JP2022152209A - 基板搬送装置、状態判定方法及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents

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Abstract

【課題】基板処理装置の一部を構成する機能部と干渉物との間の距離の状態に関する判定を、干渉物の周囲の雰囲気の湿度や温度によらず、正確に行う。【解決手段】基板を処理する基板処理装置であって、前記基板処理装置の一部を構成する機能部と、前記機能部の表面に設けられた、気体を通過させるノズルと、前記機能部のノズルと接続され前記気体を通流させるノズル用流路と、前記ノズル用流路を流れる気体の流量を計測する流量センサと、前記流量センサによる計測結果に基づき、干渉物と前記機能部との間の距離の状態に関する判定を行う制御部と、を備える。【選択図】図４

Description

本開示は、基板搬送装置、状態判定方法及びコンピュータ記憶媒体に関する。
特許文献１は、複数の基板を支持するウェハボードとキャリアとの間で基板を搬送する基板搬送装置を開示している。この基板搬送装置は、ウェハボードとの間で移載作業を行うことが可能な第１の移載作業位置およびキャリアとの間で移載作業を行うことが可能な第２の移載作業位置の間で移動可能な搬送装置本体と、この搬送装置本体に対して進退可能に設けられ、ウェハボートおよびキャリアの基板支持部との間で基板の受け渡しを行うためのフォークと、このフォークの両側部に取り付けられ、フォークと一体的に進退移動し、基板までの距離および基板の水平面内の位置を検出する静電容量センサと、を具備する。
特開平８－３３５６２２号公報
本開示にかかる技術は、基板を吸引保持する基板保持部と干渉物との間の距離の状態に関する判定を、正確に行う。
本開示の一態様は、基板を搬送する基板搬送装置であって、吸着口を介して基板を吸着して保持可能に構成された一の基板保持部と、前記一の基板保持部の表面に設けられた、気体を通過させるノズルと、前記吸着口に接続され吸着時に気体を通流させる吸着用流路と、前記ノズルと接続され前記気体を通流させるノズル用流路と、を備え、前記一の基板保持部または他の基板保持部の少なくともいずれか一方の前記吸着用流路と、前記ノズル用流路とは、共通の気体の吸引機構に接続され、前記ノズル用流路を流れる気体の圧力を、計測する圧力センサと、干渉物と前記一の基板保持部との間の距離及び前記ノズル用流路を流れる気体の圧力に応じて変動する、前記ノズル用流路を流れる流体の流量を、計測する流量センサと、をさらに備える。
本開示によれば、基板を吸引保持する基板保持部と干渉物との間の距離の状態に関する判定を、正確に行うことができる。
本実施形態にかかる基板搬送装置としてのウェハ搬送装置を備えるウェハ処理システムの内部構成の概略を示す説明図である。 ウェハ処理装置の正面側の内部構成の概略を示す図である。 ウェハ処理装置の面側の内部構成の概略を示す図である。 搬送ユニットの構成の概略を示す側面図である。 フォークの構成の概略を示す上面図である。 搬送ユニットの配管系統図である。 フォークの構成の概略を示す下面図である。 ノズルの構成の概略を示す断面図である。 フォークとその下方のウェハとが接触しているか否かの判定を流量センサの計測結果に基づいて行う理由を説明するための図である。 模擬ノズルを取り付けた模擬フォークから干渉物までの距離と、流量センサによる実際の計測結果と、の関係を示す図である。 フォークとその下方のウェハとが接触したか否かの判定に用いる条件の一例を説明するための図である。 搬送ユニットの他の例を説明するための図である。 既設のフォークの例を示す図である。 図１３の既設のフォークに、吸着部材に代えて治具を取り付けたときの様子を示す図である。 ノズルの形状の他の例を示す図である。
従来、半導体デバイス等の製造プロセスでは、例えば半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という。）等の基板に対してレジスト塗布処理、露光処理、現像処理等の一連のフォトリソグラフィー処理を行う塗布現像処理システムや、ウェハに対してエッチング処理を行うエッチング処理システム等、各種の基板処理システムが用いられている。
一般に、このような基板処理システムには、基板を搬送する基板搬送装置が設けられている。基板搬送装置は、基板を吸引保持する基板保持部であるフォークを有し、フォークが移動自在に構成されている。上記基板搬送装置では、基板を吸引保持したフォークを移動させることにより、例えば、基板を所望の位置に搬送することができる。
ところで、フォークを移動させたときに、周囲の基板や構造物等に接触してしまうことがある。例えば、基板を複数枚収容するカセットに、基板の受け渡しのために、フォークを挿入させたときに、フォークがその下に位置する基板に意図せず接触してしまうことがある。当然、意図しない接触が生じないよう設計等がなされているが、例えば、基板搬送装置の駆動系に、モータや減速機の故障、駆動ベルトの経時的変化等により、フォークに位置ずれが生じる場合がある。この位置ずれにより、フォークと基板との間に十分な距離が無くなると、フォークを高速に移動させたとき等に、共振周波数との関係で、フォークが大きく振動して基板と接触してしまうことがある。
フォークの接触が発生すると、接触した基板や構造物の破損、パーティクルの発生等が起きるため、問題である。また、フォークが周囲と接触する場合には、フォークの移動条件の調整や、フォーク及びフォークが接触した基板や構造物の交換または廃棄等、適切に対応する必要がある。そのため、フォークの干渉物への接触または接近の発生を判定する方法、すなわち、フォークとフォークが接触しうる干渉物との間の距離の状態に関する判定を行う状態判定方法が考えられている。
上記状態判定方法としては、例えば、フォークに取り付けられた、静電容量センサを利用する方法が考えられる。この方法では、静電容量センサのセンサ部と、フォークが接触しうる（すなわちフォークに干渉しうる）干渉物と、の間の容量を計測し、計測結果に基づいて、フォークと干渉物との接触等を判定する。しかし、センサ部と干渉物との間の容量は、干渉物の導電率や誘電率等、干渉物の材料の性質によって大きく変化する。そのため、上述の静電容量センサを利用する方法では、フォークと干渉物との間の距離の状態に関する判定を適切に行うことができない場合がある。
