第1側縁501及び第2側縁502と同様に、配線50の長さ方向D1に延びている。例えば、スリット60の長さは、スリット60の幅の2倍以上である。 A configuration of the wiring 50 will be described in detail. As shown in FIG. 2 , the wiring 50 has a first side edge 501 , a second side edge 502 , a slit 60 , a first portion 51 , a second portion 52 and a connecting portion 55 . The slit 60 is a hole penetrating the wiring 50 . The slit 60 extends in the length direction D1 of the wiring 50, like the first side edge 501 and the second side edge 502. As shown in FIG. For example, the length of slit 60 is at least twice the width of slit 60 .

第1部分51は、スリット60と第1側縁501との間に位置する配線50の部分である。第2部分52は、スリット60と第2側縁502との間に位置する配線50の部分である。第1部分51及び第2部分52も、長さ方向D1に延びている。第1部分51及び第2部分52は、上述の材料を含む同一の導電層を備える。 The first portion 51 is the portion of the wiring 50 located between the slit 60 and the first side edge 501 . The second portion 52 is the portion of the wiring 50 located between the slit 60 and the second side edge 502 . The first portion 51 and the second portion 52 also extend in the length direction D1. The first portion 51 and the second portion 52 comprise the same conductive layer comprising the materials described above.

接続部分55は、第1部分51と第2部分52とを電気的に接続する配線50の部分である。接続部分55は、長さ方向D1におけるスリット60の端65に接している。本実施の形態において、接続部分55は、第1側縁501から第2側縁502まで幅方向D2に広がっている。接続部分55にはスリット60が形成されていない。配線50の幅W1は、図2に示す接続部分55の幅である。 The connection portion 55 is a portion of the wiring 50 that electrically connects the first portion 51 and the second portion 52 . The connecting portion 55 is in contact with the end 65 of the slit 60 in the length direction D1. In this embodiment, the connection portion 55 extends in the width direction D2 from the first side edge 501 to the second side edge 502 . A slit 60 is not formed in the connecting portion 55 . Width W1 of wiring 50 is the width of connection portion 55 shown in FIG.

第1部分51は、第1幅W11を有する。第2部分52は、第2幅W12を有する。第1幅W11及び第2幅W12は、基材20の収縮に応じて長さ方向D1に沿って第1部分51及び第2部分52に複数の山部が形成されるように設定される。第1幅W11及び第2幅W12は、例えば50μm以上であり、100μm以上であってもよく、250μm以上であってもよく、500μm以上であってもよい。配線50の幅W2は、例えば10mm以下であり、5mm以下であってもよく、2.5mm以下であってもよく、1mm以下であってもよい。 The first portion 51 has a first width W11. The second portion 52 has a second width W12. The first width W11 and the second width W12 are set so that a plurality of ridges are formed in the first portion 51 and the second portion 52 along the length direction D1 as the base material 20 shrinks. The first width W11 and the second width W12 are, for example, 50 μm or more, may be 100 μm or more, may be 250 μm or more, or may be 500 μm or more. The width W2 of the wiring 50 is, for example, 10 mm or less, may be 5 mm or less, may be 2.5 mm or less, or may be 1 mm or less.

幅W11に対する幅W12の比であるW12/W11は、例えば0.7以上であり、0.8以上であってもよく、0.9以上であってもよい。W12/W11は、例えば1.3以下であり、1.2以下であってもよく、1.1以下であってもよい。 A ratio W12/W11 of the width W12 to the width W11 is, for example, 0.7 or more, may be 0.8 or more, or may be 0.9 or more. W12/W11 is, for example, 1.3 or less, may be 1.2 or less, or may be 1.1 or less.

スリット60の幅W2は、例えば1μm以上であり、2μm以上であってもよく、5μm以上であってもよい。スリット60の幅W2は、例えば200μm以下であり、100μm以下であってもよく、50μm以下であってもよい。 The width W2 of the slit 60 is, for example, 1 μm or more, may be 2 μm or more, or may be 5 μm or more. The width W2 of the slit 60 is, for example, 200 μm or less, may be 100 μm or less, or may be 50 μm or less.

ループアンテナ1の巻き数が2以上である場合、配線基板10は、図2に示すように、平行に延びる2本以上の配線50を備える。符号W3は、隣り合う2本の配線50の間の隙間75の幅を表す。幅W3は、ループアンテナ1に求められる特性に応じて設定される。幅W3は、例えば50μm以上であり、100μm以上であってもよく、200μm以上であってもよい。幅W3は、例えば5mm以下であり、2mm以下であってもよく、1mm以下であってもよい。 When the number of turns of the loop antenna 1 is two or more, the wiring board 10 is provided with two or more wirings 50 extending in parallel, as shown in FIG. Reference W3 represents the width of the gap 75 between two adjacent wirings 50 . The width W3 is set according to the characteristics required for the loop antenna 1 . The width W3 is, for example, 50 μm or more, may be 100 μm or more, or may be 200 μm or more. The width W3 is, for example, 5 mm or less, may be 2 mm or less, or may be 1 mm or less.

図4は、配線基板10に生じる山部11の一例を示す平面図である。配線基板10は、長さ方向D1に並ぶ複数の山部11を含む。本実施の形態によれば、配線50がスリット60を含んでいるので、山部11の制御が容易になる。例えば、長さ方向D1における山部11の周期が不規則になることを抑制できる。例えば、山部11が延びる方向が幅方向D2からずれることを抑制できる。例えば、山部11の高さが局所的に大きくなることを抑制できる。 FIG. 4 is a plan view showing an example of the ridges 11 formed on the wiring board 10. As shown in FIG. Wiring board 10 includes a plurality of peaks 11 arranged in length direction D1. According to the present embodiment, since wiring 50 includes slit 60, control of peak portion 11 is facilitated. For example, it is possible to suppress irregular periods of the peaks 11 in the length direction D1. For example, it is possible to prevent the direction in which the peak portion 11 extends from deviating from the width direction D2. For example, it is possible to suppress a local increase in the height of the peak portion 11 .

2本の配線50の間の隙間75の幅W3は、インダクタンスなどのループアンテナ1の特性に影響を及ぼす。山部11の位置、形状、方向などが乱れると、幅W3が位置によって変化することがある。
本実施の形態によれば、スリット60の効果により山部11をより正確に制御できる。このため、幅W3が位置によって変化することを抑制できる。従って、安定した特性を有するループアンテナ1を提供できる。
The width W3 of the gap 75 between the two wires 50 affects the characteristics of the loop antenna 1 such as inductance. If the position, shape, direction, etc. of the peak portion 11 are disturbed, the width W3 may change depending on the position.
According to this embodiment, the peak portion 11 can be controlled more accurately due to the effect of the slits 60 . Therefore, it is possible to suppress the width W3 from changing depending on the position. Therefore, it is possible to provide the loop antenna 1 having stable characteristics.

配線基板10によって構成されるループアンテナ1のインダクタンスは、例えば100nH以上であり、300nH以上であってもよい。インダクタンスは、例えば10μH以下であり、3μH以下であってもよい。 The inductance of the loop antenna 1 configured by the wiring board 10 is, for example, 100 nH or more, and may be 300 nH or more. The inductance is, for example, 10 μH or less, and may be 3 μH or less.

長さ方向D1における配線基板10の断面について説明する。図5は、図4の配線基板のB-B線に沿った断面図である。配線基板10は、第1面21側における配線基板10の表面に現れる上述の山部11を含む。山部11は、配線基板10の表面において第1面21の法線方向に隆起した部分である。山部11を含む構造のことを、蛇腹形状部13とも称する。蛇腹形状部は、長さ方向D1において隣り合う2つの山部11の間に位置する谷部12を含んでいてもよい。 A cross section of the wiring board 10 in the length direction D1 will be described. FIG. 5 is a cross-sectional view of the wiring substrate of FIG. 4 taken along line BB. Wiring board 10 includes above-described mountain portion 11 appearing on the surface of wiring board 10 on the first surface 21 side. The peak portion 11 is a portion of the surface of the wiring board 10 that protrudes in the normal direction of the first surface 21 . The structure including the ridges 11 is also referred to as a bellows-shaped portion 13 . The bellows-shaped portion may include valleys 12 located between two peaks 11 adjacent in the length direction D1.

図5に示すように、配線50は、長さ方向D1に並ぶ複数の山部57を含む。配線50は、長さ方向D1において隣り合う2つの山部57の間に位置する谷部58を含んでいてもよい。山部57及び谷部58は、平面視において山部11及び谷部12に重なる配線50の部分に現れる。 As shown in FIG. 5, the wiring 50 includes a plurality of peaks 57 arranged in the length direction D1. The wiring 50 may include a valley portion 58 located between two peak portions 57 adjacent in the length direction D1. The peaks 57 and the valleys 58 appear in the portions of the wiring 50 overlapping the peaks 11 and the valleys 12 in plan view.

符号S11は、配線基板10に張力が加えられていない状態における山部11及び谷部12の振幅を表す。図5に示す例においては、配線50が配線基板10の表面に位置しているので、振幅S11は、配線50の山部及び谷部の振幅である。振幅S11は、例えば1μm以上であり、10μm以上であってもよい。振幅S11が10μm以上である場合、基材20の伸長に追従して配線50が変形し易い。振幅S11は、例えば500μm以下である。 A reference S11 represents the amplitude of the peaks 11 and the valleys 12 when the wiring board 10 is not under tension. In the example shown in FIG. 5, the wiring 50 is located on the surface of the wiring board 10, so the amplitude S11 is the amplitude of the peaks and valleys of the wiring 50. In the example shown in FIG. The amplitude S11 is, for example, 1 μm or more, and may be 10 μm or more. When the amplitude S11 is 10 μm or more, the wiring 50 easily deforms following the elongation of the base material 20 . The amplitude S11 is, for example, 500 μm or less.

山部及び谷部の振幅は、例えば、山部及び谷部が並ぶ方向における一定の範囲にわたって、隣り合う山部と谷部との間の、基材20の法線方向における距離を測定し、それらの平均を求めることにより算出される。「山部及び谷部が並ぶ方向における一定の範囲」は、例えば10mmである。隣り合う山部と谷部との間の距離を測定する測定器としては、レーザー顕微鏡などを用いた非接触式の測定器を用いてもよく、接触式の測定器を用いてもよい。上述の幅W1、幅W2、幅W3などの、平面視における配線基板10の要素の寸法も、非接触式の測定器又は接触式の測定器によって測定される。
断面写真などの画像に基づいて、隣り合う山部と谷部との間の距離を測定してもよい。上述の厚みT1、T2などの、断面図における配線基板10の要素の寸法も、断面写真などの画像に基づいて測定される。上述の幅W1、幅W2、幅W3などが、断面写真などの画像に基づいて測定されてもよい。
The amplitude of peaks and valleys is measured, for example, by measuring the distance in the normal direction of the substrate 20 between adjacent peaks and valleys over a certain range in the direction in which the peaks and valleys are aligned, Calculated by averaging them. The "fixed range in the direction in which the peaks and valleys are arranged" is, for example, 10 mm. As a measuring device for measuring the distance between adjacent peaks and valleys, a non-contact measuring device using a laser microscope or the like may be used, or a contact measuring device may be used. The dimensions of the elements of the wiring board 10 in plan view, such as the width W1, the width W2, and the width W3 described above, are also measured by a non-contact measuring instrument or a contact measuring instrument.
Based on an image such as a cross-sectional photograph, the distance between adjacent peaks and valleys may be measured. The dimensions of the elements of the wiring board 10 in the cross-sectional view, such as the thicknesses T1 and T2 described above, are also measured based on an image such as a cross-sectional photograph. The above width W1, width W2, width W3, etc. may be measured based on an image such as a cross-sectional photograph.

符号F11は、配線基板10に張力が加えられていない状態における山部11及び谷部12の周期を表す。周期F11は、例えば10μm以上であり、100μm以上であってもよい。周期F11は、例えば100mm以下であり、10mm以下であってもよい。山部11及び谷部12の周期F11は、山部11及び谷部12が並ぶ方向における一定の範囲にわたって、複数の山部11の間隔を測定し、それらの平均を求めることにより算出される。 Reference character F11 represents the period of the peaks 11 and the valleys 12 when the wiring board 10 is not under tension. The period F11 is, for example, 10 μm or more, and may be 100 μm or more. The period F11 is, for example, 100 mm or less, and may be 10 mm or less. The period F11 of the ridges 11 and the troughs 12 is calculated by measuring intervals between the ridges 11 over a certain range in the direction in which the ridges 11 and the troughs 12 are arranged and averaging them.

符号M11及びM21はそれぞれ、配線基板10に張力が加えられていない状態における山部11及び谷部12の、長さ方向D1における寸法を表す。図5に示す例において、山部11の寸法M11及び谷部12の寸法M21は略同一である。配線基板10に張力が加えられていない状態の蛇腹形状部13における山部11の比率を、符号X1で表す。比率X1は、M11/(M11+M21)によって算出される。比率X1は、例えば0.40以上0.60以下である。 Reference numerals M11 and M21 represent dimensions in the length direction D1 of the peaks 11 and the valleys 12, respectively, when the wiring board 10 is not under tension. In the example shown in FIG. 5, the dimension M11 of the peak portion 11 and the dimension M21 of the valley portion 12 are substantially the same. The ratio of the peaks 11 in the bellows-shaped portion 13 when the wiring board 10 is not under tension is represented by X1. The ratio X1 is calculated by M11/(M11+M21). The ratio X1 is, for example, 0.40 or more and 0.60 or less.

