JP2022143741A - 半導体集積回路及びその動作方法 - Google Patents

半導体集積回路及びその動作方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2022143741A
JP2022143741A JP2021044422A JP2021044422A JP2022143741A JP 2022143741 A JP2022143741 A JP 2022143741A JP 2021044422 A JP2021044422 A JP 2021044422A JP 2021044422 A JP2021044422 A JP 2021044422A JP 2022143741 A JP2022143741 A JP 2022143741A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
memory
slave
semiconductor integrated
chips
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021044422A
Other languages
English (en)
Inventor
大作 冷水
Daisaku Hiyamizu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kioxia Corp
Original Assignee
Kioxia Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kioxia Corp filed Critical Kioxia Corp
Priority to JP2021044422A priority Critical patent/JP2022143741A/ja
Priority to TW110127591A priority patent/TWI820457B/zh
Priority to US17/394,577 priority patent/US11749355B2/en
Priority to CN202110954154.4A priority patent/CN115114184A/zh
Publication of JP2022143741A publication Critical patent/JP2022143741A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/04Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
    • G11C16/0483Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells having several storage transistors connected in series
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F12/00Accessing, addressing or allocating within memory systems or architectures
    • G06F12/02Addressing or allocation; Relocation
    • G06F12/06Addressing a physical block of locations, e.g. base addressing, module addressing, memory dedication
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/26Sensing or reading circuits; Data output circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • G11C16/20Initialising; Data preset; Chip identification
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/02Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
    • G11C5/04Supports for storage elements, e.g. memory modules; Mounting or fixing of storage elements on such supports
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1051Data output circuits, e.g. read-out amplifiers, data output buffers, data output registers, data output level conversion circuits
    • G11C7/1063Control signal output circuits, e.g. status or busy flags, feedback command signals
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/06Address interface arrangements, e.g. address buffers
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/08Word line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, for word lines
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/12Group selection circuits, e.g. for memory block selection, chip selection, array selection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0657Stacked arrangements of devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/18Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different subgroups of the same main group of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/20Memory cell initialisation circuits, e.g. when powering up or down, memory clear, latent image memory
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/04042Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05553Shape in top view being rectangular