そこで、本開示にかかる技術は、基板搬送装置の基板を吸引保持する基板保持部と干渉物との間の距離の状態に関する判定を、正確に行う。
以下、本実施形態にかかる基板搬送装置及び状態判定方法を、図面を参照して説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
＜ウェハ処理システム＞
図１は、本実施形態にかかる基板搬送装置としてのウェハ搬送装置を備えるウェハ処理システム１の内部構成の概略を示す説明図である。図２及び図３はそれぞれ、ウェハ処理システム１の正面側と背面側の内部構成の概略を示す図である。
ウェハ処理システム１は、図１に示すように、基板としてのウェハを複数収容可能な容器であるカセットＣが搬入出されるカセットステーション２と、レジスト塗布処理やＰＥＢ等の所定の処理を施す複数の各種処理装置を備えた処理ステーション３と、を有する。そして、ウェハ処理システム１は、カセットステーション２と、処理ステーション３と、処理ステーション３に隣接する露光装置４との間でウェハＷの受け渡しを行うインターフェイスステーション５とを一体に接続した構成を有している。また、ウェハ処理システム１は、後述の搬送装置２０の制御を含む当該ウェハ処理システム１の制御を行う制御部６を有している。
カセットステーション２は、例えばカセット搬入出部１０とウェハ搬送部１１に分かれている。例えばカセット搬入出部１０は、ウェハ処理システム１のＹ方向負方向（図１の左方向）側の端部に設けられている。カセット搬入出部１０には、カセット載置台１２が設けられている。カセット載置台１２上には、複数、例えば４つの載置板１３が設けられている。載置板１３は、水平方向のＸ方向（図１の上下方向）に一列に並べて設けられている。これらの載置板１３には、ウェハ処理システム１の外部に対してカセットＣを搬入出する際に、カセットＣを載置することができる。
ウェハ搬送部１１には、ウェハＷを搬送する、基板搬送装置としての搬送装置２０が設けられている。搬送装置２０は、Ｘ方向に延びる搬送路２１と、搬送路２１上を移動自在な搬送ユニット２２が設けられている。搬送ユニット２２は、Ｙ方向に移動自在な、後述のフォークを有する。搬送ユニット２２は、上下方向及び鉛直軸周り（θ方向）にも移動自在であり、各載置板１３上のカセットＣと、後述する処理ステーション３の第３のブロックＧ３の受け渡し装置との間でウェハＷを搬送できる。搬送ユニット２２の詳細については後述する。
処理ステーション３には、各種装置を備えた複数、例えば第１～第４の４つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４が設けられている。例えば処理ステーション３の正面側（図１のＸ方向負方向側）には、第１のブロックＧ１が設けられ、処理ステーション３の背面側（図１のＸ方向正方向側）には、第２のブロックＧ２が設けられている。また、処理ステーション３のカセットステーション２側（図１のＹ方向負方向側）には、第３のブロックＧ３が設けられ、処理ステーション３のインターフェイスステーション５側（図１のＹ方向正方向側）には、第４のブロックＧ４が設けられている。
第１のブロックＧ１には、図２に示すように複数の液処理装置、例えばウェハＷを現像処理する現像処理装置３０、ウェハＷにレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布装置３１が下からこの順に配置されている。
例えば現像処理装置３０、レジスト塗布装置３１は、それぞれ水平方向に３つ並べて配置されている。なお、これら現像処理装置３０、レジスト塗布装置３１の数や配置は、任意に選択できる。
これら現像処理装置３０、レジスト塗布装置３１では、例えばスピン塗布法でウェハＷ上に所定の処理液を塗布する。スピンコーティングでは、例えば吐出ノズルからウェハＷ上に処理液を吐出すると共に、ウェハＷを回転させて、処理液をウェハＷの表面に拡散させる。
例えば第２のブロックＧ２には、図３に示すようにウェハＷの加熱や冷却といった熱処理を行う熱処理装置４０や、ウェハＷの外周部を露光する周辺露光装置４１が上下方向と水平方向に並べて設けられている。これら熱処理装置４０、周辺露光装置４１の数や配置についても、任意に選択できる。
第３のブロックＧ３には、複数の受け渡し装置５０が設けられている。また、第４のブロックＧ４には、複数の受け渡し装置６０が設けられている。
図１に示すように第１のブロックＧ１～第４のブロックＧ４に囲まれた領域には、ウェハ搬送領域Ｄが形成されている。ウェハ搬送領域Ｄには、例えば搬送装置７０が配置されている。
搬送装置７０は、例えばＹ方向、前後方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アーム７０ａを有している。搬送装置７０は、ウェハＷを保持した搬送アーム７０ａをウェハ搬送領域Ｄ内で移動させ、周囲の第１のブロックＧ１、第２のブロックＧ２、第３のブロックＧ３及び第４のブロックＧ４内の所定の装置に、ウェハＷを搬送できる。搬送装置７０は、例えば図３に示すように上下に複数台配置され、例えば各ブロックＧ１～Ｇ４の同程度の高さの所定の装置にウェハＷを搬送できる。
また、ウェハ搬送領域Ｄには、第３のブロックＧ３と第４のブロックＧ４との間で直線的にウェハＷを搬送するシャトル搬送装置７１が設けられている。
シャトル搬送装置７１は、支持したウェハＷをＹ方向に直線的に移動させ、同程度の高さの第３のブロックＧ３の受け渡し装置５０と第４のブロックＧ４の受け渡し装置６０との間でウェハＷを搬送できる。
図１に示すように第３のブロックＧ３のＸ方向正方向側には、搬送装置７２が設けられている。搬送装置７２は、例えば前後方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アーム７２ａを有している。搬送装置７２は、ウェハＷを保持した搬送アーム７０ａを上下に移動させ、第３のブロックＧ３内の各受け渡し装置５０に、ウェハＷを搬送できる。
インターフェイスステーション５には、搬送装置７３と受け渡し装置７４が設けられている。搬送装置７３は、例えばＹ方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アーム７３ａを有している。搬送装置７３は、搬送アーム７３ａにウェハＷを保持して、第４のブロックＧ４内の各受け渡し装置６０、受け渡し装置７４及び露光装置４との間でウェハＷを搬送できる。
