JP2022045865A - 脱臭装置及び脱臭方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 臭気成分を有する臭気性ガスを効果的に脱臭する脱臭装置及びそれを用いた脱臭方法を提供する。【解決手段】臭気性ガスＧと薬液５とを混合させる脱臭塔１の内部に薬液５を放出する薬液放出部４と、臭気性ガスＧに含まれる臭気成分の濃度を測定する検出器Ｓと、薬液放出部４に薬液５を供給する薬液供給装置と、薬液を外部に排出する薬液排出装置と、薬液供給装置及び薬液排出装置を制御する制御装置３３とを備える。そして、制御装置３３は、臭気成分の濃度に基づいて薬液の排出量を制御する。【選択図】 図１

Description

本発明は、例えばし尿処理場、下水処理場等において発生する臭気成分を含むガスを処理する脱臭装置及び脱臭方法に関する。

し尿処理場、下水処理場等において発生するガスには、一般に、アンモニアや硫化水素、メチルメルカプタン、硫化メチル、二硫化メチル等の硫黄系臭気成分が含まれている。臭気成分を含むガス（以下、臭気性ガスと称することがある）を処理する脱臭装置の１つとして、脱臭塔内で循環する薬液をガス中の臭気成分と反応させ、臭気成分を除去する湿式脱臭装置が知られている。

従来の湿式脱臭装置では、長期間の運転により、ガス中の臭気成分と薬液との反応生成物が「塩」として装置内に沈殿物として蓄積することがある。そのため、定期的に薬液の少なくとも一部を交換する必要がある。一方、ガス中の臭気成分の濃度は、一般的には時間的に一定ではなく、例えば季節や時間帯により変化する。そのため、脱臭装置は、その脱臭処理条件、特に薬液を循環させる条件を、想定される最大濃度の臭気成分を含むガスを脱臭可能な条件に常に固定して、運転されている。
そして、定期交換の頻度や交換部品の仕様を決定するため、臭気成分の濃度の時間変化を計測し、計測値を記録装置（データロガー）に記録して、季節や時間帯を通じた臭気成分の濃度の変動について傾向を分析することが一般的である。この場合、データロガーに記録されたデータは、データ量などにもよるが例えば１か月間といった比較的長期間の運転を経た後に回収され、分析される。

一方、ガス中の臭気成分の濃度の変動に対応し、薬液の循環量を制御する技術が知られている。例えば、特許文献１には、１５分～６０分間隔で被処理ガスに含まれる臭気成分の濃度をモニタリング（測定）し、臭気強度（濃度）に応じて、霧化部１５にて発生させる「ナノミストの供給量」を調節する脱臭装置が開示されている。

特開２０１４－１６８７２６号公報 特開２００８－３６５１３号公報 特開２０１９－７２６９１号公報

しかし、薬液の濃度を一定間隔でモニタリングして「供給量」を制御することにより通常運転時の過剰な薬液の使用量を低減することはできるが、臭気成分の除去にともない脱臭効果（除去効果）が経時的に劣化することにより発生する脱臭効率の低下を防ぐことはできない。また、脱臭効果を回復させるためにメンテナンス頻度を上げることは、経済的にも効率が悪い。

本発明は、長期間の運転による脱臭効率の低下を軽減することを主たる目的とし、また、急激な濃度の変動（増大）に対しても応答性よく脱臭処理を行うことが可能な脱臭装置及び脱臭方法を提供することを目的とする。

本発明に係る脱臭装置は、
臭気性ガスと薬液とを混合する脱臭塔と、
前記脱臭塔の内部に設置された薬液放出部と、
前記脱臭塔に流入する前記臭気性ガスに含まれる臭気成分の濃度を測定する検出器と、
前記薬液放出部に前記薬液を供給する薬液供給装置と、
前記薬液を外部に排出する薬液排出装置と、
前記薬液供給装置及び前記薬液排出装置を制御する制御装置とを備え、
前記制御装置は、
前記検出器の出力する臭気成分の濃度に基づいて前記薬液の排出量を制御することを特徴とする。

上記構成のように、「臭気成分の濃度」をリアルタイムに測定しつつ、「臭気成分の濃度」と「薬液の排出量」とを関連づけて制御したことにより、臭気成分の濃度が低いときには薬液の排出量が抑えられ、逆に臭気成分の濃度が高いときには濃度に応じた薬液が排出される。そのため、脱臭装置の稼働中に臭気成分の濃度変化に応じて装置内を循環する薬液が交換され、装置全体でみれば、長期間運転を継続しても反応生成物の蓄積が抑えられる。また、日々の運転についても、薬液の濃度測定の周期（サンプリング周期）を短く設定すれば、突発的な臭気成分の濃度の増大に対しての応答性が向上し、薬液のロスが最小限に抑えられ、薬液のランニングコストを低減できる。なお、「外部に排出」とは、脱臭装置の系外に排出するとの意である。

上記脱臭装置において、臭気成分の濃度が、予め定められた期間における濃度の積算値であるように構成してもよい。

上記脱臭装置における臭気成分の影響は、測定器が示す現時点の濃度でなく、過去の濃度が加算された積算値として現れてくるためである。特に、反応生成物などの蓄積がある場合には、その傾向が強く出ると考えられる。

このような脱臭装置によれば、臭気成分の濃度の積算値に基づいて薬液を部分的に排出し、臭気性ガスと薬液との反応で生成されうる「塩」の濃度を低減することにつながり、薬液の脱臭効率の低下を軽減する効果を長期間に亘り維持することが可能となる。

また、本発明に係る脱臭装置は、
前記検出器の出力する臭気成分の濃度に基づいて前記薬液の前記薬液放出部への流量を制御することを特徴とする。

このように、薬液放出部への薬液の流量を臭気成分の濃度の変化に合わせて制御することで、さらに効率的に脱臭することが可能な脱臭装置を提供できる。例えば、臭気成分の濃度に応じて脱臭装置内を循環する流量を一時的に増大させたり減少させたりできる利点がある。

また、上記構成において、前記脱臭装置は、
充填剤を備えた充填部を更に具備すると共に、前記充填部と前記薬液放出部とで反応モジュールを構成し、
前記脱臭塔の内部に前記反応モジュールが複数設けられ、
前記制御装置は、前記検出器の出力する臭気成分の濃度に基づいて、前記薬液放出部のそれぞれに対する前記薬液の流量を制御することを特徴とする。

このような構成によれば、薬液の劣化を考慮して循環する薬液中の薬品成分（臭気成分により変わるが、例えば硫黄系臭気成分であれば次亜塩素酸ナトリウム等）の濃度を常時高くしておく必要がなくなり、薬品のランニングコストを抑えることができる。

このような構成とすることで、脱臭塔内に多段に設けた反応モジュールにおけるそれぞれの薬液放出部に流れ込む薬液の供給流量を、臭気成分の濃度に合わせて調整できるため、突発的な臭気成分の濃度の増大に対しての応答性が向上し、かつ、薬液を効率的に利用することができ、薬液のランニングコストを低減できる。

また、本発明に係る脱臭装置は、
前記検出器は所定のサンプリング周期で臭気成分の濃度を測定し、
前記制御装置は、前記サンプリング周期より長い時間間隔で前記検出器の出力する臭気成分の濃度を積算することを特徴とする。

このような構成とすることで、臭気成分の濃度の変化に即時に対応が可能であるとともに、薬液の過剰な損失を防止し、効率的に臭気性ガスの脱臭が可能な脱臭装置を提供できる。

また、本発明に係る脱臭装置は、
前記薬液に薬品成分を供給する薬品成分供給装置を備え、
前記制御装置は前記薬品成分供給装置を制御し、
前記検出器の出力する臭気成分の濃度に基づいて前記薬液に供給する前記薬品成分の量を制御することを特徴とする。

また、本発明に係る脱臭装置は、
前記薬品成分は次亜塩素酸ナトリウムであり、前記薬品成分供給装置は、電解槽を含むことを特徴とする。

このような構成とすることで、臭気成分の濃度の変化に対して、薬液に供給する薬品成分の量を変更することができ、適格な脱臭効果を有する薬液を供給することが可能である。さらに、薬品成分として次亜塩素酸ナトリウムを採用した場合、次亜塩素酸ナトリウムを電解槽により生成することも可能であり、そのような構成において、次亜塩素酸ナトリウムの供給量の制御性を向上させることができる。

本発明に係る脱臭方法は、
臭気成分を含む臭気性ガスを脱臭塔内で薬液と反応させて脱臭する脱臭方法であり、
前記脱臭塔に流入する臭気性ガスに含まれる臭気成分の濃度を検出器により測定する工程と、
前記臭気成分の濃度に基づいて前記脱臭塔から前記薬液の排出量を制御することを特徴とする。

また、本発明に係る脱臭方法は、
前記検出器が測定した臭気成分の濃度に基づいて前記脱臭塔に放出する前記薬液の流量を制御する工程を更に含むことを特徴とする。

また、本発明に係る脱臭方法は、
前記検出器が測定した臭気成分の濃度に基づいて前記薬液に供給する次亜塩素酸ナトリウムの量を制御する工程を更に含むことを特徴とする。

このような脱臭方法とすることで、臭気成分の濃度に合わせて適格な条件で脱臭処理が可能であるとともに、薬液の脱臭効果の劣化を低減することができる。また、臭気性ガスの脱臭処理にかかるコストの低減又は操作者の作業負担の低減が可能となる。

また、本発明に係る脱臭方法は、
充填剤を備えた充填部を更に具備すると共に、前記充填部と前記薬液放出部とで反応モジュールを構成し、
前記脱臭塔の内部に前記反応モジュールが複数設けられ、
前記検出器が測定した臭気成分の濃度に基づいて選択された前記反応モジュールの前記薬液放出部に前記薬液を供給する工程を含むことを特徴とする。

また、本発明に係る脱臭方法は、
前記薬液放出部から放出する前記薬液の流量を幾何学的最適流量範囲で制御する工程を含むことを特徴とする脱臭方法。

このような脱臭方法とすることで、臭気性ガスの脱臭に使用される薬液の利用効率を向上させることで、脱臭効率を向上させることができる。

本発明に係る測定ユニットは、脱臭装置に取り付け可能な臭気成分の濃度を計測し、その時間変化を記録するための計測ユニットであって、
電源用コネクタ及び検出器用コネクタを有する筐体を備え、
前記筐体内には、直流電源と検出器用制御回路とデータロガーとを有し、
前記直流電源は前記電源用コネクタを介して供給される交流電力を直流電力に変換し前記検出器用制御回路に供給し、
前記検出器用制御回路は前記検出器用コネクタ介して接続される検出器に電力を供給するとともに、前記検出器からの信号を受信し、前記データロガーに出力し、
前記データロガーは前記検出器用制御回路から入力した信号をデータとして記録することを特徴とする。

また、本発明に係る測定ユニットは、
前記筐体は窓を有し、
前記測定ユニットは表示装置を有し、
前記表示装置は、前記データを表示可能であり、前記表示装置は前記窓から視認可能であることを特徴とする。

また、本発明に係る測定ユニットは、
前記筐体は本体部と、前記本体部に開閉可能に支持された蓋部とを有し、
前記窓は前記蓋部に設けられ、
前記本体部に前記電源用コネクタ及び前記検出器用コネクタが設けられていることを特徴とする。

このような測定ユニットを脱臭装置の検出器に接続することで、容易にガスＧの臭気成分濃度の時間変化を測定することが可能となる。それにより、各種の脱臭装置のメンテナンス、状態診断、性能比較、脱臭条件の最適化や検出器の校正等にも利用可能となるほか、本発明に係る脱臭装置の制御機能を有しない脱臭装置に本発明に係る制御機能を取り付けた場合の効果を事前に見積もることも可能となる。

本発明に係る脱臭装置及びそれを用いた脱臭方法によれば、長期間の脱臭効率の低下を軽減することを可能とし、また臭気成分の濃度が変化する臭気性ガスを効率的に脱臭することが可能となる。

脱臭装置の主要な構成を示す模式図。 脱臭装置の次亜塩素酸ナトリウム供給装置の構成例を示す模式図。 ガスＧに含まれる臭気性成分の濃度の時間変化（一日の変化）を示すグラフ。 脱臭塔の内部において循環する薬液流量及び脱臭塔の外部に排出する薬液排出量の変化を示すグラフ。 脱臭塔の内部において循環する薬液５の薬品成分濃度、ガスＧの臭気成分濃度及び脱臭塔の外部に排出する薬液排出量（流量）の変化を示すグラフ。 ガスＧに含まれる臭気成分の濃度の変動例を示すグラフ。 実施形態２の脱臭装置１００の主要構成を示す概念図。 図８（ａ）は、１つの充填部６における薬品成分濃度の分布を示すグラフであり、図８（ｂ）は、第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂから構成される２つの充填部における薬品成分濃度の分布を示すグラフ。 薬液放出部４から放出される薬液５の放出角の、薬液５の流量依存性を示し、図９（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の順に薬液５の放出量が増大する。 図１０（ａ）、（ｂ）は、それぞれ薬液５の薬液放出部４からの放出分布と円筒形の充填部６との幾何学的関係を模式的に示す斜視図及び断面図。 脱臭装置１００と従来の脱臭装置９９との性能比較実験のための構成を示す模式図。 脱臭装置１００において、次亜塩素酸濃度、入口硫化水素平均濃度、薬液排出量の経時変化を例示するグラフ。 脱臭装置１００の脱臭効果を検証するための装置構成例を示す図。 測定ユニット５０の構成を示す図であり、図１４（ａ）は測定ユニット５０の回路構成図を示し、図１４（ｂ）は測定ユニット５０の外観平面図、図１４（ｃ）は測定ユニット５０の外観斜視図である。

