JP2022105037A5 - - Google Patents
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Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019018833 | 2019-02-05 | ||
JP2019018833 | 2019-02-05 | ||
JP2020191041A JP7060664B2 (ja) | 2019-02-05 | 2020-11-17 | プラズマ処理装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020191041A Division JP7060664B2 (ja) | 2019-02-05 | 2020-11-17 | プラズマ処理装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022105037A JP2022105037A (ja) | 2022-07-12 |
JP2022105037A5 true JP2022105037A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2022-12-05 |
JP7395645B2 JP7395645B2 (ja) | 2023-12-11 |
Family
ID=72085033
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019236679A Active JP6797273B2 (ja) | 2019-02-05 | 2019-12-26 | プラズマ処理装置 |
JP2020191041A Active JP7060664B2 (ja) | 2019-02-05 | 2020-11-17 | プラズマ処理装置 |
JP2022066927A Active JP7395645B2 (ja) | 2019-02-05 | 2022-04-14 | プラズマ処理装置 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019236679A Active JP6797273B2 (ja) | 2019-02-05 | 2019-12-26 | プラズマ処理装置 |
JP2020191041A Active JP7060664B2 (ja) | 2019-02-05 | 2020-11-17 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (3) | JP6797273B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7122268B2 (ja) * | 2019-02-05 | 2022-08-19 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
KR102723233B1 (ko) * | 2021-02-04 | 2024-10-29 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 방법 |
JP7699444B2 (ja) * | 2021-03-09 | 2025-06-27 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 |
JP7671717B2 (ja) * | 2021-08-10 | 2025-05-02 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP2024094788A (ja) | 2022-12-28 | 2024-07-10 | 株式会社ダイヘン | 高周波電源装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000144434A (ja) * | 1998-11-09 | 2000-05-26 | Sekisui Chem Co Ltd | 傾斜機能材料の製造方法 |
JP2001358129A (ja) | 2000-06-16 | 2001-12-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
US9123509B2 (en) | 2007-06-29 | 2015-09-01 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Techniques for plasma processing a substrate |
JP5542509B2 (ja) * | 2010-04-05 | 2014-07-09 | 株式会社東芝 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
JP6312405B2 (ja) * | 2013-11-05 | 2018-04-18 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
JP6309398B2 (ja) | 2014-08-29 | 2018-04-11 | 株式会社ダイヘン | 高周波電源 |
JP6817889B2 (ja) | 2016-05-10 | 2021-01-20 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP6770868B2 (ja) * | 2016-10-26 | 2020-10-21 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置のインピーダンス整合のための方法 |
US10927449B2 (en) | 2017-01-25 | 2021-02-23 | Applied Materials, Inc. | Extension of PVD chamber with multiple reaction gases, high bias power, and high power impulse source for deposition, implantation, and treatment |
-
2019
- 2019-12-26 JP JP2019236679A patent/JP6797273B2/ja active Active
-
2020
- 2020-11-17 JP JP2020191041A patent/JP7060664B2/ja active Active
-
2022
- 2022-04-14 JP JP2022066927A patent/JP7395645B2/ja active Active
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