JP2022096193A - Industrial robot - Google Patents

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Guak Wang
保 栗林
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Abstract

To provide an industrial robot capable of accurately carrying a target object to a target position while restraining increase in computational complexity and complication of a device.SOLUTION: A position of a hand 14 before carrying a wafer 2 to a target position is defined as a first position. A movement destination of the hand 14 for carrying the wafer 2 to the target position when there is no positional deviation of the wafer 2 relative to a reference position of the hand 14 is defined as a second position. A position between the first position and the second position is defined as a third position. A position through which the wafer 2 passes while it moves the hand 14 gripping the wafer 2 from the first position to the third position is defined as a fourth position. A transmissive sensor 111 is arranged at a fourth position and detects passing of the wafer 2. An industrial robot 5 moves the hand 14 gripping the wafer 2 from the first position to the third position, calculates the fifth position which results from correction to the second position in response to a positional deviation detected on the basis of a detection result of the transmission sensor 111, and moves the hand 14 from the third position to the fifth position.SELECTED DRAWING: Figure 10

Description

本発明は、産業用ロボットに関する。 The present invention relates to an industrial robot.

従来、半導体ウエハを搬送する水平多関節ロボットが知られている。また、搬送装置稼働前に、予め、搬送ロボットへの指令位置と、実際のウエハの中心位置の誤差と、から補正テーブルを作成しておき、補正テーブルの補正量を目標位置に加算した位置を指令位置として、搬送ロボットにウエハ中心位置合わせ動作をさせるウエハ搬送装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。また、減速機のピニオンギヤがシザースギヤ機構を備えることによりバックラッシュを除去するロボットシステムが知られている（例えば、特許文献２参照）。 Conventionally, a horizontal articulated robot that conveys a semiconductor wafer has been known. Further, before the transfer device is operated, a correction table is created in advance from the command position to the transfer robot and the error of the actual center position of the wafer, and the position where the correction amount of the correction table is added to the target position is calculated. As a command position, a wafer transfer device that causes a transfer robot to perform a wafer center alignment operation is known (see, for example, Patent Document 1). Further, there is known a robot system in which a reduction gear pinion gear is provided with a scissors gear mechanism to eliminate backlash (see, for example, Patent Document 2).

また、ウエハを把持したハンドを、ウエハの載置部に対応する所定位置に移動させた後、ハンドに対するウエハの位置ずれに基づいてさらにハンドを移動させてウエハを載置部に載置する、ＡＷＣ（Ａｃｑｕｉｒｅ Ｗａｆｅｒ Ｃｅｎｔｅｒ）と呼ばれる技術が知られている。 Further, after moving the hand holding the wafer to a predetermined position corresponding to the mounting portion of the wafer, the hand is further moved based on the positional deviation of the wafer with respect to the hand to mount the wafer on the mounting portion. A technique called AWC (Acquire Wafer Center) is known.

特開２００９－４９２５１号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-49251 特開２０１２－１７１０６９号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-171069

ウエハ等の搬送対象物を精度よく目標位置に搬送する技術には、高度なロボット位置決め精度が求められる。特許文献１においては、位置決め精度を向上させるために補正テーブルを用いた制御指令値の制御を行っているが、演算量が多くなる。特許文献２においては、位置決め精度を向上させるためにシザースギヤ機構を設ける構成としているが、装置が複雑化する。 A high degree of robot positioning accuracy is required for a technique for accurately transporting an object to be transported such as a wafer to a target position. In Patent Document 1, control command values are controlled using a correction table in order to improve positioning accuracy, but the amount of calculation is large. In Patent Document 2, a scissors gear mechanism is provided in order to improve the positioning accuracy, but the apparatus becomes complicated.

従来のＡＷＣでは、ハンドを所定位置に移動させた後、位置ずれに基づいてさらにハンドを移動させるため、ハンドを駆動するモータの逆回転が生じる場合があり、このモータと連動するギヤのバックラッシュの影響で、ウエハ等の搬送対象物を精度よく目標位置に搬送することができない。 In the conventional AWC, after moving the hand to a predetermined position, the hand is further moved based on the misalignment, so that the motor that drives the hand may rotate in the reverse direction, and the gear backlash linked with this motor may occur. Due to the influence of the above, it is not possible to accurately transport an object to be transported such as a wafer to a target position.

本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、演算量の増加や装置の複雑化を抑制しつつ、搬送対象物を精度よく目標位置に搬送することができる産業用ロボットを提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an industrial robot capable of accurately transporting an object to be transported to a target position while suppressing an increase in the amount of calculation and complication of the apparatus. The purpose is.

（１）
搬送対象物を目標位置へ搬送する産業用ロボットにおいて、
前記搬送対象物を把持し水平方向に移動するハンドと、
前記目標位置への前記搬送対象物の搬送前の前記ハンドの位置を第１位置とし、前記ハンドの基準位置に対する前記搬送対象物の位置ずれがない場合に前記搬送対象物を前記目標位置に搬送するための前記ハンドの移動先を第２位置とし、前記第１位置と前記第２位置との間の位置を第３位置とし、前記搬送対象物を把持した前記ハンドを前記第１位置から前記第３位置に移動させる途中で前記搬送対象物が通過する位置を第４位置とすると、前記第４位置に設けられ前記搬送対象物の通過を検知するセンサと、
前記搬送対象物を把持した前記ハンドを前記第１位置から前記第３位置に移動させ、前記センサによる検知結果に基づいて前記位置ずれを検出し、前記位置ずれの検出結果に応じて前記第２位置を補正した第５位置を算出し、前記ハンドを前記第３位置から前記第５位置に移動させる制御部と、
を備えることを特徴とする産業用ロボット。 (1)
In an industrial robot that transports an object to be transported to a target position
A hand that grips the object to be transported and moves in the horizontal direction,
The position of the hand before the transport of the transport target to the target position is set as the first position, and the transport target is transported to the target position when the position of the transport target does not deviate from the reference position of the hand. The moving destination of the hand is set to the second position, the position between the first position and the second position is set to the third position, and the hand holding the object to be transported is moved from the first position to the said position. Assuming that the position through which the object to be transported passes while being moved to the third position is set to the fourth position, a sensor provided at the fourth position and detecting the passage of the object to be transported,
The hand holding the object to be transported is moved from the first position to the third position, the misalignment is detected based on the detection result by the sensor, and the second position is detected according to the detection result of the misalignment. A control unit that calculates the fifth position corrected for the position and moves the hand from the third position to the fifth position.
An industrial robot characterized by being equipped with.

（１）のように構成すると、搬送対象物を把持したハンドを、第１位置から、載置部に対応する第２位置よりも第１位置の側にある第３位置に移動させ、次に補正後の第５位置へ移動させることができる。これにより、まずハンドを第１位置から第２位置に移動させる構成と比べて、ハンドを第５位置へ移動させる際に、ハンドを駆動するモータの逆回転の発生を抑制することができる。このため、このモータと連動するギヤのバックラッシュの影響による位置決め精度の低下を抑制することができる。 With the configuration as in (1), the hand holding the object to be transported is moved from the first position to the third position on the side of the first position from the second position corresponding to the mounting portion, and then. It can be moved to the corrected fifth position. This makes it possible to suppress the occurrence of reverse rotation of the motor that drives the hand when the hand is moved to the fifth position, as compared with the configuration in which the hand is first moved from the first position to the second position. Therefore, it is possible to suppress a decrease in positioning accuracy due to the influence of backlash of the gear interlocking with this motor.

