JP2022037588A

JP2022037588A - 流体制御機器用子局

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Publication number: JP2022037588A
Application number: JP2020141803A
Authority: JP
Inventors: 勢太渡邉; Seita Watanabe
Original assignee: CKD Corp
Current assignee: CKD Corp
Priority date: 2020-08-25
Filing date: 2020-08-25
Publication date: 2022-03-09

Abstract

【課題】信号の授受による流体制御機器の応答時間の遅延やノイズの影響を低減することや、適切なＰＩＤパラメータの設定にかかる作業負担を軽減することが可能な流体制御機器用子局を提供する。【解決手段】電空レギュレータ１３と、電空レギュレータ１３が出力する制御流体の目標圧力値を指令するための信号である指令目標値を出力するマスタ１１と、電空レギュレータ１３が出力する制御流体の圧力値を検知し、検知信号を出力する圧力センサ１４と、から構成されるフィールドネットワーク１に用いられ、マスタ１１と、電空レギュレータ１３と、圧力センサ１４との間の信号を中継する流体制御機器用子局１２において、流体制御機器用子局１２が、指令目標値と、検知信号に基づき、電空レギュレータ１３のフィードバック制御を行うフィードバック制御演算部１２１Ａを備える。【選択図】図１

Description

本発明は、流体制御機器と、流体制御機器の制御を行うための指令信号を出力するマスタと、流体制御機器の出力を検知し、検知信号を出力するセンサと、から構成されるフィールドネットワークに用いられ、マスタと、流体制御機器と、センサとの間の信号を中継する流体制御機器用子局に関するものである。

半導体の材料として用いられるウエハには、高い平坦性、無汚染の表面が求められる。そのため、ウエハの製造工程においては、例えば、きわめて平滑な研磨面を得ることが可能な、化学的機械研磨法により、ウエハ表面の研磨が行われる。このウエハ表面の研磨は、例えば、回転される研磨パッドにウエハ表面を接触させることで行われる。この接触させる際の研磨パッドとウエハとの接触圧力の制御は、例えば空気圧により行われ、この空気圧の制御は、例えば、特許文献１に示すような、流体制御機器としての電空レギュレータにより行われる。

電空レギュレータは、例えば、図４に示す電空レギュレータ１３のように、マスタ５１と、流体制御機器用子局５２と、圧力センサ１４とによりフィールドネットワーク５を構成しており、フィードバック制御（ＰＩＤ制御）により制御される。

マスタ５１は、電空レギュレータ１３が出力する圧力値の目標値としての指令目標値や、電空レギュレータ１３の操作量として、フィードバック制御を行うためのフィードバック指令値の出力を行う。

マスタ５１は、電空レギュレータ１３のフィードバック制御を行うためのフィードバック制御演算部５１ＡおよびＰＩＤパラメータを設定するためのパラメータ設定部５１Ｂを備えている。また、マスタ５１は、ＰＩＤパラメータ設定モードと、電空レギュレータ制御モードを有している。作業者がＰＩＤパラメータ設定モードを選択すると、パラメータ設定部５１ＢによりＰＩＤパラメータが算出され、算出されたＰＩＤパラメータをマスタ５１に記憶させることが可能である。そして、電空レギュレータ制御モードを選択すると、フィードバック制御演算部５１Ａが、パラメータ設定部５１Ｂにより算出されたＰＩＤパラメータや、後述する圧力センサ１４から出力される検知信号に基づいて、電空レギュレータ１３が出力する圧力値が指令目標値に近づくよう、電空レギュレータ１３へのフィードバック指令値を調整し、当該フィードバック指令値により電空レギュレータ１３の制御を行う。さらにまた、マスタ５１は、流体制御機器用子局５２とデジタル信号線５３により接続されており、マスタ５１と流体制御機器用子局５２とは、相互にデジタル信号の授受をすることが出来る。

