JP2022082021A - ディスプレイ用ガラス基板 - Google Patents

Abstract

【課題】ガラス基板上に形成される薄膜のムラを抑制することが可能なディスプレイ用ガラス基板を提供する。【解決手段】板引き方向Ｘと直交する方向Ｙに沿って第一主面ＧＳ１の板厚分布ＴＤを測定した場合において、第一主面ＧＳ１の板厚分布ＴＤにおける第一頂点Ａ０１と第二頂点Ｂ０１との高低差をＨ１とし、第二頂点Ｂ０１と第三頂点Ａ０２との高低差をＨ２とし、板引き方向Ｘと直交する方向Ｙにおける第一頂点Ａ０１と第二頂点Ｂ０１との距離をＤ１とし、板引き方向Ｘと直交する方向Ｙにおける第二頂点Ｂ０１と第三頂点Ａ０２との距離をＤ２としたとき、高低差（Ｈ１，Ｈ２）を０．００５ｍｍ以下にするか、又は、高低差（Ｈ１，Ｈ２）が０．００５ｍｍを上回る場合には傾き（Ｈ１／Ｄ１，Ｈ２／Ｄ２）を１×１０－４以下にする。【選択図】図１

Description

本発明は、例えば有機ＥＬディスプレイ等のディスプレイに使用されるガラス基板に関する。

周知のように、有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ等のディスプレイには、微細な電極や隔壁等の素子或いは構造体を形成するために、ガラス基板が使用される。ガラス基板の表面には、各種の膜を均一に塗布した後に、フォトプロセスの手法（露光工程、現像工程等）を用いて薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が形成される。

例えば特許文献１には、第一主面と、第一主面と対向する第二主面とを備えた矩形に構成され、互いに隣り合う第一辺と第二辺とを有し、第一辺と第二辺との長さが、少なくとも１２００ｍｍ以上とされたＴＦＴ用ガラス基板が開示されている。

このガラス基板では、板厚方向の断面のうち、第一辺と平行な直線に沿った第一断面において、板厚の最大値と板厚の最小値の差である板厚公差を、６．２６μｍ未満としている（同文献の請求項１、段落０００６参照）。

特開２０１９－３４８７８号公報

液晶ディスプレイ用のガラス基板において厚さが不均一となる部分（偏肉部分）が存在すると、ＴＦＴを精度良く形成することが困難となる。このため、上記特許文献１に係るガラス基板のように、板厚公差を規制することがＴＦＴを精度良く形成するために有効となる。

有機ＥＬディスプレイの製造工程では、ガラス基板上に形成された薄膜のムラを検出する外観検査（マクロ検査）が実施される。この外観検査では、例えば、光源からガラス基板に光を照射し、その反射光を検出する。ムラが発生している場合、例えば、その箇所で反射光の方向が局所的に変化するため、濃淡が変化する。このようなマクロ検査では、特許文献１のように板厚公差を規制したガラス基板であっても、外観異常が検出される事態が生じている。薄膜のムラが発生した場合、ガラス基板は品質不良として廃棄される。

本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、ガラス基板上に形成される薄膜のムラを抑制することが可能なディスプレイ用ガラス基板を提供することを目的とする。

本発明は上記の課題を解決するためのものであり、板引き方向に沿う第一辺と、前記板引き方向に直交する方向に沿う第二辺と、第一主面と、厚さ方向において前記第一主面の反対側に位置する第二主面と、を有するディスプレイ用ガラス基板であって、前記板引き方向と直交する方向に沿って板厚分布を測定した場合において、前記板厚分布は、第一頂点と、前記第一頂点と隣り合う第二頂点と、前記第二頂点と隣り合う第三頂点と、を含み、前記第一頂点と前記第二頂点の高低差をＨ１（ｍｍ）とし、前記第二頂点と前記第三頂点の高低差をＨ２（ｍｍ）とし、前記板引き方向と直交する方向における前記第一頂点と前記第二頂点との距離をＤ１（ｍｍ）とし、前記板引き方向と直交する方向における前記第二頂点と前記第三頂点との距離をＤ２（ｍｍ）としたとき、前記Ｈ１及び前記Ｄ１が、下記式（１）及び下記式（３）を充足するか、又は、下記式（４）を充足し、前記Ｈ２及び前記Ｄ２が、下記式（２）及び下記式（５）を充足するか、又は、下記式（６）を充足することを特徴とする。
（Ｈ１／Ｄ１）≦１×１０^－４ ・・・（１）
（Ｈ２／Ｄ２）≦１×１０^－４ ・・・（２）
Ｈ１＞０．００５ ・・・（３）
Ｈ１≦０．００５ ・・・（４）
Ｈ２＞０．００５ ・・・（５）
Ｈ２≦０．００５ ・・・（６）