上述の制御部６は、例えばＣＰＵやメモリ等を備えたコンピュータであり、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、上述の各種処理装置や各種搬送装置等の駆動系の動作を制御して、後述のウェハ処理を制御するプログラムが格納されている。また、プログラム格納部には、後述の状態判定処理を制御するプログラムも格納されている。なお、上記プログラムは、コンピュータに読み取り可能な非一時的な記憶媒体Ｈに記録されていたものであって、当該記憶媒体Ｈから制御部６にインストールされたものであってもよい。プログラムの一部または全ては専用ハードウェア（回路基板）で実現してもよい。
＜ウェハ処理＞
次に、ウェハ処理システム１を用いたウェハ処理について説明する。
ウェハ処理システム１を用いたウェハ処理では、先ず、搬送ユニット２２によって、カセット載置台１２上のカセットＣからウェハＷが取り出され、処理ステーション３の受け渡し装置５０に搬送される。
次にウェハＷは、搬送装置７０によって第２のブロックＧ２の熱処理装置４０に搬送され温度調節処理される。その後、ウェハＷは、第１のブロックＧ１のレジスト塗布装置３１に搬送され、ウェハＷ上にレジスト膜が形成される。その後ウェハＷは、熱処理装置４０に搬送され、プリベーク処理（ＰＡＢ：Pre-Applied Bake）される。なお、プリベーク処理や後段のＰＥＢ処理、ポストベーク処理では、同様な熱処理が行われる。ただし、各熱処理に供される熱処理装置４０は互いに異なる。
その後、ウェハＷは、周辺露光装置４１に搬送され、周辺露光処理される。
次にウェハＷは、露光装置４に搬送され、所定のパターンで露光処理される。
次いで、ウェハＷは、熱処理装置４０に搬送され、ＰＥＢ処理される。その後ウェハＷは、たとえば現像処理装置３０に搬送されて現像処理される。現像処理終了後、ウェハＷは、熱処理装置４０に搬送され、ポストベーク処理される。その後、ウェハＷは、搬送ユニット２２等により、カセット載置台１２上のカセットＣに搬送され、一連のフォトリソグラフィー工程が完了する。
＜搬送ユニット２２＞
続いて、上述した搬送ユニット２２の構成について図４～図８を用いて説明する。図４は、搬送ユニット２２の構成の概略を示す側面図であり、図５は、後述のフォークの構成の概略を示す上面図である。図６は、搬送ユニット２２の配管系統図である。図７は、フォークの構成の概略を示す下面図である。図８は、後述のノズルの構成の概略を示す断面図である。
搬送ユニット２２は、図４に示すように、ベース１０１を有する。
ベース１０１は、後述のフォークを水平方向に移動自在に支持するものである。このベース１０１は、例えばモータ等を有する駆動源（図示せず）が発生する駆動力により、図１の搬送路２１に沿って移動自在且つ昇降自在に構成されている。また、ベース１０１は、内部が空洞の角筒状の筐体１１１を有する。筐体１１１の両側面には、水平方向に延伸するガイドレール１１２が形成されている。ガイドレール１１２には、取付部材１１３が装着されている。
取付部材１１３には、ウェハＷを保持する、基板保持部としてのフォーク１２０が設けられている。取付部材１１３は、例えばモータ等を有する駆動源（図示せず）が発生する駆動力により、ガイドレール１１２に沿って摺動自在である。この構成により、フォーク１２０は、水平方向に移動自在となっている。フォーク１２０は、具体的には、カセットＣへのウェハ搬入出時にフォーク１２０全体がカセットＣの外側に位置する初期位置まで移動でき、さらに、同搬入出時にカセットＣとの間でウェハＷを受け渡す時の位置であってカセットＣ内の位置である受け渡し位置まで移動できる。
フォーク１２０の先端側は、図５に示すように、ウェハＷの直径よりも横幅が小さい二股形状を有する。
フォーク１２０の上面には、複数（図の例では３つ）の吸着口１２１と、各吸着口１２１の周囲に設けられた吸着パッド１２２が設けられている。
フォーク１２０の内部には、先端が吸着口１２１に接続された第１内部流路１３０が形成されている。第１内部流路１３０は、先端側が３つに分岐され、分岐された部分それぞれの先端が吸着口１２１に接続されている。
また、図６に示すように、第１内部流路１３０の基端に先端が接続される第１中継流路１３１が、取付部材１１３の内部に形成されている。
さらに、第１中継流路１３１の基端に先端が接続される第１配管１３２が、ベース１０１の筐体１１１内に設けられている。そして、第１配管１３２の基端は、後述のノズルに連通する後述の第２配管の基端と合流し、合流管１５０を介して、予め定められた排気圧力で排気する排気機構１５１に連通している。上述のような構成により、フォーク１２０は、吸着口１２１を介してウェハＷを、吸着して保持することが可能である。なお、合流管１５０の一部は、ベース１０１の筐体１１１内に位置してもよい。
第１内部流路１３０、第１中継流路１３１及び第１配管１３２は、吸着口１２１と接続され吸着時に気体を通流させる吸着用流路を構成する。なお、図４及び図７では、第１内部流路１３０、第１中継流路１３１及び第１配管１３２の図示は省略している。
また、第１配管１３２には、当該第１配管１３２の開放と遮断を切り換える開閉弁１６０が介設されている。開閉弁１６０は、第１配管１３２の開放と遮断を切り換えることにより、吸着口１２１を介した吸引すなわち吸着のＯＮとＯＦＦを切り換える。開閉弁１６０は、制御部６に制御される。
さらに、フォーク１２０の表面には、具体的には、フォーク１２０の下面には、図７に示すように、ノズル１２３が設けられている。ノズル１２３は、複数（本例では２つ）あり、互いに異なる領域それぞれに１つずつ設けられている。ノズル１２３は、具体的には、例えば、フォーク１２０の先端側の分岐している部分それぞれの下面に１つずつ設けられている。
ノズル１２３は、図８に示すように、フォーク１２０の下面から下方に延びるように設けられている。つまり、ノズル１２３は、フォーク１２０の下方に干渉物であるウェハＷが位置するときに、干渉物であるウェハＷに向けて延びるように、設けられている。ノズル１２３は、先端から基端へ貫通する（すなわち上下に貫通する）通流孔１２３ａを有する。通流孔１２３ａの直径は例えば０．５ｍｍ～３ｍｍである。なお、ノズル１２３のフォーク１２０への固定は、例えば接着固定により行われる。
