JP2022095001A - マイクロプレート - Google Patents
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Abstract
【課題】ウェル内で細胞が会合しやすく、細胞塊が形成されやすいマイクロプレートを提供することを目的とする。【解決手段】複数のウェル14を有するマイクロプレート1において、ウェル14の底面16を下方に凹む凹面とし、底面16に細胞接着抑制剤からなる低接着コート膜を形成し、ウェル14の平面視で、ウェル14の底面16の半径をR(mm)としたとき、ウェル14の底面16の中心を中心とする半径r(ただし、r=0.4×R)の円形領域内の低接着コート膜の表面の表面粗さRaを0.1μm以下とする。【選択図】図2
Description
本発明は、マイクロプレートに関する。
生命現象を解明する基礎研究、創薬研究等においては、培養細胞が広く利用されている。特に3次元培養で得られる細胞が凝集した3次元細胞塊(スフェロイド)は、生体内と同様に立体的な構造を有しているため、2次元培養で得た細胞に比べて試験精度が向上することが期待されている。3次元培養に用いる培養容器としては、複数のウェルが縦横にマトリックス状に配列されたマイクロプレートが知られている(特許文献1)。
各ウェルに細胞を懸濁した培養液を分注して培養すると、各ウェルの中で細胞が会合して細胞塊が形成される。ウェルの底面が下方に凹んだ凹面であると、各ウェル内の細胞が会合しやすい。また、ウェルの底面に細胞が接着することを抑制する目的で、ウェルの底面に細胞接着抑制剤を塗布して低接着コート膜を形成することが行われている。また、ウェル凹面の開き角度や曲率半径などのウェル形状は、スフェロイドの形成性に影響を与える(例えば特許文献1)。
しかし、ウェルの凹部がスフェロイド形成に適している形状であっても、ウェル表面の表面粗さが粗いと、細胞がウェルの途中に引っかかり不完全なスフェロイドを形成したり、会合速度が遅くなるため、細胞塊の形成性が低下する。
本発明は、ウェル内で細胞が会合しやすく、細胞塊が形成されやすいマイクロプレートを提供することを目的とする。
本発明は、以下の態様を有する。
[1]複数のウェルを有するマイクロプレートであって、
前記ウェルの底面は下方に凹む凹面であり、
前記底面に細胞接着抑制剤からなる低接着コート膜が形成され、
前記ウェルの平面視で、前記ウェルの底面の半径をR(mm)としたとき、前記ウェルの底面の中心を中心とする半径r(ただし、r=0.4×R)の円形領域内の前記低接着コート膜の表面の表面粗さRaが0.1μm以下である、マイクロプレート。
[2]前記円形領域内において、前記ウェルの最底部の前記表面粗さRaが最大である、[1]に記載のマイクロプレート。
[3]前記円形領域内の前記表面粗さRaが前記最底部に向かうにつれて大きくなっている、[2]に記載のマイクロプレート。
[4]前記ウェルの底面が下方に半球状に凹んだ凹面であり、
前記ウェルの底面の最底部を通るように前記ウェルを高さ方向に切断した断面における、前記底面の円弧の曲率半径が0.5mm以上5mm以下である、[1]~[3]のいずれかに記載のマイクロプレート。
[5]前記ウェルの底面が下方に円錐状に凹んだ凹面であり、
前記ウェルの底面の最底部を通るように前記ウェルを高さ方向に切断した断面における、前記ウェルの高さ方向に対する前記底面の傾斜角度が20°以上70°以下である、[1]~[3]のいずれかに記載のマイクロプレート。
[6]前記細胞接着抑制剤が、2-メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン、又は含フッ素重合体である、[1]~[5]のいずれかに記載のマイクロプレート。
[1]複数のウェルを有するマイクロプレートであって、
前記ウェルの底面は下方に凹む凹面であり、
前記底面に細胞接着抑制剤からなる低接着コート膜が形成され、
前記ウェルの平面視で、前記ウェルの底面の半径をR(mm)としたとき、前記ウェルの底面の中心を中心とする半径r(ただし、r=0.4×R)の円形領域内の前記低接着コート膜の表面の表面粗さRaが0.1μm以下である、マイクロプレート。
[2]前記円形領域内において、前記ウェルの最底部の前記表面粗さRaが最大である、[1]に記載のマイクロプレート。
[3]前記円形領域内の前記表面粗さRaが前記最底部に向かうにつれて大きくなっている、[2]に記載のマイクロプレート。
[4]前記ウェルの底面が下方に半球状に凹んだ凹面であり、