本発明者等は、鋭意研究を重ねた結果、ガラス基板の第一主面に薄膜を形成する場合において、板厚分布に含まれる山部が高くかつ傾きが大きい箇所で、薄膜のムラが発生しやすいことを見出した。また、板厚分布に含まれる谷部が深くかつ傾きが大きい箇所で、薄膜のムラが発生しやすいことを見出した。つまり、上記の高低差（Ｈ１，Ｈ２）及び傾き（Ｈ１／Ｄ１，Ｈ２／Ｄ２）が大きい箇所で、薄膜のムラが発生しやすいことを見出した。本発明では、板厚分布における上記の高低差（Ｈ１，Ｈ２）を小さくするか、高低差（Ｈ１，Ｈ２）が大きい場合には傾き（Ｈ１／Ｄ１，Ｈ２／Ｄ２）を小さくすることで、薄膜のムラの発生及びそれに伴う品質不良の発生を防止することが可能となる。

本発明は上記の課題を解決するためのものであり、板引き方向に沿う第一辺と、前記板引き方向に直交する方向に沿う第二辺と、第一主面と、厚さ方向において前記第一主面の反対側に位置する第二主面と、を有するディスプレイ用ガラス基板であって、前記板引き方向と直交する方向に沿って板厚分布を測定した場合において、前記板厚分布は、高低差及び幅を有する斜辺部を含み、前記斜辺部の前記高低差をＨ（ｍｍ）とし、前記斜辺部の前記幅をＤ（ｍｍ）としたとき、前記Ｈ及び前記Ｄが、下記式（７）及び下記式（８）を充足するか、又は、下記式（９）を充足することを特徴とする。
（Ｈ／Ｄ）≦１×１０^－４ ・・・（７）
Ｈ＞０．００５ ・・・（８）
Ｈ≦０．００５ ・・・（９）

本発明者等は、上記のように、板厚分布に含まれる斜辺部の高低差（Ｈ）を小さくするか、高低差（Ｈ）が大きい場合には傾き（Ｈ／Ｄ）を小さくすることで、薄膜のムラの発生及びそれに伴う品質不良の発生を防止することが可能となることを見出した。

本発明に係るディスプレイ用ガラス基板は、有機ＥＬディスプレイ用ガラス基板であってもよい。

本発明に係るディスプレイ用ガラス基板は、板厚の最大値と最小値との差が６μｍ以上であってもよい。板厚公差を小さくすることで、ガラス基板における偏肉の程度を低減するとともに、山部及び斜辺部の高低差や傾きの程度を小さくすることが可能となるが、ガラス基板の製造コストが増大してしまう。本発明では、板厚公差を上記の範囲とすることで、ガラス基板の製造コストを抑制しつつ、薄膜のムラの発生及びそれに伴う品質不良の発生を防止することが可能となる。

ディスプレイ用ガラス基板における前記第一主面及び前記第二主面は、火造り面であってもよい。或いは、前記第一主面は、火造り面であってもよく、前記第二主面は、エッチング面であってもよい。

本発明に係るディスプレイ用ガラス基板は、前記第一辺の寸法が１２００ｍｍ以上であってもよく、前記第二辺の寸法が１２００ｍｍ以上であってもよく、板厚寸法が０．２～１．３ｍｍであってもよい。

本発明によれば、ガラス基板上に形成される薄膜のムラを抑制することが可能となる。

ディスプレイ用ガラス基板の斜視図である。 ディスプレイ用ガラス基板の板厚分布を示すグラフである。 ディスプレイ用ガラス基板の板厚分布を示すグラフである。 ディスプレイ用ガラス基板の板厚分布を示すグラフである。 ディスプレイ用ガラス基板の製造方法を示すフローチャートである。 ディスプレイ用ガラス基板の製造装置を示す側面図である。

以下、本発明を実施するための形態について、図面を参照しながら説明する。図１乃至図６は、本発明に係るディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法の一実施形態を示す。本実施形態では、ガラス基板として、有機ＥＬディスプレイ用ガラス基板を例示するが、これに限らず、液晶ディスプレイその他の各種ディスプレイ用のガラス基板にも本発明を適用することができる。

