JP2022061994A - 核酸アレイ合成のための、支持体、システム、および方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2015年12月28日に出願された米国仮特許出願第62/272,057号の恩典を主張し、この開示は参照により本明細書に組み入れられる。
典型的なマイクロアレイシステムは、概して、ガラス、プラスチック、またはシリコンチップのような固体平面上にフォーマットされた生体分子プローブ、例えば、DNA、またはRNAなどと、試料を扱うために必要とされる機器(自動ロボット工学)、レポーター分子を読み取るために必要とされる機器(スキャナ)、およびデータを解析するために必要とされる機器(生物情報学ツール)からなる。マイクロアレイ技術によって、1平方センチメートルあたり多くのプローブをモニタリングすることが容易になる。複数のプローブを使用する利点には、速度、順応性、包括性、および相対的に安い大量生産コストが含まれるが、これに限定されない。このようなアレイの用途には、病原体の検出および特定を含む診断微生物学、抗菌剤耐性の研究、疫学的菌株分類、癌遺伝子の研究、宿主ゲノム発現を用いた微生物感染の解析、および多型プロファイルが含まれるが、これに限定されない。
アレイ上でのPNAおよびPNA-DNAキメラの合成を改善する方法および組成物ならびにこれらのアレイの使用方法が本明細書において提供される。本発明は、下記で詳述するように核酸マイクロアレイ合成のための、新規の支持体、システム、および方法を提供する。特に、本発明は、PNAプローブの高いスポット密度があるPNAマイクロアレイを経済的に調製することができる、サブモノマーに由来する、紫外線によって管理されたPNA単量体およびPNAポリマーを、マイクロアレイのアドレス指定可能な場所に合成する新規の方法を含む。
F(N)=10(N+1)・log(E/100%)-10(N)・log(E/100%)
によって特徴付けられ、式中、N=PNAポリマーの実際の長さ、E=カップリング効率であり、Eは、少なくとも90%、91%、92%、93%、94%、95%、96%、97%、98%、98.5%、99%、または99.5%である。一部の態様において、意図された長さのPNAポリマーの比率(proportion)は、式:
F(N)=10(N)・log(E/100%)
によって特徴付けられ、式中、N=PNAポリマーの意図された長さ、E=平均カップリング効率であり、Eは、少なくとも90%、91%、92%、93%、94%、95%、96%、97%、98%、98.5%、99%、または99.5%である。
[本発明1001]
表面の、位置が定められた場所に取り付けられた特徴のアレイであって、該特徴がそれぞれ、決定可能な配列および意図された長さの複数のPNAポリマーを含み、該複数のPNAポリマーが、少なくとも90%、91%、92%、93%、94%、95%、96%、97%、98%、98.5%、99%、または99.5%のカップリング効率によって特徴付けられる長さの分布を含む、アレイ。
[本発明1002]
意図された長さより短い複数のPNAポリマーの長さの分布が、式:
F(N)=10(N+1)・log(E/100%)-10(N)・log(E/100%)
によって特徴付けられ、式中、N=PNAポリマーの実際の長さ、E=カップリング効率であり、Eが、少なくとも90%、91%、92%、93%、94%、95%、96%、97%、98%、98.5%、99%、または99.5%である、本発明1001のアレイ。
[本発明1003]
意図された長さのPNAポリマーの比率が、式:
F(N)=10(N)・log(E/100%)
によって特徴付けられ、式中、N=PNAポリマーの意図された長さ、E=平均カップリング効率であり、Eが、少なくとも90%、91%、92%、93%、94%、95%、96%、97%、98%、98.5%、99%、または99.5%である、本発明1001のアレイ。
[本発明1004]
少なくとも10,000の特徴を含む、前記本発明のいずれかのアレイ。
[本発明1005]
少なくとも100,000の特徴を含む、本発明1004のアレイ。
[本発明1006]
PNAポリマーの意図された長さが少なくとも30である、前記本発明のいずれかのアレイ。
[本発明1007]
PNAポリマーの意図された長さが少なくとも40である、前記本発明のいずれかのアレイ。
[本発明1008]
PNAポリマーの意図された長さが少なくとも50である、前記本発明のいずれかのアレイ。
[本発明1009]
PNAポリマーの意図された長さが少なくとも75である、前記本発明のいずれかのアレイ。
[本発明1010]
PNAポリマーがPNA/核酸キメラであり、該PNAポリマーが1つまたは複数の核酸残基をさらに含む、前記本発明のいずれかのアレイ。
[本発明1011]
核酸がデオキシリボ核酸である、本発明1010のアレイ。
[本発明1012]
1平方センチメートルあたり少なくとも10,000の特徴を含む、前記本発明のいずれかのアレイ。
[本発明1013]
1平方センチメートルあたり少なくとも20,000、少なくとも40,000、少なくとも100,000、少なくとも200,000、少なくとも500,000、少なくとも100万、少なくとも200万、少なくとも500万、少なくとも1000万、少なくとも2000万、または少なくとも5000万の特徴を含む、本発明1012のアレイ。
[本発明1014]