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32135Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/32145Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4911Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
    • H01L2224/49113Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting different bonding areas on the semiconductor or solid-state body to a common bonding area outside the body, e.g. converging wires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • H01L2224/83191Arrangement of the layer connectors prior to mounting wherein the layer connectors are disposed only on the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/0651Wire or wire-like electrical connections from device to substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06555Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking
    • H01L2225/06562Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking at least one device in the stack being rotated or offset
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06582Housing for the assembly, e.g. chip scale package [CSP]
    • H01L2225/06586Housing with external bump or bump-like connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L24/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • H01L2924/143Digital devices
    • H01L2924/1431Logic devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • H01L2924/143Digital devices
    • H01L2924/1434Memory
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • H01L2924/143Digital devices
    • H01L2924/1434Memory
    • H01L2924/1435Random access memory [RAM]
    • H01L2924/1443Non-volatile random-access memory [NVRAM]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Memory System (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Abstract

【課題】マルチチップパッケージ内の複数のメモリチップが検知した電気信号に基づいて、メモリチップが自メモリチップの論理ユニット番号と積載チップ数の総数を認識することが可能となる。【解決手段】実施形態に係る半導体集積回路は、複数のメモリチップを備えたマルチチップパッケージと、マルチチップパッケージを制御するコントローラとを備える。複数のメモリチップは、配線パッドから電位を検知する論理ユニット回路を有する論理制御部を備える。論理ユニット回路は、配線パッドから検知した電位に基づいて、マスタチップとスレーブチップを判断し、マスタチップがスレーブチップにパルスカウント及びステータス応答コマンドを送信することで、スレーブチップが自メモリチップの論理ユニット番号を設定し、スレーブチップからのステータス情報に基づいて、積載するチップ数の総数を設定する。【選択図】図3

Description

本発明の実施形態は、半導体集積回路及びその動作方法に関する。
不揮発性半導体記憶装置として、NANDフラッシュメモリが知られている。NANDフラッシュメモリは、複数のメモリチップで構成された場合、パッケージを封入後に外部からメモリセルアレイのROM領域に格納しているレジスタを書き換えることでおのおののメモリチップを認識することが知られている。
特開2015-94997号公報
実施形態が解決しようとする課題は、マルチチップパッケージ内の複数のメモリチップが検知した電気信号に基づいて、メモリチップが自メモリチップの論理ユニット番号と積載チップ数の総数を認識することが可能な半導体集積回路を提供することにある。
実施形態に係る半導体集積回路は、複数のメモリチップを備えたマルチチップパッケージと、マルチチップパッケージを制御するコントローラとを備える。複数のメモリチップは、配線パッドから電位を検知する論理ユニット回路を有する論理制御部を備える。論理ユニット回路は、配線パッドから検知した電位に基づいて、マスタチップとスレーブチップを判断し、マスタチップがスレーブチップにパルスカウント及びステータス応答コマンドを送信することで、スレーブチップが自メモリチップの論理ユニット番号を設定し、スレーブチップからのステータス情報に基づいて、積載するチップ数の総数を設定する。
実施形態に係る半導体集積回路の構成例を示すブロック図。 実施形態に係るメモリパッケージの内部構造例を示すブロック図。 実施形態に係るメモリチップの回路構成例を示すブロック図。 電源投入後のメモリチップのイニシャライズ動作手順を示すフローチャート図。 図3に示すメモリチップのボンディングパッドの結線による各メモリチップの読み取り値表例の図。 論理ユニット回路のエンコーダによる出力値の表例の図。 LUN及びMCM設定におけるマスタチップMCの動作のフローチャート図。 LUN及びMCM設定におけるスレーブチップSCの動作のフローチャート図。 パルスカウント “001”とステータス返答コマンドによる応答シーケンスを示すタイミングチャート図。 パルスカウント “010”とステータス返答コマンドによる応答シーケンスを示すタイミングチャート図。 パルスカウント “011”とステータス返答コマンドによる応答シーケンスを示すタイミングチャート図。 パルスカウント “100”とステータス返答コマンドによる応答シーケンスを示すタイミングチャート図。 実施形態の変形例に係るメモリパッケージの内部構造例を示すブロック図。 実施形態の変形例に係るメモリチップの回路構成例を示すブロック図。 実施形態の変形例に係るメモリパッケージの実装構造例を示す断面図。 実施形態の変形例に係るメモリパッケージの実装構造例を示す斜視図。 実施形態の変形例に係るメモリパッケージのはんだボールの配置例を示す平面図。
以下、図面を参照して、実施形態について説明する。以下に説明する図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。図面は模式的なものである。