図１に示すように、ガラス基板Ｇは、例えば矩形状（長方形状）に構成される。ガラス基板Ｇは、板引き方向Ｘに沿う第一辺Ｇａと、板引き方向Ｘと直交する方向Ｙに沿う第二辺Ｇｂと、第二辺Ｇｂとほぼ平行な第三辺Ｇｃと、第一辺Ｇａとほぼ平行な第四辺Ｇｄと、を有する。本実施形態において、第一辺Ｇａ及び第四辺Ｇｄの長さは、１２００ｍｍ以上であることが好ましく、１８００ｍｍ以上であることがより好ましく、２１００ｍｍ以上であることがさらにより好ましい。第二辺Ｇｂ及び第三辺Ｇｃの長さは、１２００ｍｍ以上であることが好ましく、２１５０ｍｍ以上であることがより好ましく、２４００ｍｍ以上であることがさらにより好ましい。一方で、第一辺Ｇａ、第二辺Ｇｂ、第三辺Ｇｃ及び第四辺Ｇｄの長さはいずれも、４０００ｍｍ以下であることが好ましい。

なお、「板引き方向」とは、ガラス基板Ｇを成形する際に板引きした方向を意味する。ガラス基板Ｇの板引き方向Ｘは、例えば、暗室でガラス基板Ｇの角度を調整しながら光源（例えばキセノンライト）から光を照射し、その透過光をスクリーンに投影することで、筋状の縞模様として観測できる。従って、成形後のガラス基板Ｇの状態であっても、成形時の板引き方向Ｘを特定できる。

また、「板引き方向に沿う」とは、板引き方向Ｘと幾何学的に平行な場合のみならず、実質的に平行とみなせる方向も含む意味である。また、「板引き方向と直交する方向に沿う」とは、板引き方向Ｘと幾何学的に直交する方向のみならず、実質的に直交するとみなせる方向も含む意味である。

ガラス基板Ｇは、第一主面ＧＳ１と、厚さ方向において第一主面ＧＳ１の反対側に位置する第二主面ＧＳ２と、を有する。本実施形態において、第一主面ＧＳ１は保証面とされており、第二主面ＧＳ２は非保証面とされている。ここで、「保証面」とは、例えばディスプレイの製造過程において薄膜が形成される側の面を意味する。

ガラス基板Ｇにおける第一主面ＧＳ１及び第二主面ＧＳ２は、火造り面であることが好ましい。ここで、「火造り面」とは、成形装置等と接触することなく、非接触の状態で形成された面をいう。このような火造り面は、未研磨であるにもかかわらず、優れた表面性状を有する。

この構成に限らず、ガラス基板Ｇは、第一主面ＧＳ１を火造り面とし、第二主面ＧＳ２をエッチング面としてもよい。ここで、「エッチング面」とは、粗面化処理が施された面をいう。粗面化処理の方法は、特に限定されるものではないが、エッチングなどの化学研磨、テープ研磨・ブラシ研磨・砥粒研磨などの機械研磨、化学機械研磨（ＣＭＰ）などが挙げられる。このようなエッチング面は、静電気の発生が低減されているので、例えば、支持台に載置されたガラス基板を持ち上げる際に、静電気に起因してガラス基板が支持台に貼り付いて破損することを防止できる。

ガラス基板Ｇの板厚（厚さ寸法）は、１．０ｍｍ以下であることが好ましく、０．７ｍｍ以下であることがより好ましく、０．５ｍｍ以下であることがさらにより好ましい。一方、ガラス基板Ｇの板厚は、０．２ｍｍ以上であることが好ましく、０．３ｍｍ以上であることがより好ましい。製造コストの増大を抑制する観点から、ガラス基板Ｇにおける板厚の最大値と最小値との差（板厚公差）の好ましい下限は、３μｍ以上、４μｍ以上、５μｍ以上、６μｍ以上、７μｍ以上、特に７．５μｍ以上である。一方、液晶ディスプレイのセルギャップを均一に保つ観点から、板厚公差は、２０μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは、１５μｍ以下である。

ガラス基板Ｇは、例えば、ケイ酸塩ガラス、シリカガラスが用いられ、好ましくはホウ珪酸ガラス、ソーダライムガラス、アルミノ珪酸塩ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラスにより構成される。ここで、無アルカリガラスとは、アルカリ成分（アルカリ金属酸化物）が実質的に含まれていないガラスのことであって、具体的には、アルカリ成分の重量比が３０００ｐｐｍ以下のガラスのことである。本発明におけるアルカリ成分の重量比は、好ましくは１０００ｐｐｍ以下であり、より好ましくは５００ｐｐｍ以下であり、最も好ましくは３００ｐｐｍ以下である。

