JP2022052008A - 防汚性膜形成用液組成物 - Google Patents
防汚性膜形成用液組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022052008A JP2022052008A JP2020158129A JP2020158129A JP2022052008A JP 2022052008 A JP2022052008 A JP 2022052008A JP 2020158129 A JP2020158129 A JP 2020158129A JP 2020158129 A JP2020158129 A JP 2020158129A JP 2022052008 A JP2022052008 A JP 2022052008A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- mass
- liquid composition
- solvent
- fluorine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 78
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 73
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 title claims abstract description 62
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title abstract description 21
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 71
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 71
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 70
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 55
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 53
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 43
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 32
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims abstract description 15
- UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N oxygen difluoride Chemical group FOF UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 36
- -1 byderite Inorganic materials 0.000 claims description 32
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910000275 saponite Inorganic materials 0.000 claims description 7
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 claims description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000271 hectorite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L hectorite Chemical compound [Li+].[OH-].[OH-].[Na+].[Mg+2].O1[Si]2([O-])O[Si]1([O-])O[Si]([O-])(O1)O[Si]1([O-])O2 KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910000273 nontronite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052902 vermiculite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010455 vermiculite Substances 0.000 claims description 3
- 235000019354 vermiculite Nutrition 0.000 claims description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 31
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 abstract description 25
- 230000002265 prevention Effects 0.000 abstract description 8
- 239000005871 repellent Substances 0.000 abstract description 6
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 abstract 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 36
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 36
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 29
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 27
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 22
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 20
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 19
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 19
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 19
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 17
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 13
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 9
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N nitrogen trifluoride Chemical group FN(F)F GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000237503 Pectinidae Species 0.000 description 4
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000020637 scallop Nutrition 0.000 description 4
