JP2022024958A - 触媒及び排ガス浄化装置 - Google Patents
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Abstract
Description
《態様1》
Pd及びRhを含有している複数の触媒金属粒子を含有している触媒であって、
複合化率が、60%以上であり、
ここで、走査型透過電子顕微鏡(STEM)によって観察して、面積円相当径が1nm以上の前記触媒金属粒子を30個以上無作為に選択し、選択された前記触媒金属粒子に対してそれぞれエネルギー分散型X線分析(EDX)によって元素分析を行い、選択された前記触媒金属粒子全体でのRh含有率を原子数割合で計算し、かつ選択された前記触媒金属粒子全体でのRh含有率に対して60%~140%のRh含有率を有する前記触媒金属粒子を、PdとRhとが複合化された触媒金属粒子としたときに、選択された前記触媒金属粒子全体の数に対する、PdとRhとが複合化された触媒金属粒子の数の割合を、前記複合化率とする、
触媒。
《態様2》
前記触媒金属粒子における、Pd及びRhの原子総数に対するRhの原子総数の割合が、0.5原子%~15原子%である、態様1に記載の触媒。
《態様3》
複数の前記触媒金属粒子の平均一次粒子径が、1nm~200nmである、態様1又は2に記載の触媒。
《態様4》
組成比がCO:2%、H2O:10%、及びN2:バランスである、リッチ雰囲気ガス、並びに組成比がO2:5%、H2O:10%、及びN2:バランスである、リーン雰囲気ガスを、5分毎に交互に切り替えつつ、1000℃で5時間行う熱耐久処理後における前記複合化率が、60%以上である、態様1~3のいずれか一つに記載の触媒。
《態様5》
複数の前記触媒金属粒子が、担体粒子に担持されている、態様1~4のいずれか一つに記載の触媒。
《態様6》
前記担体粒子が、SiO2、MgO、ZrO2、Ce2、Al2O3、又はTiOから選択される酸化物、又はこれらの複合酸化物である、態様5に記載の触媒。
《態様7》
排ガス浄化用触媒である、態様1~6のいずれか一つに記載の触媒。
《態様8》
基材、及び前記基材上に担持されている、態様7に記載の触媒を有しており、
前記基材は、排ガス流れ上流端及び排ガス流れ下流端を有しており、
前記触媒は、前記排ガス流れ上流端から、前記排ガス流れ下流端方向に向かって30mmまでの長さの領域内に、又は前記排ガス流れ上流端から、前記基材の前記排ガス流れ上流端と前記排ガス流れ下流端との間の距離の50%の領域内に担持されている、排ガス浄化装置。
《態様9》
前記触媒が、前記基材上に形成されている最表層に含有されている、態様8に記載の排ガス浄化装置。
《態様10》
前記最表層と前記基材との間に下側層を有している、態様9に記載の排ガス浄化装置。
《態様11》
前記基材が、ハニカム基材であり、前記触媒が、前記ハニカム基材の流路内に担持されている、態様8~10のいずれか一つに記載の排ガス浄化装置。
本開示の触媒は、Pd及びRhを含有している複数の触媒金属粒子を含有している触媒であって、複合化率が、60%以上である。ここで、走査型透過電子顕微鏡(STEM)によって観察して、面積円相当径が1nm以上の触媒金属粒子を30個以上無作為に選択し、選択された触媒金属粒子に対してそれぞれエネルギー分散型X線分析(EDX)によって元素分析を行い、選択された触媒金属粒子全体でのRh含有率を原子数割合で計算し、かつ選択された触媒金属粒子全体でのRh含有率に対して60%~140%のRh含有率を有する触媒金属粒子を、PdとRhとが複合化された触媒金属粒子としたときに、選択された触媒金属粒子全体の数に対する、PdとRhとが複合化された触媒金属粒子の数の割合を、複合化率とする。