図１に示すように、ガラス基板Ｇの第一主面ＧＳ１は、板引き方向Ｘと直交する方向Ｙとほぼ平行となるように設定される測定予定線ＭＬに沿って、その板厚分布（板厚分布曲線）が測定される。板厚分布の測定は、レーザ変位計により、１０ｍｍピッチで、測定予定線ＭＬに沿って行われる。レーザ変位計は、ガラス基板Ｇの厚さ方向における第一主面ＧＳ１と第二主面ＧＳ２との距離（板厚）を測定する。測定された板厚分布は谷部及び／又は山部を含む。

図２は、ガラス基板Ｇの第一主面ＧＳ１における板厚分布に含まれる谷部を示す。板厚分布ＴＤは、第一頂点Ａ０１と、第一頂点Ａ０１と隣り合う第二頂点Ｂ０１と、第二頂点Ｂ０１と隣り合う第三頂点Ａ０２と、を含む。第一頂点Ａ０１、第二頂点Ｂ０１及び第三頂点Ａ０２は、傾きがいずれも０（ゼロ）であり、谷部を構成する。

さらに、板厚分布ＴＤは、第一頂点Ａ０１と第二頂点Ｂ０１との間に位置する第一斜辺部Ｃ０１と、第二頂点Ｂ０１と第三頂点Ａ０２との間に位置する第二斜辺部Ｃ０２と、を含む。

第一斜辺部Ｃ０１は、第一高低差Ｈ１及び第一幅Ｄ１を有する。第一斜辺部Ｃ０１の第一高低差Ｈ１は、第一頂点Ａ０１と第二頂点Ｂ０１との高さの差である。第一斜辺部Ｃ０１の第一幅Ｄ１は、板引き方向Ｘと直交する方向Ｙにおける第一頂点Ａ０１と第二頂点Ｂ０１との距離である。

第二斜辺部Ｃ０２は、第二高低差Ｈ２及び第二幅Ｄ２を有する。第二斜辺部Ｃ０２の第二高低差Ｈ２は、第二頂点Ｂ０１と第三頂点Ａ０２との高低差である。第二斜辺部Ｃ０２の第二幅Ｄ２は、板引き方向Ｘと直交する方向Ｙにおける第二頂点Ｂ０１と第三頂点Ａ０２との距離である。

図３は、ガラス基板Ｇの第一主面ＧＳ１における板厚分布に含まれる山部を示す。板厚分布ＴＤは、第一頂点Ｂ１１と、第一頂点Ｂ１１と隣り合う第二頂点Ａ１１と、第二頂点Ａ１１と隣り合う第三頂点Ｂ１２と、を含む。第一頂点Ｂ１１、第二頂点Ａ１１及び第三頂点Ｂ１２は、傾きがいずれも０（ゼロ）であり、山部を構成する。

さらに、板厚分布ＴＤは、第一頂点Ｂ１１と第二頂点Ａ１１との間に位置する第一斜辺部Ｃ１１と、第二頂点Ａ１１と第三頂点Ｂ１２との間に位置する第二斜辺部Ｃ１２と、を含む。

第一斜辺部Ｃ１１は、第一高低差Ｈ１及び第一幅Ｄ１を有する。第一斜辺部Ｃ１１の第一高低差Ｈ１は、第一頂点Ｂ１１と第二頂点Ａ１１との高さの差である。第一斜辺部Ｃ１１の第一幅Ｄ１は、板引き方向Ｘと直交する方向Ｙにおける第一頂点Ｂ１１と第二頂点Ａ１１との距離である。

第二斜辺部Ｃ１２は、第二高低差Ｈ２及び第二幅Ｄ２を有する。第二斜辺部Ｃ１２の第二高低差Ｈ２は、第二頂点Ａ１１と第三頂点Ｂ１２との高低差である。第二斜辺部Ｃ１２の第二幅Ｄ２は、板引き方向Ｘと直交する方向Ｙにおける第二頂点Ａ１１と第三頂点Ｂ１２との距離である。

板厚分布ＴＤにおいて、山部及び／又は谷部が存在する場合において、第一高低差Ｈ１（ｍｍ）及び第一幅Ｄ１（ｍｍ）は、下記式（１）及び下記式（３）を充足するか、又は、下記式（４）を充足する。また、第二高低差Ｈ２（ｍｍ）及び第二幅Ｄ２（ｍｍ）は、下記式（２）及び下記式（５）を充足するか、又は、下記式（６）を充足する。