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N Calcium hypochlorite Chemical compound [Ca+2].Cl[O-].Cl[O-] ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940125846 compound 25 Drugs 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N (1s,2s,3s,5r)-1-(carboxymethyl)-3,5-bis[(4-phenoxyphenyl)methyl-propylcarbamoyl]cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound O=C([C@@H]1[C@@H]([C@](CC(O)=O)([C@H](C(=O)N(CCC)CC=2C=CC(OC=3C=CC=CC=3)=CC=2)C1)C(O)=O)C(O)=O)N(CCC)CC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- AIFLGMNWQFPTAJ-UHFFFAOYSA-J 2-hydroxypropanoate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O AIFLGMNWQFPTAJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-3-methylbutan-1-ol Chemical compound COC(C)(C)CCO MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002102 aryl alkyloxo group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- XRWSZZJLZRKHHD-WVWIJVSJSA-N asunaprevir Chemical compound O=C([C@@H]1C[C@H](CN1C(=O)[C@@H](NC(=O)OC(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=NC=C(C2=CC=C(Cl)C=C21)OC)N[C@]1(C(=O)NS(=O)(=O)C2CC2)C[C@H]1C=C XRWSZZJLZRKHHD-WVWIJVSJSA-N 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 1
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229940126543 compound 14 Drugs 0.000 description 1
- 229940125758 compound 15 Drugs 0.000 description 1
- 229940125961 compound 24 Drugs 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N diethoxysilane Chemical compound CCO[SiH2]OCC ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 150000002221 fluorine Chemical class 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010721 machine oil Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound CCCO[Ti](OCCC)(OCCC)OCCC HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910021647 smectite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000002522 swelling effect Effects 0.000 description 1
- 230000009974 thixotropic effect Effects 0.000 description 1
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Abstract
【課題】形成した膜に撥水撥油性と防汚性の機能を付与するとともに、膜の外観に優れ、基材への密着性が良好で、強度が高く、カルキの付着防止性に優れた膜を形成できる防汚性膜形成用組成物の提供。【解決手段】シリカゾルゲルを主とする成分並びに溶媒を含む。溶媒を除く防汚性膜形成用液組成物中、シリカゾルゲルを78質量%~99質量%と、ペルフルオロエーテル構造のフッ素含有官能基成分を0.5質量%~10質量%と、層状無機化合物を0.5質量%~20質量%含み、溶媒が、水と炭素数1~4のアルコールとの混合溶媒であるか、或いは水と炭素数1~4のアルコールと前記アルコール以外の有機溶媒との混合溶媒である。【選択図】図1
Description
本発明は、撥水性及び撥油性(以下、撥水撥油性という。)を有する防汚性膜を形成するための液組成物に関するものである。
従来、この種の防汚性膜形成用液組成物として、本出願人は、シリカゾルゲルを主とする成分並びに溶媒を含み、前記シリカゾルゲルを100質量%とするときに、前記シリカゾルゲルがペルフルオロアミン構造のフッ素含有官能基成分を0.5質量%~10質量%と炭素数2~7のアルキレン基含有成分を0.5質量%~20質量%含み、前記溶媒が、水と炭素数1~4のアルコールとの混合溶媒であるか、或いは水と炭素数1~4のアルコールと前記アルコール以外の有機溶媒との混合溶媒であることを特徴とする膜形成用液組成物を提案した(特許文献1(請求項1)参照。)。
この膜形成用液組成物によれば、液組成物がシリカゾルゲルを主成分とするため、高い強度の塗膜が得られ、かつ塗膜の基材への密着性が良好となる。また液組成物がペルフルオロアミン構造のフッ素含有官能基成分と炭素数2~7のアルキレン基成分をそれぞれ特定の割合で含むため、形成した膜に優れた撥水撥油性と離型性を付与することができる。また溶媒が、水と炭素数1~4のアルコールとの混合溶媒であるか、或いは水と炭素数1~4のアルコールと前記アルコール以外の有機溶媒との混合溶媒であるため、塗膜を成膜性良く形成することができる。更にシリカゾルゲル中に炭素数2~7のアルキレン基成分を含むため、この液組成物は乾燥過程にレベリング性が改善され、形成した膜は厚さが均一で虹色の干渉縞を発生しない。ここで干渉縞とは、液組成物を塗布した後の溶媒が揮発する乾燥過程で、膜の薄い部位から徐々に揮発していくときに膜表面で反射する光が干渉し合って生じ、膜の外観を損なう縞模様をいう。
しかしながら、特許文献1に示される膜形成用液組成物は、油汚れ防止等には優れた効果が得られているが、浄水の殺菌剤として用いられる次亜塩素酸カルシウムであるカルキの付着を防止する効果が不十分であった。これは、ペルフルオロアミン構造を持つ含窒素フッ素系化合物が、ペルフルオロ基に柔軟性が少なく、膜が不均一に形成され易いためであった。そこで、この含窒素フッ素系化合物の代わりに、油汚れ防止とともに、カルキの付着を防止する効果も得られる防汚性膜形成用液組成物が求められていた。また、特許文献1に示される膜形成用液組成物は、形成した膜の厚さは均一であるものの、膜形成用液組成物のチキソトロピー性が低いため、形成した膜表面に塗布ムラや塗布筋が残存し易く良好な外観を得ることが困難であった。