流体制御機器用子局５２は、ＣＰＵ５２１と、Ｄ／Ａ変換部５２２と、Ａ／Ｄ変換部５２３と、を備える。また、流体制御機器用子局５２には、アナログ信号線５４，５５により、電空レギュレータ１３および圧力センサ１４が接続されている。これにより、流体制御機器用子局５２は、電空レギュレータ１３にアナログ電圧信号を送信することが出来、圧力センサ１４から出力されるアナログ電圧信号を受信することが出来る。

電空レギュレータ１３は、制御流体をエアとする流体制御機器であり、流体制御機器用子局５２からアナログ信号線５５を介して送信される信号に基づき、出力するエアの圧力値を制御する。

圧力センサ１４は、電空レギュレータ１３の出力ポートにおける圧力値を検知するものである。そして、検知した圧力値を、検知信号として出力を行う。この圧力センサ１４は、電空レギュレータ１３と一体とされるものでも良いし、電空レギュレータ１３と別体であっても良い。

以上のような構成のフィールドネットワーク５によれば、電空レギュレータ１３の制御は以下のようにして行われる。

まず、作業者は、まずマスタ５１をＰＩＤパラメータ設定モードとし、パラメータ設定部５１Ｂにより、ＰＩＤパラメータを算出し、算出されたＰＩＤパラメータをマスタ５１に記憶させておく。

そして、マスタ５１を電空レギュレータ制御モードに切り替える。まず、マスタ５１は、指令目標値を、流体制御機器用子局５２に出力する。この指令目標値はデジタル信号であり、流体制御機器用子局５２は、指令目標値を受けると、Ｄ／Ａ変換部５２２により、指令目標値をアナログ電圧信号に変換し、電空レギュレータ１３に出力する。電空レギュレータ１３は、この指令目標値を受け、出力する圧力値の制御を開始する。

そして、圧力センサ１４は、電空レギュレータ１３の出力ポートにおける圧力値を検知しており、その検知された結果を、検知信号として、アナログ信号線５５を介して、流体制御機器用子局５２に出力する。この検知信号はアナログ電圧信号である。

流体制御機器用子局５２は、圧力センサ１４からの検知信号を受信すると、該検知信号を、Ａ／Ｄ変換部５２３により、デジタル信号に変換する。そして、デジタル信号に変換された検知信号は、マスタ５１に送信される。フィードバック制御演算部５１Ａが、検知信号および予め設定されたＰＩＤパラメータに基づいて、電空レギュレータ１３が出力する圧力値が目標値に近づくよう、電空レギュレータ１３へのフィードバック指令値を調整し、調整されたフィードバック指令値を、デジタル信号線５３を介して、流体制御機器用子局５２に出力する。このフィードバック指令値はデジタル信号である。

流体制御機器用子局５２は、フィードバック指令値を受信すると、Ｄ／Ａ変換部５２２により、フィードバック指令値をアナログ電圧信号に変換し、電空レギュレータ１３に出力する。電空レギュレータ１３は、このフィードバック指令値を受け、出力する圧力値の制御を行う。

特許第４６１５７５３号公報

しかしながら、上記従来技術には次のような問題があった。
圧力センサ１４からの出力は、流体制御機器用子局５２に送られ、さらにマスタ５１に送られる。そして、この出力に基づいたフィードバック指令値が、マスタ５１から流体制御機器用子局５２に送られ、さらに電空レギュレータ１３に送られる。このように信号の授受を行うに当たって、信号が経由する機器の個数が多いため、圧力センサ１４の出力があってから、実際に電空レギュレータ１３が出力する圧力値が変動するまでの応答時間に遅延が生じるおそれがある。また、信号が経由する機器の個数が多いと、信号の授受を行う際に、信号がノイズの影響を受ける可能性が高くなる。応答時間の遅延やノイズの影響は微少なものと考えられるが、特に、電空レギュレータ１３がウエハの研磨装置に用いられる場合、ウエハ表面には極めて高い平坦性が要求されるため、微少な応答時間の遅延やノイズによる影響が、ウエハの品質に悪影響を与えるおそれがある。