ノズル１２３は、例えば、円筒状に形成されている。ノズル１２３の直径は例えば５ｍｍ～１０ｍｍ、高さは例えば０．５～３ｍｍである。ノズル１２３の材料には、例えばフォーク１２０と同じ材料が用いられる。
さらに、フォーク１２０の内部には、図７に示すように、先端がノズル１２３に接続された第２内部流路１４０が形成されている。第２内部流路１４０の先端は具体的にはノズル１２３の通流孔１２３ａに接続されている。第２内部流路１４０は、先端側が２つに分岐され、分岐した部分それぞれの先端が、通流孔１２３ａに接続されている。本例では、第１内部流路１３０と第２内部流路１４０とは個別に設けられている。なお、図５では、第２内部流路１４０の図示は省略している。
また、図４及び図６に示すように、第２内部流路１４０の基端に先端が接続される第２中継流路１４１が、取付部材１１３の内部に形成されている。
さらに、第２中継流路１４１の基端に先端が接続される第２配管１４２が、ベース１０１の筐体１１１内に設けられている。そして、第２配管１４２の基端は、吸着口１２１と連通する第１配管１３２の基端と合流し、合流管１５０を介して、第１配管１３２と共通の排気機構１５１に連通している。この構成により、ノズル１２３の先端周囲の気体を、通流孔１２３ａからノズル１２３内に吸引させることが可能であり、通流孔１２３ａからの気体を、第２内部流路１４０、第２中継流路１４１及び第２配管１４２をこの順で通流させて、排気機構１５１を介して排出することができる。第２内部流路１４０、第２中継流路１４１及び第２配管１４２は、ノズル１２３と接続され気体を通流させるノズル用流路を構成する。
また、第２配管１４２は、フォーク１２０の移動に伴って変形自在な部分１４２ａを有する。
さらに、第２配管１４２には、流量センサ１７０、圧力センサ１７１、スピードコントローラ１７２、開閉弁１７３が、例えばノズル１２３側からこの順で介設されている。
流量センサ１７０は、ノズル１２３を介して第２配管１４２を流れる気体の流量、すなわち、上記ノズル用流路を流れる気体の流量（以下、「吸込流量」という。）を計測する。流量センサ１７０の計測結果は制御部６に出力される。
圧力センサ１７１は、ノズル１２３を介して第２配管１４２を流れる気体の圧力、すなわち、上記ノズル用流路を流れる気体の圧力（以下、「吸込圧」という。）を計測する。圧力センサ１７１の計測結果は制御部６に出力される。
スピードコントローラ１７２は、排気機構１５１による排気によってノズル１２３を介して第２配管１４２を流れる気体の流速を調整し吸込圧を調整する。スピードコントローラ１７２は、制御部６に制御される。
開閉弁１７３は、第２配管１４２の開放と遮断を切り換えることにより、ノズル１２３を介した気体の吸込みのＯＮとＯＦＦを切り換える。開閉弁１７３は、制御部６に制御される。
流量センサ１７０、圧力センサ１７１、スピードコントローラ１７２及び開閉弁１７３は、例えば、第２配管１４２における、上記変形自在な部分１４２ａを間に挟んで、第２内部流路１４０とは反対側の部分に設けられる。図示は省略するが、開閉弁１６０についても同様である。
また、本例では、２つの通流孔１２３ａに対し、１つの流量センサ１７０、圧力センサ１７１、スピードコントローラ１７２及び開閉弁１７３が共通して用いられる。
搬送ユニット２２に対し設けられた排気機構１５１は、排気、すなわち気体の吸引を行う吸引機構であり、例えば排気ポンプを有する。排気機構１５１は、第１配管１３２及び第２配管１４２が合流する合流管１５０を介して、第１配管１３２及び第２配管１４２と接続される。言い換えると、第１配管１３２と第２配管１４２とは共通の排気機構１５１に接続されており、さらに言い換えると、第１配管１３２を含む上記吸着用流路と第２配管１４２を含む上記ノズル用流路とは、共通の排気機構１５１に接続されている。
なお、取付部材１１３及びフォーク１２０は、例えばアルミニウムを用いて形成される。また、例えば、取付部材１１３及びフォーク１２０の外形を成すアルミニウム製の板材を切削加工して溝を形成し、溝の開口部側を埋めることで、第１中継流路１３１、第２中継流路１４１、第１内部流路１３０及び第２内部流路１４０は形成される。なお、フォーク１２０はセラミック材料を用いて形成してもよい。
＜状態判定＞
続いて、本実施形態における、フォーク１２０と干渉物との間の距離の状態に関する判定について、説明する。
干渉物とは、例えば、フォーク１２０が挿入されるカセットＣ内において、フォーク１２０の下方に位置するウェハＷである。
本実施形態では、制御部６が、流量センサ１７０による計測結果及び圧力センサ１７１による計測結果に基づいて、フォーク１２０とその下方のウェハＷとの間の距離の状態に関する判定、具体的には、フォーク１２０の下面とそのウェハＷの上面との間の距離の状態に関する判定を行う。上記判定は、例えば、フォーク１２０とその下方のウェハＷとが接触したか否かの判定である。なお、上記判定は、フォーク１２０がその下方のウェハＷに接近したか否かの判定であってもよい。以下の例では、フォーク１２０とその下方のウェハＷとが接触したか否かの判定を行うものとする。
上記接触したか否かの判定に用いる流量センサ１７０による計測結果及び圧力センサ１７１による計測結果のうち、流量センサ１７０の計測結果を用いる理由を、まず説明する。
図９に示すように、ノズル１２３の平坦な先端面とウェハＷの上面との間の距離Ｌは、通流孔１２３ａに向かう気体に対する有効断面積Ａに比例する。また、一定の排気圧力で通流孔１２３ａから気体を吸引している場合、ノズル１２３とウェハＷが近いときには、上記有効断面積Ａと、通流孔１２３ａに向かう気体の流量とは、略比例する。したがって、ノズル１２３とウェハＷとの間の距離（具体的にはノズル１２３の平坦な先端面とウェハＷの上面との間の距離）Ｌが短ければ、通流孔１２３ａに向かう気体の流量が少なくなり、その結果、第２配管１４２に設けられた流量センサ１７０で計測される流量すなわち吸込流量も少なくなる。また、上記距離Ｌが長ければ、通流孔１２３ａに向かう気体の流量が多くなり、その結果、流量センサ１７０で計測される吸込流量も多くなる。つまり、上記距離Ｌに応じて流量センサ１７０で計測される吸込流量が変化する。これが流量センサ１７０の計測結果を用いる理由である。