アレイがピラーを備え、表面が該ピラーの上部表面である、前記本発明のいずれかのアレイ。
[本発明1015]
ピラーの上部表面が少なくとも1μm2の面積を有する、本発明1014のアレイ。
[本発明1016]
光マスクを用いてパターンを作製する工程、
該光マスクを通してフォトレジストを紫外線に露光する工程、および
該紫外線への該露光の結果として該アレイ上の該パターンで酸または塩基を発生させる工程
を含む、本発明1001~1015のいずれかのアレイを作る方法。
[本発明1017]
露光によって光塩基発生剤から塩基が発生する、本発明1016の方法。
[本発明1018]
光塩基発生剤が、1,3-Bis[(2-ニトロベンジル)オキシカルボニル-4-ピペリジル]プロパン、1,3-Bis[1-(9-フルオレニルメトキシカルボニル)-4-ピペリジル]プロパン、1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]dec-5-エニル-フェニルグリオキシラート、1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]dec-5-エニル-4-ニトロフェニルグリオキシラート、1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]dec-5-エニル-テトラフェニルボラート、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エニル-テトラフェニルボラート、1-フェナシル-(1-アゾニア-4-アザビシクロ[2,2,2]オクタン)-テトラフェニルボラート、および1-ナフトイルメチル-(1-アゾニア-4-アザビシクロ[2,2,2]オクタン)-テトラフェニルボラートまたは類似物からなる群より選択される、本発明1017の方法。
[本発明1019]
光塩基発生剤が、1,3-Bis[(2-ニトロベンジル)オキシカルボニル-4-ピペリジル]プロパンである、本発明1018の方法。
[本発明1020]
塩基によってアミン基から保護基が切断される、本発明1017~1019のいずれかの方法。
[本発明1021]
PNA単量体を、脱保護されたアミン基にカップリングする工程をさらに含む、本発明1020の方法。
[本発明1022]
露光によって光酸発生剤から酸が発生する、本発明1016の方法。
[本発明1023]
光酸発生剤が、ヨードニウム塩、ポロニウム塩、およびスルホニウム塩からなる群より選択される、本発明1022の方法。
[本発明1024]
光酸発生剤が、Bis(4-tert-ブチルフェニル)ヨードニウムパーフルオロ-1-ブタンスルホナート、Bis(4-tert-ブチルフェニル)ヨードニウムp-トルエンスルホナート、 Bis(4-tert-ブチルフェニル)ヨードニウムトリフラート、Boc-メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフラート、(tert-ブトキシカルボニルメトキシナフチル)-ジフェニルスルホニウムトリフラート、(4-tert-ブチルフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスファート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ-1-ブタンスルホナート、ジフェニルヨードニウムトリフラート、(4-ヨードフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、(4-メトキシフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、(4-メチルフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、(4-メチルチオフェニル)メチルフェニルスルホニウムトリフラート、Tris(4-tert-ブチルフェニル)スルホニウムトリフラート、(4-メトキシフェニル)フェニルスルホニウムトリフラート、(4-メトキシフェニル)フェニルヨードニウムトリフラート、4メトキシフェニル)フェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、(4メトキシフェニル)ジメチルスルホニウムトリフラート、および(2,4-ジヒドロキシフェニル)ジメチルスルホニウムトリフラートまたは類似物からなる群より選択される、本発明1022の方法。
[本発明1025]
光酸発生剤が、トリフラート、ホスフェート、およびアンチモナートのヨードニウム塩およびスルホニウム塩からなる群より選択される、本発明1022の方法。
[本発明1026]
光酸発生剤が、(4-ヨードフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラートである、本発明1022の方法。
[本発明1027]
酸によってカルボン酸基から保護基が切断される、本発明1022~1026のいずれかの方法。
[本発明1028]
DNA単量体を、脱保護されたカルボン酸基にカップリングする工程をさらに含む、本発明1027の方法。
[本発明1029]
PNA単量体をカップリングする工程が、
置換された酢酸を活性化剤によって活性化すること、および
選択的に露光された部分において、活性化された酢酸を無保護アミン基にカップリングすること
を含み、酢酸の置換が脱離基を含む、本発明1021の方法。
[本発明1030]
