JP2022058127A - 基材のパターン形成装置、パターン形成方法、基材、および収容器 - Google Patents

Abstract

【課題】視認性のよいパターンが形成された基材を提供すること。
【解決手段】本発明に係る基材１ａの製造装置５００は、凸形状部または凹形状部が形成された基材１ａを保持する保持部２８と、基材１ａにパターン１１を形成するパターン形成部の一例としてのレーザ照射部２０と、を含み、パターン１１は、凸形状部、凹形状部、凸形状部の周囲または凹形状部の周囲、及び凸形状部又は前記凹形状部にそった部分、のうち少なくとも１つ以上に形成される。パターン１１は、ドット部１１０の集合体により構成されており、レーザ照射部２０は、レーザ照射により、ドット部１１０を形成する。
【選択図】図１６

Description

本発明は、基材のパターン形成装置、パターン形成方法、基材、および収容器に関する。

特許文献１（特開２０１１‐０１１８１９）には、表記事項をボトル２に直接熱加工による刻印印字または金型成型により刻印印字することによる表示で、ラベルを用いず、ペットボトルの構成をキャップとボトルとにすることが記載されている。

本発明は、視認性または意匠性のよい基材を提供することを目的とする。

本発明に係る基材のパターン形成装置は、凸形状部または凹形状部が形成された基材を保持する保持部と、基材にパターンを形成するパターン形成部と、を含み、パターンは、凸形状部、凹形状部、凹形状部又は凸形状部の周囲、及び凸形状部又は前記凹形状部にそった部分、のうち少なくとも１つ以上に形成される。

本発明によれば、視認性または意匠性のよい基材を提供できる。

本発明の実施形態に係る所定の形状の一例を示す図である。 本実施形態に係るドット部の構成例を示す図であり、（ａ）は上面図、（ｂ）は（ａ）のＣ－Ｃ矢視断面図である。 本実施形態に係るドット部の走査型電子顕微鏡写真であり、（ａ）は上面方向から視た斜視図、（ｂ）は（ａ）のＤ－Ｄ矢視断面方向から視た斜視図である。 本実施形態に係る収容器の具体例を示す図である。 本実施形態に係る製造装置を示す図である。 本実施形態に係るレーザ光の焦点について説明する図である。 本実施形態に係るレーザ光のスポット径について説明する図である。 本実施形態に係るレーザ光のスポット径の特性について説明する図である。 本実施形態に係るレーザ光の焦点、パワーの設定について説明する図である。 本実施形態に係るビームエキスパンダについて説明する図である。 本実施形態に係る製造装置の変形例について説明する図である。 図１１に示した変形例における第１、第２の実装部について説明する図である。 図１１に示した変形例におけるレーザ照射方向について説明する図である。 本実施形態に係る収容器の変形例を示す図である。 本実施形態に係る収容器の第２の変形例を示す図である。 本実施形態に係る収容器の第３の変形例を示す図である。 本実施形態に係る収容器の第４の変形例を示す図である。 本実施形態に係る収容器の第５の変形例を示す図である。 本実施形態に係る収容器の第６の変形例を示す図である。 本実施形態に係る収容器の第７の変形例を示す図である。 本実施形態に係る収容器の第８の変形例を示す図である。 本実施形態に係る収容器の第９の変形例を示す図である。 本実施形態に係る収容器の第１０の変形例を示す図である。 本実施形態に係る収容器の第１１の変形例を示す図である。

以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。各図面において、同一の構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。また以下に示す実施形態は、本発明の技術思想を具体化するための装置を例示するものであって、本発明を以下に示す実施形態に限定するものではない。以下に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、特定的な記載がない限り、本発明の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく、例示することを意図したものである。また図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするため、誇張している場合がある。

本発明の実施形態に係る基材は、パターンを構成する所定の形状が、少なくとも一部の領域に形成された基材である。基材は物体の素材部分を意味する。物体には、例えば収容器が挙げられる。また収容器には、ＰＥＴ等の樹脂を含んで構成され、飲料を収容するＰＥＴボトル等が挙げられる。但し、物体に特段の制限はなく、如何なる物であってもよい。収容器も、形状及び材質に制限はなく、如何なる形状の如何なる材質の収容器であってもよい。

基材における「少なくとも一部の領域」には、基材の表面の領域が含まれる。基材の表面は、素材における外部の空気等に触れる面を意味する。実施形態では、基材の内部と対称になる用語として基材の表面という用語を用いるため、例えば板状の基材の場合には、基材の表側の面と裏側の面は何れも基材の表面に該当する。また筒状の基材の場合には、基材の外側の面と内側の面は何れも基材の表面に該当する。

パターンは、情報表示部の一例であり、文字や、バーコード等のコード、図形、画像等を含み、例えば、収容器、又は収容器に収容される飲料等の被収容物の、名称や識別番号、製造業者、製造日時等の被収容物に関する情報を表示する。

ＰＥＴボトル等の収容器では、これらの情報が記録された記録媒体を収容器の表面に貼り付けることで、これらの情報を表示する場合があるが、実施形態では、収容器を構成する基材の表面に、これらの情報を示すパターンを形成することで、記録媒体を用いずにこれらの情報を表示する。

図１は、本実施形態に係る基材に形成された所定の形状の一例を説明する図である。図１は、パターン１１が表面に形成された収容器１を構成する基材１ａの一部を示している。収容器１と被収容物は、収容体を構成する。収容器１は、一例として可視光に対して透過性を有するＰＥＴ樹脂を素材とする基材１ａにより構成されている。なお、可視光は、下界の波長が約３６０ｎｍから約４００ｎｍで、上界の波長が約７６０ｎｍから約１６０００ｎｍの光である。

パターン１１は、一例として「ラベルレス」という文字列を構成している。領域Ａは、パターン１１における文字「ス」の中の一部の領域である。斜視図Ｂは、パターン１１の構成の詳細を説明するために、領域Ａを拡大して模式的に示した図である。

斜視図Ｂに示すように、領域Ａには複数のドット部１１０が含まれている。このドット部１１０は、基材の少なくとも一部の領域に形成され、パターンを構成する所定の形状の一例である。なお、所定の形状には、基材の表面に形成された形状と、基材の表面に形成された形状の表面下にある空隙部等の内部形状とが含まれる。

ドット部１１０は、視覚的な一例として白濁部であり、凹部１１１と、凸部１１２とを含んでいる。凹部１１１は、収容器１を構成する基材１ａの表面に対して窪んだ部分であり、所定の凹部の一例である。凸部１１２は、収容器１を構成する基材１ａの表面に対して突起した部分であり、所定の凸部の一例である。凸部１１２は、凹部１１１の囲むように凹部１１１の周囲に形成されている。