前記ウェルの底面の最底部を通るように前記ウェルを高さ方向に切断した断面における、前記底面の円弧の曲率半径が0.5mm以上5mm以下である、[1]~[3]のいずれかに記載のマイクロプレート。
[5]前記ウェルの底面が下方に円錐状に凹んだ凹面であり、
前記ウェルの底面の最底部を通るように前記ウェルを高さ方向に切断した断面における、前記ウェルの高さ方向に対する前記底面の傾斜角度が20°以上70°以下である、[1]~[3]のいずれかに記載のマイクロプレート。
[6]前記細胞接着抑制剤が、2-メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン、又は含フッ素重合体である、[1]~[5]のいずれかに記載のマイクロプレート。
本発明によれば、ウェル内で細胞が速やかに凹面である底面の最底部に移動することで、素早く会合し、細胞塊が形成されやすいマイクロプレートを提供できる。
本明細書における用語の意味及び定義は以下である。
「~」で表される数値範囲は、~の前後の数値を下限値及び上限値とする数値範囲を意味する。
「ウェルの底面の中心」とは、ウェルの底面の平面視形状が正円でない場合、ウェルの底面の平面視形状に対する内接円の中心とする。
「~」で表される数値範囲は、~の前後の数値を下限値及び上限値とする数値範囲を意味する。
「ウェルの底面の中心」とは、ウェルの底面の平面視形状が正円でない場合、ウェルの底面の平面視形状に対する内接円の中心とする。
[マイクロプレート]
以下、本発明のマイクロプレートの実施形態の一例を示し、図面に基づいて説明する。なお、以下の説明において例示される図の寸法等は一例であって、本発明はそれらに必ずしも限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。
以下、本発明のマイクロプレートの実施形態の一例を示し、図面に基づいて説明する。なお、以下の説明において例示される図の寸法等は一例であって、本発明はそれらに必ずしも限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。
図1及び図2に示すように、本実施形態のマイクロプレート1は、上面部10と、上面部10の外縁部から垂直に垂下された周壁部12と、上面部10の上面10aに円形の開口が形成される有底筒状の複数のウェル14と、を備えている。
マイクロプレート1では、各ウェル14の底面16が培養面となる。この例のウェル14は、底面16が下方に半球状に凹んだ凹面になっている。これにより、ウェル14内で細胞が最底部18に向かって移動しやすくなるため、細胞同士が会合して細胞塊が形成されやすくなる。なお、ウェル14の底面16は、半球状の凹面には限定されず、例えば、下方に円錐状に凹む凹面等であってもよい。
ウェル14の平面視の開口形状は、円形には限定されず、例えば、矩形であってもよい。ウェル14の数は、特に限定されず、例えば、4~1536個を例示できる。例えば、平面視で縦横に8×12個の矩形のマトリックス状に配列された96個のウェル14としてもよく、16×24の384個のウェル14としてもよく、32×48の1536個のウェル14としてもよい。
ウェル14の底面16には、細胞接着抑制剤からなる、細胞の接着を抑制する低接着コート膜が形成されている。低接着コート膜が形成されることで、細胞がウェル表面に接着することが抑制され、ウェルの最底部で会合しスフェロイドを形成できる。低接着コート膜は、例えば、細胞接着抑制剤を塗布することによって形成できる。細胞接着抑制剤としては、リン脂質ポリマー(2-メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン等)、ポリヒドロキシエチルメタアクリレート、フッ素含有化合物、ポリエチレングリコールを例示できる。なかでも、細胞との親和性が高いことから、細胞接着抑制剤は、2-メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン又は含フッ素重合体が好ましい。細胞接着抑制剤としては、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
ウェル14の平面視で、ウェル14の底面16の半径をR(mm)とし、r=0.4×Rとする。このとき、マイクロプレート1では、平面視で、ウェル14の底面16の中心を中心とする半径rの円形領域(以下、「円形領域A」とも記す。)内の低接着コート膜の表面の表面粗さRaが0.1μm以下になっている。なお、円形領域A内の低接着コート膜の表面の表面粗さRaが0.1μm以下であるとは、円形領域A内のどの位置でも表面粗さRaが0.1μm以下であることを意味する。
