JP2022046385A - ハニカム構造による地盤改良工法、地盤改良体 - Google Patents
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Abstract
Description
また、本発明の他の目的は、改良目的に適した効率的かつ経済的な構造の地盤改良体を提供することにある。
なお、円形部の造成径をより小さく設定する場合は、さらに回転速度を高め毎分30回転以上に設定することが望ましい。
この「三ツ矢」形の改良体は、従来の施工技術による2工程、すなわち異なる噴射仕様により、工程1で注入ロッドの揺動施工による羽根部の造成、工程2で注入ロッドの回転施工による円形部の造成を行うことで造成が可能である。しかし、2工程になることで施工能率は大きく低下するため、一連の施工による施工性の向上度は非常に高いと考えられる。
なお、回転角度を大きくすると羽根部の先端部の広がりが必要以上に大きくなり、改良率が高くなることで経済的な優位性が低くなるおそれがある。本発明ではこの問題を以下のような方法で解決している。
まず、中心部付近に円柱状の改良体を造成することにより中心部付近の羽根部の薄さを補う。上記の特性を持つ噴射流において円形部の直径を150cmとした場合、羽根部の根元に当たる中心から75cm離れた位置の噴射流の径(羽根部の厚さ)は、7.5cmになる。さらに、先端噴射装置に装着する3つの噴射口の位置を中心軸から左右に偏心させ、それぞれの噴射口による3回の噴射により羽根部の改良体を造成する。これにより噴射流の軸が左右に振れた3本となり、偏心距離をそれぞれ2cmとした場合、中心から75cm離れた位置の羽根部の厚さは4cm増加し11.5cmとなる。加えて、羽根部の造成時間で注入ロッドを10°回転させれば、羽根部の根元の厚さは25cmにすることができる。これらの根拠となる模式図を図7と図8に、1ステップ当りの造成フローを図9に、羽根部厚さ拡大の検討結果を表2に示す。なお、実施工では、噴射流による地盤の浸食により改良体の厚さはさらに数cm増加する。
噴射流と混合攪拌のイメージを図10に示す。
はじめに、本発明の地盤改良工法により造成するハニカム構造の地盤改良体について説明する。ハニカム構造の地盤改良体を図6に例示する。また、ハニカム構造の地盤改良体の1ユニットをなす柱状改良体を図5に例示する。
・平面視で柱状改良体の中心に位置する円形部(シャフト部)と、
・円形部より3方向に伸びる羽根部(ブレード部)を
有している。
3方向に伸びる羽根部は、本実施形態では、平面視で略等角度間隔(略120°間隔)で形成されている。なお、3方向に伸びる羽根部の間隔は、必ずしも120°に限定されるものではない。すなわち、造成する地盤改良体(複数の柱状改良体が連結したもの)が平面視で実質的にハニカム構造を構成するものであれば、3方向に伸びる羽根部の間隔(角度)は特に限定されない。
高圧噴射攪拌工法に用いる先端噴射装置は、地盤中に挿入する注入ロッドの先端に装着して用いる装置である。
つまり、噴射口Aは、その噴射流の中心が、中心軸aより(噴射口Bとは逆側に)偏心して配置した構造となっている。噴射口Bは、中心軸bより(噴射口Aとは逆側に)偏心して配置した構造となっている。噴射口Cは、その噴射流の中心が中心軸cに一致するように配置した構造となっている。
なお、ここでいう中心軸a,b,cは、先端噴射装置の中心軸xに対し直交する円形平面を略3等分(略等角度間隔で3分割)する仮想線である。図7に例示する実施形態では中心軸a,b,cは120°間隔で描かれているが、噴射口A,B,Cの配置基準となる中心軸a,b,cの間隔は120°に限定されるものではなく、120±数°程度(例えば110°~130°の範囲内、あるいは115°~125°の範囲内)の間隔であっても、本発明の技術的範囲に含まれる。
次に、前述したハニカム構造の地盤改良体を造成する地盤改良工法について説明する。
羽根部の造成時には、地盤中に挿入した注入ロッドを低速回転(例えば毎分6回転以下の低速で回転)させつつ、その先端に取り付けた先端噴射装置から地盤改良材(固化材スラリー)及び圧縮空気を高圧で噴射する。
円形部の造成時には、地盤中に挿入した注入ロッドを高速回転(例えば毎分20回転以上の高速で回転)させつつ、その先端に取り付けた先端噴射装置から地盤改良材(固化材スラリー)及び圧縮空気を高圧で噴射する。
そのため、図7、図8に例示するように、ひとつの羽根部の造成にあたっては、噴射口A,B,Cによる3回の噴射により羽根部の造成が行われる。なお、図7に例示する実施形態では、噴射口A,B,Cからの各噴射流の到達距離を平面視で等しく描いているが、必ずしもすべての噴射流の到達距離を等しく設定する必要はなく、例えば図10に例示するように実噴射口Cからの噴射流の到達距離を他より短くしてもよい。
Claims (6)
- ロッド先端に取り付けた先端噴射装置から地盤改良材を高圧で噴射して地盤中に改良体を造成する高圧噴射攪拌工法を用いた地盤改良工法であって、
平面視で改良体中心に位置する円形部と前記円形部より3方向に伸びる羽根部を持つ柱状改良体を一連の噴射で造成する柱状改良体造成工程を含んでおり、
前記柱状改良体造成工程を繰り返して、複数の柱状改良体が一定間隔で配置されるように造成するとともに、隣り合う柱状改良体が羽根部を介して連結するように複数の柱状改良体を造成することによって、地盤中にハニカム構造の地盤改良体を造成することを特徴とする地盤改良工法。 - ロッドを回転させつつ地盤改良材を高圧噴射する柱状改良体造成工程において、
回転の一時停止または低速回転での噴射による羽根部の造成と、
高速回転での噴射による円形部の造成を
連続的に行うことを特徴とする請求項1記載の地盤改良工法。 - 高圧噴射攪拌工法の先端噴射装置は、平面的に見て中心より角度を略3等分した3方向に配置した噴射口を有しており、
ロッドを回転させつつ地盤改良材を高圧噴射する柱状改良体造成工程において、
回転の一時停止または毎分6回転以下の低速回転での噴射による羽根部の造成と、
毎分20回転以上の高速回転での噴射による円形部の造成を
連続的に行うことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の地盤改良工法。 - 高圧噴射攪拌工法の先端噴射装置に配置する3つの噴射口は、それぞれが、中心軸上に配置、中心軸より右に偏心して配置、中心軸より左に偏心して配置した構造であり、
ひとつの羽根部をそれぞれの噴射口による3回の噴射により柱状改良体を造成することを特徴とする請求項1乃至3の何れか記載の地盤改良工法。 - 高圧噴射攪拌工法の先端噴射装置に配置する3つの噴射口のうち、
2つの噴射口を地盤切削用とし、
1つの噴射口を羽根部改良体内の混合攪拌用とする、
ことを特徴とする請求項1乃至4の何れか記載の地盤改良工法。 - 一定間隔で配置された複数の柱状改良体が地盤中で連結することで構成されるハニカム構造の地盤改良体であって、
ハニカム構造の地盤改良体を構成する各柱状改良体は、
平面視で柱状改良体の中心に位置し、羽根部の厚みよりも大きな直径の円形部と、
前記円形部より3方向に伸びる羽根部と、
を有することを特徴とするハニカム構造の地盤改良体。
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