本発明の目的は、形成した膜に撥水撥油性と防汚性の機能を付与するとともに、膜の外観に優れ、基材への密着性が良好で、強度が高く、カルキの付着防止性に優れた膜を形成可能な防汚性膜形成用液組成物を提供することにある。
本発明の第1の観点は、シリカゾルゲルを主とする成分並びに溶媒を含む防汚性膜形成用液組成物において、前記溶媒を除く前記防汚性膜形成用液組成物中、前記シリカゾルゲルを78質量%~99質量%と、下記の一般式(1)又は(2)で示されるペルフルオロエーテル構造のフッ素含有官能基成分を0.5質量%~10質量%と、層状無機化合物を0.5質量%~20質量%含み、前記溶媒が、水と炭素数1~4のアルコールとの混合溶媒であるか、或いは水と炭素数1~4のアルコールと前記炭素数1~4のアルコール以外の有機溶媒との混合溶媒であることを特徴とする防汚性膜形成用液組成物である。
上記式(1)及び式(2)中、p、q及びrは、それぞれ同一又は互いに異なる1~6の整数であって、直鎖状又は分岐状であってもよい。また上記式(1)及び式(2)中、Xは、シリカゾルゲルと連結する結合基であり、炭素数2~10の炭化水素基であって、エーテル結合、CO-NH結合、O-CO-NH結合及びスルホンアミド結合から選択される1種以上の結合を含んでいてもよい。また上記式(1)及び式(2)中、Yは、シランの加水分解体又はシリカゾルゲルの主成分である。
本発明の第2の観点は、第1の観点に基づく発明であって、前記層状無機化合物が、モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ソーコナイト、スティブンサイト又はバーミキュライトである防汚性膜形成用液組成物である。
液組成物がシリカゾルゲルを主成分として含むため、高い強度の塗膜が得られ、かつ塗膜の基材への密着性が良好となる。また液組成物が上述した一般式(1)又は式(2)で示されるペルフルオロエーテル構造のフッ素含有官能基成分を含むため、形成した膜に優れた撥水撥油性と防汚性の機能を付与することができる。特に、フッ素含有官能基成分が特許文献1に示されるペルフルオロアミン構造でなく、ペルフルオロエーテル構造であるため、ペルフルオロアミン構造と比べて柔軟な構造を取り易く、撥水撥油性に優れるとともに、膜が均一に形成されてカルキの付着を防止することができる膜を得やすい。また液組成物が層状無機化合物を含むため、塗布した液組成物の乾燥過程で塗布物のレベリング性が改善され、膜が均一に形成されてカルキの付着を防止できるとともに、形成した膜に虹色の干渉縞を発生せず、膜表面に塗布ムラや塗布筋が残存せずに良好な膜の外観が得られ、膜の強度も高まる。更に溶媒が、水と炭素数1~4のアルコールとの混合溶媒であるか、或いは水と炭素数1~4のアルコールと前記炭素数1~4のアルコール以外の有機溶媒との混合溶媒であるため、塗膜を成膜性良く形成することができる。
本発明の第2の観点の防汚性膜形成用液組成物では、前記層状無機化合物が、モンモリロナイト等であるため、モンモリロナイト等の有する多層構造及び大きな膨潤性により容量の大きな層間を有し、これにより、ある程度のチキソトロピー性を付与することで、塗布した膜がより均一に形成され、膜表面に塗布ムラや塗布筋が残存せずに、より良好な膜の外観が得られ、かつ膜の強度もより高まる。
次に本発明を実施するための形態を説明する。
〔防汚性膜形成用液組成物の製造方法〕
本実施形態の防汚性膜形成用液組成物の製造方法を説明する。この製造方法は2通りある。第1の製造方法は、図1に示すように、先ず、ケイ素アルコキシド11とアルコール13とフッ素含有官能基成分を含むフッ素系化合物14と層状無機化合物15と水16とを混合して混合液を調製する。このとき、炭素数2~7のアルキレン基成分12を一緒に混合してもよい。アルキレン基成分として、エポキシ基含有シランが挙げられる。次いでこの混合液と触媒17とを混合してケイ素アルコキシド又はケイ素アルコキシドとエポキシ基含有シランを加水分解することによりフッ素含有シリカゾルゲル液18を調製する。このフッ素含有シリカゾルゲル液18を溶媒19で希釈して、防汚性膜形成用液組成物20を調製する。
本実施形態の防汚性膜形成用液組成物の製造方法を説明する。この製造方法は2通りある。第1の製造方法は、図1に示すように、先ず、ケイ素アルコキシド11とアルコール13とフッ素含有官能基成分を含むフッ素系化合物14と層状無機化合物15と水16とを混合して混合液を調製する。このとき、炭素数2~7のアルキレン基成分12を一緒に混合してもよい。アルキレン基成分として、エポキシ基含有シランが挙げられる。次いでこの混合液と触媒17とを混合してケイ素アルコキシド又はケイ素アルコキシドとエポキシ基含有シランを加水分解することによりフッ素含有シリカゾルゲル液18を調製する。このフッ素含有シリカゾルゲル液18を溶媒19で希釈して、防汚性膜形成用液組成物20を調製する。
本実施形態の防汚性膜形成用液組成物の第2の製造方法は、図2に示すように、先ず、ケイ素アルコキシド21とアルコール23とフッ素含有官能基成分を含むフッ素系化合物24と水26とを混合して混合液を調製する。このとき、炭素数2~7のアルキレン基成分22を一緒に混合してもよい。アルキレン基成分として、エポキシ基含有シランが挙げられる。次いでこの混合液と触媒27とを混合してケイ素アルコキシド又はケイ素アルコキシドとエポキシ基含有シランを加水分解することによりフッ素含有シリカゾルゲル液28を調製する。このフッ素含有シリカゾルゲル液28を溶媒29で希釈する際に、層状無機化合物25を添加し混合して、防汚性膜形成用液組成物30を調製する。
第1及び第2の製造方法とも、上記混合液を調製する際に、成膜性を向上させるため、又は乾燥速度を向上させるために、アルコールとともに、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素を加えて混合してもよい。
第1の製造方法の長所は、最初に層状無機化合物を含む原料を混合するため、製造が簡略化できる点にある。また第2の製造方法の長所は、層状無機化合物を後から添加し混合するため、液組成物のバリエーションを簡単に増やせる点にある。
第1及び第2の製造方法とも、上記混合液を調製する際に、成膜性を向上させるため、又は乾燥速度を向上させるために、アルコールとともに、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素を加えて混合してもよい。
第1の製造方法の長所は、最初に層状無機化合物を含む原料を混合するため、製造が簡略化できる点にある。また第2の製造方法の長所は、層状無機化合物を後から添加し混合するため、液組成物のバリエーションを簡単に増やせる点にある。
上記ケイ素アルコキシドとしては、具体的には、テトラメトキシシラン、そのオリゴマー又はテトラエトキシシラン、そのオリゴマーが挙げられる。例えば、硬度の高い膜を得る目的には、テトラメトキシシランを用いることが好ましく、一方、加水分解時に発生するメタノールを避ける場合は、テトラエトキシシランを用いることが好ましい。
上記アルコールとしては、炭素数1~4のアルコールが挙げられる。この炭素数1~4の範囲にあるアルコールとしては、炭素数がこの範囲にある1種又は2種以上のアルコールが挙げられ、例えば、メタノール(沸点64.7℃)、エタノール(沸点約78.3℃)、プロパノール(n-プロパノール(沸点97-98℃)、イソプロパノール(沸点82.4℃))が挙げられる。特にメタノール又はエタノールが好ましい。これらのアルコールは、ケイ素アルコキドと混合し易いためである。上記水としては、不純物の混入防止のため、イオン交換水や純水等を使用するのが望ましい。