PNA単量体をカップリングする工程がアレイ上の複数の部位で同時に行われる、本発明1029の方法。
[本発明1031]
脱離基がハロである、本発明1029の方法。
[本発明1032]
前記カップリングする工程が、
酢酸の脱離基をジアミノ-アルカンで置き換えること
をさらに含み、ジアミノ-アルカンの1つのアミンが保護されている、本発明1029の方法。
[本発明1033]
ジアミノ-アルカンがエチレンジアミンである、本発明1032の方法。
[本発明1034]
前記カップリングする工程が、
PNA単量体酢酸を活性化剤によって活性化すること、および
活性化されたPNA単量体酢酸をジアミノ-アルカンの無保護アミンにカップリングすること
をさらに含む、本発明1029または1030の方法。
[本発明1035]
PNA単量体酢酸が、R-チミン-1-酢酸、R-(シトシン-1-イル)-酢酸、R-アデニン-9-イル-酢酸、R-グアニン-9-酢酸、またはR-ウラシル-1-酢酸であり、式中、RがHまたは保護基である、本発明1034の方法。
[本発明1036]
対象から得られた核酸を含む試料を分析する方法であって、以下の工程を含む、方法:
該試料を本発明1001~1015のいずれかのアレイと、該試料と該アレイとの間のハイブリダイゼーションを促進する条件下で接触させる工程;
該アレイからシグナルを検出する工程であって、該シグナルが、該特徴場所の1つまたは複数における、該アレイとハイブリダイズした試料の存在、非存在、または量を示す、工程;ならびに
該シグナルを分析し、それによって、該試料を分析する工程。
[本発明1037]
分析する工程が、シグナルに基づいて、試料に存在する核酸配列を決定することを含む、本発明1036の方法。
[本発明1038]
分析する工程が、シグナルに基づいて、試料に存在するSNPの存在または非存在を決定することを含む、本発明1036の方法。
[本発明1039]
アレイがPNA/DNAキメラを含み、試料と該アレイとの間のハイブリダイゼーション後にプライマー伸長反応を行う工程をさらに含む、本発明1038の方法。
本発明のこれらのおよび他の特徴、態様、および利点は、以下の説明および添付の図面に関して、さらによく理解されるようになるだろう。
特許請求の範囲および明細書において用いられる用語は、他で特定しない限り、以下で示されるように定義される。
マイクロアレイ上でのPNA合成
本願は、光リソグラフィを用いたハイスループットパラレル合成によってマイクロアレイプラットフォーム上で、PNA単量体およびPNAポリマーを含むペプチド核酸(PNA)化合物を作る方法およびPNA-DNAキメラを作る方法を提供する。一部の態様では、PNAまたはPNA-DNAキメラマイクロアレイを作るために248nmの紫外線が用いられる。
は、特定の化合物とマイクロアレイ表面とのカップリングを示す。
スキーム1
図1ならびに図2Aおよび図2Bは、PNA-DNAキメラオリゴマー合成のための、一部の態様に従う、示唆された合成経路を図示する。このスキーム、下記のガイドライン、および実施例を用いて、当業者は、本発明の範囲内にある、ある特定のPNA-DNAキメラまたは複数のPNA-DNAキメラを有するマイクロアレイを得るための同様または類似の方法を開発することができる。一部の態様において、PNA-DNAキメラは、マイクロアレイの、位置が定められた場所にカップリングされる。これらの方法は合成スキームを代表するものであるが、本発明の範囲を限定すると解釈してはならない。
一部の態様において、図2Aおよび図2Bに図示したように、前記方法は、PNA-DNAキメラオリゴマー上にあるDNA単量体の5’末端に取り付けられた保護されたカルボン酸基を含む表面を有するマイクロアレイウェーハを準備する工程を含む(図2Aおよび図2B、パート番号10または13)。保護に適した保護基の例が本明細書において示される。一部の態様において、PNA-DNAキメラオリゴマーは、本明細書において提供される方法に従ってアレイ上に合成される。
フォトレジスト製剤、置換製剤、活性化製剤、およびリンカー製剤などの製剤が本明細書において開示される。これらの製剤は、製造および/または使用において、例えば、本明細書において開示されるPNAマイクロアレイの製造および/または使用において有用な場合がある。一般的に、本明細書において開示されるそれぞれの製剤の成分は室温(約25℃)で水に溶ける。
フォトレジスト製剤が本明細書において開示される。一部の態様において、フォトレジスト製剤は、光活性化合物(光切断可能な試薬とも呼ばれる)および光防護化合物などの成分を含む。一部の態様において、光活性化合物は光酸発生剤または光塩基発生剤である。一部の態様において、フォトレジスト製剤はポリマーおよび溶媒をさらに含む。
一部の態様において、置換製剤は、製剤総濃度の1~2重量%のモノR1保護エチレンジアミンを含む。一部の態様において、モノR1保護エチレンジアミンは製剤総濃度の約0.5~5重量%である。一部の態様において、モノR1保護エチレンジアミンは、製剤総濃度の約0.1重量%、0.1重量%、0.2重量%、0.3重量%、0.4重量%、0.5重量%、0.6重量%、0.7重量%、0.8重量%、0.9重量%、1.0重量%、1.1重量%、1.2重量%、1.3.重量%、1.4重量%、1.5重量%、1.6重量%、1.7重量%、1.8重量%、1.9重量%、2.0重量%、2.1重量%、2.2重量%、2.3重量%、2.4重量%、2.5重量%、2.6重量%、2.7重量%、2.8重量%、2.9重量%、3.0重量%、3.1重量%、3.2重量%、3.3重量%、3.4重量%、3.5重量%、3.6重量%、3.7重量%、3.8重量%、3.9重量%、4.0重量%、4.1重量%、4.2重量%、4.3重量%、4.4重量%、4.5重量%、4.6重量%、4.7重量%、4.8重量%、4.9重量%、5.0重量%より少ないか、または5.0重量%より多い。一部の態様において、R1は、モノ保護アミノ基、例えば、t-Boc化学またはF-Moc化学を介して保護された基を含む。ほとんどの場合では、モノR1保護エチレンジアミンの濃度を上げると最高の成績が得られる。