本開示の触媒が含有している触媒金属粒子は、Pd及びRhを含有している。
本開示の触媒金属粒子は、複合化率が60%以上である。
本開示の触媒において、複数の触媒金属粒子は、担体粒子に担持されていることができる。
本開示の触媒が含有する触媒金属粒子は、例えば、硝酸Pd及び硝酸Rhとの混合溶液と水酸化テトラエチルアンモニウム溶液とを、マイクロリアクターにて反応させることによって得ることができる。
本開示の排ガス浄化装置は、基材、及び基材上に担持されている、排ガス浄化用触媒としての本開示の触媒を有している。ここで、基材は、排ガス流れ上流端及び排ガス流れ下流端を有しており、触媒は、排ガス流れ上流端から、排ガス流れ下流端方向に向かって30mmまでの長さの領域内に、又は排ガス流れ上流端から、基材の排ガス流れ上流端と排ガス流れ下流端との間の距離の50%の領域内に担持されている。
基材は、排ガス流れ上流端及び排ガス流れ下流端を有している。ここで、排ガス流れ上流端とは、排ガス浄化装置の使用時において、基材の端部のうち、内燃機関から排出される排ガスが流入する側を意味している。また、排ガス流れ下流端とは、基材の端部のうち、排ガスが流出する側を意味している。一般的には、排ガスの温度は、排ガス流れ上流端側から排ガス流れ下流端側に向かうにつれて低下すると考えられる。
排ガス浄化用触媒としては、本開示の触媒が用いられる。
本開示において、本開示の触媒は、基材上に形成されている最表層に含有されていることができる。ここで、最表層は、基材の流路内の最表にある層である。
〈実施例1〉
31.25gの硝酸Pd溶液(Pdの質量に換算して5.00g)をビーカーに投入した。更に9.28gの硝酸Rh溶液(Rhの質量に換算して0.26g)をこのビーカーに投入した。これら2種類の硝酸金属溶液を混合して調製した混合溶液を更に1時間以上にわたって撹拌した。
得られた触媒におけるPd及びRh全体に対するRhの原子%が、それぞれ約1.0原子%、3.0原子%、及び7.0原子%となるようにしたことを除いて、実施例1と同様にして、実施例2~4の触媒を調製した。
硝酸Rhを用いなかったことを除いて、すなわち、得られた触媒におけるPd及びRh全体に対するRhの原子%が0.0原子%となるようにしたことを除いて、実施例1と同様にして、参考例1の触媒を調製した。
実施例1と同様にして混合溶液を調製及び撹拌した。
得られた触媒におけるPd及びRh全体に対するRhの原子%が、それぞれ約1.0%、3.0%、及び7.0%となるようにしたことを除いて、比較例1と同様にして、比較例2~4の触媒を調製した。
硝酸Rhを用いなかったことを除いて、すなわち、得られた触媒におけるPd及びRh全体に対するRhの原子%が0.0%となるようにしたことを除いて、比較例1と同様にして、参考例1の触媒を調製した。
実施例1~4、比較例1~4、並びに参考例1及び2の触媒について、それぞれ3gのペレットを調製した。
(方法)
エネルギー分散型X線分光法(TEM-EDX)により、熱耐久試験前後の実施例1及び比較例1の触媒の複合化率を求めた。より具体的には、以下のようにした。
図1は、実施例1及び比較例1の触媒の複合化率を比較したグラフである。また、図3は、実施例1及び比較例1の触媒の熱耐久試験前後における複合化率を比較したグラフである。
(方法)
COパルス吸着法によって測定されるBET比表面積に基づいて、熱耐久試験後の実施例1~4、比較例1~4、並びに参考例1及び2の触媒の平均一次粒子径を求めた。
表1は、実施例1~4、比較例1~4、並びに参考例1及び2の触媒の製造条件と熱耐久試験後の平均一次粒子径とをまとめた表である。また、図4は、耐久試験後における、実施例1及び比較例1の触媒が含有している触媒金属粒子の粒子径を比較したグラフである。