（Ｈ１／Ｄ１）≦１×１０^－４ ・・・（１）
（Ｈ２／Ｄ２）≦１×１０^－４ ・・・（２）
Ｈ１＞０．００５ ・・・（３）
Ｈ１≦０．００５ ・・・（４）
Ｈ２＞０．００５ ・・・（５）
Ｈ２≦０．００５ ・・・（６）

板厚分布ＴＤにおいて、複数の山部又は谷部が存在する場合には、全ての山部及び谷部が上記の式（１）から（６）による条件を充足する。換言すると、板厚分布ＴＤにおいて、高低差（Ｈ１，Ｈ２）が０．００５ｍｍより大きい場合に傾き（Ｈ１／Ｄ１，Ｈ２／Ｄ２）が１×１０^－４より大きい斜辺部を有する山部及び谷部が存在しない。

本発明者等は、鋭意研究を重ねた結果、ガラス基板Ｇの第一主面ＧＳ１に薄膜を形成する場合において、板厚分布に含まれる山部が高くかつ傾きが大きい箇所で、薄膜のムラが発生しやすいことを見出した。また、板厚分布に含まれる谷部が深くかつ傾きが大きい箇所で、薄膜のムラが発生しやすいことを見出した。つまり、上記の高低差（Ｈ１，Ｈ２）及び傾き（Ｈ１／Ｄ１，Ｈ２／Ｄ２）が大きい箇所で、薄膜のムラが発生しやすいことを見出した。すなわち、板厚分布ＴＤにおける上記の高低差（Ｈ１，Ｈ２）を小さくするか、又は、高低差（Ｈ１，Ｈ２）が大きい場合に傾き（Ｈ１／Ｄ１，Ｈ２／Ｄ２）を小さくすることで、薄膜のムラの発生及びそれに伴う品質不良の発生を防止することが可能となる。

図４は、ガラス基板Ｇの第一主面ＧＳ１における板厚分布の他の例を示す。図３に示すように、板厚分布ＴＤは、測定方向（板引き方向と直交する方向）Ｙに対して傾斜する斜辺部Ｃを有する。斜辺部Ｃは、高低差Ｈ及び幅Ｄを有する。

板厚分布ＴＤに斜辺部Ｃが存在する場合において、斜辺部Ｃの高低差Ｈ（ｍｍ）及び幅Ｄ（ｍｍ）が、下記式（７）及び下記式（８）を充足するか、又は、下記式（９）を充足する。

（Ｈ／Ｄ）≦１×１０^－４ ・・・（７）
Ｈ＞０．００５ ・・・（８）
Ｈ≦０．００５ ・・・（９）

板厚分布ＴＤにおいて、複数の斜辺部Ｃが存在する場合には、全ての斜辺部Ｃが上記の式（７）から（９）による条件を充足する。換言すると、板厚分布ＴＤにおいて、高低差Ｈが０．００５ｍｍより大きい場合に傾きＨ／Ｄが１×１０^－４より大きい斜辺部が存在しない。

本発明者等は、ガラス基板Ｇの第一主面ＧＳ１に薄膜を形成する場合において、板厚分布ＴＤに存在する斜辺部Ｃの高低差及び傾きが大きいと、薄膜のムラが発生しやすいことを見出した。すなわち、斜辺部Ｃの高低差Ｈを小さくするか、又は、高低差Ｈが大きい場合に傾き（Ｈ／Ｄ）を小さくすることで、薄膜のムラの発生及びそれに伴う品質不良の発生を防止することが可能となる。

ここで、下記の表１は、板厚分布に含まれる斜辺部の傾き及び高低差と、当該箇所での薄膜のムラの発生状況を示す。

Ｎｏ.1及び２では、いずれも、斜辺部の高低差（Ｈ）が０．００５ｍｍを上回る。Ｎｏ．１では、傾き（Ｈ／Ｄ）が１×１０^－４以下であり、その結果、薄膜のムラが発生しなかったのに対し、Ｎｏ．２では、傾き（Ｈ／Ｄ）が１×１０^－４を上回り、薄膜のムラが発生した。つまり、斜辺部に高低差があっても、傾き（Ｈ／Ｄ）が１×１０^－４以下であれば、薄膜のムラを抑制できることが確認できる。