（２）
（１）記載の産業用ロボットであって、
前記目標位置の直下の載置部に前記搬送対象物を載置するものであり、
前記制御部は、前記第５位置から前記ハンドを下降させることにより、前記載置部へ前記搬送対象物を載置する、 産業用ロボット。 (2)
(1) The industrial robot described above.
The object to be transported is placed on the mounting portion directly below the target position.
The control unit is an industrial robot that places the object to be transported on the above-mentioned storage unit by lowering the hand from the fifth position.

（２）のように構成すると、ハンドの基準位置に対する搬送対象物の位置ずれに応じて、載置部に対して搬送対象物を高い位置決め精度で載置することができる。 With the configuration as described in (2), the transport target can be mounted with high positioning accuracy on the mounting portion according to the positional deviation of the transport target with respect to the reference position of the hand.

（３）
（１）又は（２）記載の産業用ロボットであって、
前記第３位置は、生じ得る前記位置ずれの範囲で、前記ハンドを前記第１位置から前記第３位置に移動させるときと、前記ハンドを前記第３位置から前記第５位置に移動させるときと、において、前記ハンドを移動させるためのモータの回転方向が同一となる位置である、
産業用ロボット。 (3)
The industrial robot according to (1) or (2).
The third position is when the hand is moved from the first position to the third position and when the hand is moved from the third position to the fifth position within the range of the possible misalignment. At the position where the rotation directions of the motors for moving the hand are the same.
Industrial robot.

（３）のように構成すると、ハンドの基準位置に対する搬送対象物の位置ずれの方向や量にかかわらず、ハンドを第５位置へ移動させる際のモータの逆回転の発生を抑制することができる。 With the configuration as shown in (3), it is possible to suppress the occurrence of reverse rotation of the motor when moving the hand to the fifth position regardless of the direction and amount of the positional deviation of the object to be conveyed with respect to the reference position of the hand. ..

（４）
（１）から（３）のいずれか１つに記載の産業用ロボットであって、
前記第３位置は、予め定められた位置である、
産業用ロボット。 (4)
The industrial robot according to any one of (1) to (3).
The third position is a predetermined position.
Industrial robot.

（４）のように構成すると、より簡単な制御でハンドを移動させることができる。 With the configuration as in (4), the hand can be moved with simpler control.

（５）
（１）から（３）のいずれか１つに記載の産業用ロボットであって、
前記第３位置は、前記検知結果が得られたときの前記ハンドの位置である、
産業用ロボット。 (5)
The industrial robot according to any one of (1) to (3).
The third position is the position of the hand when the detection result is obtained.
Industrial robot.

（５）のように構成すると、予め第３位置を設定しておかなくても、搬送対象物が第４位置を通過しセンサによる検知結果が得られた時点のハンドの位置を第３位置とすることができる。 With the configuration as in (5), even if the third position is not set in advance, the position of the hand at the time when the object to be conveyed passes through the fourth position and the detection result by the sensor is obtained is set as the third position. can do.

本発明によれば、演算量の増加や装置の複雑化を抑制しつつ、搬送対象物を精度よく目標位置に搬送することができる産業用ロボットを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an industrial robot capable of accurately transporting an object to be transported to a target position while suppressing an increase in the amount of calculation and complication of the apparatus.

本発明の実施の形態にかかる搬送システム１の概略構成を上側から説明するための図である。It is a figure for demonstrating the schematic structure of the transfer system 1 which concerns on embodiment of this invention from the upper side. 図１に示す搬送システム１の概略構成を正面側から説明するための図である。It is a figure for demonstrating the schematic structure of the transfer system 1 shown in FIG. 1 from the front side. 図１に示す産業用ロボット５の側面図である。It is a side view of the industrial robot 5 shown in FIG. 1. 図３に示す産業用ロボット５の、アーム支持部１７が上昇している状態の側面図である。It is a side view of the industrial robot 5 shown in FIG. 3 in a state where the arm support portion 17 is raised. 図３に示す産業用ロボット５の平面図である。It is a top view of the industrial robot 5 shown in FIG. ウエハの位置ずれ補正を行うための構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the structure for performing the position shift correction of a wafer. ウエハ２をウエハ載置部６に載置する際の動作の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the operation when the wafer 2 is placed on the wafer mounting part 6. 従来の位置補正の一例を参考として示す図である。It is a figure which shows an example of the conventional position correction as a reference. 図８に示した従来の位置補正における位置ＰＯＳ＿ＴＡの複数の例を参考として示す図である。It is a figure which shows a plurality of examples of the position POS_TA in the conventional position correction shown in FIG. 8 for reference. 本形態の位置ずれ補正の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the position shift correction of this embodiment. 図９に示した待機位置ＰＯＳ＿Ｅと位置ＰＯＳ＿ＴＡの複数の例との位置関係の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the positional relationship between the standby position POS_E and the plurality of examples of the position POS_TA shown in FIG.

以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態を説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

（搬送システムの全体構成）
図１は、本発明の実施の形態にかかる搬送システム１の概略構成を上側から説明するための図である。図２は、図１に示す搬送システム１の概略構成を正面側から説明するための図である。 (Overall configuration of transport system)
FIG. 1 is a diagram for explaining a schematic configuration of a transport system 1 according to an embodiment of the present invention from above. FIG. 2 is a diagram for explaining the schematic configuration of the transport system 1 shown in FIG. 1 from the front side.

本形態の搬送システム１は、半導体を製造するための半導体製造システムにおいて、半導体ウエハを搬送するシステムである。この搬送システム１は、半導体ウエハ２（以下、「ウエハ２」とする）を収容する収容部１０と、ウエハ２に対して所定の処理を実行する処理装置へウエハ２を搬入するための収容部３と、を備えている。この例では、搬送システム１は、３個の収容部１０と、２個の収容部３と、を備えている。 The transport system 1 of the present embodiment is a system for transporting a semiconductor wafer in a semiconductor manufacturing system for manufacturing a semiconductor. The transfer system 1 includes an accommodating unit 10 for accommodating a semiconductor wafer 2 (hereinafter referred to as “wafer 2”) and an accommodating unit for carrying the wafer 2 into a processing device that executes a predetermined process on the wafer 2. It is equipped with 3. In this example, the transport system 1 includes three accommodating portions 10 and two accommodating portions 3.

また、搬送システム１は、収容部１０に収容されたウエハ２を収容部３のウエハ載置部６に搬送して載置する水平多関節産業用ロボット５（以下、「産業用ロボット５」とする）を備えている。本形態のウエハ２は、産業用ロボット５によって搬送される搬送対象物である。ウエハ載置部６に載置されたウエハ２は、上記の処理装置へ搬入され、各種の処理が施される。産業用ロボット５は、さらに、処理が施されたウエハ２を、収容部３から収容部１０へ戻す動作を行ってもよい。 Further, the transport system 1 is referred to as a horizontal articulated industrial robot 5 (hereinafter referred to as “industrial robot 5”) that transports and mounts the wafer 2 accommodated in the accommodating portion 10 on the wafer mounting portion 6 of the accommodating portion 3. ) Is equipped. The wafer 2 of this embodiment is a transfer object to be conveyed by the industrial robot 5. The wafer 2 mounted on the wafer mounting unit 6 is carried into the above-mentioned processing apparatus and subjected to various treatments. The industrial robot 5 may further perform an operation of returning the processed wafer 2 from the accommodating portion 3 to the accommodating portion 10.

