JP2022052246A - 膜厚推定方法、及び膜厚決定装置 - Google Patents
膜厚推定方法、及び膜厚決定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022052246A JP2022052246A JP2020158511A JP2020158511A JP2022052246A JP 2022052246 A JP2022052246 A JP 2022052246A JP 2020158511 A JP2020158511 A JP 2020158511A JP 2020158511 A JP2020158511 A JP 2020158511A JP 2022052246 A JP2022052246 A JP 2022052246A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film thickness
- measurement
- refractive index
- film
- spectra
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
【課題】カーブフィッティング法による薄膜の膜厚測定において、多重解が発生し、飛び値が発生する場合においても正しい膜厚値を求められる膜厚推定方法及び膜厚決定装置を提供する。【解決手段】反射光分光スペクトル測定手段を用いて基板上に形成された薄膜の膜厚測定方法であって、下記(1)~(4)の段階を含む膜厚推定方法。(1)反射分光測定を行い、第1から第Nの測定スペクトルを得る段階、(2)屈折率と膜厚がマトリックス要素となった第1から第Mの参照スペクトルを準備する段階、(3)前記測定スペクトルの一つに対して、一致度の最も高い参照スペクトルの1つを選定する段階、(4)第1から第Nまでの膜厚値を第1から第Nまでの測定スペクトルの測定した位置における膜厚として決定する段階。【選択図】図1
Description
本発明は、液晶表示装置用のガラス基板などの基板上に形成された薄膜の膜厚を測定し、正しい膜厚を推定する膜厚推定方法、及び膜厚決定装置に関する。
近年、液晶表示装置用部材、半導体素子の製造工程等において、被測定部分の微小化が進んでいる。例えば、液晶表示装置の部材であるカラーフィルタのパターニングされた画素内におけるレジスト(カラーレジスト)膜厚の非破壊・非接触測定が強く望まれている。
分光干渉式による膜厚測定は、照明光を膜に照射し、膜表面からの反射光と、膜と基板との境界面からの反射光との位相差により生じる薄膜干渉現象を利用したものである。この干渉光の強度は、膜に照射する光の波長、膜厚、膜の屈折率、基板の屈折率等の因子に依存することが知られている。図3に膜厚測定で利用する薄膜干渉をイメージする概念断面図を示す。
分光干渉式による測定方式には、ピークバレー法とカーブフィッティング法が存在する。ピークバレー法では、通常、レジストの波長毎の屈折率が既知であることを前提とするため(例えば特許文献1)、屈折率を予めエリプソメータ等で測定しておく必要がある。
しかしながら、カラーレジストは液晶表示装置の用途により品種が異なり、その種類は多岐に及んでいるばかりでなく、同品種のカラーレジストであっても、ベーク前後で屈折率が異なる。加えて、エリプソメータによる測定も所要時間、精度の点で課題がある。これらのことから、屈折率が既知であることを前提とするピークバレー法の適用には運用面において限界がある。
レジストの波長毎の屈折率が既知でない場合、膜面が平坦なものについては、特許文献2や特許文献3のような測定方法が知られている。しかしながら、微小化した被測定部分を測定するためには、開口数の大きい対物レンズを光学系に組み込む必要があり、照明光の入射角度は0から対物レンズの開口数に応じた角度まで広範囲に及ぶことになる。
これは、膜表面からの反射光と、膜と基板との境界面からの反射光との位相差を発生させる光路差が、一定角度で薄膜に入射する時とは異なることを意味する。それ故、特許文献2の方法によっても、比較的開口数の大きい対物レンズを使用する場合は、膜厚値を精度よく求めることは難しいという問題があった。
