JP2022066928A - 座標リンケージシステム及び座標リンケージ方法 - Google Patents

座標リンケージシステム及び座標リンケージ方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2022066928A
JP2022066928A JP2020175544A JP2020175544A JP2022066928A JP 2022066928 A JP2022066928 A JP 2022066928A JP 2020175544 A JP2020175544 A JP 2020175544A JP 2020175544 A JP2020175544 A JP 2020175544A JP 2022066928 A JP2022066928 A JP 2022066928A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coordinate system
coordinates
observation
coordinate
virtual
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2020175544A
Other languages
English (en)
Inventor
祐一郎 大堀
Yuichiro Ohori
議覚 水野
Noriaki Mizuno
修 鈴木
Osamu Suzuki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP2020175544A priority Critical patent/JP2022066928A/ja
Priority to EP21201997.0A priority patent/EP3985607A1/en
Priority to US17/500,038 priority patent/US20220122277A1/en
Priority to CN202111199244.3A priority patent/CN114388320A/zh
Publication of JP2022066928A publication Critical patent/JP2022066928A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/20Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00Image analysis
    • G06T7/30Determination of transform parameters for the alignment of images, i.e. image registration
    • G06T7/33Determination of transform parameters for the alignment of images, i.e. image registration using feature-based methods
    • G06T7/337Determination of transform parameters for the alignment of images, i.e. image registration using feature-based methods involving reference images or patches
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/225Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
    • G01N23/2251Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T1/00General purpose image data processing
    • G06T1/0007Image acquisition
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00Image analysis
    • G06T7/70Determining position or orientation of objects or cameras
    • G06T7/73Determining position or orientation of objects or cameras using feature-based methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/045Investigating materials by wave or particle radiation combination of at least 2 measurements (transmission and scatter)
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/40Imaging
    • G01N2223/401Imaging image processing
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/40Imaging
    • G01N2223/417Imaging recording with co-ordinate markings
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/40Imaging
    • G01N2223/418Imaging electron microscope
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/50Detectors
    • G01N2223/507Detectors secondary-emission detector
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/10Image acquisition modality
    • G06T2207/10056Microscopic image
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/10Image acquisition modality
    • G06T2207/10056Microscopic image
    • G06T2207/10061Microscopic image from scanning electron microscope

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

【課題】観察装置の追加、変更等を行い易い座標リンケージシステムを実現する。【解決手段】観察装置10が有する装置座標系16上の観察座標が、変換式24により、仮想座標系22上の観察座標に変換される。続いて、仮想座標系22上の観察座標が、逆変換式32により、観察装置12が有する装置座標系18上の観察座標に変換される。仮想座標系22は、いずれの装置座標系にも依存しない論理的な座標系である。【選択図】図1