上記アルキレン基成分となるエポキシ基含有シランとしては、具体的には、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン又は多官能エポキシシランが挙げられる。アルキレン基成分はケイ素アルコキシドとアルキレン基成分の合計質量に対して1質量%~40質量%含まれることが好ましく、2.5質量%~20質量%含まれることが更に好ましい。アルキレン基成分が下限値の1質量%未満では、形成した膜に虹色の干渉縞が発生し易く、また上限値の40質量%を超えると、形成した膜の耐久性が低くなり易い。アルキレン基成分を上記1質量%~40質量%の範囲になるようにエポキシ基含有シランを含むと、エポキシ基も加水分解重合過程において開環して重合に寄与し、これにより塗布した液組成物の乾燥過程で塗布物のレベリング性が改善し膜厚さが均一になり易い。
上記層状無機化合物としては、モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ソーコナイト、スティブンサイト等のスメクタイト系層状無機化合物又はバーミキュライトが前述した理由で好ましい。
上記混合液は、第1の製造方法では、ケイ素アルコキシドに、炭素数1~4の範囲にあるアルコールとフッ素系化合物と層状無機化合物を添加混合し、必要によりアルキレン基成分を添加混合した後、水を添加して調製することが好ましい。この調製は、好ましくは10~30℃の温度で5~20分間撹拌して行われる。
第2の製造方法では、上記混合液に層状無機化合物が含まれないこと、及び層状無機化合物がフッ素含有シリカゾルゲル液に添加されること以外は、第1の製造方法と同様に行われる。
第2の製造方法では、上記混合液に層状無機化合物が含まれないこと、及び層状無機化合物がフッ素含有シリカゾルゲル液に添加されること以外は、第1の製造方法と同様に行われる。
上記触媒としては、有機酸、無機酸又はチタン化合物が挙げられる。有機酸としてはギ酸、シュウ酸が例示され、無機酸としては塩酸、硝酸、リン酸が例示され、チタン化合物としてはテトラプロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、乳酸チタン等が例示される。触媒は上記のものに限定されない。
上記調製された混合液と上記触媒とを混合するときには、液温を好ましくは30~80℃の温度に保持して好ましくは1~24時間撹拌する。第1の製造方法では、図1に示すように、フッ素含有シリカゾルゲル液18は、フッ素含有シリカゾルゲル液を100質量%とするとき、好ましくは、ケイ素アルコキシドを3質量%~40質量%と、フッ素系化合物中のフッ素含有官能基成分を0.06質量%~2.60質量%と、層状無機化合物を1質量%~2質量%含む。必要によりアルキレン基成分を1.5質量%~2質量%含む。またフッ素含有シリカゾルゲル液中では、炭素数1~4の範囲にあるアルコールを20質量%~98質量%と、水を0.1質量%~40質量%と、触媒を0.01質量%~5質量%含む。第2の製造方法では、図2に示すように、層状無機化合物25は、フッ素含有シリカゾルゲル液28には含まれないが、フッ素含有シリカゾルゲル液28を溶媒29で希釈する際に、溶媒を除いた成分に対して、0.5質量%~20質量%の割合で添加される。
ケイ素アルコキシドが下限値の3質量%未満では、シリカゾルゲルの重合が不十分であることから、膜の強度が高くなりにくい。上限値の40質量%を超えると、加水分解反応中に反応液がゲル化しやすくなる。
炭素数1~4の範囲にあるアルコールの割合を上記範囲に限定したのは、アルコールの割合が下限値の20質量%未満では、ケイ素アルコキシドが、溶液中に溶解せず分離し、加水分解反応中に反応液がゲル化し易く、一方、上限値の98質量%を超えると、加水分解に必要な水、触媒量が相対的に少なくなるために、加水分解の反応性が低下して、重合が進まず、膜の密着性が低下し易くなるからである。
炭素数1~4の範囲にあるアルコールの割合を上記範囲に限定したのは、アルコールの割合が下限値の20質量%未満では、ケイ素アルコキシドが、溶液中に溶解せず分離し、加水分解反応中に反応液がゲル化し易く、一方、上限値の98質量%を超えると、加水分解に必要な水、触媒量が相対的に少なくなるために、加水分解の反応性が低下して、重合が進まず、膜の密着性が低下し易くなるからである。
水の割合を上記範囲に限定したのは、下限値の0.1質量%未満では加水分解速度が遅くなるために、重合が進まず、塗布膜の密着性並びに成膜性が不十分になり、一方、上限値の40質量%を超えると加水分解反応中に反応液がゲル化し、水が多過ぎるためケイ素アルコキシド化合物がアルコール水溶液に溶解せず、分離し易くなるからである。
触媒の割合を上記範囲に限定したのは、下限値の0.01質量%未満では反応性に乏しく重合が不十分になり、膜が形成されにくく、一方、上限値の5質量%を超えても反応性に影響はないが、残留する酸により基材が腐食等を生じ易くなるからである。
フッ素系化合物に含まれるフッ素含有官能基成分となるフッ素含有シランは、具体的には、下記一般式(3)及び式(4)で示される。式(3)及び式(4)中のペルフルオロエーテル基としては、より具体的には、下記式(5)~(13)で示されるペルフルオロエーテル構造を挙げることができる。
また、上記式(3)及び式(4)中のXとしては、下記式(14)~(18)で示される構造を挙げることができる。なお、下記式(14)はエーテル結合、下記式(15)はエステル結合、下記式(16)はアミド結合、下記式(17)はウレタン結合、下記式(18)はスルホンアミド結合を含む例を示している。
ここで、上記式(14)~(18)中、R2及びR3は炭素数が0から10の炭化水素基、R4は水素原子又は炭素数1から6の炭化水素基である。R2及びR3の炭化水素基の例とは、メチレン基、エチレン基等のアルキレン基が挙げられ、R4の炭化水素基の例とは、メチル基、エチル基等のアルキル基の他、フェニル基等も挙げられる。
また、上記式(3)及び式(4)中、R1は、メチル基、エチル基等が挙げられる。
また、上記式(3)及び式(4)中、Zは、加水分解されてSi-O-Si結合を形成可能な加水分解性基であれば特に限定されるものではない。このような加水分解性基としては、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基などのアリールオキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基などのアラルキルオキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などのアシルオキシ基等が挙げられる。これらの中でも、メトキシ基、エトキシ基を適用することが好ましい。
ここで、上記式(3)及び式(4)で表されるペルフルオロエーテル構造を有するフッ素含有官能基成分を含むフッ素系化合物の具体例としては、例えば、下記式(19)~(27)で表される構造が挙げられる。なお、下記式(19)~(27)中、Rはメチル基又はエチル基である。
上述したように、本実施の形態の防汚性膜形成用液組成物に含まれるフッ素系化合物は、分子内に酸素原子に炭素数が6以下の短鎖長のペルフルオロアルキル基とペルフルオロアルキレン基が複数結合したペルフルオロエーテル基を有しており、分子内のフッ素含有率が高いため、形成した膜に優れた撥水撥油性を付与することができる。
図1及び図2に示すように、本実施形態の防汚性膜形成用液組成物20、30は、フッ素含有シリカゾルゲル液18、28を溶媒19、29で希釈して製造される。この希釈用溶媒としては、水と炭素数1~4のアルコールとの混合溶媒であるか、或いは水と炭素数1~4のアルコールと前記炭素数1~4のアルコール以外の有機溶媒との混合溶媒である。炭素数1~4のアルコールとともに用いられるアルコール以外の有機溶媒としては、沸点が120℃以上160℃未満の第1溶媒と、沸点が160℃以上220℃以下の第2溶媒が挙げられる。第1溶媒は沸点が120℃未満の炭素数1~4の範囲にあるアルコールと第2溶媒の中間の沸点を有することから、塗膜の乾燥時に前記アルコールと第2溶媒の沸点差に伴う塗膜の乾燥速度の大きな差を緩和する作用があり、第2溶媒は第1溶媒よりも高沸点であり、塗膜の乾燥速度が遅いことから塗膜の急激な乾燥を防止して急激な乾燥に伴う膜の不均一性を防止する作用があり、前記アルコールは沸点が最も低いことから塗膜の乾燥を速くする作用がある。このように沸点の異なる3種類の溶媒を用いることにより溶媒の乾燥速度を調整して、より的確にかつ効率的に塗膜を成膜性良く形成することができる。