以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は、いずれも本発明の要旨の認定において限定的な解釈を与えるものではない。また、同一又は同種の部材については同じ参照符号を付して、説明を省略することがある。

（実施形態１）
＜装置構成＞
図１は、本発明の一実施形態における脱臭装置１００の構成を示す。図１に示すように、脱臭装置１００は脱臭塔１を備えており、薬液と臭気性ガスとを混合し、反応させて脱臭する湿式脱臭装置である。
処理対象である臭気成分を含む被処理ガスＧ（例えばアンモニア、硫化水素等の硫黄系の臭気成分を含む臭気性ガス）は、脱臭塔１のガス流入口２から取り入れられ、第１の配管３により脱臭塔１内部に誘導される。以下、臭気性ガスである被処理ガスＧをガスＧと称する。
脱臭塔１内部に誘導されたガスＧは、第１の配管３の開口端部３ａから放出され、脱臭塔１の上方に進む。
なお、第１の配管３に更にファンを設け、ガスＧを誘導してもよい。

脱臭塔１のガスＧの流入側である第１の配管３には、臭気成分の検出器Ｓ（ガス検知器）が設置されている。検出器Ｓは、ガスＧに含まれる臭気成分の濃度を常時測定し、監視することができるガス濃度測定器である。
以下では、検出器Ｓとして、硫化水素センサを使用し、薬品として次亜塩素を使用した例について説明するが、その例に限定されるものではない。検出器Ｓとしてアンモニアセンサ、アルデヒドセンサ等を使用することができる。例えば、アンモニアセンサを用いて酸洗浄塔についても同様の装置構成及びその制御が可能である。また、アルデヒドセンサを用いてアルデヒド用洗浄塔についても同様である。薬液５に使用する薬品は、処理対象のガスＧに含まれる臭気成分に応じて、適宜に公知の薬品を採用することができる。

薬液放出（噴射）部４（例えばスプレーノズル）からは、ガスＧと反応する（例えば次亜塩素酸ナトリウムを含む）薬液５が放出（噴射）される。薬液放出部４と後述する循環薬液槽９との間の領域は、ガスＧに含まれる臭気成分と薬液５とが混合され化学反応する反応部を構成する。
放出された薬液５は、薬液放出部４の下方に位置する充填部６へ供給される。充填部６は多孔質セラミックやプラスチック等からなり、薬品５とガスＧとの反応を促進する触媒である充填剤を備える。特に酸化能力が高い酸化触媒としては、既知の多孔性湿式セラミック酸化触媒を好適に使用することができる。薬液放出部４とその直下に設けられた充填部６との組み合わせは、ガスＧと薬液５とを反応させるための反応モジュールを構成する。
なお、視認性のため薬液５は図において省略している。

放出された薬液５は、充填剤の表面でガスＧと接触し、後述するように、ガスＧに含まれる臭気成分と化学反応する。薬液５と反応した臭気成分は、薬液５とともに下方に移動（落下）する。

薬液５により脱臭されたガスＧは、上方に設置されたデミスター７を介して流出口８から脱臭塔１の外部に流出する。
デミスター７は、例えばメッシュ状ワイヤから構成され、ガスＧに含まれる（薬液５の）ミストを除去する気液分離器である。デミスター７により分離された薬液５は、下方に移動（落下）する。

ガスＧと反応した薬液５は、充填部６の下方に位置する循環薬液槽（薬液貯留部）９に貯留される。
循環薬液槽９に設けられた第１の排出口１０（循環用排出口）には、第２の配管１１が接続され、第２の配管１１は、脱臭塔１の外部に設けられた第１のポンプ１２の流入口に接続されている。第１のポンプ１２の流出口（薬液５の吐出部）には、第３の配管１３が接続されている。
第１のポンプ１２は薬液を循環させ反応部に供給する薬液循環ポンプであり薬液供給装置として機能する。

第３の配管１３は、分岐部１４において、第４の配管１５と第５の配管１６とに分岐されてもよい。第４の配管１５は、脱臭塔１の導入口１７を介し、薬液放出部４に接続されている。
また分岐部１４において、第４の配管１５及び第５の配管１６に、それぞれ（図示しない）バルブを設け、各バルブの開度により、第４の配管１５と第５の配管１６とに流れ込む薬液５の分配比を調整してもよい。
第２の配管１１、第３の配管１３及び第４の配管１５は、ガスＧと反応させるために薬液５を循環させるための循環用配管を構成する。

第４の配管１５には流量計１８が設けられている。第４の配管１５を流れる薬液５の流量は、流量計１８により測定され、監視することができる。
また、第３の配管１３にはｐＨ計１９が設けられており、循環する薬液５のｐＨを測定し、監視することができる。

第５の配管１６には次亜塩素酸濃度計２０が設けられており、第５の配管１６を流れる薬液５の次亜塩素酸濃度を測定し、監視することができる。第５の配管１６は、導入口２１を介して脱臭塔１内の循環薬液槽９の上部に延び、薬液５を循環薬液槽９に導く。
従って、第５の配管１６は、循環する薬液５の一部をサンプリングする。

薬液５は、第１のポンプ１２により、循環薬液槽（薬液貯留部）９、第２の配管１１、第３の配管１３、第４の配管１５及び薬液放出部４からなる第１の流路（脱臭用循環流路）と、循環薬液槽（薬液貯留部）９、第２の配管１１、第３の配管１３及び第５の配管１６からなる第２の流路を循環する。第１の流路が主の流路であり、第２の流路は薬液５の一部をサンプリングする副の流路である。
循環する薬液５の流量（又は薬液放出部４に薬液５を供給する流量）は、第１のポンプ１２により制御可能である。

さらに、循環薬液槽９には、第２の排出口２２（外部排出口）が設けられている。第２の排出口２２は、第６の配管２３により、第２のポンプ２４の流入口に接続され、第２のポンプ２４の排出口は、排液管（ドレーン）２５に接続されている。
循環薬液槽９に貯留された薬液５は、第２のポンプ２４により脱臭装置１００の外部に排出される。
第２のポンプ２４は、第６の配管２３中を流れる薬液５の流量を制御することで、薬液５の排出量を制御して排出する薬液排出装置として機能する。
なお、第１の排出口１０を分岐し第６の配管２３に接続してもよいが、薬液５の流量制御の観点から第２の排出口２２を独立して設けることが好適である。

第６の配管２３に薬液５の流量制御のためのバルブと流量計を設けてもよい。また、第２のポンプ２４を使用せずサイホンの原理を用い薬液を排出してもよい。この場合、バルブと流量計を備えたサイホンを構成する第６の配管２３が薬液排出装置として機能する。

脱臭装置１００は、一例として薬品（次亜塩素酸ナトリウム）供給装置２６を備えている。次亜塩素酸ナトリウム供給装置２６は第７の配管２７に接続され、第７の配管２７は脱臭塔１の導入口２８を介して脱臭塔１内に延びる。次亜塩素酸ナトリウム供給装置２６は第７の配管２７を介して脱臭塔１内の循環薬液槽９に次亜塩素酸ナトリウムを供給する。
次亜塩素酸ナトリウムは、図示しないタンクからポンプにより供給することも可能であるが、後述するように、塩化ナトリウム水溶液を電解槽において電気分解することで供給してもよい。
次亜塩素酸ナトリウム供給装置２６は、後述する制御装置３３により制御され、次亜塩素酸濃度計２０の出力に基づいて、薬液５中の次亜塩素酸ナトリウムの濃度を所定の範囲、例えば４００～５００［ｐｐｍ］になるように制御することができる。

薬液５のｐＨ値は次亜塩素酸ナトリウム供給装置２６により供給される次亜塩素酸ナトリウムの濃度によっても制御可能であるが、次亜塩素酸ナトリウム供給装置２６のみによりｐＨ値を迅速に上げることが困難な場合、苛性ソーダ等のアルカリ溶液を注入し、ｐＨ値を制御してもよい。
そのため、脱臭装置１００は、アルカリ溶液を収容するタンク２９を備え、タンク２９には第８の配管３０が接続されてもよい。第８の配管３０は脱臭塔１の導入口３１を介して脱臭塔１内に延びる。第８の配管３０には第３のポンプ３２が設置されている。第３のポンプ３２はタンク２９内の苛性ソーダ等のアルカリ溶液を脱臭塔１の循環薬液槽９に注入することができる。
このようにタンク２９及び第３のポンプ３２はアルカリ溶液供給装置を構成するとともにｐＨ値調整装置としても機能する。第３のポンプ３２は、後述する制御装置３３により制御され、ｐＨ計１９の出力に基づいて、薬液５中のｐＨ値を制御できる。
従って、脱臭装置１００は、次亜塩素酸ナトリウム供給装置２６及び／又はタンク２９と第３のポンプ３２との組み合わせからなるアルカリ溶液供給装置により、薬液５のｐＨ値を、例えば７．０～７．８の所定の範囲に維持できる。

脱臭装置１００は、制御装置３３を備えており、各検出器からの信号を入力し、各ポンプ等の機器の制御を実行し、脱臭装置１００の運転を制御することができる。

脱臭塔１の入口側に設置された検出器Ｓ（例えば硫化水素センサ）は第１の信号線３４（センサ用信号線）により制御装置３３と接続されている。検出器Ｓの出力は、第１の信号線３４を介して制御装置３３に入力されており、制御装置３３はガスＧに含まれる臭気成分の濃度を監視し、また制御装置３３の記録装置に記録することができる。
同様に、流量計１８、ｐＨ計１９及び次亜塩素酸濃度計２０は、それぞれ第２の信号線３５（流量計用信号線）、第３の信号線３６（ｐＨ計用信号線）及び第４の信号線３７（濃度計用信号線）により制御装置３３と接続されている。流量計１８、ｐＨ計１９力及び次亜塩素酸濃度計２０の出力は、それぞれ第２の信号線３５、第３の信号線３６及び第４の信号線３７を介して制御装置３３に入力される。制御装置３３は、薬液５の流量、ｐＨ値、次亜塩素酸濃度を監視し、また制御装置３３の記録装置に記録することができる。

制御装置３３は入力したガスＧに含まれる臭気成分の濃度、薬液５の流量、ｐＨ値、次亜塩素酸濃度に基づき、運転条件を決定する。
制御装置３３は、第５の信号線３８、第６の信号線３９、第７の信号線４０及び第８の信号線４１により、それぞれ第１のポンプ１２、第２のポンプ２４、次亜塩素酸ナトリウム供給装置２６及び第３のポンプ３２と接続されている。
後述するように制御装置３３は決定した運転条件に基づいて制御信号を生成し、第５の信号線３８、第６の信号線３９、第７の信号線４０及び第８の信号線４１を介して、それぞれ第１のポンプ１２、第２のポンプ２４、次亜塩素酸ナトリウム供給装置２６及び第３のポンプ３２に出力し、これらの装置を制御することができる。
その結果、制御装置３３は、ガスＧに含まれる臭気成分の濃度、薬液５の流量、ｐＨ値、次亜塩素酸濃度を監視しながら、脱臭装置１００の運転を制御する。
制御装置３３は、演算装置、入出力装置、記録装置を備えたマイコンやパソコン等を使用することができる。

図２は、次亜塩素酸ナトリウムを供給する次亜塩素酸ナトリウム供給装置２６の構成の一例を示す部分拡大図である。図２に示すように、次亜塩素酸ナトリウム供給装置２６を電解槽２６１とポンプ２６２とにより構成し、塩化ナトリウム水溶液を電気分解により生成し、薬液５に供給してもよい。

図２に示すように、循環薬液槽９には第３の排出口２６３が設けられている。（図１の第７の配管２７に相当する）配管２６４の一端は第３の排出口２６３に接続され、他端は導入口２８を介して循環薬液槽９の上部に配置されている。
配管２６４には、電解槽２６１とポンプ２６２とが設置されている。ポンプ２６２により、循環薬液槽９の薬液５は第３の排出口２６３から配管２６４に導入され、電解槽２６１を介して循環薬液槽９に戻される。電解槽２６１に流入した薬液５を電気分解し、次亜塩素酸ナトリウムを生成する。
生成する次亜塩素酸ナトリウムの量は、電解槽２６１の電気分解用電極に投入する電力により制御することができるが、電解槽２６１を流れる薬液５の流量によっても制御することができる。
電解槽２６１を流れる薬液５の流量はポンプ２６２により制御可能である。

なお、第３の排出口２６３とポンプ２６２との間の配管２６４を分岐して配管を介して（図示しない）タンクを接続し、塩化ナトリウム水溶液及び／又は水をタンク等から補充することも可能である。

＜運転制御＞
ガスＧに含まれる臭気成分の濃度は、一般には一定ではなく、季節、時刻、環境温度等に依存して変化する。
図３は、ガスＧに含まれる臭気性成分濃度の時間変化（一日の変化）を示すグラフである。縦軸は臭気成分の濃度、横軸は時刻を示す。図３中実線は臭気成分の濃度を示す。従来の脱臭装置は、最大濃度のガスＧを脱臭可能なように、循環させる薬液の次亜塩素酸ナトリウム濃度及び薬液放出部からの放出量（流量）を設定している。例えば、臭気成分の濃度（実線）の最大値に対してマージン（余裕）を見込んだ臭気成分の濃度（図３中の点線）のガスＧを脱臭することができる薬液５の放出量（及び次亜塩素酸濃度）を確定し、その放出量を設定値（固定値）として採用している。このように、薬液や脱臭装置を稼働する電力の消費は、ガスＧに含まれる臭気成分の濃度の最大値により決まることとなり、従来の一定量の薬液を供給する脱臭方法は不経済である。
従って、脱臭装置の運転条件をガスＧの実際の臭気成分の濃度に合わせて変更することにより、効率的にガスＧの脱臭を行うことができる。