複数のドット部１１０は、収容器１を構成する基材１ａに集合体として形成されることで、パターン１１における「ラベルレス」という文字列を構成している。ここで、集合体とは、個々のものが集合してでき上がったものをいい、パターン１１は、複数のドット部１１０の集合体により構成されている。

基材１ａにおいて、複数のドット部１１０によりパターン１１が形成されたパターン領域１３は、第１の領域に対応する。また基材１ａにおける第１の領域以外の非パターン領域１２は、第２の領域に対応する。

パターン領域１３には複数のドット部１１０が形成されているため、収容器１に入射する光の反射方向や光拡散性が非パターン領域１２とは異なる。これにより、パターン領域１３と非パターン領域１２では、収容器１に入射する光に対する光透過率、又は光反射率の少なくとも一方が異なっている。光透過率、又は光反射率の少なくとも一方が異なることで、収容器１を視る者は、収容器１に形成されたパターン１１を視認することが可能になる。

また、複数のドット部１１０のそれぞれの全体幅（ドット幅）、及び複数のドット部１１０同士の間隔（ドット間隔）は、パターン１１に対して小さい。これにより、収容器１を視る者は、ドット部１１０そのものについては視認せずに、パターン１１の「ラベルレス」という文字を視認可能になる。

ドット部１１０そのものが視認されないためのドットとドットの隙間は、収容器１を視る者の視力や、目と収容器１との間の距離等によって異なるが、１００μｍ以下であることが好ましい。また、ドット幅に関しても小さいほど良いが、ドット部自体の形を判別ができなくなるサイズとして、１００ｕｍ程度より小さいことが好ましい。この点について、さらに詳しく説明する。

視力１．５程度の者（人）が、収容器１を３０ｃｍ程度離して視た際には、一般に５０μｍの白黒の点（ドット）を識別可能である。白黒のコントラストが低いとこの限界値も大きくなるが、大方５０μｍ程度である。但し、ドットの存在だけであれば３０μｍのドットでも視認でき、またコントラストが高いドットであれば１０μｍのドットでも視認できる場合もある。

またドット部１１０が隣接して２つある場合には、２つのドット部１１０が視認できるかは人の目の分解能等によって決まる。なお、分解能とは、２点を分離した２点として認識できる最小距離をいう。

人の目の分解能は、視力にもよるが、一般に３０ｃｍ離れたところで１００μｍである。３０ｃｍとは、飲料水等を収容したＰＥＴボトルを手に取って、ＰＥＴボトルに表示されるラベル等の情報を視認する際の距離に対応する。つまり、軽くひじを曲げた状態でＰＥＴボトルを手に取ると、人の目とペットボトルの間隔は３０ｃｍ程度となる。人の体格を考慮すると、この距離は３０ｃｍ乃至５０ｃｍ程度の範囲で変化する。分解能は、３０ｃｍ離れたところで１００μｍ、５０ｃｍ離れたところで１６０μｍ程度である。

また、別の指標では、解像度の境界として２００ｄｐｉ（ｄｏｔ ｐｅｒ ｉｎｃｈ）を保証する場合には、隣接するドット間の隙間が１３０μｍ以下であれば、ドットが一つ一つ分解されずにひと固まりに視認される。

以上より、ドットとドットの隙間は、好ましくは１６０μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下にすることで、ドット部１１０が一つ一つ分かれていると視認されずに連続体として視認され、パターン１１の「ラベルレス」という文字等のパターンを視認可能になる。また、ドットの大きさも１００μｍより大きくなると、ドット自体の形状変化が視認される場合も生じてくる。そのため、ドットも好ましくは１６０μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下にすることで、ドット内の形状変化があったとしても均一な模様としてドットを知覚可能になり、その集合体である文字等のパターンを粒状感のない均一なパターンとして視認可能になる。

ドット部１１０を形成するためには、レーザ加工、放電加工、エッチング加工、切削加工、又は金型を用いた成形加工等の様々な加工方法を適用できる。但し、これらのうちのレーザ加工法は、基材に対して非接触で加工でき、またレーザ光の走査や、光源のアレイ化、またパターン露光等により高速加工ができるため、好適である。

レーザ加工では、照射するレーザ光（レーザビーム）の光エネルギー、レーザビームのサイズ、照射時間等を調整することで、ドット部１１０の大きさ、形、深さ等を変化させることができる。また、レーザビームの断面強度分布は一般にガウシアン分布であるが、アレイ光源のレーザビームを組み合わせて強度分布を調整したり、照射光学系の設計により中央の強度分布が平らなトップハット状の強度分布を生成したりすることもできる。

ドット部１１０における凹部１１１は、レーザ光の照射位置で基材１ａの一部が溶融、焼失、気化又は変形することで形成される。凸部１１２は、凹部１１１から離散した基材１ａの一部が焼失又は気化せずに凹部１１１の周囲に付着して固化することで形成される。主に熱エネルギーを利用した加工であるため、基材１ａの素材には熱伝導率が比較的低い樹脂等が好適であるが、ガラス等の他の素材にも適用可能である。

また、熱伝導率を制御することで、ドット部１１０等の様々な所定の形状を形成することもできる。熱伝導率の制御には、例えば、基材１ａそのものを熱伝導性の高いものにしたり、或いは熱伝導性の高い他の部材を基材１ａに密着させて、レーザ光の照射による基材１ａの発熱を急激に逃がしたりすること等が考えられる。熱伝導性の高い他の部材は、冷却液や金属等が挙げられる。

また、レーザ加工における溶融、蒸発、結晶化又は発泡等の現象は、照射領域内で不規則に発生するため、パターン領域１３の表面が荒れて非パターン領域１２と比較して表面粗さが大きくなりやすい。表面粗さが大きいことで、パターン領域１３では、収容器１に入射する光に対する光拡散性が非パターン領域１２に対して高くなる。その結果、パターン１１のコントラストが上がり、視認性がより向上する。この点においてもレーザ加工の適用がより好適である。

また、本実施形態では、凹部１１１と、凸部１１２の少なくとも一方を含む複数のドット部１１０の集合体でパターンを構成しているため、凹部１１１と凸部１１２の形状に沿って表面積が大きくなることで、塊としての溝や窪みでパターンを構成する場合と比較して、表面粗さが大きい領域がさらに大きくなる。また複数のドット部１１０の集合体でパターンを構成するため、複数のドット部１１０の形状にそって表面積がさらに大きくなる。これにより、光拡散性がさらに高くなり、コントラストが上がることで、視認性がさらに向上する。

なお、斜視図Ｂで示した例では、ドット部１１０は正方格子状に規則的に配列して形成されているが、これに限定されるものではない。三角格子状やハニカム状に配列して形成されてもよいし、規則的に配列せずに配置間隔が相互に異なるようにして不規則に形成されてもよい。