マスタ５１に、複数の流体制御機器用子局５２を並列して接続することで、複数の電空レギュレータ１３を導入することが可能であるが、電空レギュレータ１３を使用する現場において、複数ある電空レギュレータ１３のそれぞれに対して、適切なＰＩＤパラメータの設定を行わなければならない。ＰＩＤパラメータの設定には時間がかかるため、作業負担の軽減が望まれる。

本発明は、上記問題点を解決するためのものであり、信号の授受による流体制御機器の応答時間の遅延やノイズの影響を低減することや、適切なＰＩＤパラメータの設定にかかる作業負担を軽減することが可能な流体制御機器用子局を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明の流体制御機器用子局は、次のような構成を有している。

（１）流体制御機器と、流体制御機器の出力の目標値を指令するための信号である指令目標値を出力するマスタと、流体制御機器の出力を検知し、検知信号を出力するセンサと、から構成されるフィールドネットワークに用いられ、マスタと、流体制御機器と、センサとの間の信号を中継する流体制御機器用子局において、流体制御機器用子局が、指令目標値と、検知信号に基づき、流体制御機器のフィードバック制御を行うフィードバック制御演算部を備えること、を特徴とする。

（１）に記載の流体制御機器用子局は、流体制御機器（例えば電空レギュレータ）と、流体制御機器の出力の目標値（例えば電空レギュレータが出力する制御流体の目標圧力値）を指令するための信号である指令目標値を出力するマスタと、流体制御機器の出力（例えば電空レギュレータが出力する制御流体の圧力値）を検知し、検知信号を出力するセンサ（例えば圧力センサ）と、から構成されるフィールドネットワークに用いられるものであり、指令目標値と、検知信号に基づき、流体制御機器のフィードバック制御を行うフィードバック制御演算部を備えている。したがって、流体制御機器用子局自身が、指令目標値と検知信号とに基づいて、流体制御機器の出力が指令目標値に近づくよう、流体制御機器のフィードバック制御を行うことが出来る。流体制御機器用子局自身がフィードバック制御を行うため、フィードバック制御を行うための信号の授受が行われるに当たり、信号が経由する機器の個数を従来よりも少なくすることが出来る。よって、センサから検知信号の出力があってから、実際に流体制御機器の出力が変動するまでの応答時間に遅延が生じるおそれが低減される。また、信号が経由する機器の個数が従来よりも少なくすることで、信号の授受を行う際に、信号がノイズの影響を受ける可能性が低減される。このような流体制御機器用子局を、例えばウエハの研磨装置に用いられる電空レギュレータに用いれば、微少な応答時間の遅延やノイズによる影響によるウエハの品質への悪影響を抑えることが可能である。

（２）（１）に記載の流体制御機器用子局において、フィードバック制御はＰＩＤ制御であり、流体制御機器用子局は、ＰＩＤパラメータを設定するパラメータ設定部を備えること、を特徴とする。

（２）に記載の流体制御機器用子局によれば、作業効率の向上を図ることが出来る。例えば、半導体製造メーカが流体制御機器を用いる場合、マスタは半導体製造メーカの設備であり、流体制御機器用子局は、流体制御機器とともに流体制御機器メーカから調達されることが一般的である。このような中、流体制御機器用子局が、ＰＩＤパラメータを設定するパラメータ設定部を備えていれば、流体制御機器メーカは、例えば、半導体製造メーカが半導体の試作段階で決定したＰＩＤパラメータを、出荷段階で流体制御機器用子局に設定した状態で、半導体製造メーカに納入することが出来る。すると、作業現場において流体制御機器が複数台導入される場合でも、流体制御機器のそれぞれに対して、個々にＰＩＤパラメータを設定する必要がなくなるため、現場における作業負担の軽減を図ることが出来る。

本発明の流体制御機器用子局は、上記構成を有することにより、信号の授受による流体制御機器の応答時間の遅延やノイズの影響を低減することや、適切なＰＩＤパラメータの設定にかかる作業負担を軽減することが可能となる。