Description

本発明は、座標リンケージシステム及び座標リンケージ方法に関し、特に、複数の観察装置の間で観察座標を授受するための技術に関する。
試料を観察する観察装置として、光学顕微鏡、電子顕微鏡、試料加工装置、等が挙げられる。複数の観察装置を連携させることにより観察システムを構築し得る。観察システムによれば、例えば、光学顕微鏡により試料を一定の倍率で観察した上で、その試料を電子顕微鏡により高倍率で観察し得る。観察システムは、一般に、複数の観察装置の間で観察座標を授受するための座標リンケージシステムを備えている。
座標リンケージシステムは、試料をやり取りする複数の観察装置の間において座標変換を行うものである。例えば、第1観察装置が有する装置座標系上の観察座標が、第2観察装置が有する装置座標系上の観察座標に変換される。3台以上の観察装置により構成される観察システムも増えつつある。
特許文献1に記載された座標リンケージシステムでは、共通座標系が利用されている。共通座標系は、試料の外形又は特徴点で定義される座標系であり、試料を観察することにより定義されるものである。共通座標系は、観察装置に依存する座標系である。
特許文献2に記載された座標リンケージシステムでは、複数のマーカーを備えた試料ホルダが利用されている。一方の観察装置において複数のマーカーについての複数のピクセル座標が特定され、他方の観察装置において複数のマーカーについての複数のステージ座標が特定されている。複数のピクセル座標及び複数のステージ座標に基づいて座標変換係数列が演算されている。特許文献2には、いずれの観察装置にも依存しない特別な座標系は開示されていない。
特開平6-258240号公報 特開2018-55924号公報
座標リンケージシステムにおいて、試料を授受する観察装置の組ごとに、具体的には、座標情報を伝送するパスごとに、変換式(変換係数列)を用意することが考えられる。その場合、座標リンケージシステムに対して新たな観察装置が追加された場合や、既存の観察装置においてメンテナンス等が生じてその装置座標系に変化が生じた場合に、少なからずの変換式を生成又は再生成しなければならなくなる。この問題は、観察システムを構成する観察装置の台数が増えれば増えるほど、大きくなる。
本発明の目的は、観察装置の追加、変更等に容易に対応できる座標リンケージシステムを実現することにある。あるいは、本発明の目的は、複数の装置座標系を繋ぐ新しいアーキテクチャーを実現することにある。
本発明に係る座標リンケージシステムは、第1観察装置が有する第1装置座標系上の観察座標をいずれの観察装置にも依存しない仮想座標系上の観察座標に変換する変換手段と、前記仮想座標系上の観察座標を第2観察装置が有する第2装置座標系上の観察座標に変換する逆変換手段と、を含むことを特徴とする。
本発明に係る座標リンケージ方法は、第1観察装置が有する第1装置座標系上の観察座標をいずれの観察装置にも依存しない仮想座標系上の観察座標に変換する工程と、前記仮想座標系上の観察座標を第2観察装置が有する第2装置座標系上の観察座標に変換する工程と、を含むことを特徴とする。
本発明に係るプログラムは、情報処理装置において実行されるプログラムであって、第1観察装置が有する第1装置座標系上の観察座標をいずれの観察装置にも依存しない仮想座標系上の観察座標に変換する機能と、前記仮想座標系上の観察座標を第2観察装置が有する第2装置座標系上の観察座標に変換する機能と、を含むことを特徴とする。
本発明によれば、観察装置の追加、変更等に容易に対応できる座標リンケージシステムを実現できる。あるいは、本発明によれば、複数の装置座標系を繋ぐ新しいアーキテクチャーを実現できる。
実施形態に係る座標リンケージシステムを示す概念図である。 比較例に係る座標リンケージシステムを示す概念図である。 第1実施例を示すブロック図である。 準備過程を示すフローチャートである。 稼働過程を示すフローチャートである。 第2実施例を示すブロック図である。 第3実施例を示すブロック図である。 装置座標系の下で定義されるパラメータを示す図である。 仮想座標系の下で定義されるパラメータを示す図である。 複数の基準座標を示す図である。 点検用基準座標を示す図である。 複数の高さ基準座標を示す図である。
以下、実施形態を図面に基づいて説明する。
(1)実施形態の概要
実施形態に係る座標リンケージシステムは、変換手段、及び、逆変換手段を含む。変換手段は、第1観察装置が有する第1装置座標系上の観察座標をいずれの観察装置にも依存しない仮想座標系上の観察座標に変換する。逆変換手段は、仮想座標系上の観察座標を第2観察装置が有する第2装置座標系上の観察座標へ変換する。
上記構成によれば、第1装置座標系と第2装置座標系が仮想座標系を媒介として間接的に結び付けられる。第1装置座標系は、第1観察装置に依存する現実の物理的な座標系であり、第2装置座標系も、第2観察装置に依存する現実の物理的な座標系である。一方、仮想座標系は、いずれの観察装置にも依存しない論理的な座標系であり、それは標準座標系とも言い得る。仮想座標系では誤差や経時変化が想定されない。すなわち、仮想座標系それ自体に対する事後的なメンテナンスは不要である。個々の装置座標系に対して直接的に関係しているのは仮想座標系であるので、観察装置の追加、変更等による影響は、座標リンケージシステム内において局所的又は限定的となる。結果として、観察装置の追加、変更等を容易に行える。
実施形態に係る座標リンケージシステムは、変換式生成手段、及び、逆変換式生成手段を含む。変換式生成手段は、第1装置座標系上の複数の実測基準座標及び仮想座標系上の複数の登録基準座標に基づいて、第1装置座標系上の観察座標を仮想座標系上の観察座標に変換するための変換式を生成する。逆変換式生成手段は、仮想座標系上の複数の登録基準座標及び第2装置座標系上の複数の実測基準座標に基づいて、仮想座標系上の観察座標を第2装置座標系上の観察座標に変換するための逆変換式を生成する。
システム構築時、システムメンテナンス時、等において、変換式生成手段及び逆変換式生成手段が機能する。変換式及び逆変換式が生成された以降、同じ変換式及び逆変換式を使い続けることが可能である。もっとも、必要に応じて、座標変換の都度、又は、定期的に、変換式及び逆変換式を再生成してもよい。
ある装置座標系が追加され又はある装置座標系に変化があった場合、当該装置座標系と仮想座標系との間の変換式(又は逆変換式)だけを生成又は再生成すればよく、他の装置座標系と仮想座標系との間の変換式(又は逆変換式)の生成又は再生成は不要である。この利点は、座標リンケージシステムに含まれる観察装置の台数が増えれば増えるほど、大きくなる。
一般に、個々の装置座標系と仮想座標系との間に、変換式及び逆変換式のペアが個別的に用意される。もっとも、使用可能性のない変換式又は逆変換式まで用意しておく必要はない。変換式及び逆変換式の各実体は、実施形態において、変換係数列である。座標変換の内容として、水平方向の座標変換、回転方向の座標変換、高さ方向の座標変換、等が挙げられる。変換及び逆変換の一連の過程において、仮想座標系は事実上キャンセルされてしまうので、例えば、設計図における任意の位置を仮想座標系上の原点とすることが可能である。
実施形態に係る座標リンケージシステムは、複数のマーカーを備える試料ホルダを含む。複数の登録基準座標は、仮想座標系上の複数のマーカー座標である。第1装置座標系上の複数の実測基準座標は、第1観察装置に対して試料ホルダを装着した状態において第1観察装置によって複数のマーカーを観察することにより特定される複数のマーカー座標である。第2装置座標系上の複数の実測基準座標は、第2観察装置に対して試料ホルダを装着した状態において第2観察装置によって複数のマーカーを観察することにより特定される複数のマーカー座標である。
試料ホルダは、通常、複数の観察装置間において共用される。実施形態では、その試料ホルダに複数のマーカーが設けられる。その場合、ホルダの設計図上の座標系を仮想座標系にし得る。ホルダに保持される実試料又はダミー試料における複数の特徴点を複数のマーカーとしてもよい。変換式及び逆変換式を生成する準備過程の後の稼働過程では、複数のマーカーを有していない任意のホルダを使用し得る。