また「ラベルレス」という文字列を含むパターン１１を例示したが、これに限定されるものではない。任意の文字列や、図形又は写真、バーコード又はＱＲコード等の記号又はコード、並びにこれらの組み合わせによってパターン１１を構成することもできる。パターン１１は、換言すると画像であり、ドット部１１０等の所定の形状により、画像を形成することができる。

＜ドット部１１０の構成例＞
図２は、本実施形態に係るドット部１１０の構成の一例を説明する図であり、（ａ）は上面図、（ｂ）は（ａ）のＣ－Ｃ矢視断面図である。図３は、本実施形態に係るドット部１１０の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ；Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）写真であり、（ａ）は上面方向から視た斜視図、（ｂ）は（ａ）のＤ－Ｄ矢視断面方向から視た斜視図である。図３は、パターン領域１３内の一部を拡大観察したＳＥＭ写真である。図３（ａ）では、複数のドット部１１０のうちの２つの全体が観察され、またＹ軸正方向側に２つのドット部１１０の一部が僅かに観察され、Ｙ軸負方向側に２つのドット部１１０の一部が僅かに観察されている。また、ドット幅は約１００ｕｍ程度で形成されている。

図２及び図３に示すように、ドット部１１０は、凹部１１１と、凸部１１２とを含んで構成されている。凹部１１１は、第１の傾斜面１１１１（斜線ハッチング部分）と、底部１１１２（黒塗り潰し部分）とを含み、椀状の形状に形成されている。凹部幅Ｄｃは凹部１１１の幅を表し、深さｄｐは、非パターン領域１２の表面に対する底部１１１２の高さ（Ｚ軸方向の長さ）を表している。

また、凸部１１２は、頂部１１２１（縦線ハッチング部分）と、第２の傾斜面１１２２（梨地ハッチング部分）とを含み、円環面状に形成されている。なお、円環面とは円周を回転して得られる回転面をいう。円環幅Ｄｒは、凸部１１２の円環面部分の半径方向の幅を表し、高さｈは、非パターン領域１２の表面に対する頂部１１２１の高さ（Ｚ軸方向の長さ）を表している。

ドット幅Ｗは、ドット部１１０全体の幅を表している。第１の傾斜面１１１１と第２の傾斜面１１２２は連続した面である。連続した面は、同じ材質で段差がなく繋がった面を意味する。

また、図３に示すように、凹部１１１及び凸部１１２のそれぞれを構成する面には、微小な凹凸部１１３が形成され、表面が荒れている。この凹凸部１１３は、所定の形状より小さい凹部及び凸部からなる凹凸部の一例である。凹凸部１１３はドット部１１０のドット幅Ｗより小さい幅の凹部と凸部からなり、典型的には１μｍ乃至１０μｍ程度の幅の凹部と凸部からなる。

また図３（ａ）に示すように、各ドット部１１０間の領域にも、ドット部１１０を加工した際の加工片が飛散しており、これらによっても面が荒れている。パターン領域１３では、凹凸部１１３や加工片による表面の荒れにより、非パターン領域と比較して表面粗さが大きくなる。

ドット部１１０は、例えば、基材１ａに対してレーザ光を照射し、基材１ａの表面を変性させることで形成できる。１つのドット部１１０は、レーザ光を基材１ａ上の１点に集光させることで形成される。また、このレーザ光を２次元走査することで、複数のドット部１１０が形成される。或いは、アレイ化した複数のレーザ光源のそれぞれから射出された複数のレーザ光によっても形成できる。さらに各ドット部１１０の位置に対応した複数の光透過開口を有するマスク部材に、拡大したレーザ光を照射し、マスク部材の各光透過開口を透過した複数の透過レーザ光群のそれぞれにより、複数のドット部１１０を１回の露光で並行して形成することもできる。

レーザ光を照射するレーザ光源としては、各種のレーザ光源を使用可能である。ピコ秒からナノ秒等のパルス発振可能なものが好ましい。固体レーザとしては、ＹＡＧレーザ、チタンサファイアレーザ等がある。気体レーザとしては、アルゴンレーザ、ヘリウムネオンレーザ、炭酸ガスレーザ等がある。半導体レーザも小型で好ましい。また、増幅媒質に光ファイバーを使った固体レーザの一種であるファイバーレーザは、そのピークエネルギーの高さと小型化可能な面で最も適した光源である。

図４は、本実施形態に係る収容器の具体例を示す図である。近年ＰＥＴボトル等は、プラゴミ削減の流れでプラ使用量削減のためにより薄くする方向にシフトしてきている。薄くしていくと、ボトルの強度が不足するから、剛性を高めるために、横方向へ凸凹をつけてリブを形成することが既に知られている。そのほか、遮光性向上やデザイン性向上のため、さまざまな形のリブを設けることがある。

図４に示す収容器１の基材１ａには、凹凸形状のリブが形成されている。具体的には、収容器１は、凸形状の頂部１Ａと、凹形状の底部１Ｂと、凹形状の側部１Ｃを備える。凹形状の側部１Ｃは、凹形状の底部１Ｂを基準面とする場合は、凸形状の側部１Ｃである。

収容器１は、複数の頂部１Ａを備え、複数の頂部１Ａのうちの１つの頂部１Ａは、パターン１１が形成されたパターン領域１３であり、他の頂部１Ａは、パターン１１が形成されない非パターン領域１２である。

収容器１は、複数の底部１Ｂを備え、複数の底部１Ｂのうちの１つの底部１Ｂは、パターン１１が形成されたパターン領域１３であり、他の底部１Ｂは、パターン１１が形成されない非パターン領域１２である。

収容器１は、複数の側部１Ｃを備え、複数の側部１Ｃのうちの１つの側部１Ｃは、パターン１１が形成されたパターン領域１３であり、他の側部１Ｃは、パターン１１が形成されない非パターン領域１２である。

図４では、基材１ａに形成される凹凸形状のリブは、横方向に形成されていたが、縦方向や斜め方向や、これらの方向の組み合わせにより形成されていてもよい。

図５は、本実施形態に係る製造装置を示す図である。基材１ａを含む収容器１の製造装置５００は、パターン１１を形成するパターン形成部の一例としてのレーザ照射部２０と、基材１ａを含む収容器１を保持する保持部２８ａ、２８ｂと、保持部２８ａ、２８ｂを保持する保持板２９を備える。製造装置１００は、パターン形成装置、情報形成装置、およびレーザ加工装置の一例である。製造装置１００は、工場内において収容器１または収容体の製造装置の中に組み込まれており、収容器１または収容体の製造ラインの流れ順に取り決められた一工程に含まれる。