図5に示すように、第2面22側における配線基板10の表面にも、長さ方向D1に並ぶ複数の山部16や谷部17を含む蛇腹形状部18が現れてもよい。図5に示す例において、山部16は、谷部58に重なる位置に現れ、谷部17は、山部57に重なる位置に現れている。 As shown in FIG. 5, the surface of the wiring board 10 on the second surface 22 side may also have a bellows-shaped portion 18 including a plurality of peaks 16 and valleys 17 aligned in the length direction D1. In the example shown in FIG. 5 , peak 16 appears at a position overlapping valley 58 , and valley 17 appears at a position overlapping peak 57 .

符号S21は、配線基板10に張力が加えられていない状態における山部16及び谷部17の振幅を表す。振幅S21は、振幅S11と同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、振幅S21が振幅S11よりも小さくてもよい。例えば、振幅S21は、振幅S11の0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよく、0.6倍以下であってもよい。振幅S21は、振幅S11の0.1倍以上であってもよく、0.2倍以上であってもよい。なお、「振幅S21が振幅S11よりも小さい」とは、第2面22側における配線基板10の表面に山部及び谷部が現れない場合を含む概念である。 A reference S21 represents the amplitude of the peaks 16 and the valleys 17 when the wiring board 10 is not under tension. Amplitude S21 may be the same as or different from amplitude S11. For example, amplitude S21 may be smaller than amplitude S11. For example, the amplitude S21 may be 0.9 times or less, 0.8 times or less, or 0.6 times or less the amplitude S11. The amplitude S21 may be 0.1 times or more the amplitude S11, or may be 0.2 times or more. Note that "the amplitude S21 is smaller than the amplitude S11" is a concept that includes the case where peaks and valleys do not appear on the surface of the wiring board 10 on the second surface 22 side.

符号F21は、配線基板10に張力が加えられていない状態における山部16及び谷部17の周期を表す。周期F21は、山部11及び谷部12の周期F11と同一であってもよい。 Reference character F21 represents the period of the peaks 16 and the valleys 17 when the wiring board 10 is not under tension. The period F21 may be the same as the period F11 of the peaks 11 and the valleys 12 .

図6は、配線基板10の断面図のその他の例を示している。図6に示すように、配線基板10に張力が加えられていない状態において、山部11の幅M11が谷部12の幅M21よりも小さくてもよい。このような山部11は、例えば、基材20の第1面21の山部及び谷部が経時的に変形し、その影響が蛇腹形状部13に伝わることによって生じ得る。なお、山部11の幅M11及び谷部12の幅M21は、振幅S11の中心における山部11の幅及び谷部12の幅である。山部11の幅M11は、好ましくは、谷部12の幅M21の0.3倍以上であり、0.5倍以上であってもよく、0.7倍以上であってもよい。山部11の幅M11は、谷部12の幅M21の1.0倍未満であってもよく、0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよく、0.7倍以下であってもよい。 FIG. 6 shows another example of a cross-sectional view of the wiring board 10. As shown in FIG. As shown in FIG. 6, the width M11 of the peak portion 11 may be smaller than the width M21 of the valley portion 12 when the wiring board 10 is not under tension. Such peaks 11 may occur, for example, when the peaks and valleys of the first surface 21 of the base material 20 are deformed over time and the influence of the deformation is transmitted to the bellows-shaped portion 13 . The width M11 of the peak portion 11 and the width M21 of the valley portion 12 are the width of the peak portion 11 and the width of the valley portion 12 at the center of the amplitude S11. The width M11 of the peak portion 11 is preferably 0.3 times or more the width M21 of the valley portion 12, may be 0.5 times or more, or may be 0.7 times or more. The width M11 of the peak portion 11 may be less than 1.0 times the width M21 of the valley portion 12, may be 0.9 times or less, may be 0.8 times or less, or may be 0.8 times or less. It may be 7 times or less.

図7は、配線基板10の断面図のその他の例を示している。図7に示すように、山部16及び谷部17の周期F21は、山部11及び谷部12の周期F11よりも大きくてもよい。例えば、周期F21は、周期F11の1.1倍以上であってもよく、1.2倍以上であってもよく、1.5倍以上であってもよく、2.0倍以上であってもよい。なお、「周期F21が周期F11よりも大きい」とは、第2面22側における配線基板10の表面に山部及び谷部が現れない場合を含む概念である。 FIG. 7 shows another example of a cross-sectional view of the wiring board 10. As shown in FIG. As shown in FIG. 7 , the period F21 of the peaks 16 and the valleys 17 may be greater than the period F11 of the peaks 11 and the valleys 12 . For example, the period F21 may be 1.1 times or more, 1.2 times or more, 1.5 times or more, or 2.0 times or more the period F11. good too. Note that “the period F21 is longer than the period F11” is a concept that includes the case where peaks and valleys do not appear on the surface of the wiring board 10 on the second surface 22 side.

図8は、配線基板10の断面図のその他の例を示している。図8に示すように、山部16及び谷部17の位置が、谷部12及び山部11の位置からJだけずれていてもよい。ずれ量Jは、例えば0.1×F11以上であり、0.2×F11以上であってもよい。 FIG. 8 shows another example of a cross-sectional view of the wiring board 10. As shown in FIG. As shown in FIG. 8, the positions of the peaks 16 and the valleys 17 may be shifted by J from the positions of the valleys 12 and the peaks 11 . The deviation amount J is, for example, 0.1×F11 or more, and may be 0.2×F11 or more.

(配線基板の製造方法)
次に、図9(a)~(c)を参照して、配線基板10の製造方法について説明する。
(Method for manufacturing wiring board)
Next, a method for manufacturing the wiring board 10 will be described with reference to FIGS. 9(a) to 9(c).

まず、図9(a)に示すように、基材20を準備する基材準備工程を実施する。符号L0は、張力が加えられていない状態の基材20の、x方向における寸法を表している。 First, as shown in FIG. 9(a), a substrate preparation step for preparing the substrate 20 is performed. Reference L0 represents the dimension in the x-direction of the substrate 20 in an untensioned state.

続いて、図9(b)に示すように、基材20を伸長させる第1伸長工程を実施する。第1伸長工程は、x方向において基材20に第1張力Tを加えて、基材20を寸法L1まで伸長させる。第1伸長工程においては、x方向及びx方向に交差する方向において基材20に張力が加えてられてもよい。例えば、第1伸長工程においては、x方向及びy方向において基材20に張力が加えてられてもよい。 Then, as shown in FIG.9(b), the 1st elongation process of elongating the base material 20 is implemented. The first stretching step applies a first tension T to the substrate 20 in the x-direction to stretch the substrate 20 to the dimension L1. In the first stretching step, the substrate 20 may be tensioned in the x-direction and in a direction crossing the x-direction. For example, in a first stretching step, the substrate 20 may be tensioned in the x-direction and the y-direction.

x方向における基材20の伸長率(=(L1-L0)×100/L0)は、例えば10%以上であり、30%以上であってもよい。基材20の伸長率は、例えば200%以下であり、100%以下であってもよい。伸長工程は、基材20を加熱した状態で実施されてもよく、常温で実施されてもよい。基材20を加熱する場合、基材20の温度は例えば50℃以上100℃以下である。 The elongation rate (=(L1−L0)×100/L0) of the base material 20 in the x direction is, for example, 10% or more, and may be 30% or more. The elongation rate of the base material 20 is, for example, 200% or less, and may be 100% or less. The elongation step may be performed while the substrate 20 is heated, or may be performed at room temperature. When heating the base material 20, the temperature of the base material 20 is 50 to 100 degreeC, for example.

続いて、図9(b)に示すように、配線形成工程を実施する。配線形成工程は、第1伸長工程における第1張力Tによって伸長した状態の基材20の第1面21に配線50を設ける。例えば、ベース材及び導電性粒子を含む導電性ペーストを基材20の第1面21に印刷する。
印刷は、配線50内にスリット60が存在するよう実施されてもよい。若しくは、基材20に配線50を形成した後、配線50を加工することによってスリット60が形成されてもよい。例えば、配線50にレーザーを照射することによってスリット60が形成されてもよい。例えば、型を用いて配線50の一部を打ち抜くことによってスリット60が形成されてもよい。例えば、カッター刃を用いて配線50の一部を切断することによってスリット60が形成されてもよい。カッター刃を用いて配線50を加工する装置の例は、カッティングプロッターである。
Then, as shown in FIG.9(b), a wiring formation process is implemented. In the wiring forming step, the wiring 50 is provided on the first surface 21 of the base material 20 stretched by the first tension T in the first stretching step. For example, a conductive paste containing a base material and conductive particles is printed on the first surface 21 of the substrate 20 .
Printing may be performed such that there are slits 60 in the traces 50 . Alternatively, the slits 60 may be formed by processing the wiring 50 after forming the wiring 50 on the base material 20 . For example, the slits 60 may be formed by irradiating the wiring 50 with a laser. For example, the slit 60 may be formed by punching out a portion of the wiring 50 using a mold. For example, the slit 60 may be formed by cutting a portion of the wiring 50 using a cutter blade. A cutting plotter is an example of a device that processes the wiring 50 using a cutter blade.

その後、基材20から第1張力Tを取り除く第1収縮工程を実施する。これにより、図9(c)において矢印Cで示すように、x方向において基材20が収縮する。基材20が収縮すると、配線50にも変形が生じる。配線50の変形は、上述のように蛇腹形状部として生じる。このようにして、蛇腹形状部が現れている配線基板10を得ることができる。 After that, a first contraction step is performed to remove the first tension T from the substrate 20 . As a result, the base material 20 shrinks in the x direction, as indicated by arrow C in FIG. 9(c). When the base material 20 shrinks, the wiring 50 also deforms. The deformation of the wiring 50 occurs as a bellows shape as described above. Thus, the wiring substrate 10 with the bellows-shaped portion exposed can be obtained.

本実施の形態によれば、配線基板10の配線50が複数の山部57を有している。配線基板10の基材20が伸長する際、配線50は、山部57の振幅を低減するように変形することによって、基材20の伸長に追従できる。このため、基材20の伸長に伴って配線50の全長が増加すること及び配線50の断面積が減少することを抑制できる。このことにより、配線基板10の伸長に起因して配線50の抵抗値が増加することを抑制できる。また、配線50にクラックなどの破損が生じることを抑制できる。 According to the present embodiment, wiring 50 of wiring board 10 has a plurality of peaks 57 . When the base material 20 of the wiring board 10 expands, the wiring 50 can follow the elongation of the base material 20 by deforming so as to reduce the amplitude of the peaks 57 . Therefore, it is possible to suppress an increase in the total length of the wiring 50 and a decrease in the cross-sectional area of the wiring 50 due to the elongation of the base material 20 . As a result, it is possible to suppress an increase in the resistance value of the wiring 50 due to the elongation of the wiring substrate 10 . Moreover, it is possible to suppress the occurrence of damage such as cracks in the wiring 50 .

配線50の抵抗値に関する効果の一例について説明する。x方向における張力が配線基板10に加えられていない第1状態における配線50の電気抵抗値を、第1電気抵抗値と称する。また、x方向において配線基板10に張力が加えられている第2状態における配線50の抵抗値を、第2電気抵抗値と称する。第2状態において、配線基板10は、第1状態に比べて30%伸長している。本実施の形態によれば、配線50に蛇腹形状部を形成することにより、第1電気抵抗値に対する、第1電気抵抗値と第2電気抵抗値の差の絶対値の比率を低減できる。比率は、例えば20%以下であり、より好ましくは10%以下であり、更に好ましくは5%以下である。 An example of the effect related to the resistance value of the wiring 50 will be described. The electrical resistance value of the wiring 50 in the first state in which no tension is applied to the wiring board 10 in the x direction is referred to as the first electrical resistance value. Also, the resistance value of the wiring 50 in the second state in which the wiring board 10 is tensioned in the x direction is referred to as the second electrical resistance value. In the second state, wiring board 10 is elongated by 30% compared to the first state. According to this embodiment, by forming the bellows-shaped portion in the wiring 50, the ratio of the absolute value of the difference between the first electrical resistance value and the second electrical resistance value to the first electrical resistance value can be reduced. The ratio is, for example, 20% or less, more preferably 10% or less, and even more preferably 5% or less.

図10は、x方向において配線基板10に張力を加えて配線基板10を第1状態に比べて25%伸長させた第3状態における配線基板10を拡大して示す断面図である。符号S12及びF12は、第3状態における蛇腹形状部13の振幅及び周期を表している。符号S22及びF22は、第3状態における蛇腹形状部18の振幅及び周期を表している。第3状態における振幅S12は、第1状態における振幅S11の例えば0.8倍以下であり、0.7倍以下であってもよく、0.6倍以下であってもよい。振幅S12は、振幅S11の例えば0.2倍以上であり、0.3倍以上であってもよく、0.4倍以上であってもよい。 FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view showing wiring board 10 in a third state in which wiring board 10 is stretched by 25% compared to the first state by applying tension to wiring board 10 in the x direction. Symbols S12 and F12 represent the amplitude and period of the bellows-shaped portion 13 in the third state. Symbols S22 and F22 represent the amplitude and period of the bellows-shaped portion 18 in the third state. The amplitude S12 in the third state is, for example, 0.8 times or less the amplitude S11 in the first state, may be 0.7 times or less, or may be 0.6 times or less. The amplitude S12 is, for example, 0.2 times or more the amplitude S11, may be 0.3 times or more, or may be 0.4 times or more.