本実施形態に係る流体制御機器用子局を用いて構成したフィールドネットワークの構成を表すブロック図である。フィールドネットワークに用いる電空レギュレータの回路図である。流体制御機器用子局の動作フローを表す図である。従来技術に係るフィールドネットワークの構成を表すブロック図である。

本発明の流体制御機器用子局の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図１は、本実施形態に係る流体制御機器用子局１２を用いて構成したフィールドネットワーク１の構成を表すブロック図である。図２は、フィールドネットワーク１に用いる電空レギュレータ１３の回路図である。

図１に示すフィールドネットワーク１は、例えば、半導体の材料であるウエハの研磨装置に用いられる。フィールドネットワーク１は、親局としてのマスタ１１と、子局としての流体制御機器用子局１２とが、例えばＣＣ－Ｌｉｎｋ（登録商標）により接続されているシステムであり、さらに流体制御機器用子局１２に接続される電空レギュレータ（流体制御機器の一例）１３と、圧力センサ（センサの一例）１４と、から構成されている。このようなフィールドネットワーク１によって、電空レギュレータ１３のフィードバック制御（ＰＩＤ制御）を行うことが出来る。

マスタ１１は、例えばプログラマブルロジックコントローラ（ＰＬＣ）であり、信号を入出力することでフィールドネットワーク１全体の管理等を行うユニットである。電空レギュレータ１３が出力する制御流体の目標圧力値として、指令目標値の出力を行う。

また、マスタ１１は、流体制御機器用子局１２とデジタル信号線１５により接続されており、マスタ１１と流体制御機器用子局１２とは、相互にデジタル信号の授受をすることが出来る。

流体制御機器用子局１２は、ＣＰＵ１２１と、Ｄ／Ａ変換部１２２と、Ａ／Ｄ変換部１２３とを備える。また、ＣＰＵ１２１は、電空レギュレータ１３のフィードバック制御を行うためのフィードバック制御演算部１２１Ａと、ＰＩＤパラメータを算出し、算出したＰＩＤパラメータを流体制御機器用子局１２に記憶させるパラメータ設定部１２１Ｂとを有する。

流体制御機器用子局１２は、ＰＩＤパラメータ設定モードと、電空レギュレータ制御モードを有している。作業者がＰＩＤパラメータ設定モードを選択すると、流体制御機器用子局１２は、パラメータ設定部１２１Ｂにより、電空レギュレータ１３をフィードバック制御するためのＰＩＤパラメータを算出し、記憶することが可能である。そして、電空レギュレータ制御モードを選択すると、流体制御機器用子局１２は、フィードバック制御演算部５１Ａにより、電空レギュレータ１３が出力する圧力値がマスタ１１から受信した指令目標値に近づくよう、電空レギュレータ１３へのフィードバック指令値を調整する。このフィードバック指令値の調整は、パラメータ設定部５１Ｂにより算出されたＰＩＤパラメータや、後述する圧力センサ１４から出力される検知信号に基づいて行われる。

また、Ｄ／Ａ変換部１２２は、デジタル信号をアナログ電圧信号に変換するものである。さらにまた、Ａ／Ｄ変換部１２３は、アナログ電圧信号をデジタル信号に変換するものである。

流体制御機器用子局１２には、アナログ信号線１６により、電空レギュレータ１３が接続されている。より具体的には、電空レギュレータ１３は、流体制御機器用子局１２のＤ／Ａ変換部１２２と、アナログ信号線１６により接続されている。これにより、流体制御機器用子局１２は、マスタ１１から出力される指令目標値や、フィードバック制御演算部１２１Ａにより調整されたフィードバック指令値を、Ｄ／Ａ変換部１２２によってアナログ電圧信号に変換した上で、電空レギュレータ１３に送信することが出来る。