以下の説明では、上下方向（重力方向）に直交する図１等のＸ方向を「左右方向」とし、上下方向及び左右方向に直交する図１等のＹ方向を「前後方向」とする。また、左右方向のうちのＸ１方向側を「右」側とし、その反対側であるＸ２方向側を「左」側とし、前後方向のうちのＹ１方向側を「前」側とし、その反対側であるＹ２方向側を「後（後ろ）」側とする。産業用ロボット５は、前側に配置される２個の収容部３と、後ろ側に配置される３個の収容部１０との間に設置されている。 In the following description, the X direction of FIG. 1 and the like orthogonal to the vertical direction (gravity direction) is referred to as the "left-right direction", and the Y direction of FIG. 1 and the like orthogonal to the vertical direction and the left-right direction is referred to as the "front-back direction". Further, the X1 direction side in the left-right direction is the "right" side, the opposite side, the X2 direction side, is the "left" side, and the Y1 direction side in the front-rear direction is the "front" side, and the opposite side. The Y2 direction side is the "rear (rear)" side. The industrial robot 5 is installed between the two accommodating portions 3 arranged on the front side and the three accommodating portions 10 arranged on the rear side.

（水平多関節ロボットの構成）
図３は、図１に示す産業用ロボット５の側面図である。図４は、図３に示す産業用ロボット５の、アーム支持部１７が上昇している状態の側面図である。図５は、図３に示す産業用ロボット５の平面図である。 (Structure of horizontal articulated robot)
FIG. 3 is a side view of the industrial robot 5 shown in FIG. FIG. 4 is a side view of the industrial robot 5 shown in FIG. 3 in a state where the arm support portion 17 is raised. FIG. 5 is a plan view of the industrial robot 5 shown in FIG.

産業用ロボット５は、３リンクアーム型のロボットである。この産業用ロボット５は、ウエハ２を把持する２個のハンド１４，１５と、ハンド１４，１５が先端側に回動可能に連結されるとともに水平方向に動作するアーム１６と、アーム１６の基端側が回動可能に連結されるアーム支持部１７と、アーム支持部１７を昇降可能に保持する保持部１８とを備えている。また、図示を省略するが、産業用ロボット５は、アーム１６に対してハンド１４，１５を回動させるハンド駆動機構と、アーム１６を駆動するアーム駆動機構と、保持部１８に対してアーム支持部１７を昇降させるアーム昇降機構と、を備えている。 The industrial robot 5 is a 3-link arm type robot. The industrial robot 5 includes two hands 14 and 15 for gripping the wafer 2, an arm 16 to which the hands 14 and 15 are rotatably connected to the tip side and operates in the horizontal direction, and a base of the arm 16. It includes an arm support portion 17 to which the end side is rotatably connected, and a holding portion 18 for holding the arm support portion 17 so as to be able to move up and down. Although not shown, the industrial robot 5 has a hand drive mechanism for rotating the hands 14 and 15 with respect to the arm 16, an arm drive mechanism for driving the arm 16, and an arm support for the holding portion 18. It is provided with an arm elevating mechanism for elevating and lowering the portion 17.

アーム１６は、アーム支持部１７に基端側が回動可能に連結される第１アーム部２４と、第１アーム部２４の先端側（図３，図４の左側）に基端側が回動可能に連結される第２アーム部２５と、第２アーム部２５の先端側（図３，図４の右側）に基端側が回動可能に連結される第３アーム部２６とから構成されている。すなわち、アーム１６は、互いに相対回動可能に連結される３個のアーム部を備えている。第１アーム部２４、第２アーム部２５及び第３アーム部２６は、中空状に形成されている。アーム支持部１７と第１アーム部２４と第２アーム部２５と第３アーム部２６とは、上下方向において、下側からこの順番で配置されている。 The arm 16 has a first arm portion 24 whose base end side is rotatably connected to the arm support portion 17, and a base end side rotatable to the tip end side (left side of FIGS. 3 and 4) of the first arm portion 24. It is composed of a second arm portion 25 connected to the second arm portion 25 and a third arm portion 26 whose base end side is rotatably connected to the tip end side (right side of FIGS. 3 and 4) of the second arm portion 25. .. That is, the arm 16 includes three arm portions that are connected to each other so as to be relatively rotatable. The first arm portion 24, the second arm portion 25, and the third arm portion 26 are formed in a hollow shape. The arm support portion 17, the first arm portion 24, the second arm portion 25, and the third arm portion 26 are arranged in this order from the lower side in the vertical direction.

図５に示すように、ハンド１４，１５は、上下方向から見たときの形状が略Ｙ形状となるように形成されている。ハンド１４，１５は、ハンド１４の基端側部分とハンド１５の基端側部分とが上下方向で重なるように配置されている。また、ハンド１４が上側に配置され、ハンド１５が下側に配置されている。ハンド１４，１５の基端側部分は、第３アーム部２６の先端側（図３～図５の左側）に回動可能に連結されている。ハンド１４，１５の先端側（図３～図５の右側）部分の上面は、ウエハ２が載置される載置面となっており、ハンド１４，１５の先端側部分の上面には、１枚のウエハ２が載置される。ハンド１４，１５は、第３アーム部２６よりも上側に配置されている。 As shown in FIG. 5, the hands 14 and 15 are formed so that the shape when viewed from the vertical direction is a substantially Y shape. The hands 14 and 15 are arranged so that the proximal end side portion of the hand 14 and the proximal end side portion of the hand 15 overlap each other in the vertical direction. Further, the hand 14 is arranged on the upper side and the hand 15 is arranged on the lower side. The base end side portions of the hands 14 and 15 are rotatably connected to the tip end side (left side of FIGS. 3 to 5) of the third arm portion 26. The upper surface of the tip end side (right side of FIGS. 3 to 5) of the hands 14 and 15 is a mounting surface on which the wafer 2 is placed, and the upper surface of the tip end side portions of the hands 14 and 15 is 1. A sheet of wafer 2 is placed. The hands 14 and 15 are arranged above the third arm portion 26.

なお、図１では、アーム１６、ハンド１４、及びウエハ２の複数通りの位置及び形状を図示している。また、図１では、ハンド１５の図示を省略している。図２においては、ハンド１４、ハンド１５、アーム１６、及びアーム支持部１７を、アーム支持部１７が上昇している状態について実線で示し、アーム支持部１７が下降している状態について二点鎖線で示している。産業用ロボット５の動作時には、ハンド１４とハンド１５とが上下方向で重なる場合もあるが、ほとんどの場合、ハンド１４とハンド１５とは、上下方向で重なっていない。 Note that FIG. 1 illustrates a plurality of positions and shapes of the arm 16, the hand 14, and the wafer 2. Further, in FIG. 1, the illustration of the hand 15 is omitted. In FIG. 2, the hand 14, the hand 15, the arm 16, and the arm support portion 17 are shown by a solid line for a state in which the arm support portion 17 is raised, and a two-dot chain line for a state in which the arm support portion 17 is lowered. It is shown by. When the industrial robot 5 operates, the hand 14 and the hand 15 may overlap in the vertical direction, but in most cases, the hand 14 and the hand 15 do not overlap in the vertical direction.