〈比較例5〉
全体に対してAl2O3が96質量%かつLaO3が4質量%であるLaO3複合化Al2O3、全体に対してAl2O3が30質量%、CeO2が27質量%、ZrO2が35質量%、La2O3が4質量%、及びY2O3が4質量%である複合酸化物に硝酸パラジウムを担持させたもの、硝酸バリウム、及びAl2O3系バインダを、蒸留水に投入して懸濁して、第1のスラリーを調製した。
比較例6の排ガス浄化装置におけるRhの量が最終的に0.8g/Lとなるように、2層コート排ガス浄化装置の調製に使用した硝酸ロジウムの量を減少させたことを除いて、比較例5と同様にして、2層コート排ガス浄化装置を調製した。
実施例5の排ガス浄化装置におけるRhの量が0.8g/Lとなるように、2層コート排ガス浄化装置の調製に使用した硝酸ロジウムの量を調節したことを除いて、比較例5と同様にして、2層コート排ガス浄化装置を調製した。
第1のコート層において、基材の容量に対して、LaO3複合化Al2O3が40g/L、複合酸化物が45g/L、Pdが1.16g/L、かつ硝酸バリウムが5g/Lとなるようにしたことを除いて比較例5と同様にして、2層コート排ガス浄化装置を調製し、比較例7の排ガス浄化装置とした。
第1のスラリーとして、全体に対してAl2O3が96質量%かつLaO3が4質量%であるLaO3複合化Al2O3、全体に対してAl2O3が30質量%、CeO2が27質量%、ZrO2が35質量%、La2O3が4質量%、及びY2O3が4質量%である複合酸化物に硝酸パラジウムを担持させたものに更に実施例1と同様にして調製したPd-Rh微粒子薬液を含浸させたもの、硝酸バリウム、及びAl2O3系バインダを、蒸留水に投入して懸濁したものを用いたことを除いて比較例5と同様にして、2層コート排ガス浄化装置を調製し、参考例3の排ガス浄化装置とした。
2層コート排ガス浄化装置の排ガス流れ上流端から20mmまでの領域に含浸させる硝酸パラジウムの量を増加させ、この操作によって担持されたPdを1.67g/Lとしたことを除いて比較例5と同様にして、比較例8の排ガス浄化装置を調製した。
2層コート排ガス浄化装置の排ガス流れ上流端から20mmまでの領域に含浸させる硝酸パラジウムの量を増加させ、この操作によって担持されたPdを2.09g/Lとしたことを除いて比較例5と同様にして、比較例9の排ガス浄化装置を調製した。
2層コート排ガス浄化装置の排ガス流れ上流端から20mmまでの領域に含浸させる硝酸パラジウムの量を増加させ、この操作によって担持されたPdを3.34g/Lとしたことを除いて比較例5と同様にして、比較例9の排ガス浄化装置を調製した。
実施例6の排ガス浄化装置におけるRhの量が0.8g/Lとなるように、2層コート排ガス浄化装置の調製に使用した硝酸ロジウムの量を調節したことを除いて、比較例5と同様にして、2層コート排ガス浄化装置を調製した。
実施例7の排ガス浄化装置におけるRhの量が0.8g/Lとなるように、2層コート排ガス浄化装置の調製に使用した硝酸ロジウムの量を調節したことを除いて、比較例5と同様にして、2層コート排ガス浄化装置を調製した。
実施例8の排ガス浄化装置におけるRhの量が0.8g/Lとなるように、2層コート排ガス浄化装置の調製に使用した硝酸ロジウムの量を調節したことを除いて、比較例5と同様にして、2層コート排ガス浄化装置を調製した。
2層コート排ガス浄化装置の排ガス流れ上流端から10mmまでの領域に硝酸パラジウムを含浸させたことを除いて比較例5と同様にして、比較例11の排ガス浄化装置を調製した。
2層コート排ガス浄化装置の排ガス流れ上流端から10mmまでの領域にPd-Rh微粒子薬液の量を含浸させたことを除いて実施例5と同様にして、実施例9の排ガス浄化装置を調製した。