遊離アミノ基とカルボン酸が反応するように、カルボン酸を活性化するための活性化製剤が本明細書において開示される。一部の態様において、活性化製剤は活性化剤(カップリング試薬とも呼ばれる)を含む。一部の態様において、カップリング試薬はカルボジイミドまたはトリアゾールである。一部の態様において、カルボジイミドは1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミドである。一部の態様において、カルボン酸基活性化化合物はN-ヒドロキシスクシンイミド(NHS)である。一部の態様において、活性化製剤は任意で溶媒および/またはポリマーを含む。
リンカー製剤も本明細書において開示される。リンカー製剤は、溶媒、ポリマー、リンカー分子、およびカップリング試薬などの成分を含んでもよい。一部の態様において、ポリマーは1重量%のポリビニルアルコールおよび2.5重量%のポリビニルピロリドンであり、リンカー分子は1.25重量%のポリエチレンオキシドであり、カップリング試薬は1重量%の1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミドであり、溶媒は水を含む。一部の態様において、ポリマーは0.5~5重量%のポリビニルアルコールおよび0.5~5%重量%のポリビニルピロリドンであり、リンカー分子は0.5~5重量%のポリエチレンオキシドであり、カップリング試薬は0.5~5重量%の1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミドであり、溶媒は水を含む。
支持体も本明細書において開示される。一部の態様において、支持体表面は平面(すなわち、2次元)である。一部の態様において、支持体表面は遊離アミン基によって官能化される。一部の態様において、支持体表面は遊離カルボン酸基によって官能化される。遊離アミン基によって官能化された表面は、少なくとも2つの遊離カルボン酸基を含む分子のカルボン酸基を活性化し(例えば、カルボジイミドを用いてカルボン酸基をカルボニル基に変換し)、前記分子を、支持体の表面に取り付けられた遊離アミン基と反応させることによって遊離カルボン酸基に変換されてもよい。一部の態様において、複数のカルボン酸基を含む前記分子は、無水コハク酸、ポリエチレングリコール二酸、ベンゼン-1,3,5-トリカルボン酸、ベンゼンヘキサカルボン酸、またはカルボキシメチルデキストランである。
使用することができる多孔層は、第1のPNA基本要素を取り付けるために(構成要素ポリマーに固有の、または多孔層に導入された)アミン基を有する多孔構造からなる平らな透過性ポリマー材料である。例えば、多孔層は多孔性ケイ素からなってもよく、多孔性ケイ素の表面にはポリマー基本要素を取り付けるための官能基が取り付けられている。別の例において、多孔層は架橋ポリマー材料からなってもよい。一部の態様において、多孔層は、ポリスチレン、サッカロース、デキストラン、ポリアクリロイルモルホリン、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリアクリルアミド、ポリアクリロイルピロリドン、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレングリコール、アガロース、セファロース、他の従来のクロマトグラフィー型材料、ならびにその誘導体および混合物を使用することができる。一部の態様において、多孔層構成材料は、ポリ(ビニルアルコール)、デキストラン、アルギン酸ナトリウム、ポリ(アスパラギン酸)、ポリ(エチレングリコール)、ポリ(エチレンオキシド)、ポリ(ビニルピロリドン)、ポリ(アクリル酸)、ポリ(アクリル酸)-ナトリウム塩、ポリ(アクリルアミド)、ポリ(N-イソプロピルアクリルアミド)、ポリ(ヒドロキシエチルアクリレート)、ポリ(アクリル酸)、ポリ(スチレンスルホン酸ナトリウム)、ポリ(2-アクリルアミド-2-メチル-1-プロパンスルホン酸)、多糖類、およびセルロース誘導体より選択される。好ましくは、多孔層の多孔度は10~80%である。一つの態様において、多孔層の厚さは0.01μm~約1,000μmである。多孔層に含まれる孔径は2nm~約100μmでもよい。
一部の態様において、支持体は、上面および下面を有する平面層と;該層の、位置が定められた場所に機能的に連結された複数のピラーとを備えてもよく、それぞれのピラーは、該層から延びた平らな表面を有し、それぞれのピラーの表面と該層の上面との間の距離は約1,000~5,000オングストロームであり、複数のピラーは約10,000/cm2を超える密度で存在する。
アレイも本明細書において開示される。一部の態様において、アレイは二次元アレイでもよい。一部の態様において、アレイは、支持体を備える表面を備え、支持体は、上面および下面を有する平面層を備える。