保持部１８は、略直方体の箱状に形成されている。保持部１８の上端面及び下端面は、上下方向に直交する平面となっている。また、保持部１８の前後の両側面は、前後方向
に直交する平面となっており、保持部１８の左右の両側面は、左右方向に直交する平面となっている。 The holding portion 18 is formed in the shape of a substantially rectangular parallelepiped box. The upper end surface and the lower end surface of the holding portion 18 are planes orthogonal to each other in the vertical direction. Further, the front and rear side surfaces of the holding portion 18 are planes orthogonal to the front and rear direction, and the left and right side surfaces of the holding portion 18 are planes orthogonal to the left and right direction.

産業用ロボット５のアーム駆動機構は、アーム１６が伸縮するように第１アーム部２４及び第２アーム部２５を一緒に回動させる第１駆動機構と、第２アーム部２５に対して第３アーム部２６を回動させる第２駆動機構とを備えている。第１駆動機構及び第２駆動機構のそれぞれは、動力源であるモータや、そのモータの動力を減速して伝える減速機により構成される。減速機は各部の関節部を構成する。第１駆動機構及び第２駆動機構の各モータは、アーム支持部１７やアーム１６の内部に配置される。 The arm drive mechanism of the industrial robot 5 includes a first drive mechanism that rotates the first arm portion 24 and the second arm portion 25 together so that the arm 16 expands and contracts, and a third arm drive mechanism with respect to the second arm portion 25. It is provided with a second drive mechanism for rotating the arm portion 26. Each of the first drive mechanism and the second drive mechanism is composed of a motor as a power source and a speed reducer that reduces and transmits the power of the motor. The reducer constitutes the joints of each part. The motors of the first drive mechanism and the second drive mechanism are arranged inside the arm support portion 17 and the arm 16.

産業用ロボット５のハンド駆動機構は、動力源であるモータや、そのモータの動力を減速して伝える減速機により構成される。ハンド駆動機構のモータは、第３アーム部２６の内部に配置される。 The hand drive mechanism of the industrial robot 5 is composed of a motor as a power source and a speed reducer that decelerates and transmits the power of the motor. The motor of the hand drive mechanism is arranged inside the third arm portion 26.

産業用ロボット５のアーム昇降機構は、例えば保持部１８に設けられ、図３に示すアーム支持部１７の下限位置と図４に示すアーム支持部１７の上限位置との間でアーム支持部１７を昇降させる。 The arm elevating mechanism of the industrial robot 5 is provided, for example, in the holding portion 18, and the arm support portion 17 is provided between the lower limit position of the arm support portion 17 shown in FIG. 3 and the upper limit position of the arm support portion 17 shown in FIG. Raise and lower.

（搬送システムの概略動作）
上記の通り、産業用ロボット５は、収容部１０と収容部３との間でウエハ２を搬送する。例えば産業用ロボット５のハンド１４によりウエハ２を収容部３のウエハ載置部６に搬送するときには、まず、ハンド１４により把持されたウエハ２の高さがウエハ載置部６よりわずかに高くなるようにアーム昇降機構が駆動される。次に、水平方向においてウエハ２の位置がウエハ載置部６の位置と一致するようにハンド駆動機構及びアーム駆動機構が駆動される。そして、ウエハ２が下降するようにアーム昇降機構が駆動されることにより、ウエハ２がウエハ載置部６に載置される。 (Approximate operation of the transport system)
As described above, the industrial robot 5 conveys the wafer 2 between the accommodating portion 10 and the accommodating portion 3. For example, when the wafer 2 is conveyed to the wafer mounting portion 6 of the accommodating portion 3 by the hand 14 of the industrial robot 5, the height of the wafer 2 gripped by the hand 14 is slightly higher than that of the wafer mounting portion 6. The arm elevating mechanism is driven as such. Next, the hand drive mechanism and the arm drive mechanism are driven so that the position of the wafer 2 coincides with the position of the wafer mounting portion 6 in the horizontal direction. Then, the wafer 2 is mounted on the wafer mounting portion 6 by driving the arm elevating mechanism so that the wafer 2 is lowered.

（ウエハの位置ずれ補正）
図６は、ウエハの位置ずれ補正を行うための構成の一例を示す図である。ここでは、産業用ロボット５のハンド１４がウエハ２を把持しており、産業用ロボット５がウエハ２を略Ｙ１方向に移動させて、収容部３のウエハ載置部６にウエハ２を載置する場合について説明する。図６の例では、ハンド１４の規定位置に対してウエハ２の位置がＸ１方向にずれている。 (Wafer misalignment correction)
FIG. 6 is a diagram showing an example of a configuration for correcting the misalignment of the wafer. Here, the hand 14 of the industrial robot 5 grips the wafer 2, and the industrial robot 5 moves the wafer 2 in the substantially Y1 direction to mount the wafer 2 on the wafer mounting portion 6 of the accommodating portion 3. The case of doing so will be described. In the example of FIG. 6, the position of the wafer 2 is deviated in the X1 direction with respect to the specified position of the hand 14.

透過型センサ１１１は、産業用ロボット５がウエハ２をウエハ載置部６に移動させる前におけるウエハ２の位置と、ウエハ載置部６と、の間に設けられており、ウエハ２の通過を検知する。図６の例では、２つの透過型センサ１１１がＸ方向に並べられている。 The transmissive sensor 111 is provided between the position of the wafer 2 before the industrial robot 5 moves the wafer 2 to the wafer mounting portion 6 and the wafer mounting portion 6, and allows the wafer 2 to pass through. Detect. In the example of FIG. 6, two transmissive sensors 111 are arranged in the X direction.

透過型センサ１１１のそれぞれは、例えば上下方向（ウエハ２の表裏方向）に互いに対向配置された発光部及び受光部を有する。発光部は受光部に向けて光を出射し、受光部は受光結果を電気信号に変換して出力する。発光部と受光部との間をウエハ２が通過すると光が遮られるため、受光部が出力する電気信号に基づいて、透過型センサ１１１におけるウエハ２の通過を検知することができる。 Each of the transmissive sensors 111 has, for example, a light emitting unit and a light receiving unit arranged so as to face each other in the vertical direction (front and back directions of the wafer 2). The light emitting unit emits light toward the light receiving unit, and the light receiving unit converts the light receiving result into an electric signal and outputs it. Since the light is blocked when the wafer 2 passes between the light emitting unit and the light receiving unit, it is possible to detect the passage of the wafer 2 in the transmissive sensor 111 based on the electric signal output by the light receiving unit.

ハンド１４の規定位置に対してウエハ２の位置がずれていない場合、ハンド１４の位置の変化に対して、透過型センサ１１１におけるウエハ２の通過が検知されるタイミングは一定である。ハンド１４の規定位置に対してウエハ２の位置がずれている場合、ハンド１４の位置の変化に対して、透過型センサ１１１におけるウエハ２の通過が検知されるタイミングは、ウエハ２の位置ずれに応じたものとなる。 When the position of the wafer 2 is not deviated from the specified position of the hand 14, the timing at which the passage of the wafer 2 by the transmissive sensor 111 is detected is constant with respect to the change in the position of the hand 14. When the position of the wafer 2 is deviated from the specified position of the hand 14, the timing at which the passage of the wafer 2 is detected by the transmissive sensor 111 with respect to the change in the position of the hand 14 is the position deviation of the wafer 2. It will be according to.