図１０は、通流孔１２３ａを有するノズル１２３と同形状のもの（以下、「模擬ノズル」という。）を取り付けたフォーク１２０と同形状のもの（以下、「模擬フォーク」という。）から干渉物までの距離と、流量センサによる実際の計測結果と、の関係を示す図である。
図１０に示されているのは、模擬ノズルを１つ設け、模擬ノズルに形成された通流孔を介して、一定の排気圧力で気体を吸引させているときに、模擬ノズルと排気機構とを接続する配管に介設した流量センサで計測された結果である。横軸は、模擬フォークから干渉物までの距離を示し、縦軸は、吸込流量の計測結果を表す流量センサの出力電圧を示している。
図１０から明らかな通り、模擬ノズルの通流孔の直径及び排気圧力によらず、模擬ノズルから干渉対象物までの距離が２００μｍ以下の場合、この距離が短くなるにつれ、流量センサの出力電圧すなわち流量センサで計測された吸込流量は少なくなる。この結果から、流量センサ１７０での計測結果を、フォーク１２０とその下方のウェハＷとが接触したか否かの判定に用いることができることが分かる。
続いて、上記接触したか否かの判定に、流量センサ１７０による計測結果だけではなく、圧力センサ１７１による計測結果も用いる理由を説明する。
流量センサ１７０により計測される吸込流量は、上述のようにノズル１２３とウェハＷとの間の距離Ｌに応じて変動するが、上記距離Ｌが一定であっても、圧力センサ１７１により計測される吸込圧に応じて変動する。そして、上記距離Ｌが一定であっても、上記吸引圧は、排気機構１５１を共有する構成では一定とならないことがある。例えば、カセットＣとフォーク１２０との間でウェハＷを受け渡す際に、カセットＣ内におけるフォーク１２０の下方のウェハＷとフォーク１２０が接触したか否かの判定を行う場合がある。この場合では、例えば、ウェハＷの受け渡しのために、前述の吸着用流路に含まれる第１配管１３２に開設された開閉弁１６０を、吸着をＯＮにするために開くと、前述の吸着用流路を流れる気体の圧力が変動し、排気機構１５１から前述のノズル用流路に作用する排気圧力が変動するため、圧力センサ１７１により計測される吸込圧が変動する。
そのため、フォーク１２０とその下方のウェハＷとが接触したか否かを、例えば、単純に、流量センサ１７０により計測された吸込流量が閾値を下回ったか否かに基づいて判定すると、誤判定のおそれがある。
また、本発明者らが検討したところ、排気機構１５１から前述のノズル用流路に作用する排気圧力が一定であっても、ノズル１２３とウェハＷとの間の距離Ｌに応じて、流量センサ１７０により計測される吸込流量だけでなく、圧力センサ１７１により計測される吸込圧も変動することが判明した。そして、排気機構１５１から前述のノズル用流路に作用する排気圧力が一定の場合に、ノズル１２３とウェハＷとの間の距離Ｌが小さくなると、吸込圧が減少し、吸込流量も減少するのに対し、上記距離Ｌが一定の場合に、上記排気圧力が変動し、吸込圧が増加すると、吸込流量は増加することが判明した。
そこで、本実施形態では、フォーク１２０とその下方のウェハＷとが接触したか否かの判定に、流量センサ１７０による吸込流量の計測結果及び圧力センサ１７１による吸込圧の計測結果の両方を用いる。
本実施形態では、具体的には、制御部６が、上記判定の対象期間中の同じ時点における、流量センサ１７０による吸込流量の計測結果と圧力センサ１７１による吸込圧の計測結果との関係から、上記判定を行う。より具体的な判定手法の一例を、図１１を用いて説明する。
図１１は、フォーク１２０とその下方のウェハＷとが接触したか否かの判定に用いる条件の一例を説明するための図である。
図１１には、吸込流量及び吸込圧を軸とした二次元平面Ｍ、具体的には、吸込み流量（に対応した圧力センサ１７１からの出力電圧）及び吸込圧のいずれか一方（図の例では吸込圧）を横軸、他方（図の例では吸込流量）を縦軸とした二次元平面Ｍが示されている。
点集合Ｓ１～Ｓ４はそれぞれ、本発明者らによる実際の実験で得られた、所定の期間中の各時点における吸込流量の計測結果と圧力センサ１７１による吸込圧の計測結果との関係を示している。
また、点集合Ｓ１～Ｓ３はそれぞれ、フォーク１２０を固定した状態で得られたもの、すなわち、フォーク１２０と干渉物との接触が生じなかったときに得られたものである。
点集合Ｓ１は、上記所定の期間中に、排気機構１５１から前述のノズル用流路に作用する排気圧力が一定の状態で（すなわち吸着のＯＮ・ＯＦＦはさせないで）、スピードコントローラ１７２を制御して吸込圧を変化させていき、得られたものである。
点集合Ｓ２は、上記所定の期間中に、開閉弁１６０により吸着をＯＦＦとした状態から吸着をＯＮにさせて得られたものである。
点集合Ｓ３は、上記所定の期間中に開閉弁１６０により吸着をＯＮとした状態から吸着をＯＦＦにさせて得られたものである。
点集合Ｓ４は、上記所定の期間中に、ウェハＷを吸着保持したフォーク１２０をカセットＣ内に挿入させ、開閉弁１６０により吸着をＯＮからＯＦＦとさせて、フォーク１２０からカセットＣにウェハＷを受け渡させ、フォーク１２０をカセットＣから抜き出させときに得られたものである。また、点集合Ｓ４は、上記所定の期間中に、フォーク１２０がその下方のウェハＷに接触してしまったときに得られたものである。
ここで、上記二次元平面Ｍ中に、点集合Ｓ１を基準に基準領域Ｒを設定する。
点集合Ｓ２、Ｓ３は、端的に言い換えると、開閉弁１６０による吸着のＯＮ／ＯＦＦの切り替えがあったがフォーク１２０と干渉物との接触が生じなかったときに得られたものである。これら点集合Ｓ２、Ｓ３は全て、基準領域Ｒ内に収まっている。
それに対し、点集合Ｓ４は、端的に言い換えると、開閉弁１６０による吸着のＯＮ／ＯＦＦの切り替えがあり且つフォーク１２０と干渉物との接触が生じたときに得られたものである。この点集合Ｓ４はその一部が、基準領域Ｒ内に収まっていない。
この図１１の結果を踏まえ、本実施形態では、制御部６が、フォーク１２０とその下方のウェハＷとが接触したか否かの判定を例えば以下のように行う。すなわち、制御部６が、二次元平面Ｍ上において、判定対象期間中の各時点における流量センサ１７０による吸込流量の計測結果と圧力センサ１７１による吸込圧の計測結果との関係を示す点集合Ｓが全て、予め定められた基準領域Ｒ内に収まるか否かに基づいて、上記判定を行う。収まっていなければ、制御部６は、接触したと判定する。