Ｎｏ.２及び３では、いずれも、斜辺部の傾きが１×１０^－４を上回る。Ｎｏ．３では、高低差（Ｈ）が０．００５ｍｍ以下であり、その結果、薄膜のムラが発生しなかったのに対し、Ｎｏ．２では、高低差（Ｈ）が０．００５ｍｍを上回り、薄膜のムラが発生した。つまり、斜辺部に傾きがあっても、高低差（Ｈ）が０．００５ｍｍ以下であれば、薄膜のムラを抑制できることが確認できる。

薄膜のムラをより低減して均一な薄膜を形成する観点から、高低差（Ｈ１，Ｈ２，Ｈ）が０．００５ｍｍより大きい場合の傾き（Ｈ１／Ｄ１，Ｈ２／Ｄ２，Ｈ／Ｄ）は、０．５×１０^－４以下であることが好ましい。また、高低差（Ｈ１，Ｈ２，Ｈ）が０．００５ｍｍより大きい場合、高低差（Ｈ１，Ｈ２，Ｈ）は０．０２ｍｍ以下であることが好ましい。一方、傾きを小さくすることに伴う製造コストの増大を抑制する観点から、傾き（Ｈ１／Ｄ１，Ｈ２／Ｄ２，Ｈ／Ｄ）は０．０５×１０^－４以上であることが好ましい。

ガラス基板Ｇは、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウンドロー法などのダウンドロー法や、フロート法などの公知の成形方法によって製造される。本実施形態では、オーバーフローダウンドロー法によってガラス基板Ｇが製造される場合を例示する。

以下、上記構成のガラス基板Ｇを製造する方法について説明する。図５に示すように、本方法は、成形工程Ｓ１と、徐冷工程Ｓ２と、冷却工程Ｓ３と、切断工程Ｓ４と、端面加工工程Ｓ５と、洗浄工程Ｓ６と、検査工程Ｓ７と、を主に備える。

図６は、成形工程Ｓ１から切断工程Ｓ４までを実行するガラス基板Ｇの製造装置を示す。製造装置１は、成形工程Ｓ１を実行する成形炉２と、徐冷工程Ｓ２を実行する徐冷炉３と、冷却工程Ｓ３を行う冷却ゾーン４と、切断工程Ｓ４を実行する切断装置５と、を主に備える。この製造装置１では、成形炉２、徐冷炉３及び冷却ゾーン４のそれぞれに上下複数段のローラ対６が配置されている。

成形炉２の内部空間には、オーバーフローダウンドロー法により溶融ガラスＧｍからガラスリボンＧｒを成形する成形体７が配置されている。成形工程Ｓ１では、成形体７に供給された溶融ガラスＧｍを成形体７の頂部７ａに形成された溝部から溢れ出させ、この溶融ガラスＧｍを成形体７の両側面７ｂに沿って流れさせ、成形体７の下端でこれらの溶融ガラスＧｍを合流させる。これにより、板状のガラスリボンＧｒが連続成形される。その後、ガラスリボンＧｒは、ローラ対６によって縦姿勢（好ましくは鉛直姿勢）で下方に搬送される。この場合において、図６において示すＸ方向が板引き方向となる。

成形炉２の側壁部のうち、成形体７の両側面７ｂに沿って流れる溶融ガラスＧｍ及びガラスリボンＧｒと対向する部分（以下、「対向部」という）は、ガラスリボンＧｒの幅方向に接合部を有することなく、単一の耐火物で構成されることが好ましい。対向部をガラスリボンＧｒの幅方向に分割された複数の耐火物で構成する場合、耐火物同士が接合される接合部によってガラスリボンＧｒ（溶融ガラスＧｍ）の温度分布が不均一になりやすい。その結果、溶融ガラスＧｍの温度低下が生じた部位でガラスリボンＧｒの板厚に変化が生じ、これによるガラス板Ｇの板厚分布ＴＤにおいて、山部又は斜辺部の高さ（高低差）及び傾きが大きくなる。これに対し、対向部がガラスリボンＧｒの幅方向に接合部を有することなく、単一の耐火物で構成されれば、ガラス板Ｇの板厚分布ＴＤにおいて、山部及び斜辺部の高さ（高低差）及び傾きが小さくなる。

徐冷炉３の内部空間は、下方に向かって所定の温度勾配を有している。徐冷炉３の内部空間の温度勾配は、例えば、徐冷炉３の内面に設けた加熱装置などの温度調整装置により調整することができる。徐冷工程Ｓ２において、縦姿勢のガラスリボンＧｒは、ローラ対６によって搬送され、徐冷炉３の内部空間を下方に向かって移動するに連れて、温度が低くなるように徐冷される。この徐冷工程Ｓ２により、ガラスリボンＧｒの内部歪が低減する。