そのため、カラーレジストの膜厚測定にはピークバレー法よりも、屈折率が未知であっても測定可能なカーブフィッティング法が用いられるケースが多い。カーブフィッティング法では、反射率スペクトルを測定しておき、理論計算による反射率スペクトルとの、反射率を測定した波長範囲内でサンプリングした波長毎の反射率の差分の2乗和をとり、前記差分の2乗和が最小になるように最小2乗法によるカーブフィッティングを行い、屈折率nと膜厚tを求める。尚、差分の2乗和Fの計算式は下記数式1で表される。従って、Fはサンプリング数sが大きくなれば大きくなる。
一般に、薄膜の透過率、反射率は、基板と薄膜の光学定数(屈折率:n、消衰係数:k)、薄膜の膜厚t、使用する光の波長λ、薄膜への入射角θとが決まれば一意に定まり、
光学理論式により計算で求めることができる。
光学理論式により計算で求めることができる。
また、透明膜(消衰係数:k=0)の屈折率は、次のコーシーの式で近似でき、透明膜の屈折率nは、コーシーの式の係数A、B、Cを求め、波長λを指定すれば求めることができる。尚、コーシーの式はnを屈折率、λを波長として
n=A+B/λ2+C/λ4 ・・・・(数式2)
と表される。
n=A+B/λ2+C/λ4 ・・・・(数式2)
と表される。
以上のことから、膜厚をカーブフィッティング法により求めるには、まず特定の波長範囲を横軸とした、入射角θのときの反射率スペクトルを測定しておく。次に、同じく入射角θのときの反射率スペクトルを理論式から計算し、測定した反射率スペクトルとの、サンプリングした波長毎の差分をとり、その2乗和が最小となるように、最小2乗法を用いて、パーソナルコンピュータ等によりカーブフィッティングを行えばよい。
すなわち、前記の理論計算においては、波長を横軸として、コーシーの式の係数A、B、Cと、膜厚tとを未知のパラメータとして反射率の計算を行いながら、測定反射率スペクトルとのカーブフィッティングを行い、差分の2乗和が最小となるようにコーシーの式の係数A、B、Cと、膜厚tとを求めればよい。各波長における屈折率nは、求めた係数A、B、Cと、屈折率を求めたい波長を上記数式2に代入すればよい。
図4に、反射率スペクトルのカーブフィッティングをイメージする例を示す。図4(a)はフィッティング途中の状態であり、図4(b)はフィッティングが終了した状態をイメージする特性図である。
上記のように、カーブフィッティング法で膜厚測定を行う場合、コーシーの式の係数A、B、Cと、膜厚tとを未知のパラメータとするが、その際、通常A、B、C、tの初期値A’、B’、C’、t’を与える。
しかしながら、パラメータの数が多いため、初期値の与え方によっては、差分の2乗和が真の膜厚値とかけ離れたところで最小となってしまう場合がある。
しかしながら、パラメータの数が多いため、初期値の与え方によっては、差分の2乗和が真の膜厚値とかけ離れたところで最小となってしまう場合がある。
そこで、各波長における反射率の測定値と各波長における反射率の計算値の差分の2乗和が一定値(ズレ許容値)以下になった時にカーブフィッティングを終了し、そのときの係数A、B、Cと波長から求めた屈折率nと、膜厚tと、を解とする方法が考えられる。この際、ズレ許容値は、差分の2乗和が波長のサンプリング数に依存することもあり自由に設定可能であるが、可能な限り小さい値とすることが望ましい。
しかしながら、前記のようにズレ許容値を用いると、解が1つに定まらず別の解が求まり、2重解以上の多重解となって、正しい膜厚値が定まらない(飛び値が発生する)場合がある。これは、コーシーの式が近似式であることもあり、解析中に真実でない解析値(A、B、C、t)のときにも差分の2乗和がズレ許容値以下になる場合に起こる。
表2に、解析値が2重解となり、2通りの膜厚値が現れた場合の例を示す。表2は、カ
ーブフィッティング法により求めた、横方向(行)は膜厚、縦方向(列)は任意に設定した波長に対する屈折率とした表であり、表中の数字は差分の2乗和を示している。
ーブフィッティング法により求めた、横方向(行)は膜厚、縦方向(列)は任意に設定した波長に対する屈折率とした表であり、表中の数字は差分の2乗和を示している。
表2で、膜厚はt1、t2、・・・、t10の順に厚くなるが、t1、t2、・・・、t10のそれぞれの1マス内では同じ膜厚幅(レンジ)となっている。同様に、屈折率はn1、n2、・・・、n10の順に大きくなるが、n1、n2、・・・、n10のそれぞれの1マス内では同じ屈折率幅(レンジ)となっている。