また、以下に示す実施形態は、技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、各構成部品の材質、形状、構造、配置等を特定するものではない。この実施形態は、特許請求の範囲において、種々の変更を加えることができる。
以下の説明において、論理ユニット番号LUN(Logical Unit Number)、マルチチップモジュールMCM(Multi-Chip Module)は、表現を簡単化してLUN、MCMと表記する場合がある。
[実施形態]
(半導体集積回路)
実施形態に係る半導体集積回路100のブロック構成の一例は、図1に示すように表される。半導体集積回路100は、ホストインタフェース2を介してホスト装置1と接続され、ホスト装置1の外部記憶装置として機能する。なお、ホスト装置1とは、例えば、パーソナルコンピュータ、タブレット、スマートフォン、携帯電話、撮像装置などである。以下の説明において、ホスト装置1をホスト1とも称する。また、ホストインタフェース2をホストI/F2とも称する。
半導体集積回路100は、図1に示すように、不揮発性半導体記憶装置10、コントローラ20、及びNANDインタフェース30を備える。不揮発性半導体記憶装置10は、例えば、NANDフラッシュである。なお、不揮発性メモリとしては、NANDフラッシュのような不揮発性半導体メモリに限定されず、ReRAM(Resistance Random Memory)、FeRAM(Ferroelectric Random Memory)などのデータ格納可能なメモリであればよい。なお、以下の説明において、不揮発性半導体記憶装置10の一例としてNANDフラッシュ10と称する。また、NANDインタフェース30をNANDI/F30と称する。
NANDフラッシュ10は、マルチチップパッケージ15を備えて構成される。また、マルチチップパッケージ15は、複数のメモリチップ(例えば、#0~#3)によって構成される。おのおののメモリチップは、複数のメモリセルがマトリクス状に配列されたメモリセルアレイを有する。個々のメモリセルは、多値記憶が可能である。おのおののメモリチップは、データ消去の単位である物理ブロックを複数配列して構成される。また、NANDフラッシュ10は、物理ページごとにデータの書き込み及びデータの読み出しが行われる。物理ブロックは、複数の物理ページによって構成される。
コントローラ20は、ホスト1から命令を受け取り、受け取られた命令に基づいてNANDフラッシュ10を制御する。具体的には、コントローラ20は、ホスト1から書き込みを指示されたデータをNANDフラッシュ10に書き込み、ホスト1から読み出を指示されたデータをNANDフラッシュ10から読み出してホスト1に送信する。コントローラ20は、NANDI/F30によってNANDフラッシュ10に電気的に接続される。NANDフラッシュ10は、データを不揮発に記憶する。
NANDI/F30は、例えば、チップイネーブル信号(以下、/CEという。)、コマンドラッチイネーブル信号(以下、CLEという。)、アドレスラッチイネーブル信号(以下、ALEという。)、ライトイネーブル信号(以下、/WEという。)、リードイネーブル信号(以下、/REという。)、ライトプロテクト信号(以下、/WPという。)、I/O<7:0>、及びデータストローブ信号(以下、DQSという。)の各々について、個別の配線を介して送受信を行う。
(マルチチップパッケージの内部構成例)
実施形態に係るNANDフラッシュ10を構成するマルチチップパッケージ15の内部構成例について説明する。
実施形態に係るNANDフラッシュ10を構成するマルチチップパッケージ15の内部構成の一例は、図2に示すように表される。本実施形態では、図1のNANDフラッシュ10は、例えば、1つのマルチチップパッケージ15によって構成されるものとする。ただし、NANDフラッシュ10を複数のマルチチップパッケージ15によって構成してもよい。
マルチチップパッケージ15は、図2に示すように、複数(ここでは4つ)のメモリチップ#0~#3を備える。
メモリチップ#0~#3は、例えば、/CE、CLE、ALE、/WE、/RE、/WP、I/O<7:0>、及びDQSの各々について、個別の内部配線で電気的に接続される。例えば、マルチチップパッケージ15のI/O0は、マルチチップパッケージ15内でメモリチップ#0~#3と共通接続する。同様に、マルチチップパッケージ15のI/O1は、マルチチップパッケージ15内でメモリチップ#0~#3と共通接続する。他の信号についても同じである。
(メモリチップの内部回路例)
次に、メモリチップ#0~#3の内部回路例を説明する。
メモリチップ#0~#3の内部回路の一例は、図3に示すように表される。おのおののメモリチップ#0~#3は、同一の構成を備えているので、ここではメモリチップ#0の構成について説明する。
メモリチップ#0は、図3に示すように、I/O制御部111、論理制御部112、電圧発生回路113、レジスタ制御部114、カラム制御回路115、データレジスタ116、センスアンプ117、ロウ制御回路118、メモリセルアレイ130、ROM領域131、及び複数の内部配線パッド160(ここでは、160A、160B)を備える。なお、内部配線パッド160は、配線パッドの一例である。
I/O制御部111は、I/O信号の入力ピン(I/O0-I/O7)の接続配線を介して、コントローラ20との間でI/O信号を送受信するためのバッファ回路である。I/O制御部111は、論理制御部112で受け付けた信号に基づいて、I/O信号I/O0-I/O7を介してI/O信号として取り込んだコマンド、アドレス、データ(書き込みデータ)をレジスタ制御部114またはデータレジスタ116に振り分けて格納する。
論理制御部112は、各種制御信号の入力ピン(CE、ALEなど)を介して各種制御信号の入力を受け付ける。論理制御部112は、受信した制御信号に基づいて、状態(ステート)遷移する状態遷移回路(ステートマシン)を含み、メモリチップ#0全体の動作を制御する。
論理制御部112は、LUNレジスタ140、MCMレジスタ141、及び論理ユニット回路142を備える。なお、論理ユニット回路142は、エンコーダ機能、比較器機能を有する。詳細は、後で説明する。
LUNレジスタ140は、LUN情報を格納するレジスタである。LUN情報とは、おのおののメモリチップを識別するためのnビット(nは2以上の整数)の情報である。具体的には、メモリチップがマルチチップパッケージ15内に4つ積載されている場合、論理ユニット回路142は、例えば、LUNを“00”~“11”によってナンバリングして識別する。具体的には、メモリチップが“LUN=00”ならば、“メモリチップ#0”の先頭のメモリチップとわかる。同様に、メモリチップが“LUN=01”ならば、“メモリチップ#1”の2番目のメモリチップとわかる。また、メモリチップが“LUN=11”ならば、“メモリチップ#3”の最後のメモリチップとわかる。つまり、LUN情報から何番目のどのチップにアクセスすれば、アクセスしたいブロックがわかる。例えば、メモリチップが0~999ブロックを有する構造の場合、メモリチップ#0は0~999ブロックとなり、メモリチップ#1はメモリチップが1000~1999ブロックとなり、メモリチップ#3はメモリチップが3000~3999ブロックとなる。ここで、1200ブロックにアクセスしたい場合、LUN=01のLUN情報によって、2番目のメモリチップ#1の1200ブロックを選定することができる。
MCMレジスタ141は、MCM情報を格納するレジスタである。MCM情報とは、メモリチップがマルチチップパッケージ15内に積載するチップ数の総数の情報である。また、MCM情報は、nビット(nは2以上の整数)の情報である。具体的には、メモリチップがマルチチップパッケージ15内に4個積載されている場合、MCM情報は、MCM=11となる。