レーザ照射部２０は、レーザ光源２１と、ビームエキスパンダ２３と、鏡などで光を走査する走査部２４と、走査レンズ２５と、ステレオカメラ２６ａ、２６ｂと、を備える。

ビームエキスパンダ２３は、レーザ光源２１から出射されるレーザ光２２を入射し、基材１ａに照射されるレーザ光２７の焦点位置を変化させる。

ステレオカメラ２６ａ、２６ｂは、基材１ａの凸形状部または凹形状部の位置を検知する位置検出部の一例であり、基材１ａの凸形状部または凹形状部への距離を検知する距離検知部の一例でもある。レーザ照射部２０は、ステレオカメラ２６ａ、２６ｂにより検知された基材１ａの凸形状部または凹形状部への距離計測データに基づき、レーザ光２７のエネルギー、ビーム径、または焦点位置を制御する。レーザ照射部２０は、頂部１Ａ、底部１Ｂ、および側部１Ｃの連続する幅（大きさ）も考慮し、レーザ光２７の照射領域内での隣合う頂部１Ａ、底部１Ｂ、および側部１Ｃの幅の大きい部分に従って、レーザ光２７のエネルギー、ビーム径、または焦点位置を制御してもよい。また、レーザ照射部２０は、頂部１Ａ、底部１Ｂ、および側部１Ｃのうち２つ以上に跨ってレーザ照射する場合、レーザ照射を開始する部分、またはレーザ照射を終了する部分の距離計測データに基づき、レーザ光２７のエネルギー、ビーム径、または焦点位置を制御してもよい。

図６は、本実施形態に係るレーザ光の焦点について説明する図である。図６（ａ）は、基材１ａに照射されるレーザ光２７の焦点位置３０が、頂部１Ａ付近にある状態を示す。

図６（ｂ）は、基材１ａに照射されるレーザ光２７の焦点位置３０が、頂部１Ａと底部１Ｂの中間、すなわち側部１Ｃ付近にある状態を示す。

図６（ｃ）は、基材１ａに照射されるレーザ光２７の焦点位置３０が、底部１Ｂ付近にある状態を示す。

図７は、本実施形態に係るレーザ光のスポット径について説明する図である。図７（ａ）は、図６（ａ）に示した状態におけるスポット径を示しており、底部１Ｂ付近のスポット径３１は、焦点位置３０から離れているため、大きくなっている。

図７（ｂ）は、図６（ｂ）に示した状態におけるスポット径を示しており、底部１Ｂ付近のスポット径３１は、図７（ａ）の状態に比べて小さくなっている。

図７（ｃ）は、図６（ｃ）に示した状態におけるスポット径を示しており、頂部１Ａ付近のスポット径３２は、焦点位置３０から離れているため、図７（ｂ）の状態よりも大きくなっている。

図８は、本実施形態に係るレーザ光のスポット径の特性について説明する図である。図８（ａ）はスポット径と単位面積のエネルギーの関係を示したものであり、焦点位置から離れるとスポット径が大きくなり、単位面積当たりのエネルギーが小さくなる関係を示している。

図８（ｂ）は、本実施形態におけるスポット径とレーザパワーの関係を示した図である。本実施形態では、焦点位置ずれによりスポット径が大きくなるにつれ、レーザパワーを大きくするようにレーザ光源２１を制御する。ＮＤフィルタの濃度を可変したり、レーザ光源２１の点灯時間のデューティ比を変えることで、レーザパワーを大きくしてもよい。

図８（ｃ）は、本実施形態におけるスポット径と単位面積のエネルギー×レーザパワーの関係について説明する図である。焦点位置から離れるとスポット径が大きくなり、単位面積当たりのエネルギーが小さくなるが、本実施形態では、レーザパワーを大きくすることで、単位面積当たりのエネルギーを一定とするものである。

図９は、本実施形態に係るレーザ光の焦点、パワーの設定について説明する図である。（１）は、頂部１Ａのみにパターン１１を形成する場合であり、図６（ａ）に示したように、レーザ光２７の焦点位置３０が、頂部１Ａ付近にあるようにビームエキスパンダ２３を設定する。この場合、側部１Ｃおよび底部１Ｂにはパターン１１を形成しないため、レーザパワーは一定のままで問題ない。この場合、頂部１Ａに形成されたパターン１１は、どの方向からも見えるから視認性が良い。

（２）は、側部１Ｃのみにパターン１１を形成する場合であり、図６（ｂ）に示したように、レーザ光２７の焦点３０が、側部１Ｃ付近にあるようにビームエキスパンダ２３を設定する。この場合、頂部１Ａおよび底部１Ｂにはパターン１１を形成しないため、レーザパワーは一定のままで問題ない。この場合、側部１Ｃに形成されたパターン１１は、容器上方からの視認性がよく、製造時や輸送時表面がこすれて消えてしまうことがない。

（３）は、底部１Ｂのみにパターン１１を形成する場合であり、図６（ｃ）に示したように、レーザ光２７の焦点３０が、底部１Ｂ付近にあるようにビームエキスパンダ２３を設定する。この場合、頂部１Ａおよび側部１Ｃにはパターン１１を形成しないため、レーザパワーは一定のままで問題ない。この場合、底部１Ｂに形成されたパターン１１は、製造時や輸送時表面がこすれて消えてしまうことがない。

（４）は、頂部１Ａには細いパターン１１を形成し、底部１Ｂには太いパターン１１を形成する場合であり、図６（ａ）に示したように、レーザ光２７の焦点３０が、頂部１Ａ付近にあるようにビームエキスパンダ２３を設定する。この場合、図７（ａ）に示したように、底部１Ｂ付近のスポット径３１が大きくなるため、底部１Ｂにレーザ照射する際には、頂部１Ａにレーザ照射する場合に比べてレーザパワーが大きくなるようにレーザ光源２１を制御する。

（５）は、頂部１Ａには太いパターン１１を形成し、底部１Ｂには細いパターン１１を形成する場合であり、図６（ｃ）に示したように、レーザ光２７の焦点３０が、底部１Ｂ付近にあるようにビームエキスパンダ２３を設定する。この場合、図７（ｃ）に示したように、頂部１Ａ付近のスポット径３２が大きくなるため、頂部１Ａにレーザ照射する際には、底部１Ｂにレーザ照射する場合に比べてレーザパワーが大きくなるようにレーザ光源２１を制御する。

（６）は、頂部１Ａ、側部１Ｃおよび底部１Ｂにパターン１１を形成する場合であり、図６（ｂ）に示したように、レーザ光２７の焦点３０が、側部１Ｃ付近にあるようにビームエキスパンダ２３を設定する。この場合、図７（ｂ）に示したように、頂部１Ａ付近のスポット径３２や底部１Ｂ付近のスポット径３１が大きくなるが、図７（ａ）や図７（ｃ）の場合に比べれば小さいため、レーザパワーは一定のままとする。

図１０は、本実施形態に係るビームエキスパンダについて説明する図である。図１０（ａ）に示すビームエキスパンダ２３は、負のパワーを有する凹レンズ６０と、正のパワーを有する凸レンズ６１を備える。これにより、ビーム幅が大きくなり、走査レンズで絞り込まれるビーム径をより小さくすることが可能である。