底面16の円形領域A内の表面粗さRaが0.1μm以下であれば、ウェル14内で細胞が最底部18に向かって移動しやすくなるため、細胞同士が会合して細胞塊が形成されやすくなる。底面16の円形領域A内の表面粗さRaは、0.07μm以下が好ましく、0.05μm以下がより好ましい。円形領域A内の表面粗さRaは、小さいほど良く、実質的な下限値は0.02μm程度である。
なお、前記表面粗さRaは、算術平均粗さのことであり、粗さ曲線をy=f(x)で表したときに、下式1によって求められる値(ただし、単位はマイクロメートル(μm)であり、Lは測定長さである。)である。表面粗さRaは、JIS B0601:2001(ISO4287:1997)に記載された方法によって測定される。
なお、前記表面粗さRaは、算術平均粗さのことであり、粗さ曲線をy=f(x)で表したときに、下式1によって求められる値(ただし、単位はマイクロメートル(μm)であり、Lは測定長さである。)である。表面粗さRaは、JIS B0601:2001(ISO4287:1997)に記載された方法によって測定される。
底面16の円形領域A内では、表面粗さRaは0.1μm以下であれば、均一になっていてもよく、不均一になっていてもよい。円形領域A内では、ウェル14の底面16の最底部18の表面粗さRaが最大になっていることが好ましい。また、円形領域A内では、表面粗さRaがウェル14の底面16の最底部18に向かうにつれて大きくなっていることがより好ましい。これにより、ウェル14内の最底部18では相対的に細胞が動きにくく、ウェル14内で細胞が最底部18に集まりやすくなるため、細胞塊がさらに形成されやすくなる。
ウェル14の底面16の半径Rは、0.2mm以上20mm以下が好ましく、0.5mm以上10mm以下がより好ましく、1mm以上5mm以下がさらに好ましい。底面16の半径Rが前記範囲の下限値以上であれば、細胞を播種する際の操作性やスフェロイドの観察性に優れている。底面16の半径Rが前記範囲の上限値以下であれば、1つのマイクロプレートで数多くのスフェロイドを形成できる。
なお、ウェル14の底面16の平面視形状が正円でない場合、半径Rは、底面16の平面視形状に対する内接円の半径である。
なお、ウェル14の底面16の平面視形状が正円でない場合、半径Rは、底面16の平面視形状に対する内接円の半径である。
ウェル14の底面16の最底部18を通るようにウェル14を高さ方向に切断した断面における、底面16の円弧の曲率半径は、0.5mm以上5mm以下が好ましく、1mm以上4mm以下がより好ましく、1.5mm以上3.5mm以下がさらに好ましい。前記曲率半径が前記範囲の上限値以下であれば、ウェル14内で細胞が最底部18に向かって移動しやすくなるため、細胞同士が会合して細胞塊が形成されやすくなる。前記曲率半径が前記範囲の下限値以上であれば、スフェロイドを効率的に形成できるうえ、観察性に優れている。
マイクロプレート1の材質としては、樹脂又はガラスが好ましい。
樹脂としては、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂を例示できる。樹脂としては、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリ塩化ビニル、高密度ポリエチレン、ポリエーテルサルファン、PET共重合体、パーマノックス(サーモフィッシャーサイエンティフィック商標)、シクロオレフィンポリマー樹脂、サイトップ(AGC商標)、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂及びシリコーン樹脂から選ばれる1種が好ましく、透明性が高く、薬剤吸着性が低いという点から、ポリスチレン樹脂が特に好ましい。マイクロプレート1を構成する樹脂は、1種でもよく、2種以上でもよい。