符号M12及びM22はそれぞれ、第3状態における山部11及び谷部12の、長さ方向D1における寸法を表す。第3状態における寸法M12及び寸法M22は、第1状態における山部11の寸法M11及び谷部12の寸法M21に比べて大きい。 Symbols M12 and M22 respectively represent the dimensions in the length direction D1 of the peaks 11 and the valleys 12 in the third state. The dimension M12 and the dimension M22 in the third state are larger than the dimension M11 of the peak portion 11 and the dimension M21 of the valley portion 12 in the first state.

配線基板10を伸長させるとき、山部11及び谷部12の寸法は、両者の比率を維持しながら増加してもよい。第3状態における山部11の比率を、符号X2で表す。比率X2は、M12/(M12+M22)によって算出される。比率X2は、第1状態における上述のX1と同等であり、例えば0.40以上0.60以下である。また、比率X1と比率X2の差の絶対値は、例えば0.20以下であり、0.15以下であってもよく、0.10以下であってもよく、0.08以下であってもよく、0.06以下であってもよく、0.04以下であってもよい。 When the wiring substrate 10 is stretched, the dimensions of the peaks 11 and the valleys 12 may increase while maintaining the ratio between them. The ratio of peaks 11 in the third state is represented by symbol X2. The ratio X2 is calculated by M12/(M12+M22). The ratio X2 is equivalent to X1 described above in the first state, and is, for example, 0.40 or more and 0.60 or less. Further, the absolute value of the difference between the ratio X1 and the ratio X2 is, for example, 0.20 or less, may be 0.15 or less, may be 0.10 or less, or may be 0.08 or less. It may be 0.06 or less, or 0.04 or less.

また、本実施の形態によれば、配線50がスリット60を含んでいるので、山部11の制御が容易になる。例えば、長さ方向D1における山部11の周期が不規則になることを抑制できる。例えば、山部11が延びる方向が幅方向D2からずれることを抑制できる。例えば、山部11の高さが局所的に大きくなることを抑制できる。このため、配線基板10を用いてループアンテナ1を構成する場合に、2本の配線50の間の隙間75の幅W3が位置によって変化することを抑制できる。従って、安定した特性を有するループアンテナ1を提供できる。 Further, according to the present embodiment, since wiring 50 includes slit 60, control of peak portion 11 is facilitated. For example, it is possible to suppress irregular periods of the peaks 11 in the length direction D1. For example, it is possible to prevent the direction in which the peak portion 11 extends from deviating from the width direction D2. For example, it is possible to suppress a local increase in the height of the peak portion 11 . Therefore, when the loop antenna 1 is configured using the wiring board 10, the width W3 of the gap 75 between the two wires 50 can be suppressed from changing depending on the position. Therefore, it is possible to provide the loop antenna 1 having stable characteristics.

配線50によって構成される要素は、ループアンテナ1には限られない。配線50は、電源、信号などを伝導する様々な要素を構成できる。例えば、配線50は、ループアンテナ1以外のアンテナを構成してもよい。例えば、配線50は、センサ、シールドなどを構成してもよい。
配線基板10の用途は、ループアンテナ1には限られない。配線基板10の用途としては、ヘルスケア分野、医療分野、介護分野、エレクトロニクス分野、スポーツ・フィットネス分野、美容分野、モビリティ分野、畜産・ペット分野、アミューズメント分野、ファッション・アパレル分野、セキュリティ分野、ミリタリー分野、流通分野、教育分野、建材・家具・装飾分野、環境エネルギー分野、農林水産分野、ロボット分野などを挙げることができる。例えば、人の腕などの身体の一部に取り付ける製品を、本実施の形態による配線基板10を用いて構成する。配線基板10は伸長することができるので、例えば配線基板10を伸長させた状態で身体に取り付けることにより、配線基板10を身体の一部により密着させることができる。このため、良好な着用感を実現することができる。また、配線基板10が伸長した場合に配線50の電気抵抗値が低下することを抑制することができるので、配線基板10の良好な電気特性を実現することができる。他にも配線基板10は伸長することができるので、人などの生体に限らず曲面や立体形状に沿わせて設置や組込むことが可能である。それらの製品の一例としては、バイタルセンサ、マスク、補聴器、歯ブラシ、絆創膏、湿布、コンタクトレンズ、義手、義足、義眼、カテーテル、ガーゼ、薬液パック、包帯、ディスポーザブル生体電極、おむつ、リハビリ用機器、家電製品、ディスプレイ、サイネージ、パーソナルコンピューター、携帯電話、マウス、スピーカー、スポーツウェア、リストバンド、はちまき、手袋、水着、サポーター、ボール、グローブ、ラケット、クラブ、バット、釣竿、リレーのバトンや器械体操用具、またそのグリップ、身体トレーニング用機器、浮き輪、テント、水着、ゼッケン、ゴールネット、ゴールテープ、薬液浸透美容マスク、電気刺激ダイエット用品、懐炉、付け爪、タトゥー、自動車、飛行機、列車、船舶、自転車、ベビーカー、ドローン、車椅子、などのシート、インパネ、タイヤ、内装、外装、サドル、ハンドル、道路、レール、橋、トンネル、ガスや水道の管、電線、テトラポッド、ロープ首輪、リード、ハーネス、動物用のタグ、ブレスレット、ベルトなど、ゲーム機器、コントローラーなどのハプティクスデバイス、ランチョンマット、チケット、人形、ぬいぐるみ、応援グッズ、帽子、服、メガネ、靴、インソール、靴下、ストッキング、スリッパ、インナーウェア、マフラー、耳あて、鞄、アクセサリー、指輪、時計、ネクタイ、個人ID認識デバイス、ヘルメット、パッケージ、ICタグ、ペットボトル、文具、書籍、ペン、カーペット、ソファ、寝具、照明、ドアノブ、手すり、花瓶、ベッド、マットレス、座布団、カーテン、ドア、窓、天井、壁、床、電池、ビニールハウス、ネット(網)、ロボットハンド、ロボット外装を挙げることができる。
An element configured by the wiring 50 is not limited to the loop antenna 1 . The wiring 50 can constitute various elements that conduct power, signals, and the like. For example, the wiring 50 may constitute an antenna other than the loop antenna 1 . For example, the wiring 50 may constitute sensors, shields, and the like.
The application of the wiring board 10 is not limited to the loop antenna 1 . Applications of the wiring board 10 include the healthcare field, the medical field, the nursing care field, the electronics field, the sports/fitness field, the beauty field, the mobility field, the livestock/pet field, the amusement field, the fashion/apparel field, the security field, and the military field. , distribution, education, building materials/furniture/decoration, environmental energy, agriculture, forestry and fisheries, and robots. For example, a product to be attached to a part of the human body such as an arm is constructed using the wiring board 10 according to the present embodiment. Since the wiring board 10 can be stretched, for example, by attaching the wiring board 10 to the body in a stretched state, the wiring board 10 can be brought into closer contact with a part of the body. Therefore, it is possible to realize a good wearing feeling. In addition, since it is possible to suppress the decrease in the electrical resistance value of the wiring 50 when the wiring board 10 is elongated, the wiring board 10 can have good electrical characteristics. In addition, since the wiring board 10 can be stretched, it can be installed or incorporated along a curved surface or a three-dimensional shape, not limited to a living body such as a human being. Examples of such products include vital sensors, masks, hearing aids, toothbrushes, plasters, poultices, contact lenses, artificial hands, artificial legs, artificial eyes, catheters, gauze, drug packs, bandages, disposable bioelectrodes, diapers, rehabilitation equipment, and home appliances. Products, displays, signage, personal computers, mobile phones, mice, speakers, sportswear, wristbands, headbands, gloves, swimwear, supporters, balls, gloves, rackets, clubs, bats, fishing rods, relay batons and gymnastics equipment, In addition, grips, equipment for physical training, floats, tents, swimwear, bibs, goal nets, goal tapes, chemical penetration beauty masks, electrical stimulation diet products, pocket warmers, false nails, tattoos, automobiles, planes, trains, ships, bicycles , strollers, drones, wheelchairs, seats, instrument panels, tires, interiors, exteriors, saddles, handles, roads, rails, bridges, tunnels, gas and water pipes, electric wires, tetrapods, rope collars, leads, harnesses, animals tags, bracelets, belts, etc., game consoles, haptic devices such as controllers, luncheon mats, tickets, dolls, stuffed animals, support goods, hats, clothes, glasses, shoes, insoles, socks, stockings, slippers, innerwear, Scarves, earmuffs, bags, accessories, rings, watches, ties, personal ID recognition devices, helmets, packages, IC tags, PET bottles, stationery, books, pens, carpets, sofas, bedding, lighting, doorknobs, handrails, vases, Beds, mattresses, cushions, curtains, doors, windows, ceilings, walls, floors, batteries, vinyl houses, nets, robot hands, and robot exteriors can be mentioned.

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。 Various modifications can be made to the above-described embodiment. Modifications will be described below with reference to the drawings as necessary. In the following description and the drawings used in the following description, the same reference numerals as those used for the corresponding portions in the above-described embodiment are used for the portions that can be configured in the same manner as in the above-described embodiment, Duplicate explanations are omitted. Further, when it is clear that the effects obtained in the above-described embodiment can also be obtained in the modified example, the explanation thereof may be omitted.

(第1の変形例)
上述の実施の形態においては、配線50が基材20に設けられる例を示したが、これに限られることはない。本変形例においては、配線50が支持基板によって支持される例を示す。
(First modification)
Although an example in which the wiring 50 is provided on the base material 20 has been described in the above-described embodiment, the present invention is not limited to this. This modification shows an example in which the wiring 50 is supported by a support substrate.

図11は、第1の変形例に係る配線基板10の断面図である。図11は、幅方向D2における断面図であり、上述の実施の形態における図3に相当する。配線基板10は、基材20、支持基板40及び配線50を少なくとも備える。 FIG. 11 is a cross-sectional view of wiring board 10 according to a first modification. FIG. 11 is a cross-sectional view in the width direction D2 and corresponds to FIG. 3 in the above embodiment. The wiring board 10 includes at least a base material 20 , a support substrate 40 and wiring 50 .

〔支持基板〕
支持基板40は、基材20よりも低い伸縮性を有するよう構成された部材である。支持基板40は、基材20に対向する第2面42と、第2面42の反対側に位置する第1面41と、を含む。図11に示す例において、配線50は、支持基板40の第1面41側に位置している。支持基板40の第2面42は、基材20に接合されている。本変形例においても、上述の実施の形態の場合と同様に、配線50はスリット60を含む。
[Supporting substrate]
The support substrate 40 is a member configured to have lower stretchability than the base material 20 . The support substrate 40 includes a second surface 42 facing the base material 20 and a first surface 41 located on the opposite side of the second surface 42 . In the example shown in FIG. 11 , the wiring 50 is positioned on the first surface 41 side of the support substrate 40 . A second surface 42 of the support substrate 40 is bonded to the base material 20 . Also in this modification, the wiring 50 includes a slit 60 as in the case of the above-described embodiment.

図示はしないが、配線50は、支持基板40の第2面42側に位置していてもよい。 Although not shown, the wiring 50 may be positioned on the second surface 42 side of the support substrate 40 .

基材20と支持基板40との間に、接着剤を含む接着層45が設けられていてもよい。接着剤としては、例えばアクリル系接着剤、シリコーン系接着剤等、シロキサン系プライマー、チオール系プライマー等を用いることができる。HMDSO(ヘキサメチルジシロキサン)、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)等の気相法により作製した分子膜を、接着層45として用いてもよい。接着層45の厚みは、例えば5μm以上200μm以下である。 An adhesive layer 45 containing an adhesive may be provided between the base material 20 and the support substrate 40 . Examples of adhesives that can be used include acrylic adhesives, silicone adhesives, siloxane primers, thiol primers, and the like. A molecular film of HMDSO (hexamethyldisiloxane), HMDS (hexamethyldisilazane), or the like, which is produced by a gas phase method, may be used as the adhesive layer 45 . The thickness of the adhesive layer 45 is, for example, 5 μm or more and 200 μm or less.

図12は、長さ方向D1における配線基板10の断面図の一例である。本変形例においては、支持基板40に接合された基材20から張力が取り除かれて基材20が収縮するとき、配線50の山部57及び谷部58と同様の山部及び谷部が支持基板40にも現れる。支持基板40の特性や寸法は、このような山部や谷部が形成され易くなるよう設定されている。例えば、支持基板40は、基材20の第1の弾性係数よりも大きい弾性係数を有する。以下の説明において、支持基板40の弾性係数のことを、第2の弾性係数とも称する。 FIG. 12 is an example of a cross-sectional view of the wiring board 10 in the length direction D1. In this modification, when the tension is removed from the base material 20 bonded to the support substrate 40 and the base material 20 contracts, the peaks and valleys similar to the peaks 57 and valleys 58 of the wiring 50 are supported. It also appears on the substrate 40 . The characteristics and dimensions of the support substrate 40 are set to facilitate the formation of such peaks and valleys. For example, the support substrate 40 has an elastic modulus greater than the first elastic modulus of the substrate 20 . In the following description, the elastic modulus of the support substrate 40 is also referred to as the second elastic modulus.