ここで、凹レンズ６０を光軸方向の右方向へ移動させれば凸レンズ６１から出射される光は発散光となり、収容器１近傍では、頂部１Ａから底部１Ｂ方向へ焦点３０が変化する。なお、凸レンズ６１を光軸方向に移動させても同様の効果がある。

本実施形態では、ステレオカメラ２６ａ、２６ｂの出力に基づき、基材１ａの凸形状部または凹形状部の位置や、基材１ａの凸形状部または凹形状部への距離を検知し、検知結果に基づき、凹レンズ６０または凸レンズ６１を光軸方向に移動するように制御することができる。

図１０（ｂ）に示すビームエキスパンダ２３は、図１０（ａ）示した構成に加えて、凹レンズ６０と凸レンズ６１の間に平行平板６２を挿抜可能に備える。

平行平板６２を挿入すれば正のレンズ６１から出射される光は収束光となり、収容器１近傍では、底部１Ｂから頂部１Ａ方向へ焦点３０が変化する。平行平板６２を複数備えることでさまざまな焦点３０に対応させることができる。また、平行平板６２は、収束または発散光の部分に挿入すればよく、ビームエキスパンダ２３の内部でなくても同じ効果が得られる。

本実施形態では、ステレオカメラ２６ａ、２６ｂの出力に基づき、基材１ａの凸形状部または凹形状部の位置や、基材１ａの凸形状部または凹形状部への距離を検知し、検知結果に基づき、平行平板６２の挿抜を制御することができる。

図１０（ｃ）に示すビームエキスパンダ２３は、凹レンズ６３と凸レンズ６４を備え、凸レンズ６４から出射する光線が発散光となるように調整している。図１０（ａ）に示すビームエキスパンダ２３を図１０（ｃ）に示すビームエキスパンダ２３に差し替えれば、収容器１近傍では、頂部１Ａから底部１Ｂ方向へ焦点３０が変化する。さまざまな焦点位置に対応させたビームエキスパンダ２３を備えてもよい。

本実施形態では、ステレオカメラ２６ａ、２６ｂの出力に基づき、基材１ａの凸形状部または凹形状部の位置や、基材１ａの凸形状部または凹形状部への距離を検知し、検知結果に基づき、ビームエキスパンダ２３の差し替えを制御することができる。

図１１は、本実施形態に係る製造装置の変形例について説明する図である。図１１に示す製造装置５００は、右から左に動くラインとなっており、このライン上でレーザ照射部を実装する第１の実装部３００と、ステレオカメラ２６ａ、２６ｂを実装する第２の実装部４００を備えている。このように、ステレオカメラ２６ａ、２６ｂとレーザ照射部２０を別々に実装することにより、パターン１１が形成された基材１ａを高速に量産することができる。

この場合、ステレオカメラ２６ａ、２６ｂが検知する基準位置を基材１ａの中央や、保持板２９等に予め決めておき、これとレーザ照射の基準を合わせることで、レーザ照射位置を高精度に決めることができる。

図１２は、図１１に示した変形例における第１、第２の実装部について説明する図である。図１２（ａ）に示す第１の実装部３００は、柱３１０，３２０の上に保持部３３０を備え、レーザ照射部２０ａを実装している。図５に示したレーザ照射部２０は、ステレオカメラ２６ａ、２６ｂを含んでいるが、図１２（ａ）に示すレーザ照射部２０ａは、レーザ照射部２０からステレオカメラ２６ａ、２６ｂを除いて構成される。

図１２（ｂ）に示す第２の実装部４００は柱３１０，３２０の上に保持部３３０を備え、ステレオカメラ４１を実装している。ステレオカメラ４１は、図５に示したステレオカメラ２６ａ、２６ｂと同様に構成される。

図１３は、図１１に示した変形例におけるレーザ照射方向について説明する図である。側部１Ｃは、レーザ照射部２０ａに対して凸形状部の影になる場合、レーザ照射されずにパターン１１が形成されない。そこで、図１３（ａ）および（ｂ）に示すように、レーザ照射部２０ａを保持板２９に対してラインの流れに直交する方向（図中左右方向）へ移動させることで、全ての側部１Ｃに対してレーザ照射してパターン１１が形成可能である。

同様に、図１３（ｃ）に示すように、レーザ照射部２０ａを保持板２９に対してラインの流れに直交する方向（図中左右方向）へ移動させることで、全ての底部１Ｂに対してレーザ照射してパターン１１が形成可能である。

なお、図１３（ａ）～（ｃ）に代えて、保持板２９をレーザ照射部２０ａに対して、ラインの流れに直交する方向へ移動させてもよい。

なお、ここまでの説明では、収容器１は保持部２８で固定されているとして説明したが、回転方向の基準を決めて保持部２８に対して回転させて、収容器１の回転方向一周分の凸形状部と凹形状部をステレオカメラ２６により検知し、検知した凸形状部と凹形状部の中間にレーザ光の焦点３０を設定してもよい。この場合、回転させながらレーザ照射するので、収容器１の全周にレーザ照射してパターン１１が形成可能となる。

図１４は、本実施形態に係る収容器の変形例を示す図である。図１４（ａ）に示す収容器１は、複数の底部１Ｂを備え、複数の底部１Ｂの全てが、パターン１１が形成されたパターン領域１３である。一方、収容器１は、複数の頂部１Ａおよび複数の側部１Ｃを備えるが、複数の頂部１Ａおよび複数の側部１Ｃの全ては、パターン１１が形成されない非パターン領域１２である。この場合、図９（３）の設定でレーザ照射することが好ましい。

図１４（ｂ）に示す収容器１は、複数の側部１Ｃを備え、複数の側部１Ｃの全てが、パターン１１が形成されたパターン領域１３である。一方、収容器１は、複数の頂部１Ａおよび複数の底部１Ｂを備えるが、複数の頂部１Ａおよび複数の底部１Ｂの全ては、パターン１１が形成されない非パターン領域１２である。この場合、図９（２）の設定でレーザ照射することが好ましい。

図１４（ｃ）に示す収容器１は、複数の頂部１Ａを備え、複数の頂部１Ａの全てが、パターン１１が形成されたパターン領域１３である。一方、収容器１は、複数の頂部１Ａおよび複数の底部１Ｂを備えるが、複数の頂部１Ａおよび複数の底部１Ｂの全ては、パターン１１が形成されない非パターン領域１２である。この場合、図９（１）の設定でレーザ照射することが好ましい。