F=10(N+1)・log(E/100%)
によって特徴付けられる。一部の態様において、Fは、予め決められた配列のそれぞれの単量体をカップリングする場合、少なくとも98.5%の平均カップリング効率Eによって特徴付けられる。一部の態様において、Fは、予め決められた配列のそれぞれの単量体をカップリングする場合、少なくとも98.5%の平均カップリング効率Eによって特徴付けられる。一部の態様において、各カップリング工程の平均カップリング効率Eは、90%、91%、92%、93%、94%、95%、96%、97%、98%、98.5%、98.6%、98.7%、98.8%、98.9%、99.0%、99.1%、99.2%、99.3%、99.4%、99.5%、99.6%、99.7%、99.8%、99.9%、または100%である。
F(N)=10(N+1)・log(E/100%)-10(N)・log(E/100%)
によって示される。式中、F(N)は、完全長配列より短い長さNでの、アレイ上にある配列の比率であり、Eは、平均カップリング効率のパーセントである。それぞれの長さNでのEの正確な値はまた、それぞれの長さでの、オリゴマーの正確な数を得るのにも使用することができる。
F(N)=10(N)・log(E/100%)
によって表され、式中、F(N)は、完全長配列(これ以上、カップリング工程が無い)のアレイ上にある配列の比率であり、Eは平均カップリング効率である。
支持体を製造する方法
支持体を作るための方法も本明細書において開示される。一部の態様において、支持体を生成する方法は多孔層を支持層にカップリングする工程を含んでもよい。支持層は、任意の金属またはプラスチックまたはシリコンまたは酸化ケイ素または窒化ケイ素を含んでもよい。一つの態様において、支持体は、PNAもしくはPNA-DNAキメラオリゴヌクレオチド合成およびPNAモノマーカップリングの間にPNAモノマーを結合するために支持体に取り付けられた複数のアミノ基支持体を含む。一部の態様において、支持体を生成する方法は、多孔層を複数のピラーにカップリングする工程を含んでもよく、多孔層は化合物を支持体に取り付けるための官能基を含み、ここで、平面層の、位置が定められた場所に複数のピラーが取り付けられ、それぞれのピラーは、平面層から延びた平らな表面を有し、それぞれのピラーの表面と平面層の上面との間の距離は約1,000~5,000オングストロームであり、複数のピラーは約10,000/cm2を超える密度で存在する。
その全体が全ての目的のために参照により本明細書に組み入れられる、(2006年9月29日に出願された)米国特許出願公開第2010/0240555号において説明されたように、支持体は半導体モジュールにおいて表面誘導体化することができる。本発明の代表的な支持体には、表面誘導体化される準備ができた酸化物のピラーがある。表面誘導体化とは、遊離アミノ基が生体分子カップリングに利用できるように、アミノシラン基が支持体に付加される方法である。一部の局面において、表面誘導体化された支持体に取り付けられる第1の分子はtboc保護グリシンである。このカップリング手順は、当業者に一般的に公知の標準的なメリフィールド固相ペプチド合成手順に似ている。
アレイを製造するための方法も本明細書において開示される。一部の態様において、本明細書において開示されたアレイは、表面、例えば、本明細書において開示された支持体上で、インサイチューで合成することができる。場合によっては、アレイは光リソグラフィを用いて作られる。例えば、支持体はフォトレジスト製剤と接触される。マスクを用いて、保護基を有する遊離リンカー分子または遊離カップリング分子が設けられた表面上の特定の場所への放射線または光の曝露を制御することができる。曝露された場所では保護基は除去されて、カップリング分子上またはリンカー分子上に1つまたは複数の新たに露出した反応性部分が生じる。次いで、望ましいリンカーまたはカップリング分子が、保護されていない取り付けられた分子に、例えば、遊離アミン基に連結される。表面上の特定の場所または位置が定められた場所において多数の特徴を合成するために、このプロセスは繰り返されてもよい(例えば、Pirrungらへの米国特許第5,143,854号、米国特許出願公開第2007/0154946号(2005年12月29日に出願された)、同第2007/0122841号(2005年11月30日に出願された)、同第2007/0122842号(2006年3月30日に出願された)、同第2008/0108149号(2006年10月23日に出願された)、および同第2010/0093554号(2008年6月2日に出願された)を参照されたい。これらはそれぞれ参照により本明細書に組み入れられる)。
支持体、製剤、および/またはアレイを使用する方法も本明細書において開示される。本明細書において開示されるアレイの使用は、研究用途、治療目的、医学診断、および/または1人もしくは複数人の患者の層別化を含んでもよい。
以下の通りに、場所特異的なPNA配列合成がアレイ上で行われる。前記のように、ウェーハが、2000~4000rpm(好ましくは2500~3000rpm)で10~180秒間(好ましくは、60~120秒間)、光塩基発生剤を含むフォトレジスト組成物でスピンコーティングされる。ウェーハおよびフォトレジストは遠紫外線スキャナーツールの中で、光マスクによって規定されるパターンに従って248nm紫外線に露光され、フォトレジスト中にある光活性カップリング溶液には光塩基発生剤が存在するので、紫外線に露光された場所には塩基が発生する。露光エネルギーは1mJ/cm2~100mJ/cm2(好ましくは30~60mJ/cm2)でもよい。