ガスＧの臭気成分の濃度は、時間的に一定ではないため、検出器Ｓにより臭気成分の濃度を所定のサンプリング周期、例えば１分間隔で測定する。
検出器Ｓが測定した臭気成分の濃度値は、第１の信号線３４を介して制御装置３３に入力される。
制御装置３３の記録装置には、予め実験等により取得された脱臭効率（臭気成分の除去効率）の臭気成分の濃度値及び薬液５の流量の依存性が保存されている。そのため、制御装置３３は、得られた臭気成分の濃度値（及びガスＧの風量）に基づいて薬液５の薬液放出部４からの放出流量（又は第１の流路を循環する薬液５の循環薬液流量）を決定することができる。臭気成分の濃度の増加にともない薬液５の薬液放出部４からの放出流量を増加させるために、例えば、薬液５の薬液放出部４からの放出流量（循環薬液流量）を臭気成分の濃度に比例して決定する。例えば、時刻ｔにおいてガスＧの臭気成分の濃度をｇ（ｔ）とし、薬液５の薬液放出部４からの放出流量をＦ（ｔ）とすると、Ｆ（ｔ）は以下のようになる。
Ｆ（ｔ）＝Ａｇ（ｔ）
ここで、Ａは常数である。
ただし、実験により薬液５の脱臭効率がガスＧに含まれる臭気成分の濃度に依存する場合、Ａは臭気成分の濃度を表す関数（Ａ＝Ａ（ｇ（ｔ））としてもよい。

制御装置３３は、薬液５の薬液放出部４からの放出流量に対応した制御値を第１のポンプ１２に対して送信する。第１のポンプ１２は受信した制御値に従って、例えば回転数を制御し、第３の配管１３に流す薬液５の流量を制御する。
なお、制御値として、例えば流量値や第１のポンプ１２に供給する電力値が例示される。

なお、薬液５の流量は、第１のポンプ１２の回転数を制御する代わりに第１のポンプ１２の吐出側に比例式電磁バルブ等のバルブを設け、バルブ開度を制御することにより制御してもよい。
バルブ開度による薬液５等の液体の流量制御は、他のポンプについても同様に適用可能である。
また、上記は薬液５の流量制御方法を限定するものではなく、他の流量制御方法を排除するものではない。

また、ガスＧの風量が変わる場合、ガスＧの風量値を制御装置３３に入力し、ガスＧの風量値と臭気成分の濃度に基づいて薬液５の流量を決定してもよい。この場合、予め実験等により、脱臭効率の臭気成分の濃度、ガスＧの風量及び薬液５の流量の依存性を取得しておき、制御装置３３の記録装置に保存しておけばよい。
例えば、ガスＧの風量と臭気成分の濃度との積により薬液５の薬液放出部４からの放出流量を決定してもよい。この場合、ガスＧの風量をＪ（ｔ）とし、以下のように Ｆ（ｔ）を設定してもよい。
Ｆ（ｔ）＝Ａｇ（ｔ）Ｊ（ｔ）
上式は単位時間当たりに脱臭装置１００に流入する臭気成分の量に相当する。従って、ガスＧの風量が変動するような場合においては、臭気成分の濃度の代わりに単位時間当たりの臭気成分量を使用すればよい。すなわち、各実施形態において臭気成分の濃度として単位時間当たりの臭気成分量を使用すればよい。

制御装置３３は流量計１８が測定した薬液５の流量値を、所定のサンプリング周期（例えば１分間隔）で入力し、流量計１８が測定した流量値をフィードバックして第１のポンプ１２（又は第１のポンプ１２に設置したバルブ）を制御してもよい。

薬液５の次亜塩素酸ナトリウム濃度は、次亜塩素酸濃度計２０により所定のサンプリング周期（例えば１分間隔）で測定され、次亜塩素酸ナトリウム濃度の測定値は、第４の信号線３７を介して制御装置３３に入力される。
制御装置３３は、入力された次亜塩素酸ナトリウム濃度に基づき、例えば所定の次亜塩素酸ナトリウム濃度になるよう、次亜塩素酸ナトリウム供給装置２６に対して制御値を送信する。
例えば、次亜塩素酸ナトリウム供給装置２６が、図２に示すように電解槽２６１により次亜塩素酸ナトリウムを供給する場合、電解槽２６１の電極に印加する電圧を制御し、又は次亜塩素酸ナトリウムをタンクからポンプにより供給する場合、ポンプを制御することで、次亜塩素酸ナトリウムの供給量を制御できる。
その結果、薬液５の次亜塩素酸ナトリウム濃度を所定の値に設定することができる。

また、検出器Ｓが測定した臭気成分の濃度に従い、次亜塩素酸ナトリウム濃度の値を設定してもよい。例えば、臭気成分の濃度の増大に従い次亜塩素酸ナトリウム濃度設定値を増大させることができる。予め脱臭効率の臭気成分の濃度及び次亜塩素酸ナトリウム濃度依存性を取得しておき、制御装置３３の記録装置に保存しておけばよい。
制御装置３３は、臭気成分の濃度に従って次亜塩素酸ナトリウム濃度を設定し、次亜塩素酸濃度計２０の測定値が、次亜塩素酸ナトリウム濃度の設定値に一致するように次亜塩素酸ナトリウム供給装置２６を制御する。

薬液５のｐＨはｐＨ計１９により所定のサンプリング周期（例えば１分間隔）で測定され、ｐＨの測定値は、第３の信号線３６を介して制御装置３３に入力される。
制御装置３３は、入力されたｐＨの測定値に基づき、タンク２９に接続されている第３のポンプ３２（アルカリ溶液供給ポンプ）に対して制御値を送信する。
例えば制御装置３３は、ｐＨの測定値が所定の値（ｐＨ目標値）より低い場合、ｐＨ値を上げるため、第３のポンプ３２に対してタンク２９に貯蔵されている苛性ソーダ等のアルカリ溶液を注入するように第３のポンプ３２を駆動する。例えば、ｐＨの測定値と所定の値との乖離値が大きくなるに従い、循環薬液槽９へのアルカリ溶液の流量を増大させるように第３のポンプ３２を制御してもよく、例えばＰＩＤ制御（Proportional-Integral-Differential Controller）によりアルカリ溶液の流量を制御してもよい。
なお、制御装置３３は、最適な薬液５のｐＨ値（例えば、７．０～７．８）を記録装置に保存している。

上述のように脱臭装置１００は、処理対象であるガスＧに含まれる臭気成分の濃度に従って、次亜塩素酸ナトリウム濃度及び薬液５の流量を調整するため、過剰に次亜塩素酸ナトリウム濃度及び薬液５の流量を設定することがなく、薬剤（薬液５）の消費量及び脱臭装置１００の消費電力を軽減し、効率的に脱臭を行うことが可能である。
なお、臭気成分の濃度に対する応答性は、次亜塩素酸ナトリウム濃度（薬品成分濃度）の制御より薬液５の流量制御の方が優れており、例えば薬液５の流量制御のみを採用してもよい。

上記方法は、薬液５による臭気成分の除去効率（脱臭効率）が一定であるとの前提に基づく。しかしながら、脱臭装置１００によりガスＧの脱臭処理を行うと、実際には薬液５の脱臭効率は経時的に変化（低下）する傾向がある。
湿式脱臭装置は、循環する薬液と臭気性ガスに含まれる臭気成分との反応により、臭気性ガスの脱臭を行う。脱臭効率の劣化は、使用する薬液の劣化によるものと考えられる。
脱臭効率が低下した状態でも臭気成分を除去し得るように、十分なマージンを持つ運転条件で脱臭装置を稼働する必要がある。そのため、薬液や脱臭装置を稼働する電力の消費の無駄が発生することになる。
低下した脱臭効率を回復させるためには、定期的メンテナンス作業において薬液交換を行う必要がある。脱臭効率を保証するために薬液交換頻度を高めると、薬液ロスが増大する。その結果、経済的効率が低下するとともに、操作者の負担も増大する。
以下では、さらに効率的に脱臭を行うことができる脱臭方法について説明する。

以下、脱臭成分の除去に使用される薬液の脱臭効率の劣化原因について考察する。
被処理ガスＧと薬液５との主な反応として以下の反応式１～７が例示される。
（式１）Ｈ_２Ｓ＋４ＮａＯＣｌ＋２ＮａＯＨ→Ｎａ_２ＳＯ_４＋４ＮａＣｌ＋２Ｈ_２Ｏ
（式２）Ｈ_２Ｓ＋ＮａＯＣｌ→Ｓ＋ＮａＣｌ＋２Ｈ_２Ｏ
（式３）ＣＨ_３ＳＨ＋３ＮａＯＣｌ＋ＮａＯＨ→ＣＨ_３ＳＯ_３Ｎａ＋３ＮａＣｌ＋Ｈ_２Ｏ
（式４）（ＣＨ_３）_２Ｓ＋２ＮａＯＣｌ→（ＣＨ_３）_２ＳＯ_２＋２ＮａＣｌ
（式５）（ＣＨ_３）_２Ｓ_２＋５ＮａＯＣｌ＋２ＮａＯＨ→２ＣＨ_３ＳＯ_３Ｎａ＋５ＮａＣｌ＋Ｈ_２Ｏ
（式６）２ＮＨ_３＋３ＮａＯＣｌ→Ｎ_２＋３ＮａＣｌ＋３Ｈ_２Ｏ
（式７）ＣＯ_２＋２ＮａＯＨ→Ｎａ_２ＣＯ_３＋Ｈ_２Ｏ
上式において生成物、Ｎａ_２ＳＯ_４、ＮａＣｌ、Ｓ、ＣＨ_３ＳＯ_３Ｎａ、（ＣＨ_３）_２ＳＯ_２、Ｎａ_２ＣＯ_３が「塩」として循環する薬液５に溶解又は蓄積する。
実際の脱臭処理を調査した結果、ガスＧの脱臭処理が進むと、「塩」が薬液５中に蓄積され、薬液５中の「塩」濃度は、次亜塩素酸ナトリウムや苛性ソーダの濃度より高濃度、例えば数桁高くなることさえある。

上記反応式から、薬液５の脱臭効率が劣化する主な原因は、ガスＧの脱臭処理を行うことにより薬液５中の「塩」の濃度が増大し、薬液と臭気成分との反応（上式の右向きの反応）の進行が抑制されるためであると考えられる。さらに、薬液５中に高濃度の「塩」が存在すると、配管や薬液放出部４に析出することもある。
発明者らは、薬液５の脱臭効率の経時劣化を低減するには、上記化学反応等により生成され、蓄積された「塩」を低減することが有効であることを見出した。

脱臭装置１００は、循環薬液槽（薬液貯留部）９の薬液５を排出する第２のポンプ２４を備えている。第２のポンプ２４は、排液ポンプとして機能する。
検出器Ｓは、ガスＧに含まれる臭気成分の濃度を所定のサンプリング周期で測定し、測定値を制御装置３３に出力している。制御装置３３は、受信した臭気成分の濃度測定値を記録装置に記録することができる。
さらに制御装置３３は、記録された臭気成分の濃度測定値を用い演算処理装置により、所定の期間（積算期間）、臭気成分の濃度を積算する。そのため積算期間（積算周期）は、検出器Ｓのサンプリング周期より長く、サンプリング周期の２以上の自然数倍、例えば５倍（５分）とすることができる。このように、臭気成分の濃度として過去５分間の積算値を用いることにより、リアルタイム性も殆ど失われず、濃度の急激な変動にも追随することができることとなる。
なお、検出された臭気成分濃度の積算値の代わりに、所定期間の平均値に従い薬液５を排出する流量の制御を行ってもよい。
また、検出された臭気成分濃度を積算することなく、臭気成分濃度に従い薬液５を排出する流量の制御を行ってもよい。この場合、第２のポンプ２４の稼働時間が増大し、消費電力が増大するが、反応による「塩」の低減は可能である。

脱臭装置１００において、ガスＧに含まれる臭気成分は薬液５と反応し除去されるため、所定の期間における臭気成分の濃度の積算値は、反応により生成される「塩」の量を反映する指標として用いることができる。

制御装置３３は、積算期間毎に臭気成分の濃度の積算値に基づき、薬液５の排出量を決定する。上記の通り積算値は、化学反応により生成される「塩」の量を反映する指標として用いるため、制御装置３３は、直近の所定の時間範囲にガス検出器Ｓが連続して出力する複数の測定値を足し合わせる（時間積分する）ことで臭気成分の濃度の積算値（積分値）を算出する。

例えば、時刻ｔにおいてガスＧに含まれる臭気成分の濃度をｇ（ｔ）、積算時間間隔をＴとし、薬液５の排出量をＶ（ｔ）とすると、Ｖ（ｔ）は以下のようになる。
Ｖ（ｔ）＝∫Ｂｇ（τ）ｄτ
ただし、時間積分範囲はｔ－Ｔからｔまでである。
ここで、Ｂは常数である。
なお、「塩」の生成量（又は「塩」を生成する反応速度）がガスＧに含まれる臭気成分の濃度に依存する場合、Ｂは臭気成分の濃度の関数（Ｂ＝Ｂ（ｇ（ｔ））としてもよいが、通常Ｂは常数を使用する。