表2の例では、差分の2乗和のズレ許容値を0.5以下に設定しているため、(膜厚t9、屈折率n2)、(膜厚t2、屈折率n8)の2通りの(膜厚、屈折率)の組み合わせで許容範囲を満たし、t9、t2の2通りの膜厚値の解が現れている。
本発明は、上記問題に鑑みなされたものであり、カーブフィッティング法による薄膜の膜厚測定において、多重解が発生し、飛び値が発生する場合においても正しい膜厚値を求めることができる膜厚推定方法、及び膜厚決定装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明に係る膜厚推定方法は、
反射光分光スペクトル測定手段を用いて基板上に形成された薄膜の膜厚測定方法であって、
少なくとも、下記(1)~(4)の段階を含むことを特徴とする。
(1)前記薄膜N箇所から反射分光測定を行い、第1から第Nの測定スペクトルを得る段階、
(2)屈折率と膜厚を既知の薄膜から得た分光スペクトルとして、屈折率と膜厚がマトリックス要素となった第1から第Mの参照スペクトルを準備する段階、
(3)前記測定スペクトルの一つに対して前記参照スペクトルの全てと最小二乗法を用いて、一致度の最も高い参照スペクトルの1つを選定することを、前記N個の測定スペクトルに対して行う段階、
(4)取り出したN個の屈折率値が全て一致した場合に、前記屈折率値を測定した薄膜の屈折率と決定し、さらに第1から第Nまでの膜厚値を第1から第Nまでの測定スペクトルの測定した位置における膜厚として決定する段階。
反射光分光スペクトル測定手段を用いて基板上に形成された薄膜の膜厚測定方法であって、
少なくとも、下記(1)~(4)の段階を含むことを特徴とする。
(1)前記薄膜N箇所から反射分光測定を行い、第1から第Nの測定スペクトルを得る段階、
(2)屈折率と膜厚を既知の薄膜から得た分光スペクトルとして、屈折率と膜厚がマトリックス要素となった第1から第Mの参照スペクトルを準備する段階、
(3)前記測定スペクトルの一つに対して前記参照スペクトルの全てと最小二乗法を用いて、一致度の最も高い参照スペクトルの1つを選定することを、前記N個の測定スペクトルに対して行う段階、
(4)取り出したN個の屈折率値が全て一致した場合に、前記屈折率値を測定した薄膜の屈折率と決定し、さらに第1から第Nまでの膜厚値を第1から第Nまでの測定スペクトルの測定した位置における膜厚として決定する段階。
また、本発明に係る膜厚決定装置は、
前記膜厚測定方法で薄膜の膜厚を決定する装置であって、少なくとも光学計測部と、演算制御部と、記憶部と、表示部と、を備えることを特徴とする。
前記膜厚測定方法で薄膜の膜厚を決定する装置であって、少なくとも光学計測部と、演算制御部と、記憶部と、表示部と、を備えることを特徴とする。
本発明によれば、カーブフィッティング法による薄膜の膜厚測定において、多重解が発生し、飛び値が発生した場合においても正しい膜厚値を求めることができる膜厚推定方法、及び膜厚決定装置を提供することができる。
これらにより膜厚の測定精度が向上するとともに、屈折率のデータの準備が不要となり多品種の測定に迅速に対応可能となる。
これらにより膜厚の測定精度が向上するとともに、屈折率のデータの準備が不要となり多品種の測定に迅速に対応可能となる。
以下、本発明の実施形態に係る膜厚推定方法、及び膜厚決定装置について図面を用いて説明する。各図面において、見易さのため構成要素の厚さや比率は誇張されていることがあり、構成要素の数も減らして図示していることがある。また、本発明は以下の実施形態そのままに限定されるものではなく、主旨を逸脱しない限りにおいて、適宜の組み合わせ、変形によって具体化できる。
[膜厚推定方法]
基板上の膜厚は、基板の大きさにも依るが、一定ではなく、通常±2.5%程度のバラツキが存在する。液晶表示装置用のガラス基板は、最新のG10(第10世代)では2850mm×3050mmにも及び、膜厚を均一に保つことはさらに困難になって来ている。
基板上の膜厚は、基板の大きさにも依るが、一定ではなく、通常±2.5%程度のバラツキが存在する。液晶表示装置用のガラス基板は、最新のG10(第10世代)では2850mm×3050mmにも及び、膜厚を均一に保つことはさらに困難になって来ている。
本発明の膜厚推定方法は、前記の薄膜の膜厚バラツキを積極的に利用し、μmオーダーの膜厚が数%程度変化しても、屈折率は実用的な範囲で変わらない、という現象を利用して、知りたい位置の膜厚、及び有用な場合は参照用に反射率スペクトルを計測した位置の膜厚を得ることができる。