論理ユニット回路142は、複数の内部配線パッド160(ここでは、160Aまたは、160B)を介して電気信号を読み取る。なお、論理ユニット回路142は、例えば、電位を読み取るための複数の物理ボンディングパッドPD(ここでは、PD1~PD2)を備えてもよい。以下の説明において、物理ボンディングパッドPDをボンディングパッドPDと称する。
メモリチップ#0~#3の複数のボンディングパッドPD(ここでは、PD1、PD2)は、例えば、メモリチップ内でユニークな組み合わせとなるように複数の内部配線パッド160(ここでは、160A、160B)から電位が供給される。すなわち、複数のボンディングパッドPDは、メモリチップ内でユニークな組み合わせとなるように複数の内部配線パッド160と結線して電位を供給してもよい。
論理ユニット回路142は、ボンディングパッドPD1、PD2を介して内部配線パッド160Aまたは、160Bから読み取った電位の組み合わせによって、おのおののメモリチップがLUNを設定するために機能する。なお、マルチチップパッケージ15内に積載するメモリチップ数N個に基づいて、nビット(nは2以上の整数)分のボンディングパッドPDを備えてもよい。例えば、メモリチップが8個の場合、メモリチップを識別するための3ビット分のボンディングパッドPDの数は、3個である。つまり、ボンディングパッドPDの数は、3個でもよい。ただし、実際には、これらの例に限定されない。
内部配線パッド160A、160Bのおのおのは、例えば、電源電位Vcc、または、接地電位GNDのいずれか1つに電気的に接続される。図3では、内部配線パッド160Aは、接地電位GNDであり、内部配線パッド160Bは、電源電位Vccである。メモリチップ#0のボンディングパッドPD1、PD2は、内部配線パッド160Aと電気的に共通接続される。なお、メモリチップ#1の場合、例えば、ボンディングパッドPD1は、内部配線パッド160Bに電気的に接続され、ボンディングパッドPD2は、内部配線パッド160Aと電気的に共通接続される。以下の説明において、電源電位Vccが接続されている状態の“H”レベルを“1”とし、接地電位GNDが接続されている状態の“L”レベルを“0”とする。以下の説明において、“H”レベルを“1”、“L”レベルを“0”と称する。
論理制御部112は、電圧発生回路113に、発生すべき電圧値、電力供給タイミングを指示する。電圧発生回路113は、論理制御部112の制御によって、メモリセルアレイ130及びその周辺回路に電力を供給する。レジスタ制御部114には、メモリセルアレイ130に対する書き込みが成功したか否かを示すスタータス情報、メモリセルアレイ130に対する消去が成功したか否かを示すステータス情報などが格納される。これらのステータス情報は、I/O制御部111によってコントローラ20に応答信号として送信される。
レジスタ制御部114は、コマンド、アドレス、及びステータス情報を保持する。レジスタ制御部114は、アドレスをロウ制御回路118及びセンスアンプ117に転送すると共に、コマンドを論理制御部112に転送する。
カラム制御回路115、センスアンプ117、及びロウ制御回路118は、論理制御部112による制御に基づいて、メモリセルアレイ130に対するアクセスを実行する。
カラム制御回路115は、カラムアドレスに対応するビット線を選択して活性化する。ロウ制御回路118は、ロウアドレスに対応するワード線を選択し、選択したワード線を活性化する。センスアンプ117は、カラム制御回路115により選択されたビット線に電圧を印加して、ロウ制御回路118が選択したワード線とカラム制御回路115が選択したビット線との交点に位置するメモリセルトランジスタに、データレジスタ116に格納されているデータを書き込む。また、センスアンプ117は、ロウ制御回路118が選択したワード線とカラム制御回路115が選択したビット線を介して読み出し、読み出したデータをデータレジスタ116に格納する。データレジスタ116に格納されたデータは、データ線を通じてI/O制御部111に送られ、I/O制御部111からコントローラ20へ転送される。
メモリセルアレイ130は、NAND型のメモリセルが配列されて構成されており、ホスト1からのライトデータが格納される。
メモリセルアレイ130は、半導体集積回路100の管理情報が格納されるROM領域131を含む。ROM領域131は、メモリセルアレイ130の一部であり、メモリセルアレイ130と同様、NAND型のメモリセルで構成される領域である。ROM領域131は、例えば、メモリチップ#0の製造者または半導体集積回路100の製造者は、書き換えが可能であるが、半導体集積回路100のユーザはアクセス(読み出し、書き込み、消去)することはできない。ROM領域131には、各種の管理情報が記憶される。
以上説明したように、実施形態によれば、おのおののメモリチップ#0~#3は、複数の内部配線パッド160を備える。論理ユニット回路142は、複数の内部配線パッド160(160A、160B)から読み取った電位を検知してLUNを設定する。また、論理ユニット回路142は、おのおののメモリチップ#0~#3のLUN情報に基づいて、マルチチップパッケージ15内に積載されたチップ数の総数であるMCM情報を算出する。論理ユニット回路142は、MCM情報を決定することで、半導体集積回路100の総容量を判断する。なお、メモリチップのLUN、MCMを設定する動作方法については、後で説明する。
(イニシャライズの動作例)
次に、おのおののメモリチップにおける電源投入時のイニシャライズ動作について説明する。おのおののメモリチップは、電源投入時において、例えば、論理ユニット回路142が備える複数のボンディングパッドPDから電位を読み取る。また、論理ユニット回路142は、LUNレジスタ140の初期化をする。
イニシャライズの動作の一例は、図4に示すように表される。複数のボンディングパッドPD(PD1、PD2)と複数の内部配線パッド160との結線によるおのおののメモリチップの読み取り値表の一例は、図5のように表される。また、論理ユニット回路142が備えるエンコーダによる出力値の表の一例は、図6に表される。
ステップS11において、論理ユニット回路142は、ボンディングパッドPDから電位を検出して電気信号の“1”、または“0”を読み取る。具体的には、図5で示すように、おのおののメモリチップは、例えば、ボンディングパッドPD1、PD2から電気信号を読み取る。
ステップS12において、論理ユニット回路142は、図6に示すように、エンコーダが出力する出力値を読み取る。具体的には、論理ユニット回路142は、例えば、初期カウントである“0”を入力して、エンコーダが出力した“000”を読み取る。また、論理ユニット回路142は、読み込んだ後でカウント値を1足して“1”にする。
ステップS13において、論理ユニット回路142は、エンコーダの出力値を初期値としてLUNレジスタ140に設定する。具体的には、論理ユニット回路142は、初期カウントとしてエンコーダが出力した“000”をLUNレジスタ140に書き込む。なお、LUNレジスタ140は、例えば、2ビットの情報である“00”で書き込んでもよい。
以上説明したように、実施形態によれば、論理ユニット回路142は、電源投入時におけるイニシャライズの動作によって、複数(ここでは2つ)のボンディングパッドPD1、PD2からの電気信号を読み込む。また、論理ユニット回路142は、エンコーダから出力した出力値をLUNレジスタ140へ書き込む。
(LUN及びMCMを設定する動作例)