樹脂としては、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂を例示できる。樹脂としては、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリ塩化ビニル、高密度ポリエチレン、ポリエーテルサルファン、PET共重合体、パーマノックス(サーモフィッシャーサイエンティフィック商標)、シクロオレフィンポリマー樹脂、サイトップ(AGC商標)、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂及びシリコーン樹脂から選ばれる1種が好ましく、透明性が高く、薬剤吸着性が低いという点から、ポリスチレン樹脂が特に好ましい。マイクロプレート1を構成する樹脂は、1種でもよく、2種以上でもよい。
ガラスとしては、特に限定されず、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、リン酸ガラス、アルミノシリケートガラスを例示できる。ガラスは、割れ防止のために化学強化されていてもよい。マイクロプレート1を構成するガラスは、1種でもよく、2種以上でもよい。
マイクロプレート1の周壁部12は、透明でも不透明でもよく、観察性の観点から不透明が好ましい。周壁部12を不透明とする場合、色調としては黒がより好ましい。周壁部12を不透明にする方法としては、特に限定されず、例えば、微粒子を添加する方法、顔料を添加する方法等を使用できる。
マイクロプレート1の製造方法は、特に限定されず、例えば、射出成形法、圧縮成形法によって成形できる。なかでも、マイクロプレート1を製造しやすい点から、射出成形法が好ましい。ウェル14の底面16の円形領域A内における低接着コート膜の表面の表面粗さRaは、成形材料の選定、研磨等の金型仕上げ工程、及び成形方法によって、さらに、低接着コート方法によって調節できる。
以上説明したように、マイクロプレート1では、ウェル14の底面16が凹面であり、かつ底面16の円形領域A内における低接着コート膜の表面の表面粗さRaが0.1μm以下に制御されている。そのため、ウェル14の底面16に低接着コート膜を形成していても、細胞培養時にウェル14内で細胞が最底部18に向かって移動しやすく、細胞同士が会合して細胞塊が形成されやすい。
なお、本発明のマイクロプレートは、前記した態様には限定されない。
例えば、本発明のマイクロプレートは、図3及び図4に例示したマイクロプレート2であってもよい。マイクロプレート2は、ウェル14が底面16の代わりに底面16Aを有する以外はマイクロプレート1と同様の態様である。図3及び図4における図1及び図2と同じ部分は同符号を付して説明を省略する。
例えば、本発明のマイクロプレートは、図3及び図4に例示したマイクロプレート2であってもよい。マイクロプレート2は、ウェル14が底面16の代わりに底面16Aを有する以外はマイクロプレート1と同様の態様である。図3及び図4における図1及び図2と同じ部分は同符号を付して説明を省略する。
マイクロプレート2のウェル14の底面16Aは、下方に円錐状に凹む凹面である。マイクロプレート2においても、底面16Aの円形領域A内における低接着コート膜の表面の表面粗さRaが0.1μm以下に制御されることで、低接着コート膜を形成していても細胞が最底部18に向かって移動しやすく、細胞同士が会合して細胞塊が形成されやすい。
ウェル14の底面16Aの最底部18を通るようにウェル14を高さ方向に切断した断面における、ウェル14の高さ方向に対する底面16Aの傾斜角度θ(図4)は、20°以上70°以下が好ましく、25°以上60°以下がより好ましく、35°以上55°以下がさらに好ましい。前記傾斜角度θが前記範囲の上限値以下であれば、ウェル14内で細胞が最底部18に向かって移動しやすくなるため、細胞同士が会合して細胞塊が形成されやすくなる。前記傾斜角度θが前記範囲の下限値以上であれば、顕微鏡でのスフェロイド観察がしやすい。
その他、本発明の趣旨に逸脱しない範囲で、前記実施形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能であり、また、前記した変形例を適宜組み合わせてもよい。
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の記載によっては限定されない。例1は実施例であり、例2は比較例である。
[表面粗さRa]
表面粗さRaは、JIS B0601:2001(ISO4287:1997)に記載された方法によって測定される算術平均粗さである。
表面粗さRaは、JIS B0601:2001(ISO4287:1997)に記載された方法によって測定される算術平均粗さである。
[例1]