図1は、本発明の膜厚推定方法に係る、適用例を説明するための、薄膜の断面図を含む概念図である。尚、本願は反射率スペクトルの測定箇所がN、解がK個の多重解である場合を対象とするが、図1の例では測定箇所N=3、K個の多重解の場合について説明する。
図1で、もっとも膜厚を知りたい位置はP10であり、まず反射率スペクトルを計測する。反射率スペクトルの波長範囲は前記薄膜が透明膜となる波長範囲とする。同様に、P21,P22の位置についても参照用に反射率スペクトルを計測する。
次に光学薄膜の理論に基づき、P10、P21、P22の位置について、それぞれ測定反射率スペクトルとのカーブフィッティングを行い、理論反射率スペクトルを得るとともに、前記の測定反射率スペクトルと理論反射率スペクトルとの、前記の波長範囲内でサンプリングした波長毎(例えば10nm毎)における反射率の差分の2乗和を計算する。
次に、P10、P21、P22の位置において、前記の差分の2乗和が所定の数値(サンプリング数に応じ任意に設定できる)以下となったときの、理論反射率スペクトルを得たときの膜厚と、所定の波長(前記の波長範囲内で任意に設定できる)における屈折率とを、それぞれP10、P21、P22の位置の第1、第2、第3膜厚解、第1、第2、第3屈折率解とする。
測定位置P10についてのカーブフィッティングにおいて、第1膜厚解、第1屈折率解とは異なる別の解が求まり多重解となった場合(図1の例では第11屈折率解・・・第1K屈折率解のK個の第1屈折率解が発生している)、P10とは別の参照計測位置(一般にはN-1個の別の箇所。Nは2以上の整数。従って、Nは測定箇所の個数となる)について反射率スペクトルを測定する。
図1の例では、P10以外のP21を参照計測位置1、及びP22を参照計測位置2として反射率スペクトルを計測している。
P10のカーブフィッティングと同様にして、P21に対して第2膜厚解と第2屈折率解、及びP22に対して第3膜厚解と第3屈折率解を求める。
計測位置P10、P21、P22の膜厚バラツキは数%程度であるので、P10の解析値がK個の多重解となる場合、P21、P22の解析値もK個の多重解となると考えられる。仮にK個の多重解とならない場合は、P10の膜厚とは大きく異なっていると考えられるので、参照用の計測位置からは除外する。
言い換えれば、膜厚バラツキが数%程度であり、多重解の個数が同数となる程度で、膜厚が異なる箇所を参照計測位置とする。既述のように、例えば液晶表示装置の基板は大型化しているので、基板中央から端部へ向かって、そのように膜厚が数%程度異なる位置を探すことは難しいことではない。本発明の膜厚推定方法では、このように膜厚を知りたい部分の膜厚と数%程度膜厚が異なる箇所を参照計測位置として積極的に利用する。
前記のようにして、P21に対して第21屈折率解・・・第2K屈折率解、及びP22に対して第31屈折率解・・・第3K屈折率解のK個の第3屈折率解が、それぞれ得られる。
次に計測位置P10、P21、P22について、それぞれの計測位置における複数の屈折率解から共通する屈折率があるかどうかを確認する。
しかる後にΔn1、Δn2、・・・ΔnKを比較すると、これらのうちで最小のΔnであるときの屈折率解はP10、P21、P22の3箇所(一般にはN箇所)の計測位置で、屈折率の差が最も小さいということになる。従って、もっとも信頼に足る膜厚解となっている。それ故、多重解のうちの、このときの膜厚解をもって、知りたい位置P10の膜厚、及び有用な場合はP21、P22の3箇所(一般にはN箇所)のそれぞれの膜厚とすることができる。
表1は、図1の測定、フィッティング、求解の結果を、横方向(行)は膜厚、縦方向(列)は任意に設定した波長に対する屈折率とした表である。表2と同様に、膜厚はt1、t2、・・・、t10の順に厚くなるが、t1、t2、・・・、t10のそれぞれの1マス内では同じ膜厚幅(レンジ)となっている。同様に、屈折率はn1、n2、・・・、n10の順に大きくなるが、n1、n2、・・・、n10のそれぞれの1マス内では同じ屈折率幅(レンジ)となっている。
表1で見ると、P10、P21、P22の測定のいずれもK=2個の多重解が現れているが、その一方は屈折率解がP10、P21、P22のいずれもn8の屈折率幅Δn内に収まっている。それに対しもう一方はP10、P21、P22の屈折率解が、それぞれn3、n4、n2と、3マスの屈折率幅内に入っており、Δnの3倍の屈折率幅にわたっている。