したがって、ウエハ２が２つの透過型センサ１１１を通過するようにハンド１４を移動させると、２つの透過型センサ１１１においてウエハ２の通過が検知された各タイミングに基づいて、ハンド１４の規定位置に対するウエハ２の位置のずれの量及び方向を検出することができる。 Therefore, when the hand 14 is moved so that the wafer 2 passes through the two transmissive sensors 111, the hand 14 is relative to the specified position based on each timing at which the passage of the wafer 2 is detected by the two transmissive sensors 111. The amount and direction of the displacement of the position of the wafer 2 can be detected.

図７は、ウエハ２をウエハ載置部６に載置する際の動作の一例を示す図である。図７の例では、ハンド１４の規定位置に対してウエハ２の位置がずれていないものとする。産業用ロボット５には、産業用ロボット５の各部の制御を行うＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）等の制御回路が設けられており、この制御回路によってハンド１４の駆動が行われる。この制御回路は、本発明の制御部の一例である。 FIG. 7 is a diagram showing an example of an operation when the wafer 2 is placed on the wafer mounting portion 6. In the example of FIG. 7, it is assumed that the position of the wafer 2 is not deviated from the specified position of the hand 14. The industrial robot 5 is provided with a control circuit such as a CPU (Central Processing Unit) that controls each part of the industrial robot 5, and the hand 14 is driven by this control circuit. This control circuit is an example of the control unit of the present invention.

位置ＰＯＳ＿Ｍは、ハンド１４の規定位置に対してウエハ２の位置がずれていない場合にウエハ２をウエハ載置部６に搬送するためのハンド１４の移動先である。位置ＰＯＳ＿Ｍは産業用ロボット５に対して予め教示されている。 The position POS_M is a moving destination of the hand 14 for transporting the wafer 2 to the wafer mounting portion 6 when the position of the wafer 2 is not deviated from the specified position of the hand 14. The position POS_M is taught in advance for the industrial robot 5.

待機位置ＰＯＳ＿Ｓは、産業用ロボット５がウエハ２をウエハ載置部６に搬入する前におけるウエハ２の中心位置（例えば図６に示したウエハ２の中心位置）である。待機位置ＰＯＳ＿Ｓは、位置ＰＯＳ＿Ｍより高く、水平方向において位置ＰＯＳ＿Ｍと異なる位置である。 The standby position POS_S is the center position of the wafer 2 (for example, the center position of the wafer 2 shown in FIG. 6) before the industrial robot 5 carries the wafer 2 into the wafer mounting portion 6. The standby position POS_S is higher than the position POS_M and is a position different from the position POS_M in the horizontal direction.

待機位置ＰＯＳ＿Ｅは、産業用ロボット５がウエハ２をウエハ載置部６に搬入した後におけるハンド１４の待機位置である。待機位置ＰＯＳ＿Ｅは、位置ＰＯＳ＿Ｍより低く、水平方向において待機位置ＰＯＳ＿Ｓと同じ位置である。なお、待機位置ＰＯＳ＿Ｅは、水平方向において待機位置ＰＯＳ＿Ｓと異なる位置であってもよい。 The standby position POS_E is the standby position of the hand 14 after the industrial robot 5 carries the wafer 2 into the wafer mounting portion 6. The standby position POS_E is lower than the position POS_M and is the same position as the standby position POS_S in the horizontal direction. The standby position POS_E may be different from the standby position POS_S in the horizontal direction.

位置ＰＯＳ＿Ｔは、水平方向において位置ＰＯＳ＿Ｍと同じ位置であり、上下方向において待機位置ＰＯＳ＿Ｓと同じ位置である。位置ＰＯＳ＿Ｂは、水平方向において位置ＰＯＳ＿Ｍと同じ位置であり、上下方向において待機位置ＰＯＳ＿Ｅと同じ位置である。透過型センサ１１１は、待機位置ＰＯＳ＿Ｓと位置ＰＯＳ＿Ｔとの間に設けられている。 The position POS_T is the same position as the position POS_M in the horizontal direction and the same position as the standby position POS_S in the vertical direction. The position POS_B is the same position as the position POS_M in the horizontal direction and the same position as the standby position POS_E in the vertical direction. The transmissive sensor 111 is provided between the standby position POS_S and the position POS_T.

まず、産業用ロボット５の制御回路は、ウエハ２を把持したハンド１４を待機位置ＰＯＳ＿Ｓから位置ＰＯＳ＿Ｔに移動させる。その際、ウエハ２は透過型センサ１１１（透過型センサ１１１のセンシング領域）を通過する。産業用ロボット５の制御回路は、透過型センサ１１１による検知結果に基づいて、ウエハ２の実際の円心を算出し、算出結果と予め記憶された基準円心とを比較することにより、ハンド１４の規定位置に対するウエハ２の位置ずれを検出する。図６の例では位置ずれが検出されなかったとする。 First, the control circuit of the industrial robot 5 moves the hand 14 holding the wafer 2 from the standby position POS_S to the position POS_T. At that time, the wafer 2 passes through the transmissive sensor 111 (sensing region of the transmissive sensor 111). The control circuit of the industrial robot 5 calculates the actual center of the wafer 2 based on the detection result of the transmissive sensor 111, and compares the calculation result with the pre-stored reference center of the hand 14. The displacement of the wafer 2 with respect to the specified position of the above is detected. In the example of FIG. 6, it is assumed that the misalignment is not detected.

ハンド１４が位置ＰＯＳ＿Ｔに移動したときのウエハ２の位置は、ウエハ載置部６の直上であり、ウエハ２の目標位置の一例である。なお、ウエハ２の最終的な目的位置はウエハ載置部６である。 The position of the wafer 2 when the hand 14 moves to the position POS_T is directly above the wafer mounting portion 6, and is an example of the target position of the wafer 2. The final target position of the wafer 2 is the wafer mounting portion 6.

次に、産業用ロボット５の制御回路は、位置ずれが検出されなかったため、ハンド１４を位置ＰＯＳ＿Ｔから下降させて位置ＰＯＳ＿Ｍに移動させる。これにより、ウエハ２がウエハ載置部６に載置される。 Next, since the control circuit of the industrial robot 5 did not detect the misalignment, the hand 14 is lowered from the position POS_T and moved to the position POS_M. As a result, the wafer 2 is placed on the wafer mounting portion 6.

次に、産業用ロボット５の制御回路は、ハンド１４を位置ＰＯＳ＿Ｍからさらに下降させて位置ＰＯＳ＿Ｂに移動させる。このとき、ウエハ２は、ハンド１４から離れ、位置ＰＯＳ＿Ｍのウエハ載置部６に載置されたままとなる。次に、産業用ロボット５の制御回路は、ハンド１４を位置ＰＯＳ＿Ｂから待機位置ＰＯＳ＿Ｅに移動させる。 Next, the control circuit of the industrial robot 5 further lowers the hand 14 from the position POS_M and moves it to the position POS_B. At this time, the wafer 2 is separated from the hand 14 and remains mounted on the wafer mounting portion 6 at the position POS_M. Next, the control circuit of the industrial robot 5 moves the hand 14 from the position POS_B to the standby position POS_E.

図８は、従来の位置補正の一例を参考として示す図である。図８においては、ＡＷＣと呼ばれる従来のウエハ位置補正技術について、参考として説明する。 FIG. 8 is a diagram showing an example of conventional position correction as a reference. In FIG. 8, a conventional wafer position correction technique called AWC will be described as a reference.