図１４（ｄ）に示す収容器１は、複数の頂部１Ａ、複数の底部１Ｂおよび複数の側部１Ｃを備え、隣り合う２つの頂部１Ａとこれらの間の底部１Ｂが、パターン１１が形成されたパターン領域１３である。その他の頂部１Ａと底部１Ｂ、および全ての複数の側部１Ｃは、パターン１１が形成されない非パターン領域１２である。図１４（ｄ）では、２つの頂部１Ａおよび１つの底部１Ｂに跨ってパターン１１が形成されているが、頂部１Ａ、底部１Ｂおよび側部１Ｃのうち、２つ以上に跨ってパターン１１を形成してもよい。この場合、図９（６）の設定でレーザ照射することが好ましい。

図１５は、本実施形態に係る収容器の第２の変形例を示す図である。図１５（ａ）に示す収容器１は、複数の凸形状の頂部１Ａを備え、複数の頂部１Ａのうちの１つの頂部１Ａは、エンボス加工により形成された凹形状部５１を備える。

図１５（ｂ）に示す収容器１は、複数の凸形状の頂部１Ａを備え、複数の頂部１Ａのうちの１つの頂部１Ａは、エンボス加工により形成された凸形状部５２を備える。

図１５（ａ）に示した凹形状部５１および図１５（ｂ）に示した凸形状部５２は、図１５（ｃ）および図１５（ｄ）にそれぞれ示すように、文字と文字の周辺を囲む線を含むパターン１１が形成されたパターン領域１３を含む。凹形状部５１および凸形状部５２は長方形であるが、形状は特に限定されず、円形状、多角形など適宜適用される。

図１５（ｄ）に示したパターン１１は、図１５（ｃ）に示したパターン１１に対して、文字の周辺を囲む線の右と下を太線にしている。これにより、パターン１１に含まれる文字が、立体的に見えるようになる。

図１６は、本実施形態に係る収容器の第３の変形例を示す図である。図１６（ａ）（ｂ）に示す収容器１は、基準面１Ｄと、エンボス加工により形成されたエンボス加工部１Ｅを備え、被収容物１ｂを収容する。前述したように、収容器１と被収容物１ｂは、収容体を構成する。エンボス加工部１Ｅは、基準面１Ｄから突出する凸形状部、または基準面１Ｄから凹む凹形状部により構成される。図１６（ａ）では角丸四角形の凸形状部または凹形状部、図１６（ｂ）では星形の凸形状部または凹形状部を示しているが、形状は特に限定されず、円形状、多角形など適宜適用される。

エンボス加工部１Ｅは、図形形状に形成され、エンボス加工部１Ｅの内側にパターン１１が形成されたパターン領域１３を含む。一方、基準面１Ｄは、パターン１１が形成されない非パターン領域１２である。

図１７は、本実施形態に係る収容器の第４の変形例を示す図である。図１７に示す収容器１は、基準面１Ｄと、エンボス加工部１Ｅを備え、被収容物１ｂを収容する。図１７のエンボス加工部１Ｅは凸形状部または凹形状部となっている。エンボス加工部１Ｅは、文字形状に形成され、エンボス加工部１Ｅの内側にパターン１１がエンボス加工部の形状１Ｅにそって形成されたパターン領域１３である。パターン１１は、エンボス加工部１Ｅが形成される文字形状に相似形状で形成される。一方、基準面１Ｄは、パターン１１が形成されない非パターン領域１２である。つまり、凸形状部または凹形状部にそった部分に、パターンが形成される。図１７は、エンボス加工部１Ｅの内側にパターン１１が形成されることにより、エンボス加工部またはパターンのみのどちらか１つの時と比べ、より文字が見えやすくなる。

図１８は、本実施形態に係る収容器の第５の変形例を示す図である。図１８に示す収容器１は、基準面１Ｄと、エンボス加工部１Ｅを備え、被収容物１ｂを収容する。図１８のエンボス加工部１Ｅは凸形状部となっている。エンボス加工部１Ｅは、文字形状に形成され、エンボス加工部１Ｅの外側にパターン１１が形成されたパターン領域１３である。図１８は図１７と異なり、エンボス加工部１Ｅの外側にパターン領域が形成されるので、外側に影ができ立体的に表現される。パターン１１は、エンボス加工部１Ｅが形成される文字形状に相似形状で、エンボス加工部１Ｅが形成される文字形状の周囲に影を表すように形成される。一方、基準面１Ｄは、パターン１１が形成されない非パターン領域１２である。凸形状部の周囲にパターン１１が形成される。

図１９は、本実施形態に係る収容器の第６の変形例を示す図である。図１９（ａ）～（ｄ）に示す収容器１は、基準面１Ｄと、エンボス加工部１Ｅを備え、被収容物１ｂを収容する。図１９のエンボス加工部１Ｅは凸形状部または凹形状部となっている。エンボス加工部１Ｅは、文字形状に形成され、エンボス加工部１Ｅの内側にパターン１１がエンボス加工部の形状１Ｅにそって形成されたパターン領域１３である。一方、基準面１Ｄは、パターン１１が形成されない非パターン領域１２である。つまり、凸形状部または凹形状部にそった部分に、パターンが形成される。

パターン１１は、エンボス加工部１Ｅが形成される文字形状を塗りつぶすように形成される。図１９（ａ）はベタ塗りのパターン１１、図１９（ｂ）はチェック模様のパターン１１、図１９（ｃ）は斜線のパターン１１、図１９（ｄ）は水玉模様のパターン１１をそれぞれ示す。

図２０は、本実施形態に係る収容器の第７の変形例を示す図である。図２０に示す収容器１は、基準面１Ｄと、エンボス加工部１Ｅを備え、被収容物１ｂを収容する。図２０のエンボス加工部１Ｅは凹形状部となっている。エンボス加工部１Ｅは、文字形状に形成され、パターン１１が形成されない非パターン領域１２である。一方、基準面１Ｄは、エンボス加工部１Ｅの周囲にパターン１１が形成されたパターン領域１３である。パターン１１は、エンボス加工部１Ｅが形成される文字形状に相似形状で、エンボス加工部１Ｅが形成される文字形状の外周を縁取りして囲むように形成される。凹形状部の周囲にパターン１１が形成される。

図２１は、本実施形態に係る収容器の第８の変形例を示す図である。図２１に示す収容器１は、基準面１Ｄと、エンボス加工部１Ｅを備え、被収容物１ｂを収容する。図２１のエンボス加工部１Ｅは凸形状部または凹形状部となっている。エンボス加工部１Ｅは、図形形状に形成され、パターン１１が形成されない非パターン領域１２である。一方、基準面１Ｄは、エンボス加工部１Ｅの周囲にパターン１１が形成されたパターン領域１３である。パターン１１は、エンボス加工部１Ｅが形成される図形形状に相似形状で、エンボス加工部１Ｅが形成される図形形状の外周を囲むように形成される。つまり、凸形状部または凹形状部にそった部分に、パターンが形成される。図２１では星形の凸形状部または凹形状部を示しているが、形状は特に限定されず、円形状、多角形など適宜適用される。