前記のことから、図1の測定では、膜厚が変化しても屈折率の差が小さい、n8の屈折率幅内に収まったときの膜厚幅内t1、t2、t3にある膜厚解が、それぞれP21、P10、P22の膜厚であると判定することが可能である。むろん、P21、P10、P22の膜厚の平均値をもって、該薄膜の平均膜厚とすることもできる。
上記のように、複数のN箇所でのフィッティングで、いずれもK個の多重解となった場合、K個の多重解のうち、複数のN箇所の屈折率解のうちで屈折率が同じ膜厚解をN箇所それぞれの膜厚とする。
いったん算出した屈折率解は、該材料の該波長における屈折率としてデータベース化する事が可能であり、次回に同じレジストを用いる際は、膜厚dのみを未知数として反射率
測定を行い、数値解析により膜厚を求める事ができる。
測定を行い、数値解析により膜厚を求める事ができる。
[膜厚測定装置]
図2は、本発明の膜厚決定装置の構成を示すブロック図である。本発明の膜厚決定装置は、本発明の膜厚推定方法で膜厚を推定するための膜厚決定装置であって、少なくとも光学計測部と、演算・制御部と、記憶部と、表示部と、を備える。
図2は、本発明の膜厚決定装置の構成を示すブロック図である。本発明の膜厚決定装置は、本発明の膜厚推定方法で膜厚を推定するための膜厚決定装置であって、少なくとも光学計測部と、演算・制御部と、記憶部と、表示部と、を備える。
光学計測部では被測定物である薄膜に、該薄膜が透明な領域の波長成分を含む照明光を照射し、その反射率スペクトルを測定する。複数の箇所を測定できるように、被対象物と照射部の位置は相対的に変更できる機能を有する。
演算・制御部と記憶部は連携して、反射率スペクトルを測定した複数の箇所について、カーブフィッティング法により解を求め、多重解が得られた場合、屈折率差がもっとも小さい解のときの膜厚解を選定して、該薄膜のそれぞれの測定箇所の膜厚とする。
表示部は、測定箇所の位置データ、反射率スペクトル、フィッティング曲線、得られた膜厚の分布等、必要に応じた表示を行う表示機能を備える。
本発明の膜厚推定方法、及び膜厚決定装置は、液晶表示装置、半導体素子、光学部材などの微小領域を有する商材において、透明な波長領域を有する薄膜及びそのパターンの微小部分の膜厚を非破壊・非接触で測定する方法・装置として応用できる。
Claims (2)
- 反射光分光スペクトル測定手段を用いて基板上に形成された薄膜の膜厚を推定する方法であって、少なくとも、下記(1)~(4)の段階を含むことを特徴とする膜厚推定方法。
(1)前記薄膜N箇所から反射分光測定を行い、第1から第Nの測定スペクトルを得る段階、
(2)屈折率と膜厚を既知の薄膜から得た分光スペクトルとして、屈折率と膜厚がマトリックス要素となった第1から第Mの参照スペクトルを準備する段階、
(3)前記測定スペクトルの一つに対して前記参照スペクトルの全てと最小二乗法を用いて、一致度の最も高い参照スペクトルの1つを選定することを、前記N個の測定スペクトルに対して行う段階、
(4)取り出したN個の屈折率値が全て一致した場合に、前記屈折率値を測定した薄膜の屈折率と決定し、さらに第1から第Nまでの膜厚値を第1から第Nまでの測定スペクトルの測定した位置における膜厚として決定する段階。 - 請求項1に記載の膜厚推定方法で薄膜の膜厚を決定する装置であって、
少なくとも光学計測部と、演算制御部と、記憶部と、表示部と、を備えることを特徴とする膜厚決定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020158511A JP2022052246A (ja) | 2020-09-23 | 2020-09-23 | 膜厚推定方法、及び膜厚決定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020158511A JP2022052246A (ja) | 2020-09-23 | 2020-09-23 | 膜厚推定方法、及び膜厚決定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022052246A true JP2022052246A (ja) | 2022-04-04 |
Family