実施例1に記載のように、64mer長のPNA配列
をウェーハ上で成長させ、以下に説明するように、配列重合の収率をフルオレセインプロセスを用いて計算した。配列の収率を求めるために、2当量のジイソプロピルカルボジイミド(VWR)および2当量のヒドロキシベンゾトリアゾール(Hobt)(Anapsec)で活性化した2重量%のフルオレセインカルボン酸5(6)-FAM(Anaspec)を3000rpmで60秒間にわたってウェーハ上にスピンコーティングし、ベークモジュールの中で65℃で5分間ベークした。次いで、ウェーハをエチレンジアミン(VWR)で10分間洗浄し、次いで、N-メチル-ピロリドン(NMP)で2分間洗浄し、次いで、IPAで40秒間洗浄し、遠心力で脱水した。次いで、付加するたびに、蛍光を共焦点顕微鏡で測定して配列の収率を求めた。
工程収率=(Fn/F1)1/n-1
であった。式中、F1およびFnは、1番目の工程およびn番目の工程での、蛍光スキャナ装置から読み取ったフルオレセインカップリング強度を示す。カップリング収率は、式:
E=101/C・log(F)
を用いて計算した。式中、Fは完全長の比に等しく、C=カップリングの回数=長さ-1である。すると、完全長の比Fは、
F=10(N+1)・log(E/100%)
によって示される。
F(N)=10(N+1)・log(E/100%)-10(N)・log(E/100%)
によって示される。式中、F(N)は、完全長配列より短い長さNでの、アレイ上にある配列の比率であり、Eは平均カップリング効率パーセントである。それぞれの長さNでのEの正確な値はまた、それぞれの長さでの、オリゴマーの正確な数を得るのにも使用することができる。
F(N)=10(N)・log(E/100%)
によって示され、F(N)は、完全長配列(これ以上、カップリング工程が無い)のアレイ上にある配列の比率であり、Eは平均カップリング効率である。
パート1-PNA配列の合成
PNA-DNAキメラをアレイ表面に作製するために、まず、特定の部位にある望ましい配列のPNAオリゴを、実施例1に示したプロトコールに従ってチップ上に合成した。
以下の通りに、アレイ上にある特定の場所で、配列特異的DNAヌクレオチドがPNA配列末端に付加される。PNA配列を含むウェーハが2000~4000rpm(好ましくは2500~3000rpm)で10~180秒間、好ましくは、60~120秒間にわたってフォトレジストでスピンコーティングされ、遠紫外線スキャナーツールの中で、光マスクによって規定されるパターンに従って248nm紫外線に露光され、フォトレジスト中にある光活性カップリング溶液には光塩基発生剤が存在するので、紫外線に露光された場所には塩基が発生する。露光エネルギーは1mJ/cm2~100mJ/cm2(好ましくは30~60mJ/cm2)でもよい。
以下の通りに、アレイ上にある、それぞれのPNA-DNAキメラ末端において、場所特異的なDNA配列逆合成(5’→3’)が行われる。前記のように、ウェーハが、2000~4000rpm(好ましくは2500~3000rpm)で10~180秒間(好ましくは、60~120秒間)にわたって、光塩基発生剤を含有するフォトレジスト組成物でスピンコーティングされる。ウェーハおよびフォトレジストは、遠紫外線スキャナーツールの中で、光マスクによって規定されるパターンに従って248nm紫外線に露光され、光活性カップリング溶液には光酸発生剤が存在するので、紫外線に露光された場所には酸が発生する。露光エネルギーは1mJ/cm2~100mJ/cm2(好ましくは30~60mJ/cm2)でもよい。
実施例3に記載したように、31mer長のPNA配列と3つのDNAオリゴマー
をウェーハ上に成長させ、以下で説明するようにフルオレセインに基づく工程収率検出プロセスを用いて、付加するたびに配列の工程収率を求めた。(CGC)は前記配列のDNAオリゴマー部分である。2当量のジイソプロピルカルボジイミド(VWR)および2当量のヒドロキシベンゾトリアゾール(Hobt)(Anapsec)で活性化した2重量%のフルオレセインカルボン酸5(6)-FAM(Anaspec)を3000rpmで60秒間にわたってウェーハ上にスピンコーティングし、ベークモジュールの中で65℃で5分間ベークした。DNAオリゴマーの収率を計算するために、6-FAMホスホロアミダイト(Jena Biosciences)を、アセトニトリルに溶解した2当量のベンジルチオ-テトラゾール(TCI)で活性化し、3000rpmで60秒間にわたってウェーハ上にスピンコーティングし、室温で5分間にわたって反応させた。次いで、ウェーハをエチレンジアミン(VWR)で10分間洗浄し、次いで、N-メチル-ピロリドン(NMP)で2分間洗浄し、次いで、IPAで40秒間洗浄し、遠心力で脱水した。次いで、蛍光をNikon A1R共焦点顕微鏡で測定して配列の収率を求めた。結果を表3に示した。表3の結果から、それぞれのタイプの付加について以下の平均工程収率:
- PNA配列の各層の工程収率=99.4%
- PNA-DNAキメラ工程の工程収率=97.4%
- DNAオリゴマーの工程収率=98.96%
が得られた。
上記のプロトコールに従って合成したPNA-DNAキメラ配列の生物学的活性を確かめるために、34mer長のPNA-DNAキメラ配列