実施形態に係る座標リンケージシステムは、中継装置を含む。中継装置には、第1観察装置及び第2観察装置が接続される。中継装置は、変換手段及び逆変換手段を有する。この構成によれば、座標リンケージシステムの構築に際して、各観察装置に対して特別な構成を付加する必要がないという利点を得られる。
実施形態において、中継装置は、第1観察装置で取得された観察画像及びそれに対応する仮想座標系上の観察座標を記憶する記憶部を有する。この構成では、中継装置は画像サーバーとして機能する。
実施形態において、中継装置は、記憶部から読み出された観察画像を第2観察装置へ提供する際に、記憶部から読み出された仮想座標系上の観察座標を第2装置座標系上の観察座標に変換した上で、変換後の観察座標を第2観察装置へ提供する。すなわち、観察画像のアップロードに際しては必要な座標変換が実施され、また、観察画像のダウンロードに際しては必要な逆変換が実施される。記憶された複数の観察画像を一覧表示し、その中から特定の観察画像をユーザーに選択させてもよい。その場合、ユーザーにより指定された観察装置へ観察画像がダウンロードされ、同時に、その観察画像に対応する観察座標がダウンロードされる。ダウンロードの過程で、仮想座標系上の観察座標がダウンロード先の装置座標系上の観察座標に変換される。
実施形態において、変換手段は、第1変換手段、及び、第2変換手段を含み、逆変換手段は、第1逆変換手段、及び、第2逆変換手段を含む。第1変換手段は、第1装置座標系上の観察座標を仮想座標系上の観察座標に変換する。第2変換手段は、第2装置座標系上の観察座標を仮想座標系上の観察座標に変換する。第1逆変換手段は、仮想座標系上の観察座標を第1装置座標系上の観察座標へ変換する。第2逆変換手段は、仮想座標系上の観察座標を第2装置座標系上の観察座標へ変換する。
実施形態に係る座標リンケージシステムは、第1変換式生成手段、第2変換式生成手段、第1逆変換式生成手段、及び、第2逆変換式生成手段を含む。第1変換式生成手段は、第1装置座標系上の複数の実測基準座標及び仮想座標系上の複数の登録基準座標に基づいて、第1装置座標系上の観察座標を仮想座標系上の観察座標に変換するための第1変換式を生成する。第2変換式生成手段は、第2装置座標系上の複数の実測基準座標及び仮想座標系上の複数の登録基準座標に基づいて、第2装置座標系上の観察座標を仮想座標系上の観察座標に変換するための第2変換式を生成する。第1逆変換式生成手段は、仮想座標系上の複数の登録基準座標及び第1装置座標系上の複数の実測基準座標に基づいて、仮想座標系上の観察座標を第1装置座標系上の観察座標に変換するための第1逆変換式を生成する。第2逆変換式生成手段は、仮想座標系上の複数の登録基準座標及び第2装置座標系上の複数の実測基準座標に基づいて、仮想座標系上の観察座標を第2装置座標系上の観察座標に変換するための第2逆変換式を生成する。
実施形態において、第1観察装置は第1変換手段及び第1逆変換手段を含む。第2観察装置は第2変換手段及び第2逆変換手段を含む。この構成によれば、個々の観察装置において必要な座標変換を行える。
実施形態に係る座標リンケージ方法は、変換工程、及び、逆変換工程を含む。変換工程では、第1観察装置が有する第1装置座標系上の観察座標が、いずれの観察装置にも依存しない仮想座標系上の観察座標に変換される。逆変換工程では、仮想座標系上の観察座標が、第2観察装置が有する第2装置座標系上の観察座標に変換される。
上記座標リンケージ方法は、ハードウエアの機能により又はソフトウエアの機能により実現され得る。後者の場合、上記座標リンケージ方法を実行するプログラムが、ネットワークを介して又は可変型記憶媒体を介して、情報処理装置へインストールされる。情報処理装置の概念には、コンピュータ、座標変換装置、中継装置、観察装置、観察システム等が含まれる。観察装置の概念には、試料に対して処理又は操作を行う装置が含まれ得る。
(2)実施形態の詳細
図1には、実施形態に係る座標リンケージシステムが概念図として示されている。座標リンケージシステムは、観察システムであり、又は、観察システムの基盤部分に相当する。座標リンケージシステムは、図示の例において、3つの観察装置10,12,14で構成される。各観察装置10,12,14は、例えば、光学顕微鏡、電子顕微鏡、試料加工装置である。電子顕微鏡の一例として、走査電子顕微鏡が挙げられる。試料加工装置の一例として、集束イオンビーム加工装置が挙げられる。集束イオンビーム加工装置は、試料を観察する機能を備えており、それも観察装置の一種である。上記で挙げた以外にも、観察機能を備えた様々な装置が提供されている。
観察装置10は、それ固有の物理的な座標系としての装置座標系(device coordinate system)16を有する。装置座標系16は、例えば、試料ホルダを搭載する可動ステージに対して定義される座標系である。観察装置12及び観察装置14も、固有の物理的な座標系としての装置座標系18,20を有する。それらの装置座標系18,20も試料ホルダを搭載する可動ステージに対して定義される座標系である。もっとも、ビーム走査座標系を装置座標系としてもよい。
複数の装置座標系16,18,20は、仮想座標系22を媒介として、間接的に相互に結び付けられる。仮想座標系22は、実施形態において、試料ホルダの設計図上の座標系である。仮想座標系22として任意の座標系を採用し得る。仮想座標系22は、いずれの観察装置10,12,14にも依存しない机上の論理的な座標系である。それは、複数の装置座標系16,18,20の相互間で、インターフェイスとして機能する。メンテナンス等によっていずれかの装置座標系16,18,20に変化が生じても、その影響は仮想座標系22それ自体には及ばない。座標リンケージシステムに対して新規の観察装置が追加されても、座標リンケージシステムからいずれかの観察装置が除外されても、それらによる影響は仮想座標系22それ自体には及ばない。
装置座標系16と仮想座標系22の間には、変換式24及び逆変換式30が用意されている。装置座標系16に依拠する観察座標、端的に言えば装置座標系16上の観察座標が変換式24により仮想座標系22上の観察座標に変換される。仮想座標系22上の観察座標が逆変換式30により装置座標系16上の観察座標に変換される。観察座標は試料における特定の部位の座標であり、特定の部位は観察部位、加工部位等である。変換式24及び逆変換式30の各実体は変換係数列である。以下に説明する変換式及び逆変換式の各実体も同様である。
装置座標系18と仮想座標系22の間には、変換式26及び逆変換式32が用意されている。装置座標系18上の観察座標が変換式26により仮想座標系22上の観察座標に変換される。仮想座標系22上の観察座標が逆変換式32により装置座標系18上の観察座標に変換される。
装置座標系20と仮想座標系22の間には、変換式28及び逆変換式34が用意されている。装置座標系20上の観察座標が変換式28により仮想座標系22上の観察座標に変換される。仮想座標系22上の観察座標が逆変換式34により装置座標系20上の観察座標に変換される。
図1に示される構成において、例えば、観察装置14のメンテナンス等により装置座標系20に何等かの変化が生じ、それ故、変換式28及び逆変換式34の再生成が必要となっても、変換式24,26及び逆変換式30,32を再生成する必要はない。それらをそのまま使用し得る。他の装置座標系16,18において変化が生じた場合も同様である。いずれの観察装置にも依存しない仮想座標系をインターフェイスとすることにより、座標リンケージシステムの拡張性及び柔軟性を増大でき、座標リンケージシステムの構築やメンテナンスに際してその負担を大幅に軽減できる。