より具体的には、制御部６が、判定対象期間に含まれる時点毎に、二次元平面Ｍ上において、当該時点における吸込流量の計測結果と吸込圧の計測結果との関係を示す点が、予め定められた基準領域Ｒ内に収まっているか否かの判定を行い、その判定結果から、上記接触したか否かの判定を行う。判定対象期間に含まれるいずれかの時点Ｔでの吸込流量の計測結果と吸込圧の計測結果との関係を示す位置Ｐが、予め定められた基準領域Ｒ内に収まっていなければ、制御部６は、接触したと判定する。
基準領域Ｒは、例えば前述の点集合Ｓ１を取得したときと同様な条件で同様な点集合を予め取得し、その取得結果を基準に定められる。例えば、予め取得された点集合からの距離が所定値以下となる領域が、基準領域Ｒに設定される。
また、基準領域Ｒは、例えば前述の点集合Ｓ１～Ｓ３それぞれを取得したときと同様な３つの条件でそれぞれ同様な点集合を予め取得し、その取得結果を基準に定めてもよい。
なお、流量センサ１７０による吸込流量の計測結果及び圧力センサ１７１による吸込圧の計測結果の両方を用いて、フォーク１２０とその下方のウェハＷとが接触したか否かの判定を行う手法は、上述に限られない。
＜状態判定処理＞
次に、ウェハ処理システム１における状態判定処理について説明する。この判定処理は、例えば、メンテナンス時や装置立ち上げ時、ウェハ処理システム１による量産処理時すなわち装置稼働中等に行われる。
（判定用データ取得）
まず、開閉弁１６０により吸着がＯＮ、開閉弁１７３により吸込みがＯＮとなった状態で、ウェハＷを吸着したフォーク１２０を前述の初期位置から移動させ、カセットＣ内に挿入し、前述の受け渡し位置に移動させる。その後、開閉弁１６０により吸着をＯＦＦにさせると共に、フォーク１２０を下降させ、ウェハＷをフォーク１２０からカセットＣ内のウェハ支持部（図示せず）に受け渡させる。そして、フォーク１２０を受け渡し位置から初期位置に移動させる。
そして、フォーク１２０を上述のように移動させている間、流量センサ１７０が吸込流量を計測し続けると共に、圧力センサ１７１が吸込圧を計測し続け、制御部６は、これらの計測結果を取得し続ける。
（判定）
そして、制御部６は、フォーク１２０が上述のように移動している間に当該フォーク１２０とその下方のウェハＷとが接触したか否かの判定を、流量センサ１７０による吸込流量の計測結果及び圧力センサ１７１による吸込圧の計測結果に基づいて行う。制御部６が、判定対象期間に含まれる時点Ｔ１～Ｔｎ毎に、二次元平面Ｍ上において、当該時点Ｔｉ（ｉ＝１～ｎ）における吸込流量の計測結果と吸込圧の計測結果との関係を示す位置Ｐｉ（ｉ＝１～ｎ）が、予め定められた基準領域Ｒ内に収まっているか否かの判定を行い、その判定結果から、上記接触したか否かの判定を行う。いずれかの時点Ｔｉ（ｉ＝１～ｎ）での吸込流量の計測結果と吸込圧の計測結果との関係を示す位置Ｐｉ（ｉ＝１～ｎ）が予め定められた基準領域Ｒ内に収まっていなければ、制御部６は、接触したと判定する。
なお、制御部６は、フォーク１２０の移動が完了するまでの間の全ての、吸込流量の計測結果及び吸込圧の計測結果を取得してから、上記接触したか否かの判定を行ってもよいし、これら計測結果を取得する度等、フォーク１２０の移動が完了するまでの間、定期的に上記判定を行ってもよい。後者の場合、制御部６は、接触したと判定した以降は、上記判定を中止してもよい。
以上のように、本実施形態にかかる搬送装置２０は、フォーク１２０と、フォーク１２０の下面に設けられた、気体を通過させるノズル１２３と、を備える。また、搬送装置２０は、フォーク１２０の吸着口１２１に接続され吸着時に気体を通流させる吸着用流路としての、第１内部流路１３０、第１中継流路１３１及び第１配管１３２と、ノズル１２３と接続され気体を通流させるノズル用流路としての、第２内部流路１４０、第２中継流路１４１及び第２配管１４２を備える。さらに、搬送装置２０では、上記吸着用流路とノズル用流路とは共通の吸引機構に接続されている。そして、ウェハ処理システム１は、上記ノズル用流路を流れる気体の圧力及び流量をそれぞれ計測する圧力センサ１７１及び流量センサ１７０と、を備える。そのため、制御部６が、圧力センサ１７１及び流量センサ１７０の計測結果が計測した圧力及び流量に基づき、フォーク１２０とカセットＣ内においてフォーク１２０の下方に位置するウェハＷとの間の距離の状態に関する判定を行うことができる。上記ノズル用流路を流れる気体の圧力及び流量は、干渉物であるカセットＣ内のウェハＷの導電率や誘電率等によって大きく変わることはない。したがって、本実施形態によれば、カセットＣ内のウェハＷとフォーク１２０との間の距離の状態に関する判定を、当該ウェハＷの導電率や誘電率によらず、正確に行うことができる。また、判定対象期間中に、上記吸着用流路を介した吸着のＯＮ・ＯＦＦの切り換えがあり、その結果、上記ノズル用流路の流量が変動したとしても、上記判定を正確に行うことができる。
さらに、判定対象期間中に、排気機構１５１の排気圧が下がり、その結果、上記ノズル用流路の流量が変動したとしても、上記判定を正確に行うことができる。
なお、フォークと干渉物とか接触しているか否かの判定方法として、本実施形態にかかる方法以外には、以下の方法が考えられる。すなわち、フォークに振動センサを設け、フォークと干渉物とが接触したときの振動を振動センサで検出できるようにし、振動センサでの検出結果に基づいて、フォークと干渉物とが接触しているか否か判定する方法が考えられる。しかし、この方法は、フォークが接触せずに振動している場合、誤判定することがある。それに対し、図１１を用いた条件を用いて判定を行えば、フォークが接触せずに振動している場合でも、誤判定することがない。
また、本実施形態では、流量センサ１７０及び圧力センサ１７１は、第２配管１４２における、上記変形自在な部分１４２ａを間に挟んで、第２内部流路１４０は反対側の部分に設けられる。
したがって、流量センサ１７０及び圧力センサ１７１を第２内部流路１４０や第２中継流路１４１に対し設ける場合に比べて、流量センサ１７０及び圧力センサ１７１に対する信号線の這い回し等が容易であり、また、流量センサ１７０及び圧力センサ１７１自体の設置も容易である。なお、流量センサ１７０及び圧力センサ１７１と第２内部流路１４０との間に上記変形自在な部分１４２ａが存在すると、言い換えると、流量センサ１７０及び圧力センサ１７１の上流側に屈曲部が存在すると、屈曲部で圧損の変動が推測され、それにより流量が変動し、流量センサ１７０及び圧力センサ１７１の測定結果におけるＳ／Ｎ比が悪くなることが考えられる。しかし、本発明者らが鋭意調査したところ、圧損の変動によって生じる流量よりも十分にＳ／Ｎ比が取れることが判明したため、上述のような構成としている。