ID=80948607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020158511A Pending JP2022052246A (ja) | 2020-09-23 | 2020-09-23 | 膜厚推定方法、及び膜厚決定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2022052246A (ja) |
-
2020
- 2020-09-23 JP JP2020158511A patent/JP2022052246A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Arndt et al. | Multiple determination of the optical constants of thin-film coating materials | |
US5555472A (en) | Method and apparatus for measuring film thickness in multilayer thin film stack by comparison to a reference library of theoretical signatures | |
US8947673B2 (en) | Estimating thickness based on number of peaks between two peaks in scanning white light interferometry | |
Konnerth et al. | In-situ measurement of dielectric thickness during etching or developing processes | |
JP4622564B2 (ja) | 膜厚測定方法 | |
US20060117293A1 (en) | Method for designing an overlay mark | |
KR20030025891A (ko) | 다층박막의 두께형상과 굴절률분포를 2차원형반사광도계의 원리를 이용하여 측정하는 장치와 그 측정방법 | |
TWI386617B (zh) | 反射式膜厚量測方法 | |
CN101331376A (zh) | 确定表面特性的装置和方法 | |
Ghim et al. | Single-shot spectrally resolved interferometry for the simultaneous measurement of the thickness and surface profile of multilayer films | |
TW201736799A (zh) | 帶薄膜晶圓的膜厚度分布檢測方法 | |
US11662197B2 (en) | Rapid measurement method for ultra-thin film optical constant | |
JP2022052246A (ja) | 膜厚推定方法、及び膜厚決定装置 | |
JP2005030822A (ja) | 膜計測方法及びその装置 | |
US7800824B2 (en) | Method for designing gratings | |
JP2006242798A (ja) | 膜厚および光学定数の算出方法 | |
JPH07318321A (ja) | 薄膜の膜厚評価方法および膜厚評価装置 | |
JP2016114506A (ja) | 薄膜付ウェーハの評価方法 | |
KR100627187B1 (ko) | 코팅 막의 두께를 측정하는 방법들 및 그 장치들 | |
TW201420993A (zh) | 多功能之薄膜元件檢測儀 | |
JP6923931B2 (ja) | 厚み及び形状測定における要否成分分離方法 | |
US11592392B2 (en) | Wave front reconstruction for dielectric coatings at arbitrary wavelength | |
JPH04109147A (ja) | 複素屈折率の測定方法及びその測定装置 | |
JP2850660B2 (ja) | 膜厚測定方法 | |
JPH07325013A (ja) | 薄膜の位相差評価方法および位相差評価装置 |