図2には、比較例に係る座標リンケージシステムが概念図として示されている。座標リンケージシステムは、3つの観察装置10,12,14を有し、それらは装置座標系16,18,20を有している。観察装置10と観察装置12の間には変換式36,38が用意されており、観察装置12と観察装置14の間には変換式40,42が用意されており、観察装置10と観察装置14の間には変換式44,46が用意されている。例えば、変換式36により、装置座標系16上の観察座標が装置座標系18上の観察座標に直接的に変換される。また、変換式38により、装置座標系18上の観察座標が装置座標系16上の観察座標に直接的に変換される。
比較例において、観察装置の個数をnで表現した場合、nP2個の変換式を用意する必要がある。例えば、観察装置14のメンテナンスにより、装置座標系20に変化が生じた場合、4個の変換式40,42,44,46を再作成する必要がある。
これに対し、図1に示した実施形態においては、2n個の変換式を用意するだけで済む。特定の装置座標系に変更が生じても、それに関係する2個の変換式を再作成するだけで済む。実施形態によれば、座標リンケージシステム内の観察装置の台数が増えれば増えるほど、より大きな利点を得られる。
図3には、第1実施例に係る座標リンケージシステムが示されている。図3に示されている内容は図1に示した概念を具体化したものに相当する。
図3において、複数の観察装置10,12,・・・の間に、中継装置50が設けられている。中継装置50は、コンピュータ等により構成される座標リンケージサーバーである。複数の観察装置10,12,・・・と中継装置50は、図示されていないネットワークを介して接続される。
仮想座標系22は、例えば、試料ホルダの設計図上の座標系である。符号52aは、設計図上の図形としての試料ホルダを示している。試料ホルダ52aには、2つの基準点P,Qが定められている。実際には、一定の精度を担保するため、3つ以上の基準点を定めることが望まれる。2つの基準点P,Qの実体は2つのマーカーの位置である。
中継装置50に対して、仮想座標系の下で定義された、基準点Pの座標(基準座標)PS及び基準点Qの座標(基準座標)QSが与えられる。基準座標PS及び基準座標QSは、それぞれ、中継装置50に登録される登録基準座標である。例えば、基準座標PS及び基準座標QSは、それぞれ、X軸座標及びY軸座標により構成される。
観察装置10は、可動ステージ54を有する。可動ステージ54の位置及び姿勢を制御するための座標系が装置座標系16である。可動ステージ54上の所定の位置に、所定の向きで、試料ホルダ52が装着される。変換式及び逆変換式を生成する準備過程では、試料ホルダ52単体が可動ステージ54に装着される。その後における試料観察過程つまり座標リンケージシステムの稼働過程では、試料55を保持した試料ホルダ52が可動ステージ54に装着される。
試料ホルダ52には、基準点P,Qを示す2つのマーカーが設けられている。図示されていないCCDカメラにより、試料ホルダ52が撮像される。CCDカメラの出力信号が画像生成部56へ送られている。画像生成部56において、試料ホルダ52の上面を示す画像が生成される。その画像内には、試料ホルダ像の一部として、2つのマーカー像が含まれる。図示の構成例では、画像解析部58による画像の解析により、2つのマーカー像が抽出され、2つのマーカー像から2つの基準点の座標PA,QAが特定される。特定された2つの座標PA,QAは、それぞれ、実際に測定された実測基準座標である。
表示器に試料ホルダ像を表示し、ユーザーにより2つの基準点の位置を指定させてもよい。その場合、その指定により、実測基準座標PA,QAが特定される。その構成を採用する場合、画像解析部58は不要となる。なお、試料ホルダにダミー試料を設け、ダミー試料における複数の特徴点を複数の基準点としてもよい。実試料における複数の特徴点を複数の基準点としてもよい。
制御部60は、プロセッサを含み、それは制御器及び演算器として機能する。制御部60により、観察装置10の動作が制御される。制御部60は、中継装置50との間でデータを授受する機能を有する。観察装置10は、例えば、光学顕微鏡であり、その場合、可動ステージ54の位置はマニュアルで調整される。準備過程において、制御部60は、中継装置50に対して、実測基準座標PA,QAを示すデータを送信する。
準備過程後の稼働過程では、試料55を保持した試料ホルダ52が可動ステージ54に装着される。その状態で、試料55が観察され、また、CCDカメラを利用して試料の画像が取得される。図3において、Taは試料55における観察部位を示している。TAは、観察部位の座標つまり観察座標を示している。観察座標TAは、可動ステージ54の位置情報から特定され、ホルダ像の解析により特定され、あるいは、ホルダ像上でのユーザー指定により特定される。図示の例では、稼働過程において、観察座標TAを示すデータが中継装置50へ送られている。なお、稼働過程において、2つのマークを有しない試料ホルダや他の形態を有する試料ホルダが用いられてもよい。
観察装置12は、可動ステージ61を有する。可動ステージ61を制御するための座標系が装置座標系18である。観察装置12は、図示の例では、走査電子顕微鏡である。電子ビームの走査も装置座標系18に従って制御される。
準備過程では、観察装置12においても、可動ステージ61上の所定の位置に、所定の向きで、試料ホルダ52が装着される。その後の稼働過程では、試料55を保持した試料ホルダ52が可動ステージ61に装着される。観察装置10への試料ホルダ52のセットに先立って、観察装置12に対して試料ホルダ52をセットしてもよい。
観察装置12において、図示されていないCCDカメラにより、試料ホルダ52が撮像される。CCDカメラの出力信号が画像生成部62へ送られている。画像生成部62において、試料ホルダ52の上面を示す画像が生成される。その画像内には、試料ホルダ像の一部として、2つのマーカー像が含まれる。画像解析部64による試料ホルダ像の解析により、2つのマーカー像が抽出され、2つのマーカー像から2つの基準点の座標PB,QBが特定される。特定された2つの座標PB,QBはそれぞれ実測基準座標として用いられる。既に説明したように、表示されたホルダ像上において、2つの基準点の位置をユーザーが指定してもよい。
制御部66は、プロセッサを含み、それは制御器及び演算器として機能する。制御部66により、可動ステージ61及び照射部68を含む観察装置12の動作が制御される。制御部66は、中継装置50との間でデータを授受する機能を有する。準備過程において、制御部60は、中継装置50に対して実測基準座標PB,QBを示すデータを送信する。
準備過程後の稼働過程では、試料55を保持した試料ホルダ52が可動ステージ61に装着される。その状態で、CCDカメラを利用して試料55の画像が生成される。照射部68は電子ビームを生成及び走査するモジュールである。電子ビームの走査により、試料55の画像(SEM画像)が生成されてもよい。図3において、Tbは試料55における観察部位を示している。TBは、観察部位の座標つまり観察座標を示している。以下に説明するように、中継装置50において、観察座標TAから観察座標TBが演算される。
中継装置50は、プロセッサを有し、図3においては、プロセッサが発揮する複数の機能が複数のブロックで表現されている。具体的には、中継装置50は、変換式生成部70、変換部72、逆変換式生成部74、及び、逆変換部76を有している。なお、逆変換は変換の一種であるが、座標変換方向を明示的に区別するため、場合により、変換と逆変換の用語を使い分けることにする。
変換式生成部70及び逆変換式生成部74は、準備過程において機能する。変換式生成部70は、実測基準座標PA,QA及び登録基準座標PS,QSに基づいて、装置座標系16から仮想座標系22への座標変換を行うための変換式ASを生成する。また、変換式生成部70は、実測基準座標PB,QB及び登録基準座標PS,QSに基づいて、装置座標系18から仮想座標系22への座標変換を行う変換式BSを生成する。変換式AS,BSの各実体は変換係数列である。生成された変換式AS,BSは、稼働過程で機能する変換部72に与えられる。