ハンド１４が待機位置ＰＯＳ＿Ｓから位置ＰＯＳ＿Ｔに移動した際に、透過型センサ１１１による検知結果に基づいて、ハンド１４の規定位置に対するウエハ２の水平方向の位置ずれが検出されたとする。 It is assumed that when the hand 14 moves from the standby position POS_S to the position POS_T, the horizontal displacement of the wafer 2 with respect to the specified position of the hand 14 is detected based on the detection result by the transmissive sensor 111.

図８に示す位置ＰＯＳ＿ＴＡ、位置ＰＯＳ＿ＭＡ、及び位置ＰＯＳ＿ＢＡは、それぞれ位置ＰＯＳ＿Ｔ、位置ＰＯＳ＿Ｍ、及び位置ＰＯＳ＿Ｂを、検出された位置ずれに応じて補正した位置である。例えば、産業用ロボット５の制御回路は、ハンド１４の規定位置に対してウエハ２がＹ２方向にΔだけずれている場合、位置ＰＯＳ＿Ｔ、位置ＰＯＳ＿Ｍ、及び位置ＰＯＳ＿ＢをそれぞれＹ１方向にΔだけずらした位置ＰＯＳ＿ＴＡ、位置ＰＯＳ＿ＭＡ、及び位置ＰＯＳ＿ＢＡを算出する。 The position POS_TA, the position POS_MA, and the position POS_BA shown in FIG. 8 are the positions where the position POS_T, the position POS_M, and the position POS_B are corrected according to the detected position deviation, respectively. For example, the control circuit of the industrial robot 5 shifts the position POS_T, the position POS_M, and the position POS_B by Δ in the Y1 direction when the wafer 2 is displaced by Δ in the Y2 direction with respect to the specified position of the hand 14. The position POS_TA, the position POS_MA, and the position POS_BA are calculated.

この場合に、産業用ロボット５の制御回路は、ハンド１４を、位置ＰＯＳ＿Ｔから位置ＰＯＳ＿ＴＡに移動させる。次に、産業用ロボット５の制御回路は、ハンド１４を位置ＰＯＳ＿ＴＡから下降させて位置ＰＯＳ＿ＭＡに移動させる。これにより、ウエハ２がウエハ載置部６に載置される。 In this case, the control circuit of the industrial robot 5 moves the hand 14 from the position POS_T to the position POS_TA. Next, the control circuit of the industrial robot 5 lowers the hand 14 from the position POS_TA and moves it to the position POS_MA. As a result, the wafer 2 is placed on the wafer mounting portion 6.

次に、産業用ロボット５の制御回路は、ハンド１４を位置ＰＯＳ＿ＭＡからさらに下降させて位置ＰＯＳ＿ＢＡに移動させる。このとき、ウエハ２は、ハンド１４から離れ、ウエハ載置部６に載置されたままとなる。次に、産業用ロボット５の制御回路は、ハンド１４を位置ＰＯＳ＿ＢＡから待機位置ＰＯＳ＿Ｅに移動させる。 Next, the control circuit of the industrial robot 5 further lowers the hand 14 from the position POS_MA and moves it to the position POS_BA. At this time, the wafer 2 is separated from the hand 14 and remains mounted on the wafer mounting portion 6. Next, the control circuit of the industrial robot 5 moves the hand 14 from the position POS_BA to the standby position POS_E.

図９は、図８に示した従来の位置補正における位置ＰＯＳ＿ＴＡの複数の例を参考として示す図である。ウエハ２は、ハンド１４の基準位置に対して水平方向のいずれの方向にもずれる場合がある。このため、位置ずれに基づいて位置ＰＯＳ＿Ｔを補正した位置ＰＯＳ＿ＴＡは、図９の位置ＰＯＳ＿ＴＡ１～ＰＯＳ＿ＴＡ４に示すように、位置ＰＯＳ＿Ｔに対して様々な方向になり得る。 FIG. 9 is a diagram showing a plurality of examples of position POS_TA in the conventional position correction shown in FIG. 8 for reference. The wafer 2 may be displaced in any horizontal direction with respect to the reference position of the hand 14. Therefore, the position POS_TA corrected for the position POS_T based on the position shift can be in various directions with respect to the position POS_T as shown in the positions POS_TA1 to POS_TA4 in FIG.

例えば位置ＰＯＳ＿ＴＡ２は、位置ＰＯＳ＿Ｔに対して待機位置ＰＯＳ＿Ｓの側の方向になる。位置ＰＯＳ＿Ｔを補正した位置が位置ＰＯＳ＿ＴＡ２である場合、待機位置ＰＯＳ＿Ｓから位置ＰＯＳ＿Ｔに移動したハンド１４は、位置ＰＯＳ＿ＴＡ２に、すなわち引き返す方向に移動することになる。このとき、ハンド１４を移動させるためのモータ（例えば上記のアーム駆動機構やハンド駆動機構に含まれるモータ）の逆回転が発生するため、バックラッシュ（ギヤ間の隙間）による、補正精度の劣化が発生する。 For example, the position POS_TA2 is in the direction toward the standby position POS_S with respect to the position POS_T. When the position where the position POS_T is corrected is the position POS_TA2, the hand 14 which has moved from the standby position POS_S to the position POS_T moves to the position POS_TA2, that is, in the direction of turning back. At this time, reverse rotation of the motor for moving the hand 14 (for example, the motor included in the arm drive mechanism and the hand drive mechanism described above) occurs, so that the correction accuracy deteriorates due to backlash (gap between gears). Occur.

図１０は、本形態の位置ずれ補正の一例を示す図である。位置ＰＯＳ＿Ｐは、透過型センサ１１１からみて待機位置ＰＯＳ＿Ｓとは反対側の位置である。換言すると、待機位置ＰＯＳ＿Ｓと位置ＰＯＳ＿Ｐとの間に透過型センサ１１１があり、ハンド１４が待機位置ＰＯＳ＿Ｓから位置ＰＯＳ＿Ｐへ移動する際に、ウエハ２は透過型センサ１１１を通過する。 FIG. 10 is a diagram showing an example of position shift correction of the present embodiment. The position POS_P is a position opposite to the standby position POS_S when viewed from the transmissive sensor 111. In other words, there is a transmissive sensor 111 between the standby position POS_S and the position POS_P, and when the hand 14 moves from the standby position POS_S to the position POS_P, the wafer 2 passes through the transmissive sensor 111.

また、位置ＰＯＳ＿Ｐは、位置ＰＯＳ＿Ｔよりも待機位置ＰＯＳ＿Ｓに近い位置である。換言すると、位置ＰＯＳ＿Ｔに対して位置ＰＯＳ＿ＴＡがずれ得る範囲において、ハンド１４が待機位置ＰＯＳ＿Ｓから位置ＰＯＳ＿Ｐに移動する際と、ハンド１４が位置ＰＯＳ＿Ｐから位置ＰＯＳ＿ＴＡに移動する際とにおいて、ハンド１４を移動させるためのモータの回転方向が同一となるように（逆回転が発生しないように）、位置ＰＯＳ＿Ｐが決定される。 Further, the position POS_P is a position closer to the standby position POS_S than the position POS_T. In other words, in the range where the position POS_TA can be displaced with respect to the position POS_T, the hand 14 is moved when the hand 14 moves from the standby position POS_S to the position POS_P and when the hand 14 moves from the position POS_P to the position POS_TA. The position POS_P is determined so that the rotation directions of the motors for causing the motors are the same (so that reverse rotation does not occur).