第1溶媒を例示すれば、2-メトキシエタノール(沸点125℃)、2-エトキシエタノール(沸点136℃)、2-イソプロポキシエタノール(沸点142℃)、1-メトキシ-2-プロパノール(沸点120℃)及び1-エトキシ-2-プロパノール(沸点132℃)からなる群より選ばれた1種又は2種以上の溶媒が挙げられる。また第2溶媒を例示すれば、ジアセトンアルコール(沸点169℃)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル(沸点194℃)、N-メチルピロリドン(沸点202℃)及び3-メトキシ-3-メチル-1-ブタノール(沸点173℃)からなる群より選ばれた1種又は2種以上の溶媒が挙げられる。
〔防汚性膜形成用液組成物〕
本実施の形態の防汚性膜形成用液組成物は、上記第1の製造方法又は第2の製造方法で製造され、シリカゾルゲルを主とする成分並びに溶媒を含む。この溶媒を除く防汚性膜形成用液組成物中、シリカゾルゲルを78質量%~99質量%と、上記の一般式(1)又は(2)で示されるペルフルオロエーテル構造のフッ素含有官能基成分を0.5質量%~10質量%と、層状無機化合物を0.5質量%~20質量%含み、必要によりアルキレン基成分を1質量%~38質量%含む。また上記溶媒は、水と炭素数1~4のアルコールとの混合溶媒であるか、或いは水と炭素数1~4のアルコールと上記炭素数1~4のアルコール以外の有機溶媒との混合溶媒である。
本実施の形態の防汚性膜形成用液組成物中のシリカゾルゲルの含有割合が下限値の78質量%未満では、塗膜の基材への密着性とカルキの付着防止性に劣り、高い強度の塗膜が得られない。また防汚性膜を形成したときに膜が白濁化し、外観が悪くなる。上限値の99質量%を超えると、膜の強度が低くなり、カルキの付着防止性に劣る。また膜の撥水撥油性と防汚性に劣る。溶媒を除く防汚性膜形成用液組成物中、シリカゾルゲルの好ましい含有割合は80質量%~98質量%である。
本実施の形態の防汚性膜形成用液組成物は、上記第1の製造方法又は第2の製造方法で製造され、シリカゾルゲルを主とする成分並びに溶媒を含む。この溶媒を除く防汚性膜形成用液組成物中、シリカゾルゲルを78質量%~99質量%と、上記の一般式(1)又は(2)で示されるペルフルオロエーテル構造のフッ素含有官能基成分を0.5質量%~10質量%と、層状無機化合物を0.5質量%~20質量%含み、必要によりアルキレン基成分を1質量%~38質量%含む。また上記溶媒は、水と炭素数1~4のアルコールとの混合溶媒であるか、或いは水と炭素数1~4のアルコールと上記炭素数1~4のアルコール以外の有機溶媒との混合溶媒である。
本実施の形態の防汚性膜形成用液組成物中のシリカゾルゲルの含有割合が下限値の78質量%未満では、塗膜の基材への密着性とカルキの付着防止性に劣り、高い強度の塗膜が得られない。また防汚性膜を形成したときに膜が白濁化し、外観が悪くなる。上限値の99質量%を超えると、膜の強度が低くなり、カルキの付着防止性に劣る。また膜の撥水撥油性と防汚性に劣る。溶媒を除く防汚性膜形成用液組成物中、シリカゾルゲルの好ましい含有割合は80質量%~98質量%である。
上本実施の形態の防汚性膜形成用液組成物は、上記の一般式(1)又は(2)で示されるペルフルオロエーテル構造のフッ素含有官能基成分と層状無機化合物を含む。より具体的には、上述した式(19)~(27)で示されるペルフルオロエーテル構造を挙げることができる。
本実施の形態の防汚性膜形成用液組成物がシリカゾルゲルを主成分として含むため、塗膜の基材への密着性に優れ、高い強度の塗膜が得られる。またフッ素系官能基成分が上記一般式(1)又は(2)で示されるペルフルオロエーテル構造であるため、ペルフルオロアミン構造と比べて柔軟な構造を取り易く、撥水並びに撥油の効果に加え、防汚性に優れ、カルキの付着を防止する効果がある。フッ素含有官能基成分の含有割合が0.5質量%未満では形成した膜に撥水撥油性と防汚性の機能を付与できず、カルキの付着防止性に劣る。また10質量%を超えると塗膜の弾きや塗布筋が発生し膜の外観に劣る。また膜の強度、膜の基材への密着性及びカルキの付着防止性に劣る。好ましいフッ素含有官能基成分の含有割合は0.6質量%~5質量%である。また層状無機化合物の含有割合が0.5質量%~20質量%の範囲にあると、膜表面に塗布ムラや塗布筋が残存せずに、良好な外観が得られる。また膜の強度がより高まる。0.5質量%未満では、膜の強度が低くなり、膜に干渉縞が発生し、膜の外観が不良になる。20質量%を超えると、膜が多孔質状態になるため、膜が白濁化して外観が不良になり、撥水撥油性及び防汚性に劣る。またバインダー成分としてのシリカゾルゲルの含有割合が相対的に低くなり、膜の強度は低く、膜の基材への密着性及びカルキの付着防止性に劣る。
〔防汚性膜の形成方法〕
本実施の形態の防汚性膜は、例えば、基材であるステンレス鋼(SUS)、鉄、アルミニウム等の金属板上、窓ガラス、鏡等のガラス上、タイル上、ポリ塩化ビニル(PVC)等のプラスチック上、又はポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム上に、上記液組成物を、スクリーン印刷法、バーコート法、ダイコート法、ドクターブレード、スピン法等により塗布した後に、室温乾燥もしくは乾燥機等により室温~130℃の温度で乾燥させることにより、形成される。
本実施の形態の防汚性膜は、例えば、基材であるステンレス鋼(SUS)、鉄、アルミニウム等の金属板上、窓ガラス、鏡等のガラス上、タイル上、ポリ塩化ビニル(PVC)等のプラスチック上、又はポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム上に、上記液組成物を、スクリーン印刷法、バーコート法、ダイコート法、ドクターブレード、スピン法等により塗布した後に、室温乾燥もしくは乾燥機等により室温~130℃の温度で乾燥させることにより、形成される。
次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく説明する。先ず、フッ素含有シリカゾルゲル液を調製するための合成例1~9を説明し、次いでこれらの合成例1~9を用いた防汚性膜形成用液組成物の製造に関する実施例1~6及び比較例1~7を説明する。
<合成例1>
合成例1は、図1に示すフローに基づく。先ず、ケイ素アルコキシドとしてテトラメトキシシラン(TMOS)の3~5量体(三菱化学社製、商品名:MKCシリケートMS51)8.01gと、アルキレン基成分となるエポキシ基含有シランとして3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GPTMS:信越化学工業社製、商品名:KBM-403)0.55gと、フッ素含有官能基成分として式(19)で表わされるフッ素含有シラン(R:エチル基)0.09gと、層状無機化合物としてスメクトン-SA(クニミネ工業社製、サポナイト)0.50gと、有機溶媒としてエタノール(EtOH:沸点78.3℃)18.5gとを混合し、更にイオン交換水2.37gを添加して、セパラブルフラスコ内で25℃の温度で5分間撹拌することにより混合液を調製した。次いで、この混合液に、触媒として濃度100質量%の酢酸0.03gを添加し、40℃で2時間撹拌した。これにより、フッ素含有シリカゾルゲル液(I)を調製した。この調製内容を表1及び表2に示す。表1は質量割合(g)で、表2は質量割合(%)でそれぞれ示す。