各ウェルの底面が下方に半球状に凹んだ凹面であり、各ウェルの半径Rが3.2mmである、図1及び図2に例示したような態様の96ウェル(8×12)のマイクロプレートを作製した。各ウェルの底面には、細胞接着抑制剤として含フッ素重合体を塗布し、低接着コート膜を形成した。r=0.4×Rとする。平面視で、ウェル14の底面16の中心を中心とする半径rの円形領域A内の低接着コート膜の表面の表面粗さRaは、最底部に向かうにつれて大きくなっており、最底部の表面粗さRaは0.041μmであった。Raは、白色干渉式三次元形状測定機(Zygo社製、Newview6200)で測定した。
各ウェルの底面が下方に半球状に凹んだ凹面であり、各ウェルの半径Rが3.2mmである、図1及び図2に例示したような態様の96ウェル(8×12)のマイクロプレートを作製した。各ウェルの底面には、細胞接着抑制剤として含フッ素重合体を塗布し、低接着コート膜を形成した。r=0.4×Rとする。平面視で、ウェル14の底面16の中心を中心とする半径rの円形領域A内の低接着コート膜の表面の表面粗さRaは、最底部に向かうにつれて大きくなっており、最底部の表面粗さRaは0.041μmであった。Raは、白色干渉式三次元形状測定機(Zygo社製、Newview6200)で測定した。
[例2]
円形領域A内の低接着コート膜の表面の表面粗さRaが最底部に向かうにつれて大きくなっており、最底部の表面粗さRaが0.218μmである以外は例1と同様のマイクロプレートを作製した。
円形領域A内の低接着コート膜の表面の表面粗さRaが最底部に向かうにつれて大きくなっており、最底部の表面粗さRaが0.218μmである以外は例1と同様のマイクロプレートを作製した。
[培養試験]
各例で得たマイクロプレートを用い、各ウェルにHepG2細胞を1ウェルあたりの細胞数が2500個となるように播種し、37℃、5%CO2、水蒸気飽和条件のインキュベーターで培養した。顕微鏡(ZEISS社製、Axio Observer7)を用い、培養開始から2時間、6時間、48時間後のウェルの底面を顕微鏡で観察した。例1の観察結果を図5に示す。
各例で得たマイクロプレートを用い、各ウェルにHepG2細胞を1ウェルあたりの細胞数が2500個となるように播種し、37℃、5%CO2、水蒸気飽和条件のインキュベーターで培養した。顕微鏡(ZEISS社製、Axio Observer7)を用い、培養開始から2時間、6時間、48時間後のウェルの底面を顕微鏡で観察した。例1の観察結果を図5に示す。
図5に示すように、ウェルの底面における円形領域A内の表面粗さRaが0.1μm以下である例1では、ウェル内で細胞が最底部に向かって移動しやすく、細胞同士が会合して細胞塊が形成された。一方、ウェルの底面における円形領域A内の表面粗さRaが0.1μm超である例2では、細胞塊の形成が不充分であった。
1,2…マイクロプレート、10…上面部、12…周壁部、14…ウェル、16,16A…底面、18…最底部。
Claims (6)
- 複数のウェルを有するマイクロプレートであって、
前記ウェルの底面は下方に凹む凹面であり、
前記底面に細胞接着抑制剤からなる低接着コート膜が形成され、
前記ウェルの平面視で、前記ウェルの底面の半径をR(mm)としたとき、前記ウェルの底面の中心を中心とする半径r(ただし、r=0.4×R)の円形領域内の前記低接着コート膜の表面の表面粗さRaが0.1μm以下である、マイクロプレート。 - 前記円形領域内において、前記ウェルの最底部の前記表面粗さRaが最大である、請求項1に記載のマイクロプレート。
- 前記円形領域内の前記表面粗さRaが前記最底部に向かうにつれて大きくなっている、請求項2に記載のマイクロプレート。
- 前記ウェルの底面が下方に半球状に凹んだ凹面であり、
前記ウェルの底面の最底部を通るように前記ウェルを高さ方向に切断した断面における、前記底面の円弧の曲率半径が0.5mm以上5mm以下である、請求項1~3のいずれか一項に記載のマイクロプレート。 - 前記ウェルの底面が下方に円錐状に凹んだ凹面であり、
前記ウェルの底面の最底部を通るように前記ウェルを高さ方向に切断した断面における、前記ウェルの高さ方向に対する前記底面の傾斜角度が20°以上70°以下である、請求項1~3のいずれか一項に記載のマイクロプレート。 - 前記細胞接着抑制剤が、2-メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン、又は含フッ素重合体である、請求項1~5のいずれか一項に記載のマイクロプレート。
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