検出器Ｓは所定のサンプリング周期（間隔）でガスＧに含まれる臭気成分の濃度を測定するためＶ（ｔ）は離散的に積算され、Ｂが常数の場合、サンプリング周期（サンプリング間隔）をＤとすると、時刻ｔ＝ｔ_ｉでのＶ（ｔ）は以下の式で算出される。
Ｖ（ｔ）＝ＢΣＤｇ（ｔ_ｋ）
ここでｇ（ｔ_ｋ）は、ｋ番目の測定時刻ｔ_ｋにおけるガスＧに含まれる臭気成分の濃度の測定値であり、Σｇ（ｔ_ｋ）は、直近の連続した所定の範囲（ｋ＝ｉ－ｎからｉまで、すなわち時刻ｔ_ｉ－ｎからｔ_ｉまで）の臭気成分の濃度の総和を意味し、（ｎ＋１）個の臭気成分の濃度の測定値の総和を意味する。
サンプリング周期Ｄが一定の場合（時刻ｔ_ｋに依存しない場合）、以下のようになる。
Ｖ（ｔ）＝ＢＤΣｇ（ｔ_ｋ）
なお、実際のガスＧに含まれる臭気成分の濃度は、その挙動（絶対値や変化率）に応じて、例えば時間帯や季節に応じて、検出器Ｓのサンプリング周期を変更してもよい。サンプリング周期Ｄが時刻ｔｉに依存して変化する場合は、以下のようになる。
Ｖ（ｔ）＝ＢΣＤ（ｔ_ｋ）ｇ（ｔ_ｋ）

なお、ガスＧの風量が変化する場合、ガスの風量Ｊ（ｔ）と臭気成分の濃度ｇ（ｔ）との積ｇ（ｔ）Ｊ（ｔ）を用い以下の式によりＶ（ｔ）を算出してもよい。
Ｖ（ｔ）＝∫Ｂｇ（τ）Ｊ（τ）ｄτ
又は
Ｖ（ｔ）＝ＢΣＤｇ（ｔ_ｋ）Ｊ（ｔ_ｋ）

制御装置３３は、薬液５の排出量に従い、第６の信号線３９を介して第２のポンプ２４に制御値を送信する。薬液５の排出量は、第２のポンプ２４の流量（吐出量）の時間積分により決定されるため、例えば、第２のポンプ２４に薬液５の流量と排出時間とを指定する。第２のポンプ２４から吐出された薬液５は、排液管（ドレーン）２５を介して排出される。
このように、薬液５は、第２のポンプ２４により積算期間毎に、積算期間の臭気成分の濃度の積算値に基づいて決定された排出量だけ、部分的に排出される。薬液５の循環流量に対して、例えば、０．０１～１０％の薬液５を排出する。薬液５の部分的な排液周期は、例えば臭気成分の濃度の積算周期と一致させることもできる。

なお、薬液５の管理等のため、制御装置３３は、第２のポンプ２４の指令値から薬液５の総排出量を算出し、記録装置に保存してもよい。

図４は、薬液５の循環流量及び排出量の脱臭時間依存性を例示するグラフである。薬液５の循環流量は、ガス検出器Ｓにより測定したガスＧに含まれる臭気成分の濃度が即時に反映されており、薬液５の排出量は臭気成分の濃度の積算値を反映する。
図４に示されるように、薬液５の排出量の変動は、薬液５の循環流量の変動に比べ緩やかである。「塩」の蓄積を軽減するために行う薬液５の部分的排出であるため、薬液５の排出をガスＧに含まれる臭気成分の濃度の変動に対して即時的に対応するのではなく、臭気成分の濃度の積算値に基づいて薬液５の排出量を決定することができる。
積算周期（積算時間）は、ガス検出器Ｓのサンプリング周期とは独立して設定できるため、薬液５の損失を低減しつつ「塩」の蓄積を防止する積算時間間隔を設定することができる。

なお、臭気成分の濃度を積算する時間は、一定の周期に限定するものではない。
臭気成分の濃度を積算する時間は、適宜変更してもよい。例えば臭気成分の濃度が、一日の時間帯に依存する場合や、季節に依存する場合、例えば臭気成分の濃度が低いことが予想される時間帯や季節において、積算時間を相対的に長く設定してもよい。例えば、午前６時から午前１０までの間、午後２時から午後６時までの間は臭気濃度の積算時間はガス検出器Ｓのサンプリング周期の５倍、その他の時間帯は臭気濃度の積算時間はガス検出器Ｓのサンプリング周期の１０倍とする等、１日の時間帯に依存して臭気濃度の積算時間を変更してもよい。
臭気成分の濃度が低いことが予想される時間帯等において臭気成分の濃度を積算する時間を長く設定することで、第２のポンプ２４の稼働時間を低減し消費電力を低減してもよい。

また、臭気成分の濃度の積算周期（又は、所定の積算時間）毎に薬液５の一部を排出する代わりに、臭気成分の濃度の積算値が予め設定した閾値（判定値）を超えた場合に薬液５の一部を排出するように構成してもよい。この場合においても、第２のポンプ２４の稼働時間は、積算された臭気成分の濃度により管理されるため、消費電力を低減することが可能となる。
なお、臭気成分の濃度の積算値は∫ｇ（τ）ｄτ又はΣＤｇ（ｔ_ｋ）により算出できる。

このように、脱臭装置１００は、所定の期間毎にガスＧに含まれる臭気成分の濃度の積算値に基づいて脱臭処理に使用された薬液５の一部を排出し、「塩」の蓄積を低減することができる。ガス検出器Ｓの出力に基づいて薬液５の排出量を調整するために、定期的メンテナンスの薬液５の交換（又は定期的な一定量の薬液の交換）による薬液５のロスを低減するとともに、操作者の負担を低減できる。また、薬液交換のためのメンテナンス頻度を低減することができる。

薬液５を排出するタイミングは、ガス検出器Ｓのサンプリング周期と独立して設定し、さらに薬液５の排出量も薬液５の薬液放出部４からの放出量とは独立して設定が可能であるため、脱臭装置１００の稼働状況、ガスＧに含まれる臭気成分の濃度の変化に合わせて、薬液５の損失を最小限になるよう設定が可能である。

さらに、制御装置３３は、積算期間毎の、臭気成分の濃度の積算値の他に、薬液５の使用開始時（薬液５の交換直後）からの臭気成分の濃度の総積算値を算出し記録装置に保存してもよい。
周期的（又は間欠的）な薬液５の部分的排出により「塩」の蓄積は軽減できるが、完全に排出できない「塩」の蓄積の累積的増加に対処するため、積算期間毎の臭気成分の濃度の積算値により決定される薬液５の排出量を、臭気成分の濃度の総積算値により補正してもよい。
補正された薬液５の排出量をＶ’（ｔ）、臭気成分の濃度の総積算値（時間積分）をＳ（ｔ）とすると、薬液５の排出量は、例えば以下のように補正してもよい。
Ｖ’（ｔ）＝Ｖ（ｔ）（１＋ＣＳ（ｔ））
ここで、Ｃは常数である。
上式は、臭気成分の濃度の総積算値の増加とともに、徐々に薬液５の排出量を増やす補正係数（１＋ＣＳ（ｔ））を元の薬液５の排出量Ｖ（ｔ）に乗じることにより、薬液５の排出量を補正している。

なお、臭気成分の濃度の総積算値（時間積分）Ｓ（ｔ）は、薬液５の使用開始時をｔ＝０とすると以下の式で算出される。
Ｓ（ｔ）＝∫ｇ（τ）ｄτ
ただし、時間積分範囲は０からｔまでである。
実際の検出器Ｓは所定のサンプリング周期（間隔）でガスＧに含まれる臭気成分の濃度を測定するため、サンプリング周期（サンプリング間隔）をＤ（ｔ_ｉ）として、以下のようになる。
Ｓ（ｔ）＝Σｇ（ｔ_ｉ）Ｄ（ｔ_ｉ）
となり、Ｄ（ｔ_ｉ）が一定の場合、以下のようになる。
Ｓ（ｔ）＝ＤΣｇ（ｔ_ｉ）
ただし、積算期間は時刻０からｔまでである。

制御装置３３は、薬液５の補充ためにポンプを駆動するため、補充された薬液５の量を積算し、薬液５の増減量の推移を記録装置に保存することができる。
従って、制御装置３３は、薬液５の総排出量と総補充量を記録することができ、脱臭装置１００で使用される薬液５の容量を管理してもよい。
なお、排出することにより減少した薬液５は、次亜塩素酸ナトリウム供給装置２６から補充することができるが、薬液５の補充のために、さらに追加的に配管とポンプを設けてもよい。

また、別途水位計（又は液面計）を循環薬液槽（薬液貯留部）９に設け、薬液５の容量を制御装置３３に出力し、薬液５の容量を制御装置３３により管理してもよい。
なお、薬液５の補充周期は、薬液５の排液周期（臭気成分の濃度の積算期間）と同じ又はその自然数倍であってもよいが、それに限定するものではない。循環薬液槽（薬液貯留部）９に貯留されている薬液５の容量（又は水位）に応じて適宜補充すればよい。

以上のように脱臭装置１００は、ガス検出器Ｓにより流入するガスＧに含まれる臭気成分の濃度を所定のサンプリング周期で測定し、臭気成分の濃度に基づいてリアルタイムで循環する薬液５の流量等を変更することで、臭気成分の除去能力を即時に調整することができる。
さらに、脱臭装置１００は、所定の積算周期で臭気成分の濃度の積算値を求め、臭気成分の濃度の積算値に基づいて薬液５の一部を排出することで、生成される「塩」の蓄積を低減し薬液５の劣化を低減することができる。
例えば、高い臭気成分の濃度のガスＧが流入した場合、薬液放出部４から放出される薬液５の流量を増大させ素早く応答し臭気成分を除去でき、また、ガスＧに含まれる臭気成分の濃度が低下した場合、薬液５の流量を低下させることができ、薬液５及び電力の消費を低減できる。一方、「塩」の蓄積を低減するための排出量は、臭気成分の濃度に基づいて決定されるため、過剰に薬液５が排出されることがなく、薬液５の損失を防止しながら最適な薬液５により臭気成分の除去が可能となる。
その結果、脱臭装置１００は、経済的にも消費エネルギー的にも効率的にガスＧの脱臭処理を実行するとともに、操作者の負担を軽減することができる。

なお、上記の臭気濃度の積算値に基づいて薬液５の一部を排出し「塩」の蓄積を低減する方法は、他の実施形態だけでなく、一定の供給流量の薬液５を薬液放出部４から放出する従来の脱臭装置にも適用可能である。

なお、第２のポンプ２４により臭気成分の濃度の積算値に基づいて薬液５を排出する代わりに、第４の配管１５を分岐し、排液用配管を接続し、比例電磁式流量制御弁を介して排液管（ドレーン）２５から薬液５を部分的に排出してもよい。この場合、制御装置３３が第２のポンプ２４を制御する代わりに比例電磁式流量制御弁を制御し、臭気成分の濃度の積算値に基づいて薬液５を部分的に排出してもよい。
第１のポンプ１２と比例電磁式流量制御弁の両方の制御により、排液管２５から排出される流量と薬液放出部４から放出される流量とを制御することが可能である。
第１のポンプ１２と比例電磁式流量制御弁の高度な制御技術が必要となるが、第２のポンプ２４を不要とすることができ、装置の小型化が可能となる。

上述のように図４においては、検出した臭気成分濃度に基づき、薬液５の充填部６への供給流量と薬液５の排出量とを組み合わせた例を示したが、以下に説明するように、薬液５の薬品成分濃度の制御と薬液５の排出量とを組み合わせてもよい。

図５は、検出器Ｓとして、硫化水素センサーを使用し、薬液５の充填部６への供給（放出）流量を一定とし、検出した臭気成分（硫化水素）濃度に基づき薬液５の排出量を制御するとともに、薬品成分である薬品成分濃度（次亜塩素酸濃度）を制御した例を示す。
横軸は時刻、左縦軸は濃度、右縦軸は流量を示し、実線（Ａ）は次亜塩素酸濃度、点線（Ｂ）はガスＧの硫化水素濃度、破線（Ｃ）は薬液５の排出流量を例示する。なお、臭気成分濃度と薬品成分濃度とは、同軸に表示するために、適宜スケーリングしている。
測定を実施した２０２０年８月２１～２３日は「大潮」であったため、潮位が上昇した。その影響により、下水管に海水が流入し、通常時よりも臭気成分濃度が脱臭装置の入口付近で大きくなる現象が生じた。

図５においては、臭気成分濃度が高い時間帯において、次亜塩素酸濃度の臭気成分濃度に対する応答性が高く、入口濃度の増減に対応して次亜塩素酸濃度も増減している。一方、臭気成分濃度が低い時間帯では、次亜塩素酸濃度は特定の濃度以下に減少しない。
臭気成分濃度が高い場合、臭気成分と薬液５中の薬品成分とが迅速に反応することにより薬品成分が消費される。さらに、ガスＧの臭気成分濃度に合わせて薬液５の排液量を制御することにより、薬液５中で「塩」の生成による化学反応の抑制が防止される。そのため、薬品供給装置２６からの薬品成分（次亜塩素酸ナトリウム）の供給と臭気成分との反応による薬品成分（次亜塩素酸ナトリウム）の消費との収支バランスが良好に維持され、ガスＧの臭気成分濃度と薬品成分濃度との応答性が高くなると考えられる。

例えばガスＧの臭気成分濃度が所定の濃度より高い場合、薬液放出（噴射）部４からの薬品５の放出量を一定としながら薬品供給装置２６から薬品成分の供給を臭気成分濃度に応じて制御し、ガスＧの臭気成分濃度が所定の濃度より低い場合、薬液５の薬品成分濃度を一定としながら、臭気成分濃度に応じて薬液放出（噴射）部４からの薬品５の放出量を制御するというハイブリッドな制御も可能である。
ガスＧの臭気成分濃度が高い場合、薬液放出（噴射）部４からの薬品５の放出量を制限することで、第１のポンプ１２（薬液循環ポンプ）及びそれに接続された配管等への圧力低減し、脱臭装置１００への機械的な負担を軽減することで、耐久性の向上又はメンテナンス頻度の低減を図ることができる。
なお、運転条件を変更する所定の臭気成分濃度は、例えば薬品成分濃度の臭気成分濃度に対する応答性から決定すればよい。例えば、図５において縦軸の薬品成分濃度の中央値に設定してもよい。