逆変換式生成部74は、登録基準座標PS,QS及び実測基準座標PA,QAに基づいて、仮想座標系22から装置座標系16への座標変換を行う逆変換式SAを生成する。また、逆変換式生成部74は、登録基準座標PS,QS及び実測基準座標PB,QBに基づいて、仮想座標系22から装置座標系18へ座標変換を行う逆変換式SBを生成する。逆変換式SA,SBの各実体も変換係数列である。生成された逆変換式SA,SBは、稼働過程で機能する逆変換部76に与えられる。
以上のような変換式及び逆変換式の生成が観察装置10,12,・・・ごとに実施される。これにより、図1に示した座標リンケージ体系が構築される。
例えば、準備過程では、まず、登録基準座標PS,QSが中継装置50内の変換式生成部70及び逆変換式生成部74へ与えられる(S10を参照)。一方、観察装置10に対して試料ホルダ52がセットされ、試料ホルダ52の観察により、実測基準座標PA,QAが取得され、それらが中継装置50内の変換式生成部70及び逆変換式生成部74へ与えられる(S12及びS14を参照)。変換式生成部70により、実測基準座標PA,QA及び登録基準座標PS,QSに基づいて、変換式ASが生成される。逆変換式生成部74により、登録基準座標PS,QS及び実測基準座標PA,QAに基づいて、逆変換式SAが生成される。
続いて、観察装置12に対して同一の試料ホルダ52がセットされ、試料ホルダ52の観察により、実測基準座標PB,QBが取得され、それらが中継装置50内の変換式生成部70及び逆変換式生成部74へ与えられる(S16及びS18を参照)。変換式生成部70により、実測基準座標PB,QB及び登録基準座標PS,QSに基づいて、変換式BSが生成される。逆変換式生成部74により、登録基準座標PS,QS及び実測基準座標PB,QBに基づいて、逆変換式SBが生成される。生成された変換式AS,BSは変換部72に登録され、生成された逆変換式SA,SBは逆変換部76に登録される。以上により準備過程が完了する。
稼働過程では、例えば、最初に観察装置10で試料が観察され、次に、その試料が観察装置12で観察される。その場合には、以下のように処理される。まず、観察装置10において、観察部位Taの観察座標TAが特定され、観察座標TAが中継装置50内の変換部72に与えられる(S20を参照)。変換部72は、変換式ASを用いて、観察座標TAを仮想座標系22上の観察座標TSに変換する。観察座標TSが逆変換部76に与えられる(S22を参照)。逆変換部76は、逆変換式SBを用いて、観察座標TSを装置座標系18上の観察座標TBに逆変換する。観察座標TBが観察装置12内の制御部66に送られる(S24を参照)。制御部66は、観察座標TBで特定される位置Tbが観察対象となるように、可動ステージ61及び電子ビーム走査を制御する(S26を参照)。
稼働過程において、ユーザーは仮想座標系を意識する必要はない。必要な変換及び逆変換は基本的にすべて自動的に遂行される。
図4には、準備過程がフローチャートとして整理されている。図5には、稼働過程での典型的な動作例がフローチャートとして整理されている。準備過程は、システム構築時、システムメンテナンス時、等において実行される。稼働過程は、試料観察ごとに実施される。
図4において、S30では、仮想座標系上の複数の登録基準座標が登録される。その登録は、システム開発者又はシステムメンテナンス者(それらは広義のユーザーに含まれる)により行われ、あるいは自動的に行われる。S32では、複数の観察装置の中から選択された観察装置の可動ステージ上へ、マーカー付き試料ホルダが装着される。S34では、選択された観察装置において、複数の実測基準座標が取得される。S36では、中継装置において、仮想座標系に従う複数の登録基準座標、及び、装置座標系に従う複数の実測基準座標に基づいて、変換式及び逆変換式が生成され、それらが登録される。
S38において、すべての観察装置について変換式及び逆変換式の生成が完了されたか否かが判断され、完了していない場合には、S32以降の各工程が再び実行される。最終的に、座標リンケージシステム内のすべての観察装置について変換式及び逆変換式が生成されることになる。もっとも、観察座標の伝送が行われないパスについては変換式又は逆変換式を生成しておく必要はない。
なお、システムメンテナンス時において、一部又は全部の変換式及び逆変換式を再生成する場合には、S40で示されているように、S32以降の各工程が実行される。
図5において、S50では、観察装置Aに対して試料を保持した試料ホルダがセットされる。S52では、試料の観察が実施される。観察終了後、S54では、観察装置Aの装置座標系上の観察座標TAが中継装置へ送られる。S56では、中継装置において、観察座標TAが仮想座標系上の観察座標TSに変換される。続いて、S58では、観察座標TSが装置座標系上の観察座標TBに逆変換される。S60では、中継装置から観察装置Bへ観察座標TBが送られる。S62では、観察装置Bにおいて観察座標TBに従って可動ステージの移動等が制御される。S64では、試料において観察座標TBで特定される部位が観察される。その場合、例えば、観察座標TBが画像中心となるように、可動ステージの位置及び姿勢が制御される。ここで、観察装置Bにおいて取得される画像は、CCD画像及びSEM画像である。S66では、試料観察の終了後、試料を保持した試料ホルダが観察装置Bから取り外される。
図6には、第2実施例に係る座標リンケージシステムが示されている。図6に示されている内容は図1に示した概念を具体化したものに相当する。なお、図6において、図3に示した要素と同様の要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
ネットワーク80には、観察装置10A,12A,・・・が接続されており、また、登録装置82が接続されている。登録装置82は、登録基準座標PS,QSを観察装置10A,12A,・・・へ提供する装置である。観察装置10A,12A,・・・への登録基準座標PS,QSの登録がユーザーにより行われてもよい。
観察装置10Aにおいて、制御部60Aは、変換式生成部70A、変換部72A、逆変換式生成部74A、及び、逆変換部76Aを有している。変換式生成部70Aにより、実測基準座標PA,QA及び登録基準座標PS,QSに基づいて、変換式ASが生成され、それが変換部72Aに与えられる。逆変換式生成部74Aにより、登録基準座標PS,QS及び実測基準座標PA,QAに基づいて、逆変換式SAが生成され、それが逆変換部76Aに与えられる。
観察装置12Aにおいて、制御部66Aは、変換式生成部70B、変換部72B、逆変換式生成部74B、及び、逆変換部76Bを有している。変換式生成部70Bにより、実測基準座標PB,QB及び登録基準座標PS,QSに基づいて、変換式BSが生成され、それが変換部72Bに与えられる。逆変換式生成部74Bにより、登録基準座標PS,QS及び実測基準座標PB,QBに基づいて、逆変換式SBが生成され、それが逆変換部76Bに与えられる。ネットワーク80に対して他の観察装置が接続されている場合においても、その内部に、変換式生成部、逆変換式生成部、変換部及び逆変換部が設けられる。
以上のように、第2実施例においては、独立した中継装置が設けられておらず、そこに含まれていた複数の機能が、観察装置10A,12A,・・・に分散的に組み込まれている。
図7には、第3実施例に係る座標リンケージシステムが示されている。複数の観察装置10,12,14は装置座標系16,18,20を有している。複数の観察装置10,12,14は画像サーバー84を介して相互に接続されている。画像サーバー84は中継装置として機能するものであり、それは仮想座標系22を有する。画像サーバー84には記憶部85を有している。
観察装置14において取得された観察画像86を画像サーバー84にアップロードする際、観察画像86に付随して座標情報88Aもアップロードされる。座標情報88Aの実体は、観察画像86を取得した際の観察座標である。それは、装置座標系20に依拠する座標である。座標情報88Aは、画像サーバー84が有する座標変換機能により、仮想座標系22に従う座標情報88Bに変換される。つまり、装置座標系20上の観察座標が仮想座標系上の観察座標に自動的に変換される。記憶部85には、観察画像86と共に座標情報88Bが格納される。他の観察装置10,12から観察画像を画像サーバー84にアップロードする場合にも上記同様の処理が実行される。