冷却工程Ｓ３では、徐冷炉３を通過したガラスリボンＧｒをローラ対６によって下方に搬送しつつ、冷却ゾーン４を通過させる。これにより、ガラスリボンＧｒは室温まで冷却される。

図６に示すように、切断装置５は、冷却ゾーン４の下方に位置する。切断工程Ｓ４では、この切断装置５によって、冷却ゾーン４を通過した縦姿勢のガラスリボンＧｒを所定の長さ毎に幅方向に切断する。これにより、ガラスリボンＧｒからガラス基板Ｇを順次切り出すことができる。ここで、ガラスリボンＧｒの幅方向は、ガラスリボンＧｒの長手方向（板引き方向Ｘ）と直交する方向であり、本実施形態では実質的に水平方向と一致する。

切断装置５は、冷却ゾーン４から降下してきたガラスリボンＧｒの一方の主面上を走行することで、ガラスリボンＧｒの幅方向に沿ってスクライブ線Ｓを形成するホイールカッタ（図示省略）と、スクライブ線Ｓが形成された領域に他方の主表面側から支持する接触部８と、切り出し対象のガラス基板Ｇに対応する部分のガラスリボンＧｒを保持した状態で、スクライブ線Ｓ及びその近傍に曲げ応力を作用させるための動作（図６におけるＡ方向の動作）を行う保持部９と、を備えている。

切断工程Ｓ４において、ホイールカッタは、降下中のガラスリボンＧｒに追従降下しつつ、ガラスリボンＧｒの幅方向の全域又は一部にスクライブ線Ｓを形成する。なお、スクライブ線Ｓはレーザの照射等によって形成してもよい。

接触部８は、降下中のガラスリボンＧｒに追従降下しつつ、ガラスリボンＧｒの幅方向の全域又は一部と接触する平面を有する板状体（定盤）から構成されている。接触部８の接触面は、幅方向に湾曲した曲面であってもよい。保持部９は、ガラスリボンＧｒの幅方向両側の側端部を表裏両側から挟持するチャックにより構成されている。保持部９は、ガラスリボンＧｒの側端部のそれぞれにおいて、ガラスリボンＧｒの長手方向に間隔を置いて複数設けられている。一方側の側端部に設けられた複数の保持部９は、これら全てが同一のアーム（図示省略）によって保持されている。また同様に、他方側の側端部に設けられた複数の保持部９も、これら全てが同一のアーム（図示省略）によって保持されている。

ガラスリボンＧｒにスクライブ線Ｓが形成されると、各々のアームの動作により、複数の保持部９が降下中のガラスリボンＧｒに追従降下しつつ、接触部８を支点としてガラスリボンＧｒを湾曲させるための動作（Ａ方向の動作）を行う。これにより、スクライブ線Ｓ及びその近傍に曲げ応力を付与し、ガラスリボンＧｒをスクライブ線Ｓに沿って幅方向に割断する。この割断の結果、ガラスリボンＧｒからガラス基板Ｇが切り出される。その後、ガラスリボンＧｒの幅方向の端部（耳部）に相当するガラス基板Ｇの端部が切除される。これにより、四辺Ｇａ～Ｇｄ、第一主面ＧＳ１及び第二主面ＧＳ２を有する矩形状のガラス基板Ｇが製造される。

端面加工工程Ｓ５では、ガラス基板Ｇの各辺Ｇａ～Ｇｄに対応する端面に対し、研削加工、及び研磨加工が施される。その後、洗浄工程Ｓ６において、ガラス基板Ｇに対し、洗浄具による各主面ＧＳ１，ＧＳ２の擦り洗浄が行われる。次に、ガラス基板Ｇに対してすすぎ洗浄が行われる。その後、エアナイフ等を備える乾燥装置によって、ガラス基板Ｇに付着したすすぎ液が除去される。必要に応じ、第二主面ＧＳ２に粗面化処理を施す粗面化工程を実施してもよい。

検査工程Ｓ７では、ガラス基板Ｇの板厚の測定が行われる。ガラス基板Ｇの板厚は、例えばレーザ変位計によって測定される。板厚分布は、ガラス基板Ｇの板引き方向Ｘと直交する方向Ｙに沿って１０ｍｍピッチで複数箇所を測定する。この他、検査工程Ｓ７では、ガラス基板Ｇにおける欠陥の有無等が公知の検査装置によって検査される。