を実施例3に従って合成した。(TAT)はPNA-DNAキメラのDNAオリゴマー部分である。1個の追加ヌクレオチドを含むPNA-DNAキメラの配列に相補的な4種類のオリゴヌクレオチドDNA配列
を合成した(IDT)。
ジェノタイピングSNPに基づく用途についてPNA合成を試験した。周知の変異であるC677TおよびA1298CのあるMTHFR領域のジェノタイピングを、20種類のDNA試料を用いて試験した。これらのDNA試料には、リアルタイムPCRを用いて確かめられた既知のジェノタイピング結果があった。
ジェノタイピングSNPに基づく用途についてPNA-DNAキメラを試験した。20種類のDNA試料を用いて、周知の変異であるC677TおよびA1298CのあるMTHFR領域のジェノタイピングを試験した。これらのDNA試料には、リアルタイムPCRを用いて確かめられた既知のジェノタイピング結果があった。上記で示した方法に従って、677C>T変異については34mer長のPNA-DNAキメラプライマー配列
、および、1298A>C変異については、
を、合成した(PNA-DNAキメラのDNAヌクレオチド部分を括弧で囲んだ)。
Claims (39)
- 表面の、位置が定められた場所に取り付けられた特徴のアレイであって、該特徴がそれぞれ、決定可能な配列および意図された長さの複数のPNAポリマーを含み、該複数のPNAポリマーが、少なくとも90%、91%、92%、93%、94%、95%、96%、97%、98%、98.5%、99%、または99.5%のカップリング効率によって特徴付けられる長さの分布を含む、アレイ。
- 意図された長さより短い複数のPNAポリマーの長さの分布が、式:
F(N)=10(N+1)・log(E/100%)-10(N)・log(E/100%)
によって特徴付けられ、式中、N=PNAポリマーの実際の長さ、E=カップリング効率であり、Eが、少なくとも90%、91%、92%、93%、94%、95%、96%、97%、98%、98.5%、99%、または99.5%である、請求項1記載のアレイ。 - 意図された長さのPNAポリマーの比率が、式:
F(N)=10(N)・log(E/100%)
によって特徴付けられ、式中、N=PNAポリマーの意図された長さ、E=平均カップリング効率であり、Eが、少なくとも90%、91%、92%、93%、94%、95%、96%、97%、98%、98.5%、99%、または99.5%である、請求項1記載のアレイ。 - 少なくとも10,000の特徴を含む、前記請求項のいずれか一項記載のアレイ。
- 少なくとも100,000の特徴を含む、請求項4記載のアレイ。
- PNAポリマーの意図された長さが少なくとも30である、前記請求項のいずれか一項記載のアレイ。
- PNAポリマーの意図された長さが少なくとも40である、前記請求項のいずれか一項記載のアレイ。
- PNAポリマーの意図された長さが少なくとも50である、前記請求項のいずれか一項記載のアレイ。
- PNAポリマーの意図された長さが少なくとも75である、前記請求項のいずれか一項記載のアレイ。
- PNAポリマーがPNA/核酸キメラであり、該PNAポリマーが1つまたは複数の核酸残基をさらに含む、前記請求項のいずれか一項記載のアレイ。
- 核酸がデオキシリボ核酸である、請求項10記載のアレイ。
- 1平方センチメートルあたり少なくとも10,000の特徴を含む、前記請求項のいずれか一項記載のアレイ。
- 1平方センチメートルあたり少なくとも20,000、少なくとも40,000、少なくとも100,000、少なくとも200,000、少なくとも500,000、少なくとも100万、少なくとも200万、少なくとも500万、少なくとも1000万、少なくとも2000万、または少なくとも5000万の特徴を含む、請求項12記載のアレイ。
- アレイがピラーを備え、表面が該ピラーの上部表面である、前記請求項のいずれか一項記載のアレイ。
- ピラーの上部表面が少なくとも1μm2の面積を有する、請求項14記載のアレイ。
- 光マスクを用いてパターンを作製する工程、
該光マスクを通してフォトレジストを紫外線に露光する工程、および
該紫外線への該露光の結果として該アレイ上の該パターンで酸または塩基を発生させる工程
を含む、請求項1~15のいずれか一項記載のアレイを作る方法。 - 露光によって光塩基発生剤から塩基が発生する、請求項16記載の方法。
- 光塩基発生剤が、1,3-Bis[(2-ニトロベンジル)オキシカルボニル-4-ピペリジル]プロパン、1,3-Bis[1-(9-フルオレニルメトキシカルボニル)-4-ピペリジル]プロパン、1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]dec-5-エニル-フェニルグリオキシラート、1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]dec-5-エニル-4-ニトロフェニルグリオキシラート、1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]dec-5-エニル-テトラフェニルボラート、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エニル-テトラフェニルボラート、1-フェナシル-(1-アゾニア-4-アザビシクロ[2,2,2]オクタン)-テトラフェニルボラート、および1-ナフトイルメチル-(1-アゾニア-4-アザビシクロ[2,2,2]オクタン)-テトラフェニルボラートまたは類似物からなる群より選択される、請求項17記載の方法。