また、流体制御機器用子局１２には、アナログ信号線１７により、圧力センサ１４が接続されている。より具体的には、圧力センサ１４は、流体制御機器用子局１２のＡ／Ｄ変換部１２３と、アナログ信号線１７により接続されている。これにより、流体制御機器用子局１２は、圧力センサ１４から出力されるアナログ電圧信号を、Ａ／Ｄ変換部１２３によってデジタル信号に変換した上で、受信することが出来る。

電空レギュレータ１３は、制御流体をエアとする流体制御機器であり、流体制御機器用子局１２からアナログ信号線５５を介して送信されるフィードバック指令値に基づき、出力するエアの圧力値を、約１００Ｋｐａ～５００Ｋｐａの間で制御する。

電空レギュレータ１３は、ウエハ研磨装置において、ウエハ表面を研磨パッドに接触させる際の接触圧力の調整に用いられるものである。電空レギュレータ１３は、図２に示すように、制御回路１３８と、制御回路１３８により制御される給気用制御弁１３２および排気用制御弁１３３と、給気用制御弁１３２および排気用制御弁１３３により動作される主弁部１３４と、制御流体を入力する入力ポート１３１と、制御流体を出力する出力ポート１３７と、からなる。

入力ポート１３１は入力流路１３９を介して、出力ポート１３７は出力流路１４０を介して、それぞれ主弁部１３４に連通している。入力ポート１３１は、制御流体（例えばエア）の供給源に接続されており、制御流体の供給がされる。主弁部１３４は図示しない弁体と弁座を備えており、該弁体と該弁座が当接離間することで、出力ポート１３７から出力される制御流体の圧力値を調整する。この制御流体の圧力値の調整は、マスタ１１から出力される指令目標値や、流体制御機器用子局１２から出力されるフィードバック指令値に基づき調整されるものであり、制御流体の圧力値が調整されることで、ウエハ研磨装置において、ウエハ表面を研磨パッドに接触させる際の接触圧力の調整が行われる。

給気用制御弁１３２は、入力流路１３９を介して入力ポート１３１に接続され、流路１４２を介して主弁部１３４のパイロット室（図示せず）に接続されている。給気用制御弁１３２は、パイロット室へ給気を行うことで、主弁部１３４を動作させ、入力ポート１３１に入力される制御流体の、出力ポート１３７における出力圧力値を制御する。

排気流路１４１は、給気用制御弁１３２と主弁部１３４との間で流路１４２から分岐し、大気に開放された排気ポート１３５に接続されている。排気流路１４１には、排気用制御弁１３３が配設されている。この排気用制御弁１３３は、主弁部１３４のパイロット室から流路１４２を介して排気ポート１３５に排気する制御流体を制御する。

制御回路１３８は、給気用制御弁１３２と排気用制御弁１３３に、それぞれ電気的に接続されている。制御回路１３８は、流体制御機器用子局１２に接続されており、指令目標値やフィードバック指令値を、アナログ電圧信号として受信する。制御回路１８は、受信した指令目標値やフィードバック指令値に基づいて、給気用制御弁１３２または排気用制御弁１３３の開閉を制御し、主弁部１３４動作させることで、入力ポート１３１に入力される制御流体の、出力ポート１３７における圧力値を調整する。

圧力センサ１４は、電空レギュレータ１３の出力流路１４０に接続されている。これにより、圧力センサ１４は、常時、出力ポート１３７における制御流体の圧力値を検知することが出来る。検知された圧力値は、検知信号として、アナログ信号線１７を介して流体制御機器用子局１２に出力される。この圧力センサ１４は、図２においては、電空レギュレータ１３と別体とされているが、電空レギュレータ１３と一体とされるものであっても良い。

以上のような構成のフィールドネットワーク１において、流体制御機器用子局１２は、以下のようにして電空レギュレータ１３の制御を行う。図３は、流体制御機器用子局１２の動作フローを表す図である。