次に、LUN及びMCMを設定する動作について説明する。電源投入時のイニシャライズ動作後において、おのおののメモリチップは、マスタチップMCとスレーブチップSCとに分けて説明する。
マスタチップMCとは、例えば、図2に示すマルチチップパッケージ15内の各メモリチップの1番目のメモリチップ#0である。スレーブチップSCとは、例えば、図2に示すマルチチップパッケージ15内の1番目のメモリチップ#0以外のメモリチップ#1~#3である。マルチチップパッケージ15内のおのおののメモリチップは、LUN及びMCMをそれぞれのメモリチップ#0~#3で認識するため、マスタチップMCがLUN及びMCMの設定動作のメインとなる。
マスタチップMCとスレーブチップSCは、図2に示すように、I/O信号が共通に接続している。マスタチップMCは、例えば、I/O信号を介してスレーブチップSCと信号のやりとりが可能である。
マスタチップMCの動作の一例を図7Aに示されるように表される。また、スレーブチップSCの動作の一例を図7Bに示すように表される。
電源投入時のLUN及びMCMを設定する動作において、論理ユニット回路142は、ボンディングパッドPD1、PD2から読み取った信号に基づいて、マスタチップMCとスレーブチップSCを選定する。マスタチップMCに選定したメモリチップは、スレーブチップSCにパルスカウントを送信することで、おのおののスレーブチップSCがLUNを設定する。マスタチップMCは、ステータス返答コマンドによって、スレーブチップSCからステータス信号を受信してMCMを設定する。以下、電源投入時のLUN及びMCMを設定する動作の詳細フローの一例である。
ステップS21において、おのおののメモリチップは、電源投入時において、イニシャライズ(S11~S13)によって、ボンディングパッドPDから電位を読み取る。また、おのおののメモリチップは、LUNが初期化され、LUNレジスタ140にLUN情報を格納する。
ステップS22において、論理ユニット回路142は、LUNレジスタ140の格納されている値と、ボンディングパッドから読み取った電気信号の値“00”とが一致するかを判断する。論理ユニット回路142は、“00”と一致した場合、ステップS23に進む。論理ユニット回路142は、“00”と一致しない場合、ステップS31に進む。すなわち、ステップS23以降は、マスタチップMCの動作である。また、ステップS31以降のステップは、スレーブチップSCの動作である。
(マスタチップの動作)
ステップS23において、論理ユニット回路142は、スレーブチップSCにパルスカウントを送信する。具体的には、論理ユニット回路142は、例えば、エンコーダにカウント値“1”を入力し、エンコーダが出力した出力値“001”をパルスカウントとしてスレーブチップSCに出力する。すなわち、論理ユニット回路142は、スレーブチップSCを認識するため、エンコーダを用いて、カウント値に対するパルスカウントを送信する。パルスカウントとは、マスタチップMCとスレーブチップSCとがおのおののメモリチップのLUNを認識するために使用するパルスカウントである。以下の説明において、パルスカウントをパルス波形、またはパルスクロック数とも称する。
ステップS24において、論理ユニット回路142は、スレーブチップSCが受信したパルスカウントを保存した後でスレーブチップSCにステータス返答コマンドを送信する。具体的には、論理ユニット回路142は、例えば、パルスカウント“001”を送信し、メモリチップ#1であるスレーブチップSCに応答を要求する。
ステップS25において、論理ユニット回路142は、スレーブチップSCのステータス返答を受信したかを判断する。論理ユニット回路142は、スレーブチップSCのステータス返答を受信した場合、ステップS26に進む。また、論理ユニット回路142は、スレーブチップSCの返答を受信しない場合、ステップS27に進む。ステータス返信とは、スレーブチップSCが存在する場合、スレーブチップSCが例えば、“H”レベルの信号のステータス情報をマスタチップMCに送信することである。
ステップS26において、論理ユニット回路142は、カウンタを1つ足す。具体的には、論理ユニット回路142は、カウンタのカウント値を1つ足す。例えば、カウント値が“1”の場合、カウント値は、“2”に増やす。
ステップS27において、論理ユニット回路142は、規定回数(ここでは、7回)までステータス返答を受信したかを判断する。具体的には、論理ユニット回路142は、例えば、規定回数(ここでは、7回)までステータス返答を受信した場合、ステップS28へ進む。論理ユニット回路142は、規定回数(ここでは、7回)までステータス返答を受信していない場合、ステップS23へ戻る。規定回数とは、スレーブチップSCのLUNを認識するためのパルスカウントの発生回数である。すなわち、メモリチップ#3までステータス応答があり、メモリチップ#4以降のステータス応答がなければ、マルチチップパッケージ15内に積載しているメモリチップは、4個であると判断できる。つまり、論理ユニット回路142は、スレーブチップSCからのステータス情報に基づいて、積載するメモリチップの総数を判断する。
ステップS28において、論理ユニット回路142は、判断した積載するメモリチップの総数をMCMレジスタ141に設定する。なお、論理ユニット回路142は、I/O信号を介してスレーブチップSCにMCMレジスタ141を設定するコマンドを送信してもよい。
(スレーブチップの動作)
ステップS31において、論理ユニット回路142は、受信したパルスカウントと、ボンディングパッドから読み取った電気信号の値とが一致した場合、ステップS32に進む。論理ユニット回路142は、受信したパルスカウントと、ボンディングパッドから読み取った電気信号の値とが一致しない場合、ステップS33に進む。具体的には、論理ユニット回路142は、マスタチップMCが送信したパルスカウントを受信する。また、論理ユニット回路142は、受信したパルスカウントと、ボンディングパッドから読み取った電気信号の値とを比較する。また、論理ユニット回路142は、パルスカウントを受信した回数をカウントする。
ステップS32において、論理ユニット回路142は、マスタチップMCが送信したパルスカウントを保存し、LUN情報を初期値から上書きする。すなわち、論理ユニット回路142は、受信したパルスカウントと、ボンディングパッドPDから読み取った電気信号の値とが一致した場合、パルスカウントをLUNレジスタ140に書き込みLUN情報を設定する。具体的には、スレーブチップのメモリチップ#1は、例えば、パルスカウントを受信し、パルスカウントとボンディングパッドPDから読み取った電気信号の値とが一致する場合、パルスカウントをLUNレジスタ140に書き込み、LUN情報を設定する。なお、ボンディングパッドPDから読み取った電気信号の値が2ビット情報の場合、パルスカウントの2ビット情報までと比較してもよい。
ステップS33において、論理ユニット回路142は、マスタチップMCが送信したステータス返答コマンドを受信する。また、論理ユニット回路142は、それぞれのスレーブチップSCの受信したパルスカウントに基づいて、I/O信号を介してマスタチップMCにステータス情報を送信する。なお、論理ユニット回路142は、パルスカウントのステータス返答コマンドを受信した後にステータス情報をマスタチップMCに送信する。
ステップS34において、論理ユニット回路142は、パルスカウントを受信した回数が規定回数まで完了したかを判断する。具体的には、論理ユニット回路142は、パルスカウントを受信した回数が規定回数まで完了した場合、ステップS35に進む。論理ユニット回路142は、パルスカウントを受信した回数が規定回数まで完了していない場合、ステップS31に戻る。