支持基板40の第2の弾性係数は、例えば100MPa以上であり、1GPa以上であってもよく、10GPa以上であってもよい。支持基板40の第2の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数の例えば10倍以上であり、100倍以上であってもよく、1000倍以上であってもよい。支持基板40の第2の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数の例えば50000倍以下であり、10000倍以下であってもよく、5000倍以下であってもよい。このように支持基板40の第2の弾性係数を設定することにより、山部57及び谷部58の周期F11が小さくなり過ぎることを抑制できる。また、山部57及び谷部58において局所的な折れ曲がりが生じることを抑制できる。
支持基板40の弾性係数が低すぎると、配線50の形成工程中に支持基板40が変形し易く、この結果、支持基板40に対する配線50の位置合わせが難しくなる。また、支持基板40の弾性係数が高すぎると、弛緩時の基材20の復元が難しくなり、また基材20の割れや折れが発生し易くなる。
The second elastic modulus of the support substrate 40 is, for example, 100 MPa or more, may be 1 GPa or more, or may be 10 GPa or more. The second elastic modulus of the support substrate 40 is, for example, 10 times or more, may be 100 times or more, or may be 1000 times or more the first elastic modulus of the base material 20 . The second elastic modulus of the support substrate 40 is, for example, 50000 times or less, may be 10000 times or less, or may be 5000 times or less the first elastic modulus of the base material 20 . By setting the second elastic modulus of the support substrate 40 in this manner, it is possible to prevent the period F11 of the peaks 57 and the valleys 58 from becoming too small. Moreover, it is possible to suppress the occurrence of local bending at the peaks 57 and the valleys 58 .
If the modulus of elasticity of the support substrate 40 is too low, the support substrate 40 is likely to deform during the process of forming the wirings 50 , and as a result, alignment of the wirings 50 with respect to the support substrate 40 becomes difficult. Further, if the elastic modulus of the support substrate 40 is too high, it becomes difficult to restore the base material 20 when relaxed, and the base material 20 is likely to crack or break.

支持基板40の厚みT3は、例えば500nm以上であり、1μm以上であってもよい。支持基板40の厚みT3は、例えば10μm以下であり、5μm以下であってもよい。支持基板40の厚みT3が小さすぎると、支持基板40の製造工程や、支持基板40上に配線50などの部材を形成する工程における、支持基板40のハンドリングが難しくなる。支持基板40の厚みT3が大きすぎると、弛緩時の基材20の復元が難しくなり、目標の基材20の伸縮が得られなくなる。 The thickness T3 of the support substrate 40 is, for example, 500 nm or more, and may be 1 μm or more. The thickness T3 of the support substrate 40 is, for example, 10 μm or less, and may be 5 μm or less. If the thickness T3 of the support substrate 40 is too small, it becomes difficult to handle the support substrate 40 in the process of manufacturing the support substrate 40 and the process of forming members such as the wirings 50 on the support substrate 40 . If the thickness T3 of the support substrate 40 is too large, it becomes difficult to restore the base material 20 during relaxation, and the desired expansion and contraction of the base material 20 cannot be obtained.

支持基板40を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂等を用いることができる。その中でも、耐久性や耐熱性がよいポリエチレンナフタレートかポリイミドが好ましく用いられ得る。 Examples of materials that can be used for the support substrate 40 include polyethylene naphthalate, polyimide, polyethylene terephthalate, polycarbonate, and acrylic resin. Among them, polyethylene naphthalate or polyimide having good durability and heat resistance can be preferably used.

支持基板40の第2の弾性係数を算出する方法としては、支持基板40のサンプルを用いて、ASTM D882に準拠して引張試験を実施するという方法を採用できる。 As a method of calculating the second modulus of elasticity of the support substrate 40, a method of performing a tensile test based on ASTM D882 using a sample of the support substrate 40 can be adopted.

(配線基板の製造方法)
次に、図13(a)~(c)を参照して、本変形例に係る配線基板10の製造方法について説明する。
(Method for manufacturing wiring board)
Next, a method for manufacturing the wiring board 10 according to this modification will be described with reference to FIGS.

まず、図13(a)に示すように、支持基板40を準備する。続いて、図13(a)に示すように、支持基板40の第1面41に配線50を設ける。例えば、まず、蒸着法、めっき法などによって支持基板40の第1面41に銅層などの導電層を形成する。続いて、フォトリソグラフィ法およびエッチング法を用いて導電層を加工する。これにより、第1面41に配線50を得ることができる。
フォトリソグラフィ法およびエッチング法は、配線50内にスリット60が形成されるよう実施されてもよい。若しくは、支持基板40に配線50を形成した後、配線50を加工することによってスリット60が形成されてもよい。例えば、配線50にレーザーを照射することによってスリット60が形成されてもよい。
First, as shown in FIG. 13A, a support substrate 40 is prepared. Subsequently, as shown in FIG. 13A, wiring 50 is provided on the first surface 41 of the support substrate 40 . For example, first, a conductive layer such as a copper layer is formed on the first surface 41 of the support substrate 40 by vapor deposition, plating, or the like. Subsequently, the conductive layer is processed using a photolithography method and an etching method. Thereby, the wiring 50 can be obtained on the first surface 41 .
Photolithography and etching may be performed to form slits 60 in wiring 50 . Alternatively, the slits 60 may be formed by processing the wiring 50 after forming the wiring 50 on the support substrate 40 . For example, the slits 60 may be formed by irradiating the wiring 50 with a laser.

続いて、図13(b)に示すように、基材20を伸長させる第1伸長工程を実施する。続いて、配線形成工程を実施する。配線形成工程は、伸長した状態の基材20の第1面21に、配線50が設けられた支持基板40の第2面42を接合させる。基材20と支持基板40との間に接着層45を設けてもよい。 Subsequently, as shown in FIG. 13(b), a first elongation step of elongating the base material 20 is performed. Then, a wiring formation process is implemented. In the wiring forming step, the second surface 42 of the support substrate 40 provided with the wiring 50 is joined to the first surface 21 of the base material 20 in the extended state. An adhesive layer 45 may be provided between the base material 20 and the support substrate 40 .

その後、基材20から第1張力Tを取り除く第1収縮工程を実施する。これにより、図13(c)において矢印Cで示すように、x方向において基材20が収縮する。基材20が収縮すると、支持基板40及び配線50にも変形が生じる。支持基板40及び配線50の変形は、上述のように蛇腹形状部として生じる。 After that, a first contraction step is performed to remove the first tension T from the substrate 20 . As a result, the base material 20 shrinks in the x direction, as indicated by arrow C in FIG. 13(c). When the base material 20 shrinks, the support substrate 40 and the wiring 50 are also deformed. Deformation of the support substrate 40 and the wiring 50 occurs as a bellows-shaped portion as described above.

本変形例においても、配線50がスリット60を含んでいるので、山部11の制御が容易になる。例えば、長さ方向D1における山部11の周期が不規則になることを抑制できる。例えば、山部11が延びる方向が幅方向D2からずれることを抑制できる。例えば、山部11の高さが局所的に大きくなることを抑制できる。このため、配線基板10を用いてループアンテナ1を構成する場合に、2本の配線50の間の隙間75の幅W3が位置によって変化することを抑制できる。従って、例えば、基材20の伸縮に起因してループアンテナ1のインダクタンスが変化することを抑制できる。 Also in this modified example, since the wiring 50 includes the slit 60, the control of the peak portion 11 is facilitated. For example, it is possible to suppress irregular periods of the peaks 11 in the length direction D1. For example, it is possible to prevent the direction in which the peak portion 11 extends from deviating from the width direction D2. For example, it is possible to suppress a local increase in the height of the peak portion 11 . Therefore, when the loop antenna 1 is configured using the wiring board 10, the width W3 of the gap 75 between the two wires 50 can be suppressed from changing depending on the position. Therefore, for example, it is possible to suppress a change in inductance of the loop antenna 1 due to expansion and contraction of the base material 20 .

(第2の変形例)
図14は、第2の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図14に示すように、基材20は、平面視において配線50のスリット60に重なるスリット28を含んでいてもよい。基材20のスリットのことを、基材スリットとも称する。基材スリット28は、基材20を貫通している。基材スリット28は、スリット60と同様に、長さ方向D1に延びている。基材20に基材スリット28を形成することにより、複数の山部が並ぶ方向が、長さ方向D1により平行になり易い。
(Second modification)
FIG. 14 is a cross-sectional view showing a wiring substrate 10 according to a second modified example. As shown in FIG. 14, the base material 20 may include slits 28 overlapping the slits 60 of the wiring 50 in plan view. The slit of the base material 20 is also called a base material slit. The substrate slit 28 penetrates the substrate 20 . The base material slit 28 extends in the longitudinal direction D1 similarly to the slit 60 . By forming the substrate slit 28 in the substrate 20, the direction in which the plurality of peaks are arranged is more likely to be parallel to the length direction D1.

基材スリット28の幅W4は、スリット60の幅W2の例えば1.0倍以下であり、0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよい。基材スリット28は、配線形成工程の後に基材20に形成されてもよい。 The width W4 of the substrate slit 28 is, for example, 1.0 times or less the width W2 of the slit 60, may be 0.9 times or less, or may be 0.8 times or less. The substrate slit 28 may be formed in the substrate 20 after the wiring forming process.

(第3の変形例)
図15は、第3の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図15に示すように、支持基板40は、平面視において配線50のスリット60に重なるスリット43を含んでいてもよい。支持基板40のスリットのことを、支持基板スリットとも称する。支持基板スリット43は、支持基板40を貫通している。支持基板スリット43は、スリット60と同様に、長さ方向D1に延びている。支持基板40に支持基板スリット43を形成することにより、複数の山部が並ぶ方向が、長さ方向D1により平行になり易い。図示はしないが、接着層45は、平面視において配線50のスリット60に重なるスリットを含んでいてもよい。
(Third modification)
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a wiring board 10 according to a third modified example. As shown in FIG. 15, the support substrate 40 may include slits 43 overlapping the slits 60 of the wiring 50 in plan view. The slit of the support substrate 40 is also called a support substrate slit. The support substrate slit 43 penetrates the support substrate 40 . The support substrate slit 43 extends in the length direction D1, similarly to the slit 60 . By forming the support substrate slit 43 in the support substrate 40, the direction in which the plurality of peaks are arranged is more likely to be parallel to the length direction D1. Although not shown, the adhesive layer 45 may include slits overlapping the slits 60 of the wirings 50 in plan view.

支持基板スリット43の幅W5は、スリット60の幅W2の例えば1.0倍以下であり、0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよい。基材スリット28は、配線形成工程の前に支持基板40に形成されてもよく、配線形成工程の後に支持基板40に形成されてもよい。 The width W5 of the support substrate slit 43 is, for example, 1.0 times or less the width W2 of the slit 60, may be 0.9 times or less, or may be 0.8 times or less. The substrate slit 28 may be formed in the supporting substrate 40 before the wiring forming process, or may be formed in the supporting substrate 40 after the wiring forming process.

(第4の変形例)
図16は、第4の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図16に示すように、基材20が基材スリット28を含み、支持基板40が支持基板スリット43を含んでいてもよい。基材スリット28及び支持基板スリット43は、平面視において重なっていてもよい。
(Fourth modification)
FIG. 16 is a cross-sectional view showing a wiring board 10 according to a fourth modification. As shown in FIG. 16 , the substrate 20 may include the substrate slit 28 and the support substrate 40 may include the support substrate slit 43 . The substrate slit 28 and the support substrate slit 43 may overlap in plan view.

(第5の変形例)
図17は、第5の変形例に係る配線50を示す平面図である。図17に示すように、第1側縁501は、幅方向D2に沿って見た場合にスリット60の端65に重なる段部501aを含んでいてもよい。段部501aは、長さ方向D1において接続部分55から第1部分51に向かうにつれて第1側縁501が内側に変位するよう構成されている。同様に、第2側縁502は、幅方向D2に沿って見た場合にスリット60の端65に重なる段部502aを含んでいてもよい。段部502aは、長さ方向D1において接続部分55から第2部分52に向かうにつれて第2側縁502が外側に変位するよう構成されている。
(Fifth Modification)
FIG. 17 is a plan view showing wiring 50 according to the fifth modification. As shown in FIG. 17, the first side edge 501 may include a stepped portion 501a that overlaps the edge 65 of the slit 60 when viewed along the width direction D2. The step portion 501a is configured such that the first side edge 501 is displaced inward from the connection portion 55 toward the first portion 51 in the length direction D1. Similarly, the second side edge 502 may include a stepped portion 502a overlapping the edge 65 of the slit 60 when viewed along the width direction D2. The step portion 502a is configured such that the second side edge 502 is displaced outward from the connecting portion 55 toward the second portion 52 in the length direction D1.

本変形例によれば、上述の実施の形態の場合に比べて、第1部分51の第1幅W11及び第2部分52の第2幅W12が大きくなる。このため、スリット60に起因して配線50の電気抵抗値が増加することを抑制できる。段部501a及び段部502aは、第1幅W11及び第2幅W12の和が接続部分55の幅W1と同一又は同等になるように構成されてもよい。幅W1に対する第1幅W11及び第2幅W12の和の比である(W11+W12)/W1は、例えば0.90以上であり、0.95以上であってもよく、0.98以上であってもよい。(W11+W12)/W1は、例えば1.10以上であり、1.05以下であってもよく、1.02以下であってもよい。 According to this modification, the first width W11 of the first portion 51 and the second width W12 of the second portion 52 are larger than in the above-described embodiment. Therefore, it is possible to suppress an increase in the electrical resistance value of the wiring 50 due to the slit 60 . The stepped portion 501a and the stepped portion 502a may be configured such that the sum of the first width W11 and the second width W12 is equal to or equal to the width W1 of the connecting portion 55 . (W11+W12)/W1, which is the ratio of the sum of the first width W11 and the second width W12 to the width W1, is, for example, 0.90 or more, may be 0.95 or more, or may be 0.98 or more. good too. (W11+W12)/W1 is, for example, 1.10 or more, may be 1.05 or less, or may be 1.02 or less.