まず、電空レギュレータ１３のフィードバック制御を行うためのＰＩＤパラメータを設定するため、作業者は、流体制御機器用子局１２をＰＩＤパラメータ設定モードとしておく。流体制御機器用子局１２を動作させると、まず、流体制御機器用子局１２は、マスタ１１から指令目標値を受信する（Ｓ１１）。そして、次に、流体制御機器用子局１２は、ＰＩＤパラメータ設定モードか、電空レギュレータ制御モードのどちらに設定されているかを判断する（Ｓ１２）。ＰＩＤパラメータ設定モードとされていると判断されれば、パラメータ設定部５１Ｂが動作される（Ｓ１２：設定モード）。そして、流体制御機器用子局１２は、パラメータ設定部５１Ｂにより、電空レギュレータ１３の出力する圧力値をマスタ１１から受信した指令目標値に近づけるために適切なＰＩＤパラメータを算出し、算出したＰＩＤパラメータを記憶する（Ｓ１６）。

ＰＩＤパラメータを設定した上、電空レギュレータ１３の制御を行う場合には、流体制御機器用子局１２を電空レギュレータ制御モードに切り替える。流体制御機器用子局１２を電空レギュレータ制御モードに切り替えると、フィードバック制御演算部が動作される（Ｓ１１：制御モード）。そして、流体制御機器用子局１２は、圧力センサ１４の検知信号を、アナログ信号線５５を介して、受信する（Ｓ１３）。この検知信号は、アナログ電圧信号であるため、Ａ／Ｄ変換部１２３によりデジタル信号に変換された上、フィードバック制御に用いられる。そして、フィードバック制御演算部１２１Ａが、デジタル信号に変換された検知信号と、予め設定されたＰＩＤパラメータに基づいて、電空レギュレータ１３が出力する圧力値が、マスタ１１から受信した指令目標値に近づくよう、電空レギュレータ１３へのフィードバック指令値を調整する（Ｓ１３）。このフィードバック指令値は、デジタル信号であるため、流体制御機器用子局１２は、フィードバック指令値を、Ｄ／Ａ変換部１２２によりデジタル信号に変換した上、電空レギュレータ１３に出力する（Ｓ１５）。電空レギュレータ１３の制御回路１３８は、このフィードバック指令値を受け、出力する圧力値の制御を行う。

なお、上記実施形態においては、マスタ１１に対して、１台の流体制御機器用子局１２を接続し、１台の電空レギュレータ１３の制御を行っているが、マスタ１１に対して、複数台の流体制御機器用子局１２を接続することで、複数台の電空レギュレータ１３の制御を行うことが可能である。複数台の流体制御機器用子局１２を用いる場合、例えば、半導体の試作段階などにおいて、１台目の流体制御機器用子局１２で設定したＰＩＤパラメータを、２台目以降の流体制御機器用子局１２に、出荷される段階で設定しておけば、半導体の生産現場で、２台目以降の流体制御機器用子局１２に個々にＰＩＤパラメータを設定する必要が無い。

以上説明したように、本実施形態の流体制御機器用子局１２によれば、
（１）流体制御機器（例えば電空レギュレータ１３）と、流体制御機器（電空レギュレータ１３）の出力の目標値（例えば電空レギュレータ１３が出力する制御流体の目標圧力値）を指令するための信号である指令目標値を出力するマスタ１１と、流体制御機器の出力（例えば電空レギュレータ１３が出力する制御流体の圧力値）を検知し、検知信号を出力するセンサ（例えば圧力センサ１４）と、から構成されるフィールドネットワーク１に用いられ、マスタ１１と、流体制御機器（電空レギュレータ１３）と、センサ（圧力センサ１４）との間の信号を中継する流体制御機器用子局１２において、流体制御機器用子局１２が、指令目標値と、検知信号に基づき、流体制御機器（電空レギュレータ１３）のフィードバック制御を行うフィードバック制御演算部１２１Ａを備えること、を特徴とする。