ステップS35において、論理ユニット回路142は、MCMレジスタ141を設定する。このマスタチップMCとスレーブチップSCのステータス応答動作については、後でタイミングチャートの動作例を用いて説明する。
(マスタチップMCとスレーブチップSCの応答判定の動作例)
次に、LUN及びMCMを設定する際のマスタチップとスレーブチップ間の応答動作についてタイミングチャートで説明する。
マスタチップMCがパルス波形であるパルスカウント “001”で送信した場合のマスタチップMCとスレーブチップSCとの応答動作のタイミングチャートの一例を図8Aに表される。同様に、マスタチップMCがパルス波形であるパルスカウント“010”で送信した場合のタイミングチャートの一例を図8Bに表される。マスタチップMCがパルス波形であるパルスカウント“011”で送信した場合のタイミングチャートの一例を図8Cに表される。マスタチップMCがパルス波形であるパルスカウント“100”で送信した場合のタイミングチャートの一例を図8Dに表される。なお、マスタチップMCがパルス波形であるパルスカウント“101”~“111”で送信した場合は省略する。
(パルスカウント“001”を送信する場合)
T0~T1の期間において、マスタチップMCは、図8Aに示すように、マスタチップMCは、パルスカウント“001”をスレーブチップSCに送信する。
T1~T2の期間において、スレーブチップSCであるメモリチップ#1~#3は、マスタチップMCから送信されたパルスカウントを受信する。
T2~T3の期間において、スレーブチップSCであるメモリチップ#1~#3は、受信したパルスカウントと、読み取った信号と一致するか比較する。
T3~T4の期間において、受信したパルスカウントと読み取った信号とが一致したメモリチップ#1は、パルスカウントを保存する。具体的には、メモリチップ#1は、例えば、LUN情報を上書きし、LUNレジスタ140に設定する。一致しなかったメモリチップ#2、#3は、規定回数のパルスカウントを受信したかを確認する。
T4~T5の期間において、マスタチップMCは、ステータス返答コマンドを送信する。
T5~T6の期間において、スレーブチップSCであるメモリチップ#1は、マスタチップMCにステータス情報を送信する。
T6~T7の期間において、マスタチップMCは、スレーブチップSCからステータス情報を受信する。
T7以降において、マスタチップMCは、ステータス情報を受信したため、マルチチップパッケージ15内に積載するチップを累積カウントする。
(パルスカウント“010”を送信する場合)
T0~T1の期間において、マスタチップMCは、図8Bに示すように、マスタチップMCは、パルスカウント“010”をスレーブチップSCに送信する。
T1~T2の期間において、スレーブチップSCであるメモリチップ#1~#3は、マスタチップMCから送信されたパルスカウントを受信する。
T2~T3の期間において、スレーブチップSCであるメモリチップ#1~#3は、受信したパルスカウントと、読み取った信号と一致するか比較する。
T3~T4の期間において、受信したパルスカウントと読み取った信号とが一致したメモリチップ#2は、パルスカウントを保存する。具体的には、メモリチップ#1は、例えば、LUN情報を上書きし、LUNレジスタ140に設定する。一致しなかったメモリチップ#1、#3は、規定回数のパルスカウントを受信したかを確認する。
T5~T6の期間において、スレーブチップSCであるメモリチップ#2は、マスタチップMCにステータス情報を送信する。
T6~T7の期間において、マスタチップMCは、スレーブチップSCからステータス情報を受信する。
T7以降において、マスタチップMCは、ステータス情報を受信したため、マルチチップパッケージ15内に積載するチップを累積カウントする。
(パルスカウント“011”を送信する場合)
T0~T1の期間において、マスタチップMCは、図8Cに示すように、マスタチップMCは、パルスカウント“011”をスレーブチップSCに送信する。
T1~T2の期間において、スレーブチップSCであるメモリチップ#1~#3は、マスタチップMCから送信されたパルスカウントを受信する。
T2~T3の期間において、スレーブチップSCであるメモリチップ#1~#3は、受信したパルスカウントと、読み取った信号と一致するか比較する。
T3~T4の期間において、受信したパルスカウントと読み取った信号とが一致したメモリチップ#3は、パルスカウントを保存する。具体的には、メモリチップ#1は、例えば、LUN情報を上書きし、LUNレジスタ140に設定する。一致しなかったメモリチップ#1、#2は、規定回数のパルスカウントを受信したかを確認する。
T5~T6の期間において、スレーブチップSCであるメモリチップ#3は、マスタチップMCにステータス情報を送信する。
T6~T7の期間において、マスタチップMCは、スレーブチップSCからステータス情報を受信する。
T7以降において、マスタチップMCは、ステータス情報を受信したため、マルチチップパッケージ15内に積載するチップを累積カウントする。
(パルスカウント“100”を送信する場合)
T0~T1の期間において、マスタチップMCは、図8Dに示すように、マスタチップMCは、パルスカウント“100”をスレーブチップSCに送信する。
T1~T2の期間において、スレーブチップSCであるメモリチップ#1~#3は、マスタチップMCから送信されたパルスカウントを受信する。
T2~T3の期間において、スレーブチップSCであるメモリチップ#1~#3は、受信したパルスカウントと、読み取った信号と一致するか比較する。
T3~T4の期間において、一致しなかったメモリチップ#1、#2、#3は、規定回数のパルスカウントを受信したかを確認する。
T5~T6の期間において、スレーブチップSCは、全て一致しないため、ステータス情報を送信しない。
T6~T7の期間において、マスタチップMCは、スレーブチップSCからステータス情報を受信しないため、メモリチップ#4はないと判断する。
T7以降において、マスタチップMCは、ステータス情報を受信していないため、マルチチップパッケージ15内に積載するチップの総数を決定する。なお、このタイミングチャートの一例では、スレーブチップSCからステータス情報がない時点で積載チップの総数を決定しているが、例えば、上記で説明したように規定回数の7回までスレーブチップSCのステータ情報を確認してから決定してもよい。
以上説明したように、実施形態によれば、マスタチップMCは、パルスカウントをスレーブチップSCに送信する。各スレーブチップSCは、マルスチップMCからのパルスカウントとボンディングパッドから読み取った電気信号とを比較して一致した場合、LUNレジスタに設定する。マスタチップMCは、ステータス返答コマンドをスレーブチップSCに送信し、スレーブチップSCは、マスタチップMCにステータス情報を送信する。マスタチップMCは、スレーブチップSCのステータス情報に基づいて、MCMを累積し、MCMを決定する。マスタチップMCは、決定したMCMをMCMレジスタ141に設定する。なお、半導体集積回路100は、ボンディングパッドPDから読み取った電位に基づいて、LUN情報をそれぞれのメモリチップが認識することができるため、マスタチップMCがスレーブチップSCにパルスカウントを送信することなく、はじめからマスタチップMCがステータス応答コマンドをスレーブチップSCに送信して積載チップの総数を決定してもよい。
(実施形態の効果)
実施形態によれば、論理ユニット回路142は、電源投入時に、各メモリチップのボンディングパッドPDから電位を読み取ることで自動にLUNを設定することができる。また、論理ユニット回路142は、各メモリチップのLUN情報を基づいて、マルチチップパッケージ15内に積載しているメモリチップの総数MCMを算出することができる。さらに、論理ユニット回路142は、マルチチップパッケージ15内に積載しているメモリチップの総数MCMに基づいて、マルチチップパッケージ15内の総容量を判断することができる。