(第6の変形例)
図18は、第6の変形例に係る配線50を示す平面図である。図18に示すように、スリット60の端65は、湾曲した輪郭を含んでいてもよい。これにより、例えば、端65において配線50の断線が生じることを抑制できる。平面視における端65の曲率半径は、例えば10μm以上であり、50μm以上であってもよく、100μm以上であってもよい。
(Sixth modification)
FIG. 18 is a plan view showing wiring 50 according to the sixth modification. As shown in FIG. 18, edges 65 of slit 60 may include curved contours. Thereby, for example, it is possible to suppress the occurrence of disconnection of the wiring 50 at the end 65 . The radius of curvature of the end 65 in plan view is, for example, 10 μm or more, may be 50 μm or more, or may be 100 μm or more.

(第7の変形例)
図19は、第7の変形例に係る配線50を示す平面図である。図19に示すように、配線50は、スリット60の端65に接続された貫通孔66を含んでいてもよい。これにより、例えば、端65において配線50の断線が生じることを抑制できる。貫通孔66は、配線50を貫通している。貫通孔66は、湾曲した輪郭を含んでいてもよい。幅方向D2における貫通孔66の寸法W6は、スリット60の幅W2よりも大きくてもよい。
(Seventh Modification)
FIG. 19 is a plan view showing wiring 50 according to the seventh modification. As shown in FIG. 19, wiring 50 may include through holes 66 connected to ends 65 of slits 60 . Thereby, for example, it is possible to suppress the occurrence of disconnection of the wiring 50 at the end 65 . The through hole 66 penetrates the wiring 50 . Through holes 66 may include curved contours. A dimension W6 of the through-hole 66 in the width direction D2 may be larger than the width W2 of the slit 60 .

(第8の変形例)
図20は、第8の変形例に係る配線50を示す平面図である。図20に示すように、配線50のスリットは、幅方向D2において異なる位置にある第1スリット61及び第2スリット62を含んでいてもよい。第1スリット61及び第2スリット62は、長さ方向D1に延びている。第2スリット62は、第1スリット61よりも外側に位置している。この場合、配線50は、第1部分51及び第2部分52に加えて第3部分53を含んでいてもよい。第3部分53は、第1スリット61と第2スリット62との間に位置する配線50の部分である。第3部分53は、長さ方向D1に延びている。接続部分55は、第1部分51、第2部分52及び第3部分53を電気的に接続する。
(Eighth modification)
FIG. 20 is a plan view showing wiring 50 according to the eighth modification. As shown in FIG. 20, the slits of the wiring 50 may include a first slit 61 and a second slit 62 located at different positions in the width direction D2. The first slit 61 and the second slit 62 extend in the length direction D1. The second slit 62 is located outside the first slit 61 . In this case, the wiring 50 may include the third portion 53 in addition to the first portion 51 and the second portion 52 . A third portion 53 is a portion of the wiring 50 located between the first slit 61 and the second slit 62 . The third portion 53 extends in the length direction D1. The connecting portion 55 electrically connects the first portion 51 , the second portion 52 and the third portion 53 .

(第9の変形例)
図21は、第9の変形例に係る配線50を示す平面図である。図21に示すように、配線50のスリットは、幅方向D2において異なる位置にある第1スリット61、第2スリット62及び第3スリット63を含んでいてもよい。第1スリット61、第2スリット62及び第3スリット63は、長さ方向D1に延びている。第2スリット62は、第1スリット61よりも外側に位置している。第3スリット63は、幅方向D2において第1スリット61と第2スリット62との間に位置している。この場合、配線50は、第1部分51及び第2部分52に加えて第3部分53及び第4部分54を含んでいてもよい。第3部分53は、第1スリット61と第3スリット63との間に位置する配線50の部分である。第4部分54は、第2スリット62と第3スリット63との間に位置する配線50の部分である。第3部分53及び第4部分54は、長さ方向D1に延びている。接続部分55は、第1部分51、、第2部分52、第3部分53及び第4部分54を電気的に接続する。
(Ninth modification)
FIG. 21 is a plan view showing wiring 50 according to the ninth modification. As shown in FIG. 21, the slits of the wiring 50 may include a first slit 61, a second slit 62, and a third slit 63 at different positions in the width direction D2. The first slit 61, the second slit 62 and the third slit 63 extend in the length direction D1. The second slit 62 is located outside the first slit 61 . The third slit 63 is located between the first slit 61 and the second slit 62 in the width direction D2. In this case, the wiring 50 may include the third portion 53 and the fourth portion 54 in addition to the first portion 51 and the second portion 52 . A third portion 53 is a portion of the wiring 50 positioned between the first slit 61 and the third slit 63 . A fourth portion 54 is a portion of the wiring 50 positioned between the second slit 62 and the third slit 63 . The third portion 53 and the fourth portion 54 extend in the length direction D1. The connecting portion 55 electrically connects the first portion 51 , the second portion 52 , the third portion 53 and the fourth portion 54 .

(第10の変形例)
図22は、第10の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図22に示すように、配線50は、配線50の長さ方向に並ぶ複数のスリット60を備えていてもよい。例えば、配線50は、x配線50xに形成されている複数のxスリット60xを備えていてもよい。例えば、配線50は、y配線50yに形成されている複数のyスリット60yを備えていてもよい。
(Tenth Modification)
FIG. 22 is a plan view showing a wiring board 10 according to a tenth modification. As shown in FIG. 22 , the wiring 50 may have a plurality of slits 60 arranged in the length direction of the wiring 50 . For example, line 50 may include a plurality of x-slits 60x formed in x-line 50x. For example, the wiring 50 may have a plurality of y-slits 60y formed in the y-wiring 50y.

図23は、図22の配線50を拡大して示す平面図である。符号U1は、スリット60の長さを表す。配線50は、長さ方向D1に並ぶ複数のスリット60を含む。この場合、配線50は、長さ方向D1に並ぶ複数の第1部分51及び複数の第2部分52と、第1部分51と第2部分52とを電気的に接続する複数の接続部分55と、を含む。 FIG. 23 is a plan view showing an enlarged wiring 50 in FIG. Reference U1 represents the length of the slit 60 . The wiring 50 includes a plurality of slits 60 arranged in the length direction D1. In this case, the wiring 50 includes a plurality of first portions 51 and a plurality of second portions 52 arranged in the length direction D1, and a plurality of connection portions 55 electrically connecting the first portions 51 and the second portions 52. ,including.

符号U2は、接続部分55の長さを表す。スリット60は、配線50の全長に対するスリット60の長さU1の総和の比が一定以上になるよう構成されている。配線50の全長は、スリット60の長さU1及び接続部分55の長さU2の総和である。配線50の全長に対するスリット60の長さU1の総和の比は、例えば0.50以上であり、0.60以上であってもよく、0.70以上であってもよい。配線50の全長に対するスリット60の長さU1の総和の比は、例えば1.00未満であり、0.95以下であってもよく、0.90以下であってもよい。 A reference U2 represents the length of the connection portion 55 . The slits 60 are configured such that the ratio of the sum of the length U1 of the slits 60 to the total length of the wiring 50 is equal to or greater than a certain value. The total length of the wiring 50 is the sum of the length U1 of the slit 60 and the length U2 of the connecting portion 55. As shown in FIG. The ratio of the total length U1 of the slits 60 to the total length of the wiring 50 is, for example, 0.50 or more, may be 0.60 or more, or may be 0.70 or more. The ratio of the total length U1 of the slits 60 to the total length of the wiring 50 is, for example, less than 1.00, may be 0.95 or less, or may be 0.90 or less.

スリット60の長さU1は、接続部分55の長さU2よりも大きくてもよい。長さU2に対する長さU1の比であるU2/U1は、例えば1.1以上であり、1.2以上であってもよく、1.5以上であってもよく、2.0以上であってもよい。 Length U1 of slit 60 may be greater than length U2 of connecting portion 55 . U2/U1, which is the ratio of length U1 to length U2, is, for example, 1.1 or more, may be 1.2 or more, may be 1.5 or more, or may be 2.0 or more. may

(第11の変形例)
図24は、第11の変形例に係る配線50を示す平面図である。図24に示すように、配線50のスリットは、長さ方向D1に並ぶ複数の第1スリット61と、長さ方向D1に並ぶ複数の第2スリット62とを含んでいてもよい。第1スリット61及び第2スリット62は、幅方向D2において異なる位置にある。この場合、配線50は、長さ方向D1に並ぶ複数の第1部分51、複数の第2部分52及び複数の第3部分53と、第1部分51、第2部分52及び第3部分53を電気的に接続する複数の接続部分55と、を含む。
(11th modification)
FIG. 24 is a plan view showing wiring 50 according to the eleventh modification. As shown in FIG. 24, the slits of the wiring 50 may include a plurality of first slits 61 arranged in the length direction D1 and a plurality of second slits 62 arranged in the length direction D1. The first slit 61 and the second slit 62 are located at different positions in the width direction D2. In this case, the wiring 50 includes a plurality of first portions 51, a plurality of second portions 52, and a plurality of third portions 53 arranged in the length direction D1, and the first portion 51, the second portion 52, and the third portion 53. and a plurality of connection portions 55 for electrical connection.

(第12の変形例)
図25は、第12の変形例に係る配線50を示す平面図である。図25に示すように、長さ方向D1における第2スリット62の端部の位置が、長さ方向D1における第1スリット61の端部の位置と異なっていてもよい。この場合、配線50は、第1部分51及び第3部分53を電気的に接続する第1接続部分551と、第2部分52及び第3部分53を電気的に接続する第2接続部分552と、を含んでいてもよい。第1接続部分551は、幅方向D2において第1側縁501から第2スリット62まで広がっている。第2接続部分552は、幅方向D2において第2側縁502から第1スリット61まで広がっている。
(Twelfth Modification)
FIG. 25 is a plan view showing wiring 50 according to the twelfth modification. As shown in FIG. 25, the position of the end of the second slit 62 in the length direction D1 may be different from the position of the end of the first slit 61 in the length direction D1. In this case, the wiring 50 has a first connection portion 551 that electrically connects the first portion 51 and the third portion 53 and a second connection portion 552 that electrically connects the second portion 52 and the third portion 53 . , may be included. The first connection portion 551 extends from the first side edge 501 to the second slit 62 in the width direction D2. The second connection portion 552 extends from the second side edge 502 to the first slit 61 in the width direction D2.

(第13の変形例)
図26は、第13の変形例に係る配線50を示す平面図である。図26に示すように、配線50は、接続部分55に位置する貫通孔67を含んでいてもよい。貫通孔67は、配線50を貫通している。貫通孔67は、長さ方向D1に並ぶ2つの第1スリット61の間に位置していてもよい。貫通孔67は、長さ方向D1に並ぶ2つの第2スリット62の間に位置していてもよい。
(Thirteenth Modification)
FIG. 26 is a plan view showing wiring 50 according to the thirteenth modification. As shown in FIG. 26, the wiring 50 may include a through hole 67 located at the connecting portion 55. As shown in FIG. The through hole 67 penetrates the wiring 50 . The through hole 67 may be positioned between two first slits 61 aligned in the length direction D1. The through hole 67 may be positioned between two second slits 62 aligned in the length direction D1.

(第14の変形例)
図27は、第14の変形例に係る配線50を示す平面図である。図27に示すように、貫通孔67は、長さ方向D1においてスリットに重ならない位置にあってもよい。
(14th modification)
FIG. 27 is a plan view showing wiring 50 according to the fourteenth modification. As shown in FIG. 27, the through hole 67 may be positioned so as not to overlap the slit in the length direction D1.

(第15の変形例)
図28は、第15の変形例に係る配線50を示す平面図である。図28に示すように、配線50は、第1部分51に位置し、長さ方向D1に並ぶ複数の貫通孔67を含んでいてもよい。配線50は、第2部分52に位置し、長さ方向D1に並ぶ複数の貫通孔67を含んでいてもよい。第1部分51の貫通孔67は、幅方向D2に沿って見た場合に第2部分52の貫通孔67に重なっていてもよい。図示はしないが、第1部分51の貫通孔67は、幅方向D2に沿って見た場合に第2部分52の貫通孔67に重なっていなくてもよい。
(Fifteenth modification)
FIG. 28 is a plan view showing wiring 50 according to the fifteenth modification. As shown in FIG. 28, the wiring 50 may include a plurality of through holes 67 positioned in the first portion 51 and arranged in the length direction D1. The wiring 50 may include a plurality of through holes 67 positioned in the second portion 52 and arranged in the length direction D1. The through hole 67 of the first portion 51 may overlap the through hole 67 of the second portion 52 when viewed along the width direction D2. Although not shown, the through hole 67 of the first portion 51 does not have to overlap the through hole 67 of the second portion 52 when viewed along the width direction D2.