記憶部85には、観察装置10で取得された観察画像90及びそれに対応する座標情報92Bも記憶される。座標情報92Bは、仮想座標系22に従う座標情報である。観察装置14により、観察画像90をダウンロードする際、座標情報92Bが装置座標系20に従う座標情報92Cに逆変換される。すなわち、画像サーバー84から観察装置14へ、観察画像及び座標情報92Cが送られる。他の観察装置10,12において、画像サーバー84から観察画像をダウンロードする場合にも上記同様の処理が実行される。
以上のように第3実施例によれば、観察画像の送信先に適合した座標情報を自動的に生成できる。その際においてユーザーは座標系の違いを意識する必要がないという利点を得られる。
第3実施例において、記憶部85に格納されている全部又は一部の観察画像が表示器に一覧表示されてもよい。例えば、複数の観察画像を示す複数のサムネイル画像がタイル表示されてもよい。その場合、表示された複数の観察画像の中からユーザーにより特定の観察画像が指定され、指定された観察画像がユーザー指定された観察装置へ送信されてもよい。第3実施例によれば、その際に特定の観察画像に伴ってそれに対応する座標変換後の座標情報が送信される。観察画像の指定後に座標情報のみが特定の観察装置へ送られてもよい。複数の観察画像の表示に際して、それらに対応する複数の座標情報が表示されてもよい。その場合、仮想座標系上の複数の座標情報が表示されてもよいし、装置座標系上の複数の座標情報(原座標情報)が表示されてもよい。
次に、図8~図10を用いて、座標変換の具体例について説明する。ここでは、観察装置Aの装置座標系から仮想座標系への変換を取り上げる。逆変換の場合にも、以下に説明する考え方とまったく同じ考え方を適用し得る。
図8には、観察装置Aが有する装置座標系に従うパラメータが列記されている。図9には、仮想座標系に従うパラメータが列記されている。図8及び図9において、X軸座標及びY軸座標は、注目点(基準点、観察点)についてのX軸上の座標及びY軸上の座標を示している。回転角度は、可動ステージの回転角度を示している。回転方向定義は、可動ステージの回転軸についての正及び負の回転方向の定義であり、時計回りの場合にはIが+1とされ、反時計回りの場合にはIが-1とされる。回転中心座標は、可動ステージの回転軸中心の座標を意味している。高さは可動ステージについての垂直方向の高さである。
汎用性を考慮して図8及び図9の内容が構成されている。仮想座標系において、回転中心座標は(0,0)としてもよく、高さを0としてもよい。なお、回転軸中心の座標を管理することにより、回転軸中心が装置座標系上の原点に一致しない場合においても、正確に変換係数列を演算することが可能となる。
図10には、第1基準点、第2基準点、及び、第3基準点について、装置座標系上の座標(実測基準座標)及び仮想座標系上の座標(登録基準座標)が示されている。各基準点はマーカー位置に相当する。
観察装置Aが有する装置座標系上の座標を仮想座標系上の座標へ変換するための変換係数列(K,K,K,K,L,L)は、例えば、以下のように演算される。
Figure 2022066928000002
次に、変換係数列を用いた座標変換について説明する。まず、観察装置Aにおいてステージが回転していることを前提として、その状態で取得された座標(X,Y)が、以下のように、ステージが回転していない状態(回転角度0度)での座標(XR0A,YR0A)に変換される。
Figure 2022066928000003
続いて、以下のように、上記の座標(XR0A,YR0A)が仮想座標系上の座標(XR0S,YR0S)に変換される。
Figure 2022066928000004
一方、観察装置Aでの回転角度Rが仮想座標系での回転角度Rに以下のように変換される。
Figure 2022066928000005
上記において、回転オフセット値Ruserはユーザーが任意に設定し得る数値であり、これについては後述する。
以上のように、可動ステージの回転までを考慮した上で、仮想座標系上の座標(X,Y)は、以下のように計算される。
Figure 2022066928000006
既に説明したように逆変換用の変換式も上記同様に求めることが可能である。また、他の観察装置についても上記同様に変換式及び逆変換式を求めることが可能である。
上述したように、座標変換時に回転オフセット値をユーザーが指定できるようにしておくことで、利便性を向上できる。例えば、観察装置ごとに、所望する試料の向きが決まっている場合、それに対応した回転オフセット値を設定しておけばよい。
例えば、集束イオンビーム加工装置で薄膜試料を作成し、その薄膜試料を、光学顕微鏡を備えたピックアップ装置(試料操作装置)に移送する場合において、回転オフセット値を効果的に機能させ得る。すなわち、集束イオンビームで薄膜試料を作成する場合、可動ステージの傾斜方向に制約があることから、薄膜試料の面方向が同装置のX軸に平行になるように、可動ステージの回転角度が決定される。一方、ピックアップ装置では、薄膜試料に対して横方向からプローブをアプローチすることになるため、薄膜試料の面方向がステージのY方向に平行になるように、薄膜試料の向きを定めることが望まれる。
以上のような場合、仮想座標系からピックアップ装置の装置座標系への座標変換に際して、回転オフセット値として90度を設定しておくと、薄膜試料を搬送する都度、90度の回転が自動的に実施されるので、ユーザーがマニュアルで回転を指示する必要がなくなる。表示器の画面上に回転オフセット値の入力欄を備えたGUIを表示してもよい。
生成された変換式(又は逆変換式)が正しく動作していることを確認する自動点検を実行するようにしてもよい。その場合には、図11に示されているように、点検用の基準点を用意すればよい。装置座標系上の座標を変換式に与えて(符号94を参照)、変換結果としての座標と、仮想座標系上の登録基準座標とを比較すればよい。その際に一定の誤差を許容するマージンを定めてもよい。
座標変換に際しては、変換対象に試料の高さを含めてもよい。その場合には、図12に示すように、第1高さ基準点及び第2高さ基準点を用意すればよい。それらを利用して、以下のように、高さについての変換係数列を演算し得る。
Figure 2022066928000007
その上で、高さについての座標変換は以下のように行える。
Figure 2022066928000008
試料高さの変換は、光学顕微鏡から電子顕微鏡へ試料を移送する場合に、非常に有用である。電子顕微鏡での焦点深度は深いため、フォーカス情報から試料高さを精密に決定することは困難である。一方、光学顕微鏡でも焦点深度は浅いため、フォーカス情報から試料の高さを精度良く決めることができる。光学顕微鏡で求めた試料高さを電子顕微鏡で再現することで、電子顕微鏡単体では困難な精密な試料高さ合わせを実現し得る。
上記実施形態によれば、観察装置の追加、変更等に容易に対応できる座標リンケージシステムを実現できる。換言すれば、複数の装置座標系を繋ぐ新しいアーキテクチャーを実現できる。上記実施形態に係る座標リンケージ方法とより高精度な他の座標リンケージ方法とを組み合わせてもよい。例えば、標準的精度の位置決めが求められる場合には実施形態に係る座標リンケージ方法が選択され、より高度性の位置決めが求められる場合には他の座標リンケージ方法が選択されてもよい。実施形態に係る座標リンケージ方法に加えて他の座標リンケージ方法を重畳的に適用する変形例も考えられる。上記実施形態において、観察座標以外の座標(例えば、試料の特徴点、可動ステージの代表点)が変換されてもよい。
10,12,14 観察装置、16,18,20 装置座標系、22 仮想座標系、50 中継装置、52 試料ホルダ、54,61 可動ステージ、55 試料、70,70A,70B 変換式生成部、72,72A,72B 変換部、74,74A,74B 逆変換式生成部、76,76A,76B 逆変換部。