図２２は、本実施形態に係る収容器の第９の変形例を示す図である。図２２に示す収容器１は、基準面１Ｄと、エンボス加工部１Ｅを備え、被収容物１ｂを収容する。図２２のエンボス加工部１Ｅは凸形状部または凹形状部となっている。エンボス加工部１Ｅは、文字形状に形成され、エンボス加工部１Ｅの内側にパターン１１が形成されたパターン領域１３である。基準面１Ｄも、エンボス加工部１Ｅの周囲にパターン１１が形成されたパターン領域１３である。

エンボス加工部１Ｅにおけるパターン１１は、エンボス加工部１Ｅが形成される文字形状を塗りつぶすようにチェック模様で形成される。基準面１Ｄにおけるパターン１１は、エンボス加工部１Ｅが形成される文字形状に相似形状で、エンボス加工部１Ｅが形成される文字形状の外周を縁取りして囲むように形成される。つまり、凸形状部または凹形状部にそった部分に、パターンが形成される。

図２３は、本実施形態に係る収容器の第１０の変形例を示す図である。図２３に示す収容器１は、基準面１Ｄと、エンボス加工部１Ｅを備え、被収容物１ｂを収容する。図２３のエンボス加工部１Ｅは凸形状部または凹形状部となっている。エンボス加工部１Ｅは、図形形状に形成され、エンボス加工部１Ｅの内側にパターン１１が形成されたパターン領域１３である。基準面１Ｄも、エンボス加工部１Ｅの周囲にパターン１１が形成されたパターン領域１３である。

エンボス加工部１Ｅにおけるパターン１１は、エンボス加工部１Ｅが形成される図形形状を塗りつぶすようにベタ塗りで形成される。基準面１Ｄにおけるパターン１１は、エンボス加工部１Ｅが形成される図形形状に相似形状で、エンボス加工部１Ｅが形成される図形形状の外周を囲んでベタ塗りで形成される。つまり、凸形状部または凹形状部にそった部分に、パターンが形成される。

図２４は、本実施形態に係る収容器の第１１の変形例を示す図である。図２４に示す収容器１は、基準面１Ｄと、エンボス加工部１Ｅを備え、被収容物１ｂを収容する。図２４のエンボス加工部１Ｅは凸形状部または凹形状部となっている。エンボス加工部１Ｅは、図形形状に形成され、内側にパターン１１が形成されたパターン領域１３である。基準面１Ｄも、エンボス加工部１Ｅと重なるパターン１１が形成されたパターン領域１３である。

エンボス加工部１Ｅにおけるパターン１１は、エンボス加工部１Ｅが形成される図形形状を塗りつぶすようにベタ塗りで形成される。基準面１Ｄにおけるパターン１１は、エンボス加工部１Ｅが形成される図形形状に相似形状で、エンボス加工部１Ｅが形成される図形形状と重なるように形成される。少なくとも凸形状部の周囲、または凹形状部の周囲に跨ってパターン１１が形成される。

また、実施形態では、収容器が円筒状である例を示したが、収容器はこれに限定されるものではなく、箱状の収容器や錐体状の収容器等であってもよい。

また、収容器１に収容されている被収容物についても、可視光に対して透過性を有する収容器に収容された被収容物の色に対して、パターンのコントラストを上げることで、良好な視認性で情報量が多いパターンが形成されたものを提供できる。例えば被収容物が黒色の場合は、収容器に白濁化されたパターンを形成すると、パターンを視認しやすくなり、被収容物が白色の場合は、収容器に黒色化されたパターンを形成すると、パターンを視認しやすくなる。

また、収容器の形状は、肩部及び傾斜部の無い円柱状、四角柱等の如何なる物でもよい。また収容器の内容物は、任意の色であってよいし、また冷たいもの又はあたたかいもの、炭酸、コロイド（ヨーグルトなど）状のもの等、収容器に入るものであれば何でもよい。内容物は、例えばコーヒー、お茶、ビール、水、ジュース、炭酸、ミルク等であるが、これに限定されず、収容器に入るものであれば如何なる物でもよい。

また、収容器の内容物に応じて、加工状態を変えることもできる。例えば収容器の内容物に応じて、白色化・白濁化をレーザの強度等を調整して加工状態を変更し、濃淡を制御することができる。

またペットボトルのエンボス加工の形状に合わせて、ドット部を形成してもよい。さらに上述した傾斜加工も併用して、凹凸の輪郭や内部、外周を加工するようにしてもよい。

●まとめ●
以上説明したように、本発明の一実施形態に係る基材１ａのパターン形成装置の一例である製造装置５００は、凸形状部または凹形状部が形成された基材１ａを保持する保持部２８と、基材１ａにパターン１１を形成するパターン形成部の一例としてのレーザ照射部２０と、を含み、パターン１１は、凸形状部、凹形状部、凸形状部の周囲または凹形状部の周囲、及び凸形状部又は前記凹形状部にそった部分、のうち少なくとも１つ以上に形成される。

これにより、凸形状部または凹形状部と、パターン１１をセットで視認させることができるため、一様な平面上にパターンを形成する場合に比べて、パターン１１の視認性が向上する、あるいはパターンを形成しない場合に比べて、凸形状部または凹形状部が強調されて意匠性が向上する。凸形状部の周囲または凹形状部の周囲にパターン１１を形成する場合、パターン１１は、凸形状部または凹形状部の周囲に対して隣接して配置または所定の幅をおいて近傍に配置され、凸形状部または凹形状部の周回を囲んで形成される。これにより、凸形状部または凹形状部が強調される。パターン１１が、凸形状部または凹形状部の周囲に対して所定の幅をおいて近傍に配置される場合、所定の幅は、凸形状部または凹形状部よりも十分小さいことが好ましい。

レーザ照射部２０は、凸形状部の頂部１Ａ、凸形状部の側部１Ｃ、凹形状部の底部１Ｂ、凹形状部の側部１Ｃ、凸形状部の周囲、または凹形状部の周囲にパターン１１を形成する。レーザ照射部２０は、凸形状部の頂部１Ａ、凸形状部の側部１Ｃ、凹形状部の底部１Ｂ、凹形状部の側部１Ｃ、凸形状部の周囲、および凹形状部の周囲のうち、２つ以上に跨ってパターン１１を形成してもよい。

これにより、さまざまなバリエーションの形状と、パターン１１をセットで視認させることができるため、パターン１１の視認性または凸形状部や凹形状部の意匠性が向上する。

レーザ照射部２０は、レーザ照射により、パターン１１を形成することにより、容易にパターン１１を形成することができる。

パターン１１は、ドット部１１０の集合体により構成されており、レーザ照射部２０は、レーザ照射により、ドット部１１０を形成する。これにより、視認性のよいまたは凸形状部または凹形状部を強調するパターン１１を容易に形成することができる。