位置ＰＯＳ＿Ｐは、例えば、待機位置ＰＯＳ＿Ｓ及び位置ＰＯＳ＿Ｍに基づいて予め決定され、産業用ロボット５のメモリに記憶される。 The position POS_P is determined in advance based on, for example, the standby position POS_S and the position POS_M, and is stored in the memory of the industrial robot 5.

待機位置ＰＯＳ＿Ｓは、ウエハ載置部６の直上（目標位置）へのウエハ２の搬送前のハンド１４の位置である第１位置の一例である。位置ＰＯＳ＿Ｔは、ハンド１４の基準位置に対するウエハ２の位置ずれがない場合にウエハ２を目標位置に搬送するためのハンド１４の移動先である第２位置の一例である。位置ＰＯＳ＿Ｐは、待機位置ＰＯＳ＿Ｓ（第１位置）と位置ＰＯＳ＿Ｔ（第２位置）との間の位置である第３位置の一例である。 The standby position POS_S is an example of the first position which is the position of the hand 14 before the wafer 2 is transferred to directly above the wafer mounting portion 6 (target position). The position POS_T is an example of the second position to which the hand 14 is moved to convey the wafer 2 to the target position when the position of the wafer 2 does not deviate from the reference position of the hand 14. The position POS_P is an example of a third position which is a position between the standby position POS_S (first position) and the position POS_T (second position).

透過型センサ１１１の位置は、ウエハ２を把持したハンド１４を待機位置ＰＯＳ＿Ｓ（第１位置）から位置ＰＯＳ＿Ｐ（第３位置）に移動させる途中でウエハ２が通過する位置である第４位置の一例である。位置ＰＯＳ＿ＴＡは、位置ずれの検出結果に応じて位置ＰＯＳ＿Ｔ（第２位置）を補正した第５位置の一例である。位置ＰＯＳ＿ＭＡは、上下方向においてウエハ載置部６の位置と同じであり、水平方向において位置ＰＯＳ＿ＴＡ（第５位置）の位置と同じである第６位置の一例である。 The position of the transmissive sensor 111 is an example of the fourth position where the wafer 2 passes while the hand 14 holding the wafer 2 is being moved from the standby position POS_S (first position) to the position POS_P (third position). Is. The position POS_TA is an example of the fifth position in which the position POS_T (second position) is corrected according to the detection result of the position shift. The position POS_MA is an example of the sixth position which is the same as the position of the wafer mounting portion 6 in the vertical direction and the same as the position of the position POS_TA (fifth position) in the horizontal direction.

まず、産業用ロボット５の制御回路は、ウエハ２を把持したハンド１４を待機位置ＰＯＳ＿Ｓから位置ＰＯＳ＿Ｐに移動させる。その際、ウエハ２は透過型センサ１１１を通過する。産業用ロボット５の制御回路は、透過型センサ１１１による検知結果に基づいて、ハンド１４の規定位置に対するウエハ２の位置ずれを検出する。図１０の例では、図８の例と同様の位置ずれが検出されたとする。 First, the control circuit of the industrial robot 5 moves the hand 14 holding the wafer 2 from the standby position POS_S to the position POS_P. At that time, the wafer 2 passes through the transmissive sensor 111. The control circuit of the industrial robot 5 detects the positional deviation of the wafer 2 with respect to the specified position of the hand 14 based on the detection result by the transmissive sensor 111. In the example of FIG. 10, it is assumed that the same positional deviation as in the example of FIG. 8 is detected.

次に、産業用ロボット５の制御回路は、ハンド１４を、位置ＰＯＳ＿Ｐから位置ＰＯＳ＿ＴＡに移動させる。次に、産業用ロボット５の制御回路は、ハンド１４を位置ＰＯＳ＿ＴＡから下降させて位置ＰＯＳ＿ＭＡに移動させる。これにより、ウエハ２がウエハ載置部６に載置される。 Next, the control circuit of the industrial robot 5 moves the hand 14 from the position POS_P to the position POS_TA. Next, the control circuit of the industrial robot 5 lowers the hand 14 from the position POS_TA and moves it to the position POS_MA. As a result, the wafer 2 is placed on the wafer mounting portion 6.

次に、産業用ロボット５の制御回路は、ハンド１４を位置ＰＯＳ＿ＭＡからさらに下降させて位置ＰＯＳ＿ＢＡに移動させる。このとき、ウエハ２は、ハンド１４から離れ、ウエハ載置部６に載置されたままとなる。次に、産業用ロボット５の制御回路は、ハンド１４を位置ＰＯＳ＿ＢＡから待機位置ＰＯＳ＿Ｅに移動させる。 Next, the control circuit of the industrial robot 5 further lowers the hand 14 from the position POS_MA and moves it to the position POS_BA. At this time, the wafer 2 is separated from the hand 14 and remains mounted on the wafer mounting portion 6. Next, the control circuit of the industrial robot 5 moves the hand 14 from the position POS_BA to the standby position POS_E.

図１１は、図９に示した待機位置ＰＯＳ＿Ｅと位置ＰＯＳ＿ＴＡの複数の例との位置関係の一例を示す図である。図１１に示すように、位置ＰＯＳ＿Ｐは、位置ずれに基づいて位置ＰＯＳ＿Ｔを補正した位置ＰＯＳ＿ＴＡが位置ＰＯＳ＿ＴＡ１～ＰＯＳ＿ＴＡ４のいずれであっても、位置ＰＯＳ＿Ｔと比べて待機位置ＰＯＳ＿Ｓの側に位置する。 FIG. 11 is a diagram showing an example of the positional relationship between the standby position POS_E and the plurality of examples of the position POS_TA shown in FIG. As shown in FIG. 11, the position POS_P is located closer to the standby position POS_S than the position POS_T regardless of whether the position POS_TA corrected for the position POS_T based on the position shift is any of the positions POS_TA1 to POS_TA4.

これにより、ハンド１４が待機位置ＰＯＳ＿Ｓから位置ＰＯＳ＿Ｐに移動する際と、ハンド１４が位置ＰＯＳ＿Ｐから位置ＰＯＳ＿ＴＡに移動する際とにおいて、ハンド１４を移動させるためのモータの逆回転を抑制することができる。 This makes it possible to suppress the reverse rotation of the motor for moving the hand 14 when the hand 14 moves from the standby position POS_S to the position POS_P and when the hand 14 moves from the position POS_P to the position POS_TA. ..

（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、ウエハ２を目標位置（ウエハ載置部６の直上）に搬送する際に、ウエハ２を把持するハンド１４を移動させるためのモータの逆回転を抑制することができる。これにより、このモータと連動するギヤ（例えば減速機に含まれるギヤ）のバックラッシュの影響による、ウエハ２の搬送位置の精度の低下を抑制することができる。 (Main effect of this form)
As described above, in the present embodiment, when the wafer 2 is conveyed to the target position (immediately above the wafer mounting portion 6), the reverse rotation of the motor for moving the hand 14 that grips the wafer 2 is suppressed. Can be done. As a result, it is possible to suppress a decrease in the accuracy of the transfer position of the wafer 2 due to the influence of the backlash of the gear (for example, the gear included in the reducer) interlocking with the motor.