Claims (11)

  1. 第1観察装置が有する第1装置座標系上の観察座標をいずれの観察装置にも依存しない仮想座標系上の観察座標に変換する変換手段と、
    前記仮想座標系上の観察座標を第2観察装置が有する第2装置座標系上の観察座標に変換する逆変換手段と、
    を含むことを特徴とする座標リンケージシステム。
  2. 請求項1記載の座標リンケージシステムにおいて、
    前記第1装置座標系上の複数の実測基準座標及び前記仮想座標系上の複数の登録基準座標に基づいて、前記第1装置座標系上の観察座標を前記仮想座標系上の観察座標に変換するための変換式を生成する変換式生成手段と、
    前記仮想座標系上の複数の登録基準座標及び前記第2装置座標系上の複数の実測基準座標に基づいて、前記仮想座標系上の観察座標を前記第2装置座標系上の観察座標に変換するための逆変換式を生成する逆変換式生成手段と、
    を含むことを特徴とする座標リンケージシステム。
  3. 請求項2記載の座標リンケージシステムにおいて、
    複数のマーカーを備える試料ホルダを含み、
    前記仮想座標系上の複数の登録基準座標は、前記仮想座標系上の複数のマーカー座標であり、
    前記第1装置座標系上の複数の実測基準座標は、前記第1観察装置に対して前記試料ホルダを装着した状態において前記第1観察装置によって前記複数のマーカーを観察することにより特定される複数のマーカー座標であり、
    前記第2装置座標系上の複数の実測基準座標は、前記第2観察装置に対して前記試料ホルダを装着した状態において前記第2観察装置によって前記複数のマーカーを観察することにより特定される複数のマーカー座標である、
    ことを特徴とする座標リンケージシステム。
  4. 請求項1記載の座標リンケージシステムにおいて、
    前記第1観察装置及び前記第2観察装置が接続され、前記変換手段及び前記逆変換手段を有する中継装置を含む、
    ことを特徴とする座標リンケージシステム。
  5. 請求項4記載の座標リンケージシステムにおいて、
    前記中継装置は、前記第1観察装置で取得された観察画像及びそれに対応する前記仮想座標系上の観察座標を記憶する記憶部を有する、
    ことを特徴とする座標リンケージシステム。
  6. 請求項5記載の座標リンケージシステムにおいて、
    前記中継装置は、前記記憶部から読み出された観察画像を前記第2観察装置へ提供する際に、前記記憶部から読み出された前記仮想座標系上の観察座標を前記第2装置座標系上の観察座標に変換した上で、変換後の観察座標を前記第2観察装置へ提供する、
    ことを特徴とする座標リンケージシステム。
  7. 請求項1記載の座標リンケージシステムにおいて、
    前記変換手段は、
    前記第1装置座標系上の観察座標を前記仮想座標系上の観察座標に変換する第1変換手段と、
    前記第2装置座標系上の観察座標を前記仮想座標系上の観察座標に変換する第2変換手段と、
    を含み、
    前記逆変換手段は、
    前記仮想座標系上の観察座標を前記第1装置座標系上の観察座標へ変換する第1逆変換手段と、
    前記仮想座標系上の観察座標を前記第2装置座標系上の観察座標へ変換する第2逆変換手段と、
    を含む、ことを特徴とする座標リンケージシステム。
  8. 請求項7記載の座標リンケージシステムにおいて、
    前記第1装置座標系上の複数の実測基準座標及び前記仮想座標系上の複数の登録基準座標に基づいて、前記第1装置座標系上の観察座標を前記仮想座標系上の観察座標に変換するための第1変換式を生成する第1変換式生成手段と、
    前記第2装置座標系上の複数の実測基準座標及び前記仮想座標系上の複数の登録基準座標に基づいて、前記第2装置座標系上の観察座標を前記仮想座標系上の観察座標に変換するための第2変換式を生成する第2変換式生成手段と、
    前記仮想座標系上の複数の登録基準座標及び前記第1装置座標系上の複数の実測基準座標に基づいて、前記仮想座標系上の観察座標を前記第1装置座標系上の観察座標に変換するための第1逆変換式を生成する第1逆変換式生成手段と、
    前記仮想座標系上の複数の登録基準座標及び前記第2装置座標系上の複数の実測基準座標に基づいて、前記仮想座標系上の観察座標を前記第2装置座標系上の観察座標に変換するための第2逆変換式を生成する第2逆変換式生成手段と、
    を含むことを特徴とする座標リンケージシステム。
  9. 請求項7記載の座標リンケージシステムにおいて、
    前記第1観察装置は前記第1変換手段及び前記第1逆変換手段を含み、
    前記第2観察装置は前記第2変換手段及び前記第2逆変換手段を含む、
    ことを特徴とする座標リンケージシステム。
  10. 第1観察装置が有する第1装置座標系上の観察座標をいずれの観察装置にも依存しない仮想座標系上の観察座標に変換する工程と、
    前記仮想座標系上の観察座標を第2観察装置が有する第2装置座標系上の観察座標に変換する工程と、
    を含むことを特徴とする座標リンケージ方法。
  11. 情報処理装置において実行されるプログラムであって、
    第1観察装置が有する第1装置座標系上の観察座標をいずれの観察装置にも依存しない仮想座標系上の観察座標に変換する機能と、
    前記仮想座標系上の観察座標を第2観察装置が有する第2装置座標系上の観察座標に変換する機能と、
    を含むことを特徴とするプログラム。
JP2020175544A 2020-10-19 2020-10-19 座標リンケージシステム及び座標リンケージ方法 Pending JP2022066928A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020175544A JP2022066928A (ja) 2020-10-19 2020-10-19 座標リンケージシステム及び座標リンケージ方法
EP21201997.0A EP3985607A1 (en) 2020-10-19 2021-10-11 Coordinate linking system and coordinate linking method
US17/500,038 US20220122277A1 (en) 2020-10-19 2021-10-13 Coordinate Linking System and Coordinate Linking Method
CN202111199244.3A CN114388320A (zh) 2020-10-19 2021-10-14 坐标链接系统和坐标链接方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020175544A JP2022066928A (ja) 2020-10-19 2020-10-19 座標リンケージシステム及び座標リンケージ方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2022066928A true JP2022066928A (ja) 2022-05-02