[実施形態の変形例]
(マルチチップパッケージの内部構成例)
実施形態の変形例に係るNANDフラッシュ10を構成するマルチチップパッケージ15Aの内部構成例について説明する。
実施形態の変形例に係るNANDフラッシュ10を構成するマルチチップパッケージ15Aの内部構成の一例は、図9に示すように表される。本実施形態に係るマルチチップパッケージ15は、図3に示すように、各メモリチップ内の内部配線パッド160と各メモリチップ内の論理ユニット回路142が有する物理ボンディングパッドPDとの結線によってユニークな組み合わせとなるように電位を接続する構成である。この本実施形態に係るマルチチップパッケージ15の構成に対し、実施形態の変形例に係るマルチチップパッケージ15Aは、マルチチップパッケージ15A内に複数の外部配線パッド170を備える。すなわち、マルチチップパッケージ15Aは、図9に示すように、マルチチップパッケージ15A内の外部配線パッド170A、170Bと、各メモリチップ内の論理ユニット回路142が有するボンディングパッドPDとの結線によってユニークな組み合わせとなるように電位を接続する構成である。なお、マルチチップパッケージ15Aは、他の構成について本実施形態に係るマルチチップパッケージ15と同じである。なお、外部配線パッド170は、配線パッドの一例である。
外部配線パッド170A、170Bのおのおのは、例えば、電源電位Vcc、または、接地電位GNDのいずれか1つに電気的に接続される。図9では、外部配線パッド170Aは、接地電位GNDである。また、外部配線パッド170Bは、電源電位Vccである。メモリチップ#0Aは、ボンディングパッドPD1、PD2と外部配線パッド170Aとが電気的に共通接続される。メモリチップ#1Aは、ボンディングパッドPD1が外部配線パッド170Aに接続され、ボンディングパッドPD2が外部配線パッド170Bに電気的に接続される。メモリチップ#2Aは、ボンディングパッドPD1が外部配線パッド170Bに接続され、ボンディングパッドPD2が外部配線パッド170Aに電気的に接続される。メモリチップ#3Aは、ボンディングパッドPD1、PD2と外部配線パッド170Bとが電気的に共通接続される。
(メモリチップの内部回路例)
次に、実施形態の変形例に係るメモリチップ#0A~#3Aの内部回路例を説明する。
メモリチップ#0A~#3Aの内部回路の一例は、図10に示すように表される。おのおののメモリチップ#0A~#3Aは、同一の構成を備えているので、ここではメモリチップ#0Aの構成について説明する。
メモリチップ#0Aとメモリチップ#0との内部回路の構成の違いは、おのおののメモリチップの外部の外部配線パッド170からLUNの設定を決める電位を読み取る構成である。なお、マルチチップパッケージ15Aの基本的な動作は、マルチチップパッケージ15のそれと同様である。
(マルチチップパッケージ15Aの内部構成を示す断面及び平面図例)
図11は、図9に示したマルチチップパッケージ15Aの内部構成例を示す断面図の一例である。図12は、マルチチップパッケージ15Aの一部の内部構成例を示す斜視図の一例である。図13は、マルチチップパッケージ15Aの裏面を示す平面図の一例である。
実施形態の変形例に係るマルチチップパッケージ15Aは、図11に示すように、配線基板7と、配線基板7上に積層された4枚のメモリチップ#0A~#3Aと、ボンディングワイヤ9と、メモリチップ#0A~#3A及びボンディングワイヤ9を樹脂封止する樹脂封止体8と、配線基板7の裏面に格子状に配列するように形成されたはんだボール50とから構成されている。
ボンディングワイヤ9は、図11,12に示すように、積層されたメモリチップ#0~#3の端辺部に設けられたボンディングパッドPDと配線基板7の端辺部に設けられた外部配線パッド170とを電気的に接続する。ボンディングパッドPDは、メモリチップの論理ユニット回路142が電位を読み取るためのパッドである。
外部配線パッド170は、配線基板7の表面と裏面に形成された配線パターンによりはんだボール50と電気的に接続する。表面に形成されたパターンと裏面に形成された配線パターンは、スルーホール23により接続する。
はんだボール50は、マルチチップパッケージ15Aの入出力ピンである。はんだボール50は、図13に示すように、これらの入出力ピンの中に各制御信号ピン、各I/O信号ピンなどが含まれる。図13において、Vccは、電源電位ピン、Vssは接地電位ピン、NUは、未使用ピン、NCは、未接続ピンである。NUピンは、丸線で囲んで示している。すなわち、マルチチップパッケージ15Aは、はんだボール50のNUピンを用いて、外部配線パッド170を介してボンディングパッドPDに電位をユニークに結線して接続する。
(実施形態の変形例の効果)
マルチチップパッケージ15Aは、メモリチップを実装するマルチチップパッケージ15Aを組み立てる際に、おのおののメモリチップのボンディングパッドPDと外部配線パッド170とを電気的に結線することでLUNを設定することができる。
マルチチップパッケージ15Aは、はんだボール50のNUピンを用いて、論理ユニット回路142が電位を読み取る電位を設定することができる。これにより、マルチチップパッケージ15Aを組み立て後に、NUピンの電位設定からマルチチップパッケージ15A内のメモリチップに対して、電源投入時に自動でLUNを設定することができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。つまり、例えば、マスタチップMCとスレーブSCの間でLUN及びMCMの情報をどのような回路で伝達し合うかの回路構成は様々な形態があり、これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10・・・不揮発性半導体記憶装置、
15・・・マルチチップパッケージ、
100・・・半導体集積回路、
111・・・I/O制御部、
112・・・論理制御部、
113・・・電圧発生回路、
114・・・レジスタ制御部、
115・・・カラム制御回路、
116・・・データレジスタ、
117・・・センスアンプ、
118・・・ロウ制御回路、
130・・・メモリセルアレイ、
140・・・LUNレジスタ、
141・・・MCMレジスタ、
142・・・論理ユニット回路、
160A、160B・・・内部配線パッド、
170A、171B・・・外部配線パッド、
#0~#3・・・メモリチップ、
PD1~2・・・物理ボンディングパッド

Claims (9)

  1. 複数のメモリチップを備えたマルチチップパッケージと、
    前記マルチチップパッケージを制御するコントローラと
    を備え、
    前記複数のメモリチップは、
    配線パッドから電位を検知する論理ユニット回路を有する論理制御部を備え、
    前記論理ユニット回路は、
    前記配線パッドから検知した前記電位に基づいて、マスタチップとスレーブチップを判断し、前記マスタチップが前記スレーブチップにパルスカウント及びステータス応答コマンドを送信することで、前記スレーブチップが自メモリチップの論理ユニット番号を設定し、前記スレーブチップからのステータス情報に基づいて、積載するチップ数の総数を設定する、
    半導体集積回路。
  2. 前記配線パッドは、
    前記複数のメモリチップ内に内部配線パッドを有する、
    請求項1に記載の半導体集積回路。
  3. 前記配線パッドは、
    前記複数のメモリチップ外に外部配線パッドを有する、
    請求項1に記載の半導体集積回路。