なお、実施形態１は、後述する実施形態２や実施形態３で説明するように複数の充填部を備えた脱臭装置１００の例に組み合わせて適用することもできる。

（実施形態２）
通常状態では、ガスＧに含まれる臭気成分の濃度は、図３に示すように変化するが、場合によっては、突発的に通常想定される濃度値を超えることがある。従って、脱臭装置１００は、このような突発的に臭気成分の濃度が増大するガスＧの脱臭処理にも対応しなけらばならないことがある。
図６は、ガスＧに含まれる臭気成分の濃度の変動例を示すグラフであり、臭気成分の濃度が、急に増加及び減少する時間帯が存在する例を示す。図中縦軸は臭気成分の濃度、横軸は時刻であり、実線はガスＧに含まれる臭気成分の濃度を示す。通常の状態では、図中点線以下の範囲で臭気成分の濃度が推移する。しかし、図中ハッチングで示した時間領域Ａにおいて、点線で示す値を超えて、臭気成分の濃度が急激に増大している。
例えば、発生頻度の少ない時間領域Ａの最大の臭気成分の濃度に合わせて次亜塩素酸濃度を高く設定すると、薬液５のランニングコストが増大することになる。

実施形態２によれば、ガスＧに含まれる臭気成分の濃度の変動、特に臭気成分の濃度の急な増加に対しても、循環薬液槽９中の薬液５の薬液濃度を増加させることなく、充填部６においてガスＧに含まれる臭気成分と反応する薬液５の濃度を実質的に増大させることで、臭気成分と薬液５との反応を促進させることが可能な脱臭装置１００を提供することができる。

図７は、実施形態２の脱臭装置１００の主要構成を示す概念図である。主に図１に示す実施形態１の脱臭装置１００との差異を示し、実施形態１の脱臭装置１００と重複する構成要素については省略することがある。

図７に示すように、脱臭装置１００は、脱臭塔１の内部に第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂとを循環薬液槽９上に備えている。第１の充填部６ａは第２の充填部６ｂの上部に配置されており、互いに上下に整列配置されている。第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂには、ガスＧと薬液５との反応触媒である充填剤が収容されている。
第１の充填部６ａに薬液５を供給する第１の薬液放出部４ａの直下には第１の充填部６ａが設置されており、第１の薬液放出部４ａと第１の充填部６ａとの組み合わせからなる第１の反応モジュールを構成する。なお、第１の薬液放出部４ａの直下に第１の充填部６ａが設置されているとは、第１の薬液放出部４ａと第１の充填部６ａの間に他の充填部（具体的には、第２の充填部６ｂ）が設置されていないことを意味する。

第２の充填部６ｂに薬液５を供給する第２の薬液放出部４ｂの直下に第２の充填部６ｂが設置されており、第２の薬液放出部４ｂと第２の充填部６ｂとの組み合わせからなる第２の反応モジュールを構成する。さらに、第２の薬液放出部４ｂは第１の充填部６ａの下方に設置されている。
従って、第１の薬液放出部４ａは下方に位置する第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂの全てに薬液５を供給し、第２の薬液放出部４ｂは下方に位置する第２の充填部６ｂに薬液５を供給するが上方に位置する第１の充填部６ａには薬液５を供給しない。
ガスＧは、第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂにおいて薬液５と反応することができる。

循環薬液槽９に設けられた第１の循環用排出口１０ａ及び第２の循環用排出口１０ｂには、それぞれ配管１１ａ及び配管１１ｂを介して、第１の薬液循環ポンプ１２ａ及び第２の薬液循環ポンプ１２ｂが接続されている。
第１の薬液循環ポンプ１２ａ及び第２の薬液循環ポンプ１２ｂの吐出口は、それぞれ配管１３ａ及び配管１３ｂが接続されており、さらに脱臭塔１の第１の導入口１７ａ及び第２の導入口１７ｂを介して、第１の薬液放出部４ａ及び第２の薬液放出部４ｂに接続されている。

従って、脱臭装置１００は、循環薬液槽９、第１の循環用排出口１０ａ、配管１１ａ、第１の薬液循環ポンプ１２ａ、配管１３ａ及び第１の薬液放出部４ａから構成される第１の脱臭用循環流路と、循環薬液槽９、第２の循環用排出口１０ｂ、配管１１ｂ、第２の薬液循環ポンプ１２ｂ、配管１３ｂ及び第２の薬液放出部４ｂから構成される第２の脱臭用循環流路とを備える。

配管１３ａ及び配管１３ｂには、それぞれ第１の流量計１８ａ及び第２の流量計１８ｂが設けられている。第１の流量計１８ａ及び第２の流量計１８ｂは、それぞれ第１の流量計用信号線３５ａ及び第２の流量計用信号線３５ｂにより制御装置３３と接続されている。第１の流量計１８ａ及び第２の流量計１８ｂの出力は、それぞれ第１の流量計用信号線３５ａ及び第２の流量計用信号線３５ｂを介して制御装置３３に入力される。
制御装置３３は、第１の流量計１８ａ及び第２の流量計１８ｂが測定した流量値をフィードバックして、第１の薬液循環ポンプ１２ａ及び第２の薬液循環ポンプ１２ｂを制御し、所定の流量の薬液５を循環させることができる。

このように充填部６を第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂの２段構成にすることにより、効率的に臭気成分を脱臭することができる原理について、以下に説明する。
図８は、充填部における薬液５の薬品成分（次亜塩素酸）濃度の充填部中の分布を模式的に示すグラフである。縦軸は薬品成分濃度であり、横軸は充填部内の距離であり、充填部の上端面からの距離である。
図８（ａ）は、図１に示す１つの充填部６における薬品成分濃度の分布を示し、図８（ｂ）は、図７に示す第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂから構成される２つの充填部における薬品成分濃度の分布を示す。
なお、図８（ａ）、（ｂ）において薬品成分濃度を示す関数は、理解のため一次関数の例を示しているが、一次関数に限定されるものではない。

図８において、図８（ｂ）のグラフに対応する第１の充填部６ａの高さ（Ｈａ）と第２の充填部６ｂの高さ（Ｈｂ）は、図８（ａ）のグラフに対応する１つの充填部６の高さ（Ｈ）の２分の１である（Ｈａ＝Ｈｂ＝Ｈ／２）例を示す。従って、図８（ｂ）の第１の充填部６ａと第２の充填部６ｂとを足し合わせた高さは、図８（ａ）の充填部６の高さに等しい。
図８（ａ）の充填部６、図８（ｂ）の第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂには、充填剤として同じ触媒が同じ密度で充填されている。従って、図８（ａ）の充填部６に使用されている充填剤の量は、図８（ｂ）の第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂに使用されている充填剤の量の総和に等しい。
なお、理解を容易にするため図８に示すような構成により脱臭原理を説明するが、第１の充填部６ａと第２の充填部６ｂとの高さの関係、また充填部に収容する触媒の密度の関係等は、上記に限定するものではない。

図８（ｂ）において矢印Ａによって示す領域は第１の充填部６ａにおける薬品成分濃度の分布を示し、矢印Ｂによって示す領域は第２の充填部６ｂにおける薬品成分濃度の分布を示す。図８（ｂ）は、第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂにおける薬品成分濃度の分布を便宜的に連結して示し、横軸は、上部に配置された第１の充填部６ａの上端面を基準として、第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂ内の距離を積算した値である。

充填部６の上端面における薬液５の薬品成分濃度は、薬液放出部４から供給される薬液５の薬品成分濃度に等しい。しかし、図８（ａ）に示すように、薬液５の薬品成分は、充填部６内においてガスＧに含まれる臭気成分と反応するため、充填部６の上端面からの距離とともに減少する。

図８（ｂ）に示すように、充填部６ａの上端面における薬液５の薬品成分濃度は第１の薬液放出部４ａから供給される薬液５の薬品成分濃度に等しいが、充填部６ａの上端面からの距離とともに減少する。
なお、充填部６ａの上端面の薬液５の薬品成分濃度は、図８（ａ）に示す充填部６の上端面の薬液５の薬品成分濃度に等しい。
一方、第１の充填部６ａの高さＨａは、図８（ａ）の充填部６の高さＨより小さいため、第１の充填部６ａの下端面（底面）での薬品成分濃度は充填部６の下端面の薬品成分濃度より高い。

第２の充填部６ｂに対しては、第２の薬液放出部４ｂより薬液５が新たに供給される。
図８（ｂ）の点線Ｌａは、第２の薬液放出部４ｂから薬液５が供給されずに第１の充填部６ａを介して第１の薬液放出部４ａから薬液５が供給された場合の第２の充填部６ｂにおける薬液５の薬品成分濃度を示し、図８（ｂ）の点線Ｌｂは、第１の薬液放出部４ａから薬液５が供給されずに第２の薬液放出部４ｂから薬液５が供給された場合の第２の充填部６ｂにおける薬液５の薬品成分濃度を示す。
図８（ｂ）の領域Ｂにおける実線は、第１の薬液放出部４ａ及び第２の薬液放出部４ｂから薬液５が供給された場合の第２の充填部６ｂにおける薬液５の薬品成分濃度を示す。この場合、第２の充填部６ｂにおける薬液５は、点線Ｌｂａ及び点線Ｌｂで示される薬液５の混合液となる。

例えば、図８（ａ）において、薬品成分濃度が４００［ｐｐｍ］の薬液５が薬液放出部４から充填部６に供給され、充填部６の上端面（横軸＝０）での薬品成分濃度が４００［ｐｐｍ］であるとする。充填部６内で薬液５の薬品成分がガスＧに含まれる臭気成分と均等に反応し、充填部６の中間点（横軸＝Ｈ／２＝Ｈａ）での薬品成分濃度が２５０［ｐｐｍ］、充填部６の底面である下端面（横軸＝Ｈ）での薬品成分濃度が１００［ｐｐｍ］であるとする。

図８（ｂ）において、薬品成分濃度が４００［ｐｐｍ］の薬液５が第１の薬液放出部４ａから第１の充填部６ａに供給され、第１の充填部６ａの上端面（横軸＝０）での薬品成分濃度は４００［ｐｐｍ］となる。第１の充填部６ａ内で薬液５の薬品成分がガスＧに含まれる臭気成分と均等に反応し、第１の充填部６ａの底面である下端面（横軸＝Ｈａ）での薬品成分濃度は２５０［ｐｐｍ］となる。

さらに薬品成分濃度が４００［ｐｐｍ］の薬液５が第２の薬液放出部４ｂから第２の充填部６ｂに供給されると、第１の薬液放出部４ａから第１の充填部６ａを経由して第２の充填部６ｂに供給される薬液５と混合され、第２の充填部６ｂの上端面（横軸＝Ｈａ）での薬品成分濃度は３２５［ｐｐｍ］となり、第２の充填部６ｂ内で薬液５の薬品成分がガスＧに含まれる臭気成分と均等に反応し、第２の充填部６ｂの底面である下端面（横軸＝Ｈａ＋Ｈｂ＝Ｈ）での薬品成分濃度は１７５［ｐｐｍ］となる。

このように、図１に示す１つの充填部６を有する脱臭装置１００と比較して、図７に示す２つの充填部（第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂ）を有する脱臭装置１００の方が、高い薬品成分濃度の薬液５とガスＧとを反応させることができる。
一般に化学反応速度は、反応物の濃度に依存するため、化学反応領域である２つの充填部（第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂ）内に供給される薬液５の実質的な薬品成分濃度を高めることで、ガスＧの脱臭効率を向上させることができる。
また、２つの充填部（第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂ）を有する脱臭装置１００の方が、ガスＧの流れ方向に沿った、充填部内の薬液５の薬品成分濃度が高い領域の長さが拡大される。

例えば、図７に示す脱臭装置１００の運転方法として、脱臭処理の間は常時、第１の薬液放出部４ａ及び第２の薬液放出部４ｂの両方から第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂに薬液５を供給し、ガスＧの脱臭処理を行う運転方法を採用することができる。第１の薬液放出部４ａ及び第２の薬液放出部４ｂから供給される薬液５の流量は、実施形態１に記載のように、制御装置３３によって、検出器Ｓにより計測したガスＧに含まれる臭気成分の濃度に従って変化させることができる。

しかし、脱臭装置１００の運転方法として、常時、第１の薬液放出部４ａ及び第２の薬液放出部４ｂの両方から薬液５を放出するのではなく、以下に示すようにガスＧに含まれる臭気成分の濃度に応じて第１の薬液放出部４ａと第２の薬液放出部４ｂの制御方法を変える運転方法を採用してもよい。その結果、脱臭装置１００の電力コストを低減することができる。

図３に示すように、突発的なガスＧに含まれる臭気成分の濃度の増加がない通常状態（臭気成分の濃度が予め設定した閾値（例えば、図６中の点線により設定された値）以下の場合）においては、第１の反応モジュールにおける第１の薬液放出部４ａのみから薬液５を放出し、第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂに薬液５を供給し、そしてガスＧに含まれる臭気成分の濃度に従って薬液５の流量を制御する。
この場合、第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂを、図１に示す１つの充填部６として使用することができる。すなわち、実施形態１の脱臭装置１００と同様の運転制御を採用することができる。この際、第２の反応モジュールにおける第２の薬液放出部４ｂからは薬液５を放出しない（放出する薬液５の流量がゼロ）。すなわち、第１の薬液循環ポンプ１２ａのみを稼働し、第２の薬液循環ポンプ１２ｂを稼働しない。

そして、突発的にガスＧに含まれる臭気成分の濃度が急増した場合には（図６中の領域Ａで示すように臭気成分の濃度が予め設定した閾値を超えた場合）、追加的に第２の反応モジュールにおける第２の薬液放出部４ｂから薬液５を供給し、ガスＧに含まれる臭気成分の濃度に従って薬液５の流量を制御してもよい。すなわち、第１の薬液循環ポンプ１２ａ及び第２の薬液循環ポンプ１２ｂを稼働する。
通常状態では第１の薬液循環ポンプ１２ａのみを稼働して脱臭装置１００を運転するため、電力消費量の増大を防止できる。