合成例1は、図1に示すフローに基づく。先ず、ケイ素アルコキシドとしてテトラメトキシシラン(TMOS)の3~5量体(三菱化学社製、商品名:MKCシリケートMS51)8.01gと、アルキレン基成分となるエポキシ基含有シランとして3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GPTMS:信越化学工業社製、商品名:KBM-403)0.55gと、フッ素含有官能基成分として式(19)で表わされるフッ素含有シラン(R:エチル基)0.09gと、層状無機化合物としてスメクトン-SA(クニミネ工業社製、サポナイト)0.50gと、有機溶媒としてエタノール(EtOH:沸点78.3℃)18.5gとを混合し、更にイオン交換水2.37gを添加して、セパラブルフラスコ内で25℃の温度で5分間撹拌することにより混合液を調製した。次いで、この混合液に、触媒として濃度100質量%の酢酸0.03gを添加し、40℃で2時間撹拌した。これにより、フッ素含有シリカゾルゲル液(I)を調製した。この調製内容を表1及び表2に示す。表1は質量割合(g)で、表2は質量割合(%)でそれぞれ示す。
調製されたフッ素含有シリカゾルゲル液は、溶媒と層状無機化合物を除くと、表3に示すように、シリカ成分(SiO2)が86.9質量%と、フッ素含有官能基成分が1.5質量%と、炭素数7のアルキレン基成分が11.6質量%含まれていた。
<合成例2>
合成例2は、図2に示すフローに基づく。先ず、表1~表3に示すように、ケイ素アルコキシドとしてテトラエトキシシランの重合体(コルコート社製、商品名:エチルシリケート40)と、合成例1と同じアルキレン基成分となるエポキシ基含有シランと、フッ素含有官能基成分として式(20)で表わされるフッ素含有シラン(R:エチル基)と、触媒として60質量%の硝酸とを用いて、ケイ素アルコキシド、エポキシ基含有シラン、フッ素含有シラン、エタノール及び水の各添加量を合成例1とそれぞれ同一にするか又は変更した。これによりフッ素含有シリカゾルゲル液(II)を調製した。合成例2では層状無機化合物を用いなかった。
合成例2は、図2に示すフローに基づく。先ず、表1~表3に示すように、ケイ素アルコキシドとしてテトラエトキシシランの重合体(コルコート社製、商品名:エチルシリケート40)と、合成例1と同じアルキレン基成分となるエポキシ基含有シランと、フッ素含有官能基成分として式(20)で表わされるフッ素含有シラン(R:エチル基)と、触媒として60質量%の硝酸とを用いて、ケイ素アルコキシド、エポキシ基含有シラン、フッ素含有シラン、エタノール及び水の各添加量を合成例1とそれぞれ同一にするか又は変更した。これによりフッ素含有シリカゾルゲル液(II)を調製した。合成例2では層状無機化合物を用いなかった。
<合成例3~9>
合成例3~9は、図2に示すフローに基づく。先ず、表1~表3に示すように、合成例1と同じケイ素アルコキシドを用いた。フッ素含有官能基成分となるフッ素含有シラン及び触媒の各種類を選定した。ケイ素アルコキシド、エポキシ基含有シラン、フッ素含有シラン、エタノール及び水の各添加量を合成例1とそれぞれ同一にするか又は変更した。これによりフッ素含有シリカゾルゲル液(III)~(IX)を調製した。合成例9では、エポキシ基含有シランを用いたが、合成例3~8ではアルキレン基成分となるエポキシ基含有シラン及び層状無機化合物を用いなかった。フッ素含有官能基成分として式(24)と式(27)で表わされるフッ素含有シランの式中のRはすべてエチル基である。なお、式(28)で表されるフッ素含有シランは、特許文献1に示されるペルフルオロアミン構造を有する。式(28)の含窒素フッ素系化合物を下記に示す。
合成例3~9は、図2に示すフローに基づく。先ず、表1~表3に示すように、合成例1と同じケイ素アルコキシドを用いた。フッ素含有官能基成分となるフッ素含有シラン及び触媒の各種類を選定した。ケイ素アルコキシド、エポキシ基含有シラン、フッ素含有シラン、エタノール及び水の各添加量を合成例1とそれぞれ同一にするか又は変更した。これによりフッ素含有シリカゾルゲル液(III)~(IX)を調製した。合成例9では、エポキシ基含有シランを用いたが、合成例3~8ではアルキレン基成分となるエポキシ基含有シラン及び層状無機化合物を用いなかった。フッ素含有官能基成分として式(24)と式(27)で表わされるフッ素含有シランの式中のRはすべてエチル基である。なお、式(28)で表されるフッ素含有シランは、特許文献1に示されるペルフルオロアミン構造を有する。式(28)の含窒素フッ素系化合物を下記に示す。
<実施例1>
実施例1では、表4に示すように、合成例1で調製した、既に層状無機化合物を含むフッ素含有シリカゾルゲル液(I)を用いた。このフッ素含有シリカゾルゲル液15gに、工業用アルコール(日本アルコール産業社製、AP-7)60gを添加混合して、防汚性膜形成用液組成物を調製した。この防汚性膜形成用液組成物は、溶媒を除くと、表5に示すように、フッ素含有シリカゾルゲルが88.7質量%と、フッ素含有官能基成分が1.4質量%と、層状無機化合物が9.9質量%含まれていた。
実施例1では、表4に示すように、合成例1で調製した、既に層状無機化合物を含むフッ素含有シリカゾルゲル液(I)を用いた。このフッ素含有シリカゾルゲル液15gに、工業用アルコール(日本アルコール産業社製、AP-7)60gを添加混合して、防汚性膜形成用液組成物を調製した。この防汚性膜形成用液組成物は、溶媒を除くと、表5に示すように、フッ素含有シリカゾルゲルが88.7質量%と、フッ素含有官能基成分が1.4質量%と、層状無機化合物が9.9質量%含まれていた。
<実施例2~6及び比較例1~7>
実施例2~6及び比較例1~7では、表4に示すように、合成例2~9で調製したフッ素含有シリカゾルゲル液(II)~(IX)をそれぞれ用いた。これらのフッ素含有シリカゾルゲル液(II)~(IX)に、表4に示す層状無機化合物と希釈用溶媒を添加混合して、防汚性膜形成用液組成物を調製した。この防汚性膜形成用液組成物は、溶媒を除くと、表5に示すように、フッ素含有シリカゾルゲルと、フッ素含有官能基成分と、層状無機化合物とを、表5に示す配合割合で含んでいた。
実施例2~6及び比較例1~7では、表4に示すように、合成例2~9で調製したフッ素含有シリカゾルゲル液(II)~(IX)をそれぞれ用いた。これらのフッ素含有シリカゾルゲル液(II)~(IX)に、表4に示す層状無機化合物と希釈用溶媒を添加混合して、防汚性膜形成用液組成物を調製した。この防汚性膜形成用液組成物は、溶媒を除くと、表5に示すように、フッ素含有シリカゾルゲルと、フッ素含有官能基成分と、層状無機化合物とを、表5に示す配合割合で含んでいた。
<比較試験及び評価>
実施例1~6及び比較例1~7で得られた13種類の防汚性膜形成用液組成物を、バーコーター(安田精機製作所製、型番No.3)を用いて、厚さ2mm、たて150mm、よこ75mmのSUS304基材上にそれぞれ乾燥後の厚さが0.1μm~1μmとなるように塗布し、13種類の塗膜を形成した。ここで、すべての塗膜を室温にて、3時間乾燥して13種類の防汚性が付与された膜を得た。これらの膜について、膜の外観、膜表面の撥水性、撥油性、n-ヘキサデカン(HD)の転落性、膜の強度、膜の基材への密着性及びカルキ付着防止性を評価した。これらの結果を表6に示す。
実施例1~6及び比較例1~7で得られた13種類の防汚性膜形成用液組成物を、バーコーター(安田精機製作所製、型番No.3)を用いて、厚さ2mm、たて150mm、よこ75mmのSUS304基材上にそれぞれ乾燥後の厚さが0.1μm~1μmとなるように塗布し、13種類の塗膜を形成した。ここで、すべての塗膜を室温にて、3時間乾燥して13種類の防汚性が付与された膜を得た。これらの膜について、膜の外観、膜表面の撥水性、撥油性、n-ヘキサデカン(HD)の転落性、膜の強度、膜の基材への密着性及びカルキ付着防止性を評価した。これらの結果を表6に示す。