  4. 前記論理ユニット回路は、
    さらに物理ボンディングパッドを有する、
    請求項1~3のいずれか1項に記載の半導体集積回路。
  5. 前記論理制御部は、
    論理ユニット番号の情報を格納するLUNレジスタを有する、
    請求項1~4のいずれか1項に記載の半導体集積回路。
  6. 前記論理制御部は、
    前記マルチチップパッケージ内に積載する前記複数のメモリチップの積載するメモリチップの総数の情報を格納するMCMレジスタを有する、
    請求項1~5のいずれか1項に記載の半導体集積回路。
  7. 配線パッドから電位を検知し、
    前記配線パッドから検知した前記電位に基づいて、マスタチップとスレーブチップを判断し、
    前記マスタチップによって、パルスカウント及びステータス返答コマンドを送信し、
    前記マスタチップによって送信された前記パルスカウントに基づいて、前記スレーブチップの論理ユニット番号を設定し、
    前記スレーブチップによってステータス情報を送信し、
    前記ステータス情報を受信した前記マスタチップがマルチチップパッケージ内に積載するメモリチップの総数を決定する、
    半導体集積回路の動作方法。
  8. 前記配線パッドから検知した前記電位は、
    マルチチップパッケージ内のおのおののメモリチップの識別情報を備える、
    請求項7に記載の半導体集積回路の動作方法。
  9. 電源投入時に前記配線パッドから前記電位を検知する、
    請求項7または請求項8に記載の半導体集積回路の動作方法。
JP2021044422A 2021-03-18 2021-03-18 半導体集積回路及びその動作方法 Pending JP2022143741A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021044422A JP2022143741A (ja) 2021-03-18 2021-03-18 半導体集積回路及びその動作方法
TW110127591A TWI820457B (zh) 2021-03-18 2021-07-27 半導體積體電路、多晶片封裝及半導體積體電路操作方法
US17/394,577 US11749355B2 (en) 2021-03-18 2021-08-05 Semiconductor integrated circuits, multi-chip package, and operation method of semiconductor integrated circuits
CN202110954154.4A CN115114184A (zh) 2021-03-18 2021-08-19 半导体集成电路、多芯片封装及半导体集成电路的动作方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021044422A JP2022143741A (ja) 2021-03-18 2021-03-18 半導体集積回路及びその動作方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2022143741A true JP2022143741A (ja) 2022-10-03

Family

ID=83284021

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021044422A Pending JP2022143741A (ja) 2021-03-18 2021-03-18 半導体集積回路及びその動作方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US11749355B2 (ja)
JP (1) JP2022143741A (ja)
CN (1) CN115114184A (ja)
TW (1) TWI820457B (ja)

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4912636A (en) 1987-03-13 1990-03-27 Magar Surendar S Data processing device with multiple on chip memory buses
JP3871853B2 (ja) * 2000-05-26 2007-01-24 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置及びその動作方法
JP2005243132A (ja) * 2004-02-26 2005-09-08 Renesas Technology Corp 半導体装置
JP6067541B2 (ja) 2013-11-08 2017-01-25 株式会社東芝 メモリシステムおよびメモリシステムのアセンブリ方法
KR101925694B1 (ko) 2013-12-26 2018-12-05 인텔 코포레이션 멀티칩 패키지 링크
US11056463B2 (en) * 2014-12-18 2021-07-06 Sony Corporation Arrangement of penetrating electrode interconnections
JP2017045415A (ja) * 2015-08-28 2017-03-02 株式会社東芝 メモリシステム
JP6745289B2 (ja) 2018-01-10 2020-08-26 インテル コーポレイション マルチチップパッケージリンク

Also Published As

Publication number Publication date
US20220301635A1 (en) 2022-09-22
TWI820457B (zh) 2023-11-01
TW202238887A (zh) 2022-10-01
CN115114184A (zh) 2022-09-27
US11749355B2 (en) 2023-09-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11379366B2 (en) Memory devices having selectively-activated termination devices
US10089257B2 (en) Semiconductor storage device and control method thereof
US11581024B2 (en) Memory module with battery and electronic system having the memory module
USRE48449E1 (en) Multi-chip package and memory system
US9620218B2 (en) Memory system and assembling method of memory system
US20070165457A1 (en) Nonvolatile memory system
US20140122777A1 (en) Flash memory controller having multi mode pin-out
CN104704563A (zh) 具有双模式引脚的闪存存储器控制器
US11295794B2 (en) Memory system, control method, and non-transitory computer readable medium
JP2022143741A (ja) 半導体集積回路及びその動作方法
TW202314514A (zh) 記憶體系統
KR20060034257A (ko) 듀얼 칩 패키지