レーザ照射部２０は、ビームエキスパンダ２３によりレーザ焦点３０を変化させる。これにより、凸形状部、凹形状部、凸形状部の周囲、または凹形状部の周囲の何れの場合であっても、パターン１１が形成される位置でのレーザビーム径（スポット径）の変動を低減することが可能になり、パターン１１の品質のばらつきが低減される。

レーザ照射部２０は、レーザ光量を変化させる。これにより、レーザ焦点位置がずれたことによりレーザビーム径（スポット径）が大きくなった場合でも、レーザ光量を大きくすることにより、単位面積あたりのレーザ照射エネルギーの変動を低減し、パターンの品質のばらつきが低減される。

レーザ照射部２０は、レーザを照射する方向を変化させる。これにより、凸形状部、凹形状部、凸形状部の周囲、または凹形状部の周囲の何れの場合であっても、確実にパターンを形成することができる。

製造装置５００は、凸形状部または凹形状部の位置を検知する位置検出部の一例であるステレオカメラ２６を備える。これにより、凸形状部、凹形状部、凸形状部の周囲、または凹形状部の周囲に、確実にパターン１１を形成することができる。

製造装置５００は、凸形状部または凹形状部への距離を検知する距離検知部の一例であるステレオカメラ２６を備える。これにより、凸形状部、凹形状部、凸形状部の周囲、または凹形状部の周囲の何れの場合であっても、レーザ光路長のばらつきに起因するパターン１１の品質のばらつきが低減される。

本発明の一実施形態に係る基材のパターン形成方法は、凸形状部または凹形状部が形成された基材を準備する準備ステップと、凸形状部、凹形状部、凸形状部の周囲または凹形状部の周囲、及び凸形状部又は凹形状部にそった部分、のうち少なくとも１つ以上に、パターン１１を形成するパターン形成ステップと、を備える。

本発明の一実施形態に係る収容器１の基材１ａは、凸形状部または凹形状部が形成された基材１ａであって、凸形状部、凹形状部、凸形状部の周囲または凹形状部の周囲、及び凸形状部又は凹形状部にそった部分、のうち少なくとも１つ以上に、パターン１１が形成される。パターン１１は、凸形状部の頂部、凸形状部の側部、凹形状部の底部、凹形状部の側部、凸形状部の周囲、および凹形状部の周囲のうち、２つ以上に跨って形成される。凸形状部、凹形状部は、エンボス加工により形成されたものである。

１ 収容器
１ａ 基材
１ｂ 被収容物
１Ａ 頂部（凸形状部の一部）
１Ｂ 底部（凹形状部の一部）
１Ｃ 側部（凸形状部または凹形状部の一部）
１Ｄ 基準面
１Ｅ エンボス加工部（凸形状部または凹形状部）
２ キャップ
１１ パターン
１１０ ドット部（所定の形状、ドットの一例）
１１１ 凹部（所定の凹部の一例）
１１１１ 第１の傾斜面
１１１２ 底部
１１２ 凸部（所定の凸部の一例）
１１２１ 頂部
１１２２ 第２の傾斜面
１１３ 凹凸部
１２ 非パターン領域（第２の領域の一例）
１３ パターン領域（第１の領域の一例）
２０ レーザ照射部（パターン形成部）
２１ レーザ光源
２２ レーザ光
２３ ビームエキスパンダ
２４ 走査部
２５ 走査レンズ
２６ ステレオカメラ（位置検出部、距離検出部の一例）
２７ レーザ光
２８ 保持部
２９ 保持板
３０ 焦点
３１、３２ スポット径
３００ 第１の実装部
４００ 第２の実装部
５００ 製造装置
Ａ 領域
Ｂ 斜視図
ｄｐ 深さ
Ｄｃ 凹部幅
Ｄｒ 円環幅
ｈ 高さ
Ｗ ドット幅

特開２０１１－０１１８１９号公報

Claims (15)

1. 凸形状部または凹形状部が形成された基材を保持する保持部と、
   前記基材にパターンを形成するパターン形成部と、を含み、
   前記パターンは、
   前記凸形状部、前記凹形状部、前記凹形状部又は凸形状部の周囲、及び前記凸形状部又は前記凹形状部にそった部分、のうち少なくとも１つ以上に形成される基材のパターン形成装置。
2. 前記パターン形成部は、前記凸形状部の頂部、前記凸形状部の側部、前記凹形状部の底部、前記凹形状部の側部、前記凸形状部の周囲、または前記凹形状部の周囲のうち、２つ以上に跨って前記パターンを形成する請求項１記載の基材のパターン形成装置。
3. 前記パターン形成部は、レーザ照射により、前記パターンを形成する請求項１または２記載の基材のパターン形成装置。
4. 前記パターンは、ドットの集合体により構成されており、前記パターン形成部は、レーザ照射により、前記ドットを形成する請求項２記載の基材のパターン形成装置。
5. 前記パターン形成部は、レーザ焦点位置を変化させる請求項３または４記載の基材のパターン形成装置。
6. 前記パターン形成部は、レーザ光量を変化させる請求項５記載の基材のパターン形成装置。
7. 前記パターン形成部は、レーザを照射する方向を変化させる請求項３～６の何れか記載の基材のパターン形成装置。
8. 前記凸形状部または前記凹形状部の位置を検知する位置検出部を備える請求項３～７の何れか記載の基材のパターン形成装置。
9. 前記凸形状部または前記凹形状部への距離を検知する距離検知部を備える請求項８記載のパターン形成装置。
10. 凸形状部または凹形状部が形成された基材を準備する準備ステップと、
    前記凸形状部、前記凹形状部、前記凸形状部の周囲または前記凹形状部の周囲、及び前記凸形状部又は前記凹形状部にそった部分、のうち少なくとも１つ以上に、パターンを形成するパターン形成ステップと、
    を備えた基材のパターン形成方法。
11. 凸形状部または凹形状部が形成された基材であって、
    前記凸形状部、前記凹形状部、前記凸形状部の周囲または前記凹形状部の周囲、及び前記凸形状部又は前記凹形状部にそった部分、のうち少なくとも１つ以上に、パターンが形成された基材。
12. 前記パターンは、前記凸形状部の頂部、前記凸形状部の側部、前記凹形状部の底部、前記凹形状部の側部、 前記凸形状部の周囲、または前記凹形状部の周囲に形成される請求項１１記載の基材。
13. 前記パターンは、前記凸形状部の頂部、前記凸形状部の側部、前記凹形状部の底部、前記凹形状部の側部、 前記凸形状部の周囲、および前記凹形状部の周囲のうち、２つ以上に跨って形成される請求項１２記載の基材。
14. 前記凸形状部、前記凹形状部は、エンボス加工により形成されたものである請求項１１～１３の何れか記載の基材。
15. 請求項１１～１４の何れか記載の基材を含む収容器。

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