制御装置３３は、臭気成分の濃度と予め設定した閾値（例えば、図６の点線で示す値）とを比較し、上述のように第１の薬液放出部４ａ及び第２の薬液放出部４ｂへの薬液５の供給流量を制御することができる。
具体的には、ガスＧに含まれる臭気成分の濃度が予め設定した閾値以下の場合、第２の薬液放出部４ｂに薬液５を供給せず（第２の薬液放出部４ｂへ薬液を供給する流量をゼロとし）、第１の薬液放出部４ａから放出される薬液５の流量（供給流量）は、検出器Ｓで検出される臭気成分の濃度に依存して変化させる。
臭気成分の濃度が予め設定した閾値を超える場合、第１の薬液放出部４ａから放出される薬液５の流量を所定の最大値に設定し、第２の薬液放出部４ｂから放出される薬液５の流量を検出器Ｓで検出される臭気成分の濃度に依存して変化させることができる。

なお、簡易的に第１の薬液放出部４ａ及び第２の薬液放出部４ｂの少なくとも一方から供給される薬液５の流量を一定の流量としてもよい。

なお、制御装置３３は、ガスＧに含まれる臭気成分の濃度が予め設定した閾値以下の場合に、第１の薬液放出部４ａに薬液５を供給せず、第２の薬液放出部４ｂに薬液を供給するよう制御することも可能である。しかしこの場合、第２の薬液放出部４ｂから放出された薬液は、第２の充填部６ｂのみに供給され、第１の充填部６ａに供給されないため、第１の充填部６ａに充填された触媒が有効に活用されない。そのため、臭気成分の濃度が予め設定した閾値以下の場合、上段に設けられた第１の薬液放出部４ａから薬液を放出するよう制御することが好適である。このことは他の実施形態についても同様である。また、脱臭装置１００は、２以上の反応モジュールを備えてもよい。

いずれの運転方法においても、循環薬液槽９の薬液５（又は循環する薬液５）の薬品成分濃度を増大させることなく、臭気成分の濃度に応じて、充填剤（触媒）表面での薬液５の薬品成分濃度を実質的に増大させ、突発的な臭気成分の濃度の増大に即座に対応が可能であり、臭気性ガスの脱臭に使用される薬液の利用効率を向上させ、薬液５のランニングコストの増加を低減できる。
充填部（第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂ）内での実質的な薬品成分濃度の増大は、逆に循環薬液槽９の薬液５（又は循環する薬液５）の薬品成分濃度を低下し得ることを意味し、その意味においても薬液５のランニングコストの増加を低減できる。

（実施形態３）
実施形態３においては、図７に示すように充填部６を多段の充填部から構成することにより、従来の脱臭装置と比較してより広範囲で脱臭処理に最適な薬液５の供給流量の制御が可能となる。

図９は、薬液放出部４から薬液５が放出される角度（放出角又は噴霧角）の、薬液５の流量依存性を示し、図９中ハッチングを施した領域は、薬液５が供給される主な領域を模式的に示す。図９において、図９（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の順に薬液５を放出する流量（放出量）が増大する。
なお、理解のため、図９においてはハッチング領域は簡略化して描画されており、薬液５が供給される領域を限定するものではない。

図９（ａ）に示すように薬液５の放出量が小さく、放出圧が小さい場合、図中２θａで示す薬液５の放出角が小さく、充填部６の一部に薬液５が供給されない又は供給流量が相対的に少ない箇所（図中矢印Ｒで示す領域）が存在する。すなわち、充填部６に充填された触媒の一部は、実質的に薬液５が供給されず有効に活用されていないことになる。充填部６の薬液５が十分に供給されていない領域を通過するガスＧの脱臭効果は低下し、その結果、脱臭装置１００の脱臭効率が低下することになる。

さらに薬液５の放出量が増大し放出圧が増大すると、薬液５の放出角が増大し、充填部６の上端面に散布される薬液５の面積が増大し、図９（ｂ）に示すように、充填部６の上端面に散布される薬液５の面積と充填部６の上端面の面積が一致するようになる。薬液放出部４から放出される薬液５が、図９（ｂ）に示す放出角（２θｂ）を有する場合、過不足無く充填部６の上端面に薬液５が供給（散布）されるため、充填部６に充填された触媒を効果的に脱臭反応に使用することができる。
薬液５の薬液放出部４からの放出角、充填部６の上端面の半径（又は面積）及び薬液放出部４と充填部６の上端面との距離、の幾何学的関係により、充填部６に収容された触媒表面に散布された薬液５とガスＧに含まれる臭気成分との反応を効率よく促進させる薬液循環流量条件が確定することができる。

さらに薬液５の放出量が増大し放出圧が増大すると、図９（ｃ）に示すように薬液５の放出角（２θｃ）が増大し、薬液５は充填部６の上端面全面に散布されるとともに、過剰に増大した一部の薬液５は脱臭塔１の壁面Ｓｗに散布される。壁面Ｓｗに付着した薬液５は、壁面Ｓｗに沿って流れ落ち、充填部６に充填された触媒表面に供給されないことがある。その結果、壁面Ｓｗに散布された一部の薬液５は、充填部６の触媒に十分に供給されず、脱臭効率が低下することになる。

このように図９（ａ）に示す状態では、図９（ｂ）に示す状態での脱臭効率に対して、薬液５の流量が低下する影響により脱臭効率が低下するだけでなく、充填部６への薬液の散布領域が縮小するため、その影響によりさらに脱臭効率が低下する。
一方、図９（ｃ）に示す状態では、図９（ｂ）に示す状態での脱臭効率に対して、薬液５の流量が増大する効果により脱臭効率は増加するものの、一部の薬液５は充填部６の触媒作用の効果を（十分に）得られず、薬液流量の増加による脱臭効率の増加が鈍化（制限）される。
従って、図９（ｂ）に示す幾何学的な薬液５の散布状態を実現することができる薬液５の流量（「最適化流量」と称す）の近傍で効率的に脱臭能力の制御が可能となる。例えば、薬液５の流量の範囲は、幾何学的な最適化流量を含む流量制御範囲（「幾何学的最適流量範囲」と称す）であり、好適には幾何学的な最適化流量の０．８倍～１．２倍の範囲である。

図１０（ａ）、（ｂ）は、それぞれ薬液５の薬液放出部４からの放出分布と円筒形の充填部６との幾何学的関係を模式的に示す斜視図及び断面図である。

図１０（ａ）は、薬液放出部４と充填部６との距離に依存して薬液５が散布される領域の面積が変化する状況を示す。薬液放出部４からの距離とともに薬液５が散布される領域が拡大される状況を示す。
位置Ｐｂにおいては、充填部６の上端面Ｓｔと平行な面での薬液５の散布領域（断面積）は上端面Ｓｔの領域（面積）と等しくなり、図９（ｂ）に示す状態に相当する。

一方、位置Ｐｂより薬液放出部４からの距離が短い位置Ｐａにおいては、充填部６の上端面Ｓｔと平行な面での薬液５の散布領域（断面積）は上端面Ｓｔの領域（断面積）より小さくなり、図９（ａ）に示す状態に相当する。
また、位置Ｐｂより薬液放出部４からの距離が長い位置Ｐｃにおいては、充填部６の上端面Ｓｔと平行な面での薬液５の散布領域（断面積）は上端面Ｓｔの領域（面積）より大きくなり、図９（ｃ）に示す状態に相当する。

図１０（ｂ）は、薬液放出部４からの薬液５が幾何学的な最適化流量である条件において、薬液放出部４から放出される薬液５の放出角（２θ）と、薬液放出部４から充填部６の上端面Ｓｔまでの距離ｄと、充填部６の上端面Ｓｔの直径（２ｒ）との関係を示す。図１０（ｂ）より、幾何学的な最適化流量条件では、θとｄ及びｒとの関係はｔａｎθ＝ｒ／ｄとなる。
角度θは、薬液５の供給流量である放出量に依存するため、上記関係式から薬液５の放出量が確定できる。

なお、上記の関係式は、薬液放出部４の１点から薬液５が放射状に放出される場合に適応されるが、薬液５の散布される領域の面積により、以下のように幾何学的な最適化流量を規定できる。
すなわち、薬液放出部４から供給される薬液５の幾何学的な最適化流量は、充填部６の上端面Ｓｔと平行な面において薬液５が散布される領域の面積（断面積）と、充填部６の上端面Ｓｔの面積とが等しくなる流量である。従って、幾何学的な最適化流量は、薬液放出部４の１点から放射状に薬液５が放出される場合に限定されず、例えば、複数薬液放出部４から薬液５を放出する等の様々な放出（散布）方法について求めることができる。

薬液放出部４から供給される薬液５の放出量と脱臭効果との関係は、脱臭塔１に流入するガスＧの臭気成分濃度と脱臭塔１から排出されるガスＧの臭気成分濃度との関係から実測することも可能である。例えば流出口８に追加的に検出器Ｓ（ガスセンサ）を設置し、試験的に臭気成分濃度が既知の一定の値であるガスＧを導入し、薬液５の薬液放出部４から放出量を変化させ、脱臭塔１の出口でのガスＧの臭気成分濃度を測定する。出口側の臭気成分濃度の薬液５の放出量依存性を測定し、臭気成分濃度の減少率の薬液５の放出量依存性から最適化流量を実測することも可能である。
なお、上述の脱臭効果の計測方法は、他の実施形態においても適応可能である。

さらに、図７に示すように充填部６を第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂの２段構成とすることにより、第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂに対して、それぞれ第１の薬液放出部４ａと第１の充填部６ａとの関係から決まる第１の幾何学的な最適化流量及び第２の薬液放出部４ｂと第２の充填部６ｂとの関係から決まる第２の幾何学的な最適化流量が存在する。その結果、効率的にガスＧに含まれる臭気成分を脱臭する薬液５の流量範囲を拡大することができる。

脱臭装置１００の制御装置３３の記録装置（又は外付けの記録装置）には、上記第１の幾何学的な最適化流量及びそれを含む第１の幾何学的最適流量範囲、並びに上記第２の幾何学的な最適化流量及びそれを含む第２の幾何学的最適流量範囲が記録されている。
制御装置３３は、第１の薬液循環ポンプ１２ａ及び第２の薬液循環ポンプ１２ｂを制御することにより、検出器Ｓにより検出されたガスＧに含まれる臭気成分の濃度に従って、第１の幾何学的最適流量範囲及び第２の幾何学的最適流量範囲内で、第１の薬液放出部４ａ及び第２の薬液放出部４ｂから供給される薬液５の流量を制御する。

例えば、制御装置３３により、第１の薬液放出部４ａ及び第２の薬液放出部４ｂの両方から同時に薬液５を第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂに供給することができる。
制御装置３３は、第１の幾何学的最適流量範囲内及び第２の幾何学的最適流量範囲内で、実施形態１において説明したように、検知器Ｓから入力した臭気成分の濃度に依存して、第１の薬液放出部４ａ及び第２の薬液放出部４ｂから供給する薬液５の流量を変化させることができる。そのため、脱臭装置１００は、臭気性ガスの脱臭に使用される薬液の利用効率を向上させ、さらに効率的にガスＧの脱臭処理を行うことができる。

また、制御装置３３は、以下に説明するように、ガスＧに含まれる臭気成分の濃度の値に応じて、第１の薬液放出部４ａ及び第２の薬液放出部４ｂの一方又は両方からの薬液５の供給を制御してもよい。その結果、脱臭装置１００の電力コストの低減が可能である。

制御装置３３は、検知器Ｓから入力した臭気成分の濃度と予め設定した閾値とを比較し、臭気成分の濃度が予め設定した閾値以下の場合、第１の薬液循環ポンプ１２ａのみを稼働し、制御することにより、第１の薬液放出部４ａのみから薬液５を第１の充填部６ａに供給する。
具体的には、制御装置３３は、第１の薬液循環ポンプ１２ａを制御することにより、検出された臭気成分の濃度に従い、第１の充填部６ａに対する幾何学的な最適化流量を含む流量範囲（第１の幾何学的最適流量範囲、例えば第１の幾何学的な最適化流量の０．８から１．２倍の範囲）内で第１の薬液放出部４ａから第１の充填部６ａに供給する薬液５の流量を制御する。
なお、第２の薬液放出部４ｂから薬液５は供給されない。

ここで、臭気成分の濃度の予め設定した閾値として、例えば、第１の薬液放出部４ａから第１の幾何学的最適流量範囲の最大値（例えば、第１の幾何学的な最適化流量の１．２倍）の薬液５が供給された場合に、脱臭処理装置１００が脱臭できる臭気成分の濃度又はそれ以下の値を採用することができるが、それに限定するものではない。

制御装置３３は、検知器Ｓから入力した臭気成分の濃度と予め設定した閾値とを比較し、検知器Ｓから入力した臭気成分の濃度が予め設定した閾値より大きい場合、第１の薬液循環ポンプ１２ａ及び第２の薬液循環ポンプ１２ｂを制御することにより、第１の薬液放出部４ａ及び第２の薬液放出部４ｂから薬液５を第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂに供給する。
具体的には、制御装置３３は、第１の薬液循環ポンプ１２ａを制御することにより、第１の幾何学的最適流量範囲で最大流量の薬液５を第１の薬液放出部４ａから第１の充填部６ａに供給し、そして、第２の薬液循環ポンプ１２ｂを制御することにより、第２の幾何学的最適流量範囲内で、検出された臭気成分の濃度に従い、第２の薬液放出部４ｂから第２の充填部６ｂに供給する薬液５の流量を制御する。
例えば、第１の薬液放出部４ａから流れ込む薬液５の流量を第１の幾何学的な最適化流量の１．２倍とし、第２の薬液放出部４ｂから流れ込む薬液５の流量を、第２の幾何学的最適流量範囲（例えば第２の幾何学的な最適化流量の０．８から１．２倍）内で、検出された臭気成分の濃度（又は検出された臭気成分の濃度から予め設定した閾値を差し引いた値）に応じて制御する。