(1) 膜の外観
膜の外観は、膜を目視にて評価した。膜全体に弾き等の発生がなく、また干渉縞がなく、膜全体が白濁せずに、液組成物を塗布筋、塗布ムラを生じずに均一に塗布できたものは『良好』とし、膜の一部に僅かに弾き、筋等が生じ、膜がやや白濁化したもの、やや干渉縞が発生したものは『可』とし、膜全体に弾き、筋等が生じ、膜が白濁化し、干渉縞が明確に発生したものは『不良』とした。
膜の外観は、膜を目視にて評価した。膜全体に弾き等の発生がなく、また干渉縞がなく、膜全体が白濁せずに、液組成物を塗布筋、塗布ムラを生じずに均一に塗布できたものは『良好』とし、膜の一部に僅かに弾き、筋等が生じ、膜がやや白濁化したもの、やや干渉縞が発生したものは『可』とし、膜全体に弾き、筋等が生じ、膜が白濁化し、干渉縞が明確に発生したものは『不良』とした。
(2) 膜表面の撥水性(接触角)
協和界面科学製ドロップマスターDM-700を用いて、シリンジに22℃±1℃のイオン交換水を準備し、シリンジの針の先端から2μLの液滴を飛び出した状態にする。次いで評価するSUS304基材上の防汚性膜をこの液滴に近づけて防汚性膜に液滴を付着させる。この付着した水の接触角を測定した。静止状態で水が膜表面に触れた1秒後の接触角をθ/2法により解析した値を水の接触角とし、膜表面の撥水性を評価した。
協和界面科学製ドロップマスターDM-700を用いて、シリンジに22℃±1℃のイオン交換水を準備し、シリンジの針の先端から2μLの液滴を飛び出した状態にする。次いで評価するSUS304基材上の防汚性膜をこの液滴に近づけて防汚性膜に液滴を付着させる。この付着した水の接触角を測定した。静止状態で水が膜表面に触れた1秒後の接触角をθ/2法により解析した値を水の接触角とし、膜表面の撥水性を評価した。
(3) 膜表面の撥油性(接触角)
協和界面科学製ドロップマスターDM-700を用いて、シリンジに22℃±1℃のn-ヘキサデカン(以下、油という。)を準備し、シリンジの針の先端から2μLの液滴を飛び出した状態にする。次いで評価するSUS304基材上の防汚性膜をこの液滴に近づけて防汚性膜に液滴を付着させる。この付着した油の接触角を測定した。静止状態で油が膜表面に触れた1秒後の接触角をθ/2法により解析した値を油の接触角とし、膜表面の撥油性を評価した。膜の表面状態が凸凹になって荒れていると通常よりも高い値を示すため、接触角が高過ぎる場合には、成膜性が不良であるとの判断基準となる。
協和界面科学製ドロップマスターDM-700を用いて、シリンジに22℃±1℃のn-ヘキサデカン(以下、油という。)を準備し、シリンジの針の先端から2μLの液滴を飛び出した状態にする。次いで評価するSUS304基材上の防汚性膜をこの液滴に近づけて防汚性膜に液滴を付着させる。この付着した油の接触角を測定した。静止状態で油が膜表面に触れた1秒後の接触角をθ/2法により解析した値を油の接触角とし、膜表面の撥油性を評価した。膜の表面状態が凸凹になって荒れていると通常よりも高い値を示すため、接触角が高過ぎる場合には、成膜性が不良であるとの判断基準となる。
(4) n-ヘキサデカンの転落性試験
協和界面科学製ドロップマスターDM-700を用いて、シリンジに25℃±1℃のn-ヘキサデカン(以下、油という。)を準備し、水平に置いたSUS304基材上にシリンジからn-ヘキサデカンを9μLの液滴を滴下し、基材を2度/分の速度で傾斜させ、n-ヘキサデカンの液滴が移動開始するときの基材の傾けた角度を測定した。(4)の接触角が低くてもこの角度が小さい方が防汚性が高いことを意味する。
協和界面科学製ドロップマスターDM-700を用いて、シリンジに25℃±1℃のn-ヘキサデカン(以下、油という。)を準備し、水平に置いたSUS304基材上にシリンジからn-ヘキサデカンを9μLの液滴を滴下し、基材を2度/分の速度で傾斜させ、n-ヘキサデカンの液滴が移動開始するときの基材の傾けた角度を測定した。(4)の接触角が低くてもこの角度が小さい方が防汚性が高いことを意味する。
(5) 膜の強度
評価するSUS304基材上の膜に下記の接触子を所定の荷重をかけながら、次の条件で10往復移動した後で、基材上の膜が基材から剥離しないか否かを目視で調べた。膜が剥離しない場合を『良好』とし、剥離した場合を『不良』とした。
(a) 測定器:静・動摩擦測定機TL201Tt(株式会社トリニティーラボ)
(b) 測定条件:
・移動距離:30mm
・垂直荷重:500g重
・移動速度:50mm/秒
・接触子:5mm×15mm角のネオプレーンゴム
評価するSUS304基材上の膜に下記の接触子を所定の荷重をかけながら、次の条件で10往復移動した後で、基材上の膜が基材から剥離しないか否かを目視で調べた。膜が剥離しない場合を『良好』とし、剥離した場合を『不良』とした。
(a) 測定器:静・動摩擦測定機TL201Tt(株式会社トリニティーラボ)
(b) 測定条件:
・移動距離:30mm
・垂直荷重:500g重
・移動速度:50mm/秒
・接触子:5mm×15mm角のネオプレーンゴム
(6) 膜の基材への密着性
評価するSUS304基材上の膜に碁盤目状に1mm幅のクロスカットを施し、その碁盤目状にクロスカットされた膜に粘着テープ(ニチバン社製、商品名「セロテープ(登録商標)」)を貼り、JISK5600-5-6(クロスカット法)の碁盤目テープ法に準拠してセロテープ(登録商標)剥離試験(以下、単に剥離試験という。)を行った。クロスカットを施したマス目100個を分母で表し、剥離試験後に基材上に残存するマス目の数を分子で表した。マス目100個に対して残存したマス目の割合が95個以下の場合を密着が『不良』とし、95個を超える場合を密着性が『良好』とした。
評価するSUS304基材上の膜に碁盤目状に1mm幅のクロスカットを施し、その碁盤目状にクロスカットされた膜に粘着テープ(ニチバン社製、商品名「セロテープ(登録商標)」)を貼り、JISK5600-5-6(クロスカット法)の碁盤目テープ法に準拠してセロテープ(登録商標)剥離試験(以下、単に剥離試験という。)を行った。クロスカットを施したマス目100個を分母で表し、剥離試験後に基材上に残存するマス目の数を分子で表した。マス目100個に対して残存したマス目の割合が95個以下の場合を密着が『不良』とし、95個を超える場合を密着性が『良好』とした。
(7) カルキ付着防止性
純水に、35%塩酸を用いて、pH4に調整した水溶液を100g準備し、炭酸カルシウム1.5mgを添加し、撹拌、溶解した。得られた炭酸カルシウム水溶液100μLを、評価するSUS304基材上の塗膜に滴下し、室温で5時間乾燥して滴下跡の状態を観察した。次亜塩素酸カルシウムからなるカルキの跡がほぼないものを『良好』とし、滴下した跡がカルキとして残っているものもしくは、白く変色しているものを『不良』とした。
純水に、35%塩酸を用いて、pH4に調整した水溶液を100g準備し、炭酸カルシウム1.5mgを添加し、撹拌、溶解した。得られた炭酸カルシウム水溶液100μLを、評価するSUS304基材上の塗膜に滴下し、室温で5時間乾燥して滴下跡の状態を観察した。次亜塩素酸カルシウムからなるカルキの跡がほぼないものを『良好』とし、滴下した跡がカルキとして残っているものもしくは、白く変色しているものを『不良』とした。
表6から明らかなように、比較例1の液組成物では、フッ素含有官能基成分の割合が0.3質量%と少な過ぎたため、干渉縞はなく外観は良好で、膜の強度及び膜の基材への密着性は良好であったが、n-ヘキサデカンが転落せず防汚性と撥水撥油性に劣り、更にカルキの付着を防止する防汚機能に劣っていた。
また比較例2の液組成物では、フッ素含有官能基成分の割合が10.2質量%と多過ぎたため、撥水撥油性に優れていたが、n-ヘキサデカンの転落角が比較的高く防汚性がやや劣っていた。また膜の外観は塗膜に筋やムラがあり不良であった。また膜の強度が低く、膜の基材への密着性が不良であった。更にカルキの付着を防止する機能に劣っていた。
