JP2022103240A - プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用部品 - Google Patents
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Abstract
Description
図1に示すプラズマ処理装置100は、容量結合型のプラズマ処理装置である。プラズマ処理装置100は、処理容器112及び載置台116を備えている。処理容器112は、略円筒形状を有しており、その内部空間を処理室112cとして提供している。処理容器112は、例えば、アルミニウムから構成されている。処理容器112の内部空間側の表面には、アルマイト膜、及び/又は、酸化イットリウム膜といった耐プラズマ性を有するセラミックス製の皮膜が形成されている。処理容器112は接地されている。処理容器112の側壁には、ウェハWを処理室112cに搬入し、処理室112cから搬出するための開口112pが形成されている。開口112pは、ゲートバルブGVによって開閉することが可能となっている。
次に、3Dプリンタ200の構成一例について、図3を参照しながら説明する。図3は、一実施形態に係る3Dプリンタ200の構成の一例を示す。本実施形態に係る3Dプリンタ200は、プラズマ処理装置内で使用される部品を形成(製造)する装置の一例である。ただし、部品を形成する装置は、図3に示す3Dプリンタ200の構成に限られない。
次に、3Dプリンタ200の動作の一例について、図4及び図5を参照しながら説明する。図4は、一実施形態に係る部品の形成処理の一例を示すフローチャートである。図5は、一実施形態に係る部品の形成方法を説明するための図である。
境界層129は、アルミニウム合金の粉末とSiCの粉末との配合率を線形的に変化させるスロープ状(グラディエーション状)の傾斜積層に限られない。境界層129は、アルミニウム合金の粉末とSiCの粉末との配合率を段階的に変化させるステップ状の傾斜積層であってもよい。また、基台121及び吸着部123の材料毎の線膨張係数に応じて境界層129の傾斜(各材料の配合率)を変えてもよい。
なお、本実施形態では、載置台116の製造を行う3Dプリンタ200の一例として粉末床溶融型の3Dプリンタを適用した。粉末床溶融型の3Dプリンタでは、ステージ202に粉末状の原料を敷き詰めてレーザ光等で溶かし、再び粉末状の原料を敷き詰めてレーザ光等で溶かす作業を繰り返して部品を形成する。このため、粉末床溶融型の3Dプリンタは、予め形成する立体構造が明確であり、かつ中空構造等の複雑な構造を有する載置台116及び上部電極130の構造物の製造に適している。
最後に、3Dプリンタを用いた異種のセラミックスの積層構造を有する部品の製造について簡単に説明する。例えば、基台121の材料がSiCであり、吸着部123の材料がアルミナである場合、載置台116は、異種のセラミックスの積層構造を有する部品の一例となる。この場合、基台121の材料は第1のセラミックスの原料の一例であり、吸着部123の材料は第1のセラミックスとは異なる第2のセラミックスの原料の一例である。
[付記1]
第1のセラミックスの原料と該第1のセラミックスとは異なる第2のセラミックスの原料とを供給しながら前記原料にエネルギービームを照射する工程を含む、
部品の形成方法。
[付記2]
第1のセラミックスと第2のセラミックスとの他方の原料を供給しながら前記原料にエネルギービームを照射する工程と、を含む、
付記1に記載の部品の形成方法。
[付記3]
金属の原料を供給しながら前記金属の原料にエネルギービームを照射することで基台を形成する第1の工程と、
前記基台の上に前記金属の原料とセラミックスの原料とを供給しながら前記金属の原料と前記セラミックスの原料にエネルギービームを照射することで前記基台の上に境界層を形成する第2の工程と、
前記セラミックスの原料を供給しながら前記セラミックスの原料にエネルギービームを照射することでセラミックス層を形成する第3の工程とを含む、
部品の形成方法。
[付記4]
付記3に記載の部品の形成方法。
[付記5]
付記3又は4に記載の部品の形成方法。
[付記6]
付記3又は4に記載の部品の形成方法。
[付記7]
付記3~6のいずれか一項に記載の部品の形成方法。
[付記8]
付記3~7のいずれか一項に記載の部品の形成方法。
部品の形成方法。
[付記9]
付記3~8のいずれか一項に記載の部品の形成方法。
[付記10]
付記1~9のいずれか一項に記載の部品の形成方法。
[付記11]
付記1~10のいずれか一項に記載の部品の形成方法。
[付記12]
前記処理容器内において基板上をエッチングするためのプラズマを生成するプラズマ生成手段と、
プラズマ処理装置内に配置される部品とを有し、
前記部品は、第1のセラミックスの原料と該第1のセラミックスとは異なる第2のセラミックスの原料とを供給しながら前記原料にエネルギービームを照射する工程により形成された境界層を有する部品である、プラズマ処理装置。
[付記13]
前記第1のセラミックスと前記第2のセラミックスとの他方の原料を供給しながら前記原料にエネルギービームを照射する工程により形成された第2の層とを有する部品である、
付記12に記載のプラズマ処理装置。
[付記14]
前記処理容器内において基板上をエッチングするためのプラズマを生成するプラズマ生成手段と、
プラズマ処理装置内に配置される部品とを有し、
前記部品は、金属の原料を供給しながら前記金属の原料にエネルギービームを照射することで基台を形成する第1の工程により形成された第1の層と、
前記基台の上に前記金属の原料とセラミックスの原料とを供給しながら前記金属の原料と前記セラミックスの原料にエネルギービームを照射することで前記基台の上に境界層を形成する第2の工程により形成された境界層と、
前記セラミックスの原料を供給しながら前記セラミックスの原料にエネルギービームを照射することでセラミックス層を形成する第3の工程により形成された第2の層とを有する部品である、プラズマ処理装置。
[付記15]
付記14に記載のプラズマ処理装置。
[付記16]
付記14又は15に記載のプラズマ処理装置。
[付記17]
付記14又は15に記載のプラズマ処理装置。
[付記18]
付記14~17のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
[付記19]
付記14~18のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