Family

ID=78413604

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020175544A Pending JP2022066928A (ja) 2020-10-19 2020-10-19 座標リンケージシステム及び座標リンケージ方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20220122277A1 (ja)
EP (1) EP3985607A1 (ja)
JP (1) JP2022066928A (ja)
CN (1) CN114388320A (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08220006A (ja) * 1995-02-14 1996-08-30 Mitsubishi Electric Corp 微小異物の分析方法、分析装置およびこれらを用いる半導体素子もしくは液晶表示素子の製法
JP2003142563A (ja) * 2001-11-06 2003-05-16 Shin Etsu Handotai Co Ltd 表面検査用補助治具及びそれを用いた同点測定方法
JP2005181312A (ja) * 2003-12-19 2005-07-07 Palo Alto Research Center Inc サンプル媒体上のレチクルマークを用いて、希少細胞のスキャナ画像座標を顕微鏡座標に変換する方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4163654B2 (ja) * 2004-04-19 2008-10-08 株式会社日立ハイテクノロジーズ 走査電子顕微鏡
US8386015B2 (en) * 2008-10-27 2013-02-26 Siemens Aktiengesellschaft Integration of micro and macro information for biomedical imaging
BR112012028097B1 (pt) * 2010-05-03 2020-03-10 Ultra Electronics Forensic Technology Inc. Método e Sistema para analisar pelo menos um objeto sob um primeiro microscópio e um segundo microscópio e memória legível por computador não transitória
US9129371B2 (en) * 2010-06-25 2015-09-08 Cireca Theranostics, Llc Method for analyzing biological specimens by spectral imaging
JP6480713B2 (ja) * 2014-11-18 2019-03-13 オリンパス株式会社 顕微鏡システム
TWI607412B (zh) * 2016-09-10 2017-12-01 財團法人工業技術研究院 多維度尺寸量測系統及其方法
JP6735645B2 (ja) 2016-09-28 2020-08-05 日本電子株式会社 観察方法および試料観察装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08220006A (ja) * 1995-02-14 1996-08-30 Mitsubishi Electric Corp 微小異物の分析方法、分析装置およびこれらを用いる半導体素子もしくは液晶表示素子の製法
JP2003142563A (ja) * 2001-11-06 2003-05-16 Shin Etsu Handotai Co Ltd 表面検査用補助治具及びそれを用いた同点測定方法
JP2005181312A (ja) * 2003-12-19 2005-07-07 Palo Alto Research Center Inc サンプル媒体上のレチクルマークを用いて、希少細胞のスキャナ画像座標を顕微鏡座標に変換する方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20220122277A1 (en) 2022-04-21
CN114388320A (zh) 2022-04-22
EP3985607A1 (en) 2022-04-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4917331B2 (ja) 画像取得装置、画像取得方法、及び画像取得プログラム
US7016109B2 (en) Microscopic image capture apparatus and microscopic image capturing method
JP4878913B2 (ja) 顕微鏡システム、顕微鏡画像の合成方法、及びプログラム
EP2475161A1 (en) Image capture system, image capture method, and storage medium for storing image capture program
JP2011118553A (ja) 画像処理装置、画像処理方法及びコンピュータプログラム
US20090028544A1 (en) Microscope system and microscope observation method
JP2007233093A (ja) 画像取得装置、画像取得方法、及び画像取得プログラム
JP2018055924A (ja) 観察方法および試料観察装置
JP2007024927A (ja) 顕微鏡画像撮影装置
WO2005104524A1 (ja) 超解像処理に適するサブピクセルモーション画像を撮影するための移動決定方法及びそれを用いた撮像装置
JP4332905B2 (ja) 顕微鏡システム
JP6308637B1 (ja) 特徴量を用いた3次元計測方法およびその装置
CN109242779A (zh) 一种相机成像模型的构建方法、装置及汽车自动驾驶系统
JP2012142792A (ja) 撮像パラメータ取得装置、撮像パラメータ取得方法、及び、プログラム
JP2016033620A (ja) 画像取得装置
JP2007017930A (ja) 顕微鏡装置
JP2010212067A (ja) 電子顕微鏡の自動試料傾斜装置
JP2022066928A (ja) 座標リンケージシステム及び座標リンケージ方法
JP5289879B2 (ja) 顕微鏡システム、顕微鏡システムにおけるフォーカスドリフトの補正方法及びプログラム。
KR100897674B1 (ko) 표본 검사 시스템 및 표본 검사 방법
JP2017173683A (ja) 顕微鏡システムおよび標本観察方法
US11841494B2 (en) Optical imaging device for a microscope
JP2011135212A (ja) 画像確認装置
JP2005266718A (ja) 顕微鏡画像撮影システム
JP2010283088A (ja) ウェーハ外観検査装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220105

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220916

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221018

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221207

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20230207

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230424

C60 Trial request (containing other claim documents, opposition documents)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60

Effective date: 20230424

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20230501

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20230602