なお、簡易的に第１の薬液放出部４ａ及び第２の薬液放出部４ｂの少なくとも一方から供給される薬液５の流量を一定の流量としてもよい。
例えば、第１の薬液放出部４ａ及び第２の薬液放出部４ｂの両方において、一定の流量の薬液５を放出してもよい。
検知器Ｓから入力した臭気成分の濃度が予め設定した閾値以下の場合、第１の薬液放出部４ａのみから第１の充填部６ａに対する幾何学的最適流量の範囲内の一定の流量の薬液５を第１の充填部６ａに供給し、検知器Ｓから入力した臭気成分の濃度が予め設定した閾値を超える場合、さらに第２の薬液放出部４ｂから第２の充填部６ｂに対する幾何学的最適流量範囲内の一定の流量の薬液５を第２の充填部６ｂに供給し、第１の薬液放出部４ａ及び第２の薬液放出部４ｂから第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂに薬液５を供給してもよい。

このように充填部６を複数の充填部（第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂ）により構成することで、広範な幾何学的最適流量範囲で複数の充填部（第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂ）に薬液５を供給することができ、脱臭装置１００の脱臭効率を向上させることができる。薬液５を効率的に利用できるため、薬液５のランニングコストを低減することができる。
なお、幾何学的最適流量範囲での薬液の供給流量制御は実施形態１においても適用可能である。

なお、上記実施形態２、３においては、充填部６として第１の充填部６ａ及び第２の充填部６ｂからなる２つの充填部を備えた脱臭装置１００の例について説明したが、充填部を３つ以上の充填部により構成し、それぞれの充填部に対応させて、それぞれの充填部の直上に薬液放出部を設けても良い。すなわち、脱臭塔１の内部に１つの充填部とその直上に位置する１つの薬液放出部との組み合わせを１つの反応モジュールとし、２またはそれ以上の複数の反応モジュールを多段に積層し、循環薬液槽９上に設けてもよい。
制御装置３３は、多段に積層された複数の反応モジュールを、反応モジュールの数から１少ない予め設定した閾値を使用して、最上段のモジュールから下段のモジュールへと順に、薬液５の供給流量を制御すればよい。

例えば、上段から下段に順に配列した第１の充填部６ａ、第２の充填部６ｂ及び第３の充填部６ｃ並びに、それぞれに対応した第１の薬液放出部４ａ、第２の薬液放出部４ｂ及び第３の薬液放出部４ｃを備え、第１、第２及び第３の反応モジュールを構成する。そして、２つの予め設定した閾値である第１の閾値及び第２の閾値（＞第１の閾値）と検知器Ｓから入力した臭気成分の濃度とを順次比較する。

臭気成分の濃度が第１の閾値以下の場合には、薬液を供給する反応モジュールとして第１の反応モジュールを選択し、第１の反応モジュールにおける第１の薬液放出部４ａのみから薬液５を供給する。

臭気成分の濃度が第１の閾値より大きく第２の閾値以下の場合には、薬液を供給する反応モジュールとして第１の反応モジュール及び第２の反応モジュールを選択し、第１の反応モジュールにおける第１の薬液放出部４ａ及び第２の反応モジュールにおける第２の薬液放出部４ｂのみから薬液５を供給する。

臭気成分の濃度が第２の閾値より大きい場合には、薬液を供給する反応モジュールとして第１の反応モジュール、第２の反応モジュール及び第３の反応モジュールを選択し、第１の反応モジュールにおける第１の薬液放出部４ａ、第２の反応モジュールにおける第２の薬液放出部４ｂ及び第３の反応モジュールにおける第３の薬液放出部４ｃから薬液５を供給するよう構成すればよい。

すなわち、臭気成分の濃度に従い、複数の反応モジュールから薬液放出部から薬液５を放出する反応モジュールを選択し、臭気成分の濃度の増加に伴い薬液を供給する反応モジュールの数を順次増大させる。この場合、充填部に充填された触媒を有効に活用するために、臭気成分の濃度の増加とともに上段に設けられた反応モジュールから順に選択し、順次薬液を選択された反応モジュールに供給する。
逆にガスＧに含まれる臭気成分の濃度が減少した場合、臭気成分の濃度の減少とともに、下段に設けられた反応モジュールから順に選択し、選択された反応モジュールへの薬液の供給を停止する。従って、脱臭処理を行う場合、最上段に設置された反応モジュールには常に薬液が供給されている。
制御装置３３により、第１の薬液放出部４ａ、第２の薬液放出部４ｂ及び第３の薬液放出部４ｃに対応した第１の薬液循環ポンプ１２ａ、第２の薬液循環ポンプ１２ｂ及び第３の薬液循環ポンプ１２ｃを制御することで、それぞれの（第１、第２及び第３の）反応モジュールの運転を制御できる。

（脱臭効果の検証）
従来の脱臭装置９９と本発明に係る脱臭装置１００との運転コストの比較実験を行った。
図１１に示すように、導入された臭気成分を含むガスＧは２つに分岐され、バルブＶ１及びバルブＶ２により風量が調整され、従来の脱臭装置９９及び本発明に係る脱臭装置１００に導入される。脱臭処理されたガスＧは、ファンＦにより大気放出される。
脱臭装置９９は、次亜塩素酸（ＮａＯＣｌ）及びＮａＯＨの薬液を使用し、脱臭装置１００は、次亜塩素酸の制御のため電解槽を用い、ＮａＣｌ及びＮａＯＨの薬液を使用した。

上述のとおりそれぞれの脱臭装置９９、１００の入口側と出口側にガス検出器Ｓｉ及びＳｏを設置し、脱臭処理後のガスＧの臭気成分濃度を測定することができる。ガス検出器Ｓｉ及びＳｏの測定値を利用して、脱臭装置９９及び脱臭装置１００の最適な運転条件が決定される。
具体的には、図１１に示すように、ガスＧの臭気成分濃度は、入口側のガス検出器Ｓｉにより測定される。脱臭装置９９により脱臭処理されたガスＧの臭気成分濃度は、脱臭装置９９の出口側のガス検出器Ｓｏ１により測定され、脱臭装置１００により脱臭処理されたガスＧの臭気成分濃度は、脱臭装置１００の出口側のガス検出器Ｓｏ２により測定される。

なお、脱臭装置９９及び脱臭装置１００の入口側に、それぞれのガス検出器Ｓｉ１及びＳｉ２を設けて、脱臭装置９９及び脱臭装置１００の脱臭処理後のガスＧの臭気成分濃度を測定してもよい。脱臭装置１００は、ガス検出器Ｓｉ２（又はガス検出器Ｓｉ）の臭気成分濃度の測定値を利用して運転制御される。

比較試験のため、脱臭装置９９及び脱臭装置１００内のガスＧの流速を同一（１．０５［ｍ／ｓ］）に設定し、さらにガスＧの風量に対する薬液の散水量の比（［薬液の散水量］／［ガスＧの風量］）を同一に設定して、脱臭装置９９及び脱臭装置１００の最適な条件により、ガスＧの脱臭処理を行った。

以下に測定結果の例（異なる２日の測定例）を示すように、脱臭装置９９及び脱臭装置１００によりガスＧの臭気成分を十分に除去し得る条件で運転された。

（測定例１）測定日：２０２０年９月１７日
入口側の検出器Ｓｉにより測定した結果、ガスＧの臭気成分であるメチルメルカプタン、硫化水素、硫化メチル及び二硫化メチルの濃度は、それぞれ０．２８、６．４、０．０３２及び０．０２［ｐｐｍ］であることが確認された。
脱臭装置９９の出口側の検出器Ｓｏ１により測定した結果、脱臭処理後のガスＧのメチルメルカプタン、硫化水素、硫化メチル及び二硫化メチルの濃度は、それぞれ０．００５［ｐｐｍ］未満 、０．００１［ｐｐｍ］、０．００１［ｐｐｍ］未満及び０．００１［ｐｐｍ］未満であった。
脱臭装置１００の出口側の検出器Ｓｏ２により測定した結果、脱臭処理後のガスＧのメチルメルカプタン、硫化水素、硫化メチル及び二硫化メチルの濃度は、それぞれ０．００５［ｐｐｍ］未満 、０．００１［ｐｐｍ］未満、０．００１［ｐｐｍ］未満及び０．００１［ｐｐｍ］未満であった。

（測定例２）測定日：２０２０年１０月２１日
入口側の検出器Ｓｉにより測定した結果、ガスＧの臭気成分であるメチルメルカプタン、硫化水素、硫化メチル及び二硫化メチルの濃度は、それぞれ０．１４、５．２、０．０２３及び０．０１７［ｐｐｍ］であることが確認された。
脱臭装置９９の出口側の検出器Ｓｏ１により測定した結果、脱臭処理後のガスＧのメチルメルカプタン、硫化水素、硫化メチル及び二硫化メチルの濃度は、それぞれ０．００５［ｐｐｍ］未満、０．００３［ｐｐｍ］、０．００１［ｐｐｍ］未満及び０．００１未満であった。
脱臭装置１００の出口側の検出器Ｓｏ２により測定した結果、脱臭処理後のガスＧのメチルメルカプタン、硫化水素、硫化メチル及び二硫化メチルの濃度は、それぞれ０．００５［ｐｐｍ］未満、０．００１［ｐｐｍ］未満、０．００１［ｐｐｍ］未満及び０．００１［ｐｐｍ］未満であった。

図１２は、２０２０年９月１８日０時から２０２０年９月２６日０時までの期間の脱臭装置１００の次亜塩素酸濃度（図中Ａ）、入口硫化水素平均濃度（図中Ｂ）、薬液排出量（図中Ｃ）の経時変化を例示するグラフである。横軸は日時、左縦軸は薬液排出量［ｃｃ／ｍｉｎ］又は硫化水素濃度［ｐｐｍ］、右縦軸は次亜塩素酸濃度［ｐｐｍ］を示す。
なお、図１２は本質的に図５と同様の経時変化を示すグラフであるが、図５のグラフは視認性のため軸のスケールを調整していため、特に縦軸のスケールが図１２のグラフと異なる。

脱臭装置１００のランニングコスト低減効果を確認するため、脱臭装置９９及び脱臭装置１００において、１５日間ガスＧの脱臭処理を行い、脱臭風量１［ｍ^３］当たりの運転コスト（各薬液及び電力コスト）を算出して比較した。
その結果、本発明に係る脱臭装置１００の処理コストは、従来の脱臭装置９９の処理コストの０．３９倍（６１％低減）であり、脱臭装置１００により大幅なコスト低減を図ることが可能であることが確認された。

（臭気成分濃度の測定ユニット）
脱臭装置の脱臭効果を確認等するため、ガスＧの臭気成分濃度の測定を容易にすることができる測定ユニット５０について説明する。以下に説明するように測定ユニット５０は、検出器を稼働し、検出器の測定データを収集することができる。

脱臭装置１００の入口側及び出口側にガス検出器Ｓｉ及びＳｏを設けることで、脱臭処理の効果を確認することができる。具体的には、図１３に示すように、第１の配管３のガスＧの流入口２に入口側ガス検出器Ｓｉを設置し、脱臭塔１のガスＧの流出口８に出口側ガス検出器Ｓｏを設置する。入口側ガス検出器Ｓｉ（以下、第１のガス検出器Ｓ１と称することがある。）及び出口側ガス検出器Ｓｏ（以下、第２のガス検出器Ｓ２と称することがある。）は信号線３４ａ、３４ｂにより測定ユニット５０と電気的に接続されており、入口側ガス検出器Ｓｉ及び出口側ガス検出器Ｓｏの出力信号は測定ユニット５０に入力される。また、入口側ガス検出器Ｓｉ及び出口側ガス検出器Ｓｏは、測定ユニット５０から信号線３４ａ、３４ｂを介して電源が供給される。
なお、流出口８に排気ダクトを更に設け、排気ダクトに出口側ガス検出器Ｓｏを設置してもよい。

入口側ガス検出器Ｓｉ及び出口側ガス検出器Ｓｏは、脱臭装置１００へのガスＧの導入用配管及び処理されたガスＧの放出用配管に検出器用ポートを設け、各検出器Ｓｉ、Ｓｏの交換が可能なようにネジ等により着脱可能に設置してもよい。
また、検出器用ポートは、検出器Ｓｉ、Ｓｏを取り外した際には閉栓プラグをネジ等により取り付けることも可能である。

図１４は測定ユニット５０の構成例を具体的に示す図である。図１４（ａ）は測定ユニット５０の回路構成図を示し、図１４（ｂ）は測定ユニット５０の外観平面図、図１４（ｃ）は測定ユニット５０の外観斜視図である。

図１４（ａ）に示すように、電源用コネクタ５２、検出器用コネクタ５３ａ、５３ｂを備えた筐体５１は、その内部に、漏電ブレーカーＥＬＢ、直流電源ＤＣ１、ＤＣ２、データロガーＤＬ、切替スイッチＳＷ１、ＳＷ２及び検出器用制御回路ＣＴＬ１、ＣＴＬ２を備えている。

漏電ブレーカーＥＬＢは、漏電を感知して電力供給を遮断する安全装置である。

データロガーＤＬ及び直流電源ＤＣ１、ＤＣ２には、電源用コネクタ５２及び漏電ブレーカーＥＬＢを介して、外部の交流電源ＰＷから電力が供給されている。
直流電源ＤＣ１、ＤＣ２は、電源用コネクタ５２を介して供給される交流電力を直流電力に変換し、直流電力を制御回路ＣＴＬ１、ＣＴＬ２に供給する。