（１）に記載の流体制御機器用子局１２よれば、流体制御機器用子局１２自身が、指令目標値と検知信号とに基づいて、流体制御機器（電空レギュレータ１３）の出力が指令目標値に近づくよう、流体制御機器（電空レギュレータ１３）のフィードバック制御を行うことが出来る。流体制御機器用子局１２自身がフィードバック制御を行うため、フィードバック制御を行うための信号の授受が行われるに当たり、信号が経由する機器の個数を従来よりも少なくすることが出来る。よって、センサ（圧力センサ１４）から検知信号の出力があってから、実際に流体制御機器（電空レギュレータ１３）の出力（圧力値）が変動するまでの応答時間に遅延が生じるおそれが低減される。また、信号が経由する機器の個数が従来よりも少なくすることで、信号の授受を行う際に、信号がノイズの影響を受ける可能性が低減される。このような流体制御機器用子局１２を、例えばウエハの研磨装置に用いられる電空レギュレータ１３に用いることで、微少な応答時間の遅延やノイズによる影響によるウエハの品質への悪影響を抑えることが可能である。

（２）（１）に記載の流体制御機器用子局１２において、フィードバック制御はＰＩＤ制御であり、流体制御機器用子局１２は、ＰＩＤパラメータを設定するパラメータ設定部１２１Ｂを備えること、を特徴とする。

（２）に記載の流体制御機器用子局１２によれば、作業効率の向上を図ることが出来る。例えば、半導体製造メーカが流体制御機器（例えば電空レギュレータ１３）を用いる場合、マスタ１１は半導体製造メーカの設備であり、流体制御機器用子局１２は、流体制御機器（電空レギュレータ１３）とともに流体制御機器メーカから調達されることが一般的である。このような中、流体制御機器用子局１２が、ＰＩＤパラメータを設定するパラメータ設定部１２１Ｂを備えていれば、流体制御機器メーカは、例えば、半導体製造メーカが半導体の試作段階で決定したＰＩＤパラメータを、出荷段階で流体制御機器用子局１２に設定した状態で、半導体製造メーカに納入することが出来る。すると、作業現場において流体制御機器（電空レギュレータ１３）が複数台導入される場合でも、流体制御機器（電空レギュレータ１３）のそれぞれに対して、個々にＰＩＤパラメータを設定する必要がなくなるため、現場における作業負担の軽減を図ることが出来る。

なお、本実施形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではない。したがって本発明は当然に、その要旨を逸脱しない範囲内で様々な改良、変形が可能である。例えば、流体制御機器として電空レギュレータ１３を挙げているが、その他の流体制御機器でも良い。また、センサとして圧力センサ１４を挙げているが、これに限定されない。

１フィールドネットワーク
１１マスタ
１２流体制御機器用子局
１３電空レギュレータ（流体制御機器の一例）
１４圧力センサ（センサの一例）
１２１Ａフィードバック制御演算部
１２１Ｂパラメータ設定部

Claims

流体制御機器と、前記流体制御機器の出力の目標値を指令するための信号である指令目標値を出力するマスタと、前記流体制御機器の出力を検知し、検知信号を出力するセンサと、から構成されるフィールドネットワークに用いられ、前記マスタと、前記流体制御機器と、前記センサとの間の信号を中継する流体制御機器用子局において、
流体制御機器用子局が、前記指令目標値と、前記検知信号に基づき、前記流体制御機器のフィードバック制御を行うフィードバック制御演算部を備えること、
を特徴とする流体制御機器用子局。
請求項１に記載の流体制御機器用子局において、
前記フィードバック制御はＰＩＤ制御であり、前記流体制御機器用子局は、ＰＩＤパラメータを設定するパラメータ設定部を備えること、
を特徴とする流体制御機器用子局。
請求項１または２に記載の流体制御機器用子局において、
前記流体制御機器は電空レギュレータであること、
前記マスタは、前記指令目標値として、前記電空レギュレータが出力する制御流体の目標圧力値を指令すること、
前記センサは圧力センサであり、前記電空レギュレータが出力する制御流体の圧力値を検知すること、
前記フィードバック制御演算部は、前記圧力値を、前記目標圧力値に近づけるよう、前記電空レギュレータを制御すること、
を特徴とする流体制御機器用子局。