また、上記の特許文献１のような補正テーブルを用いた制御指令値の制御を行わなくてもよいため、演算量の増加を抑制することができる。また、特許文献２のようなシザースギヤ機構を設ける構成としなくてもよいため、装置の複雑化を抑制することができる。このため、演算量の増加や装置の複雑化を抑制しつつ、ウエハ２を精度よく目標位置に搬送することができる。 Further, since it is not necessary to control the control command value using the correction table as in Patent Document 1, it is possible to suppress an increase in the amount of calculation. Further, since it is not necessary to provide the scissors gear mechanism as in Patent Document 2, it is possible to suppress the complexity of the apparatus. Therefore, the wafer 2 can be accurately conveyed to the target position while suppressing an increase in the amount of calculation and complication of the apparatus.

（他の実施の形態）
上述した形態は、本発明の好適な形態の一例ではあるが、これに限定されるものではなく本発明の要旨を変更しない範囲において種々変形実施が可能である。 (Other embodiments)
The above-mentioned embodiment is an example of a preferred embodiment of the present invention, but the present invention is not limited thereto, and various modifications can be carried out without changing the gist of the present invention.

上述した形態では、ハンド１４により収容部３のウエハ載置部６にウエハ２を載置する場合の位置ずれ補正について説明したが、上記の位置ずれ補正は、ハンド１５によりウエハ載置部６にウエハ２を載置する場合にも適用可能である。 In the above-described embodiment, the misalignment correction when the wafer 2 is mounted on the wafer mounting portion 6 of the accommodating portion 3 by the hand 14 has been described, but the above misalignment correction is performed on the wafer mounting portion 6 by the hand 15. It is also applicable when the wafer 2 is placed.

上述した形態では、ウエハ２を搬送する際の目標位置として、ウエハ載置部６の直上の位置について説明したが、ウエハ２を搬送する際の目標位置はこれに限らない。例えば、ウエハ２を搬送する際の目標位置は、収容部１０におけるウエハ載置部の直上であってもよい。本発明は、ウエハ２のウエハ載置部６への載置に限らず、各種の目的でウエハ２を特定の目標位置に搬送する構成全般に適用することができる。 In the above-described embodiment, the position directly above the wafer mounting portion 6 has been described as the target position when transporting the wafer 2, but the target position when transporting the wafer 2 is not limited to this. For example, the target position when transporting the wafer 2 may be directly above the wafer mounting portion in the accommodating portion 10. The present invention is not limited to mounting the wafer 2 on the wafer mounting portion 6, and can be applied to a general configuration for transporting the wafer 2 to a specific target position for various purposes.

上述した形態では搬送対象物として円形のウエハ２を説明したが、搬送対象物は、これに限らず、例えば方形基板などであってもよい。 In the above-described embodiment, the circular wafer 2 has been described as the transfer target, but the transfer target is not limited to this, and may be, for example, a square substrate.

上述した形態では、搬送システム１は、ウエハ２を搬送するための搬送システムであるが、搬送システム１は、半導体以外の物を搬送するシステムであってもよい。すなわち、産業用ロボット５は、例えば、ガラス基板等のウエハ２以外の搬送対象物を搬送してもよい。 In the above-described embodiment, the transport system 1 is a transport system for transporting the wafer 2, but the transport system 1 may be a system for transporting objects other than semiconductors. That is, the industrial robot 5 may transport an object to be transported other than the wafer 2, such as a glass substrate.

１ 搬送システム
２ ウエハ（半導体ウエハ）
３，１０ 収容部
５ 産業用ロボット（水平多関節産業用ロボット）
６ ウエハ載置部
１４，１５ ハンド
１６ アーム
１７ アーム支持部
１８ 保持部
２４ 第１アーム部
２５ 第２アーム部
２６ 第３アーム部
１１１ 透過型センサ 1 Conveyance system 2 Wafer (semiconductor wafer)
3,10 Containment section 5 Industrial robot (horizontal articulated industrial robot)
6 Wafer mounting part 14, 15 Hand 16 Arm 17 Arm support part 18 Holding part 24 1st arm part 25 2nd arm part 26 3rd arm part 111 Transmissive sensor

Claims (5)

搬送対象物を目標位置へ搬送する産業用ロボットにおいて、
前記搬送対象物を把持し水平方向に移動するハンドと、
前記目標位置への前記搬送対象物の搬送前の前記ハンドの位置を第１位置とし、前記ハンドの基準位置に対する前記搬送対象物の位置ずれがない場合に前記搬送対象物を前記目標位置に搬送するための前記ハンドの移動先を第２位置とし、前記第１位置と前記第２位置との間の位置を第３位置とし、前記搬送対象物を把持した前記ハンドを前記第１位置から前記第３位置に移動させる途中で前記搬送対象物が通過する位置を第４位置とすると、前記第４位置に設けられ前記搬送対象物の通過を検知するセンサと、
前記搬送対象物を把持した前記ハンドを前記第１位置から前記第３位置に移動させ、前記センサによる検知結果に基づいて前記位置ずれを検出し、前記位置ずれの検出結果に応じて前記第２位置を補正した第５位置を算出し、前記ハンドを前記第３位置から前記第５位置に移動させる制御部と、
を備えることを特徴とする産業用ロボット。 In an industrial robot that transports an object to be transported to a target position
A hand that grips the object to be transported and moves in the horizontal direction,
The position of the hand before the transport of the transport target to the target position is set as the first position, and the transport target is transported to the target position when the position of the transport target does not deviate from the reference position of the hand. The moving destination of the hand is set to the second position, the position between the first position and the second position is set to the third position, and the hand holding the object to be transported is moved from the first position to the said position. Assuming that the position through which the object to be transported passes while being moved to the third position is set to the fourth position, a sensor provided at the fourth position and detecting the passage of the object to be transported,
The hand holding the object to be transported is moved from the first position to the third position, the misalignment is detected based on the detection result by the sensor, and the second position is detected according to the detection result of the misalignment. A control unit that calculates the fifth position corrected for the position and moves the hand from the third position to the fifth position.
An industrial robot characterized by being equipped with. 請求項１記載の産業用ロボットであって、
前記目標位置の直下の載置部に前記搬送対象物を載置するものであり、
前記制御部は、前記第５位置から前記ハンドを下降させることにより、前記載置部へ前記搬送対象物を載置する、
産業用ロボット。 The industrial robot according to claim 1.
The object to be transported is placed on the mounting portion directly below the target position.
The control unit lowers the hand from the fifth position to place the object to be transported on the above-mentioned storage unit.
Industrial robot. 請求項１又は２記載の産業用ロボットであって、
前記第３位置は、生じ得る前記位置ずれの範囲で、前記ハンドを前記第１位置から前記第３位置に移動させるときと、前記ハンドを前記第３位置から前記第５位置に移動させるときと、において、前記ハンドを移動させるためのモータの回転方向が同一となる位置である、
産業用ロボット。 The industrial robot according to claim 1 or 2.
The third position is when the hand is moved from the first position to the third position and when the hand is moved from the third position to the fifth position within the range of the possible misalignment. At the position where the rotation directions of the motors for moving the hand are the same.
Industrial robot. 請求項１から３のいずれか１項記載の産業用ロボットであって、
前記第３位置は、予め定められた位置である、
産業用ロボット。 The industrial robot according to any one of claims 1 to 3.
The third position is a predetermined position.
Industrial robot. 請求項１から３のいずれか１項記載の産業用ロボットであって、
前記第３位置は、前記検知結果が得られたときの前記ハンドの位置である、
産業用ロボット。 The industrial robot according to any one of claims 1 to 3.
The third position is the position of the hand when the detection result is obtained.
Industrial robot.
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