[付記20]
付記14~19のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
[付記21]
付記12~20のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
[付記22]
付記12~21のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
64 第2の高周波電源
100 プラズマ処理装置
112 処理容器
116 載置台
117 基台
120 静電チャック
121 基台
123 吸着部
125 電極膜
129 境界層
130 上部電極
139 ガス供給部
151 第1制御部
200 3Dプリンタ
202 ステージ
203 原料格納部
204 レーザ走査装置
205 ローラ
206 光源
207 ローラ駆動部
208 レーザ駆動部
209 レーザ光走査スペース
210 チャンバ
250 第2制御部
HN ヒータ
Claims (22)
- プラズマ処理容器と、
前記プラズマ処理容器内においてプラズマ処理するためのプラズマ生成手段と、
前記プラズマ処理容器内に配置される部品と、を備え、
前記部品は、
第1のセラミックスと、
前記第1のセラミックスと異なる第2のセラミックスから形成され、
前記第1のセラミックスと前記第2のセラミックスの各々の配合率が変化しながら形成される境界層を備える、プラズマ処理装置。 - 前記部品は、
前記第1のセラミックスで形成される第1のセラミックス層と、
前記第2のセラミックスで形成される第2のセラミックス層と、を備え、
前記境界層は前記第1のセラミックス層と前記第2のセラミックス層との間に設けられる、
請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - 前記境界層は、前記第1のセラミックスと前記第2のセラミックスの各々の配合率を連続的又は段階的に変えながら形成されている、
請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置。 - 前記第1のセラミックスはアルミナであり、
前記第2のセラミックスはシリコンカーバイトである、
請求項1~3のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。 - プラズマ処理容器と、
前記プラズマ処理容器内においてプラズマ処理するためのプラズマ生成手段と、
前記プラズマ処理容器内に配置される部品と、を備え
前記部品は、
金属と、
セラミックスから形成され、
前記金属と前記セラミックスの各々の配合率が変化しながら形成される境界層を備える、プラズマ処理装置。 - 前記部品は、
前記金属で形成される金属層と、
前記セラミックスで形成されるセラミックス層と、を備え、
前記境界層は前記金属層と前記セラミックス層との間に設けられる、
請求項5に記載のプラズマ処理装置。 - 前記セラミックス層は、
内部にヒータ層を有する、
請求項6に記載のプラズマ処理装置。 - 前記セラミックス層は、
内部に電極層を有する、
請求項6又は7に記載のプラズマ処理装置。 - 前記金属層は、
内部に流路が形成されている、
請求項6~8のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。 - 前記境界層は、前記金属と前記セラミックスの各々の配合率を連続的又は段階的に変えながら形成されている、
請求項5~9のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。 - 前記金属はアルミニウムであり、
前記セラミックスはアルミナ又はシリコンカーバイトである、
請求項5~10のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。 - 第1のセラミックスと、
前記第1のセラミックスと異なる第2のセラミックスから形成され、
前記第1のセラミックスと前記第2のセラミックスの各々の配合率が変化しながら形成される境界層を備える、
プラズマ処理装置用部品。 - 前記第1のセラミックスで形成される第1のセラミックス層と、
前記第2のセラミックスで形成される第2のセラミックス層と、を備え、
前記境界層は前記第1のセラミックス層と前記第2のセラミックス層との間に設けられる、
請求項12に記載のプラズマ処理装置用部品。 - 前記境界層は、前記第1のセラミックスと前記第2のセラミックスの各々の配合率を連続的又は段階的に変えながら形成されている、
請求項12又は13に記載のプラズマ処理装置用部品。 - 前記第1のセラミックスはアルミナであり、
前記第2のセラミックスはシリコンカーバイトである、
請求項12~14のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置用部品。 - 金属と、
セラミックスから形成され、
前記金属と前記セラミックスの各々の配合率が変化しながら形成される境界層を備える、
プラズマ処理装置用部品。 - 前記金属で形成される金属層と、
前記セラミックスで形成されるセラミックス層と、を備え、
前記境界層は前記金属層と前記セラミックス層との間に設けられる、
請求項16に記載のプラズマ処理装置用部品。 - 前記セラミックス層は、
内部にヒータ層を有する、
請求項17に記載のプラズマ処理装置用部品。 - 前記セラミックス層は、
内部に電極層を有する、
請求項17又は18に記載のプラズマ処理装置用部品。 - 前記金属層は、
内部に流路が形成されている、
請求項17~19のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置用部品。 - 前記境界層は、前記金属と前記セラミックスの各々の配合率を連続的又は段階的に変えながら形成されている、
請求項16~20のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置用部品。 - 前記金属はアルミニウムであり、
前記セラミックスはアルミナ又はシリコンカーバイトである、
請求項16~21のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置用部品。
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