- 光塩基発生剤が、1,3-Bis[(2-ニトロベンジル)オキシカルボニル-4-ピペリジル]プロパンである、請求項18記載の方法。
- 塩基によってアミン基から保護基が切断される、請求項17~19のいずれか一項記載の方法。
- PNA単量体を、脱保護されたアミン基にカップリングする工程をさらに含む、請求項20記載の方法。
- 露光によって光酸発生剤から酸が発生する、請求項16記載の方法。
- 光酸発生剤が、ヨードニウム塩、ポロニウム塩、およびスルホニウム塩からなる群より選択される、請求項22記載の方法。
- 光酸発生剤が、Bis(4-tert-ブチルフェニル)ヨードニウムパーフルオロ-1-ブタンスルホナート、Bis(4-tert-ブチルフェニル)ヨードニウムp-トルエンスルホナート、 Bis(4-tert-ブチルフェニル)ヨードニウムトリフラート、Boc-メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフラート、(tert-ブトキシカルボニルメトキシナフチル)-ジフェニルスルホニウムトリフラート、(4-tert-ブチルフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスファート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ-1-ブタンスルホナート、ジフェニルヨードニウムトリフラート、(4-ヨードフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、(4-メトキシフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、(4-メチルフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラート、(4-メチルチオフェニル)メチルフェニルスルホニウムトリフラート、Tris(4-tert-ブチルフェニル)スルホニウムトリフラート、(4-メトキシフェニル)フェニルスルホニウムトリフラート、(4-メトキシフェニル)フェニルヨードニウムトリフラート、4メトキシフェニル)フェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、(4メトキシフェニル)ジメチルスルホニウムトリフラート、および(2,4-ジヒドロキシフェニル)ジメチルスルホニウムトリフラートまたは類似物からなる群より選択される、請求項22記載の方法。
- 光酸発生剤が、トリフラート、ホスフェート、およびアンチモナートのヨードニウム塩およびスルホニウム塩からなる群より選択される、請求項22記載の方法。
- 光酸発生剤が、(4-ヨードフェニル)ジフェニルスルホニウムトリフラートである、請求項22記載の方法。
- 酸によってカルボン酸基から保護基が切断される、請求項22~26のいずれか一項記載の方法。
- DNA単量体を、脱保護されたカルボン酸基にカップリングする工程をさらに含む、請求項27記載の方法。
- PNA単量体をカップリングする工程が、
置換された酢酸を活性化剤によって活性化すること、および
選択的に露光された部分において、活性化された酢酸を無保護アミン基にカップリングすること
を含み、酢酸の置換が脱離基を含む、請求項21記載の方法。 - PNA単量体をカップリングする工程がアレイ上の複数の部位で同時に行われる、請求項29記載の方法。
- 脱離基がハロである、請求項29記載の方法。
- 前記カップリングする工程が、
酢酸の脱離基をジアミノ-アルカンで置き換えること
をさらに含み、ジアミノ-アルカンの1つのアミンが保護されている、請求項29記載の方法。 - ジアミノ-アルカンがエチレンジアミンである、請求項32記載の方法。
- 前記カップリングする工程が、
PNA単量体酢酸を活性化剤によって活性化すること、および
活性化されたPNA単量体酢酸をジアミノ-アルカンの無保護アミンにカップリングすること
をさらに含む、請求項29または30記載の方法。 - PNA単量体酢酸が、R-チミン-1-酢酸、R-(シトシン-1-イル)-酢酸、R-アデニン-9-イル-酢酸、R-グアニン-9-酢酸、またはR-ウラシル-1-酢酸であり、式中、RがHまたは保護基である、請求項34記載の方法。
- 対象から得られた核酸を含む試料を分析する方法であって、以下の工程を含む、方法:
該試料を請求項1~15のいずれか一項記載のアレイと、該試料と該アレイとの間のハイブリダイゼーションを促進する条件下で接触させる工程;
該アレイからシグナルを検出する工程であって、該シグナルが、該特徴場所の1つまたは複数における、該アレイとハイブリダイズした試料の存在、非存在、または量を示す、工程;ならびに
該シグナルを分析し、それによって、該試料を分析する工程。 - 分析する工程が、シグナルに基づいて、試料に存在する核酸配列を決定することを含む、請求項36記載の方法。
- 分析する工程が、シグナルに基づいて、試料に存在するSNPの存在または非存在を決定することを含む、請求項36記載の方法。
- アレイがPNA/DNAキメラを含み、試料と該アレイとの間のハイブリダイゼーション後にプライマー伸長反応を行う工程をさらに含む、請求項38記載の方法。
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