検査工程Ｓ７において、上記の式（１）～（６）による条件、又は上記の式（７）～（９）による条件を充足するか否か、ガラス基板Ｇの厚さ分布における偏肉の程度、及び欠陥の程度等に基づいて、製品としてのガラス基板Ｇの良否が判定されることとなる。

なお、本発明は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、上記した作用効果に限定されるものでもない。本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。

Ａ０１，Ｂ１１ 第一頂点
Ａ０２，Ａ１１ 第二頂点
Ｂ０１，Ｂ１２ 第三頂点
Ｃ 斜辺部
Ｄ 斜辺部の幅
Ｄ１ 第一頂点と第二頂点との距離
Ｄ２ 第二頂点と第三頂点との距離
Ｇ ガラス基板
Ｇａ ガラス基板の第一辺
Ｇｂ ガラス基板の第二辺
ＧＳ１ ガラス基板の第一主面
ＧＳ２ ガラス基板の第二主面
Ｈ 斜辺部の高低差
Ｈ１ 第一頂点と第二頂点の高低差
Ｈ２ 第二頂点と第三頂点の高低差
ＴＤ 板厚分布
Ｘ 板引き方向
Ｙ 板引き方向と直交する方向

Claims (7)

1. 板引き方向に沿う第一辺と、前記板引き方向に直交する方向に沿う第二辺と、第一主面と、厚さ方向において前記第一主面の反対側に位置する第二主面と、を有するディスプレイ用ガラス基板であって、
   前記板引き方向と直交する方向に沿って板厚分布を測定した場合において、前記板厚分布は、第一頂点と、前記第一頂点と隣り合う第二頂点と、前記第二頂点と隣り合う第三頂点と、を含み、
   前記第一頂点と前記第二頂点の高低差をＨ１（ｍｍ）とし、前記第二頂点と前記第三頂点の高低差をＨ２（ｍｍ）とし、前記板引き方向と直交する方向における前記第一頂点と前記第二頂点との距離をＤ１（ｍｍ）とし、前記板引き方向と直交する方向における前記第二頂点と前記第三頂点との距離をＤ２（ｍｍ）としたとき、
   前記Ｈ１及び前記Ｄ１が、下記式（１）及び下記式（３）を充足するか、又は、下記式（４）を充足し、
   前記Ｈ２及び前記Ｄ２が、下記式（２）及び下記式（５）を充足するか、又は、下記式（６）を充足することを特徴とするディスプレイ用ガラス基板。
   （Ｈ１／Ｄ１）≦１×１０^－４ ・・・（１）
   （Ｈ２／Ｄ２）≦１×１０^－４ ・・・（２）
   Ｈ１＞０．００５ ・・・（３）
   Ｈ１≦０．００５ ・・・（４）
   Ｈ２＞０．００５ ・・・（５）
   Ｈ２≦０．００５ ・・・（６）
2. 板引き方向に沿う第一辺と、前記板引き方向に直交する方向に沿う第二辺と、第一主面と、厚さ方向において前記第一主面の反対側に位置する第二主面と、を有するディスプレイ用ガラス基板であって、
   前記板引き方向と直交する方向に沿って板厚分布を測定した場合において、前記板厚分布は、高低差及び幅を有する斜辺部を含み、
   前記斜辺部の前記高低差をＨ（ｍｍ）とし、前記斜辺部の前記幅をＤ（ｍｍ）としたとき、
   前記Ｈ及び前記Ｄが、下記式（７）及び下記式（８）を充足するか、又は、下記式（９）を充足することを特徴とするディスプレイ用ガラス基板。
   （Ｈ／Ｄ）≦１×１０^－４ ・・・（７）
   Ｈ＞０．００５ ・・・（８）
   Ｈ≦０．００５ ・・・（９）
3. 有機ＥＬディスプレイ用ガラス基板である請求項１又は２に記載のディスプレイ用ガラス基板。
4. 板厚の最大値と最小値との差が６μｍ以上である請求項１から３のいずれか一項に記載のディスプレイ用ガラス基板。
5. 前記第一主面及び前記第二主面は、火造り面である請求項１から４のいずれか一項に記載のディスプレイ用ガラス基板。
6. 前記第一主面は、火造り面であり、前記第二主面は、エッチング面である請求項１から４のいずれか一項に記載のディスプレイ用ガラス基板。
7. 前記第一辺の寸法が１２００ｍｍ以上であり、前記第二辺の寸法が１２００ｍｍ以上であり、板厚が０．２～１．３ｍｍである請求項１から６のいずれか一項に記載のディスプレイ用ガラス基板。
   

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