＜搬送ユニットの他の例＞
図１２は、搬送ユニットの他の例を説明するための図である。
図１２に示すように、複数（図の例では２つ）の搬送ユニット２２で共通の排気機構１５１を用いる場合がある。
この場合、一方の搬送ユニット２２における、前述のノズル用流路の吸込圧が、他方の搬送ユニット２２における開閉弁１６０による吸着のＯＮ・ＯＦＦの切り換えにより、変動することがある。つまり、一方の搬送ユニット２２における前述のノズル用流路の吸込圧が、他の搬送ユニット２２における前述の吸着用流路を流れる気体の圧力に応じて変動する。
上述のような場合でも、一方の搬送ユニット２２における前述のノズル用流路の流量及び圧力の計測結果に基づいて、一方の搬送ユニット２２と干渉物との距離の状態に関する判定を行えばよい。これにより、判定対象期間中に、他方の搬送ユニット２２における吸着のＯＮ・ＯＦＦの切り換えがあり、その結果、上記ノズル用流路の流量が変動したとしても、上記判定を正確に行うことができる。
＜フォークの他の例＞
次に、フォークの他の例を図１３及び図１４を用いて説明する。図１３は、既設のフォークの例を示し、図１３は、図１４の既設のフォークに、後述の吸着部材に代えて後述の治具を取り付けたときの様子を示す図である。
図１３に示すように、既設のフォーク２００は、図４等に示したフォーク１２０と同様、吸着口１２１と吸着パッド１２２とを有している。ただし、既設のフォーク２００は、フォーク１２０と異なり、状態判定に用いられるノズル１２３を有していない。
既設のフォーク２００は具体的には、吸着部材２０１と、フォーク本体２０２とを有する。フォーク２００の外形形状は、図５等に示したフォーク１２０の略同一であり、先端側が二股形状となっている。
吸着部材２０１は、フォーク本体２０２に着脱自在に取り付けられる。具体的には、吸着部材２０１は、フォーク本体２０２の下面に着脱自在に取り付けられる。なお、吸着部材２０１は例えば螺着によりフォーク本体２０２に対して固定される。吸着部材２０１の先端側は、その上面がフォーク本体２０２に覆われておらず、上方に向け開口した吸着口１２１が設けられている。また、吸着部材２０１の先端側の上面には、吸着口１２１の開口の周囲を覆うように吸着パッド１２２が設けられている。吸着部材２０１の内部には、先端が吸着口１２１に接続され気体を通流させる部材側内部流路２０１ａが形成されている。
フォーク本体２０２は、先端が部材側内部流路２０１ａに接続され基端が排気機構１５１（図６参照）に連通する本体側内部流路２０２ａが設けられている。部材側内部流路２０１ａ及び本体側内部流路２０２ａが、図４等に示したフォーク１２０の第１内部流路１３０を構成している。つまり、部材側内部流路２０１ａ及び本体側内部流路２０２ａは、吸着用流路を構成している。
既存のフォーク２００とその下方に位置するウェハＷとの間の距離の状態に関する判定を行う場合は、吸着部材２０１を取り外し、代わりに、図１４に示すように、治具２１０を取り付ける。
治具２１０は、フォーク本体２０２に対して着脱自在に取り付けられる。具体的には、治具２１０は、フォーク本体２０２の下面に着脱自在に取り付けられる。この治具２１０の下面にノズル１２３が設けられている。また、治具２１０の内部には、先端がノズル１２３に接続され気体を通流させる治具内流路２１１が形成されている。そして、この治具２１０を、フォーク本体２０２に取り付けたときに、ノズル１２３が、治具内流路２１１を介して、部材側内部流路２０１ａと共に第１内部流路１３０を構成する本体側内部流路２０２ａに連通されるようになっている。そのため、第１内部流路１３０を構成する本体側内部流路２０２ａが、治具内流路２１１と共に、図４等に示したフォーク１２０の第２内部流路１４０を構成する。つまり、本体側内部流路２０２ａは、吸着用流路だけでなくノズル用流路も兼ねることとなる。
図１２の例と同様に、複数のフォーク２００で共通の排気機構１５１を用いる場合、例えば、一方のフォーク２００の吸着部材２０１を治具２１０に取り換え、他方のフォーク２００の吸着部材２０１を取り付けたままとすると、以下のようになる。すなわち、上記一方のフォーク２００における、治具２１０の治具内流路２１１とフォーク本体２０２の本体側内部流路２０２ａを含むノズル用流路の吸込圧が、他のフォーク２００における、吸着部材２０１の部材側内部流路２０１ａと本体側内部流路２０２ａを含む吸着用流路を流れる気体の圧力に応じて変動する。
この場合でも、例えば第１配管１３２（図６参照）に流量センサ及び圧力センサを設けておき、上記一方のフォーク２００における上記流量センサ及び圧力センサによる計測結果に基づいて、一方のフォーク２００と干渉物との距離の状態に関する判定を行えばよい。これにより、判定対象期間中に、上記他方のフォーク２００における吸着のＯＮ・ＯＦＦの切り換えがあり、その結果、上記ノズル用流路の流量が変動したとしても、上記判定を正確に行うことができる。
なお、治具２１０は例えば螺着によりフォーク本体２０２に対して固定される。また、吸着部材２０１が、前述のように計４つ設けられている場合、治具２１０は、例えば、フォーク２００の先端側の２つの吸着部材２０１の代わりに取り付けられる。取り付けたままの、フォーク２００の基端側の吸着部材２０１については、上記判定の際、その吸着口１２１は塞がれる。
図１５は、ノズルの形状の他の例を示す図である。
図１５のノズル３０１の形状は、基端から先端に向けて細くなる円錐形状である。このような形状とすることにより、ノズル３０１の先端面の面積を小さくしながら、ノズル３０１の基端側を太くすることができる。
ノズル３０１の先端面の面積が大きいと、ノズル３０１の先端面が、ノズル３０１の下方、すなわち、フォーク１２０の下方のウェハＷの上面に近いときに、ノズル３０１が気体を吸引する力が、ウェハＷに作用して吸い上げてしまうことがある。それに対し、ノズル３０１の先端面の面積を小さくすることで、ウェハＷの上面における、ノズル３０１が気体を吸引する力が作用する領域が狭くなるため、ウェハＷに作用する総吸引力を低下させることができる。その結果、ウェハＷの吸い上げが生じるのを防ぐことができる。
また、ノズル３０１の基端側を太くすることで、ノズル３０１がウェハＷに接触したときに破損すること等を防ぐことができる。