(第16の変形例)
図29は、第16の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図29に示すように、配線50が、長さ方向に並ぶ複数のスリット60を備える場合に、配線50は、コーナー配線50zに形成されているコーナースリット60zを含んでいてもよい。図30は、コーナー配線50zを拡大して示す平面図である。
(16th modification)
FIG. 29 is a plan view showing a wiring board 10 according to a sixteenth modification. As shown in FIG. 29, when wiring 50 has a plurality of slits 60 arranged in the length direction, wiring 50 may include corner slits 60z formed in corner wiring 50z. FIG. 30 is a plan view showing an enlarged corner wiring 50z.

(第17の変形例)
図31は、第17の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。上述の第5の変形例の場合と同様に、コーナー配線50zの第1側縁501は、幅方向D2に沿って見た場合にスリット60の端65に重なる段部501aを含んでいてもよい。同様に、コーナー配線50zの第2側縁502は、幅方向D2に沿って見た場合にスリット60の端65に重なる段部502aを含んでいてもよい。本変形例によれば、コーナースリット60zに起因してコーナー配線50zの電気抵抗値が増加することを抑制できる。
(17th modification)
FIG. 31 is a plan view showing a wiring board 10 according to a seventeenth modification. As in the fifth modification described above, the first side edge 501 of the corner wiring 50z may include a stepped portion 501a that overlaps the edge 65 of the slit 60 when viewed along the width direction D2. . Similarly, the second side edge 502 of the corner wiring 50z may include a stepped portion 502a that overlaps the end 65 of the slit 60 when viewed along the width direction D2. According to this modification, it is possible to suppress an increase in the electrical resistance value of the corner wiring 50z due to the corner slit 60z.

(第18の変形例)
図32は、第18の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。上述の第6の変形例の場合と同様に、コーナースリット60zの端65は、湾曲した輪郭を含んでいてもよい。図32に示すように、コーナースリット60zの角68は、湾曲した輪郭を含んでいてもよい。
(18th modification)
FIG. 32 is a plan view showing a wiring board 10 according to an eighteenth modification. As in the sixth variant described above, the edge 65 of corner slit 60z may include a curved profile. As shown in FIG. 32, corner 68 of corner slit 60z may include a curved profile.

(第19の変形例)
図33は、第19の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。上述の第7の変形例の場合と同様に、コーナー配線50zは、コーナースリット60zの端65に接続された貫通孔66を含んでいてもよい。図33に示すように、コーナー配線50zは、コーナースリット60zの角68に接続された貫通孔66を含んでいてもよい。
(Nineteenth Modification)
FIG. 33 is a plan view showing a wiring board 10 according to a nineteenth modification. As in the seventh modification described above, the corner wire 50z may include a through hole 66 connected to the end 65 of the corner slit 60z. As shown in FIG. 33, corner wiring 50z may include through holes 66 connected to corners 68 of corner slits 60z.

(第20の変形例)
図34は、第20の変形例に係る配線基板10の断面図である。図34は、幅方向D2における断面図であり、上述の実施の形態における図3に相当する。配線基板10は、基材20、制御層30及び配線50を少なくとも備える。配線基板10は、支持基板40を備えていてもよい。
(Twentieth Modification)
FIG. 34 is a cross-sectional view of wiring board 10 according to a twentieth modification. FIG. 34 is a cross-sectional view in the width direction D2 and corresponds to FIG. 3 in the above embodiment. The wiring board 10 includes at least a substrate 20 , a control layer 30 and wiring 50 . The wiring board 10 may include a support substrate 40 .

〔制御層〕
制御層30は、基材20の伸縮を制御するために設けられている層である。制御層30は、第1面21の法線方向に沿って見た場合に、配線50に重なるか、若しくは配線50に近接するよう配置されている。制御層30は、配線50の全体に重なっていてもよい。
[Control layer]
The control layer 30 is a layer provided to control expansion and contraction of the base material 20 . The control layer 30 is arranged so as to overlap the wiring 50 or be close to the wiring 50 when viewed along the normal direction of the first surface 21 . The control layer 30 may overlap the entire wiring 50 .

制御層30は、基材20の第1の弾性係数よりも高い弾性係数を有してもよい。以下の説明において、制御層30の弾性係数のことを、第3の弾性係数とも称する。制御層30の第3の弾性係数は、例えば100MPa以上であり、1GPa以上であってもよく、10GPa以上であってもよい。制御層30の第3の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数の例えば1.1倍以上であり、2倍以上であってもよく、10倍以上であってもよく、100倍以上であってもよい。 Control layer 30 may have a higher modulus of elasticity than the first modulus of elasticity of substrate 20 . In the following description, the elastic modulus of the control layer 30 is also referred to as the third elastic modulus. The third elastic modulus of the control layer 30 is, for example, 100 MPa or more, may be 1 GPa or more, or may be 10 GPa or more. The third elastic modulus of the control layer 30 is, for example, 1.1 times or more, may be 2 times or more, may be 10 times or more, or may be 100 times the first elastic modulus of the base material 20. or more.

制御層30の第3の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数以下であってもよい。制御層30の第3の弾性係数は、基材20の第1の弾性係数の例えば1.0倍以下であり、0.9倍以下であってもよく、0.8倍以下であってもよい。 The third modulus of elasticity of control layer 30 may be less than or equal to the first modulus of elasticity of substrate 20 . The third elastic modulus of the control layer 30 is, for example, 1.0 times or less, may be 0.9 times or less, or may be 0.8 times or less the first elastic modulus of the base material 20. good.

制御層30の材料は、伸縮性を有していてもよく、伸縮性を有していなくてもよい。制御層30が伸縮性を有する材料を含む場合、制御層30は、変形に対する耐性を有することができる。 The material of the control layer 30 may or may not be stretchable. If the control layer 30 comprises a stretchable material, the control layer 30 can be resistant to deformation.

制御層30に用いられる、伸縮性を有さない材料の例は、樹脂である。樹脂としては、一般的な樹脂を用いることができ、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等のいずれも用いることができる。制御層30が樹脂又はエラストマーを含む場合、制御層30としては、樹脂基材を用いることもできる。 An example of a non-stretchable material used for the control layer 30 is resin. As the resin, a general resin can be used, and for example, any of thermoplastic resin, thermosetting resin, photo-setting resin and the like can be used. If the control layer 30 contains a resin or elastomer, the control layer 30 can also be made of a resin base material.

制御層30は、金属材料を含んでいてもよい。金属材料の例は、銅、アルミニウム、ステンレス鋼等である。 The control layer 30 may contain a metallic material. Examples of metallic materials are copper, aluminum, stainless steel, and the like.

制御層30に用いられる材料の伸縮性は、基材20の伸縮性と同一又は同等であってもよい。
伸縮性を有する材料の例は、エラストマーである。エラストマーとしては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができる。エラストマーは、例えば、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、アミド系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ポリブタジエン、ポリイソブチレン、ポリスチレンブタジエン、ポリクロロプレン等である。制御層30を構成する材料がこれらの樹脂である場合、制御層30は、透明性を有していてもよい。制御層30は、遮光性、例えば紫外線を遮蔽する特性を有していてもよい。例えば、制御層30は黒色であってもよい。制御層30の色と基材20の色とは、同一であってもよく、異なっていてもよい。
The stretchability of the material used for the control layer 30 may be the same or similar to the stretchability of the substrate 20 .
An example of a stretchable material is an elastomer. As the elastomer, general thermoplastic elastomers and thermosetting elastomers can be used. Examples of elastomers include styrene-based elastomers, olefin-based elastomers, urethane-based elastomers, amide-based elastomers, silicone rubbers, urethane rubbers, fluororubbers, polybutadiene, polyisobutylene, polystyrene-butadiene, and polychloroprene. When the material forming the control layer 30 is one of these resins, the control layer 30 may have transparency. The control layer 30 may have a light blocking property, for example, a property of blocking ultraviolet rays. For example, control layer 30 may be black. The color of the control layer 30 and the color of the substrate 20 may be the same or different.

制御層30は、絶縁性を有していてもよい。絶縁性を有する制御層30の材料としては、樹脂やエラストマーを用いることができる。 The control layer 30 may have insulating properties. A resin or an elastomer can be used as the material of the control layer 30 having insulating properties.

制御層30の厚みT4は、伸縮に耐え得る厚みであればよく、制御層30の材料等に応じて適宜選択される。制御層30の厚みT4は、例えば0.1μm以上であり、1μm以上であってもよく、10μm以上であってもよい。制御層30の厚みは、例えば5mm以下であり、1mm以下であってもよく、500μm以下であってもよく、100μm以下であってもよい。制御層30が薄すぎると、蛇腹形状部の周期を制御する効果が十分に得られない場合がある。また、制御層30が厚すぎると、制御層30の弾性係数が上述の関係を満たしていても、制御層30の曲げ剛性が大きくなり、配線基板10の伸縮性が低下してしまう場合がある。 The thickness T4 of the control layer 30 may be any thickness that can withstand expansion and contraction, and is appropriately selected according to the material of the control layer 30 and the like. The thickness T4 of the control layer 30 is, for example, 0.1 μm or more, may be 1 μm or more, or may be 10 μm or more. The thickness of the control layer 30 is, for example, 5 mm or less, may be 1 mm or less, may be 500 μm or less, or may be 100 μm or less. If the control layer 30 is too thin, the effect of controlling the period of the accordion-shaped portion may not be sufficiently obtained. Also, if the control layer 30 is too thick, even if the elastic modulus of the control layer 30 satisfies the above relationship, the bending rigidity of the control layer 30 increases, and the stretchability of the wiring board 10 may decrease. .

制御層30の形成方法は、材料等に応じて適宜選択される。例えば、基材20上または支持基板40上に配線50を形成した後、制御層30を構成する材料を印刷法により配線50上に設けてもよい。制御層30を構成する金属箔、樹脂フィルムなどの部材を基材20や支持基板40に接着層などを介して貼り付けてもよい。 A method for forming the control layer 30 is appropriately selected according to the material and the like. For example, after the wiring 50 is formed on the base material 20 or the support substrate 40, the material forming the control layer 30 may be provided on the wiring 50 by a printing method. A member such as a metal foil or a resin film that constitutes the control layer 30 may be attached to the base material 20 or the support substrate 40 via an adhesive layer or the like.

制御層30を基材20や支持基板40に貼り付けるための接着層は、分子接着層であってもよい。なお、「分子接着」とは、分子接着剤となる化合物を2つの被着体の間に付与し、化学結合によりこれらの2つの被着体を接着接合することをいう。 The adhesive layer for attaching the control layer 30 to the substrate 20 or the support substrate 40 may be a molecular adhesive layer. The term "molecular adhesion" refers to the application of a molecular adhesive compound between two adherends to bond the two adherends by chemical bonding.

分子接着層に用いられる分子接着剤としては、公知の分子接着剤を用いることができ、配線基板10の用途等に応じて適宜選択される。例えば、シランカップリング剤、チオール系化合物等が挙げられる。分子接着層の厚さは、例えば数nm~100nm程度である。 A known molecular adhesive can be used as the molecular adhesive used for the molecular adhesive layer, and the molecular adhesive is appropriately selected according to the use of the wiring board 10 and the like. Examples include silane coupling agents and thiol compounds. The thickness of the molecular adhesion layer is, for example, about several nm to 100 nm.

図35は、長さ方向D1における配線基板10の断面図の一例である。図35に示す例においては、制御層30が配線基板10の表面に位置しているので、振幅S11は、制御層30の山部及び谷部の振幅である。 FIG. 35 is an example of a cross-sectional view of the wiring board 10 in the length direction D1. In the example shown in FIG. 35, the control layer 30 is located on the surface of the wiring substrate 10, so the amplitude S11 is the amplitude of peaks and valleys of the control layer 30. In the example shown in FIG.

配線基板10が制御層30を備えることにより、例えば、基材20の伸縮に起因して配線50の間の隙間75の幅W3が変化することを抑制できる。このため、ループアンテナ1のインダクタンスが変化することを抑制できる。 By including the control layer 30 in the wiring board 10, for example, it is possible to suppress the width W3 of the gap 75 between the wirings 50 from changing due to expansion and contraction of the base material 20. FIG. Therefore, it is possible to suppress the inductance of the loop antenna 1 from changing.

(第21の変形例)
図36は、第21の変形例に係る配線50を示す平面図である。図36に示すように、制御層30は、2本の配線50の間の隙間75に平面視において重なる第1制御層31を含んでいてもよい。第1制御層31は、長さ方向D1に延びている。
(21st modification)
FIG. 36 is a plan view showing wiring 50 according to the twenty-first modification. As shown in FIG. 36, the control layer 30 may include a first control layer 31 that overlaps the gap 75 between the two wires 50 in plan view. The first control layer 31 extends in the length direction D1.

図37は、図36の配線基板10のC-C線に沿った断面図である。図37に示すように、第1制御層31は、隣り合う2本の配線50の側縁に重なっていてもよい。第1制御層31の幅W7は、例えば50μm以上であり、100μm以上であってもよく、200μm以上であってもよい。幅W7は、例えば5mm以下であり、2mm以下であってもよく、1mm以下であってもよい。 FIG. 37 is a cross-sectional view of the wiring board 10 of FIG. 36 taken along line CC. As shown in FIG. 37, the first control layer 31 may overlap side edges of two adjacent wirings 50 . The width W7 of the first control layer 31 is, for example, 50 μm or more, may be 100 μm or more, or may be 200 μm or more. The width W7 is, for example, 5 mm or less, may be 2 mm or less, or may be 1 mm or less.