制御回路ＣＴＬ１、ＣＴＬ２は、検出器用コネクタ５３ａ、５３ｂを介して脱臭装置１００に設置された第１及び第２の検出器Ｓ１、Ｓ２に接続され、第１及び第２の検出器Ｓ１、Ｓ２に電力を供給するとともに、入力用信号線ＳＬＩ１、ＳＬＩ２を経由して、第１及び第２の検出器Ｓ１、Ｓ２からの出力信号（検出信号）を受信し、出力用信号線ＳＬＯ１、ＳＬＯ２及び切替スイッチＳＷ１、ＳＷ２を介してデータロガーＤＬに、臭気成分濃度のデータとして出力信号を出力する。

データロガーＤＬは、信号を入力する複数の入力チャネルを備えており、入力チャネル毎に、分析可能なレンジを適宜設定可能である。
切替スイッチＳＷ１、ＳＷ２は、第１及び第２の検出器Ｓ１、Ｓ２の出力信号レベルに合わせて、データロガーＤＬへの入力チャネルの選択を行うことができる。そのため、ガスＧに含まれる臭気成分濃度のレベル（低濃度又は高濃度）に応じて、切替スイッチＳＷ１、ＳＷ２によりデータロガーＤＬへの入力チャネルを選択でき、適切に精度良く臭気成分濃度の測定が可能である。

データロガーＤＬは、演算処理装置、記録装置及び表示画面（表示装置）を備えており、信号線を介して入力された各検出器Ｓ１、Ｓ２の臭気成分濃度に関する信号（検出信号）をデータとして記録装置に保存するとともに、表示画面にグラフ化して表示することができる。例えば、データロガーＤＬは、臭気成分濃度の経時変化をリアルタイムに表示画面に表示することができる。データロガーＤＬは表示装置を備えた市販のデータロガーを使用することができる。
なお、データロガーＤＬが検出信号をデータとして記録装置に保存するとは、例えば信号線を介して入力された検出信号（アナログ信号）をデジタル化し、記録装置に記録（保存）することを意味する。ただし、データロガーＤＬが入力する検出信号がデジタル信号の場合は、デジタル化処理をすることなく記録装置に記録することも可能である。

なお、測定ユニット５０に接続する検出器Ｓの台数は２台に限定されない。直流電源ＤＣ１（ＤＣ２）、切替スイッチＳＷ１（ＳＷ２）、制御回路ＣＴＬ１（ＣＴＬ２）の組み合わせを、検出器Ｓの台数に合わせて準備することで、１以上の任意の台数の検出器Ｓを測定ユニット５０に接続し、検出器Ｓの測定データを収集することができる。

図１４（ｂ）に示すように、筐体５１は、側面部に電源用コネクタ５２、検出器用コネクタ５３ａ、５３ｂを備え、上面に窓５４を備えている。窓５４は開口部に透明版が固定されている。窓５４を介してデータロガーＤＬの表示画面を視認（確認）することができる。
図１４（ｃ）に示すように、筐体５１の形状はアタッシュケース状（箱型の鞄状）であり、本体部５５（収容部）と蓋部５６とから構成されている。漏電ブレーカーＥＬＢ、直流電源ＤＣ１、ＤＣ２、データロガーＤＬ、切替スイッチＳＷ１、ＳＷ２及び制御回路ＣＴＬ１、ＣＴＬ２は、本体部５５に収容されている。電源用コネクタ５２及び検出器用コネクタ５３ａ、５３ｂは本体部に設けられ、窓５４は蓋部５６に設けられている。
本体部５５に対して蓋部５６を開いた状態で切替スイッチＳＷ１、ＳＷ２等の操作が可能となる。

本体部５５の前面部には取手５７及び留具５８（ロック機構）を備えられ、留具５８により、本体部５５と蓋部５６とが係脱可能に固定できる。
本体部５５及び蓋部５６の前面部と対向する背面部には、図示しない蝶番が設けられ、本体部５５及び蓋部５６は、蝶番により回動可能（開閉可能）に支持されている。
本体部５５と蓋部５６とを留具５８により固定した状態で、作業者が取手５７を把持し、持ち運ぶことができる。

電源用コネクタ５２に電源線を接続し、検出器用コネクタ５３ａ、５３ｂに検出器Ｓ１、Ｓ２を接続することができる。そのため、蓋部５６を閉じた状態で、検出器Ｓ１、Ｓ２を利用して臭気成分濃度を測定し、データロガーＤＬにより測定値をデータ化し、ログとして記録、蓄積することができ、さらに窓５４を介してデータロガーＤＬの表示装置に臭気成分濃度の測定データを視覚化し、確認することも可能である。なお、表示装置はデータロガーＤＬと独立して設け、筐体５１に収容してもよい。別途設けられた表示装置の電力は、漏電ブレーカーＥＬＢを経由して供給できる。
蓋部５６は、収容された各構成要素（漏電ブレーカーＥＬＢ、データロガーＤＬ等）を覆い、保護する効果を奏する。ガスＧの臭気成分濃度の測定時に不慮の事故で収容された構成要素が破損することを防止する。

測定ユニット５０は上述の実施形態に限定されないが、上述の実施形態の測定ユニット５０はアタッシュケース状の筐体５１に構成要素が統合されており、コンパクトで可搬に構成されている。
従って、必要に応じて測定ユニット５０を脱臭装置１００の検出器Ｓ（Ｓ１、Ｓ２）に接続し、容易にガスＧの臭気成分濃度を測定することができる。
なお、測定ユニット５０は従来の脱臭装置にも使用可能であり、既存の脱臭装置への利用も容易である。

上記のように、測定ユニット５０を脱臭装置に組み込むのではなく、独立して可搬に構成することで、１台の（同一の）測定ユニット５０を複数の脱臭装置や異なる場所に設置された脱臭装置に対して利用することも可能であり、脱臭装置のメンテナンス、状態診断、性能比較、脱臭条件の最適化や検出器の校正等にも利用可能である。そのため、脱臭処理業者だけでなく、脱臭装置の製造業者やメンテナンスサービス業者、環境調査業者も利用可能である。種々の用途、目的で、上述の可搬式の測定ユニット５０を使用することができる。

本発明に係る脱臭装置は、臭気成分の濃度が変動するガスＧに対して効率的に臭気成分を除去することが可能であり、装置のランニングコストの低減、又は操作者の作業負担を軽減することができ、産業上の利用可能性は大きい。

１００ 脱臭装置
１ 脱臭塔
２ ガス流入口
３ 第１の配管
３ａ 開口端部
４ 薬液放出部
４ａ 第１の薬液放出部
４ｂ 第２の薬液放出部
５ 薬液
６ 充填部
６ａ 第１の充填部
６ｂ 第２の充填部
７ デミスター
８ 流出口
９ 循環薬液槽（薬液貯留部）
１０ 第１の排出口（循環用排出口）
１０ａ 第１の循環用排出口
１０ｂ 第２の循環用排出口
１１ 第２の配管
１１ａ、１１ｂ 配管
１２ 第１のポンプ（薬液供給装置）
１２ａ 第１の薬液循環ポンプ
１２ｂ 第２の薬液循環ポンプ
１３ 第３の配管
１３ａ、１３ｂ 配管
１４ 分岐部
１５ 第４の配管
１６ 第５の配管
１７ 導入口
１７ａ 第１の導入口
１７ｂ 第２の導入口
１８ 流量計
１８ａ 第１の流量計
１８ｂ 第２の流量計
１９ ｐＨ計
２０ 次亜塩素酸濃度計
２１ 導入口
２２ 第２の排出口（外部排出口）
２３ 第６の配管
２４ 第２のポンプ（薬液排出装置）
２５ 排液管（ドレーン）
２６ 薬品（次亜塩素酸ナトリウム）供給装置
２７ 第７の配管
２８ 導入口
２９ タンク
３０ 第８の配管
３１ 導入口
３２ 第３のポンプ（アルカリ溶液供給ポンプ）
３３ 制御装置
３４、３４ａ、３４ｂ 第１の信号線（センサ用信号線）
３５ 第２の信号線（流量計用信号線）
３５ａ 第１の流量計用信号線
３５ｂ 第２の流量計用信号線
３６ 第３の信号線（ｐＨ計用信号線）
３７ 第４の信号線（濃度計用信号線）
３８ 第５の信号線
３９ 第６の信号線
４０ 第７の信号線
４１ 第８の信号線
５０ 測定ユニット
５１ 筐体
５２ 電源用コネクタ
５３ａ、５３ｂ 検出器用コネクタ
５４ 窓（開口部）
５５ 本体部
５６ 蓋部
５７ 取手
５８ 留具（ロック機構）
２６１ 電解槽
２６２ ポンプ
２６３ 第３の排出口
２６４ 配管
Ｇ ガス（被処理ガス）
Ｓ、Ｓ１、Ｓ２ 検出器
Ｓｉ、Ｓｉ１、Ｓｉ２ 入口側ガス検出器
Ｓｏ、Ｓｏ１、Ｓｏ２ 出口側ガス検出器
ＤＣ１、ＤＣ２ 直流電源
ＣＴＬ１、ＣＴＬ２ 制御回路
ＤＬ データロガー
ＥＬＢ 漏電ブレーカー
ＳＷ１、ＳＷ２ 切替スイッチ

Claims (15)

1. 臭気性ガスと薬液とを混合する脱臭塔と、
   前記脱臭塔の内部に設置された薬液放出部と、
   前記脱臭塔に流入する前記臭気性ガスに含まれる臭気成分の濃度を測定する検出器と、
   前記薬液放出部に前記薬液を供給する薬液供給装置と、
   前記薬液を外部に排出する薬液排出装置と、
   前記薬液供給装置及び前記薬液排出装置を制御する制御装置とを備え、
   前記制御装置は、
   前記検出器の出力する前記臭気成分の濃度に基づいて前記薬液の排出量を制御することを特徴とする脱臭装置。
2. 前記臭気成分の濃度が、予め定められた期間における濃度の積算値であるように構成された請求項１記載の脱臭装置。
3. 前記検出器の出力する臭気成分の濃度に基づいて前記薬液の前記薬液放出部への流量を制御することを特徴とする請求項１又は２記載の脱臭装置。
4. 充填剤を備えた充填部を更に具備すると共に、前記充填部と前記薬液放出部とで反応モジュールを構成し、
   前記脱臭塔の内部に前記反応モジュールが複数設けられ、
   前記制御装置は、前記検出器の出力する臭気成分の濃度に基づいて、前記薬液放出部のそれぞれに対する前記薬液の流量を制御することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の脱臭装置。
5. 前記検出器は所定のサンプリング周期で臭気成分の濃度を測定し、
   前記制御装置は、前記サンプリング周期より長い時間間隔で前記検出器の出力する臭気成分の濃度を積算することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項記載の脱臭装置。
6. 前記薬液に薬品成分を供給する薬品成分供給装置を備え、
   前記制御装置は前記薬品成分供給装置を制御し、
   前記検出器の出力する臭気成分の濃度に基づいて前記薬液に供給する前記薬品成分の量を制御することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項記載の脱臭装置。
7. 前記薬品成分は次亜塩素酸ナトリウムであり、前記薬品成分供給装置は、電解槽を含むことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項記載の脱臭装置。
8. 臭気成分を含む臭気性ガスを脱臭塔内で薬液と反応させて脱臭する脱臭方法であり、
   前記脱臭塔に流入する臭気性ガスに含まれる臭気成分の濃度を検出器により測定する工程と、
   前記臭気成分の濃度に基づいて前記脱臭塔から前記薬液の排出量を制御することを特徴とする脱臭方法。
9. 前記検出器が測定した臭気成分の濃度に基づいて前記脱臭塔に放出する前記薬液の流量を制御する工程を更に含むことを特徴とする請求項８記載の脱臭方法。
10. 前記検出器が測定した臭気成分の濃度に基づいて前記薬液に供給する次亜塩素酸ナトリウムの量を制御する工程を更に含むことを特徴とする請求項８又は９記載の脱臭方法。
11. 充填剤を備えた充填部を更に具備すると共に、前記充填部と前記薬液放出部とで反応モジュールを構成し、
    前記脱臭塔の内部に前記反応モジュールが複数設けられ、
    前記検出器が測定した臭気成分の濃度に基づいて選択された前記反応モジュールの前記薬液放出部に前記薬液を供給する工程を含むことを特徴とする請求項８記載の脱臭方法。
12. 前記薬液放出部から放出する前記薬液の流量を幾何学的最適流量範囲で制御する工程を含むことを特徴とする請求項１１記載の脱臭方法。
13. 電源用コネクタ及び検出器用コネクタを有する筐体を備え、
    前記筐体内には、直流電源と検出器用制御回路とデータロガーとを有し、
    前記直流電源は前記電源用コネクタを介して供給される交流電力を直流電力に変換し前記検出器用制御回路に供給し、
    前記検出器用制御回路は前記検出器用コネクタ介して接続される検出器に電力を供給するとともに、前記検出器からの信号を受信し、前記データロガーに出力し、
    前記データロガーは前記検出器用制御回路から入力した信号をデータとして記録することを特徴とする測定ユニット。
14. 前記筐体は窓を有し、
    前記測定ユニットは表示装置を有し、
    前記表示装置は、前記データを表示可能であり、前記表示装置は前記窓から視認可能であることを特徴とする請求項１３記載の測定ユニット。
15. 前記筐体は本体部と、前記本体部に開閉可能に支持された蓋部とを有し、
    前記窓は前記蓋部に設けられ、
    前記電源用コネクタ及び前記検出器用コネクタは、前記本体部に設けられていることを特徴とする請求項１４記載の測定ユニット。

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