以上の例では、フォーク１２０、２００とその下方に位置するウェハＷとの間の距離の状態に関する判定を行っていたが、フォーク１２０、２００とその下方に位置する他の部材（例えばカセットＣ内の構造物等）との間の距離の状態に関する判定を行ってもよい。
また、ノズル１２３、３０１をフォークの前面や側面に設け、フォークとその前方または側方の空間に位置する部材（例えば、カセットＣの奥壁や側壁等）と間の距離の状態に関する判定を行ってもよい。
また、以上の例では、搬送装置２０のフォーク１２０にノズル１２３、３０１を設けていたが、同様のノズルを搬送装置２０の他の部分（例えば取付部材１１３）に設けてもよい。そして、搬送装置２０の他の部分と干渉物との間の距離の状態に関する判定を行ってもよい。また、同様のノズルを搬送装置７０等、他の搬送装置に設け、当該他の搬送装置と干渉物との間の距離の状態に関する判定を行ってもよい。
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
２０ 搬送装置
７０ 搬送装置
７１ シャトル搬送装置
７２ 搬送装置
７３ 搬送装置
７４ 装置
１２０ フォーク
１２１ 吸着口
１２３ ノズル
１３０ 第１内部流路
１３１ 第１中継流路
１３２ 第１配管
１４０ 第２内部流路
１４１ 第２中継流路
１４２ 第２配管
１５１ 排気機構
１７０ 流量センサ
１７１ 圧力センサ
２００ フォーク
３０１ ノズル
Ｗ ウェハ

Claims (10)

  1. 基板を搬送する基板搬送装置であって、
    吸着口を介して基板を吸着して保持可能に構成された一の基板保持部と、
    前記一の基板保持部の表面に設けられた、気体を通過させるノズルと、
    前記吸着口に接続され吸着時に気体を通流させる吸着用流路と、
    前記ノズルと接続され前記気体を通流させるノズル用流路と、を備え、
    前記一の基板保持部または他の基板保持部の少なくともいずれか一方の前記吸着用流路と、前記ノズル用流路とは、共通の気体の吸引機構に接続され、
    前記ノズル用流路を流れる気体の圧力を、計測する圧力センサと、
    干渉物と前記一の基板保持部との間の距離及び前記ノズル用流路を流れる気体の圧力に応じて変動する、前記ノズル用流路を流れる流体の流量を、計測する流量センサと、をさらに備える、基板搬送装置。
  2. 前記圧力センサ及び前記流量センサによる計測結果に基づき、干渉物と前記基板保持部との間の距離の状態に関する判定を行う制御部と、をさらに備える、請求項１に記載の基板搬送装置。
  3. 前記制御部は、同じ時点での前記圧力センサの計測結果と前記流量センサによる計測結果との関係から、前記判定を行う、請求項２に記載の基板搬送装置。
  4. 前記ノズル用流路を流れる気体の圧力及び前記ノズル用流路を流れる流体の流量を軸とした二次元平面において、判定対象期間中の各時点での前記圧力センサの計測結果と前記流量センサによる計測結果との関係を示す点集合が、予め定められた基準領域内に収まるか否かに基づいて、前記判定を行う、請求項３に記載の基板搬送装置。
  5. 前記一の基板保持部の内部には、前記吸着用流路と、前記ノズル用流路と、が個別に設けられており、
    前記一の基板保持部に対する前記吸着用流路と前記ノズル用流路とが、共通の吸引機構に接続され、
    前記圧力センサは、前記一の基板保持部に対する前記吸着用流路を流れる気体の圧力に応じて変動する、前記ノズル用流路を流れる気体の圧力を、計測する、請求項１～４のいずれか１項に記載の基板搬送装置。
  6. 前記他の基板保持部に対する前記吸着用流路と前記ノズル用流路とが、共通の吸引機構に接続され、
    前記圧力センサは、前記他の基板保持部に対する前記吸着用流路を流れる気体の圧力に応じて変動する、前記ノズル用流路を流れる気体の圧力を、計測する、請求項１～５のいずれか１項に記載の基板搬送装置。
  7. 前記ノズルは、前記一の基板保持部に対して着脱可能な治具に設けられ、
    前記治具を前記一の基板保持部に取り付けたときに、前記ノズルが、前記一の基板保持部に対する前記吸着用流路に接続され、
    当該一の基板保持部に対する前記吸着用流路が前記ノズル用流路を兼ね、
    前記他の基板保持部に対する前記吸着用流路と前記ノズル用流路とが、共通の吸引機構に接続され、
    前記圧力センサは、前記他の基板保持部に対する前記吸着用流路を流れる気体の圧力に応じて変動する、前記ノズル用流路を流れる気体の圧力を、計測する、請求項１～４のいずれか１項に記載の基板搬送装置。
  8. 前記一の基板保持部は、当該一の基板保持部内において前記吸着用流路を構成する内部流路が設けられた本体を有し、
    前記治具は、前記ノズルが先端に接続され気体が通流する治具内流路が設けられており、前記本体に着脱可能に取り付けられ、
    前記治具が前記本体に取り付けられたときに、前記ノズルは、前記治具内流路を介して前記内部流路に連通される、請求項７に記載の基板搬送装置。
  9. 基板を搬送する基板搬送装置の状態判定方法であって、
    前記基板搬送装置は、
    吸着口を介して基板を吸着して保持可能に構成された一の基板保持部と、
    前記一の基板保持部の表面に設けられた、気体を通過させるノズルと、
    前記吸着口に接続され吸着時に気体を通流させる吸着用流路と、
    前記ノズルと接続され前記気体を通流させるノズル用流路と、を備え、
    前記一の基板保持部または他の基板保持部の少なくともいずれか一方の前記吸着用流路と、前記ノズル用流路とは、共通の気体の吸引機構に接続され、
    前記ノズル用流路を流れる気体の圧力を、計測する工程と、
    前記ノズル用流路を流れる流体の流量を、計測する工程と、
    前記圧力の計測結果及び前記流体の計測結果に基づき、干渉物と前記基板保持部との間の距離の状態に関する判定を行う工程と、を含む、基板搬送装置の状態判定方法。
  10. 請求項９に記載の基板搬送装置の状態判定方法を基板搬送装置によって実行させるように、当該基板搬送装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムを記憶した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
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