第1制御層31は、2本の配線50の間の隙間75の幅W3が変化することを抑制できる。従って、例えば、基材20の伸縮に起因してループアンテナ1のインダクタンスが変化することを抑制できる。 The first control layer 31 can suppress the width W3 of the gap 75 between the two wirings 50 from changing. Therefore, for example, it is possible to suppress a change in inductance of the loop antenna 1 due to expansion and contraction of the base material 20 .

図示はしないが、配線50はスリット60を含んでいなくてもよい。この場合であっても、第1制御層31を設けることにより、2本の配線50の間の隙間75の幅W3が変化することを抑制できる。従って、例えば、基材20の伸縮に起因してループアンテナ1のインダクタンスが変化することを抑制できる。 Although not shown, the wiring 50 may not include the slit 60 . Even in this case, by providing the first control layer 31, it is possible to suppress the width W3 of the gap 75 between the two wirings 50 from changing. Therefore, for example, it is possible to suppress a change in inductance of the loop antenna 1 due to expansion and contraction of the base material 20 .

(第22の変形例)
図38は、第22の変形例に係る制御層30を示す平面図である。図38に示すように、制御層30は、2本のコーナー配線50zの間の隙間75に平面視において重なる第1制御層31を含んでいてもよい。
(22nd modification)
FIG. 38 is a plan view showing the control layer 30 according to the twenty-second modification. As shown in FIG. 38, the control layer 30 may include a first control layer 31 overlapping the gap 75 between the two corner wirings 50z in plan view.

図示はしないが、コーナー配線50zはコーナースリット60zを含んでいなくてもよい。この場合であっても、第1制御層31を設けることにより、2本のコーナー配線50zの間の隙間75の幅W3が変化することを抑制できる。従って、例えば、基材20の伸縮に起因してループアンテナ1のインダクタンスが変化することを抑制できる。 Although not shown, the corner wiring 50z may not include the corner slit 60z. Even in this case, by providing the first control layer 31, it is possible to suppress a change in the width W3 of the gap 75 between the two corner wirings 50z. Therefore, for example, it is possible to suppress a change in inductance of the loop antenna 1 due to expansion and contraction of the base material 20 .

(第23の変形例)
図39は、第23の変形例に係る制御層30を示す平面図である。図39に示すように、制御層30は、長さ方向D1に並ぶ複数の第2制御層32を含んでいてもよい。第2制御層32が位置する部分における配線基板10の断面二次モーメントは、第2制御層32が位置しない部分における配線基板10の断面二次モーメントと異なる。複数の第2制御層32が長さ方向D1に並ぶ場合、配線基板10の断面二次モーメントが、長さ方向D1に沿って周期的に変化する。これにより、第2制御層32に対応する周期で配線基板10に山部11が形成されやすくなる。すなわち、山部11の周期を安定化できる。
(23rd modification)
FIG. 39 is a plan view showing the control layer 30 according to the twenty-third modification. As shown in FIG. 39, the control layer 30 may include a plurality of second control layers 32 aligned in the length direction D1. The area moment of inertia of wiring board 10 in the portion where second control layer 32 is located differs from the area moment of inertia of wiring substrate 10 in the portion where second control layer 32 is not located. When the plurality of second control layers 32 are arranged in the length direction D1, the geometrical moment of inertia of the wiring board 10 periodically changes along the length direction D1. This makes it easier to form the ridges 11 on the wiring substrate 10 with a period corresponding to the second control layer 32 . That is, the period of the peaks 11 can be stabilized.

図39に示すように、第2制御層32は、平行に延びる2本の配線50に重なっていてもよい。例えば、第2制御層32は、内側に位置する配線50の第1側縁501から、外側に位置する配線50の第2側縁502まで延びていてもよい。第2制御層32が延びる方向は、幅方向D2に平行であってもよく、幅方向D2からずれていてもよい。 As shown in FIG. 39, the second control layer 32 may overlap two wirings 50 extending in parallel. For example, the second control layer 32 may extend from the first side edge 501 of the inner trace 50 to the second side edge 502 of the outer trace 50 . The direction in which the second control layer 32 extends may be parallel to the width direction D2 or may be deviated from the width direction D2.

第2制御層32の幅W8は、例えば50μm以上であり、100μm以上であってもよく、200μm以上であってもよい。幅W8は、例えば5mm以下であり、2mm以下であってもよく、1mm以下であってもよい。 The width W8 of the second control layer 32 is, for example, 50 μm or more, may be 100 μm or more, or may be 200 μm or more. The width W8 is, for example, 5 mm or less, may be 2 mm or less, or may be 1 mm or less.

図示はしないが、配線50はスリット60を含んでいなくてもよい。この場合であっても、第2制御層32を設けることにより、山部11の周期を安定化できる。従って、例えば、基材20の伸縮に起因してループアンテナ1のインダクタンスが変化することを抑制できる。 Although not shown, the wiring 50 may not include the slit 60 . Even in this case, the period of the peaks 11 can be stabilized by providing the second control layer 32 . Therefore, for example, it is possible to suppress a change in inductance of the loop antenna 1 due to expansion and contraction of the base material 20 .

(第24の変形例)
図40は、第24の変形例に係る制御層30を示す平面図である。図40に示すように、第2制御層32は、2本のコーナー配線50zに重なっていてもよい。例えば、第2制御層32は、内側に位置するコーナー配線50zの第1側縁501から、外側に位置するコーナー配線50zの第2側縁502まで延びていてもよい。
(24th modification)
FIG. 40 is a plan view showing the control layer 30 according to the twenty-fourth modification. As shown in FIG. 40, the second control layer 32 may overlap two corner wires 50z. For example, the second control layer 32 may extend from the first side edge 501 of the inner corner wire 50z to the second side edge 502 of the outer corner wire 50z.

第2制御層32は、内端321、外端322及び一対の側端323を含む。内端321は、内側に位置する第2制御層32の端である。外端322は、外側に位置する第2制御層32の端である。側端323は、内端321から外端322まで延びている。 The second control layer 32 includes an inner edge 321 , an outer edge 322 and a pair of side edges 323 . The inner edge 321 is the edge of the second control layer 32 located inside. The outer edge 322 is the edge of the second control layer 32 located on the outside. Side edges 323 extend from inner edge 321 to outer edge 322 .

図40に示すように、第2制御層32の幅W8は、少なくとも部分的に、内側に向かうにつれて小さくなっていてもよい。すなわち、一対の側端323の間の距離が、内側に向かうにつれて小さくなってもよい。図40に示すように、内側に位置するコーナー配線50zの第1側縁501に沿って見た場合の第2制御層32の周期は、外側に位置するコーナー配線50zの第2側縁502に沿って見た場合の第2制御層32の周期よりも小さい。内側における第2制御層32の幅W8を外側における第2制御層32の幅W8よりも小さくすることにより、第2制御層32の周期に対する第2制御層32の幅の比が位置によって変化することを抑制できる。 As shown in FIG. 40, the width W8 of the second control layer 32 may at least partially decrease inward. That is, the distance between the pair of side ends 323 may decrease toward the inside. As shown in FIG. 40, the period of the second control layer 32 when viewed along the first side edge 501 of the inner corner wire 50z is the same as the second side edge 502 of the outer corner wire 50z. It is smaller than the period of the second control layer 32 when viewed along. By making the width W8 of the second control layer 32 on the inside smaller than the width W8 of the second control layer 32 on the outside, the ratio of the width of the second control layer 32 to the period of the second control layer 32 changes depending on the position. can be suppressed.

外端322における第2制御層32の幅に対する、内端321における第2制御層32の幅の比は、例えば0.99以下であり、0.95以下であってもよく、0.90以下であってもよい。 The ratio of the width of the second control layer 32 at the inner end 321 to the width of the second control layer 32 at the outer end 322 is, for example, 0.99 or less, may be 0.95 or less, or 0.90 or less. may be

図示はしないが、コーナー配線50zはコーナースリット60zを含んでいなくてもよい。この場合であっても、第2制御層32を設けることにより、山部11の周期を安定化できる。従って、例えば、基材20の伸縮に起因してループアンテナ1のインダクタンスが変化することを抑制できる。 Although not shown, the corner wiring 50z may not include the corner slit 60z. Even in this case, the period of the peaks 11 can be stabilized by providing the second control layer 32 . Therefore, for example, it is possible to suppress a change in inductance of the loop antenna 1 due to expansion and contraction of the base material 20 .

(第25の変形例)
図41は、第25の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図41に示すように、コーナー配線50z及びコーナースリット60zは、湾曲した輪郭を有していてもよい。基材20は、コーナー配線50zに対応した、湾曲した輪郭を有していてもよい。
(25th modification)
FIG. 41 is a plan view showing a wiring board 10 according to a twenty-fifth modification. As shown in FIG. 41, corner wiring 50z and corner slit 60z may have curved contours. The base material 20 may have a curved contour corresponding to the corner wiring 50z.

(第26の変形例)
配線50によって構成されるループアンテナ1の巻き数は任意である。例えば図42に示すように、巻き数は1であってもよい。図42に示すように、配線50のループは、重なり部分を含んでいなくてもよい。重なり部分とは、配線の第1の部分と、配線の第2の部分との組み合わせである。第2の部分は、第1の部分に平行に延びる。第1の部分及び第2の部分には、同一の向きの電流が同一のタイミングで流れる。図示はしないが、配線50のループは、コの字の形状であってもよい。図示はしないが、巻き数は3以上であってもよい。
(26th modification)
The number of turns of the loop antenna 1 configured by the wiring 50 is arbitrary. For example, as shown in FIG. 42, the number of turns may be one. As shown in FIG. 42, the loop of wiring 50 does not have to include an overlapping portion. The overlapping portion is a combination of the first portion of the wiring and the second portion of the wiring. The second portion extends parallel to the first portion. Currents in the same direction flow through the first portion and the second portion at the same timing. Although not shown, the loop of the wiring 50 may be U-shaped. Although not shown, the number of turns may be 3 or more.

(第27の変形例)
図43は、第27の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図43に示すように、基材20は、配線50のループの内側に位置する開口29を備えていてもよい。開口29は、基材20を貫通している。
(27th modification)
FIG. 43 is a plan view showing a wiring board 10 according to a twenty-seventh modification. As shown in FIG. 43, the substrate 20 may have openings 29 located inside the loops of the traces 50 . Aperture 29 extends through substrate 20 .

上述の変形例は、適宜組み合わされてもよい。 The modified examples described above may be combined as appropriate.

本発明を実施例及び比較例に基づいて具体的に説明する。本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例の記載には限定されない。 The present invention will be specifically described based on examples and comparative examples. The present invention is not limited to the description of the following examples as long as the gist thereof is not exceeded.

[実施例1]
(基材の準備)
支持台の上に、シリコーンゴムを塗布し、シリコーンゴムを硬化させた。これにより、支持台の上に基材20を形成した。基材20の厚みは1.5mmであった。続いて、基材20の一部分をサンプルとして取り出し、基材20の弾性係数を、JIS K625:2010に準拠した引張試験により測定した。結果、基材20の弾性係数は0.03MPaであった。
[Example 1]
(Preparation of base material)
A silicone rubber was applied onto the support and cured. Thus, the base material 20 was formed on the support base. The thickness of the base material 20 was 1.5 mm. Subsequently, a part of the base material 20 was taken out as a sample, and the elastic modulus of the base material 20 was measured by a tensile test according to JIS K625:2010. As a result, the elastic modulus of the base material 20 was 0.03 MPa.

(支持基板、配線および制御層の準備)
支持基板40として厚さ4μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを準備した。続いて、支持基板40の第1面41に、3μmの厚みを有する銅層を蒸着法により形成した。続いて、フォトリソグラフィ法およびエッチング法を用いて銅層を加工した。これにより、x方向に延びる配線50を得た。x方向における配線50の寸法は40mmであった。x方向に直交するy方向における配線50の寸法は4mmである。
(preparation of support substrate, wiring and control layer)
A polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 4 μm was prepared as the support substrate 40 . Subsequently, a copper layer having a thickness of 3 μm was formed on the first surface 41 of the support substrate 40 by vapor deposition. Subsequently, the copper layer was processed using photolithography and etching. Thus, wiring 50 extending in the x direction was obtained. The dimension of the wiring 50 in the x-direction was 40 mm. The dimension of the wiring 50 in the y-direction perpendicular to the x-direction is 4 mm.

続いて、溶解したウレタン樹脂を含むインキを、スクリーン印刷法で配線50上及び支持基板40上に塗布し、制御層30を形成した。制御層30の厚みは30μmである。 Subsequently, ink containing dissolved urethane resin was applied onto the wiring 50 and the support substrate 40 by screen printing to form the control layer 30 . The thickness of the control layer 30 is 30 μm.

続いて、支持基板40の第2面42上に接着剤を塗布し、接着層45を形成した。続いて、x方向に沿って制御層30、配線50、支持基板40及び接着層45を加工した。これにより、x方向に延びる1本のスリットを制御層30、配線50、支持基板40及び接着層45に形成した。スリットは、y方向における配線50の中央を通る。x方向におけるスリットの長さは20mmである。x方向におけるスリットの端部から配線50の端部までの距離は10mmである。 Subsequently, an adhesive was applied onto the second surface 42 of the support substrate 40 to form an adhesive layer 45 . Subsequently, the control layer 30, the wiring 50, the support substrate 40, and the adhesive layer 45 were processed along the x direction. As a result, one slit extending in the x direction was formed in the control layer 30 , the wiring 50 , the support substrate 40 and the adhesive layer 45 . The slit passes through the center of the wire 50 in the y-direction. The slit length in the x-direction is 20 mm. The distance from the end of the slit to the end of the wiring 50 in the x direction is 10 mm.