また比較例3の液組成物では、層状無機化合物の割合が0.2質量%と少な過ぎたため、撥水撥油性及び防汚性に優れ、膜の基材への密着性及びカルキの付着防止性が良好であったが、干渉縞があり膜の外観は不良であった。また膜の強度が低かった。
また比較例4の液組成物では、フッ素含有シリカゾルゲルが77.0質量%と少な過ぎたため、撥水撥油性及び防汚性に優れていたが、干渉縞はなかったが、膜が白濁化しており膜の外観は不良であった。フッ素含有シリカゾルゲルはバインダー成分であるため、膜の強度及び膜の基材への密着性が低かった。またカルキの付着を防止する機能に劣っていた。
また比較例5の液組成物では、フッ素含有シランとして、ペルフルオロアミン構造を持つ含窒素フッ素系化合物を用いたため、撥水撥油性と防汚性に優れ、膜の強度及び膜の基材への密着性は良好であったが、カルキの付着を防止する機能に劣っていた。また干渉縞はなかったが、塗布ムラや塗布筋が若干みられたため、膜の外観は可であった。
また比較例6の液組成物では、フッ素含有シリカゾルゲルの割合が99.4質量%と多過ぎたため、干渉縞はなく外観は可で、膜の基材への密着性も良好であったが、撥水撥油性と防汚性に劣り、膜の強度が低かった。またカルキの付着を防止する防汚機能に劣っていた。
更に比較例7の液組成物では、層状無機化合物の割合が21.0質量%と多過ぎたため、膜が白濁化しており膜の外観は不良であった。また撥水撥油性及び防汚性に劣り、膜の強度は低く、膜が基材から剥離し、カルキの付着防止性も不良であった。
これに対して、表6から明らかなように、実施例1~6の液組成物では、干渉縞や塗布ムラ、塗布筋の発生は無く膜の外観は良好であった。また塗膜の撥水撥油性、n-ヘキサデカンは転落せず、膜の強度、膜の基材への密着性、カルキの付着防止性はすべて良好もしくは可であった。特に層状無機化合物を所定の割合で含むことにより、液組成物の粘性た高まり、膜表面の塗布ムラ、塗布筋等が無くなり、膜の外観がより良好になり、更に膜の強度がより高まった。
本発明の防汚性膜形成用液組成物は、機械油を使用する工場、油が飛散する厨房、油蒸気が立ちこめるレンジフード、換気扇、冷蔵庫扉等において、油汚れを防止する分野に用いられる。
Claims (2)
- シリカゾルゲルを主とする成分並びに溶媒を含む防汚性膜形成用液組成物において、
前記溶媒を除く前記防汚性膜形成用液組成物中、前記シリカゾルゲルを78質量%~99質量%と、下記の一般式(1)又は(2)で示されるペルフルオロエーテル構造のフッ素含有官能基成分を0.5質量%~10質量%と、層状無機化合物を0.5質量%~20質量%含み、
前記溶媒が、水と炭素数1~4のアルコールとの混合溶媒であるか、或いは水と炭素数1~4のアルコールと前記炭素数1~4のアルコール以外の有機溶媒との混合溶媒であることを特徴とする防汚性膜形成用液組成物。
- 前記層状無機化合物が、モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ソーコナイト、スティブンサイト又はバーミキュライトである請求項1記載の防汚性膜形成用液組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020158129A JP2022052008A (ja) | 2020-09-23 | 2020-09-23 | 防汚性膜形成用液組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020158129A JP2022052008A (ja) | 2020-09-23 | 2020-09-23 | 防汚性膜形成用液組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022052008A true JP2022052008A (ja) | 2022-04-04 |
Family
ID=80949027
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020158129A Pending JP2022052008A (ja) | 2020-09-23 | 2020-09-23 | 防汚性膜形成用液組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2022052008A (ja) |
-
2020
- 2020-09-23 JP JP2020158129A patent/JP2022052008A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110268025B (zh) | 用于形成膜的液体组合物和其制造方法 | |
US11066517B2 (en) | Processes for producing fluorinated ether compounds | |
JP5716675B2 (ja) | 電極保護膜形成剤 | |
CN1860196A (zh) | 具有低折射率及斥水性的覆膜 | |
KR20020068268A (ko) | 중합체 조성물, 경화 제품, 적층물 및 경화 제품의 제조방법 | |
JP6319905B2 (ja) | 被膜形成用組成物及びその製造方法、並びに被膜 | |
JP6753765B2 (ja) | 膜形成用液組成物 | |
JP2017171701A (ja) | 被膜形成用組成物及びその製造方法、並びに被膜 | |
WO2020099290A1 (en) | Easy to clean coating | |
JP2007146031A (ja) | 硬化性ポリメチルシロキサン樹脂、その製造方法、硬化性ポリメチルシロキサン樹脂組成物及びその硬化被膜を有する物品 | |
JP7266438B2 (ja) | 防汚性膜形成用液組成物 | |
JP2022052008A (ja) | 防汚性膜形成用液組成物 | |
JP7231422B2 (ja) | 防汚性膜 | |
JP2022061541A (ja) | 防汚性膜形成用液組成物 | |
JP7177889B2 (ja) | 膜形成用液組成物 | |
JP2019070071A (ja) | 硬化性組成物及びその利用 | |
JP7356801B2 (ja) | 油浸透防止膜形成用液組成物 | |
JP2011006653A (ja) | 硬化被膜付き基材 | |
JP2021143220A (ja) | オルガノポリシロキサン、コーティング組成物および被覆物品 | |
JP2022523963A (ja) | 保護コーティング組成物およびそれを含むコーティングされた金属基材 | |
JP6713340B2 (ja) | 膜形成用液組成物及びその製造方法 | |
US11370937B2 (en) | Protective coating composition and coated metallic substrate comprising same | |
TW201710396A (zh) | 有機無機複合體 | |
JP2022017640A (ja) | 撥水撥油性膜形成用液組成物及びその製造方法 | |
CA3180684A1 (en) | Curable condensation compounds based on alkoxy-functional polysiloxanes |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20220427 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230622 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240305 |