各例の排ガス浄化装置について、実際のエンジンを用いて耐久試験を実施した。具体的には、各例の排ガス浄化装置をV型8気筒エンジンの排気系にそれぞれ装着し、触媒床温950℃で50時間にわたり、ストイキ及びリーンの各雰囲気の排ガスを一定時間(3:1の比率)ずつ繰り返して流すことにより行った。
耐久試験後の各例の排ガス浄化装置について、排ガス流れ上流端側から空燃比(A/F)14.4の排ガスを供給し、Ga=16g/sでの暖機性を評価した。より具体的には、HC成分を50%浄化できる状態になるまでの時間(THC50%浄化到達時間)を測定した。なお、THC50%浄化到達時間が短い程、暖機性が高いと理解される。
各例の排ガス浄化装置の構成及び暖機性の評価結果を、表2及び図6~8にまとめた。
10 基材
20 第1のコート層
30 第2のコート層
Claims (11)
- Pd及びRhを含有している複数の触媒金属粒子を含有している触媒であって、
複合化率が、60%以上であり、
ここで、走査型透過電子顕微鏡(STEM)によって観察して、面積円相当径が1nm以上の前記触媒金属粒子を30個以上無作為に選択し、選択された前記触媒金属粒子に対してそれぞれエネルギー分散型X線分析(EDX)によって元素分析を行い、選択された前記触媒金属粒子全体でのRh含有率を原子数割合で計算し、かつ選択された前記触媒金属粒子全体でのRh含有率に対して60%~140%のRh含有率を有する前記触媒金属粒子を、PdとRhとが複合化された触媒金属粒子としたときに、選択された前記触媒金属粒子全体の数に対する、PdとRhとが複合化された触媒金属粒子の数の割合を、前記複合化率とする、
触媒。 - 前記触媒金属粒子における、Pd及びRhの原子総数に対するRhの原子総数の割合が、0.5原子%~15.0原子%である、請求項1に記載の触媒。
- 複数の前記触媒金属粒子の平均一次粒子径が、1nm~200nmである、請求項1又は2に記載の触媒。
- 組成比がCO:2%、H2O:10%、及びN2:バランスである、リッチ雰囲気ガス、並びに組成比がO2:5%、H2O:10%、及びN2:バランスである、リーン雰囲気ガスを、5分毎に交互に切り替えつつ、1000℃で5時間行う熱耐久処理後における前記複合化率が、60%以上である、請求項1~3のいずれか一項に記載の触媒。
- 複数の前記触媒金属粒子が、担体粒子に担持されている、請求項1~4のいずれか一項に記載の触媒。
- 前記担体粒子が、SiO2、MgO、ZrO2、Ce2、Al2O3、又はTiOから選択される酸化物、又はこれらの複合酸化物である、請求項5に記載の触媒。
- 排ガス浄化用触媒である、請求項1~6のいずれか一項に記載の触媒。
- 基材、及び前記基材上に担持されている、請求項7に記載の触媒を有しており、
前記基材は、排ガス流れ上流端及び排ガス流れ下流端を有しており、
前記触媒は、前記排ガス流れ上流端から、前記排ガス流れ下流端方向に向かって30mmまでの長さの領域内に、又は前記排ガス流れ上流端から、前記基材の前記排ガス流れ上流端と前記排ガス流れ下流端との間の距離の50%の領域内に担持されている、排ガス浄化装置。 - 前記触媒が、前記基材上に形成されている最表層に含有されている、請求項8に記載の排ガス浄化装置。
- 前記最表層と前記基材との間に下側層を有している、請求項9に記載の排ガス浄化装置。
- 前記基材が、ハニカム基材であり、前記触媒が、前記ハニカム基材の流路内に担持されている、請求項8~10のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。
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