配線50は、1本のスリットにより、y方向において2つの部分に分割される。各部分の幅は約2mmである。 The wiring 50 is divided into two parts in the y direction by one slit. The width of each portion is approximately 2 mm.

(基材と支持基板の接合)
x方向及びy方向において基材20に張力を加え、x方向及びy方向のそれぞれにおいて基材20を50%伸長させた。すなわち、x方向及びy方向における基材20の寸法が1.5倍になるまで、基材20に張力を加えた。また、基材20を50%伸長させた状態で、配線50及び制御層30が設けられた支持基板40を、接着層45を介して基材20に接合した。このようにして、基材20、支持基板40、配線50及び制御層30を備える配線基板10を作製した。
(Bonding of base material and support substrate)
Tension was applied to substrate 20 in the x- and y-directions to elongate substrate 20 by 50% in each of the x- and y-directions. That is, tension was applied to the substrate 20 until the dimensions of the substrate 20 in the x and y directions were 1.5 times larger. Further, the support substrate 40 provided with the wiring 50 and the control layer 30 was bonded to the base material 20 via the adhesive layer 45 while the base material 20 was stretched by 50%. Thus, the wiring board 10 including the base material 20, the support substrate 40, the wiring 50, and the control layer 30 was produced.

続いて、基材20から張力を取り除いて、基材20及び基材20に接合された支持基板40を収縮させた。この結果、配線50及び支持基板40のうち配線50と重なる部分には、x方向に並ぶ複数の山部及び谷部が現れた。 Subsequently, the tension was removed from the substrate 20, causing the substrate 20 and the support substrate 40 bonded to the substrate 20 to contract. As a result, a plurality of peaks and valleys aligned in the x-direction appeared in the portion of the wiring 50 and the support substrate 40 that overlapped with the wiring 50 .

スリット60が形成されている配線50の部分において、すなわち、x方向における20mmの範囲内において、山部が延びる方向を測定した。4個の欠陥山部が確認された。欠陥山部とは、山部が延びる方向がy方向に対して20°以上ずれている山部である。 The direction in which the peak extends was measured in the portion of the wiring 50 where the slit 60 is formed, that is, within a range of 20 mm in the x direction. Four defect crests were confirmed. A defective peak portion is a peak portion whose extending direction deviates from the y direction by 20° or more.

[実施例2]
3本のスリットを形成したこと以外は、実施例1の場合と同一の条件で、配線基板10を作製した。配線50は、3本のスリットにより、y方向において4つの部分に分割される。各部分の幅は約1mmである。
[Example 2]
A wiring substrate 10 was produced under the same conditions as in Example 1, except that three slits were formed. The wiring 50 is divided into four parts in the y direction by three slits. The width of each portion is approximately 1 mm.

スリット60が形成されている配線50の部分において、山部が延びる方向を測定した。1個の欠陥山部が確認された。 In the portion of the wiring 50 where the slit 60 is formed, the direction in which the crest extends was measured. One defective crest was confirmed.

[実施例3]
7本のスリットを形成したこと以外は、実施例1の場合と同一の条件で、配線基板10を作製した。配線50は、7本のスリットにより、y方向において8つの部分に分割される。各部分の幅は約0.5mmである。
[Example 3]
A wiring substrate 10 was produced under the same conditions as in Example 1, except that seven slits were formed. The wiring 50 is divided into eight parts in the y direction by seven slits. The width of each portion is approximately 0.5 mm.

スリット60が形成されている配線50の部分において、山部が延びる方向を測定した。1個の欠陥山部が確認された。 In the portion of the wiring 50 where the slit 60 is formed, the direction in which the crest extends was measured. One defective crest was confirmed.

[比較例1]
スリットを形成しなかったこと以外は、実施例1の場合と同一の条件で、配線基板10を作製した。
[Comparative Example 1]
A wiring substrate 10 was produced under the same conditions as in Example 1, except that no slit was formed.

実施例1~3の場合と同様に、x方向における20mmの範囲内において、山部が延びる方向を測定した。15個の欠陥山部が確認された。 As in Examples 1 to 3, the direction in which the peaks extend was measured within a range of 20 mm in the x direction. 15 defect crests were confirmed.

1 ループアンテナ
2 中心点
10 配線基板
11 山部
12 谷部
16 山部
17 谷部
20 基材
21 第1面
22 第2面
28 基材スリット
29 開口
30 制御層
31 第1制御層
32 第2制御層
40 支持基板
41 第1面
42 第2面
43 支持基板スリット
45 接着層
50 配線
50x x配線
50y y配線
50z コーナー配線
501 第1側縁
501a 段部
502 第2側縁
502a 段部
51 第1部分
52 第2部分
53 第3部分
54 第4部分
55 接続部分
551 第1接続部分
552 第2接続部分
57 山部
58 谷部
60 スリット
60x xスリット
60y yスリット
60z コーナースリット
61 第1スリット
62 第2スリット
63 第3スリット
65 端
66 貫通孔
67 貫通孔
1 loop antenna 2 center point 10 wiring board 11 peak 12 valley 16 peak 17 valley 20 substrate 21 first surface 22 second surface 28 substrate slit 29 opening 30 control layer 31 first control layer 32 second control Layer 40 Support substrate 41 First surface 42 Second surface 43 Support substrate slit 45 Adhesive layer 50 Wiring 50x x wiring 50y y wiring 50z corner wiring 501 first side edge 501a stepped portion 502 second side edge 502a stepped portion 51 first portion 52 Second portion 53 Third portion 54 Fourth portion 55 Connecting portion 551 First connecting portion 552 Second connecting portion 57 Mountain portion 58 Valley portion 60 Slit 60x x slit 60y y slit 60z corner slit 61 first slit 62 second slit 63 third slit 65 end 66 through hole 67 through hole

Claims (20)

第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置する配線と、を備え、
前記配線は、前記配線の長さ方向に並ぶ複数の山部と、前記長さ方向に延びる第1側縁及び第2側縁と、前記長さ方向に延びるスリットと、前記スリットと前記第1側縁との間に位置し、前記長さ方向に延びる第1部分と、前記スリットと前記第2側縁との間に位置し、前記長さ方向に延びる第2部分と、前記第1部分と前記第2部分とを接続する接続部分と、を備える、配線基板。
a stretchable base material including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface;
a wiring located on the first surface side of the base material,
The wiring includes a plurality of ridges arranged in the length direction of the wiring, a first side edge and a second side edge extending in the length direction, a slit extending in the length direction, the slit and the first side edge. a first portion located between the side edge and extending in the length direction; a second portion located between the slit and the second side edge and extending in the length direction; and a connection portion that connects the second portion.
前記配線は、前記配線が延びる方向が変化するコーナー配線を含み、
前記スリットは、前記コーナー配線に位置するコーナースリットを含む、請求項1に記載の配線基板。
the wiring includes a corner wiring in which the direction in which the wiring extends changes;
2. The wiring substrate according to claim 1, wherein said slits include corner slits positioned at said corner wirings.
前記基材は、熱可塑性エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゲル又はシリコンゲルを含む、請求項1又は2に記載の配線基板。 3. The wiring board according to claim 1, wherein said base material includes thermoplastic elastomer, silicone rubber, urethane gel, or silicone gel. 前記基材は、前記スリットに重なるスリットを備える、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein the base material has a slit that overlaps with the slit. 前記配線を支持する支持基板を備える、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の配線基板。 5. The wiring board according to claim 1, further comprising a support substrate that supports said wiring. 前記支持基板の弾性係数は、前記基材の弾性係数の10倍以上である、請求項5に記載の配線基板。 6. The wiring board according to claim 5, wherein the elastic modulus of said supporting substrate is ten times or more the elastic modulus of said base material. 前記支持基板は、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂、又はポリエチレンテレフタラートを含む、請求項5又は6に記載の配線基板。 7. The wiring board according to claim 5, wherein said supporting substrate contains polyethylene naphthalate, polyimide, polycarbonate, acrylic resin, or polyethylene terephthalate. 前記支持基板は、前記スリットに重なるスリットを備える、請求項5乃至7のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 5 to 7, wherein the supporting substrate has a slit that overlaps with the slit. 前記基材の前記第1面側に位置する制御層を備える、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の配線基板。 9. The wiring board according to any one of claims 1 to 8, comprising a control layer positioned on the first surface side of the base material. 前記制御層は、前記基材よりも大きい弾性係数を有する、請求項9に記載の配線基板。 10. The wiring board according to claim 9, wherein said control layer has a larger elastic modulus than said base material. 平行に延びる2本の前記配線を備え、
前記制御層は、2本の前記配線の間に位置し、前記長さ方向に延びる第1制御層を含む、請求項9又は10に記載の配線基板。
comprising two wires extending in parallel,
11. The wiring board according to claim 9, wherein said control layer includes a first control layer positioned between two of said wires and extending in said length direction.
前記制御層は、前記長さ方向に並ぶ複数の第2制御層を含む、請求項9乃至11のいずれか一項に記載の配線基板。 12. The wiring board according to claim 9, wherein said control layer includes a plurality of second control layers arranged in said length direction. 平行に延びる2本の前記配線を備え、
前記第2制御層は、2本の前記配線に重なる、請求項12に記載の配線基板。
comprising two wires extending in parallel,
13. The wiring board according to claim 12, wherein said second control layer overlaps two of said wirings.
前記配線は、前記配線が延びる方向が変化するコーナー配線を含み、
前記第2制御層は、前記コーナー配線に重なっており、
前記第2制御層の幅は、少なくとも部分的に、内側に向かうにつれて小さくなる、請求項12又は13に記載の配線基板。
the wiring includes a corner wiring in which the direction in which the wiring extends changes;
The second control layer overlaps the corner wiring,
14. The wiring board according to claim 12 or 13, wherein the width of the second control layer at least partially decreases inwardly.
前記第1側縁は、前記配線の幅方向に沿って見た場合に前記スリットの端部に重なる段部を含む、請求項1乃至14のいずれか一項に記載の配線基板。 15. The wiring substrate according to claim 1, wherein said first side edge includes a stepped portion that overlaps an end of said slit when viewed along the width direction of said wiring. 前記スリットは、湾曲した端部を含む、請求項1乃至15のいずれか一項に記載の配線基板。 16. The wiring substrate according to any one of claims 1 to 15, wherein said slit includes curved ends. 前記スリットは、前記長さ方向に延びる第1スリット及び第2スリットを含み、
前記配線は、前記第1スリットと前記第1側縁との間に位置する前記第1部分と、前記第2スリットと前記第2側縁との間に位置する前記第2部分と、前記第1スリットと前記第2スリットとの間に位置する第3部分と、を含む、請求項1乃至16のいずれか一項に記載の配線基板。
The slit includes a first slit and a second slit extending in the length direction,
The wiring includes the first portion located between the first slit and the first side edge, the second portion located between the second slit and the second side edge, and the second portion located between the second slit and the second side edge. 17. The wiring board according to any one of claims 1 to 16, further comprising a third portion located between the first slit and the second slit.
前記配線は、前記長さ方向に並ぶ複数の前記スリットを備える、請求項1乃至17のいずれか一項に記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 17, wherein the wiring includes a plurality of slits arranged in the length direction. 第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材と、
前記基材の前記第1面側に位置し、ループを構成する配線と、を備え、
前記配線は、前記配線の長さ方向に並ぶ複数の山部と、前記長さ方向に延びる第1側縁及び第2側縁と、前記長さ方向に延びるスリットと、前記スリットと前記第1側縁との間に位置し、前記長さ方向に延びる第1部分と、前記スリットと前記第2側縁との間に位置し、前記長さ方向に延びる第2部分と、前記第1部分と前記第2部分とを接続する接続部分と、を備える、ループアンテナ。
a stretchable base material including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface;
a wiring located on the first surface side of the base material and forming a loop,
The wiring includes a plurality of ridges arranged in the length direction of the wiring, a first side edge and a second side edge extending in the length direction, a slit extending in the length direction, the slit and the first side edge. a first portion located between the side edge and extending in the length direction; a second portion located between the slit and the second side edge and extending in the length direction; and a connection portion that connects the second portion.
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する基材に引張応力を加えて、前記基材を伸長させる伸長工程と、
前記伸長工程によって伸長した状態の前記基材の第1面側に配線を設ける配線形成工程と、
前記基材から張力を取り除く収縮工程と、を備え、
前記配線は、前記配線の長さ方向に並ぶ複数の山部と、前記長さ方向に延びる第1側縁及び第2側縁と、前記長さ方向に延びるスリットと、前記スリットと前記第1側縁との間に位置し、前記長さ方向に延びる第1部分と、前記スリットと前記第2側縁との間に位置し、前記長さ方向に延びる第2部分と、前記第1部分と前記第2部分とを接続する接続部分と、を備える、配線基板の製造方法。
an elongation step of applying a tensile stress to a stretchable base material including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface to elongate the base material;
a wiring forming step of providing wiring on the first surface side of the base material stretched by the stretching step;
a shrinking step that removes tension from the substrate;
The wiring includes a plurality of ridges arranged in the length direction of the wiring, a first side edge and a second side edge extending in the length direction, a slit extending in the length direction, the slit and the first side edge. a first portion located between the side edge and extending in the length direction; a second portion located between the slit and the second side edge and extending in the length direction; and a connection portion that connects the second portion to the second portion.
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